JP7496271B2 - Anti-fogging laminate and method for producing same - Google Patents

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Description

本開示は、防曇性積層体及びその製造方法に関する。 This disclosure relates to an anti-fogging laminate and a method for producing the same.

近年、プラスチック等の有機材料から形成される基材、又は、ガラス等の無機材料から形成される基材に対し、曇りにくい性質(防曇性)が求められる場合がある。
例えば、特許文献1には、防曇性を有する積層体(即ち、防曇性積層体)を製造するための方法として、基材に対し、(メタ)アクリル系モノマーを含む硬化性組成物を塗布して塗布物層を形成し、形成された塗布物層を硬化させて硬化物層に変換することにより、基材と硬化物層とを含む防曇性積層体を製造する方法が開示されている。
2. Description of the Related Art In recent years, there are cases where a substrate made of an organic material such as plastic or an inorganic material such as glass is required to have a property of being less likely to fog up (anti-fogging property).
For example, Patent Document 1 discloses a method for producing a laminate having anti-fogging properties (i.e., an anti-fogging laminate), which comprises applying a curable composition containing a (meth)acrylic monomer to a substrate to form a coating layer, and curing the formed coating layer to convert it into a cured layer, thereby producing an anti-fogging laminate including a substrate and a cured layer.

国際公開第2019/221268号International Publication No. 2019/221268

しかしながら、特許文献1に記載の防曇性積層体は、耐擦傷性の点で改善の余地があった。 However, the anti-fog laminate described in Patent Document 1 leaves room for improvement in terms of scratch resistance.

上記事情に鑑み、本開示の一態様の目的は、耐擦傷性に優れる防曇性積層体及びその製造方法を提供することである。 In view of the above circumstances, an object of one aspect of the present disclosure is to provide an anti-fog laminate having excellent scratch resistance and a method for producing the same.

上記課題を解決する手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 基材上に、光硬化性組成物を塗布して塗布物層を形成する工程と、
前記塗布物層上に光透過性フィルムを配置する工程と、
前記塗布物層に対し、前記光透過性フィルムを介して光を照射することにより、前記塗布物層を硬化させて硬化物層を得る工程と、
を有する、防曇性積層体の製造方法。
<2> 前記光透過性フィルムを配置する工程は、前記光透過性フィルムと前記塗布物層との間に介在する気体を除去する工程を含む、<1>に記載の防曇性積層体の製造方法。
<3> 前記光透過性フィルムは、200nm~500nmの波長領域における平均透過率が40%以上である、<1>又は<2>に記載の防曇性積層体の製造方法。
<4> 前記光硬化性組成物が、2以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーと、無機粒子と、界面活性剤と、を含有する、<1>~<3>のいずれか1つに記載の防曇性積層体の製造方法。
<5> 基材と、
前記基材上に配置された硬化物層と、
を備え、
前記硬化物層側から測定した微小押込み硬さが0.080GPa以上である、防曇性積層体。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A step of applying a photocurable composition onto a substrate to form a coating layer;
placing a light-transmitting film on the coating layer;
a step of irradiating the coating layer with light through the light-transmitting film to cure the coating layer to obtain a cured layer;
A method for producing an anti-fogging laminate comprising the steps of:
<2> The method for producing an anti-fogging laminate according to <1>, wherein the step of disposing the light-transmitting film includes a step of removing gas present between the light-transmitting film and the coating layer.
<3> The method for producing an anti-fogging laminate according to <1> or <2>, wherein the light-transmitting film has an average transmittance of 40% or more in a wavelength region of 200 nm to 500 nm.
<4> The method for producing an anti-fogging laminate according to any one of <1> to <3>, wherein the photocurable composition contains a polyfunctional monomer having two or more (meth)acryloyl groups, inorganic particles, and a surfactant.
<5> A substrate,
A cured material layer disposed on the substrate;
Equipped with
The anti-fogging laminate has a microindentation hardness of 0.080 GPa or more measured from the cured layer side.

本開示の一態様によれば、耐擦傷性に優れる防曇性積層体及びその製造方法が提供される。 According to one aspect of the present disclosure, an anti-fog laminate having excellent scratch resistance and a method for producing the same are provided.

本開示において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本開示において、組成物に含有される各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、「光」は、紫外線、可視光線等の活性エネルギー線を包含する概念である。
In the present disclosure, a numerical range expressed using "to" means a range that includes the numerical values before and after "to" as the lower and upper limits.
In the present disclosure, when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, the amount of each component contained in the composition means the total amount of the plurality of substances present in the composition, unless otherwise specified.
In the numerical ranges described in the present disclosure in stages, the upper or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper or lower limit value of another numerical range described in stages. In addition, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limit value of the numerical range may be replaced with a value shown in the examples.
In the present disclosure, the term "light" is a concept that encompasses active energy rays such as ultraviolet light and visible light.

本開示において、「(メタ)アクリレート」はアクリレート又はメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリロイル」はアクリロイル又はメタクリロイルを意味し、「(メタ)アクリル」はアクリル又はメタクリルを意味する。 In this disclosure, "(meth)acrylate" means acrylate or methacrylate, "(meth)acryloyl" means acryloyl or methacryloyl, and "(meth)acrylic" means acrylic or methacrylic.

〔防曇性積層体の製造方法〕
本開示の防曇性積層体の製造方法は、
基材上に、光硬化性組成物を塗布して塗布物層を形成する工程(以下、「塗布物層形成工程」ともいう)と、
塗布物層上に光透過性フィルムを配置する工程(以下、「光透過性フィルム配置工程」ともいう)と、
塗布物層に対し、光透過性フィルムを介して光を照射することにより、塗布物層を硬化させて硬化物層を得る工程(以下、「硬化工程」ともいう)と、
を有する。
本開示の防曇性積層体の製造方法は、必要に応じ、その他の工程を有していてもよい。
[Method for producing anti-fogging laminate]
The method for producing the anti-fogging laminate of the present disclosure includes the steps of:
A step of applying a photocurable composition onto a substrate to form a coating layer (hereinafter also referred to as a "coating layer forming step");
A step of disposing a light-transmitting film on the coating layer (hereinafter also referred to as a "light-transmitting film disposing step");
a step of irradiating the coating layer with light through a light-transmitting film to cure the coating layer to obtain a cured layer (hereinafter also referred to as a "curing step");
has.
The method for producing the anti-fogging laminate of the present disclosure may include other steps as necessary.

本開示の防曇性積層体の製造方法によれば、耐擦傷性に優れる防曇性積層体を製造できる。
かかる効果が奏される理由は、光硬化性組成物を用いて形成された塗布物層に対し、光透過性フィルムを介して光を照射して硬化させることにより、酸素による重合阻害が抑制され、その結果、基材上に、硬度(即ち、耐擦傷性)に優れた硬化物層が形成されるためと考えられる。形成された硬化物層が防曇性も有し、その結果、耐擦傷性に優れる防曇性積層体が製造されると考えられる。
According to the method for producing an anti-fog laminate of the present disclosure, an anti-fog laminate having excellent scratch resistance can be produced.
The reason why such an effect is achieved is believed to be that the polymerization inhibition caused by oxygen is suppressed by curing the coating layer formed using the photocurable composition by irradiating light through a light-transmitting film, and as a result, a cured layer having excellent hardness (i.e., scratch resistance) is formed on the substrate. The formed cured layer also has antifogging properties, and as a result, an antifogging laminate having excellent scratch resistance is produced.

以下、本開示の防曇性積層体の製造方法に含まれ得る各工程について説明する。 Below, we will explain each step that may be included in the manufacturing method of the anti-fog laminate disclosed herein.

<塗布物層形成工程>
塗布物層形成工程は、基材上に、光硬化性組成物を塗布して塗布物層を形成する工程である。
<Coating Layer Forming Step>
The coating layer forming step is a step of forming a coating layer by applying a photocurable composition onto a substrate.

(基材)
基材としては特に制限はない。
基材としては、例えば;
ガラス、シリカ、金属、金属酸化物等の無機材料からなる無機基材;
ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネート、ポリアリルカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセチルセルロース(TAC)、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体(ABS)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリ(メタ)アクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、紙、パルプ等の有機材料からなる有機基材;
不飽和ポリエステル樹脂と無機充填材(例えば、ガラス繊維、炭酸カルシウム等)とを複合した有機無機複合材料(例えば、SMC(Sheet Molding Compound)、BMC(Bulk Molding Compound))からなる有機無機複合基材;
等が挙げられる。
基材の形状にも特に制限はなく、板形状、レンズ形状等であってもよい。
本開示では、板形状の基材を「基板」ともいう。
(Base material)
The substrate is not particularly limited.
Examples of the substrate include:
Inorganic substrates made of inorganic materials such as glass, silica, metals, and metal oxides;
organic substrates made of organic materials such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate, polyallyl carbonate, polyethylene terephthalate, polyacetyl cellulose (TAC), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane resin, epoxy resin, poly(meth)acrylate resin, vinyl chloride resin, silicone resin, paper, and pulp;
an organic/inorganic composite substrate made of an organic/inorganic composite material (e.g., SMC (Sheet Molding Compound), BMC (Bulk Molding Compound)) in which an unsaturated polyester resin and an inorganic filler (e.g., glass fiber, calcium carbonate, etc.) are combined;
etc.
The shape of the substrate is not particularly limited, and may be a plate shape, a lens shape, or the like.
In the present disclosure, the plate-shaped base material is also referred to as a "substrate."

基材としては、複数の部材が組み合わされてなる基材も挙げられる。
複数の部材が組み合わされてなる基材としては、例えば;
複数の基板が積層されてなる積層基板;
基板上に、被膜(例えば下塗り層)が設けられてなる被膜付き基板;
これらの両方を満足する基板(即ち、被膜付き積層基板);
等が挙げられる。
The substrate may be a substrate formed by combining a plurality of members.
Examples of the substrate formed by combining a plurality of members include:
A laminated substrate formed by laminating a plurality of substrates;
a coated substrate having a coating (e.g., an undercoat layer) provided on a substrate;
A substrate that satisfies both of these requirements (i.e. a coated laminate substrate);
etc.

下塗り層としては、プライマー層、アンダーコート層、アンカーコート層、等が挙げられる。
下塗り層は、コート剤を用いて形成できる。
コート剤としては、例えば、樹脂を主成分とする公知のコート剤を用いることができる。
樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体、等)、セルロース系樹脂、等が挙げられる。
下塗り層の厚さは、例えば0.5μm~10μmである。
The undercoat layer may include a primer layer, an undercoat layer, an anchor coat layer, and the like.
The undercoat layer can be formed by using a coating agent.
As the coating agent, for example, a known coating agent containing a resin as a main component can be used.
Examples of the resin include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth)acrylic resins, polyvinyl acetate resins,
Examples of the resin include polyolefin resins (for example, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymers, etc.), cellulose resins, etc.
The thickness of the undercoat layer is, for example, 0.5 μm to 10 μm.

