JP7446525B2 - Absorbent manufacturing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、使い捨ておむつ等の吸収性物品に係る吸収体を製造装置に係り、吸収体材料を積繊するためのパターンプレートと、このパターンプレートを外周面に配置して回転する回転ドラムに容易かつ確実に着脱する技術に関する。 The present invention relates to an apparatus for manufacturing an absorbent body for absorbent articles such as disposable diapers, and the present invention relates to a pattern plate for stacking absorbent material, and a pattern plate for stacking absorbent material, and a rotating drum that rotates by arranging this pattern plate on the outer peripheral surface. It also relates to technology for securely attaching and detaching.

尿や経血等の排泄液を吸収する吸収性物品の一例として、使い捨ておむつや生理用ナプキン等が使用されている。そして、これらの吸収性物品は、排泄液を吸収する部材として、パルプ繊維や粒状の高吸収性ポリマー(以下、SAPとも言う)などの液体の吸収体材料を単票状に成形してなる吸収体を有している。 Disposable diapers, sanitary napkins, and the like are used as examples of absorbent articles that absorb excretory fluids such as urine and menstrual blood. These absorbent articles are made by molding liquid absorbent materials such as pulp fibers and granular superabsorbent polymers (hereinafter also referred to as SAP) into single sheets as members for absorbing excretory liquid. It has a body.

上記の吸収体は、例えば特許文献1(特開2014-100440号公報)に示されるような製造装置により生成される。ここで、前記製造装置の概略構成について図9を参照して説明する。製造装置11は回転ドラム12を有している。回転ドラム12の外周面12Dには、吸収体Pが形成されるように、後述のパターンプレート21が周方向Dに複数並設されている。 The above-mentioned absorbent body is produced by, for example, a manufacturing apparatus as disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2014-100440). Here, a schematic configuration of the manufacturing apparatus will be described with reference to FIG. 9. The manufacturing device 11 has a rotating drum 12. On the outer circumferential surface 12D of the rotating drum 12, a plurality of pattern plates 21, which will be described later, are arranged in parallel in the circumferential direction D so that an absorbent body P is formed.

回転ドラム12内には、回転ドラム12の回転には追従せず、固定され、該回転ドラム12の軸を所定角度に設けた区画壁により、負圧区画12a、正圧区画12b、無圧区画12cが形成され、さらに負圧区画12aでは吸気を、正圧区画12bでは排気を行う吸排気機構(不図示)が設けられている。 Inside the rotating drum 12, a negative pressure section 12a, a positive pressure section 12b, and a no-pressure section are defined by partition walls that do not follow the rotation of the rotating drum 12 but are fixed, and the axis of the rotating drum 12 is set at a predetermined angle. 12c, and is further provided with an intake/exhaust mechanism (not shown) that takes in air in the negative pressure section 12a and exhausts air in the positive pressure section 12b.

また、回転ドラム12の周方向Dの所定位置には、回転ドラム12内の負圧区画12aに対向して散布ダクト13が設けられている。この散布ダクト13は、負圧区画12aに位置する回転中の回転ドラム12の外周面12Dに向けて、パルプ繊維及びSAPなどを混合した粉体状の吸収体材料Zを散布するものである。 Furthermore, a dispersion duct 13 is provided at a predetermined position in the circumferential direction D of the rotating drum 12 so as to face the negative pressure section 12a within the rotating drum 12. This dispersion duct 13 is for dispersing a powdered absorbent material Z mixed with pulp fibers, SAP, etc. toward the outer circumferential surface 12D of the rotating rotating drum 12 located in the negative pressure section 12a.

回転ドラム12の周方向Dにおいて散布ダクト13の位置(負圧区画12a)の領域を通過する際に、該負圧区画12aで生じる吸気と、該散布ダクト13からの散布によりパターンプレート21の後述の孔21a上に吸収体材料Zが吸引堆積される。 When passing through the area of the position of the spreading duct 13 (negative pressure section 12a) in the circumferential direction D of the rotating drum 12, the pattern plate 21 is The absorbent material Z is deposited on the holes 21a by suction.

そして、回転ドラム12の負圧区画12aの周方向Dにおける下流側の正圧区画12bの領域を通過する際に、排気により、吸引体積された吸収体性材料Zが外周面12Dから剥離し、単票状の吸収体Pがさらに下流工程へ搬送される。 Then, when passing through the region of the positive pressure section 12b on the downstream side in the circumferential direction D of the negative pressure section 12a of the rotating drum 12, the absorbent material Z that has been sucked and volumized is peeled off from the outer peripheral surface 12D due to exhaust gas, The cut-shaped absorbent body P is further conveyed to a downstream process.

図10及び図11には、回転ドラム12とこの回転ドラム12の周面に設けられるパターンプレート21の関係を示している。図10は、一部のパターンプレート21を取り外した回転ドラム12の概略斜視図であり、図11は、パターンプレート21の構成を示した分解斜視図である。 10 and 11 show the relationship between the rotating drum 12 and the pattern plate 21 provided on the circumferential surface of the rotating drum 12. FIG. 10 is a schematic perspective view of the rotating drum 12 with a part of the pattern plate 21 removed, and FIG. 11 is an exploded perspective view showing the structure of the pattern plate 21.

パターンプレート21は、その分割数において回転ドラム12の外周面12Dの曲率に対応した円弧状とされ、複数の孔21aが形成された表層板21Aと、この表層板21Aの(回転ドラム12における)内周面から裏打ち補強すべく表層板21Aの内周面に当接固定された棒部B1,B2が枠有の格子状に組まれた補強板21Bと、表層板21Aを部分的に覆って目的とする吸収体Pの平面視形状範囲で該表層板21Aの孔21aを露出させるガイド板21Cと、有している。 The pattern plate 21 has an arc shape corresponding to the curvature of the outer circumferential surface 12D of the rotating drum 12 in terms of the number of divisions, and includes a surface plate 21A in which a plurality of holes 21a are formed, and the surface plate 21A (in the rotating drum 12). Bars B1 and B2 are fixed in contact with the inner circumferential surface of the surface plate 21A for lining and reinforcement from the inner circumferential surface, and the reinforcing plate 21B is assembled in a frame lattice shape and partially covers the surface plate 21A. It has a guide plate 21C that exposes the hole 21a of the surface plate 21A within the intended shape range of the absorber P in plan view.

特許文献1を含む一般的な製造装置11は、パターンプレート21に散布ダクト13から吹き付けられた吸収体材料Zがガイド板21Cから露出した孔21a部分に堆積することで吸収体Pが形成され、この吸収体Pが正圧区画12bで回転ドラム12から剥離される。 In a general manufacturing apparatus 11 including Patent Document 1, an absorbent material Z is sprayed onto a pattern plate 21 from a dispersion duct 13 and deposited in a hole 21a portion exposed from a guide plate 21C, thereby forming an absorbent material P. This absorbent body P is peeled off from the rotating drum 12 in the positive pressure section 12b.

