JP7480745B2 - ウェーハ形状測定器の評価方法 - Google Patents
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- 238000011156 evaluation Methods 0.000 title claims description 52
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 117
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 119
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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Description
本発明は、ウェーハ形状測定器の評価方法に関する。
従来、ウェーハ形状測定器の評価(測定精度評価)は、SFQRやESFQR等、フラットネスパラメーターの測定値再現性(繰り返し測定精度)の善し悪しの比較によって行われてきた。しかしながら、このような評価方法は厳密には十分な測定精度の評価方法とは言えない。
例えばあるウェーハのあるセクターのESFQRを見た場合、その値が15nmだったとする。ESFQRはウェーハ外周部分を任意の角度毎に短冊状に切り取った厚さむらを最小二乗面でノーマライズ(規格化)し、その後、最大厚みと最低厚みとの差から算出される。繰り返し測定において、この任意のセクター内の最高厚みと最低厚みが常に同じ位置にならなくても、最大値と最低値の差が近い値であれば、その測定器のESFQR再現性(精度)は良好であると判断されてしまう。
例えばあるウェーハのあるセクターのESFQRを見た場合、その値が15nmだったとする。ESFQRはウェーハ外周部分を任意の角度毎に短冊状に切り取った厚さむらを最小二乗面でノーマライズ(規格化)し、その後、最大厚みと最低厚みとの差から算出される。繰り返し測定において、この任意のセクター内の最高厚みと最低厚みが常に同じ位置にならなくても、最大値と最低値の差が近い値であれば、その測定器のESFQR再現性(精度)は良好であると判断されてしまう。
ESFQRmaxの再現性(精度)についても同様の事が言える。例えば、ESFQRの値が比較的高くなるセクターが複数個含まれ、各々のESFQRが近い値を持つウェーハがあった場合、ESFQRmaxのセクターが繰り返し測定ごとに変わってしまっても、似通ったESFQR値を出力していれば、ESFQRmaxの測定値再現性は良好であると判断されてしまう。
例えば、図12は繰り返し測定(30回)によって得られた、各セクター(角度)のESFQRの値とその標準偏差(Stdev)を示すものである。左側縦軸はESFQRの値(単位:μm)、右側縦軸はStdev(単位:μm)、横軸は、セクター角度を示している。ESFQRの測定条件は、5°ピッチ、30mmLength、EE1mmとした。各セクターにおいてESFQRはウェーハ厚み形状に応じた様々な値を取るが、その再現性はStdevで0.4~0.8nmと良好な精度を示している。
一方、図13は同測定において、ESFQRの値が最大値となったセクターの推移を示している。縦軸はセクター角度(ESFQRmax)、横軸は測定回数に相当する。
図12において各セクターの測定値再現性は、上記のようにStdev=0.4~0.8nmで良好ではあったが、最大値を示すセクターは必ずしも一定ではなく、この結果から測定器の再現性は決して良好であるとは言えない。これらのことから、従来の、あるフラットネスパラメーターの測定値再現性のみを精度の尺度とする見方は、測定器の精度を吟味するうえで十分な方法とは言えないことが分かる。
図12において各セクターの測定値再現性は、上記のようにStdev=0.4~0.8nmで良好ではあったが、最大値を示すセクターは必ずしも一定ではなく、この結果から測定器の再現性は決して良好であるとは言えない。これらのことから、従来の、あるフラットネスパラメーターの測定値再現性のみを精度の尺度とする見方は、測定器の精度を吟味するうえで十分な方法とは言えないことが分かる。
過去に特許文献1-3といった技術が提案されているが、特許文献1はやはりESFQRやLine SFQRと言った形状を表す代表値を基に測定器を選定するにとどまっている。
また、特許文献2はウェーハをチャック上で吸着/非吸着の状態における形状差を製造プロセスに反映する技術と言え、特許文献3はウェーハ外周形状を一次元的に表現し、その微分形状からウェーハを選別する技術であり、測定器の厳格な選定技術は未だ開発されていない。
また、特許文献2はウェーハをチャック上で吸着/非吸着の状態における形状差を製造プロセスに反映する技術と言え、特許文献3はウェーハ外周形状を一次元的に表現し、その微分形状からウェーハを選別する技術であり、測定器の厳格な選定技術は未だ開発されていない。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、ウェーハ形状測定器の測定値再現性(繰り返し測定精度)を精度よく取得(評価)して、より正確に測定器の良否を評価することができる方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、ウェーハ形状測定器の評価方法であって、
表面が鏡面加工されたウェーハ状の複数枚の標準サンプルを準備する工程Aと、
前記ウェーハ形状測定器の測定精度を評価するための前記標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する工程Bと、
