JPH01119383A - Treating apparatus for photograph treatment waste liquid - Google Patents

Treating apparatus for photograph treatment waste liquid

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JPH01119383A
JPH01119383A JP27641387A JP27641387A JPH01119383A JP H01119383 A JPH01119383 A JP H01119383A JP 27641387 A JP27641387 A JP 27641387A JP 27641387 A JP27641387 A JP 27641387A JP H01119383 A JPH01119383 A JP H01119383A
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JP
Japan
Prior art keywords
waste liquid
photographic processing
processing waste
tank
evaporation
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Pending
Application number
JP27641387A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Kurematsu
雅行 榑松
Shigeharu Koboshi
重治 小星
Nobutaka Goshima
伸隆 五嶋
Naoki Takabayashi
高林 直樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Priority to AU21749/88A priority patent/AU606451B2/en
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  • Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the development of offensive odors and increase the thermal efficiency so as to perform efficient evaporation and concentration, by providing this treating apparatus with a releasing means which accelerates the release of steam bubbles formed on surfaces of a heater and/or evaporator which are in contact with a waste liquid used in the treatment of photographs. CONSTITUTION:A waste liquid which has been used in the treatment of photographs and is stored in an evaporator 1 is heated by a heater 2, so that the waste liquid is evaporated and concentrated. The apparatus for treating the waste liquid is provided with a releasing means 70 accelerating the release of steam bubbles formed on surfaces of the heater 2 and/or the evaporator 1 which are in contact with the waste liquid. For example, the releasing means 70 is constituted such that is supplies air into the waste liquid in the evaporator 1 and stirs the waste liquid. As a result, the waste liquid which has been used for treating photographs is prevented from suffering thermal decomposition which is due to the presence of steam bubbles. Because of this, the development of offensive odors are prevented and the lowering in thermal efficiency is reduced, so that evaporation and concentration can be performed efficiently.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(a業上の利用分計) この発明は、写真用自動現像機による写真感光材料の現
像処理゛に伴い発生する廃液(以下、写真処理廃液ない
し廃液と略称)を蒸発処理する処理装置に係り、特に、
自動現像機内若しくは自動現像機の近傍に配置して処理
するのに適した写真処理廃液の処理装置に関する。 (発明の背景) 一般に、ハロゲン化銀写真感光材料の写真処理は、黒白
感光材料の場合には現像、定着、水洗等、カラー感光材
料の場合には発色現像、漂白定着(又は漂白、定着)、
水洗、安定化等の機能の1つ又は2つ以上を有する処理
液を用いた工程を組合せて行なわれている。 そして、多量の感光材料を処理する写真処理においては
、処理によって消費された成分を補充し一方、処理によ
って処理液中に溶出或いは蒸発によって濃化する成分(
例えば現像液における臭化・  物イオン、定着液にお
ける銀錯塩のような)を除去して処理液成分を一定に保
つことによって処理液の性能を一定に維持する手段が採
られており、補充のために補充液が処理液に補充され、
写真処理における濃厚化成分の除去のために処理液の一
部が廃棄されている。 近年、補充液は水洗の補充液である水洗水を含めて公害
上や経済的理由から補充の量を大幅に減少させたシステ
ムに変わりつつあ゛るが、写真処理廃液は自動現像機の
処理槽から廃液管によって導かれ、水洗水の廃液や自動
現像機の冷却水等で稀釈されて下水道等に廃棄されてい
る。 しかしながら、近年の公害規制の強化により、水洗水や
冷却水の下水道や河川への廃棄は可能であるが、これら
以外の写真処理液[例えば、現像液、定着液、発色現像
液、漂白定着液(又は漂白液、定着液)、安定液等]の
廃棄は、実質的に不可能となっている。このため、各写
真処理業者は廃液を専門の廃液処理業者に回収料金を払
って回収してもらったり公害処理設備を設置したりして
いる。しかしながら、廃液処理業者に委託する方法は、
廃液を貯溜しておくのにかなりのスペースが必要となる
し、またコスト的にも極めて高価であり、さらに公害処
理設備は初期没′R(イニシャルコスト)が極めて大き
く、整備するのにかなり広大な場所を必要とする等の欠
点を有している。 従って、一般には廃液回収業者によって回収され、二次
及び三次処理され無害化されているが、回収費の高騰に
より廃液引き取り価格は年々高くなるばかりでなく、ミ
ニラボ等では回収効率は悪いため、なかなか回収に来て
もらうことができず、廃液が店に充填する等の問題を生
じている。 これらの問題を解決するために写真処理廃液の処理をミ
ニラボ等でも容易に行えることを目的として、写真処理
廃液を加熱して水分を蒸発乾固ないし固化することが研
究されており、例えば、実開昭110−70841号等
に示されている。 ところで、写真処理廃液を蒸発処理した場合、亜硫酸ガ
ス、硫化水素、アンモニアガス等の有害ないし極めて悪
臭性のガスが発生する。これは写真処理液廃液に含有さ
れる定着液や漂白定着液としてよく用いられる特有のイ
才つ系化合物、例えばチオ硫酸塩や亜硫酸塩の分解によ
るものである。 このため、臭気成分を除去すべく種々の研究、実験を行
なったところ、加熱手段で加熱され、この写真処理廃液
が沸騰するとき、大きな蒸気泡が生じると、蒸気泡が過
熱され、蒸発する写真処理廃液がスーパーヒートし、写
真処理廃液の過熱分解が生じたり、硫化水素、アンモニ
アガスが発生し、熱効率が低下する等の問題がある。 このため、写真処理廃液を加熱する加熱手段からの蒸気
泡の離脱を促進させると、小さな蒸気泡での沸騰が行な
われるようになり、このような過熱分解や熱効率が低下
する等の問題点を解決することができる。従フて、濃縮
が進行して発生する硫化水素、アンモニアガス等の臭気
の発生を大幅に抑制することができることを見い出した
。 (発明の目的) この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
り、写真処理廃液の過熱分解、熱効率の低下を軽減し、
悪臭の発生を防止する写真処理廃液の処理装置を提供す
ることである。 (問題点を解決するための手段) この発明の前記の問題点を解決するために、蒸発手段に
貯留された写真処理廃液を、加熱手段で加熱して蒸発濃
縮せしめる写真処理廃液の処理装置において、前記加熱
手段及び/又は蒸発手段の写真処理廃液と接触する表面
に生成される蒸気泡の離脱を促進させる離脱手段を備え
ることを特徴としている。 このように、写真処理廃液が加熱手段で加熱されて沸騰
するとき、写真処理廃液を加熱する加熱手段からの蒸気
泡の離脱を促進させると、小さな蒸気泡での沸騰が行な
われるようになる。このため、蒸気泡の過熱が軽減し、
蒸発する写真処理廃液がスーパーヒートによる写真処理
廃液の過熱分解が生じなくなる。従って、硫化水素、ア
ンモニアガスが発生を抑えることができ、熱効率が向上
する。 この発明の離脱手段は、蒸発手段内の写真処理廃液中に
気体を供給して攪拌するように構成される。この場合、
気体として空気、窒素等を供給し、その供給量は蒸気発
生量の2%以上とし、好ましく10%以上100%以下
であり、より好ましくは30〜50%の範囲が蒸気泡の
過熱による熱損失低下を防止する点で好ましい。 また、気体の供給により、蒸発手段内の写真処理廃液の
温度を沸点以下、80℃以上とし、より好ましくは10
0〜90℃とすることが好ましい、さらに、気体の供給
位置は加熱手段の表面近傍が好ましく、特に加熱手段の
下方位置に供給することが、蒸気泡の離脱が確実に行な
われ好ましい。 この発明の離脱手段は、蒸発手段内の写真処理廃液を強
制的に循環させて攪拌するように構成されることが、加
熱手段の表面に生成される蒸気泡を早期に離脱すること
ができ好ましい、このときの拡散速度を上昇線速で表現
すると、0.05〜in/sec、より好ましくは1〜
50 c m / sec、さらに好ましくは2〜20
 c m / s e cである。また、Lm(SV値
で表現すると、100〜10.000  L/hr、よ
り好ましくは300〜2000  L/hrである。 こあ場合も蒸発手段内の写真処理廃液の温度を沸点以下
、80℃以上とし、より好ましくは100〜90℃であ
る。 また、この発明の離脱手段は、蒸発手段内の加熱手段に
振動を与えるように構成することができる。この場合、
加熱手段を直接振動させる。 また、離脱手段は、蒸発手段内の写真処理廃液に超音波
で振動させるように構成され、これにより写真処理廃液
を振動して、加熱手段に生成される蒸気泡の離脱を促進
させることができる。 超音波の周波数は、好ましくは10KHz〜100KH
zが用いられ、より好ましくは15KH2〜50K)I
zh(用いられ、この周波数は超音波発生手段が備えら
れる場所や、写真処理廃液の温度や濃度等によって任意
に設定され、超音波の強度は1〜300dB、さらに好
ましくは2〜200dBである。 この発明においては、離脱手段を併用することが好まし
く、特に空気もしくはガスの吹き込みと、濃縮写真処理
廃液を循環とを併用することが好ましい。 さらに、この発明の加熱手段や蒸発手段の凹凸加工する
ことができる。この場合、セラミック(例えば、A 1
20 s % T i O2、Z r Ox 、S n
Ol等)、金属、金属酸化物等のコーテイング材でコー
ティングされた加工であることが、耐食性、耐熱性を有
し好ましい、この場合、コーテイング材としては、0.
