JP7451954B2 - Laminate and press molding method - Google Patents

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Description

本発明は、プリント配線板、電気・電子製品に組み込まれるIC、半導体、受動部品等のディスプレー・タッチパネル関連製品部材やLED照明製品部材等において、プレス成形に利用するための各種離型材、緩衝材(以下「離型材等」という)として好適に使用できる積層体に関する。 The present invention relates to various mold release materials and cushioning materials for use in press molding in printed wiring boards, ICs, semiconductors, passive components, and other display/touch panel related product components and LED lighting product components that are incorporated into electrical and electronic products. (hereinafter referred to as "mold release material etc.").

シリコーンゴムに代表されるシリコーン樹脂は、耐熱性や電気的性質に優れていることから、離型材等の用途に使用されている。 Silicone resins, represented by silicone rubber, have excellent heat resistance and electrical properties, and are therefore used for applications such as mold release materials.

しかしながら、シリコーンゴム単体からなるシートをそのままプレス成形の離型材等として使用しようとすると、ゴム製品であるがために変形を生じ、組みつけ寸法精度が悪くなったり、しわが生じたりして、作業性に問題があった。 However, if you try to use a sheet made of silicone rubber as it is as a mold release material for press molding, because it is a rubber product, it will deform, the assembly dimensional accuracy will deteriorate, wrinkles will occur, and the work will be difficult. There was a problem with sexuality.

そこで、上記の問題点を解消できるシリコーンゴム複合体として、特許文献1では、結晶性ポリエステル樹脂を主体とするシートあるいはフィルムの少なくとも片面に、下塗り層と下塗り層に対して親和性が高く、かつシリコーン樹脂を含有する薄膜層を順に形成し、特定の硬度を有するシリコーンエラストマー樹脂からなるシリコーンゴム層を形成し、上記シートあるいはフィルムとシリコーンゴム層が一体化してなるシリコーンゴム複合体が提案されている。この複合体は、通常、重ねて段積み保管され、プレス成形等の使用の際に上から1枚ずつ取り出され、プレス成形用の金型に設置される。 Therefore, as a silicone rubber composite that can solve the above problems, Patent Document 1 discloses that at least one side of a sheet or film mainly made of crystalline polyester resin has an undercoat layer and a high affinity for the undercoat layer, and A silicone rubber composite has been proposed in which thin film layers containing silicone resin are sequentially formed, a silicone rubber layer made of a silicone elastomer resin having a specific hardness is formed, and the sheet or film and the silicone rubber layer are integrated. There is. These composites are usually stored in stacks, and when used for press molding or the like, they are taken out one by one from the top and placed in a mold for press molding.

特開平11-20082号公報Japanese Patent Application Publication No. 11-20082

しかし、特許文献1のシリコーン複合体のように、弾性率の低い樹脂、すなわちゴム弾性を有する樹脂と弾性率の高い樹脂とを積層すると、条件によっては以下の問題が発生する場合あり、作業性が不十分であることが本発明者らの検討で明らかとなった。
・段積みされたシリコーン複合体使用の際に上から取り出そうとすると、段積みされた下の複合体がくっついてしまい一度に複数枚取り出されてしまう。
・静電吸着力により積層体同士が付着しはがれ難く、取扱いにくい。
・プレス成形後金型やプレス板を開いて製品を取り出す際に、シリコーン複合体が金型・プレス板側に付着したままとなる。
また上記の問題は、弾性率の高い樹脂と低い樹脂間の比誘電率差が大きいほど顕著であることも、本発明者等の検討で明らかとなった。
However, when laminating a resin with a low elastic modulus, that is, a resin with rubber elasticity and a resin with a high elastic modulus, as in the silicone composite of Patent Document 1, the following problems may occur depending on the conditions, and the workability may be reduced. The inventors' studies have revealed that this is insufficient.
- When using stacked silicone composites, if you try to take them out from the top, the lower stacked composites will stick together and you will have to take out multiple pieces at once.
・Due to electrostatic attraction, the laminates adhere to each other and are difficult to peel off, making them difficult to handle.
・When opening the mold or press plate to take out the product after press molding, the silicone composite remains attached to the mold or press plate.
In addition, studies conducted by the present inventors have revealed that the above-mentioned problem becomes more pronounced as the difference in dielectric constant between a resin with a high modulus of elasticity and a resin with a low modulus of elasticity increases.

本発明者等は、上記した課題を解決すべく鋭意検討したところ、弾性率の異なる層を含む樹脂積層体において、弾性率の高い方の層の表面粗さを特定の範囲にすることにより、使用の際に複数枚取り出される問題や金型・プレス板への付着の問題が改善できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and found that in a resin laminate including layers with different elastic moduli, by setting the surface roughness of the layer with a higher elastic modulus within a specific range, It was discovered that the problem of multiple sheets being taken out during use and the problem of adhesion to molds and press plates could be improved, and the present invention was completed.

即ち、本発明は以下の[1]~[14]を要旨とする。 That is, the gist of the present invention is the following [1] to [14].

[1] 23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)を主成分とする層(A)と23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)を主成分とする層(B)とを含む積層体であって、該層(A)の少なくとも一方の面の表面の粗さが以下の(i)、(ii)のいずれか又は両方の要件を満たすことを特徴とする積層体。
(i)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(ii)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
[1] A layer (A) whose main component is a resin (a) whose storage modulus at 23°C is 1000 MPa or more, and a layer (b) whose main component is a resin (b) whose storage modulus at 23°C is 100 MPa or less ( B), characterized in that the surface roughness of at least one side of the layer (A) satisfies either or both of the following requirements (i) and (ii): laminate.
(i) 10-point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (ii) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more

[2] 前記層(A)の少なくとも一方の面の表面の最大高さ粗さ(Ry)が0.3μm以上である、[1]に記載の積層体。 [2] The laminate according to [1], wherein the maximum height roughness (Ry) of at least one surface of the layer (A) is 0.3 μm or more.

[3] 前記層(A)の少なくとも一方の面の表面の凹凸の平均間隔(Sm)が90μm以下である、[1]又は[2]に記載の積層体。 [3] The laminate according to [1] or [2], wherein the average spacing (Sm) of the irregularities on the surface of at least one side of the layer (A) is 90 μm or less.

[4] 前記層(B)の少なくとも一方の面の表面の粗さが以下の(iii)、(iv)のいずれか又は両方の要件を満たす、[1]~[3]のいずれかに記載の積層体。
(iii)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(iv)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
[4] The surface roughness of at least one side of the layer (B) satisfies either or both of the following requirements (iii) and (iv), according to any one of [1] to [3]. laminate.
(iii) Ten point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (iv) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more

[5] 前記層(B)の少なくとも一方の面の表面の最大高さ粗さ(Ry)が0.4μm以上である、[1]~[4]のいずれかに記載の積層体。 [5] The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the maximum height roughness (Ry) of at least one surface of the layer (B) is 0.4 μm or more.

[6] 前記層(B)の少なくとも一方の面の表面の凹凸の平均間隔(Sm)が70μm以下である、[1]~[5]のいずれかに記載の積層体。 [6] The laminate according to any one of [1] to [5], wherein the average spacing (Sm) of the irregularities on the surface of at least one side of the layer (B) is 70 μm or less.

[7] 一方の積層体の前記層(A)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との静止摩擦係数が2.1以下である、[1]~[6]のいずれかに記載の積層体。 [7] The coefficient of static friction between the layer (A) side surface of one laminate and the layer (B) side surface of the other laminate is 2.1 or less, [1] to [6] The laminate according to any of the above.

[8] 一方の積層体の前記層(A)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との動摩擦係数が1.8以下である、[1]~[7]のいずれかに記載の積層体。 [8] The coefficient of dynamic friction between the layer (A) side surface of one laminate and the layer (B) side surface of the other laminate is 1.8 or less, [1] to [7]. The laminate according to any one of the above.

[9] 前記層(A)と前記層(B)との比誘電率差が0.15以上である、[1]~[8]のいずれかに記載の積層体。 [9] The laminate according to any one of [1] to [8], wherein the dielectric constant difference between the layer (A) and the layer (B) is 0.15 or more.

[10] 前記樹脂(a)がポリエステル樹脂である、[1]~[9]のいずれかに記載の積層体。 [10] The laminate according to any one of [1] to [9], wherein the resin (a) is a polyester resin.

[11] 前記樹脂(b)がシリコーン樹脂である、[1]~[10]のいずれかに記載の積層体。 [11] The laminate according to any one of [1] to [10], wherein the resin (b) is a silicone resin.

[12] 前記樹脂(a)がポリエチレンテレフタレート樹脂である、[1]~[11]のいずれかに記載の積層体。 [12] The laminate according to any one of [1] to [11], wherein the resin (a) is a polyethylene terephthalate resin.

プレス成形に用いる、[1]~[12]のいずれかに記載の積層体。 The laminate according to any one of [1] to [12], which is used for press molding.

[14] [1]~[13]のいずれかに記載の積層体を用いたプレス成形法であって、前記層(B)側が成形体側となるように該積層体と該積層体の間に成形体を配置することを特徴とするプレス成形法。 [14] A press molding method using the laminate according to any one of [1] to [13], wherein the layer (B) is placed between the laminate and the laminate so that the layer (B) side is the molded product side. A press molding method characterized by arranging a molded body.

本発明によれば、積層体同士が付着しにくく、取扱い性に優れた積層体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminate that is difficult to adhere to each other and has excellent handling properties.

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本発明において「主成分」とは、対象の層中に最も多く含まれている成分をさし、好ましくは対象の層中の50質量%以上であり、より好ましくは70質量%以上であり、さらに好ましくは80質量%であり、特に好ましくは90質量%以上である。
本発明において、「X~Y」(X,Yは任意の数字)と表現した場合、特に断らない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」及び「好ましくはYより小さい」の意を包含するものとする。
The present invention will be explained in detail below.
In the present invention, the term "main component" refers to the component that is most present in the target layer, preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more in the target layer. The content is more preferably 80% by mass, particularly preferably 90% by mass or more.
In the present invention, when expressed as "X to Y" (X, Y are arbitrary numbers), unless otherwise specified, it means "more than or equal to X and less than or equal to Y", and also means "preferably greater than It shall include the meaning of "small".

また、本発明において、「X以上」(Xは任意の数字)と表現した場合、特に断らない限り、「好ましくはXより大きい」の意を包含し、「Y以下」(Yは任意の数字)と表現した場合、特に断らない限り、「好ましくはYより小さい」の意を包含するものとする。 In addition, in the present invention, when expressed as "more than or equal to X" (X is any number), unless otherwise specified, it includes the meaning of "preferably greater than X" and "less than or equal to Y" (where Y is any number). ) shall include the meaning of "preferably smaller than Y" unless otherwise specified.

本発明における貯蔵弾性率とは、シート状の試験サンプルを用い、JIS K7244-4:1999に準じて、温度範囲-100~250℃、昇温速度3℃/分、振動周波数1Hz、歪み0.1%、チャック間距離25mm、引張法の条件で測定した際の23℃における貯蔵弾性率をいう。 The storage modulus in the present invention is measured using a sheet-shaped test sample in accordance with JIS K7244-4:1999 at a temperature range of -100 to 250°C, a heating rate of 3°C/min, a vibration frequency of 1Hz, and a strain of 0. 1%, distance between chucks 25 mm, and storage elastic modulus at 23° C. when measured under the conditions of the tensile method.

本発明における10点平均粗さ(Rz)、算術平均粗さ(Ra)、最大高さ粗さ(Ry)、凹凸の平均間隔(Sm)は、旧JIS B0601:1994に準拠し、接触式粗さ計で測定される値をいう。 The 10-point average roughness (Rz), arithmetic average roughness (Ra), maximum height roughness (Ry), and average spacing of unevenness (Sm) in the present invention are based on the old JIS B0601:1994, and the contact roughness This refers to the value measured with a meter.

本発明における静止摩擦係数及び動摩擦係数は、JIS K7125:1999を参照し、後述の実施例に記載の方法で測定される値をいう。 The static friction coefficient and dynamic friction coefficient in the present invention refer to values measured by the method described in the Examples below with reference to JIS K7125:1999.

本発明における表面抵抗率とは、JIS K6911:2006(5.13)に準拠して測定される値をいう。 The surface resistivity in the present invention refers to a value measured in accordance with JIS K6911:2006 (5.13).

本発明における比誘電率とは、JIS C2138:2007に準じて、20℃、相対湿度65%、印加電圧1V、周波数1MHzの条件で測定される値をいう。 The relative dielectric constant in the present invention refers to a value measured at 20° C., relative humidity 65%, applied voltage 1 V, and frequency 1 MHz according to JIS C2138:2007.

本発明の積層体は、23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)を主成分とする層(A)と23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)を主成分とする層(B)とを含む積層体であって、該層(A)の少なくとも一方の面の表面の粗さが以下の(i)、(ii)のいずれか又は両方の要件を満たすものである。
(i)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(ii)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
The laminate of the present invention has a layer (A) mainly composed of a resin (a) having a storage modulus of 1000 MPa or more at 23°C, and a layer (b) mainly comprising a resin (b) having a storage modulus of 100 MPa or less at 23°C. A laminate comprising a layer (B), in which the surface roughness of at least one side of the layer (A) satisfies either or both of the following requirements (i) and (ii): It is.
(i) 10-point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (ii) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more

<層(A)>
層(A)は、23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)を主成分とする層である。樹脂(a)の貯蔵弾性率は、プレス成形時、離型材として使用する際の積層体変形抑制等のハンドリング性や寸法精度を向上させる観点から、好ましくは2000MPa以上であり、より好ましくは3000MPa、さらに好ましくは4000MPa以上である。また、好ましくは10000MPa以下であり、より好ましくは8500MPa以下、さらに好ましくは7000MPa以下、特に好ましくは6000MPa以下である。
23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上の樹脂(a)としては特に限定されるものではなく、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアリールエーテルケトン系樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられるが、耐熱性や機械的強度の観点からポリエステル樹脂であることが好ましく、結晶性のポリエステル樹脂であることがより好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等が挙げられる。中でも、耐熱性、フィルムのこし、平滑性、商業的入手のしやすさ等に加え、後述するシリコーン樹脂層、特にシリコーンエラストマー樹脂層との接着性の観点から、ポリエチレンテレフタレート樹脂であることが特に好ましい。
<Layer (A)>
Layer (A) is a layer mainly composed of resin (a) having a storage modulus of 1000 MPa or more at 23°C. The storage modulus of the resin (a) is preferably 2000 MPa or more, more preferably 3000 MPa or more, from the viewpoint of improving handling properties and dimensional accuracy such as suppressing deformation of the laminate when used as a mold release material during press molding. More preferably, it is 4000 MPa or more. Moreover, it is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 8,500 MPa or less, still more preferably 7,000 MPa or less, particularly preferably 6,000 MPa or less.
The resin (a) having a storage modulus of 1000 MPa or more at 23°C is not particularly limited, and examples thereof include olefin resins, styrene resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyetherimide resins, Examples include polyphenylene sulfide resin, polyphenylene ether resin, polyaryletherketone resin, liquid crystal polymer resin, polyimide resin, etc., but from the viewpoint of heat resistance and mechanical strength, polyester resin is preferable, and crystalline polyester resin is preferable. It is more preferable that there be some, and examples thereof include polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and the like. Among these, polyethylene terephthalate resin is particularly preferred from the viewpoint of heat resistance, film stiffness, smoothness, ease of commercial availability, etc., as well as adhesiveness with the silicone resin layer described below, especially the silicone elastomer resin layer. .

層(A)は、本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、可塑剤、核剤、滑剤、顔料、染料等の添加剤や、23℃における貯蔵弾性率が1000MPa未満の樹脂を含んでいてもよい。また、機械的強度の観点から、層(A)は少なくとも一軸に、特に二軸延伸されていることが好ましい。 Layer (A) may contain additives such as ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, plasticizers, nucleating agents, lubricants, pigments, dyes, etc., and storage elasticity at 23°C, within a range that does not impair the effects of the present invention. It may also contain a resin having a modulus of less than 1000 MPa. Further, from the viewpoint of mechanical strength, it is preferable that the layer (A) is at least uniaxially, particularly biaxially stretched.

本発明においては、層(A)の少なくとも一方の面の表面の粗さは、以下の(i)、(ii)のいずれか又は両方の要件を満たす。
(i)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(ii)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
なお、後述するが、層(A)に帯電防止層(A1)が付与されている場合は、該帯電防止層(A1)の表面の粗さをいう。
In the present invention, the surface roughness of at least one side of the layer (A) satisfies either or both of the following requirements (i) and (ii).
(i) Ten point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (ii) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more As will be described later, the layer (A) has an antistatic layer ( When A1) is applied, it refers to the surface roughness of the antistatic layer (A1).