基材の表面には、必要に応じ、活性化処理が施されていてもよい。
活性化処理としては、例えば、コロナ処理、オゾン処理、酸素ガスもしくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等による酸化処理、火炎処理、等が挙げられる。
The surface of the substrate may be subjected to an activation treatment, if necessary.
Examples of activation treatments include corona treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, flame treatment, and the like.

本開示の防曇性積層体の製造方法は、塗布物層形成工程の前に、更に、上述した基材(例えば、被膜付き積層基板等)を準備する基材準備工程を有していてもよい。 The method for producing the anti-fogging laminate of the present disclosure may further include a substrate preparation step of preparing the substrate (e.g., a laminate substrate with a coating film, etc.) described above prior to the coating layer formation step.

(光硬化性組成物)
光硬化性組成物としては、公知の光硬化性組成物を用いることができる。
光硬化性組成物は、
2以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマー(以下、「多官能モノマー(a1)」ともいう)と、
無機粒子(以下、「無機粒子(a2)」ともいう)と、
界面活性剤(以下、「界面活性剤(a3)」ともいう)と、
を含有することが好ましい。
好ましい態様の光硬化性組成物を用いて硬化物層を形成した場合には、硬化物層中に界面活性剤が貯蔵されつつ、この界面活性剤が硬化物層の表面に除々に滲出し、その結果、硬化物層の防曇性が発揮される。
(Photocurable composition)
As the photocurable composition, a known photocurable composition can be used.
The photocurable composition is
A polyfunctional monomer having two or more (meth)acryloyl groups (hereinafter also referred to as “polyfunctional monomer (a1)”),
Inorganic particles (hereinafter also referred to as “inorganic particles (a2)”),
A surfactant (hereinafter also referred to as “surfactant (a3)”),
It is preferred that the compound contains
When a cured layer is formed using the photocurable composition of a preferred embodiment, the surfactant is stored in the cured layer and gradually seeps out to the surface of the cured layer, resulting in the cured layer exhibiting anti-fogging properties.

-多官能モノマー(a1)-
光硬化性組成物は、多官能モノマー(a1)(即ち、2以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマー)を少なくとも1種含有することが好ましい。
多官能モノマー(a1)は、光硬化性組成物に光が照射された際に重合し、硬化物層の基本骨格となるネットワーク構造を形成する。これにより、塗布物層が硬化し、硬化物層に変換される。得られた硬化物層中には、上記ネットワーク構造の隙間として、界面活性剤が貯蔵される空間が形成される。
-Polyfunctional monomer (a1)-
The photocurable composition preferably contains at least one polyfunctional monomer (a1) (that is, a polyfunctional monomer having two or more (meth)acryloyl groups).
The polyfunctional monomer (a1) is polymerized when the photocurable composition is irradiated with light, and forms a network structure that serves as the basic skeleton of the cured layer. This causes the coating layer to harden and convert it into a cured layer. In the obtained cured layer, a space in which the surfactant is stored is formed as a gap in the network structure.

多官能モノマー(a1)は、好ましくは、2以上の(メタ)アクリロイル基と、これら2以上の(メタ)アクリロイル基を一分子内に固定するリンカー部分と、からなる。
多官能モノマー(a1)は、好ましくは、(メタ)アクリル酸と、2以上の水酸基を有する多価アルコールと、のエステルである。
ここで、「2以上の水酸基を有する多価アルコール」としては、例えば;
アルカンジオール、アルカントリオールなどのアルカンポリオール;
ポリアルキレングリコール(例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等)、アルカンポリオールにポリアルキレングリコールを付加してなる化合物、等のポリオキシアルキレン構造を含む化合物;
等が挙げられる。
「2以上の水酸基を有する多価アルコール」は、芳香環及び/又は脂肪族環を含んでいてもよい。芳香族環を含む「2以上の水酸基を有する多価アルコール」の例としては、ビスフェノールのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
The polyfunctional monomer (a1) preferably comprises two or more (meth)acryloyl groups and a linker moiety that fixes these two or more (meth)acryloyl groups within one molecule.
The polyfunctional monomer (a1) is preferably an ester of (meth)acrylic acid and a polyhydric alcohol having two or more hydroxyl groups.
Here, examples of the "polyhydric alcohol having two or more hydroxyl groups" include:
Alkane polyols such as alkane diols and alkane triols;
Compounds containing a polyoxyalkylene structure, such as polyalkylene glycols (e.g., polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) and compounds obtained by adding polyalkylene glycol to alkane polyol;
etc.
The "polyhydric alcohol having two or more hydroxyl groups" may contain an aromatic ring and/or an aliphatic ring. Examples of the "polyhydric alcohol having two or more hydroxyl groups" containing an aromatic ring include ethylene oxide adducts of bisphenols.

「2以上の水酸基を有する多価アルコール」としては、ポリオキシアルキレン構造を含む化合物が好ましく、ポリオキシエチレン構造を含むジオールがより好ましい。 As a "polyhydric alcohol having two or more hydroxyl groups", a compound containing a polyoxyalkylene structure is preferred, and a diol containing a polyoxyethylene structure is more preferred.

多官能モノマー(a1)の具体例として、下記式(1)又は下記式(2)で表される化合物が挙げられる。
多官能モノマー(a1)は、下記式(1)で表される化合物を含むことが好ましい。
Specific examples of the polyfunctional monomer (a1) include compounds represented by the following formula (1) or (2).
The polyfunctional monomer (a1) preferably contains a compound represented by the following formula (1).

式(1)中、nは、1~30の整数を示す。
式(2)中、l及びmは、l+mが2~40の整数となる数を示す。
In formula (1), n represents an integer of 1 to 30.
In formula (2), l and m are numbers such that l+m is an integer of 2 to 40.

多官能モノマー(a1)の具体例としては、例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、及び、2,2-ビス-[4-(アクリロキシ-ポリエトキシ)フェニル]-プロパンが挙げられる。
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、テトラデカエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリコサエチレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。
Specific examples of the polyfunctional monomer (a1) include polyethylene glycol diacrylate and 2,2-bis-[4-(acryloxy-polyethoxy)phenyl]-propane.
Examples of the polyethylene glycol di(meth)acrylate include tetradecaethylene glycol di(meth)acrylate and tricosaethylene glycol di(meth)acrylate.

光硬化性組成物に含有され得る多官能モノマー(a1)は、1種単独でも2種以上の組み合わせでもよい。
光硬化性組成物中における多官能モノマー(a1)の含有量は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対し、好ましくは30質量%~70質量%、より好ましくは35質量%~60質量%である。
The polyfunctional monomer (a1) that can be contained in the photocurable composition may be one type alone or two or more types in combination.
The content of the polyfunctional monomer (a1) in the photocurable composition is preferably 30% by mass to 70% by mass, more preferably 35% by mass to 60% by mass, based on the total dry mass of the photocurable composition.

本開示において、組成物の「総乾燥質量」とは、組成物中における、溶媒以外の全成分の合計質量を意味する。 In this disclosure, the "total dry weight" of a composition means the combined weight of all components in the composition other than the solvent.

光硬化性組成物中における多官能モノマー(a1)の含有量は、光硬化性組成物の全量に対し、好ましくは10質量%~50質量%、より好ましくは15質量%~35質量%である。 The content of the polyfunctional monomer (a1) in the photocurable composition is preferably 10% by mass to 50% by mass, more preferably 15% by mass to 35% by mass, based on the total amount of the photocurable composition.

-無機粒子(a2)-
光硬化性組成物は、無機粒子(a2)を少なくとも1種含有することが好ましい。
無機粒子(a2)は、硬化物層に、適度な硬度及び強度を与える役割を果たす。
無機粒子(a2)としては、無機物質を含む粒子が好ましく、実質的に無機物質からなる粒子がより好ましい。
無機物質としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、酸化スズ、酸化アンチモン、チタニアなどの金属酸化物、並びに、ナノダイヤモンド等が挙げられる。
これらの中でも、樹脂への分散性、硬度、耐光性等の観点から、シリカ又はジルコニアが特に好ましい。
--Inorganic particles (a2)--
The photocurable composition preferably contains at least one type of inorganic particles (a2).
The inorganic particles (a2) play a role in imparting appropriate hardness and strength to the cured product layer.
As the inorganic particles (a2), particles containing an inorganic substance are preferred, and particles consisting essentially of an inorganic substance are more preferred.
Examples of inorganic substances include silica, zirconia, alumina, metal oxides such as tin oxide, antimony oxide, and titania, as well as nanodiamond.
Among these, silica or zirconia is particularly preferred from the viewpoints of dispersibility in resin, hardness, light resistance, and the like.

無機粒子(a2)の粒径としては、5nm~50nmが好ましく、10nm~30nmがより好ましい。
無機粒子(a2)の粒径が5nm以上である場合には、硬化膜の硬度、及び、硬化膜中における分散性の観点からみて有利である。
無機粒子(a2)の粒径が50nm以下である場合には、硬化膜の透明性の観点からみて有利である。
ここで無機粒子(a2)の粒径は、レーザー光による動的散乱法によって求めた値を意味する。
The particle size of the inorganic particles (a2) is preferably from 5 nm to 50 nm, and more preferably from 10 nm to 30 nm.
When the particle size of the inorganic particles (a2) is 5 nm or more, it is advantageous from the viewpoint of the hardness of the cured film and dispersibility in the cured film.
When the particle size of the inorganic particles (a2) is 50 nm or less, it is advantageous from the viewpoint of the transparency of the cured film.
The particle size of the inorganic particles (a2) herein means a value determined by a dynamic scattering method using laser light.

無機粒子(a2)は、無機物質又は無機粒子(a2)の物性に影響を与えない程度の微量の有機物質を含んでいてもよい。
例えば、無機粒子(a2)としては、(メタ)アクリロイル基を含む官能基によって修飾されている無機粒子(以下、無機粒子(a2-1)ともいう)であってもよい。
光硬化性組成物が無機粒子(a2-1)を含む場合、光硬化性組成物が硬化する際、無機粒子(a2-1)中の(メタ)アクリロイル基と、多官能モノマー(a1)中の(メタ)アクリロイル基と、が反応し得る。その結果、無機粒子(a2-1)と、多官能モノマー(a1)によって形成されるネットワーク構造と、が一体化される。これにより、硬化膜の耐擦傷性及び防曇性がより向上する。
無機粒子(a2-1)として、特に好ましくは、(メタ)アクリロイル基を含む官能基で修飾されたシリカ粒子、又は、(メタ)アクリロイル基を含む官能基で修飾されたジルコニア粒子である。
The inorganic particles (a2) may contain a trace amount of an organic substance to the extent that it does not affect the inorganic substance or the physical properties of the inorganic particles (a2).
For example, the inorganic particles (a2) may be inorganic particles modified with a functional group containing a (meth)acryloyl group (hereinafter, also referred to as inorganic particles (a2-1)).
When the photocurable composition contains inorganic particles (a2-1), the (meth)acryloyl group in the inorganic particles (a2-1) may react with the (meth)acryloyl group in the polyfunctional monomer (a1) when the photocurable composition is cured. As a result, the inorganic particles (a2-1) are integrated with the network structure formed by the polyfunctional monomer (a1). This further improves the scratch resistance and antifogging properties of the cured film.
Particularly preferred inorganic particles (a2-1) are silica particles modified with a functional group containing a (meth)acryloyl group, or zirconia particles modified with a functional group containing a (meth)acryloyl group.

