JPH01102839A - Electron microscope with analytical function - Google Patents

Electron microscope with analytical function

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JPH01102839A
JPH01102839A JP25829787A JP25829787A JPH01102839A JP H01102839 A JPH01102839 A JP H01102839A JP 25829787 A JP25829787 A JP 25829787A JP 25829787 A JP25829787 A JP 25829787A JP H01102839 A JPH01102839 A JP H01102839A
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Abstract

PURPOSE:To enhance the analyzing efficiency by prohibiting taking-in of detection signals to a processing means in response to shift of an electron beam irradiating position on a specimen, and thereby minimizing the time for takein prohibition of an X-ray signal by dislocation of the specimen. CONSTITUTION:A means to perform counting of X-rays with an X-ray analyzer 9 is turned on, and counting is commenced. Image on a fluorescent plate 7 is observed, and when specimen makes a drift, a specimen fine adjusting device 8 is actuated to shift the analytical zone again to the center of fluorescent plate 7. At this time, the specimen fine adjusting device 8 emits a signal which indicates that the fine adjusting device 8 is in operation, and upon receiving this signal the X-ray counting is turned off. When the operational signal for the specimen fine adjusting device 8 has gone out, the X-ray counting is resumed. This enhances accuracy of the analytical position, and the reliability of analytical result will be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、分析機能を有する電子顕微鏡に係り 。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to an electron microscope having an analysis function.

特に、X線元索分析を行なうに好適な透過形電子顕微鏡
に関する。
In particular, the present invention relates to a transmission electron microscope suitable for performing X-ray source analysis.

(従来の技術) X線分析装置は、良く知られているように、電子線を5
0人〜200人程度に収束し、200秒程度の間試料上
の1点を照射し、そこから発生される特性X線の波長や
強度を計測してX線分析スペクトルを得るものである。
(Prior art) As is well known, X-ray analyzers emit 5 electron beams.
It converges on about 0 to 200 people, irradiates one point on the sample for about 200 seconds, and measures the wavelength and intensity of the characteristic X-rays generated from that point to obtain an X-ray analysis spectrum.

この場合、計a′1lI(分析)の途中で操作者によっ
て試料が微動されたり、熱膨張や乾燥などのために操作
者が知らないうちに試料が変形したり移動したりしてし
まうことがある。
In this case, the sample may be slightly moved by the operator during the analysis, or the sample may be deformed or moved due to thermal expansion or drying without the operator's knowledge. be.

従来のX線分析機能付き電子顕微鏡では、その試料微動
装置とX線分析装置との間には、全く関連性がなくそれ
ぞれ独立に操作されているのが普通である。
In conventional electron microscopes with an X-ray analysis function, there is no relationship between the sample fine movement device and the X-ray analysis device, and they are usually operated independently.

(発明が解決しようとする問題点) 上記したような従来技術において、分析領域が50〜1
00人と微細化するにつれ(分析領域は、電子線の試料
上での大きさで決まるので、このときは、電子線径も5
0〜100人である)、分析時間中の試料の移動が問題
となる。
(Problems to be solved by the invention) In the prior art as described above, the analysis area is 50 to 1.
As the size of the electron beam becomes smaller (the analysis area is determined by the size of the electron beam on the sample, the diameter of the electron beam will also increase
(0 to 100 people), sample movement during the analysis time becomes a problem.

すなわち、例えば2A/secで継続的に試料が移動し
たと仮定すると、200秒の間には、4ooA試料が移
動してしまったことになり、分析当初に電子線が照射し
ていた試料上の領域と、分析終了時に電子線が照射して
いる領域とは全く異なってしまい、分析そのものの信頼
性がなくなってしまう。
In other words, if we assume that the sample moves continuously at 2A/sec, for example, 4ooA sample will have moved in 200 seconds, which means that the sample that was irradiated with the electron beam at the beginning of the analysis will have moved. The region is completely different from the region irradiated with the electron beam at the end of the analysis, and the reliability of the analysis itself is lost.