Rzは、0.5μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましく、2μm以上であることがさらに好ましく、2.5μm以上であることが特に好ましく、3μm以上であることが最も好ましい。Rzが0.3μm以上であると、本発明の積層体同士を重ねた際、凸部が点接触することにより、積層体同士の付着が抑制され、剥離性に優れた積層体が得られやすい。また、積層体を1枚ずつ取り出す際等の取扱い性に優れる積層体となりやすい。また、プレス成形後金型・プレス板を開いて製品を取り出す際に、積層体が金型・プレス板側に付着する問題も改善され、生産性も向上する傾向となる。さらに、成形体やプレス板・金型への接触状態を良好とし、プレス成形品上での位置合わせがしやすくなる利点もある。 Rz is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, even more preferably 2 μm or more, particularly preferably 2.5 μm or more, and most preferably 3 μm or more. . When Rz is 0.3 μm or more, when the laminates of the present invention are stacked together, the convex portions come into point contact, which suppresses adhesion of the laminates to each other, making it easy to obtain a laminate with excellent releasability. . Further, the laminate tends to be easily handled when taking out the laminate one by one. Furthermore, the problem of the laminate adhering to the mold/press plate when the mold/press plate is opened to take out the product after press molding is alleviated, and productivity tends to be improved. Furthermore, it has the advantage of making good contact with the molded product, press plate, and mold, and making positioning on the press-formed product easier.

また、Rzは10μm以下であることが好ましく、8μm以下であることがより好ましく、6μm以下であることがさらに好ましく、5.5μm以下であることが特に好ましい。Rzが10μm以下であると、成形体やプレス板・金型に配置する際のハンドリング性が良好となりやすく、また、プレス成形体の寸法安定性が良好となる傾向にあり好ましい。 Moreover, Rz is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, even more preferably 6 μm or less, and particularly preferably 5.5 μm or less. It is preferable that Rz is 10 μm or less, since handling properties when disposed in a molded body, a press plate, or a mold tend to be good, and the dimensional stability of the press-formed body tends to be good.

上記と同様の理由で、層(A)の少なくとも一方の面の表面の算術平均粗さ(Ra)は、0.1μm以上であることが好ましく、0.3μm以上であることがより好ましく、0.4μm以上であることがさらに好ましく、0.5μm以上であることが特に好ましく、0.6μm以上であることが最も好ましい。また、Raは5μm以下であることが好ましく、4μm以下であることがより好ましく、3μm以下であることがさらに好ましく、2μm以下であることが特に好ましく、1.5μm以下であることが最も好ましい。 For the same reason as above, the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of at least one side of the layer (A) is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and 0.1 μm or more. It is more preferably .4 μm or more, particularly preferably 0.5 μm or more, and most preferably 0.6 μm or more. Further, Ra is preferably 5 μm or less, more preferably 4 μm or less, even more preferably 3 μm or less, particularly preferably 2 μm or less, and most preferably 1.5 μm or less.

さらに、上記と同様の理由で、層(A)の少なくとも一方の面の表面の最大高さ粗さ(Ry)、凹凸の平均間隔(Sm)は、以下の範囲であることが好ましい。
Ryは、0.3μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましく、2μm以上であることがさらに好ましく、3μm以上であることが特に好ましく、4μm以上であることが最も好ましい。また、Ryは10μm以下であることが好ましく、9μm以下であることがより好ましく、8μm以下であることがさらに好ましく、7μm以下であることが特に好ましく、6.5μm以下であることが最も好ましい。
Furthermore, for the same reason as above, the maximum height roughness (Ry) of the surface of at least one side of the layer (A) and the average spacing of the unevenness (Sm) are preferably in the following ranges.
Ry is preferably 0.3 μm or more, more preferably 1 μm or more, even more preferably 2 μm or more, particularly preferably 3 μm or more, and most preferably 4 μm or more. Moreover, Ry is preferably 10 μm or less, more preferably 9 μm or less, even more preferably 8 μm or less, particularly preferably 7 μm or less, and most preferably 6.5 μm or less.

Smは、90μm以下であることが好ましく、80μm以下であることがより好ましく、70μm以下であることがさらに好ましく、65μm以下であることが特に好ましく、60μm以下であることが最も好ましい。また、Smは1μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましく、10μm以上であることがさらに好ましい。 Sm is preferably 90 μm or less, more preferably 80 μm or less, even more preferably 70 μm or less, particularly preferably 65 μm or less, and most preferably 60 μm or less. Further, Sm is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, and even more preferably 10 μm or more.

上記のような表面粗さを有する層(A)を得る方法としては、例えば、サンドブラスト処理、ショットブラスト処理、エッチング処理、彫刻処理、エンボスロール転写、エンボスベルト転写、エンボスフィルム転写、表面結晶化等種々の方法を用いることができる。特に、有機溶剤を用いず環境にやさしい加工方法であり、また、ロールフィルムを送り出しながら連続的に均一に表面凹凸を形成可能である等の点から、サンドブラスト処理による方法が好ましい。
サンドブラスト処理においては、サンドブラスト粒子の粒径やブラスト圧力等を調整することによって、所望の表面粗さを有する層(A)を得ることができる。
Examples of methods for obtaining the layer (A) having the above-mentioned surface roughness include sandblasting, shotblasting, etching, engraving, embossing roll transfer, embossing belt transfer, embossing film transfer, surface crystallization, etc. Various methods can be used. In particular, a method using sandblasting is preferred because it is an environmentally friendly processing method that does not use organic solvents, and it is possible to continuously and uniformly form surface irregularities while feeding the roll film.
In the sandblasting process, a layer (A) having a desired surface roughness can be obtained by adjusting the particle size of the sandblasting particles, the blasting pressure, etc.

層(A)の厚みは、10μm以上であることが好ましく、15μm以上であることがより好ましく、20μm以上であることがさらに好ましい。層(A)の厚みが10μm以上であると、層(A)の表面に後述の層(B)等の他の層を積層させる際、しわ等が発生しにくくなり好ましい。一方、厚みは350μm以下であることが好ましく、300μm以下であることがより好ましく、250μm以下であることがさらに好ましい。層(A)の厚みが350μm以下であると、得られる積層体が硬すぎることなく、後述する下塗り層等を塗工しやすくなるため好ましい。 The thickness of layer (A) is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, and even more preferably 20 μm or more. It is preferable that the thickness of the layer (A) is 10 μm or more because wrinkles and the like are less likely to occur when other layers such as the layer (B) described below are laminated on the surface of the layer (A). On the other hand, the thickness is preferably 350 μm or less, more preferably 300 μm or less, and even more preferably 250 μm or less. It is preferable that the thickness of the layer (A) is 350 μm or less, since the resulting laminate will not be too hard and will be easier to coat with an undercoat layer, etc., which will be described later.

本発明においては、層(A)の層(B)が積層されていない側の表面抵抗率が低く調整されていることも好ましく、具体的には、表面抵抗率が1×1013Ω未満であることが好ましい。表面抵抗率を1×1013Ω未満とすることにより、本発明の積層体同士を重ねた際の付着が抑制され剥離性に優れた積層体が得られる傾向となる。また、積層体を1枚ずつ取り出す際等の取扱い性にも優れる積層体となりやすい。また、プレス成形後金型・プレス板を開いて製品を取り出す際に、積層体が金型・プレス板側に付着する問題も発生しにくく、生産性も向上する傾向となる。さらに、成形体やプレス板・金型への接触状態を良好とし位置合わせがしやすくなる利点もある。 In the present invention, it is also preferable that the surface resistivity of the side of the layer (A) on which the layer (B) is not laminated is adjusted to be low, and specifically, the surface resistivity is adjusted to be lower than 1×10 13 Ω. It is preferable that there be. By setting the surface resistivity to less than 1×10 13 Ω, adhesion when stacking the laminates of the present invention is suppressed, and a laminate with excellent releasability tends to be obtained. In addition, the laminate tends to have excellent handling properties when taking out the laminate one by one. Furthermore, when the mold/press plate is opened after press molding and the product is taken out, the problem of the laminate adhering to the mold/press plate side is less likely to occur, and productivity tends to improve. Furthermore, there is also the advantage that the contact condition with the molded object, press plate, and mold becomes good, making positioning easier.

表面抵抗率はより好ましくは1×1012Ω以下、さらに好ましくは1×1011Ω以下、特に好ましくは5×1010Ω以下、とりわけ好ましくは1×10Ω以下、最も好ましくは1×10Ω以下である。また、表面抵抗率は、本発明の積層体を用いた際の帯電を抑制する観点から1×10Ω以上であることが好ましく、1×10Ω以上であることがより好ましく、1×10Ω以上であることがさらに好ましい。 The surface resistivity is more preferably 1×10 12 Ω or less, still more preferably 1×10 11 Ω or less, particularly preferably 5×10 10 Ω or less, especially preferably 1×10 9 Ω or less, most preferably 1×10 8 Ω or less. In addition, the surface resistivity is preferably 1×10 2 Ω or more, more preferably 1×10 4 Ω or more, and 1× More preferably, it is 10 6 Ω or more.

上記のような表面抵抗率を有する層(A)を得る方法としては、例えば、以下の(1)~(4)の方法を採用することが好ましい。 As a method for obtaining the layer (A) having the above-mentioned surface resistivity, it is preferable to employ, for example, the following methods (1) to (4).

(1)帯電防止層(A1)を、層(A)上に形成する。
(2)界面活性剤等の帯電防止剤を、層(A)に配合する。
(3)グラファイト、カーボンブラック、炭素繊維、金属酸化物、金属粉末、金属繊維等の導電性フィラーを、層(A)に配合する。
(4)導電性ポリマーを、層(A)に配合する。
(1) An antistatic layer (A1) is formed on the layer (A).
(2) Adding an antistatic agent such as a surfactant to the layer (A).
(3) A conductive filler such as graphite, carbon black, carbon fiber, metal oxide, metal powder, metal fiber, etc. is blended into the layer (A).
(4) Adding a conductive polymer to layer (A).

上記(1)~(4)の方法の中でも、表面抵抗率が安定的に得られる点、より低い表面抵抗率を達成しやすい点、表面抵抗率の経時変化が起こりにくい点、帯電防止剤のブリードアウトの問題が起こりにくい点から、(1)の方法を採用することが好ましい。以下、(1)について説明する。 Among the methods (1) to (4) above, the following points are important: that the surface resistivity can be stably obtained, that it is easy to achieve a lower surface resistivity, that the surface resistivity is less likely to change over time, and that the use of antistatic agents It is preferable to employ method (1) since the problem of bleed-out is less likely to occur. (1) will be explained below.

<帯電防止層(A1)>
層(A)上に帯電防止層(A1)を形成する方法としては、従来公知の塗工方式を用いることができるが、好ましくは層(A)をフィルムやシート状に形成した後に帯電防止の塗布層を設ける所謂オフラインコーティングと、層(A)をフィルムやシート状に製膜中に塗布層を設ける所謂インラインコーティングが挙げられる。好ましくはインラインコーティング、特に塗布後に延伸を行う塗布延伸法により設けられることが好ましい。
<Antistatic layer (A1)>
Conventionally known coating methods can be used to form the antistatic layer (A1) on the layer (A), but it is preferable to form the antistatic layer (A1) on the layer (A) after forming the layer (A) in the form of a film or sheet. Examples include so-called off-line coating in which a coating layer is provided, and so-called in-line coating in which a coating layer is provided during the formation of layer (A) into a film or sheet. Preferably, it is provided by in-line coating, particularly by a coating/stretching method in which stretching is performed after coating.

インラインコーティングは、フィルム製造の工程内でコーティングを行う方法であり、具体的には、樹脂を溶融押出ししてから延伸後熱固定して巻き上げるまでの任意の段階でコーティングを行う方法である。通常は、溶融・急冷して得られる実質的に非晶状態の未延伸シート、延伸された一軸延伸フィルム、熱固定前の二軸延伸フィルム、熱固定後で巻上前のフィルムの何れかにコーティングする。 In-line coating is a method in which coating is performed within the film manufacturing process, and specifically, coating is performed at any stage from melt extrusion of the resin to stretching, heat setting, and winding. Usually, it is either a substantially amorphous unstretched sheet obtained by melting and quenching, a stretched uniaxially oriented film, a biaxially oriented film before heat setting, or a film after heat setting before winding. Coat.

以下に限定するものではないが、例えば、逐次二軸延伸においては、特に長手方向(縦方向)に延伸された一軸延伸フィルムにコーティングした後に横方向に延伸する方法が優れている。かかる方法によれば、製膜と帯電防止層塗設を同時に行うことができるため製造コスト上のメリットがあり、コーティング後に延伸を行うために薄膜で均一なコーティングとなり、帯電防止層(A1)の特性が安定しやすい。また、延伸される前のフィルム上を、まず帯電防止層(A1)を構成する樹脂層で被覆し、その後フィルムと帯電防止層を同時に延伸することで、基材フィルムと帯電防止層(A1)が強固に密着しやすいという利点もある。 Although not limited to the following, for example, in sequential biaxial stretching, a method in which a uniaxially stretched film stretched in the longitudinal direction (vertical direction) is coated and then stretched in the transverse direction is particularly excellent. According to this method, film formation and antistatic layer coating can be performed at the same time, which is advantageous in terms of manufacturing costs.Since the coating is performed after coating, a thin and uniform coating is obtained, and the antistatic layer (A1) is Characteristics are easy to stabilize. In addition, by first coating the film before being stretched with a resin layer constituting the antistatic layer (A1), and then stretching the film and the antistatic layer at the same time, the base film and the antistatic layer (A1) can be coated. Another advantage is that it is easy to adhere firmly.

フィルムの二軸延伸は、テンタークリップ等によりフィルム端部を把持しつつ横方向に延伸することで、フィルムが長手/横手方向に拘束されており、熱固定においてしわ等が入らず平面性を維持したまま高温をかけることができる。それゆえ、コーティング後に施される熱処理が他の方法では達成されない高温とすることができるために、帯電防止層の造膜性が向上し、また帯電防止層(A1)とフィルムが強固に密着しやすい傾向となる。 Biaxial stretching of the film involves holding the edges of the film with tenter clips and stretching it in the lateral direction, thereby restraining the film in the longitudinal/transverse directions and maintaining flatness without wrinkles during heat setting. It is possible to apply high temperature while keeping it in place. Therefore, since the heat treatment performed after coating can be performed at a high temperature that cannot be achieved by other methods, the film-forming properties of the antistatic layer are improved, and the antistatic layer (A1) and the film are tightly adhered. It tends to be easy.

塗布延伸法の場合、用いる塗布液は、取扱い上、作業環境上、安全上の理由から水溶液又は水分散液であることが好ましく、水を主たる媒体とすることが好ましい。なお、本発明の要旨を越えない範囲であれば、有機溶剤を含有していてもよい。 In the case of the coating/stretching method, the coating liquid used is preferably an aqueous solution or an aqueous dispersion for reasons of handling, working environment, and safety, and preferably uses water as the main medium. Note that an organic solvent may be contained within the scope of the present invention.

帯電防止層(A1)は、層(A)のどちらかの面にあればよいが、両面に有していてもよい。特に両面に有している場合は、層(B)との接着性に優れるためより好ましい。 The antistatic layer (A1) may be provided on either side of the layer (A), but may be provided on both sides. In particular, it is more preferable to have it on both sides because it has excellent adhesiveness with layer (B).

帯電防止層(A1)は特に限定されるものではなく、導電性高分子、イオン性液体、イオン性界面活性剤、四級アンモニウム塩等が挙げられる。中でも好ましくは、導電高分子並びにイオン性液体及びイオン性界面活性剤等のイオン性帯電防止剤である。 The antistatic layer (A1) is not particularly limited, and examples include conductive polymers, ionic liquids, ionic surfactants, and quaternary ammonium salts. Among these, preferred are conductive polymers, ionic liquids, and ionic antistatic agents such as ionic surfactants.

導電性高分子としては、チオフェンもしくはチオフェン誘導体からなる化合物に他の陰イオン化合物によりドーピングされた重合体又はチオフェンもしくはチオフェン誘導体からなる化合物中に陰イオン基を持ち自己ドープされた重合体(A1-1)を含有するものが好ましい。これらの物質は、優れた導電性を示し好適である。例えば、下記一般式(1)又は(2)の化合物を、ポリ陰イオンの存在下で重合して得られるものが挙げられる。 Examples of the conductive polymer include a polymer obtained by doping a compound made of thiophene or a thiophene derivative with another anionic compound, or a self-doped polymer (A1- Those containing 1) are preferred. These substances exhibit excellent electrical conductivity and are suitable. Examples include those obtained by polymerizing a compound represented by the following general formula (1) or (2) in the presence of a polyanion.

Figure 0007451954000001
Figure 0007451954000001

(一般式(1)において、R及びRは、それぞれ独立して、水素又は炭素原子数が1~20の脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基もしくは芳香族炭化水素基を表す。) (In general formula (1), R 1 and R 2 each independently represent hydrogen, an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, or an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. .)

Figure 0007451954000002
Figure 0007451954000002

(一般式(2)において、nは1~4の整数を表す。) (In general formula (2), n represents an integer from 1 to 4.)

