JPH01101123A - Device for production of optical disc - Google Patents

Device for production of optical disc

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Publication number
JPH01101123A
JPH01101123A JP25990587A JP25990587A JPH01101123A JP H01101123 A JPH01101123 A JP H01101123A JP 25990587 A JP25990587 A JP 25990587A JP 25990587 A JP25990587 A JP 25990587A JP H01101123 A JPH01101123 A JP H01101123A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photopolymer
disk
disc
stamper
turntable
Prior art date
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Pending
Application number
JP25990587A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryutaro Hayashi
林 柳太郎
Noriaki Kaneko
金子 典章
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP25990587A priority Critical patent/JPH01101123A/en
Publication of JPH01101123A publication Critical patent/JPH01101123A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce inclusion of bubbles in photopolymer by a method wherein a gas pressure controller feeds a pressurized air into the center of the annular transfer region of a stamper, a disc is forcibly brought into contact with the photopolymer with a lowering pressure. CONSTITUTION:Contact of a disc 29 and photopolymer 30 is effected in a manner that a contact face 310 is gradually enlarged along a peak from a certain one point of the peak on the annular bank of the photopolymer, feeding of the pressurized gas is stopped when an initial contact thereof is effected. Accordingly, a pass 320 of the annular becomes escape port of the gas. Since the contact is gradually effected at a minute angle, bubble inclusion in the photopolymer can be reduced. In the initial contact step, an initial contact mechanism 120 is freely driven, simultaneously with the feeding of a pressurized fluid around the center boss 20 in the lowering movement. The arm of the initial contact mechanism is axially moved on a disc 29 in the lowering movement, and a pressure 123 of the free end is lowered to press the disc.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、紫外線等の放射線で硬化する液状の放射線硬
化樹脂(以下、フォトポリマと称する。)を用いて微小
凹凸を担持する転写層を有する光ディスクを製造する装
置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention is directed to manufacturing an optical disc having a transfer layer that bears minute irregularities using a liquid radiation-curable resin (hereinafter referred to as photopolymer) that is cured by radiation such as ultraviolet rays. Regarding equipment.

背景技術 従来から、透明な円板上に、情報信号としてピット列を
同心円状若しくは渦巻き状に形成した光ディスクや、あ
るいはディスク完成後、レーザスポットによって追記で
きるように渦巻き状案内溝を形成した光ディスクが知ら
れている。かかる光ディスクの表面にピット列、案内溝
等の微小凹凸を形成した光ディスクの製造方法としては
、例えば特開昭53−116105号公報、特開昭54
−23501号公報、特開昭58−36417号公報等
に記載されたものがある。いずれの製造方法においても
、円板上にフォトポリマを担持させ、その上に所定微小
凹凸(パターン)を有するスタンパの転写領域を接触さ
せ、紫外線照射によってフォトポリマを硬化させて転写
層を円板上に形成させている。
BACKGROUND ART Conventionally, there have been optical discs in which pit rows are formed concentrically or spirally as information signals on a transparent disc, or optical discs in which spiral guide grooves are formed so that additional recording can be performed using a laser spot after the disc is completed. Are known. Methods for manufacturing optical discs in which minute irregularities such as pit rows and guide grooves are formed on the surface of such optical discs are disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 53-116105 and 1983.
There are those described in JP-A-23501, JP-A-58-36417, and the like. In either manufacturing method, a photopolymer is supported on a disk, a transfer area of a stamper having a predetermined minute unevenness (pattern) is brought into contact with the photopolymer, and the photopolymer is cured by ultraviolet irradiation to transfer the transfer layer onto the disk. It is formed on top.

しかしながら、いずれの方法においても、円板−スタン
パ間にフォトポリマを拡げる場合、フォトポリマ中に微
小気泡が混入するという欠点がある。一般に、光ディス
クの半径方向におけるピット列間隔は約1.6μmと小
さい。従って、転写工程におけるフォトポリマ中の気泡
の混入は、ビットあるいは案内溝を欠落させる有害なも
のである。
However, in either method, when the photopolymer is spread between the disk and the stamper, there is a drawback that microbubbles are mixed into the photopolymer. Generally, the interval between pit rows in the radial direction of an optical disc is as small as about 1.6 μm. Therefore, the inclusion of air bubbles in the photopolymer during the transfer process is harmful as it may cause bits or guide grooves to be missing.

円板−スタンパ間のフォトポリマ中の気泡の混入を防ぐ
技術としては、本出願人による特開昭60−26104
7号公報に開示した光ディスク製造方法がある。この従
来の製造方法を第16図の光ディスクの製造装置の部分
概略断面図に基づいて説明する。
A technique for preventing air bubbles from entering the photopolymer between the disk and the stamper is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-26104 by the present applicant.
There is an optical disc manufacturing method disclosed in Japanese Patent No. 7. This conventional manufacturing method will be explained based on a partial schematic sectional view of an optical disk manufacturing apparatus shown in FIG.

先ず、第16図(a)に示す如く、ベース2上の所定位
置に固定されたスタンパ1上にフォトポリマを供給する
。その後、センターボス3の外周のフランジ部にPMM
Aからなる透明円板4を載置する。
First, as shown in FIG. 16(a), a photopolymer is supplied onto the stamper 1 fixed at a predetermined position on the base 2. After that, PMM is attached to the flange part on the outer periphery of the center boss 3.
A transparent disk 4 made of A is placed.

次に、センターボス3を下降させて円板4をスタンパ1
上のフォトポリマ5に接触させる。この状態ではフォト
ポリマ5中には気泡が存在している。
Next, lower the center boss 3 and place the disc 4 into the stamper 1.
It is brought into contact with the photopolymer 5 above. In this state, bubbles are present in the photopolymer 5.

次に、第16図(b)に示す如く、スタンパ1及び円板
4の外周がフォトポリマ5を介して密着するように円板
4上の外周部を外周押さえ部材(リング)で固定する。
Next, as shown in FIG. 16(b), the outer periphery of the disc 4 is fixed with an outer periphery pressing member (ring) so that the outer peripheries of the stamper 1 and the disc 4 are brought into close contact with each other via the photopolymer 5.

次に、第16図(C)に示す如く、センターボス3近傍
を加圧してセンターボスを上昇させ、円板4の内周部を
上方向に押圧する。ここで円板4は、外周部を外周リン
グ6により固定されているために、図示の如く傘状ある
いはコニーデ形状に変形する。このときベース2の中央
凹部上に円板4及びスタンパ1間に偏平円歪形状の閉空
間が形成される。そして、センターボス3の上昇と共に
フォトポリマ5は外周側へ広がって行く。この際、フォ
トポリマ5中の直径0.5mm以上の大きな気泡はフォ
トポリマの外への広がりによって消滅し、それ以下の直
径の気泡は環状になったフォトポリマ溜りの内周側に集
まる。
Next, as shown in FIG. 16(C), pressure is applied near the center boss 3 to raise the center boss and press the inner peripheral portion of the disc 4 upward. Here, since the outer circumferential portion of the disk 4 is fixed by the outer circumferential ring 6, the disk 4 deforms into an umbrella shape or a conied shape as shown in the figure. At this time, a closed space having an oblate circular distortion shape is formed between the disk 4 and the stamper 1 above the central recess of the base 2. As the center boss 3 rises, the photopolymer 5 spreads toward the outer circumference. At this time, large bubbles with a diameter of 0.5 mm or more in the photopolymer 5 disappear as the photopolymer spreads outward, and bubbles with a smaller diameter gather on the inner peripheral side of the annular photopolymer reservoir.

ここで、センターボス3、円板4及びスタンパ1間に形
成された閉空間は、センターボス近傍を加圧又は減圧さ
せる気体圧制御装置に連通されているので、該気体圧制
御装置によって密閉状態のベース2の中央凹部から僅か
に気体を送込み加圧するとフォトポリマ5の最内周を振
動させた形となり、フォトポリマ中の気泡は消滅する。
Here, the closed space formed between the center boss 3, the disc 4, and the stamper 1 is communicated with a gas pressure control device that pressurizes or depressurizes the vicinity of the center boss, so that the closed space is kept in a sealed state by the gas pressure control device. When a slight amount of gas is introduced from the central recess of the base 2 and pressurized, the innermost circumference of the photopolymer 5 vibrates, and the bubbles in the photopolymer disappear.

次に、第16図(d)に示す転写工程の如くミ中央四部
の密閉状態を保ちつつ加圧を止め、気体を引き、減圧し
てゆくと大気圧との差圧によりスタンパ1と円板4の間
にフォトポリマ5が外周部から内周側に向かって進んで
ゆく。そしてセンターボス3を下降させる。ここで外周
部から内周側に向かって順次進んでゆくフォトポリマ5
は、円板4とスタンパ1との間に介在し消費され転写領
域の最内周部に達しスタンパ1の最内周部に達する以前
に完全に消費されて無くなるか又はスタンパ1の最内外
周部に吐出する。
Next, as shown in the transfer process shown in FIG. 16(d), pressurization is stopped while keeping the four central parts in a sealed state, and as the gas is drawn and the pressure is reduced, the stamper 1 and the disc 4, the photopolymer 5 advances from the outer periphery toward the inner periphery. Then, the center boss 3 is lowered. Here, the photopolymer 5 progresses sequentially from the outer circumference toward the inner circumference.
is present between the disc 4 and the stamper 1 and is consumed until it reaches the innermost periphery of the transfer area and is completely consumed and disappears before reaching the innermost periphery of the stamper 1, or is completely consumed and disappears before reaching the innermost periphery of the stamper 1. Discharge into the section.

次に、第16図(e)に示す如く、更にセン8ターポス
3の下降を続け、円板4全面がスタンパ面と路間−平面
になるまでセンターボス3の下降させ、所定位置で停止
させる。
Next, as shown in FIG. 16(e), the center boss 3 is further lowered until the entire surface of the disk 4 is on the stamper surface and the groove-plane, and then stopped at a predetermined position. .

次に、センターボス3の内周部下側近傍の閉空間の減圧
状態はそのままで外周部えリング6を外し、紫外線を照
射してフォトポリマ5を硬化させる。
Next, the outer periphery ring 6 is removed while maintaining the reduced pressure in the closed space near the lower inner periphery of the center boss 3, and the photopolymer 5 is cured by irradiation with ultraviolet rays.

フォトポリマ5の硬化後、センターボス3を上昇させて
スタンパ1から円板4を剥離させれば、スタンパ1の微
小凹凸を転写した硬化フォトポリマの転写層5を担持し
た円板4が得られる。
After the photopolymer 5 is cured, the center boss 3 is raised to separate the disc 4 from the stamper 1, thereby obtaining the disc 4 carrying the transfer layer 5 of the cured photopolymer onto which the fine irregularities of the stamper 1 have been transferred. .

