JP7505005B2 - 制御装置、画像形成装置、制御方法、及び制御プログラム - Google Patents
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Description
本開示は、制御装置、画像形成装置、制御方法、及び制御プログラムに関する。
一般に、画像表示のための電磁波を走査する方式としては、水平軸および垂直軸の両軸ともに正弦的な駆動を行い、リサージュ曲線を描くことによって画面を網羅するリサージュスキャン方式が注目されている。
例えば、特表２００５－５２６２８９号公報には、リサージュ曲線に応じて画像ビームを掃引することにより画像を形成する技術が記載されている。また、特開２０１９－０８２６３４号公報には、リサージュ曲線に応じて光を走査することにより画像を形成する技術が記載されている。
リサージュ方式では、むら等が生じることにより、形成される画像の画質が低下する場合があった。特開２０１９－０８２６３４号公報に記載の技術では、光の走査領域において、走査線の粗密を低減させることにより画像むらを低減する技術が記載されている。しかしながら、特開２０１９－０８２６３４号公報に記載の技術では、形成される画像の画質を向上させるには十分とはいえない場合があった。
本開示は、上記事情を考慮して成されたものであり、リサージュ曲線に応じて走査された電磁波により形成される画像の画質を向上させることができる制御装置、画像形成装置、制御方法、及び制御プログラムを提供する。
本開示の第１の態様の制御装置は、少なくとも１つのプロセッサを備え、プロセッサは、リサージュ曲線に応じて空間変調した電磁波を走査させ、かつ電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調させて画像を形成する場合に、リサージュ曲線の複数の交点のうち、第１の方向に連続する複数の交点を通る第１の直線と、第１の方向と交差する第２の方向に連続する複数の交点を通る第２の直線とにより囲まれた領域を部分領域とする制御を行う。
本開示の第２の態様の制御装置は、第１の態様の制御装置において、プロセッサは、走査領域の端部に設けられた部分領域は、画像の形成に用いない。
本開示の第３の態様の制御装置は、第１の態様の制御装置において、プロセッサは、走査領域の端部に設けられた隣接する複数の部分領域をまとめて、１つの部分領域として扱う。
本開示の第４の態様の制御装置は、第１の態様または第２の態様の制御装置において、部分領域を通過するリサージュ曲線は１本である。
本開示の第５の態様の制御装置は、第１の態様から第４の態様のいずれか１態様の制御装置において、部分領域は矩形状である。
また、本開示の第６の態様の画像形成装置は、電磁波を出力する出力部と、空間変調信号に基づいて、走査する電磁波の角度または位置をリサージュ曲線に応じて空間変調する空間変調部と、時間変調信号に基づいて、電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調する時間変調部と、本開示の制御装置と、を備える。
本開示の第７の態様の画像形成装置は、第６の態様の画像形成装置において、空間変調及び時間変調が行われた電磁波のゆがみを補正する補正部をさらに備える。
また、本開示の第８の態様の制御方法は、リサージュ曲線に応じて空間変調した電磁波を走査させ、かつ電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調させて画像を形成する場合に、リサージュ曲線の複数の交点のうち、第１の方向に連続する複数の交点を通る第１の直線と、第１の方向と交差する第２の方向に連続する複数の交点を通る第２の直線とにより囲まれた領域を部分領域とする制御を行う処理をプロセッサが実行するための方法である。
また、本開示の第９の態様の制御プログラムは、リサージュ曲線に応じて空間変調した電磁波を走査させ、かつ電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調させて画像を形成する場合に、リサージュ曲線の複数の交点のうち、第１の方向に連続する複数の交点を通る第１の直線と、第１の方向と交差する第２の方向に連続する複数の交点を通る第２の直線とにより囲まれた領域を部分領域とする制御を行う処理をプロセッサに実行させるためのものである。