光硬化性組成物が無機粒子(a2-1)を含有する場合、光硬化性組成物に含有される無機粒子(a2)の全量中に占める無機粒子(a2-1)の割合は、好ましくは30質量%~100質量%であり、より好ましくは50質量%~100質量%であり、更に好ましくは70質量%~100質量%である。 When the photocurable composition contains inorganic particles (a2-1), the proportion of inorganic particles (a2-1) in the total amount of inorganic particles (a2) contained in the photocurable composition is preferably 30% by mass to 100% by mass, more preferably 50% by mass to 100% by mass, and even more preferably 70% by mass to 100% by mass.

無機粒子(a2-1)は、市販品としても入手可能である。
(メタ)アクリロイル基を含む官能基で修飾されたシリカ粒子の市販品の例として、日産化学工業製オルガノシリカゾルPGM-AC-2140Y等が挙げられる。
The inorganic particles (a2-1) are also available as commercial products.
An example of a commercially available product of silica particles modified with a functional group containing a (meth)acryloyl group is organosilica sol PGM-AC-2140Y manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

光硬化性組成物に含有され得る無機粒子(a2)は、1種単独でも2種以上の組み合わせでもよい。
光硬化性組成物中における無機粒子(a2)の含有量は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対し、好ましくは30質量%~70質量%、より好ましくは40質量%~60質量%である。
The inorganic particles (a2) that can be contained in the photocurable composition may be one type alone or two or more types in combination.
The content of the inorganic particles (a2) in the photocurable composition is preferably 30% by mass to 70% by mass, more preferably 40% by mass to 60% by mass, based on the total dry mass of the photocurable composition.

光硬化性組成物中における無機粒子(a2)の含有量は、光硬化性組成物の全量に対し、好ましくは10質量%~50質量%、より好ましくは20質量%~40質量%である。 The content of inorganic particles (a2) in the photocurable composition is preferably 10% by mass to 50% by mass, more preferably 20% by mass to 40% by mass, based on the total amount of the photocurable composition.

光硬化性組成物中における、多官能モノマー(a1)に対する無機粒子(a2)の含有質量比(即ち、含有質量比〔無機粒子(a2)/多官能モノマー(a1)〕)は、好ましくは0.6~2.0であり、より好ましくは0.8~1.6であり、更に好ましくは1.0~1.4である。 In the photocurable composition, the mass ratio of inorganic particles (a2) to polyfunctional monomer (a1) (i.e., mass ratio [inorganic particles (a2)/polyfunctional monomer (a1)]) is preferably 0.6 to 2.0, more preferably 0.8 to 1.6, and even more preferably 1.0 to 1.4.

-界面活性剤(a3)-
光硬化性組成物は、界面活性剤(a3)を少なくとも1種含有することが好ましい。
界面活性剤(a3)は、硬化膜に貯蔵されつつ、硬化膜の表面に除々に進出することにより、硬化膜に防曇性を付与する役割を果たす。
界面活性剤(a3)としては、このような役割を果たしうる限りにおいて、特に限定はないが、ポリオキシアルキレン構造を有することが好ましい。
--Surfactant (a3)--
The photocurable composition preferably contains at least one surfactant (a3).
The surfactant (a3) is stored in the cured film and gradually advances to the surface of the cured film, thereby imparting anti-fogging properties to the cured film.
The surfactant (a3) is not particularly limited as long as it can fulfill such a role, but it is preferable that the surfactant has a polyoxyalkylene structure.

界面活性剤(a3)がポリオキシアルキレン構造を有する場合、界面活性剤(a3)は、(メタ)アクリルポリマー構造を有さないことが好ましい。
即ち、界面活性剤(a3)は、下記式(AC1)で表される構造及び下記式(AC2)で表される構造のいずれも有さないことが好ましい:
When the surfactant (a3) has a polyoxyalkylene structure, it is preferable that the surfactant (a3) does not have a (meth)acrylic polymer structure.
That is, it is preferable that the surfactant (a3) does not have either a structure represented by the following formula (AC1) or a structure represented by the following formula (AC2):

式(AC1)及び式(AC2)中、Rは、水素原子又はメチル基を表し、nは2以上の整数を表す。 In formula (AC1) and formula (AC2), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 2 or more.

界面活性剤(a3)は、不飽和結合を含まないことも好ましい。 It is also preferred that the surfactant (a3) does not contain an unsaturated bond.

界面活性剤(a3)として、より具体的には、炭化水素基とポリオキシアルキレン構造とを含む界面活性剤が好ましい。
炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。
ポリオキシアルキレン構造としては、オキシアルキレン基が繰り返された構造が挙げられる。オキシアルキレン基としては、-O-CHCH-、-O-CHCHCH-、又は-O-CHCHCHCH-が好ましく、-O-CHCH-がより好ましい。
界面活性剤(a3)中に含まれるオキシアルキレン基の数は、好ましくは1~30である。
More specifically, the surfactant (a3) is preferably a surfactant containing a hydrocarbon group and a polyoxyalkylene structure.
The hydrocarbon group is preferably an alkyl group.
The polyoxyalkylene structure may be a structure in which oxyalkylene groups are repeated. The oxyalkylene group is preferably -O-CH 2 CH 2 -, -O-CH 2 CH 2 CH 2 -, or -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, and more preferably -O-CH 2 CH 2 -.
The number of oxyalkylene groups contained in the surfactant (a3) is preferably 1 to 30.

界面活性剤(a3)は、更に、アニオン性親水基を含むことが好ましい。
アニオン性親水基の例として、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基、O-硫酸基(-O-SO )、およびN-硫酸基(-NH-SO )などが挙げられる。これらアニオン性親水基の中でも、リン酸基、O-硫酸基(-O-SO )が好ましい。
これらアニオン性親水基は、遊離酸の形態でも、塩の形態であってもよい。
塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、又は、アンモニウム塩が好ましい。
The surfactant (a3) preferably further contains an anionic hydrophilic group.
Examples of anionic hydrophilic groups include a sulfo group, a carboxy group, a phosphate group, an O-sulfate group (-O-SO 3 - ), and an N-sulfate group (-NH-SO 3 - ). Among these anionic hydrophilic groups, a phosphate group and an O-sulfate group (-O-SO 3 - ) are preferred.
These anionic hydrophilic groups may be in the form of a free acid or a salt.
The salt is preferably a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt.

好適な界面活性剤(a3)の例として、下記式(SS1)で表される化合物が挙げられる。 An example of a suitable surfactant (a3) is a compound represented by the following formula (SS1):

式(SS1)中、Rは、炭素数10~20のアルキル基又は炭素数10~20のアルケニル基を表し、Lは、炭素数2~4のアルキレン基を表し、nは、1~30の整数を表し、Xは、水酸基、スルホ基、ホスホノ基、カルボキシ基、リン酸基、O-硫酸基、N-硫酸基、スルホ基の塩、ホスホノ基の塩、カルボキシ基の塩、リン酸基の塩、O-硫酸基の塩、又は、N-硫酸基の塩を表す。 In formula (SS1), R represents an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms or an alkenyl group having 10 to 20 carbon atoms, L represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, n represents an integer from 1 to 30, and X represents a hydroxyl group, a sulfo group, a phosphono group, a carboxy group, a phosphate group, an O-sulfate group, an N-sulfate group, a salt of a sulfo group, a salt of a phosphono group, a salt of a carboxy group, a salt of a phosphate group, a salt of an O-sulfate group, or a salt of an N-sulfate group.

式(SS1)中、「-O-L-」の例としては、-O-CHCH-、-O-CHCHCH-、-O-CHCHCHCH-等が挙げられ、これらの中でも、-O-CHCH-が好ましい。
式(SS1)中、Xとしては、リン酸基、O-硫酸基、リン酸基の塩、又は、O-硫酸基の塩がより好ましい。
Xにおける「塩」としては、ナトリウム塩、カリウム塩、又は、アンモニウム塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。
In formula (SS1), examples of "-OL-" include -O-CH 2 CH 2 -, -O-CH 2 CH 2 CH 2 -, -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - and the like, and among these, -O-CH 2 CH 2 - is preferred.
In formula (SS1), X is more preferably a phosphate group, an O-sulfate group, a salt of a phosphate group, or a salt of an O-sulfate group.
The "salt" for X is preferably a sodium salt, a potassium salt, or an ammonium salt, and more preferably a sodium salt.

界面活性剤(a3)のうち、アニオン性親水基を有する界面活性剤の例として、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル硫酸塩、及び、これらの混合物が挙げられる。
アニオン性親水基を有する界面活性剤の例として、より具体的には、ポリオキシエチレンオレイルセチルエーテル硫酸ナトリウムなどのポリオキシエチレンオレイルセチルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウムなどのポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸塩が挙げられる。
Among the surfactants (a3), examples of surfactants having an anionic hydrophilic group include polyoxyalkylene alkyl ether sulfates, polyoxyalkylene alkenyl ether sulfates, and mixtures thereof.
More specific examples of surfactants having an anionic hydrophilic group include polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfates such as sodium polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfate, and polyoxyethylene lauryl ether sulfates such as sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate.

界面活性剤(a3)は、ポリオキシアルキレン構造を有するノニオン系界面活性剤であってもよい。
ポリオキシアルキレン構造を有するノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルなどのポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンモノアルケニルエーテルなどのポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、および、これらの混合物などが挙げられる。
ここで、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとして、ポリオキシアルキレン分岐デシルエーテル、ポリオキシアルキレンドデシルエーテル(ポリオキシアルキレンラウリルエーテル)、ポリオキシアルキレントリデシルエーテル、ポリオキシアルキレンオレイルセチルエーテルが挙げられる。
ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとして、好ましくはポリオキシエチレンアルキルエーテル(例えば、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル等)である。
The surfactant (a3) may be a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene structure.
Examples of nonionic surfactants having a polyoxyalkylene structure include polyoxyalkylene alkyl ethers such as polyoxyalkylene monoalkyl ethers, polyoxyalkylene alkenyl ethers such as polyoxyalkylene monoalkenyl ethers, and mixtures thereof.
Examples of the polyoxyalkylene alkyl ether include polyoxyalkylene branched decyl ether, polyoxyalkylene dodecyl ether (polyoxyalkylene lauryl ether), polyoxyalkylene tridecyl ether, and polyoxyalkylene oleyl cetyl ether.
The polyoxyalkylene alkyl ether is preferably a polyoxyethylene alkyl ether (for example, polyoxyethylene isodecyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, etc.).

