JP7481085B2 - Gas transfer device and method of using the gas transfer device - Google Patents

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Description

本発明は、気体移送装置および気体移送装置の使用方法に関する。 The present invention relates to a gas transfer device and a method for using the gas transfer device.

半導体製造装置などに代表される真空装置の中に、真空チャンバの内部に何らかのガスを導入した状態で使用する装置が存在する。一例として、ドライエッチング装置は六フッ化硫黄などのガスを装置に導入した状態で基板のエッチング加工を行う。さらなる一例として、真空スパッタリング装置はアルゴンなどのガスを導入した状態で対象物のスパッタ加工を行う。 Among vacuum equipment such as semiconductor manufacturing equipment, there are some that are used with some kind of gas introduced into the vacuum chamber. One example is a dry etching equipment that etches a substrate with a gas such as sulfur hexafluoride introduced into the equipment. Another example is a vacuum sputtering equipment that sputters an object with a gas such as argon introduced into the equipment.

上記のようにガスをチャンバ内部に導入する真空装置においては、装置内部の真空度(導入したガスの圧力または濃度)によって対象物の加工量などが変動するので、真空度を制御することが重要となる。特開2007-134428号公報(特許文献1)には、オリフィスバルブを制御することでプラズマ室内の六フッ化硫黄のガス圧を調整するドライエッチング装置が開示されている。 As described above, in a vacuum device that introduces gas into a chamber, the amount of processing of the target object varies depending on the degree of vacuum inside the device (the pressure or concentration of the introduced gas), so it is important to control the degree of vacuum. JP 2007-134428 A (Patent Document 1) discloses a dry etching device that adjusts the gas pressure of sulfur hexafluoride in a plasma chamber by controlling an orifice valve.

特開2007-134428号公報JP 2007-134428 A

特許文献1に記載の装置では、プラズマ室内のガスがオリフィスバルブからプラズマ室の外部へと排気される。したがって、オリフィスバルブに近い位置ではガス圧が低く(真空度が高く)なり、オリフィスバルブから遠い位置ではガス圧が高く(真空度が低く)なる可能性がある。プラズマ室の内部、特に加工対象物の近辺での真空度の不均一性は、ドライエッチングの加工精度、加工均一性および/または加工安定性などに影響を及ぼし得る。 In the device described in Patent Document 1, gas in the plasma chamber is exhausted from the orifice valve to the outside of the plasma chamber. Therefore, the gas pressure may be low (high vacuum) near the orifice valve, and the gas pressure may be high (low vacuum) far from the orifice valve. Non-uniformity in the vacuum level inside the plasma chamber, especially near the workpiece, may affect the processing accuracy, processing uniformity, and/or processing stability of the dry etching.

この課題はドライエッチング装置に限られるものではない。上述の課題は、たとえば真空スパッタリング装置などのチャンバ内にガスを導入する真空装置一般に存在するものである。 This issue is not limited to dry etching equipment. The issue described above exists in general vacuum equipment that introduces gas into a chamber, such as a vacuum sputtering device.

そこで本願は、上述の課題を解決することを一つの目的とする。 Therefore, one of the objectives of this application is to solve the above-mentioned problems.

本願は、気体を移送する気体移送装置であって、少なくとも一部に円柱状部分を有する内筒であって、内筒の吸気側に設けられたステージ取付部を含む、内筒と、少なくとも一部に円柱状部分を有する外筒であって、内筒の中心軸と同軸に配置される、外筒と、内筒と外筒で画定されるガス流路上に設けられた動翼であって、中心軸を中心として回転可能に構成された動翼と、ガス流路上に設けられた静翼と、動翼を回転するためのモータと、を備え、内筒および外筒が中空に形成されており、気体移送装置はさらに、内筒および動翼により画定される空間に気体を供給するためのガスパージ口を備える、気体移送装置を開示する。 This application discloses a gas transfer device for transferring gas, comprising an inner cylinder having at least a cylindrical portion on at least a part thereof and including a stage mounting portion provided on the intake side of the inner cylinder, an outer cylinder having at least a cylindrical portion on at least a part thereof and arranged coaxially with the central axis of the inner cylinder, a rotor blade provided on a gas flow path defined by the inner cylinder and the outer cylinder, the rotor blade configured to be rotatable around the central axis, a stationary blade provided on the gas flow path, and a motor for rotating the rotor blade, the inner cylinder and the outer cylinder being formed hollow, and the gas transfer device further comprising a gas purge port for supplying gas to a space defined by the inner cylinder and the rotor blade.

第1実施形態にかかる気体移送装置の断面を模式的に示す図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the gas transfer device according to the first embodiment. 第1実施形態にかかる内筒その他の部品の分解立体図である。FIG. 2 is an exploded three-dimensional view of the inner cylinder and other components according to the first embodiment. 動翼の上面図である。FIG. 動翼の正面図である。FIG. 静翼の上面図である。FIG. 静翼の正面断面図である。FIG. 図1に示した気体移送装置の、アキシャル磁極の周辺の拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of the periphery of an axial magnetic pole of the gas transfer device shown in FIG. 1 . アキシャルセンサホルダの正面図である。FIG. 4 is a front view of the axial sensor holder. アキシャルセンサホルダの下面図である。FIG. 4 is a bottom view of the axial sensor holder. ステージ取付部を引き抜いた状態の気体移送装置を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing the gas transfer device with the stage mounting part removed. 第2実施形態にかかる気体移送装置の断面を模式的に示す図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a gas transfer device according to a second embodiment. 動翼の排気側の端部にタッチダウン軸受が設けられた気体移送装置の正面断面図である。FIG. 1 is a front cross-sectional view of a gas transfer device having a touchdown bearing provided at the exhaust side end of a rotor blade. 処理室の内部の方向へ内筒を底板と共に取り外すことが可能な気体移送装置の正面断面図である。FIG. 13 is a front cross-sectional view of a gas transfer device in which the inner cylinder can be removed together with the bottom plate toward the inside of the processing chamber. 図10の気体移送装置において、内筒110を底板と共に取り外した場合の正面断面図である。11 is a front cross-sectional view of the gas transfer device of FIG. 10 with the inner cylinder 110 removed together with the bottom plate. 静翼の段が最も吸気側に位置する気体移送装置を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a gas transfer device in which a stage of stator vanes is located at the most intake side.

<第1実施形態>
図1は第1実施形態にかかる気体移送装置100の断面を模式的に示す図である。なお、本実施形態にかかる気体移送装置100では、コネクタ118、排気口122、気流調整バッフルプレート180に設けられた通気口181およびステージ取付部114に設けられたガスパージ口191を除き、中心軸113に対して対称となるように構成されている。
First Embodiment
1 is a schematic diagram showing a cross section of a gas transfer device 100 according to the first embodiment. Note that gas transfer device 100 according to the present embodiment is configured symmetrically with respect to a central axis 113, except for a connector 118, an exhaust port 122, a vent port 181 provided in an airflow adjustment baffle plate 180, and a gas purge port 191 provided in a stage mounting portion 114.

図1の気体移送装置100は、紙面上部から気体を吸気し、紙面下部へ気体を排気するように構成されている。なお、以下の説明における「吸気側」とは図1の紙面上部または紙面上方向を指し、「排気側」とは図1の紙面下部または紙面下方向を指す。また、気体移送装置100は真空装置10に接続されているものとして説明する。この例における真空装置10はドライエッチング装置であり、処理室11(真空チャンバ11)、処理室11に備えられたプロセスガス供給機構12およびシャワーヘッド電極13、交流電源14ならびに交流電源14に接続されたケーブル15が備えられている。また、真空装置10および気体移送装置100の少なくとも一方を制御するための制御装置20が備えられていてもよい。真空装置10は、ドライエッチング装置の他、CVD装置、真空蒸着装置またはアッシング装置などの装置であってもよい。 The gas transfer device 100 in FIG. 1 is configured to suck in gas from the top of the page and exhaust gas to the bottom of the page. In the following description, the "intake side" refers to the top of the page or the upward direction of the page in FIG. 1, and the "exhaust side" refers to the bottom of the page or the downward direction of the page in FIG. 1. The gas transfer device 100 will be described as being connected to a vacuum device 10. The vacuum device 10 in this example is a dry etching device, and is equipped with a processing chamber 11 (vacuum chamber 11), a process gas supply mechanism 12 and a shower head electrode 13 provided in the processing chamber 11, an AC power source 14, and a cable 15 connected to the AC power source 14. A control device 20 for controlling at least one of the vacuum device 10 and the gas transfer device 100 may also be provided. The vacuum device 10 may be a device such as a CVD device, a vacuum deposition device, or an ashing device, in addition to a dry etching device.

(内筒および外筒について)
図1の気体移送装置100は、内筒110と、内筒110の外側に内筒110から離隔して設けられた外筒120とを備える。図1の例では、内筒110の外周面と外筒120の内周面との間の空間が、気体移送装置100におけるガス流路130を形成する。換言すれば、内筒110と外筒120がガス流路130を画定する。気体移送装置100は、ガス流路130を通過した気体を排気するための排気口122を備える。本実施形態では、外筒120の底部に排気口122が設けられているが、排気口122は外筒120の他の部分に設けられていてもよい。また、排気口122は内筒110などの他の部品に設けられていてもよい。
(Regarding the inner and outer cylinders)
The gas transfer device 100 of FIG. 1 includes an inner cylinder 110 and an outer cylinder 120 that is provided outside the inner cylinder 110 and spaced apart from the inner cylinder 110. In the example of FIG. 1, a space between the outer peripheral surface of the inner cylinder 110 and the inner peripheral surface of the outer cylinder 120 forms a gas flow path 130 in the gas transfer device 100. In other words, the inner cylinder 110 and the outer cylinder 120 define the gas flow path 130. The gas transfer device 100 includes an exhaust port 122 for exhausting gas that has passed through the gas flow path 130. In this embodiment, the exhaust port 122 is provided at the bottom of the outer cylinder 120, but the exhaust port 122 may be provided in another part of the outer cylinder 120. The exhaust port 122 may also be provided in another part such as the inner cylinder 110.

内筒110は少なくとも一部に円柱状部分111を有する。また、内筒110は中空に形成されており、中空空間112を画定している。外筒120も少なくとも一部に円柱状部分121を有し、中空に形成されている。外筒120の円柱状部分121は、内筒11
0の円柱状部分111の中心軸113と同軸に配置される。
The inner cylinder 110 has at least a cylindrical portion 111. The inner cylinder 110 is formed hollow and defines a hollow space 112. The outer cylinder 120 also has at least a cylindrical portion 121 and is formed hollow. The cylindrical portion 121 of the outer cylinder 120 is formed hollow.
1. The cylindrical portion 111 of the nozzle 100 is disposed coaxially with the central axis 113 of the cylindrical portion 111 of the nozzle 100.

内筒110は、内筒110の吸気側の端部に、ステージ115を取り付けるためのステージ取付部114を含む。ステージ取付部114は内筒110と一体形成されていてもよく、別個の部品として形成されていてもよい。本実施形態では、ステージ取付部114は円柱状で、かつ中空の部品であり、内筒110とは別個の部品である。しかし、ステージ取付部114の形状は円柱状に限らず、たとえばステージ115の形状に応じた形状にすることができる。また、ステージ取付部114を非中空のものとすることもできる。この場合、ステージ取付部114が中空空間112の閉口端となる。 The inner cylinder 110 includes a stage mounting portion 114 for mounting the stage 115 at the end of the intake side of the inner cylinder 110. The stage mounting portion 114 may be formed integrally with the inner cylinder 110 or may be formed as a separate part. In this embodiment, the stage mounting portion 114 is a cylindrical, hollow part and is a separate part from the inner cylinder 110. However, the shape of the stage mounting portion 114 is not limited to a cylindrical shape, and can be a shape that corresponds to the shape of the stage 115, for example. The stage mounting portion 114 can also be non-hollow. In this case, the stage mounting portion 114 becomes the closed end of the hollow space 112.

ステージ取付部114には基板116を固定するためのステージ115が取り付けられている。なお、ステージ取付部114は内筒110の一部であるので、「内筒110にステージ115が取り付けられている」と表現することも可能である。本実施形態では、円形の基板116を固定するために、ステージ115は円柱状に形成されている。しかし、ステージ115の形状は円柱状に限らず、たとえば基板116の形状に応じた形状にすることができる。さらに、ステージ115は中空空間112の閉口端となっている。ステージ115は、たとえば静電チャックなどを備えることにより、シリコンウエハなどの基板116を固定することが可能なように構成されている。 A stage 115 for fixing the substrate 116 is attached to the stage attachment portion 114. Since the stage attachment portion 114 is a part of the inner cylinder 110, it is also possible to express that "the stage 115 is attached to the inner cylinder 110". In this embodiment, the stage 115 is formed in a cylindrical shape in order to fix the circular substrate 116. However, the shape of the stage 115 is not limited to a cylindrical shape, and can be, for example, a shape corresponding to the shape of the substrate 116. Furthermore, the stage 115 forms the closed end of the hollow space 112. The stage 115 is configured to be able to fix the substrate 116, such as a silicon wafer, by including, for example, an electrostatic chuck or the like.

内筒110、外筒120、ステージ取付部114、ステージ115および基板116の配置について、図2の分解立体図を用いて説明する。ただし、図2では内筒110、外筒120、ステージ取付部114、ステージ115、基板116、コネクタ118、第1のボルト124および第2のボルト202以外の部品の図示は省略されている。 The arrangement of the inner cylinder 110, the outer cylinder 120, the stage attachment portion 114, the stage 115, and the substrate 116 will be described using the exploded view of FIG. 2. However, in FIG. 2, parts other than the inner cylinder 110, the outer cylinder 120, the stage attachment portion 114, the stage 115, the substrate 116, the connector 118, the first bolt 124, and the second bolt 202 are not shown.

図2に示されるとおり、本実施形態では、外筒120、ステージ取付部114、ステージ115および基板116の中心軸が、内筒110の円柱状部分111の中心軸113と同軸となるように配置されている。内筒110の底部には第1の雌ねじ穴117(この例では8つ)が設けられており、外筒120の底部には第1の貫通穴123(この例では8つ)が設けられている。この例では、8つの第1のボルト124を、第1の貫通穴123を介して第1の雌ねじ穴117にそれぞれねじ込むことで、内筒110を外筒120に固定することができる。ただし、内筒110と外筒120の固定方法は上述した方法に限らない。たとえば内筒110と外筒120との間に底板を設け、内筒110と底板を固定し、さらに外筒120と底板とを固定することもできる。また、内筒110および外筒120の間にOリングなどのシール材を設けることが好ましい。 2, in this embodiment, the central axes of the outer cylinder 120, the stage mounting portion 114, the stage 115, and the substrate 116 are arranged so as to be coaxial with the central axis 113 of the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110. The bottom of the inner cylinder 110 is provided with first female threaded holes 117 (eight in this example), and the bottom of the outer cylinder 120 is provided with first through holes 123 (eight in this example). In this example, the inner cylinder 110 can be fixed to the outer cylinder 120 by screwing eight first bolts 124 into the first female threaded holes 117 through the first through holes 123. However, the method of fixing the inner cylinder 110 and the outer cylinder 120 is not limited to the above-mentioned method. For example, a bottom plate can be provided between the inner cylinder 110 and the outer cylinder 120, the inner cylinder 110 and the bottom plate can be fixed, and the outer cylinder 120 can be further fixed to the bottom plate. It is also preferable to provide a seal such as an O-ring between the inner cylinder 110 and the outer cylinder 120.