本開示によれば、リサージュ曲線に応じて走査された電磁波により形成される画像の画質を向上させることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、本実施形態は本発明を限定するものではない。
一例として本実施形態では、本開示の技術をレーザ光をリサージュ方式により走査することにより投影面に画像を形成する画像形成装置に適用した形態について説明する。本実施形態のレーザ光が、本開示の電磁波の一例である。
図１には、本実施形態の画像形成装置１０の構成の一例を示す。図１に示すように本実施形態の画像形成装置１０は、制御部２０、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ドライバ２２、ＭＥＭＳミラー２４、レーザドライバ２６、発光装置２５、コリメータ３０、及び投影面３４を備える。
発光装置２５は、レーザドライバ２６及び発光部２８を有する。本実施形態のレーザドライバ２６は、制御部２０により生成された時間変調信号（詳細後述）に基づいて発光部２８を駆動し、画像を形成するためのＲ（Ｒ：Red）Ｇ（Ｇ：green）Ｂ（Ｂ：Blue）各々のレーザ光を発光部２８から出力する機能を有する。本実施形態の発光装置２５が、本開示の時間変調部の一例である。
発光部２８から出力されたレーザ光は、コリメータ３０によりコリメートされた後、ＭＥＭＳミラー２４により投影面３４に向けて反射される。
ＭＥＭＳドライバ２２は、制御部２０により生成された空間変調信号（詳細後述）に基づいて、ＭＥＭＳミラー２４を駆動する。ＭＥＭＳミラー２４は、レーザ光を反射する反射面が、水平方向（Ｘ方向）と、垂直方向（Ｙ方向）の二軸に対して独立に傾く。本実施形態では、空間変調信号によって反射面が傾けられることにより、反射されたレーザ光が投影面３４においてリサージュ曲線を描く状態に走査される。リサージュ曲線とは、Ｘ軸の周波数、Ｙ軸の周波数、及びそれらの位相によって決まる曲線である。本実施形態のＭＥＭＳドライバ２２及びＭＥＭＳミラー２４が、本開示の空間変調部の一例である。また、本実施形態のＸ方向が本開示の第１の方向の一例であり、本実施形態のＹ方向が本開示の第２の方向の一例である。
なお、本実施形態において投影面３４とは、スクリーン等の実際の物体の表面に限定されず、空間上の仮想面も含むものとする。
本実施形態の制御部２０は、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）２０Ａ、及びＦＰＧＡ２０Ａで実行される制御プログラム等の各種情報を記憶する不揮発性のメモリ２０Ｂを含む。本実施形態の制御部２０が本開示の制御装置の一例である。
本実施形態の制御部２０は、レーザ光が走査されるリサージュ曲線の複数の交点のうち、水平方向に連続する複数の交点を通る直線と、垂直方向に連続する複数の交点を通る直線とにより囲まれた領域を投影面３４において画像を形成する単位となる部分領域とする制御を行う。換言すると、本実施形態の制御部２０は、レーザ光が走査されるリサージュ曲線の複数の交点のうち、水平方向に連続する複数の交点を通る直線と、垂直方向に連続する複数の交点を通る直線とにより囲まれた部分領域を描画単位とした画像を形成させる制御を行う。
図２には、本実施形態における部分領域の一例を示す。図２に示した例では、走査領域７０における部分領域７６は、レーザ光のリサージュ曲線７２の交点７４のうち、Ｘ方向に連続する複数の交点７４を通るグリッド線７５ｘと、Ｙ方向に連続する複数の交点７４を通るグリッド線７５ｙとに囲まれた領域である。図２に示すように、部分領域７６は、走査領域の中央に近づくほど大きくなり、走査領域の端部に近づくほど小さくなる。また、図２に示すように、各部分領域７６は、対角線上にある２つの頂点を交点７４とした矩形状の領域である。
