JP7456240B2 - Water equipment - Google Patents

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JP7456240B2 JP2020063904A JP2020063904A JP7456240B2 JP 7456240 B2 JP7456240 B2 JP 7456240B2 JP 2020063904 A JP2020063904 A JP 2020063904A JP 2020063904 A JP2020063904 A JP 2020063904A JP 7456240 B2 JP7456240 B2 JP 7456240B2
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Description

本発明は、表面に撥水層を備える水まわり機器に関し、詳細には、水がかかり得る環境で使用される水まわり機器に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a water-related device having a water-repellent layer on its surface, and more particularly to a water-related device used in an environment where water may be splashed.

水道水を含む生活用水は、ケイ素、カルシウムを含み、これらの物質は水垢の要因となっている。生活用水に接する水まわり機器では、水垢の付着を抑制し、あるいは付着した水垢を容易に除去することが求められる。水まわり機器の表面への水垢等の汚れの付着を防止し、あるいは汚れの除去性を高めるために、保護層で被覆するなどして部材表面を改質する技術が知られている。 Domestic water, including tap water, contains silicon and calcium, and these substances cause limescale. Plumbing equipment that comes into contact with domestic water is required to suppress the adhesion of limescale or to easily remove attached limescale. BACKGROUND ART In order to prevent stains such as limescale from adhering to the surfaces of plumbing equipment or to improve the removability of stains, techniques are known in which the surfaces of components are modified by coating them with a protective layer.

しかしながら、保護層を設けることで着色が見られたり、保護層の傷つき・剥離などにより部材外観を損なわれたりすることが観察された。一方、水まわり部材の表面に汚れを付着させないことは困難であるため、清掃によって汚れを除去することが行われている。水垢等の落しにくい汚れを清掃する場合、特殊な洗剤を使って研磨するなどの方法が行われており、日常的に行うには負担の大きな作業である。そこで、簡単な清掃で汚れを除去できることが求められている。 However, it was observed that by providing a protective layer, discoloration was observed, and the appearance of the member was impaired due to damage or peeling of the protective layer. On the other hand, since it is difficult to prevent dirt from adhering to the surface of plumbing members, dirt is removed by cleaning. When cleaning hard-to-remove stains such as limescale, methods such as polishing using special detergents are used, which is a burdensome task to perform on a daily basis. Therefore, there is a need to be able to remove dirt by simple cleaning.

保護層として、基材と直接化学結合させる単分子膜を用いた防汚技術が知られている。例えば、特開2004-217950号公報(特許文献1)には、水栓金具表面をフッ素アルキルホスホン酸で被覆することで、水垢易除去性が得られることが記載されている。また、単分子膜を形成することによって、基材表面の水酸基の大部分をシールドすることで、基材表面への汚れ固着を防止し、汚れを容易に除去することができる。例えば、特開2000-265526号公報(特許文献2)には、陶器表面の水酸基をシールドする防汚層を設けることで、珪酸スケール汚れの固着を抑制することが記載されている。この防汚層は、陶器表面の水酸基とフッ化アルキル基含有有機珪素化合物、加水分解性基含有メチルポリシロキサン化合物、およびオルガノポリシロキサン化合物を混合したものを塗布・乾燥した防汚層を開示している。 Antifouling technology using a monomolecular film that is chemically bonded directly to a base material as a protective layer is known. For example, JP-A No. 2004-217950 (Patent Document 1) describes that easy removal of limescale can be obtained by coating the surface of a faucet fitting with fluoroalkylphosphonic acid. Further, by forming a monomolecular film, most of the hydroxyl groups on the surface of the base material are shielded, thereby preventing dirt from adhering to the surface of the base material, and making it possible to easily remove the dirt. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-265526 (Patent Document 2) describes that fixing of silicic acid scale stains is suppressed by providing an antifouling layer that shields hydroxyl groups on the surface of pottery. This antifouling layer is obtained by coating and drying a mixture of hydroxyl groups on the surface of the pottery, an organosilicon compound containing a fluorinated alkyl group, a methylpolysiloxane compound containing a hydrolyzable group, and an organopolysiloxane compound. ing.

特開2004-217950号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-217950 特開2000-265526号公報JP 2000-265526 A

水垢等の汚れは日常の製品使用により汚れの付着および乾燥を繰り返すことで堆積し、汚れの除去に必要な拭き取る力が強くなったり、拭き取り回数が多くなったりするという課題があった。さらに、使用者や清掃者が頻繁に触れる部位においては、表面層(例えば、単分子層)を形成したとしても、日常の摺動にさらされるため、耐久性が乏しいという課題があった。 Dirt such as water scale accumulates as a result of repeated adhesion and drying of the product during daily product use, which poses a problem in that the wiping force required to remove the stain becomes stronger and the number of times of wiping increases. Furthermore, even if a surface layer (for example, a monomolecular layer) is formed in areas that are frequently touched by users and cleaners, there is a problem that durability is poor because they are exposed to daily sliding movements.

本発明者らは、水まわり機器の表面に緻密で薄膜である撥水性の表面層を設けることで、水まわり機器の質感を損ねることなく、実用上十分な耐久性を得ることを見出した。本発明は、このような知見に基づくものである。 The present inventors have discovered that by providing a dense and thin water-repellent surface layer on the surface of a plumbing device, sufficient durability for practical use can be obtained without impairing the texture of the plumbing device. The present invention is based on such knowledge.

本発明による水まわり機器は、
基材と、当該基材上にある表面層とを含んでなり、
前記基材は、少なくともその一部が金属からなり、当該金属からなる部分の上に前記表面層を備えており、
前記表面層は、撥水性であり、かつ、XPS深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その1点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が1.0at%以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から前記終点までのスパッタ時間が5分以内である、ことを特徴とする。
The water-related equipment according to the present invention is
A substrate and a surface layer on the substrate,
the substrate is at least partially made of a metal, and has the surface layer on the metal portion;
The surface layer is water repellent, and is characterized in that the end point of the surface layer is a point at which, in a profile obtained by XPS depth direction analysis, the absolute value of the difference between the carbon atom concentration at a certain measurement point and the carbon atom concentration at the immediately preceding measurement point becomes 1.0 at % or less, and the sputtering time from the start of sputtering to the end point is within 5 minutes.

本発明によれば、水まわり機器の質感を損ねることなく、耐久性に優れた水まわり機器が提供される。 According to the present invention, a plumbing device with excellent durability is provided without impairing the quality of the plumbing device.

本発明による水まわり機器の基本構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing a basic configuration of a plumbing device according to the present invention; 本発明による水まわり機器の一例である水栓の斜視図であり、本発明による部材の表面が好ましく適用される当該水栓の部位(下面および背面)を示す。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a water faucet, which is an example of a plumbing device according to the present invention, showing the parts (lower surface and back surface) of the faucet to which the surface of the member according to the present invention is preferably applied.

本発明による水まわり機器1は、図1に示すように、基材10と、基材10上にある表面層30とを備えてなる。部材1は、基材10と表面層30との間に中間層20をさらに含んでいてもよい。 The plumbing equipment 1 according to the present invention includes a base material 10 and a surface layer 30 on the base material 10, as shown in FIG. The member 1 may further include an intermediate layer 20 between the base material 10 and the surface layer 30.

表面層
本発明における表面層30は、有機分子を含む撥水性の層であり、表面層30より下の基材の色味を損なわない程度に透明かつ薄い。表面層が撥水層であることで、ケイ素、カルシウム(水垢の原因物質)を含む水道水に接する水まわり機器において、水垢の付着が抑制され、また付着した水垢を容易に除去することができる。
Surface Layer The surface layer 30 in the present invention is a water-repellent layer containing organic molecules, and is transparent and thin enough not to impair the color of the substrate below the surface layer 30. By having a water-repellent surface layer, adhesion of water stains is suppressed in plumbing equipment that comes into contact with tap water containing silicon and calcium (substances that cause water stains), and any water stains that do adhere can be easily removed.

表面層の材質
本発明において、表面層30は、高分子層、低分子層または単分子層であってよい。
Material of Surface Layer In the present invention, the surface layer 30 may be a polymer layer, a low molecular layer, or a monomolecular layer.