界面活性剤(a3)としては、上述した界面活性剤以外にも、国際公開第2019/221268号の段落0062~段落0069に記載の界面活性剤を用いてもよい。 As the surfactant (a3), in addition to the surfactants described above, the surfactants described in paragraphs 0062 to 0069 of WO 2019/221268 may be used.

光硬化性組成物に含有され得る界面活性剤(a3)は、1種単独でも2種以上の組み合わせでもよい。
光硬化性組成物中における界面活性剤(a3)の含有量は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対し、好ましくは1.0質量%~10質量%であり、より好ましくは2.0質量%~8.0質量%であり、更に好ましくは3.0質量%~7.0質量%である。
The surfactant (a3) that can be contained in the photocurable composition may be one type alone or two or more types in combination.
The content of the surfactant (a3) in the photocurable composition is preferably 1.0 mass % to 10 mass %, more preferably 2.0 mass % to 8.0 mass %, and even more preferably 3.0 mass % to 7.0 mass %, based on the total dry mass of the photocurable composition.

光硬化性組成物中における界面活性剤(a3)の含有量は、光硬化性組成物の全量に対し、好ましくは0.5質量%~6.0質量%であり、より好ましくは1.0質量%~5.0質量%である。 The content of the surfactant (a3) in the photocurable composition is preferably 0.5% by mass to 6.0% by mass, and more preferably 1.0% by mass to 5.0% by mass, based on the total amount of the photocurable composition.

-光重合開始剤-
光硬化性組成物は、光重合開始剤を少なくとも1種含有することが好ましい。
光重合開始剤として、好ましくは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、公知の光ラジカル重合開始剤が使用可能である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アルキルフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、α-アシロキシムエステル系化合物、フェニルグリオキシレート系化合物、ベンジル系化合物、アゾ系化合物、ジフェニルスルフィド系化合物、有機色素系化合物、鉄-フタロシアニン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、アントラキノン系化合物等が挙げられる。これらのうち、反応性等の観点から、アルキルフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物が好ましい。
光ラジカル重合開始剤としては市販品を用いることもできる。
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば;
Omnirad 127、同184、同1173、同500、同819、同TPO(以上、IGM resins B.V.社製);
エサキュアONE、同KIP100F、同KT37、同KTO46(以上、ランベルティー社製);
等が挙げられる。
- Photopolymerization initiator -
The photocurable composition preferably contains at least one photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
As the photoradical polymerization initiator, known photoradical polymerization initiators can be used.
Examples of the photoradical polymerization initiator include alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, oxime ester compounds, benzoin compounds, acetophenone compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, α-acyloxime ester compounds, phenylglyoxylate compounds, benzyl compounds, azo compounds, diphenyl sulfide compounds, organic dye compounds, iron-phthalocyanine compounds, benzoin ether compounds, anthraquinone compounds, etc. Among these, alkylphenone compounds and acylphosphine oxide compounds are preferred from the viewpoint of reactivity, etc.
As the photoradical polymerization initiator, a commercially available product can also be used.
Commercially available photoradical polymerization initiators include, for example:
Omnirad 127, 184, 1173, 500, 819, and TPO (all manufactured by IGM resins B.V.);
Esacure ONE, KIP100F, KT37, KTO46 (all manufactured by Lamberti);
etc.

光硬化性組成物に含有され得る光重合開始剤は、1種単独でも2種以上の組み合わせでもよい。
光硬化性組成物中における光重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対し、好ましくは0.4質量%~10質量%であり、より好ましくは0.6質量%~6.0質量%であり、更に好ましくは1.0質量%~4.0質量%である。
The photopolymerization initiator that can be contained in the photocurable composition may be one type alone or two or more types in combination.
The content of the photopolymerization initiator in the photocurable composition is preferably 0.4% by mass to 10% by mass, more preferably 0.6% by mass to 6.0% by mass, and even more preferably 1.0% by mass to 4.0% by mass, based on the total dry mass of the photocurable composition.

光硬化性組成物中における界面活性剤(a3)の含有量は、光硬化性組成物の全量に対し、好ましくは0.2質量%~6.0質量%であり、より好ましくは0.4質量%~4.0質量%であり、更に好ましくは0.6質量%~3.0質量%である。 The content of the surfactant (a3) in the photocurable composition is preferably 0.2% by mass to 6.0% by mass, more preferably 0.4% by mass to 4.0% by mass, and even more preferably 0.6% by mass to 3.0% by mass, based on the total amount of the photocurable composition.

-溶媒-
光硬化性組成物は、溶媒を少なくとも1種含有することが好ましい。
溶媒として、例えば;
メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、t-ブタノール、n-ペンタノール、イソペンタノール、n-ヘキサノール、n-オクタノール、2-エチル-ヘキサノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-n-プロポキシエタノール、2-イソプロポキシエタノール、2-ブトキシエタノール、1-メトキシ-2-プロパノール(別名:プロピレングリコールモノメチルエーテル)、1-エトキシ-2-プロパノール、1-n-プロポキシ-2-プロパノール、1-イソプロポキシ-2-プロパノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;
アセトニトリル等のニトリル類;
酢酸エチル、酢酸-n-プロピル、酢酸-n-ブチル等のエステル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類;
水;
等が挙げられる。
中でも、アルコール類、ケトン類、又は、アルコール類とケトン類の混合溶媒が好ましい。
-solvent-
The photocurable composition preferably contains at least one solvent.
As a solvent, for example:
Alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, n-pentanol, isopentanol, n-hexanol, n-octanol, 2-ethyl-hexanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-n-propoxyethanol, 2-isopropoxyethanol, 2-butoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol (also known as propylene glycol monomethyl ether), 1-ethoxy-2-propanol, 1-n-propoxy-2-propanol, 1-isopropoxy-2-propanol, and cyclohexanol;
Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane;
Nitriles such as acetonitrile;
Esters such as ethyl acetate, n-propyl acetate, and n-butyl acetate;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone;
Amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide;
water;
etc.
Among these, alcohols, ketones, or mixed solvents of alcohols and ketones are preferred.

光硬化性組成物中における溶媒の含有量は、光硬化性組成物の全量に対し、好ましくは20質量%以上であり、より好ましくは30質量%以上であり、更に好ましくは35質量%以上である。
光硬化性組成物の全量に対する溶媒の含有量の上限は、他の成分の量にもよるが、例えば80質量%であり、好ましくは70質量%であり、更に好ましくは60質量%である。
The content of the solvent in the photocurable composition is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 35% by mass or more, based on the total amount of the photocurable composition.
The upper limit of the content of the solvent relative to the total amount of the photocurable composition varies depending on the amounts of other components, but is, for example, 80% by mass, preferably 70% by mass, and more preferably 60% by mass.

光硬化性組成物は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分については、国際公開第2019/221268号の段落0032~段落0163の記載を適宜参照できる。
The photocurable composition may contain other components in addition to the components described above.
For other components, please refer to the descriptions in paragraphs 0032 to 0163 of WO 2019/221268 as appropriate.

(塗布方法等)
塗布物層形成工程では、基材上に、光硬化性組成物を塗布して塗布物層を形成する。
光硬化性組成物の塗布は、従来公知の方法により適宜行うことができる。
塗布方法の例として、バーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、流し塗り法、刷毛塗り法、グラビアコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、キスコート法などが挙げられる。
塗布物層形成工程では、基材上に、光硬化性組成物を塗布し、塗布された光硬化性組成物を乾燥(例えば加熱乾燥)させて塗布物層を形成してもよい。
(Application method, etc.)
In the coating layer forming step, a photocurable composition is applied onto a substrate to form a coating layer.
The photocurable composition can be applied by any conventional method.
Examples of the coating method include bar coating, spin coating, dip coating, spray coating, flow coating, brush coating, gravure coating, reverse roll coating, knife coating, and kiss coating.
In the coating layer forming step, the photocurable composition may be applied onto a substrate, and the applied photocurable composition may be dried (for example, dried by heating) to form the coating layer.

<光透過性フィルム配置工程>
光透過性フィルム配置工程は、塗布物層上に光透過性フィルムを配置する工程である。
後述の硬化工程では、塗布物層に対し、光透過性フィルムを介して光を照射する。照射された光により、塗布物層が硬化して硬化物層が得られる。
本開示の防曇性積層体の製造方法では、塗布物層に対し光透過性フィルムを介して光を照射するので、塗布物層に対し光透過性フィルムを介さずに直接的に光を照射する場合と比較して、酸素によるラジカル重合阻害が抑制され、その結果、硬度に優れた硬化物層が得られる。
<Light-transmitting film arrangement process>
The light-transmitting film disposing step is a step of disposing a light-transmitting film on the coating layer.
In the curing step described below, the coating layer is irradiated with light through a light-transmitting film, and the irradiated light cures the coating layer to obtain a cured layer.
In the method for producing an anti-fog laminate disclosed herein, the coating layer is irradiated with light through a light-transmitting film. This suppresses inhibition of radical polymerization by oxygen compared to when the coating layer is irradiated with light directly without using a light-transmitting film, and as a result, a cured layer with excellent hardness is obtained.

光透過性フィルムとしては、光透過性を有するフィルムであれば特に制限はない。
ここで、光透過性を有するとは、200nm~500nmの波長領域における平均透過率が10%以上である性質を意味する。
光透過性フィルムの200nm~500nmの波長領域における平均透過率は、好ましくは40%以上である。
There are no particular limitations on the light-transmitting film, so long as it is a film having light-transmitting properties.
Here, having optical transparency means a property in which the average transmittance in the wavelength region of 200 nm to 500 nm is 10% or more.
The light-transmitting film preferably has an average transmittance of 40% or more in the wavelength region of 200 nm to 500 nm.

光透過性フィルムの厚さは、好ましくは1μm~100μmであり、より好ましくは5μm~80μmであり、更に好ましくは10μm~60μmである。 The thickness of the light-transmitting film is preferably 1 μm to 100 μm, more preferably 5 μm to 80 μm, and even more preferably 10 μm to 60 μm.

光透過性フィルムとしては、特に制限されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリエチレン(PE)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルム、ポリカーボネート(PC)フィルム、ポリスチレン(PS)フィルム、ポリ塩化ビニル(PVC)フィルム、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)フィルム、ポリビニルアルコール(PVA)フィルム、ナイロンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、エチレン-メタクリル酸共重合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体フィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム、セロファン等が挙げられる。
光透過性フィルムとしては、PETフィルムが特に好ましい。
The light-transmitting film is not particularly limited, but examples thereof include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polyethylene (PE) film, polypropylene (PP) film, polycarbonate (PC) film, polystyrene (PS) film, polyvinyl chloride (PVC) film, polyvinylidene chloride (PVDC) film, polyvinyl alcohol (PVA) film, nylon film, polyacrylonitrile film, ethylene-methacrylic acid copolymer film, ethylene-vinyl alcohol copolymer film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, cellophane, and the like.
As the light-transmitting film, a PET film is particularly preferable.

