JP7731397B2 - 蓄電デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
ここに開示される技術は、蓄電デバイスの製造方法に関する。
現在、リチウムイオン二次電池やニッケル水素電池等の蓄電デバイスは、車両や携帯端末等の様々な分野において広く使用されている。例えば、この種の蓄電デバイスは、電極体と電解液とをケースの内部に収容することによって構築される。この蓄電デバイスの製造では、まず、ケースの内部に電極体が収容された組立体を作製する。そして、電解液の注入前に組立体に対して乾燥処理を実施する。これによって、水分の混入による局所的な抵抗上昇を防止できる。
この電極体の乾燥処理に関する技術が特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の製造方法は、ケース内に電極体を収容された組立体を作製することと、組立体の外面を把持具で把持することと、把持された組立体を加熱して内部を乾燥させることとを包含する。そして、特許文献１に記載の製造方法では、上記把持において、電極体の矩形面の長辺方向の中心線を含む中央領域に、該中央領域を除く矩形面の他の領域よりも大きな拘束圧を付与する。これによって、１つの蓄電デバイスの内部における乾燥ムラを抑制できる。
ところで、近年の蓄電デバイスの製造現場では、乾燥炉の炉内に複数の組立体を収容し、同時に乾燥処理を実施することが行われている。これによって、蓄電デバイスの製造効率を向上することができる。しかし、このような乾燥炉は、炉内の温度分布に偏りが生じやすい。この場合、同時に乾燥した複数の組立体の間で乾燥ムラが生じるおそれがある。ここに開示される技術は、かかる問題を解決するためになされたものである。
ここに開示される蓄電デバイスの製造方法は、ケース内に電極体が収容された組立体を準備する準備工程と、複数の組立体を乾燥炉の炉内に収容し、ケースの内部を乾燥させる乾燥工程とを含む。そして、乾燥工程は、複数の組立体の各々に対して、以下の式（１）に基づいた乾燥係数Ｋの測定を実施する測定工程と、乾燥係数Ｋに基づいて、複数の組立体の各々の乾燥条件を個別に変更する条件変更工程とを含む。なお、式（１）中のＭｉは第１測定時間での組立体の重量（ｇ）であり、Ｍｃは第１測定時間から所定時間経過後の第２測定時間での前記組立体の重量（ｇ）である。
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
ここに開示される技術では、乾燥工程に供した複数の組立体の各々に対して乾燥係数Ｋを測定する。この乾燥係数Ｋは、乾燥中の組立体の単位時間あたりの重量減少割合（水分蒸発割合）である。この乾燥係数Ｋを測定することによって、各々の組立体における乾燥処理の進行度を把握できる。例えば、高温環境に配置された組立体は、急速に水分が蒸発して重量が大幅に減少するため乾燥係数Ｋが大きくなる。一方、低温環境に配置された組立体は、水分の蒸発が遅く重量が減少しにくいため乾燥係数Ｋが小さくなる。そして、ここに開示される製造方法では、この乾燥係数Ｋに基づいて各々の組立体の乾燥条件を個別に変更する。これによって、複数の組立体の乾燥処理の進行度を平準化できる。この結果、炉内の温度分布に偏りが生じるような乾燥炉を使用した場合でも、複数の組立体の間で乾燥ムラが生じることを防止できる。
以下、図面を参照しながら、ここで開示される技術のいくつかの好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって、ここに開示される技術の実施に必要な事柄（例えば、蓄電デバイスの構成、他の製造プロセスなど）は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。ここで開示される技術は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。
なお、本明細書で参照する図面中の符号Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒ、Ｕ、Ｄは、それぞれ、左、右、前、後、上、下を表すものとする。また、図面中の符号Ｘ、Ｙ、Ｚは、それぞれ、乾燥炉の幅方向、奥行方向、高さ方向を表すものとする。ただし、これらは、説明の便宜上、予め定めた方向に過ぎず、ここに開示される技術を限定するものではない。
また、本明細書における「蓄電デバイス」とは、電極体と電解液がケース内に収容された装置のことをいう。この蓄電デバイスでは、電解液を介して一対の電極（正極および負極）の間で電荷担体が移動することによって充放電反応が生じる。ここに開示される技術における蓄電デバイスは、リチウムイオン二次電池、ニッケル水素電池、ニッケルカドミウム電池等の二次電池の他に、リチウムイオンキャパシタ、電気二重層キャパシタ等のキャパシタなども包含する。また、本明細書における「組立体」とは、蓄電デバイスの製造において、電解液の注液を行う前の形態まで組み立てられた構造体のことをいう。換言すると、ここに開示される技術における「組立体」とは、ケース内に電解液が存在しておらず、ケースの一部（注液孔など）が開口した状態の蓄電デバイスである。
＜第１の実施形態＞
以下、図１～図８を参照しながら、ここに開示される製造方法の第１の実施形態について説明する。図１は、第１の実施形態に係る製造方法の乾燥工程で用いられる乾燥炉の内部構造を模式的に示す平面図である。図２は、図１中のＩＩ－ＩＩ断面図である。図３は、第１の実施形態に係る製造方法を示すフローチャートである。図４は、組立体を模式的に示す断面図である。図５は、第１の実施形態における乾燥工程を示すフローチャートである。図６～図８は、第１の実施形態における条件変更工程を説明する側面図である。なお、説明の便宜上、図１では、組立体Ａ１～Ａ４を点線で表し、組立体Ａ１～Ａ４よりも下方Ｄの構造を透過して記載している。同様に、図２では、組立体Ａ１～Ａ４よりも左側Ｌの構造を透過して記載している。
以下、図１～図８を参照しながら、ここに開示される製造方法の第１の実施形態について説明する。図１は、第１の実施形態に係る製造方法の乾燥工程で用いられる乾燥炉の内部構造を模式的に示す平面図である。図２は、図１中のＩＩ－ＩＩ断面図である。図３は、第１の実施形態に係る製造方法を示すフローチャートである。図４は、組立体を模式的に示す断面図である。図５は、第１の実施形態における乾燥工程を示すフローチャートである。図６～図８は、第１の実施形態における条件変更工程を説明する側面図である。なお、説明の便宜上、図１では、組立体Ａ１～Ａ４を点線で表し、組立体Ａ１～Ａ４よりも下方Ｄの構造を透過して記載している。同様に、図２では、組立体Ａ１～Ａ４よりも左側Ｌの構造を透過して記載している。
１．乾燥炉の構成
まず、本実施形態に係る製造方法に使用される乾燥炉について説明する。図１及び図２に示すように、この乾燥炉１００は、炉体１０と、ローラコンベア２０と、加熱装置３０と、位置変更装置４０と、重量測定手段５０と、制御装置６０とを備えている。
まず、本実施形態に係る製造方法に使用される乾燥炉について説明する。図１及び図２に示すように、この乾燥炉１００は、炉体１０と、ローラコンベア２０と、加熱装置３０と、位置変更装置４０と、重量測定手段５０と、制御装置６０とを備えている。
（１）炉体
