JP7745814B1 - 分解性フィルムの使用方法およびレジストパターンの作製方法 - Google Patents
分解性フィルムの使用方法およびレジストパターンの作製方法Info
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(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の直鎖状炭化水素基、炭素数3~8の脂環式炭化水素基、または炭素数6~8の芳香族炭化水素基を表す。)
〔分解性フィルムの使用方法〕
本発明の第1の実施形態に係る分解性フィルムの使用方法は、脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有し、当該脂肪族ポリカーボネート以外の粘着性樹脂の含有量が10質量%以下である分解性フィルムを用意する工程と、上記分解性フィルムの全面または平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、上記分解性フィルムを加熱し、当該分解性フィルムの全面または平面視の一部を分解させる分解工程とを備えている。
本実施形態で使用する分解性フィルムは、脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有する。当該分解性フィルムにおいて、上記脂肪族ポリカーボネート以外の粘着性樹脂の含有量は、10質量%以下であることが好ましく、7質量%以下であることがより好ましく、特に5質量%以下であることが好ましく、さらには3質量%以下であることが好ましく、よりさらにには1質量%以下であることが好ましく、0質量%であることが最も好ましい。これにより、分解工程後の残渣物を低減させることができる。
(1)脂肪族ポリカーボネート
(1-1)脂肪族ポリカーボネートの構造
本実施形態の分解性フィルムで使用する脂肪族ポリカーボネートは、ポリカーボネートのうち、主鎖がカーボネート基(-O-C(=O)-O-)および脂肪族基で構成されているものであり、主鎖を構成している2価の脂肪族基同士をカーボネート基が連結した構造を有する。
(式中、Xは無置換のまたは置換基を有する2価の脂肪族炭化水素基である。)
式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立に水素原子、または、無置換のもしくは置換基を有するアルキル基もしくはアルコキシ基であり、R1、R2、R3およびR4のいずれか二以上が無置換のもしくは置換基を有するアルキル基もしくはアルコキシ基である場合、これら二以上のアルキル基もしくはアルコキシ基は相互に結合して、環を形成していてもよい。
本実施形態で用いる脂肪族ポリカーボネートは、重量平均分子量(Mw)が2000以上であることが好ましく、1万以上であることがより好ましく、特に2万以上であることが好ましく、さらには4万以上であることが好ましい。これにより、フィルム形成性が良好なものとなる。また、上記重量平均分子量(Mw)は、100万以下であることが好ましく、70万以下であることがより好ましく、特に40万以下であることが好ましく、さらには20万以下であることが好ましい。これにより、塗布性が良好なものとなる。なお、本明細書において、「重量平均分子量」は、特に断りのない限り、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)法により測定されるポリスチレン換算値である。
本実施形態で用いる脂肪族ポリカーボネートは、例えば、二酸化炭素(CO2)と、主鎖を脂肪族基で構成するように重合するモノマーとを、金属触媒の存在下で、必要に応じて水分含有量を所定量以下に制御して、重合反応させる工程を有する製造方法で製造できる。例えば、構成単位(1a)を有する脂肪族ポリカーボネートは、以下に示すように、二酸化炭素と、下記一般式(1b)で表される化合物(エチレンオキシド(エポキシド)またはその誘導体、以下、「化合物(1b)」と略記することがある)とを、金属触媒の存在下で、必要に応じて水分含有量を所定量以下に制御して、重合反応させる工程を有する製造方法で製造できる(例えば、「国際公開第2011/142259号」参照)。なお、本明細書において「モノマー」とは、特に断りのない限り、主鎖を脂肪族基で構成するように二酸化炭素と重合反応する化合物を意味するものとする。また、「誘導体」とは、元の化合物の1個以上の水素原子が水素原子以外の基(置換基)で置換されている化合物を意味し、ここでの「置換基」としては、上述のR1~R4が置換基を有する場合の当該置換基と同様のものが挙げられる。
(式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同じであり;nは2以上の整数である。)
本実施形態で用いる酸・塩基発生剤は、エネルギー線照射により酸または塩基を発生するものである。エネルギー線とは、電磁波または荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものをいい、具体的には、紫外線、電子線、X線などが挙げられる。後述するように、本実施形態に係る光分解性フィルムに照射するエネルギー線としては、取扱いが容易な紫外線が好ましい。すなわち、本実施形態で用いる酸・塩基発生剤は、紫外線照射により酸または塩基を発生するものであることが好ましい。
本実施形態における分解性フィルムは、上記の成分の他、所望の分解性を阻害しない限り、種々の添加剤、例えば増感剤、可塑剤、架橋剤、帯電防止剤、増粘剤、減粘剤、熱伝導剤、顔料、軽量充填剤、酸化防止剤、防錆剤等を含有してもよい。ただし、分解工程後に残渣物になる成分は含有しないことが好ましい。