単分子層
本発明において、表面層30は、疎水基Rおよび金属元素に対し配位性を有する官能基Xを含む層であり、表面層30が単層で形成された単分子層であることが好ましく、R-Xからなる自己組織化単分子層(self assembled monolayers、SAM)であることがより好ましい。自己組織化単分子層は、分子が緻密に集合した層となるため、撥水性に優れる。
SAMの厚さは、構成分子1分子の長さと同程度となる。ここで、「厚さ」とは、SAMのZ方向に沿う長さを指す。ここで、図1において、基材10から表面層30に向かう方向をZ方向とする。SAMの厚さは10nm以下、好ましくは5nm以下、より好ましくは3nm以下である。また、SAMの厚さは、0.5nm以上、好ましくは1nm以上である。SAMの厚さがこのような範囲になるような構成分子を用いることで、基材を効率的に被覆することができ、水垢等の汚染物質の易除去性に優れた水まわり機器を得ることができる。
Monomolecular layer In the present invention, the surface layer 30 is a layer containing a hydrophobic group R and a functional group X having coordination properties with respect to a metal element, and the surface layer 30 is a monomolecular layer formed of a single layer. is preferable, and self-assembled monolayers (SAM) consisting of RX are more preferable. A self-assembled monolayer is a layer in which molecules are densely assembled, so it has excellent water repellency.
The thickness of the SAM is approximately the same as the length of one constituent molecule. Here, "thickness" refers to the length of the SAM along the Z direction. Here, in FIG. 1, the direction from the base material 10 toward the surface layer 30 is defined as the Z direction. The thickness of the SAM is 10 nm or less, preferably 5 nm or less, more preferably 3 nm or less. Further, the thickness of the SAM is 0.5 nm or more, preferably 1 nm or more. By using constituent molecules whose SAM thickness falls within this range, the base material can be efficiently coated, and water-related equipment with excellent ease of removal of pollutants such as limescale can be obtained. I can do it.

本発明の好適な態様において、SAMは、有機分子が固体表面に吸着する過程で、当該固体表面上に形成される分子集合体であり、分子同士の相互作用によって集合体構成分子が密に集合する。SAMは炭化水素基を含む。これによって、分子同士に疎水性相互作用が働き、分子が密に集合することができるため、汚れの易除去性に優れた水まわり機器を得ることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, SAM is a molecular assembly formed on a solid surface during the process of adsorption of organic molecules to the solid surface, and the molecules constituting the assembly are densely assembled due to interactions between molecules. do. SAM contains hydrocarbon groups. As a result, hydrophobic interactions occur between the molecules and the molecules can be densely aggregated, making it possible to obtain plumbing equipment with excellent dirt removal properties.

本発明において、非高分子の有機配位子R-Xは、疎水基Rと、金属元素に対し配位性を有する官能基Xとを備える。非高分子の有機配位子R-Xは、官能基Xを介して下地の表面と結合する。ここで、「非高分子」とは、国際純正応用化学連合(IUPAC)高分子命名法委員会による高分子科学の基本的術語の用語集(日本語訳)の定義1.1(すなわち、相対分子質量の大きい分子で、相対分子質量の小さい分子から実質的または概念的に得られる単位の多数回の繰返しで構成された構造をもつもの。http://main.spsj.or.jp/c19/iupac/Recommendations/glossary36.htmlを参照)に該当しない化合物を意味する。SAMは、このような非高分子の有機配位子R‐Xを用いて形成される層である。 In the present invention, the non-polymer organic ligand RX includes a hydrophobic group R and a functional group X having coordinating properties with respect to a metal element. The non-polymer organic ligand RX is bonded to the underlying surface via the functional group X. Here, "non-polymer" refers to Definition 1.1 (i.e., relative A molecule with a large molecular mass that has a structure composed of many repetitions of units that are obtained virtually or conceptually from molecules with a small relative molecular mass. http://main.spsj.or.jp/c19 /iupac/Recommendations/glossary36.html). SAM is a layer formed using such a non-polymer organic ligand RX.

非高分子の有機配位子R-X
本発明の好ましい態様において、表面層30は非高分子の有機配位子R-Xを用いて形成される層である。疎水基Rは、CとHとからなる炭化水素基であることが好ましい。Rの炭化水素基の骨格内に1ないし2個所で炭素以外の原子が置換されていても良い。置換される原子は、酸素、窒素、硫黄が挙げられる。好ましくは、Rの片末端(Xとの結合端ではない側の端部)はメチル基である。これによって、水まわり機器の表面が撥水性となり、汚れの易除去性を高めることができる。
Non-polymer organic ligand RX
In a preferred embodiment of the present invention, the surface layer 30 is a layer formed using a non-polymer organic ligand RX. The hydrophobic group R is preferably a hydrocarbon group consisting of C and H. Atoms other than carbon may be substituted at one or two positions within the skeleton of the hydrocarbon group R. Examples of substituted atoms include oxygen, nitrogen, and sulfur. Preferably, one end of R (the end that is not bonded to X) is a methyl group. This makes the surface of the plumbing equipment water repellent, making it easier to remove dirt.

Rの具体例(アルキル)
本発明において、疎水基RはCとHとからなる炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基は、飽和炭化水素基でもよいし、不飽和炭化水素基でもよい。また、鎖式炭化水素でもよいし、芳香環などの環式炭化水素を含んでもよい。Rは、好ましくは鎖式飽和炭化水素基であり、より好ましくは直鎖式の飽和炭化水素基である。鎖式飽和炭化水素基は、柔軟な分子鎖であるため、中間層を隙間なく覆うことができ、耐水性を高めることができる。Rが鎖式炭化水素基の場合は、好ましくは炭素数が6以上25以下のアルキル基である。Rは、より好ましくは炭素数が10以上18以下のアルキル基である。炭素数が多い場合には、分子同士の相互作用が大きく、疎水基の間隔を狭くすることができ、耐水性をさらに高めることができる。
Specific example of R (alkyl)
In the present invention, the hydrophobic group R is preferably a hydrocarbon group consisting of C and H. The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group. Further, it may be a chain hydrocarbon or may contain a cyclic hydrocarbon such as an aromatic ring. R is preferably a chain saturated hydrocarbon group, more preferably a straight chain saturated hydrocarbon group. Since the chain-type saturated hydrocarbon group is a flexible molecular chain, it can cover the intermediate layer without gaps, and can improve water resistance. When R is a chain hydrocarbon group, it is preferably an alkyl group having 6 or more and 25 or less carbon atoms. R is more preferably an alkyl group having 10 or more and 18 or less carbon atoms. When the number of carbon atoms is large, interaction between molecules is large, and the spacing between hydrophobic groups can be narrowed, and water resistance can be further improved.

本発明において、疎水基Rはハロゲン原子、例えばフッ素原子を含有しないことが好ましい。疎水基Rがハロゲン原子を含まない化合物で表面層を形成することで、耐摺動性を向上することができる。 In the present invention, the hydrophobic group R preferably does not contain a halogen atom, such as a fluorine atom. By forming the surface layer with a compound in which the hydrophobic group R does not contain a halogen atom, the sliding resistance can be improved.

Xの具体例
本発明において、官能基Xは、ホスホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基、カルボキシル基、シラノール基(あるいは、アルコキシシリル基などのシラノールの前駆体)、βジオール基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミド基、αまたはβ-ヒドロキシカルボン酸基から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
Specific examples of X In the present invention, the functional group , a hydroxyl group, a hydroxyamide group, and an α- or β-hydroxycarboxylic acid group.

カルボキシル基、βジオール基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミド基、αまたはβ-ヒドロキシカルボン酸基は、官能基同士で重合することなく、中間層に含まれる金属元素に配位(吸着)するため、緻密な表面層が形成される。 Carboxyl groups, β-diol groups, amino groups, hydroxyl groups, hydroxyamide groups, α- or β-hydroxycarboxylic acid groups coordinate (adsorb) with the metal elements contained in the intermediate layer without polymerizing with each other. , a dense surface layer is formed.

本発明の好ましい態様によれば、Xは、リン原子を含む官能基のうち、ホスホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基から選ばれる少なくとも1種であり、より好ましくはホスホン酸基である。これにより、耐水性が高く、かつ汚染物質の易除去性に優れた部材を効率的に得ることができる。 According to a preferred embodiment of the present invention, X is at least one type of functional group containing a phosphorus atom selected from a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, and a phosphinic acid group, and more preferably a phosphonic acid group. Thereby, it is possible to efficiently obtain a member that has high water resistance and excellent ease of removing contaminants.

R-Xの具体例
一般式R‐Xで表される有機ホスホン酸化合物は、好ましくはオクタデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、デシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸であり、より好ましくはオクタデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、デシルホスホン酸である。さらに、より好ましくは、オクタデシルホスホン酸である。
Specific examples of RX The organic phosphonic acid compound represented by the general formula RX is preferably octadecylphosphonic acid, hexadecylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, decylphosphonic acid, octylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, More preferred are octadecylphosphonic acid, hexadecylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, and decylphosphonic acid. Even more preferred is octadecylphosphonic acid.

