JP7477510B2 - フレキソ印刷版原版及び原版の作製方法 - Google Patents
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
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Description
本出願は、米国特許法第119条の下、2018年12月11日付けで出願された米国仮特許出願第62/778007号明細書からの優先権を主張する。
(a)第1のバインダー、モノマー、及び光開始剤を含む光重合性層であって、支持層によって支持されている、光重合性層と、
(b)赤外線によりアブレーションが可能であり非赤外の化学線を通さない赤外線アブレーション層であって、
(i)少なくとも1種の赤外線吸収性材料と、
(ii)放射線不透過性材料(radiation opaque material)であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、
(iii)少なくとも1種の第2のバインダーと、を含み、
前述の赤外線アブレーション層は、光重合性層に面する面上にマイクロセルパターンでエンボス加工されている、赤外線アブレーション層と、
(c)カバーシートと、を備える。
(a)第1のバインダー、モノマー、及び光開始剤を含む光重合性層であって、支持層によって支持されている、光重合性層と、
(b)赤外線によりアブレーションが可能であり非赤外の化学線を通さない赤外線アブレーション層であって、
(i)少なくとも1種の赤外線吸収性材料と、
(ii)放射線不透過性材料であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、
(iii)少なくとも1種の第2のバインダーと、を含み、
前述の赤外線アブレーション層は、光重合性層に面する面上に熱エンボス加工可能であり且つマイクロセルパターンでエンボス加工されているオーバーコート/バリア層を含む、赤外線アブレーション層と、
(c)カバーシートと、
を備える。
(a)カバーシートと、
(b)剥離層であって、カバーシートとは反対側の面上でマイクロセルパターンでエンボス加工されている、剥離層と、
(c)バインダー、モノマー、及び光開始剤を含む光重合性層であって、剥離層と支持層との間にある、光重合性層と、
を備える。
a)透明熱重合体のカバーシートを設ける工程と、
b)赤外線アブレーション層を形成する赤外線アブレーション組成物をカバーシート上に設ける工程であって、この赤外線アブレーション組成物が、(i)少なくとも1種の赤外線吸収性材料と、(ii)放射線不透過性材料であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、(iii)少なくとも1種の第2のバインダーと、を含む、工程と、
c)カバーシートとは反対側の面上でマイクロセルパターンで赤外線アブレーション層をエンボス加工する工程と、
d)光重合性層を形成する光重合性組成物を赤外線アブレーション層と支持層との間に塗布する工程であって、光重合性組成物は、第1のバインダー、モノマー、及び光開始剤を含む、工程と、
を含む。
a)透明熱重合体のカバーシートを設ける工程と、
b)赤外線アブレーション組成物をカバーシート上に塗布して赤外線アブレーション層を形成することであって、前述の赤外線アブレーション組成物は、(i)少なくとも1種の赤外線吸収性材料と、(ii)放射線不透過性材料であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、(iii)少なくとも1種の第2のバインダーと、を含む、工程と、
c)熱エンボス加工可能なオーバーコート/バリア層を赤外線アブレーション層上に塗布する工程と、
d)カバーシートとは反対側の面上でオーバーコート/バリア層にマイクロセルパターンでエンボス加工する工程と、
e)光重合性層を形成する光重合性組成物をオーバーコート/バリア層と支持層との間に塗布する工程であって、光重合性組成物は、第1のバインダー、モノマー、及び光開始剤を含む、工程と、
を含む。
a)透明熱重合体のカバーシートを設ける工程と、
b)熱エンボス加工可能な剥離層を塗布する工程と、