前記ウェーハ形状測定器を用いて、前記複数枚の標準サンプルの各々の前記決定した評価領域に対して、前記ウェーハ形状測定器の最小グリッド単位で区分したグリッドにおける厚さを繰り返し測定する工程Cと、
前記複数枚の標準サンプルの各々において、前記繰り返し測定した厚さから、前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を算出する工程Dと、
前記各々のウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、前記ウェーハ形状測定器の良否を評価する工程Eと、
を含むことを特徴とするウェーハ形状測定器の評価方法を提供する。
表面が鏡面加工されたウェーハ状の複数枚の標準サンプルを準備する工程Aと、
前記ウェーハ形状測定器の測定精度を評価するための前記標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する工程Bと、
前記ウェーハ形状測定器を用いて、前記複数枚の標準サンプルの各々の前記決定した評価領域に対して、前記ウェーハ形状測定器の最小グリッド単位で区分したグリッドにおける厚さを繰り返し測定する工程Cと、
前記複数枚の標準サンプルの各々において、前記繰り返し測定した厚さから、前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を算出する工程Dと、
前記各々のウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、前記ウェーハ形状測定器の良否を評価する工程Eと、
を含むことを特徴とするウェーハ形状測定器の評価方法を提供する。
このような評価方法であれば、分解能が高く、より高精度な測定値再現性(繰り返し測定精度)からウェーハ形状測定器の評価を行うことができ、適切にその良否を評価することができる。測定値再現性について、標準サンプル同士の間での比較から、例えば、そのウェーハ形状測定器特有の機械的な問題や各種ウェーハに対する相性が存在するのかなど、より詳しい評価を行うことができ、ひいては良好なウェーハ形状測定器の選定に役立てることができる。
このとき、前記工程Dは、
各グリッドにおいて、前記繰り返し測定した厚さから平均値を算出して「平均厚さ」を得るステップと、
前記繰り返し測定した厚さにおいて、(「各測定回の測定値」-「平均厚さ」)の値である「差分厚さ」を算出するステップと、
該「差分厚さ」を、前記評価領域における全てのグリッドの「差分厚さ」の平均値が0になるように、補正して規格化して「差分厚さ(規格化)」を算出するステップと、
前記評価領域における各グリッドの「差分厚さ(規格化)」の二乗平均平方根(RMS)または標準偏差を算出して前記同一標準サンプル内の繰り返し測定精度とするステップ、
を含むことができる。
各グリッドにおいて、前記繰り返し測定した厚さから平均値を算出して「平均厚さ」を得るステップと、
前記繰り返し測定した厚さにおいて、(「各測定回の測定値」-「平均厚さ」)の値である「差分厚さ」を算出するステップと、
該「差分厚さ」を、前記評価領域における全てのグリッドの「差分厚さ」の平均値が0になるように、補正して規格化して「差分厚さ(規格化)」を算出するステップと、
前記評価領域における各グリッドの「差分厚さ(規格化)」の二乗平均平方根(RMS)または標準偏差を算出して前記同一標準サンプル内の繰り返し測定精度とするステップ、
を含むことができる。
各「差分厚さ」にはウェーハ形状測定器固有のオフセットが乗っているので、オフセットを取り除いて規格化してからバラツキだけを計算により数値化して評価する。上記のような評価方法であれば、より簡便に、しかしながら、ウェーハの評価領域を構成する全グリッドデータを用いて高精度に評価を行うことができる。
また、前記工程Eを、
異なるウェーハ形状測定器ごとに算出した前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を、測定器間で比較することによって行うことができる。
異なるウェーハ形状測定器ごとに算出した前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を、測定器間で比較することによって行うことができる。
このようにすれば、異なるウェーハ形状測定器同士でその優劣を比較することができ、より一層優れたウェーハ形状測定器を見出すのに有効である。
また、前記評価領域を、前記ウェーハ状の標準サンプル全領域、または、ESFQRを測定する領域に相当する領域、とすることができる。
このように、従来の評価方法の際に使用されてきた評価領域と同様の領域を用いてウェーハ形状測定器を評価することができる。
また、前記評価領域を、前記ESFQRを測定する領域に相当する領域とするとき、
前記工程Eにおいて、前記標準サンプルの外周領域を所定の中心角ごとに分割し、該分割した領域同士間の前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を比較することができる。
前記工程Eにおいて、前記標準サンプルの外周領域を所定の中心角ごとに分割し、該分割した領域同士間の前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を比較することができる。
このようにすれば、標準サンプル面内の中心角に応じた位置の測定値再現性について評価を行うことができる。
また、前記標準サンプルを、ポリシュドウェーハ、エピタキシャルウェーハ、およびSOIウェーハのうちのいずれかとすることができる。
ウェーハ形状測定器を評価するにあたり、上記のような各種のウェーハを用いることができる。