R-Xにおいて、ホスホン酸基を有する分子としてホスホン酸、リン酸基を有する分子として(有機)リン酸、ホスフィン酸基を有する分子としてホスフィン酸、カルボキシル基を有する分子としてカルボン酸、βジオール基を有する分子としてプロトカテク酸、没食子酸、ドーパ、カテコール(オルトヒドロキシフェニル)基、アミノ基を有する分子としてアミノ酸、水酸基を有する分子としてアルコール、ヒドロキシアミド基を有する分子としてヒドロキサム酸、αまたはβ-ヒドロキシカルボン酸基を有する分子としてサリチル酸、キナ酸を用いてもよい。 In R - Protocatechuic acid, gallic acid, dopa, catechol (orthohydroxyphenyl) group as a molecule with , amino acid as a molecule with an amino group, alcohol as a molecule with a hydroxyl group, hydroxamic acid as a molecule with a hydroxyamide group, α- or β-hydroxy Salicylic acid and quinic acid may be used as the molecule having a carboxylic acid group.

本発明において、表面層30は、二種類以上のR‐Xから形成されていてもよい。二種類以上のR‐Xから形成された表面層とは、上述した化合物が複数種類混合されてなる表面層を意味する。また、本発明において、表面層30は、水垢易除去性を損なわない範囲において、R‐X以外の有機分子を微量に含んでいてもよい。 In the present invention, the surface layer 30 may be formed from two or more types of RX. The surface layer formed from two or more types of RX means a surface layer formed by mixing multiple types of the above-mentioned compounds. Furthermore, in the present invention, the surface layer 30 may contain a trace amount of organic molecules other than RX, as long as the easy removal of limescale is not impaired.

中間層
本発明の好ましい態様によれば、表面層30の下層に中間層20を設けてもよい。中間層20は表面層30および基材10と良好な密着性を得ることができる。中間層20の好ましい例としては、金属原子と酸素原子とを含む層が挙げられる。中間層20において、前記金属原子は酸素原子と結合している。つまり、中間層20には、酸化状態の前記金属元素が含まれる。本発明においては、Cr、Zr、Siからなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。また、中間層20は、下地の色味を損なわないため、表面層30と同じ程度のまたはそれ未満の厚みが好ましい。
Intermediate layer According to a preferred embodiment of the present invention, the intermediate layer 20 may be provided below the surface layer 30. The intermediate layer 20 can obtain good adhesion to the surface layer 30 and the base material 10. A preferable example of the intermediate layer 20 is a layer containing metal atoms and oxygen atoms. In the intermediate layer 20, the metal atoms are bonded to oxygen atoms. That is, the intermediate layer 20 contains the metal element in an oxidized state. In the present invention, it is preferable that the material is at least one selected from the group consisting of Cr, Zr, and Si. Furthermore, the intermediate layer 20 preferably has a thickness that is approximately the same as or less than that of the surface layer 30 so as not to impair the color of the base layer.

基材
本発明において、基材の材質は特に制限されず、例えば水まわり機器の基材として一般的に使用されているもの使用することができる。
Substrate In the present invention, the material of the substrate is not particularly limited, and for example, materials commonly used as substrates for plumbing equipment can be used.

基材10の領域10a
基材10は、支持材10aを含む。支持材10aの材質は、金属でもよいし、樹脂やセラミック、陶器、ガラスであってもよい。
Region 10a of base material 10
The base material 10 includes a support material 10a. The material of the support member 10a may be metal, resin, ceramic, earthenware, or glass.

基材10の領域10b
基材10は、支持材10aの材質が金属以外の場合、領域10bを備えてなる。また、基材10は、支持材10aの材質が金属の場合、領域10bを備えていてもよい。領域10bは、例えば、金属めっきや物理蒸着法(PVD)にて形成された、金属を含む層または炭素を含む無機化合物からなる層である。領域10bは、金属元素のみから構成されていてもよいし、金属窒化物(例えば、TiN、TiAlNなど)、金属炭化物(例えば、CrCなど)、金属炭窒化物(例えば、TiCN、CrCN、ZrCN、ZrGaCNなど)等の形態で含まれていてもよい。領域10bは支持材10aの上に直接形成されていてもよいし、領域10bと支持材10aの間に異なる層を含んでいてもよい。領域10bが設けられる基材10としては、例えば、黄銅や樹脂で形成された支持材10aに金属めっき処理により領域10bを設けた金属めっき製品が挙げられる。一方、領域10bが設けられない基材10としては、例えば、ステンレス鋼(SUS)のような金属成型品が挙げられる。基材10の表面性状は、特に限定されるものではないが、立体形状であることが好ましい。
Region 10b of base material 10
The base material 10 includes a region 10b when the material of the support material 10a is other than metal. Moreover, the base material 10 may be provided with the area|region 10b when the material of the support material 10a is metal. The region 10b is, for example, a layer containing metal or a layer made of an inorganic compound containing carbon, formed by metal plating or physical vapor deposition (PVD). The region 10b may be composed only of a metal element, or may be made of a metal nitride (for example, TiN, TiAlN, etc.), a metal carbide (for example, CrC, etc.), a metal carbonitride (for example, TiCN, CrCN, ZrCN, etc.). ZrGaCN, etc.). Region 10b may be formed directly on support material 10a, or may include different layers between region 10b and support material 10a. An example of the base material 10 on which the region 10b is provided is a metal-plated product in which the region 10b is provided on a support material 10a made of brass or resin by metal plating. On the other hand, examples of the base material 10 in which the region 10b is not provided include a metal molded product such as stainless steel (SUS). The surface texture of the base material 10 is not particularly limited, but preferably has a three-dimensional shape.

本発明において、領域10bは複層構成であってよい。例えば、領域10bとして、めっきなどの金属元素からなる層の上に着色層を備えてよい。着色層は、着色層を有しない部材表面を対照として、着色層を有する部材表面のΔL*、Δa*およびΔb*の少なくとも1つの絶対値が0を超える色を呈する層である。着色層は、ZrまたはCを含んでなる層であることが好ましい。領域10bをこのような構成とすることにより、種々の金属調の質感を表現することが可能である。本発明において、着色層は、ZrまたはCを含んでなる無機質の層であることが、部材の耐久性に優れる点で、より好ましい。 In the present invention, region 10b may have a multilayer structure. For example, the region 10b may include a colored layer on a layer made of a metal element such as plating. The colored layer is a layer exhibiting a color in which the absolute value of at least one of ΔL*, Δa*, and Δb* on the surface of the member having the colored layer exceeds 0, compared to the surface of the member having no colored layer. The colored layer is preferably a layer containing Zr or C. By configuring the region 10b in this manner, it is possible to express various metallic textures. In the present invention, it is more preferable that the colored layer is an inorganic layer containing Zr or C, since the member has excellent durability.

表面層が有機ホスホン酸化合物からなる場合、領域10bは、Ti、Zr、CrおよびAlより選択される一以上の金属原子と酸素原子とを含む層を含んでいることが好ましい。 When the surface layer is made of an organic phosphonic acid compound, the region 10b preferably includes a layer containing oxygen atoms and one or more metal atoms selected from Ti, Zr, Cr, and Al.

部材構成の特定
本発明における部材の特定については、先ず、表面層30を構成する元素をXPS測定により特定し、疎水基Rおよび官能基Xが存在することは質量分析により確認する。また、表面層30および中間層20の厚みはXPS測定で元素の存在比を測定しながらスパッタリングすることで確認する。次に、着色層20および基材10の特定については、断面をSEM観察することでその存在および境界を識別する。上記の測定の前には表面に付着した汚れを除去するために前処理を行う。
Identification of Member Configuration To identify the member in the present invention, first, the elements constituting the surface layer 30 are identified by XPS measurement, and the presence of the hydrophobic group R and the functional group X is confirmed by mass spectrometry. Further, the thicknesses of the surface layer 30 and the intermediate layer 20 are confirmed by sputtering while measuring the abundance ratio of elements by XPS measurement. Next, to identify the colored layer 20 and the base material 10, their presence and boundaries are identified by observing the cross section with a SEM. Before the above measurements, pretreatment is performed to remove dirt adhering to the surface.