図１及び図２に示すように、この乾燥炉１００の炉体１０は、トンネル状の炉体である。換言すると、この炉体１０は、奥行方向Ｙに沿って延びる内部空間（炉内１０ｉ）を有している。この炉内１０ｉには、複数個（図では４個）の組立体Ａ１～Ａ４を収容できる。また、炉体１０の後方Ｒｒ側の端部には搬入口１２が設けられている。この搬入口１２には、開閉可能な搬入シャッター１２ａが設けられている。一方、炉体１０の前方Ｆ側の端部には搬出口１４が設けられている。この搬出口１４には、搬出シャッター１４ａが取り付けられている。なお、詳しくは後述するが、この乾燥炉１００は、複数個の組立体Ａ１～Ａ４を収容した状態で、炉内１０ｉを密閉して乾燥処理を行うバッチ式の乾燥炉である。
図１及び図２に示すように、この乾燥炉１００の炉体１０は、トンネル状の炉体である。換言すると、この炉体１０は、奥行方向Ｙに沿って延びる内部空間（炉内１０ｉ）を有している。この炉内１０ｉには、複数個（図では４個）の組立体Ａ１～Ａ４を収容できる。また、炉体１０の後方Ｒｒ側の端部には搬入口１２が設けられている。この搬入口１２には、開閉可能な搬入シャッター１２ａが設けられている。一方、炉体１０の前方Ｆ側の端部には搬出口１４が設けられている。この搬出口１４には、搬出シャッター１４ａが取り付けられている。なお、詳しくは後述するが、この乾燥炉１００は、複数個の組立体Ａ１～Ａ４を収容した状態で、炉内１０ｉを密閉して乾燥処理を行うバッチ式の乾燥炉である。
（２）ローラコンベア
ローラコンベア２０は、後方Ｒｒから前方Ｆに向かって組立体Ａ１～Ａ４を搬送する装置である。図１に示すように、ローラコンベア２０は、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂとを有している。第１コンベア２０Ａは、炉内１０ｉの左側Ｌにおいて奥行方向Ｙに沿って延びている。一方、第２コンベア２０Ｂは、炉内１０ｉの右側Ｒにおいて奥行方向Ｙに沿って延びている。すなわち、ローラコンベア２０は、並行に延びる２つのコンベアを有している。また、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂとの間には所定の隙間Ｓ１が設けられている。そして、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂは、それぞれ、複数のローラ２２によって構成されている。図２に示すように、この複数のローラ２２は、高さ方向Ｚにおける位置が揃うように奥行方向Ｙに沿って連続的に配置されている。そして、各々のローラ２２の間には、所定の隙間Ｓ２が設けられている。この乾燥炉１００では、ローラコンベア２０（複数のローラ２２）の上に組立体Ａ１～Ａ４が載置される。そして、各々のローラ２２を回転させることによって、奥行方向Ｙの前方Ｆに向かって組立体Ａ１～Ａ４を搬送することができる。
ローラコンベア２０は、後方Ｒｒから前方Ｆに向かって組立体Ａ１～Ａ４を搬送する装置である。図１に示すように、ローラコンベア２０は、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂとを有している。第１コンベア２０Ａは、炉内１０ｉの左側Ｌにおいて奥行方向Ｙに沿って延びている。一方、第２コンベア２０Ｂは、炉内１０ｉの右側Ｒにおいて奥行方向Ｙに沿って延びている。すなわち、ローラコンベア２０は、並行に延びる２つのコンベアを有している。また、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂとの間には所定の隙間Ｓ１が設けられている。そして、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂは、それぞれ、複数のローラ２２によって構成されている。図２に示すように、この複数のローラ２２は、高さ方向Ｚにおける位置が揃うように奥行方向Ｙに沿って連続的に配置されている。そして、各々のローラ２２の間には、所定の隙間Ｓ２が設けられている。この乾燥炉１００では、ローラコンベア２０（複数のローラ２２）の上に組立体Ａ１～Ａ４が載置される。そして、各々のローラ２２を回転させることによって、奥行方向Ｙの前方Ｆに向かって組立体Ａ１～Ａ４を搬送することができる。
（３）加熱装置
加熱装置３０は、炉内１０ｉの組立体Ａ１～Ａ４を加熱する装置である。この乾燥炉１００は、側面加熱装置３２と、上面加熱装置３４と、底面加熱装置３６とを備えている。図１に示すように、この乾燥炉１００では、炉体１０の側壁（図１の左側Ｌの側壁）に４個の側面加熱装置３２が設けられている。各々の側面加熱装置３２は、ローラコンベア２０上の４個の組立体Ａ１～Ａ４の各々の側面と対向するように配置されている。また、各々の側面加熱装置３２は、側面ファン３２ａと、側面ヒータ３２ｂとを備えている。これによって、組立体Ａ１～Ａ４の側面に温風を供給できる。次に、図２に示すように、炉体１０の天井には、４個の上面加熱装置３４が設けられている。各々の上面加熱装置３４は、４個の組立体Ａ１～Ａ４の各々の上面と対向するように配置されている。また、各々の上面加熱装置３４は、上面ファン３４ａと、上面ヒータ３４ｂとを備えている。これによって、組立体Ａ１～Ａ４の上面に温風を供給できる。そして、炉体１０の底面には、底面加熱装置３６が設けられている。底面加熱装置３６は、組立体Ａ１～Ａ４を下方Ｄから加熱する底面ヒータ３６ａを備えている。なお、加熱装置は、炉内の組立体を加熱することができればよく、具体的な設置数や構成を適宜変更することができる。
加熱装置３０は、炉内１０ｉの組立体Ａ１～Ａ４を加熱する装置である。この乾燥炉１００は、側面加熱装置３２と、上面加熱装置３４と、底面加熱装置３６とを備えている。図１に示すように、この乾燥炉１００では、炉体１０の側壁（図１の左側Ｌの側壁）に４個の側面加熱装置３２が設けられている。各々の側面加熱装置３２は、ローラコンベア２０上の４個の組立体Ａ１～Ａ４の各々の側面と対向するように配置されている。また、各々の側面加熱装置３２は、側面ファン３２ａと、側面ヒータ３２ｂとを備えている。これによって、組立体Ａ１～Ａ４の側面に温風を供給できる。次に、図２に示すように、炉体１０の天井には、４個の上面加熱装置３４が設けられている。各々の上面加熱装置３４は、４個の組立体Ａ１～Ａ４の各々の上面と対向するように配置されている。また、各々の上面加熱装置３４は、上面ファン３４ａと、上面ヒータ３４ｂとを備えている。これによって、組立体Ａ１～Ａ４の上面に温風を供給できる。そして、炉体１０の底面には、底面加熱装置３６が設けられている。底面加熱装置３６は、組立体Ａ１～Ａ４を下方Ｄから加熱する底面ヒータ３６ａを備えている。なお、加熱装置は、炉内の組立体を加熱することができればよく、具体的な設置数や構成を適宜変更することができる。
（４）位置変更装置