1μm単位以上の粒子が用いられ、各種溶射技術を使用
してコーティングする。 このコーティング方法としては、電解メツキ法、ハケ塗
り法を使用することが好ましい、この電解メツキ法とし
て、表面に電解メツキ法で塊状の金属をメツする。金属
としては、N1%Cr等を使用する。また、分解メツキ
法等により、活性炭、アルミナ等の非電解買の粒子を表
面にメツキしてもよい。 さらに、ハケ塗り法として、アルミナ、シリカアルミナ
、カーボン、金属パウダー等の種々の粒子を適切な、例
えばテフロン、その他有機高分子の接着剤等の溶剤中に
分散させ、表面に塗布した後、例えば加熱法等を用いて
強固に接着する。 また、この発明の凹凸加工は、ブラスト処理、又はサン
ドブラスト処理で施された加工であってもよい、これら
の処理は表面をヤスリ、サンドペーパーで充分にきすを
入れ、凹凸状態にしたり、目の粗い研磨処理によって凹
凸加工する。きすは深くかつ細かい程、蒸気泡の離脱効
果が高い、この凹凸加工は、ポーラス状の凹凸加工であ
ることが、泡が早期に離脱でか好ましく、例えば厚さが
lμI?1.41位以上、10mm未溝の加工をする。 このポーラス状の凹凸加工として前記の各種溶射、電解
メツキ法、ハケ塗り法が用いられる。 さらに、この発明は前記のように表面加工する代りに、
同様な手段で加工された部材を表面に取付けることもで
きる0例えば加工した材料として、金属粒子を使用する
焼結金属や、金属網等を加熱手段や蒸発手段の表面に取
付けて、その表面を多孔質化する。 この発明において写真処理廃液に接触する加熱手段は、
ニクロム線であっても良いし、カートリッジヒータ、石
英ヒータ、テフロンヒータ、棒ヒータやパネルヒータの
ように加工成型されたヒータまたはマイクロウェーブに
よる加熱であっても良い、また、写真処理廃液に導電材
料を直接接触させ、この導電材料によって写真処理廃液
中に電流を流すと共に、加熱するようにしてもよい。 この導電材料は単結晶51、多結晶Si、Ta2 Nv
 Ta−SiO2,ZrO2、ZrN、TiN、Cr−
5i−0,SiC%5iC−Zr、5ic−Cr、5i
C−Hf、5IC−Ti、StC−Mo、  S  i
  C−W、  S  t  C−Nb、  S  i
  C−Ta、  S  i  C−La% B、  
B−Mo% B−La。 B−Cr、  B−Tr、  B−Na、  B−Ta
、  W。 B−W、B−V、C%C−ハロゲン、C−3i。 C−Ge、  C−H,Pt、  Mo% Mo−3t
、  Mo5i2.CaO1MgO,Y2 0s  、
 La 2(Cr04)の内から少なくとも1個の組成
物を選択して構成され、触媒作用や電流の影響等で蒸発
濃縮の際に生じる臭気の発生を抑えることができる。ま
た、前記組成物を車に抵抗材料として使用し、写真処理
廃液に対して絶縁したヒータとしても好ましく、さらに
セラミックヒータ等が用いられる。 この加熱手段は全体を写真処理廃液中に浸漬するように
配置され、或いは一部を浸漬して配置され、このように
写真処理廃液の蒸発は、蒸発手段による加熱によフて生
じるようになすこと、が、廃液処理効率(処理速度)の
向上を図ることができ好ましく、この加熱温度は!20
〜130℃程度が好ましい。 この蒸発手段は、いかなる形態であってもよく、立方体
、円柱、四角柱をはじめとする多角柱、円錐、四角錐を
はじめとする多角錐やこれらのうちのいくつかを組み合
わせたものでありても良いが、加熱手段近傍と底部にお
ける写真処理廃液の温度差が大きくなるように縦長であ
ることが好ましく、ざらに突沸による吹き出し事故を最
大限少なくするために、蒸発手段中の廃液表面から上の
空間をできるだけ広くした方が好ましい。 蒸発手段の材質は、耐熱性ガラス、チタン、ステンレス
、カーボンスチール、耐熱プラスチック等の耐熱性の材
質であればいかなる素材であってもよいが、安全性や耐
腐食性の点からステンレス(好ましくは5US304や
5US316、特に好ましくは5US316)やチタン
が好ましい。 蒸発手段には好ましくは120〜130℃程度に写真処
理廃液を加熱する加熱手段が備えられ、これは廃液の中
に設置してもよいが、蒸発手段の外部に設けて蒸発手段
の壁を通じて蒸発手段中の廃液を加熱することも好まし
い、この加熱手段の設置位置は、蒸発手段の廃液を加熱
できる位置であれば、いずれの位置であっても良いが、
特願昭61−288328号に記載されたように、蒸発
手段中の写真処理廃液の上方部を加熱するように加熱手
段を設置し、加熱手段近傍における写真処理廃液と写真
処理廃液の底部における温度に差が生じるようにするこ
とが好ましく、この温度差が5℃以上になるように加熱
手段を設置することが、この発明の効果をより高くする
ために好ましい。 この発明は蒸発した蒸気を冷却凝縮する凝縮手段を有し
、凝縮手段にはあらゆる種類の熱交換手段を採用でき、
(1)シェルアンドチューブ型(多管型、套管型)、(
2)二皿管型、(3)コイル型、(4)らせん型、(5
)プレート型、(6)フィンチューブ型、(7)トロン
ポーン型、(8)空冷型のいずれの構成であってもよい
。 また、熱交換型リボイラー技術を用いることもてか、N
)垂直サーモサイフオン型、(2)水平サーモサイフオ
ン型、(3)溢流管束型(ケトル型)、(4)強制循環
型、(5)内挿型等を採用してもよい。 さらに、コンデンサー形式の熱交換技術を採用してもよ
く、(1)ダイレクトコンデンサー形式、(2)塔内蔵
形式、(3)塔頂部設置式、(4)分離形式等のいずれ
であってもよい。 また、クーラーを用いることも可能であり、クーラーの
形式も任意である。空冷式熱交換器の採用も有利であり
、(1)押込通風式、(2)吹込通風式のいずれであっ
てもよい。 好ましい実施態様は、この凝縮手段が蒸発した蒸気を排
出する蒸気排出管に放熱板(空冷用ファン)を設置した
放熱板装置として構成されており、この放熱板上に水を
供給する手段を有していることである。この場合、水は
、シャワー上に放熱板装置の上から放熱板上に供給され
ることが好ましい。水は、例えば、水道水の蛇口から必
要に応じてバルブや電磁弁を介して放熱板上に供給され
てもよく、この場合本を供給する手段とは、水道の蛇口
、水の供給管等を示すが、好ましくはため水で、前記し
たような種々の定量ポンプや非定量ポンプを介して放熱
板上に供給されることが好ましく、特に、好ましくは放
熱板装置の下部に設けられたため水タンクの水が、ポン
プを介して放熱板上にシャワー状に供給されて再び下部
のため水タンクにたまるという具合に、ため水が循環す
るように構成されていることである。この場合、ため水
タンクには液面レベルセンサを設置し、液面レベルが一
定以下になった時、信号を発信すれば、ため水がなくな
ったことを知ることができ、再び水を供給するのが良い
。 凝縮手段は蒸発した蒸気を排出する蒸気排出管に放熱板
(空冷用ファン)を設置した放熱板装置として構興され
ており、この放熱板上に水を供給する手段を有している
場合、同時に空冷用の扇風機を有していることが好まし
いが、特に、この場合、空冷用の扇風機は空気が放熱板
装置を通って、この発明の蒸発濃縮処理装置外へ放出さ
れる工うに設置されていることが、この発明の蒸発濃縮
処理装置内の電装部での凝結を防ぐことができるため好
ましい。 蒸発した蒸気を冷却濃縮することによフて得られた凝縮
液は、凝縮液を貯溜する槽(溜液タンク)中に貯溜され
るが、この溜液タンクはこの発明の蒸発濃縮装置の内部
に設置することがスペースを小さくでき好ましく、この
場合、溜液タンクは引き出し可能な架台上に設置される
ことが作業性を良くするため好ましい。 さらに、この発明の蒸発手段、加熱手段及び凝縮手段の
構成は、この出願人が先に出願した特願昭62−694
35号、同62−69436号、及び同62−6943
7号明細書に詳細に記載されている。 次に、この発明による処理を行うことができる写真処理
廃液の代表例については、この出願人が先に出願した特
願昭62−194815号明細書等に記載されるものが
用いれ、特に、この発明の処理装置においては、チオ硫
酸塩、亜流酸塩、アンモニウム塩を多量に含有する写真
処理廃液の場合に有効であり、特に有機酸第2鉄錯塩及
びチオ硫酸塩を含有する場合極めて有効である。 この発明の好ましい適用例としては自動現像機による写
真感光材料の現像処理に伴ない発生する写真IA1!廃
液を自動現像機内もしくはその近傍にて処理を行なうの
に適している。ここで、自動現像機及び写真処理廃液に
ついて説明する。 自動現像機 第1図において自動現像機は符号100で指示されてお
り、図示のものはロール状の写真感光材料Fを、発色現
像槽CD、漂白定着槽BF、安定化処理槽sbに連続的
に案内して写真処理し、乾燥り後、巻き取る方式のもの
である。1o1は補充液タンクでありセンサ102によ
り写真感光材料Fの写真処理量を検知し、その検出情報
に従い制御装置103により各処理槽に補充液の補充が
行われる。 各写真処理槽に対し補充液の補充が行われるとオーバー
フロー廃液として処理槽から排出され、ストックタンク
104に集められる。オーバーフローした写真処理廃液
をストックタンク104に移す手段としては、案内管を
通して自然落下させるのが簡易の方法である。ポンプ等
より強制移送する場合もあり得る。 また上記した如く、各写真処理槽CD、BF。 sbに写真処理廃液中の成分に相違が有るが、この発明
においては、全ての写真処理廃液を混合し一括処理する
ことが好ましい。 (実施例) 箪2図はこの発明の写真処理廃液の処理装置を示す概略
構成図である。 図において符号1は蒸発手段としての蒸発釜で、直径が
大きい円柱状の上部1aと、直径が小さい円柱状の下部
1bとから構成され、上部1aには加熱手段2が配置さ
れ、下部1bにはボールバルブ3が設けられている。蒸
発釜1には液面レベルセンサ4が設けられ、さらに蒸発
釜1の下部に配置された支持台5にはスラッジ受け6が
載置され、このスラッジ受け6は下部1bの下に設けら
れ、その内部にはポリプロピレン製バッグ7が0リング
8によって固定されている。蒸発釜1の上部1aには、
蒸気排出管9が設けられており、この蒸気排出管9は熱
交換器10及び凝縮手段11を通って、溜液導入管12
に接続される。 凝縮手段11では、蒸気排出管9に多数の冷却用放熱板
13が設けられ、さらに液面レベルセンサ14が設けら
れている。′a縮手段11の下部には、冷却水導入管1
5が設けられ、冷却水循環ポンプ16を介して、多数の
小孔が穿設されたシャワーバイブ17に接続している。 凝縮手段11内の空気は、空冷用扇風機18によって、
処理装置外へ放出される。溜液導入管12は、溜液タン
ク19内に接続するが、溜液導入管12の先端12aは
溜液タンク19の溜液面下に位置しており、バブリング
機構20を構成している。さらに、溜液タンク19の上
部には、活性炭を収納する活性炭カートリッジ21が設
けられている。溜液タンク19にはまた、空気導入管2
2が設けられ、エアーポンプ23を介して蒸発釜1の廃
液中に導入されている。24は廃液供給タンクで、廃液
導入管25が設けられ、ベローズポンプ26、熱交換器
10を介して蒸発釜上部1aに接続されている。廃液供
給タンク24にはさらに液面レベル計27が設けられて
いる。 蒸発釜1の上部1aには案内管28が更に設けられ、プ
ランジャーディスク29を介して廃液供給タンク24に
接続され、この蒸発釜1の上部1aにはまた温度センサ
30が設けられている。 蒸発釜1の上部1aには加熱手段2の下方位置に供給管
70が接続され、このから空気が導入されるようになっ
ている。この空気は写真処理廃液中を上昇して加熱手段
2の表面を攪拌して、蒸気泡を剥離させる。このとき、
空気の上昇で写真処理廃液が流動して、蒸気泡の剥離を
一層容易にしている。 なお、この空気の供給管フ0の取付は位置は限定されず
、限定されず、例えば加熱手段2に向けて直接供給する
ようにしてもよい。 また、加熱手段2は例えばヒータで構成され、このヒー
タ表面には凹凸加工を施してもよく、この場合、蒸気泡
の表面に対する接触角が太きくなり、蒸気泡が早期に離
脱することが促進される。 このように、加熱手段2の表面に蒸気泡がいつまでも付
着して加熱される現象がなくなるため、加熱手段の表面
温度が上昇して、過熱分解して写真処理廃液中にあるチ
オ硫酸成分が熱分解して硫化水素が発生することが軽減
される。また、水蒸気泡を過熱することによる熱効率の
低下が防止される。 次に、この装置を用いて加熱、蒸発処理するプロセスの
概略を説明する。 自動現像機からのオーバーフロー液約20ftを廃液供
給タンク24に貯溜し、溜液タンク19には活性炭を詰
めた活性炭カートリッジ21、溜液導入管12及び空気
導入管22を接続する。蒸発釜1の下部1bの下のスラ
ッジ受け6内に、ポリプロピレン製バックフを設置し、
2つのOリング8によって、蒸発釜1の下部1bに固定
し、凝縮手段1!内に水を供給した後、スイッチをON
すると、エアーポンプ23が作動し、溜液タンク19内
の空気が空気導入管22を介して蒸発釜!内に導入され
る。 そして、空冷用扇風機18、冷却水循環ポンプ16の順
に作動し、ため水が冷却水導入管15を通ってシャワー
バイブ1フか、凝縮手段11内に納められた蒸気排出管
9の放熱板13上に供給され、再び凝縮手段11の下部
にたまるという具合に循環する。 ベローズポンプ26が作動し、廃液供給タンク24内の
廃液が廃液導入管25を通って、熱交換手段10を通過
した後、蒸発釜1内に送られる。 蒸発釜1中の廃液量が増加し、液面レベルセンサ4によ
って液面が例えば3秒間以上検知されると、ベローズポ
ンプ26の作動が停止し、同時に加熱手段2にスイッチ
が入り、加熱蒸発が開始される。 加熱蒸発によフて蒸発濃縮されるが、供給管70がら空
気が導入され、この攪拌で加熱手段2から蒸気泡が早期
に離脱して、泡が細いため加熱分解が軽減され、蒸発濃
縮により発生する蒸気中に存在する臭気ガスを大幅に低
下させることができ、濃縮が進行しても硫化水素、イオ
ウ系の臭気の発生を軽減する。この処理によって、蒸発
釜1中の廃液の液量が減少し、液面レベルが低下し、液
面レベルセンサ4によフて液面が3秒間以上検知されな