光透過性フィルム配置工程は、光透過性フィルムと塗布物層との間に介在する気体を除去する工程を含んでいてもよい。これにより、酸素によるラジカル重合阻害がより抑制され、その結果、硬度により優れた硬化物層が得られる。
光透過性フィルムと塗布物層との間に介在する気体を除去する方法としては公知の方法を適用できる。
上記方法としては、例えば、塗布物層上に光透過性フィルムを配置した状態で、基材及び光透過性フィルムの少なくとも一方の側に、ローラー等によって圧を加えながら、光透過性フィルムと塗布物層との間に介在する気体を除去する方法を適用できる。
The light-transmitting film disposing step may include a step of removing gas present between the light-transmitting film and the coating layer, which further suppresses inhibition of radical polymerization caused by oxygen, thereby obtaining a cured layer having superior hardness.
As a method for removing the gas present between the light-transmitting film and the coating layer, a known method can be applied.
As the above-mentioned method, for example, a method can be applied in which, with a light-transmitting film placed on the coating layer, pressure is applied to at least one side of the substrate and the light-transmitting film with a roller or the like, while removing the gas present between the light-transmitting film and the coating layer.

<硬化工程>
硬化工程は、塗布物層に対し、光透過性フィルムを介して光を照射することにより、塗布物層を硬化させて硬化物層を得る工程である。
照射される光の波長範囲は、例えば0.0001nm~800nmの範囲である。
照射される光として、より具体的には、α線、β線、γ線、X線、電子線、紫外線、可視光等が挙げられるが、紫外線が好ましい。
紫外線のピーク波長は、好ましくは200nm~450nm、より好ましくは230nm~445nm、さらに好ましくは240nm~430nm、更に好ましくは250nm~400nmである。
<Curing process>
The curing step is a step in which the coating layer is irradiated with light through a light-transmitting film to cure the coating layer, thereby obtaining a cured layer.
The wavelength range of the irradiated light is, for example, from 0.0001 nm to 800 nm.
More specifically, examples of the light to be irradiated include α-rays, β-rays, γ-rays, X-rays, electron beams, ultraviolet rays, visible light, etc., with ultraviolet rays being preferred.
The peak wavelength of the ultraviolet light is preferably 200 nm to 450 nm, more preferably 230 nm to 445 nm, even more preferably 240 nm to 430 nm, and still more preferably 250 nm to 400 nm.

光の照射エネルギーは、好ましくは10mJ/cm~1000mJ/cmであり、より好ましくは50mJ/cm~500mJ/cmである。 The light irradiation energy is preferably 10 mJ/cm 2 to 1000 mJ/cm 2 , and more preferably 50 mJ/cm 2 to 500 mJ/cm 2 .

<剥離工程>
本開示の防曇性積層体の製造方法は、硬化工程の後に、更に、硬化物層から光透過性フィルムを剥離する剥離工程を有していてもよい。
剥離工程により、硬化物層の表面が露出する。露出した硬化物層の表面において、防曇性及び耐擦傷性の硬化が発揮される。
<Peeling process>
The method for producing the anti-fog laminate of the present disclosure may further include, after the curing step, a peeling step of peeling the light-transmitting film from the cured product layer.
The peeling step exposes the surface of the cured layer, which exhibits anti-fogging properties and scratch resistance.

本開示の防曇性積層体の製造方法は、剥離工程を有していなくてもよい。
この場合においても、本開示の防曇性積層体の製造方法により、光透過性フィルム付きの防曇性積層体を製造することができる。光透過性フィルム付きの防曇性積層体は、必要に応じ、使用直前に、光透過性フィルムを硬化物層から剥離して使用することができる。
The method for producing the anti-fogging laminate of the present disclosure does not necessarily have to include a peeling step.
Even in this case, an anti-fog laminate with a light-transmitting film can be produced by the method for producing an anti-fog laminate of the present disclosure. The anti-fog laminate with a light-transmitting film can be used by peeling the light-transmitting film from the cured product layer immediately before use, as necessary.

〔防曇性積層体〕
本開示の防曇性積層体は、
基材と、
基材上に配置された硬化物層と、
を備え、
硬化物層側から測定した微小押込み硬さが0.080GPa以上である、防曇性積層体である。
本開示の防曇性積層体は、必要に応じ、その他の要素を備えていてもよい。
[Anti-fogging laminate]
The anti-fogging laminate of the present disclosure comprises:
A substrate;
A cured material layer disposed on a substrate;
Equipped with
The anti-fogging laminate has a microindentation hardness of 0.080 GPa or more as measured from the cured layer side.
The anti-fogging laminate of the present disclosure may include other elements as necessary.

本開示の防曇性積層体は、好ましくは、前述した本開示の防曇性積層体の製造方法によって製造される。
硬化物層として、好ましくは、光硬化性組成物の塗布物層に対して光を照射して形成された層である。
The anti-fog laminate of the present disclosure is preferably produced by the above-mentioned method for producing the anti-fog laminate of the present disclosure.
The cured layer is preferably a layer formed by irradiating a coating layer of a photocurable composition with light.

<微小押し込み硬さ>
本開示の防曇性積層体は、硬化物層側から測定した微小押込み硬さが0.080GPa以上である。
このため、本開示の防曇性積層体は、耐擦傷性に優れる。また、本開示の防曇積層体は、防曇性(特に、蒸気に対する防曇性)にも優れる。
<Microindentation hardness>
The anti-fogging laminate of the present disclosure has a microindentation hardness of 0.080 GPa or more measured from the cured product layer side.
For this reason, the anti-fog laminate of the present disclosure has excellent scratch resistance. The anti-fog laminate of the present disclosure also has excellent anti-fog properties (particularly, anti-fog properties against steam).

前述したとおり、光透過性フィルム配置工程及び硬化工程を含む本開示の防曇性積層体の製造方法によれば、硬度に優れた硬化物層を形成できるので、上記微小押込み硬さを有する防曇性積層体をより製造し易い。
また、上記製造方法に加え、例えば;
無機粒子の量を増やす;
硬化物の架橋性を向上させる(例えば、(メタ)アクリロイル基の数が多い多官能モノマーを用いる、1つの(メタ)アクリロイル基あたりの分子量を小さくする、等);
等の方法により、微小押し込み硬さの数値(GPa)が高くなるよう調整することができる。
微小押込み硬さが0.080GPa以上であることにより、耐擦傷性に優れ、さらに防曇性(特に、蒸気に対する防曇性)にも優れる理由は以下のとおりであると推測される。
微小押込み硬さが0.080GPa以上であることにより、硬化物層が密な構造となり、外部から衝撃を受けた際に、その構造を維持しやすくなり、耐擦傷性が向上する。さらに、密な構造となることで、その構造中の親水性基(例えば、界面活性剤に由来するもの)の徐放性が向上し、特に上記に対する防曇持続性が向上すると考えられる。
As described above, according to the method for producing an anti-fog laminate of the present disclosure, which includes a light-transmitting film arrangement step and a curing step, a cured layer with excellent hardness can be formed, making it easier to produce an anti-fog laminate having the above-mentioned microindentation hardness.
In addition to the above-mentioned production method, for example:
Increasing the amount of inorganic particles;
Improve the crosslinkability of the cured product (for example, by using a polyfunctional monomer having a large number of (meth)acryloyl groups, by reducing the molecular weight per (meth)acryloyl group, etc.);
By the above method, the microindentation hardness value (GPa) can be adjusted to be high.
The reason why a microindentation hardness of 0.080 GPa or more provides excellent scratch resistance and also excellent anti-fogging properties (particularly anti-fogging properties against steam) is presumed to be as follows.
By having a microindentation hardness of 0.080 GPa or more, the cured layer has a dense structure, which is easily maintained when subjected to an external impact, improving the scratch resistance. Furthermore, the dense structure improves the sustained release of hydrophilic groups (e.g., those derived from surfactants) in the structure, and is considered to improve the anti-fogging durability against the above in particular.

微小押込み硬さは、好ましくは0.080GPa~0.50GPaであり、より好ましくは0.080GPa~0.15GPaである。
本開示の防曇性積層体における微小押込み硬さが0.50GPa以下である場合には、割れに対する耐性及び初期防曇特性がより向上する。
The microindentation hardness is preferably 0.080 GPa to 0.50 GPa, and more preferably 0.080 GPa to 0.15 GPa.
When the microindentation hardness of the anti-fogging laminate of the present disclosure is 0.50 GPa or less, the resistance to cracking and the initial anti-fogging properties are further improved.

本開示において、微小押し込み硬さは、ISO14577に準拠して行う。具体的には、以下のようにして測定する。
測定圧子としてバーコビッチ圧子を用い、最大荷重(Pmax):10mN、最大押込み深さ:1000nm、荷重速度800~12000μN/秒、荷重時間:1秒(最大荷重に達した後の荷重保持時間)、及び、クリープ時間:0.5秒の条件にて、防曇性積層体における硬化物層側から荷重を印加し、荷重変位曲線を得る。
得られた荷重変位曲線から、接触剛性(S)及び最大変異(hmax)を算出する。さらに、接触深さ(hc)を下記の数式(1)から算出し、接触投影面積(Ac)を下記の数式(2)から算出し、下記の数式(3)から微小押込み硬さ(H)を算出する。
微小押込み硬さの測定装置は、例えば、Bruker社製のHYSITRON TI PREMIERを用いることができる。
In the present disclosure, the microindentation hardness is measured in accordance with ISO 14577. Specifically, it is measured as follows.
A Berkovich indenter is used as the measuring indenter, and a load is applied from the cured layer side of the anti-fogging laminate under the conditions of maximum load (Pmax): 10 mN, maximum indentation depth: 1000 nm, loading speed: 800 to 12000 μN/sec, loading time: 1 second (load holding time after reaching the maximum load), and creep time: 0.5 second, to obtain a load-displacement curve.
From the obtained load-displacement curve, the contact stiffness (S) and maximum displacement (hmax) are calculated. Furthermore, the contact depth (hc) is calculated from the following formula (1), the contact projected area (Ac) is calculated from the following formula (2), and the microindentation hardness (H) is calculated from the following formula (3).
As a measuring device for the microindentation hardness, for example, HYSITRON TI PREMIER manufactured by Bruker Corporation can be used.

