JP7552249B2 - Host management device, production control system, host management method, and host management program - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 102
- 238000007726 management method Methods 0.000 title claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 252
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 247
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 131
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 105
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 38
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 35
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 26
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 18
- 238000011143 downstream manufacturing Methods 0.000 description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q10/00—Administration; Management
- G06Q10/06—Resources, workflows, human or project management; Enterprise or organisation planning; Enterprise or organisation modelling
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q50/00—Information and communication technology [ICT] specially adapted for implementation of business processes of specific business sectors, e.g. utilities or tourism
- G06Q50/04—Manufacturing
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
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Description
生産対象物を生産するための複数の工程を含む生産ラインにおいて、1以上の前記工程を制御する複数の下位制御装置とネットワークを介して接続される上位管理装置に関する。 This relates to a host management device that is connected via a network to multiple lower level control devices that control one or more of the processes in a production line that includes multiple processes for producing production objects.
従来、FA(Factory Automation)の分野において、工場などに設置される生産設備等に係るデータを、効率的に収集、管理しようとする試みがなされている。 Traditionally, in the field of FA (Factory Automation), attempts have been made to efficiently collect and manage data related to production equipment installed in factories and other facilities.
例えば、特許文献1には、生産設備上で、ワークが良品か否かを判定し、不良に該当したデータのみを上位装置に送信する装置が開示されている。
For example,
また、特許文献2には、生産設備上で、所定の収集規則に従ってデータを収集し、上位装置に送信するPLC(Programmable Logic Controller)が開示されている。
また、特許文献3には、生産設備上でワークが通常の生産状態に対し異なる挙動(以降、異常と呼称する)を示すか否かを判定する装置が開示されている。
しかしながら、上述のような従来技術では、ある生産設備のある工程上で不良が発生した場合、または当該工程で所定の条件を満たした場合に、当該工程のデータを上位装置に送信するだけに留まっている。すなわち、当該工程のデータのみが上位装置に送信されるため、前後工程に関連したデータとはいえない。そのため、当該工程以前で不良の原因が発生した場合、または、当該工程の不良が原因で後工程に影響を与えた場合を、検討することができない。 However, in the conventional technology described above, when a defect occurs in a certain process of a certain production facility, or when certain conditions are met in that process, data for that process is merely sent to a higher-level device. In other words, since only the data for that process is sent to the higher-level device, it cannot be said to be data related to the preceding or following processes. As a result, it is not possible to consider cases where the cause of the defect occurred before that process, or where a defect in that process affects a subsequent process.
本発明の一態様は、ある工程で不良または異常が発生した場合に、前後工程を含めたデータを上位装置に送信し、より詳細なデータ解析の実現を目的とする。 One aspect of the present invention aims to transmit data including the preceding and following processes to a higher-level device when a defect or abnormality occurs in a process, thereby enabling more detailed data analysis.
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る上位管理装置は、生産対象物を生産するための複数の工程を含む生産ラインにおいて、1以上の前記工程を制御する複数の下位制御装置とネットワークを介して接続される上位管理装置であって、1つの前記下位制御装置から、当該下位制御装置において異常が検知されたときの異常発生工程に関する異常工程情報を受信する受信部と、前記異常工程情報に基づき、前記生産ラインに含まれる工程の中から、前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物に関与する関与処理を特定する特定部と、複数の前記下位制御装置に対して、前記関与処理に関する測定データの送信を要求する指令部と、前記異常工程情報、および、前記測定データを記憶部に記憶する制御を行う記憶制御部と、を備える。 In order to solve the above problems, a higher-level management device according to one aspect of the present invention is a higher-level management device that is connected via a network to a plurality of lower-level control devices that control one or more of the processes in a production line that includes a plurality of processes for producing a production object, and includes a receiving unit that receives abnormal process information from one of the lower-level control devices regarding an abnormal process when an abnormality is detected in the lower-level control device, an identifying unit that identifies a process involved in the production object that was produced in the abnormal process from among the processes included in the production line based on the abnormal process information, a command unit that requests the plurality of lower-level control devices to transmit measurement data regarding the process involved, and a storage control unit that controls the storage of the abnormal process information and the measurement data in a storage unit.
上記の構成によれば、異常が発生した生産対象物に関与した関与処理を特定し、当該関与処理を制御している下位制御装置に対し、測定データの送信を要求することができる。すなわち、異常が発生した下位制御装置の測定データに加え、生産ライン上の他の下位制御装置の測定データも取得することができるので、前後工程を含めた工程の測定データを横断的に比較検討するためのデータを提供することができる。 The above configuration makes it possible to identify the process involved in the production object in which the abnormality occurred, and to request the lower-level control device that controls the process to send measurement data. In other words, in addition to the measurement data of the lower-level control device in which the abnormality occurred, it is also possible to obtain measurement data from other lower-level control devices on the production line, making it possible to provide data for cross-sectional comparison and analysis of measurement data from processes including those before and after.
前記特定部は、前記生産ラインに含まれる前記工程の順番と、それぞれの前記工程の所要時間とを示す所要時間テーブルを参照し、前記異常工程情報に基づいて、前記関与処理を工程情報と実施時刻情報とによって特定し、前記指令部は、複数の前記下位制御装置に対して、工程情報と実施時刻情報とを送信してもよい。 The identification unit may refer to a required time table indicating the order of the processes included in the production line and the required time for each of the processes, and identify the involved process by process information and execution time information based on the abnormal process information, and the command unit may transmit the process information and execution time information to multiple lower-level control devices.
上記の構成によれば、異常が発生した下位制御装置から、異常に関する異常工程情報を受信し、その異常発生工程に関与した関与処理ごとの実施時刻を特定し、下位制御装置に対し、当該実施時刻における実施時刻情報を送信する指令を出すことができる。したがって、異常発生工程が特定できれば、それに関与した関与処理の工程と実施時刻を特定することができ、異常の比較検討に用いる測定データを取得することができる。 According to the above configuration, it is possible to receive abnormal process information related to the abnormality from the lower-level control device where the abnormality occurred, identify the implementation time of each process involved in the process where the abnormality occurred, and issue a command to the lower-level control device to transmit implementation time information at the implementation time. Therefore, if the process where the abnormality occurred can be identified, it is possible to identify the process and implementation time of the process involved, and it is possible to obtain measurement data to be used for comparing and examining the abnormality.