くなると、再びベローズポンプ26のスイッチが入り、
廃液供給タンク24内の廃液が蒸発釜l中に供給される
という動作が繰り返される。 蒸発釜1から蒸発した蒸気は、蒸気排出管9を通り、こ
の蒸気が熱交換器10内で廃液と熱交換した後、凝縮手
段11を通過すると、その一部が凝縮されて凝縮液とな
る。この凝縮液は蒸気中の残りの気体と共に溜液導入管
12を通り、溜液タンク19内に送られ、溜液面下の先
端12aから放出され、凝縮水は溜液タンク19内に貯
溜される。このと幹、溜液面下から放出された気体が溜
液の中を上昇することでバブリングが行なわれ、このバ
ブルングによって溜液中に溶融する硫化水素等の気体が
液外に追い出され、この気体はエアーポンプ23の作動
で、空気導入管22を介して溜液タンク19から蒸発釜
1内の下部に位置する写真処理廃液中に戻される。 なお、との溜液タンク19は活性炭を詰めた活性炭カー
トリッジ21を介して大気と連通しており、臭気を大気
に放出することを防止している。 そして、廃液供給タンク24内の廃液がなくなったこと
が、液面レベルセンサ27によって検知されると、ベロ
ーズポンプ26の作動が停止し、加熱手段2のスイッチ
がOFFとなり、2時間後に冷却水循環ポンプ16、空
冷用扇風機18が停止し、ランプが点灯するとともに、
ブザーが鳴りで蒸発濃縮処理が完了したことを知らせる
とともに、エアーポンプ23が停止する。ここで、ボー
ルパル3を開けて、蒸発釜!中のスラッジをポリプロピ
レン製バッグ7中に落下させた後、0リング8を外して
取り出す。 なお、蒸発濃縮過程中で、凝縮手段11中のため水がな
くなりたことが、液面レベルセンサ14によフて検知さ
れると、ランプが点灯するとともにブザーが鳴って、た
め水がなくなったことを知らせる。 また、蒸発濃縮過程中で、何らかの理由で蒸発釜1中の
液面が異常に低下し、空だきによって蒸発釜1中の温度
が120℃に上昇したことを、温度センサ30が検知す
ると、ランプが点灯し、警告ブザーが鳴るとともに、加
熱手段2のスイッチがOFFになり以後、前記したよう
な一連の動作によって蒸発濃縮処理が中断する。 第3図は蒸発釜1の加熱手段2の近傍位置に循環系71
を備え、この循環系71のポンプ72の駆動で写真処理
廃液を下方から上方へ循環させている。これにより写真
処理廃液が加熱手段2の表面を攪拌し、蒸気泡を早期に
離脱させることができる。 第4図は蒸発釜1の加熱手段2を蒸発釜1の下部1bの
外周に備え、外から加熱するようになっている。そして
、加熱手段2の近傍の下方位置に超音波発信機73を備
え、この作動で写真処理廃液を振動させ、加熱手段2が
位置する蒸発釜1の下部1bの内壁に生成される蒸気泡
を早期に離脱させるようになフている。 第5図は蒸発釜1の上部1aから加熱手段2を写真処理
廃液中に備え、この加熱手段2自体を機械的手段の振動
機74によって強制的に振動させる。この加熱手段2の
振動で、表面に生成される蒸気泡を強制的に離脱させる
ようになっている。 このときの振動の周波数は任意に設定可能である。 第6図はガスの吹き込みと、写真処理廃液の循環を併用
したものである。即ち、循環ポンプ75を備え、この循
環ポンブフ5の駆動で蒸発釜1の下部1bから濃縮され
る写真処理廃液を配管76を介して循環させ、加熱手段
2が備えられた位置の蒸発釜1の内壁に向けて吹き付け
るようにしている。また、エアーポンプ23の駆動で、
溜液導入管12からのガスを蒸発手段2の下方位置から
内部に吹き込むようになっている。 [実験例1] MPS処理システムペーパー用自動現像機RP−800
(コニカ株式会社製)を使用し、市販のカラー写真用ペ
ーパー(コニカ株式会社製)を絵焼き後、次の処理工程
と処理液を使用して連続処理を行なった。 基準処理工程 (1)発色現像  40℃     3分(2)tll
[内定着  38℃     1分30秒(3)安定化
処理 25℃〜35℃  3分(4)乾燥    75
℃〜100℃ 約2分処理液組成 [発色現像タンク液] エチレングリコール        15mIL亜硫酸
カリウム          2.0g臭化カリウム 
           1.3g塩化ナトリウム   
       0.2g炭酸カリウム        
   24.0g3−メチル−4−アミノ−N−エチル −N−(β−メタンスルホンアミドエチル)アニリン硫
酸塩          5.5g蛍光増白剤(4,4
°−ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体)    
   1.0gヒドロキシルアミン硫酸塩     3
.0g1−ヒドロキシエチリンデンー1.1−ニホスホ
ン酸           0.4gヒドロキシエチル
イミノジ酢酸   5.0g塩化マグネシウム・6水塩
     0.7g1.2−ジヒドロキシベンゼン−3
,5−ジスルホン酸−ニナトリウム塩  0.2g水を
加えて11とし、水酸化カリウムと硫酸でpH10,2
0とする。 [発色現像補充液] エチレングリコール        20mj!亜硫酸
カリウム          3.0g炭酸カリウム 
          24.0gヒドロキシアミン硫酸
塩      4.0g3−メチル−4−アミノ−N−
エチル −N−(β−メタンスルホナミドエチル)アニリン硫酸
塩           1.5g蛍光増白剤(4,4
’ −ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体)   
    2.5g1−ヒドロキシエチリンデンー1.1
−ニホスホン酸           0.5gヒドロ
キシエチルイミノジ酢酸   5.0g塩化マグニシウ
ム・6水塩     o、8g1.2−ジヒドロキシベ
ンゼン−3,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩  0
.3g水を加えて11とし、水酸化カリウムと硫酸でp
H10,70とする。 [漂白定着タンク液] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩       60.0gエチレン
ジアミンテトラ酢酸    3.0gチオ硫酸アンモニ
ウム (70%溶液)         100.mf亜硫酸
アンモニウム (40%溶液)         27.5m!水を加
えて全量をtJ2とし、炭酸カリウムまたは氷酢酸でp
H7,1に調整する。 [潔白定着補充液A] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩      260.0g炭酸カリ
ウム           42.0g水を加えて全量
IJ!とする。 この溶液のpHは酢酸又はアンモニア水を用いて6.7
±0.1とする。 [漂白定着補充液B] チオ硫酸アンモニウム    250.0mn(70%
溶液) 亜硫酸アンモニウム      25.0m1(40%
溶液) エチレンジアミンテトラ酢酸   17.0g氷酢酸 
           85.0mj2水を加えて全量
illヒする。 この溶液はpHは酢酸又はアンモニア水を用いて5.3
±0.1である。 [水洗代替安定タンク液及び補充液コ エチレングリコール        1.0g2−メチ
ル−4−イソチアゾリン−3−オン         
     0.20g1−ヒドロキシエチリデン−1,
1 −ニホスホン酸(60%水溶液   1.0gアンモニ
ア水(水酸化アンそニウム 25%水溶液)           2.0g水でl
ftとし、50%硫酸でpH7,0とする。 自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液及び安定タンク液を満たし、前記市販のカラー写真ベ
ーパー試料を処理しながら、上記した発色現像補充液と
漂白定着補充液A、Bと安定補充液をベローズポンプを
通じて補充しながらランニングテストを行った。補充量
はカラーペーパー1rrIt当りそれぞれ発色現像タン
クへの補充量として190mIL、漂白定着タンクへの
補充量として漂白定着補充液A、B各々50ml1、安
定化槽への補充量として水洗代替安定補充液を250m
λ補充した。なお、自動現像機の安定化槽は試料の流れ
の方向に第1禮〜第3槽となる安定槽とし、最終槽から
補充を行ない、最終槽からのオーバーフロー液をその前
段の楢へ流入させ、さらにこのオーバーフロー液をまた
その前段の槽に流入させる多槽向流方式とした。 水洗代替安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍とな
るまで連続処理を行った。 また、カラーネガフィルム GX−100(コニカ株式
会社製)をそれぞれ常法により、露光を゛した後、ネガ
フィルムプロセッサーNFS−FP34(コニカ株式会
社製)を改造した自動現像機を用い、下記の現像処理条
件で連続的に処理を行なった。 無水洗安定(第2槽)から無水洗安定(第1槽)へは、
カウンターカレント方式(2段向流)とし、漂白定着に
ついても同様に漂白定着(第2槽)から漂白定着(第1
槽)へのカウンターカレント方式した。 なお、多槽の前槽からの処理液の持込量は0゜6 m 
iL / d m ’であつた。 以下に、タンク液と各補充液の処方を示す9発発色現像
タンク液; 炭酸カリウム             30g亜硫酸
ナトリウム           2.0gヒドロキシ
ルアミン硫酸塩      2.0g!−ヒドロキシエ
チリデン −1,1−ジホスホン酸(60%水溶液)1.0g ヒドロキシエチルイミノニ酢酸    3.0g塩化マ
グネシウム          0.3g臭化カリウム
             1.2g水酸化ナトリウム
          3.48N−エチレン−N−β−
ヒドロキシエチル−3−メチル−4−アミノアニリン塩
酸塩4.6g 水を加えて11とし、水酸化ナトリウムでpH10,1
に調整した。 発色現像補充液; 炭酸カリウム             40g亜硫酸
ナトリウム          3.0gヒドロキシル
アミン硫酸塩     3.0gジエチレントリアミン
五酢酸    3.0g臭化カリウム        
    0.9g水酸化ナトリウム         
3.4gN−エチレン−N−β−ヒドロキシエチル−3
−メチル−4−アミノアニリン塩酸塩5.6g 水を加えて11とし、水酸化ナトリウムでpH10,1
に調整した。 漂白定着タンク液及び補充液ニ ジエチレントリアミン五酢酸 第二鉄アンモニウム塩       0.5モルヒドロ
キシエチルイミノニ酢酸    20gチオ硫酸アンモ
ニウム(70% 宵t/VOjり50m1 亜硫酸アンモニウム         15g2−アミ
ノ−5−メルカプト− 1,3,4−チアジアゾール     1.0gアンモ
ニア水(28%)        20mIL水で11
とし、酢酸とアンモニア水でpH7,6に調整した。 無水洗安定タンク液及び補充液; 5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オ
ン            0.01g2−メチル−4
−イソチアゾリン−3−オンエチレングリコール ジエチレントリアミン五酢酸第二鉄アンモニウム塩 水でIILに仕上げ、アンモニウムと硫酸でpH10,
0に調整する。 安定タンク液及び補充液; ホルマリン(37%水溶液) コニダックス(コニカ株式会社製) 水を加えて11に仕上げる。 発色現像液の槽補充量が発色現像液タンク容量の3倍と
なるまで連続処理を行なった。 前記カラーネガフィルムとカラーベーパーの廃液を1対
1の割合で混合して使用した。
(A) The present invention relates to a processing device for evaporating waste liquid (hereinafter referred to as photographic processing waste liquid or waste liquid) generated during the development process of photographic light-sensitive materials using an automatic photographic processor. ,especially,
The present invention relates to a processing apparatus for photographic processing waste liquid, which is suitable for being disposed in or near an automatic processor. (Background of the Invention) In general, photographic processing of silver halide photographic materials includes development, fixing, washing, etc. in the case of black and white materials, and color development, bleach-fixing (or bleaching and fixing) in the case of color photographic materials. ,
A combination of processes using a treatment liquid having one or more functions such as water washing and stabilization is carried out. In photographic processing in which a large amount of light-sensitive material is processed, the components consumed during processing are replenished, while the components that are concentrated by elution or evaporation into the processing solution (