(1)分解性フィルム形成用組成物の調製
本実施形態における分解性フィルムを製造するには、脂肪族ポリカーボネート、酸・塩基発生剤、および所望により添加剤を溶剤中で混合し、分解性フィルム形成用組成物の塗布溶液を得る。なお、上記各成分のいずれかにおいて、固体状のものを用いる場合、あるいは、希釈されていない状態で他の成分と混合した際に析出を生じる場合には、その成分を単独で予め溶剤に溶解もしくは希釈してから、その他の成分と混合してもよい。
上記のようにして得られた分解性フィルム形成用組成物の塗布溶液を、所望の対象物に塗布した後、乾燥することにより、分解性フィルムが得られる。
本実施形態における分解性フィルムの厚さは、1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましく、特に5μm以上であることが好ましく、さらには10μm以上であることが好ましい。これにより、フィルムとしての強度を良好に保つことができる。また、例えば、レジストパターンとしての役割を果たすことができる。一方、上記厚さは、50μm以下であることが好ましく、40μm以下であることがより好ましく、特に30μm以下であることが好ましく、さらには25μm以下であることが好ましい。これにより、後述する分解工程で当該分解性フィルムを良好に分解させることができる。
本実施形態では、次に、分解性フィルムの全面または平面視の一部に対してエネルギー線を照射する。なお、このエネルギー線の照射は、後述する分解工程の加熱と同じタイミングで行ってもよい。すなわち、照射工程および分解工程は同時に行ってもよい。ただし、分解工程の加熱により酸・塩基発生剤が揮発するような場合には、分解工程の前に当該照射工程を行うことが好ましい。
本実施形態では、最後に、分解性フィルムを加熱し、当該分解性フィルムの全面または平面視の一部を分解させる。前述した照射工程において、酸・塩基発生剤から発生した酸または塩基の作用により、脂肪族ポリカーボネートは熱分解し易くなっている。したがって、上記の加熱により脂肪族ポリカーボネートが熱分解し、もって分解性フィルムが分解することとなる。分解性フィルムが脂肪族ポリカーボネートおよび酸・塩基発生剤以外の成分を実質的に含有していなければ、残渣物による汚染が抑制される。
実施形態に係る分解性フィルムの使用方法としては、例えば、レジストパターンの作製方法、仮固定材(剤)としての使用、易分解性接着剤としての使用等が挙げられる。
本発明の一実施形態に係るレジストパターンの作製方法は、脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有する分解性フィルムを用意する工程と、当該分解性フィルムの平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、上記分解性フィルムを加熱し、当該分解性フィルムの平面視の一部を分解させる分解工程とを備えている。
(重合触媒の合成)
(R,R)-N,N’-ビス(3,5-ジ-tert-ブチルサリチリデン)-1,2-ジアミノシクロヘキサンコバルト(II)と、ペンタフルオロ安息香酸とをモル比で1:1.1になるように秤量し、フラスコに入れ、そこに脱水トルエンを加えた。フラスコをアルミホイルで遮光し、室温で20時間反応させた。化学反応式は、以下のとおりである。反応終了後、減圧下で溶媒を除去し、過剰量のヘキサンで数回洗浄した。その後、室温で真空乾燥を行い、コバルトサレン錯体を得た。
原料モノマーとしてのプロピレンオキシド1437質量部、上記で得られた触媒としてのコバルトサレン錯体10.1質量部、および助触媒としてのビス(トリフェニルホスホラニリデン)アンモニウムクロリド7.1質量部を酢酸エチル479質量部に溶解し、混合液を得た。
原料モノマーとしてプロピレンオキシドの替わりに1,2-ブチレンオキシドを用いた以外は、実施例1と同様にして脂肪族ポリカーボネートを調製した。生成した脂肪族ポリカーボネートを取得し、分析したところ、ガラス転移温度(Tg)は16℃、重量平均分子量(Mw)は59,000、数平均分子量(Mn)は47,000であった。この脂肪族ポリカーボネートは、ポリブチレンカーボネート(PBC)であった。
・カラム:「TSK guard column SuperH-H」「TSK gel SuperHM-H」「TSK gel SuperHM-H」「TSK gel SuperH2000」(いずれも東ソー株式会社製)を順次連結したもの
・カラム温度:40℃
・展開溶媒:テトラヒドロフラン(共重合体濃度1質量%)
・注入量:20μl
・流速:0.6mL/min
・検出器:示差屈折計
・標準試料:ポリスチレン
1.分解性フィルムの製造
製造例1で得られたポリプロピレンカーボネート10質量部、および塩基発生剤としての1,2-ジイソプロピル-3-〔ビス(ジメチルアミノ)メチレン〕グアニジウム2-(3-ベンゾイルフェニル)プロピオナート(富士フイルム和光純薬株式会社製,製品名「WPBG-266」,波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数:80M-1cm-1)0.5質量部をメチルエチルケトン40質量部に溶解し、十分に撹拌・混合し、これをフィルム形成用組成物の塗布液とした。
上記積層体から軽剥離型剥離シートを剥離し、露出した分解性フィルムをシリコン板に貼付した。次いで、分解性フィルムから重剥離型剥離シートを剥離した。そして、シリコン板上の分解性フィルムに対し、高圧水銀ランプを用いて照度:200mW/cm2,光量:1000mJ/cm2で紫外線照射を行った。なお、照射した紫外線の中心波長は365nmであった。
