JP7846801B1 - 保持装置 - Google Patents

保持装置

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JP7846801B1
JP7846801B1 JP2025003236A JP2025003236A JP7846801B1 JP 7846801 B1 JP7846801 B1 JP 7846801B1 JP 2025003236 A JP2025003236 A JP 2025003236A JP 2025003236 A JP2025003236 A JP 2025003236A JP 7846801 B1 JP7846801 B1 JP 7846801B1
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和俊 塚村
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Abstract

【課題】載置面内における温度分布の均一性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】保持装置であって、対象物が載置される載置面を有し、内部には冷媒が流れる流路が形成された板状部材を備え、流路が形成されている位置での板状部材の横断面において、流路には、流路の幅が広い幅広区間を内包しつつ流路を90度以上湾曲させた幅広湾曲区間が含まれており、幅広区間における流路の幅は、幅広湾曲区間の一端の位置における流路の幅および幅広湾曲区間の他端の位置における流路の幅のいずれよりも広いことを特徴とする。
【選択図】図4

Description

本発明は、保持装置に関する。
従来から、対象物が載置される載置面と冷媒が流れる流路とを有する板状部材を備えた保持装置が知られている(例えば、特許文献1,2)。
特許第7111460号公報 国際公開第2023/166866号
しかしながら、特許文献1,2のような保持装置において、載置面内における温度分布の均一性を向上させる技術については、なお、改善の余地があった。
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、載置面内における温度分布の均一性を向上させる技術を提供することを目的とする。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現できる。
(1)本発明の一形態によれば、保持装置が提供される。この保持装置は、保持装置であって、対象物が載置される載置面を有し、内部には冷媒が流れる流路が形成された板状部材を備え、前記流路が形成されている位置での前記板状部材の横断面において、前記流路には、前記流路の幅が広い幅広区間を内包しつつ前記流路を90度以上湾曲させた幅広湾曲区間が含まれており、前記幅広区間における前記流路の幅は、前記幅広湾曲区間の一端の位置における前記流路の幅および前記幅広湾曲区間の他端の位置における前記流路の幅のいずれよりも広い。
この構成によれば、冷媒が流れる流路に含まれる幅広湾曲区間には幅広区間が内包されていることから、幅広湾曲区間における乱流の発生を抑制することができる。その結果、幅広湾曲区間での乱流が発生することによる冷却効果が緩和されることから、対象物が載置される載置面内における温度分布の均一性を向上させることができる。
なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、保持装置の製造方法、保持装置を含むシステム、これら装置およびシステムの制御方法、これら装置およびシステムにおいて対象物の処理を実行させるコンピュータプログラム、そのコンピュータプログラムを配布するためのサーバ装置、そのコンピュータプログラムを記憶した一時的でない記憶媒体等の形態で実現することができる。
実施形態の保持装置の斜視図である。 保持装置の第1の断面図である。 保持装置の第2の断面図である。 幅広湾曲区間の1例の拡大図である。 2本の接線のなす角度の説明図である。 幅広湾曲区間の1例の拡大図である。 比較例の接合体を示した説明図である。 隔離湾曲区間の1例の拡大図である。 隔離湾曲区間の1例の拡大図である。
<第1実施形態>