For example, methods are used to maintain the performance of the processing solution at a constant level by removing bromide and ions from the developing solution and silver complex salts from the fixing solution to keep the processing solution components constant. Therefore, replenisher is added to the processing solution,
A portion of the processing solution is discarded to remove thickening components during photographic processing. In recent years, systems have been changing to systems in which the amount of replenishment fluid, including washing water, which is used as a replenishment fluid for washing, has been drastically reduced due to pollution and economic reasons. The liquid is led out from the tank through a waste pipe, diluted with waste liquid from washing water, cooling water from automatic processors, etc., and then disposed of in a sewer or the like. However, due to stricter pollution regulations in recent years, it is possible to dispose of washing water and cooling water into sewers or rivers, but other photographic processing solutions [e.g. developer, fixer, color developer, bleach-fixer] (or bleaching solution, fixing solution), stabilizing solution, etc.] has become virtually impossible to dispose of. For this reason, each photo processing company pays a collection fee to a specialized waste liquid processing company to collect the waste liquid, or installs pollution treatment equipment. However, the method of outsourcing to a waste liquid treatment company is
A considerable amount of space is required to store the waste liquid, and it is also extremely expensive.Furthermore, the initial cost of pollution treatment equipment is extremely large, and it takes a considerable amount of space to maintain. It has disadvantages such as requiring a large space. Therefore, waste liquid is generally collected by a waste liquid collection company and rendered harmless through secondary and tertiary processing.However, not only is the price of waste liquid collection increasing year by year due to rising collection costs, but collection efficiency is low in minilabs, etc., so it is difficult to do so. No one can come to collect the waste, causing problems such as waste liquid filling stores. In order to solve these problems, research has been conducted to heat the photographic processing waste liquid to evaporate the water to dryness or solidify it, with the aim of making it easier to process the photographic processing waste liquid even in minilabs. It is shown in JP-A No. 110-70841 and the like. By the way, when photographic processing waste liquid is evaporated, harmful or extremely malodorous gases such as sulfur dioxide gas, hydrogen sulfide, and ammonia gas are generated. This is due to the decomposition of specific acidic compounds, such as thiosulfate and sulfite, which are often used as fixers and bleach-fixers contained in waste photographic processing solutions. For this reason, various research and experiments were conducted to remove odor components, and it was found that when the photographic processing waste liquid is heated with a heating means and boils, large steam bubbles are generated, and the steam bubbles are overheated and evaporate. There are problems such as superheating of the processing waste liquid, overheating decomposition of the photographic processing waste liquid, generation of hydrogen sulfide and ammonia gas, and reduction of thermal efficiency. Therefore, if the separation of steam bubbles from the heating means that heats the photographic processing waste liquid is promoted, boiling will occur with small steam bubbles, and problems such as overthermal decomposition and a decrease in thermal efficiency will be avoided. It can be solved. Therefore, it has been found that the generation of odors such as hydrogen sulfide and ammonia gas generated as the concentration progresses can be significantly suppressed. (Object of the Invention) This invention was made in view of the above-mentioned conventional problems, and reduces overheating decomposition of photographic processing waste liquid and reduction in thermal efficiency.
An object of the present invention is to provide a processing device for photographic processing waste liquid that prevents the generation of bad odors. (Means for Solving the Problems) In order to solve the above-mentioned problems of the present invention, a photographic processing waste liquid processing apparatus is provided in which the photographic processing waste liquid stored in the evaporating means is heated by a heating means to evaporate and concentrate the photographic processing waste liquid. The present invention is characterized in that it includes a detachment means for promoting detachment of vapor bubbles generated on the surface of the heating means and/or evaporation means that comes into contact with the photographic processing waste liquid. In this way, when the photographic processing waste liquid is heated by the heating means and boiled, if the separation of the steam bubbles from the heating means for heating the photographic processing waste liquid is promoted, boiling will occur with small steam bubbles. This reduces the overheating of the steam bubbles,
The evaporating photographic processing waste liquid will no longer be overheated and decomposed due to superheating. Therefore, generation of hydrogen sulfide and ammonia gas can be suppressed, and thermal efficiency is improved. The removal means of this invention is configured to supply and stir gas into the photographic processing waste liquid within the evaporation means. in this case,
Air, nitrogen, etc. is supplied as a gas, and the supply amount is 2% or more of the amount of steam generated, preferably 10% or more and 100% or less, and more preferably 30 to 50% to reduce heat loss due to overheating of steam bubbles. This is preferable in terms of preventing the decrease. Further, by supplying the gas, the temperature of the photographic processing waste liquid in the evaporation means is set to be below the boiling point and above 80°C, more preferably at 10°C.