しかしながらかかる従来の製造方法において、第16図
(a)に示す如く、スタンパ1上にフォトポリマを供給
した後、透明円板4を載置したセンターボス3を下降さ
せて円板4をフォトポリマ5に接触させる場合、微小気
泡を巻き込むことがあり、次の外周リングとセンターボ
スとの協熾りる消泡工程でも除去できないことが起こる
However, in such a conventional manufacturing method, as shown in FIG. 16(a), after the photopolymer is supplied onto the stamper 1, the center boss 3 on which the transparent disc 4 is placed is lowered, and the disc 4 is coated with the photopolymer. 5, microbubbles may be drawn in and cannot be removed even in the next defoaming process in which the outer ring and center boss work together.

光ディスクを製造する場合に、そのフォトポリマ中の微
小気泡の混入は、得られる光ディスクの歩留まりを低下
せしめる大きな欠点となっていた。
When manufacturing optical discs, the inclusion of microbubbles in the photopolymer has been a major drawback that reduces the yield of the resulting optical discs.

発明の概要 本発明は、前記のような従来の欠点を解消するためにな
されたものであり、環状転写領域の内周形状を均一な円
形とした光ディスクを製造する装置を提供することを目
的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to eliminate the above-mentioned conventional drawbacks, and an object thereof is to provide an apparatus for manufacturing an optical disc in which the inner peripheral shape of the annular transfer area is uniformly circular. do.

本発明の光ディスク製造装置は、光学的パターンを担持
するスタンパと円板との間に液状の放射線硬化樹脂を充
填させ、放射線硬化樹脂を硬化させて光学的パターンに
対応する転写層を円板上に形成する光ディスク製造装置
であって、スタンパを担持する平坦部を有しその中央部
に凹部を有するターンテーブルと、凹部内に配置されか
つターンテーブルと同一回転軸の周りにターンテーブル
と一体的に回転自在でかつ回転軸に沿って移動自在なセ
ンターボスと、センターボス上に裁置される円板の外周
部を平坦部に押圧する押圧手段と、凹部に連通して凹部
内の気圧を調節する気体圧制御手段とからなり、気体圧
制御手段は、平坦部のスタンパ担持面とセンターボスの
円板担持面とを所定距離まで近接するようにセンターボ
スとターンテーブルとを相対移動させるとき、凹部へ加
圧気体を供給すること、及び、相対移動中、円板を傾動
させる傾動手段を有することを特徴とする。
In the optical disc manufacturing apparatus of the present invention, a liquid radiation-curable resin is filled between a stamper carrying an optical pattern and a disc, and the radiation-curable resin is cured to form a transfer layer corresponding to the optical pattern on the disc. An optical disc manufacturing apparatus for manufacturing an optical disc, comprising: a turntable having a flat part for supporting a stamper and a concave part in the center; a center boss that is rotatable and movable along the axis of rotation; a pressing means that presses the outer circumferential portion of the disc placed on the center boss against a flat portion; and a gas pressure control means for adjusting the center boss and the turntable when the center boss and the turntable are moved relative to each other so that the stamper supporting surface of the flat part and the disk supporting surface of the center boss are brought close to each other by a predetermined distance. , supplying pressurized gas to the recess, and having a tilting means for tilting the disk during relative movement.

実施例 以下に、本発明の一実施例を添附図面に基づいて説明す
る。
EXAMPLE An example of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

第1図及び第2図は、かかる実施例の光ディスク製造装
置の概略を示す正面図及び平面図である。
FIGS. 1 and 2 are a front view and a plan view schematically showing an optical disc manufacturing apparatus according to this embodiment.

かかる光ディスク製造装置においては、略直方体の装置
筐体10の上部面に長手方向に伸長した矩形断面の案内
溝11を設け、案内溝11中の溝に沿って架設されたレ
ール12上にて水平(図中、左右方向)に移動自在な移
動ベース13が設けられている。
In such an optical disc manufacturing apparatus, a guide groove 11 with a rectangular cross section extending in the longitudinal direction is provided on the upper surface of a device housing 10 having a substantially rectangular parallelepiped shape. A movable base 13 is provided that is movable in the horizontal direction (in the figure).

第3図の部分切欠断面図に示す如く、移動ベース13の
直方体のベース筐体14中には、スタンパ15を担持す
る円形の水平平坦部16(スタンパベース)とその中央
に設けられた凹部17とを有する回転自在なターンテー
ブル19と、中央凹部17内に配置され水平平坦部16
に垂直に移動自在となるようにセンターボス支持体18
中にターンテーブルと一体的に回転自在に載置されるセ
ンターボス20とが設けられている。ターンテープル1
9は、センターボス20の長手方向中実軸線の周りを回
転するようにベアリング21a及びギア22を介してモ
ータ23に接続されている。
As shown in the partially cutaway sectional view of FIG. 3, the rectangular parallelepiped base housing 14 of the movable base 13 includes a circular horizontal flat part 16 (stamper base) that supports the stamper 15 and a recess 17 provided in the center thereof. a rotatable turntable 19 having a horizontal flat portion 16 disposed within the central recess 17;
The center boss support 18 is movable perpendicularly to the
A center boss 20 is provided therein, which is rotatably placed integrally with the turntable. Turntable 1
9 is connected to a motor 23 via a bearing 21a and a gear 22 so as to rotate around the longitudinal solid axis of the center boss 20.

ターンテーブルには、水平平坦部16をターンテーブル
1′9に対して水平に微小移動させるためにマイクロメ
ータ付きの偏芯調節機構が設けられている。よって、水
平平坦部16は、ターンテーブル上において水平面のx
y力方向調節自在である。
The turntable is provided with an eccentricity adjustment mechanism equipped with a micrometer to slightly move the horizontal flat portion 16 horizontally with respect to the turntable 1'9. Therefore, the horizontal flat portion 16 has a horizontal plane x on the turntable.
The y-force direction can be adjusted freely.

センタ−ボス20上部の頭部には、透明円板の中心孔の
内周部分に頭部が嵌合して円板が載置自在になるように
周囲にフランジ24が設けられ、さらに、エアーシリン
ダ機構25により円板の中心孔の内周部を内部から開い
て固定するチャック26がフランジ24の上部に設けら
れている。このチャックは作動時に固定すべき円板の中
心孔の内径と同一の外径を有する円筒となり、その円筒
軸線はセンターボス及び円板の芯合せに用いセンターボ
スの中心軸線と一致している。
A flange 24 is provided around the head of the upper part of the center boss 20 so that the head fits into the inner peripheral part of the center hole of the transparent disc so that the disc can be placed freely. A chuck 26 is provided on the upper part of the flange 24 for opening and fixing the inner circumference of the center hole of the disc from the inside by means of a cylinder mechanism 25. This chuck is a cylinder having the same outer diameter as the inner diameter of the center hole of the disk to be fixed during operation, and the axis of the cylinder coincides with the center axis of the center boss used for centering the center boss and the disk.

更に、センターボス20には、モータ27、カム28等
からなるセンターボス上昇機構が接続されている。該セ
ンターボス上昇機構は、センターボスのフランジ平面(
円板担持面)をスタンパ15の主面から形成すべき転写
層の厚さ分だけ高い平面に位置(最下部位置)させ、さ
らに、それより高い任意の位置に円板が移動できるよう
に構成されている。
Furthermore, a center boss lifting mechanism consisting of a motor 27, a cam 28, etc. is connected to the center boss 20. The center boss raising mechanism is arranged so that the center boss flange plane (
The disk supporting surface) is located at a plane higher than the main surface of the stamper 15 by the thickness of the transfer layer to be formed (lowest position), and the disk is further configured to be able to move to any position higher than that. has been done.

第4図は、円板29及びスタンパ15間にフォトポリマ
30を介して円板29をフランジ24に載置してセンタ
ーボスを最下部位置においた場合の凹部17近傍の拡大
部分断面図である。センターボス支持体18の周回にベ
アリング21aを設け、さらにエアーシリンダ25の周
囲にベアリング21bを設けてターンテーブル19及び
センターボス20が回転できるように構成されている。
FIG. 4 is an enlarged partial sectional view of the vicinity of the recess 17 when the disk 29 is placed on the flange 24 with a photopolymer 30 interposed between the disk 29 and the stamper 15 and the center boss is placed at the lowest position. . A bearing 21a is provided around the center boss support 18, and a bearing 21b is further provided around the air cylinder 25, so that the turntable 19 and the center boss 20 can rotate.

凹部17の底部壁はセンターボス支持体18の上部面で
あり、そこには、凹部内の気圧を加圧又は減圧調整する
ために、気体圧制御装置に連通ずる気体通路31の開口
31aが設けられている。
The bottom wall of the recess 17 is the upper surface of the center boss support 18, and an opening 31a of a gas passage 31 communicating with a gas pressure control device is provided therein in order to increase or decrease the pressure inside the recess. It is being

更に、凹部17の底部には、スタンパ及び円板間から溢
れるフォトポリマを吸引する吸引ノズル32が設けられ
ている。かかる吸引ノズルは、第4図に示す如く、固定
されたスタンパ15の中心孔の内周部近傍すなわち、中
央凹部の内周縁部に向けて開口した吸引口32aを有す
る管部材32bと、該管部材を凹部の底部壁に固定する
台座32Cとからなっている。また、吸引ノズル32は
、センターボス支持体18中の気体通路33を経て気体
圧制御装置に連通している。
Furthermore, a suction nozzle 32 is provided at the bottom of the recess 17 to suck out the photopolymer overflowing from between the stamper and the disc. As shown in FIG. 4, this suction nozzle includes a tube member 32b having a suction port 32a that opens near the inner circumference of the central hole of the fixed stamper 15, that is, toward the inner circumference of the central recess, and the tube member 32b. It consists of a pedestal 32C for fixing the member to the bottom wall of the recess. The suction nozzle 32 also communicates with the gas pressure control device via a gas passage 33 in the center boss support 18 .

かかる気体通路31及び33は気体圧制御装置に接続さ
れているが、気体圧制御のために気体通路31には、大
気に連通させるための開閉を行う電磁弁34が設けられ
、さらに、吸引ノズル32による吸引時に凹部17内の
圧力と大気圧との気圧差が一定となるように気体リーク
量を設定するリーク弁35が設けられている。また、気
体通路31には初期接触時及び円板剥離時に加圧気体を
凹部17内へ供給する加圧ポンプ36とそれを開閉する
電磁弁37が設けられている。さらに気体通路31には
、押圧消泡時に凹部17内を減圧する減圧ポンプ38と
それを開閉する電磁弁39とバッファタンク40とが設
けられている。
The gas passages 31 and 33 are connected to a gas pressure control device, and in order to control the gas pressure, the gas passage 31 is provided with a solenoid valve 34 that opens and closes to communicate with the atmosphere. A leak valve 35 is provided to set the amount of gas leakage so that the pressure difference between the pressure inside the recess 17 and the atmospheric pressure becomes constant during suction by the gas leak valve 32 . Further, the gas passage 31 is provided with a pressure pump 36 that supplies pressurized gas into the recess 17 at the time of initial contact and at the time of disc separation, and a solenoid valve 37 that opens and closes the pump. Further, the gas passage 31 is provided with a pressure reducing pump 38 that reduces the pressure inside the recess 17 during defoaming by pressing, a solenoid valve 39 that opens and closes the vacuum pump 38, and a buffer tank 40.