上記製造を繰り返すうち、表層板21Aの孔21aが負圧区画12aの負圧、正圧区画12bの正圧によっても吸収体材料Zが孔21aから排除できずに目詰まりが生じる。そこで、定期的に、パターンプレート21を回転ドラム12から外して、パターンプレート21に高圧水を噴射等して目詰まりを解消するようにしている。 As the above manufacturing process is repeated, the holes 21a of the surface plate 21A become clogged because the absorbent material Z cannot be removed from the holes 21a even by the negative pressure in the negative pressure section 12a and the positive pressure in the positive pressure section 12b. Therefore, the pattern plate 21 is periodically removed from the rotating drum 12 and high-pressure water is sprayed onto the pattern plate 21 to eliminate clogging.

また、上記製造装置11では、吸収体Pによって、大きさ、穴21aの露出形状の異なるパターンプレート21を取り付ける(取り換える)ことが可能となっており、パターンプレート21の取り換えの際にも、パターンプレート21を回転ドラム12から外さなければならない。 In addition, in the above-mentioned manufacturing apparatus 11, it is possible to attach (replace) pattern plates 21 with different sizes and exposed shapes of holes 21a by the absorber P, and even when replacing the pattern plates 21, the pattern plates 21 can be attached (replaced). Plate 21 must be removed from rotating drum 12.

従来、回転ドラム12に対するパターンプレート21を取り外しと取り付けは、回転ドラム12の円周上において狭く作業動作が極端に制限される局所空間で行われており、非常に手間がかかるといった問題があった。また、回転ドラム12に対するパターンプレート21を取り付けに関しては、前記のとおり局所空間において限られた作業動作で行うため、作業を確実に行うには困難であった。 Conventionally, removing and attaching the pattern plate 21 to the rotating drum 12 has been carried out in a narrow space on the circumference of the rotating drum 12, where working movements are extremely restricted, and this has been very time-consuming. . Further, as for attaching the pattern plate 21 to the rotating drum 12, it is difficult to perform the work reliably because the work is carried out in a limited space as described above.

そこで、特許文献2(特許登録第5765909号公報)には、限られた作業空間でパターンプレート21を回転ドラム12から容易に取り外し、回転ドラム12にパターンプレート21を比較的容易に取り付けることができる構成が提案されている。 Therefore, Patent Document 2 (Patent Registration No. 5765909) discloses that the pattern plate 21 can be easily removed from the rotating drum 12 in a limited working space, and the pattern plate 21 can be relatively easily attached to the rotating drum 12. A configuration is proposed.

すなわち、特許文献2は、ドラム本体と、複数のパターンプレートと、パターンプレートをドラム本体の外周面上に着脱可能に保持する複数の保持機構を備え、各保持機構は、ドラム本体の一側に移動不能に取り付けられた固定フックであって、ドラム本体の外周面との間に固定側保持溝を形成する固定フックと、ドラム本体の他側に保持位置と解放位置との間を移動可能に取り付けられた可動フックであって、保持位置にあるときにドラム本体の外周面との間に可動側保持溝を形成し解放位置にあるときに可動側保持溝を開放する可動フックと、を備え、可動フックが保持位置にあるときにパターンプレートの両側部がこれら固定側保持溝内及び可動側保持溝内にそれぞれ受容されることによりパターンプレートがドラム本体に保持される構成とされている。 That is, Patent Document 2 includes a drum body, a plurality of pattern plates, and a plurality of holding mechanisms that removably hold the pattern plates on the outer peripheral surface of the drum body, and each holding mechanism is attached to one side of the drum body. A fixed hook that is immovably attached and that forms a fixed side holding groove between the outer peripheral surface of the drum body and a fixed hook that is movable between a holding position and a release position on the other side of the drum body. A movable hook attached thereto, which forms a movable-side holding groove with the outer peripheral surface of the drum body when in the holding position and opens the movable-side holding groove when in the release position. When the movable hook is in the holding position, both sides of the pattern plate are received in the fixed side holding groove and the movable side holding groove, respectively, so that the pattern plate is held on the drum body.

しかしながら、特許文献2の構成では、保持機構における可動フックが、保持位置にあるときには保持溝を形成するが、解放位置にあるときには保持溝を開放する構成、具体的には可動フックが回転ドラム周面と回転ドラム軸端面との間でヒンジにより回動する構成であったため、回転ドラムの高速回転による遠心力で可動フックが保持溝を開放する方向に緩む可能性がある。 However, in the structure of Patent Document 2, the movable hook in the holding mechanism forms a holding groove when it is in the holding position, but opens the holding groove when it is in the release position. Since the movable hook is configured to rotate by a hinge between the surface and the end surface of the rotary drum shaft, there is a possibility that the movable hook may loosen in the direction of opening the holding groove due to centrifugal force caused by high-speed rotation of the rotary drum.

また、特許文献2の構成では、固定フックと可動フックによって形成される保持溝のみでパターンプレートを固定する構成であったので、保持溝内でパターンプレートが周方向の移動する可能性があった。また、パターンプレートは周面にほぼ隙間なく並んでいるものの、多少のクリアランスは存在しているから、前記のように使用を繰り返して周方向にずれると保持機構による保持が外れる位置に移動してしまうといったおそれもある。 Furthermore, in the configuration of Patent Document 2, the pattern plate is fixed only by the holding groove formed by the fixed hook and the movable hook, so there is a possibility that the pattern plate may move in the circumferential direction within the holding groove. . Also, although the pattern plates are lined up on the circumferential surface with almost no gaps, there is some clearance, so if they are used repeatedly and shift in the circumferential direction as described above, they may move to a position where they are no longer held by the holding mechanism. There is also a risk that it may get lost.

特開2014-100440号公報Japanese Patent Application Publication No. 2014-100440 特許登録第5765909号公報Patent Registration No. 5765909

本発明は、パターンプレートの清掃や交換のために回転ドラムから取り外して、取り付ける作業において、取り付け作業においてパターンプレートが、回転ドラムの径外方向及び周方向に移動してしまう可能性がある点を課題とする。 The present invention addresses the possibility that the pattern plate may move in the radial direction and circumferential direction of the rotating drum during the installation process when the pattern plate is removed from the rotating drum for cleaning or replacement. Take it as a challenge.