S:接触剛性
max:最大荷重
max:最大変異
:接触深さ
ε:圧子形状に関する定数(バーコビッチ圧子は0.75)
:接触投影面積
H:微小押込み硬さ
S: Contact stiffness P max : Maximum load h max : Maximum displacement h c : Contact depth ε: Constant related to the indenter shape (0.75 for Berkovich indenter)
A c : Contact projected area H: Microindentation hardness

<基材>
本開示の防曇性積層体は、基材を備える。
基材の具体例及び好ましい態様は、「防曇性積層体の製造方法」の項を適宜参照できる。
<Substrate>
The anti-fog laminate of the present disclosure includes a substrate.
For specific examples and preferred embodiments of the substrate, please refer to the section "Method of manufacturing anti-fogging laminate" as appropriate.

<硬化物層>
硬化物層は、防曇性の観点から、好ましくは、樹脂、無機粒子、及び界面活性剤を含有する。
硬化物層に含有され得る無機粒子及び界面活性剤の好ましい態様は、それぞれ、防曇性積層体の製造方法」の項(無機粒子(a2)及び界面活性剤(a3)についての記載)を適宜参照できる。
硬化物層の全量に対する無機粒子の含有量の好ましい範囲は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対する無機粒子(a2)の含有量の好ましい範囲と同様であり、
硬化物層の全量に対する界面活性剤の含有量の好ましい範囲は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対する界面活性剤(a3)の含有量の好ましい範囲と同様である。
<Cured Layer>
From the viewpoint of anti-fogging properties, the cured product layer preferably contains a resin, inorganic particles, and a surfactant.
For preferred embodiments of the inorganic particles and surfactant that can be contained in the cured product layer, please refer to the sections "Method for producing anti-fogging laminate" (description of inorganic particles (a2) and surfactant (a3)), as appropriate.
The preferred range of the content of the inorganic particles relative to the total amount of the cured product layer is the same as the preferred range of the content of the inorganic particles (a2) relative to the total dry mass of the photocurable composition,
The preferred range of the content of the surfactant relative to the total amount of the cured product layer is the same as the preferred range of the content of the surfactant (a3) relative to the total dry mass of the photocurable composition.

硬化物層に含有され得る樹脂は、好ましくはネットワーク構造を有する(メタ)アクリル樹脂であり、より好ましくは2以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーである。
2以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーの好ましい態様は、防曇性積層体の製造方法」の項(多官能モノマー(a1)についての記載)を適宜参照できる。
硬化物層の全量に対する樹脂の含有量の好ましい範囲は、光硬化性組成物の総乾燥質量に対する多官能モノマー(a1)の含有量の好ましい範囲と同様である。
The resin that can be contained in the cured material layer is preferably a (meth)acrylic resin having a network structure, and more preferably a polyfunctional monomer having two or more (meth)acryloyl groups.
For preferred embodiments of the polyfunctional monomer having two or more (meth)acryloyl groups, please refer to the section entitled "Method for producing anti-fogging laminate" (description of polyfunctional monomer (a1)).
The preferred range of the resin content relative to the total amount of the cured product layer is the same as the preferred range of the polyfunctional monomer (a1) content relative to the total dry mass of the photocurable composition.

(硬化物層の厚さ)
硬化物層の厚さは、好ましくは4μm以上であり、より好ましくは6μm以上であり、更に好ましくは10μm以上である。
硬化物層の厚さが4μm以上である場合には、防曇性積層体の防曇性及び防曇耐久性により優れる。この場合、例えば、防曇性積層体を水洗した後においても優れた防曇性が発揮される。
硬化物層の厚さの上限には特に制限はない。
硬化物層の製造し易さ(例えば塗工性)及び外観の観点から、硬化物層は、好ましくは40μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、更に好ましくは25μm以下である。
(Thickness of the cured layer)
The thickness of the cured layer is preferably 4 μm or more, more preferably 6 μm or more, and further preferably 10 μm or more.
When the thickness of the cured product layer is 4 μm or more, the anti-fog laminate has better anti-fog properties and anti-fog durability. In this case, for example, the anti-fog laminate exhibits excellent anti-fog properties even after being washed with water.
There is no particular upper limit to the thickness of the cured layer.
From the viewpoints of ease of production (eg, coatability) and appearance of the cured material layer, the cured material layer is preferably 40 μm or less, more preferably 30 μm or less, and even more preferably 25 μm or less.

(水の接触角)
硬化物層の表面における水の接触角(1秒後)は、30°以下であることが好ましく、25°以下であることがより好ましく、23°以下であることが更に好ましい。
硬化物層の表面における水の接触角(1秒後)の下限には特に制限はないが、下限としては、5.0°、10.0°、15.0°等が挙げられる。
ここで、水の接触角(1秒後)とは、体積1.0μLの純水の水滴が硬化物層の表面に着滴してから1秒後の接触角を意味する。
(Water contact angle)
The contact angle of water on the surface of the cured layer (after 1 second) is preferably 30° or less, more preferably 25° or less, and even more preferably 23° or less.
There is no particular lower limit to the water contact angle (after 1 second) on the surface of the cured layer, but examples of the lower limit include 5.0°, 10.0°, and 15.0°.
Here, the contact angle of water (after 1 second) means the contact angle after 1 second from when a droplet of pure water having a volume of 1.0 μL lands on the surface of the cured material layer.

硬化物層の表面における水の接触角(22秒後)は、14.0°以下であることが好ましく、13.5°以下であることがより好ましい。
硬化物層の表面における水の接触角(22秒後)の下限には特に制限はないが、下限としては、5.0°、10.0°等が挙げられる。
ここで、水の接触角(22秒後)とは、体積1.0μLの純水の水滴が硬化物層の表面に着滴してから22秒後の接触角を意味する。
The contact angle of water on the surface of the cured layer (after 22 seconds) is preferably 14.0° or less, and more preferably 13.5° or less.
There is no particular lower limit to the contact angle of water (after 22 seconds) on the surface of the cured layer, but examples of the lower limit include 5.0° and 10.0°.
Here, the contact angle of water (after 22 seconds) means the contact angle 22 seconds after a droplet of pure water having a volume of 1.0 μL lands on the surface of the cured material layer.

<その他の要素>
本開示の防曇性積層体は、硬化物層上に、光透過性フィルムを備えていてもよい。
光透過性フィルムを備える態様の防曇性積層体は、例えば、硬化物層による防曇性の効果を得ようとする直前に、硬化物層から光透過性フィルムを剥離(除去)して使用される。
<Other elements>
The anti-fog laminate of the present disclosure may include a light-transmitting film on the cured product layer.
The anti-fog laminate having a light-transmitting film is used, for example, by peeling (removing) the light-transmitting film from the cured material layer immediately before obtaining the anti-fog effect of the cured material layer.

また、本開示の防曇性積層体は、基材からみて、硬化物層が配置されている側とは反対側に、粘着層を備えていてもよい。
粘着層を備える態様の防曇性積層体は、例えば、様々な対象物に貼り付けられ、対象物に対して防曇性を付与するために使用される
対象物としては特に制限なないが、例えば;
車両又は建物における外壁;
車両又は建物における窓ガラス;
浴室等の鏡;
パソコン用ディスプレイ、携帯電話用ディスプレイ、テレビ、等の表示素子の表面;
看板、広告、案内板等の情報板;
鉄道、道路等の標識;
等が挙げられる。
The anti-fogging laminate of the present disclosure may also include an adhesive layer on the side opposite to the side on which the cured product layer is disposed, as viewed from the substrate.
The anti-fogging laminate having an adhesive layer is, for example, attached to various objects and used to impart anti-fogging properties to the objects. The objects are not particularly limited, but examples thereof include:
Exterior walls of vehicles or buildings;
Windows in vehicles or buildings;
Mirrors in bathrooms etc.;
Surfaces of display devices such as computer displays, mobile phone displays, and televisions;
Information boards such as signs, advertisements, and guide boards;
Railway, road, etc. signs;
etc.

粘着層は、粘着剤を含む。
粘着剤としては特に制限はなく、公知の粘着剤を用いることができる。
粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルエーテルポリマー系粘着剤、およびシリコーン粘着剤等が挙げられる。
粘着層の厚さは、好ましくは2μm~50μm、より好ましくは5~30μmである。
The adhesive layer includes an adhesive.
The adhesive is not particularly limited, and any known adhesive can be used.
Examples of the adhesive include an acrylic adhesive, a rubber adhesive, a vinyl ether polymer adhesive, and a silicone adhesive.
The thickness of the adhesive layer is preferably 2 μm to 50 μm, and more preferably 5 to 30 μm.

<用途>
本開示の防曇用積層体は、防曇材料、防汚材料、速乾燥性材料、結露防止材料、帯電防止材料等として好適に使用できる。
本開示の防曇用積層体は、例えば;
光学フィルム、光ディスク、光学レンズ、眼鏡レンズ、メガネ、サングラス、ゴーグル、ヘルメットシールド、ヘッドランプ、テールランプ、窓ガラス(例えば、車両や建物の窓ガラス等)、等の光学物品;
これら光学部品の材料;
等、種々の用途に適用することができる。
また、本開示の防曇用積層体は、例えば、近年、広く車両に搭載されるようになった、車載カメラによる画像認識システムにも適用できる。
<Applications>
The anti-fog laminate of the present disclosure can be suitably used as an anti-fog material, an anti-fouling material, a quick-drying material, an anti-condensation material, an anti-static material, and the like.
The anti-fog laminate of the present disclosure may be, for example:
Optical articles such as optical films, optical discs, optical lenses, eyeglass lenses, spectacles, sunglasses, goggles, helmet shields, headlamps, taillamps, window glass (e.g., window glass of vehicles and buildings, etc.);
The material of these optical components;
The present invention can be applied to various applications such as the above.
The anti-fog laminate of the present disclosure can also be applied to, for example, image recognition systems using on-board cameras, which have become widely installed in vehicles in recent years.

以下、本開示の実施例を示すが、本開示は以下の実施例には限定されない。 The following are examples of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to the following examples.

〔実施例1〕
<光硬化性組成物の調製>
常温常圧環境下において、ガラス製スクリュー管瓶に、表1に記載の界面活性剤(a3)及び表1に記載の無機粒子(a2)を、表1に記載の含有質量となる量にてそれぞれ添加した。さらに、表1に記載の溶媒を添加し、マグネットスターラー及び撹拌子を用いて、上記界面活性剤が完全に溶解するまで撹拌した。
次に、撹拌後のガラス製スクリュー管瓶に、表1に記載の多官能モノマー(a1)を表1に記載の含有質量となる量にて添加し、相溶するまでよく撹拌した。そして、撹拌後のガラス製スクリュー管瓶に、表1に記載の光重合開始剤を表1に記載の含有質量となる量にて添加し、完全に溶解するまで撹拌し、液状の組成物である光硬化性組成物を得た。
Example 1
<Preparation of Photocurable Composition>
Under normal temperature and pressure conditions, a surfactant (a3) and inorganic particles (a2) shown in Table 1 were added to a glass screw tube bottle in amounts corresponding to the mass contents shown in Table 1. A solvent shown in Table 1 was then added, and the mixture was stirred using a magnetic stirrer and a stirring bar until the surfactant was completely dissolved.
Next, to the stirred glass screw-top bottle, polyfunctional monomer (a1) shown in Table 1 was added in an amount corresponding to the mass content shown in Table 1, and thoroughly stirred until compatible. Then, to the stirred glass screw-top bottle, photopolymerization initiator shown in Table 1 was added in an amount corresponding to the mass content shown in Table 1, and stirred until completely dissolved, to obtain a photocurable composition that is a liquid composition.