以上のように、本発明のウェーハ形状測定器の評価方法であれば、ウェーハ形状測定器の測定値再現性(繰り返し測定精度)をより高精度に評価して、測定器の良否をより適切に評価することができる。
前述したように、従来の、あるフラットネスパラメーターの測定値再現性のみを精度の尺度とするような評価方法では、ウェーハ形状測定器(以下、単に測定器とも言う)の評価としては不十分であった。
そこで本発明者が鋭意研究を行ったところ、表面が鏡面加工されたウェーハ状の複数枚の標準サンプルを準備する工程Aと、測定器の測定精度の評価のための標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する工程Bと、測定器を用いて、複数枚の標準サンプルの各々の評価領域に対して、測定器の最小グリッド単位で区分したグリッドにおける厚さを繰り返し測定する工程Cと、複数枚の標準サンプルの各々において、繰り返し測定した厚さから、測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を算出する工程Dと、各々の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、測定器の良否を評価する工程Eと、を含むウェーハ形状測定器の評価方法であれば、分解能が高く、より高精度な測定値再現性の評価が可能であり、十分正確に測定器の良否を評価できることを見出した。さらには、測定値再現性について、その測定器特有の機械的な問題や各種ウェーハに対する相性などの詳細な評価も可能であり、優れた測定器の選定に役立てることができることも見出し、本発明を完成させた。
そこで本発明者が鋭意研究を行ったところ、表面が鏡面加工されたウェーハ状の複数枚の標準サンプルを準備する工程Aと、測定器の測定精度の評価のための標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する工程Bと、測定器を用いて、複数枚の標準サンプルの各々の評価領域に対して、測定器の最小グリッド単位で区分したグリッドにおける厚さを繰り返し測定する工程Cと、複数枚の標準サンプルの各々において、繰り返し測定した厚さから、測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を算出する工程Dと、各々の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、測定器の良否を評価する工程Eと、を含むウェーハ形状測定器の評価方法であれば、分解能が高く、より高精度な測定値再現性の評価が可能であり、十分正確に測定器の良否を評価できることを見出した。さらには、測定値再現性について、その測定器特有の機械的な問題や各種ウェーハに対する相性などの詳細な評価も可能であり、優れた測定器の選定に役立てることができることも見出し、本発明を完成させた。
以下、本発明について図面を参照して実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図1に本発明のウェーハ形状測定器の評価方法の工程の一例を示す。
(工程A:標準サンプル準備工程)
まず、複数枚の標準サンプル(以下、サンプルウェーハ、または、単にウェーハとも言う)を準備する。これはウェーハ状のものであり、表面が鏡面加工されたものであれば良い。
例としては、PW(ポリシュドウェーハ)、EPW(エピタキシャルウェーハ)、SOIウェーハなどが挙げられるが、これらに限定されない。1種類だけでなく、これらの各種ウェーハを混ぜて準備しても構わない。特に中心や周辺の厚さが異なるウェーハを標準サンプルとして使用すれば、特定のウェーハ形状の測定精度が劣るウェーハ形状測定器(フラットネス測定器)を検出しやすくなるので、標準サンプルとして厚さ形状の異なるウェーハを準備するのが好ましい。また加工条件が同一であっても良いし、異なっていても良い。
図1に本発明のウェーハ形状測定器の評価方法の工程の一例を示す。
(工程A:標準サンプル準備工程)
まず、複数枚の標準サンプル(以下、サンプルウェーハ、または、単にウェーハとも言う)を準備する。これはウェーハ状のものであり、表面が鏡面加工されたものであれば良い。
例としては、PW(ポリシュドウェーハ)、EPW(エピタキシャルウェーハ)、SOIウェーハなどが挙げられるが、これらに限定されない。1種類だけでなく、これらの各種ウェーハを混ぜて準備しても構わない。特に中心や周辺の厚さが異なるウェーハを標準サンプルとして使用すれば、特定のウェーハ形状の測定精度が劣るウェーハ形状測定器(フラットネス測定器)を検出しやすくなるので、標準サンプルとして厚さ形状の異なるウェーハを準備するのが好ましい。また加工条件が同一であっても良いし、異なっていても良い。
枚数は複数枚であれば良く、例えば、5~25枚準備することができるが、後述する平均厚さを求めるためには、特には5~10枚程度もあれば良い。また当然、それ以上の数を準備することもできる。またサイズも特に限定されず、例えば直径200mmウェーハ、300mmウェーハ、さらにはそれ以上のサイズのウェーハとすることができる。
ここでは例としてFOUPに保管された同一加工条件のサンプル(直径300mm、EPW)を25枚準備する。
ここでは例としてFOUPに保管された同一加工条件のサンプル(直径300mm、EPW)を25枚準備する。
(工程B:評価領域決定工程)
次に、測定器の測定精度を評価するための標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する。