前記生産ラインにおいて生産される前記生産対象物にはそれぞれに識別情報が付されているとともに、前記指令部は、前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物の前記識別情報を複数の前記下位制御装置に対して送信してもよい。 Each of the production objects produced on the production line may be provided with identification information, and the command unit may transmit the identification information of the production objects produced during the abnormality process to a plurality of the lower-level control devices.
上記の構成によれば、生産対象物には、識別情報が付されているため、複数の生産対象物に関する測定データの中から、異常が発生した当該生産対象物に関する測定データを特定することができ、比較検討に用いる測定データを取得することができる。 According to the above configuration, since the production object is provided with identification information, it is possible to identify the measurement data relating to the production object in which an abnormality has occurred from the measurement data relating to multiple production objects, and obtain the measurement data to be used for comparison.
前記指令部は、1つの前記下位制御装置から前記関与処理に関する前記測定データと、別の下位制御装置から前記関与処理に関する前記測定データと、の受信タイミングが異なるように、それぞれの前記下位制御装置に対して前記測定データの送信を要求してもよい。 The command unit may request each of the lower-level control devices to transmit the measurement data so that the measurement data related to the participation process from one lower-level control device and the measurement data related to the participation process from another lower-level control device are received at different times.
上記の構成によれば、下位制御装置ごとに測定データの送信タイミングをずらすことができ、ネットワークの通信負荷を低減することができる。 With the above configuration, the timing of transmitting measurement data can be shifted for each lower-level control device, reducing the communication load on the network.
前記特定部は、前記異常発生工程よりも上流の前記関与処理を特定してもよい。 The identification unit may identify the involved process upstream of the abnormality occurrence process.
上記の構成によれば、関与処理として、異常発生工程よりも上流の下位制御装置を対象にすることができる。そのため、異常発生工程において異常が発生した原因を追究することが容易になる。 With the above configuration, the involved processing can be targeted at lower-level control devices upstream of the process where the abnormality occurred. This makes it easier to investigate the cause of the abnormality in the process where the abnormality occurred.
前記特定部は、前記異常発生工程よりも下流の前記関与処理を特定してもよい。 The identification unit may identify the involved process downstream of the abnormality occurrence process.
上記の構成によれば、関与処理として、異常発生工程よりも下流の下位制御装置を対象にすることができる。そのため、異常発生工程における異常が原因となり、引き起こされる、他の異常を特定することが容易になる。 According to the above configuration, the involved processing can target lower-level control devices downstream of the process where the abnormality occurred. This makes it easier to identify other abnormalities caused by the abnormality in the process where the abnormality occurred.
本発明の一態様に係る生産制御システムは、前記上位管理装置と、前記上位管理装置とネットワークを介して接続される、複数の前記下位制御装置と、を備える。 The production control system according to one aspect of the present invention includes the upper management device and a plurality of the lower control devices connected to the upper management device via a network.
本発明の一態様に係る上位管理方法は、生産対象物を生産するための複数の工程を含む生産ラインにおいて、1以上の前記工程を制御する複数の下位制御装置とネットワークを介して接続される上位上記管理装置の上位管理方法であって、1つの前記下位制御装置から、当該下位制御装置において異常が検知されたときの異常発生工程に関する異常工程情報を受信する受信ステップと、前記異常工程情報に基づき、前記生産ラインに含まれる工程の中から、前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物に関与する関与処理を特定する特定ステップと、複数の前記下位制御装置に対して、前記関与処理に関する測定データの送信を要求する指令ステップと、前記異常工程情報、および、前記測定データを記憶部に記憶する制御を行う記憶制御ステップと、を含む。 The upper level management method according to one aspect of the present invention is a method for managing an upper level management device connected via a network to a plurality of lower level control devices that control one or more of a plurality of processes for producing a production object in a production line including the plurality of processes for producing the production object, and includes a receiving step of receiving abnormal process information from one of the lower level control devices regarding an abnormal process when an abnormality is detected in the lower level control device, a specifying step of specifying a process involved in the production object that was produced in the abnormal process from among the processes included in the production line based on the abnormal process information, a command step of requesting the plurality of lower level control devices to transmit measurement data regarding the process involved, and a storage control step of controlling the storage of the abnormal process information and the measurement data in a storage unit.
本発明の各態様に係る上位管理装置は、コンピュータによって実現してもよく、この場合には、コンピュータを前記上位管理装置が備える各部(ソフトウェア要素)として動作させることにより前記上位管理装置をコンピュータにて実現させる上位管理装置の上位管理装置制御の受信プログラム、特定プログラム、指令プログラム、記憶制御プログラム、およびそれを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体も、本発明の範疇に入る。 The upper management device according to each aspect of the present invention may be realized by a computer. In this case, the upper management device control reception program, specific program, command program, and storage control program of the upper management device that realizes the upper management device by making the computer operate as each part (software element) of the upper management device, and the computer-readable recording medium on which they are recorded, also fall within the scope of the present invention.
本発明の一態様によれば、異常発生時に前後の関与処理における測定データを比較検討できる上位管理装置が得られる。 According to one aspect of the present invention, a host management device is obtained that can compare measurement data from processes involved before and after an abnormality occurs.
〔実施形態1〕
以下、本発明の一側面に係る実施の形態(以下、「本実施形態」とも表記する)を、図面に基づいて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
[Embodiment 1]
Hereinafter, an embodiment according to one aspect of the present invention (hereinafter, also referred to as "the present embodiment") will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are designated by the same reference characters and the description thereof will not be repeated.
§1.適用例
図1は、実施形態1に係る生産ライン70の要部の構成を示すブロック図である。生産ライン70は工程A1・工程A2・工程A3・工程B1・工程B2・工程B3・工程C1・工程C2・工程C3によってワーク(生産対象物)を処理し、製品を生産するラインである。各工程をワークが1つずつ通過し処理される。例えば、図1に示すように、工程B2では5番のワークが生産されており、当該ワークは、次に現在4番のワークを生産している工程B3に移って生産を続け、工程C3を終えると生産を完了し、製品が完成する。
§1. Application Example Fig. 1 is a block diagram showing the configuration of the main parts of a
工程B2の生産中において、当該ワークの生産に通常の生産と挙動が異なる異常が発生した場合、当該5番のワーク自体が工程B2で不良品になることも考えられるが、後の工程で不良品になることがある。また、工程B2で不良品になった真の原因が工程B2にあるとは限らず、前の工程に原因がある場合もある。 If an abnormality occurs in the production of the workpiece in process B2 that causes the workpiece to behave differently from normal production, it is possible that the workpiece No. 5 itself will become a defective product in process B2, but it may also become a defective product in a later process. Furthermore, the true cause of the defective product in process B2 is not necessarily in process B2, and the cause may lie in a previous process.