<防曇性積層体の作製>
(基材の準備)
ポリカーボネート基板上にPETフィルム(東レ社製「ルミラー U483」)を貼り付けてなる積層基板を準備した。
上記積層基板におけるPETフィルム側の表面に、プライマー用組成物(タケラック(登録商標) WS-5100)をバーコーターによって塗布してプライマー層を形成し、プライマー層付き積層基板(層構成は、「プライマー層/PETフィルム/ポリカーボネート基板」)を得た。
<Preparation of Anti-Fog Laminate>
(Preparation of substrate)
A laminated substrate was prepared by attaching a PET film ("Lumirror U483" manufactured by Toray Industries, Inc.) onto a polycarbonate substrate.
A primer composition (Takelac (registered trademark) WS-5100) was applied to the surface of the PET film side of the laminated substrate with a bar coater to form a primer layer, thereby obtaining a laminated substrate with a primer layer (layer structure: "primer layer/PET film/polycarbonate substrate").

(塗布物層形成工程)
基材としてのプライマー層付きの積層基板におけるプライマー層上に、上記光硬化性組成物をバーコーターによって塗布し、塗布物層を形成した(塗布物層形成工程)。
(Coating layer forming process)
The above-mentioned photocurable composition was applied onto the primer layer of the primer layer-formed laminate substrate as the base material using a bar coater to form a coating layer (coating layer forming step).

(光透過性フィルム配置工程)
塗布物層上に、光透過性フィルム(ポリエチレンテレフタレート、T-15(商品名)、厚さ37μm、200nm~500nmの平均透過率53.5%、三井化学東セロ株式会社製)を載せ、転圧ローラーを用い、光透過性フィルムと塗布物層との間に介在する気体を除去した。
(Light-transmitting film placement process)
A light-transmitting film (polyethylene terephthalate, T-15 (product name), thickness 37 μm, average transmittance from 200 nm to 500 nm 53.5%, manufactured by Mitsui Chemicals Tocello Co., Ltd.) was placed on the coating layer, and gas present between the light-transmitting film and the coating layer was removed using a rolling roller.

(硬化工程)
次に、塗布物層に対し、光透過性フィルムを介して210mJ/cm-2の条件で紫外線(UVA)を照射することにより塗布物層を硬化させ、硬化物層に変換した。
次いで、硬化物層から光透過性フィルム(T-15)を剥離した。
以上により、基材(即ち、「プライマー層/PETフィルム/ポリカーボネート」で表される積層構造を有する基材)と、基材上に配置された硬化物層と、を備える防曇性積層体を得た。
防曇性積層体の積層構造は、「硬化物層/プライマー層/PETフィルム/ポリカーボネート基板」で表される積層構造である。
(Curing process)
Next, the coating layer was irradiated with ultraviolet light (UVA) through a light-transmitting film at 210 mJ/cm −2 to harden the coating layer, thereby converting it into a hardened layer.
Next, the light-transmitting film (T-15) was peeled off from the cured layer.
As a result of the above, an anti-fogging laminate was obtained that included a substrate (i.e., a substrate having a laminate structure represented by "primer layer/PET film/polycarbonate") and a cured product layer disposed on the substrate.
The anti-fogging laminate had a laminate structure represented by "cured material layer/primer layer/PET film/polycarbonate substrate".

<評価>
上記防曇性積層体について、以下の評価を実施した。
結果を表1に示す。
<Evaluation>
The above antifogging laminate was subjected to the following evaluations.
The results are shown in Table 1.

(硬化物層の厚さ)
膜厚測定装置(ETA-ARC、OPTOTECH社製)を使用し、防曇性積層体における硬化物層の中央付近について分光反射率を測定し、得られた分光反射率から、フーリエ変換法により硬化物層の膜厚を算出した。
(Thickness of the cured layer)
Using a film thickness measuring device (ETA-ARC, manufactured by OPTOTECH), the spectral reflectance was measured near the center of the cured material layer in the anti-fogging laminate, and the film thickness of the cured material layer was calculated from the obtained spectral reflectance by the Fourier transform method.

(防曇性積層体の耐擦傷性)
スチールウール#0000番を使用し、このスチールウールの上に防曇性積層体を、硬化物層がスチールウールに接触する配置で載せ、さらにこの防曇性積層体の真上に300g又は1kgの重りを載せて荷重を掛けた。この状態で、この防曇性積層体をスチールウール上で10回往復運動させた。この往復運動は、No.428 学振形摩耗試験機(摩擦試験機II形)(株式会社安田精機製作所製)を用いて行った。
上記往復運動後の防曇性積層体について、傷の有無、傷の状態(傷の深さ、数、等)、及び硬化物層の残り具合を目視で確認し、下記評価基準に基づき、防曇性積層体の耐擦傷性を評価した。
下記評価基準において、耐擦傷性に最も優れるランクは、ランク5である。
また、後述の表1において、「2.5」のように小数で表されているランクは、ランク2とランク3との間の評価を表す。
(Abrasion resistance of anti-fog laminate)
Using steel wool #0000, the anti-fogging laminate was placed on the steel wool in such a manner that the cured layer was in contact with the steel wool, and a weight of 300 g or 1 kg was placed directly on the anti-fogging laminate to apply a load. In this state, the anti-fogging laminate was reciprocated 10 times on the steel wool. This reciprocation was performed using a No. 428 Gakushin type abrasion tester (friction tester type II) (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.).
After the reciprocating motion, the anti-fog laminate was visually inspected for the presence or absence of scratches, the state of the scratches (depth, number, etc.), and the remaining state of the cured layer, and the scratch resistance of the anti-fog laminate was evaluated based on the following evaluation criteria.
In the following evaluation criteria, rank 5 is the most excellent rank in scratch resistance.
In addition, in Table 1 described later, ranks expressed as decimals, such as "2.5", represent an evaluation between ranks 2 and 3.

-防曇性積層体の耐擦傷性の評価基準-
5:硬化物層の表面に、視認できる傷がほとんど無い状態であり、かつ、硬化物層が全面的に残っている状態。
4:硬化物層の表面に、薄い傷が数本から十本入った状態であり、かつ、硬化物層が全面的に残っている状態。
3:硬化物層の表面に、太い傷が数本から十本入った状態であり、かつ、硬化物層が全面的に残っている状態。
2:硬化物層の表面において、スチールウールの幅全体に対応する領域に、深い傷が入っているが、硬化物層が一部残っている状態。
1:硬化物層の表面において、スチールウールの幅全体に対応する領域に、深い傷が入り、かつ、硬化物層が全面的に剥がれている状態。
--Evaluation Criteria for Scratch Resistance of Anti-Fog Laminate--
5: The surface of the cured layer is almost free of visible scratches, and the cured layer remains over the entire surface.
4: The surface of the hardened layer has several to ten thin scratches, and the hardened layer remains entirely.
3: The surface of the hardened layer had several to ten thick scratches, and the hardened layer remained entirely.
2: A state in which the surface of the hardened layer has deep scratches in an area corresponding to the entire width of the steel wool, but part of the hardened layer remains.
1: A state in which the surface of the hardened material layer has deep scratches in an area corresponding to the entire width of the steel wool, and the hardened material layer has peeled off entirely.

(防曇性)
(呼気防曇性)
防曇性積層体の硬化物層に対し、呼気の吹きかけを数秒間行い、この際に、硬化物層の表面における曇りの有無を目視にて確認した。
観察した結果に基づき、下記評価基準に従い、呼気防曇性を評価した。
下記評価基準において、Aであれば、呼気防曇性に優れる。
(Anti-fogging properties)
(Breath-proof)
Breath was blown onto the cured material layer of the anti-fogging laminate for several seconds, and the presence or absence of fogging on the surface of the cured material layer was visually confirmed.
Based on the observation results, the breath anti-fogging properties were evaluated according to the following evaluation criteria.
In the following evaluation criteria, if the rating is A, the breath anti-fogging property is excellent.

-呼気防曇性の評価基準-
A:呼気の吹きかけを数秒間行った際、硬化物層の表面に曇りが生じなかった。
B:呼気の吹きかけを数秒間行った際、硬化物層の表面に曇りが生じた。
-Evaluation criteria for breath anti-fogging properties-
A: When breath was blown onto the surface of the cured layer for several seconds, no clouding occurred on the surface of the cured layer.
B: When breath was blown onto the surface of the cured layer for several seconds, the surface became cloudy.

(50℃蒸気防曇性)
ビーカー内に純水を入れ、この純水を50℃に加温した。
ビーカー内の純水の温度が50℃に達した後、上記ビーカー上部に防曇性積層体を、硬化物層が水蒸気に接触する配置で載せ、この状態で1時間保持した。1時間の保持中、防曇性積層体を目視で観察して曇りの有無を確認し、下記評価基準に従い、50℃蒸気防曇性を評価した。
下記評価基準において、50℃蒸気防曇性に最も優れるランクは、Aである。
(50°C steam anti-fogging property)
Pure water was placed in a beaker and heated to 50°C.
After the temperature of the pure water in the beaker reached 50° C., the anti-fog laminate was placed on the top of the beaker with the cured layer in contact with water vapor, and this state was maintained for 1 hour. During the 1-hour maintenance, the anti-fog laminate was visually observed to check for the presence or absence of fogging, and the 50° C. steam anti-fog property was evaluated according to the following evaluation criteria.
In the following evaluation criteria, the most excellent rank for 50° C. steam anti-fogging property is A.

-50℃蒸気防曇性の評価基準-
A:1時間の保持の完了時点において、硬化物層の表面の曇りが生じていなかった。
B:1時間の保持の完了時点において、硬化物層の表面に曇りが生じていたが、0.5時間の保持の完了時点では、硬化物層の表面に曇りが生じていなかった。
C:0.5時間の保持の完了時点において、硬化物層の表面に曇りが生じていた。
-50℃ steam anti-fogging evaluation criteria-
A: At the completion of the 1-hour retention period, no clouding occurred on the surface of the cured layer.
B: At the completion of the 1-hour retention period, the surface of the cured material layer became cloudy, but at the completion of the 0.5-hour retention period, the surface of the cured material layer became cloudy.
C: At the completion of the 0.5 hour retention time, the surface of the cured layer became cloudy.