例えば、ウェーハ状の標準サンプル全領域、または、ESFQRを測定する領域に相当する領域とすることができる。後者の場合、標準サンプルの外周領域を所定の中心角ごとに分割した領域とすることができる。例えば5°間隔で72個に分割した領域(セクター)とすることができる。ただし、この評価領域はその範囲や分割数は限定されず、その都度任意に選択することができる。
次に、測定器の測定精度を評価するための標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する。
例えば、ウェーハ状の標準サンプル全領域、または、ESFQRを測定する領域に相当する領域とすることができる。後者の場合、標準サンプルの外周領域を所定の中心角ごとに分割した領域とすることができる。例えば5°間隔で72個に分割した領域(セクター)とすることができる。ただし、この評価領域はその範囲や分割数は限定されず、その都度任意に選択することができる。
(工程C:繰り返し測定工程)
複数枚の標準サンプルウェーハを同一の評価したい測定器で繰り返し測定する。すなわち、複数回(2回以上)測定する。
測定は、前述したように決定した評価領域を、測定器の最小グリッド単位(x-yまたはr-θ単位)で区分したグリッドにおける厚さを測定する。
測定するグリッドサイズとしては、上記のように測定器の最小単位であり、例えば0.2mm程度以下とすることができる。
測定器の本質的な厚み測定再現性を評価することが目的であるため、最小単位のステップでデータを採取する。
通常、10数mmから数十mmの幅でフラットネスパラメーターを算出する領域の設定が行われることが多くみられるが、ウェーハ最外周領域におけるウェーハ厚さの変化は大きい。本発明では最小グリッド単位、例えば0.5mmよりも小さなグリッドサイズ、さらには上記のように0.2mm以下のグリッドサイズで測定して評価する。
複数枚の標準サンプルウェーハを同一の評価したい測定器で繰り返し測定する。すなわち、複数回(2回以上)測定する。
測定は、前述したように決定した評価領域を、測定器の最小グリッド単位(x-yまたはr-θ単位)で区分したグリッドにおける厚さを測定する。
測定するグリッドサイズとしては、上記のように測定器の最小単位であり、例えば0.2mm程度以下とすることができる。
測定器の本質的な厚み測定再現性を評価することが目的であるため、最小単位のステップでデータを採取する。
通常、10数mmから数十mmの幅でフラットネスパラメーターを算出する領域の設定が行われることが多くみられるが、ウェーハ最外周領域におけるウェーハ厚さの変化は大きい。本発明では最小グリッド単位、例えば0.5mmよりも小さなグリッドサイズ、さらには上記のように0.2mm以下のグリッドサイズで測定して評価する。
これを各標準サンプルに対して2回以上測定する。繰り返し測定回数は10回程度が好ましい。再現性や精度の算出の変動の可能性も考慮すると、その程度の回数で十分であり効率的である。
標準サンプルは測定後FOUPに保管して再利用することができる。そして、同様の測定を異なる標準サンプルに対しても行う。
標準サンプルは測定後FOUPに保管して再利用することができる。そして、同様の測定を異なる標準サンプルに対しても行う。
(工程D:繰り返し測定精度算出工程)
まず、この工程Dの全体の流れについて説明し、その後、例を挙げてより具体的に説明する。
ステップ1として、各標準サンプルの各グリッドにおいて繰り返し測定した厚さから平均値を算出し、「平均厚さ」を得る。図2は、各標準サンプル(例えば25枚:Sample Slot-01~25)の測定から、各グリッドの平均厚さを算出する様子を示す説明図である。
各グリッドの平均厚さは標準サンプル別に求める。平均厚さは、最小単位のグリッド毎に繰り返し測定した測定結果を平均化することによって得る。
まず、この工程Dの全体の流れについて説明し、その後、例を挙げてより具体的に説明する。
ステップ1として、各標準サンプルの各グリッドにおいて繰り返し測定した厚さから平均値を算出し、「平均厚さ」を得る。図2は、各標準サンプル(例えば25枚:Sample Slot-01~25)の測定から、各グリッドの平均厚さを算出する様子を示す説明図である。
各グリッドの平均厚さは標準サンプル別に求める。平均厚さは、最小単位のグリッド毎に繰り返し測定した測定結果を平均化することによって得る。
ステップ2として、全グリッドについて各グリッドの「差分厚さ」(繰り返し測定した厚さにおいて、[各測定回の測定値]-[平均厚さ])を標準サンプル毎に算出する。
ステップ3として、この差分厚さを、同じ標準サンプルの評価領域における繰り返し測定の各測定回の全グリッドデータの差分厚さの平均値が0になるように補正して規格化して、「差分厚さ(規格化)」を算出する。
ステップ4として、評価領域における各グリッドの差分厚さ(規格化)の二乗平均平方根(RMS)または標準偏差を算出する(同一標準サンプル内の繰り返し測定精度の算出)。
以下、工程Cと工程Dのステップ1-3の様子を示す図3、ステップ4の様子を示す図4、5を参照しつつ、具体例を挙げてさらに詳しく説明する。ここでは1枚目の標準サンプル(Slot-01)に着目して手順を述べるが、実際には複数枚の標準サンプルがあるので、2枚目以降も同様の手順を行う。
まず、工程Cで説明したように、標準サンプルの厚さを測定器の最小の測定サイズで評価領域(例えばウェーハ全面)全体にわたって繰り返し測定する。このとき、例えば10回繰り返し測定した場合、1枚の標準サンプルに対して、各グリッドの厚さの実測値は測定1~測定10(A-1~A-10)の10個の厚さデータが存在する。
まず、工程Cで説明したように、標準サンプルの厚さを測定器の最小の測定サイズで評価領域(例えばウェーハ全面)全体にわたって繰り返し測定する。このとき、例えば10回繰り返し測定した場合、1枚の標準サンプルに対して、各グリッドの厚さの実測値は測定1~測定10(A-1~A-10)の10個の厚さデータが存在する。