これを避けるためには、試料の移動を電子顕微鏡の試料
微動装置で補償することが必要になるが、手動では、仲
々補償を正確に行なうことが困難であり、正確な固定位
置での分析は極めて困難であるのが実態である。
In order to avoid this, it is necessary to compensate for the movement of the sample using the sample movement device of the electron microscope, but it is difficult to perform accurate compensation manually, and analysis at an accurate fixed position is impossible. The reality is that it is extremely difficult.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、前記問題点を解決するために、試料微動装置
が操作されたこと、または操作されていることを検出す
る手段、さらにはまた、原因は何であれ、電子線が照射
されている試料位置が移動したことを検出する手段を設
け、また、電子線と試料の相対移動が検出されたときは
X線の計数を中断させたり、試料移動を補償する手段を
設けることにより、電子顕微鏡におけるX線分析位置精
度を著しく向上させるものである。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a means for detecting that the sample fine movement device has been operated or is being operated. Well, we have a means to detect that the position of the sample that is irradiated with the electron beam has moved, and when relative movement between the electron beam and the sample is detected, it interrupts the X-ray counting and compensates for the sample movement. By providing a means for doing so, the accuracy of X-ray analysis position in an electron microscope is significantly improved.

(作用) 通常、X線分析機能付き電子顕微鏡の試料微動装置では
、電子顕微鏡像を観察しながら、分析を目的とする試料
領域を観察用蛍光板の中心位置(すなわち、光軸上)に
移動する。
(Function) Normally, the sample fine movement device of an electron microscope with an X-ray analysis function moves the sample area for analysis to the center position of the observation fluorescent screen (i.e., on the optical axis) while observing the electron microscope image. .

次に電子線を細く収束させ、試料上の分析領域を照射す
る。その状態で、X線分析器でのX線計数を行なわせる
手段をONとし、計数を開始する。
Next, the electron beam is narrowly focused and irradiates the analysis area on the sample. In this state, the means for performing X-ray counting in the X-ray analyzer is turned on to start counting.

蛍光板上の像を観察し、試料が移動(ドリフト)した場
合には、試料微動装置を操作し、分析領域を再び蛍光板
の中心位置に移動する。
The image on the fluorescent screen is observed, and if the sample moves (drifts), the sample fine movement device is operated to move the analysis area to the center position of the fluorescent screen again.

このとき試料微動装置からは、微動装置の操作中である
ことを示す信号が出力され、この信号により、X線の計
数はOFFされる。試料微動装置の操作信号が消えた時
点で再び、X線の計数が再開される。
At this time, the sample fine movement device outputs a signal indicating that the fine movement device is in operation, and this signal turns off the X-ray counting. When the operation signal of the sample fine movement device disappears, counting of X-rays is restarted again.

また、適宜のパターン認識(図形の同一性認識)などの
手法により、ある時間間隔ごとに、試料の電子顕微鏡像
の異同および/または移動方向と移動量を検出し、この
移動を補償するように試料微動装置を自動または手動制
御することもできる。
In addition, by using appropriate pattern recognition (identity recognition of figures) and other methods, the difference in electron microscope images of the sample and/or the direction and amount of movement are detected at certain time intervals, and this movement is compensated for. The sample fine movement device can also be controlled automatically or manually.

このような制御により、本発明によれば、分析位置の精
度を高め、分析結果の信頼性を高めることができる。
Through such control, according to the present invention, it is possible to improve the accuracy of the analysis position and increase the reliability of the analysis results.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。(Example) An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

図において、電子銃1から、放出された電子線3は、収
束レンズ2によって収束され、試料ホールダ4に納めら
れた試料を照射する。試料を透過した電子線は対物レン
ズ5および投射レンズ6によって拡大され、観察用蛍光
板7の上に試料の拡大像を結像する。
In the figure, an electron beam 3 emitted from an electron gun 1 is converged by a converging lens 2 and irradiates a sample placed in a sample holder 4. The electron beam transmitted through the sample is magnified by an objective lens 5 and a projection lens 6, and an enlarged image of the sample is formed on a fluorescent screen 7 for observation.