(接触角)
接触角計(自動接触角計 CA-V型, 協和界面科学株式会社製)を用い、積層体の硬化物層の表面における純水の接触角を測定した。測定は、1サンプルについて3箇所行い、これらの値の平均値を接触角の値とした。
接触角としては、体積1.0μLの純水の水滴が着滴してから1秒後の接触角と、体積1.0μLの純水の水滴が着滴してから22秒後の接触角と、をそれぞれ測定した。接触角の値が小さい程、防曇性に優れている。
(Contact angle)
The contact angle of pure water on the surface of the cured layer of the laminate was measured using a contact angle meter (Automatic Contact Angle Meter CA-V Type, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) Measurements were performed at three locations per sample, and the average of these values was taken as the contact angle value.
The contact angle was measured 1 second after a 1.0 μL droplet of pure water landed on the substrate, and 22 seconds after a 1.0 μL droplet of pure water landed on the substrate. The smaller the contact angle, the better the anti-fogging properties.

<微小押込み硬さ>
実施例1の光硬化性組成物について、後述の測定装置に取り付けるためにポリカーボネートでなく磁性ステンレス基板を用いた点以外は、前述の<防曇性積層体の作製>に記載された方法と同様の方法により、基材(即ち、「プライマー層/PETフィルム/磁性ステンレス基板」で表される積層構造を有する基材)と、基材上に配置された硬化物層と、を備える防曇性積層体を得た。
防曇性積層体の積層構造は、「硬化物層/プライマー層/PETフィルム/磁性ステンレス基板」で表される積層構造である。
得られた防曇性積層体について、前述の方法により微小押込み硬さの測定を行った。
測定装置はBruker社製、HYSITRON TI PREMIERを用い、測定圧子はバーコピッチャー圧子を用いた。
<Microindentation hardness>
For the photocurable composition of Example 1, an anti-fogging laminate comprising a substrate (i.e., a substrate having a laminate structure represented by "primer layer/PET film/magnetic stainless steel substrate") and a cured product layer disposed on the substrate was obtained in the same manner as described in <Preparation of anti-fogging laminate> above, except that a magnetic stainless steel substrate was used instead of polycarbonate in order to attach the composition to a measuring device described below.
The anti-fogging laminate had a laminate structure represented by "cured material layer/primer layer/PET film/magnetic stainless steel substrate".
The microindentation hardness of the obtained antifogging laminate was measured by the above-mentioned method.
The measurement device used was a HYSITRON TI PREMIER manufactured by Bruker Corporation, and the measurement indenter used was a Varco Picher indenter.

〔比較例1〕
光透過性フィルム配置工程を設けず、塗布物層に対して直接紫外線(UVA)を照射して硬化物層を形成したこと以外は実施例1と同様にして防曇性積層体を作製した。
得られた防曇性積層体について、実施例1と同様にして耐擦傷性の評価を実施した。
比較例1では、耐擦傷性が極めて悪かったため、防曇性の各評価及び微小押込み硬さの測定は省略した。
結果を表1に示す。
Comparative Example 1
An anti-fog laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the light-transmitting film disposing step was omitted and the coating layer was directly irradiated with ultraviolet light (UVA) to form a cured layer.
The anti-fogging laminate thus obtained was subjected to evaluation of scratch resistance in the same manner as in Example 1.
In Comparative Example 1, the scratch resistance was extremely poor, so the evaluation of the antifogging properties and the measurement of the microindentation hardness were omitted.
The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕
光硬化性組成物の組成を表1に示すように変更したこと、
プライマー層を形成しなかったこと、
光硬化性組成物の塗布方法を下記条件のスピンコート法に変更したこと、及び、
光透過性フィルム配置工程を実施せず、塗布物層に対して直接紫外線(UVA)を照射して硬化物層を形成したこと
以外は実施例1と同様にして防曇性積層体を作製した。
得られた防曇性積層体について、実施例1と同様の評価を実施した。
なお、微小押込み硬さの測定に用いた防曇積層体において、ポリカーボネート基板の代わりに磁性ステンレス基板を用いた点も実施例1と同様である。
結果を表1に示す。
Comparative Example 2
The composition of the photocurable composition was changed as shown in Table 1.
No primer layer was formed.
The coating method of the photocurable composition was changed to a spin coating method under the following conditions; and
An anti-fog laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the light-transmitting film disposing step was not carried out and the coating layer was directly irradiated with ultraviolet light (UVA) to form a cured layer.
The antifogging laminate thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1.
In addition, in the anti-fogging laminate used for measuring the microindentation hardness, a magnetic stainless steel substrate was used instead of the polycarbonate substrate, as in Example 1.
The results are shown in Table 1.

-スピンコート法の条件(比較例2)-
基材としての積層基板(即ち、PETフィルム/ポリカーボネート基板)を回転速度500rpm(revolutions per minute)にて10秒間回転させる間に、上記積層基板におけるPETフィルム側の表面に光硬化性組成物を滴下し、次いで、積層基板の回転速度を1000rpmに上げて10秒間回転させることにより光硬化性組成物を塗り広げ、塗布物層を形成した。
--Spin Coating Conditions (Comparative Example 2)--
While a laminate substrate (i.e., a PET film/polycarbonate substrate) serving as a base material was rotated at a rotation speed of 500 rpm (revolutions per minute) for 10 seconds, a photocurable composition was dropped onto the surface of the laminate substrate on the PET film side, and then the rotation speed of the laminate substrate was increased to 1000 rpm and rotated for 10 seconds to spread the photocurable composition and form a coating layer.

表1中、「組成物中の質量%」は、光硬化性組成物の全量に対する該当成分の含有量(質量%)を意味し、「乾燥質量%」とは、光硬化性組成物の総乾燥質量(即ち、溶媒以外の成分の総質量)に対する該当成分の含有量(質量%)を意味する。
表1における「-」は、該当する成分を含有しないことを意味する。
表1中、無機粒子(a2)の量につき「固形分量」とあるのは、無機粒子(a2)が対応するゾルの形態で用いられる場合において、そのゾルの質量のうちの含有溶媒以外の成分の質量を表す。
In Table 1, "mass % in composition" means the content (mass %) of the corresponding component relative to the total amount of the photocurable composition, and "dry mass %" means the content (mass %) of the corresponding component relative to the total dry mass of the photocurable composition (i.e., the total mass of components other than the solvent).
In Table 1, "-" means that the corresponding component is not contained.
In Table 1, the "solid content" for the amount of inorganic particles (a2) refers to the mass of components other than the solvent contained in the mass of the sol when the inorganic particles (a2) are used in the form of a corresponding sol.

表1に記載の用語についての詳細は以下の通りである。
-多官能モノマー(a1)-
A-600 … ポリエチレングリコール#600ジアクリレート(新中村化学工業製)。
-無機粒子(a2)-
PGM-AC-2140Y … オルガノシリカゾル(プロピレングリコールモノメチルエーテル分散シリカゾルの表面改質グレード:シリカ粒子含有率42質量%;粒子径10~15nm;日産化学工業製)
-界面活性剤(a3)-
ノイゲンLP-100 … ポリオキシアルキレンラウリルエーテル(第一工業製薬社製)。
-光重合開始剤-
Omnirad 127 … (2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン;IGM resins B.V.社製)
-溶媒-
DEGDME … ジエチレングリコールジメチルエーテル
PGME … プロピレングリコールモノメチルエーテル
Details regarding the terms used in Table 1 are as follows:
-Polyfunctional monomer (a1)-
A-600: Polyethylene glycol #600 diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
--Inorganic particles (a2)--
PGM-AC-2140Y: Organosilica sol (surface modified grade of propylene glycol monomethyl ether dispersed silica sol: silica particle content 42% by mass; particle size 10 to 15 nm; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)
--Surfactant (a3)--
Noigen LP-100...Polyoxyalkylene lauryl ether (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
- Photopolymerization initiator -
Omnirad 127 (2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one; manufactured by IGM resins B.V.)
-solvent-
DEGDME: Diethylene glycol dimethyl ether PGME: Propylene glycol monomethyl ether

表1に示すように、光透過性フィルム配置工程を実施した実施例1では、防曇性を有し、かつ、耐擦傷性に優れた防曇性積層体を製造することができた。
これに対し、光透過性フィルム配置工程を実施しなかった比較例1及び2では、防曇性積層体の耐擦傷性が低下した。
As shown in Table 1, in Example 1 in which the light-transmitting film disposing step was carried out, an anti-fog laminate having anti-fog properties and excellent scratch resistance could be produced.
In contrast, in Comparative Examples 1 and 2 in which the light-transmitting film disposing step was not carried out, the scratch resistance of the anti-fog laminate decreased.

Claims (3)

基材上に、光硬化性組成物を塗布して塗布物層を形成する工程と、
前記塗布物層上に光透過性フィルムを配置する工程と、
前記塗布物層に対し、前記光透過性フィルムを介して光を照射することにより、前記塗布物層を硬化させて硬化物層を得る工程と、
を有
前記光硬化性組成物が、2以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーと、無機粒子と、界面活性剤と、を含有し、
前記界面活性剤が、下記式(SS1)で表される化合物を含む、防曇性積層体の製造方法。



式(SS1)中、Rは、炭素数10~20のアルキル基を表し、Lは、炭素数2~4のアルキレン基を表し、nは、1~30の整数を表し、Xは、水酸基、スルホ基、ホスホノ基、カルボキシ基、リン酸基、O-硫酸基、N-硫酸基、スルホ基の塩、ホスホノ基の塩、カルボキシ基の塩、リン酸基の塩、O-硫酸基の塩、又は、N-硫酸基の塩を表す。
A step of applying a photocurable composition onto a substrate to form a coating layer;
placing a light-transmitting film on the coating layer;
a step of irradiating the coating layer with light through the light-transmitting film to cure the coating layer to obtain a cured layer;
having
The photocurable composition contains a polyfunctional monomer having two or more (meth)acryloyl groups, inorganic particles, and a surfactant,
The method for producing an anti-fogging laminate , wherein the surfactant comprises a compound represented by the following formula (SS1) :



In formula (SS1), R represents an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms, L represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, n represents an integer from 1 to 30, and X represents a hydroxyl group, a sulfo group, a phosphono group, a carboxy group, a phosphate group, an O-sulfate group, an N-sulfate group, a salt of a sulfo group, a salt of a phosphono group, a salt of a carboxy group, a salt of a phosphate group, a salt of an O-sulfate group, or a salt of an N-sulfate group.
前記光透過性フィルムを配置する工程は、前記光透過性フィルムと前記塗布物層との間に介在する気体を除去する工程を含む、請求項1に記載の防曇性積層体の製造方法。 The method for producing an anti-fog laminate according to claim 1, wherein the step of disposing the light-transmitting film includes a step of removing gas present between the light-transmitting film and the coating layer. 前記光透過性フィルムは、200nm~500nmの波長領域における平均透過率が40%以上である、請求項1又は請求項2に記載の防曇性積層体の製造方法。 The method for producing an anti-fog laminate according to claim 1 or 2, wherein the light-transmitting film has an average transmittance of 40% or more in the wavelength range of 200 nm to 500 nm.
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