JP7478146B2 - ハロゲン系化合物を用いて選択的にエッチングするための原子層エッチングシステム - Google Patents
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Description
本開示は、2018年11月15日に提出された米国仮特許出願第62/767,564号明細書の利益を主張する。上記で識別した出願の開示は、全体が参照により本明細書に組み入れられる。
[形態1]
基板を加熱するように構成された熱源であって、
処理チャンバに第1の処理ガスを供給するように構成されたガス配送システムと、
前記ガス配送システムおよび前記熱源を制御して、等方的原子層エッチング処理を反復して遂行するように構成されたコントローラと
を備え、前記等方的原子層エッチング処理は、
前記等方的原子層エッチング処理の反復中に、前処理、原子レベルの吸着、およびパルス化熱アニーリングを遂行するステップと、
前記原子レベルの吸着中に、改質された材料を形成するように前記基板の曝露された材料の上に選択的に吸着されるハロゲン種を含む第1の処理ガスに前記基板の表面を曝露するステップと、
前記パルス化熱アニーリング中に、前記熱源を所定の期間内に複数回パルス化してオンおよびオフして、前記改質された材料を曝露し、除去するステップと
を含む熱源。
[形態2]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリングの反復中に、前記熱源の熱エネルギーパルスの連続するパルス間に、前記改質された材料が冷却することができるように構成される基板処理システム。
[形態3]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記熱源は複数のフラッシュランプを含む基板処理システム。
[形態4]
形態3に記載の基板処理システムであって、前記熱源の複数の熱エネルギーパルスごとに前記複数のフラッシュランプに放電するように構成された容量性放電回路をさらに備える基板処理システム。
[形態5]
形態3に記載の基板処理システムであって、前記熱源は、前記複数のフラッシュランプ用にそれぞれ放射線状反射部分を有する反射面を含む基板処理システム。
[形態6]
形態3に記載の基板処理システムであって、前記複数のフラッシュランプは、それぞれに対応する冷却ジャケットを含む基板処理システム。
[形態7]
形態3に記載の基板処理システムであって、前記複数のフラッシュランプから前記基板に熱エネルギーを向ける円錐形状の反射面をさらに備える基板処理システム。
[形態8]
形態3に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリングの少なくとも1回の反復中に、4ミリ秒未満のパルス継続期間の間にオンとなるように前記複数のフラッシュランプをパルス化するように構成される基板処理システム。
[形態9]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記熱源の電源をオフにした後、0.5秒未満で25℃未満の温度まで前記基板の前記改質された材料が冷却するように、前記パルス化熱アニーリングの反復の少なくともいくつかの間に前記熱源を介して前記基板の前記改質された材料を加熱するように構成される基板処理システム。
[形態10]
形態1に記載の基板処理システムであって、
前記熱源はレーザを含み、
前記レーザは、前記基板に向けられるレーザビームを発生させるように構成される基板処理システム。
[形態11]
形態10に記載の基板処理システムであって、
複数の鏡と、
複数のモータと
をさらに備え、
前記コントローラは、前記複数のモータを介して、前記基板の全体にわたって広がるように前記鏡を動かすことによりレーザビームを向けるように構成される基板処理システム。
[形態12]
形態11に記載の基板処理システムであって、
前記基板の直径は300mmであり、
前記基板は複数のダイを含み、
前記コントローラは、前記所定の期間内に、前記複数のダイの各々の全体にわたって広がり、前記複数のダイの各々を加熱するように構成される基板処理システム。
[形態13]
形態12に記載の基板処理システムであって、
前記所定の期間は1秒であり、
前記コントローラは、前記複数のダイの各々を個々に第2の所定の回数加熱するように構成される基板処理システム。
[形態14]
形態10に記載の基板処理システムであって、レーザビームを形作り、方向づけるように構成されたレンズ回路をさらに備える基板処理システム。
[形態15]
形態14に記載の基板処理システムであって、前記レンズ回路は、前記レーザビームを丸い形状のレーザビームから正方形の形状のレーザビームに変換するためのビーム整形光学部品を含む基板処理システム。
[形態16]
形態14に記載の基板処理システムであって、前記レンズ回路は、
前記レーザビームを前記丸い形状のレーザビームから平頂形状のレーザビームに変換する平頂光学部品と、
前記平頂形状のレーザビームを前記正方形の形状のレーザビームに変換する回折光学部品と
を備える基板処理システム。
[形態17]