かかるバッファタンク40は、減圧ポンプ38による減
圧時に急激に凹部内を減圧させず徐々に減圧させるため
に、所定容量の空間を有している。
The buffer tank 40 has a space of a predetermined capacity so that the pressure inside the recess is not suddenly reduced but gradually reduced when the pressure is reduced by the pressure reducing pump 38.

電磁弁39及び減圧ポンプを作動させた場合に、先ず、
タンク40内が減圧され続いて凹部17内が減圧される
When the solenoid valve 39 and the pressure reducing pump are operated, first,
The pressure inside the tank 40 is reduced, and then the pressure inside the recess 17 is reduced.

かかる凹部17内の緩やかな減圧を達成するためには、
バッファタンク40の代りに、第4図の破線にて示す配
管系として気体通路31に並列に例えば6個の電磁弁3
9aないし39fを設けて減圧ポンプ38に連通させる
ことができる。かかる電磁弁39aないし39fの群に
おける弁を1個づつ順に開放することにより、徐々に凹
部17内を減圧させることもできる。
In order to achieve such gradual pressure reduction in the recess 17,
Instead of the buffer tank 40, for example, six electromagnetic valves 3 are installed in parallel to the gas passage 31 as a piping system shown by broken lines in FIG.
9a to 39f can be provided to communicate with the vacuum pump 38. By sequentially opening the valves in the group of electromagnetic valves 39a to 39f one by one, the pressure inside the recess 17 can be gradually reduced.

さらに気体通路33には、電磁弁41を介してフォトポ
リマを吸引する吸引ポンプ42が設けられている。かか
る電磁弁34.37.39(39aないし39f)及び
41とポンプ36.38及び42とは気体圧制御装置を
なしており、制御装置200によってそれぞれ制御され
ている。
Further, the gas passage 33 is provided with a suction pump 42 that sucks the photopolymer through an electromagnetic valve 41 . The solenoid valves 34, 37, 39 (39a to 39f) and 41 and the pumps 36, 38 and 42 constitute a gas pressure control device, and are controlled by the control device 200, respectively.

また、凹部17上の水平平坦部16の中心孔の内周部に
は金属リング50が嵌入されている。金属リング50は
押え環状部材51上にOリング52を介してネジ53に
よって固定されている。金属リング50の外径は、スタ
ンパの中心孔内径より嵌合可能程度の大きさとしている
ので、スタンパ内周のバラツキを吸収できる。この金属
リング50の挿着は凹部上方から装入してネジ53で金
属リング上端面とスタンパ面が面一となるように調整さ
れる。また、金属リングを離脱するときは、押えネジ5
4を外して下方から金属リング50を外す。− 押圧消泡工程中や放射線照射後の剥離中などにおけるフ
ォトポリマを介した円板29とスタンパ15との密着状
態から円板及びスタンパが離される場合、スタンパ中心
孔の内周部分に過度の応力がかかり当該部分を疲労させ
ることになるけれども、かかる金属リング50の挿着に
よって、スタンパ内周部分の疲労を防止できる。金属リ
ング50が当該応力を受けてスタンパ内周部分には下方
の応力しか及ばないためにスタンパ15の寿命を延すこ
とができる。
Further, a metal ring 50 is fitted into the inner peripheral portion of the center hole of the horizontal flat portion 16 above the recess 17 . The metal ring 50 is fixed onto the presser annular member 51 with an O-ring 52 and a screw 53. Since the outer diameter of the metal ring 50 is larger than the inner diameter of the center hole of the stamper so that it can be fitted, variations in the inner circumference of the stamper can be absorbed. The metal ring 50 is inserted from above the recess and adjusted using screws 53 so that the upper end surface of the metal ring and the stamper surface are flush with each other. Also, when removing the metal ring, use the holding screw 5.
4 and remove the metal ring 50 from below. - When the disk 29 and the stamper 15 are separated from the state of close contact between the disk 29 and the stamper 15 via the photopolymer during the pressing defoaming process or during peeling after irradiation with radiation, excessive Although stress will be applied to the stamper and cause fatigue to the part, by inserting the metal ring 50, fatigue of the inner peripheral part of the stamper can be prevented. When the metal ring 50 receives the stress, only the downward stress is applied to the inner peripheral portion of the stamper, so that the life of the stamper 15 can be extended.

第4図に示す如く、吸引ノズル32は、センターボスを
中心に半径方向に向かうように1個しか設けていないが
、同様に複数個を設けても良い。
As shown in FIG. 4, only one suction nozzle 32 is provided radially around the center boss, but a plurality of suction nozzles 32 may be similarly provided.

吸引ノズルを複数化することにより、溢れるフォトポリ
マ30を素早く吸引することができる。
By providing a plurality of suction nozzles, overflowing photopolymer 30 can be quickly suctioned.

第3図に示す如く、ベース筐体14の外部底部壁には、
筐体10の案内溝11に沿って架設された一対のレール
12に係合する受は部55が設けられている。また、ベ
ース筐体14の内部底部壁には、ターンテーブル19の
周囲とベース筐体14との間隙からの下方気体流をベー
ス筐体14から装置筐体10へと通過させるように電動
ファン56及び複数の貫通孔57が設けられている。同
様に、第5図に示す如く装置筐体10の案内溝11の底
部壁にも下方気体流ための複数の貫通孔57が設けられ
ている。これらの構成により装置の各筐体10.14が
負圧室となり下方気体流が生じるので、各筐体内部のギ
ア等の駆動部材から発生する埃をターンテーブル上に舞
い上らせることが無くなり、転写工程における埃の存在
を少なくできる。なお、装置筐体10には、外部へ気体
を排出する排気口58を設け、下方気体流を発生させる
電動ファン56を装置筐体14に設けることもできる。
As shown in FIG. 3, on the external bottom wall of the base housing 14,
A receiving portion 55 is provided to engage with a pair of rails 12 constructed along the guide groove 11 of the housing 10. Further, an electric fan 56 is provided on the internal bottom wall of the base housing 14 to allow a downward gas flow from the gap between the periphery of the turntable 19 and the base housing 14 to pass from the base housing 14 to the device housing 10. and a plurality of through holes 57 are provided. Similarly, as shown in FIG. 5, the bottom wall of the guide groove 11 of the device housing 10 is also provided with a plurality of through holes 57 for downward gas flow. With these configurations, each housing 10.14 of the device becomes a negative pressure chamber and a downward gas flow is generated, so that dust generated from drive members such as gears inside each housing is not blown up onto the turntable. , the presence of dust in the transfer process can be reduced. Note that the device casing 10 may be provided with an exhaust port 58 for discharging gas to the outside, and the device casing 14 may be provided with an electric fan 56 that generates a downward gas flow.

筐体の各壁部の複数の貫通孔57を設けるためには、金
網、パンチメタル板を用いることもできる。
A wire mesh or a punched metal plate can also be used to provide the plurality of through holes 57 in each wall of the casing.

また、移動ベース13は、例えばレール12をウオーム
とし受は部55をラックとして、筐体10内に設けられ
たモータ59によってウオームを回転させて案内溝11
中にて水平に移動可能となっている。
Further, the movable base 13 is configured such that, for example, the rail 12 is used as a worm, the receiving part 55 is used as a rack, and the worm is rotated by a motor 59 provided in the housing 10 to move the guide groove 11.
It can be moved horizontally inside.

更に、筐体10は第2図に示すごとく、初期設定、第1
、第2及び第3ステーシヨン(0,11■及び■)に区
分されており、移動ベース13が案内溝11中をレール
12上にて移動して各ステーションに停止して所定工程
における操作を受けるようになっている。
Furthermore, as shown in FIG.
, second and third stations (0, 11■ and ■), and the movable base 13 moves in the guide groove 11 on the rail 12 and stops at each station to undergo operation in a predetermined process. It looks like this.

先ず、筐体10の案内溝11の一方の端部における初期
設定ステーション0においては、デイスプレー100及
び顕微鏡101からなる偏芯調節監視装置が、案内溝1
1の端部に沿って筐体10上に設けられている。移動ベ
ース13を顕微R101の下に停止させて筐体10側の
偏芯調節監視装置及び移動ベース13側のマイクロメー
タ付きの偏芯調節機構によって、スタンパの環状転写領
域とターンテーブル及びセンターボスとを芯合わせして
、環状転写領域がセンターボスの中心軸周りに同心円的
に回転するように調整できる。
First, at the initial setting station 0 at one end of the guide groove 11 of the housing 10, an eccentric adjustment monitoring device consisting of a display 100 and a microscope 101 is placed in the guide groove 1.
1 on the casing 10. The moving base 13 is stopped under the microscope R101, and the annular transfer area of the stamper, the turntable, and the center boss are adjusted by the eccentric adjustment monitoring device on the housing 10 side and the eccentric adjustment mechanism with a micrometer on the moving base 13 side. can be adjusted so that the annular transfer area rotates concentrically around the center axis of the center boss.

また、筐体lOの案内溝11の他方の端部における第1
ステーシヨンIにおいては、第5図に示す如く、フォト
ポリマ吐出機構110と、初期接触機構120と、余剰
フォトポリマ吸引機構130とが案内溝11の端部を囲
むように三方に配置されている。
Further, the first
In the station I, as shown in FIG. 5, a photopolymer discharge mechanism 110, an initial contact mechanism 120, and an excess photopolymer suction mechanism 130 are arranged on three sides so as to surround the end of the guide groove 11.

フォトポリマ吐出機構110は、第6図に示すごとく、
筐体に固定された回転軸回転機構111に枢支されター
ンテーブル平面に平行に揺動自在のアーム112を備え
、アームの自由端部には、フォトポリマを滴下する吐出
ノズル113を有しており、スタンパの主面にフォトポ
リマを供給する。
The photopolymer discharge mechanism 110, as shown in FIG.
It is equipped with an arm 112 that is pivotally supported by a rotary shaft rotation mechanism 111 fixed to the casing and is swingable in parallel to the turntable plane, and the free end of the arm has a discharge nozzle 113 for dropping photopolymer. Then, the photopolymer is supplied to the main surface of the stamper.