The temperature is preferably 0 to 90° C. Furthermore, the gas is preferably supplied near the surface of the heating means, and it is particularly preferable to supply the gas to a position below the heating means to ensure that vapor bubbles are removed. Preferably, the removal means of the present invention is configured to forcibly circulate and agitate the photographic processing waste liquid in the evaporation means, since vapor bubbles generated on the surface of the heating means can be removed quickly. , when the diffusion rate at this time is expressed as an increasing linear velocity, it is 0.05 to in/sec, more preferably 1 to
50 cm/sec, more preferably 2-20
cm/sec. In addition, Lm (expressed in SV value is 100 to 10.000 L/hr, more preferably 300 to 2000 L/hr. In this case, the temperature of the photographic processing waste liquid in the evaporation means is below the boiling point, 80 ° C. or above, and more preferably 100 to 90°C.Furthermore, the detachment means of the present invention can be configured to apply vibration to the heating means within the evaporation means.In this case,
Vibrate the heating means directly. Further, the detachment means is configured to vibrate the photographic processing waste liquid in the evaporating means with ultrasonic waves, thereby vibrating the photographic processing waste liquid and promoting the detachment of vapor bubbles generated in the heating means. . The frequency of the ultrasonic wave is preferably 10KHz to 100KH
z is used, more preferably 15KH2 to 50K)I
zh (used), and this frequency is arbitrarily set depending on the location where the ultrasonic generating means is provided, the temperature and concentration of the photographic processing waste liquid, etc., and the intensity of the ultrasonic wave is 1 to 300 dB, more preferably 2 to 200 dB. In this invention, it is preferable to use a detachment means in combination, and it is particularly preferable to use a combination of air or gas blowing and circulation of concentrated photographic processing waste liquid. In this case, ceramic (e.g. A 1
20 s % T i O2, Z r Ox , S n
It is preferable to coat with a coating material such as metal, metal oxide, etc., as it has corrosion resistance and heat resistance.In this case, the coating material is 0.
Particles on the order of 1 μm or larger are used and coated using various thermal spray techniques. As this coating method, it is preferable to use an electrolytic plating method or a brush coating method. As this electrolytic plating method, a lump of metal is plated on the surface by an electrolytic plating method. As the metal, N1%Cr or the like is used. Furthermore, non-electrolytically purchased particles such as activated carbon and alumina may be plated on the surface by a decomposition plating method or the like. Furthermore, as a brush coating method, various particles such as alumina, silica alumina, carbon, metal powder, etc. are dispersed in a suitable solvent such as Teflon or other organic polymer adhesive, and then applied to the surface, for example. Adhere firmly using heating method, etc. Further, the uneven processing of the present invention may be performed by blasting or sandblasting. These treatments include filing or sandpapering the surface sufficiently to make it uneven, or removing the grain. The roughness is processed by rough polishing. The deeper and finer the scratches, the higher the effect of vapor bubble release.It is preferable that this uneven processing is porous so that the bubbles can be removed quickly.For example, if the thickness is lμI? 1. Machining a 10mm groove at or above 41st place. The above-mentioned various thermal spraying methods, electrolytic plating methods, and brush coating methods are used for this porous uneven processing. Furthermore, in this invention, instead of surface processing as described above,
It is also possible to attach a member processed by similar means to the surface. For example, as a processed material, sintered metal using metal particles, metal mesh, etc. can be attached to the surface of the heating means or evaporation means, and the surface is Becomes porous. In this invention, the heating means that comes into contact with the photographic processing waste liquid is
It may be a nichrome wire, or it may be heated by a molded heater such as a cartridge heater, quartz heater, Teflon heater, bar heater or panel heater, or by microwave. may be brought into direct contact with the photo-processing waste liquid, and an electric current may be passed through the photographic processing waste liquid using the conductive material, and the photo-processing waste liquid may be heated. This conductive material is single crystal 51, polycrystalline Si, Ta2Nv
Ta-SiO2, ZrO2, ZrN, TiN, Cr-
5i-0, SiC%5iC-Zr, 5ic-Cr, 5i
C-Hf, 5IC-Ti, StC-Mo, Si
C-W, S t C-Nb, S i
C-Ta, S i C-La% B,
B-Mo% B-La. B-Cr, B-Tr, B-Na, B-Ta
, W. B-W, B-V, C% C-halogen, C-3i. C-Ge, C-H, Pt, Mo% Mo-3t
, Mo5i2. CaO1MgO, Y2 0s,
It is composed of at least one composition selected from La 2 (Cr04), and can suppress the generation of odor that occurs during evaporation and concentration due to catalytic action, the influence of electric current, etc. It is also preferable to use the composition as a resistance material in a car as a heater insulated against photographic processing waste liquid, and furthermore, a ceramic heater or the like is used. The heating means is disposed so as to be wholly or partially immersed in the photographic processing waste liquid, and thus evaporation of the photographic processing waste liquid is caused by heating by the evaporating means. This is preferable because it can improve waste liquid treatment efficiency (processing speed), and this heating temperature is! 20
The temperature is preferably about 130°C. This evaporation means may be in any form, and may be a cube, a cylinder, a polygonal prism including a square prism, a cone, a polygonal pyramid including a square pyramid, or a combination of some of these. However, it is preferable that the photographic processing waste liquid be vertically long so that the temperature difference between the vicinity of the heating means and the bottom of the photographic processing waste liquid is large. It is preferable to make the space as wide as possible. The material of the evaporation means may be any heat-resistant material such as heat-resistant glass, titanium, stainless steel, carbon steel, heat-resistant plastic, etc. However, from the viewpoint of safety and corrosion resistance, stainless steel (preferably 5US304 and 5US316, particularly preferably 5US316) and titanium. The evaporation means is preferably equipped with a heating means for heating the photographic processing waste liquid to about 120 to 130°C, and this may be installed inside the waste liquid, but it may be installed outside the evaporation means and evaporated through the wall of the evaporation means. It is also preferable to heat the waste liquid in the means, and the heating means may be installed at any position as long as it can heat the waste liquid of the evaporation means.
As described in Japanese Patent Application No. 61-288328, a heating means is installed to heat the upper part of the photographic processing waste liquid in the evaporating means, and the temperature of the photographic processing waste liquid near the heating means and the bottom part of the photographic processing waste liquid is It is preferable to create a difference in temperature, and it is preferable to install the heating means so that this temperature difference is 5° C. or more, in order to further enhance the effects of the present invention. This invention has a condensing means for cooling and condensing the evaporated vapor, and the condensing means can employ all kinds of heat exchange means.
(1) Shell and tube type (multi-tube type, cannula type), (
2) Two-plate tube type, (3) Coil type, (4) Spiral type, (5
) plate type, (6) fin tube type, (7) trombone type, and (8) air cooling type. It is also possible to use heat exchange type reboiler technology.
) vertical thermosiphon type, (2) horizontal thermosiphon type, (3) overflow tube bundle type (kettle type), (4) forced circulation type, (5) interpolation type, etc. may be adopted. Furthermore, condenser type heat exchange technology may be adopted, and may be any of (1) direct condenser type, (2) built-in tower type, (3) tower top type, (4) separation type, etc. . Moreover, it is also possible to use a cooler, and the type of cooler is also arbitrary. It is also advantageous to employ an air-cooled heat exchanger, which may be either (1) forced draft type or (2) blown draft type. In a preferred embodiment, the condensing means is configured as a heat sink device in which a heat sink (air cooling fan) is installed in a steam exhaust pipe for discharging evaporated steam, and has means for supplying water onto the heat sink. That's what I'm doing. In this case, water is preferably supplied onto the shower from above the heat sink device onto the heat sink. For example, water may be supplied onto the heat sink from a tap water tap via a valve or a solenoid valve as necessary, and in this case, the means for supplying books may be a tap tap, a water supply pipe, etc. However, it is preferable that the stored water is supplied onto the heat sink through various metering pumps or non-metering pumps as described above, and in particular, it is preferable that the reservoir water is supplied onto the heat sink through the various metering pumps or non-metering pumps as described above. The water in the tank is supplied to the heat sink via a pump in a shower-like manner, and is then collected in the water tank at the bottom, so that the water is circulated. In this case, by installing a liquid level sensor in the reservoir water tank and sending out a signal when the liquid level drops below a certain level, you will be able to know that the reservoir water has run out and supply water again. It's good. The condensing means is constructed as a heat sink device in which a heat sink (air cooling fan) is installed in a steam exhaust pipe that discharges evaporated steam, and when the condensing means has a means for supplying water onto the heat sink, It is preferable to have an air-cooling fan at the same time, and in particular, in this case, the air-cooling fan is installed in the device where the air passes through the heat sink device and is discharged to the outside of the evaporation concentration processing device of the present invention. It is preferable to do so because condensation in the electrical components in the evaporation concentration processing apparatus of the present invention can be prevented. The condensate obtained by cooling and concentrating the evaporated vapor is stored in a tank for storing the condensate (distillate tank). It is preferable to install the reservoir tank on a pull-out pedestal to improve workability. Furthermore, the structure of the evaporating means, heating means, and condensing means of this invention is disclosed in Japanese Patent Application No. 62-694 filed earlier by this applicant.