c)カバーシートとは反対側の面上で剥離層にマイクロセルパターンでエンボス加工する工程と、
d)光重合性層を形成する光重合性組成物を剥離層と支持層との間に塗布する工程であって、光重合性組成物は、バインダー、モノマー、及び光開始剤を含む、工程と、
を含む。
a)透明熱重合体のカバーシートを設ける工程と、
b)熱エンボス加工可能な剥離層を塗布する工程と、
c)カバーシートとは反対側の面上で剥離層にマイクロセルパターンでエンボス加工する工程と、
d)光重合性層を形成する光重合性組成物を剥離層と支持層との間に塗布する工程であって、光重合性組成物は、バインダー、モノマー、及び光開始剤を含む、工程と、を含む。
e)カバーシートを除去する工程と、
f)剥離層の上にマスクを設ける工程と、
を含む。
濃度=log10{1/反射率}
式中の反射率は{反射光の強度/入射光の強度}である。濃度は、通常は、ISO 5/3:2009 写真及びグラフィック技術のための国際規格-濃度測定-第3部:分光条件、に準拠して計算される。
感光性要素は、光重合可能な印刷版原版である。感光性要素は、化学線に対して感受性のある組成物(大部分の実施形態では光重合性の組成物)の層を含む。感光性要素は、感光性組成物の層と、感光性層に隣接するデジタル層とを含む。デジタル層は、感光性要素用の画像のマスクを形成するために、典型的には赤外レーザー光であるレーザー光が使用されるデジタルダイレクト製版(digital direct-to-plate)画像技術で用いられる(従来のポジ画像又はフォトツールの代わりに)。デジタル層は、赤外線放射によってアブレーション可能であり非赤外の化学線を通さない赤外線アブレーション層を含む。赤外線アブレーション層は、(i)少なくとも1種の赤外線吸収材料と、(ii)放射線不透過性材料であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、を含む。一実施形態では、赤外線アブレーション層は、光重合性層に面する面上にマイクロセルパターンでエンボス加工されている。赤外線アブレーション層がオーバーコート/バリア層を含む別の実施形態では、オーバーコート/バリア層は、光重合性層に面する面上にマイクロセルパターンでエンボス加工される。アナログプロセスのための更に別の実施形態では、感光性要素は、カバーシートと、カバーシートと光重合性層との間の剥離層とを含む。剥離層は、カバーシートとは反対側の面上でマイクロセルパターンでエンボス加工される。カバーシートが除去され、剥離層の上にマスクが塗布されてから、感光性要素がUV照射に曝露される。
感光性要素を作製するプロセスは、感光性要素の層上に、又は光重合性層と集合体を形成する別個の要素の層若しくはフィルム上に、マイクロセルパターンをエンボス加工することによって、マイクロセルパターンを形成して感光性要素を形成する工程を含む。マイクロセルパターンは製造時に感光性要素に一体化される。大部分の実施形態では、マイクロセルパターンは、エンボス加工され、デジタル層の一部として組み込まれ、感光性要素の光重合性層に面する。いくつかの実施形態では、マイクロセルパターンは、デジタル層に隣接するオーバーコート/バリア層にエンボス加工されている。オーバーコート/バリアは熱エンボス加工可能であり、光重合性層に面する面上にエンボス加工されている。いくつかの他の実施形態では、カバーシートと光重合性層との間の剥離層上でマイクロセルパターンがエンボス加工され、マイクロセルパターンは、カバーシートとは反対側の面上にある。
この実施例では、DPR(登録商標)デジタルプレートのカバーシートフィルムを、いかなる追加のコーティングもなしで直接使用して、標準のデジタルフレキソ印刷プレートを作製した。カバーシートは、PETフィルム上にコーティングされた2.5マイクロメートル厚のアブレーション可能な層からなる。このカバーシートフィルムの1つのサンプルを、そのままコントロールとして使用した。上述したように別のサンプルにエンボス加工した。これらのカバーシートフィルムを組み込んだフレキソ印刷プレートを作製し、印刷で試験した。エンボス加工されていないサンプルのベタインク濃度は1.12であったが、一方でエンボス加工されたサンプルのベタインク濃度は1.23であった。この結果、印刷されたサンプルにおいて、目に見える著しい改善が見られた。