重合時に使用するポリ陰イオンの供給源としては、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリマレイン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸等が挙げられる。かかる重合体の製造方法としては、例えば、特開平7-90060号公報に示されるような方法が採用できる。 Examples of sources of polyanions used during polymerization include poly(meth)acrylic acid, polymaleic acid, polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, and the like. As a method for producing such a polymer, for example, a method as disclosed in JP-A-7-90060 can be adopted.

本発明において、好ましい様態として、上記一般式(2)の化合物においてnが2であり、ポリ陰イオンの供給源としてポリスチレンスルホン酸を用いたものが挙げられる。 In the present invention, a preferred embodiment is a compound of the above general formula (2) in which n is 2 and polystyrene sulfonic acid is used as the source of the polyanion.

また、これらのポリ陰イオンの一部又は全てが中和されていてもよい。中和に用いる塩基としてはアンモニア、有機アミン類、アルカリ金属水酸化物が好ましい。 Further, some or all of these polyanions may be neutralized. As the base used for neutralization, ammonia, organic amines, and alkali metal hydroxides are preferable.

チオフェン又はチオフェン誘導体からなる化合物中に陰イオン基を持ち自己ドープされた重合体としては、上記一般式(1)又は(2)の化合物に陰イオン基がドープされたものが挙げられる。 Examples of the self-doped polymer having an anionic group in a compound made of thiophene or a thiophene derivative include those in which the compound of the above general formula (1) or (2) is doped with an anionic group.

また、帯電防止層(A1)は、下記(A1-2)及び/又は(A1-3)を含有するものであることも好ましい。
(A1-2):グリセリン、ポリグリセリン、グリセリン又はポリグリセリンへのアルキレンオキサイド付加物及びポリアルキレンオキサイドの群から選ばれる1種以上の化合物
(A1-3):ポリウレタン樹脂
Further, it is also preferable that the antistatic layer (A1) contains the following (A1-2) and/or (A1-3).
(A1-2): One or more compounds selected from the group of glycerin, polyglycerin, alkylene oxide adducts to glycerin or polyglycerin, and polyalkylene oxide (A1-3): Polyurethane resin

グリセリン、ポリグリセリン、グリセリン又はポリグリセリンへのアルキレンオキサイド付加物及びポリアルキレンオキサイドの群から選ばれる化合物(A1-2)の中でも、ポリグリセリン、グリセリン又はポリグリセリンへのアルキレンオキサイド付加物を含有することがより好ましい。
グリセリン、ポリグリセリンとは、下記一般式(3)で表される化合物である。
Among the compounds (A1-2) selected from the group of glycerin, polyglycerin, glycerin or alkylene oxide adducts to polyglycerin, and polyalkylene oxides, containing polyglycerin, glycerin, or alkylene oxide adducts to polyglycerin. is more preferable.
Glycerin and polyglycerin are compounds represented by the following general formula (3).

Figure 0007451954000003
Figure 0007451954000003

一般式(3)のn=1の化合物がグリセリンであり、nが2以上の化合物がポリグリセリンである。本発明においては、nは2~20であることが好ましく、2~10であることがより好ましい。 In general formula (3), the compound where n=1 is glycerin, and the compound where n is 2 or more is polyglycerin. In the present invention, n is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10.

グリセリン又はポリグリセリンへのアルキレンオキサイド付加物とは、一般式(3)で表されるグリセリン又はポリグリセリンのヒドロキシル基にアルキレンオキサイドを付加重合した構造を有するものである。 The alkylene oxide adduct to glycerin or polyglycerin has a structure in which alkylene oxide is addition-polymerized to the hydroxyl group of glycerin or polyglycerin represented by general formula (3).

ここで、グリセリン又はポリグリセリン骨格のヒドロキシル基ごとに付加されるアルキレンオキサイドの構造は異なっていてもよい。また、少なくとも分子中一つのヒドロキシル基に付加されていればよく、全てのヒドロキシル基にアルキレンオキサイド又はその誘導体が付加されていなくてもよい。 Here, the structure of the alkylene oxide added to each hydroxyl group of the glycerin or polyglycerin skeleton may be different. Further, it is sufficient that the alkylene oxide or its derivative is added to at least one hydroxyl group in the molecule, and not all hydroxyl groups.

グリセリン又はポリグリセリンに付加されるアルキレンオキサイドとして好ましいものは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドである。アルキレンオキサイドのアルキレン鎖が長くなりすぎると、疎水性が強くなり、塗布液中での均一に分散しにくくなり、帯電防止層(A1)の帯電防止性や透明性が悪化する傾向がある。中でも好ましくはエチレンオキサイドである。また、その付加数は、最終的な付加物としての質量平均分子量で200~2000になるものが好ましく、300~800のものがさらに好ましい。 Preferred alkylene oxides to be added to glycerin or polyglycerin are ethylene oxide and propylene oxide. If the alkylene chain of the alkylene oxide becomes too long, the hydrophobicity becomes strong, making it difficult to disperse uniformly in the coating liquid, and the antistatic properties and transparency of the antistatic layer (A1) tend to deteriorate. Among them, ethylene oxide is preferred. Further, the number of additions is preferably such that the weight average molecular weight of the final adduct is 200 to 2,000, more preferably 300 to 800.

ポリアルキレンオキサイドとして好ましいものは、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイドである。アルキレンオキサイドのアルキレン鎖が長くなりすぎると、疎水性が強くなり、塗布液中での均一に分散しにくくなり、帯電防止層(A1)の帯電防止性や透明性が悪化する傾向がある。より好ましくはポリエチレンオキサイドである。質量平均分子量としては、200~2000のものが好ましい。 Preferred polyalkylene oxides are polyethylene oxide and polypropylene oxide. If the alkylene chain of the alkylene oxide becomes too long, the hydrophobicity becomes strong, making it difficult to disperse uniformly in the coating liquid, and the antistatic properties and transparency of the antistatic layer (A1) tend to deteriorate. More preferred is polyethylene oxide. The mass average molecular weight is preferably 200 to 2,000.

ポリウレタン樹脂(A1-3)としては特に限定はなく、ウレタン結合を分子内に有するものであればよく、水分散性又は水溶性のものが好ましい。 The polyurethane resin (A1-3) is not particularly limited as long as it has a urethane bond in its molecule, and water-dispersible or water-soluble ones are preferred.

水分散性又は水溶性を付与させるためには、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホニル基、リン酸基、エーテル基等の親水性基をポリウレタン樹脂に導入することが好ましい。これら親水性基の中でも、塗膜物性、密着性の点からカルボキシル基、スルホン酸基が好ましい。 In order to impart water dispersibility or water solubility, it is preferable to introduce hydrophilic groups such as hydroxyl groups, carboxyl groups, sulfonic acid groups, sulfonyl groups, phosphoric acid groups, and ether groups into the polyurethane resin. Among these hydrophilic groups, carboxyl groups and sulfonic acid groups are preferred from the viewpoint of coating film properties and adhesion.

ポリウレタン樹脂(A1-3)は、水酸基とイソシアネートとの反応により得られるものが好ましい。原料として用いられる水酸基としては、ポリオールが好適に用いられ、例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール、アクリルポリオールが挙げられ、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールが好ましく、中でもポリエステルポリオールがより好ましく、芳香環を有するポリエステルポリオールがさらに好ましい。 The polyurethane resin (A1-3) is preferably one obtained by a reaction between a hydroxyl group and an isocyanate. As the hydroxyl group used as a raw material, polyols are preferably used, and examples thereof include polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polyolefin polyols, and acrylic polyols. Among them, polyether polyols, polyester polyols, and polycarbonate polyols are preferable. Among them, polyester polyols are preferred. Polyols are more preferred, and polyester polyols having an aromatic ring are even more preferred.

ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリヘキサメチレンエーテルグリコール等が挙げられる。 Examples of polyether polyols include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene propylene glycol, polytetramethylene ether glycol, polyhexamethylene ether glycol, and the like.

ポリエステルポリオールとしては、多価カルボン酸(マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等)又はこれらの酸無水物と多価アルコールとの反応から得られるものが挙げられる。 Polyester polyols include polycarboxylic acids (malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, etc.) or acid anhydrides thereof. and polyhydric alcohols.

多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、1,8-オクタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2-ブチル-2-ヘキシル-1,3-プロパンジオール、シクロヘキサンジオール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン、ジメタノールベンゼン、ビスヒドロキシエトキシベンゼン、アルキルジアルカノールアミン、ラクトンジオール等が挙げられる。 Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 2-Methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol , 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 1,8-octanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2 , 5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2 -hexyl-1,3-propanediol, cyclohexanediol, bishydroxymethylcyclohexane, dimethanolbenzene, bishydroxyethoxybenzene, alkyl dialkanolamine, lactone diol and the like.

ポリカーボネートポリオールとしては、多価アルコール類とジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート等とから、脱アルコール反応によって得られるポリカーボネートジオール、例えば、ポリ(1,6-ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3-メチル-1,5-ペンチレン)カーボネート等が挙げられる。 Examples of polycarbonate polyols include polycarbonate diols obtained by dealcoholization reaction from polyhydric alcohols and dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, etc., such as poly(1,6-hexylene) carbonate, poly(3- Examples include methyl-1,5-pentylene) carbonate.

ポリウレタン樹脂(A1-3)を得るために使用されるポリイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、α,α,α’,α’-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。 The polyisocyanate compounds used to obtain the polyurethane resin (A1-3) include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, toridine diisocyanate, α, α, Aliphatic diisocyanates with aromatic rings such as α', α'-tetramethylxylylene diisocyanate, methylene diisocyanate, propylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate , isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isopropylidene dicyclohexyl diisocyanate, and other alicyclic diisocyanates.

また、ポリウレタン樹脂を合成する際に鎖延長剤を使用してもよく、鎖延長剤としては、イソシアネート基と反応する活性基を2個以上有するものであれば特に制限はなく、一般的には、水酸基又はアミノ基を2個有する鎖延長剤を主に用いることができる。 Furthermore, a chain extender may be used when synthesizing the polyurethane resin, and there are no particular restrictions on the chain extender as long as it has two or more active groups that react with isocyanate groups. , a chain extender having two hydroxyl groups or two amino groups can be mainly used.

水酸基を2個有する鎖延長剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール等の脂肪族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレート等のエステルグリコールといったグリコール類を挙げることができる。 Examples of the chain extender having two hydroxyl groups include aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene, and esters such as neopentyl glycol hydroxypivalate. Examples include glycols such as glycol.

アミノ基を2個有する鎖延長剤としては、例えば、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン等の芳香族ジアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサンジアミン、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジアミン、2-メチル-1,5-ペンタンジアミン、トリメチルヘキサンジアミン、2-ブチル-2-エチル-1,5-ペンタンジアミン、1,8-オクタンジアミン、1,9-ノナンジアミン、1,10-デカンジアミン等の脂肪族ジアミン、1-アミノ-3-アミノメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジアミン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン等の脂環族ジアミン等が挙げられる。 Examples of the chain extender having two amino groups include aromatic diamines such as tolylene diamine, xylylene diamine, and diphenylmethane diamine, ethylene diamine, propylene diamine, hexane diamine, and 2,2-dimethyl-1,3-propane diamine. , 2-methyl-1,5-pentanediamine, trimethylhexanediamine, 2-butyl-2-ethyl-1,5-pentanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine, 1,10-decanediamine Aliphatic diamines such as 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, dicyclohexylmethanediamine, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-bisaminomethylcyclohexane, etc. can be mentioned.

また、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等を用いて、ウレタン骨格にカルボキシル基を導入し、後に塩基性化合物で中和してウレタンを親水化する手法も好ましく用いられる。 Also preferably used is a method in which a carboxyl group is introduced into the urethane skeleton using dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, etc., and then neutralized with a basic compound to make the urethane hydrophilic.

帯電防止層(A1)は、塗布性を改良するために界面活性剤(A1-4)を含有していてもよい。界面活性剤(A1-4)としては、特にその構造中に(ポリ)アルキレンオキサイドや(ポリ)グリセリン、これらの誘導体を含むものを使用すると、得られる帯電防止層(A1)の帯電防止性を阻害せずより好ましい。 The antistatic layer (A1) may contain a surfactant (A1-4) to improve coating properties. As the surfactant (A1-4), especially when one containing (poly)alkylene oxide, (poly)glycerin, or a derivative thereof in its structure is used, the antistatic properties of the resulting antistatic layer (A1) can be improved. It is more preferable because it does not inhibit it.

本発明における帯電防止層(A1)を形成するための塗布液には、必要に応じて、架橋反応性化合物を含んでいてもよい。架橋反応性化合物は主に、他の樹脂や化合物に含まれる官能基との架橋反応や自己架橋によって、帯電防止層の凝集性、表面硬度、耐擦傷性、耐溶剤性、耐水性を改良することができる。
架橋反応性化合物としては、メラミン系、ベンゾグアナミン系、尿素系等のアミノ樹脂や、イソシアネート系、オキサゾリン系、エポキシ系、グリオキサール系等が好適に用いられる。他のポリマー骨格に反応性基を持たせた、ポリマー型架橋反応性化合物も含まれる。
The coating liquid for forming the antistatic layer (A1) in the present invention may contain a crosslinking reactive compound, if necessary. Crosslinking-reactive compounds mainly improve the cohesiveness, surface hardness, scratch resistance, solvent resistance, and water resistance of the antistatic layer through crosslinking reactions with functional groups contained in other resins and compounds, or through self-crosslinking. be able to.
As the crosslinking-reactive compound, amino resins such as melamine, benzoguanamine, and urea, as well as isocyanate, oxazoline, epoxy, and glyoxal compounds are preferably used. Also included are polymer-type crosslinking-reactive compounds in which other polymer skeletons have reactive groups.

さらに必要に応じて、ポリウレタン樹脂(A1-3)以外のバインダー樹脂を併用することもできる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂等が挙げられる。これらは、それぞれの骨格構造が共重合等により実質的に複合構造を有していてもよい。複合構造を持つバインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂グラフトポリエステル、ビニル樹脂グラフトポリエステル等が挙げられる。これらの樹脂を含有することで、得られる帯電防止層の強度や層(A)への密着性が向上しやすい傾向となる。 Furthermore, if necessary, binder resins other than the polyurethane resin (A1-3) can also be used in combination. Examples of the binder resin include polyether resin, polyester resin, acrylic resin, vinyl resin, epoxy resin, and amide resin. Each of these may have a substantially composite structure due to copolymerization or the like. Examples of the binder resin having a composite structure include acrylic resin grafted polyester, vinyl resin grafted polyester, and the like. By containing these resins, the strength of the antistatic layer obtained and the adhesion to the layer (A) tend to be improved.

帯電防止層(A1)は、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、離型剤、有機粒子、無機粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、染料、顔料等の添加剤を含有していてもよい。また、これら添加剤としては、その構造中に、(ポリ)アルキレンオキサイドや(ポリ)グリセリン、これらの誘導体を含むものを使用すると、得られる帯電防止層(A1)の帯電防止性を阻害せずより好ましい。 The antistatic layer (A1) contains an antifoaming agent, a coating improver, a thickener, an organic lubricant, a mold release agent, an organic particle, an inorganic particle, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a foaming agent, a dye, and a pigment. It may contain additives such as. In addition, when these additives contain (poly)alkylene oxide, (poly)glycerin, or derivatives thereof in their structure, they do not inhibit the antistatic properties of the resulting antistatic layer (A1). More preferred.

中でも、帯電防止層(A1)は、ブロッキング、滑り性改良を目的として有機粒子、無機粒子等の粒子を含有することが好ましい。粒子の平均粒径(D50)は、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下、さらに好ましくは0.2μm以下である。また、滑り性をより効果的に向上させる観点から、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上である。粒子としては、シリカ、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、有機粒子等が挙げられ、シリカが好ましい。 Among these, the antistatic layer (A1) preferably contains particles such as organic particles and inorganic particles for the purpose of blocking and improving slipperiness. The average particle diameter (D50) of the particles is preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, even more preferably 0.2 μm or less. Moreover, from the viewpoint of improving slipperiness more effectively, the thickness is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more. Examples of the particles include silica, alumina, kaolin, calcium carbonate, and organic particles, with silica being preferred.

帯電防止層(A1)中の重合体(A1-1)の含有量は、0.5mg/m以上であることが好ましく、1mg/m以上であることがより好ましく、2mg/m以上であることがさらに好ましい。重合体(A1-1)の含有量を0.5mg/m以上とすることにより、帯電防止性が十分となり、積層体同士の付着が抑制されやすい。また、15mg/m以下であることが好ましく、9mg/m以下であることがより好ましく、5mg/m以下であることがさらに好ましい。重合体(A1-1)の含有量を15mg/m以下とすることにより、低コストで着色しにくい傾向となる。 The content of the polymer (A1-1) in the antistatic layer (A1) is preferably 0.5 mg/m 2 or more, more preferably 1 mg/m 2 or more, and 2 mg/m 2 or more. It is more preferable that By setting the content of the polymer (A1-1) to 0.5 mg/m 2 or more, the antistatic property becomes sufficient and adhesion between the laminates is easily suppressed. Moreover, it is preferably 15 mg/m 2 or less, more preferably 9 mg/m 2 or less, and even more preferably 5 mg/m 2 or less. By setting the content of the polymer (A1-1) to 15 mg/m 2 or less, it becomes less likely to be colored at low cost.