位置変更装置４０は、炉内１０ｉにおける組立体Ａ１～Ａ４の配置位置を変更する装置である。詳しくは後述するが、本実施形態における位置変更装置４０は、ローラコンベア２０上の組立体Ａ１～Ａ４の載置位置を変更する。この位置変更装置４０は、第１軸４２と、第２軸４４と、第３軸４６と、駆動機構４８とを備えている。図２に示すように、第１軸４２は、駆動機構４８から高さ方向Ｚの上方Ｕに向かって延びる柱状の部材である。また、第２軸４４は、第１軸４２の上端から奥行方向Ｙの両側（前方Ｆおよび後方Ｒｒ）に向かって延びる棒状部材である。そして、図１に示すように、第３軸４６は、第２軸４４と交差するように幅方向Ｘに延びる複数の棒状部材である。そして、駆動機構４８は、第１軸４２を高さ方向Ｚに伸縮させることによって、第２軸４４と第３軸４６を昇降させる昇降機能を備えている。また、駆動機構４８は、第１軸４２を回転させることによって、第２軸４４と第３軸４６を回転させる回転機能も備えている。なお、図１に示すように、位置変更装置４０の第１軸４２と第２軸４４は、平面視において、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂとの間の隙間Ｓ１に配置されている。また、複数の第３軸４６の各々は、平面視において、複数のローラ２２の間の隙間Ｓ２に配置されている。これによって、第１軸４２と第２軸４４と第３軸４６とを昇降させた際に、ローラコンベア２０と干渉することを防止できる。なお、図１及び図２に示すように、本実施形態における乾燥炉１００は、２つの位置変更装置４０を備えている。具体的には、一方の位置変更装置４０は、奥行方向Ｙの後方Ｒｒに配置されている。この後方Ｒｒの位置変更装置４０は、組立体Ａ３、Ａ４の下方Ｄに位置する。また、他方の位置変更装置４０は、奥行方向Ｙの前方Ｆに配置されている。この前方Ｆの位置変更装置４０は、組立体Ａ１、Ａ２の下方Ｄに位置する。
位置変更装置４０は、炉内１０ｉにおける組立体Ａ１～Ａ４の配置位置を変更する装置である。詳しくは後述するが、本実施形態における位置変更装置４０は、ローラコンベア２０上の組立体Ａ１～Ａ４の載置位置を変更する。この位置変更装置４０は、第１軸４２と、第２軸４４と、第３軸４６と、駆動機構４８とを備えている。図２に示すように、第１軸４２は、駆動機構４８から高さ方向Ｚの上方Ｕに向かって延びる柱状の部材である。また、第２軸４４は、第１軸４２の上端から奥行方向Ｙの両側（前方Ｆおよび後方Ｒｒ）に向かって延びる棒状部材である。そして、図１に示すように、第３軸４６は、第２軸４４と交差するように幅方向Ｘに延びる複数の棒状部材である。そして、駆動機構４８は、第１軸４２を高さ方向Ｚに伸縮させることによって、第２軸４４と第３軸４６を昇降させる昇降機能を備えている。また、駆動機構４８は、第１軸４２を回転させることによって、第２軸４４と第３軸４６を回転させる回転機能も備えている。なお、図１に示すように、位置変更装置４０の第１軸４２と第２軸４４は、平面視において、第１コンベア２０Ａと第２コンベア２０Ｂとの間の隙間Ｓ１に配置されている。また、複数の第３軸４６の各々は、平面視において、複数のローラ２２の間の隙間Ｓ２に配置されている。これによって、第１軸４２と第２軸４４と第３軸４６とを昇降させた際に、ローラコンベア２０と干渉することを防止できる。なお、図１及び図２に示すように、本実施形態における乾燥炉１００は、２つの位置変更装置４０を備えている。具体的には、一方の位置変更装置４０は、奥行方向Ｙの後方Ｒｒに配置されている。この後方Ｒｒの位置変更装置４０は、組立体Ａ３、Ａ４の下方Ｄに位置する。また、他方の位置変更装置４０は、奥行方向Ｙの前方Ｆに配置されている。この前方Ｆの位置変更装置４０は、組立体Ａ１、Ａ２の下方Ｄに位置する。
（５）重量測定手段
重量測定手段５０は、乾燥処理中の組立体Ａ１～Ａ４の重量を個別に測定する。重量測定手段の具体的な構成は、特に限定されず、従来公知の測定機器を特に制限なく使用できる。例えば、図２に示す重量測定手段５０は、複数のローラ２２の一部に取り付けられたロードセルである。これによって、ローラコンベア２０上に載置された組立体Ａ１～Ａ４の重量を測定できる。詳しくは後述するが、この組立体Ａ１～Ａ４の重量は、乾燥係数Ｋの算出に用いられる。なお、重量測定手段の数や位置は、複数の組立体の各々の重量を個別に測定できれば特に限定されない。例えば、１つの組立体を支持する複数のローラの各々に重量測定手段を取り付けて平均値等を算出してもよい。これによって、各々の組立体の重量をより正確に測定できる。
重量測定手段５０は、乾燥処理中の組立体Ａ１～Ａ４の重量を個別に測定する。重量測定手段の具体的な構成は、特に限定されず、従来公知の測定機器を特に制限なく使用できる。例えば、図２に示す重量測定手段５０は、複数のローラ２２の一部に取り付けられたロードセルである。これによって、ローラコンベア２０上に載置された組立体Ａ１～Ａ４の重量を測定できる。詳しくは後述するが、この組立体Ａ１～Ａ４の重量は、乾燥係数Ｋの算出に用いられる。なお、重量測定手段の数や位置は、複数の組立体の各々の重量を個別に測定できれば特に限定されない。例えば、１つの組立体を支持する複数のローラの各々に重量測定手段を取り付けて平均値等を算出してもよい。これによって、各々の組立体の重量をより正確に測定できる。
（６）制御装置
制御装置６０は、乾燥炉１００の動作を制御する装置である。この制御装置６０は、各種のデータの記憶と演算が可能なマイクロコンピュータである。図示は省略するが、この制御装置６０は、乾燥炉１００を構成する各機器（ローラコンベア２０、加熱装置３０など）と接続されている。そして、制御装置６０は、各機器の動作を制御することによって組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理を実施する。また、制御装置６０は、重量測定手段５０と接続されている。そして、本実施形態における制御装置６０には、重量測定手段５０の測定結果に基づいて複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々の乾燥条件を個別に変更する制御プログラムが記憶されている。以下、かかる制御プログラムに基づいて実行される蓄電デバイスの製造方法について説明する。
制御装置６０は、乾燥炉１００の動作を制御する装置である。この制御装置６０は、各種のデータの記憶と演算が可能なマイクロコンピュータである。図示は省略するが、この制御装置６０は、乾燥炉１００を構成する各機器（ローラコンベア２０、加熱装置３０など）と接続されている。そして、制御装置６０は、各機器の動作を制御することによって組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理を実施する。また、制御装置６０は、重量測定手段５０と接続されている。そして、本実施形態における制御装置６０には、重量測定手段５０の測定結果に基づいて複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々の乾燥条件を個別に変更する制御プログラムが記憶されている。以下、かかる制御プログラムに基づいて実行される蓄電デバイスの製造方法について説明する。
２．蓄電デバイスの製造方法
図３に示すように、本実施形態に係る蓄電デバイスの製造方法は、準備工程Ｓ１０と乾燥工程Ｓ２０を備えている。
図３に示すように、本実施形態に係る蓄電デバイスの製造方法は、準備工程Ｓ１０と乾燥工程Ｓ２０を備えている。
（１）準備工程Ｓ１０
準備工程Ｓ１０では、ケース１内に電極体２が収容された組立体Ａ１～Ａ４（図４参照）を準備する。この組立体Ａ１～Ａ４のケース１には、注液孔３が形成されている。注液孔３は、ケース１内に電解液を注液する際に使用する開口部である。このため、注液工程を実施する前の組立体Ａ１～Ａ４では、注液孔３を介してケース１の内外が連通している。なお、本工程は、組立体Ａ１～Ａ４を準備することができればよく、特定の手順に限定されるものではない。例えば、準備工程Ｓ１０は、従来公知の手順に従って組立体Ａ１～Ａ４を作製してもよいし、予め作製された電池組立体Ａ１～Ａ４を用意してもよい。