このように、通常の生産と異なる異常が発生した場合に、前後の工程をも含めて測定データを確認することで、不良品の原因を特定し、工程改善を行うことができる。そこで、本願では、通常の生産と異なる異常を検知した場合に、当該ワークに関与する前後の工程の情報を測定データとして取得する上位管理装置10を実現する。
In this way, when an abnormality that differs from normal production occurs, the cause of the defect can be identified and the process can be improved by checking the measurement data including the preceding and following processes. Therefore, in this application, a
§2.構成例
図2は、実施形態1に係る制御システム1の要部の構成を示すブロック図である。
§2. Configuration Example Fig. 2 is a block diagram showing the configuration of the main parts of the
(制御システム1)
制御システム1(生産制御システム)は、上位管理装置10と、上流下位制御装置41と、異常源下位制御装置42と、下流下位制御装置43と、を備える。上流下位制御装置41・異常源下位制御装置42・下流下位制御装置43をまとめて下位制御装置40と総称する。下位制御装置40は、共通した機能を備え、図2では代表として上流下位制御装置41に示す。
(Control System 1)
The control system 1 (production control system) comprises a
制御システム1は、ネットワークを介して上位管理装置10と下位制御装置40とを接続している。
The
(生産ライン)
制御システム1は、生産ライン70を統括的に制御するシステムである。生産ライン70は、複数の装置60により構成される。各装置60は複数の工程50を処理する。各装置は下位制御装置40を1つ以上備える。
(Production Line)
The
異常が発生した場合、工程50は、異常が発生した処理を行った異常発生工程51と、当該処理に対し前もって処理を行っていた上流工程52と、当該処理に対し後で処理を行った下流工程53とに大別される。異常発生工程51は1つであるが、上流工程52および下流工程53は複数あってもよく、また0であってもよい。
When an abnormality occurs,
例えば、図1に示すように、生産ライン70には3台の装置60としての上流装置61・異常源装置62・下流装置63がある。上流装置61は、上流下位制御装置41によって制御されており、上流工程52である工程A1・工程A2・工程A3を処理する。異常源装置62は、異常源下位制御装置42によって制御されており、上流工程52である工程B1、異常発生工程51である工程B2・下流工程53である工程B3を処理する。下流装置63は、下流下位制御装置43によって制御されており、下流工程53である工程C1・工程C2・工程C3を処理する。
For example, as shown in FIG. 1, the
もちろん、生産ライン70を構成する装置60は3台に限定されない。また、各装置60(以降、上流装置61・異常源装置62・下流装置63をまとめて装置60と略記する)は、それぞれ3個の工程50を処理するが、3個に限定されない。
Of course, the number of devices 60 that make up the
本実施形態では、仮に説明のため、異常源装置62で処理する工程B2で異常が発生したこと(工程B2が異常発生工程51である)を異常源下位制御装置42が検出する場合を想定して記載するが、これには限定されず、どの工程で異常が発生してもよい。
In this embodiment, for the sake of explanation, it is assumed that the abnormality source lower-
生産ライン70は、シーケンシャルにワーク(生産対象物)に対し処理が進む生産ラインを想定する。
(上位管理装置10)
上位管理装置10は、複数の下位制御装置40を管理する制御装置であり、下位制御装置40が取得した異常が発生したワークに関与する測定データを取得し、記憶する処理を行う。上位管理装置10は、制御部20と、記憶部30と、を備える。
(Upper management device 10)
The upper
制御部20は、上位管理装置10の各部を統括的に制御する。制御部20は、受信部21と、特定部22と、指令部23と、記憶制御部24と、を備える。記憶部30は、上位管理装置10で用いるデータおよびプログラムを記憶する。記憶部30は上位管理装置10に備えられていなくてもよく、クラウド上に記憶されていてもよい。記憶部30は、所要時間テーブル31と、データベース32と、を記憶する。
The control unit 20 comprehensively controls each part of the
受信部21は、ワークを生産中に、1つの下位制御装置40(異常源下位制御装置42)から、当該下位制御装置40において異常が検知されたときの異常工程情報を受信する。受信した異常工程情報を特定部22に出力する。異常工程情報には、異常発生工程51を識別できる工程情報と、異常発生時刻になる実施時刻情報を含む。
The receiving
特定部22は、入力された異常工程情報を基に、所要時間テーブル31(詳細は後述)を参照し、生産ライン70に含まれる工程50の中から、異常発生工程51において生産されていたワークに関与する関与処理を特定する。特定された関与処理の情報を指令部23に出力する。
Based on the input abnormal process information, the
特定部22は、関与処理として、異常発生工程51の上流工程52および下流工程53を特定してもよい。
The
指令部23は、入力された関与処理の情報を基に、複数の下位制御装置40に対して、関与処理に関する測定データの送信を要求する。指令部23は送信に際し、対象となる工程50の工程情報と実施時刻情報(ワークを処理する時刻情報)を合わせて送信してもよい。
Based on the input information on the involved processes, the
また、指令部23は、2つ以上の下位制御装置40に対する測定データの送信指令を時間差を設けて送信してもよい。例えば、1つの下位制御装置40に送信指令を送信し、該下位制御装置40から測定データを受信した後に、別の下位制御装置40に送信指令を送信する、という制御を繰り返すことが考えられる。
The
これにより、1つの前記下位制御装置から前記関与処理に関する前記測定データの受信タイミングと、別の下位制御装置から前記関与処理に関する前記測定データの受信タイミングと、が異なるようにすることができ、ネットワーク負荷を低減することができる。 This allows the timing of receiving the measurement data related to the participation process from one lower-level control device to be different from the timing of receiving the measurement data related to the participation process from another lower-level control device, thereby reducing the network load.