前処理
本発明において、測定前に水まわり機器の表面を洗浄し、表面に付着した汚れを十分に除去する。例えば、エタノールによる拭取り洗浄、および中性洗剤によるスポンジ摺動洗浄の後、超純水にて十分にすすぎ洗いを行う。また、表面にヘアライン加工やショットブラスト加工などが施された、表面粗さが大きな水まわり機器の場合は、測定する部位には、できるだけ平滑性の高い平面の部分を選んで測定する。平滑性の高い部分とは、粗い部分に比べて光を拡散するため、色差測定した場合に正反射成分を含まないSCE方式によるL*が5未満の点のことを指す。
Pretreatment In the present invention, the surface of the plumbing equipment is cleaned before measurement to sufficiently remove dirt adhering to the surface. For example, after wiping cleaning with ethanol and sliding cleaning with a sponge using a neutral detergent, thorough rinsing is performed with ultrapure water. In addition, in the case of plumbing equipment with a large surface roughness, such as hairline processing or shot blasting, select a flat part with the highest possible smoothness for measurement. A highly smooth part refers to a point where L* is less than 5 according to the SCE method, which does not include a specular reflection component when color difference is measured because it diffuses light more than a rough part.

表面層の特定
(1)表面層のRおよびXの認定
Identification of surface layer (1) Certification of R and X of surface layer

本発明において、表面層は以下の手順で詳細に確認する。先ず、XPS分析にて表面元素分析を行い、表面層に含まれる元素を確認する。次に、質量分析にて表面に存在する成分の分子に由来する質量電荷比(m/z)から分子構造を特定する。質量分析は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF‐SIMS)または高分解能質量分析法(HR-MS)を用いることができる。ここで高分解能質量分析法とは、質量分解能が0.0001u(u:Unified atomic mass units)又は0.0001Da未満の精度で測定可能で精密質量から元素組成が推定できるものを指す。HR-MSとしては、二重収束型質量分析法、飛行時間型タンデム質量分析法(Q-TOF-MS)、フーリエ変換型イオンサイクロトロン共鳴質量分析法(FT-ICR-MS)、オービトラップ質量分析法などが挙げられ、本発明においては飛行時間型タンデム質量分析法(Q-TOF-MS)を用いる。質量分析は、部材から十分な量のRおよびXを回収できる場合は、HR-MSを用いることが望ましい。一方、部材のサイズが小さいこと等の理由で、部材から十分な量のRおよびXが回収できない場合は、TOF‐SIMSを用いることが望ましい。質量分析を用いる場合、イオン化したRおよびXに相当するm/zのイオン強度が検出されることで、RおよびXの存在を確認できる。ここでイオン強度は、測定範囲においてイオン強度が算出されている範囲の中で最も値が低いm/zを中心に前後50Daの平均値の信号の3倍以上を有することで検出されているとみなす。 In the present invention, the surface layer is confirmed in detail by the following procedure. First, surface elemental analysis is performed using XPS analysis to confirm the elements contained in the surface layer. Next, the molecular structure is identified by mass spectrometry based on the mass-to-charge ratio (m/z) derived from the molecules of the components present on the surface. For mass spectrometry, time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) or high-resolution mass spectrometry (HR-MS) can be used. Here, high-resolution mass spectrometry refers to a method that can measure with a mass resolution of 0.0001 u (unified atomic mass units) or less than 0.0001 Da, and can estimate elemental composition from accurate mass. HR-MS includes double convergence mass spectrometry, time-of-flight tandem mass spectrometry (Q-TOF-MS), Fourier transform ion cyclotron resonance mass spectrometry (FT-ICR-MS), and orbitrap mass spectrometry. In the present invention, time-of-flight tandem mass spectrometry (Q-TOF-MS) is used. For mass spectrometry, HR-MS is preferably used if sufficient amounts of R and X can be recovered from the member. On the other hand, if a sufficient amount of R and X cannot be recovered from a member due to the small size of the member, it is desirable to use TOF-SIMS. When using mass spectrometry, the presence of R and X can be confirmed by detecting the ion intensity of m/z corresponding to ionized R and X. Here, the ion intensity is detected by having a signal that is more than three times the average value of 50 Da around the m/z that has the lowest value in the range in which the ion intensity is calculated in the measurement range. I reckon.

(2)表面層のRおよびX認定時のTOF-SIMS測定条件
飛行時間型2次イオン質量分析法(TOF-SIMS)装置には、例えば、TOF-SIMS5(ION-TOF社製)を用いる。測定条件は、照射する1次イオン:209Bi3++、1次イオン加速電圧25kV、パルス幅10.5or7.8ns、バンチングあり、帯電中和なし、後段加速9.5kV、測定範囲(面積):約500×500μm2、検出する2次イオン:Positive、Negative、Cycle Time:110μs、スキャン数16とする。測定結果として、RおよびXに由来する2次イオンマススペクトル(m/z)を得る。2次イオンマススペクトルは、横軸は質量電荷比(m/z)、縦軸は検出されたイオンの強度(カウント)として表される。
(2) TOF-SIMS measurement conditions for surface layer R and The measurement conditions were: primary ions to be irradiated: 209Bi3++, primary ion acceleration voltage 25 kV, pulse width 10.5 or 7.8 ns, bunching, no charge neutralization, post-acceleration 9.5 kV, measurement range (area): approximately 500× 500 μm2, secondary ions to be detected: Positive, Negative, Cycle Time: 110 μs, number of scans is 16. As a measurement result, a secondary ion mass spectrum (m/z) derived from R and X is obtained. The secondary ion mass spectrum is expressed as the mass-to-charge ratio (m/z) on the horizontal axis and the intensity (count) of detected ions on the vertical axis.

(3)表面層のRおよびX認定時のHR/MS測定条件
高分解能質量分析装置として飛行時間型タンデム質量分析装置(Q-TOF-MS)、例えば、Triple TOF 4600(SCIEX社製)を用いる。測定には、例えば、切り出した基材をエタノールに浸漬させ、表面層を形成するために用いた成分(RおよびX)を抽出し、不要成分をフィルターろ過後、バイアル瓶(1mL程度)に移した後に測定する。測定条件は、例えば、イオン原:ESI/Duo Spray Ion Source、イオンモード(Positive/Negative)、IS電圧(-4500V)、ソース温度(600℃)、DP(100V)、CE(40V)でのMS/MS測定を行う。測定結果として、MS/MSスペクトルを得る。MS/MSスペクトルは、横軸は質量電荷比(m/z)、縦軸は検出されたイオンの強度(カウント)として表される。
(3) HR/MS measurement conditions for surface layer R and . For the measurement, for example, the cut out base material is immersed in ethanol, the components (R and Then measure. The measurement conditions are, for example, ion source: ESI/Duo Spray Ion Source, ion mode (Positive/Negative), IS voltage (-4500V), source temperature (600°C), DP (100V), MS at CE (40V). /Perform MS measurement. An MS/MS spectrum is obtained as a measurement result. The MS/MS spectrum is expressed as the mass-to-charge ratio (m/z) on the horizontal axis and the intensity (count) of detected ions on the vertical axis.

(4)各原子濃度の測定
各試料の表面層の組成は、X線光電子分光法(XPS)により求める。測定前に、中性洗剤でスポンジ摺動後、超純水にて十分にすすぎ洗いを行った。XPS装置には、PHI QanteraII(アルバック・ファイ製)を用いることが好ましい。各元素を、下記の「XPSによる元素分率の測定条件」および「XPSスパッタ分析時の条件1」で測定することによりスペクトルを得る。
検出された原子の濃度は、得られたスペクトルから、データ解析ソフトウェアPHI MultiPuk(アルバック・ファイ製)を用いて算出する。得られたスペクトルは、測定された各原子の電子軌道に基づくピークに対してShirely法でバックグラウンドを除去した後にピーク面積強度を算出し、データ解析ソフトウェアに予め設定されている装置固有の感度係数で除算することで補正処理を行う。測定した元素種全ての補正後のピーク面積強度の合計に対する、ある元素の補正後のピーク面積の割合を対象の原子濃度と定義し、at.%単位で算出する。
(4) Measurement of each atomic concentration The composition of the surface layer of each sample is determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Before measurement, the sponge was rubbed with a neutral detergent and then thoroughly rinsed with ultrapure water. It is preferable to use PHI Qantera II (manufactured by ULVAC-PHI) as the XPS device. A spectrum is obtained by measuring each element under the following "Conditions for measuring element fraction by XPS" and "Conditions 1 for XPS sputter analysis".
The concentration of the detected atoms is calculated from the obtained spectrum using data analysis software PHI MultiPuk (manufactured by ULVAC-PHI). The obtained spectrum is calculated by calculating the peak area intensity after removing the background using the Shirely method for the peak based on the electron orbit of each measured atom, and using the device-specific sensitivity coefficient preset in the data analysis software. Correction processing is performed by dividing by . The ratio of the corrected peak area of a certain element to the sum of the corrected peak area intensities of all the measured element types is defined as the target atomic concentration, and at. Calculate in %.