試料を移動させる機能を有する試料微動装置8は、例え
ばXおよびY方向駆動用のパルスモータ(図示せず)を
含み、試料微動駆動装置12から送られるパルス信号に
よって制御される。試料微動駆動装置12からのパルス
信号は、試料微動操作盤13を、オペレータが操作する
ことにより出力される。
The sample fine movement device 8, which has the function of moving the sample, includes, for example, a pulse motor (not shown) for driving in the X and Y directions, and is controlled by a pulse signal sent from the sample fine movement device 12. A pulse signal from the sample fine movement driving device 12 is outputted when the sample fine movement operation panel 13 is operated by an operator.

オペレータは、観察窓ガラス14を介して、試料の拡大
像を観察することができ、この拡大像を観察しながら試
料微動操作盤13を操作することができる。
The operator can observe an enlarged image of the sample through the observation window glass 14, and can operate the sample fine movement operation panel 13 while observing this enlarged image.

電子線3が試料を照射することによって発生する特性X
線は、X線検出器9で検出され、スイッチ10を介して
X線表示装置11に取込まれ、特性X線の強度および波
長が計測、表示される。そして、その結果に基づいて、
特性X線を発生している元素の同定ができる。
Characteristics X generated when the electron beam 3 irradiates the sample
The rays are detected by the X-ray detector 9, taken in by the X-ray display device 11 via the switch 10, and the intensity and wavelength of the characteristic X-rays are measured and displayed. And based on the results,
It is possible to identify elements that generate characteristic X-rays.

上記のように構成されたシステムにおいて、所望の試料
領域の元素分析を行なう場合は、下記の(1)〜(3)
の順序で操作する。
In the system configured as above, when performing elemental analysis of a desired sample area, follow the steps (1) to (3) below.
Operate in this order.

(1)オペレータは、観察用蛍光板7上の試料の拡大像
を観察しながら、試料微動操作盤13を操作し、分析を
目的とする領域を蛍光板7の中心(すなわち、光軸上)
に移動させる。
(1) While observing the magnified image of the sample on the observation fluorescent screen 7, the operator operates the sample fine movement operation panel 13 to move the area for analysis to the center of the fluorescent screen 7 (that is, on the optical axis).
move it to

(2)電子線3を収束レンズ2により細く収束し、分析
目的領域を照射する。
(2) The electron beam 3 is narrowly converged by the converging lens 2 to irradiate the analysis target area.

(3)特性X線強度の計数合計時間T。をX線表示装置
11で設定した後、スイッチ10をONとして計数を開
始する。
(3) Total time T for counting characteristic X-ray intensity. After setting on the X-ray display device 11, the switch 10 is turned on to start counting.

この場合、通常は、50人〜100人に電子線3を収束
し、計数時間を200秒程度に設定することが多い。試
料のドリフトは、試料自身の強さや特性にもよるが、通
常2A/sec程度である。
In this case, the electron beam 3 is usually focused on 50 to 100 people, and the counting time is often set to about 200 seconds. The drift of the sample is usually about 2 A/sec, although it depends on the strength and characteristics of the sample itself.

従って、試料−微動装置で補正を加えて試料位置を補償
しない限り、分析時間中に試料が400人程度も移動す
ることになり、100人〜50人の精度での分析は不可
能となる。
Therefore, unless the sample position is compensated by correction using the sample-fine movement device, the sample will move by about 400 people during the analysis time, making it impossible to perform analysis with accuracy of 100 to 50 people.

