JP7846801B1 - 保持装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】保持装置であって、対象物が載置される載置面を有し、内部には冷媒が流れる流路が形成された板状部材を備え、流路が形成されている位置での板状部材の横断面において、流路には、流路の幅が広い幅広区間を内包しつつ流路を90度以上湾曲させた幅広湾曲区間が含まれており、幅広区間における流路の幅は、幅広湾曲区間の一端の位置における流路の幅および幅広湾曲区間の他端の位置における流路の幅のいずれよりも広いことを特徴とする。
【選択図】図4
Description
図1は、本実施形態の保持装置1の斜視図である。図2は、本実施形態の保持装置1の第1の断面図である。本実施形態の保持装置1は、基板Wを静電引力によって吸着して保持する静電チャックである。静電チャックは、例えば、静電チャックを備えるチャンバー内でプラズマを用いたエッチングプロセスにおいて、基板Wを載置するテーブルとして使用される。本実施形態の保持装置1は、基台10と、セラミックス基材20と、図示しない接合部と、を備える。保持装置1では、図1に示すように、基台10、セラミックス基材20の順に積層されている。保持装置1は、セラミックス基材20の外周に設置されるフォーカスリングFRを用いることで、保持装置1に対する基板Wの位置決めを行う。図1および図2には、便宜的に、基台10とセラミックス基材20との積層方向をz軸方向とし、z軸に対して垂直に交差する方向をx軸方向とし、z軸とx軸とに対して垂直に交差する方向をy軸方向として示している。なお、説明の便宜上、図1および図2における、基台10、セラミックス基材20、基板W、および、フォーカスリングFRのそれぞれの大きさの関係は、実際の関係とは異なっている。
本発明は上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
5…接合体
5a…穴
10…基台
11…第1基台
11a,11b…(第1基台の)主面
12…第2基台
12a,12b…(第2基台の)主面
12b…主面
14…穴
20…セラミックス基材
20a,20b…(セラミックス基材の)主面
21…載置面
22…フォーカスリング用載置面
23…穴
24…電極
30…流路
FR…フォーカスリング
IN…流路入口
NF…非形成部分
OUT…流路出口
Claims (1)
- 保持装置であって、
対象物が載置される載置面を有し、内部には冷媒が流れる流路が形成された板状部材を備え、
前記流路が形成されている位置での前記板状部材の横断面において、前記流路には、前記流路の幅が広い幅広区間を内包しつつ前記流路を90度以上湾曲させた幅広湾曲区間が含まれており、
前記幅広区間における前記流路の幅は、前記幅広湾曲区間の一端の位置における前記流路の幅および前記幅広湾曲区間の他端の位置における前記流路の幅のいずれよりも広く、
前記横断面において、前記幅広湾曲区間に内包されている前記幅広区間の内側を画定している流路壁の形状は丸みを帯びた形状であることを特徴とする、保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2025003236A JP7846801B1 (ja) | 2025-01-09 | 2025-01-09 | 保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2025003236A JP7846801B1 (ja) | 2025-01-09 | 2025-01-09 | 保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP7846801B1 true JP7846801B1 (ja) | 2026-04-15 |
Family
ID=99435415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025003236A Active JP7846801B1 (ja) | 2025-01-09 | 2025-01-09 | 保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7846801B1 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150340255A1 (en) | 2014-05-20 | 2015-11-26 | Vijay Parkhe | Electrostatic chuck with independent zone cooling and reduced crosstalk |
| JP2023070861A (ja) | 2021-11-10 | 2023-05-22 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
| WO2023166866A1 (ja) | 2022-03-01 | 2023-09-07 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
| WO2024252555A1 (ja) | 2023-06-07 | 2024-12-12 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
-
2025
- 2025-01-09 JP JP2025003236A patent/JP7846801B1/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150340255A1 (en) | 2014-05-20 | 2015-11-26 | Vijay Parkhe | Electrostatic chuck with independent zone cooling and reduced crosstalk |
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| WO2023166866A1 (ja) | 2022-03-01 | 2023-09-07 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
| WO2024252555A1 (ja) | 2023-06-07 | 2024-12-12 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
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