本発明は、上記の課題を解決するために、吸収体材料を所定形状に積繊するためのパターンプレートと、このパターンプレートを外周面に配置して回転する回転ドラムとを備え、回転ドラムには、一方の軸端面の外周縁部に前記パターンプレートが該回転ドラムの半径方向に係合する係合部を設けると共に他方の軸端面の外周縁部に前記パターンプレートが軸方向から挿入される保持溝を設け、さらに、前記係合部の一部に前記パターンプレートの周方向の移動を拘束する周移動拘束部を設け、一方、前記パターンプレートには、前記回転ドラムの一方の軸端面に対応する幅方向の一方縁部に、該一方縁部を前記係合部と同方向に突出させ、断面視で該係合部の表裏面と突出方向の一側面とを覆うように形成された該係合部と係合する径方向拘束体を設けると共に他方縁部に前記保持溝に挿入される挿入部を設け、さらに、前記径方向拘束体に前記周移動拘束部に対応する周方向拘束体を設ける構成とした。
In order to solve the above problems, the present invention includes a pattern plate for stacking absorbent material into a predetermined shape, and a rotating drum that rotates with the pattern plate disposed on the outer peripheral surface. The pattern plate is provided with an engaging portion on the outer peripheral edge of one shaft end surface so that the pattern plate engages in the radial direction of the rotating drum, and the pattern plate is inserted into the outer peripheral edge of the other shaft end surface from the axial direction. A retaining groove is provided, and a circumferential movement restraining portion for restraining movement of the pattern plate in the circumferential direction is provided in a part of the engaging portion, while a circumferential movement restraining portion is provided in the pattern plate on one shaft end surface of the rotating drum. A corresponding one edge in the width direction is formed so as to protrude in the same direction as the engaging part, and to cover the front and back surfaces of the engaging part and one side in the protruding direction in cross-sectional view. A radial restraint body that engages with the engaging part is provided, and an insertion part that is inserted into the holding groove is provided on the other edge, and the radial restraint body is further provided with a circumferential restraint body that corresponds to the circumferential movement restraint part. The structure is such that a body is provided.

本発明によれば、パターンプレートを回転ドラムに装着する際に、軸方向で回転ドラムの周面幅方向の一方から他方に向けて周面をスライド移動させて、パターンプレートの溝部と回転ドラムの係合部とを係合させると共に、回転ドラムの周移動拘束部にパタープレートの拘束体を対応させるという一連の作業により、パターンプレートの回転ドラムの径外方向及び周方向の移動が禁止され、取り付けが確実かつ容易に行える。 According to the present invention, when the pattern plate is attached to the rotating drum, the circumferential surface is slid in the axial direction from one side to the other in the width direction of the circumferential surface of the rotating drum, and the grooves of the pattern plate and the rotating drum are connected to each other. Through a series of operations of engaging the pattern plate with the engaging portion and matching the restraining body of the putter plate with the circumferential movement restraining portion of the rotating drum, movement of the pattern plate in the radial outward direction and circumferential direction of the rotating drum is prohibited, Installation can be done reliably and easily.

本発明の吸収体製造装置の概略構成を示す図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the schematic structure of the absorber manufacturing apparatus of this invention. 本発明の吸収体製造装置における回転ドラムとパターンプレートの概略構成を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of a rotating drum and a pattern plate in the absorbent body manufacturing apparatus of the present invention. 図2のうち回転ドラムの概略構成を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a schematic configuration of a rotating drum in FIG. 2. FIG. 図2のうちパターンプレートの概略構成を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a schematic configuration of a pattern plate in FIG. 2; 図4のパターンプレートの分解斜視図である。5 is an exploded perspective view of the pattern plate of FIG. 4. FIG. 本発明の吸収体製造装置における回転ドラムとパターンプレートの第1実施例態様を示し、(a)は軸方向から見た図、(b)は(a)のA-A線断面図、である。A first embodiment of the rotary drum and pattern plate in the absorbent manufacturing apparatus of the present invention is shown, in which (a) is a view seen from the axial direction, and (b) is a sectional view taken along the line AA in (a). . 本発明の吸収体製造装置における回転ドラムとパターンプレートの第2実施例態様を示し、(a)は軸方向から見た図、(b)は(a)のB-B線断面図、である。A second embodiment of the rotary drum and pattern plate in the absorbent manufacturing apparatus of the present invention is shown, in which (a) is a view seen from the axial direction, and (b) is a sectional view taken along the line BB in (a). . 本発明の吸収体製造装置における回転ドラムとパターンプレートの第3実施例態様を示し、(a)は軸方向から見た図、(b)は(a)のC-C断面図、である。A third embodiment of the rotating drum and pattern plate in the absorbent manufacturing apparatus of the present invention is shown, in which (a) is a view seen from the axial direction, and (b) is a cross-sectional view taken along line CC in (a). 従来の製造装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional manufacturing device. 従来の回転ドラムと従来のパターンプレートとの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the conventional rotating drum and the conventional pattern plate. 従来のパターンプレートの概略構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional pattern plate.

本発明は、パターンプレートを回転ドラムに対し、径外方向及び周方向に移動しないように取り付けるために、回転ドラムには、一方の軸端面の外周縁部に前記パターンプレートが該回転ドラムの半径方向に係合する係合部を設けると共に他方の軸端面の外周縁部に前記パターンプレートが軸方向から挿入される保持溝を設け、さらに、前記係合部の一部に前記パターンプレートの周方向の移動を拘束する周移動拘束部を設け、一方、前記パターンプレートには、前記回転ドラムの一方の軸端面に対応する幅方向の一方縁部に、該一方縁部を前記係合部と同方向に突出させ、断面視で該係合部の表裏面と突出方向の一側面とを覆うように形成された該係合部と係合する径方向拘束体を設けると共に他方縁部に前記保持溝に挿入される挿入部を設け、さらに、前記径方向拘束体に前記周移動拘束部に対応する周方向拘束体を設けることとした。 In order to attach the pattern plate to the rotating drum so that the pattern plate does not move in the radial direction and the circumferential direction, the pattern plate is attached to the outer peripheral edge of one shaft end face of the rotating drum. An engaging portion that engages in the axial direction is provided, and a retaining groove into which the pattern plate is inserted from the axial direction is provided at the outer peripheral edge of the other shaft end surface, and a portion of the engaging portion is provided with a retaining groove that engages with the pattern plate in the axial direction. A circumferential movement restraining part for restraining movement in the direction is provided, and the pattern plate is provided with one edge in the width direction corresponding to one axial end surface of the rotating drum , and the one edge is connected to the engaging part. A radial restraint body that protrudes in the same direction and engages with the engaging part is formed to cover the front and back surfaces of the engaging part and one side in the protruding direction in cross-sectional view, and the other edge is provided with a radial restraint body that engages the engaging part. An insertion portion inserted into the holding groove is provided, and the radial restraint body is further provided with a circumferential restraint body corresponding to the circumferential movement restraint portion.