XPSによる元素分率の測定条件
X線条件:単色化AlKα線、25W、15kV
分析領域:100μmφ
中和銃条件:1.0V、10μA
光電子取り出し角:45°
Time Per Step:50ms
Sweep:5回
Pass energy:112eV
分析元素(エネルギー範囲):Zr3d(177-187eV)、C1s(281-296eV)、N1s(394-406eV)、O1s(524-540eV)、Cr2p3(572-582eV)、Ti2p(452-463eV)、Si2p(98―108eV)
Measurement conditions of element fraction by XPS X-ray conditions: Monochromatic AlKα ray, 25W, 15kV
Analysis area: 100μmφ
Neutralization gun conditions: 1.0V, 10μA
Photoelectron extraction angle: 45°
Time Per Step: 50ms
Sweep: 5 times Pass energy: 112eV
Analysis elements (energy range): Zr3d (177-187eV), C1s (281-296eV), N1s (394-406eV), O1s (524-540eV), Cr2p3 (572-582eV), Ti2p (452-463eV), Si2p (98-108eV)

XPSスパッタ分析時の条件1(以下、「スパッタ条件1」という)
不活性ガス種:Ar
スパッタ電圧:500V
スパッタ範囲:2mm×2mm
スパッタ間隔:10秒
なお、スパッタ電圧とはArイオン銃に印加する電圧、スパッタ範囲とはスパッタリングにより削る表面の範囲を指す。また、スパッタサイクルとは深さ方向の一測定ごとにArガスを連続して照射した時間を指し、スパッタサイクルの総和をスパッタ時間とする。
Condition 1 for XPS sputter analysis (hereinafter referred to as "sputter condition 1")
Inert gas type: Ar
Sputter voltage: 500V
Sputtering range: 2mm x 2mm
Sputtering interval: 10 seconds Note that the sputtering voltage refers to the voltage applied to the Ar ion gun, and the sputtering range refers to the range of the surface to be scraped by sputtering. Moreover, the sputtering cycle refers to the time during which Ar gas is continuously irradiated for each measurement in the depth direction, and the sum of the sputtering cycles is the sputtering time.

(5)表面層の厚さの特定
前記表面層は、スパッタ条件1のXPS測定において、ある測定点における炭素原子濃度と、その1点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が1.0at%以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から終点までのスパッタ時間が5分以内、好適には3分以内であることを特徴とする。この時間が表面層の厚さの指標となる。
(5) Identification of the thickness of the surface layer In the XPS measurement of the surface layer under sputtering condition 1, the absolute value of the difference between the carbon atom concentration at a certain measurement point and the carbon atom concentration at the previous measurement point is determined. The point at which the concentration is 1.0 at % or less is defined as the end point of the surface layer, and the sputtering time from the start of sputtering to the end point is within 5 minutes, preferably within 3 minutes. This time becomes an indicator of the thickness of the surface layer.

好ましい表面層30の炭素原子濃度
本発明において、表面層30の炭素原子濃度は、好ましくは35at%以上であり、より好ましくは40at%以上であり、さらに好ましくは43at%以上であり、最も好ましくは45at%以上である。また、炭素原子濃度は、好ましくは70at%未満であり、より好ましくは65at%以下であり、さらに好ましくは60at%以下である。炭素原子濃度の好適な範囲はこれらの上限値と下限値とを適宜組み合わせることができる。炭素原子濃度をこのような範囲とすることにより、水垢易除去性を高めることができる。
Preferable carbon atom concentration of surface layer 30 In the present invention, the carbon atom concentration of surface layer 30 is preferably 35 at% or more, more preferably 40 at% or more, still more preferably 43 at% or more, and most preferably It is 45 at% or more. Further, the carbon atom concentration is preferably less than 70 at%, more preferably 65 at% or less, and still more preferably 60 at% or less. A suitable range for the carbon atom concentration can be determined by appropriately combining these upper and lower limits. By setting the carbon atom concentration within such a range, easy removal of scale can be improved.

好ましい表面層30のリン原子濃度
本発明において、表面層30のリン原子濃度は、好ましくは1.0at%以上10at%未満である。リン原子濃度をこの範囲とすることで、表面層30は緻密であることを示している。これによって、十分な耐水性を有し、水垢易除去性に優れた水まわり機器を得ることができる。より好ましくは、リン原子濃度は1.5at%以上10at%未満である。これによって、さらに耐水性、および水垢易除去性を高めることができる。
Preferred phosphorus atom concentration in surface layer 30 In the present invention, the phosphorus atom concentration in surface layer 30 is preferably 1.0 at% or more and less than 10 at%. Setting the phosphorus atom concentration within this range indicates that the surface layer 30 is dense. This makes it possible to obtain plumbing equipment that has sufficient water resistance and is easily removable. More preferably, the phosphorus atom concentration is 1.5 at% or more and less than 10 at%. This can further improve water resistance and ease of removing limescale.

撥水性
本発明の水まわり機器は、その表面における水滴接触角が、好ましくは90°以上であり、より好ましくは100°以上であることを指す。水滴接触角は、静的接触角を意味し、基材に2μlの水滴を滴下し、1秒後の水滴を基材側面から撮影することによって求められる。測定装置としては、例えば接触角計(型番:SDMs-401、協和界面科学株式会社製)を用いることができる。
Water repellency The water-related equipment of the present invention has a water droplet contact angle on its surface, preferably 90° or more, more preferably 100° or more. The water drop contact angle means a static contact angle, and is determined by dropping a 2 μl water drop onto a substrate and photographing the water drop from the side of the substrate 1 second later. As the measuring device, for example, a contact angle meter (model number: SDMs-401, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) can be used.

中間層の認定
本発明において、中間層の存在は、XPS深さ方向分析により認定できる。先ず、スパッタ条件1で10分間XPS測定を行い、炭素原子の検出が1点前の測定点との差が1.0at%以下となった点において、10at%以上検出される金属元素を確認する。当該元素の濃度が10分スパッタ時に3.0at%以下になった場合、当該元素の存在範囲を中間層と認定できる。当該元素の濃度が5分スパッタ時に3.0at%以下に下がらなかった場合、部材が中間層を設けていないとする。
Identification of Intermediate Layer In the present invention, the existence of an intermediate layer can be identified by XPS depth direction analysis. First, perform XPS measurement for 10 minutes under sputtering condition 1, and at the point where the difference in detection of carbon atoms from the previous measurement point is 1.0 at% or less, check for metal elements detected at 10 at% or more. . If the concentration of the element becomes 3.0 at % or less after 10 minutes of sputtering, the range in which the element exists can be recognized as an intermediate layer. If the concentration of the element does not decrease to 3.0 at % or less after 5 minutes of sputtering, it is determined that the member is not provided with an intermediate layer.

着色層および基材の認定
着色層を含んでも良い基材を断面方向に切断し、イオンミリング装置を用いて断面ミリングを行い、平滑な断面を得る。この断面に対して、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分光法(SEM/EDX)を用いて観察を行うことで、着色層および基材の識別ができる。観察領域は、着色層と基材が収まるようにSEM画像を取得する。そのSEM画像に対して、EDXによるマッピング分析を行うことで、着色層および基材の元素分布を視覚的に確認することができる。この元素分布の異なる境界面を、着色層および基材の境界面と識別する。
Qualification of colored layer and base material The base material that may include the colored layer is cut in the cross-sectional direction, and the cross-section is milled using an ion milling device to obtain a smooth cross-section. By observing this cross section using a scanning electron microscope/energy dispersive X-ray spectroscopy (SEM/EDX), the colored layer and the base material can be identified. A SEM image is acquired in the observation area so that the colored layer and the base material are included. By performing a mapping analysis using EDX on the SEM image, the element distribution of the colored layer and the base material can be visually confirmed. This boundary surface with different element distribution is identified as the boundary surface between the colored layer and the base material.