続いて、紫外線照射された分解性フィルムおよびシリコン板の積層体を、実験用オーブン(エスペック株式会社製,「SPH-202」)により、60℃で5分、10分、15分または20分加熱し、分解性フィルムを分解させた。
分解工程における加熱温度を表1に示す温度に変更する以外、実施例1と同じ分解性フィルムを実施例1と同様にして分解させた。
製造例1で調製したポリプロピレンカーボネートに替えて、製造例2で調製したポリブチレンカーボネートを使用して、実施例1と同様にして分解性フィルムを製造した。そして、実施例1と同様にして照射工程を行った後、分解工程における加熱温度を40℃に変更する以外、実施例1と同様にして分解工程を行った。
分解工程における加熱温度を表1に示す温度に変更する以外、実施例4と同じ分解性フィルムを実施例4と同様にして分解させた。
製造例1で調製したポリプロピレンカーボネートに替えて、アクリル系粘着剤(日本カーバイド工業株式会社製,製品名「PE-121」)を使用して、実施例1と同様にして積層体を製造した。具体的には、軽剥離型剥離シート/粘着剤層(20μm)/重剥離型剥離シートからなる積層体を製造した。
実施例および比較例の分解工程において、5分、10分、15分および20分の各時間加熱した後、放冷し、分解性フィルムおよび粘着剤層の厚さを測定した。厚さの測定は、JIS K7130:1999に準拠し、定圧厚さ測定器(株式会社テクロック製,製品名「PG-02」)を使用して行った。
膜厚減少率(%)={(照射工程前厚さ-測定厚さ)/照射工程前厚さ}×100
A…膜厚減少率が90%以上であった。
B…膜厚減少率が60%以上、90%未満であった。
C…膜厚減少率が10%以上、60%未満であった。
F…膜厚減少率が10%未満であった。
Claims (14)
- 脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有し、前記脂肪族ポリカーボネート以外の粘着性樹脂の含有量が10質量%以下である分解性フィルムを用意する工程と、
前記分解性フィルムの全面または平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、
前記分解性フィルムを加熱し、前記分解性フィルムの全面または平面視の一部を分解させる分解工程と
を備え、
前記酸・塩基発生剤が、エネルギー線照射により酸を発生する酸発生剤であり、
前記酸発生剤が、スルホニウム塩構造を有し、波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数が50M -1 cm -1 以上である
ことを特徴とする分解性フィルムの使用方法。 - 脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有し、前記脂肪族ポリカーボネート以外の粘着性樹脂の含有量が10質量%以下である分解性フィルムを用意する工程と、
前記分解性フィルムの全面または平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、
前記分解性フィルムを加熱し、前記分解性フィルムの全面または平面視の一部を分解させる分解工程と
を備え、
前記酸・塩基発生剤が、エネルギー線照射により塩基を発生する塩基発生剤であり、
前記塩基発生剤が、ビグアニド塩構造を有し、波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数が50M -1 cm -1 以上である
ことを特徴とする分解性フィルムの使用方法。 - 脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有する分解性フィルムを用意する工程と、
前記分解性フィルムの全面または平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、
前記分解性フィルムを30℃以上、120℃以下で加熱し、前記分解性フィルムの全面または平面視の一部を分解させる分解工程と
を備え、
前記酸・塩基発生剤が、エネルギー線照射により酸を発生する酸発生剤であり、
前記酸発生剤が、スルホニウム塩構造を有し、波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数が50M -1 cm -1 以上である
ことを特徴とする分解性フィルムの使用方法。 - 脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有する分解性フィルムを用意する工程と、
前記分解性フィルムの全面または平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、
前記分解性フィルムを30℃以上、120℃以下で加熱し、前記分解性フィルムの全面または平面視の一部を分解させる分解工程と
を備え、
前記酸・塩基発生剤が、エネルギー線照射により塩基を発生する塩基発生剤であり、
前記塩基発生剤が、ビグアニド塩構造を有し、波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数が50M -1 cm -1 以上である