初期接触機構120は、第7図(a)に示すごとく、筐
体に固定された回転軸回転機構121に枢支されターン
テーブル平面に平行に揺動自在のアーム122を備え、
アームの自由端部には押圧体123を有している。アー
ムを円板上に揺動させて抑圧体123を下降させること
により抑圧体で円板を傾動させフォトポリマへ強制的に
接触させる。初期接触機構120は、押圧すべき円板の
種類、例えばポリカーボネート、エポキシ、PMMAに
対応して最適な押圧力を付与するために、抑圧体123
の下降速度を制御したり、異なる材質、形状及び重さの
抑圧体に交換することができる。また、第7図(b)に
示すごとく、抑圧体123に代えて横領動体123aを
アーム自由端部に設けて下降する円板の下方から支える
ようにして円板を傾動させフォトポリマへ円板を強制的
に接触させることもできる。
As shown in FIG. 7(a), the initial contact mechanism 120 includes an arm 122 that is pivotally supported by a rotating shaft rotation mechanism 121 fixed to the housing and is swingable in parallel to the turntable plane.
The free end of the arm has a pressing body 123. By swinging the arm over the disk and lowering the suppressor 123, the suppressor tilts the disk and forcibly brings it into contact with the photopolymer. The initial contact mechanism 120 uses a suppressor 123 to apply an optimal pressing force depending on the type of disc to be pressed, for example, polycarbonate, epoxy, or PMMA.
It is possible to control the lowering speed of the suppressor and to replace it with a suppressor of different material, shape and weight. In addition, as shown in FIG. 7(b), instead of the suppressing body 123, an embezzling body 123a is provided at the free end of the arm to support the descending disc from below, tilting the disc and applying the photopolymer to the disc. It is also possible to force contact.

余剰フォトポリマ吸引機構130は、第8図に示すごと
く、装置筐体10に固定された回転軸回転機構131に
枢支されターンテーブル平面に平行に揺動自在のアーム
132を備え、アームの自由端部には吸引ノズル133
を有しており、スタンパ及び円板間から溢れる余剰フォ
トポリマを吸引する。吸引ノズル133は矢印Aに示す
方向にバネ等により付勢されているので、吸引ノズルの
長手方向に伸縮自在となっている。この構成により、円
板の周縁部にパリ、歪み等が生じていたとしても、円板
回転時に吸引ノズルが円板周囲を適正に追従し、フォト
ポリマの吸引むらを防止することができる。
As shown in FIG. 8, the surplus photopolymer suction mechanism 130 includes an arm 132 that is pivotally supported by a rotating shaft rotation mechanism 131 fixed to the device housing 10 and is swingable in parallel to the turntable plane. Suction nozzle 133 at the end
It has a vacuum cleaner to suck out excess photopolymer overflowing from between the stamper and the disc. The suction nozzle 133 is biased by a spring or the like in the direction shown by the arrow A, so that it can be expanded and contracted in the longitudinal direction of the suction nozzle. With this configuration, even if cracks, distortions, etc. occur at the peripheral edge of the disk, the suction nozzle properly follows the circumference of the disk when the disk rotates, and uneven suction of the photopolymer can be prevented.

第5図に示す如く、吸引ノズル133を有する余剰フォ
トポリマ吸引機構130は、案内溝11に向かうように
1個しか設けていないが、同様に複数個を筐体10上に
設けても良い。吸引ノズルを複数化することにより、溢
れるフォトポリマを素早く吸引することができる。
As shown in FIG. 5, only one surplus photopolymer suction mechanism 130 having a suction nozzle 133 is provided toward the guide groove 11, but a plurality of surplus photopolymer suction mechanisms 130 may be provided on the housing 10 in the same manner. By using multiple suction nozzles, overflowing photopolymer can be quickly suctioned.

なお、各機構110.120及び130のアーム部は非
作動時には筐体10上に位置し、作動時にはターンテー
ブル上まで揺動し、吐出ノズル113、押圧体123(
横領動体123a)及び吸引ノズル133が所定処理を
円板に行う。
The arms of each mechanism 110, 120, and 130 are located on the casing 10 when not in operation, and when activated, they swing up to the top of the turntable, and the arms of the mechanisms 110, 120, and 130 are located on the casing 10, and when in operation, they swing up to the top of the turntable, and the arms of the mechanisms 110, 120, and 130 are located on the casing 10 when not in operation.
The seizing body 123a) and the suction nozzle 133 perform a predetermined process on the disc.

また、各機構110.120及び130においては、そ
の各アーム部をターンテーブル平面に略垂直に平行移動
させるエアーシリンダ機構が各回転軸回転機構111.
121及び131に備えられている。更に、各機構11
0.120及び130における各エアーシリンダ機構に
よる昇降、各回転軸回転機構による回転、吐出ノズル1
13からのフォトポリマの吐出、及び吸引ノズル133
による吸引については各々独立した装置、例えばモータ
、電磁弁等によって行われ第1図に示す制御装置200
によって制御されている。
Furthermore, in each of the mechanisms 110, 120 and 130, an air cylinder mechanism that moves each arm portion in parallel approximately perpendicular to the turntable plane is provided with each rotary shaft rotating mechanism 111.
121 and 131. Furthermore, each mechanism 11
Lifting and lowering by each air cylinder mechanism at 0.120 and 130, rotation by each rotating shaft rotation mechanism, discharge nozzle 1
Photopolymer discharge from 13 and suction nozzle 133
The suction is performed by independent devices such as motors, solenoid valves, etc., and the control device 200 shown in FIG.
controlled by.

隣の第2ステーシヨン■においては、円板及び硬化した
フォトポリマをスタンパから剥離する際に円板にイオン
化された気体を吹付ける剥離除電器140が、案内溝1
1に渡って該案内溝を横切るように架設されている。剥
離除電器140は、第9図に示すごとく、案内溝11を
挟んだ津体10上に渡され固定された管141に移動ベ
ース13上のターンテーブル平面に向けて複数の気体噴
出開口142を設けて、管の側部から気体をガスフィル
タ143を介して気体通路144から導入し、護管に電
線145により電圧を印加して、イオン化気体を移動ベ
ースの軌道上に噴出させるものである。
At the adjacent second station (2), a stripping static eliminator 140 that sprays ionized gas onto the disk when peeling the disk and hardened photopolymer from the stamper is installed in the guide groove 1.
The guide groove is constructed so as to cross the guide groove. As shown in FIG. 9, the peeling static eliminator 140 has a plurality of gas ejection openings 142 directed toward the turntable plane on the movable base 13 in a tube 141 fixed to the body 10 across the guide groove 11. A gas is introduced from the side of the tube through a gas passage 144 through a gas filter 143, and a voltage is applied to the protection tube through an electric wire 145 to eject ionized gas onto the trajectory of the moving base.

続いて、第2図に示す如く第3ステーシヨン■において
は、フォトポリマを挟持するスタンパ及び円板の外周部
を密着させつつ固定する外周リング150を有する押圧
消泡機構151が筐体の案内溝11に沿って筐体10上
に設けられている。
Subsequently, as shown in FIG. 2, at the third station (2), a press defoaming mechanism 151 having an outer circumferential ring 150 that tightly fixes the stamper that holds the photopolymer and the outer circumferential portion of the disk is inserted into the guide groove of the casing. 11 on the housing 10.

押圧消泡機構は、第10図に示すごとく、外周リング1
50と、外周リング150を支える一対のアーム152
と、外周リング150及びアーム152を上下動させる
シャフト153および昇降機構154とからなり、外周
リング150をターンテーブル平面に対して平行に上下
動させる。この押圧消泡機構は外周リングの内周部分に
内周り、ング155を有し、内周リング155は同心円
状に遊嵌され外周リングから釣支されるように複数のボ
ルト156によって取付けられている。外周リング15
0は、台座157に取付けられかつシリコンスポンジリ
ング158を挟持するアクリルリング159からなる三
層構造の環状体であるので、円板に対して押圧力を均等
にかけ、更に円板との接触時の衝撃を和らげる。
As shown in Fig. 10, the pressure defoaming mechanism is
50 and a pair of arms 152 that support the outer ring 150
, a shaft 153 that moves the outer ring 150 and the arm 152 up and down, and a lifting mechanism 154, and moves the outer ring 150 up and down parallel to the turntable plane. This press defoaming mechanism has an inner circumferential ring 155 on the inner circumferential portion of the outer circumferential ring, and the inner circumferential ring 155 is attached with a plurality of bolts 156 so as to be loosely fitted concentrically and suspended from the outer circumferential ring. There is. Outer ring 15
0 is a three-layer annular body consisting of an acrylic ring 159 attached to a pedestal 157 and sandwiching a silicone sponge ring 158, so that it applies pressing force evenly to the disc, and furthermore, when it comes into contact with the disc, soften the impact.

また、内゛周リング155は第11図(a)に示す如く
、円板29を押圧する以前は、外周リング150の円板
への抑圧面より内周リング155の押圧面が下方に突出
する金属又はプラスチックの環状体である。外周リング
の押圧面は、内周リングのそれより面積が大である。よ
って、第11図(a)及び(b)に示す如く、外周リン
グ150゜が下降する場合、内周リング155が先に円
板29に当接し、続いて外周リング150が当接する。
Furthermore, as shown in FIG. 11(a), before the inner ring 155 presses the disc 29, the pressing surface of the inner ring 155 projects downward from the pressing surface of the outer ring 150 against the disc. It is a ring-shaped body made of metal or plastic. The pressing surface of the outer ring has a larger area than that of the inner ring. Therefore, as shown in FIGS. 11(a) and 11(b), when the outer ring 150 degrees descends, the inner ring 155 comes into contact with the disk 29 first, followed by the outer ring 150.

′  このようにして外周リング及び内周リングは、円
板上の全外周部を固定する。
' In this way, the outer ring and the inner ring fix the entire outer circumference on the disc.

第2図に示す如く、第3ステーシヨン■及び初期設定ス
テーションOの間においては、紫外線ランプを有する輻
射線照射器160が案内溝11を横切るように筐体10
上に架設されている。円板が移動ベース13と共に輻射
線照射器160の下を移動しつつ紫外線を受けるように
、紫外線ランプは移動ベース13の軌道上に向けられて
いる。
As shown in FIG. 2, between the third station (3) and the initial setting station O, the housing 10 is placed in such a way that a radiation irradiator 160 having an ultraviolet lamp crosses the guide groove 11.
is built on top. The ultraviolet lamp is oriented on the trajectory of the moving base 13 so that the disk receives ultraviolet light while moving together with the moving base 13 under the radiation irradiator 160.