形態10に記載の基板処理システムであって、第1の鏡、第2の鏡、第1のモータ、および第2のモータを備える鏡モジュールをさらに備え、
前記コントローラは、前記第1のモータおよび前記第2のモータを介して前記第1の鏡および前記第2の鏡を動かして、前記基板上で前記レーザビームの位置を調節するように構成される基板処理システム。
[形態18]
形態10に記載の基板処理システムであって、前記基板の前記表面に対して垂直な方向に前記レーザビームを向けるように構成された、複数のレンズを備えるテレセントリックレンズ組立体をさらに備える基板処理システム。
[形態19]
形態18に記載の基板処理システムであって、第1の鏡、第2の鏡、第1のモータ、および第2のモータを備える鏡モジュールをさらに備え、
前記レーザビームは、前記第1の鏡に向けられ、
前記レーザビームは、前記第1の鏡から前記第2の鏡に向けられ、
前記レーザビームは、前記第2の鏡から前記テレセントリックレンズ組立体を通って前記基板に向けられ、
前記コントローラは、前記第1のモータおよび前記第2のモータを介して前記第1の鏡および前記第2の鏡を動かして、前記基板上で前記レーザビームの位置を調節するように構成される基板処理システム。
[形態20]
形態19に記載の基板処理システムであって、
前記処理チャンバは、誘導結合プラズマチャンバまたは遠隔プラズマ供給源接続チャンバであり、
前記テレセントリックレンズ組立体は、前記処理チャンバの誘電体窓の上方に配置される基板処理システム。
[形態21]
形態10に記載の基板処理システムであって、前記基板が受け取る前に前記レーザビームのサイズを調節するように構成されたビームサイズ調節モジュールをさらに備える基板処理システム。
[形態22]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記パルス化熱アニーリング中、前記処理チャンバにはプラズマがない基板処理システム。
[形態23]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記原子レベルの吸着の1つまたは複数の反復中に、前記処理チャンバの内部の温度を20℃以下に、または周囲温度に等しく設定するように構成される基板処理システム。
[形態24]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記熱源を制御して、前記基板の基部部分またはバルク部分の少なくとも一方を加熱することなく、前記基板の前記改質された材料を加熱する複数の熱エネルギーパルスを発生させるように構成される基板処理システム。
[形態25]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記処理チャンバに前記第1の処理ガスを供給して、前記熱源の熱エネルギーパルスの連続する各対の間に、前記基板の前記曝露された材料上で前記原子レベルの吸着を遂行するように構成される基板処理システム。
[形態26]
形態25に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記前処理中に前記基板を第2の処理ガスにさらすことにより前記基板を改質するように構成される基板処理システム。
[形態27]
形態1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記熱源をパルス化して、1秒以内に複数の熱エネルギーパルスを発生させるように構成される基板処理システム。
[形態28]
形態1に記載の基板処理システムであって、
前記前処理は、第2の処理ガス導入を含み、
前記第2の処理ガスは水素を含み、
前記ハロゲン種は酸素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はゲルマニウムを含む基板処理システム。
[形態29]
形態1に記載の基板処理システムであって、
前記前処理は、第2の処理ガス導入を含み、
前記第2の処理ガスは水素を含み、
前記ハロゲン種は塩素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はゲルマニウムを含む基板処理システム。
[形態30]
形態1に記載の基板処理システムであって、
前記前処理は、第2の処理ガス導入を含み、
前記第2の処理ガスは水素を含み、
前記ハロゲン種はヨウ素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はケイ素を含む基板処理システム。
[形態31]
形態30に記載の基板処理システムであって、前記パルス化熱アニーリングは、ゲルマニウムを除去することなくケイ素を選択的に除去するステップを含む基板処理システム。
[形態32]
形態1に記載の基板処理システムであって、
前記前処理は、水素または酸素を含む第2の処理ガス導入を含み、
前記ハロゲン種は塩素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はチタンを含む基板処理システム。
[形態33]
形態1に記載の基板処理システムであって、
前記前処理は、第2の処理ガス導入を含み、
前記第2の処理ガスは水素またはアンモニアを含み、