ことを特徴とする分解性フィルムの使用方法。 - 前記照射工程において照射するエネルギー線が、150~400nmの少なくとも一部の波長のエネルギー線を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 前記照射工程において照射するエネルギー線の光量が、50mJ/cm2以上、1500mJ/cm2以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 前記分解工程における加熱時間が、1分以上、30分以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 前記分解性フィルムが、前記脂肪族ポリカーボネート100質量部に対し、前記酸・塩基発生剤を0.01質量部以上、10質量部以下で含有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 前記脂肪族ポリカーボネートが、下記一般式(1a)で表される構成単位を有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~8の直鎖状炭化水素基、炭素数3~8の脂環式炭化水素基、または炭素数6~8の芳香族炭化水素基を表す。) - 前記脂肪族ポリカーボネートのガラス転移温度が、-40℃以上、150℃以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 前記脂肪族ポリカーボネートの重量平均分子量が、2000以上、100万以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 前記分解性フィルムの厚さが、1μm以上、50μm以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の分解性フィルムの使用方法。
- 脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有する分解性フィルムを用意する工程と、
前記分解性フィルムの平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、
前記分解性フィルムを加熱し、前記分解性フィルムの平面視の一部を分解させる分解工程と
を備え、
前記酸・塩基発生剤が、エネルギー線照射により酸を発生する酸発生剤であり、
前記酸発生剤が、スルホニウム塩構造を有し、波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数が50M -1 cm -1 以上である
ことを特徴とするレジストパターンの作製方法。 - 脂肪族ポリカーボネート、およびエネルギー線照射により酸または塩基を発生する酸・塩基発生剤を含有する分解性フィルムを用意する工程と、
前記分解性フィルムの平面視の一部に対してエネルギー線を照射する照射工程と、
前記分解性フィルムを加熱し、前記分解性フィルムの平面視の一部を分解させる分解工程と
を備え、
前記酸・塩基発生剤が、エネルギー線照射により塩基を発生する塩基発生剤であり、
前記塩基発生剤が、ビグアニド塩構造を有し、波長365nmのエネルギー線に対するモル吸光係数が50M -1 cm -1 以上である
ことを特徴とするレジストパターンの作製方法。
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| US4663269A (en) * | 1985-08-07 | 1987-05-05 | Polytechnic Institute Of New York | Method of forming highly sensitive photoresist film in the absence of water |
| JPH06266104A (ja) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | パターン形成用組成物 |
| JP2013535562A (ja) * | 2010-08-06 | 2013-09-12 | プロメラス, エルエルシー | 立体特異性多環式2,3−ジオールモノマーから誘導される繰り返し単位を有するポリカーボネートを含む犠牲ポリマー組成物 |
| JP2019020736A (ja) * | 2018-08-27 | 2019-02-07 | 住友精化株式会社 | ポジ型フォトレジスト |
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- 2024-10-17 JP JP2025527107A patent/JP7745814B1/ja active Active
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4663269A (en) * | 1985-08-07 | 1987-05-05 | Polytechnic Institute Of New York | Method of forming highly sensitive photoresist film in the absence of water |
| JPH06266104A (ja) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | パターン形成用組成物 |
| JP2013535562A (ja) * | 2010-08-06 | 2013-09-12 | プロメラス, エルエルシー | 立体特異性多環式2,3−ジオールモノマーから誘導される繰り返し単位を有するポリカーボネートを含む犠牲ポリマー組成物 |
| JP2019020736A (ja) * | 2018-08-27 | 2019-02-07 | 住友精化株式会社 | ポジ型フォトレジスト |
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