即ち、第2図に示したように、分析開始時には同図(a
)のように分析目的領域16に電子線が正しく照射され
、電子線スポット15が分析目的領域16に合致してい
るが、分析終了時には、例えば同図(b)のように、所
望の分析目的領域16とは全く異なった領域の分析とな
ってしまっていることがある。
That is, as shown in Figure 2, at the start of analysis, the same figure (a
), the electron beam is correctly irradiated onto the analysis target area 16, and the electron beam spot 15 matches the analysis target area 16, but at the end of the analysis, as shown in FIG. In some cases, an area completely different from area 16 is analyzed.

分析領域は、分析時であっても、オペレータは蛍光板7
上で観察できるため、試料微動操作盤13を制御するこ
とにより、同図(e)のように位置の補正をすることは
可能である。しかし、50人〜100人程度の補正は微
妙であり、補正には、10〜20秒の時間が必要となる
Even during analysis, the operator must use the fluorescent screen 7 in the analysis area.
Since the specimen can be observed from above, it is possible to correct the position as shown in FIG. However, correction for about 50 to 100 people is delicate and requires 10 to 20 seconds.

それ故に、このままでは、この試料位置補正の間は、誤
った分析データがX線表示装置11に取込まれることに
なる。
Therefore, if left as is, erroneous analysis data will be taken into the X-ray display device 11 during this sample position correction.

本実施例では、試料微動駆動装置12が動作して試料微
動制御信号が出力されると、これに応答してスイッチ1
0を自動的にOFFとするように構成されている。
In this embodiment, when the sample fine movement drive device 12 operates and a sample fine movement control signal is output, the switch 1
0 is automatically turned off.

第3図に、本実施例の動作のタイムチャートを示す。FIG. 3 shows a time chart of the operation of this embodiment.

スイッチ10は、X線表示装置11からの分析開始信号
STによってONとなり、X線検出器9からの信号取込
みを開始する。
The switch 10 is turned on by an analysis start signal ST from the X-ray display device 11, and starts receiving signals from the X-ray detector 9.

試料のドリフトが発生し、これを試料微動装置8で、オ
ペレータが補正している間は、試料微動制御信号CON
が発生する。そして、この試料微動制御信号CONがあ
る間はスイッチがOFFとなり、X線検出器9からの信
号取込みが中止される。
When sample drift occurs and the operator is correcting this using the sample fine movement device 8, the sample fine movement control signal CON is
occurs. Then, while this sample micro-movement control signal CON is present, the switch is turned off, and signal acquisition from the X-ray detector 9 is stopped.

試料微動制御信号CONがなくなったとき、あるいはそ
の後τ時間(試料が落ち着くまでの時間二通常は2〜3
秒)経過後にスイッチ10はONとなり、再度、X線信
号の取込みを開始する。そして、X線取込み時間の累計
(τl+τ2+τ3)がτ0に等しくなったとき、スイ
ッチ10はOFFとなって1回の分析が完了する。
When the sample fine movement control signal CON disappears, or after that time τ (time until the sample settles down, usually 2 to 3
seconds), the switch 10 is turned on and the acquisition of X-ray signals is started again. Then, when the cumulative total of the X-ray acquisition time (τl+τ2+τ3) becomes equal to τ0, the switch 10 is turned off and one analysis is completed.

このように構成することにより、目的とした領域からの
みのX線信号を蓄積することができるので、分析位置精
度は大幅に向上し、分析結果の信頼性も向上する。
With this configuration, it is possible to accumulate X-ray signals only from the target area, so the analysis position accuracy is greatly improved and the reliability of the analysis results is also improved.

以上では、試料位置の移動の検出を、オペレータの電子
顕微鏡像観察によって行なうものとして説明したが、試
料位置の移動の検出は、つぎのように0動化することも
可能である。
In the above description, it has been described that the movement of the sample position is detected by the operator's observation of an electron microscope image, but the detection of the movement of the sample position can also be zero-motioned as described below.