前記ハロゲン種はフッ素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層除去を含み、
前記単層は二酸化ケイ素を含む基板処理システム。
[形態34]
基板処理システムを動作させる方法であって、
処理チャンバ内で基板支持部上に基板を配置するステップと、
第1の原子層堆積(ALE)処理を反復して遂行するステップであって、前記第1のALE処理は、順次の等方的処理であり、
前記処理チャンバに第1の処理ガスを供給して、前記基板の第1の曝露部分を改質するステップを含む前処理、
前記第1の曝露部分の上に選択的に吸収させて前記第1の曝露部分を改質するハロゲン種を含む第2の処理ガスに前記第1の曝露部分をさらすステップを含む原子レベルの吸着、および
熱源を制御して、熱エネルギーパルスを発生させて、前記改質された第1の曝露部分を曝露し、除去するステップを含むパルス化熱アニーリング
を遂行するステップを含むステップと、
所定のサイクル数の前記第1のALE処理を遂行したかどうかを判断するステップと、
前記所定のサイクル数を遂行した場合、前記第1のALE処理を遂行しなくなるステップと
を備える方法。
[形態35]
形態34に記載の方法であって、前記原子レベルの吸着を遂行した後に、かつ前記パルス化熱アニーリングを遂行する前に、前記処理チャンバをパージするステップをさらに備える方法。
[形態36]
形態34に記載の方法であって、前記パルス化急速熱アニーリングの各反復を遂行した後に、前記処理チャンバをパージするステップをさらに備える方法。
[形態37]
形態34に記載の方法であって、前記第1のALE処理を1秒以内に複数回遂行するステップをさらに備える方法。
[形態38]
形態34に記載の方法であって、
第2のALE処理を遂行すべきかどうかを判断するステップと、
前記第1のALE処理用に設定したパラメータを、前記第2のALE処理用に更新したパラメータに変更するステップと、
前記処理チャンバの内部で、
前記処理チャンバに前記第1の処理ガスまたは第3の処理ガスを供給して、前記基板の前記第1の曝露部分または第2の曝露部分を改質するステップを含む前処理を遂行するステップ、
前記第2のガス、またはハロゲン種を含む第4のガスに前記第1の曝露部分または前記第2の曝露部分をさらすステップを含む原子レベルの吸着を遂行するステップ、および
前記熱源を制御して、熱エネルギーパルスを発生させて、前記第1の曝露部分または前記第2の曝露部分を加熱するステップを含むパルス化急速熱アニーリングを遂行するステップ
を含む前記第2のALEを反復して遂行するステップと
をさらに備える方法。
[形態39]
形態34に記載の方法であって、
第2のALE処理を遂行すべきかどうかを判断するステップであって、前記第1のALE処理を前記基板の第1のダイ上で遂行するステップと、
前記基板の第2のダイ上で前記第2のALE処理を遂行するステップと
をさらに備える方法。
[形態40]
形態34に記載の方法であって、前記急速熱アニーリング用に、
複数のキャパシタを充電するステップと、
前記複数のキャパシタを放電して、複数のフラッシュランプに電力を提供するステップと
をさらに備える方法。
[形態41]
形態34に記載の方法であって、前記急速熱アニーリング用に、
レーザビームを発生させるステップと、
前記レーザビームを平頂ビームに変換するステップと、
前記平頂ビームを正方形ビームに変換するステップと、
前記正方形ビームを複数の鏡から離してテレセントリックレンズ組立体まで反射させるステップと、
前記基板に直交する方向に前記テレセントリックレンズ組立体を通って前記基板まで前記正方形ビームを通すステップと
をさらに備える方法。
[形態42]
形態41記載の方法であって、前記急速熱アニーリング用に、前記基板のダイのサイズ以上になるように前記正方形ビームのサイズを調節するステップをさらに備える方法。
[形態43]
形態34に記載の方法であって、前記急速熱アニーリング用に、
直径が300mmの、複数のダイを含む前記基板全体にわたって広がるように、
かつ所定の期間内に前記複数のダイの各々の全体にわたって広がり、前記複数のダイの各々を加熱するように、
鏡を動かすことにより前記レーザビームを向けるステップ
をさらに備える方法。
[形態44]
形態43に記載の方法であって、
前記所定の期間は1秒であり、
前記複数のダイの各々を個々に、所定の回数加熱する方法。
[形態45]
形態34に記載の方法であって、
前記第1のガスは水素を含み、
前記ハロゲン種は酸素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はゲルマニウムを含む方法。
[形態46]
形態34に記載の方法であって、
前記第1のガスは水素を含み、
前記ハロゲン種は塩素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はゲルマニウムを含む方法。
[形態47]
形態34に記載の方法であって、
前記第1のガスは水素を含み、
前記ハロゲン種はヨウ素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はケイ素を含む方法。
[形態48]