ステップ1:標準サンプルごとに、各グリッドの繰り返し測定結果(厚さ)を足し合わせ、測定回数で割ることによって各標準サンプルの厚さ形状の平均値(平均厚さ:B)を算出する。これにより各グリッドで厚みが平均化された1個のBが算出される(1枚の標準サンプルあたり)。
ステップ2:各グリッドの測定1~測定10の厚さの実測値のそれぞれについて平均厚さBを引いて差分厚さ(C-1~C-10)を求める。
(A-1~A-10)-B=(C-1~C-10)(ここでは、算出した値は、正の値と負の値が存在する)
(A-1~A-10)-B=(C-1~C-10)(ここでは、算出した値は、正の値と負の値が存在する)
つまり、1枚目の1回目の厚さ測定値から1枚目の平均厚さを引く。理想的な測定器であれば、10回とも同じデータが出るはずなので、引き算の結果は厚さ0の面となるはずだが、実際は全体的にオフセットや厚みムラのある差分形状(差分厚さ)が得られる。同様に1枚目の2回目の厚さ測定値から平均厚さを引くと、1回目の差分形状とはまた若干異なる差分形状が得られる。この引き算を1枚の標準サンプルに対して測定回数分(10回)行うと、1枚のウェーハに対して10個の差分形状が得られる。
ステップ3:各測定回(測定1~測定10)のそれぞれについて全グリッドの「差分厚さ」の平均値を求め、各測定回の全グリッドの差分厚さの平均値が0となるように各測定回の各グリッドの差分厚さに補正を加えて規格化する。
これは、ばらつきの評価には厚さの絶対値は無関係であるので、各測定回の平均の厚さを同じにするもので、測定1~測定10の各グリッドの「差分厚さ」C-1~C-10は「差分厚さ(規格化)」D-1~D-10に規格化される。
これは、ばらつきの評価には厚さの絶対値は無関係であるので、各測定回の平均の厚さを同じにするもので、測定1~測定10の各グリッドの「差分厚さ」C-1~C-10は「差分厚さ(規格化)」D-1~D-10に規格化される。
繰り返して説明すると、上記のように各差分厚さ(差分形状)には±のオフセットが乗っている。これを規格化するために、1枚目の1回目測定の差分厚さの平均値を算出して、差分厚さから差分厚さの平均値を引く補正をする。全ての差分厚さ(10個)に対して、それぞれの平均値で同様の引き算を行い、差分厚さを0基準に規格化(ノーマライズ)する。
ステップ4:評価領域(例えば、ウェーハ全体、あるいは、フラットネスパラメーターで定められた領域)ごとに、上記差分形状(規格化)の厚みバラツキをRMSや標準偏差で表現する(図4参照)。
理想的な測定器が存在すれば差分厚さ(規格化)は、前述した通り0の面となるが、実際は厚みムラが存在するため、差分厚さ(規格化)は微小な高低差を持った面となる。そこで、評価領域内(ウェーハの面全体或いは、SFQRやESFQRで規定された領域内)で高低差のバラツキを算出する。バラツキは上記の標準偏差、二乗平均平方根等様々な統計値を用いてよい。
理想的な測定器が存在すれば差分厚さ(規格化)は、前述した通り0の面となるが、実際は厚みムラが存在するため、差分厚さ(規格化)は微小な高低差を持った面となる。そこで、評価領域内(ウェーハの面全体或いは、SFQRやESFQRで規定された領域内)で高低差のバラツキを算出する。バラツキは上記の標準偏差、二乗平均平方根等様々な統計値を用いてよい。
例えば、ESFQRで定められたウェーハ上の特定領域におけるRMS値を算出する際について述べる。直径300mmのウェーハに対して、ESFQRを算出する領域をKLA社製のフラットネス測定器WaferSight2+を使用し、EE1mm(外周1mm除外)、72セクター、セクター長30mm、r(半径)方向0.2mmピッチ、θ(角度)方向1°ピッチだとした場合、1セクターの中には750点のr-θデータ(グリッドデータ)が存在する。そして、各測定回において、差分厚さ(規格化)の1セクターにおける750点分のグリッドデータからRMS値を算出する。このように1回の測定において、1セクターに対してRMS値は1つ算出される。
測定は繰り返し行われるため、次の測定回においても同様にして、1セクターに対してRMS値を1つ算出する。例えば10回繰り返し測定を行った場合、1セクターに対してRMS値は10個算出される(D-1のときのRMS値~D-10のときのRMS値の計10個)。これら10個のRMS値の平均を当該セクターの代表値とする。同様にESFQR測定領域を72分割した各セクターのRMS値の代表値を72個算出する。このように、標準サンプル1枚あたりで72個のRMS値の代表値を得て、同一標準サンプル内の繰り返し測定精度とすることができる。
これに対し、図5に示すように、GBIRの様に一枚のウェーハに対して1つしか求めることのできないフラットネスパラメーターを対象にした場合のRMS値の算出はより単純である。例えば300mmウェーハに対してEE1mmでGBIRを求めたとする。この場合、GBIRを求めるために使用されるグリッドデータは、r-θ座標系においてr(半径)方向0.2mmピッチ、θ(角度)方向1°ピッチだとした場合、270000点弱となるが、GBIRの領域に相当するRMS値はこれら270000点弱のグリッドに与えられた差分厚さ(規格化)のRMSを計算すればよい。1枚のウェーハに対して差分厚さ(規格化)から算出されるRMS値は1個のみであり、ウェーハ全面の差分厚さ(規格化)のRMS値の代表値は繰り返し測定回数分で平均すればよい。限定された評価領域でRMS値を算出する場合も、該当するグリッドデータから算出する。
以上ではRMS値の算出の方法について説明したが、RMS値に代えて標準偏差を求めて評価することもできる。