なお、指令部23は、下流側の複数の下位制御装置40に対しては、測定データの送信指令を同時に送信してもよい。これは、下流工程53での処理は、異常発生時では未完了なため、意図的に時間差を設けなくても、各工程50の処理完了後に測定データは送信されるからである。すなわち、結果として上位管理装置10における各下位制御装置からの測定データの受信タイミングはずれることになるので、ネットワーク負荷を低減できるためである。
The
記憶制御部24は、下位制御装置40から受信した測定データおよび異常工程情報を記憶部30に記憶する制御を行う。
The
所要時間テーブル31は、下位制御装置40が上位管理装置10を通して記憶部30に記憶する設定であり、各下位制御装置40の工程50ごとの所要時間と生産ライン70における工程50の処理順番を記憶したテーブルである。
The required time table 31 is a setting that the lower-level control device 40 stores in the
図3は、所要時間テーブル31の一例である。図3に示すように、所要時間テーブル31には、工程名称に加え、工程50を管理する下位制御装置40を識別する情報(PLC名)をも併せて記憶してもよい。
Figure 3 is an example of the required time table 31. As shown in Figure 3, in addition to the process name, the required time table 31 may also store information (PLC name) that identifies the lower-level control device 40 that manages the
データベース32は、下位制御装置40が測定したワークの生産中の測定データを記憶するデータベースである。測定データには任意のデータを記憶してよい。
The
(下位制御装置40)
下位制御装置40は、複数の工程50においてワークの生産を制御し、ワークの生産中において、異常が発生した場合は上位管理装置10に通知を出す。さらに、下位制御装置40は、上位管理装置10の指令に基づき、ワークの生産時の測定データを上位管理装置に送信する。下位制御装置40は、異常判定部81と、リングバッファ82と、指令受信部83と、条件判定部84と、データ送信部85と、を備える。各下位制御装置40は、同一の機能をそれぞれ備える。
(Lower control device 40)
The lower control device 40 controls the production of workpieces in a plurality of
異常判定部81は、下位制御装置40が制御している工程50において発生した異常を判定する。「異常」とは、下位制御装置40が制御している機器で発生した異常ではなく、通常の生産状態と異なる生産状態でワークを生産することを指す概念である。また、異常を示したワークは、必ずしも当該ワークが工程50ごとの所定の規格に基づき、製品としての機能を満たすかを判断する良品・不良品判定において不良品になるとは限らない。
The
異常判定部81は、異常を判定した場合、当該異常の情報である異常工程情報を上位管理装置10に通知する。異常工程情報には、異常発生時点の時刻および異常発生工程の情報を含む。異常工程情報は、異常発生時点の測定データに関しては、含まなくてもよい。異常判定処理に関する詳細は、後述する。
When the
リングバッファ82は、所定の個数のワークの測定データを一時記憶しておくバッファであり、ワークの生産状態が異常かどうかに関わらず一時記憶する。リングバッファ82に一時記憶した測定データは、条件判定部84の判定結果を踏まえ、データ送信部85を介して上位管理装置10に送信される。リングバッファ82は、一定個数の測定データを一時記憶するが、最も古い測定データから新しい測定データに上書き保存していく。
The ring buffer 82 is a buffer that temporarily stores the measurement data of a predetermined number of workpieces, and temporarily stores the data regardless of whether the production status of the workpieces is abnormal. The measurement data temporarily stored in the ring buffer 82 is transmitted to the higher-
リングバッファ82に一時記憶される所定の個数は、生産ライン70が通常のタクトで生産を行っている場合において、あるワークが生産ラインを通過しきるまでに生産されるワークの個数に余剰を持たせた数である。
The specified number temporarily stored in the ring buffer 82 is the number of workpieces produced before a workpiece has passed through the production line when the
指令受信部83は、指令部23の指令を受信する機能をもつ。指令受信部83は、上位管理装置10から測定データの送信指令が来たことを条件判定部84に出力する。指令受信部83は、指令と合わせてきた工程情報および実施時刻情報を合わせて条件判定部84に出力してもよい。
The
条件判定部84は、上位管理装置の指令に基づき、該当する測定データの有無を判定する。当該工程情報が、異常発生工程の下流工程53であった場合、まだワークの生産に関与していない場合もあるため、該当する測定データが取得されるまで(条件が成立するまで)測定データの送信を待機する。条件判定部84は、該当する測定データが有りだった場合、データ送信部85に該当する測定データを出力する。
The
データ送信部85は、入力された測定データを上位管理装置10の記憶制御部24に送信する。
The
本実施形態では、下位制御装置40はPLCで構成するか、または汎用コンピュータを使用してもよい。 In this embodiment, the lower-level control device 40 may be configured as a PLC or may use a general-purpose computer.
(異常判定処理)
下位制御装置40は、次の処理を経て異常判定を行ってもよい。図4は、異常判定処理の一例を示す概要図である。図4に示すように、下位制御装置40は、測定データに対し複数の処理(処理401~処理405)を経て、異常を判定する。
(Abnormality Judgment Processing)
The low-level control device 40 may perform the abnormality determination through the following process. Fig. 4 is a schematic diagram showing an example of the abnormality determination process. As shown in Fig. 4, the low-level control device 40 performs a plurality of processes (
処理401は、ワークの生産に関与したデータである、収集データを取得する処理である。収集データとしては、各種センサによる計測データ、および各種稼働装置の動作状況出力データなどのいわゆる生データであってもよい。より具体的には、該当工程における稼働装置が備える駆動部のトルク値、ワークまたは稼働装置が備えるワーク把持部の位置の計測値、および、ワークまたは稼働装置が備えるワーク把持部の移動速度の計測値、などが挙げられる。この処理における収集データは高速サンプリングしたデータであり、大容量のデータになる。そのため、下位制御装置40内の記憶装置に収集データを全数保存し続けることが困難なため、リングバッファ82に一時記憶し、必要なものだけを上位管理装置10に送信し記憶することが一般的である。
処理402は、連続した収集データを、生産したワークごとの収集データに切り分ける処理である。すなわち、下位制御装置40内の固有の番号もしくは、識別情報ごとに関連付ける、収集データの期間を定める作業である。具体的には、収集データを時系列にリングバッファに一時記憶するに際し、ワークの識別情報なども併せて一時記憶し、同一の識別情報の期間をもって切り分ける処理を行うことなどが考えられる。
処理403は、ワークごとの収集データに対し、統計値である特徴量データを算出する。すなわち、あるワークの生産に関与した多数の収集データを代表する特徴量を導出する。特徴量データに用いられる統計値としては、平均値・最大値・最小値・最頻値・標準偏差などがあり、1つのワークに対し、複数の特徴量を定義してもよい。
処理404は、少なくとも1つ以上の特徴量データに重みづけをし、足し合わせた異常度スコアを算出する。異常度スコアの算出に用いる特徴量データとその重みの決定に際し、異常検知アルゴリズムを用いてもよい。 Process 404 weights at least one or more pieces of feature data and calculates an anomaly score by adding them up. An anomaly detection algorithm may be used to determine the feature data and its weighting used to calculate the anomaly score.