準備工程Ｓ１０では、ケース１内に電極体２が収容された組立体Ａ１～Ａ４（図４参照）を準備する。この組立体Ａ１～Ａ４のケース１には、注液孔３が形成されている。注液孔３は、ケース１内に電解液を注液する際に使用する開口部である。このため、注液工程を実施する前の組立体Ａ１～Ａ４では、注液孔３を介してケース１の内外が連通している。なお、本工程は、組立体Ａ１～Ａ４を準備することができればよく、特定の手順に限定されるものではない。例えば、準備工程Ｓ１０は、従来公知の手順に従って組立体Ａ１～Ａ４を作製してもよいし、予め作製された電池組立体Ａ１～Ａ４を用意してもよい。
（２）乾燥工程Ｓ２０
乾燥工程Ｓ２０では、複数の組立体Ａ１～Ａ４を乾燥炉１００の内部に収容し、ケース１の内部を乾燥させる。ここで、図５に示すように、本実施形態における乾燥工程Ｓ２０は、乾燥開始工程Ｓ２１と、測定工程Ｓ２２と、差分算出工程Ｓ２３と、差分判定工程Ｓ２４と、条件変更工程Ｓ２５とを備えている。以下、各工程について説明する。
乾燥工程Ｓ２０では、複数の組立体Ａ１～Ａ４を乾燥炉１００の内部に収容し、ケース１の内部を乾燥させる。ここで、図５に示すように、本実施形態における乾燥工程Ｓ２０は、乾燥開始工程Ｓ２１と、測定工程Ｓ２２と、差分算出工程Ｓ２３と、差分判定工程Ｓ２４と、条件変更工程Ｓ２５とを備えている。以下、各工程について説明する。
（２－１）乾燥開始工程Ｓ２１
本工程では、複数の組立体Ａ１～Ａ４を炉内１０ｉに収容して乾燥処理を開始する。具体的には、搬入シャッター１２ａを開いて搬入口１２を開放する。次に、ローラコンベア２０を稼働させる。そして、稼働中のローラコンベア２０の上に４個の組立体Ａ１～Ａ４を順次載置する。これによって、組立体Ａ１～Ａ４が炉内１０ｉに搬入される。そして、最初に搬入した組立体Ａ１が炉内１０ｉの前方Ｆ側の端部（搬出口１４の手前）に到達した時点でローラコンベア２０を停止する。これによって、４個の組立体Ａ１～Ａ４を炉内１０ｉに収容できる。次に、搬入シャッター１２ａを閉じて炉内１０ｉを密閉した後に加熱装置３０を稼働させる。これによって、組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理が開始される。
本工程では、複数の組立体Ａ１～Ａ４を炉内１０ｉに収容して乾燥処理を開始する。具体的には、搬入シャッター１２ａを開いて搬入口１２を開放する。次に、ローラコンベア２０を稼働させる。そして、稼働中のローラコンベア２０の上に４個の組立体Ａ１～Ａ４を順次載置する。これによって、組立体Ａ１～Ａ４が炉内１０ｉに搬入される。そして、最初に搬入した組立体Ａ１が炉内１０ｉの前方Ｆ側の端部（搬出口１４の手前）に到達した時点でローラコンベア２０を停止する。これによって、４個の組立体Ａ１～Ａ４を炉内１０ｉに収容できる。次に、搬入シャッター１２ａを閉じて炉内１０ｉを密閉した後に加熱装置３０を稼働させる。これによって、組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理が開始される。
（２－２）測定工程Ｓ２２
本工程では、複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々に対して、以下の式（１）に基づいた乾燥係数Ｋの測定を実施する。ここで、下記式（１）中の「Ｍｉ」は、第１測定時間での組立体Ａ１～Ａ４の重量（ｇ）である。また、「Ｍｃ」は、第１測定時間から所定時間経過後の第２測定時間での組立体の重量（ｇ）である。
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
本工程では、複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々に対して、以下の式（１）に基づいた乾燥係数Ｋの測定を実施する。ここで、下記式（１）中の「Ｍｉ」は、第１測定時間での組立体Ａ１～Ａ４の重量（ｇ）である。また、「Ｍｃ」は、第１測定時間から所定時間経過後の第２測定時間での組立体の重量（ｇ）である。
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
具体的には、図２中の制御装置６０には、重量測定手段５０から、組立体Ａ１～Ａ４の現在の重量が逐次送信されている。制御装置６０は、所定の第１測定時間における組立体Ａ１～Ａ４の各々の重量Ｍｉ１～Ｍｉ４を記憶する。そして、一定時間経過後に、制御装置６０は、第２測定時間における組立体Ａ１～Ａ４の各々の重量Ｍｃ１～Ｍｃ４を取得する。次に、制御装置６０は、第１測定時間における組立体Ａ１の重量Ｍｉ１と、第２測定時間における組立体Ａ１の重量Ｍｃ１を上記式（１）に代入する。これによって、組立体Ａ１の乾燥係数Ｋ１を算出することができる。制御装置６０は、同様の手順に従って、他の組立体Ａ２～Ａ４の乾燥係数Ｋ２～Ｋ４も算出する。ここで、上記乾燥係数Ｋ１～Ｋ４は、第１測定時間から第２測定時間の間の組立体Ａ１～Ａ４の各々における水分蒸発割合を示している。例えば、高温環境に配置された組立体は、急速に水分が蒸発するため乾燥係数Ｋが大きくなる。一方、低温環境に配置された組立体は、水分が蒸発しにくいため乾燥係数Ｋが小さくなる。すなわち、本工程を実施することによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々における乾燥処理の進行度を検出できる。
なお、本工程における第１測定時間および第２測定時間は、任意のタイミングに設定できる。例えば、第１測定時間には、乾燥開始工程Ｓ２１を実施した時間を設定できる。また、第２測定時間は、第１測定時間から６０分間～１８０分間（例えば１２０分間）が経過した時間に設定するとよい。また、本工程では、複数の第２測定時間を設定してもよい。例えば、第１測定時間から所定時間（例えば１２０分間）が経過する度に、第２測定時間における組立体A１～Ａ４の重量Ｍｃ１～Ｍｃ４を取得してもよい。
（２－３）差分算出工程Ｓ２３
本工程では、測定工程Ｓ２２で測定した複数の乾燥係数Ｋ１～Ｋ４の最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する。具体的には、制御装置６０は、最初に、組立体Ａ１～Ａ４の各々の乾燥係数Ｋ１～Ｋ４を比較し、最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎを選出する。次に、制御装置６０は、最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する。この差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）は、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度のばらつきを示す指標となる。具体的には、上記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が小さい場合には、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で水分蒸発割合に大きな差が生じていない。このことに基づいて、乾燥処理が均一に進行していると判断できる。一方、上記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が大きくなった場合、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で水分蒸発割合に大きな差が生じている。このことから、乾燥処理の進行度にばらつきが生じていると判断できる。