形態47に記載の方法であって、前記パルス化熱アニーリングは、ケイ素の選択的除去を含み、ゲルマニウムの除去を含まない方法。
[形態49]
形態34に記載の方法であって、
前記第1のガスは水素または酸素を含み、
前記ハロゲン種は塩素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層はチタンを含む方法。
[形態50]
形態34に記載の方法であって、
前記第1のガスは水素またはアンモニアを含み、
前記ハロゲン種はフッ素を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去を含み、
前記単層は二酸化ケイ素を含む方法。
Claims (45)
- 基板処理システムであって、
処理チャンバと、
前記処理チャンバ内に配置され、基板を支持するように構成された基板支持部と、
基板を加熱するように構成された熱源と、
処理チャンバに第1の処理ガスを供給するように構成されたガス配送システムと、
前記ガス配送システムおよび前記熱源を制御して、等方的原子層エッチング処理を反復して遂行するように構成されたコントローラと
を備え、前記等方的原子層エッチング処理は、
前記等方的原子層エッチング処理の反復中に、前処理、原子レベルの吸着、およびパルス化熱アニーリングを遂行するステップと、
前記原子レベルの吸着中に、改質された材料を形成するように前記基板の曝露された材料の上に選択的に吸着されるハロゲン種を含む前記第1の処理ガスに前記基板の表面を曝露するステップと、
前記パルス化熱アニーリング中に、前記熱源を所定の期間内に複数回パルス化してオンおよびオフして、前記改質された材料を曝露し、除去するステップと
を含む基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリングの反復中に、前記熱源の熱エネルギーパルスの連続するパルス間に、前記改質された材料が冷却することができるように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記熱源は複数のフラッシュランプを含む基板処理システム。
- 請求項3に記載の基板処理システムであって、前記熱源の複数の熱エネルギーパルスごとに前記複数のフラッシュランプに放電するように構成された容量性放電回路をさらに備える基板処理システム。
- 請求項3に記載の基板処理システムであって、前記熱源は、前記複数のフラッシュランプ用にそれぞれ放射線状反射部分を有する反射面を含む基板処理システム。
- 請求項3に記載の基板処理システムであって、前記複数のフラッシュランプは、それぞれに対応する冷却ジャケットを含む基板処理システム。
- 請求項3に記載の基板処理システムであって、前記複数のフラッシュランプから前記基板に熱エネルギーを向ける円錐形状の反射面をさらに備える基板処理システム。
- 請求項3に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリングの少なくとも1回の反復中に、4ミリ秒未満のパルス継続期間の間にオンとなるように前記複数のフラッシュランプをパルス化するように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記熱源の電源をオフにした後、0.5秒未満で25℃未満の温度まで前記基板の前記改質された材料が冷却するように、前記パルス化熱アニーリングの反復の少なくともいくつかの間に前記熱源を介して前記基板の前記改質された材料を加熱するように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記熱源はレーザを含み、
前記レーザは、前記基板に向けられるレーザビームを発生させるように構成される基板処理システム。 - 請求項10に記載の基板処理システムであって、
複数の鏡と、
複数のモータと
をさらに備え、
前記コントローラは、前記複数のモータを介して、前記基板の全体にわたって広がるように前記鏡を動かすことによりレーザビームを向けるように構成される基板処理システム。 - 請求項11に記載の基板処理システムであって、
前記基板の直径は300mmであり、
前記基板は複数のダイを含み、
前記コントローラは、前記所定の期間内に、前記複数のダイの各々の全体にわたって広がり、前記複数のダイの各々を加熱するように構成される基板処理システム。 - 請求項12に記載の基板処理システムであって、
前記所定の期間は1秒であり、
前記コントローラは、前記複数のダイの各々を個々に第2の所定の回数加熱するように構成される基板処理システム。 - 請求項10に記載の基板処理システムであって、レーザビームを形作り、方向づけるように構成されたレンズ回路をさらに備える基板処理システム。
- 請求項14に記載の基板処理システムであって、前記レンズ回路は、前記レーザビームを丸い形状のレーザビームから正方形の形状のレーザビームに変換するためのビーム整形光学部品を含む基板処理システム。
- 請求項14に記載の基板処理システムであって、前記レンズ回路は、
前記レーザビームを丸い形状のレーザビームから平頂形状のレーザビームに変換する平頂光学部品と、
前記平頂形状のレーザビームを正方形の形状のレーザビームに変換する回折光学部品と