本発明は、パターンプレートと回転ドラムとにおいて双方で対応する構成を備えたことが特徴である。すなわち、本発明の吸収体製造装置は、回転ドラムの係合部に対応してパターンプレートの径方向拘束体が、回転ドラムの周移動拘束部に対応してパターンプレートの周方向拘束体が、各々設けられている。このようにすることで、回転ドラムに対してパターンプレートを取り付けた際の径外方向の移動と、周方向の移動を禁止することができる。 The present invention is characterized in that both the pattern plate and the rotating drum are configured to correspond to each other. That is, in the absorbent manufacturing apparatus of the present invention, the radial restraining body of the pattern plate corresponds to the engaging part of the rotating drum, and the circumferential restraining body of the pattern plate corresponds to the circumferential movement restraining part of the rotating drum. Each is provided. By doing so, movement in the radial direction and circumferential direction when the pattern plate is attached to the rotating drum can be prohibited.

また、本発明は、上記構成において、前記回転ドラムの前記周移動拘束部は、該回転ドラムの一方の軸端面に設けられ、拘束の維持と、拘束の解除を、操作する操作体に設ける構成としてもよい。こうすることで、回転ドラムの軸端面という比較的作業のしやすい箇所でパターンプレートの回転ドラムに対する移動禁止と解除を操作することができる。 Further, in the above configuration, the present invention provides a configuration in which the circumferential movement restraint part of the rotary drum is provided on one shaft end surface of the rotary drum, and the maintenance of the restraint and the release of the restraint are provided on an operating body to be operated. You can also use it as By doing so, it is possible to prohibit and release the movement of the pattern plate relative to the rotating drum at a relatively easy-to-operate location, which is the end face of the shaft of the rotating drum.

さらに、本発明は、上記構成において、前記回転ドラムの一方の軸端面に、前記操作体を周方向の移動を案内する操作体移動部を設ける構成としてもよい。このようにすることで、パターンプレートの周方向のサイズに応じた増減に対応させることができるようになる。 Furthermore, in the present invention, in the above structure, an operating body moving part for guiding movement of the operating body in the circumferential direction may be provided on one shaft end surface of the rotating drum. By doing so, it becomes possible to correspond to an increase or decrease depending on the circumferential size of the pattern plate.

本発明の一実施例について、図1~図8を参照して説明する。本発明の吸収体製造装置1は、回転ドラム2とパターンプレート3の構成に特徴を有している。製造装置1の全体の概略構成の説明を続ける。回転ドラム2の外周面2Xには、吸収体Pが形成されるように、パターンプレート3が周方向Dに複数並設されている。 An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. The absorbent body manufacturing apparatus 1 of the present invention is characterized by the configuration of the rotating drum 2 and the pattern plate 3. The description of the overall schematic configuration of the manufacturing apparatus 1 will be continued. On the outer peripheral surface 2X of the rotating drum 2, a plurality of pattern plates 3 are arranged in parallel in the circumferential direction D so that an absorbent body P is formed.

回転ドラム2内には、回転ドラム2の回転には追従せず、固定され、該回転ドラム2の軸を中心に所定角度に設けた区画壁により、負圧区画2a、正圧区画2b、無圧区画2cが形成され、さらに負圧区画2aでは吸気を、正圧区画2bでは排気を行う吸排気機構(不図示)が設けられている。 Inside the rotating drum 2, a negative pressure section 2a, a positive pressure section 2b, and a non-pressure section are provided by partition walls that do not follow the rotation of the rotating drum 2 but are fixed and are provided at a predetermined angle around the axis of the rotating drum 2. A pressure section 2c is formed, and an intake/exhaust mechanism (not shown) is provided that takes in air in the negative pressure section 2a and exhausts air in the positive pressure section 2b.

また、回転ドラム2の周方向Dの所定位置には、回転ドラム2内の負圧区画2aに対向して散布ダクト4が設けられている。この散布ダクト4は、負圧区画2aに位置する回転中の回転ドラム2の外周面2Xに向けて、パルプ繊維及びSAPなどを混合した粉体状の吸収体材料Zを散布するものである。 Furthermore, a dispersion duct 4 is provided at a predetermined position in the circumferential direction D of the rotating drum 2, facing the negative pressure section 2a within the rotating drum 2. This dispersion duct 4 is for dispersing a powdered absorbent material Z mixed with pulp fibers, SAP, etc. toward the outer circumferential surface 2X of the rotating rotating drum 2 located in the negative pressure section 2a.

回転ドラム2の周方向Dにおいて散布ダクト4の位置(負圧区画2a)の領域を通過する際に、該負圧区画2aで生じる吸気と、該散布ダクト4からの散布によりパターンプレート3の後述の孔3a上に吸収体材料Zが吸引堆積される。 When passing through the region of the position of the spreading duct 4 (negative pressure section 2a) in the circumferential direction D of the rotating drum 2, the pattern plate 3 is The absorbent material Z is deposited on the holes 3a by suction.

そして、回転ドラム2の負圧区画2aの周方向Dにおける下流側の正圧区画2bの領域を通過する際に、排気により、吸引体積された吸収体性材料Zが外周面2Xから剥離し、単票状の吸収体Pがさらに下流工程へ搬送される。 Then, when passing through the region of the positive pressure section 2b on the downstream side in the circumferential direction D of the negative pressure section 2a of the rotating drum 2, the absorbent material Z that has been sucked and volumized is peeled off from the outer peripheral surface 2X due to the exhaust, The cut-shaped absorbent body P is further conveyed to a downstream process.

本発明の製造装置1における回転ドラム2は、次の構成とされている。回転ドラム2の外周面2Xにおける幅方向(軸方向)の一方の軸端面の外周縁部には、軸端面から突出した係合部2Aが設けられている。この係合部2Aはパターンプレート3の後述の溝部3Aと係合して、該回転ドラム2の使用時の回転により半径方向に移動しないようにするためのものである。 The rotating drum 2 in the manufacturing apparatus 1 of the present invention has the following configuration. An engaging portion 2A protruding from the shaft end surface is provided at the outer peripheral edge of one shaft end surface in the width direction (axial direction) on the outer peripheral surface 2X of the rotating drum 2. This engaging portion 2A engages with a groove portion 3A, which will be described later, of the pattern plate 3 to prevent the rotary drum 2 from moving in the radial direction due to rotation during use.

また、回転ドラム2は、外周面2Xにおける幅方向(軸方向)の他方の軸端面の外周縁部に、パターンプレート3が軸方向の前記一方の軸端面から挿入される保持溝2Bが設けられている。さらに、回転ドラム2は、パターンプレート3の周方向の移動を拘束する周移動拘束部2Cが設けられている。この周移動拘束部2Cについては、回転ドラム2に設けられているが第1~第3実施例で構成が異なるので、実施例毎に説明する。 Further, the rotary drum 2 is provided with a holding groove 2B, into which the pattern plate 3 is inserted from the one shaft end surface in the axial direction, at the outer peripheral edge of the other shaft end surface in the width direction (axial direction) on the outer peripheral surface 2X. ing. Further, the rotating drum 2 is provided with a circumferential movement restraining portion 2C that restrains movement of the pattern plate 3 in the circumferential direction. This circumferential movement restraining portion 2C is provided on the rotating drum 2, but since the configuration differs between the first to third embodiments, a description will be given for each embodiment.