内筒110とステージ取付部114についても、ステージ取付部114に設けられた第2の貫通穴200、内筒110の吸気側に設けられた第2の雌ねじ穴201および第2のボルト202を用いて固定することができる。この場合、第2の貫通穴200に座繰り部分を設けることで、第2のボルト202の頭部がステージ115と干渉することを防止することができる。ステージ取付部114とステージ115の固定についてもボルトによる固定を採用することができる。各部品間の固定は、ボルトによる固定の他、たとえば嵌合などの従来知られた固定方法を用いることもできる。 The inner cylinder 110 and the stage mounting part 114 can also be fixed using a second through hole 200 provided in the stage mounting part 114, a second female threaded hole 201 provided on the intake side of the inner cylinder 110, and a second bolt 202. In this case, by providing a countersunk portion in the second through hole 200, it is possible to prevent the head of the second bolt 202 from interfering with the stage 115. The stage mounting part 114 and the stage 115 can also be fixed with bolts. In addition to fixing with bolts, conventionally known fixing methods such as fitting can also be used to fix the various parts together.

気体移送装置100が接続される真空装置10の種類に応じて、ステージ115に様々な機能または構成を付与することが可能である。たとえば真空装置10がドライエッチング装置である場合、交流電源14に接続される電極がステージ115に設けられていてよい。その他、たとえばステージ駆動機構またはステージ温度調整機構などをステージ115に設けることができる。これらの要素またはこれらの要素に接続された配線などを中空空間112に収納することで、気体移送装置100を小型化することができる。 Depending on the type of vacuum device 10 to which the gas transfer device 100 is connected, various functions or configurations can be given to the stage 115. For example, if the vacuum device 10 is a dry etching device, an electrode connected to an AC power source 14 may be provided on the stage 115. In addition, for example, a stage drive mechanism or a stage temperature adjustment mechanism can be provided on the stage 115. By storing these elements or wiring connected to these elements in the hollow space 112, the gas transfer device 100 can be made smaller.

(動翼および静翼について)
ガス流路130上には、動翼140および静翼150が設けられている。動翼140は、ガス流路130上で回転自在に配置されている。静翼150は、動翼140と対向するように配置されている。ガス流路130上に設けられた動翼140および静翼150は、ガス流路130上の気体分子の流れを阻害し、ガス流路130の配管コンダクタンスを低下させる。配管コンダクタンスを低下させることで、プロセスガス供給機構12から真空装置10の内部に供給されたガスを処理室11の内部で均一に保持することが可能になる。
(About rotor blades and stator blades)
A moving blade 140 and a stator blade 150 are provided on the gas flow path 130. The moving blade 140 is rotatably disposed on the gas flow path 130. The stator blade 150 is disposed to face the moving blade 140. The moving blade 140 and the stator blade 150 provided on the gas flow path 130 obstruct the flow of gas molecules on the gas flow path 130 and reduce the piping conductance of the gas flow path 130. By reducing the piping conductance, it becomes possible to uniformly maintain the gas supplied from the process gas supply mechanism 12 to the inside of the vacuum apparatus 10 inside the processing chamber 11.

動翼140は高速に回転するまたは回転させられる部材である。また、実施形態にかかる気体移送装置100は中空空間112を有する。したがって、実施形態にかかる動翼140の径は、中空空間を有さない気体移送装置の動翼の径よりも大きくなりやすい。よって、実施形態にかかる動翼140は強い遠心応力に曝され得る。さらに、気体移送装置100の駆動中は、気体移送装置100の各部品の温度が上昇し得る。したがって、動翼140は、なるべく軽量で、強い遠心応力に耐え得、かつ、耐クリープ性が高いことが好ましい。そこで、実施形態にかかる動翼140は、銀を含有したアルミ合金から形成されてよい。アルミ合金から形成された動翼は広く知られているが、銀を含有したアルミ合金を用いることで、動翼140の強度をさらに向上させることができることがわかった。なお、銀の含有量は、常温常圧の条件下で0.01%~5%(質量パーセント)であってよい。ただし、銀の含有量を前述の割合以外の割合としてもよい。さらに好ましくは、動翼140は、そのようなアルミ合金を鍛造して形成されてよい。なお、動翼140は、他の材質または他の形成方法により形成されていてもよい。 The moving blade 140 is a member that rotates or is rotated at high speed. In addition, the gas transfer device 100 according to the embodiment has a hollow space 112. Therefore, the diameter of the moving blade 140 according to the embodiment is likely to be larger than the diameter of the moving blade of a gas transfer device that does not have a hollow space. Therefore, the moving blade 140 according to the embodiment may be exposed to strong centrifugal stress. Furthermore, the temperature of each part of the gas transfer device 100 may rise during operation of the gas transfer device 100. Therefore, it is preferable that the moving blade 140 is as light as possible, can withstand strong centrifugal stress, and has high creep resistance. Therefore, the moving blade 140 according to the embodiment may be formed from an aluminum alloy containing silver. Moving blades formed from aluminum alloys are widely known, but it has been found that the strength of the moving blade 140 can be further improved by using an aluminum alloy containing silver. The silver content may be 0.01% to 5% (mass percent) under conditions of normal temperature and normal pressure. However, the silver content may be a percentage other than the above-mentioned percentage. More preferably, the rotor blade 140 may be formed by forging such an aluminum alloy. However, the rotor blade 140 may be formed from other materials and by other forming methods.

図1の例では、静翼150が伝熱スペーサ125を介して外筒120に間接的に取り付けられている。ただし、静翼150は外筒120に直接的に取り付けられてもよい。また、静翼150は、伝熱スペーサ125および/または外筒120から分離可能に構成されてもよい。静翼150の材質は動翼140の材質と同じでもよく、異なっていてもよい。また、静翼150は伝熱スペーサ125と一体に形成されていてもよい。より具体的には、後述する静翼ベース151の少なくとも一つが、伝熱スペーサ125と一体に形成されていてもよい。静翼150と伝熱スペーサ125がそれぞれ別個独立の部品である場合、静翼150と伝熱スペーサ125の間には隙間が発生し得る。後述するように、実施形態にかかる気体移送装置100は、分子流条件のみならず、中間流条件または粘性流条件においても用いられ得る。中間流条件または粘性流条件において静翼150と伝熱スペーサ125との間に隙間が存在すると、そのような隙間を介して処理室11から気体が漏出しやすいと考えられる。気体の漏出とは逆に、そのような隙間を介して、処理室11に意図しない気体が入り込む可能性もある。さらに、実施形態にかかる気体移送装置100は中空空間112を有する。したがって、実施形態にかかる静翼150の径は、中空空間を有さない気体移送装置の静翼の径より大きくなりやすい。よって、実施形態にかかる気体移送装置100では、静翼150と伝熱スペーサ125との間の隙間の大きさ(「隙間の長さ」「隙間の面積」または「隙間の体積」と表現してもよい)が大きくなりやすい。隙間が大きくなれば、処理室11からの気体の漏出量/処理室11への気体の流入量はいっそう大きくなると考えられる。静翼150と伝熱スペーサ125との間に隙間がなるべく発生しないよう、静翼150(または静翼150の少なくとも一部)を伝熱スペーサ125(または伝熱スペーサ125の少なくとも一部)と一体に形成することで、処理室11からの気体の漏出/処理室11への気体の流入を低減することができる。 In the example of FIG. 1, the stator vane 150 is indirectly attached to the outer casing 120 via the heat transfer spacer 125. However, the stator vane 150 may be directly attached to the outer casing 120. The stator vane 150 may be configured to be separable from the heat transfer spacer 125 and/or the outer casing 120. The material of the stator vane 150 may be the same as or different from the material of the rotor blade 140. The stator vane 150 may be formed integrally with the heat transfer spacer 125. More specifically, at least one of the stator vane bases 151 described later may be formed integrally with the heat transfer spacer 125. When the stator vane 150 and the heat transfer spacer 125 are separate and independent parts, a gap may be generated between the stator vane 150 and the heat transfer spacer 125. As described later, the gas transfer device 100 according to the embodiment can be used not only under molecular flow conditions but also under intermediate flow conditions or viscous flow conditions. If a gap exists between the stator blade 150 and the heat transfer spacer 125 under intermediate flow conditions or viscous flow conditions, it is considered that gas is likely to leak from the processing chamber 11 through such a gap. Conversely to gas leakage, there is also a possibility that unintended gas may enter the processing chamber 11 through such a gap. Furthermore, the gas transfer device 100 according to the embodiment has a hollow space 112. Therefore, the diameter of the stator blade 150 according to the embodiment is likely to be larger than the diameter of the stator blade of a gas transfer device that does not have a hollow space. Therefore, in the gas transfer device 100 according to the embodiment, the size of the gap between the stator blade 150 and the heat transfer spacer 125 (which may be expressed as "gap length", "gap area", or "gap volume") is likely to be large. It is considered that the larger the gap, the greater the amount of gas leaking from the processing chamber 11/the amount of gas flowing into the processing chamber 11. To minimize the occurrence of gaps between the stator blades 150 and the heat transfer spacer 125, the stator blades 150 (or at least a part of the stator blades 150) are integrally formed with the heat transfer spacer 125 (or at least a part of the heat transfer spacer 125), thereby reducing the leakage of gas from the processing chamber 11/the inflow of gas into the processing chamber 11.

気体移送装置100が気体を移送している間、気体移送装置100の内部には熱が発生する。発生した熱は静翼150を温める。静翼150の熱は(伝熱スペーサ125が設けられている場合は伝熱スペーサ125を介して)外筒120に伝わる。外筒120に伝わった熱は、図1の構成であれば外部の空間に放熱される。しかし、図1とは異なり、外筒
120の外部にさらに何らかの部品が設けられている場合もある。たとえば、処理室11の下部が円筒状に形成されており、そのような円筒状の部分に気体移送装置100を取り付けた場合、外筒120の周囲には処理室11の壁が存在し得る。各部品の間で効率的に熱を伝導するためには、隣り合う部品同士を接触させることが好ましい。
While the gas transfer device 100 transfers gas, heat is generated inside the gas transfer device 100. The generated heat warms the stator blades 150. The heat of the stator blades 150 is transferred to the outer cylinder 120 (through the heat transfer spacer 125 if the heat transfer spacer 125 is provided). The heat transferred to the outer cylinder 120 is dissipated to the external space in the configuration of FIG. 1. However, unlike FIG. 1, some other parts may be provided outside the outer cylinder 120. For example, if the lower part of the processing chamber 11 is formed in a cylindrical shape and the gas transfer device 100 is attached to such a cylindrical part, the wall of the processing chamber 11 may exist around the outer cylinder 120. In order to efficiently conduct heat between each part, it is preferable to make adjacent parts contact each other.

一方で、静翼150、(存在する場合は)伝熱スペーサ125および外筒120が熱を受け取ると、各部品は熱により膨張し得る。さらに、熱は気体移送装置100の内部から外部へ向かって移動するため、気体移送装置100の内側に位置する部品のほうが、外側に位置する部品よりも熱くなりやすい。(ただし、装置の構成や、各部品の比熱または熱容量などによっては、外側に位置する部品の方が熱くなる可能性もある。)したがって、隣り合う部品同士を接触させた状態で、気体移送装置100により気体を移送すると、焼きばめに類似した現象が発生する。すなわち、気体移送装置100により気体を移送すると、熱膨張により、隣り合う部品が互いを押さえつけ得る。熱膨張により部品が押さえつけられると、部品を分解することが不可能になるか、または、少なくとも部品の温度が低下するまで部品を分解することが困難になる。また、部品同士が互いを押さえつけることにより、部品の変形が起こり得ると考えられる。気体移送装置100には中空空間112が設けられているので、各部品の径は大きくなりやすい。部品の径が大きくなると熱による径方向の膨張量も大きくなるので、熱膨張による問題はより重大になると考えられる。 On the other hand, when the stator blades 150, the heat transfer spacer 125 (if present), and the outer cylinder 120 receive heat, each part may expand due to the heat. Furthermore, since heat moves from the inside to the outside of the gas transfer device 100, the parts located inside the gas transfer device 100 tend to become hotter than the parts located outside. (However, depending on the configuration of the device and the specific heat or heat capacity of each part, the parts located outside may become hotter.) Therefore, when gas is transferred by the gas transfer device 100 with adjacent parts in contact with each other, a phenomenon similar to shrink fitting occurs. That is, when gas is transferred by the gas transfer device 100, adjacent parts may press against each other due to thermal expansion. When parts are pressed against each other due to thermal expansion, it becomes impossible to disassemble the parts, or at least it becomes difficult to disassemble the parts until the temperature of the parts drops. In addition, it is thought that deformation of the parts may occur due to the parts pressing against each other. Since the hollow space 112 is provided in the gas transfer device 100, the diameter of each part tends to become large. As the diameter of the parts increases, the amount of radial expansion due to heat also increases, so problems due to thermal expansion are expected to become more serious.

焼きばめに類似した現象による問題を解決するため、次の条件の少なくともひとつを満たすように静翼150、(存在する場合は)伝熱スペーサ125および外筒120の寸法を決定してよい。
・静翼150が第1の所定の温度(たとえば気体移送装置100の最高許容温度より20度低い温度)以上の温度となった場合に、静翼150がその外周にある部品(たとえば伝熱スペーサ125または外筒150)に接触する。換言すれば、静翼150の温度が第1の所定の温度より低い場合には、静翼150はその外周にある部品に接触しない(隙間が形成される)。
・伝熱スペーサが第2の所定の温度(たとえば気体移送装置100の最高許容温度より30度低い温度)以上の温度となった場合に、伝熱スペーサ125がその外周にある部品(たとえば外筒120)に接触する。換言すれば、伝熱スペーサ125の温度が第2の所定の温度より低い場合には、伝熱スペーサ125はその外周にある部品に接触しない。
・外筒120が第3の所定の温度(たとえば気体移送装置100の最高許容温度より40度低い温度)以上の温度となった場合に、外筒120がその外周にある部品(たとえば処理室11)に接触する。換言すれば、外筒120の温度が第3の所定の温度より低い場合には、外筒120はその外周にある部品に接触しない。
To address problems caused by a phenomenon similar to shrink fitting, the vanes 150, the heat transfer spacers 125 (if present), and the casing 120 may be dimensioned to satisfy at least one of the following conditions:
When the temperature of the stator vane 150 reaches or exceeds a first predetermined temperature (e.g., a temperature 20 degrees lower than the maximum allowable temperature of the gas transfer device 100), the stator vane 150 comes into contact with a component on its outer periphery (e.g., the heat transfer spacer 125 or the outer casing 150). In other words, when the temperature of the stator vane 150 is lower than the first predetermined temperature, the stator vane 150 does not come into contact with a component on its outer periphery (a gap is formed).
When the temperature of the heat transfer spacer reaches or exceeds a second predetermined temperature (e.g., a temperature 30 degrees lower than the maximum allowable temperature of the gas transfer device 100), the heat transfer spacer 125 comes into contact with a component located on its periphery (e.g., the outer cylinder 120). In other words, when the temperature of the heat transfer spacer 125 is lower than the second predetermined temperature, the heat transfer spacer 125 does not come into contact with a component located on its periphery.
When the temperature of the outer cylinder 120 reaches or exceeds a third predetermined temperature (e.g., a temperature 40 degrees lower than the maximum allowable temperature of the gas transfer device 100), the outer cylinder 120 comes into contact with the components on its outer periphery (e.g., the processing chamber 11). In other words, when the temperature of the outer cylinder 120 is lower than the third predetermined temperature, the outer cylinder 120 does not come into contact with the components on its outer periphery.