図1は、本実施形態の保持装置1の斜視図である。図2は、本実施形態の保持装置1の第1の断面図である。本実施形態の保持装置1は、基板Wを静電引力によって吸着して保持する静電チャックである。静電チャックは、例えば、静電チャックを備えるチャンバー内でプラズマを用いたエッチングプロセスにおいて、基板Wを載置するテーブルとして使用される。本実施形態の保持装置1は、基台10と、セラミックス基材20と、図示しない接合部と、を備える。保持装置1では、図1に示すように、基台10、セラミックス基材20の順に積層されている。保持装置1は、セラミックス基材20の外周に設置されるフォーカスリングFRを用いることで、保持装置1に対する基板Wの位置決めを行う。図1および図2には、便宜的に、基台10とセラミックス基材20との積層方向をz軸方向とし、z軸に対して垂直に交差する方向をx軸方向とし、z軸とx軸とに対して垂直に交差する方向をy軸方向として示している。なお、説明の便宜上、図1および図2における、基台10、セラミックス基材20、基板W、および、フォーカスリングFRのそれぞれの大きさの関係は、実際の関係とは異なっている。
基台10は、炭化珪素(SiC)を主成分とする焼結体であって、保持装置1のベースとなる部分である略円柱形状の部材である。ここで、「主成分」とは、含有割合の最も多い成分を意味する。なお、基台10を形成する材料は、炭化珪素を主成分とする材料に限定されない。基台10は、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、これらの合金、SUS、Al-SiCのような金属とセラミックスとの複合体、または、窒化アルミニウム(AlN)やアルミナ(Al23)などのセラミックスを主成分とする材料などにより形成されていてもよい。
基台10は、第1基台11と、第2基台12と、を有する。第1基台11と第2基台12とは、図示しない接着層によって接合されている。なお、基台10は、第1基台11と第2基台12とのように2層からなる構造に限定されず、単層からなる構造であってもよいし、3層以上からなる構造であってもよい。
第1基台11は、図2に示すように、保持装置1において、z軸方向の最もマイナス側に位置する。第1基台11は、略円形状の板状部材であって、一対の主面11a,11bを有する。第2基台12は、第1基台11のz軸方向のプラス側において、第1基台11に積層されている。第2基台12は、第1基台11とほぼ同じ大きさの略円形状の板状部材であって、一対の主面12a,12bを有する。第2基台12の一対の主面12a,12bのうち、z軸方向のマイナス側の主面12bには、冷媒が流れる流路30となる溝13が形成されている。第2基台12に形成されている溝13は、第1基台11と第2基台12とが接合されるとき、第1基台11が溝13の蓋となることで、流路30となる。基台10には、保持装置1のz軸方向に沿って形成される複数の穴14が形成されている。流路30の詳細な形状は、後述する。
セラミックス基材20は、基台10のz軸方向のプラス側に配置される板状部材である。セラミックス基材20は、セラミックスを主成分とする。本実施形態のセラミックス基材20は、酸化アルミニウムを主成分とする材料により形成されている。なお、セラミックス基材20は、窒化アルミニウム、炭化珪素などの他のセラミックスにより形成されていてもよい。セラミックス基材20は、一対の主面20a,20bを有する。
セラミックス基材20は、一対の主面20a,20bのうちの基台10とは反対側の一方の主面20aに、基板Wが載置される載置面21が形成されている。セラミックス基材20の一方の主面20aの外周には、フォーカスリングFRが載置されるフォーカスリング用載置面22が形成されている。セラミックス基材20が有する一対の主面20a,20bのうちの他方の主面20bは、図示しない接合部によって第2基台12に接合されている。セラミックス基材20には、基台10に形成されている複数の穴14のそれぞれに連通する穴23が形成されている。なお、基台10とセラミックス基材20とを接合する方法は、金属接合、樹脂接合、無機材料による接合などが例示されるが、これらに限定されない。
本実施形態のセラミックス基材20は、電極24を有する。電極24は、セラミックス基材20の内部に配置されている。電極24は、例えば、タングステン、モリブデンなどの導電性材料により形成されている。電極24は、穴14,23に挿通される図示しない電極端子を介して、外部の電源に接続されている。電極24としては、高周波電極、チャック電極、ヒータ電極などが例示される。