本工程では、測定工程Ｓ２２で測定した複数の乾燥係数Ｋ１～Ｋ４の最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する。具体的には、制御装置６０は、最初に、組立体Ａ１～Ａ４の各々の乾燥係数Ｋ１～Ｋ４を比較し、最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎを選出する。次に、制御装置６０は、最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する。この差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）は、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度のばらつきを示す指標となる。具体的には、上記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が小さい場合には、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で水分蒸発割合に大きな差が生じていない。このことに基づいて、乾燥処理が均一に進行していると判断できる。一方、上記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が大きくなった場合、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で水分蒸発割合に大きな差が生じている。このことから、乾燥処理の進行度にばらつきが生じていると判断できる。
（２－４）差分判定工程Ｓ２４
差分判定工程Ｓ２４では、予め定めた閾値ＫＤと上記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）とを比較し、差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が閾値ＫＤを超えた際に条件変更工程Ｓ２５を開始させる。具体的には、制御装置６０は、差分算出工程Ｓ２３で算出した差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を閾値ＫＤと比較する。そして、上記差分が閾値を超えた場合（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ＞ＫＤ）には、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で乾燥処理の進行度にばらつきが生じていると解される。この場合、制御装置６０は、上記乾燥度合いのばらつきを修正するために、処理を条件変更工程Ｓ２５に進める（Ｓ２４のＹｅｓ）。一方、上記差分が閾値以下であった場合（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ≦ＫＤ）には、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度が略均一であると解される。この場合、制御装置６０は、現状の乾燥条件を維持して処理を測定工程Ｓ２２に戻す（Ｓ２４のＮｏ）。このように、差分判定工程Ｓ２４を実施することによって、適切なタイミングで条件変更工程Ｓ２５を開始できる。
差分判定工程Ｓ２４では、予め定めた閾値ＫＤと上記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）とを比較し、差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が閾値ＫＤを超えた際に条件変更工程Ｓ２５を開始させる。具体的には、制御装置６０は、差分算出工程Ｓ２３で算出した差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を閾値ＫＤと比較する。そして、上記差分が閾値を超えた場合（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ＞ＫＤ）には、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で乾燥処理の進行度にばらつきが生じていると解される。この場合、制御装置６０は、上記乾燥度合いのばらつきを修正するために、処理を条件変更工程Ｓ２５に進める（Ｓ２４のＹｅｓ）。一方、上記差分が閾値以下であった場合（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ≦ＫＤ）には、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度が略均一であると解される。この場合、制御装置６０は、現状の乾燥条件を維持して処理を測定工程Ｓ２２に戻す（Ｓ２４のＮｏ）。このように、差分判定工程Ｓ２４を実施することによって、適切なタイミングで条件変更工程Ｓ２５を開始できる。
（２－５）条件変更工程Ｓ２５
本工程では、乾燥係数Ｋに基づいて、複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々の乾燥条件を個別に変更する。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できる。この結果、炉内１０ｉの温度分布に偏りが生じた場合でも、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で乾燥ムラが生じることを防止できる。
本工程では、乾燥係数Ｋに基づいて、複数の組立体Ａ１～Ａ４の各々の乾燥条件を個別に変更する。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できる。この結果、炉内１０ｉの温度分布に偏りが生じた場合でも、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で乾燥ムラが生じることを防止できる。
なお、組立体Ａ１～Ａ４の乾燥条件を変更する具体的な手段は、特に限定されず、種々の手段を採用できる。例えば、本実施形態に係る製造方法では、乾燥係数Ｋ１～Ｋ４に基づいて、乾燥炉１００の内部における組立体Ａ１～Ａ４の配置位置を変更する。具体的には、図１に示すようなトンネル状の炉体１０では、搬入口１２や搬出口１４の近傍（奥行方向Ｙにおける両外側の領域）における乾燥温度が相対的に低くなる傾向がある。この結果、奥行方向Ｙの両外側に配置された組立体Ａ１、Ａ４の乾燥係数Ｋ１、Ｋ４が相対的に低くなり、奥行方向Ｙの中央部に配置された組立体Ａ２、Ａ３の乾燥係数Ｋ２、Ｋ３が相対的に高くなる。これに対して、本実施形態における条件変更工程Ｓ２５では、位置変更装置４０を用いて、中央部の組立体Ａ２、Ａ３と、両外側の組立体Ａ１、Ａ４との位置を入れ替える。以下、位置変更装置４０を用いた位置変更の詳細を、搬出口１４側に配置された組立体Ａ１、Ａ２を例に挙げて説明する。