異常検知アルゴリズムの一例として、Isolation Forestがある。Isolation Forestは、多次元空間において、1つの空間にあるデータの個数が規定値以下になるまで空間分割を繰り返し、分割数が少ないデータほど、稀なデータであることから異常なデータと判断する手法である。Isolation Forestで求まった異常なデータを異常とみなせるように、特徴量データの選定と重みを決定する。 One example of an anomaly detection algorithm is Isolation Forest. Isolation Forest is a method that repeatedly divides a multidimensional space until the number of data in one space falls below a specified value, and determines that data with fewer divisions is anomalous because it is rarer. Feature data is selected and weighted so that anomalous data found by Isolation Forest can be considered anomalous.
処理405は、算出した異常度スコアを予め定めた閾値でもって異常かどうかを判定する。収集データおよび特徴量データをそのまま異常判定に用いるのではなく、異常度スコアを異常判定に用いることで、複数の特徴量による多次元の比較を1次元で行うことができる。そのため、収集データおよび特徴量データをそのまま異常判定に用いる場合に対し、複雑な条件での異常判定を可能にしている。
リングバッファ82に一時記憶する測定データは、収集データまたは特徴量データであってもよい。また、特徴量データは小容量のデータになるため、上位管理装置10で全数保存してもデータベース32の容量を圧迫しないことから、全数保存しても構わない。全数保存することにより、特徴量の経時変化を分析することができる利点がある。
The measurement data temporarily stored in the ring buffer 82 may be collected data or feature data. In addition, feature data is small in volume, so storing all of it in the
また、異常判定処理は処理401~405の処理に限定されず、当業者が想定しうる様々な方法によって異常判定を行ってもよい。例えば、測定データと所定の閾値との関係で異常を判定してもよい。
Furthermore, the abnormality determination process is not limited to
§3.動作例
(事前設定)
図5は、制御システム1における測定データを取得するための事前準備のフローチャートである。
§3. Example of operation (pre-setting)
FIG. 5 is a flowchart of advance preparations for acquiring measurement data in the
S11では、上位管理装置10において、所要時間テーブル31に対し、各工程50の所要時間と、工程順番とが管理者によって設定される。また、S12では、下位制御装置40において、管理者によって異常判定部81に対し、異常の判定条件が設定される。また、S13では、管理者によって、下位制御装置40のリングバッファ82に対し、測定データ(収集変数)をどのように一時記憶するかが設定される。合わせて、測定データの特徴量および異常度スコアの定義方法が設定される。
In S11, in the
(異常発生時の処理の流れ)
図6は、制御システム1における測定データを取得する処理を示すフローチャートである。図6においては、異常源下位制御装置42の工程B2(異常発生工程51)で異常が発生した場合を想定して記載するが、異常を判定する下位制御装置40は異常源下位制御装置42に限定されず、他の下位制御装置40でも構わない。
(Processing flow when an abnormality occurs)
Fig. 6 is a flowchart showing a process for acquiring measurement data in the
S21において、異常源下位制御装置42において異常判定部81は、異常が発生していないかどうかを判定する。
In S21, the
判定の結果、異常がない場合(S21においてNo)、S21に処理を戻しループする。この間、リングバッファ82は、常に測定データを一時記憶している。 If the result of the determination is that there is no abnormality (No in S21), the process returns to S21 and loops. During this time, the ring buffer 82 always temporarily stores the measurement data.
判定の結果、異常があった場合(S21においてYes)、S22に処理を進める。S22において、異常判定部81は、異常源下位制御装置42において異常が発生したことを上位管理装置10に対し出力する。
If the determination result indicates that an abnormality has occurred (Yes in S21), the process proceeds to S22. In S22, the
S23において、受信部21は、異常源下位制御装置42で異常が発生した通知を受信する。この時、上位管理装置10は、併せて異常工程情報を受信し、異常の時刻および異常発生工程51を認識する。
In S23, the
S24において、特定部22は、異常工程情報を基に、関与処理を特定する。具体的には、異常発生工程51の前工程に対し、異常発生時刻から生産ラインの工程順番と所要時間を考慮した、各工程においてワークを生産している実施時刻を特定し、実施時刻情報とする。
In S24, the
例えば、図3の所要時間テーブル31における事例を示す。異常源下位制御装置42は、あるワークが時刻10:00:45(期間10:00:40~10:00:50)において、工程B2で異常を判定し、上位管理装置10に異常が発生したことを通知する(S21、S22)。上位管理装置10の受信部21は、異常源下位制御装置42で異常が発生したことを認識する(S23)。上位管理装置10の特定部22は、次の処理によって、工程B2に対する上流工程52および下流工程53を特定する(S24)。
For example, an example is shown in the required time table 31 in Figure 3. The fault-source lower-
所要時間テーブル31から、各工程における、ワークの通過期間を特定する。すなわち、あるワークは、工程A1を生産開始後0~10秒に通過する。当該ワークは、工程A2を生産開始後10~20秒に通過する。当該ワークは、工程A3を生産開始後20~30秒に通過する、当該ワークは、工程B1を生産開始後30~40秒に通過する。当該ワークは、工程B2を生産開始後40~50秒に通過する。当該ワークは、工程B3を生産開始後50~60秒に通過する。当該ワークは、工程C1を生産開始後60~70秒に通過する。当該ワークは、工程C2を生産開始後70~80秒に通過する。当該ワークは、工程C3を生産開始後80~90秒に通過する。 The required time table 31 is used to identify the period during which the work passes through each process. That is, a certain work passes through process A1 0-10 seconds after production starts. The work passes through process A2 10-20 seconds after production starts. The work passes through process A3 20-30 seconds after production starts. The work passes through process B1 30-40 seconds after production starts. The work passes through process B2 40-50 seconds after production starts. The work passes through process B3 50-60 seconds after production starts. The work passes through process C1 60-70 seconds after production starts. The work passes through process C2 70-80 seconds after production starts. The work passes through process C3 80-90 seconds after production starts.