パターンプレート3は、その分割数において回転ドラム2の外周面2Xの曲率に対応した円弧状とされ、複数の孔3aが形成された表層板3Aと、この表層板3Aの(回転ドラム2における)内周面から裏打ち補強すべく表層板3Aの内周面に設けられた補強板3Bと、表層板3Aを部分的に覆って目的とする吸収体Pの平面視形状範囲で該表層板3Aの孔3aを露出させるガイド板3Cと、有している。なお、本例では補強板3Bにおける補強用の構成の図示を省略している。 The pattern plate 3 has an arc shape corresponding to the curvature of the outer circumferential surface 2X of the rotating drum 2 in terms of the number of divisions, and includes a surface plate 3A in which a plurality of holes 3a are formed, and the surface plate 3A (in the rotating drum 2). A reinforcing plate 3B is provided on the inner circumferential surface of the surface plate 3A to provide lining and reinforcement from the inner circumferential surface, and a reinforcing plate 3B is provided on the inner circumferential surface of the surface plate 3A to partially cover the surface plate 3A to cover the surface plate 3A within the planar view shape range of the target absorber P. It has a guide plate 3C that exposes the hole 3a. Note that in this example, illustration of the reinforcing structure of the reinforcing plate 3B is omitted.

さらに、本発明の製造装置1におけるパターンプレート3は、補強板3Bにおいて、回転ドラム2の一方の軸端面に対応する幅方向の一方縁部に、係合部2Aと係合する径方向拘束体3Baが設けられている。 Furthermore, the pattern plate 3 in the manufacturing apparatus 1 of the present invention has a radial restraint body that engages with the engaging portion 2A at one edge in the width direction corresponding to one axial end surface of the rotating drum 2 in the reinforcing plate 3B. 3Ba is provided.

径方向拘束体3Baは、本実施例では、補強板3Bの一方縁部を係合部2Aと同方向に突出させ、ガイド板3Cとは反対側に折り返して、断面視で係合部2Aの表裏面とこの表裏面に挟まれた突出方向の一側面を覆うように形成している。また、パターンプレート3は、補強板3Bにおいて、回転ドラム2の他方の軸端面に対応する幅方向の他方縁部に、保持溝2Bに挿入される挿入部3Bbが設けられている。 In this embodiment, the radial restraint body 3Ba has one edge of the reinforcing plate 3B protruding in the same direction as the engaging part 2A, and is folded back to the side opposite to the guide plate 3C, so that the radial restraint body 3Ba has the shape of the engaging part 2A in cross-sectional view. It is formed so as to cover the front and back surfaces and one side in the protruding direction sandwiched between the front and back surfaces. Further, in the pattern plate 3, an insertion portion 3Bb that is inserted into the holding groove 2B is provided at the other edge in the width direction corresponding to the other shaft end surface of the rotating drum 2 in the reinforcing plate 3B.

つまり、本発明の製造装置1における回転ドラム2とパターンプレート3は、該回転ドラム2の軸方向の一方の軸端面部では、回転ドラム2の係合部2Aが、補強板3Bの裏面側で、パターンプレート3の径方向拘束体3Baに挿入され、該回転ドラム2の軸方向の他方の軸端面部では、パターンプレート3の挿入部3Bbが、補強板3Bの表面側で、回転ドラム2の保持溝2Bに挿入され、該パターンプレート3の径方向への移動を拘束する構成となっている。 That is, in the rotating drum 2 and pattern plate 3 in the manufacturing apparatus 1 of the present invention, at one end surface of the rotating drum 2 in the axial direction, the engaging portion 2A of the rotating drum 2 is located on the back side of the reinforcing plate 3B. , is inserted into the radial restraint body 3Ba of the pattern plate 3, and on the other axial end surface of the rotating drum 2, the insertion portion 3Bb of the pattern plate 3 is inserted into the radial restraint body 3Ba of the rotating drum 2 on the surface side of the reinforcing plate 3B. It is inserted into the holding groove 2B and is configured to restrict movement of the pattern plate 3 in the radial direction.

このように構成することで、パターンプレート3は、回転ドラム2の軸方向一方側から他方側に外周面2Xをスライドさせて取り付けるだけで、径方向の移動が禁止された状態となり、従来のように径方向の移動を禁止するために回転ドラム側の保持溝を出現させたり開放させたりする手間を要しない。 With this configuration, the pattern plate 3 can be installed by simply sliding the outer circumferential surface 2X from one side of the rotary drum 2 in the axial direction to the other side, and movement in the radial direction is prohibited, unlike in the conventional case. There is no need to make a retaining groove appear or open on the rotating drum side in order to prohibit the movement in the radial direction.

さらに、パターンプレート3は、補強板3Bにおける径方向拘束体3Baの一部に周方向拘束体3Bcを設けている。この周方向拘束体3Bcについては、第1~第3実施例で構成が異なるので、実施例毎に説明する。 Further, in the pattern plate 3, a circumferential restraint body 3Bc is provided in a part of the radial restraint body 3Ba on the reinforcing plate 3B. Since the configuration of the circumferential restraint body 3Bc differs between the first to third embodiments, it will be explained for each embodiment.

また、本実施例において、回転ドラム2の軸方向の一方端面には、周移動拘束部2Cの拘束の維持と、高速の解除を操作する操作体2Dが設けられると共に、この操作体2Dの周方向の移動を案内する操作体移動部2Eが設けられている。 Further, in this embodiment, an operating body 2D for maintaining the restraint of the circumferential movement restraining portion 2C and releasing it at high speed is provided on one end surface of the rotary drum 2 in the axial direction. An operating body moving section 2E is provided to guide the movement in the direction.

以上が、図1~図5を参照して説明した本実施例における製造装置1の基本構成であり、以下、図6を参照して第1実施例態様を、図7を参照して第2実施例態様を、図8を参照して第3実施例態様を、各々説明する。なお、各実施例において基本構成部分については説明を省略する。 The above is the basic configuration of the manufacturing apparatus 1 in this embodiment described with reference to FIGS. 1 to 5. Hereinafter, the first embodiment will be explained with reference to FIG. The aspects of the embodiment and the aspects of the third embodiment will be described with reference to FIG. 8. Note that in each embodiment, explanations of basic constituent parts will be omitted.