上記のRMS値の算出までのステップを別の標準サンプルでも同様にして行う。このようなステップにより上記のような繰り返し測定精度を得れば、ウェーハの評価領域を構成する全グリッドデータを用いた高精度な評価をより簡便に行うことができる。
(工程E:測定器の評価工程)
上記のようにして求めた各々標準サンプルでの同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、ウェーハ形状測定器の良否を評価する。
測定値再現性(繰り返し測定精度)が良好な測定器はRMSの値が0に近づき、繰り返し測定精度が不良な測定器はRMSの値が増大する。RMS値あるいは標準偏差といったバラツキを表現する統計値が小さい測定器を再現性(精度)が高い測定器と位置づけることができるが、定量的にRMSが幾らなら、どのようなRMSパターンなら測定器として合格なのか現段階で示すことができるわけではない。しかし、ウェーハごとのRMS同士を比較することで、例えば、測定器の測定値再現性について機械的な問題があるのか、ウェーハに対する相性が存在するのか、などの手掛かりとなる情報を得ることができ、測定器の良否の評価に結び付けることができる。これらは従来の評価方法では得られない、より詳細な情報である。
上記のようにして求めた各々標準サンプルでの同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、ウェーハ形状測定器の良否を評価する。
測定値再現性(繰り返し測定精度)が良好な測定器はRMSの値が0に近づき、繰り返し測定精度が不良な測定器はRMSの値が増大する。RMS値あるいは標準偏差といったバラツキを表現する統計値が小さい測定器を再現性(精度)が高い測定器と位置づけることができるが、定量的にRMSが幾らなら、どのようなRMSパターンなら測定器として合格なのか現段階で示すことができるわけではない。しかし、ウェーハごとのRMS同士を比較することで、例えば、測定器の測定値再現性について機械的な問題があるのか、ウェーハに対する相性が存在するのか、などの手掛かりとなる情報を得ることができ、測定器の良否の評価に結び付けることができる。これらは従来の評価方法では得られない、より詳細な情報である。
また、ESFQRの相当領域ごとにRMSを求めた場合、その領域同士のRMSの比較により、ウェーハの外周部分のどの位置で繰り返し測定精度が悪化するのかが明確となり、繰り返し測定精度が周期的に悪化するのか、ランダムに悪化するのかが判明する。無論、外周部分に限らず、その他の評価したい任意の部位に限定して比較評価することもできる。
さらには、異なる測定器でも同様に測定を行い、同一標準サンプルを異なる測定器で測定した場合の上記のRMS等の繰り返し測定精度を比較することにより、繰り返し測定精度の高い測定器や繰り返し測定精度の低い測定器を選別することができる。
以下、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例)
ウェーハ形状測定器として異なる5台のKLA社製WaferSight2+を使用し、直径300mmのエピタキシャルウェーハ25枚を各測定器で10回繰り返し測定を行った。ここで得られる厚みデータはr(半径)方向0.2mmピッチ、θ(角度)方向1°ピッチのr-θ座標系のグリッドデータとなっており、データ点数はウェーハ一枚当たり約270000点となる。各ウェーハの10回分の測定グリッドデータからグリッド単位で平均厚さを算出し、平均厚さプロファイルを得て、これを基に各測定回で得られる厚さプロファイルからの差分厚さ、さらには差分厚さ(規格化)を求め、差分厚さ(規格化)のバラツキより装置の厚み測定再現性を評価した。
後述するように評価領域としてGBIR相当、およびESFQR相当の両方に対して領域設定を行なった。GBIR相当領域とは、300mmウェーハのエッヂから1mmの領域を除外した半径149mm内の領域に相当し、WaferSight2+のr-θ座標系におけるデータ点数は約270000点となる。また、ESFQR相当領域とは、約270000点のデータのうち、半径119.2mmから149mm内のデータを使用し、これらを72セクターで分割した750点のデータを1セクター当たりのデータとして用いた。
(実施例)
ウェーハ形状測定器として異なる5台のKLA社製WaferSight2+を使用し、直径300mmのエピタキシャルウェーハ25枚を各測定器で10回繰り返し測定を行った。ここで得られる厚みデータはr(半径)方向0.2mmピッチ、θ(角度)方向1°ピッチのr-θ座標系のグリッドデータとなっており、データ点数はウェーハ一枚当たり約270000点となる。各ウェーハの10回分の測定グリッドデータからグリッド単位で平均厚さを算出し、平均厚さプロファイルを得て、これを基に各測定回で得られる厚さプロファイルからの差分厚さ、さらには差分厚さ(規格化)を求め、差分厚さ(規格化)のバラツキより装置の厚み測定再現性を評価した。
後述するように評価領域としてGBIR相当、およびESFQR相当の両方に対して領域設定を行なった。GBIR相当領域とは、300mmウェーハのエッヂから1mmの領域を除外した半径149mm内の領域に相当し、WaferSight2+のr-θ座標系におけるデータ点数は約270000点となる。また、ESFQR相当領域とは、約270000点のデータのうち、半径119.2mmから149mm内のデータを使用し、これらを72セクターで分割した750点のデータを1セクター当たりのデータとして用いた。
上記のように、各測定回のウェーハ厚さ測定値と平均厚さとから差分厚さを算出し、得られた差分厚さの平均値で差分厚さをノーマライズして差分厚さ(規格化)を得る。