本実施形態の部分領域７６を通過するリサージュ曲線７２は１本である。すなわち、レーザ光の１回の発光により、部分領域７６に画像が形成される。
図３には、比較例として、本実施形態と異なり、リサージュ曲線７２の交点７４を考慮せずに定められた部分領域１７６の一例を示す。図３に示した例では、等間隔に配置されたグリッド線１７５ｘ及びグリッド線１７５ｙにより囲まれた部分領域１７６が示されている。すなわち、図３に示した例では、全ての部分領域１７６が同一形状かつ同一の大きさである。この場合、部分領域１７６１のように、リサージュ曲線７２が通過しない部分領域１７６が生じる。リサージュ曲線７２が通過しないため、レーザ光が走査されず発光しない。そのため、その部分領域１７６には画像が形成されず、いわば、ドット欠けが生じた状態となる。このように、リサージュ曲線７２が通過しない部分領域１７６の数は、グリッド線１７５ｘ、１７５ｙの数が多くなるほど、多くなる。換言すると、リサージュ曲線７２が通過しない部分領域１７６の数は、部分領域１７６の大きさが小さくなるほど、多くなる。いわば、投影面３４に形成される画像の解像度が高くなるほど、ドット欠けが多くなる。
また、図３に示した例では、部分領域１７６２のように、リサージュ曲線７２が複数本通過する１７６が生じる。すなわち、レーザ光が複数回通過するため、複数回の発光により、その部分領域１７６に対応する画像を形成する。この場合、投影されるレーザ光の光量を制御しなければ、レーザ光の通過回数、より厳密には通過距離に応じて部分領域１７６に形成される画像の濃度が濃くなる。一方、各部分領域１７６において投影されるレーザ光の光量を一定にするための制御を行った場合、その制御が複雑化する。
また、部分領域１７６を通過するリサージュ曲線７２が短い場合、すなわち、部分領域１７６を通過するレーザ光の距離が短い場合、投影されるレーザ光の単位時間当たりの光量をより多くしなければならない。また、短時間で発光部２８の発光及び消光を行わなければならないが、発光装置２５の仕様によっては、十分な光量の発光を行うことができない場合がある。
このような図３に示した比較例に対し、図２に示したように、また上述したように、本実施形態の画像形成装置１０では、全ての部分領域７６を、１回ずつリサージュ曲線７２が通過する。そのため、画像が形成されない部分領域７６が生じることがない。さらに、本実施形態の画像形成装置１０では、部分領域７６を通過するリサージュ曲線７２の長さを十分に長くすることができる。すなわち、本実施形態の画像形成装置１０では、各部分領域７６の画像を形成する場合に、発光部２８を１回ずつ発光させればよいため、制御が容易になる。
図４には、本実施形態の画像形成装置１０の一例を表すブロック図を示す。図４には、制御部２０の機能的構成の一例を表す機能ブロック図が含まれる。図４に示すように、本実施形態の制御部２０は、入力部４０、部分領域対応付部５０、時間変調信号生成部５２、空間変調信号生成部５４、部分領域導出部５６、及び空間変調位置対応付部５８を備える。一例として本実施形態の制御部２０は、ＦＰＧＡ２０Ａがメモリ２０Ｂに記憶されている制御プログラムを実行することにより、ＦＰＧＡ２０Ａが、入力部４０、部分領域対応付部５０、時間変調信号生成部５２、空間変調信号生成部５４、部分領域導出部５６、及び空間変調位置対応付部５８として機能する。
入力部４０には、形成する画像を表す画像データが入力される。以下、入力部４０に入力された画像データに応じた画像を、入力画像という場合がある。一例として、本実施形態では、ＲＧＢ各々の色を有するカラー画像の画像データが、入力部４０に入力される。入力部４０に入力された画像データは、部分領域対応付部５０に出力される。なお、入力部４０に入力されるデータは、本実施形態に限定されず、出力する画像（パターン）に応じたデータであればよい。例えば、レーザ光を出力するか否かを表す２値化されたデータであってもよい。また例えば、出力量の多値を表すデータであってもよい。