工程B2で異常を判定した時刻10:00:45に対し、工程B2での生産開始後からのワーク通過期間を考慮すると、当該ワークは、時刻10:00:00に生産を開始したことがわかる。すなわち、上流下位制御装置41では、生産開始後0~30秒の期間においてワークが通過するため、期間10:00:00~10:00:30がワーク通過期間であると特定する。異常源下位制御装置42では、生産開始後30~60秒の期間においてワークが通過するため、期間10:00:30~10:01:00がワーク通過期間であると特定する。下流下位制御装置43では、生産開始後60~90秒の期間においてワークが通過するため、期間10:01:00~10:01:30がワーク通過期間であると特定する。
Considering the time 10:00:45 when an abnormality was detected in process B2 and the workpiece passing period from the start of production in process B2, it is found that production of the workpiece began at time 10:00:00. That is, the upstream lower-
(上流下位制御装置41に対する測定データの取得)
S31~S35によって、上流下位制御装置41に対し、測定データを取得する。
(Acquisition of measurement data for the upstream lower control device 41)
Through steps S31 to S35, measurement data is obtained from the upstream
S31において、指令部23は、上流下位制御装置41に対し、上流下位制御装置41での関与処理の測定データを取得するクエリを発行する。クエリには、実施時刻情報を付加してもよい。
In S31, the
クエリの発行に際し、複数の関与処理にあたる工程50が1つの下位制御装置40に含まれる場合、まとめて測定データを取得するクエリを発行してもよい。上述した例では、上位管理装置10は、上流下位制御装置41から期間10:00:00~10:00:30の測定データを取得するクエリを発行する。
When issuing a query, if
S32において、上流下位制御装置41の指令受信部83は、クエリを受信する。
In S32, the
S33において、上流下位制御装置41の条件判定部84は、クエリを処理し、クエリの条件に該当する測定データがリングバッファ82に一時記憶されているかを確認する。実施形態1では、クエリとして、測定データを送信する期間を指定されているため、条件判定部84は、測定データの時間が、指定された期間のデータか否かを確認する。
In S33, the
リングバッファ82に該当データが一時記憶されていない場合(S33においてNo)、クエリが処理できるまで(該当データがリングバッファ82に一時記憶されるまで)、S33の処理を繰り返す。 If the relevant data is not temporarily stored in the ring buffer 82 (No in S33), the process of S33 is repeated until the query can be processed (until the relevant data is temporarily stored in the ring buffer 82).
リングバッファ82に該当データが一時記憶されている場合(S33においてYes)、クエリが処理できたため、S34に処理を進める。なお、上流下位制御装置41は、異常発生工程51に対し上流工程52を制御しているため、異常発生時点で既にリングバッファ82にはクエリの条件に該当するデータが一時記憶されている。そのため、S33の処理は待機することなく処理される。
If the relevant data is temporarily stored in the ring buffer 82 (Yes in S33), the query has been processed and the process proceeds to S34. Note that since the upstream
S34において、上流下位制御装置41のデータ送信部85は、クエリの条件に該当した測定データを記憶制御部24に送信する。
In S34, the
S35において、記憶制御部24は、受信した測定データをデータベース32に記憶する。この際に、測定データに加え、異常工程情報を関連付けて記憶する。
In S35, the
(異常源下位制御装置42に対する測定データの取得)
S41~S45によって、異常源下位制御装置42に対し測定データを取得する。上述した例では、上位管理装置10は、異常源下位制御装置42から期間10:00:30~10:01:00の測定データを取得する。
(Acquisition of measurement data for the fault source low-level control device 42)
Through steps S41 to S45, measurement data is obtained from the fault-source low-
S41~S45は、それぞれS31~S35に対応しており、上流下位制御装置41の処理が異常源下位制御装置42に入れ替わるだけで、同じ処理を行う。
S41 to S45 correspond to S31 to S35, respectively, and perform the same processing, except that the processing of the upstream lower-
異常源下位制御装置42は、異常発生工程51の上流工程52および下流工程53を含む可能性があるため、S43において、リングバッファ82にクエリの条件に該当するデータが一時記憶されるのを待つこともある。
The abnormality source lower-
(下流下位制御装置43に対する測定データの取得)
S51~S55によって、下流下位制御装置43に対し測定データを取得する。上述した例では、上位管理装置10は、下流下位制御装置43から期間10:01:00~10:01:30の測定データを取得する。
(Acquisition of measurement data for downstream lower-level control device 43)
Through steps S51 to S55, measurement data is obtained from the downstream lower-
S51~S55は、それぞれS31~S35に対応しており、上流下位制御装置41の処理が下流下位制御装置43に入れ替わるだけで、同じ処理を行う。
S51 to S55 correspond to S31 to S35, respectively, and perform the same processing, except that the processing of the upstream lower-
下流下位制御装置43は、異常発生工程51の下流工程53を含むため、S53において、リングバッファ82にクエリの条件に該当するデータが一時記憶されるまで待つ必要が発生する。
Because the downstream lower-
§4.作用・効果
下位制御装置40で異常が発生した場合に、下位制御装置40は異常を上位管理装置10に通知する。上位管理装置10は、異常の通知を受けると、通知に含まれた異常工程情報に基づき、関与処理を特定する。上位管理装置10は、特定した関与処理を含む下位制御装置40に対して、測定データの送信を指令するクエリを発行する。下位制御装置40は、リングバッファ82に一時記憶していた測定データの中から、クエリに基づく該当測定データを上位管理装置10に送信する。上位管理装置10は、受信した測定データを記憶部30に記憶する。
§4. Function and Effect When an abnormality occurs in a lower-level control device 40, the lower-level control device 40 notifies the upper-
したがって、下位制御装置40で異常が発生したことを上位管理装置10が認識でき、異常が発生した当該ワークに関与した異常発生工程前の関与処理における測定データをも取得することができる。
Therefore, the upper
そのため、関与処理として上流工程52の測定データを取得した場合は、異常発生工程51で異常が発生した真の原因を異常発生工程51の前の工程から検討することが容易になる。また、関与処理として下流工程53の測定データを取得した場合は、異常発生工程51で異常が発生したが、実際には不良品になっていない場合がある。この場合でも、下流工程53において不良品になることがあり、不良品になった真の原因が異常発生工程51における異常が原因である可能性を容易に検討できる。
Therefore, when measurement data from
すなわち、異常発生工程だけの測定データに限らず、異常発生工程の上流工程52および下流工程53における測定データをもまとめて比較調査することができるようになる。その結果、異常を基に、不良品の真の原因を特定し易くなり、対策を立てやすくなる。
In other words, it is possible to compare and investigate not only the measurement data from the process where the abnormality occurred, but also the measurement data from the
〔変形例〕
ワークには識別情報が付与されていてもよい。識別情報は、生産される各ワークを識別することが可能な情報である。識別情報としての一例は、シリアルナンバーなどでもよい。識別情報は、ワーク自体にバーコードなどとして実際に付与されていなくてもよく、下位制御装置40間で受け渡されるデータ(いわゆるシフトデータ)として保持しておいても構わない。
[Modifications]
Identification information may be given to the workpiece. The identification information is information that makes it possible to identify each workpiece produced. An example of the identification information may be a serial number. The identification information does not have to be actually given to the workpiece itself as a barcode or the like, and may be held as data (so-called shift data) that is transferred between the lower-level control devices 40.