(第1実施例)
図6に示す第1実施例は、次の構成とされている。なお、図2及び図3に示した回転ドラム2構成は、図6に示す第1実施例を模式的に示したものである。第1実施例における回転ドラム2の周移動拘束部2Cは、該回転ドラム2の一方の軸端面の外周部に設けた環状のレールでなる操作体移動部2Eに対して周方向へ移動可能に設けた操作体2Dに一体的に配置されている。
(First example)
The first embodiment shown in FIG. 6 has the following configuration. The configuration of the rotating drum 2 shown in FIGS. 2 and 3 is a schematic representation of the first embodiment shown in FIG. 6. The circumferential movement restraint section 2C of the rotating drum 2 in the first embodiment is movable in the circumferential direction with respect to the operating body moving section 2E, which is an annular rail provided on the outer periphery of one shaft end surface of the rotating drum 2. It is arranged integrally with the provided operating body 2D.

第1実施例において、回転ドラム2、パターンプレート3は次のように構成されている。パターンプレート3の周方向拘束体3Bcは、径方向拘束体3Baの補強板3Bにおける裏面と折り返し側面に形成された凹部13Baが相当する。 In the first embodiment, the rotating drum 2 and pattern plate 3 are constructed as follows. The circumferential restraint body 3Bc of the pattern plate 3 corresponds to a recess 13Ba formed on the back surface and folded side surface of the reinforcing plate 3B of the radial restraint body 3Ba.

そして、この凹部13Ba(周方向拘束体)に対応する回転ドラム2側の周移動拘束部2Cは、回転ドラム2の、軸方向一方側に向かって下り勾配の斜面が形成されると共に軸方向他方側の前記斜面頂点部から直交状の壁面が形成されたラチェット爪12Caが相当する。 The circumferential movement restraint part 2C on the rotary drum 2 side corresponding to the recessed part 13Ba (circumferential restraint body) is formed with a slope that slopes downward toward one side in the axial direction of the rotary drum 2, and the other side in the axial direction. This corresponds to the ratchet pawl 12Ca having a wall surface perpendicular to the apex of the slope on the side.

第1実施例のラチェット爪12Ca(周移動拘束部)は、操作体2Dとなる基台12Cbに、回転ドラム2の軸方向他方側の基端部が回動可能に枢支され、この基端部から回転ドラム2の軸方向一方側へ向かう途中部が該基台12Cbに配置された自然長で伸長状態の例えばコイルばね2Ccによって支持された構成とされている。 In the ratchet pawl 12Ca (circumferential movement restraint part) of the first embodiment, a base end on the other side in the axial direction of the rotary drum 2 is rotatably supported on a base 12Cb serving as the operating body 2D. A portion extending from the base 12Cb toward one side in the axial direction of the rotary drum 2 is supported by, for example, a coil spring 2Cc which is in an extended state at its natural length and is disposed on the base 12Cb.

第1実施例におけるパターンプレート3を取り付けは次のように行う。ラチェット爪12Caをコイルばね2Ccの付勢力に抗して押し下げつつ、該パターンプレート3を回転ドラム2の軸方向他方側へスライドさせる。 The pattern plate 3 in the first embodiment is attached as follows. The pattern plate 3 is slid toward the other side in the axial direction of the rotating drum 2 while pushing down the ratchet pawl 12Ca against the biasing force of the coil spring 2Cc.

スライドを続けると、径方向拘束体3Baがラチェット爪12Caの斜面の頂点部を乗り越え、挿入部3Bbが保持溝2Bに、径方向拘束体3Baが係合部2Aに、各々嵌入して径方向に係合状態となる。 When the slide continues, the radial restraint body 3Ba gets over the top of the slope of the ratchet pawl 12Ca, the insertion part 3Bb fits into the holding groove 2B, the radial restraint body 3Ba fits into the engagement part 2A, and the radial restraint body 3Ba fits in the radial direction. It becomes engaged.

このとき、径方向拘束体3Baがラチェット爪12Caの斜面を乗り越えたことによりコイルばね12Ccが自然長に復元し、凹部13Ba(周方向拘束体)にラチェット爪12Caの直交状の壁面が嵌って周方向に係合状態となる。 At this time, the coil spring 12Cc is restored to its natural length as the radial restraint body 3Ba climbs over the slope of the ratchet pawl 12Ca, and the orthogonal wall surface of the ratchet pawl 12Ca fits into the recess 13Ba (circumferential restraint body) to circumferentially It becomes engaged in the direction.

第1実施例におけるパターンプレート3の取り出しは次のように行う。ラチェット爪12Caを押し下げつつ、パターンプレート3を回転ドラム2の軸方向の他方側から一方側方向に引き出すだけで、径方向及び周方向の移動の拘束が解除されてパターンプレート3が取り出される。 The pattern plate 3 in the first embodiment is taken out as follows. By simply pulling out the pattern plate 3 from the other axial side of the rotary drum 2 to one side while pushing down the ratchet pawl 12Ca, the restriction on movement in the radial direction and the circumferential direction is released and the pattern plate 3 is taken out.

(第2実施例)
図7に示す第2実施例は、次の構成とされている。第2実施例における回転ドラム2の周移動拘束部2Cは、該回転ドラム2の一方の軸端面の外周部に設けた環状のレールでなる操作体移動部2Eに対して周方向へ移動可能に設けた操作体2Dに一体的に配置されている。
(Second example)
The second embodiment shown in FIG. 7 has the following configuration. The circumferential movement restraint section 2C of the rotating drum 2 in the second embodiment is movable in the circumferential direction relative to the operating body moving section 2E, which is an annular rail provided on the outer periphery of one shaft end surface of the rotating drum 2. It is arranged integrally with the provided operating body 2D.

第2実施例において、回転ドラム2、パターンプレート3は次のように構成されている。パターンプレート3の周方向拘束体3Bcは、径方向拘束体3Baの補強板3Bにおける裏面に形成された当接部23Baが相当する。 In the second embodiment, the rotating drum 2 and pattern plate 3 are constructed as follows. The circumferential restraint body 3Bc of the pattern plate 3 corresponds to the contact portion 23Ba formed on the back surface of the reinforcing plate 3B of the radial restraint body 3Ba.

そして、この当接部23Ba(周方向拘束体)に対応する回転ドラム2側の周移動拘束部2Cは、回転ドラム2の軸方向一方端面に、後述のレバー22Ccに支持され、該当接部23Baに対して接触と離間が可能に設けた押圧体22Caが相当する。 A circumferential movement restraint part 2C on the rotary drum 2 side corresponding to the contact part 23Ba (circumferential restraint body) is supported by a lever 22Cc, which will be described later, on one end surface of the rotary drum 2 in the axial direction. This corresponds to the pressing body 22Ca, which is provided so as to be able to come into contact with and separate from it.