上記の条件の少なくともひとつを満たすような構成によれば、部品の温度が所定の温度以上となった場合は部品同士が接触するため、部品間で熱が伝導する。したがって、部品の温度が所定の温度以上となった場合、気体移送装置100の放熱をすることが可能になる。一方で、常温では部品間に隙間が形成されている。したがって、熱膨張によって部品が他の部品を押さえつける力を低減することができる。よって、焼きばめに類似した現象による問題を解決することができる。 According to a configuration that satisfies at least one of the above conditions, when the temperature of the parts reaches or exceeds a predetermined temperature, the parts come into contact with each other, and heat is conducted between the parts. Therefore, when the temperature of the parts reaches or exceeds a predetermined temperature, it becomes possible to dissipate heat from the gas transfer device 100. On the other hand, at room temperature, gaps are formed between the parts. Therefore, the force with which one part presses down on another due to thermal expansion can be reduced. This makes it possible to solve problems caused by a phenomenon similar to shrink fitting.

図3を用いて、動翼140を詳細に説明する。図3Aは、動翼140を吸気側から見た上面図である。図3Bは動翼140の正面図である。本実施形態の動翼140は、円柱状かつ中空の動翼ベース141を備える。動翼ベース141には動翼の段142が4段備えられている。動翼の段142のそれぞれは個々の動翼143の集合体である。個々の動翼143のそれぞれは、動翼ベース141の中心軸を中心として放射状に形成されている。なお、気体移送装置100が組み立てられたとき、動翼ベース141の中心軸は内筒110の円柱状部分111の中心軸113とほぼ一致する。したがって、「動翼ベース141
の中心軸」を「中心軸113」と読み替えることが可能である。また、動翼の段142の数ならびに個々の動翼143の枚数および角度などは図示したものに限られない。
The rotor blade 140 will be described in detail with reference to Figure 3. Figure 3A is a top view of the rotor blade 140 as viewed from the intake side. Figure 3B is a front view of the rotor blade 140. The rotor blade 140 of this embodiment includes a cylindrical, hollow rotor blade base 141. The rotor blade base 141 is provided with four rotor blade stages 142. Each of the rotor blade stages 142 is an assembly of individual rotor blades 143. Each of the individual rotor blades 143 is formed radially around the central axis of the rotor blade base 141. When the gas transfer device 100 is assembled, the central axis of the rotor blade base 141 approximately coincides with the central axis 113 of the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110. Therefore, it is said that the rotor blade base 141 is a cylindrical rotor blade base.
It is possible to read "the central axis of the rotor blades 113" as "the central axis 113." Furthermore, the number of rotor blade stages 142 and the number and angle of each rotor blade 143 are not limited to those shown in the figure.

動翼140は、中心軸113を中心として回転することができる。個々の動翼143のそれぞれは、動翼140の回転方向300に対して前部が吸気側に位置し、後部が排気側に位置するよう傾けられている。この構成により、個々の動翼143は回転時に気体分子と衝突して気体分子に運動エネルギーを加え、気体分子を図1の紙面上部から紙面下部に向けて移送する。また、一般的に、吸気側において分子の吸気効率を上昇させ、かつ、排気側において分子の逆流を防止するために、吸気側に位置する動翼の段142の傾斜角度を大きくし、かつ、排気側に位置する動翼の段142の傾斜角度を小さくすることが知られている。一方で、実施形態にかかる気体移送装置100は、処理室10中にプロセスガスなどの気体を保つ必要がある。そこで、動翼の段142のすべての傾斜角度はほぼ同一であってよい。具体的には、個々の動翼143のすべてを、10度以上30度以下の間で傾けてよい(ただし、個々の動翼143が、図3Bの左右方向に平行な状態である場合の傾斜角度を0度とする)。もちろん、10度より小さい角度または30度より小さい角度とすることも可能である。この構成によれば、必要な圧縮比を保ちつつ、必要な気体移送の性能を保ちつつ、かつ、処理室10の内部にプロセスガスなどの気体を保つことが可能である。動翼140の回転速度が速いほど、気体分子の移送効率は向上する。したがって、動翼140の回転速度を増減することで、ガス流路130の配管コンダクタンスを増減させることができる。一例として、制御装置20が動翼140の回転速度を制御する構成を取ることが可能である。 The rotor blades 140 can rotate around the central axis 113. Each of the rotor blades 143 is inclined so that the front part is located on the intake side and the rear part is located on the exhaust side with respect to the rotation direction 300 of the rotor blades 140. With this configuration, each rotor blade 143 collides with gas molecules during rotation to add kinetic energy to the gas molecules, and transfers the gas molecules from the top of the paper in FIG. 1 to the bottom of the paper. In addition, it is generally known that in order to increase the intake efficiency of molecules on the intake side and prevent backflow of molecules on the exhaust side, the inclination angle of the rotor blade stage 142 located on the intake side is increased and the inclination angle of the rotor blade stage 142 located on the exhaust side is decreased. On the other hand, the gas transfer device 100 according to the embodiment needs to keep gas such as process gas in the processing chamber 10. Therefore, all the inclination angles of the rotor blade stages 142 may be approximately the same. Specifically, all of the individual moving blades 143 may be inclined between 10 degrees and 30 degrees (however, the inclination angle when each moving blade 143 is parallel to the left and right direction in FIG. 3B is 0 degrees). Of course, it is also possible to set the angle to be smaller than 10 degrees or smaller than 30 degrees. With this configuration, it is possible to maintain the necessary compression ratio, the necessary gas transfer performance, and to keep gas such as a process gas inside the processing chamber 10. The faster the rotation speed of the moving blades 140, the higher the transfer efficiency of gas molecules. Therefore, by increasing or decreasing the rotation speed of the moving blades 140, the piping conductance of the gas flow path 130 can be increased or decreased. As an example, it is possible to adopt a configuration in which the control device 20 controls the rotation speed of the moving blades 140.

次に、図4を用いて静翼150を詳細に説明する。図4Aは、静翼150(または静翼150の少なくとも一部)を吸気側から見た上面図である。図4Bは静翼150(または静翼150の少なくとも一部)の正面断面図である。静翼150は、円柱状かつ中空の静翼ベース151を備える。静翼ベース151は、分割線154の位置で二分割可能に構成されている。静翼ベース151の組立時には、動翼140を挟み込むように二つの部分が取り付けられる。ただし、静翼ベース151は分割構造を持つものに限られない。また、静翼ベース151には静翼の段152が1段備えられている。なお、図1において複数の部品(図1では4つ)に1つの符号「150」が付されていることから理解されるように、静翼150は複数の静翼ベース151を積み重ねたものであってよい。静翼ベース151を積み重ねることで、静翼150は全体として複数の静翼の段152を備える。1つの静翼ベース151が静翼の段152を1段備える場合、静翼ベース151の数は、動翼の段142の数と等しいことが好ましい。静翼の段152は個々の静翼153の集合体である。個々の静翼153のそれぞれは、静翼ベース151の中心軸(中心軸113と読み替えることができる)を中心として放射状に形成されている。ただし、1つの静翼ベース151に設けられる静翼の段152の数、静翼150全体としての静翼の段152の数、ならびに個々の静翼153の枚数および角度などは図示した数に限られない。 Next, the stator vane 150 will be described in detail with reference to FIG. 4. FIG. 4A is a top view of the stator vane 150 (or at least a part of the stator vane 150) seen from the intake side. FIG. 4B is a front cross-sectional view of the stator vane 150 (or at least a part of the stator vane 150). The stator vane 150 has a cylindrical, hollow stator vane base 151. The stator vane base 151 is configured to be split into two at the position of a split line 154. When assembling the stator vane base 151, the two parts are attached so as to sandwich the rotor vane 140. However, the stator vane base 151 is not limited to having a split structure. In addition, the stator vane base 151 has one stator vane stage 152. As can be understood from the fact that multiple parts (four in FIG. 1) are assigned the same reference number "150" in FIG. 1, the stator vane 150 may be a stack of multiple stator vane bases 151. By stacking the stator vane bases 151, the stator vane 150 as a whole has a plurality of stator vane stages 152. When one stator vane base 151 has one stator vane stage 152, the number of stator vane bases 151 is preferably equal to the number of rotor blade stages 142. The stator vane stage 152 is an assembly of individual stator vanes 153. Each of the individual stator vanes 153 is formed radially around the central axis of the stator vane base 151 (which can be read as the central axis 113). However, the number of stator vane stages 152 provided on one stator vane base 151, the number of stator vane stages 152 as a whole of the stator vane 150, and the number and angle of each stator vane 153 are not limited to the numbers shown in the figure.

個々の静翼153のそれぞれは、個々の動翼143とは逆方向に傾けられている。すなわち、個々の静翼153のそれぞれは、動翼140の回転方向300に対して前部が排気側に位置し、後部が吸気側に位置するよう傾けられている。この構成により、静翼150は、図1の紙面下部から紙面上部方向への気体分子の移動(気体分子の逆流)を防ぐ。動翼140と同様に、静翼150についても、吸気側に位置する静翼の段152の傾斜角度を大きく、排気側に位置する静翼の段152の傾斜角度を小さくすることが知られている。動翼140(動翼の段142)と同様に、静翼の段152のすべての傾斜角度はほぼ同一であってよい。具体的には、個々の静翼153のすべてを、10度以上30度以下の間で傾けてよい(ただし、個々の静翼153が、図4Bの左右方向に平行な状態である場合の傾斜角度を0度とする)。もちろん、10度より小さい角度または30度より小さい角度とすることも可能である。 Each of the individual stator vanes 153 is inclined in the opposite direction to each of the rotor blades 143. That is, each of the individual stator vanes 153 is inclined so that the front part is located on the exhaust side and the rear part is located on the intake side with respect to the rotation direction 300 of the rotor blade 140. With this configuration, the stator vanes 150 prevent the movement of gas molecules from the bottom of the paper to the top of the paper in FIG. 1 (backflow of gas molecules). As with the rotor blade 140, it is known that the inclination angle of the stator vane stage 152 located on the intake side is large and the inclination angle of the stator vane stage 152 located on the exhaust side is small for the stator vanes 150. As with the rotor blade 140 (rotor blade stage 142), the inclination angles of all of the stator vane stages 152 may be approximately the same. Specifically, all of the individual stator vanes 153 may be inclined between 10 degrees and 30 degrees (however, the inclination angle when each stator vane 153 is parallel to the left and right direction of FIG. 4B is 0 degrees). Of course, it is also possible to set the angle to less than 10 degrees or less than 30 degrees.

以上の構成によれば、動翼140(個々の動翼143)および静翼150(個々の静翼153)はガス流路130のコンダクタンスを低下させる他にも、それぞれ気体分子を移送するためのブレードとしても働く。ここで、JIS(Japanese Industrial Standards)には、以下の定義が記載されている。
JIS Z 8126-2:1999 2.1.2.5 “分子ポンプ”:“高速のロータ表面によって気体分子に運動量が与えられ,ポンプの排気口の方向に気体が輸送される運動量輸送式真空ポンプ。”
JIS Z 8126-2:1999 2.1.2.5.1 “ターボ分子ポンプ”:“ロータに溝又は羽根があって,それに対
応する同様のステータの間を回転する分子ポンプ。回転体の周速は,気体分子の運動速度とほぼ同じである。通常,分子流条件のもとでその性能を発揮する。”
According to the above configuration, the rotor blades 140 (individual rotor blades 143) and the stator blades 150 (individual stator blades 153) each act as a blade for transporting gas molecules in addition to reducing the conductance of the gas passage 130. Here, the following definition is provided in the JIS (Japanese Industrial Standards).
JIS Z 8126-2:1999 2.1.2.5 "Molecular pump": "A momentum transport vacuum pump in which momentum is imparted to gas molecules by a high-speed rotor surface, and the gas is transported in the direction of the pump exhaust port."
JIS Z 8126-2:1999 2.1.2.5.1 "Turbomolecular pump": "A molecular pump in which a rotor has grooves or blades and rotates between a corresponding similar stator. The peripheral speed of the rotor is approximately the same as the speed of motion of the gas molecules. It usually performs well under molecular flow conditions."

実施形態にかかる気体移送装置100は、動翼140(個々の動翼143)により気体分子に運動量を与え、排気口の方向に気体を移送している。したがって、JISの定義に照らせば、実施形態にかかる気体移送装置100は分子ポンプであるといえる。さらに、実施形態にかかる気体移送装置100は、動翼140(動翼の段142)が静翼150(静翼の段152)の間を回転するように構成されている。したがって、JISの定義に照らせば、実施形態にかかる気体移送装置100はターボ分子ポンプであるといえる。ただし、実施形態にかかる気体移送装置は、「配管コンダクタンスを低下させることで、プロセスガス供給機構12から真空装置10の内部に供給されたガスを処理室11の内部で均一に保持する」ために設けられている。プロセスガスが供給された処理室11の内部は、分子流条件のみならず、粘性流条件または中間流条件にもなり得ると考えられる。したがって、実施形態にかかる気体移送装置は一般的なターボ分子ポンプ(JISによれば「通常,分子流条件のもとでその性能を発揮する」)とは異なることを留意されたい。 The gas transfer device 100 according to the embodiment transfers gas in the direction of the exhaust port by imparting momentum to gas molecules with the moving blades 140 (individual moving blades 143). Therefore, in light of the JIS definition, the gas transfer device 100 according to the embodiment is a molecular pump. Furthermore, the gas transfer device 100 according to the embodiment is configured such that the moving blades 140 (stage 142 of moving blades) rotate between the stationary blades 150 (stage 152 of stationary blades). Therefore, in light of the JIS definition, the gas transfer device 100 according to the embodiment is a turbomolecular pump. However, the gas transfer device according to the embodiment is provided to "reducing the piping conductance to uniformly maintain the gas supplied from the process gas supply mechanism 12 to the inside of the vacuum device 10 inside the processing chamber 11." It is considered that the inside of the processing chamber 11 to which the process gas is supplied can be under not only molecular flow conditions but also viscous flow conditions or intermediate flow conditions. Therefore, please note that the gas transfer device in this embodiment is different from a typical turbomolecular pump (which, according to the JIS, "usually demonstrates its performance under molecular flow conditions").