No. 35, No. 62-69436, and No. 62-6943
It is described in detail in the specification of No. 7. Next, as for typical examples of photographic processing waste liquids that can be processed according to the present invention, those described in Japanese Patent Application No. 194815/1987 previously filed by this applicant are used, and in particular, this The processing apparatus of the invention is effective for photographic processing waste liquid containing large amounts of thiosulfates, sulfites, and ammonium salts, and is particularly effective when containing organic acid ferric complex salts and thiosulfates. be. A preferred example of application of the present invention is the photo IA1! generated during the development process of photographic light-sensitive materials using an automatic processor. Suitable for processing waste liquid in or near an automatic processor. Here, automatic processors and photographic processing waste liquid will be explained. Automatic processor In FIG. 1, the automatic processor is designated by the reference numeral 100, and the one shown in the figure continuously passes a roll of photographic material F into a color development tank CD, a bleach-fix tank BF, and a stabilization processing tank sb. This method involves guiding the film through the process, photo-processing it, and winding it up after drying. 1o1 is a replenisher tank, which detects the amount of photographic processing of the photosensitive material F by a sensor 102, and replenishes each processing tank with replenisher by a control device 103 according to the detected information. When each photographic processing tank is replenished with the replenisher, it is discharged from the processing tank as an overflow waste liquid and collected in the stock tank 104. A simple method for transferring overflowing photographic processing waste liquid to the stock tank 104 is to allow it to fall naturally through a guide pipe. There may also be cases where it is forcibly transferred using a pump or the like. Moreover, as mentioned above, each photographic processing tank CD, BF. Although there are differences in the components of the photographic processing waste liquids in sb, in the present invention, it is preferable to mix all the photographic processing waste liquids and process them all at once. (Example) Fig. 2 is a schematic diagram showing a processing apparatus for photographic processing waste liquid according to the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes an evaporation pot as an evaporation means, which is composed of a cylindrical upper part 1a with a large diameter and a cylindrical lower part 1b with a small diameter.Heating means 2 is arranged in the upper part 1a, and in the lower part 1b. is equipped with a ball valve 3. The evaporation pot 1 is provided with a liquid level sensor 4, and a sludge receiver 6 is placed on a support stand 5 disposed at the bottom of the evaporation pot 1, and this sludge receiver 6 is provided under the lower part 1b. A polypropylene bag 7 is fixed inside by an O-ring 8. In the upper part 1a of the evaporating pot 1,
A steam exhaust pipe 9 is provided, which passes through a heat exchanger 10 and a condensing means 11 to a distilled liquid inlet pipe 12.
connected to. In the condensing means 11, a large number of cooling heat sinks 13 are provided on the steam exhaust pipe 9, and a liquid level sensor 14 is further provided. 'a Cooling water introduction pipe 1 is installed at the bottom of the compression means 11.
5 is provided, and is connected via a cooling water circulation pump 16 to a shower vibe 17 having a large number of small holes. The air in the condensing means 11 is cooled by an air cooling fan 18.
Released outside the processing equipment. The accumulated liquid introduction pipe 12 is connected to the inside of the accumulated liquid tank 19, and the tip 12a of the accumulated liquid introduction pipe 12 is located below the level of the accumulated liquid in the accumulated liquid tank 19, and constitutes a bubbling mechanism 20. Furthermore, an activated carbon cartridge 21 that stores activated carbon is provided at the upper part of the reservoir tank 19. The accumulated liquid tank 19 also includes an air introduction pipe 2.
2 is provided and introduced into the waste liquid of the evaporator 1 via an air pump 23. Reference numeral 24 denotes a waste liquid supply tank, which is provided with a waste liquid introduction pipe 25 and is connected to the evaporator upper part 1a via a bellows pump 26 and a heat exchanger 10. The waste liquid supply tank 24 is further provided with a liquid level gauge 27. The upper part 1a of the evaporator 1 is further provided with a guide pipe 28, which is connected to the waste liquid supply tank 24 via a plunger disk 29, and the upper part 1a of the evaporator 1 is also provided with a temperature sensor 30. A supply pipe 70 is connected to the upper part 1a of the evaporating pot 1 at a position below the heating means 2, and air is introduced from the supply pipe 70. This air rises in the photographic processing waste liquid and agitates the surface of the heating means 2, causing vapor bubbles to separate. At this time,
The rising air causes the photographic processing waste to flow, making it easier to remove the vapor bubbles. Note that the position of the air supply pipe 0 is not limited to any particular position, and the air may be supplied directly to the heating means 2, for example. Further, the heating means 2 is composed of, for example, a heater, and the surface of this heater may be textured. In this case, the contact angle of the steam bubbles with the surface increases, and the early departure of the steam bubbles is promoted. be done. In this way, there is no longer a phenomenon in which steam bubbles are permanently attached to the surface of the heating means 2 and heated, so the surface temperature of the heating means rises and the thiosulfuric acid component in the photographic processing waste liquid is overheated and decomposed by heat. Decomposition and generation of hydrogen sulfide is reduced. Further, a decrease in thermal efficiency due to overheating of the water vapor bubbles is prevented. Next, an outline of the heating and evaporation process using this apparatus will be explained. Approximately 20 ft of overflow liquid from the automatic developing machine is stored in a waste liquid supply tank 24, and an activated carbon cartridge 21 filled with activated carbon, a accumulated liquid introduction pipe 12, and an air introduction pipe 22 are connected to the accumulated liquid tank 19. A polypropylene bag is installed in the sludge receiver 6 under the lower part 1b of the evaporation pot 1,
It is fixed to the lower part 1b of the evaporating pot 1 with two O-rings 8, and the condensing means 1! After supplying water inside, turn on the switch.
Then, the air pump 23 is activated, and the air in the accumulated liquid tank 19 is transferred to the evaporation pot via the air introduction pipe 22! be introduced within. Then, the air cooling fan 18 and the cooling water circulation pump 16 operate in this order, and the stored water passes through the cooling water introduction pipe 15 onto the shower vibe 1 or onto the heat sink 13 of the steam exhaust pipe 9 housed in the condensing means 11. The condensate is supplied to the condensing means 11, and is collected again at the bottom of the condensing means 11. The bellows pump 26 is activated, and the waste liquid in the waste liquid supply tank 24 passes through the waste liquid introduction pipe 25, passes through the heat exchange means 10, and is then sent into the evaporation pot 1. When the amount of waste liquid in the evaporator pot 1 increases and the liquid level is detected by the liquid level sensor 4 for, for example, 3 seconds or more, the operation of the bellows pump 26 is stopped, and at the same time, the heating means 2 is switched on, and the heating evaporation is started. will be started. The vapor is evaporated and concentrated by heating and evaporation, but air is introduced through the supply pipe 70, and this agitation causes the vapor bubbles to leave the heating means 2 at an early stage, and since the bubbles are thin, thermal decomposition is reduced, and the vapor is concentrated by evaporation. It is possible to significantly reduce the amount of odorous gases present in the generated steam, and even as the concentration progresses, the generation of hydrogen sulfide and sulfur-based odors is reduced. As a result of this process, the amount of waste liquid in the evaporator pot 1 decreases, the liquid level drops, and when the liquid level sensor 4 no longer detects the liquid level for more than 3 seconds, the bellows pump 26 is switched off again. enters,
The operation of supplying the waste liquid in the waste liquid supply tank 24 into the evaporation pot 1 is repeated. The steam evaporated from the evaporation pot 1 passes through the steam exhaust pipe 9, and after exchanging heat with the waste liquid in the heat exchanger 10, it passes through the condensing means 11, where a part of it is condensed and becomes a condensate liquid. . This condensate, along with the remaining gas in the steam, passes through the reservoir liquid inlet pipe 12 and is sent into the reservoir tank 19, and is discharged from the tip 12a below the surface of the reservoir liquid, and the condensed water is stored in the reservoir tank 19. Ru. At this time, the gas released from below the surface of the reservoir liquid rises in the reservoir liquid, causing bubbling, and this bubbling causes gases such as hydrogen sulfide melted in the reservoir liquid to be expelled from the liquid. When the air pump 23 is operated, the gas is returned from the accumulated liquid tank 19 to the photographic processing waste liquid located at the lower part of the evaporator 1 through the air introduction pipe 22. Incidentally, the accumulated liquid tank 19 is communicated with the atmosphere via an activated carbon cartridge 21 filled with activated carbon to prevent odor from being released into the atmosphere. When the liquid level sensor 27 detects that there is no more waste liquid in the waste liquid supply tank 24, the bellows pump 26 stops operating, the heating means 2 is turned off, and two hours later the cooling water circulation pump 16. The air cooling fan 18 stops, the lamp lights up,
A buzzer sounds to notify that the evaporation and concentration process has been completed, and the air pump 23 stops. Now, open Ball Pal 3 and use the evaporation pot! After the sludge inside is dropped into the polypropylene bag 7, the O-ring 8 is removed and taken out. In addition, during the evaporation concentration process, when the liquid level sensor 14 detects that the water in the condensing means 11 has run out, a lamp lights up and a buzzer sounds, indicating that the stored water has run out. Let me know. Further, during the evaporation concentration process, if the temperature sensor 30 detects that the liquid level in the evaporator 1 has abnormally decreased for some reason and the temperature in the evaporator 1 has risen to 120°C due to dry heating, the lamp lights up, a warning buzzer sounds, and the heating means 2 is turned off. From then on, the evaporation concentration process is interrupted by the series of operations described above. FIG. 3 shows a circulation system 71 located near the heating means 2 of the evaporation pot 1.