部材の用途
本発明において、水まわり機器とは、建物の給排水設備に用いられる機器であり、好ましくは、室内用の機器である。また、好ましくは、水(例えば生活用水または工業用水)が本発明の表面層にかかり、かつ当該水が乾燥し得る環境で用いられるものである。
Applications of Members In the present invention, plumbing equipment refers to equipment used in water supply and drainage equipment for buildings, preferably indoor equipment. Preferably, the surface layer of the present invention is used in an environment where water (for example, domestic water or industrial water) can come into contact with the surface layer and where the water can dry.

本発明において、水がかかり得る環境としては、住宅や、公園、商業施設、オフィスなどの公共施設などの水を用いる場所が挙げられ、そのような場所としては、好ましくは、バスルーム、トイレ空間、化粧室、洗面所、台所などが挙げられる。 In the present invention, environments that can be exposed to water include places where water is used, such as residences, public facilities such as parks, commercial facilities, and offices, and such places are preferably bathrooms and toilet spaces. , restrooms, washrooms, kitchens, etc.

本発明において、室内用の機器としては、住宅や商業施設などの公共施設で用いられ、かつ人が触れるものであり、好ましくは、バスルーム、トイレ空間、化粧室、洗面所、または台所などで用いられる機器である。本発明の、室内用の機器としては、めっきやPVDコートしたものを含む製品が挙げられる。具体的には、水栓、排水金具、止水金具、洗面器、扉、シャワーヘッド、シャワーバー、シャワーフック、シャワーホース、手すり、タオルハンガー、キッチンカウンター、キッチンシンク、排水カゴ、キッチンフード、換気扇、排水口、大便器、小便器、温水洗浄便座、温水洗浄便座の便蓋、温水洗浄便座のノズル、操作盤、操作スイッチ、操作レバー、取っ手、ドアノブなどが挙げられる。本発明の水まわり機器は、水栓、水栓金具、排水金具、止水金具、洗面器、シャワーヘッド、シャワーバー、シャワーフック、シャワーホース、手すり、タオルハンガー、キッチンカウンター、キッチンシンク、排水カゴであることが好ましい。特に、本発明の水まわり機器は、バスルームまたはトイレ空間で用いられる部材として好適に使用できる。これらの物品は、生活用水が部材表面に接触する用途に適用されるため、表面に水垢が形成されやすく、本発明の部材がこれら物品として使用されることで、本発明の効果が特に生かされ、堆積した水垢等の汚れを少ない力または少ない拭き取り回数で除去できる。 In the present invention, indoor equipment is equipment that is used in public facilities such as residences and commercial facilities and that is touched by people, preferably in bathrooms, toilet spaces, restrooms, washrooms, or kitchens. This is the equipment used. Examples of the indoor equipment of the present invention include products that are plated or coated with PVD. Specifically, faucets, drain fittings, water stop fittings, basins, doors, shower heads, shower bars, shower hooks, shower hoses, handrails, towel hangers, kitchen counters, kitchen sinks, drain baskets, kitchen hoods, and ventilation fans. Examples include drains, toilet bowls, urinals, warm water flush toilet seats, warm water flush toilet seats, toilet lids, warm water flush toilet seat nozzles, operation panels, operation switches, operation levers, handles, doorknobs, etc. The plumbing equipment of the present invention includes faucets, faucet fittings, drain fittings, water stop fittings, basins, shower heads, shower bars, shower hooks, shower hoses, handrails, towel hangers, kitchen counters, kitchen sinks, and drainage baskets. It is preferable that In particular, the plumbing equipment of the present invention can be suitably used as a member used in a bathroom or toilet space. Since these products are used in applications where domestic water comes into contact with the surface of the components, water scales are likely to form on the surfaces, and by using the components of the present invention as these products, the effects of the present invention can be particularly utilized. , dirt such as accumulated limescale can be removed with less force or fewer times of wiping.

また、本発明の水まわり機器は、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材の上面または側面として、その表面が適用される。これら部材の面または側面は、最も質感が重視される部位であり、清掃頻度が高い部位である。さらに、例えば、水栓のように、ハンドル等の操作部が含まれる部位であるため、使用者が最も手に触れる部位でもある。このため、本発明の表面層が当該部位に適用されることで、本発明の効果が最も生かされる。 Moreover, the surface of the plumbing equipment of the present invention is applied as the upper surface or side surface of a member constituting a toilet or a member constituting a bathroom. The surfaces or side surfaces of these members are the parts where the texture is most important and are the parts that are frequently cleaned. Furthermore, since it is a part of a water faucet that includes an operating part such as a handle, it is also the part that the user touches most. Therefore, the effects of the present invention can be maximized by applying the surface layer of the present invention to the relevant region.

本発明の効果が大きい部分として、例えば、水栓であれば図2の矢印部に示すような壁付シングルレバー水栓の上面および正面の部位が当てはまる。具体的には、スパウトの上面、本体の側面、または、レバーハンドルの上面などが含まれる。このような部位は水栓の表面の質感や清潔性が重視される部位であるため、清掃時に摺動負荷が高い。このような部位に本発明で示す表面層を設けることで、優れた清掃性を長期間維持することができ、部材の初期の外観を保つことができる。 The areas where the present invention is most effective include, for example, the top and front portions of a wall-mounted single-lever faucet as shown by the arrow in FIG. 2. Specifically, the top surface of the spout, the side surface of the main body, the top surface of the lever handle, etc. are included. Since these areas are areas where the texture and cleanliness of the faucet's surface are important, the sliding load during cleaning is high. By providing the surface layer shown in the present invention in such areas, excellent cleanability can be maintained for a long period of time, and the initial appearance of the member can be maintained.

以下の実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The invention will be explained in further detail by the following examples. Note that the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
黄銅板にニッケルめっきを施した後に、クロムめっきして、基材を作製した。
次いで、炭化水素基を備えてなる表面層を以下の手順により形成した。
先ず、基材の表面に存在する汚れを除去するために、アルカリ性洗剤入りの水溶液で超音波洗浄し、その後、基材表面を流水に当てて洗剤を除去した。さらに、イオン交換水に浸漬し、超音波洗浄によるすすぎ洗いをした後、エアーダスターで水分を除去した。
次に、基材を2.5M水酸化ナトリウム水溶液に50℃・5分間浸漬したのち、イオン交換水にて十分にすすぎ洗いを行った。
表面層を形成するための処理剤として、オクタデシルホスホン酸(ODPA)(製品コード:O0371、東京化成工業製)をエタノール(富士フイルム和光純薬製、和光一級)に溶解させた溶液を用いた。基材を処理剤の中に1分以上浸漬し、エタノールにて掛け洗い洗浄した。その後、乾燥機にて120℃で10分間乾燥させ、基材表面に有機層を形成させた。こうして、実施例1の部材を作製した。
Example 1
A brass plate was nickel-plated and then chromium-plated to prepare a substrate.
Next, a surface layer having a hydrocarbon group was formed by the following procedure.
First, in order to remove dirt present on the surface of the substrate, the substrate was ultrasonically cleaned with an aqueous solution containing an alkaline detergent, and then the substrate surface was exposed to running water to remove the detergent.Furthermore, the substrate was immersed in ion-exchanged water, and rinsed by ultrasonic cleaning, and then the moisture was removed with an air duster.
Next, the substrate was immersed in a 2.5 M aqueous sodium hydroxide solution at 50° C. for 5 minutes, and then thoroughly rinsed with ion-exchanged water.
A solution of octadecylphosphonic acid (ODPA) (product code: O0371, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in ethanol (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Wako First Grade) was used as the treatment agent for forming the surface layer. The substrate was immersed in the treatment agent for at least one minute, and then washed with ethanol. It was then dried in a dryer at 120°C for 10 minutes to form an organic layer on the substrate surface. In this way, the member of Example 1 was produced.