部分領域対応付部５０は、入力部４０から入力された画像データに応じた入力画像を、部分領域７６に対応付ける機能を有する。一例として、本実施形態では、走査領域７０の全体に入力部４０に入力された入力画像を投影する。そのため、走査領域７０の全体と、入力画像とが一致する状態として、入力画像を部分領域７６に対応付ける。より具体的には、入力画像を複数に分割した部分領域が、いずれの部分領域７６に対応するかを対応付ける。
なお、本実施形態に限定されず、走査領域７０における一部の領域に、入力画像を対応させる形態としてもよい。上述したように、部分領域７６は、走査領域７０の中央ほど大きく、走査領域７０の端部に近づくほど小さくなる。また、リサージュ曲線７２の特性から、部分領域７６の形状が、走査領域７０の端部に近い方が小さくなるため、いわば歪んだ状態となる。そのため、図５に示した一例のように、走査領域７０の中央部の部分領域７６による領域を入力画像領域７８としてもよい。すなわち、走査領域７０の端部近傍の部分領域７６には入力画像を投影しない形態としてもよい。この場合、例えば、走査領域７０に対する入力画像領域７８の位置を表す情報を、予め制御部２０のメモリ２０Ｂに記憶させておけばよい。なお、具体的な入力画像領域７８の位置等は、リサージュ曲線７２の密度、すなわち部分領域７６の大きさ等に応じて定めることができる。
なお、入力画像を走査領域７０に対応付ける具体的な方法は、特に限定されない。例えば、入力画像の画素を、そのまま各部分領域７６に対応付けてもよい。また例えば、入力画像の画像データに対してアフィン変換などを行うことにより、上述した部分領域７６の歪みに応じて、変形させた後、各部分領域７６と対応付けてもよい。
また、本実施形態に限定されず、隣接する複数の部分領域７６をまとめて、１つの部分領域として扱ってもよい。特に、上述したように、走査領域７０の端部ほど、部分領域７６が小さくなるため、図６に示した一例のように、走査領域７０の端部近傍の部分領域７６をまとめて、１つの部分領域７７として扱ってもよい。図６に示した例では、２つの部分領域７６をまとめて１つの部分領域７７とした例を示している。なお、まとめる部分領域７６の数は特に限定されない。例えば、走査領域７０の中央部に位置する部分領域７６と面積が同程度になる状態、または部分領域７６及び部分領域７７において通過するリサージュ曲線７２の長さ（レーザ光の発光時間）が同程度になる状態とすることにより走査領域７０全体で、部分領域７６、７７を均一化することができる。なお、水平解像度を重視する場合は、垂直方向に並んだ部分領域７６をまとめて部分領域７７とし、垂直解像度を重視する場合は、水平方向に並んだ部分領域７６をまとめて部分領域７７としてもよい。
空間変調信号生成部５４は、リサージュ曲線７２を描くための同期信号を空間変調信号として生成する。一例として本実施形態では、ＭＥＭＳドライバ２２への入力信号と同期する同期信号を生成する。なお、同期方法は本実施形態に限定されず、例えば、ＭＥＭＳミラー２４から入力されるセンサ信号と同期させてもよい。
部分領域導出部５６は、上述したように、リサージュ曲線７２の交点７４から導出される、グリッド線７５ｘとグリッド線７５ｙとにより囲まれた領域を部分領域７６として導出する。なお、グリッド線７５ｘ及びグリッド線７５ｙの間隔は、図７に示したように、リサージュ曲線７２を定義するθを等間隔に分割した場合のｃｏｓθ（０＜θ＜π）で生成することができる。ここで、θはグリッドの線数をｎとしたとき、初項が０で、公差π／（ｎ－１）である等差数列である。
空間変調位置対応付部５８は、リサージュ曲線７２の走査順に応じて、画像データを並べ替える位置、すなわち部分領域７６の位置を対応付ける。本実施形態では、リサージュ曲線７２が通過する順番に、部分領域７６に画像が描かれる。一般的な画像は、左上の部分領域７６から１つの部分領域７６ずつ右側に順に配置され、右端に達すると、１つの部分領域７６下の左端から順に配置される。しかしながら、リサージュ方式の場合、このような順序で部分領域７６の画像を形成しないため、リサージュ曲線７２の描画順に合わせて描画位置を対応付ける。対応付けの情報は、時間変調信号生成部５２に出力される。ない対応付けの情報は、変換用のテーブル情報として、制御部２０のメモリ２０Ｂ等に予め記憶させておいてもよい。また、対応付けの情報は、配置を逐次的に計算するための情報であってもよい。