この実施例では、DPR(登録商標)デジタルプレートのカバーシートフィルムを10マイクロメートルの厚さの酸素バリアでコーティングした。このバリア層は、ポリアミド樹脂で構成されている。修正されたカバーシートフィルムの1つのサンプルを、そのままコントロールとして使用して、硬化中にプレートへの酸素の移動を阻止するためのバリア層を有するデジタルフレキソプレートを作製した。このバリア層は、印刷時に好ましいことがあるフラットトップドットを有するフレキソプレートを作製するのに役立つ。修正されたカバーシートフィルムの別のサンプルが、上述したようにエンボス加工された。これらのカバーシートフィルムを組み込んだフレキソ印刷プレートを作製し、印刷で試験した。エンボス加工されていないサンプルのベタインク濃度は1.12であったが、一方でエンボス加工されたサンプルのベタインク濃度は1.25であった。この結果、印刷されたサンプルにおいて、目に見える著しい改善が見られた。
この実施例では、市販のフレキソプレートである、DuPont(商標)によるHORB(登録商標)デジタルプレートを使用して、標準のアナログフレキソ印刷プレートを作製した。フレキソプレートのカバーシートフィルムは、PETフィルム上にコーティングされた厚さ4.0マイクロメートルの剥離層を有する。このカバーシートフィルムの1つのサンプルを、そのままコントロールとして使用した。カバーシートフィルムの別のサンプルは、その剥離層に、上述したようなエンボス加工されている。これらのカバーシートフィルムを組み込んだフレキソ印刷プレートを作製し、印刷で試験した。エンボス加工されていないサンプルのベタインク濃度は1.08であったが、一方でエンボス加工されたサンプルのベタインク濃度は1.20であった。この結果、印刷されたサンプルにおいて、目に見える著しい改善が見られた。
Claims (6)
- (a)第1のバインダー、モノマー、及び光開始剤を含む光重合性層であって、支持層によって支持されている、光重合性層と、
(b)赤外線によりアブレーションが可能であり非赤外の化学線を通さない赤外線アブレーション層であって、
(i)少なくとも1種の赤外線吸収性材料と、
(ii)放射線不透過性材料であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、
(iii)少なくとも1種の第2のバインダーと、を含み、
前記赤外線アブレーション層は、前記光重合性層に面する面上にマイクロセルパターンでエンボス加工されている、赤外線アブレーション層と、
(c)カバーシートと、
を備える、印刷版原版。 - 前記赤外線アブレーション層は、マイクロセルパターンでエンボス加工され、前記支持層とは反対側の前記光重合性層の表面にラミネーションによって設けられる、請求項1に記載の印刷版原版。
- 前記赤外線アブレーション層は2.0を超える透過光学濃度を有する、請求項1に記載の印刷版原版。
- 前記マイクロセルパターンは複数のフィーチャを備え、前記フィーチャの各々が5~750平方マイクロメートルの面積を有する、請求項1に記載の印刷版原版。
- 前記第1のバインダーは前記第2のバインダーとは異なる、請求項1に記載の印刷版原版。
- 印刷版原版を作製する方法であって、
a)透明熱重合体のカバーシートを設ける工程と、
b)赤外線アブレーション層を形成する赤外線アブレーション組成物を前記カバーシート上に設ける工程であって、前記赤外線アブレーション組成物は、(i)少なくとも1種の赤外線吸収性材料と、(ii)放射線不透過性材料であって、(i)と(ii)とが同じであり得る又は異なり得る、放射線不透過性材料と、(iii)少なくとも1種の第2のバインダーと、を含む、工程と、
c)前記カバーシートとは反対側の面上にマイクロセルパターンで前記赤外線アブレーション層をエンボス加工する工程と、
d)光重合性層を形成する光重合性組成物を前記赤外線アブレーション層と支持層との間に塗布する工程であって、前記光重合性組成物は、第1のバインダー、モノマー、及び光開始剤を含む、工程と、
を含む、方法。
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