を備える基板処理システム。 - 請求項10に記載の基板処理システムであって、第1の鏡、第2の鏡、第1のモータ、および第2のモータを備える鏡モジュールをさらに備え、
前記コントローラは、前記第1のモータおよび前記第2のモータを介して前記第1の鏡および前記第2の鏡を動かして、前記基板上で前記レーザビームの位置を調節するように構成される基板処理システム。 - 請求項10に記載の基板処理システムであって、前記基板の前記表面に対して垂直な方向に前記レーザビームを向けるように構成された、複数のレンズを備えるテレセントリックレンズ組立体をさらに備える基板処理システム。
- 請求項18に記載の基板処理システムであって、第1の鏡、第2の鏡、第1のモータ、および第2のモータを備える鏡モジュールをさらに備え、
前記レーザビームは、前記第1の鏡に向けられ、
前記レーザビームは、前記第1の鏡から前記第2の鏡に向けられ、
前記レーザビームは、前記第2の鏡から前記テレセントリックレンズ組立体を通って前記基板に向けられ、
前記コントローラは、前記第1のモータおよび前記第2のモータを介して前記第1の鏡および前記第2の鏡を動かして、前記基板上で前記レーザビームの位置を調節するように構成される基板処理システム。 - 請求項19に記載の基板処理システムであって、
前記処理チャンバは、誘導結合プラズマチャンバまたは遠隔プラズマ供給源接続チャンバであり、
前記テレセントリックレンズ組立体は、前記処理チャンバの誘電体窓の上方に配置される基板処理システム。 - 請求項10に記載の基板処理システムであって、前記基板が受け取る前に前記レーザビームのサイズを調節するように構成されたビームサイズ調節モジュールをさらに備える基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記パルス化熱アニーリング中、前記処理チャンバにはプラズマがない基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記原子レベルの吸着の1つまたは複数の反復中に、前記処理チャンバの内部の温度を20℃以下に、または周囲温度に等しく設定するように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記熱源を制御して、前記基板の基部部分またはバルク部分の少なくとも一方を加熱することなく、前記基板の前記改質された材料を加熱する複数の熱エネルギーパルスを発生させるように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記処理チャンバに前記第1の処理ガスを供給して、前記熱源の熱エネルギーパルスの連続する各対の間に、前記基板の前記曝露された材料上で前記原子レベルの吸着を遂行するように構成される基板処理システム。
- 請求項25に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記前処理中に前記基板を第2の処理ガスにさらすことにより前記基板を改質するように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、前記コントローラは、前記熱源をパルス化して、1秒以内に複数の熱エネルギーパルスを発生させるように構成される基板処理システム。
- 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記前処理は、第2の処理ガス導入を含み、
前記第2の処理ガスは水素とアンモニアとのうちの1つ以上を含み、
前記ハロゲン種は酸素と、塩素と、ヨウ素と、フッ素と、のうちの1つ以上を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去と、ゲルマニウムを除去することなく行われるケイ素の選択的除去と、のうちの少なくとも一方を含み、
前記単層はゲルマニウムと、ケイ素と、チタンと、二酸化ケイ素と、のうちの1つ以上を含む基板処理システム。 - 基板処理システムを動作させる方法であって、
処理チャンバ内で基板支持部上に基板を配置するステップと、
第1の原子層堆積(ALE)処理を反復して遂行するステップであって、前記第1のALE処理は、順次の等方的処理であり、
前記処理チャンバに第1の処理ガスを供給して、前記基板の第1の曝露部分を改質するステップを含む前処理、
前記第1の曝露部分の上に選択的に吸収させて前記第1の曝露部分を改質するハロゲン種を含む第2の処理ガスに前記第1の曝露部分をさらすステップを含む原子レベルの吸着、および
熱源を制御して、熱エネルギーパルスを発生させて、前記改質された第1の曝露部分を曝露し、除去するステップを含むパルス化熱アニーリング
を遂行するステップを含むステップと、
所定のサイクル数の前記第1のALE処理を遂行したかどうかを判断するステップと、
前記所定のサイクル数を遂行した場合、前記第1のALE処理を遂行しなくなるステップと
を備える方法。 - 請求項29に記載の方法であって、前記原子レベルの吸着を遂行した後に、かつ前記パルス化熱アニーリングを遂行する前に、前記処理チャンバをパージするステップをさらに備える方法。