時間変調信号生成部５２は、レーザ光が部分領域７６を通過する際に、通過する部分領域７６に対応する画像を形成するために、空間変調位置対応付部５８から入力された対応付けの情報に基づいて、部分領域７６を通過するタイミングで、部分領域７６を通過する通過時間に反比例する出力強度の信号を時間変調信号として生成する。
時間変調信号生成部５２により生成された時間変調信号は、発光装置２５に出力される。発光装置２５では、上述したように時間変調信号に基づいて、レーザドライバ２６が発光部２８を発光させて、時間変調されたレーザ光を出力する。レーザ光は、空間変調信号生成部５４により生成された空間変調信号に基づいてＭＥＭＳドライバ２２がＭＥＭＳミラー２４を動作させることにより、リサージュ曲線７２に応じて走査され、投影面３４に画像が形成される。
以上説明したように、上記各実施形態の制御部２０は、少なくとも１つのプロセッサとしてＦＰＧＡ２０Ａを備える。ＦＰＧＡ２０Ａは、リサージュ曲線７２に応じて空間変調したレーザ光を走査させ、かつレーザ光の走査領域７０を分割した部分領域７６毎に形成する画像に応じてレーザ光の強度を時間変調させて画像を形成する場合に、以下の制御を行う。ＦＰＧＡ２０Ａは、リサージュ曲線７２の複数の交点７４のうち、Ｘ方向に連続する複数の交点７４を通るグリッド線７５ｘと、Ｘ方向と交差するＹ方向に連続する複数の交点７４を通るグリッド線７５ｙとにより囲まれた領域を部分領域７６とする制御を行う。
上記構成によればば、全ての部分領域７６を、１本のリサージュ曲線７２が通過するため、リサージュ曲線７２に応じて走査されたレーザ光により形成される画像の画質を向上させることができる。
なお、上述したように、リサージュ曲線７２の特性から、いわば、リサージュ曲線７２が走査領域の端部に行くほど歪んだ状態となるため、走査領域７０の近傍と端部とで部分領域７６の大きさが異なり、いわば画像が歪んだ状態となる。そのため、ＭＥＭＳミラー２４と投影面３４との間に、画像の歪みを補正する補正部材を設けてもよい。
図８に示した補正部材３２では、リサージュ曲線７２の歪み、換言するとレーザ光のゆがみを補正することで、画像の歪みを補正する。本実施形態の補正部材３２が、本開示の補正部の一例である。図８には、歪みを補正する補正部材３２の一例として、中心部は平面に近く、周辺のみに曲率が高く、かつ端部に近づくほど曲率が高くなる非球面凸面鏡を設けた場合を示す。図８に示した補正部材３２では、凸面の曲率が高い周辺部分では光を広げることによりレーザ光のゆがみを補正するため、グリッド線７５ｘ及びグリッド線７５ｙが等間隔になる。従って、補正部材３２によれば、画像の歪みを補正することができる。
また、本実施形態では、レーザ光を電磁波の一例とした形態について説明したが、電磁波は、レーザ光に限定されるものではない。例えば、可視光や紫外線等のその他の電磁波であってもよい。その他の電磁波に適用する場合、発光装置２５の代わりに、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の電磁波発生器やブラウン管等の電磁銃等を、時間変調部の一例として用いてもよい。また、その他の電磁波に適用する場合、ＭＥＭＳドライバ２２及びＭＥＭＳミラー２４の代わりに、磁界や電界を生成する偏向ヨーク（ブラウン管）や共振振り子等を、空間変調部の一例として用いてもよい。
また、投影面３４に描かれる画像は、人間によって不可視の画像であってもよく、例えば、いわゆる潜像等であってもよい。
なお、本実施形態では、画像を形成するための電磁波について説明したが、電磁波に代わり、インク等の液体、音波、または粒子を扱う形態としてもよい。