ワークに対し、識別情報を付与することで、指令部23における測定データを取得するクエリにおいて、下位制御装置40のリングバッファ82から測定データを取得する期間を指定するのではなく、取得する識別情報を指定するようにしても構わない。
By assigning identification information to the work, in the query to acquire measurement data in the
例えば、非常停止などで装置停止していた場合や特定の工程で通常よりも処理時間が長くなった場合などでは、前記した所要時間テーブルにおける各工程の処理時間どおりに生産が行われないことになる。この場合、所要時間テーブルに基づいて期間を指定するクエリの場合は、適切な期間の測定データを取得できなくなることが考えられる。しかしながら、識別情報を指定するクエリでは、条件判定部84は、識別情報を確認してクエリを処理するため、非常停止などで装置停止していても適切な期間の測定データを選択し、データ送信部85に出力し、データベース32に記憶することができる。
For example, if the equipment is stopped due to an emergency stop or if a particular process takes longer than normal, production will not be carried out according to the processing time for each process in the required time table described above. In this case, in the case of a query that specifies a period based on the required time table, it is considered that measurement data for an appropriate period cannot be obtained. However, in the case of a query that specifies identification information, the
また、実施形態1では、生産ラインとしてシーケンシャルにワークが通過し処理される場合を検討したが、変形例では、識別情報を付与しているためこの限りではなく、ワークの順番が前後する生産ラインにおいても適用することができる。 In addition, in the first embodiment, we considered a case where the workpieces pass through and are processed sequentially on a production line, but in the modified example, because identification information is assigned, this is not the case, and the modified example can also be applied to a production line where the order of the workpieces is reversed.
〔実施形態2〕
本発明の他の実施形態について、図7に基づいて以下に説明する。図7は、実施形態2に係る測定データの絞り込み処理の一例である。
[Embodiment 2]
Another embodiment of the present invention will be described below with reference to Fig. 7. Fig. 7 shows an example of measurement data narrowing down process according to the second embodiment.
実施形態1での指令部23は、下位制御装置40ごとに、関与処理をとりまとめ、異常を発生させたワークが対象となっている下位制御装置40での処理開始時から処理終了時までの期間を、上位管理装置10に送信するクエリを発行する。すなわち、図7の表501のように、異常を発生させたワーク以外の測定データをも取得するクエリを発行している。
The
対して、実施形態2では、指令部23は、上述した期間での測定データに対し、更に、識別情報でもってワークを絞り込み、表502のような測定データを取得するクエリを発行できる。すなわち、異常を発生させたワーク以外の測定データを取得しないクエリを発行することができ、データベース32に記憶しないようになり、データベースの容量圧迫を避けることができる。
In contrast, in the second embodiment, the
また、実施形態2に係る指令部23では、リングバッファ82に一時記憶されている測定データから取得する測定データを期間および識別情報の2段階によって検索することができる。そのため、識別情報の大きさに対し、生産数が非常に大きい場合で識別情報がオーバーフローする場合であっても、期間でもって識別情報を選別することができる。
In addition, the
例えば、生産ラインの中でワークを搬送する治具があり、当該治具自体に識別情報が付与されており、ワークには識別情報が付与されていなく、治具を再利用するシステムにおいてでも、ワークの測定データを一意の定めることができるようになる。 For example, in a production line, there is a jig that transports workpieces, and the jig itself is given identification information, but the workpieces are not given identification information. Even in a system in which the jig is reused, it becomes possible to uniquely determine the measurement data of the workpiece.
〔ソフトウェアによる実現例〕
上位管理装置10の制御ブロック(特に受信部21、特定部22、指令部23、および記憶制御部24)は、集積回路(ICチップ)等に形成された論理回路(ハードウェア)によって実現してもよいし、ソフトウェアによって実現してもよい。
[Software implementation example]
The control blocks of the upper management device 10 (particularly the receiving
後者の場合、上位管理装置10は、各機能を実現するソフトウェアであるプログラムの命令を実行するコンピュータを備えている。このコンピュータは、例えば1つ以上のプロセッサを備えていると共に、上記プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を備えている。そして、上記コンピュータにおいて、上記プロセッサが上記プログラムを上記記録媒体から読み取って実行することにより、本発明の目的が達成される。上記プロセッサとしては、例えばCPU(Central Processing Unit)を用いることができる。上記記録媒体としては、「一時的でない有形の媒体」、例えば、ROM(Read Only Memory)等の他、テープ、ディスク、カード、半導体メモリ、プログラマブルな論理回路などを用いることができる。また、上記プログラムを展開するRAM(Random Access Memory)などをさらに備えていてもよい。また、上記プログラムは、該プログラムを伝送可能な任意の伝送媒体(通信ネットワークや放送波等)を介して上記コンピュータに供給されてもよい。なお、本発明の一態様は、上記プログラムが電子的な伝送によって具現化された、搬送波に埋め込まれたデータ信号の形態でも実現され得る。
In the latter case, the
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
[Additional Notes]
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the claims. Embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in different embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
1 制御システム(生産制御システム)
10 上位管理装置
20 制御部
21 受信部
22 特定部
23 指令部
24 記憶制御部
30 記憶部
31 所要時間テーブル
32 データベース
40 下位制御装置
41 上流下位制御装置
42 異常源下位制御装置
43 下流下位制御装置
50 工程
51 異常発生工程
52 上流工程
53 下流工程
60 装置
61 上流装置
62 異常源装置
63 下流装置
70 生産ライン
81 異常判定部
82 リングバッファ
83 指令受信部
84 条件判定部
85 データ送信部
401,402,403,404,405 処理
501,502 表
1. Control system (production control system)
10 Upper level management device 20
Claims (7)
1つの前記下位制御装置から、当該下位制御装置において異常が検知されたときの異常発生工程に関する異常工程情報を受信する受信部と、
前記異常工程情報に基づき、前記生産ラインに含まれる工程の中から、前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物に関与する関与処理を特定する特定部と、
複数の前記下位制御装置に対して、前記関与処理に関する測定データの送信を要求する指令部と、
前記異常工程情報、および、前記測定データを記憶部に記憶する制御を行う記憶制御部と、を備え、
前記生産ラインにおいて生産される前記生産対象物にはそれぞれに識別情報が付されており、
前記特定部は、前記生産ラインに含まれる前記工程の順番と、それぞれの前記工程の所要時間とを示す所要時間テーブルを参照し、前記異常工程情報に基づいて、前記関与処理を工程情報と実施時刻情報とによって特定し、
前記指令部は、
複数の前記下位制御装置に対して、前記工程情報、前記実施時刻情報、及び前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物の第1識別情報を送信し、
複数の前記下位制御装置に対して、前記関与処理に関する、それぞれの識別情報に紐付けられた測定データのうち、前記第1識別情報に紐付けられた測定データのみの送信を要求する、
上位管理装置。 In a production line including a plurality of processes for producing a production object, a host management device is connected via a network to a plurality of lower level control devices that control two or more of the processes,
a receiving unit that receives abnormal process information related to an abnormal process when an abnormality is detected in one of the lower control devices;
an identification unit that identifies, from among the processes included in the production line, a process involved in the production object that was being produced in the process where the abnormality occurred, based on the abnormal process information;
A command unit that requests the plurality of lower level control devices to transmit measurement data related to the involvement process;
a storage control unit that controls storage of the abnormal process information and the measurement data in a storage unit ,
Identification information is attached to each of the production objects produced in the production line,