また、移動ベース及び各ステーションにおける各機構を
制御する制御装置200は、第12図に示す如く、少な
くとも移動ベース移動用モータ59、ターンテーブル回
転用モータ23、センターボス上下移動用七−タ27、
センターボスの頭部に設けられたチャックを駆動させる
エアーシリンダ25、フォトポリマ吐出機構110、初
期接触機構120、余剰フォトポリマ吸引機構130、
剥離除電器140、押圧消泡機構151、輻射線照射器
160、ターンテーブル中央凹部内の大気に連通させる
ための開閉を行う大気連通用電磁弁34、初期接触時及
び円板剥離時に加圧気体を凹部内へ供給する加圧ポンプ
36、加圧ポンプ連通用電磁弁37、押圧消泡時に凹部
内を減圧する減圧ポンプ38、減圧ポンプ連通用電磁弁
39又は電磁弁39aないし39f1吸引ノズルに連通
されかつフォトポリマを吸引する吸引ポンプ42、並び
に吸引ポンプ連通用電磁弁41を操作部180からの指
令に基づいてそれらの駆動を制御するコントローラ18
1を有している。制御装置200は、気体圧制御装置の
制御をも兼ねている。
In addition, as shown in FIG. 12, the control device 200 that controls each mechanism in the moving base and each station includes at least a motor 59 for moving the moving base, a motor 23 for rotating the turntable, a seventh motor 27 for moving the center boss up and down,
An air cylinder 25 that drives a chuck provided at the head of the center boss, a photopolymer discharge mechanism 110, an initial contact mechanism 120, an excess photopolymer suction mechanism 130,
Peeling static eliminator 140, press defoaming mechanism 151, radiation irradiator 160, atmosphere communication solenoid valve 34 that opens and closes the turntable central recess to communicate with the atmosphere, pressurized gas at initial contact and disk peeling. A pressurizing pump 36 that supplies water into the recess, a solenoid valve 37 for pressurizing pump communication, a pressure reducing pump 38 that reduces the pressure inside the recess when defoaming by pressing, a solenoid valve 39 for communicating the reduced pressure pump, or electromagnetic valves 39a to 39f1 communicate with the suction nozzle. A controller 18 controls the drive of the suction pump 42 that sucks the photopolymer and the solenoid valve 41 for communicating with the suction pump based on commands from the operation unit 180.
1. The control device 200 also controls the gas pressure control device.

(実施例の動作) 第13図(a)ないしくn)は、本実施例の光ディスク
製造装置の転写工程における部分概略断面図である。か
かる転写工程を順に説明する。
(Operation of Embodiment) FIGS. 13(a) to 13(n) are partial schematic cross-sectional views of the optical disc manufacturing apparatus of this embodiment in the transfer process. This transfer process will be explained in order.

(1)芯合わせ工程 先ず、装置の初期設定ステーション0へ移動ベースを移
動させそこで停止させる。第1図(b)に示す如く、水
平平坦部にスタンパ15を装着したターンテーブルを回
転させる。顕微鏡101によってスタンパの環状転写領
域周縁を拡大してデイスプレー100に映す。偏芯によ
る環状転写領域周縁の揺れがなくなるように偏芯調節機
構によって水平平坦部16を微少移動させる。このよう
にして、スタンパの環状転写領域とセンターボスとを芯
合わせし、環状転写領域がセンターボスの中心軸周りに
同心円的に回転するように:A整を行う。
(1) Centering process First, the moving base is moved to the initial setting station 0 of the device and stopped there. As shown in FIG. 1(b), a turntable with a stamper 15 mounted on its horizontal flat portion is rotated. The periphery of the annular transfer area of the stamper is enlarged using a microscope 101 and displayed on the display 100. The horizontal flat portion 16 is slightly moved by the eccentric adjustment mechanism so that the periphery of the annular transfer area does not shake due to eccentricity. In this way, the annular transfer area of the stamper and the center boss are aligned, and A alignment is performed so that the annular transfer area rotates concentrically around the central axis of the center boss.

(2)フォトポリマ吐出工程 次に、初期設定ステーション0から第1ステーシヨンI
へ移動ベースを移動させそこで停止させる。第13図(
a)に示す如く、スタンパを装着したターンテーブル1
9を回転させる。フォトポリマ吐出機構のアーム部をス
タンパ上へ枢動させ、その自由端部の吐出ノズル113
から所定量のフォトポリマ30を回転するスタンパの環
状転写領域上に滴下させる。フォトポリマは環状転写領
域上にて環状の堤の如く供給される(第13図(a))
。環状の堤のフォトポリマの位置は、後の押圧消泡工程
における外周リング150に設けられた内周リング15
5の環状押圧面に対応する位置の近傍である。その後、
アーム部を筐体上の元の位置へ枢動させる。フォトポリ
マの環状堤形状を崩さないようにターンテーブルの回転
を停止させ、る。
(2) Photopolymer discharging process Next, from initial setting station 0 to first station I
Move the base to and stop there. Figure 13 (
As shown in a), a turntable 1 equipped with a stamper
Rotate 9. The arm of the photopolymer dispensing mechanism is pivoted onto the stamper and the dispensing nozzle 113 at its free end
A predetermined amount of photopolymer 30 is dropped onto the annular transfer area of the rotating stamper. The photopolymer is supplied like an annular embankment on the annular transfer area (Fig. 13(a)).
. The position of the photopolymer on the annular bank is the same as that of the inner ring 15 provided on the outer ring 150 in the subsequent pressing defoaming process.
This is near the position corresponding to the annular pressing surface No. 5. after that,
Pivot the arm to its original position on the housing. Stop the rotation of the turntable so as not to disturb the annular shape of the photopolymer.

その後、センターボス20を最上部位置に上昇させPM
MAからなる平坦な透明円板29をその内周がセンター
ボス頭部に嵌合するようにフランジの水平担持面に載置
する。
After that, the center boss 20 is raised to the uppermost position and the PM
A flat transparent disk 29 made of MA is placed on the horizontal support surface of the flange so that its inner circumference fits into the center boss head.

(3)初期接触工程 次に、第13図(c)に示す如く、移動ベースを第1ス
テーシヨン■に維持させながら、センターボス20を最
下部位置まで下降させて(下方矢印)円板2つをスタン
パ上の環状堤形状に盛上がったフォトポリマ30に接触
させる。
(3) Initial contact process Next, as shown in Fig. 13(c), while maintaining the movable base at the first station ■, the center boss 20 is lowered to the lowest position (downward arrow) and the two discs are removed. is brought into contact with the photopolymer 30 raised in the shape of an annular embankment on the stamper.

この下降途中においては、円板とフォトポリマとを急激
に接触させるとフォトポリマ中に気泡を発生させるので
、第4図に示す如く、下降の途中からターンテーブルの
中央凹部17の気体通路31を介して電磁弁37のみを
開放して加圧ポンプ36により加圧気体をセンターボス
近傍へ供給して、弱い上昇気体流(上方矢印)を発生さ
せる。
During this downward movement, if the disc and the photopolymer suddenly come into contact with each other, air bubbles will be generated in the photopolymer, so as shown in FIG. Only the electromagnetic valve 37 is opened via the pressurizing pump 36 to supply pressurized gas to the vicinity of the center boss, thereby generating a weak upward gas flow (upward arrow).

この気体流によって円板の下降速度を低下させ環状堤形
状のフォトポリマと円板との急激な接触を回避させる。
This gas flow reduces the descending speed of the disk and avoids sudden contact between the annular bank-shaped photopolymer and the disk.

この円板29とフォトポリマ30との接触は、第14図
(a)、(b)及び(c)の順に示す如く、フォトポリ
マの環状環上の峰の或−点からその峰に沿って接触面3
10が徐々に広がるように行われる。このとき、中央凹
部17から気体が未接触の環状堤の峠部320に向は流
れる(横方矢印)。この初期接触(第14図(a))が
行われた時点で、加圧気体のセンターボス近傍への供給
を停止する。
The contact between the disk 29 and the photopolymer 30 is made from a certain point on the ridge on the annular ring of the photopolymer along the ridge, as shown in the order of FIGS. 14(a), 14(b) and 14(c). Contact surface 3
10 is gradually expanded. At this time, the gas flows from the central recess 17 to the uncontacted annular bank pass 320 (horizontal arrow). At the time when this initial contact (FIG. 14(a)) is made, the supply of pressurized gas to the vicinity of the center boss is stopped.

よって、フォトポリマの環状堤の峠部320が気体の抜
は口となる。通常、円板とフォトポリマとは、フォトポ
リマの表面張力の作用により急速に引寄せられポリマ中
に気泡を巻込むけれども、このように、かかる抜は口3
20からの気体流出により微小角度で徐々に接触が行な
われるので、フォトポリマ内への気泡の巻込みを極めて
減少させることができる。
Therefore, the mountain pass 320 of the annular embankment of the photopolymer becomes an opening for gas release. Normally, the disk and the photopolymer are rapidly attracted to each other by the surface tension of the photopolymer, causing air bubbles to be drawn into the polymer.
Since contact is gradually carried out at a small angle by the outflow of gas from 20, entrainment of air bubbles into the photopolymer can be extremely reduced.

この初期接触工程では、第13図(d)および(e)に
示す如く、センターボス20の下降途中におけるセンタ
ーボス近傍への加圧流体の供給と同時に、初期接触機構
120を駆動させる。初期接触機構のアーム部を下降途
中の円板29上へ枢動させ、その自由端部の抑圧体12
3を下降させて円板を押圧する。または、横領動体12
3aを有する初期接触機構の場合(破線)は、そのアー
ム部を下降途中の円板29下へ枢動させ、横領動体12
3aを停止させるかまたは低速度下降させて円板を下方
から押圧する。
In this initial contact step, as shown in FIGS. 13(d) and (e), the initial contact mechanism 120 is driven at the same time as pressurized fluid is supplied to the vicinity of the center boss 20 during its descent. The arm part of the initial contact mechanism is pivoted onto the descending disk 29, and the suppressor 12 at its free end is
3 and press the disk. Or, the embezzlement object 12
In the case of the initial contact mechanism having 3a (dashed line), the arm part is pivoted below the disk 29 on the way down, and the usurping body 12
3a is stopped or lowered at a low speed to press the disk from below.

このようにして円板29が傾き、その一部がフォトポリ
マの環状堤の峰と接触する。この円板及びフォトポリマ
の初期接触点から環状堤の峰にそって徐々に接触面が広
がる。初期接触点(第14図(a))を形成してから、
加圧気体のセンターボス近傍への供給が停止させると共
に、アーム部を筐体上の元の位置へ枢動させて初期接触
機構の駆動を停止させる。
In this way, the disk 29 is tilted and a portion of it comes into contact with the ridge of the annular embankment of the photopolymer. From the initial point of contact between the disk and the photopolymer, the contact surface gradually widens along the crest of the annular embankment. After forming the initial contact point (FIG. 14(a)),
The supply of pressurized gas to the vicinity of the center boss is stopped, and the arm portion is pivoted to its original position on the housing to stop driving the initial contact mechanism.

このように、下降する円板に対して上昇させようとする
凹部からの加圧気体による抵抗があるにもかかわらず、
押圧体によって強制的に円板を傾かせることにより、下
降する円板が最初にフォトポリマへ接触するまでの時間
を短縮することができる。
In this way, despite the resistance caused by the pressurized gas from the recess that attempts to raise the disc as it descends,
By forcibly tilting the disc with the pressing body, the time required for the descending disc to first contact the photopolymer can be shortened.