第2実施例の押圧体22Ca(周移動拘束部)は、操作体2Dとなる案内溝付基台22Cbにおける案内溝内に挿通され、該案内溝付基台22Cbを押圧体22Caとにより挟み込んで該案内溝内の位置を維持するレバー22Ccの回動軸ねじに螺着された構成とされている。 The pressing body 22Ca (circumferential movement restraint part) of the second embodiment is inserted into a guide groove in a guide grooved base 22Cb which becomes the operating body 2D, and the guiding grooved base 22Cb is sandwiched between the pressing body 22Ca and the pressing body 22Ca. The lever 22Cc is configured to be screwed onto a rotation shaft screw of the lever 22Cc that maintains the position within the guide groove.

第2実施例におけるパターンプレート3を取り付けは次のように行う。レバー22Ccを回転させて該レバー22Ccと押圧体22Caによる案内溝付基台22Cbの挟み込みを緩めて、押圧体22Caを当接部23Baから離間させた状態で、パターンプレート3を回転ドラム2の軸方向他方側へスライドさせる。 The pattern plate 3 in the second embodiment is attached as follows. Rotate the lever 22Cc to loosen the grip between the guide grooved base 22Cb between the lever 22Cc and the pressing body 22Ca, and while the pressing body 22Ca is separated from the abutting portion 23Ba, the pattern plate 3 is placed on the axis of the rotating drum 2. Slide it to the other side.

スライドを続けると、挿入部3Bbが保持溝2Bに、径方向拘束体3Baが係合部2Aに、各々嵌入して径方向に係合状態となる。 When the slide continues, the insertion portion 3Bb fits into the holding groove 2B, and the radial restraint body 3Ba fits into the engagement portion 2A, so that they are engaged in the radial direction.

その後、押圧体22Caを当接部23Baに当接させて径外方向に押圧するために、レバー22Ccを案内溝付基台22Cbの案内溝内を径外方向の所定位置に移動させた後、レバー22Ccを回転させて該レバー22Ccと該押圧体22Caによる案内溝付基台22Cbを強く挟み込む。この押圧体22Caによる当接部23Baへの押圧によってパターンプレート3の周方向への移動が拘束された状態となる。 Thereafter, in order to bring the pressing body 22Ca into contact with the contact portion 23Ba and press it in the radially outward direction, the lever 22Cc is moved to a predetermined position in the radially outward direction within the guide groove of the guide grooved base 22Cb. The lever 22Cc is rotated to strongly sandwich the guide grooved base 22Cb between the lever 22Cc and the pressing body 22Ca. The movement of the pattern plate 3 in the circumferential direction is restrained by the pressing of the contact portion 23Ba by the pressing body 22Ca.

第2実施例におけるパターンプレート3の取り出しは次のように行う。上記のとおり、レバー22Ccを回転させて該レバー22Ccと押圧体22Caによる案内溝付基台22Cbの挟み込みを緩めて、押圧体22Caを当接部23Baから離間させた状態で、パターンプレート3を回転ドラム2の軸方向の他方側から一方側方向に引き出すだけで、径方向及び周方向の移動の拘束が解除されてパターンプレート3が取り出される。 The pattern plate 3 in the second embodiment is taken out as follows. As described above, the lever 22Cc is rotated to loosen the guide grooved base 22Cb between the lever 22Cc and the pressing body 22Ca, and the pattern plate 3 is rotated while the pressing body 22Ca is separated from the contact portion 23Ba. By simply pulling out the drum 2 from the other side in the axial direction to one side, the restraints on movement in the radial and circumferential directions are released and the pattern plate 3 is taken out.

(第3実施例)
図8に示す第3実施例は、次の構成とされている。第3実施例における回転ドラム2の周移動拘束部2Cは、該回転ドラム2の一方の軸端面の外周部に設けた環状のレールでなる操作体移動部2Eに対して周方向へ移動可能に設けた操作体2Dに一体的に配置されている。
(Third example)
The third embodiment shown in FIG. 8 has the following configuration. The circumferential movement restraint section 2C of the rotating drum 2 in the third embodiment is movable in the circumferential direction with respect to the operating body moving section 2E, which is an annular rail provided on the outer periphery of one shaft end surface of the rotating drum 2. It is arranged integrally with the provided operating body 2D.

第3実施例において、回転ドラム2、パターンプレート3は次のように構成されている。パターンプレート3の周方向拘束体3Bcは、径方向拘束体3Baの補強板3Bにおける裏面に形成された貫通孔33Baが相当する。 In the third embodiment, the rotating drum 2 and pattern plate 3 are constructed as follows. The circumferential restraint body 3Bc of the pattern plate 3 corresponds to the through hole 33Ba formed on the back surface of the reinforcing plate 3B of the radial restraint body 3Ba.

そして、この貫通孔33Ba(周方向拘束体)に対応する回転ドラム2側の周移動拘束部2Cは、係合部2Aに形成され、パターンプレート3の取り付け状態で前記貫通孔33Baと連通する拘束孔32Caと、回転ドラム2の軸方向一方端面に、後述のレバー32Ceに支持され、該貫通孔33Baに対して接触と離間が可能に設けた移動体32Cbと、この移動体32Cbの径外方向端面に設けられた貫通ピン32Ccが相当する。 A circumferential movement restraint part 2C on the rotary drum 2 side corresponding to the through hole 33Ba (circumferential restraint body) is formed in the engaging part 2A, and is a restraint that communicates with the through hole 33Ba when the pattern plate 3 is attached. a hole 32Ca, a movable body 32Cb provided on one axial end surface of the rotating drum 2, supported by a lever 32Ce to be described later, and capable of contacting and separating from the through hole 33Ba; and a radially outward direction of the movable body 32Cb. This corresponds to the penetrating pin 32Cc provided on the end surface.

第3実施例の貫通ピン32Cc(周移動拘束部)を設けた移動体32Cbは、操作体2Dとなる案内溝付基台32Cdにおける案内溝内に挿通され、該案内溝付基台32Cdを移動体32Cbとにより挟み込んで該案内溝内の位置を維持するレバー32Ceの回動軸ねじに螺着された構成とされている。 The movable body 32Cb provided with the through pin 32Cc (circumferential movement restraint part) of the third embodiment is inserted into the guide groove of the guide grooved base 32Cd which becomes the operating body 2D, and moves on the guide grooved base 32Cd. It is configured to be screwed onto a rotation shaft screw of a lever 32Ce which is held between the body 32Cb and maintained in the position within the guide groove.

第3実施例におけるパターンプレート3を取り付けは次のように行う。レバー32Ceを回転させて該レバー32Ceと移動体32Cbによる案内溝付基台32Cdの挟み込みを緩め、貫通孔33Ba及び拘束孔32Caから貫通ピン32Ccが抜けるまで移動体32Cbを移動させた状態で、パターンプレート3を回転ドラム2の軸方向他方側へスライドさせる。 The pattern plate 3 in the third embodiment is attached as follows. Rotate the lever 32Ce to loosen the guide grooved base 32Cd between the lever 32Ce and the movable body 32Cb, and move the movable body 32Cb until the through pin 32Cc comes out from the through hole 33Ba and the restraint hole 32Ca. Slide the plate 3 to the other side of the rotating drum 2 in the axial direction.