The identification unit refers to a required time table indicating the order of the processes included in the production line and the required time of each of the processes, and identifies the involved process by process information and implementation time information based on the abnormal process information;
The command unit includes:
transmitting the process information, the execution time information, and first identification information of the production object that was produced in the abnormality occurrence process to the plurality of lower level control devices;
requesting the plurality of lower level control devices to transmit only the measurement data associated with the first identification information among the measurement data associated with each of the identification information related to the participation process;
Upper management device.
前記上位管理装置とネットワークを介して接続される、複数の前記下位制御装置と、を備える生産制御システム。 A host management device according to any one of claims 1 to 4 ,
A production control system comprising: a plurality of the lower control devices connected to the upper management device via a network.
1つの前記下位制御装置から、当該下位制御装置において異常が検知されたときの異常発生工程に関する異常工程情報を受信する受信ステップと、
前記異常工程情報に基づき、前記生産ラインに含まれる工程の中から、前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物に関与する関与処理を特定する特定ステップと、
複数の前記下位制御装置に対して、前記関与処理に関する測定データの送信を要求する指令ステップと、
前記異常工程情報、および、前記測定データを記憶部に記憶する制御を行う記憶制御ステップと、を含み、
前記生産ラインにおいて生産される前記生産対象物にはそれぞれに識別情報が付されており、
前記特定ステップにおいて、前記生産ラインに含まれる前記工程の順番と、それぞれの前記工程の所要時間とを示す所要時間テーブルを参照し、前記異常工程情報に基づいて、前記関与処理を工程情報と実施時刻情報とによって特定し、
前記指令ステップにおいて、
複数の前記下位制御装置に対して、前記工程情報、前記実施時刻情報、及び前記異常発生工程において生産されていた前記生産対象物の第1識別情報を送信し、
複数の前記下位制御装置に対して、前記関与処理に関する、それぞれの識別情報に紐付けられた測定データのうち、前記第1識別情報に紐付けられた測定データのみの送信を要求する、
上位管理方法。 A method for managing a production line including a plurality of processes for producing a production object, comprising :
a receiving step of receiving abnormal process information relating to an abnormal process when an abnormality is detected in one of the lower control devices from the lower control device;
a step of identifying a process involved in the production object that was being produced in the process where the abnormality occurred, from among the processes included in the production line, based on the abnormal process information;
a command step of requesting a plurality of the lower-level control devices to transmit measurement data related to the participation process;
A storage control step of controlling storage of the abnormal process information and the measurement data in a storage unit ,
Identification information is attached to each of the production objects produced in the production line,
In the identifying step, a required time table showing the order of the processes included in the production line and the required time of each of the processes is referred to, and the involved process is identified by process information and implementation time information based on the abnormal process information;
In the command step,
transmitting the process information, the execution time information, and first identification information of the production object that was produced in the abnormality occurrence process to the plurality of lower level control devices;
requesting the plurality of lower level control devices to transmit only the measurement data associated with the first identification information among the measurement data associated with each of the identification information related to the participation process;
Higher level management methods.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020178866A JP7552249B2 (en) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | Host management device, production control system, host management method, and host management program |
PCT/JP2021/033597 WO2022091608A1 (en) | 2020-10-26 | 2021-09-13 | Higher-order management apparatus, production control system, higher-order management method, and higher-order management program |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020178866A JP7552249B2 (en) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | Host management device, production control system, host management method, and host management program |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022069917A JP2022069917A (en) | 2022-05-12 |
JP7552249B2 true JP7552249B2 (en) | 2024-09-18 |
Family
ID=81382323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020178866A Active JP7552249B2 (en) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | Host management device, production control system, host management method, and host management program |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7552249B2 (en) |
WO (1) | WO2022091608A1 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017191189A (en) | 2016-04-13 | 2017-10-19 | セイコーエプソン株式会社 | Display system, display device, and control method for display system |
JP2020123230A (en) | 2019-01-31 | 2020-08-13 | 株式会社安川電機 | Trace data acquisition system, trace data acquisition method, and program |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111240276A (en) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 汉能移动能源控股集团有限公司 | Production automation control management system |
-
2020
- 2020-10-26 JP JP2020178866A patent/JP7552249B2/en active Active
-
2021
- 2021-09-13 WO PCT/JP2021/033597 patent/WO2022091608A1/en active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017191189A (en) | 2016-04-13 | 2017-10-19 | セイコーエプソン株式会社 | Display system, display device, and control method for display system |
JP2020123230A (en) | 2019-01-31 | 2020-08-13 | 株式会社安川電機 | Trace data acquisition system, trace data acquisition method, and program |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022091608A1 (en) | 2022-05-05 |
JP2022069917A (en) | 2022-05-12 |
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