上記実施形態において、例えば、入力部４０、部分領域対応付部５０、時間変調信号生成部５２、空間変調信号生成部５４、部分領域導出部５６、及び空間変調位置対応付部５８といった各種の処理を実行する処理部（processing unit）のハードウェア的な構造としては、次に示す各種のプロセッサ（processor）を用いることができる。上記各種のプロセッサには、前述したように、ソフトウェア（プログラム）を実行して各種の処理部として機能する上記ＦＰＧＡ等の製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス（Programmable Logic Device：PLD）、汎用的なプロセッサであるＣＰＵ（Central Processing Unit）、及びＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等の特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路等が含まれる。
１つの処理部は、これらの各種のプロセッサのうちの１つで構成されてもよいし、同種又は異種の２つ以上のプロセッサの組み合わせ（例えば、複数のＦＰＧＡの組み合わせや、ＣＰＵとＦＰＧＡとの組み合わせ）で構成されてもよい。また、複数の処理部を１つのプロセッサで構成してもよい。
複数の処理部を１つのプロセッサで構成する例としては、第１に、１つ以上のＣＰＵとソフトウェアの組み合わせで１つのプロセッサを構成し、このプロセッサが複数の処理部として機能する形態がある。第２に、システムオンチップ（System On Chip：SoC）等に代表されるように、複数の処理部を含むシステム全体の機能を１つのＩＣ（Integrated Circuit）チップで実現するプロセッサを使用する形態がある。このように、各種の処理部は、ハードウェア的な構造として、上記各種のプロセッサの１つ以上を用いて構成される。
更に、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造としては、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路（circuitry）を用いることができる。
また、上記実施形態では、本開示の制御プログラムがメモリ２０Ｂに予め記憶（インストール）されている態様を説明したが、これに限定されない。制御プログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ（Compact Disc Read Only Memory）、ＤＶＤ－ＲＯＭ（Digital Versatile Disc Read Only Memory）、及びＵＳＢ（Universal Serial Bus）メモリ等の記録媒体に記録された形態で提供されてもよい。また、制御プログラムは、ネットワークを介して外部装置からダウンロードされる形態としてもよい。
２０２０年８月１２日出願の日本国特許出願２０２０－１３６４７３号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
１０ 画像形成装置
２０ 制御部、２０Ａ ＦＰＧＡ、２０Ｂ メモリ
２２ ＭＥＭＳドライバ
２４ ＭＥＭＳミラー
２５ 発光装置
２６ レーザドライバ
２８ 発光部
３０ コリメータ
３２ 補正部材
３４ 投影面
４０ 入力部
５０ 部分領域対応付部
５２ 時間変調信号生成部
５４ 空間変調信号生成部
５６ 部分領域導出部
５８ 空間変調位置対応付部
７０ 走査領域
７２ リサージュ曲線
７４ 交点
７５ｘ、７５ｙ、１７５ｘ、１７５ｙ グリッド線
７６、７７、１７６、１７６１、１７６２ 部分領域
７８ 入力画像領域
Ｘ、Ｙ 方向
２０ 制御部、２０Ａ ＦＰＧＡ、２０Ｂ メモリ
２２ ＭＥＭＳドライバ
２４ ＭＥＭＳミラー
２５ 発光装置
２６ レーザドライバ
２８ 発光部
３０ コリメータ
３２ 補正部材
３４ 投影面
４０ 入力部
５０ 部分領域対応付部
５２ 時間変調信号生成部
５４ 空間変調信号生成部
５６ 部分領域導出部
５８ 空間変調位置対応付部
７０ 走査領域
７２ リサージュ曲線
７４ 交点
７５ｘ、７５ｙ、１７５ｘ、１７５ｙ グリッド線
７６、７７、１７６、１７６１、１７６２ 部分領域
７８ 入力画像領域
Ｘ、Ｙ 方向
Claims (6)
- 少なくとも１つのプロセッサを備え、
前記プロセッサは、