複数の静翼ベース151を積み重ねて用いる場合、静翼ベース151同士はいんろう継手(spigot joint)の形式により接続されることが好ましい。たとえば図4に示すとおり、静翼ベース151の上面の内周側には凸部155が設けられてよい。かつ、静翼ベース151の下面の内周側には、凸部155に対応する凹部156が設けられてよい。凸部155が凹部156と結合することで、複数の静翼ベース151を精度よく位置決めすることができる。また、静翼ベース151の位置決めが高精度化されることにより、動翼140と静翼150との間のギャップ長を精度よく管理することが可能である。なお、図4の構造はあくまでも例示である。たとえば、図4とは異なり、静翼ベース151の上面に凹部156を設け、静翼ベース151の下面に凸部155を設けてもよい。凸部155および凹部156は、静翼ベース151の内周側でない部分に設けられていてもよい。 When multiple stator vane bases 151 are stacked, it is preferable that the stator vane bases 151 are connected to each other in the form of a spigot joint. For example, as shown in FIG. 4, a convex portion 155 may be provided on the inner circumferential side of the upper surface of the stator vane base 151. A concave portion 156 corresponding to the convex portion 155 may be provided on the inner circumferential side of the lower surface of the stator vane base 151. By combining the convex portion 155 with the concave portion 156, the multiple stator vane bases 151 can be positioned with high precision. In addition, by increasing the precision of the positioning of the stator vane base 151, it is possible to accurately manage the gap length between the rotor vane 140 and the stator vane 150. Note that the structure in FIG. 4 is merely an example. For example, unlike FIG. 4, a concave portion 156 may be provided on the upper surface of the stator vane base 151, and a convex portion 155 may be provided on the lower surface of the stator vane base 151. The convex portion 155 and the concave portion 156 may be provided on a portion other than the inner circumferential side of the stator vane base 151.

(軸受について)
気体移送装置100は、動翼140を回転可能に支持するための軸受を備える。軸受としては転がり軸受または磁気軸受などを用いることができる。図1の例では、内筒110と動翼140との間に設けられた磁気軸受160が用いられている。図1の例における磁気軸受160は、2組のラジアル磁極161および1組のアキシャル磁極162を含む。図1の磁気軸受はさらに、タッチダウン軸受163を含む。
(Regarding bearings)
The gas transfer device 100 includes a bearing for rotatably supporting the rotor blades 140. The bearing may be a rolling bearing or a magnetic bearing. In the example of FIG. 1, a magnetic bearing 160 is provided between the inner cylinder 110 and the rotor blades 140. The magnetic bearing 160 in the example of FIG. 1 includes two sets of radial magnetic poles 161 and one set of axial magnetic poles 162. The magnetic bearing in FIG. 1 further includes a touchdown bearing 163.

ラジアル磁極161は、動翼140の径方向の荷重を支持するための磁極である。図1の例では、内筒110の円柱状部分111の外周面および動翼140の内周面にラジアル磁極161が設けられている。なお、ラジアル磁極161に、内筒110と動翼140との間の径方向の変位を測定するラジアル変位センサ(図示せず)を設けてもよい。その場合、制御装置20が変位センサの測定量に基づいてラジアル磁極161を制御することで、動翼140の回転を安定化することができる。 The radial magnetic poles 161 are magnetic poles for supporting the radial load of the rotor blade 140. In the example of FIG. 1, the radial magnetic poles 161 are provided on the outer peripheral surface of the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110 and the inner peripheral surface of the rotor blade 140. The radial magnetic poles 161 may be provided with a radial displacement sensor (not shown) that measures the radial displacement between the inner cylinder 110 and the rotor blade 140. In this case, the control device 20 controls the radial magnetic poles 161 based on the measurement amount of the displacement sensor, thereby stabilizing the rotation of the rotor blade 140.

アキシャル磁極162は、動翼140の軸方向の荷重を支持するための磁極である。図1の例では、内筒110の一部であるステージ取付部114にアキシャル磁極162が設けられている。また、アキシャル磁極162の他に、アキシャル磁極162のターゲットであるアキシャル磁極ターゲット164、アキシャル変位センサ(図示せず)を保持するためのアキシャルセンサホルダ165およびアキシャル変位センサのターゲットであるアキシャルセンサターゲット166を備えてもよい。ここで、アキシャル変位センサは内筒110と動翼140との間の軸方向の変位を測定するセンサである。なお、図1の例では、アキシャル磁極ターゲット164およびアキシャルセンサターゲット166は動翼140に固定されており、動翼140とともに回転する。また、図1に示すように、アキシャル磁極162、アキシャル磁極ターゲット164、アキシャルセンサホルダ165およびアキシャルセンサターゲット166を気体移送装置100の上部からアクセス可能な位置に設けることで、アキシャル磁極162を交換することが容易になる。 The axial magnetic pole 162 is a magnetic pole for supporting the axial load of the moving blade 140. In the example of FIG. 1, the axial magnetic pole 162 is provided on the stage mounting portion 114, which is a part of the inner cylinder 110. In addition to the axial magnetic pole 162, an axial magnetic pole target 164, which is a target of the axial magnetic pole 162, an axial sensor holder 165 for holding an axial displacement sensor (not shown), and an axial sensor target 166, which is a target of the axial displacement sensor, may be provided. Here, the axial displacement sensor is a sensor that measures the axial displacement between the inner cylinder 110 and the moving blade 140. In the example of FIG. 1, the axial magnetic pole target 164 and the axial sensor target 166 are fixed to the moving blade 140 and rotate together with the moving blade 140. In addition, as shown in FIG. 1, the axial magnetic pole 162, the axial magnetic pole target 164, the axial sensor holder 165, and the axial sensor target 166 are located in positions accessible from the top of the gas transfer device 100, making it easy to replace the axial magnetic pole 162.

タッチダウン軸受163は磁気軸受160が制御不能となった際などに動作する軸受である。図1の例では、内筒110の一部であるステージ取付部114と動翼140との間にタッチダウン軸受163が設けられている。 The touchdown bearing 163 is a bearing that operates when the magnetic bearing 160 becomes uncontrollable. In the example of FIG. 1, the touchdown bearing 163 is provided between the stage mounting portion 114, which is part of the inner cylinder 110, and the rotor blade 140.

従来は、タッチダウン軸受163として、径方向または軸方向の1方向の荷重を支持することができる2点接触型玉軸受が用いられていた。しかし、磁気軸受160を緊急停止した場合には、径方向および軸方向の双方に荷重が発生し得る。そこで従来技術では、2点接触型玉軸受を二つ組み合わせる(複列化する)ことで、径方向および軸方向の双方の荷重を支持していた。一方、本実施形態では、タッチダウン軸受163として4点接触単列型玉軸受を用いている。4点接触型玉軸受は、一つの(単列の)軸受で径方向および軸方向の双方の荷重を支持することができる。タッチダウン軸受を単列化することで、部品の小型化、部品点数の削減を達成することができる。4点接触単列型玉軸受以外にも、通常の単列型玉軸受、アンギュラ玉軸受、円筒ころ軸受等の軸受を採用することも可能である。 Conventionally, a two-point contact ball bearing capable of supporting a load in one direction, either the radial or axial direction, was used as the touchdown bearing 163. However, when the magnetic bearing 160 is stopped in an emergency, loads can occur in both the radial and axial directions. In the conventional technology, therefore, two two-point contact ball bearings were combined (double row) to support both radial and axial loads. On the other hand, in this embodiment, a four-point contact single row ball bearing is used as the touchdown bearing 163. A four-point contact ball bearing can support both radial and axial loads with one (single row) bearing. By making the touchdown bearing a single row, it is possible to achieve a reduction in the size and number of parts. In addition to the four-point contact single row ball bearing, it is also possible to adopt bearings such as a normal single row ball bearing, an angular ball bearing, and a cylindrical roller bearing.

さらに、タッチダウン軸受163にはガラスコーティングが施されていてもよい。ガラスコーティングを施すことによって、タッチダウン軸受163の硬度およびすべり性が向上する。したがって、ガラスコーティングによって、たとえば磁気軸受160が緊急停止した際などにタッチダウン軸受163が受けるダメージを低減することができる。同様に、ガラスコーティングによって、タッチダウン軸受163と接触する他の部品が受けるダメージを低減することができる。タッチダウン軸受163として玉軸受を用いる場合は、軸受の内部のボールおよびそれらのボールが接触する箇所の少なくとも一方にガラスコーティングを施すことが好ましい。 Furthermore, the touchdown bearing 163 may be glass coated. The application of a glass coating improves the hardness and slipperiness of the touchdown bearing 163. Therefore, the glass coating can reduce damage to the touchdown bearing 163, for example, when the magnetic bearing 160 is stopped in an emergency. Similarly, the glass coating can reduce damage to other parts that come into contact with the touchdown bearing 163. When using a ball bearing as the touchdown bearing 163, it is preferable to apply a glass coating to at least one of the balls inside the bearing and the points where the balls come into contact.

タッチダウン軸受163およびタッチダウン軸受163と接触する他の部品のダメージの軽減を目的として、ガラスコーティングの他に、他の潤滑剤を用いることも可能である。潤滑剤として、例えば二硫化モリブデンまたは二硫化タングステンなどを含む固体潤滑剤を用いることができる。また、タッチダウン軸受163の少なくとも一部を高強度の材質から形成してもよい。高強度の材質として、たとえばニッケルクロムモリブデン鋼が挙げられる。タッチダウン軸受163を高強度の材質から形成することにより、タッチダウン軸受の使用回数を向上させ得る。とくに、タッチダウン軸受163のうち動翼140と共に回転する部分を高強度の部材から形成することで、タッチダウン軸受163が強い回転応力に耐えることが可能になる。実施形態にかかる気体移送装置100は中空空間112を有するため、動翼140の径が大きくなりやすい。したがって、タッチダウン軸受163(より正確には、タッチダウン軸受163のうち動翼140と共に回転する部分)に発生する回転応力も大きくなりやすい。よって、回転応力に耐え得るようにタッチダウン
軸受163を構成することは重要である。
In order to reduce damage to the touchdown bearing 163 and other parts that come into contact with the touchdown bearing 163, other lubricants may be used in addition to the glass coating. As the lubricant, for example, a solid lubricant containing molybdenum disulfide or tungsten disulfide may be used. At least a part of the touchdown bearing 163 may be made of a high-strength material. An example of a high-strength material is nickel-chromium-molybdenum steel. By making the touchdown bearing 163 from a high-strength material, the number of times the touchdown bearing can be used can be increased. In particular, by making the part of the touchdown bearing 163 that rotates together with the moving blade 140 from a high-strength material, the touchdown bearing 163 can withstand strong rotational stress. Since the gas transfer device 100 according to the embodiment has the hollow space 112, the diameter of the moving blade 140 is likely to be large. Therefore, the rotational stress generated in the touchdown bearing 163 (more precisely, the part of the touchdown bearing 163 that rotates together with the moving blade 140) is also likely to be large. It is therefore important to configure the touchdown bearing 163 so that it can withstand rotational stresses.

磁気軸受160が制御不能となり、タッチダウン軸受163が動作を開始した場合、タッチダウン軸受163を軸として、動翼140の回転軸が振れてしまう可能性がある。そこで、内筒110の円柱状部分111の外周面に設けられたラジアル磁極161と、動翼140の内周面に設けられたラジアル磁極161間とのギャップ距離は、動翼140の回転軸が振れた場合であってもラジアル磁極同士が接触しないように構成されている。ここで、タッチダウン軸受163から遠いラジアル磁極161は、タッチダウン軸受163に近いラジアル磁極161よりも、回転軸の振れによる回転軸と垂直方向の移動量が大きいと考えられる。したがって、タッチダウン軸受163から遠くに設けられたラジアル磁極のギャップ距離を長くすることで、ラジアル磁極同士の接触を効果的に防ぐことができ得る。 If the magnetic bearing 160 becomes uncontrollable and the touchdown bearing 163 starts to operate, there is a possibility that the rotation axis of the moving blade 140 will vibrate around the touchdown bearing 163. Therefore, the gap distance between the radial magnetic pole 161 provided on the outer circumferential surface of the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110 and the radial magnetic pole 161 provided on the inner circumferential surface of the moving blade 140 is configured so that the radial magnetic poles do not come into contact with each other even if the rotation axis of the moving blade 140 vibrates. Here, it is considered that the radial magnetic pole 161 far from the touchdown bearing 163 moves in the direction perpendicular to the rotation axis due to the vibration of the rotation axis larger than the radial magnetic pole 161 close to the touchdown bearing 163. Therefore, by increasing the gap distance of the radial magnetic poles provided far from the touchdown bearing 163, it is possible to effectively prevent the radial magnetic poles from contacting each other.

なお、磁気軸受160の部品のうち動翼140と共に回転する部品は高速で回転し得る。従来から、回転中に部品の結合が外れてしまうことを防止するため、磁気軸受160のうち動翼140と共に回転する部品と、動翼140との間にリング状のスペーサ部材を設けることが知られている。スペーサ部材は、磁気軸受の部品をしっかりと保持することができる。一方で、スペーサ部材を設けることにより、気体移送装置100全体の部品点数および重量が増加してしまうという課題があった。また、実施形態にかかる気体移送装置100のように、動翼140の径が大きい場合、各部材の熱膨張量が大きくなる。熱膨張量が大きい場合にスペーサ部材を用いると、膨張によって各部品が干渉してしまう可能性が高くなる。そこで、実施形態にかかる気体移送装置100の動翼140は、スペーサ部材を用いずに、焼きばめによって磁気軸受160の部品と結合されていてよい。より具体的には、動翼140の内周部分に溝を掘り、その溝に対して磁気軸受の部品を焼きばめしてよい。焼きばめの温度は、気体移送装置100の最高許容温度(たとえば120℃)より高いことが好ましい。そのような温度で焼きばめすることにより、気体移送装置100が最も高熱になった場合であっても、部品が脱落する可能性を低くすることができる。なお、焼きばめではなく、冷やしばめによって磁気軸受160の部品と動翼140とが結合されていてもよい。 In addition, among the components of the magnetic bearing 160, the components that rotate together with the moving blade 140 may rotate at high speed. Conventionally, it has been known to provide a ring-shaped spacer member between the components of the magnetic bearing 160 that rotate together with the moving blade 140 and the moving blade 140 in order to prevent the components from coming loose during rotation. The spacer member can firmly hold the components of the magnetic bearing. On the other hand, there is a problem that the number and weight of the components of the gas transfer device 100 as a whole are increased by providing a spacer member. In addition, when the diameter of the moving blade 140 is large, as in the gas transfer device 100 according to the embodiment, the amount of thermal expansion of each component is large. If a spacer member is used when the amount of thermal expansion is large, the possibility of each component interfering with each other due to the expansion increases. Therefore, the moving blade 140 of the gas transfer device 100 according to the embodiment may be connected to the components of the magnetic bearing 160 by shrink fitting without using a spacer member. More specifically, a groove may be dug in the inner peripheral portion of the moving blade 140, and the components of the magnetic bearing may be shrink fitted into the groove. The shrink-fit temperature is preferably higher than the maximum allowable temperature of the gas transfer device 100 (e.g., 120°C). By shrink-fitting at such a temperature, the possibility of parts falling off can be reduced even when the gas transfer device 100 is at its highest temperature. Note that the magnetic bearing 160 parts and the rotor blade 140 may be joined by cold fitting instead of shrink fitting.