まず、図６に示すように、通常の位置変更装置４０では、ローラコンベア２０よりも下方Ｄに第２軸４４と第３軸４６が位置している。一方で、条件変更工程Ｓ２５を開始すると、制御装置６０は、位置変更装置４０の駆動機構４８の昇降機能を稼働させて第１軸４２を上方Ｕに伸長させる（図７参照）。これによって、第２軸４４と第３軸４６は、ローラコンベア２０よりも上方Ｕに上昇し、組立体Ａ１、Ａ２を持ち上げる。次に、制御装置６０は、駆動機構４８の回転機能を稼働させて第１軸４２を１８０°回転させる（図８参照）。これによって、奥行方向Ｙにおける組立体Ａ１と組立体Ａ２の配置位置が入れ替わる。そして、制御装置６０は、第２軸４４と第３軸４６を下降させる。これによって、ローラコンベア２０上に組立体Ａ１、Ａ２が再び載置される。以上の通り、本実施形態における位置変更装置４０によると、相対的に低温の領域（奥行方向Ｙの外側）に配置されていた組立体Ａ１と、相対的に高温の領域（奥行方向Ｙの中央側）に配置されていた組立体Ａ２とを入れ替えることができる。この状態で乾燥処理を継続することによって、組立体Ａ１と組立体Ａ２の乾燥処理の進行度を平準化できる。
そして、本実施形態における制御装置６０には、乾燥工程Ｓ２０を実施する時間（乾燥時間）が予め定められている。制御装置６０は、この乾燥時間が経過するまで、上述した測定工程Ｓ２２～条件変更工程Ｓ２５を繰り返し実施する。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥度を適宜平準化しながら乾燥処理を実施できる。この結果、乾燥工程Ｓ２０後の組立体Ａ１～Ａ４の間で乾燥ムラが生じることをより好適に防止できる。そして、乾燥時間が経過すると、制御装置６０は、搬出シャッター１４ａを開放し、ローラコンベア２０を稼働させる。これによって、乾燥済みの組立体Ａ１～Ａ４を炉体１０の外部に搬出できる。
以上の通り、本実施形態に係る製造方法では、乾燥係数Ｋ１～Ｋ４を測定することによって、各々の組立体Ａ１～Ａ４における乾燥処理の進行度を把握する。そして、この乾燥係数Ｋ１～Ｋ４に基づいて組立体Ａ１～Ａ４の乾燥条件（ここでは設置位置）を個別に変更する。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できるため、炉内１０ｉの温度分布に偏りが生じる炉体１０を使用した場合でも、複数の組立体Ａ１～Ａ４の間で乾燥ムラが生じることを防止できる。
＜他の実施形態＞
以上、ここに開示される技術の一実施形態について説明した。なお、ここに開示される技術は、上記した実施形態に限定されるものではなく、種々の構成を変更した他の実施形態を包含する。以下、ここに開示される技術の他の実施形態について説明する。
以上、ここに開示される技術の一実施形態について説明した。なお、ここに開示される技術は、上記した実施形態に限定されるものではなく、種々の構成を変更した他の実施形態を包含する。以下、ここに開示される技術の他の実施形態について説明する。
１．乾燥条件の変更手段
上記した通り、条件変更工程における乾燥条件を変更する手段は、特に限定されず、種々の手段を採用できる。以下、乾燥条件の変更手段の他の例について説明する。
上記した通り、条件変更工程における乾燥条件を変更する手段は、特に限定されず、種々の手段を採用できる。以下、乾燥条件の変更手段の他の例について説明する。
（１）レールの敷設
例えば、第１の実施形態における乾燥炉１００は、２つの位置変更装置４０を用いて、組立体Ａ１～Ａ４の設置位置を変更している。しかし、位置変更装置４０の数は、特に限定されない。例えば、図９に示す第２の実施形態における乾燥炉１００Ａでは、炉内１０ｉの底面に奥行方向Ｙに沿って延びるレール７０を敷設されている。そして、この乾燥炉１００Ａでは、１つの位置変更装置４０がレール７０に摺動可能に取り付けられている。かかる構成によると、位置変更装置４０の数が１つの場合でも、全ての組立体Ａ１～Ａ４の位置を変更できる。特に、図９に示す構成によると、奥行方向Ｙの中央部に配置された組立体Ａ２、Ａ３の位置を入れ替えることもできる。この結果、奥行方向Ｙの中央部における僅かな乾燥ムラも好適に防止することができる。
例えば、第１の実施形態における乾燥炉１００は、２つの位置変更装置４０を用いて、組立体Ａ１～Ａ４の設置位置を変更している。しかし、位置変更装置４０の数は、特に限定されない。例えば、図９に示す第２の実施形態における乾燥炉１００Ａでは、炉内１０ｉの底面に奥行方向Ｙに沿って延びるレール７０を敷設されている。そして、この乾燥炉１００Ａでは、１つの位置変更装置４０がレール７０に摺動可能に取り付けられている。かかる構成によると、位置変更装置４０の数が１つの場合でも、全ての組立体Ａ１～Ａ４の位置を変更できる。特に、図９に示す構成によると、奥行方向Ｙの中央部に配置された組立体Ａ２、Ａ３の位置を入れ替えることもできる。この結果、奥行方向Ｙの中央部における僅かな乾燥ムラも好適に防止することができる。
（２）ヒータの制御
また、上述した第１及び第２の実施形態では、組立体Ａ１～Ａ４の配置位置を変更することによって乾燥条件を変更している。しかし、組立体の乾燥条件は、別の手段で変更することもできる。例えば、図１０に示すように、第３の実施形態における乾燥炉１００Ｂは、位置変更装置を備えていない。一方で、この乾燥炉１００Ｂは、組立体Ａ１～Ａ４の各々を加熱する複数のヒータ（側面ヒータ３２ｂ、上面ヒータ３４ｂ、底面ヒータ３６ａ）を備えている。かかる構成の乾燥炉１００Ｂを用いた場合の条件変更工程では、乾燥係数Ｋに基づいて、複数のヒータの各々の温度を個別に変更するとよい。具体的には、第３の実施形態における条件変更工程では、乾燥係数Ｋが小さい組立体に近接したヒータの温度を上昇させると共に、乾燥係数Ｋが大きい組立体に近接したヒータの温度を低下させる。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できる。
また、上述した第１及び第２の実施形態では、組立体Ａ１～Ａ４の配置位置を変更することによって乾燥条件を変更している。しかし、組立体の乾燥条件は、別の手段で変更することもできる。例えば、図１０に示すように、第３の実施形態における乾燥炉１００Ｂは、位置変更装置を備えていない。一方で、この乾燥炉１００Ｂは、組立体Ａ１～Ａ４の各々を加熱する複数のヒータ（側面ヒータ３２ｂ、上面ヒータ３４ｂ、底面ヒータ３６ａ）を備えている。かかる構成の乾燥炉１００Ｂを用いた場合の条件変更工程では、乾燥係数Ｋに基づいて、複数のヒータの各々の温度を個別に変更するとよい。具体的には、第３の実施形態における条件変更工程では、乾燥係数Ｋが小さい組立体に近接したヒータの温度を上昇させると共に、乾燥係数Ｋが大きい組立体に近接したヒータの温度を低下させる。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できる。
（３）ファンの制御
また、図１０に示す乾燥炉１００は、組立体Ａ１～Ａ４の各々に温風を供給する複数のファン（側面ファン３２ａ、上面ファン３４ａ）も備えている。この場合の条件変更工程では、乾燥係数Ｋに基づいて、複数のファンの各々の風量を個別に変更してもよい。具体的には、この条件変更工程では、乾燥係数Ｋが小さい組立体に近接したファンの風量を増加させると共に、乾燥係数Ｋが大きい組立体に近接したファンの風量を減少させる。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できる。なお、ここに開示される製造方法の条件変更工程は、上述した組立体の位置変更、ヒータの制御およびファンの制御の各々を組み合わせて実施することもできる。