比較例2)
黄銅板にニッケルめっきを施した後に、クロムめっきして、基材を作製した。
次いで、フッ化炭素基を備えてなる表面層を以下の手順により形成した。
先ず、基材の表面に存在する汚れを除去するために、アルカリ性洗剤入りの水溶液で超音波洗浄し、その後、基材表面を流水に当てて洗剤を除去した。さらに、イオン交換水に浸漬し、超音波洗浄によるすすぎ洗いをした後、エアーダスターで水分を除去した。
次に、基材へ紫外光(波長:254nm、照射強度:15mW/cm程度)を10分間照射した。
その後、シリコーン系プライマー(製品名:KBM403、信越化学製)をイソプロピルアルコール(富士フイルム和光純薬製)に溶解させた溶液を、不織布(製品名:ベンコットM3-II、旭化成製)に浸み込ませ、基材全体に塗り広げたのち、10分間自然乾燥させて中間層を形成した。
表面層を形成するための処理剤として、フッ化アルキル基を含有するコーティング剤(製品名:SURECO2101S、AGC製)を用いた。この処理剤を不織布(製品名:ベンコットM3-II、旭化成製)に浸み込ませ、基材全体に塗り広げたのち、乾燥機にて120℃で30分間乾燥させた。
こうして、比較例2の部材を作製した。
( Comparative example 2)
A base material was prepared by nickel plating a brass plate and then chromium plating.
Next, a surface layer comprising fluorocarbon groups was formed by the following procedure.
First, in order to remove dirt present on the surface of the base material, ultrasonic cleaning was performed using an aqueous solution containing an alkaline detergent, and then the detergent was removed by exposing the surface of the base material to running water. Furthermore, after immersing in ion-exchanged water and rinsing with ultrasonic cleaning, moisture was removed with an air duster.
Next, the substrate was irradiated with ultraviolet light (wavelength: 254 nm, irradiation intensity: about 15 mW/cm 2 ) for 10 minutes.
Then, a solution of a silicone primer (product name: KBM403, manufactured by Shin-Etsu Chemical) dissolved in isopropyl alcohol (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries) was soaked into the nonwoven fabric (product name: Bencot M3-II, manufactured by Asahi Kasei). After spreading it over the entire base material, it was air-dried for 10 minutes to form an intermediate layer.
As a treatment agent for forming the surface layer, a coating agent containing a fluorinated alkyl group (product name: SURECO2101S, manufactured by AGC) was used. This treatment agent was impregnated into a nonwoven fabric (product name: Bemcot M3-II, manufactured by Asahi Kasei), spread over the entire substrate, and then dried in a dryer at 120° C. for 30 minutes.
In this way, a member of Comparative Example 2 was produced.

(実施例3)
図2の壁付シングルレバー水栓(品番:TKS05315J、TOTO製)の上面に実施例1と同様の手順で表面層を形成し、実施例3の部材を作製した。
(Example 3)
A surface layer was formed on the top surface of the wall-mounted single-lever faucet (product number: TKS05315J, manufactured by TOTO) in FIG. 2 in the same manner as in Example 1 to produce the member of Example 3.

(比較例1)
黄銅板にニッケルめっきを施した後に、クロムめっきして、基材を作製した。
次いで、フッ化炭素基を備えてなる表面層を以下の手順により形成した。
先ず、基材の表面に存在する汚れを除去するために、アルカリ性洗剤入りの水溶液で超音波洗浄し、その後、基材表面を流水に当てて洗剤を除去した。さらに、イオン交換水に浸漬し、超音波洗浄によるすすぎ洗いをした後、エアーダスターで水分を除去した。
次に、基材へ紫外光(波長:254nm、照射強度:15mW/cm2程度)を10分間照射した。
その後、シリコーン系プライマー(製品名:KBM403、信越化学製)をイソプロピルアルコール(富士フイルム和光純薬製)に溶解させた溶液を、不織布(製品名:ベンコットM3-II、旭化成製)に浸み込ませ、基材全体に塗り広げた後、120℃で5分間加熱乾燥させた。さらに、前記プライマーの溶液の塗布および乾燥を2回繰り返して中間層を形成した。
表面層を形成するための処理剤として、フッ化アルキル基を含有するコーティング剤(製品名:SURECO2101S、AGC製)を用いた。この処理剤を不織布(製品名:ベンコットM3-II、旭化成製)に浸み込ませ、基材全体に塗り広げたのち、乾燥機にて120℃で30分間乾燥させた。
こうして、比較例1の部材を作製した。
(Comparative example 1)
A base material was prepared by nickel plating a brass plate and then chromium plating.
Next, a surface layer comprising fluorocarbon groups was formed by the following procedure.
First, in order to remove dirt present on the surface of the base material, ultrasonic cleaning was performed using an aqueous solution containing an alkaline detergent, and then the detergent was removed by exposing the surface of the base material to running water. Furthermore, after immersing in ion-exchanged water and rinsing with ultrasonic cleaning, moisture was removed with an air duster.
Next, the substrate was irradiated with ultraviolet light (wavelength: 254 nm, irradiation intensity: about 15 mW/cm2) for 10 minutes.
Then, a solution of a silicone primer (product name: KBM403, manufactured by Shin-Etsu Chemical) dissolved in isopropyl alcohol (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries) was soaked into the nonwoven fabric (product name: Bencot M3-II, manufactured by Asahi Kasei). After applying and spreading it over the entire substrate, it was heated and dried at 120° C. for 5 minutes. Further, the application and drying of the primer solution was repeated twice to form an intermediate layer.
As a treatment agent for forming the surface layer, a coating agent containing a fluorinated alkyl group (product name: SURECO2101S, manufactured by AGC) was used. This treatment agent was impregnated into a nonwoven fabric (product name: Bemcot M3-II, manufactured by Asahi Kasei), spread over the entire substrate, and then dried in a dryer at 120° C. for 30 minutes.
In this way, the member of Comparative Example 1 was produced.

上記のとおり作製した各部材を試料に供して、以下の試験を行った。 Each member produced as described above was used as a sample, and the following tests were conducted.

各原子濃度の測定
前記「スパッタ条件1」でのXPS測定において、炭素原子の検出が1点前の測定点との差が1.0at%以下となった点を表面層の終点とし、その1点前までのスパッタ時間を表1に記載した。
Measurement of each atomic concentration In the XPS measurement under the above "sputtering condition 1", the point where the difference in the detection of carbon atoms from the previous measurement point became 1.0 at % or less was determined as the end point of the surface layer, and the sputtering time up to that point is shown in Table 1.

水垢の除去性試験
乾燥炉中で50℃に加熱した各試料の表面に、水道水を200μl滴下し、液体が乾燥するまで放置した。この操作を1サイクルとした。同一の操作を再び行い、すなわち1サイクル後に形成された水垢の上にさらに水道水を滴下し、乾燥させ、2サイクル分の水垢を形成した。さらに同一の操作を繰り返し行い3サイクル、5サイクル分の水垢を作製した。水垢が形成された試料を以下の手順で評価した。
Limescale removability test 200 μl of tap water was dropped onto the surface of each sample heated to 50° C. in a drying oven and left until the liquid was dry. This operation was defined as one cycle. The same operation was repeated, that is, more tap water was dropped onto the limescale formed after one cycle, and it was dried to form limescale for two cycles. Furthermore, the same operation was repeated to produce water scales for 3 and 5 cycles. The samples on which water scale was formed were evaluated according to the following procedure.

(i)乾いた布を用いて、試料の表面に対して軽い荷重(80gf/cm2)を掛けながら、5回往復摺動させた。
(ii)水垢の除去を確認出来れば試験を終了する。水垢の残りが存在する場合は(i)を繰り返した。
水垢除去の可否は、試料の表面を流水で洗い流し、エアーダスターで水分を除去した後、試料の表面に水垢が残存しているかを目視で判断した。
(i) Using a dry cloth, the surface of the sample was slid back and forth 5 times while applying a light load (80 gf/cm2).
(ii) If removal of limescale can be confirmed, the test is terminated. If limescale residue was present, repeat (i).
The ability to remove limescale was determined by rinsing the surface of the sample with running water, removing water with an air duster, and visually determining whether limescale remained on the surface of the sample.

(i)、(ii)の手順により水垢の除去に要した摺動回数に基づき、水垢除去性能を以下のとおり評価した。
5回で除去できたとき 3点
10回で除去できたとき 2点
15回で除去できたとき 1点
15回で除去できなかったとき 0点
評価結果を表1に記載した。
The scale removal performance was evaluated as follows based on the number of sliding movements required to remove scale by the steps (i) and (ii).
3 points if removed in 5 times 2 points if removed in 10 times 1 point if removed in 15 times 0 point if not removed in 15 times The evaluation results are listed in Table 1.