The photographic processing waste liquid is circulated from the bottom to the top by driving the pump 72 of this circulation system 71. As a result, the photographic processing waste liquid can agitate the surface of the heating means 2, and vapor bubbles can be quickly removed. In FIG. 4, the heating means 2 of the evaporating pot 1 is provided on the outer periphery of the lower part 1b of the evaporating pot 1, and is heated from the outside. Then, an ultrasonic transmitter 73 is provided at a lower position near the heating means 2, and this operation vibrates the photographic processing waste liquid and causes vapor bubbles generated on the inner wall of the lower part 1b of the evaporation pot 1 where the heating means 2 is located. I'm trying to force them to leave early. In FIG. 5, a heating means 2 is provided in the photographic processing waste liquid from the upper part 1a of the evaporating pot 1, and this heating means 2 itself is forcibly vibrated by a vibrator 74, which is a mechanical means. The vibration of the heating means 2 forcibly removes vapor bubbles generated on the surface. The frequency of vibration at this time can be set arbitrarily. FIG. 6 shows the combination of gas blowing and circulation of photographic processing waste liquid. That is, a circulation pump 75 is provided, and when the circulation pump 5 is driven, the photographic processing waste liquid concentrated from the lower part 1b of the evaporator 1 is circulated through a pipe 76, and the evaporator 1 at the position where the heating means 2 is provided is circulated. I try to spray it towards the inner wall. In addition, by driving the air pump 23,
Gas from the accumulated liquid introduction pipe 12 is blown into the interior of the evaporating means 2 from a position below it. [Experiment Example 1] MPS processing system automatic processor for paper RP-800
(manufactured by Konica Corporation), and after printing a commercially available color photographic paper (manufactured by Konica Corporation), continuous processing was performed using the following processing steps and processing solution. Standard processing step (1) Color development 40°C 3 minutes (2) tll
[Inner fixation 38°C 1 minute 30 seconds (3) Stabilization treatment 25°C to 35°C 3 minutes (4) Drying 75
℃~100℃ Approximately 2 minutes Processing liquid composition [Color development tank liquid] Ethylene glycol 15ml Potassium sulfite 2.0g Potassium bromide
1.3g sodium chloride
0.2g potassium carbonate
24.0g 3-Methyl-4-amino-N-ethyl-N-(β-methanesulfonamidoethyl)aniline sulfate 5.5g optical brightener (4,4
°-diaminostilbendisulfonic acid derivative)
1.0g hydroxylamine sulfate 3
.. 0g 1-hydroxyethylindene-1,1-niphosphonic acid 0.4g hydroxyethyliminodiacetic acid 5.0g magnesium chloride hexahydrate 0.7g 1.2-dihydroxybenzene-3
, 5-disulfonic acid disodium salt 0.2g water was added to make the solution 11, and the pH was adjusted to 10.2 with potassium hydroxide and sulfuric acid.
Set to 0. [Color developer replenisher] Ethylene glycol 20mj! Potassium sulfite 3.0g Potassium carbonate
24.0g hydroxyamine sulfate 4.0g 3-methyl-4-amino-N-
Ethyl-N-(β-methanesulfonamide ethyl)aniline sulfate 1.5g Optical brightener (4,4
'-diaminostilbendisulfonic acid derivative)
2.5g 1-hydroxyethylindene-1.1
- Niphosphonic acid 0.5g Hydroxyethyliminodiacetic acid 5.0g Magnesium chloride hexahydrate o, 8g 1.2-dihydroxybenzene-3,5-disulfonic acid disodium salt 0
.. Add 3g of water to make 11, and make p with potassium hydroxide and sulfuric acid.
Let it be H10,70. [Bleach-fix tank solution] Ethylenediaminetetraacetic acid ferric ammonium dihydrate 60.0g Ethylenediaminetetraacetic acid 3.0g Ammonium thiosulfate (70% solution) 100. mf ammonium sulfite (40% solution) 27.5m! Add water to bring the total volume to tJ2, and add potassium carbonate or glacial acetic acid to p
Adjust to H7.1. [Innocence fixer replenisher A] Ferric ammonium ethylenediaminetetraacetate dihydrate 260.0g Potassium carbonate 42.0g Add water to make the total amount IJ! shall be. The pH of this solution was adjusted to 6.7 using acetic acid or aqueous ammonia.
Set to ±0.1. [Bleach-fix replenisher B] Ammonium thiosulfate 250.0 mn (70%
Solution) Ammonium sulfite 25.0ml (40%
Solution) Ethylenediaminetetraacetic acid 17.0g Glacial acetic acid
Add 85.0mj2 water and bring to a boil. This solution has a pH of 5.3 using acetic acid or aqueous ammonia.
It is ±0.1. [Water wash alternative stable tank fluid and replenisher coethylene glycol 1.0g 2-methyl-4-isothiazolin-3-one
0.20g 1-hydroxyethylidene-1,
1-Niphosphonic acid (60% aqueous solution 1.0g ammonia water (amthonium hydroxide 25% aqueous solution) 2.0g in water
ft and adjusted to pH 7.0 with 50% sulfuric acid. Fill an automatic processor with the above-mentioned color developing tank liquid, bleach-fixing tank liquid and stabilizing tank liquid, and while processing the commercially available color photographic vapor sample, mix the above-mentioned color developing replenisher, bleach-fixing replenisher A and B and stabilize. A running test was performed while replenishing the replenisher through the bellows pump. The amount of replenishment is 190 mL per 1 liter of color paper to the color developing tank, 50 mL each of bleach-fixing replenisher A and B to the bleach-fixing tank, and 50 ml of each of bleach-fixing replenishers A and B to the stabilizing tank. 250m
λ supplemented. The stabilization tanks of the automatic developing machine are the first to third tanks in the direction of the flow of the sample, and the final tank is replenished, and the overflow liquid from the final tank is allowed to flow into the oak at the previous stage. Furthermore, a multi-tank countercurrent system was adopted in which this overflow liquid also flows into the preceding tank. Continuous processing was performed until the total amount of replenishment of the water washing alternative stabilizing solution became three times the capacity of the stabilizing tank. In addition, after each color negative film GX-100 (manufactured by Konica Corporation) was exposed to light using a conventional method, the following development processing was performed using an automatic developing machine that was a modified version of the negative film processor NFS-FP34 (manufactured by Konica Corporation). The treatment was carried out continuously under the following conditions. From waterless washing stability (2nd tank) to waterless washing stability (1st tank),
The countercurrent method (two-stage countercurrent) is used, and the bleach-fixing process is similarly carried out from bleach-fixing (second tank) to bleach-fixing (first tank).
A counter current method was used to flow into the tank). In addition, the amount of processing liquid brought in from the front tank of a multi-tank is 0゜6 m
It was iL/dm'. Below are 9 color developing tank solutions showing the formulations of the tank solution and each replenisher; Potassium carbonate 30g Sodium sulfite 2.0g Hydroxylamine sulfate 2.0g! -Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (60% aqueous solution) 1.0g Hydroxyethyliminodiacetic acid 3.0g Magnesium chloride 0.3g Potassium bromide 1.2g Sodium hydroxide 3.48N-ethylene-N-β-
Hydroxyethyl-3-methyl-4-aminoaniline hydrochloride 4.6g Water was added to make the pH 11, and the pH was adjusted to 10.1 with sodium hydroxide.
Adjusted to. Color developer replenisher: Potassium carbonate 40g Sodium sulfite 3.0g Hydroxylamine sulfate 3.0g Diethylenetriaminepentaacetic acid 3.0g Potassium bromide
0.9g sodium hydroxide
3.4g N-ethylene-N-β-hydroxyethyl-3
-Methyl-4-aminoaniline hydrochloride 5.6g Add water to make 11, and add sodium hydroxide to pH 10.1.
Adjusted to. Bleach-fix tank solution and replenisher diethylenetriaminepentaacetic acid ferric ammonium salt 0.5M Hydroxyethyliminodiacetic acid 20g Ammonium thiosulfate (70% evening t/VOj 50ml Ammonium sulfite 15g 2-amino-5-mercapto-1,3 ,4-thiadiazole 1.0g ammonia water (28%) 11 with 20ml water
The pH was adjusted to 7.6 with acetic acid and aqueous ammonia. Anhydrous wash stable tank fluid and replenisher; 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01g2-methyl-4
-Isothiazolin-3-one Ethylene glycol diethylene triamine Pentaacetate Finished to IIL with ferric ammonium salt solution, pH 10 with ammonium and sulfuric acid,
Adjust to 0. Stable tank liquid and replenisher: Formalin (37% aqueous solution) Konidax (manufactured by Konica Corporation) Add water to make 11. Continuous processing was carried out until the tank replenishment amount of the color developer reached three times the capacity of the color developer tank. The color negative film and color vapor waste liquid were mixed at a ratio of 1:1 and used.

【実験l】[Experiment 1]

前記廃液を用いて、第2図の写真処理廃液の処理装置に
、空気(温度26℃)を下方位置(下部100mm)か
ら吹き込んで処理した場合と、吹き込まないで処理した
場合とを比較実験した。 蒸発釜体積 :容積 4.2ft 使用熱源  :棒状ヒータ(1,2にW)例2 次に、空気(温度26℃)を下方位置(下部100 m
m)から吹き込んで処理した場合と、上方位置(上部5
0 mm)から吹き込んだ場合とを比較実験した。 蒸発釜体積 :容積 4.2It 使用熱源  :棒状ヒータ(1,2KW)空気吹込量 
:251/min
Using the waste liquid, a comparative experiment was carried out using the photographic processing waste liquid processing apparatus shown in Fig. 2, in which the treatment was carried out by blowing air (temperature 26°C) from the lower position (lower 100 mm) and the case in which the treatment was carried out without blowing air. . Evaporation pot volume: Volume 4.2 ft Heat source used: Rod heater (W for 1 and 2) Example 2 Next, air (temperature 26°C) was heated to a lower position (100 m lower).
m), and when the treatment is performed by blowing from the upper position (upper 5).