帯電防止層(A1)を形成する塗布液中の不揮発成分に対する重合体(A1-1)の含有量は、1質量%以上であることが好ましく、2質量%以上であることがより好ましく、3質量%以上であることがさらに好ましく、4質量%以上であることが特に好ましい。重合体(A1-1)の含有量を1質量%以上とすることにより、帯電防止層(A1)の強度、層(A)との密着性、帯電防止性能が十分となる傾向となる。一方、重合体(A1-1)の含有量は80質量%以下であることが好ましく、50質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることがさらに好ましく、15質量%以下であることが特に好ましい。含有量を80質量%以下とすることにより、得られる積層体の外観の悪化や積層体製造時のブロッキングが起こりにくく好ましい。 The content of the polymer (A1-1) relative to the nonvolatile components in the coating liquid forming the antistatic layer (A1) is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and 3% by mass or more. It is more preferably at least 4% by mass, particularly preferably at least 4% by mass. By setting the content of the polymer (A1-1) to 1% by mass or more, the strength of the antistatic layer (A1), the adhesion with the layer (A), and the antistatic performance tend to be sufficient. On the other hand, the content of the polymer (A1-1) is preferably 80% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, and 15% by mass or less. It is particularly preferable that there be. By setting the content to 80% by mass or less, deterioration of the appearance of the resulting laminate and blocking during production of the laminate are less likely to occur, which is preferable.

化合物(A1-2)を含む場合、塗布液中の不揮発成分に対する化合物(A1-2)含有量は、帯電防止性能と外観の点から、1質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることがさらに好ましく、30質量%以上であることが特に好ましい。また、90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましく、55質量%以下であることが特に好ましい。 When the compound (A1-2) is included, the content of the compound (A1-2) relative to the nonvolatile components in the coating liquid is preferably 1% by mass or more, and 10% by mass or more from the viewpoint of antistatic performance and appearance. The content is more preferably 20% by mass or more, even more preferably 30% by mass or more. Further, it is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, even more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 55% by mass or less.

ポリウレタン樹脂(A1-3)を含む場合、塗布液中の不揮発成分に対するポリウレタン樹脂(A1-3)の含有量は、帯電防止性能、強度、耐水性の点から、2質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることがさらに好ましく、35質量%以上であることが特に好ましい。また、90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましく、60質量%以下であることが特に好ましい。 When containing a polyurethane resin (A1-3), the content of the polyurethane resin (A1-3) relative to the nonvolatile components in the coating liquid should be 2% by mass or more from the viewpoint of antistatic performance, strength, and water resistance. It is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 35% by mass or more. Further, it is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, even more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 60% by mass or less.

界面活性剤(A1-4)を含む場合、塗布液中の不揮発成分に対する界面活性剤(A1-4)含有量は、帯電防止性能、塗工性の点から、0.1質量%以上であることが好ましく、0.2質量%以上であることがより好ましく、0.5質量%以上であることがさらに好ましく、1質量%以上であることが特に好ましい。また、20質量%以下であることが好ましく、15質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることがさらに好ましく、5質量%以下であることが特に好ましい。 When the surfactant (A1-4) is included, the content of the surfactant (A1-4) relative to the nonvolatile components in the coating liquid is 0.1% by mass or more from the viewpoint of antistatic performance and coatability. The content is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, and particularly preferably 1% by mass or more. Further, it is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, even more preferably 10% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less.

なお、上記した塗布液中の不揮発成分に対する(A1-1)~(A1-4)の含有割合は、帯電防止層(A1)中の含有割合とも同義として扱うことができる。 Note that the content ratios of (A1-1) to (A1-4) with respect to the nonvolatile components in the above-mentioned coating liquid can be treated as synonymous with the content ratios in the antistatic layer (A1).

イオン性帯電防止剤としても、特に限定はなく、従来公知のイオン性液体、イオン性界面活性剤が挙げられる。 The ionic antistatic agent is not particularly limited, and includes conventionally known ionic liquids and ionic surfactants.

イオン性液体は、液体で存在する塩をいい、アニオンとカチオンからなる。
イオン性液体のアニオンとしては、例えば、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、クロライド、テトラクロロアルミネート、ブロマイド、ヨーダイド等のハロゲン、トリフルオロメタンスルホンイミド等のイミド、シアナミド、トリフルオロメチルスルホニルアミド等のアミド、ブチルサルフォネート、メチルサルフェート、エチルサルフェート、ハイドロゲンサルフェート、オクチルサルフェート、アルキルサルフェート等のサルフェート、ブチルホスフェート等のホスフェート、ナイトレート、チオシアネート、アセテート、アミノアセテート、ラクテート等が挙げられる。中でも、帯電防止性に優れることから、イミド、アミド、サルフェートが好ましく、イミド、サルフェートがより好ましい。
Ionic liquids are salts that exist in liquid form and consist of anions and cations.
Examples of the anion of the ionic liquid include halogens such as tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, chloride, tetrachloroaluminate, bromide, and iodide, imides such as trifluoromethanesulfonimide, and amides such as cyanamide and trifluoromethylsulfonylamide. , sulfates such as butyl sulfonate, methyl sulfate, ethyl sulfate, hydrogen sulfate, octyl sulfate, alkyl sulfate, phosphates such as butyl phosphate, nitrate, thiocyanate, acetate, aminoacetate, lactate, and the like. Among these, imide, amide, and sulfate are preferred, and imide and sulfate are more preferred, since they have excellent antistatic properties.

イオン性液体のカチオンとしては、例えば、アンモニウム塩、イミダゾリウム塩、ホスホニウム塩、ピリジニウム塩、ピロリジニウム塩、ピロリニウム塩、トリアゾニウム塩等が挙げられ、中でも、帯電防止性に優れることから、アンモニウム塩、イミダゾリウム塩が好ましく、アンモニウム塩がより好ましい。 Examples of cations of ionic liquids include ammonium salts, imidazolium salts, phosphonium salts, pyridinium salts, pyrrolidinium salts, pyrrolinium salts, and triazonium salts. Among them, ammonium salts and imidazolium salts have excellent antistatic properties. Lium salts are preferred, and ammonium salts are more preferred.

アンモニウム塩としては、例えば、ブチルトリメチルアンモニウム、エチルジエチルプロピルアンモニウム、2-ヒドロキシエチル-トリエチルアンモニウム、メチル-トリオクチルアンモニウム、メチルトリオクチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラヘプチルアンモニウム、トリブチルメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、トリス(2-ヒドロキシ)メチルアンモニウム等が挙げられる。 Examples of ammonium salts include butyltrimethylammonium, ethyldiethylpropylammonium, 2-hydroxyethyl-triethylammonium, methyl-trioctylammonium, methyltrioctylammonium, tetrabutylammonium, tetraethylammonium, tetraheptylammonium, tributylmethylammonium, Examples include triethylmethylammonium and tris(2-hydroxy)methylammonium.

イミダゾリウム塩としては、例えば、1-アリル-3-メチルイミダゾリウム、1-ベンジル-3-メチルイミダゾリウム、1、3-ビス(シアノメチル)イミダゾリウム、1、3-ビス(シアノプロピル)イミダゾリウム、1-ブチル-2、3-ジメチルイミダゾリウム、4-(3-ブチル)-1-イミダゾリウム、1-(3-シアノプロピル)-3-メチルイミダゾリウム、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、1-デシル-3-メチルイミダゾリウム、1、3-ジエトキシイミダゾリウム、1、3-ジメトキシ-2-メチルイミダゾリウム、1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウム、1-メチル-3-オクチルイミダゾリウム、1-メチル-3-プロピルイミダゾリウム等が挙げられる。 Examples of imidazolium salts include 1-allyl-3-methylimidazolium, 1-benzyl-3-methylimidazolium, 1,3-bis(cyanomethyl)imidazolium, 1,3-bis(cyanopropyl)imidazolium , 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium, 4-(3-butyl)-1-imidazolium, 1-(3-cyanopropyl)-3-methylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium , 1-butyl-3-methylimidazolium, 1-decyl-3-methylimidazolium, 1,3-diethoxyimidazolium, 1,3-dimethoxy-2-methylimidazolium, 1-hexyl-3-methylimidazolium 1-methyl-3-octylimidazolium, 1-methyl-3-propylimidazolium, and the like.

ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、トリヘキシルテトラデシルホスホニウム等が挙げられる。 Examples of the phosphonium salt include tetrabutylphosphonium, tributylmethylphosphonium, trihexyltetradecylphosphonium, and the like.

ピリジウム塩としては、例えば、1-ブチル-3-メチルピリジウム、1-ブチル-4-メチルピリジウム、1-ブチルピリジウム、1-エチルピリジウム、1-(3-シアノプロピル)ピリジウム、3-メチル-4-プロピルピリジウム等が挙げられる。 Examples of pyridium salts include 1-butyl-3-methylpyridium, 1-butyl-4-methylpyridium, 1-butylpyridium, 1-ethylpyridium, 1-(3-cyanopropyl)pyridium, -methyl-4-propylpyridium and the like.

ピロリジニウム塩としては、例えば、1-ブチル-1-メチルピロリジニウム、2-メチルピロリジニウム、3-フェニルピロリジニウム等が挙げられる。 Examples of the pyrrolidinium salt include 1-butyl-1-methylpyrrolidinium, 2-methylpyrrolidinium, and 3-phenylpyrrolidinium.

ピロリニウム塩としては、例えば、2-アセチルピロリニウム、3-アセチルピロリニウム、1-(2-ニトロフェニル)ピロリニウム等が挙げられる。 Examples of pyrrolinium salts include 2-acetylpyrrolinium, 3-acetylpyrrolinium, and 1-(2-nitrophenyl)pyrrolinium.

イオン性界面活性剤としては、例えば、コール酸ナトリウム、デオキシコール酸ナトリウム、グリコール酸ナトリウム、タウロコール酸ナトリウム、タウロデオキシコール酸ナトリウム、N-ラウロイルサルコシンナトリウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。 Examples of ionic surfactants include sodium cholate, sodium deoxycholate, sodium glycolate, sodium taurocholate, sodium taurodeoxycholate, sodium N-lauroylsarcosine, hexadecyltrimethylammonium bromide, myristyltrimethylammonium bromide, and the like. can be mentioned.

上述したようなイオン性帯電防止剤としては、スルホン酸塩基を含有するものも好ましい。スルホン酸塩基含有帯電防止剤としては、公知の低分子型スルホン酸塩基含有化合物のほかに、高分子型帯電防止剤であるポリスチレンスルホン酸塩のような分子内にスルホン酸塩基成分を含有する樹脂を用いることができる。これらの中でも、高分子型帯電防止剤であるポリスチレンスルホン酸塩を主成分とする高分子化合物が、親水性のスルホン酸成分が多い点から好ましい。 As the above-mentioned ionic antistatic agent, one containing a sulfonic acid group is also preferable. As the sulfonic acid group-containing antistatic agent, in addition to known low-molecular-type sulfonic acid group-containing compounds, resins containing a sulfonic acid group component in the molecule such as polystyrene sulfonate, which is a polymeric antistatic agent, can be used. can be used. Among these, a polymer compound whose main component is polystyrene sulfonate, which is a polymer type antistatic agent, is preferable because it contains a large amount of hydrophilic sulfonic acid component.

分子内にスルホン酸塩基成分を含有する樹脂としては、ポリスチレンスルホン酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等のホモポリマー、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル等のアクリル系単量体とスチレンスルホン酸単量体との共重合物、アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸の各種金属/アミン塩と不飽和単量体の共重合体等が挙げられる。スルホン酸塩は金属塩とアミン塩の混合物であってもよい。 Examples of resins containing sulfonic acid base components in the molecule include homopolymers such as sodium salts, potassium salts, lithium salts, ammonium salts, and phosphonium salts of polystyrene sulfonic acid, and acrylic monomers such as acrylic esters or methacrylic esters. Copolymers of various metal/amine salts of acrylamide methylpropanesulfonic acid and unsaturated monomers, etc., may be mentioned. The sulfonate may be a mixture of metal and amine salts.

帯電防止層(A1)の厚みは、最終的に得られる積層体上の帯電防止層の厚みとして、0.003~1μmであることが好ましく、0.005~0.5μmであることがより好ましく、0.01~0.1μmであることがさらに好ましい。厚みを0.003μm以上とすることにより、良好な帯電防止性能が得られやすく、1μm以下とすることにより、外観の悪化や積層体製造時のブロッキングの問題が発生しにくく好ましい。 The thickness of the antistatic layer (A1) is preferably 0.003 to 1 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm, as the thickness of the antistatic layer on the finally obtained laminate. , more preferably 0.01 to 0.1 μm. By setting the thickness to 0.003 μm or more, good antistatic performance can be easily obtained, and by setting the thickness to 1 μm or less, problems such as deterioration of appearance and blocking during production of the laminate are less likely to occur.

層(A)に帯電防止層(A1)を設ける場合、帯電防止層(A1)を設ける工程、サンドブラスト処理等の表面粗さを付与する工程、どちらを先に行ってもよいが、均一な粗さと帯電防止層(A1)確保の点から、先に表面粗さを付与する工程を行った後、次に帯電防止層(A1)を設ける工程を行うことが好ましい。 When providing the antistatic layer (A1) on the layer (A), the process of providing the antistatic layer (A1) or the process of imparting surface roughness such as sandblasting may be performed first, but uniform roughness may be performed. From the viewpoint of securing the antistatic layer (A1), it is preferable to first perform the step of imparting surface roughness, and then perform the step of providing the antistatic layer (A1).

<層(B)>
層(B)は、23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)を主成分とする層である。樹脂(b)の貯蔵弾性率は、プレス成形時の成形体への追従性、密着性や層(B)の表面タック性の観点から、好ましくは70MPa以下であり、より好ましくは50MPa以下であり、さらに好ましくは30MPa以下であり、特に好ましくは10MPa以下である。また、好ましくは0.1MPa以上であり、より好ましくは0.5MPa以上であり、さらに好ましくは1MPa以上である。
23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下の樹脂(b)としては特に限定されるものではなく、例えば、オレフィン系エラストマー樹脂、スチレン系エラストマー樹脂、ポリエステル系エラストマー樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フッ素系エラストマー樹脂等が挙げられるが、耐熱性、絶縁性等の電気的特性、離型性等に優れる点から、シリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂としては特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、特に下記一般式(4)で示されるシロキサン骨格を有するシリコーンエラストマー樹脂が好ましく、これを硬化して層(B)とすることがより好ましい。下記一般式(4)において、式中のRの全てがメチル基であるポリジメチルシロキサンの他に、メチル基の一部が他のアルキル基、ビニル基、フェニル基、フルオロアルキル基等の1種又は2種以上で置換された各種ポリジメチルシロキサンを適宜選択することもできる。
<Layer (B)>
Layer (B) is a layer mainly composed of resin (b) having a storage modulus of 100 MPa or less at 23°C. The storage modulus of the resin (b) is preferably 70 MPa or less, more preferably 50 MPa or less, from the viewpoint of followability to the molded body during press molding, adhesion, and surface tackiness of the layer (B). , more preferably 30 MPa or less, particularly preferably 10 MPa or less. Moreover, it is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more, and still more preferably 1 MPa or more.
The resin (b) having a storage modulus of 100 MPa or less at 23°C is not particularly limited, and examples include olefin elastomer resins, styrene elastomer resins, polyester elastomer resins, urethane resins, epoxy resins, and fluorine resins. Examples include elastomer resins, but silicone resins are preferred because of their excellent heat resistance, electrical properties such as insulation, and mold releasability. The silicone resin is not particularly limited and conventionally known ones can be used, but a silicone elastomer resin having a siloxane skeleton represented by the following general formula (4) is particularly preferable, and it can be cured to form the layer (B). More preferred. In the following general formula (4), in addition to polydimethylsiloxane in which all R's in the formula are methyl groups, a part of the methyl groups is one type of other alkyl group, vinyl group, phenyl group, fluoroalkyl group, etc. Alternatively, various polydimethylsiloxanes substituted with two or more types can also be selected as appropriate.