本実施形態の保持装置1は、基台10に形成されている穴14とセラミックス基材20に形成されている穴23とによって、基台10とセラミックス基材20とからなる接合体5をz軸方向に貫通する穴5aを有する。接合体5が有する穴5aは、セラミックス基材20が有する電極24に給電するための図示しない給電端子を挿通する端子穴、基板Wの裏面にヘリウムガスを供給するためのガス穴、基板Wをセラミックス基材20から持ち上げる図示しないリフトピンを挿通するためのリフトピン穴、載置面21の温度を測定するための図示しない温度センサを挿通するセンサ穴などとして使用される。なお、本実施形態の接合体5が有する穴5aは、接合体5をz軸方向に貫通するとしたが、接合体5を貫通していなくてもよい。具体的には、穴5aは、例えば、基台10を貫通している穴14と、セラミックス基材20の他方の主面20b、または、他方の主面20bに形成された底面を有する穴とを組み合わせた構成であってもよい。この場合、セラミックス基材20の他方の主面20b、または、他方の主面20bに形成された底面が、穴5aの底面となる。また、穴14が底面を有する貫通していない穴であってもよい。
接合体5は、特許請求の範囲の「板状部材」に相当する。すなわち、接合体5は、対象物である基板Wが載置される載置面21を有し、内部には冷媒が流れる流路30が形成された板状部材である。
図3は、保持装置1の第2の断面図である。図3は、図2のA-A線断面図である。図3は、溝13(流路30)が形成されている位置での接合体5の横断面を示した図である。流路30は、図3に示すように、略渦巻き状に形成されている。流路30には、流路30に冷媒が流入する流路入口INと、流路30から冷媒が流出する流路出口OUTと、が含まれている。横断面における流路入口INの形状および流路出口OUTの形状は、円形状である。また、流路30には、流路30が2本の流路に分岐しているとともにそれら流路が1本の流路に合流している複数の分岐合流部が含まれていてもよい。
流路30には、流路入口IN、流路出口OUTの他に、幅広湾曲区間および隔離湾曲区間が含まれている。この幅広湾曲区間および隔離湾曲区間のうち、まず初めに、幅広湾曲区間について説明する。図3にハッチングで示された区間WC1は、幅広湾曲区間の1例である。図3に示したような横断面において、幅広湾曲区間は、流路30の幅が広い幅広区間(図4に幅広区間WDとして例示)を内包しつつ流路30を90度以上湾曲させた区間である。本実施形態では、幅広湾曲区間の長さは、図3に示すような横断面における流路30の全長のうちの1割以下の長さである。すなわち、区間WC1の長さは、流路30の全長のうちの1割以下の長さである。なお、図3で示された区間SC1の詳細は、後述の図8を用いて説明する。
図4は、図3において幅広湾曲区間の1例として示した区間WC1の拡大図である。図4には、中央線Lwと、一端Ew1と、他端Ew2と、が示されている。中央線Lwは、幅広湾曲区間内の流路30の中央線である。すなわち、中央線Lwは、幅広湾曲区間内の流路30の各位置における幅の二等分線である。一端Ew1および他端Ew2は、幅広湾曲区間の一端と他端である。
図4を用いて、幅広湾曲区間とみなされる区間が満たしている2つの要件について説明する。まず1つ目の要件について説明する。区間WC1において、一端Ew1の位置における中央線Lwの接線Tw1と、他端Ew2の位置における中央線Lwの接線Tw2と、のなす角度は90度以上となっている。図5には、図4に示した接線Tw1と接線Tw2とのなす角度αが示されている。角度αは、区間WC1における流路30の湾曲度合を示していることから、区間WC1は、流路30を90度以上湾曲させた区間である。このように、流路30のうち幅広湾曲区間とみなされる区間は、流路30を90度以上湾曲させた区間(湾曲区間)であることを満たしている。
次に2つ目の要件について説明する。図4に密なハッチングで示された幅広区間WDにおける流路30の幅は、一端Ew1の位置における流路30の幅Ws1および他端Ew2の位置における流路30の幅Ws2のいずれよりも広くなっている。ここでいう流路30の幅とは、中央線Lwの各位置での接線と直交する方向における流路30の長さのことである。区間WC1は、このような幅広区間WDを内包している。このように、流路30のうち幅広湾曲区間とみなされる区間は、2つの要件として、湾曲区間であること、および、幅広区間を内包していることのいずれも満たしている。
図6は、流路30に含まれる区間WC2が示されている。区間WC2は、図3に示した区間WC1とは異なる幅広湾曲区間であることを説明する。流路30に含まれる区間のうち、長さが流路30の全長のうちの1割以下の長さであって、且つ、上述した2つの要件を満たす区間は、いずれも流路30に含まれる幅広湾曲区間とみなされる。例えば、区間WC2(図6に図示)は、区間WC1(図3に図示)とは長さが異なる区間であるものの、上述した2つの要件を満たしていることから、区間WC1と同じく幅広湾曲区間とみなされる。このように、流路30には、位置や長さが異なる無数の幅広湾曲区間が含まれている。