気体圧制御装置よる気体の供給を電磁弁37を閉塞して
停止すると共に、気体通路31に連通する電磁弁34を
開放させてターンテーブルの中央凹部17と外部とを連
通させ次工程に備える。
The supply of gas by the gas pressure control device is stopped by closing the electromagnetic valve 37, and the electromagnetic valve 34 communicating with the gas passage 31 is opened to communicate the central recess 17 of the turntable with the outside in preparation for the next process.

(4)押圧消泡工程 次に、第1ステーシヨン■から第3ステーシヨン■へ移
動ベースを移動させそこで停止させる。
(4) Pressing defoaming process Next, the moving base is moved from the first station (2) to the third station (2) and stopped there.

センターボス20の頭部のチャックを作動させ、円板を
最下部位置に固定する。このとき仮に円板29の芯合せ
が行われる。
The chuck on the head of the center boss 20 is operated to fix the disc at the lowest position. At this time, the disk 29 is temporarily aligned.

次に、第13図(f)に示す如く、外周リング150を
下降させる。
Next, as shown in FIG. 13(f), the outer ring 150 is lowered.

この場合、外周リング150の内周部分には内周リング
155が突出して遊嵌されているので、第11図に示す
如く、先ず内周リングが先に円板に当接し、続いて外周
リングが当接する。外周リング及び内周リングはスタン
パ及び円板の外周がフォトポリマを介して密着するよう
に円板上の全外周部を固定する。そしてフォトポリマ3
0は、外周側に向いつつ円板29とスタンパ15との外
周部間に充填され、それらの最外周部から吐出する。こ
のとき、当接面積の小さい内周リング、当接面積の大き
い外周リングの順で円板下のフォトポリマを気泡ととも
に移動させるので、外周リング及び円板下のフォトポリ
マに気泡が含まれることは極めて少なくなる。
In this case, since the inner ring 155 protrudes and is loosely fitted into the inner circumferential portion of the outer ring 150, the inner ring contacts the disk first, and then the outer ring comes into contact. The outer circumference ring and the inner circumference ring fix the entire outer circumference of the disk so that the stamper and the outer circumference of the disk come into close contact with each other via the photopolymer. And photopolymer 3
0 is filled between the outer peripheries of the disk 29 and the stamper 15 while facing toward the outer periphery, and is discharged from the outermost periphery thereof. At this time, the photopolymer under the disk is moved together with the air bubbles in the order of the inner ring with a smaller contact area and the outer ring with a larger contact area, so there is no possibility that air bubbles will be included in the outer ring and the photopolymer under the disk. becomes extremely small.

次に、センターボス20の頭部のチャックを緩めて、次
工程で円板の内周が傷付かないようにする。
Next, loosen the chuck on the head of the center boss 20 to prevent the inner periphery of the disk from being damaged in the next process.

次に、第13図(g)に示す如く、センターボス20を
上昇させる(上方矢印)。円板は、外周部を外周リング
により固定されているために、図示の如く傘状あるいは
コニーデ形状に変形する。
Next, as shown in FIG. 13(g), the center boss 20 is raised (upward arrow). Since the outer circumferential portion of the disk is fixed by the outer circumferential ring, the disk deforms into an umbrella shape or a conied shape as shown in the figure.

このとき、凹部内空間に続く円板及びスタンパ間に偏平
円歪形状の閉空間が形成される。円板29及びスタンパ
15間が剥がれる境界において、フォトポリマ30は、
環状のフォトポリマ溜りとなり、センターボスの上昇と
共に外周側へ広がって行く。
At this time, a closed space having an oblate circular distortion shape is formed between the disc and the stamper following the space inside the recess. At the boundary where the disc 29 and the stamper 15 separate, the photopolymer 30
It becomes a ring-shaped photopolymer pool and spreads toward the outer periphery as the center boss rises.

次に、第13図(h)に示す如く、センターボスを所定
上部位置に停止させる。ここで、第4図に示す中央凹部
17に連通する電磁弁34及び37を閉塞し外部及び加
圧ポンプ36と閉空間との連通を断ち、電磁弁39(又
は電磁弁群の一つ)を開放して減圧ポンプ38へ気体通
路31を繋ぎ、減圧を開始する(下方矢印)。すると負
圧気体がフォトポリマ溜りの内周部を振動させ、フォト
ポリマ中の気泡を減少させる。
Next, as shown in FIG. 13(h), the center boss is stopped at a predetermined upper position. Here, the solenoid valves 34 and 37 communicating with the central recess 17 shown in FIG. Open it, connect the gas passage 31 to the decompression pump 38, and start depressurizing (downward arrow). Then, the negative pressure gas vibrates the inner periphery of the photopolymer reservoir, reducing air bubbles in the photopolymer.

かかる減圧操作をなす場合には、急激に減圧を行うとフ
ォトポリマ溜りが気泡を巻き込むので、緩い曲線を描く
ような減圧特性にて徐々に減圧する。
When performing such a pressure reduction operation, the photopolymer reservoir will entrain air bubbles if the pressure is reduced rapidly, so the pressure is gradually reduced using a pressure reduction characteristic that draws a gentle curve.

第4図に示す如く、凹部17に連通ずる気体通路31に
複数の例えば6個の電磁弁39aないし39fを並列に
設けであるので、減圧開始から所定時間内に順に開弁す
ることによって所定の減圧曲線にて所定の真空度が達成
される。
As shown in FIG. 4, a plurality of, for example, six solenoid valves 39a to 39f are provided in parallel in the gas passage 31 communicating with the recess 17, so that a predetermined value can be achieved by sequentially opening the valves within a predetermined time from the start of depressurization. A predetermined degree of vacuum is achieved in the depressurization curve.

この際、例えば8インチ円板の転写の場合、かかる電磁
弁群の開弁による減圧は第1表の如き条件によって行わ
れる。
At this time, for example, in the case of transferring an 8-inch disc, the pressure reduction by opening the solenoid valve group is performed under the conditions shown in Table 1.

第1表 この場合、第15図の如き勾配の減圧曲線となる。図示
するように、6個の黒点は順に開弁する電磁弁39aな
いし39fの開弁するタイミング及びその時点の真空度
を示している。
Table 1 In this case, the pressure reduction curve will have a slope as shown in FIG. As shown in the figure, six black dots indicate the opening timings of the solenoid valves 39a to 39f, which open in sequence, and the degree of vacuum at that time.

このように、8インチ円板の場合、22秒間をかけて1
00+amHgの真空度にすると気泡の巻込が殆どなく
なる。ゆうくりと減圧させることでフォトポリマ中への
気泡の巻込を防止できる。
In this way, for an 8-inch disc, it takes 22 seconds to
When the degree of vacuum is 00+amHg, there is almost no entrainment of air bubbles. By slowly reducing the pressure, it is possible to prevent air bubbles from being drawn into the photopolymer.

この閉空間の減圧条件は、フォトポリマの粘度やその量
、円板の大きさ、すなわちコニーデ形状の閉空間の容積
等に影響される。例えば500cP以下の粘度のフォト
ポリマを用いて8インチ円板及び5インチ円板の場合で
行ってみると、次のような結果になった。減圧所定真空
度を100m+sHgとして8インチ円板の場合、所定
時間が10秒以下では気泡の巻込が多(なる。また、5
インチ円板の場合では、所定時間を数秒まで短縮しても
気泡の巻込を防止できた。所定時間を22秒以上として
もかまわないが装置の処理時間が長くなる。いずれの所
定時間でも30〜500mmHHの真空度の範囲が使用
可能である。30mmHg以下では小泡が消えないし、
500+amHg以上ではセンターボス最下部位置にお
いてフォトポリマがスタンパ内周から多量に吐出してし
まいフォトボリマの膜厚が確保できなくなる。
The conditions for reducing the pressure in this closed space are influenced by the viscosity and amount of the photopolymer, the size of the disk, ie, the volume of the conied closed space, and the like. For example, when a photopolymer with a viscosity of 500 cP or less was used for an 8-inch disk and a 5-inch disk, the following results were obtained. When the predetermined vacuum level is 100 m+sHg and an 8-inch disc is used, if the predetermined time is less than 10 seconds, many air bubbles will be trapped.
In the case of an inch disc, even if the predetermined time was shortened to several seconds, entrainment of air bubbles could be prevented. Although the predetermined time may be set to 22 seconds or more, the processing time of the apparatus becomes longer. A vacuum degree range of 30 to 500 mmHH can be used for any given time. Small bubbles will not disappear below 30mmHg,
If the pressure exceeds 500+amHg, a large amount of photopolymer will be discharged from the inner periphery of the stamper at the lowest position of the center boss, making it impossible to ensure the film thickness of the photopolymer.

なお、かかる減圧曲線特性で減圧を行うために、第4図
の破線に示す凹部17に連通する気体通路31に6個の
電磁弁39aないし39fを並列に設け、それらを減圧
開始から22秒内に順に開弁することによって100m
mHHの真空度が達成させているけれども、減圧時に2
2秒内に100關Hgの真空度となるような略直線的な
減圧曲線を持たせるように、予め第4図の実線に示すバ
ッファタンク40の容量を圧力ゲージ等を用いて初期設
定しておくことにより、気体圧制御装置が簡略化される
。この場合、減圧ポンプ前に接続されるバッファタンク
を種々容積の異なるバッファタンクに交換すれば電磁弁
39の開弁操作のみによって、所望の減圧特性を得るこ
とができる。
In order to perform pressure reduction with such pressure reduction curve characteristics, six electromagnetic valves 39a to 39f are provided in parallel in the gas passage 31 communicating with the recess 17 shown by the broken line in FIG. 100m by opening the valves in sequence.
Although the degree of vacuum of mHH is achieved, 2
The capacity of the buffer tank 40 shown by the solid line in FIG. 4 is initialized in advance using a pressure gauge or the like so as to have a substantially linear decompression curve that achieves a vacuum level of 100 Hg within 2 seconds. This simplifies the gas pressure control device. In this case, by replacing the buffer tank connected in front of the pressure reducing pump with buffer tanks of various capacities, the desired pressure reducing characteristics can be obtained simply by opening the solenoid valve 39.

次に、中央凹部17及び閉空間の減圧状態を保ちつつ、
センターボスを下降させる。スタンパと円板との間のフ
ォトポリマ溜りが外周部から内周側に向かって進んで、
フォトポリマ30は円板29とスタンパ15との間に均
一に充填される。
Next, while maintaining the depressurized state of the central recess 17 and the closed space,
Lower the center boss. The photopolymer pool between the stamper and the disc advances from the outer circumference toward the inner circumference,
The photopolymer 30 is uniformly filled between the disk 29 and the stamper 15.