(モータについて)
気体移送装置100はさらに、動翼140を回転させるためのモータを備える。図1の例では、動翼140の回転の中心は中心軸113である。また、図1の例では、ロータ171およびステータ172を含む1つのラジアルギャップ型モータ170がモータとして用いられている。ロータ171は動翼140に設けられている。ステータ172は内筒110の円柱状部分111のうち、ロータ171と対向する位置に設けられている。
(Regarding motors)
The gas transfer device 100 further includes a motor for rotating the rotor blades 140. In the example of Fig. 1, the center of rotation of the rotor blades 140 is the central shaft 113. In the example of Fig. 1, one radial gap type motor 170 including a rotor 171 and a stator 172 is used as the motor. The rotor 171 is provided on the rotor blades 140. The stator 172 is provided in a position facing the rotor 171 in the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110.

なお、上述した軸受およびモータの配置および個数等は一例である。軸受及びモータについては、本願明細書の記載と矛盾しない限り、従来知られた任意の構成を採用することができる。 The above-mentioned arrangement and number of bearings and motors are merely examples. Any conventionally known configurations of bearings and motors may be used as long as they do not contradict the description in this specification.

(コネクタおよび配線について)
気体移送装置100の部品(磁気軸受160およびラジアルギャップ型モータ170など)を動作させるために、それらの部品に電力を供給することが必要である。すなわち気体移送装置100には、気体移送装置100の内外を電気的に接続するためのコネクタが必要になる場合がある。ここで、中空空間112には、交流電源14などに接続されたケーブル15などの部品が存在する。したがって、ケーブル15など中空空間112の内部に存在する部品とコネクタとの干渉を避けるために、コネクタを内筒110の円柱状部分111以外の場所に設けることが好ましい。
(Regarding connectors and wiring)
In order to operate the components of the gas transfer device 100 (such as the magnetic bearing 160 and the radial gap type motor 170), it is necessary to supply power to those components. That is, the gas transfer device 100 may require a connector for electrically connecting the inside and outside of the gas transfer device 100. Here, components such as a cable 15 connected to an AC power source 14 and the like are present in the hollow space 112. Therefore, in order to avoid interference between the components present inside the hollow space 112, such as the cable 15, and the connector, it is preferable to provide the connector in a location other than the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110.

そこで本実施形態では、気体移送装置100の排気側の底部である、外筒120の排気側の底部にコネクタ118を設けている。なお、コネクタ118を内筒110の排気側の底部に設けることも可能である。仮に、内筒110と外筒120とが底板によって接続されている場合、底板にコネクタ118を設けてもよい。以上の構成によれば、内筒110の円柱状部分111に存在する部品とコネクタ118との干渉を回避することができる。なお、1つのコネクタ118あたりのピン数を低減するために、コネクタ118を複数設けてもよい。例外はあるものの、一般的に、ピン数が少ないコネクタは、ピン数が多いコネクタより小さい。したがって、複数のコネクタ118を用いることによって、コネクタ118の大きさを小さくすることが可能である。コネクタ118の個数は、部品点数、必要なピンの数(必要な導電路の数)、コネクタ118が設けられる部分の寸法などによって適宜決定されてよい。 Therefore, in this embodiment, the connector 118 is provided at the bottom of the exhaust side of the outer tube 120, which is the bottom of the exhaust side of the gas transfer device 100. It is also possible to provide the connector 118 at the bottom of the exhaust side of the inner tube 110. If the inner tube 110 and the outer tube 120 are connected by a bottom plate, the connector 118 may be provided at the bottom plate. With the above configuration, it is possible to avoid interference between the parts present in the cylindrical part 111 of the inner tube 110 and the connector 118. It is also possible to provide multiple connectors 118 in order to reduce the number of pins per connector 118. Although there are exceptions, a connector with a small number of pins is generally smaller than a connector with a large number of pins. Therefore, by using multiple connectors 118, it is possible to reduce the size of the connector 118. The number of connectors 118 may be appropriately determined depending on the number of parts, the number of pins required (the number of conductive paths required), the dimensions of the part where the connector 118 is provided, etc.

さらに本実施形態では、内筒110の円柱状部分111の外周面に、コネクタ118に接続される配線を敷設するための溝203が形成されている(図2を参照)。この溝203に配線を敷設して、コネクタ118と各種部品(モータなど)の間を接続することで、配線が動翼140等に巻き込まれることを防止することができる。溝203の形状は、配線が接続される部品の配置および個数などに応じた任意の形状であってよい。 Furthermore, in this embodiment, a groove 203 for laying wiring connected to the connector 118 is formed on the outer circumferential surface of the cylindrical portion 111 of the inner cylinder 110 (see FIG. 2). By laying wiring in this groove 203 to connect between the connector 118 and various components (such as a motor), it is possible to prevent the wiring from becoming entangled in the rotor blades 140, etc. The shape of the groove 203 may be any shape depending on the arrangement and number of components to which the wiring is connected.

(気流調整バッフルプレートについて)
図1に示すように、気体移送装置100の排気口122が紙面左側にのみ存在する場合、ガス流路130のうち紙面左側の部分の流路長が紙面右側の部分の流路長より短くなる。その結果、ガス流路130のうち紙面左側の部分の配管コンダクタンスが紙面右側の配管コンダクタンスより大きくなり得る。したがって、真空装置10に気体移送装置100を取り付けて駆動させた場合、真空装置10の紙面左側の部分では真空度が高く、紙面右側の部分では真空度が低くなり得る。
(About the airflow adjustment baffle plate)
1, if exhaust port 122 of gas transfer device 100 is present only on the left side of the page, the flow path length of the left side of gas flow path 130 will be shorter than the flow path length of the right side of the page. As a result, the piping conductance of the left side of gas flow path 130 may be greater than the piping conductance of the right side of the page. Therefore, when gas transfer device 100 is attached to vacuum device 10 and driven, the degree of vacuum may be high in the left side of vacuum device 10 and low in the right side of the page.

また、本実施形態においては、真空装置10内部の気体分子が動翼140の個々の動翼143と衝突することで真空装置10の内部が排気される。個々の動翼143は、中心軸113を中心として、回転方向300の方向に回転している(図3A参照)。個々の動翼143の回転によって、真空装置10の内部に旋回流が発生し得る。旋回流の制御は困難であり、旋回流は真空度の不均一化を招き得るので、旋回流の発生を可能な限り回避することが好ましい。 In addition, in this embodiment, the inside of the vacuum device 10 is evacuated by collision of gas molecules inside the vacuum device 10 with each of the moving blades 143 of the moving blades 140. Each of the moving blades 143 rotates in a rotation direction 300 around the central axis 113 (see FIG. 3A). The rotation of each of the moving blades 143 can generate a swirling flow inside the vacuum device 10. It is difficult to control the swirling flow, and the swirling flow can cause the degree of vacuum to become uneven, so it is preferable to avoid the generation of the swirling flow as much as possible.

そこで図1の気体移送装置は、動翼140の吸気側に隣接した位置に、通気口181を有する気流調整バッフルプレート180を備える。気流調整バッフルプレート180は、動翼140および静翼150とは独立別個のバッフルプレートであり、真空装置10の内部の気流を調整するためのプレートである。気流調整バッフルプレート180として、設置位置、設置角度および/または通気口の大きさ等を調整できるものを用いてもよい。 The gas transfer device in FIG. 1 is provided with an airflow adjustment baffle plate 180 having an air vent 181 at a position adjacent to the intake side of the rotor blade 140. The airflow adjustment baffle plate 180 is a baffle plate independent of the rotor blade 140 and the stator blade 150, and is a plate for adjusting the airflow inside the vacuum device 10. The airflow adjustment baffle plate 180 may be one whose installation position, installation angle, and/or size of the air vent, etc., can be adjusted.

気流調整バッフルプレート180の通気口181は、ガス流路130の配管コンダクタンスの位置による変化を補償するように設けられている。さらに、通気口181は、旋回流の発生を防ぐように設けられている。具体例として、気流調整バッフルプレート180をリング状としたうえで、複数個の通気口181を設けることができる。この場合、各通気口の形状、大きさおよび/または設置位置をそれぞれ適切なものとすることで、ガス流路130の配管コンダクタンスの差異を補償することが可能である。たとえば図1では、紙面右側の通気口181が紙面左側の通気口181より大きく形成されている。そのほか、所望の性能に応じて、任意の形状の気流調整バッフルプレート180および通気口181を採用することができる。 The vents 181 of the airflow adjustment baffle plate 180 are provided to compensate for the change in piping conductance of the gas flow path 130 due to the position. Furthermore, the vents 181 are provided to prevent the occurrence of swirling flow. As a specific example, the airflow adjustment baffle plate 180 can be made ring-shaped and multiple vents 181 can be provided. In this case, by appropriately selecting the shape, size and/or installation position of each vent, it is possible to compensate for the difference in piping conductance of the gas flow path 130. For example, in FIG. 1, the vent 181 on the right side of the page is formed larger than the vent 181 on the left side of the page. In addition, airflow adjustment baffle plate 180 and vents 181 of any shape can be adopted depending on the desired performance.

気流調整バッフルプレート180ではなく、静翼150により旋回流の発生を抑制する
ことも可能である。図1の構成では、動翼の段142および静翼の段152のうちもっとも吸気側に位置するものは動翼の段142である。図1の構成に代え、図12に示すように、静翼の段152が最も吸気側に位置するよう気体移送装置100を構成してもよい。図12の構成によれば、最も吸気側の動翼の段142より吸気側に静翼の段152が存在するため、動翼140による旋回流の発生を抑制することができる。なお、図12の構成は、図1の構成から最も吸気側に位置する動翼の段142を削除したものである。しかし、たとえば、図1の構成に静翼の段152を追加するなど、他の方法により静翼の段152をもっとも吸気側に位置させてもよい。
It is also possible to suppress the generation of swirling flow by using the stator vane 150 instead of the airflow adjustment baffle plate 180. In the configuration of FIG. 1, the stage of the rotor blade 142 and the stage of the stator vane 152 that is located closest to the intake side is the stage of the rotor blade 142. Instead of the configuration of FIG. 1, the gas transfer device 100 may be configured as shown in FIG. 12 so that the stage of the stator vane 152 is located closest to the intake side. According to the configuration of FIG. 12, the stage of the stator vane 152 is located closer to the intake side than the stage of the rotor blade 142 that is closest to the intake side, so that the generation of swirling flow by the rotor blade 140 can be suppressed. Note that the configuration of FIG. 12 is obtained by deleting the stage of the rotor blade 142 located closest to the intake side from the configuration of FIG. 1. However, the stage of the stator vane 152 may be located closest to the intake side by other methods, such as adding the stage of the stator vane 152 to the configuration of FIG. 1.

(ガスパージ口について)
さらに、本実施形態にかかる気体移送装置100は、内筒110および動翼140により画定される排気側空間190に気体を供給するためのガスパージ口191を備える。より具体的には、排気側空間190は、内筒110の外周面および動翼(さらに具体的には動翼ベース141)の内周面により画定される空間であってよい。
(Gas purge port)
Furthermore, the gas transfer device 100 according to this embodiment includes a gas purge port 191 for supplying gas to an exhaust side space 190 defined by the inner cylinder 110 and the rotor blades 140. More specifically, the exhaust side space 190 may be a space defined by the outer circumferential surface of the inner cylinder 110 and the inner circumferential surface of the rotor blades (more specifically, the rotor blade base 141).

図1の例では、内筒110の一部であるステージ取付部114にガスパージ口191が設けられている。ただし、ガスパージ口191を設ける場所は例示である。排気側空間190に気体を供給できる限り、内筒110の任意の場所または他の部品(たとえば外筒120)にガスパージ口191を設けてもよい。また、ガスパージ口191には、ガスパージ口191を介してパージガスを供給するパージガス供給機構192が接続されている。 In the example of FIG. 1, the gas purge port 191 is provided in the stage mounting portion 114, which is a part of the inner cylinder 110. However, the location where the gas purge port 191 is provided is an example. As long as gas can be supplied to the exhaust side space 190, the gas purge port 191 may be provided in any location of the inner cylinder 110 or in another component (e.g., the outer cylinder 120). In addition, a purge gas supply mechanism 192 that supplies purge gas via the gas purge port 191 is connected to the gas purge port 191.

たとえば真空装置10がドライエッチング装置である場合、ドライエッチング装置に供給されプラズマ化された六フッ化硫黄などが気体移送装置100の構成要素(特にモータまたは軸受など)にダメージを与える可能性がある。そこで、本実施形態にかかる気体移送装置100は、非反応性の気体をパージガス供給機構192からガスパージ口191を介して排気側空間190に供給することで、気体移送装置100の構成要素を保護している。パージガスとしては、乾燥大気、アルゴンまたは窒素などを用いることが好ましい。 For example, if the vacuum device 10 is a dry etching device, sulfur hexafluoride or the like that is supplied to the dry etching device and converted into plasma may damage the components of the gas transfer device 100 (particularly the motor or bearings, etc.). Therefore, the gas transfer device 100 of this embodiment protects the components of the gas transfer device 100 by supplying a non-reactive gas from the purge gas supply mechanism 192 to the exhaust side space 190 via the gas purge port 191. It is preferable to use dry air, argon, nitrogen, or the like as the purge gas.

気体移送装置100の駆動中、パージガス供給機構192から気体を常に供給することもできる。しかし、この手法では気体の消費量が大きくなり得る。そこで、気体移送装置100の構成要素の保護が必要な場合、すなわち(1)所定の種類の気体(特に、気体移送装置100の構成要素にダメージを与えうる気体(たとえばプロセスガス供給機構12により供給されるプロセスガス))が処理室11に供給されている場合および(2)処理室11の内部の真空度が所定の値以上となる場合の少なくとも一方の場合に、パージガス供給機構192からガスパージ口191を介して気体を供給してもよい。上記(1)および(2)の少なくとも一方の場合に気体を供給することで、気体の消費量を低減することが可能となり得る。 Gas can be constantly supplied from the purge gas supply mechanism 192 while the gas transfer device 100 is in operation. However, this method can result in a large amount of gas consumption. Therefore, when it is necessary to protect the components of the gas transfer device 100, that is, when at least one of the following cases is true: (1) a specific type of gas (particularly a gas that may damage the components of the gas transfer device 100 (e.g., a process gas supplied by the process gas supply mechanism 12)) is supplied to the processing chamber 11, and (2) the degree of vacuum inside the processing chamber 11 is equal to or greater than a specific value, gas may be supplied from the purge gas supply mechanism 192 through the gas purge port 191. By supplying gas in at least one of the above cases (1) and (2), it may be possible to reduce the amount of gas consumed.