スライドを続けると、挿入部3Bbが保持溝2Bに、径方向拘束体3Baが係合部2Aに、各々嵌入して径方向に係合状態となる。 When the slide continues, the insertion portion 3Bb fits into the holding groove 2B, and the radial restraint body 3Ba fits into the engagement portion 2A, so that they are engaged in the radial direction.

その後、レバー32Ceを案内溝付基台32Cdの案内溝内を径外方向の所定位置に移動させ、貫通孔33Ba及び拘束孔32Caに貫通ピン32Ccが挿通されたことを確認して、レバー32Ceを回転させて該レバー32Ceと該移動体32Cbによる案内溝付基台32Cdを強く挟み込む。貫通ピン32Ccの、貫通孔33Ba及び拘束孔32Caへの貫通により、パターンプレート3の周方向への移動が拘束された状態となる。 After that, move the lever 32Ce to a predetermined position in the radial direction within the guide groove of the guide grooved base 32Cd, confirm that the through pin 32Cc has been inserted into the through hole 33Ba and the restraining hole 32Ca, and then move the lever 32Ce. The lever 32Ce and the base 32Cd with guide grooves are strongly sandwiched between the lever 32Ce and the movable body 32Cb. By penetrating the through pin 32Cc into the through hole 33Ba and the restraint hole 32Ca, movement of the pattern plate 3 in the circumferential direction is restrained.

第3実施例におけるパターンプレート3の取り出しは次のように行う。上記のとおり、レバー32Ceを回転させて該レバー32Ceと移動体32Cbによる案内溝付基台32Cdの挟み込みを緩め、貫通孔33Ba及び拘束孔32Caから貫通ピン32Ccが抜けるまで移動体32Cbを移動させた状態で、パターンプレート3を回転ドラム2の軸方向の他方側から一方側方向に引き出すだけで、径方向及び周方向の移動の拘束が解除されてパターンプレート3が取り出される。 The pattern plate 3 in the third embodiment is taken out as follows. As described above, the lever 32Ce was rotated to loosen the guide grooved base 32Cd between the lever 32Ce and the movable body 32Cb, and the movable body 32Cb was moved until the through pin 32Cc was removed from the through hole 33Ba and the restraining hole 32Ca. In this state, simply by pulling out the pattern plate 3 from the other axial side of the rotary drum 2 to one side, the restriction on movement in the radial direction and the circumferential direction is released and the pattern plate 3 is taken out.

このように、本発明の製造装置1は、回転ドラム2に対するパターンプレート3の径外方向の移動を拘束するだけでなく、周方向の移動も拘束することが可能で、しかも径方向と周方向の移動を拘束する作業が、回転ドラム2に対してパターンプレート3を取り付ける一連の作業内で行うことができる。 As described above, the manufacturing apparatus 1 of the present invention is capable of restraining not only the movement of the pattern plate 3 in the radial direction relative to the rotating drum 2, but also the movement of the pattern plate 3 in the circumferential direction. The movement of the pattern plate 3 can be restrained during the series of operations for attaching the pattern plate 3 to the rotating drum 2.

1 (吸収体)製造装置
2 回転ドラム
2A 係合部
2B 保持溝
2C 周移動拘束部
2D 操作体
2E 操作体移動部
3 パターンプレート
3A 表層板
3B 補強板
3Ba 径方向拘束体
3Bb 挿入部
3Bc 周方向拘束体
3C ガイド板
1 (Absorbent body) manufacturing device 2 Rotating drum 2A Engagement part 2B Holding groove 2C Circumferential movement restraining part 2D Operating body 2E Operating body moving part 3 Pattern plate 3A Surface plate 3B Reinforcement plate 3Ba Radial restraint body 3Bb Insertion part 3Bc Circumferential direction Restraint body 3C guide plate

Claims (3)

吸収体材料から吸収体を製造する装置であって、吸収体材料を所定形状に積繊するためのパターンプレートと、このパターンプレートを外周面に配置して回転する回転ドラムとを備え、回転ドラムには、一方の軸端面の外周縁部に前記パターンプレートが該回転ドラムの半径方向に係合する係合部を設けると共に他方の軸端面の外周縁部に前記パターンプレートが軸方向から挿入される保持溝を設け、さらに、前記係合部の一部に前記パターンプレートの周方向の移動を拘束する周移動拘束部を設け、一方、前記パターンプレートには、前記回転ドラムの一方の軸端面に対応する幅方向の一方縁部に、該一方縁部を前記係合部と同方向に突出させ、断面視で該係合部の表裏面と突出方向の一側面とを覆うように形成された該係合部と係合する径方向拘束体を設けると共に他方縁部に前記保持溝に挿入される挿入部を設け、さらに、前記径方向拘束体に前記周移動拘束部に対応する周方向拘束体を設けた吸収体製造装置。
An apparatus for manufacturing an absorbent body from an absorbent material, comprising a pattern plate for stacking the absorbent material into a predetermined shape, and a rotating drum that rotates with the pattern plate disposed on its outer peripheral surface. The pattern plate is provided with an engaging portion on the outer circumferential edge of one shaft end surface so that the pattern plate engages in the radial direction of the rotating drum, and the pattern plate is inserted into the outer circumferential edge of the other shaft end surface from the axial direction. Further, a circumferential movement restraining part for restraining movement of the pattern plate in the circumferential direction is provided in a part of the engaging part, while the pattern plate has a retaining groove that restrains movement of the pattern plate in the circumferential direction. one edge in the width direction corresponding to the engagement part , the one edge protrudes in the same direction as the engaging part, and is formed so as to cover the front and back surfaces of the engaging part and one side in the protruding direction in cross-sectional view. A radial restraint body that engages with the engaging part is provided, and an insertion part that is inserted into the retaining groove is provided on the other edge, and the radial restraint body has a radial restraint body that engages with the engagement part, and a circumferential restraint body that engages with the circumferential movement restraint part. Absorbent manufacturing equipment equipped with a restraining body.
前記回転ドラムの前記周移動拘束部は、該回転ドラムの一方の軸端面に設けられ、拘束の維持と、拘束の解除を、操作する操作体に設けた請求項1記載の吸収体製造装置。 2. The absorbent body manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the circumferential movement restraint part of the rotary drum is provided on one shaft end surface of the rotary drum, and an operating body is provided to maintain the restraint and release the restraint. 前記回転ドラムの一方の軸端面に、前記操作体を周方向の移動を案内する操作体移動部を設けた請求項2記載の吸収体製造装置。 3. The absorbent body manufacturing apparatus according to claim 2, further comprising an operating body moving section provided on one shaft end surface of the rotating drum for guiding movement of the operating body in a circumferential direction.
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