次に、第13図(i)に示す如く、センターボス20の
円板を載置したフランジの担持面が最下部位置になるま
でセンターボスの下降させ、停止させる。そしてフォト
ポリマ溜りは、環状転写領域の最内周部に達し、残留す
る気泡とともに最内周部から凹部17へ吐出する。
Next, as shown in FIG. 13(i), the center boss is lowered until the support surface of the flange on which the disc of the center boss 20 is placed is at the lowest position, and then stopped. The photopolymer pool then reaches the innermost periphery of the annular transfer area and is discharged from the innermost periphery into the recess 17 along with the remaining air bubbles.

このように円板外周を固定し、内周を昇降させてフォト
ポリマを移動させることにより、従来のスタンパの周方
向の不均一なフォトポリマの充填が回避され、均一に気
泡の巻込がなくフォトポリマを円板−スタンパ間に充填
できる。
By fixing the outer periphery of the disk and moving the photopolymer by raising and lowering the inner periphery in this way, uneven filling of photopolymer in the circumferential direction of conventional stampers is avoided, and the stamper is uniformly filled with no air bubbles. Photopolymer can be filled between the disc and the stamper.

次に、センターボス20の近傍の凹部閉空間の減圧状態
を維持し、外周リングを上昇させてる。
Next, the reduced pressure state of the recessed closed space near the center boss 20 is maintained, and the outer ring is raised.

(5)余剰フォトポリマ吸引工程 次に、第13図(i)及び(j)に示す如く、ターンテ
ーブル19を回転させて同時に、ターンテーブル中央凹
部に固定された吸引ノズル32を有する内部余剰フォト
ポリマ吸引機構を作動させる。吸引ノズル32の吸入口
がスタンパの内周部全周に沿って吐出した余剰フォトポ
リマを吸引する。
(5) Excess photopolymer suction process Next, as shown in FIGS. 13(i) and (j), the turntable 19 is rotated and at the same time, the internal surplus photopolymer having the suction nozzle 32 fixed in the central recess of the turntable is removed. Activate the polymer suction mechanism. The suction port of the suction nozzle 32 suctions the excess photopolymer discharged along the entire inner circumference of the stamper.

このとき第4図に示す如く、吸引ポンプ42で吸引する
ために中央凹部17の閉空間の真空度が上昇してしまう
ので、それを防止するリーク用の電磁弁34のみを開放
して凹部と外部とを連通させる。吸引開始と同時に、リ
ーク弁35を介して外気を導入し、吸引ノズルの吸引量
を気体圧制御装置によって調整することにより100+
amHgの真空度を維持する。また、リーク弁35にお
いては、このように真空度を吸引ノズル32の吸引によ
って維持させるために圧力ゲージにより吸引時の真空度
を測定しながら予めリーク弁の気体リーク量を初期設定
しである。
At this time, as shown in FIG. 4, the degree of vacuum in the closed space of the central recess 17 increases due to suction by the suction pump 42, so only the solenoid valve 34 for leakage to prevent this is opened and the recess is closed. Communicate with the outside. Simultaneously with the start of suction, outside air is introduced through the leak valve 35, and the suction amount of the suction nozzle is adjusted by the gas pressure control device.
Maintain a vacuum of amHg. Further, in the leak valve 35, in order to maintain the degree of vacuum by suction from the suction nozzle 32, the amount of gas leaked from the leak valve is initially set in advance while measuring the degree of vacuum during suction using a pressure gauge.

次に、第3ステーシヨン■から第1ステーシヨン■へ移
動ベースを移動させ、そこで停止させる。
Next, the moving base is moved from the third station (2) to the first station (2) and stopped there.

このとき、第13図(j)に示す如く、円板の全面を覆
うように円形のカバーマスク169が円板29上に載置
される。そして、外部余剰フォトポリマ吸引機構130
を作動させる。アーム部が円板外周縁部上へ枢動し、そ
の自由端部の吸引ノズル133の吸入口が回転する円板
及びスタンパの外周部に沿って吐出している余剰のフォ
トポリマを吸引する。余剰フォトポリマの吸引後、カバ
ーマスク169を取外す。吸引ノズルによる余剰フォト
ポリマを吸引前のカバーマスク169の装着によって、
吸引時のフォトポリマの飛沫が円板表面に付着するのを
防止している。
At this time, as shown in FIG. 13(j), a circular cover mask 169 is placed on the disk 29 so as to cover the entire surface of the disk. And an external surplus photopolymer suction mechanism 130
Activate. The arm pivots onto the outer periphery of the disk, and the suction port of the suction nozzle 133 at its free end sucks in excess photopolymer being discharged along the outer periphery of the rotating disk and stamper. After suctioning the excess photopolymer, the cover mask 169 is removed. By attaching the cover mask 169 before suctioning the excess photopolymer with the suction nozzle,
This prevents photopolymer droplets from adhering to the disc surface during suction.

次に、第13図(k)に示す如く、円板の外周縁部を覆
うように外周マスク170がターンテーブル上に載置さ
れる。外周マスク170は環状部材とそれを支える脚部
とからなり、脚部がターンテーブル周囲に位置するよう
に設けられ、環状部材が円板から離間している。また、
外周マスク170は、脚部を設けず直接円板に載置する
環状部材のみの外周マスクとしてもよい。外周マスク1
70によって円板の外周縁部への紫外線照射が遮られ、
後にその外周縁部のフォトポリマを硬化させるので、フ
ォトポリマの転写層の外周縁部のパリを発生させること
はない。また、外周マスク170によって紫外線の照射
をまぬがれる円板の外周縁部は、光ディスクを組立てる
際の外周スペーサの接若用糊しろとなる。
Next, as shown in FIG. 13(k), an outer peripheral mask 170 is placed on the turntable so as to cover the outer peripheral edge of the disc. The outer peripheral mask 170 is composed of an annular member and a leg portion supporting the annular member, and the leg portion is provided so as to be located around the turntable, and the annular member is spaced apart from the disk. Also,
The outer circumferential mask 170 may be an outer circumferential mask having only an annular member placed directly on the disk without providing legs. Outer mask 1
70 blocks ultraviolet irradiation to the outer peripheral edge of the disk,
Since the photopolymer at the outer periphery is cured later, there is no possibility of occurrence of fringing at the outer periphery of the photopolymer transfer layer. Further, the outer peripheral edge of the disk, which is protected from UV irradiation by the outer peripheral mask 170, serves as a glue margin for attaching the outer peripheral spacer when assembling the optical disk.

所定時間内に余剰のフォトポリマを円板の内外周から取
除き余剰フォトポリマ吸引機構の作動を停止する。
Excess photopolymer is removed from the inner and outer peripheries of the disc within a predetermined time, and the operation of the excess photopolymer suction mechanism is stopped.

(6)放射線照射工程 円板29が外周マスク170で覆われ回転している状態
でセンターボス20の頭部のチャックを作動させ、円板
の芯合せを行う。
(6) Radiation irradiation process With the disk 29 covered with the outer peripheral mask 170 and rotating, the chuck at the head of the center boss 20 is operated to align the center of the disk.

次に、第1ステーシヨンIから第3ステーシヨン■へ移
動ベースを移動させ、そこで停止させる。
Next, the moving base is moved from the first station I to the third station (2) and stopped there.

センターボス頭部のチャックの作動を停止して円板29
がスタンパ上でフォトポリマ上に浮いている状態にする
。かかる状態では、中央凹部が減圧されているために円
板のスタンパ15に対するずれが回避できる。
Stop the operation of the chuck on the center boss head and remove the disk 29.
is suspended above the photopolymer on the stamper. In such a state, since the pressure in the central recess is reduced, displacement of the disk relative to the stamper 15 can be avoided.

次に、第3及び初期設定ステーション0.■間に設けら
れている紫外線照射ランプ160のシャッターを開ける
。紫外線照射ランプの下を円板29を回転させながら、
第13図(1)に示す如く、第3ステーシヨン■から初
期設定ステーション0へ、移動ベースを移動させる。次
に、初期設定ステーション0から第2ステーシヨン■へ
向けて円板を回転させながら移動ベースを移動させる。
Next, the third and initialization station 0. ■Open the shutter of the ultraviolet irradiation lamp 160 provided in between. While rotating the disk 29 under the ultraviolet irradiation lamp,
As shown in FIG. 13(1), the moving base is moved from the third station (2) to the initial setting station 0. Next, the moving base is moved from the initial setting station 0 toward the second station (2) while rotating the disk.

このように、紫外線ランプの下を回転させつつ円板を2
回通過させ、紫外線を円板29に均一に照射してフォト
ポリマを硬化させる。
In this way, rotate the disk under the ultraviolet lamp 2 times.
The photopolymer is passed through the photopolymer twice, and the disk 29 is uniformly irradiated with ultraviolet rays to harden the photopolymer.

この工程で、センターボス20の頭部のチャックを作動
させ円板の芯合せを行い固定して紫外線照射をせずに、
円板をフォトポリマ上に浮かせて紫外線照射を行う理由
は、フォトポリマの硬化中の転写すべきビットの形状を
維持するためである。
In this process, the chuck on the head of the center boss 20 is activated to align and fix the disc, and without irradiating it with ultraviolet rays,
The reason why the disk is suspended above the photopolymer and irradiated with ultraviolet light is to maintain the shape of the bit to be transferred while the photopolymer is curing.

センターボスのチャックを作動させ円板を固定した場合
、フォトポリマの硬化中にセンターボスの微小偏芯運動
が起っているので、円板及びスタンパ間にずれの応力が
発生し正確なピットの形状を形成できなくなるからであ
る。
When the center boss chuck is activated to fix the disc, the center boss is slightly eccentrically moved during curing of the photopolymer, which creates stress due to misalignment between the disc and the stamper, resulting in accurate pit formation. This is because the shape cannot be formed.

(7)円板剥離工程 次に、紫外線照射を行った後、初期設定ステーション0
から第2ステーシヨン■へ移動ベースを移動させ、円板
29の直径と剥離除電器のイオン化気体噴出開口の列と
が略一致する剥離除電器の下の位置で停止させる。ター
ンテーブルの回転を停止して第2ステーシヨン■の剥離
除電器を作動させてイオン化気体を噴出させつつ(下方
矢印)かつ四部17から円板の下方から加圧気体を供給
させつつ(上方矢印)、剥離除電器の下において、セン
ターボス20を上昇させて(第13図(m))スタンパ
から円板を剥離させる(第13図(n))。このように
して、スタンパの微小凹凸を転写した硬化フォトポリマ
の転写層231を担持した円板29が得られる。
(7) Disk peeling process Next, after UV irradiation, initial setting station 0
The moving base is moved from to the second station (3) and stopped at a position below the stripping static eliminator where the diameter of the disk 29 and the row of ionized gas jetting openings of the stripping static eliminator substantially match. While the rotation of the turntable is stopped and the stripping static eliminator of the second station (■) is activated to eject ionized gas (downward arrow), pressurized gas is supplied from below the disk from the fourth part 17 (upward arrow). , the center boss 20 is raised under the peeling static eliminator (FIG. 13(m)) and the disk is peeled from the stamper (FIG. 13(n)). In this way, a disk 29 is obtained which carries a transfer layer 231 of cured photopolymer onto which the fine irregularities of the stamper have been transferred.