すなわち、第1図に点線で示したように、観察用蛍光板
7上の電子顕微鏡像をTV左カメラ1で撮像し、画像メ
モリ22に記憶する。
That is, as shown by the dotted line in FIG. 1, an electron microscope image on the observation fluorescent screen 7 is captured by the TV left camera 1 and stored in the image memory 22.

予定の時間間隔で(例えば数秒〜10数秒毎に)、撮像
を繰り返し、前回のTV像と今回のそれとを、画像処理
装置23において、適宜の手法で比較対照すれば、試料
が移動したこと(および必要ならば、移動の方向と惜)
を検出することができる。
By repeating imaging at scheduled time intervals (for example, every few seconds to 10-odd seconds) and comparing and contrasting the previous TV image and the current one using an appropriate method in the image processing device 23, it can be determined that the sample has moved ( and, if necessary, the direction of movement)
can be detected.

試料の移動が検知されたならば、スイッチ10をOFF
にする制御信号を発生すると共に、警報・表示を発生し
てオペレータに知らせる。オペレータが試料位置を再調
整して正しい目標位置に設定し終ると、スイッチ10を
OFFにする制御信号は消滅される。
If movement of the sample is detected, turn off the switch 10.
In addition to generating control signals, alarms and displays are also generated to notify the operator. When the operator has readjusted the sample position and set it to the correct target position, the control signal that turns off switch 10 is extinguished.

また、画像処理装置23において試料移動の方向と量が
検出される場合には、これらの検出結果を試料微動駆動
装置12にフィードバックし、これを補償相殺するよう
に試料位置の自動微動制御を行なえば、実質上試料位置
のずれを生ずることなしに、X線分析を行なうことがで
きる。この場合は、X線信号の取込み禁止時間を最少に
し、分析品能率を上げることができる。
Further, when the direction and amount of sample movement are detected in the image processing device 23, these detection results are fed back to the sample fine movement drive device 12, and automatic fine movement control of the sample position is performed to compensate and offset this. For example, X-ray analysis can be performed without substantially shifting the sample position. In this case, the time during which X-ray signal acquisition is prohibited can be minimized and the efficiency of analysis products can be increased.

さらに、本発明がX線分析のみならず、電子線分析など
にも適用できることは、当業者には容易に理解されるで
あろう。
Furthermore, those skilled in the art will readily understand that the present invention is applicable not only to X-ray analysis but also to electron beam analysis and the like.

(発明の効果) 本発明によれば、分析時間中の試料ドリフトの影響を実
質的に排除することができるため、分析位置精度を電子
線スポット径と同一にして分析精度を向上することがで
きる。
(Effects of the Invention) According to the present invention, it is possible to substantially eliminate the influence of sample drift during analysis time, and therefore it is possible to improve analysis accuracy by making the analysis position accuracy the same as the electron beam spot diameter. .

また、試料ドリフトを自動検知するようにすれば、オペ
レータの労力を減らすことができ、さらに自動検知の結
果をフィードバックして試料ドリフトの自動補正を行な
えば、試料の位置ずれによるX線信号の取込み禁止時間
(すなわち、分析休止時間)を最少にして、分析の能率
を向上することができる。
In addition, automatic detection of specimen drift can reduce operator labor, and automatic correction of specimen drift can be performed by feeding back the results of automatic detection. The efficiency of analysis can be improved by minimizing the inhibition time (ie, analysis down time).