流路入口INの位置および流路出口OUTの位置は、チャンバー内の他の部材との位置関係により決まるため、流路30には、湾曲区間(流路30を90度以上湾曲させた区間)を設けざるを得ないことがある。このとき、基板Wが載置される載置面21(図1,2参照)のうち湾曲区間に対応した部位の温度分布が周囲の部位よりも低温となることがある。図7は、比較例の接合体5cを示した説明図である。比較例の接合体5cに形成された流路30cは、区間WC1(図3参照)に相当する部分の形状が異なる点のみ流路30と異なる。図7に示す区間WCcは、流路30cにおいて、流路30の区間WC1(図3参照)に相当する部分の区間である。区間WCcは、流路30cを90度以上湾曲させた区間ではあるが、幅広区間を内包していないため、幅広湾曲区間ではなく単なる湾曲区間とみなされる。区間WCcのような幅広区間を内包していない単なる湾曲区間では、冷媒の乱流が発生しやすくなっている。このような乱流は冷却効果を生じさせるため、乱流が発生した位置周辺の領域は低温となることから、基板Wが載置される載置面21(図1,2参照)における温度分布の不均一化を助長する。
この点、本実施形態の保持装置1における幅広湾曲区間(例えば図4の区間WC1)には幅広区間(例えば図4の幅広区間WD)が内包されていることから、幅広湾曲区間における乱流の発生を抑制することができる。その結果、幅広湾曲区間での乱流が発生することによる冷却効果が緩和されることから、基板Wが載置される載置面21内における温度分布の均一性を向上させることができる。
流路30に含まれる幅広湾曲区間および隔離湾曲区間のうち、次に、隔離湾曲区間について説明する。図3にハッチングで示された区間SC1は、隔離湾曲区間の1例である。図3に示したような横断面において、隔離湾曲区間は、流路30を90度以上湾曲させた区間であり、その区間の一端と他端との間における流路30が形成されていない非形成部分(図8に非形成部分NFとして例示)の長さ(図8に長さSPとして例示)が設定距離以上である区間である。詳細は、図8を用いて説明する。なお本実施形態では、隔離湾曲区間の長さは、図3に示すような横断面における流路30の全長のうちの1割以下の長さである。すなわち、区間SC1の長さは、流路30の全長のうちの1割以下の長さである。
図8は、図3に示した区間SC1の拡大図である。図8には、中央線Lsと、一端Es1と、他端Es2と、が示されている。中央線Lsは、隔離湾曲区間内の流路30の中央線である。すなわち、中央線Lsは、隔離湾曲区間内の流路30の各位置における幅の二等分線である。一端Es1および他端Es2は、隔離湾曲区間の一端と他端である。
図8を用いて、隔離湾曲区間とみなされる区間が満たしている2つの要件について説明する。まず1つ目の要件について説明する。区間SC1において、一端Es1の位置における中央線Lsの接線Ts1と、他端Es2の位置における中央線Lsの接線Ts2と、のなす角度は、上述した幅広湾曲区間と同様に、90度以上となっている(図5参照)。すなわち、区間SC1は、流路30を90度以上湾曲させた区間である。このように、流路30のうち隔離湾曲区間とみなされる区間は、上述した幅広湾曲区間と同様に、湾曲区間であることを満たしている。
次に2つ目の要件について説明する。区間SC1において、一端Es1と他端Es2との間における流路30が形成されていない非形成部分NFの長さSPは設定距離以上となっている。設定距離とは、一端Es1の位置における流路の幅Ss1と他端Es2の位置における流路の幅Ss2とを合わせた長さのことである。ここでいう流路30の幅とは、中央線Lsの各位置での接線と直交する方向における流路30の長さのことである。このように、流路30のうち隔離湾曲区間とみなされる区間は、2つの要件として、湾曲区間であること、および、非形成部分の長さが設定距離以上となっていることのいずれも満たしている。
図9には、流路30に含まれる区間SC2を示している。区間SC2は、図3,8に示した区間SC1とは異なる隔離湾曲区間であることを説明する。流路30に含まれる区間のうち、長さが流路30の全長のうちの1割以下の長さであって、且つ、上述した2つの要件を満たす区間は、いずれも流路30に含まれる隔離湾曲区間とみなされる。例えば、区間SC2(図9に図示)は、区間SC1(図8に図示)とは異なる区間であるものの、上述した2つの要件を満たすことから、区間SC1と同じく幅広湾曲区間とみなされる。このように、流路30には、位置や長さが異なる無数の隔離湾曲区間が含まれている。なお、区間SC2においては、他端Es4の位置における流路の幅Ss4は限りなく0に近い長さであるため、設定距離は、一端Es3の位置における流路の幅Ss3にほぼ等しくなっている。