Figure 0007451954000004
Figure 0007451954000004

また、シリコーン樹脂は、ビニル基を含有するポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン樹脂、特にシリコーンエラストマー樹脂であることも、圧縮永久歪みの調整の観点から好ましい。ビニル基を含有する場合は、ポリジメチルシロキサン全量に対するビニル基の含有量は、0.05モル%以上であることが好ましく、0.1モル%以上であることがより好ましく、0.5モル%以上であることがさらに好ましく、1モル%以上であることが特に好ましい。ビニル基の含有量が0.05モル%であれば、シリコーンエラストマー樹脂の架橋密度を調整しやすくなり、所望の圧縮永久歪みを有するシリコーンエラストマー樹脂を得ることができる。一方、ビニル基の含有量は5モル%以下であることが好ましく、4モル%以下であることがより好ましく、3モル%以下であることがさらに好ましく、2モル%以下であることが特に好ましい。5モル%以下であれば、シリコーンエラストマー樹脂が過度に硬化することがないため好ましい。 Further, it is also preferable that the silicone resin is a silicone resin whose main component is polydimethylsiloxane containing a vinyl group, particularly a silicone elastomer resin, from the viewpoint of adjusting the compression set. When containing a vinyl group, the content of the vinyl group based on the total amount of polydimethylsiloxane is preferably 0.05 mol% or more, more preferably 0.1 mol% or more, and 0.5 mol%. It is more preferably at least 1 mol %, particularly preferably at least 1 mol %. When the content of vinyl groups is 0.05 mol%, the crosslinking density of the silicone elastomer resin can be easily adjusted, and a silicone elastomer resin having a desired compression set can be obtained. On the other hand, the content of vinyl groups is preferably 5 mol% or less, more preferably 4 mol% or less, even more preferably 3 mol% or less, and particularly preferably 2 mol% or less. . A content of 5 mol % or less is preferable because the silicone elastomer resin will not be excessively cured.

シリコーンエラストマー樹脂を硬化する手段としては、硬化触媒を添加する方法、高温加熱する方法、架橋剤を添加する方法、そして放射線照射による架橋方法等が挙げられる。なかでも、放射線により硬化させることが好ましい。放射線による硬化は、触媒や架橋剤の残渣等による耐熱、耐光信頼性を損なう懸念がない。また、硬化時に熱が加わらないため、熱劣化の懸念もなく好ましい。 Examples of methods for curing the silicone elastomer resin include a method of adding a curing catalyst, a method of heating at high temperature, a method of adding a crosslinking agent, and a method of crosslinking by radiation irradiation. Among these, curing by radiation is preferable. When curing by radiation, there is no concern that heat resistance and light resistance reliability will be impaired due to residues of catalysts or crosslinking agents. Further, since no heat is applied during curing, there is no fear of thermal deterioration, which is preferable.

放射線としては、例えば電子線、X線、γ線等が挙げられる。これらの放射線は工業的にも広く利用されているものであり、容易に利用可能であり、エネルギー効率の良い方法である。これらの中でも、吸収損失がほとんどなく、透過性が高いという観点から、γ線を利用することが好ましい。 Examples of the radiation include electron beams, X-rays, and gamma rays. These radiations are widely used industrially, are easily available, and are energy efficient methods. Among these, it is preferable to use gamma rays from the viewpoint of almost no absorption loss and high transparency.

γ線の照射線量としては、樹脂種や架橋基の量、そして線源の種類により、適宜選択して決定することができる。例えば、γ線の照射線量は、20kGy以上であることが好ましく、50kGy以上であることがより好ましく、60kGyであることがさらに好ましい。照射線量が20kGy以上であれば、シリコーンエラストマー樹脂を十分に硬化させることができ、結果として所望の圧縮永久歪を得ることができる。一方、γ線の照射線量は150kGy以下であることが好ましく、120kGy以下であることがより好ましく、100kGy以下であることがさらに好ましい。照射線量が150kGy以下でれば、分解反応による低分子量成分の増加を抑制しやすい傾向となる。 The irradiation dose of γ-rays can be appropriately selected and determined depending on the type of resin, the amount of crosslinking groups, and the type of radiation source. For example, the irradiation dose of gamma rays is preferably 20 kGy or more, more preferably 50 kGy or more, and even more preferably 60 kGy. When the irradiation dose is 20 kGy or more, the silicone elastomer resin can be sufficiently cured, and as a result, a desired compression set can be obtained. On the other hand, the irradiation dose of gamma rays is preferably 150 kGy or less, more preferably 120 kGy or less, and even more preferably 100 kGy or less. If the irradiation dose is 150 kGy or less, the increase in low molecular weight components due to decomposition reactions tends to be easily suppressed.

このように硬化させて得られる層(B)の硬さは、JIS K6253-3:2012に基づいて測定されるタイプAデュロメータ硬さで3以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、20以上であることがさらに好ましい。一方、90以下であることが好ましく、80以下であることがより好ましく、70以下であることがさらに好ましい。硬さが3以上であることにより、層(B)の表面タック性が抑制され、得られる積層体の取扱い性が向上しやすい傾向となる。一方、硬さが90以下であれば、プレス成形時等の成形体への追従性、密着性が向上しやすい。
なお、層(B)の硬さを直接測定できない場合は、層(B)に用いる原料樹脂を同様の硬化条件で硬化させたものに対して、タイプAデュロメータ硬さを測定すればよいものとする。
The hardness of the layer (B) obtained by curing in this manner is preferably 3 or more, more preferably 10 or more in Type A durometer hardness measured based on JIS K6253-3:2012. It is preferably 20 or more, and more preferably 20 or more. On the other hand, it is preferably 90 or less, more preferably 80 or less, and even more preferably 70 or less. When the hardness is 3 or more, the surface tackiness of the layer (B) is suppressed, and the handleability of the resulting laminate tends to be improved. On the other hand, if the hardness is 90 or less, followability and adhesion to a molded product during press molding etc. are likely to be improved.
If the hardness of layer (B) cannot be directly measured, it is sufficient to measure the type A durometer hardness of the raw resin used for layer (B) cured under similar curing conditions. do.

層(B)のタイプAデュロメータ硬さを調整する方法としては、例えば、前記した放射線の照射量を調整する方法、シリコーンエラストマー樹脂に補強材として配合するシリカ等のフィラーの充填量を調整する方法、原料のシリコーンエラストマー樹脂の種類を適宜選択する方法、具体的には、フェニル基を有する樹脂を採用しフェニル基の含有量を調整する方法等が好ましく挙げられるが、放射線照射量を調整する方法が簡便でより好ましい。 Methods for adjusting the type A durometer hardness of layer (B) include, for example, the method of adjusting the amount of radiation irradiation described above, and the method of adjusting the amount of filler such as silica added as a reinforcing material to the silicone elastomer resin. Preferred examples include a method of appropriately selecting the type of silicone elastomer resin as a raw material, specifically a method of adopting a resin having phenyl groups and adjusting the content of phenyl groups, and a method of adjusting the amount of radiation irradiation. is simple and more preferable.

さらに、好ましく用いられる上記シリコーンエラストマー樹脂は、フュームドシリカ、沈殿シリカ、ケイソウ土、石英粉等の補強性充填剤や各種加工助剤、耐熱性向上剤等の他、エラストマーとしての機能性を持たせる各種添加剤を含有していてもよい。この機能性添加剤としては、難燃性付与剤、放熱性フィラー、導電性フィラー等が挙げられる。 Furthermore, the silicone elastomer resin that is preferably used has functionality as an elastomer, in addition to reinforcing fillers such as fumed silica, precipitated silica, diatomaceous earth, and quartz powder, various processing aids, and heat resistance improvers. It may contain various additives. Examples of the functional additive include a flame retardant agent, a heat dissipating filler, and a conductive filler.

このようなシリコーンエラストマー樹脂として、市販品を使用することもできる。市販品としては、信越化学工業社製ミラブル型シリコーンコンパウンドやモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製ミラブル型シリコーンゴムを使用することができる。 Commercially available products can also be used as such silicone elastomer resins. As commercially available products, a millable silicone compound manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and a millable silicone rubber manufactured by Momentive Performance Materials can be used.

層(B)は、本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、可塑剤、核剤、滑剤、顔料、染料等の添加剤や、23℃における貯蔵弾性率が100MPa超の樹脂を含んでいてもよい。 Layer (B) contains additives such as ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, plasticizers, nucleating agents, lubricants, pigments, and dyes, as well as storage elasticity at 23°C, within a range that does not impair the effects of the present invention. It may contain a resin having a modulus of more than 100 MPa.

層(B)の少なくとも一方の面の表面の粗さは、以下の(iii)、(iv)のいずれか又は両方の要件を満たすことが好ましい。
(iii)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(iv)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
The surface roughness of at least one side of the layer (B) preferably satisfies either or both of the following requirements (iii) and (iv).
(iii) Ten point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (iv) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more

Rzは、0.5μm以上であることがより好ましく、1μm以上であることがさらに好ましく、2μm以上であることが特に好ましく、3μm以上であることが最も好ましい。Rzが0.3μm以上であると、本発明の積層体同士を重ねた際、凸部が点接触することにより、積層体同士の付着が抑制されやすく、取扱い性に優れる傾向となるため好ましい。また、成形体やプレス板・金型への接触状態を良好とし位置合わせがしやすくなるとともに、成形体の生産性や寸法安定性が向上しやすい傾向となり好ましい。特に、プレス成形する際に、積層体と成形体との滑り性が十分に確保され位置合わせがしやすくなる点が好ましい。また、Rzは10μm以下であることが好ましく、8μm以下であることがより好ましく、7μm以下であることがさらに好ましく、6μm以下であることが特に好ましい。Rzが10μm以下であると、成形体やプレス板・金型に配置する際のハンドリング性が良好であり、プレス成形体の寸法安定性が良好となる傾向にあり好ましい。 Rz is more preferably 0.5 μm or more, even more preferably 1 μm or more, particularly preferably 2 μm or more, and most preferably 3 μm or more. It is preferable that Rz is 0.3 μm or more because when the laminates of the present invention are stacked together, the convex portions come into point contact, which tends to suppress adhesion of the laminates to each other, resulting in excellent handling properties. In addition, it is preferable because the contact state with the molded body, press plate, or mold becomes good and positioning becomes easy, and the productivity and dimensional stability of the molded body tend to be improved. In particular, it is preferable that during press molding, sufficient slipperiness between the laminate and the molded body is ensured, making positioning easier. Further, Rz is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, even more preferably 7 μm or less, and particularly preferably 6 μm or less. It is preferable that Rz is 10 μm or less, since the handling property when disposed in a molded body, a press plate, or a mold tends to be good, and the dimensional stability of the press-formed body tends to be good.

同様の理由で、層(B)の少なくとも一方の面の算術平均粗さ(Ra)、最大高さ粗さ(Ry)、凹凸の平均間隔(Sm)は、以下の範囲であることが好ましい。
Raは、0.05μm以上であることが好ましく、0.1μm以上であることがより好ましく、0.3μm以上であることがさらに好ましく、0.4μm以上であることが特に好ましく、0.5μm以上であることが最も好ましい。また、Raは5μm以下であることが好ましく、4μm以下であることがより好ましく、3μm以下であることがさらに好ましく、2μm以下であることが特に好ましく、1.5μm以下であることが最も好ましい。
For the same reason, the arithmetic mean roughness (Ra), maximum height roughness (Ry), and average spacing of unevenness (Sm) of at least one surface of the layer (B) are preferably in the following ranges.
Ra is preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, even more preferably 0.3 μm or more, particularly preferably 0.4 μm or more, and 0.5 μm or more. Most preferably. Further, Ra is preferably 5 μm or less, more preferably 4 μm or less, even more preferably 3 μm or less, particularly preferably 2 μm or less, and most preferably 1.5 μm or less.

Ryは、0.4μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましく、2μm以上であることがさらに好ましく、3μm以上であることが特に好ましく、3.5μm以上であることが最も好ましい。また、Ryは10μm以下であることが好ましく、9μm以下であることがより好ましく、8μm以下であることがさらに好ましく、7μm以下であることが特に好ましい。 Ry is preferably 0.4 μm or more, more preferably 1 μm or more, even more preferably 2 μm or more, particularly preferably 3 μm or more, and most preferably 3.5 μm or more. . Further, Ry is preferably 10 μm or less, more preferably 9 μm or less, even more preferably 8 μm or less, and particularly preferably 7 μm or less.

Smは、70μm以下であることが好ましく、60μm以下であることがより好ましく、55μm以下であることがさらに好ましく、50μm以下であることが特に好ましい。また、Smは1μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましく、10μm以上であることがさらに好ましい。 Sm is preferably 70 μm or less, more preferably 60 μm or less, even more preferably 55 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less. Further, Sm is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, and even more preferably 10 μm or more.

上記のような表面粗さを有する層(B)を得る方法としては、例えば、サンドブラスト処理、ショットブラスト処理、エッチング処理、彫刻処理、エンボスロール転写、エンボスベルト転写、エンボスフィルム転写、表面結晶化等種々の方法を用いることができる。特に、積層体を外力や汚染から保護し、搬送、巻き取り、貯蔵さらには積層体使用時のハンドリング性を改良できる点から、カバーシートを用いたエンボスフィルム転写による方法が好ましい。 Examples of methods for obtaining the layer (B) having the above-mentioned surface roughness include sandblasting, shotblasting, etching, engraving, embossing roll transfer, embossing belt transfer, embossing film transfer, surface crystallization, etc. Various methods can be used. In particular, a method using an embossed film transfer using a cover sheet is preferred because it protects the laminate from external forces and contamination and improves handling properties during transportation, winding, storage, and use of the laminate.

カバーシートは、エンボスフィルムであることが好ましく、層(B)にカバーシートを転写させることによって、所望の表面粗さの層(B)を得ることができる。 The cover sheet is preferably an embossed film, and by transferring the cover sheet to the layer (B), a layer (B) with a desired surface roughness can be obtained.

好ましいカバーシートとしては、それ自体が非粘着性(シートどうしが粘着しない)で強度が高いものが好ましく用いられる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のプラスチックフィルム、あるいはアルミ箔、銅箔等の金属箔が好適である。剥離性を向上させる目的で、表面にフッ素等の離型層を設けることも可能である。 As a preferable cover sheet, one that is itself non-adhesive (the sheets do not stick to each other) and has high strength is preferably used. Specifically, a plastic film such as polyethylene terephthalate (PET) or a metal foil such as aluminum foil or copper foil is suitable. For the purpose of improving releasability, it is also possible to provide a release layer of fluorine or the like on the surface.

さらに、層(B)に所望の表面粗さを転写するための凹凸を有していることが重要である。カバーシートの表面凹凸を形成させる方法としては、従来知られているブラスト法やケミカル法を用いることができる。 Furthermore, it is important that the layer (B) has irregularities for transferring the desired surface roughness. As a method for forming surface irregularities on the cover sheet, conventionally known blasting methods and chemical methods can be used.

カバーシートの厚さは、その材質、使用目的等に応じて適宜決定され、例えば、PETフィルム等のプラスチックフィルムであれば5~500μm程度、アルミ箔、銅箔等の金属箔であれば5~100μm程度であることが好ましい。 The thickness of the cover sheet is determined as appropriate depending on its material, purpose of use, etc. For example, the thickness of the cover sheet is approximately 5 to 500 μm for a plastic film such as PET film, and 5 to 500 μm for a metal foil such as aluminum foil or copper foil. The thickness is preferably about 100 μm.

なお、樹脂(b)として例えばシリコーンエラストマー樹脂を使用し、該樹脂を架橋して層(B)を形成する場合、例えば、層(A)/架橋前のシリコーンエラストマー樹脂層(B)/カバーシート順に積層し、この積層に放射線を照射して架橋硬化させることが、架橋前の層(B)の形状を固定・保持する点、生産性の点から好ましい。 In addition, when a silicone elastomer resin is used as the resin (b) and the layer (B) is formed by crosslinking the resin, for example, layer (A)/silicone elastomer resin layer (B) before crosslinking/cover sheet. It is preferable to stack the layers in order and irradiate the stacked layers with radiation to crosslink and harden them, from the viewpoint of fixing and maintaining the shape of the layer (B) before crosslinking and from the viewpoint of productivity.

層(B)の厚みは、10μm以上であることが好ましく、30μm以上であることがより好ましく、50μm以上であることがさらに好ましく、60μm以上であることが特に好ましく、70μm以上であることが最も好ましい。層(B)の厚みが10μm以上であると、積層体としてのゴム弾性の性質を得やすくなり、プレス成形等の際のクッション性や追従性が良好となりやすい。一方、厚みは、用途、コスト及び成形品の厚み精度の点から好ましくは1000μm以下であり、より好ましくは750μm以下であり、さらに好ましくは500μm以下、特に好ましくは300μm以下である。なお、本発明において厚みとは、任意の10点の厚みを測定したときの平均厚みをいう。 The thickness of layer (B) is preferably 10 μm or more, more preferably 30 μm or more, even more preferably 50 μm or more, particularly preferably 60 μm or more, and most preferably 70 μm or more. preferable. When the thickness of the layer (B) is 10 μm or more, it is easy to obtain rubber elastic properties as a laminate, and the cushioning properties and followability during press molding etc. are likely to be good. On the other hand, the thickness is preferably 1000 μm or less, more preferably 750 μm or less, still more preferably 500 μm or less, particularly preferably 300 μm or less, from the viewpoint of use, cost, and thickness accuracy of the molded product. In the present invention, the term "thickness" refers to the average thickness when thicknesses are measured at ten arbitrary points.