剥離除電器は案内溝に渡って架設され、移動ベース上の
円板の直径がイオン化気体の気体噴出孔列に一致するよ
うに停止されている。したがって気体噴出孔から噴出す
るイオン化気体は円板の主面に当る。イオン化気体は、
直接、転写層に当たらないが、スタンパから円板が剥さ
れるときに円板の表面に発生する静電気を打消して、静
電気による埃の付着を防止する。さらに、上から剥離除
電器のイオン化気体、下から中央凹部17の加圧気体を
それぞれ印加し、ターンテーブル外周部と筐体との間隙
から下方へ気体を吸引しているので、円板剥離中の硬化
フォトポリマの微小破片が、スタンパ15上に舞い降り
ることを防止できる。
The stripping static eliminator is installed across the guide groove, and is stopped so that the diameter of the disk on the moving base matches the row of gas ejection holes for the ionized gas. Therefore, the ionized gas ejected from the gas ejection holes hits the main surface of the disk. Ionized gas is
Although it does not directly contact the transfer layer, it cancels the static electricity generated on the surface of the disc when it is peeled off from the stamper, thereby preventing dust from adhering to it due to static electricity. Furthermore, the ionized gas from the peeling static eliminator is applied from above, and the pressurized gas from the central recess 17 is applied from below, and the gas is sucked downward from the gap between the outer periphery of the turntable and the housing, so that during the disk peeling process, It is possible to prevent minute pieces of the cured photopolymer from falling onto the stamper 15.

次に、第2ステーシヨン■から第1ステーシヨンIへ移
動ベースを移動させそこで停止させる。
Next, the moving base is moved from the second station (2) to the first station I and stopped there.

外周マスクを取り外し、完成した転写層付円板を取外す
Remove the outer mask and remove the completed disk with transfer layer.

このように第1ステーシヨンIないし第3ステーシヨン
■におけるかかる一連の工程を繰り返し実行することに
より順次、転写層付円板が得られる。
By repeating this series of steps at the first station I to the third station (2) in this way, a disk with a transfer layer is sequentially obtained.

従来装置によれば装置を休止する場合などにはスタンパ
上に保護フィルムを貼付してスタンパの保護を行ってい
たが、この場合、フィルムの糊が気泡を巻き込みフィル
ム及びスタンパ間に気泡を残すことになり、かかる気泡
がスタンパ上にじみを発生させることがあった。またさ
らに、フィルムでは薄いため十分な保護とはいえなかっ
た。しかし本発明装置では、放射線照射工程の後、製造
工程を終わりにすれば、円板が保護膜となってスタンパ
の保護が確実にできる。
According to conventional equipment, a protective film is pasted on the stamper to protect the stamper when the equipment is shut down, but in this case, the glue on the film can trap air bubbles and leave air bubbles between the film and the stamper. These air bubbles could cause bleeding on the stamper. Furthermore, the film was too thin to provide sufficient protection. However, in the apparatus of the present invention, if the manufacturing process is completed after the radiation irradiation process, the disk serves as a protective film and the stamper can be reliably protected.

発明の効果 上述のように本発明の光ディスクの製造装置によれば、
スタンパ上にフォトポリマを環状塩形状に吐出させ、円
板をフォトポリマに接触させる場合、円板のスタンパへ
の接近中から円板がフォトポリマに接触するまで、気体
圧制御手段がスタンパの環状転写領域の中央へ加圧気体
を供給して、下降する押圧体で強制的に円板をフォトポ
リマに接触させるので、環状塩形状フォトポリマが形成
する抜は口からの気体流出により微小角度で徐々に円板
の接触が行なわれ、フォトポリマ内の気泡の巻込みを極
めて減少させることができる。よって、気泡の残存する
確率が非常に低下する故に、本発明により得られる光デ
ィスクは、その信号転写層の気泡による再生時のドロッ
プアウトが殆ど現われないものとなる。
Effects of the Invention As described above, according to the optical disc manufacturing apparatus of the present invention,
When the photopolymer is discharged in the shape of an annular salt onto the stamper and the disc is brought into contact with the photopolymer, the gas pressure control means is applied to the annular shape of the stamper from the time the disc approaches the stamper until the disc comes into contact with the photopolymer. Pressurized gas is supplied to the center of the transfer area, and a descending presser force is used to force the disc into contact with the photopolymer, so that the circular salt-shaped photopolymer is formed at a small angle by the gas flowing out from the opening. The gradual contact of the discs can greatly reduce entrainment of air bubbles within the photopolymer. Therefore, since the probability of bubbles remaining is greatly reduced, the optical disc obtained by the present invention has almost no dropout during playback due to bubbles in the signal transfer layer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の製造装置の概略を示す正面図、第2図
は本発明の製造装置の概略を示す平面図、第3図は本発
明の製造装置の移動ベースの概略を示す部分切欠断面図
、第4図は本発明の製造装置の移動ベースのセンターボ
ス近傍の概略を示す拡大断面図、第5図は本発明の製造
装置の筐体及び移動ベースを説明するための概略側面図
、第6図は本発明の製造装置のフォトポリマ吐出機構を
説明するための概略側面図、第7図(a)及び(b)は
本発明の製造装置の初期接触機構を説明するための概略
側面図、第8図は外部余剰フォトポリマ吸引機構を説明
するための概略側面図、第9図は第2図のB−B線に沿
った剥離除電器の概略部分断面図、第10図は本発明の
製造装置の押圧消泡機構を説明するための概略切欠側面
図、第11図(a)及び(b)は外周リングを説明する
ための概略断面図、第12図は制御装置の説明図、第1
3図(a)ないしくn)は本発明の製造装置による製造
方法を説明するための概略断面図、第14図は初期接触
工程における円板の平面図、第15図はターンテーブル
中央凹部の減圧曲線を示すグラフ、及び第16図(a)
ないしくe)は従来の製造方法を説明するための概略断
面図である。 主要部分の符号の説明 10・・・・・・筐体 13・・・・・・移動ベース 15・・・・・・スタンパ 20・・・・・・センターボス 29・・・・・・透明円板 30・・・・・・フォトポリマ 32・・・・・・吸引ノズル 110・・・・・・フォトポリマ吐出機構   120
・・・・・・初期接触機構 130・・・・・・余剰フォトポリマ吸引機構140・
・・・・・剥離除電器 150・・・・・・外周リング 155・・・・・・内周リング
FIG. 1 is a front view schematically showing the manufacturing device of the present invention, FIG. 2 is a plan view schematically showing the manufacturing device of the present invention, and FIG. 3 is a partial cutaway schematically showing the movable base of the manufacturing device of the present invention. 4 is an enlarged sectional view schematically showing the vicinity of the center boss of the moving base of the manufacturing device of the present invention, and FIG. 5 is a schematic side view for explaining the casing and the moving base of the manufacturing device of the present invention. , FIG. 6 is a schematic side view for explaining the photopolymer discharge mechanism of the manufacturing apparatus of the present invention, and FIGS. 7(a) and (b) are schematic side views for explaining the initial contact mechanism of the manufacturing apparatus of the present invention. 8 is a schematic side view for explaining the external surplus photopolymer suction mechanism, FIG. 9 is a schematic partial cross-sectional view of the stripping static eliminator taken along line B-B in FIG. 2, and FIG. 10 is a schematic side view for explaining the external excess photopolymer suction mechanism. A schematic cutaway side view for explaining the pressure defoaming mechanism of the manufacturing apparatus of the present invention, FIGS. 11(a) and (b) are schematic cross-sectional views for explaining the outer ring, and FIG. 12 is an explanation of the control device. Figure, 1st
3(a) to n) are schematic sectional views for explaining the manufacturing method using the manufacturing apparatus of the present invention, FIG. 14 is a plan view of the disk in the initial contact step, and FIG. 15 is a view of the central recess of the turntable. Graph showing the pressure reduction curve and FIG. 16(a)
to e) are schematic cross-sectional views for explaining a conventional manufacturing method. Explanation of symbols of main parts 10... Housing 13... Moving base 15... Stamper 20... Center boss 29... Transparent circle Plate 30... Photopolymer 32... Suction nozzle 110... Photopolymer discharge mechanism 120
...Initial contact mechanism 130... Surplus photopolymer suction mechanism 140.
... Peeling static eliminator 150 ... Outer ring 155 ... Inner ring

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  光学的パターンを担持するスタンパと円板との間に液
状の放射線硬化樹脂を充填させ、前記放射線硬化樹脂を
硬化させて前記光学的パターンに対応する転写層を前記
円板上に形成する光ディスク製造装置であって、前記ス
タンパを担持する平坦部を有しその中央部に凹部を有す
るターンテーブルと、前記凹部内に配置されかつ前記タ
ーンテーブルと同一回転軸の周りに前記ターンテーブル
と一体的に回転自在でかつ前記回転軸に沿って移動自在
なセンターボスと、前記センターボス上に載置される円
板の外周部を前記平坦部に押圧する押圧手段と、前記凹
部に連通して前記凹部内の気圧を調節する気体圧制御手
段とからなり、前記気体圧制御手段は、前記平坦部のス
タンパ担持面と前記センターボスの円板担持面とを所定
距離まで近接するように前記センターボスと前記ターン
テーブルとを相対移動させるとき、前記凹部へ加圧気体
を供給すること、及び、前記相対移動中、前記円板を傾
動させる傾動手段を有することを特徴とする光ディスク
製造装置。
Optical disk manufacturing, in which a liquid radiation-curable resin is filled between a stamper carrying an optical pattern and a disk, and the radiation-curable resin is cured to form a transfer layer corresponding to the optical pattern on the disk. The apparatus includes a turntable having a flat part for supporting the stamper and a recess in the center thereof, and a turntable arranged in the recess and integrally connected to the turntable around the same rotation axis as the turntable. a center boss that is rotatable and movable along the rotation axis; a pressing means that presses an outer peripheral portion of a disk placed on the center boss against the flat portion; and gas pressure control means for adjusting the air pressure inside the center boss, and the gas pressure control means moves the stamper supporting surface of the flat part and the disc supporting surface of the center boss so that they are close to each other by a predetermined distance. An optical disc manufacturing apparatus, comprising: supplying pressurized gas to the recess when moving the turntable relative to the turntable; and tilting means for tilting the disc during the relative movement.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9579806B2 (en) 2012-08-23 2017-02-28 Rethink Robotics, Inc. Robotic power and signal distribution using laminated cable with separator webs

Cited By (2)

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US9579806B2 (en) 2012-08-23 2017-02-28 Rethink Robotics, Inc. Robotic power and signal distribution using laminated cable with separator webs
US10293496B2 (en) 2012-08-23 2019-05-21 Rethink Robotics Gmbh Robotic power and signal distribution using laminated cable with separator webs

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