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例のブロック図である。 第2図は、分析領域とドリフトの影響を説明するための
蛍光板の平面図である。第3図は試料微動制御信号とX
線取込み用スイッチのON、OFF状態を示すタイムチ
ャートである。 1・・・電子銃、3・・・電子線、4・・・試料ホール
ダ、5・・・対物レンズ、6・・・投射レンズ、7・・
・観察用蛍光板、8・・・試料微動装置、9・・・X線
検出器、10・・・スイッチ、11・・・X線表示装置
、12・・・試料微動駆動装置、13・・・試料微動操
作盤、15・・・電子線スポット、16・・・分析目的
領域、21・・・TV右カメラ22・・・画像メモリ、
23・・・画像処理装置
FIG. 1 is a block diagram of one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the fluorescent screen for explaining the analysis area and the influence of drift. Figure 3 shows the sample fine movement control signal and
It is a time chart showing ON and OFF states of the line intake switch. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Electron gun, 3... Electron beam, 4... Sample holder, 5... Objective lens, 6... Projection lens, 7...
- Fluorescent screen for observation, 8... Sample fine movement device, 9... X-ray detector, 10... Switch, 11... X-ray display device, 12... Sample fine movement drive device, 13... Sample fine movement operation panel, 15... Electron beam spot, 16... Analysis target area, 21... TV right camera 22... Image memory,
23... Image processing device

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電子線を収束して試料に照射する手段と、電子線
照射によって試料から発生される2次電子線、X線など
の少くとも1つを検出する手段と、前記検出信号を取込
んで所定の処理をする手段と、試料を微動する手段と、
電子線が照射された試料の部分の電子顕微鏡像を発生す
る手段とを有する分析機能付き電子顕微鏡であって、 試料上の電子線照射位置が移動したことに応答して前記
処理手段への検出信号取込みを禁止する手段を具備した
ことを特徴とする分析機能付き電子顕微鏡。
(1) A means for converging an electron beam to irradiate the sample, a means for detecting at least one of a secondary electron beam, an X-ray, etc. generated from the sample by electron beam irradiation, and a means for capturing the detection signal. means for performing predetermined processing on the sample, and means for slightly moving the sample;
and means for generating an electron microscope image of a portion of a sample irradiated with an electron beam, the processing means detecting the movement of the electron beam irradiation position on the sample. An electron microscope with an analysis function characterized by being equipped with a means for prohibiting signal acquisition.
(2)試料上の電子線照射位置の移動は、試料微動装置
の駆動によって行なわれることを特徴とする前記特許請
求の範囲第1項記載の分析機能付き電子顕微鏡。
(2) The electron microscope with analysis function according to claim 1, wherein movement of the electron beam irradiation position on the sample is performed by driving a sample fine movement device.
(3)電子線を収束して試料に照射する手段と、電子線
照射によって試料から発生される2次電子線、X線など
の少くとも1つを検出する手段と、前記検出信号を取込
んで所定の処理をする手段と、試料を微動する手段と、
電子線が照射された試料の部分の電子顕微鏡像を発生す
る手段とを有する分析機能付き電子顕微鏡であって、 電子顕微鏡像を予定時間間隔で撮像して記憶する手段と
、 異なる時刻に撮像、記憶された2つの電子顕微鏡像を比
較、対照して両者の差異を検出する手段と、 差異が予定値以上のときは、前記処理手段への検出信号
取込みを禁止する手段を具備したことを特徴とする分析
機能付き電子顕微鏡。
(3) A means for converging an electron beam and irradiating the sample, a means for detecting at least one of a secondary electron beam, an X-ray, etc. generated from the sample by electron beam irradiation, and a means for capturing the detection signal. means for performing predetermined processing on the sample, and means for slightly moving the sample;
An electron microscope with an analytical function, comprising: means for generating an electron microscope image of a portion of a sample irradiated with an electron beam; means for capturing and storing the electron microscope images at scheduled time intervals; The apparatus is characterized by comprising means for comparing and contrasting two stored electron microscope images to detect a difference between the two, and means for prohibiting the acquisition of a detection signal to the processing means when the difference is greater than a predetermined value. An electron microscope with analytical functions.
JP62258297A 1987-10-15 1987-10-15 Electron microscope with analysis function Expired - Lifetime JP2802494B2 (en)

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JPS6235445A (en) * 1985-08-05 1987-02-16 Shimadzu Corp Device for analyzing sample surface
JPS62229646A (en) * 1986-03-28 1987-10-08 Jeol Ltd Analyzing device utilizing charged particle beam

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