図9に示した区間SC2は、流路出口OUTを内包した隔離湾曲区間でもある。また、隔離湾曲区間に内包されている流路出口OUTと、当該隔離湾曲区間に内包されていない流路入口INと、の間には、流路30が配置されている(図3参照)。なお、上述したように、隔離湾曲区間の長さは、横断面における流路30の全長のうちの1割以下の長さであるため、本実施形態において、流路入口INと流路出口OUTとのうちいずれも内包した隔離湾曲区間は存在しない。
上述したように、湾曲区間は流路30の中でも冷媒の乱流が発生しやすい区間であり、その乱流の発生は冷却効果を生じさせることから、湾曲区間は温度が比較的低くなる傾向にある。一方、接合体5のうち流路30が形成されていない非形成部分NFは温度が比較的高くなる傾向にある。以上説明した実施形態の保持装置1における隔離湾曲区間(例えば図8の区間SC1、図9の区間SC2)では、一端と他端との間における非形成部分の長さが設定距離以上となっている。すなわち、そのような隔離湾曲区間の内側には、隔離湾曲区間を温めるための非形成部分NFが十分な広さで確保されていることから、基板Wが載置される載置面21内における温度分布の均一性を向上させることができる。
流路出口OUTは、流路30の全長を通過して熱を十分に吸収した状態の冷媒が到達する位置であるため、その温度は比較的高くなる傾向にある。このように、流路出口OUTは、接合体5全体の平均温度からある程度外れた温度特異点となりやすい。そのため、流路出口OUTが隔離湾曲区間(例えば図8の区間SC1、図9の区間SC2)に含まれていることで、隔離湾曲区間における乱流の発生による冷却効果と、非形成部分NFの長さを設定距離以上とすることの調整により、基板Wが載置される載置面21内における温度分布の均一性を一層向上させることができる。
流路入口INは、これから接合体5の熱を吸収し始める状態の冷媒が到達する位置であるため、その温度は比較的低くなる傾向にあることから、接合体5全体の平均温度からある程度外れた温度特異点となりやすい。上述した実施形態の保持装置1では、隔離湾曲区間(例えば図8の区間SC1、図9の区間SC2)に内包されている流路出口OUTと、当該隔離湾曲区間に内包されていない流路入口INと、の間には、流路30が配置されている。このため、温度が比較的低くなる傾向にある流路入口INと、温度が比較的高くなる傾向にある流路出口OUTと、の間は流路30を隔てて離れていることから、流路出口OUTから流路入口INへ熱伝達が行われるのを抑制することができる。したがって、流路出口OUTからの熱伝達によって流路入口INにおける冷媒が温められるのを抑制できることから、流路入口INから流路出口OUTに至るまでの冷媒による接合体5への冷却効果を確保することができる。流路入口INと流路出口OUTとの間が比較的近くに配置される場合、上述したように両者の間に流路30を配置することによって、両者の距離を離すようにするのが好ましい。
図3等に示された接合体5の横断面において、上述したように、流路30が形成されていない非形成部分では温度が比較的高くなる傾向にある。したがって、横断面の各位置における非形成部分の面積が大きくならないように、当該横断面の各位置において湾曲区間を配置することが好ましい。また、当該横断面のうち外周側の部分では外縁までの面積が限られているために放熱に用いることのできる面積が限られていることから、外周側の部分においても、湾曲区間を配置することが好ましい。
<本実施形態の変形例>
本発明は上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
上記実施形態では、幅広湾曲区間の長さおよび隔離湾曲区間の長さは、接合体5の横断面における流路30の全長のうちの1割以下の長さであるとしていたが、これに限られない。例えば、接合体5の横断面において、上記実施形態のように1本の流路30(1組の流路入口INおよび流路出口OUT)が設けられているのではなく、複数本の流路(複数組の流路入口INおよび流路出口OUT)が設けられている場合には、幅広湾曲区間の長さおよび隔離湾曲区間の長さは、接合体5の横断面に形成された複数本の流路の長さの合計の長さの1割以下の長さであってもよい。
上記実施形態では、流路30には、幅広湾曲区間および隔離湾曲区間の各々が含まれていたが、これに限られない。流路30には、幅広湾曲区間であって、且つ、隔離湾曲区間でもある区間が含まれていてもよい。換言すれば、流路30には、湾曲区間であること、幅広区間を内包していること、および、非形成部分の長さが設定距離以上となっていることのいずれも満たしている区間が含まれていてもよい。また、流路30には、幅広湾曲区間と隔離湾曲区間とのうちいずれか一方だけが含まれていてもよい。