また、図１０に示す乾燥炉１００は、組立体Ａ１～Ａ４の各々に温風を供給する複数のファン（側面ファン３２ａ、上面ファン３４ａ）も備えている。この場合の条件変更工程では、乾燥係数Ｋに基づいて、複数のファンの各々の風量を個別に変更してもよい。具体的には、この条件変更工程では、乾燥係数Ｋが小さい組立体に近接したファンの風量を増加させると共に、乾燥係数Ｋが大きい組立体に近接したファンの風量を減少させる。これによって、複数の組立体Ａ１～Ａ４の乾燥処理の進行度を平準化できる。なお、ここに開示される製造方法の条件変更工程は、上述した組立体の位置変更、ヒータの制御およびファンの制御の各々を組み合わせて実施することもできる。
２．乾燥工程の手順
図５に示すように、第１の実施形態における乾燥工程Ｓ２０は、差分算出工程Ｓ２３と差分判定工程Ｓ２４とを備えている。換言すると、第１の実施形態に係る製造方法は、乾燥係数Ｋの最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）に基づいて、条件変更工程Ｓ２５を開始するタイミングを決定している。しかしながら、条件変更工程Ｓ２５の開始条件は、ここに開示される技術を限定するものではない。例えば、ここに開示される製造方法は、予め設定した条件変更時間に至った際に条件変更工程を開始するタイマー制御を実施してもよい。予備実験を実施し、複数の組立体の間で乾燥処理の進行度にばらつきが生じ始める時間を調べれば、タイマー制御を採用した場合でも条件変更工程を適切なタイミングで開始できる。また、条件変更工程を開始するタイミングは、制御装置でなく、作業者が決定してもよい。この場合には、乾燥炉にディスプレイを設け、各々の組立体の乾燥係数Ｋをディスプレイに表示するとよい。これによって、作業者は、適切なタイミングで条件変更工程の開始を指示することができる。
図５に示すように、第１の実施形態における乾燥工程Ｓ２０は、差分算出工程Ｓ２３と差分判定工程Ｓ２４とを備えている。換言すると、第１の実施形態に係る製造方法は、乾燥係数Ｋの最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）に基づいて、条件変更工程Ｓ２５を開始するタイミングを決定している。しかしながら、条件変更工程Ｓ２５の開始条件は、ここに開示される技術を限定するものではない。例えば、ここに開示される製造方法は、予め設定した条件変更時間に至った際に条件変更工程を開始するタイマー制御を実施してもよい。予備実験を実施し、複数の組立体の間で乾燥処理の進行度にばらつきが生じ始める時間を調べれば、タイマー制御を採用した場合でも条件変更工程を適切なタイミングで開始できる。また、条件変更工程を開始するタイミングは、制御装置でなく、作業者が決定してもよい。この場合には、乾燥炉にディスプレイを設け、各々の組立体の乾燥係数Ｋをディスプレイに表示するとよい。これによって、作業者は、適切なタイミングで条件変更工程の開始を指示することができる。
３．炉体の規模
また、上述の実施形態では、炉内１０ｉに収容可能な組立体Ａ１～Ａ４の個数が４個である。しかし、ここに開示される製造方法は、複数（２個以上）の組立体を収容できる乾燥炉に特に制限なく適用できる。なお、組立体の収容数が増加するにつれて炉体が大型化するため、温度分布に偏りによる乾燥ムラが生じやすくなる傾向がある。これに対して、ここに開示される製造方法によると、大型の炉体を使用した場合でも乾燥ムラの発生を適切に防止できる。このため、ここに開示される製造方法は、組立体の収容数が６個以上（より好適には８個以上、特に好適には１０個以上）という大型の乾燥炉に特に好適に適用できる。また、組立体の収容数の上限は、特に限定されず、２０個以下でもよく、１６個以下でもよい。また、上記実施形態のように、組立体の収容数は、６個以下（例えば４個）にしてもよい。
また、上述の実施形態では、炉内１０ｉに収容可能な組立体Ａ１～Ａ４の個数が４個である。しかし、ここに開示される製造方法は、複数（２個以上）の組立体を収容できる乾燥炉に特に制限なく適用できる。なお、組立体の収容数が増加するにつれて炉体が大型化するため、温度分布に偏りによる乾燥ムラが生じやすくなる傾向がある。これに対して、ここに開示される製造方法によると、大型の炉体を使用した場合でも乾燥ムラの発生を適切に防止できる。このため、ここに開示される製造方法は、組立体の収容数が６個以上（より好適には８個以上、特に好適には１０個以上）という大型の乾燥炉に特に好適に適用できる。また、組立体の収容数の上限は、特に限定されず、２０個以下でもよく、１６個以下でもよい。また、上記実施形態のように、組立体の収容数は、６個以下（例えば４個）にしてもよい。
４．炉体の構造
また、上述した乾燥炉１００、１００Ａ、１００Ｂは、トンネル状の炉体１０を有しており、乾燥処理中の組立体Ａ１～Ａ４をローラコンベア２０上に載置している。しかし、炉体の形状や組立体の収容場所は、ここに開示される製造方法を限定するものではない。例えば、乾燥炉は、複数段の仕切り板を有する収容棚と、当該収容棚が設置された箱状の炉体とを備えていてもよい。かかる構成の乾燥炉では、収容棚の仕切り板の上に組立体を設置することによって、複数の組立体の乾燥を同時に実施することができる。このとき、収容棚の仕切り板の各々に重量測定手段を取り付けることによって、各々の組立体の乾燥係数Ｋを測定できる。そして、ロボットアームなどを用いて、組立体が設置される段を入れ替えることによって、複数の組立体の乾燥処理の進行度を平準化できる。
また、上述した乾燥炉１００、１００Ａ、１００Ｂは、トンネル状の炉体１０を有しており、乾燥処理中の組立体Ａ１～Ａ４をローラコンベア２０上に載置している。しかし、炉体の形状や組立体の収容場所は、ここに開示される製造方法を限定するものではない。例えば、乾燥炉は、複数段の仕切り板を有する収容棚と、当該収容棚が設置された箱状の炉体とを備えていてもよい。かかる構成の乾燥炉では、収容棚の仕切り板の上に組立体を設置することによって、複数の組立体の乾燥を同時に実施することができる。このとき、収容棚の仕切り板の各々に重量測定手段を取り付けることによって、各々の組立体の乾燥係数Ｋを測定できる。そして、ロボットアームなどを用いて、組立体が設置される段を入れ替えることによって、複数の組立体の乾燥処理の進行度を平準化できる。
以上、ここに開示される技術を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。すなわち、ここに開示される技術は、以下の項目１～項目６に記載の形態を包含する。
＜項目１＞
ケース内に電極体が収容された組立体を準備する準備工程と、
複数の前記組立体を乾燥炉の炉内に収容し、前記ケースの内部を乾燥させる乾燥工程と
を含み、
前記乾燥工程は、
複数の前記組立体の各々に対して、以下の式（１）に基づいた乾燥係数Ｋの測定を実施する測定工程と、
前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記組立体の各々の乾燥条件を個別に変更する条件変更工程と
を含む、蓄電デバイスの製造方法。
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
なお、上記式（１）中のＭｉは第１測定時間での前記組立体の重量（ｇ）であり、Ｍｃは前記第１測定時間から所定時間経過後の第２測定時間での前記組立体の重量（ｇ）である。
ケース内に電極体が収容された組立体を準備する準備工程と、