皮脂汚れの除去性
表2に記載された皮脂汚れ溶液を、ウエスにてガラス表面に薄く塗布した。1cmに切断したウレタンスポンジ(3M製)に、ガラス上の皮脂汚れ溶液を写し取り、試料表面にスタンプすることで、皮脂汚れを付着させた。
(i)湿らせた布を用いて、試料の表面に対して軽い荷重(50gf/cm)を掛けながら、5回往復摺動させた。
(i)の工程で除去できたものを『〇』とし、(i)の工程で除去できなかったものを『×』とした。なお、皮脂汚れ除去の可否は、目視で判断した。評価結果を、皮脂汚れ除去性・初期、として、表1に示す。
Removal of sebum stains The sebum stain solutions listed in Table 2 were applied thinly to the glass surface using a rag. The sebum stain solution on the glass was transferred onto a urethane sponge (manufactured by 3M) cut into 1 cm 3 pieces and stamped on the surface of the sample to attach the sebum stain.
(i) Using a damp cloth, the surface of the sample was slid back and forth 5 times while applying a light load (50 gf/cm 2 ).
Items that could be removed in step (i) were marked as "○", and items that could not be removed in step (i) were marked as "x". Note that whether or not sebum stains could be removed was determined visually. The evaluation results are shown in Table 1 as sebum stain removability/initial stage.

水接触角測定
測定前に中性洗剤を用いて各試料をウレタンスポンジで擦り洗いし、超純水で十分にすすぎを行った。各試料の水滴接触角測定には、接触角計(型番:SDMs-401、協和界面科学株式会社製)を用いた。測定用の水は超純水を用い、滴下する水滴サイズは2μlとした。接触角は、いわゆる静的接触角であり、水を滴下してから1秒後の値とし、異なる5か所を測定した平均値を求めた。ただし、5カ所の中に異常値が現れた場合は、異常値を除いて平均値を算出した。測定結果を、水接触角・初期、として、表1に示す。
Water Contact Angle Measurement Before measurement, each sample was scrubbed with a urethane sponge using a neutral detergent and thoroughly rinsed with ultrapure water. A contact angle meter (model number: SDMs-401, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used to measure the water droplet contact angle of each sample. Ultrapure water was used for measurement, and the size of the dropped water droplet was 2 μl. The contact angle is a so-called static contact angle, and the value was taken 1 second after dropping water, and the average value of measurements taken at five different locations was calculated. However, if an abnormal value appeared among the five locations, the average value was calculated by excluding the abnormal value. The measurement results are shown in Table 1 as water contact angle/initial.

耐水試験
各試料を70℃温水に120時間浸漬させた後、試料の表面を流水で洗い流し、エアーダスターで水分を除去した。耐水試験後の各試料について、1サイクル分の水垢を形成した後の水垢汚れの除去性を評価した。評価結果を、水垢の除去性・耐水試験後、として、表1に示す。また、耐水試験後の試料の表面を目視で観察した。温水に浸漬した後で異常が認められたものを「×」とした。また、温水に浸漬した後で異常が認められなかったものを「○」とした。結果を表1に示す。
Water Resistance Test After each sample was immersed in 70°C hot water for 120 hours, the surface of the sample was rinsed with running water, and moisture was removed using an air duster. For each sample after the water resistance test, the removability of limescale stains after one cycle of limescale was formed was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1 as after the scale removability/water resistance test. In addition, the surface of the sample after the water resistance test was visually observed. Items in which abnormalities were observed after being immersed in hot water were rated "×". Moreover, those in which no abnormality was observed after being immersed in warm water were rated "○". The results are shown in Table 1.

耐摺動試験
各試料表面を、メラミンスポンジを用いて、メラミンスポンジに水を含ませた状態で、試料面に対して荷重(200gf/cm)をかけながら、3000往復摺動させた。摺動後、試料表面を流水で洗い流し、エアーダスターで水分を除去した。摺動後の各試料について、水接触角測定、および皮脂汚れの除去性を評価した。評価結果を、水接触角・耐摺動試験後、および皮脂汚れ除去性・耐摺動試験後、として、表1に示す。
Sliding Resistance Test The surface of each sample was slid 3000 times using a melamine sponge, with the melamine sponge soaked in water, while applying a load (200 gf/cm 2 ) to the sample surface. After sliding, the sample surface was rinsed with running water and moisture was removed with an air duster. After sliding, each sample was evaluated for water contact angle measurement and sebum stain removability. The evaluation results are shown in Table 1 after the water contact angle/sliding resistance test and after the sebum stain removability/sliding resistance test.

耐水試験2_外観の評価
各試料1~22を90℃の温水に1時間浸漬させた後、試料を取り出し、直ちにエアーダスターで試料に付着している温水を除去した。温水を除去した試料を室内に放置して室温まで冷却した後、試料の表面を目視で観察した。温水に浸漬した後で異常が認められたものを「×」とした。また、温水に浸漬した後で異常が認められなかったものを「○」とした。結果を表1に示す。
Water Resistance Test 2_Evaluation of Appearance After each sample 1 to 22 was immersed in warm water at 90° C. for 1 hour, the sample was taken out and the hot water adhering to the sample was immediately removed with an air duster. After removing the hot water, the sample was left indoors and cooled to room temperature, and then the surface of the sample was visually observed. Items in which abnormalities were observed after being immersed in warm water were rated "×". Moreover, those in which no abnormality was observed after being immersed in warm water were rated "○". The results are shown in Table 1.



10 基材、10a 基材10の一領域、10b 基材10の他の一領域、20 中間層30 表面層 Reference Signs List 10 base material, 10a one region of base material 10, 10b another region of base material 10, 20 intermediate layer 30 surface layer

Claims (3)

基材と、当該基材上にある表面層とを含んでなり、
前記基材は、少なくともその一部が金属からなり、当該金属からなる部分の上に前記表面層を備えており、
前記表面層は、ハロゲン原子を含有しない疎水基Rと、金属原子に対し配位性を有する官能基Xとを含み、
前記表面層は、撥水性であり、かつ、下記「XPSによる元素分率の測定条件」および「スパッタ条件1」の各条件で測定されたXPS深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その1点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が1.0at%以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から前記終点までのスパッタ時間が5分以内であり、
水栓、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材として用いられる水まわり機器であって、
前記水栓、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材の上面または正面として、その表面が適用される、水まわり機器。

XPSによる元素分率の測定条件
X線条件:単色化AlKα線、25W、15kV
分析領域:100μmφ
中和銃条件:1.0V、10μA
光電子取り出し角:45°
Time Per Step:50ms
Sweep:5回
Pass energy:112eV
分析元素(エネルギー範囲):Zr3d(177-187eV)、C1s(281-296eV)、N1s(394-406eV)、O1s(524-540eV)、Cr2p3(572-582eV)、Ti2p(452-463eV)、Si2p(98―108eV)

スパッタ条件1
不活性ガス種:Ar
スパッタ電圧:500V
スパッタ範囲:2mm×2mm
スパッタ間隔:10秒
comprising a substrate and a surface layer on the substrate,
The base material has at least a part made of metal, and the surface layer is provided on the part made of the metal,
The surface layer includes a hydrophobic group R that does not contain a halogen atom, and a functional group X that has coordinating properties with respect to a metal atom,
The surface layer is water repellent and has a certain measurement point in the profile obtained by XPS depth direction analysis measured under the following conditions of "Measurement conditions of element fraction by XPS" and "Sputtering conditions 1". The point where the absolute value of the difference between the carbon atom concentration at and the carbon atom concentration at the previous measurement point is 1.0 at% or less is the end point of the surface layer, and the sputtering time from the start of sputtering to the end point is within 5 minutes,
Plumbing equipment used as faucets, components of toilets, or components of bathrooms,
Plumbing equipment, the surface of which is applied as the top or front surface of the faucet, a member constituting a toilet, or a member constituting a bathroom .

Conditions for measuring elemental fractions by XPS
X-ray conditions: monochromatic AlKα ray, 25W, 15kV
Analysis area: 100μmφ
Neutralization gun conditions: 1.0V, 10μA
Photoelectron extraction angle: 45°
Time Per Step: 50ms
Sweep: 5 times
Pass energy: 112eV
Analysis elements (energy range): Zr3d (177-187eV), C1s (281-296eV), N1s (394-406eV), O1s (524-540eV), Cr2p3 (572-582eV), Ti2p (452-463eV), Si2p (98-108eV)

Sputtering conditions 1
Inert gas type: Ar
Sputter voltage: 500V
Sputtering range: 2mm x 2mm
Sputter interval: 10 seconds
前記表面層は非高分子の有機配位子R-Xが官能基Xを介して下地の表面と結合したものである、請求項1に記載の水まわり機器。 2. The plumbing equipment according to claim 1, wherein the surface layer has a non-polymer organic ligand RX bonded to the underlying surface via a functional group X. 前記官能基Xは、ホスホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基から選ばれる少なくとも1種である、請求項2に記載の水まわり機器。 The plumbing equipment according to claim 2, wherein the functional group X is at least one selected from a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, and a phosphinic acid group.
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