リサージュ曲線に応じて空間変調した電磁波を走査させ、かつ前記電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調させて、入力画像における１画素を１つの前記部分領域に対応させて前記画像を形成する場合に、
前記リサージュ曲線の複数の交点のうち、第１の方向に連続する複数の交点を通る第１の直線と、前記第１の方向と交差する第２の方向に連続する複数の交点を通る第２の直線とにより囲まれた領域を前記部分領域とする制御を行う
制御装置であって、
前記走査領域の中央部に位置する前記部分領域の面積と前記走査領域の端部近傍に位置する前記部分領域の面積とが同程度となるよう、又は
前記走査領域の中央部に位置する前記部分領域を通過するリサージュ曲線の長さと前記走査領域の端部近傍に位置する前記部分領域を通過するリサージュ曲線の長さとが同程度となるよう、
前記走査領域の端部近傍に位置する隣接する複数の前記部分領域をまとめて１つの前記部分領域とする、
制御装置。 - 前記部分領域は矩形状である
請求項１に記載の制御装置。 - 電磁波を出力する出力部と、
空間変調信号に基づいて、走査する前記電磁波の角度または位置をリサージュ曲線に応じて空間変調する空間変調部と、
時間変調信号に基づいて、前記電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調する時間変調部と、
請求項１または請求項２に記載の制御装置と、
を備えた画像形成装置。 - 前記空間変調及び前記時間変調が行われた前記電磁波のゆがみを補正する補正部をさらに備えた
請求項３に記載の画像形成装置。 - リサージュ曲線に応じて空間変調した電磁波を走査させ、かつ前記電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調させて、入力画像における１画素を１つの前記部分領域に対応させて前記画像を形成する場合に、
前記リサージュ曲線の複数の交点のうち、第１の方向に連続する複数の交点を通る第１の直線と、前記第１の方向と交差する第２の方向に連続する複数の交点を通る第２の直線とにより囲まれた領域を前記部分領域とする制御を行う
処理をプロセッサが実行する制御方法であって、
前記走査領域の中央部に位置する前記部分領域の面積と前記走査領域の端部近傍に位置する前記部分領域の面積とが同程度となるよう、又は
前記走査領域の中央部に位置する前記部分領域を通過するリサージュ曲線の長さと前記走査領域の端部近傍に位置する前記部分領域を通過するリサージュ曲線の長さとが同程度となるよう、
前記走査領域の端部近傍に位置する隣接する複数の前記部分領域をまとめて１つの前記部分領域とする、
制御方法。 - リサージュ曲線に応じて空間変調した電磁波を走査させ、かつ前記電磁波の走査領域を分割した部分領域毎に形成する画像に応じて電磁波の強度を時間変調させて、入力画像における１画素を１つの前記部分領域に対応させて前記画像を形成する場合に、
前記リサージュ曲線の複数の交点のうち、第１の方向に連続する複数の交点を通る第１の直線と、前記第１の方向と交差する第２の方向に連続する複数の交点を通る第２の直線とにより囲まれた領域を前記部分領域とする制御を行う
処理をプロセッサに実行させるための制御プログラムであって、
前記走査領域の中央部に位置する前記部分領域の面積と前記走査領域の端部近傍に位置する前記部分領域の面積とが同程度となるよう、又は
前記走査領域の中央部に位置する前記部分領域を通過するリサージュ曲線の長さと前記走査領域の端部近傍に位置する前記部分領域を通過するリサージュ曲線の長さとが同程度となるよう、
前記走査領域の端部近傍に位置する隣接する複数の前記部分領域をまとめて１つの前記部分領域とする、
制御プログラム。
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| JP2020136473 | 2020-08-12 | ||
| JP2020136473 | 2020-08-12 | ||
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