本発明では、23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)がポリエステル樹脂であり、23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)がシリコーン樹脂、特にシリコーンエラストマー樹脂である場合、層(A)と層(B)との間に、層(A)側から下塗り層及び/又は薄膜層をこの順に有することが、両者の接着性・密着性を向上させる点から好ましい。層(A)が帯電防止層(A1)を有する場合は、帯電防止層(A1)/層(A)/下塗り層及び/又は薄膜層/層(B)の順に積層されることが好ましい。また驚くべきことに、層(A)と層(B)との間に帯電防止層(A1)が存在すると、具体的には、層(A)/帯電防止層(A1)/下塗り層及び/又は薄膜層/層(B)、帯電防止層(A1)/層(A)/帯電防止層(A1)/下塗り層及び/又は薄膜層/層(B)の構成とすることで、層(A)と層(B)との接着性・密着性がより良好となることが明らかとなった。 In the present invention, the resin (a) having a storage modulus of 1000 MPa or more at 23°C is a polyester resin, and the resin (b) having a storage modulus of 100 MPa or less at 23°C is a silicone resin, particularly a silicone elastomer resin. In this case, it is preferable to have an undercoat layer and/or a thin film layer between the layer (A) and the layer (B) in this order from the layer (A) side, from the viewpoint of improving the adhesion and adhesion between the two. When the layer (A) has an antistatic layer (A1), it is preferable that the antistatic layer (A1)/layer (A)/undercoat layer and/or thin film layer/layer (B) be laminated in this order. Surprisingly, when the antistatic layer (A1) is present between the layer (A) and the layer (B), specifically, layer (A)/antistatic layer (A1)/undercoat layer and/or Alternatively, the layer (A ) and the layer (B) were found to have better adhesion and adhesion.

<下塗り層>
下塗り層は、非晶性ポリマーを主成分として含むことが好ましい。非晶性ポリマーとしては、層(A)に均一に塗布できるものであれば特に限定されるものではなく、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、非晶性ポリエステル樹脂等実質的に結晶性のないポリマーから適宜選択すればよい。
<Undercoat layer>
The undercoat layer preferably contains an amorphous polymer as a main component. The amorphous polymer is not particularly limited as long as it can be applied uniformly to the layer (A), and may be appropriately selected from substantially non-crystalline polymers such as polyurethane resin, acrylic resin, and amorphous polyester resin. Just choose.

具体例としては、ポリエステル樹脂及び/又はポリエーテル樹脂をウレタン結合等で直鎖状に高分子量化したポリウレタン樹脂、アクリル酸及び/又はメタクリル酸エステルの共重合体からなるアクリル樹脂、酸成分あるいはグリコール成分が2種類以上の単量体よりなる共重合ポリエステル樹脂が挙げられる。これら非晶性樹脂は、薄膜に塗工されるので、通常有機溶剤で希釈した状態、あるいは水中に乳化又は可溶化させて適度な濃度に調整したものが使用される。 Specific examples include polyurethane resins made by increasing the molecular weight of polyester resins and/or polyether resins into linear chains with urethane bonds, acrylic resins made from copolymers of acrylic acid and/or methacrylic esters, acid components, or glycols. Examples include copolyester resins whose components are composed of two or more types of monomers. Since these amorphous resins are applied to a thin film, they are usually used diluted with an organic solvent or emulsified or solubilized in water to adjust the concentration to an appropriate level.

下塗り層は、耐熱性、耐溶剤性を向上させる目的で、架橋構造を持つものであってもよく、この場合、上記非晶性ポリマーは、主鎖あるいは側鎖にカルボキシル基、水酸基、アミノ基等架橋性官能基を持つものであり、架橋剤としては、ポリイソシアネート、メラミン、多官能エポキシ樹脂、金属化合物等から適時選択される。また、塗工液には、上記架橋剤のほか、界面活性剤等からなるレベリング剤、シリカ等ブロッキング防止剤、増粘剤等が添加されていてもよい。 The undercoat layer may have a crosslinked structure for the purpose of improving heat resistance and solvent resistance. In this case, the amorphous polymer has a carboxyl group, hydroxyl group, or amino group in the main chain or side chain. It has iso-crosslinkable functional groups, and the crosslinking agent is appropriately selected from polyisocyanates, melamine, polyfunctional epoxy resins, metal compounds, etc. Further, in addition to the above-mentioned crosslinking agent, the coating liquid may contain a leveling agent such as a surfactant, an antiblocking agent such as silica, a thickener, and the like.

下塗り層の乾燥後の厚みは、0.01μm以上であることが好ましく、0.05μm以上であることがより好ましく、0.1μm以上であることがさらに好ましい。下塗り層の厚みが0.01μm以上であれば、塗布厚みの調整が容易であり、また、後述するシリコーン樹脂を含有する薄膜層との接着性も良好となるため好ましい。また、乾燥後の厚みは5μm以下であることが好ましく、4μm以下であることがより好ましく、3μm以下であることがさらに好ましい。乾燥後の厚みが5μm以下であれば、下塗り層の塗工がより容易になり好ましい。 The thickness of the undercoat layer after drying is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, and even more preferably 0.1 μm or more. If the thickness of the undercoat layer is 0.01 μm or more, it is preferable because the coating thickness can be easily adjusted and the adhesiveness with a thin film layer containing a silicone resin described below is also good. Further, the thickness after drying is preferably 5 μm or less, more preferably 4 μm or less, and even more preferably 3 μm or less. If the thickness after drying is 5 μm or less, the undercoat layer can be applied more easily, which is preferable.

また、塗布方法としては、使用する塗工液に応じて公知の方法を適用することができる。塗工液のレベリング性や密着性を上げる目的で、層(A)の塗工面にあらかじめコロナ処理等の表面処理を施すこともできる。 Moreover, as a coating method, a known method can be applied depending on the coating liquid used. In order to improve the leveling properties and adhesion of the coating liquid, the coated surface of the layer (A) may be subjected to a surface treatment such as corona treatment in advance.

<薄膜層>
薄膜層は、シリコーン樹脂を主成分として含有することが好ましい。シリコーン樹脂としては、塗布後、加熱又はUV照射等で架橋被膜を形成するものや、層(B)がシリコーンエラストマー樹脂である場合は、層(B)架橋時に同時に架橋被膜を形成するもの等が挙げられる。
<Thin film layer>
The thin film layer preferably contains silicone resin as a main component. Examples of silicone resins include those that form a crosslinked film by heating or UV irradiation after coating, and those that form a crosslinked film simultaneously when layer (B) is crosslinked if layer (B) is a silicone elastomer resin. Can be mentioned.

上記の薄膜層に使用可能なシリコーン樹脂の例として、付加型シリコーン樹脂、縮合型シリコーン樹脂、UV硬化型シリコーン樹脂等が挙げられる。付加型のシリコーン樹脂としては、ビニル基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとし、架橋剤としてポリメチルハイドロジェンシロキサンを配合し、白金触媒の存在下反応硬化させて得られるものが挙げられ、縮合型シリコーン樹脂としては、末端にシラノール基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとし、架橋剤としてポリメチルハイドロジェンシロキサンを配合し、有機スズ触媒存在下で加熱硬化して得られるものが挙げられる。 Examples of silicone resins that can be used in the thin film layer include addition type silicone resins, condensation type silicone resins, UV-curable silicone resins, and the like. Examples of addition-type silicone resins include those obtained by using polydimethylsiloxane containing vinyl groups as a base polymer, blending polymethylhydrogensiloxane as a crosslinking agent, and curing the mixture in the presence of a platinum catalyst. Examples of the type silicone resin include those obtained by using polydimethylsiloxane containing a silanol group at the terminal as a base polymer, blending polymethylhydrogensiloxane as a crosslinking agent, and curing by heating in the presence of an organotin catalyst.

UV硬化型シリコーン樹脂としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとするもの、メルカプト基とビニル基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとするもの、上記の付加型シリコーン樹脂配合物、あるいはカチオン硬化機構で硬化するエポキシ基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとするもの等に光重合開始剤を配合し、紫外線を照射することによって硬化させるものが挙げられる。 Examples of UV-curable silicone resins include those whose base polymer is polydimethylsiloxane containing an acryloyl group or methacryloyl group, those whose base polymer is polydimethylsiloxane containing a mercapto group and a vinyl group, and the above-mentioned addition type silicone resins. Examples include compounds in which a photopolymerization initiator is blended with a base polymer of polydimethylsiloxane containing an epoxy group that cures by a cationic curing mechanism, and cured by irradiation with ultraviolet rays.

上述のシリコーン樹脂配合物に溶剤を適時添加することにより塗工液を調整し、ポリエステル樹脂層(A)上に塗工することにより薄膜層を形成する。 A coating solution is prepared by appropriately adding a solvent to the above-mentioned silicone resin compound, and the coating solution is coated on the polyester resin layer (A) to form a thin film layer.

該塗工液には、前記下塗り層との親和性を上げる目的で、シランカップリング剤等の添加剤が含まれることが好ましい。この目的を満たすシランカップリング剤は、一般式YRSiXで表される化合物で、Yはビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等の有機官能基、Rはメチレン、エチレン、プロピレン等アルキレン基、Xはメトキシ基、エトキシ基等加水分解性官能基あるいはアルキル基である。具体的化合物として、例えばビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γーグリシジルプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシジルプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 The coating liquid preferably contains an additive such as a silane coupling agent for the purpose of increasing affinity with the undercoat layer. A silane coupling agent that satisfies this purpose is a compound represented by the general formula YRSiX3 , where Y is an organic functional group such as a vinyl group, epoxy group, amino group, or mercapto group, and R is an alkylene group such as methylene, ethylene, or propylene. , X is a hydrolyzable functional group such as a methoxy group or an ethoxy group, or an alkyl group. Specific compounds include, for example, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-glycidylpropyltrimethoxysilane, γ-glycidylpropyltriethoxysilane, N-β(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- Examples include β(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane.

薄膜層の厚みは、溶剤乾燥後で0.01μm以上であることが好ましく、0.03μm以上であることがより好ましく、0.05μm以上であることがさらに好ましい。塗布厚みが0.01μm以上であれば、均一な厚みの硬化被膜が得られ、かつ、層(B)との接着力も十分に得られやすい。また、前記組成のシリコーン樹脂は一般に膜強度がそれほど強くないため、積層体の剥離強度を評価する際樹脂層(B)で凝集破壊が起こる傾向にあるが、その厚みが1μm以下であれば、層(B)の凝集破壊を抑制し、積層体として十分な強度を得やすい傾向となる。かかる観点から、薄膜層の溶剤乾燥後の厚みは0.7μm以下であることがより好ましく、0.5μm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the thin film layer after solvent drying is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.03 μm or more, and even more preferably 0.05 μm or more. When the coating thickness is 0.01 μm or more, a cured film with a uniform thickness can be obtained, and sufficient adhesive strength with layer (B) can be easily obtained. Furthermore, since the silicone resin having the above composition generally does not have a very strong film strength, cohesive failure tends to occur in the resin layer (B) when evaluating the peel strength of the laminate, but if the thickness is 1 μm or less, Cohesive failure of the layer (B) is suppressed, and it tends to be easy to obtain sufficient strength as a laminate. From this viewpoint, the thickness of the thin film layer after solvent drying is more preferably 0.7 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or less.

薄膜層の塗工方法としては、前記下塗り層と同様に薄膜が精度よく得られる方法であれば特に限定されるものではなく、公知の塗工方法が適用できる。 The coating method for the thin film layer is not particularly limited as long as it can form a thin film with high precision like the undercoat layer, and any known coating method can be applied.

<摩擦係数>
本発明の積層体は、一方の積層体の前記層(A)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との静止摩擦係数が2.1以下であることが、積層体同士の剥離性、位置合わせ等のハンドリング性の点から好ましい。静止摩擦係数は1.8以下であることがより好ましく、1.5以下であることがより好ましく、1.3以下であることがさらに好ましく、1.2以下であることが特に好ましく、1以下であることが最も好ましい。静止摩擦係数は、積層体の運搬時や位置合わせ等のハンドリング性の点から0.3以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましく、0.7以上であることがさらに好ましい。
<Friction coefficient>
In the laminate of the present invention, the coefficient of static friction between the layer (A) side surface of one laminate and the layer (B) side surface of the other laminate is 2.1 or less. This is preferable from the viewpoint of handling properties such as peelability between bodies and positioning. The static friction coefficient is more preferably 1.8 or less, more preferably 1.5 or less, even more preferably 1.3 or less, particularly preferably 1.2 or less, and 1 or less. Most preferably. The coefficient of static friction is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and even more preferably 0.7 or more from the viewpoint of handling properties such as transportation and positioning of the laminate. preferable.

また、本発明の積層体は、一方の積層体の前記層(A)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との動摩擦係数が1.8以下であることが、積層体同士の剥離性、位置合わせ等のハンドリング性の点から好ましい。動摩擦係数は1.5以下であることがより好ましく、1.3以下であることがさらに好ましく、1.1以下であることが特に好ましく、0.9以下であることとりわけ好ましく、0.8以下であることが最も好ましい。動摩擦係数は、積層体の運搬時や位置合わせ等のハンドリング性の点から0.2以上であることが好ましく、0.4以上であることがより好ましく、0.6以上であることがさらに好ましい。
なお、前述したように、層(A)に帯電防止層(A1)が付与されている場合は、一方の積層体の該帯電防止層(A1)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との摩擦係数をいう。
Further, in the laminate of the present invention, the coefficient of dynamic friction between the layer (A) side surface of one laminate and the layer (B) side surface of the other laminate is 1.8 or less. This is preferable from the viewpoint of handling properties such as peelability and positioning of the laminates. The coefficient of dynamic friction is more preferably 1.5 or less, even more preferably 1.3 or less, particularly preferably 1.1 or less, particularly preferably 0.9 or less, and particularly preferably 0.8 or less. Most preferably. The dynamic friction coefficient is preferably 0.2 or more, more preferably 0.4 or more, and even more preferably 0.6 or more from the viewpoint of handling properties such as transportation and positioning of the laminate. .
In addition, as mentioned above, when the antistatic layer (A1) is provided to the layer (A), the surface on the side of the antistatic layer (A1) of one laminate and the layer (A1) of the other laminate B) Refers to the coefficient of friction with the side surface.

<比誘電率>
本発明においては、前記層(A)と前記層(B)との比誘電率差が0.15以上である場合に、本発明の効果が顕著となる。本発明の課題である積層体同士の付着、すなわち両者の剥離性の低下は、層(A)と層(B)との誘電率差が要因で発生する静電気が原因のひとつとして考えらえるためである。このような理由から、前記層(A)と前記層(B)との比誘電率差が0.2以上、さらには0.23以上、特に0.25以上である場合に、本発明の効果が顕著となる。
<Relative dielectric constant>
In the present invention, the effect of the present invention becomes remarkable when the dielectric constant difference between the layer (A) and the layer (B) is 0.15 or more. The adhesion of the laminates, which is a problem of the present invention, that is, the decrease in the releasability of the two, is thought to be caused by static electricity generated due to the dielectric constant difference between the layer (A) and the layer (B). It is. For these reasons, the effects of the present invention are obtained when the dielectric constant difference between the layer (A) and the layer (B) is 0.2 or more, further 0.23 or more, particularly 0.25 or more. becomes noticeable.

<積層構成>
本発明の積層体の層構成は特に限定されないが、本発明の効果が得られやすい点から、層(A)が最外層となる構成が好ましく、特に、層(A)と層(B)との両方が最外層となる構成であることが好ましい。例えば、層(A)/層(B)の2層構成や、層(A)と層(B)との間にその他の樹脂層を備えた構成が挙げられる。その他の樹脂層も特に限定されないが、例えば、上述した下塗り層や薄膜層、帯電防止層(A1)を適宜備えていることが好ましい。
また、前記したように、層(A)の層(B)が積層されている側と反対の面に帯電防止層(A1)が積層されていることも好ましく、この場合は、帯電防止層(A1)が最外層となる構成であることが好ましい。
<Laminated structure>
The layer structure of the laminate of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of easily obtaining the effects of the present invention, a structure in which the layer (A) is the outermost layer is preferred, and in particular, a structure in which the layer (A) and the layer (B) are It is preferable that both of these be the outermost layers. Examples include a two-layer structure of layer (A)/layer (B), and a structure in which another resin layer is provided between layer (A) and layer (B). Although other resin layers are not particularly limited, for example, it is preferable to include the above-mentioned undercoat layer, thin film layer, and antistatic layer (A1) as appropriate.
Further, as described above, it is also preferable that the antistatic layer (A1) is laminated on the side of the layer (A) opposite to the side on which the layer (B) is laminated, and in this case, the antistatic layer ( It is preferable that A1) be the outermost layer.

<製造方法>
本発明の積層体の製造方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用することができる。例えば、層(A)を作製し、これとは別に層(B)を作製し、これらを積層してもよく、層(A)を作製し、この層(A)上に層(B)を作製すると共に積層一体化してもよく、逆に層(B)を作製し、この層(B)上に層(A)を作製すると共に積層一体化してもよく、層(A)と層(B)を作製しつつこれらを積層一体化してもよい。
<Manufacturing method>
The method for manufacturing the laminate of the present invention is not particularly limited, and conventionally known methods can be employed. For example, a layer (A) may be produced, a layer (B) may be produced separately, and these may be laminated, or a layer (A) may be produced, and a layer (B) may be stacked on this layer (A). Alternatively, layer (B) may be prepared, layer (A) is formed on layer (B), and layer (A) may be integrated. Layer (A) and layer (B) may be integrated. ) may be laminated and integrated while producing them.