ウェーハ全体、或いは、フラットネス評価に供されるサイト、セクターに準じた領域ごとに、各ウェーハの二乗平均平方根(RMS)や標準偏差(Stdev)等、差分厚さ(規格化)のバラツキを定量的に算出し、測定器の測定値再現性(繰り返し測定精度)を評価し、測定器の良否を評価する。
ウェーハ全体、或いは、フラットネス評価に供されるサイト、セクターに準じた領域ごとに、各ウェーハの二乗平均平方根(RMS)や標準偏差(Stdev)等、差分厚さ(規格化)のバラツキを定量的に算出し、測定器の測定値再現性(繰り返し測定精度)を評価し、測定器の良否を評価する。
(比較例)
従来法と同様にして、GBIR、ESFQR(72sectors,30mmLength)の測定値再現性により、測定器の評価を行った。GBIRとESFQRの測定条件は、それぞれ以下の通りである。
エッヂエクスクルージョンを1mmとして半径149mm内の最高点と最低点の厚さの差をGBIRとした。実施例で用いたエピタキシャルウェーハ25枚を実施例で用いた測定器で各々10回繰り返し測定を行い、GBIRの繰り返し再現性を標準偏差で表現した。
ESFQRはウェーハを5°ピッチで72個のセクターに円周方向に分割し、各セクターの半径119.2mmから149mm内の厚みプロファイルに対して最小二乗面を形成し、各セクターの厚みプロファイルから最小二乗面を差引く。最小二乗面によって規格化された厚みプロファイルの最も高い点と低い点との差をESFQRとし、各ウェーハの各セクターのESFQRの10回繰り返し再現性を標準偏差で表現した。
従来法と同様にして、GBIR、ESFQR(72sectors,30mmLength)の測定値再現性により、測定器の評価を行った。GBIRとESFQRの測定条件は、それぞれ以下の通りである。
エッヂエクスクルージョンを1mmとして半径149mm内の最高点と最低点の厚さの差をGBIRとした。実施例で用いたエピタキシャルウェーハ25枚を実施例で用いた測定器で各々10回繰り返し測定を行い、GBIRの繰り返し再現性を標準偏差で表現した。
ESFQRはウェーハを5°ピッチで72個のセクターに円周方向に分割し、各セクターの半径119.2mmから149mm内の厚みプロファイルに対して最小二乗面を形成し、各セクターの厚みプロファイルから最小二乗面を差引く。最小二乗面によって規格化された厚みプロファイルの最も高い点と低い点との差をESFQRとし、各ウェーハの各セクターのESFQRの10回繰り返し再現性を標準偏差で表現した。
図6-10は、測定器ごとの、比較例のESFQR(72sectors,30mmLength)の再現性(Stdev)(白抜きの〇データ)と実施例の差分厚さ(規格化)のバラツキ(RMS)(塗りつぶしの●データ)との比較を示している。5枚のウェーハ(Slot01~05)についてのグラフである。
比較例のESFQRの再現性(10回測定の標準偏差)は測定器やウェーハによって特段個性を持つわけでは無く、ランダムな値を示している。一方、実施例のRMSは測定器毎に個性を持ったプロファイルを示し、ウェーハの違いや、ウェーハの特定領域において厚さ測定値の再現性に善し悪しが有ることを示している。
これらの図において、測定器#03はウェーハによらず、概ね一定のRMS値を示し、比較した5台の装置の中で最も小さいことから測定器#03はESFQR測定に最も適していることを示唆している。実際にRMS値の平均値を比較すると(表1参照)、測定器#03は最も小さいRMS値を示している。
比較例のESFQRの再現性(10回測定の標準偏差)は測定器やウェーハによって特段個性を持つわけでは無く、ランダムな値を示している。一方、実施例のRMSは測定器毎に個性を持ったプロファイルを示し、ウェーハの違いや、ウェーハの特定領域において厚さ測定値の再現性に善し悪しが有ることを示している。
これらの図において、測定器#03はウェーハによらず、概ね一定のRMS値を示し、比較した5台の装置の中で最も小さいことから測定器#03はESFQR測定に最も適していることを示唆している。実際にRMS値の平均値を比較すると(表1参照)、測定器#03は最も小さいRMS値を示している。
この実施例での測定器の評価についてさらに詳述する。
上記の5つの図は測定器毎に25枚中の5枚のウェーハのセクター(1枚あたり72セクター)のRMSをプロットしているが、異なる形状のウェーハを測定しているにもかかわらず、セクターに対するRMSの変動パターンは、測定器毎にほぼ相似している。分かりやすいのは測定器#02、#04、#05である。
特に測定器#02と#05は、どのウェーハを測定してもウェーハの特定部位に対して厚みの再現性(RMS)が高かったり低かったりしている。このことから測定器#02と#05は他の測定器より、ウェーハの部位によって厚みを再現性良く測定出来たりできなかったりする、つまり、機械的に何らかの不具合があり、どのウェーハを測定しても決まった位置の厚み再現性に規則的な違いがあることを示している。
上記の5つの図は測定器毎に25枚中の5枚のウェーハのセクター(1枚あたり72セクター)のRMSをプロットしているが、異なる形状のウェーハを測定しているにもかかわらず、セクターに対するRMSの変動パターンは、測定器毎にほぼ相似している。分かりやすいのは測定器#02、#04、#05である。
特に測定器#02と#05は、どのウェーハを測定してもウェーハの特定部位に対して厚みの再現性(RMS)が高かったり低かったりしている。このことから測定器#02と#05は他の測定器より、ウェーハの部位によって厚みを再現性良く測定出来たりできなかったりする、つまり、機械的に何らかの不具合があり、どのウェーハを測定しても決まった位置の厚み再現性に規則的な違いがあることを示している。