複数の前記組立体を乾燥炉の炉内に収容し、前記ケースの内部を乾燥させる乾燥工程と
を含み、
前記乾燥工程は、
複数の前記組立体の各々に対して、以下の式（１）に基づいた乾燥係数Ｋの測定を実施する測定工程と、
前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記組立体の各々の乾燥条件を個別に変更する条件変更工程と
を含む、蓄電デバイスの製造方法。
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
なお、上記式（１）中のＭｉは第１測定時間での前記組立体の重量（ｇ）であり、Ｍｃは前記第１測定時間から所定時間経過後の第２測定時間での前記組立体の重量（ｇ）である。
＜項目２＞
前記乾燥工程は、
前記測定工程で測定した複数の前記乾燥係数Ｋの最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する差分算出工程と、
予め定めた閾値ＫＤと前記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）とを比較し、前記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が前記閾値ＫＤを超えた際に前記条件変更工程を開始する差分判定工程と
をさらに備える、項目１に記載の蓄電デバイスの製造方法。
前記乾燥工程は、
前記測定工程で測定した複数の前記乾燥係数Ｋの最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する差分算出工程と、
予め定めた閾値ＫＤと前記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）とを比較し、前記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が前記閾値ＫＤを超えた際に前記条件変更工程を開始する差分判定工程と
をさらに備える、項目１に記載の蓄電デバイスの製造方法。
＜項目３＞
予め設定した条件変更時間に至った際に前記条件変更工程を開始する、項目１に記載の蓄電デバイスの製造方法。
予め設定した条件変更時間に至った際に前記条件変更工程を開始する、項目１に記載の蓄電デバイスの製造方法。
＜項目４＞
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、前記炉内における前記組立体の配置位置を変更する、項目１～３のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、前記炉内における前記組立体の配置位置を変更する、項目１～３のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
＜項目５＞
前記乾燥炉は、前記組立体の各々を加熱する複数のヒータを備えており、
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記ヒータの各々の温度を個別に変更する、項目１～４のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
前記乾燥炉は、前記組立体の各々を加熱する複数のヒータを備えており、
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記ヒータの各々の温度を個別に変更する、項目１～４のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
＜項目６＞
前記乾燥炉は、前記組立体の各々に温風を供給する複数のファンを備えており、
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記ファンの各々の風量を個別に変更する、項目１～５のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
前記乾燥炉は、前記組立体の各々に温風を供給する複数のファンを備えており、
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記ファンの各々の風量を個別に変更する、項目１～５のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
１０ ：炉体
２０ ：ローラコンベア
３０ ：加熱装置
４０ ：位置変更装置
５０ ：重量測定手段
６０ ：制御装置
７０ ：レール
１００ ：乾燥炉
Ａ１～Ａ４：組立体
２０ ：ローラコンベア
３０ ：加熱装置
４０ ：位置変更装置
５０ ：重量測定手段
６０ ：制御装置
７０ ：レール
１００ ：乾燥炉
Ａ１～Ａ４：組立体
Claims (6)
- ケース内に電極体が収容された組立体を準備する準備工程と、
複数の前記組立体を乾燥炉の炉内に収容し、前記ケースの内部を乾燥させる乾燥工程と
を含み、
前記乾燥工程は、
複数の前記組立体の各々に対して、以下の式（１）に基づいた乾燥係数Ｋの測定を実施する測定工程と、
前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記組立体の各々の乾燥条件を個別に変更する条件変更工程と
を含む、蓄電デバイスの製造方法。
Ｋ＝（Ｍｉ－Ｍｃ）／Ｍｉ （１）
なお、上記式（１）中のＭｉは第１測定時間での前記組立体の重量（ｇ）であり、Ｍｃは前記第１測定時間から所定時間経過後の第２測定時間での前記組立体の重量（ｇ）である。 - 前記乾燥工程は、
前記測定工程で測定した複数の前記乾燥係数Ｋの最大値Ｋｍａｘと最小値Ｋｍｉｎとの差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）を算出する差分算出工程と、
予め定めた閾値ＫＤと前記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）とを比較し、前記差分（Ｋｍａｘ－Ｋｍｉｎ）が前記閾値ＫＤを超えた際に前記条件変更工程を開始する差分判定工程と
をさらに備える、請求項１に記載の蓄電デバイスの製造方法。 - 予め設定した条件変更時間に至った際に前記条件変更工程を開始する、請求項１に記載の蓄電デバイスの製造方法。
- 前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、前記炉内における前記組立体の配置位置を変更する、請求項１～３のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
- 前記乾燥炉は、前記組立体の各々を加熱する複数のヒータを備えており、
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記ヒータの各々の温度を個別に変更する、請求項１～３のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。 - 前記乾燥炉は、前記組立体の各々に温風を供給する複数のファンを備えており、
前記条件変更工程は、前記乾燥係数Ｋに基づいて、複数の前記ファンの各々の風量を個別に変更する、請求項１～３のいずれか一項に記載の蓄電デバイスの製造方法。
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