層(A)、層(B)を作製する工程としては、原料樹脂を溶融混練して、単軸又は二軸押出機により押出す方法が挙げられる。
層(A)と層(B)は、共押出、押出ラミネート、熱ラミネート、ドライラミネート等により積層することができる。具体的には、フィードブロック方式又はマルチマニホールド方式等によりブロック層(A)と層(B)を同時に混練・共押出して積層一体化してもよいし、層(A)と層(B)の作製をそれぞれ別々に行い層(A)と層(B)とを得た後、それらをラミネートして積層する方法であってもよい。
The process of producing layer (A) and layer (B) includes a method of melt-kneading raw resin and extruding it using a single-screw or twin-screw extruder.
Layer (A) and layer (B) can be laminated by coextrusion, extrusion lamination, heat lamination, dry lamination, or the like. Specifically, the block layer (A) and the layer (B) may be simultaneously kneaded and co-extruded using a feed block method or a multi-manifold method, etc. to form a single layer, or the layer (A) and the layer (B) may be formed. A method may also be used in which the layers (A) and (B) are obtained by performing the above steps separately, and then the layers are laminated.

共押出の場合、層(A)と層(B)とを、複数台の押出機を用いてフィードブロックやマルチマニホールドダイを通じ樹脂を合流させ、積層体を作製することができる。 In the case of coextrusion, a laminate can be produced by combining resins of layer (A) and layer (B) using a plurality of extruders through a feed block or a multi-manifold die.

押出ラミネートの場合、樹脂(b)を単軸或いは二軸押出機を用いてTダイ、Iダイ等から押出を行った後、ロール法、テンター法、チューブラー法等を用いて層(B)となる単層体を得る。続いて、樹脂(a)を、単軸或いは二軸押出機を用いてTダイ、Iダイ等から押出す際、キャスティングと同時に前記層(A)をラミネートすることで本発明の積層体を得ることができる。 In the case of extrusion lamination, the resin (b) is extruded through a T-die, I-die, etc. using a single-screw or twin-screw extruder, and then layer (B) is formed using a roll method, tenter method, tubular method, etc. A monolayer body is obtained. Subsequently, when extruding the resin (a) from a T-die, I-die, etc. using a single-screw or twin-screw extruder, the layer (A) is laminated at the same time as casting to obtain the laminate of the present invention. be able to.

熱ラミネート、ドライラミネートの場合、樹脂(b)を、単軸又は二軸押出機を用いてTダイ、Iダイ等から押出し、層(B)となる単層体を得る。また、同様の方法を用いて樹脂(a)からなる層(A)を作製する。続いて、層(A)及び層(B)を、加熱下または層間に接着層等を配置することでラミネートを行い、本発明の積層体を得ることができる。 In the case of thermal lamination or dry lamination, the resin (b) is extruded from a T-die, I-die, etc. using a single-screw or twin-screw extruder to obtain a monolayer body serving as the layer (B). Further, a layer (A) made of resin (a) is produced using a similar method. Subsequently, the layer (A) and the layer (B) are laminated under heating or by disposing an adhesive layer between the layers to obtain the laminate of the present invention.

本発明において、23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)がポリエステル樹脂であり、23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)がシリコーン樹脂、特にシリコーンエラストマー樹脂である場合、例えば、以下の様な方法を用いることができる。 In the present invention, the resin (a) having a storage modulus of 1000 MPa or more at 23°C is a polyester resin, and the resin (b) having a storage modulus of 100 MPa or less at 23°C is a silicone resin, particularly a silicone elastomer resin. In this case, for example, the following method can be used.

具体的な製造方法としては、層(A)の少なくとも片面に、下塗り層、薄膜層、層(B)をこの順に設け、該層(B)をγ線照射により硬化させることが好ましい。 As a specific manufacturing method, it is preferable to provide an undercoat layer, a thin film layer, and a layer (B) in this order on at least one side of the layer (A), and to cure the layer (B) by irradiation with gamma rays.

まず、層(A)の少なくとも片面に、下塗り層としての塗工液を塗布し、次いで乾燥、さらに必要に応じて熱架橋させることにより、下塗り層を形成させる。塗布方法としては、塗工液に適した公知の方法が適用でき、別工程で製膜されたプラスチックシート又はフィルムに塗布してもよいし、該プラスチックシート又はフィルムの未延伸シートに直接塗工液を塗布した後に延伸して、下塗り層を形成させたものであってもよい。また、塗工液のレベリング性や密着性を上げる目的で塗工面にあらかじめコロナ処理等の表面処理を施すこともできる。 First, a coating liquid as an undercoat layer is applied to at least one side of the layer (A), and then dried and further thermally crosslinked as necessary to form an undercoat layer. As a coating method, a known method suitable for the coating liquid can be applied, and it may be applied to a plastic sheet or film formed in a separate process, or it can be applied directly to an unstretched sheet of the plastic sheet or film. An undercoat layer may be formed by applying a liquid and then stretching it. Further, the coated surface may be subjected to surface treatment such as corona treatment in advance in order to improve the leveling properties and adhesion of the coating liquid.

次に、下塗り層上に、好ましくはシリコーン樹脂を含有する薄膜層を塗工する。塗布方法としては、前記の下塗り層と同様に、公知の方法を使用することができる。 Next, a thin film layer, preferably containing a silicone resin, is applied onto the undercoat layer. As a coating method, a known method can be used as in the case of the undercoat layer described above.

さらに、層(B)を、次の方法により形成する。樹脂(b)がシリコーンエラストマー樹脂である場合、まず、薄膜層の上に未架橋状態でシリコーンエラストマー樹脂からなる層(B)を積層する。積層方法としては、上記未架橋シリコーンエラストマー樹脂を押出成形、射出成形、カレンダー成形、プレス成形等によってシート状に成形した後に薄膜層の上に積層してもよく、また公知のコーティング方法によって、薄膜層の上に直接製膜するという方法であってもよい。 Furthermore, layer (B) is formed by the following method. When the resin (b) is a silicone elastomer resin, the layer (B) made of the silicone elastomer resin is first laminated on the thin film layer in an uncrosslinked state. As a lamination method, the uncrosslinked silicone elastomer resin may be formed into a sheet by extrusion molding, injection molding, calendar molding, press molding, etc. and then laminated on a thin film layer, or a thin film may be formed by a known coating method. A method of forming a film directly on the layer may also be used.

次いで、放射線により硬化させ、本発明の積層体を得ることができる。放射線としては、γ線、電子線、X線等が好適に使用できる。 Then, the laminate of the present invention can be obtained by curing with radiation. As the radiation, gamma rays, electron beams, X-rays, etc. can be suitably used.

上記のように、本発明においては、層(B)としてシリコーン樹脂、特にシリコーンエラストマー樹脂を用い、シリコーンエラストマー樹脂層(B)をγ線照射により硬化させることが好ましい。γ線の照射線量は、シリコーンエラストマー樹脂層(B)において所望の圧縮永久歪みを得る観点から、20kGy以上で照射することが好ましく、50kGy以上がより好ましく、60kGy以上であることがさらに好ましく、150kGy以下で照射することが好ましく、120kGy以下がより好ましく、100kGy以下であることがさらに好ましい。 As described above, in the present invention, it is preferable to use a silicone resin, particularly a silicone elastomer resin, as the layer (B), and to cure the silicone elastomer resin layer (B) by irradiation with gamma rays. From the viewpoint of obtaining a desired compression set in the silicone elastomer resin layer (B), the γ-ray irradiation dose is preferably 20 kGy or more, more preferably 50 kGy or more, even more preferably 60 kGy or more, and 150 kGy. It is preferable to irradiate at less than 120 kGy, more preferably at most 120 kGy, even more preferably at most 100 kGy.

また、この照射線量の選定には、シリコーンエラストマーの架橋密度の他、基材として使用するプラスチックフィルムの耐放射線性も考慮に入れる必要がある。この点、層(A)がポリエステル樹脂からなるものである場合は、一般に放射線に対する耐性に優れ、本発明の目的に極めて適合した基材である。 In addition, in selecting the irradiation dose, it is necessary to take into consideration the crosslinking density of the silicone elastomer as well as the radiation resistance of the plastic film used as the base material. In this regard, when the layer (A) is made of polyester resin, it is a base material that generally has excellent resistance to radiation and is extremely suitable for the purpose of the present invention.

本発明の積層体は、前記したように、積層体同士が付着しにくく、1枚ずつ取り出して使用する際に複数枚取り出されることがなく、また、積層体同士が付着しはがれ難いといった問題も発生することがないため、プレス成形時等の作業性・取扱い性に優れている。また、プレス成形後金型やプレス板を開いて製品を取り出す際に、積層体が金型・プレス板側に付着したままとなるといった問題も発生しにくいため、金型やプレス板を使用したプレス成形に好適に用いることができる。
具体的には、層(B)側が成形体側となるように積層体と積層体の間に成形体を配置して成形を行うプレス成形法が好適に使用できる。
As mentioned above, the laminate of the present invention has the problem that the laminates are difficult to stick to each other, so that when the laminates are taken out one by one for use, multiple sheets are not taken out, and the laminates are difficult to stick to each other and peel off. Since it does not occur, it has excellent workability and handling during press molding. In addition, when the mold or press plate is opened after press molding and the product is taken out, problems such as the laminate remaining attached to the mold or press plate side are less likely to occur, so using a mold or press plate is less likely to occur. It can be suitably used for press molding.
Specifically, a press molding method in which a molded body is placed between the laminates and molded so that the layer (B) side is the molded body side can be suitably used.

本発明の積層体は、プレス成形時の離型材として優れた特性を有しているので、例えば、電気・電子製品に組み込まれるIC、半導体、受動部品等のディスプレー・タッチパネル関連製品部材やLED照明製品部材等の成形体の製造に好適に用いることができる。 The laminate of the present invention has excellent properties as a mold release material during press molding, so it can be used, for example, in display/touch panel related product parts such as ICs, semiconductors, and passive components incorporated in electrical and electronic products, and LED lighting. It can be suitably used for manufacturing molded bodies such as product members.

貯蔵弾性率、比誘電率及びタイプAデュロメータ硬さ、得られた積層体表面の粗さ、摩擦係数及び積層体の重ね取り試験は、下記方法で行った。 Storage modulus, dielectric constant, type A durometer hardness, surface roughness of the obtained laminate, coefficient of friction, and stacking test of the laminate were conducted in the following manner.

<評価方法>
貯蔵弾性率:
粘弾性スペクトロメーター「DVA-200(アイティー計測制御(株)製)」により、JIS K7244-4:1999に準じて、温度範囲-100~250℃、昇温速度3℃/分、振動周波数1Hz、歪み0.1%、チャック間距離25mm、引張法の条件で測定した際の23℃における貯蔵弾性率を得た。なお、二軸延伸PETフィルムについては、フィルムのMD方向について測定を行った。
<Evaluation method>
Storage modulus:
Using a viscoelastic spectrometer "DVA-200 (manufactured by IT Keizai Control Co., Ltd.)", the temperature range was -100 to 250°C, the heating rate was 3°C/min, and the vibration frequency was 1Hz, in accordance with JIS K7244-4:1999. The storage elastic modulus at 23° C. was obtained when measured under the conditions of a strain of 0.1%, a distance between chucks of 25 mm, and a tensile method. In addition, regarding the biaxially stretched PET film, measurements were performed in the MD direction of the film.

比誘電率:
Hewlett Packard社 4284A(電極部はAgilent technology社製 Dielectric test fixture 16451B)により、JIS C2138:2007に準じて、温度20℃、相対湿度65%、印加電圧1V、周波数1MHzの条件で測定した。
Relative permittivity:
Hewlett Packard 4284A (electrode part is Agilent technology Dielectric test fixture 16451B) according to JIS C2138:2007, temperature 20°C, relative humidity 65%, applied voltage 1V, frequency 1MHz Measured under the following conditions.

タイプAデュロメータ硬さ:
JIS K6253-3:2012に基づき、タイプAデュロメータ(高分子計器社製)を用い測定した。
Type A durometer hardness:
It was measured using a type A durometer (manufactured by Kobunshi Keiki Co., Ltd.) based on JIS K6253-3:2012.

表面粗さ:
下記記載の方法で得られた積層体の表裏の表面粗さを、サーフコーダET4000A((株)小坂研究所製)で測定した。なお、表1中、Smが「-」は、測定値が200μmを超えることを意味する。
Surface roughness:
The surface roughness of the front and back surfaces of the laminate obtained by the method described below was measured using a Surfcorder ET4000A (manufactured by Kosaka Institute Co., Ltd.). In Table 1, "-" for Sm means that the measured value exceeds 200 μm.

摩擦係数:
下記記載の方法で得られた積層体から試験片を2枚切り出して行った。JIS K7125:1999を参照し、一方の試験片の層(A)側の面と他方の試験片の層(B)側の面とを試験開始前に15秒間接触保持させたのち、以下の条件で測定した。
装置:インテスコ社製すべり試験機
滑り片:全質量200g(接触面積が一辺63mmの正方形)
接触面積:40cm
試験速度:100mm/min
温度:23℃±2℃
相対湿度:50%±10%
Coefficient of friction:
Two test pieces were cut out from the laminate obtained by the method described below. Referring to JIS K7125:1999, the layer (A) side surface of one test piece and the layer (B) side surface of the other test piece were kept in contact for 15 seconds before starting the test, and then the following conditions were applied. It was measured with
Equipment: Slip tester manufactured by Intesco Sliding piece: Total mass 200 g (contact area is a square with a side of 63 mm)
Contact area: 40cm2
Test speed: 100mm/min
Temperature: 23℃±2℃
Relative humidity: 50% ± 10%

重ね取り試験:
下記記載の方法で得られた積層体から10cm×10cmの試験片を切り出し、これを表裏同じ方向にして10枚重ねた。30分後、10枚重ねられた1番上の試験片の四隅のうちの1つを手でつまんで持ち上げて評価した。持ち上げた試験片のみ取り出された場合を「○」、下の試験片も付着し複数枚持ち上がり取り出された場合を「×」として評価した。
Overlap test:
A 10 cm x 10 cm test piece was cut out from the laminate obtained by the method described below, and 10 test pieces were stacked with the front and back sides in the same direction. After 30 minutes, one of the four corners of the top 10 stacked test pieces was picked up by hand and evaluated. The case where only the lifted test piece was taken out was evaluated as "○", and the case where the lower test piece was also attached and multiple pieces were lifted and taken out was evaluated as "x".

また、樹脂(a)としてPET、樹脂(b)としてシリコーンエラストマー樹脂を用いる場合の例として、以下の条件で作製した測定用サンプルを用いたが、測定用サンプルの作製方法はこれらに限定されるものではない。 In addition, as an example of using PET as the resin (a) and silicone elastomer resin as the resin (b), a measurement sample prepared under the following conditions was used, but the method for preparing the measurement sample is limited to these. It's not a thing.

<貯蔵弾性率及び比誘電率測定用のサンプル>
層(A):
積層体の製造に用いた二軸延伸PETフィルムをそのまま用いた。
比誘電率測定用のサンプルには、真空蒸着機(アルバック機工社製 VTR-350M)を使用し、アルミニウムにより45mmφの電極の形成を行った。
<Sample for storage modulus and dielectric constant measurement>
Layer (A):
The biaxially stretched PET film used for producing the laminate was used as it was.
For the sample for measuring the dielectric constant, a 45 mmφ electrode was formed from aluminum using a vacuum evaporation machine (VTR-350M, manufactured by ULVAC Kiko Co., Ltd.).

層(B):
径100mmの2本カレンダに沿って供給された2枚の二軸延伸PETフィルム(三菱ケミカル(株)製ダイアホイルT-100)との間に、原料として用いるシリコーンエラストマー樹脂を供給し、ロール温度80℃の条件でロールにバンクを形成させ、PETフィルム/シリコーンエラストマー樹脂層(厚み100μm)/PETフィルムの積層体を作成した。得られた積層体に、吸収線量が50kGyとなるようにγ線を照射し、シリコーンエラストマー樹脂を架橋させた後、両面のPETフィルムを剥がし、測定用サンプルを得た。
比誘電率測定用のサンプルには、厚み10μm、45mmφのアルミ箔をそのまま貼り付け、電極の形成を行った。
Layer (B):
The silicone elastomer resin used as a raw material is supplied between two biaxially stretched PET films (Diafoil T-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) that are supplied along two calenders with a diameter of 100 mm, and the roll temperature is A bank was formed on the roll at 80° C. to create a laminate of PET film/silicone elastomer resin layer (thickness 100 μm)/PET film. The resulting laminate was irradiated with gamma rays at an absorbed dose of 50 kGy to crosslink the silicone elastomer resin, and then the PET films on both sides were peeled off to obtain a measurement sample.
Aluminum foil with a thickness of 10 μm and a diameter of 45 mm was directly attached to the sample for measuring the dielectric constant, and electrodes were formed thereon.