一方、#04はウェーハのどの部位を測定しても似たようなRMS値になることから機械的な不具合は#02や#05より小さいと言える。しかしながら、ウェーハ毎にRMSのベースラインが変動することから、ウェーハの厚み形状や平均的な厚みによって、再現性が変動している。つまり、ウェーハに対して測定値再現性の得手不得手があるということが分かる。
そして、測定器同士の比較において、この5台の測定器の中でどれが一番良好な測定器と言えるのかというと、ここでは上記のように#03ということになる。ウェーハの部位によって厚さ再現性のムラ(RMSの違い)はあるものの、ウェーハに対する相性の問題はなく、RMSのベースライン自体が5台の中で最も小さいからである。
これに対して、比較例の繰り返し測定から導出されるESFQRの標準偏差では、上記のようなウェーハ間や測定器間での特徴は見られず、そのような比較はできない。
同様にウェーハの全領域(GBIR)でESFQR領域と同様な比較を行った。
その結果を図11に示す。各測定器(#01-#05)における25枚の算出結果を各々横並びに表示している。また、各測定器でのRMS値の平均値を表2に示す。
その結果を図11に示す。各測定器(#01-#05)における25枚の算出結果を各々横並びに表示している。また、各測定器でのRMS値の平均値を表2に示す。
比較例のGBIRの標準偏差は、各ウェーハ間、測定器間でほぼ同一で測定精度に大きな差が無いように見える。
しかしながら、実施例のグリッド単位のRMS値で比較すると、測定器#03はウェーハ同士の間でいずれも0に近い値となっており、どのウェーハに対しても測定値再現性が良い。
さらに、他の測定器の#01、#02、#04、#05についても見ると、各ウェーハのRMS値同士にばらつきが見られる。これらの測定器間での比較をすると、その差は歴然としており、測定器#03が最もグリッド単位でも良好な精度(RMS値)を示していることが分かる。これは、前述したESFQR相当領域における結果と一致している。
しかしながら、実施例のグリッド単位のRMS値で比較すると、測定器#03はウェーハ同士の間でいずれも0に近い値となっており、どのウェーハに対しても測定値再現性が良い。
さらに、他の測定器の#01、#02、#04、#05についても見ると、各ウェーハのRMS値同士にばらつきが見られる。これらの測定器間での比較をすると、その差は歴然としており、測定器#03が最もグリッド単位でも良好な精度(RMS値)を示していることが分かる。これは、前述したESFQR相当領域における結果と一致している。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
Claims (6)
- ウェーハ形状測定器の評価方法であって、
表面が鏡面加工されたウェーハ状の複数枚の標準サンプルを準備する工程Aと、
前記ウェーハ形状測定器の測定精度を評価するための前記標準サンプルにおけるウェーハ面内の評価領域を決定する工程Bと、
前記ウェーハ形状測定器を用いて、前記複数枚の標準サンプルの各々の前記決定した評価領域に対して、前記ウェーハ形状測定器の最小グリッド単位で区分したグリッドにおける厚さを繰り返し測定する工程Cと、
前記複数枚の標準サンプルの各々において、前記繰り返し測定した厚さから、前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を算出する工程Dと、
前記各々のウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度同士を比較して、前記ウェーハ形状測定器の良否を評価する工程Eと、
を含むことを特徴とするウェーハ形状測定器の評価方法。 - 前記工程Dは、
各グリッドにおいて、前記繰り返し測定した厚さから平均値を算出して「平均厚さ」を得るステップと、
前記繰り返し測定した厚さにおいて、(「各測定回の測定値」-「平均厚さ」)の値である「差分厚さ」を算出するステップと、
該「差分厚さ」を、前記評価領域における全てのグリッドの「差分厚さ」の平均値が0になるように、補正して規格化して「差分厚さ(規格化)」を算出するステップと、
前記評価領域における各グリッドの「差分厚さ(規格化)」の二乗平均平方根(RMS)または標準偏差を算出して前記同一標準サンプル内の繰り返し測定精度とするステップ、
を含むことを特徴とする請求項1に記載のウェーハ形状測定器の評価方法。 - 前記工程Eを、
異なるウェーハ形状測定器ごとに算出した前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を、測定器間で比較することによって行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のウェーハ形状測定器の評価方法。 - 前記評価領域を、前記ウェーハ状の標準サンプル全領域、または、ESFQRを測定する領域に相当する領域、とすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のウェーハ形状測定器の評価方法。
- 前記評価領域を、前記ESFQRを測定する領域に相当する領域とするとき、
前記工程Eにおいて、前記標準サンプルの外周領域を所定の中心角ごとに分割し、該分割した領域同士間の前記ウェーハ形状測定器の同一標準サンプル内の繰り返し測定精度を比較することを特徴とする請求項4に記載のウェーハ形状測定器の評価方法。 - 前記標準サンプルを、ポリシュドウェーハ、エピタキシャルウェーハ、およびSOIウェーハのうちのいずれかとすることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のウェーハ形状測定器の評価方法。
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