上記実施形態では、流路30には、流路出口OUTを内包した隔離湾曲区間が含まれていたが、これに限られない。流路30には、流路入口INを内包した隔離湾曲区間が含まれていてもよい。すなわち、流路30には、流路入口INと流路出口OUTとのうちいずれかを内包した隔離湾曲区間が含まれていてもよい。また、流路30に流路入口INを内包した隔離湾曲区間が含まれている場合、流路入口INから流路出口OUTに至るまでの冷媒による接合体5への冷却効果を確保する観点から、隔離湾曲区間に内包されている流路入口INと、当該隔離湾曲区間に内包されていない流路出口OUTと、の間には、流路30が配置されている方が好ましい。
以上、実施形態、変形例に基づき本態様について説明してきたが、上記した態様の実施の形態は、本態様の理解を容易にするためのものであり、本態様を限定するものではない。本態様は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本態様にはその等価物が含まれる。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することができる。
1…保持装置
5…接合体
5a…穴
10…基台
11…第1基台
11a,11b…(第1基台の)主面
12…第2基台
12a,12b…(第2基台の)主面
12b…主面
14…穴
20…セラミックス基材
20a,20b…(セラミックス基材の)主面
21…載置面
22…フォーカスリング用載置面
23…穴
24…電極
30…流路
FR…フォーカスリング
IN…流路入口
NF…非形成部分
OUT…流路出口

Claims (1)

  1. 保持装置であって、
    対象物が載置される載置面を有し、内部には冷媒が流れる流路が形成された板状部材を備え、
    前記流路が形成されている位置での前記板状部材の横断面において、前記流路には、前記流路の幅が広い幅広区間を内包しつつ前記流路を90度以上湾曲させた幅広湾曲区間が含まれており、
    前記幅広区間における前記流路の幅は、前記幅広湾曲区間の一端の位置における前記流路の幅および前記幅広湾曲区間の他端の位置における前記流路の幅のいずれよりも広く、
    前記横断面において、前記幅広湾曲区間に内包されている前記幅広区間の内側を画定している流路壁の形状は丸みを帯びた形状であることを特徴とする、保持装置。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150340255A1 (en) 2014-05-20 2015-11-26 Vijay Parkhe Electrostatic chuck with independent zone cooling and reduced crosstalk
JP2023070861A (ja) 2021-11-10 2023-05-22 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
WO2023166866A1 (ja) 2022-03-01 2023-09-07 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
WO2024252555A1 (ja) 2023-06-07 2024-12-12 日本碍子株式会社 ウエハ載置台

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150340255A1 (en) 2014-05-20 2015-11-26 Vijay Parkhe Electrostatic chuck with independent zone cooling and reduced crosstalk
JP2023070861A (ja) 2021-11-10 2023-05-22 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
WO2023166866A1 (ja) 2022-03-01 2023-09-07 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
WO2024252555A1 (ja) 2023-06-07 2024-12-12 日本碍子株式会社 ウエハ載置台

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