<タイプAデュロメータ硬さ測定用のサンプル>
原料として用いるシリコーンエラストマー樹脂を、2枚の二軸延伸PETフィルム(三菱ケミカル(株)製ダイアホイルT-100)ではさみ、200℃のプレス成形により厚み10mmのシリコーンエラストマー樹脂のシートを作成した。得られたシートに吸収線量が50kGyとなるようにγ線を照射して、測定用サンプルを得た。
<Sample for type A durometer hardness measurement>
The silicone elastomer resin used as a raw material was sandwiched between two biaxially stretched PET films (Diafoil T-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and press-molded at 200°C to create a sheet of silicone elastomer resin with a thickness of 10 mm. The obtained sheet was irradiated with gamma rays at an absorbed dose of 50 kGy to obtain a measurement sample.

以下に実施例の積層体について詳細を示すが、これらにより本発明は何ら制限を受けるものではない。実施例・比較例の積層体は、下記記載の方法により製造した。 Details of the laminates of Examples are shown below, but the present invention is not limited by these. The laminates of Examples and Comparative Examples were manufactured by the method described below.

実施例1:
<下塗り層及び薄膜層を有するPETフィルムの製造>
層(A)として、コロナ処理を施した厚み100μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱ケミカル(株)製 ダイアホイルT-100、貯蔵弾性率4950MPa、比誘電率3.16)を用い、該PETフィルムのコロナ処理が施されていない側の面にサンドブラスト処理を施した。
Example 1:
<Production of PET film having undercoat layer and thin film layer>
As layer (A), a corona-treated 100 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (Diafoil T-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, storage modulus 4950 MPa, dielectric constant 3.16) was used. , Sandblasting was performed on the side of the PET film that had not been subjected to corona treatment.

非晶性ポリエステル樹脂、(東洋紡績(株)製、バイロン240)14質量部、ポリイソシアネート(東ソー(株)製、コロネートL)2質量部を溶剤(MEK/トルエン=1/4(質量比))84質量部に希釈し下塗り層用の塗工液とした。
上記PETフィルムのコロナ処理が施された面に上記塗工液を乾燥後の厚みが1.0μmになるようにバーコーターで塗工し、ギアオーブン中で、100℃×10分間溶剤乾燥及び架橋を行ない下塗り層を形成した。
14 parts by mass of amorphous polyester resin (Vylon 240, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 2 parts by mass of polyisocyanate (Coronate L, manufactured by Tosoh Corporation), and a solvent (MEK/toluene = 1/4 (mass ratio)) ) It was diluted to 84 parts by mass to prepare a coating solution for an undercoat layer.
The above coating solution was applied to the corona-treated surface of the above PET film using a bar coater so that the thickness after drying would be 1.0 μm, and the solvent was dried and crosslinked in a gear oven at 100°C for 10 minutes. An undercoat layer was formed.

縮合型シリコーン樹脂組成物(東レ・ダウコーニングシリコーン(株)製、商品名SRX290)20質量部及び硬化剤(東レ・ダウコーニングシリコーン(株)製、商品名SRX242C)1.2質量部を溶剤(トルエン)78.8質量部に希釈して薄膜層用の塗工液を得た。この塗工液を上記下塗り層の上に乾燥後の厚みが0.2μmになるようにバーコーターで塗工し、ギアオーブン中で100℃×10分間乾燥・架橋を行い薄膜層を形成し、PET/下塗り層/薄膜層のPETフィルムを得た。 20 parts by mass of a condensation type silicone resin composition (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., trade name SRX290) and 1.2 parts by mass of a curing agent (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., trade name SRX242C) were mixed with a solvent ( Toluene) was diluted to 78.8 parts by mass to obtain a coating solution for a thin film layer. This coating solution was applied onto the undercoat layer using a bar coater so that the thickness after drying was 0.2 μm, and dried and crosslinked in a gear oven at 100°C for 10 minutes to form a thin film layer. A PET film of PET/undercoat layer/thin film layer was obtained.

<積層体の製造>
層(B)の原料として、ミラブル型シリコーンエラストマー樹脂(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 TSE2571-5U、貯蔵弾性率3.5MPa、比誘電率2.87、タイプAデュロメータ硬さ55)を使用し、径100mmの2本カレンダに沿って供給された上記PETフィルムの薄膜層上と、カバーシートとしてケミカル処理を施した二軸延伸PETフィルム(Ra=0.95μm)との間に上記シリコーンエラストマー樹脂を供給し、ロール温度80℃の条件でロールにバンクを形成させ、PETフィルム/シリコーンエラストマー樹脂層/カバーシートの積層体を作製した。
得られた積層体に、吸収線量が50kGyとなるようにγ線を照射し、シリコーンエラストマー樹脂を架橋させることによりPETフィルムとシリコーンエラストマー樹脂層とが一体化された積層体(層(A)/下塗り層/薄膜層/層(B)/カバーシート)を得た。層(B)の厚みは100μmであった。
この積層体からカバーシートを剥離し、評価用の層(A)/下塗り層/薄膜層/層(B)の積層体とした。
得られた積層体について、上記方法で評価した結果を表1に示す。
<Manufacture of laminate>
As a raw material for layer (B), a millable silicone elastomer resin (manufactured by Momentive Performance Materials, TSE2571-5U, storage modulus 3.5 MPa, dielectric constant 2.87, type A durometer hardness 55) was used. The silicone elastomer resin is placed between the thin film layer of the PET film fed along two calenders with a diameter of 100 mm and the biaxially stretched PET film (Ra=0.95 μm) which has been chemically treated as a cover sheet. was supplied and a bank was formed on the roll at a roll temperature of 80°C to produce a laminate of PET film/silicone elastomer resin layer/cover sheet.
The resulting laminate was irradiated with gamma rays at an absorbed dose of 50 kGy to crosslink the silicone elastomer resin, thereby producing a laminate (layer (A)/ Undercoat layer/thin film layer/layer (B)/cover sheet) was obtained. The thickness of layer (B) was 100 μm.
The cover sheet was peeled off from this laminate to obtain a laminate of layer (A)/undercoat layer/thin film layer/layer (B) for evaluation.
Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate using the above method.

実施例2:
実施例1において、カバーシートをケミカル処理が施されていない二軸延伸PETフィルム(三菱ケミカル(株)製 ダイアホイルT-100)に代えた以外は実施例1と同様にして、積層体を得た。
得られた積層体について、上記方法で評価した結果を表1に示す。
Example 2:
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the cover sheet was replaced with a biaxially stretched PET film (Diafoil T-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) that was not subjected to chemical treatment. Ta.
Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate using the above method.

比較例1:
実施例1において、用いるPETフィルムにサンドブラスト処理を施さなかったこと以外は実施例1と同様にして、積層体を得た。
得られた積層体について、上記方法で評価した結果を表1に示す。
Comparative example 1:
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the PET film used in Example 1 was not subjected to sandblasting.
Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate using the above method.

比較例2:
実施例1において、用いるPETフィルムにサンドブラスト処理を施さず、カバーシートをケミカル処理が施されていない二軸延伸PETフィルムに代えた以外は実施例1と同様にして、積層体を得た。
得られた積層体について、上記方法で評価した結果を表1に示す。
Comparative example 2:
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the PET film used in Example 1 was not subjected to sandblasting and the cover sheet was replaced with a biaxially stretched PET film that was not subjected to chemical treatment.
Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate using the above method.

Figure 0007451954000005
Figure 0007451954000005

層(A)側の表面粗さが所望の範囲内である実施例1、2では、重ね取り試験において良好な結果が得られた。
一方、層(A)側の粗さが小さい比較例1、2では、重ね取り試験において積層体が複数枚取り出されるという結果となった。
In Examples 1 and 2, in which the surface roughness on the layer (A) side was within the desired range, good results were obtained in the stacking test.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 where the roughness on the layer (A) side was small, a plurality of laminates were taken out in the stacking test.

上記結果をふまえると、さらに次のような実施形態の場合も、上記実施例と同様の効果を得ることができると考えられる。 Based on the above results, it is considered that the following embodiments can also achieve the same effects as the above embodiments.

(例1、2)
実施例1、2において、ミラブル型シリコーンエラストマー樹脂として、信越シリコーン社製 KE-581-U(貯蔵弾性率6.0MPa、タイプAデュロメータ硬さ80)を用いる以外は実施例1、2と同様の方法で製造される積層体。
(Example 1, 2)
Examples 1 and 2 were the same as Examples 1 and 2 except that KE-581-U (storage modulus 6.0 MPa, type A durometer hardness 80) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. was used as the millable silicone elastomer resin. A laminate manufactured by the method.

(例3、4)
実施例1、2において、ミラブル型シリコーンエラストマー樹脂として、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 TSE2913-U(貯蔵弾性率1.2MPa、比誘電率2.69、タイプAデュロメータ硬さ20)を用いる以外は実施例1、2と同様の方法で製造される積層体。
(Example 3, 4)
In Examples 1 and 2, TSE2913-U manufactured by Momentive Performance Materials (storage modulus 1.2 MPa, dielectric constant 2.69, type A durometer hardness 20) was used as the millable silicone elastomer resin. is a laminate manufactured by the same method as in Examples 1 and 2.

(例5、6)
実施例1、2において、積層体の製造に用いるPETフィルムのサンドブラスト処理が施された面に帯電防止層(A1)としてアニオン性の帯電防止剤を使用した帯電防止層を設ける以外は実施例1、2と同様の方法で製造される積層体。
なお、帯電防止層(A1)側の表面抵抗率の測定方法は以下の通りとし、層(A)の表面粗さは、帯電防止層(A1)の表面粗さとして測定する。
(Example 5, 6)
Example 1 except that in Examples 1 and 2, an antistatic layer using an anionic antistatic agent was provided as an antistatic layer (A1) on the sandblasted surface of the PET film used for producing the laminate. , a laminate manufactured by the same method as 2.
The method for measuring the surface resistivity on the antistatic layer (A1) side is as follows, and the surface roughness of the layer (A) is measured as the surface roughness of the antistatic layer (A1).

表面抵抗率:
得られた積層体から試験片を切り出し、試験箱レジスティビティ・チェンバー R12702A/Bに入れ、デジタル超高抵抗/微小電流計 R8340/8340A(ともに、エーディーシー社製)を用いて、電圧500V、温度23℃、湿度50%の条件で、JIS K6911:2006(5.13)に準拠し表面抵抗率を測定する。
Surface resistivity:
A test piece was cut out from the obtained laminate, placed in a test box Resistivity Chamber R12702A/B, and measured at a voltage of 500V and a temperature using a digital ultra-high resistance/microcurrent meter R8340/8340A (both manufactured by ADC). Surface resistivity is measured in accordance with JIS K6911:2006 (5.13) under conditions of 23° C. and 50% humidity.

(例7、8)
上記例5、6において、ミラブル型シリコーンエラストマー樹脂として、信越シリコーン社製 KE-581-U(貯蔵弾性率6.0MPa、タイプAデュロメータ硬さ80)を用いる以外は例5、6と同様の方法で製造される積層体。
(Example 7, 8)
In Examples 5 and 6 above, the same method as in Examples 5 and 6 was used except that KE-581-U manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. (storage modulus 6.0 MPa, type A durometer hardness 80) was used as the millable silicone elastomer resin. A laminate manufactured by.

(例9、10)
上記例5、6において、ミラブル型シリコーンエラストマー樹脂として、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 TSE2913-U(貯蔵弾性率1.2MPa、比誘電率2.69、タイプAデュロメータ硬さ20)を用いる以外は例5、6と同様の方法で製造される積層体。
(Example 9, 10)
In Examples 5 and 6 above, except for using TSE2913-U manufactured by Momentive Performance Materials (storage modulus 1.2 MPa, dielectric constant 2.69, type A durometer hardness 20) as the millable silicone elastomer resin. is a laminate produced in the same manner as in Examples 5 and 6.

Claims (13)

23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)を主成分とする層(A)と23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)を主成分とする層(B)とを含む積層体であって、少なくとも該層(A)の該層(B)が積層されていない側の面の表面の粗さが以下の(i)、(ii)のいずれか又は両方の要件を満たし、一方の積層体の前記層(A)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との静止摩擦係数が2.1以下であることを特徴とする積層体。
(i)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(ii)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
A layer (A) whose main component is a resin (a) whose storage modulus at 23°C is 1000 MPa or more; and a layer (B) whose main component is a resin (b) whose storage modulus at 23°C is 100 MPa or less. A laminate comprising: at least the surface roughness of the side of the layer (A) on which the layer (B) is not laminated satisfies either or both of the following requirements (i) and (ii): A laminate that satisfies the following and has a static friction coefficient of 2.1 or less between a surface on the layer (A) side of one laminate and a surface on the layer (B) side of the other laminate. .
(i) 10-point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (ii) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more
23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)を主成分とする層(A)と23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)を主成分とする層(B)とを含む積層体であって、少なくとも該層(A)の該層(B)が積層されていない側の面の表面の粗さが以下の(i)、(ii)のいずれか又は両方の要件を満たし、一方の積層体の前記層(A)側の面と他方の積層体の前記層(B)側の面との動摩擦係数が1.8以下であることを特徴とする積層体。
(i)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(ii)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
A layer (A) whose main component is a resin (a) whose storage modulus at 23°C is 1000 MPa or more; and a layer (B) whose main component is a resin (b) whose storage modulus at 23°C is 100 MPa or less. A laminate comprising: at least the surface roughness of the side of the layer (A) on which the layer (B) is not laminated satisfies either or both of the following requirements (i) and (ii): A laminate which satisfies the following and has a dynamic friction coefficient of 1.8 or less between a surface on the layer (A) side of one laminate and a surface on the layer (B) side of the other laminate .
(i) 10-point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (ii) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more
23℃における貯蔵弾性率が1000MPa以上である樹脂(a)を主成分とする層(A)と23℃における貯蔵弾性率が100MPa以下である樹脂(b)を主成分とする層(B)とを含む積層体であって、少なくとも該層(A)の該層(B)が積層されていない側の面の表面の粗さが以下の(i)、(ii)のいずれか又は両方の要件を満たし、前記層(A)と前記層(B)との比誘電率差が0.15以上であることを特徴とする積層体。
(i)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(ii)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
A layer (A) whose main component is a resin (a) whose storage modulus at 23°C is 1000 MPa or more; and a layer (B) whose main component is a resin (b) whose storage modulus at 23°C is 100 MPa or less. A laminate comprising: at least the surface roughness of the side of the layer (A) on which the layer (B) is not laminated satisfies either or both of the following requirements (i) and (ii): A laminate that satisfies the following and has a dielectric constant difference of 0.15 or more between the layer (A) and the layer (B) .
(i) 10-point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (ii) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more
前記層(A)の少なくとも一方の面の表面の最大高さ粗さ(Ry)が0.3μm以上である、請求項1~3のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 3 , wherein the maximum height roughness (Ry) of at least one surface of the layer (A) is 0.3 μm or more. 前記層(A)の少なくとも一方の面の表面の凹凸の平均間隔(Sm)が90μm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4 , wherein the average interval (Sm) of the unevenness on the surface of at least one side of the layer (A) is 90 μm or less. 前記層(B)の少なくとも一方の面の表面の粗さが以下の(iii)、(iv)のいずれか又は両方の要件を満たす、請求項1~のいずれか1項に記載の積層体。
(iii)10点平均粗さ(Rz)が0.3μm以上である
(iv)算術平均粗さ(Ra)が0.05μm以上である
The laminate according to any one of claims 1 to 5 , wherein the surface roughness of at least one side of the layer (B) satisfies either or both of the following requirements (iii) and (iv). .
(iii) 10-point average roughness (Rz) is 0.3 μm or more (iv) Arithmetic average roughness (Ra) is 0.05 μm or more
前記層(B)の少なくとも一方の面の表面の最大高さ粗さ(Ry)が0.4μm以上である、請求項1~のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the maximum height roughness (Ry) of at least one surface of the layer (B) is 0.4 μm or more. 前記層(B)の少なくとも一方の面の表面の凹凸の平均間隔(Sm)が70μm以下である、請求項1~のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the average spacing (Sm) of the unevenness on the surface of at least one side of the layer (B) is 70 μm or less. 前記樹脂(a)がポリエステル樹脂である、請求項1~のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 8 , wherein the resin (a) is a polyester resin. 前記樹脂(b)がシリコーン樹脂である、請求項1~のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 9 , wherein the resin (b) is a silicone resin. 前記樹脂(a)がポリエチレンテレフタレート樹脂である、請求項1~10のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 10 , wherein the resin (a) is a polyethylene terephthalate resin. プレス成形に用いる、請求項1~11のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 11 , which is used for press molding. 請求項1~12のいずれか1項に記載の積層体を用いたプレス成形法であって、前記層(B)側が成形体側となるように該積層体と該積層体の間に成形体を配置することを特徴とするプレス成形法。
A press molding method using the laminate according to any one of claims 1 to 12 , wherein a molded body is placed between the laminates so that the layer (B) side is the molded body side. A press molding method characterized by placing.
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