(螺旋構造について)
気体移送装置100における動翼140などの回転体は高速で回転するため、Oリングなどのガスケットを回転体に設けることは困難である。そこで気体移送装置100には、回転体と静止体との間にわずかな隙間が設けられている。隙間の大きさはわずかであるから、この隙間から大きな気体流出は起こらない。しかし、わずかであっても隙間が存在する以上、この隙間を気体流出流路として、微量の気体流出が起こる可能性がある。特にガスパージ口191から気体を供給した場合、供給した気体が真空装置10の内部へ流出する可能性がある。そこで本実施形態では、内筒110と動翼140により画定される排気側空間190と、真空装置10の内部との間の気体流出流路500に螺旋構造501(ねじ溝構造)が形成されている。
(About the spiral structure)
Since the rotating body such as the moving blade 140 in the gas transfer device 100 rotates at high speed, it is difficult to provide a gasket such as an O-ring on the rotating body. Therefore, a small gap is provided between the rotating body and the stationary body in the gas transfer device 100. Since the size of the gap is small, no large gas outflow occurs from this gap. However, as long as the gap exists, even if it is small, there is a possibility that a small amount of gas outflow occurs through this gap as a gas outflow flow path. In particular, when gas is supplied from the gas purge port 191, there is a possibility that the supplied gas will flow out into the inside of the vacuum device 10. Therefore, in this embodiment, a spiral structure 501 (thread groove structure) is formed in the gas outflow flow path 500 between the exhaust side space 190 defined by the inner cylinder 110 and the moving blade 140 and the inside of the vacuum device 10.

図5は、図1に示した気体移送装置100のうちアキシャル磁極162の周辺の拡大断
面図である。図5では、アキシャル磁極162およびタッチダウン軸受163の間に気体を供給するように、ガスパージ口191がステージ取付部114に設けられている。ガスパージ口191から供給された気体の一部は、タッチダウン軸受163を介して排気側へと流れていき、気体移送装置100の構成要素を保護する。一方、ガスパージ口191から吸気側へと流れる気体は、アキシャル磁極162、アキシャル磁極ターゲット164、アキシャルセンサホルダ165およびアキシャルセンサターゲット166との間の隙間を介して処理室11の内部へ流出し得る。すなわち、この隙間が気体流出流路500となる。
5 is an enlarged cross-sectional view of the periphery of the axial magnetic pole 162 in the gas transfer device 100 shown in FIG. 5, a gas purge port 191 is provided in the stage mounting portion 114 so as to supply gas between the axial magnetic pole 162 and the touchdown bearing 163. A part of the gas supplied from the gas purge port 191 flows to the exhaust side through the touchdown bearing 163 to protect the components of the gas transfer device 100. On the other hand, the gas flowing from the gas purge port 191 to the intake side can flow into the inside of the processing chamber 11 through the gaps between the axial magnetic pole 162, the axial magnetic pole target 164, the axial sensor holder 165, and the axial sensor target 166. That is, this gap becomes a gas outflow passage 500.

そこで図5では、気体流出流路500のうち、アキシャルセンサホルダ165に螺旋構造501を形成している。図6は螺旋構造501が形成されたアキシャルセンサホルダ165を示す図であり、図6Aは正面図、図6Bは排気側から見た下面図である。本実施形態では、螺旋構造501として、側面に形成された螺旋構造601および底面に形成された螺旋構造602の双方を含む。ただし、側面および底面のどちらか一方のみに螺旋構造を形成してもよい。 In FIG. 5, a spiral structure 501 is formed in the axial sensor holder 165 of the gas outflow passage 500. FIG. 6 shows the axial sensor holder 165 on which the spiral structure 501 is formed, with FIG. 6A being a front view and FIG. 6B being a bottom view seen from the exhaust side. In this embodiment, the spiral structure 501 includes both a spiral structure 601 formed on the side surface and a spiral structure 602 formed on the bottom surface. However, the spiral structure may be formed on only one of the side surface or the bottom surface.

本実施形態の気体移送装置100では、吸気側へと流れる気体が、気体流出流路500の螺旋構造501を通過する。したがって、螺旋構造501を設けた場合の流路長は螺旋構造501を設けない場合の流路長より長くなる。結果として、気体流出流路500の配管コンダクタンスが低下し、気体流出流路500からの気体の流出量を低減することができる。 In the gas transfer device 100 of this embodiment, the gas flowing to the intake side passes through the spiral structure 501 of the gas outflow passage 500. Therefore, the passage length when the spiral structure 501 is provided is longer than the passage length when the spiral structure 501 is not provided. As a result, the piping conductance of the gas outflow passage 500 is reduced, and the amount of gas flowing out from the gas outflow passage 500 can be reduced.

本実施形態では、動翼140の回転方向300は吸気側から見て時計回りである(図3A参照)。さらに、側面に形成された螺旋構造601は右ネジ様に形成されている(図6A参照)。側面に形成された螺旋構造601の内部に存在する気体分子が、回転している動翼140(または動翼140と共に回転する他の部品)に衝突すると、気体分子は、回転方向300への力を受けて移動する。右ネジ様の、側面に形成された螺旋構造601の内部を、吸気側から見て時計回りに移動することで、気体分子は徐々に排気側へと移動する。したがって、右ネジ様の構造を採用することで、ガスパージ口191から導入された気体分子が、気体流出流路500を介して処理室11に流入する可能性を低減することができる。 In this embodiment, the rotation direction 300 of the moving blade 140 is clockwise as viewed from the intake side (see FIG. 3A). Furthermore, the helical structure 601 formed on the side is formed like a right-handed screw (see FIG. 6A). When gas molecules present inside the helical structure 601 formed on the side collide with the rotating moving blade 140 (or other parts rotating together with the moving blade 140), the gas molecules receive a force in the rotation direction 300 and move. By moving clockwise as viewed from the intake side inside the right-handed helical structure 601 formed on the side, the gas molecules gradually move to the exhaust side. Therefore, by adopting a right-handed screw structure, it is possible to reduce the possibility that gas molecules introduced from the gas purge port 191 will flow into the processing chamber 11 through the gas outflow passage 500.

他の構造は変更せず、側面に形成された螺旋構造601のみを左ネジ様に変更すると、側面に形成された螺旋構造601内部の気体分子は徐々に吸気側へと移動する。したがって、左ネジ様の構造を採用することで、処理室11の内部の気体分子が、気体流出流路500を介して排気側空間190に流出する可能性を低減することができる。なお、動翼140が回転方向300と逆方向に回転している場合、右ネジ様の構造の特性と左ネジ様の構造の特性は入れ替わる。 If only the spiral structure 601 formed on the side surface is changed to a left-handed thread without changing the other structures, the gas molecules inside the spiral structure 601 formed on the side surface gradually move toward the intake side. Therefore, by adopting a left-handed thread structure, it is possible to reduce the possibility that gas molecules inside the processing chamber 11 will flow out to the exhaust side space 190 via the gas outflow passage 500. Note that when the rotor blade 140 is rotating in the opposite direction to the rotation direction 300, the characteristics of the right-handed thread structure and the left-handed thread structure are interchanged.

側面に形成された螺旋構造601と同様に、底面に形成された螺旋構造602も、形成する向きによってその特性が異なる。側面に形成された螺旋構造601および底面に形成された螺旋構造602の特性、すなわち螺旋構造501全体としての特性は、必要に応じて適宜選択されてよい。 Like the spiral structure 601 formed on the side, the spiral structure 602 formed on the bottom surface also has different characteristics depending on the direction in which it is formed. The characteristics of the spiral structure 601 formed on the side and the spiral structure 602 formed on the bottom surface, i.e., the characteristics of the spiral structure 501 as a whole, may be appropriately selected as needed.

図5および図6の例では、アキシャルセンサホルダ165のみに螺旋構造501が設けられている。しかし、気体流出流路500上であれば任意の場所に螺旋構造501を設けてもよい。また、図5および図6の例では、気体流出流路500の片面のみに螺旋構造501が設けられている。しかし、螺旋構造501同士が対向するように、螺旋構造501を気体流出流路500の両面に設けることもできる。螺旋構造501の溝幅、溝の本数その他の具体的な構造は、所望の性能に応じて決定されてよい。 5 and 6, the spiral structure 501 is provided only on the axial sensor holder 165. However, the spiral structure 501 may be provided anywhere on the gas outflow passage 500. Also, in the example of FIG. 5 and FIG. 6, the spiral structure 501 is provided only on one side of the gas outflow passage 500. However, the spiral structure 501 can be provided on both sides of the gas outflow passage 500 so that the spiral structures 501 face each other. The groove width, number of grooves, and other specific structures of the spiral structure 501 may be determined according to the desired performance.

(ステージ取付部の分離構造について)
たとえば真空装置10がドライエッチング装置である場合、動翼140および静翼150にプラズマ化されたガスが接触してダメージを受ける場合がある。また、気体移送装置100の緊急停止を繰り返した場合、タッチダウン軸受163にダメージが蓄積される。よって、動翼140、静翼150、タッチダウン軸受163その他の部品の保守のため、気体移送装置100のメンテナンス性が重要になる。
(Regarding the separation structure of the stage mounting part)
For example, if the vacuum device 10 is a dry etching device, the moving blades 140 and the stationary blades 150 may be damaged by contact with plasma-converted gas. Furthermore, if emergency stops of the gas transfer device 100 are repeated, damage accumulates in the touch-down bearing 163. Therefore, the maintainability of the gas transfer device 100 becomes important in order to maintain the moving blades 140, the stationary blades 150, the touch-down bearing 163, and other parts.

本実施形態にかかる気体移送装置100のステージ取付部114は、内筒110と分離可能に設けられている(図2参照)。さらに本実施形態にかかる気体移送装置100では、動翼140は磁気軸受を介してステージ取付部114に接続されている。したがって、内筒110から分離したステージ取付部114を吸気側の方向に引き抜くことで、動翼140を気体移送装置100から取り外すことが可能である。また、動翼140の取り外しと同時に、静翼150を気体移送装置100から取り外すことも可能である。図7に、ステージ取付部114を引き抜いた状態の気体移送装置100を示す。なお、動翼140の取り外しと同時に、ステータ172、タッチダウン軸受163、アキシャル磁極162なども気体移送装置から取り外されるよう構成してもよい。この構成によれば、取り外された各部品に容易にアクセスすることが可能であるので、気体移送装置100のメンテナンス性を大幅に向上させることができる。 The stage mounting part 114 of the gas transfer device 100 according to this embodiment is provided so as to be separable from the inner cylinder 110 (see FIG. 2). Furthermore, in the gas transfer device 100 according to this embodiment, the moving blade 140 is connected to the stage mounting part 114 via a magnetic bearing. Therefore, by pulling out the stage mounting part 114 separated from the inner cylinder 110 in the direction of the intake side, it is possible to remove the moving blade 140 from the gas transfer device 100. In addition, it is also possible to remove the stationary blade 150 from the gas transfer device 100 at the same time as removing the moving blade 140. FIG. 7 shows the gas transfer device 100 in a state in which the stage mounting part 114 has been pulled out. Note that the stator 172, touchdown bearing 163, axial magnetic pole 162, etc. may also be configured to be removed from the gas transfer device at the same time as removing the moving blade 140. With this configuration, it is possible to easily access each of the removed parts, so that the maintainability of the gas transfer device 100 can be significantly improved.

(気体移送装置の効果について)
以上の構成の気体移送装置100は、動翼140および静翼150によってガス流路130のコンダクタンスを低下させている。よって、プロセスガス供給機構12から真空装置10の内部に供給されたガスを、処理室11の内部で均一に保持することが可能である。さらに、気体移送装置100はターボ分子ポンプ100としても機能するので、処理室11の内部から気体を排気することも可能である。ここで、気体移送装置100のガス流路130は、ステージ取付部114を中心としたリング状の吸気口を形成している。よって、従来の装置より容易に真空装置10内部(特に基板116近辺)の真空度を均一化することが可能である。
(Effects of the gas transfer device)
In the gas transfer device 100 having the above configuration, the conductance of the gas flow passage 130 is reduced by the moving blades 140 and the stationary blades 150. Therefore, the gas supplied from the process gas supply mechanism 12 to the inside of the vacuum device 10 can be uniformly maintained inside the processing chamber 11. Furthermore, since the gas transfer device 100 also functions as a turbo molecular pump 100, it is also possible to exhaust gas from inside the processing chamber 11. Here, the gas flow passage 130 of the gas transfer device 100 forms a ring-shaped intake port centered on the stage mounting portion 114. Therefore, it is possible to uniform the degree of vacuum inside the vacuum device 10 (particularly near the substrate 116) more easily than in the conventional device.

(気体移送装置の制御について)
真空装置10の内部の真空度を均一化するのみならず、図1の気体移送装置100によって真空装置10の内部の真空度を調整することも可能である。真空度の調整は、プロセスガス供給機構12から処理室11に気体を供給しながらまたは気体を供給した後に、処理室11の真空度が所望の真空度となるように、動翼140の回転速度およびプロセスガス供給機構12の気体供給量の少なくとも一方を制御することで実行される。制御はユーザーが人力で行ってもよく、制御装置20が行ってもよい。上記「所望の真空度」を、ガス流路130のもっとも排気側の真空度より低くすることも可能である。この場合、気体移送装置100の圧縮比は1未満となる。
(Regarding control of gas transfer device)
Not only can the degree of vacuum inside the vacuum device 10 be made uniform, but the degree of vacuum inside the vacuum device 10 can also be adjusted by the gas transfer device 100 of FIG. 1. The degree of vacuum is adjusted by controlling at least one of the rotation speed of the moving blades 140 and the amount of gas supplied by the process gas supply mechanism 12 while or after the process gas supply mechanism 12 supplies gas to the process chamber 11 so that the degree of vacuum in the process chamber 11 becomes a desired degree of vacuum. The control may be performed manually by a user or by the control device 20. The above-mentioned "desired degree of vacuum" can also be set lower than the degree of vacuum at the most exhaust side of the gas flow path 130. In this case, the compression ratio of the gas transfer device 100 is less than 1.

<第2実施形態>
図8は第2実施形態にかかる気体移送装置100の断面を模式的に示した図である。第2実施形態にかかる気体移送装置100は、図1の磁気軸受160に代えて転がり軸受860を備え、ラジアルギャップ型モータ170に代えてアキシャルギャップ型モータ870を備える。図8の例におけるアキシャルギャップ型モータ870は、各々が回転軸方向に離隔しているロータ871およびステータ872を備え、ロータ871はマグネット873およびロータヨーク874を備える。また、本実施形態の気体移送装置100は、ステージ取付部114が内筒110と一体に形成されている。さらに、排気口122は外筒120の底面ではなく側部に設けられている。さらに、内筒110と外筒120とは底板800を介して接続されている。さらに、本実施形態では気流調整バッフルプレート18
0が備えられていない。これらの点に関して、第1実施形態と同様の構成とすることも可能である。なお、図示の便宜のため、制御装置20、コネクタ118、第1のボルト124およびパージガス供給機構192などの図示は省略されている。
Second Embodiment
FIG. 8 is a schematic diagram showing a cross section of the gas transfer device 100 according to the second embodiment. The gas transfer device 100 according to the second embodiment includes a rolling bearing 860 instead of the magnetic bearing 160 in FIG. 1, and an axial gap type motor 870 instead of the radial gap type motor 170. The axial gap type motor 870 in the example of FIG. 8 includes a rotor 871 and a stator 872 that are spaced apart from each other in the direction of the rotation axis, and the rotor 871 includes a magnet 873 and a rotor yoke 874. In addition, in the gas transfer device 100 of this embodiment, the stage attachment part 114 is integrally formed with the inner cylinder 110. Furthermore, the exhaust port 122 is provided on the side of the outer cylinder 120, not on the bottom surface thereof. Furthermore, the inner cylinder 110 and the outer cylinder 120 are connected via a bottom plate 800. Furthermore, in this embodiment, an airflow adjustment baffle plate 18 is provided.
In this respect, the second embodiment does not include the control device 20, the connector 118, the first bolt 124, the purge gas supply mechanism 192, and the like.