- 請求項29に記載の方法であって、前記パルス化熱アニーリングの各反復を遂行した後に、前記処理チャンバをパージするステップをさらに備える方法。
- 請求項29に記載の方法であって、前記第1のALE処理を1秒以内に複数回遂行するステップをさらに備える方法。
- 請求項29に記載の方法であって、
第2のALE処理を遂行すべきかどうかを判断するステップと、
前記第1のALE処理用に設定したパラメータを、前記第2のALE処理用に更新したパラメータに変更するステップと、
前記処理チャンバの内部で、
前記処理チャンバに前記第1の処理ガスまたは第3の処理ガスを供給して、前記基板の前記第1の曝露部分または第2の曝露部分を改質するステップを含む前処理を遂行するステップ、
前記第2の処理ガス、またはハロゲン種を含む第4の処理ガスに前記第1の曝露部分または前記第2の曝露部分をさらすステップを含む原子レベルの吸着を遂行するステップ、および
前記熱源を制御して、熱エネルギーパルスを発生させて、前記第1の曝露部分または前記第2の曝露部分を加熱するステップを含むパルス化急速熱アニーリングを遂行するステップ
を含む前記第2のALE処理を反復して遂行するステップと
をさらに備える方法。 - 請求項29に記載の方法であって、
第2のALE処理を遂行すべきかどうかを判断するステップであって、前記第1のALE処理を前記基板の第1のダイ上で遂行するステップと、
前記基板の第2のダイ上で前記第2のALE処理を遂行するステップと
をさらに備える方法。 - 請求項29に記載の方法であって、前記パルス化熱アニーリング用に、
複数のキャパシタを充電するステップと、
前記複数のキャパシタを放電して、複数のフラッシュランプに電力を提供するステップと
をさらに備える方法。 - 請求項29に記載の方法であって、前記パルス化熱アニーリング用に、
レーザビームを発生させるステップと、
前記レーザビームを平頂ビームに変換するステップと、
前記平頂ビームを正方形ビームに変換するステップと、
前記正方形ビームを複数の鏡から離してテレセントリックレンズ組立体まで反射させるステップと、
前記基板に直交する方向に前記テレセントリックレンズ組立体を通って前記基板まで前記正方形ビームを通すステップと
をさらに備える方法。 - 請求項36に記載の方法であって、前記パルス化熱アニーリング用に、前記基板のダイのサイズ以上になるように前記正方形ビームのサイズを調節するステップをさらに備える方法。
- 請求項36に記載の方法であって、前記パルス化熱アニーリング用に、
直径が300mmの、複数のダイを含む前記基板全体にわたって広がるように、
かつ所定の期間内に前記複数のダイの各々の全体にわたって広がり、前記複数のダイの各々を加熱するように、
鏡を動かすことにより前記レーザビームを向けるステップ
をさらに備える方法。 - 請求項38に記載の方法であって、
前記所定の期間は1秒であり、
前記複数のダイの各々を個々に、所定の回数加熱する方法。 - 請求項29に記載の方法であって、
前記第1の処理ガスは水素とアンモニアとのうちの1つ以上を含み、
前記ハロゲン種は酸素と、塩素と、ヨウ素と、フッ素と、のうちの1つ以上を含み、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板からの単層の除去と、ゲルマニウムを除去することなく行われるケイ素の選択的除去と、のうちの少なくとも一方を含み、
前記単層はゲルマニウムと、ケイ素と、チタンと、二酸化ケイ素と、のうちの1つ以上を含む方法。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリング中に、前記熱源を複数回パルス化し、複数の低温パルスと複数の高温パルスとが生成されるように低温パルスと高温パルスの供給を反復的に行うことを含む冷熱パルスの繰り返しを提供するように構成されている、基板処理システム。 - 請求項41に記載の基板処理システムであって、
前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリング中に、前記低温パルスと前記高温パルスとを10秒未満で供給するように構成され、
前記冷熱パルスのうちの前記低温パルスは、前記基板を20~80℃に加熱し、前記冷熱パルスのうちの前記高温パルスは、前記基板を100~600℃に加熱する、基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリングを実行する前に、前記処理チャンバからハロゲン種をパージするように構成されている、基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記基板は、原子吸着のために、20℃未満の温度まで加熱され、
前記パルス化熱アニーリングは、前記基板を500~1000℃に加熱するために実行される、基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記コントローラは、前記パルス化熱アニーリング中に、前記熱源をパルス化し、20ミリ秒周期内に複数のパルスを供給するように構成されている、基板処理システム。
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