A comparison experiment was conducted with a case where the air was blown from a depth of 0 mm). Evaporation pot volume: Volume 4.2It Heat source used: Rod heater (1.2KW) Air blowing amount
:251/min

【実験2】 第3図に示す循環系を備えて蒸発濃縮処理を行なった場
合と、備えない場合とを比較実験した。 蒸発釜体積 :容積 4.21 使用熱源  :棒状ヒータ(1,2KW)液循環量  
:61/min
[Experiment 2] A comparative experiment was conducted between a case where the evaporative concentration process was carried out using the circulation system shown in FIG. 3 and a case where the circulation system was not provided. Evaporation pot volume: Volume 4.21 Heat source used: Rod heater (1.2KW) Liquid circulation amount
:61/min

【実験3】 第4図に示す超音波発信機を備えて蒸発濃縮処理を行な
った場合と、備えない場合とを比較実験した。 蒸発釜体積 :容積 4.2丘 使用熱源  :棒状ヒータ(1,2KW)廃液    
:総合写真処理廃液容積2IL超音波発信機:300W
、28KHz発信
[Experiment 3] A comparative experiment was conducted between the case where the ultrasonic transmitter shown in FIG. 4 was provided and the evaporation concentration process was carried out, and the case where the ultrasonic transmitter was not provided. Evaporation pot volume: Volume 4.2 Heat source used: Rod heater (1.2KW) Waste liquid
:Comprehensive photographic processing waste liquid volume 2IL Ultrasonic transmitter: 300W
, 28KHz transmission

【実験4】 第5図に示す機械的手段によって、蒸発手段に撮動を与
えた蒸発濃縮処理を行なった場合と、撮動を与えない場
合とを比較実験した。 蒸発釜体積 :容積 4.2ft 使用熱源  :棒状ヒータ(1,2KW)廃液    
:総合写真処理廃液容積2j2振動    :50W、
60Hz (発明の効果) この発明は前記のように、写真処理廃液の処理装置は、
加熱手段及び/又は蒸発手段の写真処理廃液と接触する
表面に生成される蒸気泡の!1脱を促進させる離脱手段
を備えるから、蒸発濃縮時に加熱手段の表面に生成され
る蒸気泡を強制的に、かつ早期に離脱させることができ
る。従って、蒸気泡の原因によって写真処理廃液の過熱
分解されることがなくなり、臭気の発生が抑えられると
共に、熱効率が低下することが軽減され、効率的な゛蒸
発濃縮を行なうことがで台る。
[Experiment 4] An experiment was conducted to compare the case where the evaporation concentration process was carried out by applying motion to the evaporation means using the mechanical means shown in FIG. 5, and the case where the motion was not applied. Evaporation pot volume: Volume 4.2ft Heat source used: Rod heater (1.2KW) Waste liquid
: Comprehensive photographic processing waste liquid volume 2j2 vibration : 50W,
60Hz (Effect of the invention) As described above, the photographic processing waste liquid processing apparatus of the present invention has the following features:
of vapor bubbles generated on the surfaces of the heating means and/or the evaporating means that come into contact with the photographic processing waste! Since the vapor bubbles generated on the surface of the heating means during evaporation and concentration are provided with a detachment means that promotes desorption, vapor bubbles generated on the surface of the heating means during evaporation and concentration can be forcibly and quickly detached. Therefore, the photographic processing waste liquid is not overheated and decomposed due to vapor bubbles, the generation of odor is suppressed, and the decrease in thermal efficiency is reduced, making it possible to carry out efficient ``evaporation concentration''.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は自動現像機の概略図、第2図から′!J6図は
この発明の実施例を示す概略構成図である。 、図面中符号1は蒸発釜、2は加熱手段、11は凝縮手
段、19は溜液タンク、24は廃液供給タンク、70は
供給管、フ1は循環系、72はポンプ、73は超音波発
信機、74は振動機である。 第1図 手続補正音 昭和63年3月7日 1 事件の表示 昭和62年特許願第276413号 2 発明の名称 写真処理廃液の処理装置 3 補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号氏名 (1
27)コニカ株式会社 (昭和62年12月11日付にて 6 補正の対象    明細書の「発明の詳細な説明」
の欄7 補正の内容    別紙のとおり (1)明細書第4頁第19行の「行える」を「行なえる
」と訂正する。 (2)同書第10頁第3行の「メツする」を「メツキす
る」と訂正する。 (3)同書第13頁第4行の「組み合わせた」をr組合
せた」と訂正する。 (4)同書第17頁第14行の「行う」を「行なう」と
訂正する。 (5)同書第18頁第16行の「行われる」を「行なわ
れる」と訂正する。 (6)同書第18頁第17行の「行われる」を「行なわ
れる」と訂正する。 (7)同書第19頁第16行の「下部」を「下部1bJ
と訂正する。 (8)同書第21頁第9行の「このから」を「ここから
」と訂正する。 (9)同書*zt頁第15行乃至第16行の「限定され
ず、限定されず、」を「限定されず、」と訂正する。 (10)同書第24頁第18行の「バブルング」を「バ
ブリング」と訂正する。 (11)同書第25頁第14行のrボールパル3」をr
ボールバルブ3」と訂正する。 (12)同書第30頁第3行の「マグネシウム」を「マ
グネシウム」と訂正する。 (13)同書第31頁第20行の「(60%水溶液」を
「(60%水溶液)」と訂正する。 (14)同書N32頁第9行の「行った」を「行なった
」と訂正する。 (15)同書N33頁第1行の「行った」を「行なりた
」と訂正する。 (16)同書第34頁第3行のr方式した」をr方式と
した」と訂正する。 (17)同書第36頁第10行の「2−メチル−4−イ
ソチアゾリン−3−オン」を 「2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン0.01
gJ と訂正する。 (18)同書第36頁第11行の「エチレングリコール
」を 「エチレングリコール       2.OgJと訂正
する。 (19)同書第36頁第13行の「塩」を「塩    
         0.03モル」と訂正する。 (20)同書第36頁第17行の「ホルマリン(37%
水溶液)」を 「ホルマリン(37%水溶液)     3mλ」と訂
正する。 (21)同書第36頁第18行の「コニダックス(コニ
カ株式会社製)」を 「コニダックス(コニカ株式会社製) 7mぷ」と訂正
する。 以上
Figure 1 is a schematic diagram of an automatic processor, and Figure 2 is a schematic diagram of an automatic processor. Figure J6 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention. In the drawings, reference numeral 1 is an evaporation pot, 2 is a heating means, 11 is a condensing means, 19 is a reservoir tank, 24 is a waste liquid supply tank, 70 is a supply pipe, 1 is a circulation system, 72 is a pump, 73 is an ultrasonic wave The transmitter 74 is a vibrator. Figure 1 Procedural amendment sound March 7, 1988 1 Indication of the case Patent application No. 276413 of 1988 2 Name of the invention Processing device for photographic processing waste liquid 3 Person making the amendment Relationship to the case Patent applicant address Tokyo 1-26-2 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku Name (1)
27) Konica Co., Ltd. (as of December 11, 1988 6. Subject of amendment: "Detailed description of the invention" in the specification)
Column 7 Contents of the amendment As shown in the attached sheet: (1) "Can do" on page 4, line 19 of the specification is corrected to "can do". (2) In the third line of page 10 of the same book, "metsuru" is corrected to "metsukiru". (3) In the same book, page 13, line 4, ``combined'' is corrected to ``combined''. (4) In the same book, page 17, line 14, "do" is corrected to "do". (5) In the same book, page 18, line 16, ``to be done'' is corrected to ``to be done''. (6) In the same book, page 18, line 17, ``to be done'' is corrected to ``to be done''. (7) “Bottom” in page 19, line 16 of the same book was changed to “bottom 1bJ
I am corrected. (8) In the same book, page 21, line 9, "from here" is corrected to "from here." (9) In the same book *page zt, lines 15 and 16, "without limitation," is corrected to "without limitation." (10) "Bubbling" on page 24, line 18 of the same book is corrected to "bubbling." (11) "r ball pal 3" on page 25, line 14 of the same book.
Ball valve 3" is corrected. (12) "Magnesium" in the third line of page 30 of the same book is corrected to "magnesium." (13) In the same book, page 31, line 20, “(60% aqueous solution”) is corrected to “(60% aqueous solution)”. (14) In the same book, page N32, line 9, “did” is corrected to “did”. (15) In the first line of page N33 of the same book, ``I went'' is corrected to ``I did it.'' (16) In the third line of page 34 of the same book, ``r-method did'' is corrected to ``r-method.'' (17) "2-Methyl-4-isothiazolin-3-one" on page 36, line 10 of the same book was replaced with "2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01
Correct it as gJ. (18) "Ethylene glycol" on page 36, line 11 of the same book is corrected to "ethylene glycol 2.
0.03 mole”. (20) “Formalin (37%
(aqueous solution)" should be corrected to "formalin (37% aqueous solution) 3 mλ." (21) In the same book, page 36, line 18, "Konidax (manufactured by Konica Corporation)" is corrected to "Konidax (manufactured by Konica Corporation) 7mp". that's all

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)蒸発手段に貯留された写真処理廃液を、加熱手段
で加熱して蒸発濃縮せしめる写真処理廃液の処理装置に
おいて、前記加熱手段及び/又は蒸発手段の写真処理廃
液と接触する表面に生成される蒸気泡の離脱を促進させ
る離脱手段を備えることを特徴とする写真処理廃液の処
理装置。
(1) In a processing device for photographic processing waste liquid stored in an evaporating means, which is heated by a heating means to evaporate and concentrate the photographic processing waste liquid, the waste liquid is generated on the surface of the heating means and/or the evaporating means that comes into contact with the photographic processing waste liquid. 1. A processing device for photographic processing waste liquid, characterized in that it is equipped with a separation means for promoting separation of vapor bubbles.
(2)前記離脱手段は、蒸発手段内の写真処理廃液中に
気体を供給して攪拌するように構成されることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の写真処理廃液の処理装
置。
(2) The photographic processing waste liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the removing means is configured to supply and stir gas into the photographic processing waste liquid in the evaporating means.
(3)前記離脱手段は、蒸発手段内の写真処理廃液を強
制的に循環させて攪拌するように構成されることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の写真処理廃液の処理
装置。
(3) The photographic processing waste liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the removing means is configured to forcibly circulate and stir the photographic processing waste liquid within the evaporating means.
(4)前記離脱手段は、蒸発手段内の加熱手段に振動を
与えるように構成されることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の写真処理廃液の処理装置。
(4) The photographic processing waste liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the detachment means is configured to apply vibration to the heating means within the evaporation means.
(5)前記離脱手段は、蒸発手段内の写真処理廃液に超
音波で振動させるように構成されることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の写真処理廃液の処理装置。
(5) The photographic processing waste liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the removing means is configured to vibrate the photographic processing waste liquid in the evaporating means with ultrasonic waves.
JP27641387A 1987-09-02 1987-11-01 Treating apparatus for photograph treatment waste liquid Pending JPH01119383A (en)

Priority Applications (4)

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