(転がり軸受について)
転がり軸受860は、磁気軸受160に比べて摩耗が大きい一方で、磁気軸受160より低コストである。図8の例では、転がり軸受860として二列の玉軸受を用いている。転がり軸受860のうち、摩耗が起こり得る部分にガラスコーティングを施してもよい。
(Regarding rolling bearings)
The rolling bearing 860 is subject to greater wear than the magnetic bearing 160, but is less expensive than the magnetic bearing 160. In the example of Fig. 8, a double-row ball bearing is used as the rolling bearing 860. A glass coating may be applied to the portion of the rolling bearing 860 where wear may occur.

(アキシャルギャップ型モータについて)
第1実施形態で説明したように、ラジアルギャップ型モータ170を用いる場合、ラジアルギャップ型モータ170は内筒110と動翼140との間(排気側空間190)に設けられる(図1参照)。内筒110と動翼140との間の隙間はそれほど大きくないので、大型のラジアルギャップ型モータ170を用いる場合、モータと他の部品とが干渉し得る。仮に大型のラジアルギャップ型モータ170を用いようとするならば、内筒110および/または動翼140の形状を変化させるなどして、ラジアルギャップ型モータ170を設置するためのスペースを確保しなければならない。しかし、各部品の形状を変化させることは、気体移送装置100全体の大型化または気体移送装置100の性能の低下を招き得る。一方で、小型のラジアルギャップ型モータ170を用いる場合は、十分なモータの出力が得られない場合がある。
(Axial gap motor)
As described in the first embodiment, when the radial gap type motor 170 is used, the radial gap type motor 170 is provided between the inner cylinder 110 and the moving blade 140 (exhaust side space 190) (see FIG. 1). Since the gap between the inner cylinder 110 and the moving blade 140 is not so large, when a large radial gap type motor 170 is used, the motor may interfere with other components. If a large radial gap type motor 170 is to be used, the shape of the inner cylinder 110 and/or the moving blade 140 must be changed to secure a space for installing the radial gap type motor 170. However, changing the shape of each component may lead to an increase in the size of the entire gas transfer device 100 or a decrease in the performance of the gas transfer device 100. On the other hand, when a small radial gap type motor 170 is used, sufficient motor output may not be obtained.

そこで本実施形態にかかる気体移送装置100では、アキシャルギャップ型モータ870が採用されている。アキシャルギャップ型モータ870は、一般的なモータ(ラジアルギャップ型モータ)と異なり、ロータ871およびステータ872が回転軸方向に離隔している。図8の例では、ロータ871のマグネット873はロータヨーク874を介して動翼140の排気側の端部に設けられている。ステータ872は、ガス流路130のロータ871と対向する位置に設けられている。このようにロータ871およびステータ872を設置することで、径方向について他の部品との干渉が起こりにくくなる。したがって、気体移送装置100全体の大型化および気体移送装置100の性能低下を招くことなく、出力が十分に高いモータを使用することが可能となる。 Therefore, the gas transfer device 100 according to this embodiment employs an axial gap motor 870. Unlike a general motor (radial gap motor), the axial gap motor 870 has a rotor 871 and a stator 872 spaced apart in the direction of the rotation axis. In the example of FIG. 8, the magnet 873 of the rotor 871 is provided at the exhaust side end of the moving blade 140 via a rotor yoke 874. The stator 872 is provided at a position facing the rotor 871 of the gas flow path 130. By arranging the rotor 871 and the stator 872 in this manner, interference with other parts in the radial direction is less likely to occur. Therefore, it is possible to use a motor with a sufficiently high output without increasing the size of the entire gas transfer device 100 and reducing the performance of the gas transfer device 100.

また、本実施形態のアキシャルギャップ型モータ870は漏洩磁場の点でも有利となり得る。たとえば真空装置10がプラズマエッチング装置である場合、モータから基板116の近傍まで磁場が漏洩すると、エッチング加工に悪影響を及ぼし得る。本実施形態のアキシャルギャップ型モータ870のロータ871およびステータ872は排気側に設けられており、第1実施形態のラジアルギャップ型モータ170よりステージ取付部114から遠い位置に設けられている。したがって、本実施形態のアキシャルギャップ型モータ870は、ラジアルギャップ型モータ170より漏洩磁場の量を低減することが可能となり得る。 The axial gap motor 870 of this embodiment may also be advantageous in terms of leakage magnetic field. For example, if the vacuum apparatus 10 is a plasma etching apparatus, leakage of a magnetic field from the motor to the vicinity of the substrate 116 may adversely affect the etching process. The rotor 871 and stator 872 of the axial gap motor 870 of this embodiment are provided on the exhaust side, and are provided at a position farther from the stage mounting portion 114 than the radial gap motor 170 of the first embodiment. Therefore, the axial gap motor 870 of this embodiment may be able to reduce the amount of leakage magnetic field more than the radial gap motor 170.

なお、本実施形態では磁気軸受160に代えて転がり軸受860を採用しているため、磁気軸受160の構成要素(ラジアル磁極161、アキシャル磁極162、タッチダウン軸受163、アキシャル磁極ターゲット164、アキシャルセンサホルダ165およびアキシャルセンサターゲット166)が備えられていない。したがって、本実施形態では動翼140および内筒110(の一部であるステージ取付部114)間の隙間が気体流出流路500となる。螺旋構造501は、動翼140および/または内筒110(の一部であるステージ取付部114)に形成されている。 In this embodiment, since a rolling bearing 860 is used instead of the magnetic bearing 160, the components of the magnetic bearing 160 (radial magnetic pole 161, axial magnetic pole 162, touchdown bearing 163, axial magnetic pole target 164, axial sensor holder 165, and axial sensor target 166) are not provided. Therefore, in this embodiment, the gap between the moving blade 140 and the inner cylinder 110 (stage mounting part 114 which is a part of the moving blade 140) becomes the gas outflow flow path 500. The spiral structure 501 is formed in the moving blade 140 and/or the inner cylinder 110 (stage mounting part 114 which is a part of the inner cylinder 110).

<第3実施形態>
第3実施形態では、第1実施形態と異なった場所に設けられたタッチダウン軸受163
を備える気体移送装置100について、図9を用いて説明する。ただし、図9において、タッチダウン軸受163の設置場所の説明に必要のない要素(外筒120など)の図示が省略されている場合がある。
Third Embodiment
In the third embodiment, a touchdown bearing 163 is provided in a different position from that in the first embodiment.
A gas transfer device 100 including the above will be described with reference to Fig. 9. However, in Fig. 9, elements (such as the outer cylinder 120) that are not necessary for describing the installation location of the touchdown bearing 163 may be omitted from illustration.

図9で示されるように、本実施形態では、タッチダウン軸受163が動翼140の排気側の端部の近辺に設けられている。また、タッチダウン軸受163の設置場所の変更に伴い、アキシャル磁極162およびアキシャル磁極ターゲット164も動翼140の排気側の端部の近辺に設けられている。 As shown in FIG. 9, in this embodiment, the touchdown bearing 163 is provided near the exhaust side end of the rotor blade 140. In addition, due to the change in the installation location of the touchdown bearing 163, the axial magnetic pole 162 and the axial magnetic pole target 164 are also provided near the exhaust side end of the rotor blade 140.

さらに本実施形態では、排気側空間190と処理室11との境界を画定するため、動翼140の吸気側の端部に、封止部材900が設けられている。図9の例では、封止部材900は動翼140と別個独立した部品であるものとして図示した。しかし、封止部材900は動翼140と一体に形成されていてもよい。また、内筒110のうち封止部材900と対向する部分には、螺旋構造501が設けられている。追加または代替で、封止部材900のうち内筒110と対向する部分に螺旋構造501を設けることもできる。 Furthermore, in this embodiment, a sealing member 900 is provided at the intake side end of the rotor blade 140 to define the boundary between the exhaust side space 190 and the processing chamber 11. In the example of FIG. 9, the sealing member 900 is illustrated as a separate, independent part from the rotor blade 140. However, the sealing member 900 may be formed integrally with the rotor blade 140. In addition, a spiral structure 501 is provided on the portion of the inner cylinder 110 that faces the sealing member 900. Additionally or alternatively, a spiral structure 501 can also be provided on the portion of the sealing member 900 that faces the inner cylinder 110.

タッチダウン軸受163を動翼140の排気側の端部の近辺に設けることで、動翼140の吸気側の端部近辺の構造を簡易化することができる。構造の簡易化に伴い、動翼140の吸気側の端部近辺における部品同士の干渉が起きにくくなる。また、構造の簡易化に伴い、気体移送装置100の大きさ、特に気体移送装置100の高さを低減することができ得るという効果がある。 By providing the touchdown bearing 163 near the exhaust end of the rotor blade 140, the structure near the intake end of the rotor blade 140 can be simplified. As the structure is simplified, interference between parts near the intake end of the rotor blade 140 is less likely to occur. In addition, as the structure is simplified, there is an effect that the size of the gas transfer device 100, in particular the height of the gas transfer device 100, can be reduced.

さらに、本実施形態におけるタッチダウン軸受163は、第1実施形態(図1等参照)のタッチダウン軸受163よりも排気側に設けられている。したがって、本実施形態におけるタッチダウン軸受163と処理室11との間の距離は、第1実施形態におけるタッチダウン軸受163と処理室11との間の距離より長い。本実施形態において、処理室11から流出したプロセスガスは、比較的長い経路を辿ってタッチダウン軸受163に到達することになる。長い経路を辿る間に気体分子が拡散することによってプロセスガスの濃度が低下するため、本実施形態におけるプロセスガスとタッチダウン軸受163との反応量は低下すると考えられる。したがって、本実施形態では、タッチダウン軸受163を長寿命化することができると考えられる。 Furthermore, the touchdown bearing 163 in this embodiment is provided on the exhaust side of the touchdown bearing 163 in the first embodiment (see FIG. 1, etc.). Therefore, the distance between the touchdown bearing 163 and the processing chamber 11 in this embodiment is longer than the distance between the touchdown bearing 163 and the processing chamber 11 in the first embodiment. In this embodiment, the process gas flowing out from the processing chamber 11 follows a relatively long path to reach the touchdown bearing 163. Since the concentration of the process gas decreases due to the diffusion of gas molecules while following the long path, it is considered that the reaction amount between the process gas and the touchdown bearing 163 in this embodiment decreases. Therefore, it is considered that the life of the touchdown bearing 163 can be extended in this embodiment.

<第4実施形態>
第4実施形態では、底板1000を備え、処理室11の内部の方向へ内筒110を底板1000と共に取り外すことが可能な気体移送装置100について、図10および図11を用いて説明する。ただし、図11において、気体移送装置100の部品の取り外しの説明に必要のない要素(処理室11など)の図示が省略されている場合がある。
Fourth Embodiment
In the fourth embodiment, a gas transfer device 100 including a bottom plate 1000 and capable of removing an inner cylinder 110 together with the bottom plate 1000 toward the inside of a processing chamber 11 will be described with reference to Figures 10 and 11. However, in Figure 11, illustration of elements (such as the processing chamber 11) that are not necessary for the description of removal of parts of the gas transfer device 100 may be omitted.

本実施形態にかかる気体移送装置100は、図1に示した気体移送装置100に加え、底板1000を備える。底板1000は、外筒120の底部に、処理室11の内部の方向(吸気側)に取り外し可能に固定されている。底板1000と外筒120の固定にはボルト等(図示せず)の任意の手段を用いることができる。さらに、底板1000は、第1のボルト124によって内筒110を支持している。また、図10の例では、排気口122およびコネクタ118は底板1000に設けられている。ただし、図11で説明する内筒110の取り外しに悪影響を与えない限り、排気口122およびコネクタ118は内筒110または外筒120に設けられていてもよい。 The gas transfer device 100 according to this embodiment includes a bottom plate 1000 in addition to the gas transfer device 100 shown in FIG. 1. The bottom plate 1000 is removably fixed to the bottom of the outer cylinder 120 in the direction toward the inside of the processing chamber 11 (the intake side). Any means such as bolts (not shown) can be used to fix the bottom plate 1000 and the outer cylinder 120. Furthermore, the bottom plate 1000 supports the inner cylinder 110 with a first bolt 124. In the example of FIG. 10, the exhaust port 122 and the connector 118 are provided on the bottom plate 1000. However, the exhaust port 122 and the connector 118 may be provided on the inner cylinder 110 or the outer cylinder 120 as long as they do not adversely affect the removal of the inner cylinder 110 described in FIG. 11.

図11は、処理室11の内部の方向へ内筒110を底板1000と共に取り外した場合の気体移送装置100を示す図である。本実施形態では、底板1000を外筒120から処理室11の内部の方向(吸気側)に取り外すことで、内筒110および内筒110に付
随する部品を底板1000と共に取り外すことが可能である。さらに、本実施形態にかかる気体移送装置100および/または真空装置10は、内筒110を底板1000と共に取り外した際に、気体移送装置100と真空装置10との間の干渉が起こらないように構成されている。
11 is a diagram showing the gas transfer device 100 when the inner cylinder 110 is removed together with the bottom plate 1000 toward the inside of the processing chamber 11. In this embodiment, by removing the bottom plate 1000 from the outer cylinder 120 toward the inside of the processing chamber 11 (the intake side), it is possible to remove the inner cylinder 110 and the parts associated with the inner cylinder 110 together with the bottom plate 1000. Furthermore, the gas transfer device 100 and/or the vacuum device 10 according to this embodiment are configured so that interference between the gas transfer device 100 and the vacuum device 10 does not occur when the inner cylinder 110 is removed together with the bottom plate 1000.

本実施形態の構成によれば、内筒110および内筒110に付随する部品の取り外しが容易となり、メンテナンス性が向上し得るという効果がある。 The configuration of this embodiment has the advantage that the inner tube 110 and parts associated with the inner tube 110 can be easily removed, improving maintainability.

以上、いくつかの本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることは勿論である。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。 Although several embodiments of the present invention have been described above, the above-mentioned embodiments of the invention are intended to facilitate understanding of the present invention and are not intended to limit the present invention. The present invention may be modified or improved without departing from its spirit, and the present invention naturally includes equivalents. Furthermore, any combination or omission of each component described in the claims and specification is possible within the scope of solving at least part of the above-mentioned problems or achieving at least part of the effects.

本願は、一実施形態として、気体を移送する気体移送装置であって、少なくとも一部に円柱状部分を有する内筒であって、内筒の吸気側に設けられたステージ取付部を含む、内筒と、少なくとも一部に円柱状部分を有する外筒であって、内筒の中心軸と同軸に配置される、外筒と、内筒と外筒で画定されるガス流路上に設けられた動翼であって、中心軸を中心として回転可能に構成された動翼と、ガス流路上に設けられた静翼と、動翼を回転するためのモータと、を備え、内筒および外筒が中空に形成されており、気体移送装置はさらに、内筒および動翼により画定される空間に気体を供給するためのガスパージ口を備える、気体移送装置を開示する。 As one embodiment, the present application discloses a gas transfer device for transferring gas, comprising an inner cylinder having at least a cylindrical portion on at least a portion thereof and including a stage mounting portion provided on the intake side of the inner cylinder, an outer cylinder having at least a cylindrical portion on at least a portion thereof and arranged coaxially with the central axis of the inner cylinder, a rotor blade provided on a gas flow path defined by the inner cylinder and the outer cylinder, the rotor blade configured to be rotatable around the central axis, a stationary blade provided on the gas flow path, and a motor for rotating the rotor blade, the inner cylinder and the outer cylinder being formed hollow, and the gas transfer device further comprising a gas purge port for supplying gas to a space defined by the inner cylinder and the rotor blade.

この気体移送装置は、真空装置の内部に供給されたガスを、処理室の内部で均一に保持することが可能であるという効果を一例として奏する。 One example of the effect of this gas transfer device is that it is possible to maintain the gas supplied to the inside of the vacuum device uniformly inside the processing chamber.

さらに本願は、一実施形態として、ガスパージ口が内筒または外筒に備えられている、気体移送装置を開示する。この開示内容により、気体移送装置の詳細が明らかにされる。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device in which a gas purge port is provided in the inner cylinder or the outer cylinder. The contents of this disclosure reveal the details of the gas transfer device.

さらに本願は、一実施形態として、内筒と動翼の間に設けられた、動翼を回転可能に支持する磁気軸受を備え、磁気軸受がタッチダウン軸受を含み、タッチダウン軸受が4点接触単列型玉軸受である、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device that includes a magnetic bearing disposed between the inner cylinder and the rotor blades to rotatably support the rotor blades, the magnetic bearing including a touchdown bearing, and the touchdown bearing being a four-point contact single row ball bearing.

この気体移送装置は、タッチダウン軸受を単列化することで、部品の小型化、部品点数の削減を達成することができるという効果を一例として奏する。 This gas transfer device has the advantage of being able to reduce the size and number of parts by using a single row of touchdown bearings.

さらに本願は、一実施形態として、タッチダウン軸受にガラスコーティングが施されている、気体移送装置を開示する。 Furthermore, the present application discloses, as one embodiment, a gas transfer device in which a touchdown bearing is glass coated.

この気体移送装置は、ガラスコーティングによって、タッチダウン軸受およびタッチダウン軸受と接触する他の部品が受けるダメージを低減することができるという効果を一例として奏する。 As an example, this gas transfer device has the effect of reducing damage sustained by the touchdown bearing and other parts that come into contact with the touchdown bearing through the glass coating.

さらに本願は、一実施形態として、気体移送装置の排気側の底部に設けられ、気体移送装置の内外を電気的に接続するためのコネクタを備える、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device that is provided at the bottom of the exhaust side of the gas transfer device and includes a connector for electrically connecting the inside and outside of the gas transfer device.

この気体移送装置は、内筒の円柱状部分に存在する部品とコネクタとの干渉を回避することができるという効果を一例として奏する。 One example of the effect of this gas transfer device is that it is possible to avoid interference between the connector and parts present in the cylindrical portion of the inner tube.

さらに本願は、一実施形態として、内筒の円柱状部分の外周面に、コネクタに接続される配線を敷設するための溝が形成されている、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device in which a groove for laying wiring connected to a connector is formed on the outer circumferential surface of the cylindrical portion of the inner tube.

この気体移送装置は、溝に配線を敷設することで、配線が動翼140等に巻き込まれることを防止することができるという効果を一例として奏する。 As an example, this gas transfer device has the effect of preventing the wiring from becoming entangled in the rotor blades 140, etc., by laying the wiring in the grooves.

さらに本願は、一実施形態として、気体流出流路に螺旋構造が形成されている、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device in which a spiral structure is formed in the gas outflow passage.

この気体移送装置は、気体流出流路からの気体の流出量を低減することができるという効果を一例として奏する。 As an example, this gas transfer device has the effect of reducing the amount of gas flowing out from the gas outflow passage.

さらに本願は、一実施形態として、ステージ取付部が、内筒と分離可能に設けられている、気体移送装置を開示する。さらに本願は、一実施形態として、ステージ取付部を内筒から分離することで、動翼および静翼を気体移送装置から取り外すことが可能であるように構成された、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device in which the stage mounting portion is provided so as to be separable from the inner cylinder.Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device configured so that the moving blades and stationary blades can be removed from the gas transfer device by separating the stage mounting portion from the inner cylinder.

これらの気体移送装置は、メンテナンス性を向上させることができるという効果を一例として奏する。 One example of the effect of these gas transfer devices is that they can improve maintainability.

さらに本願は、一実施形態として、モータが、ロータとステータを含むアキシャルギャップ型モータであり、ロータが動翼の排気側に設けられ、ステータがガス流路上のロータと対向する位置に設けられている、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device in which the motor is an axial gap type motor including a rotor and a stator, the rotor is provided on the exhaust side of the rotor blades, and the stator is provided in a position facing the rotor on the gas flow path.

この気体移送装置は、気体移送装置の大型化および性能低下を招くことなく、出力が十分に高いモータを使用することが可能となるという効果を一例として奏する。 This gas transfer device has the effect of making it possible to use a motor with sufficiently high output without increasing the size of the gas transfer device or reducing its performance.

さらに本願は、一実施形態として、内筒と動翼の間に設けられた、動翼を回転可能に支持する転がり軸受を備える、気体移送装置を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a gas transfer device that includes a rolling bearing disposed between the inner cylinder and the rotor blades, which rotatably supports the rotor blades.

この開示内容により、アキシャルギャップ型モータを用いた場合の構成の詳細が説明される。 This disclosure provides detailed configuration information when using an axial gap motor.

さらに本願は、一実施形態として、真空チャンバに接続された、気体移送装置の使用方法であって、(1)真空チャンバに所定の種類の気体が供給されている場合および(2)真空チャンバの内部の真空度が所定の値以上となる場合の少なくとも一方の場合に、ガスパージ口を介して、内筒および動翼により画定される空間に気体を供給するステップ、を含む方法を開示する。 Furthermore, as one embodiment, the present application discloses a method of using a gas transfer device connected to a vacuum chamber, the method including the step of supplying gas to a space defined by the inner cylinder and the rotor blades through a gas purge port when at least one of (1) a predetermined type of gas is being supplied to the vacuum chamber and (2) the degree of vacuum inside the vacuum chamber is equal to or greater than a predetermined value.

この方法は、気体の消費量を低減することが可能となり得るという効果を一例として奏する。 One example of the effect of this method is that it may be possible to reduce gas consumption.

10…真空装置
11…処理室(真空チャンバ)
12…プロセスガス供給機構
13…シャワーヘッド電極
14…交流電源
15…ケーブル
20…制御装置
100…気体移送装置
110…内筒
111…内筒の円柱状部分
112…中空空間
113…中心軸
114…ステージ取付部
115…ステージ
116…基板
117…第1の雌ねじ穴
118…コネクタ
120…外筒
121…外筒の円柱状部分
122…排気口
123…第1の貫通穴
124…第1のボルト
125…伝熱スペーサ
130…ガス流路
140…動翼
141…動翼ベース
142…動翼の段
143…個々の動翼
150…静翼
151…静翼ベース
152…静翼の段
153…個々の静翼
154…分割線
155…凸部
156…凹部
160…磁気軸受
161…ラジアル磁極
162…アキシャル磁極
163…タッチダウン軸受
164…アキシャル磁極ターゲット
165…アキシャルセンサホルダ
166…アキシャルセンサターゲット
170…ラジアルギャップ型モータ
171…ロータ
172…ステータ
180…気流調整バッフルプレート
181…通気口
190…排気側空間
191…ガスパージ口
192…パージガス供給機構
200…第2の貫通穴
201…第2の雌ねじ穴
202…第2のボルト
203…溝
300…動翼の回転方向
500…気体流出流路
501、601、602…螺旋構造
800…底板
860…転がり軸受
870…アキシャルギャップ型モータ
871…ロータ
872…ステータ
873…マグネット
874…ロータヨーク
900…封止部材
1000…底板
10... Vacuum device 11... Processing chamber (vacuum chamber)
12: Process gas supply mechanism 13: Shower head electrode 14: AC power supply 15: Cable 20: Control device 100: Gas transfer device 110: Inner cylinder 111: Cylindrical part of inner cylinder 112: Hollow space 113: Central axis 114: Stage mounting part 115: Stage 116: Substrate 117: First female threaded hole 118: Connector 120: Outer cylinder 121: Cylindrical part of outer cylinder 122: Exhaust port 123: First through hole 124: First bolt 125: Heat transfer spacer 130: Gas flow path 140: Rotating blade 141: Rotating blade base 142: Rotating blade stage 143: Individual rotating blade 150: Stator blade 151: Stator blade base 152: Stator blade stage 153: Individual stator blade 154: Parting line 155: Convex part Reference Signs List 156: Recess 160: Magnetic bearing 161: Radial magnetic pole 162: Axial magnetic pole 163: Touchdown bearing 164: Axial magnetic pole target 165: Axial sensor holder 166: Axial sensor target 170: Radial gap type motor 171: Rotor 172: Stator 180: Airflow adjustment baffle plate 181: Vent 190: Exhaust side space 191: Gas purge port 192: Purge gas supply mechanism 200: Second through hole 201: Second female threaded hole 202: Second bolt 203: Groove 300: Rotation direction of rotor blade 500: Gas outflow flow path 501, 601, 602: Spiral structure 800: Bottom plate 860: Rolling bearing 870: Axial gap type motor 871: Rotor 872: stator 873: magnet 874: rotor yoke 900: sealing member 1000: bottom plate

Claims (9)

気体を移送する気体移送装置であって、
少なくとも一部に円柱状部分を有する内筒であって、前記内筒の吸気側に設けられたステージ取付部を含む、内筒と、
少なくとも一部に円柱状部分を有する外筒であって、前記内筒の中心軸と同軸に配置される、外筒と、
前記内筒と前記外筒で画定されるガス流路上に設けられた動翼であって、前記中心軸を中心として回転可能に構成された動翼と、
前記ガス流路上に設けられた静翼と、
前記動翼を回転するためのモータと、
を備え、
前記内筒および外筒が中空に形成されており、
前記気体移送装置はさらに、前記内筒の外周面と前記動翼の内周面とにより画定される排気側空間に気体を供給するためのガスパージ口を備え、
前記気体移送装置はさらに、前記内筒と前記動翼の間に設けられた、前記動翼を回転可能に支持する磁気軸受又は転がり軸受を備え、
前記磁気軸受がタッチダウン軸受を含み、
前記ガスパージ口は、前記ステージ取付部に設けられ、且つ、前記ガスパージ口から供給された気体の一部が前記タッチダウン軸受又は前記転がり軸受を通過した後に、前記排気側空間を通過するように構成されている、
気体移送装置。
A gas transfer device for transferring a gas, comprising:
an inner cylinder having at least a cylindrical portion at a portion thereof, the inner cylinder including a stage mounting portion provided on an intake side of the inner cylinder;
An outer cylinder having at least a cylindrical portion and arranged coaxially with a central axis of the inner cylinder;
a rotor blade provided on a gas flow path defined by the inner cylinder and the outer cylinder, the rotor blade being configured to be rotatable about the central axis;
A stator blade provided on the gas flow path;
A motor for rotating the rotor blades;
Equipped with
The inner cylinder and the outer cylinder are formed hollow,
the gas transfer device further includes a gas purge port for supplying a gas to an exhaust side space defined by an outer circumferential surface of the inner cylinder and an inner circumferential surface of the rotor blade;
The gas transfer device further includes a magnetic bearing or a rolling bearing provided between the inner cylinder and the rotor blades to rotatably support the rotor blades,
the magnetic bearing includes a touchdown bearing;
the gas purge port is provided in the stage mounting portion, and is configured such that a portion of the gas supplied from the gas purge port passes through the exhaust side space after passing through the touchdown bearing or the rolling bearing .
Gas transfer device.
前記タッチダウン軸受にガラスコーティングが施されている、請求項に記載の気体移送装置。 2. The gas transfer device of claim 1 , wherein the touchdown bearing is glass coated. 前記気体移送装置の排気側の底部に設けられ、前記気体移送装置の内外を電気的に接続するためのコネクタを備える、請求項1に記載の気体移送装置。 The gas transfer device according to claim 1, further comprising a connector provided at the bottom of the exhaust side of the gas transfer device for electrically connecting the inside and outside of the gas transfer device. 前記内筒の円柱状部分の外周面に、前記コネクタに接続される配線を敷設するための溝が形成されている、請求項に記載の気体移送装置。 4. The gas transfer device according to claim 3 , wherein a groove for laying wiring connected to said connector is formed on an outer circumferential surface of the cylindrical portion of said inner cylinder. 気体流出流路に螺旋構造が形成されている、請求項1からのいずれか一項に記載の気体移送装置。 The gas transfer device according to claim 1 , wherein a spiral structure is formed in the gas outlet passage. 前記ステージ取付部が、前記内筒と分離可能に設けられている、請求項1からのいずれか一項に記載の気体移送装置。 The gas transfer device according to claim 1 , wherein the stage attachment portion is provided separably from the inner cylinder. 前記ステージ取付部を前記内筒から分離することで、前記動翼および前記静翼を前記気体移送装置から取り外すことが可能であるように構成された、請求項に記載の気体移送装置。 The gas transfer device according to claim 6 , wherein the rotor blades and the stator blades can be removed from the gas transfer device by separating the stage mounting portion from the inner cylinder. 前記モータが、ロータとステータを含むアキシャルギャップ型モータであり、
前記ロータが前記動翼の排気側に設けられ、
前記ステータが前記ガス流路上の前記ロータと対向する位置に設けられている、請求項1からのいずれか一項に記載の気体移送装置。
The motor is an axial gap motor including a rotor and a stator,
The rotor is provided on the exhaust side of the rotor blade,
The gas transfer device according to claim 1 , wherein the stator is provided at a position opposite to the rotor on the gas flow path.
真空チャンバに接続された、請求項1からのいずれか一項に記載の気体移送装置の使用方法であって、
(1)前記真空チャンバに所定の種類の気体が供給されている場合および
(2)前記真空チャンバの内部の真空度が所定の値以上となる場合
の少なくとも一方の場合に、前記ガスパージ口を介して、前記排気側空間に気体を供給するステップ、
を含む方法。
9. A method of using a gas transfer device according to any one of claims 1 to 8 in connection with a vacuum chamber, comprising the steps of:
supplying a gas to the exhaust side space through the gas purge port when at least one of the following conditions is met: (1) a predetermined type of gas is being supplied to the vacuum chamber ; and (2) a degree of vacuum inside the vacuum chamber is equal to or greater than a predetermined value.
The method includes:
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