JP7435934B1 - Organic solvent recovery system - Google Patents

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JP7435934B1 JP2023570452A JP2023570452A JP7435934B1 JP 7435934 B1 JP7435934 B1 JP 7435934B1 JP 2023570452 A JP2023570452 A JP 2023570452A JP 2023570452 A JP2023570452 A JP 2023570452A JP 7435934 B1 JP7435934 B1 JP 7435934B1
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武将 岡田
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Abstract

回収する有機溶剤の品質を向上できる有機溶剤回収システムを提供する。有機溶剤を含有する被処理ガスは、第一被処理ガスと、含有する有機溶剤の濃度が第一被処理ガスよりも低い第二被処理ガスとを含んでいる。凝縮回収装置(10)は、第一被処理ガスを冷却することで、第一被処理ガスに含有される有機溶剤を凝縮させて、含有する有機溶剤の濃度が低減された冷却処理ガスとして排出する。合流部(100)は、冷却処理ガスと第二被処理ガスとを合流させて第三被処理ガスとする。吸脱着処理装置(50)は、第三被処理ガスに含有される有機溶剤を吸着および脱着する吸脱着素子(52,54)を有している。吸脱着処理装置(50)は、第三被処理ガスの導入による吸脱着素子(52,54)への有機溶剤の吸着と、脱着用ガスの導入による吸脱着素子(52,54)からの有機溶剤の脱着と、を交互に行なう。Provided is an organic solvent recovery system that can improve the quality of recovered organic solvents. The processed gas containing an organic solvent includes a first processed gas and a second processed gas containing a lower concentration of organic solvent than the first processed gas. The condensation recovery device (10) cools the first to-be-treated gas, condenses the organic solvent contained in the first to-be-treated gas, and discharges it as a cooled to-be-treated gas with a reduced concentration of the organic solvent contained therein. do. The confluence section (100) merges the cooling process gas and the second process gas to form a third process gas. The adsorption/desorption processing device (50) includes adsorption/desorption elements (52, 54) that adsorb and desorb the organic solvent contained in the third gas to be treated. The adsorption/desorption processing device (50) adsorbs organic solvents onto the adsorption/desorption elements (52, 54) by introducing a third gas to be treated, and absorbs organic solvents from the adsorption/desorption elements (52, 54) by introducing a desorption gas. Alternately desorbing and desorbing the solvent.

Description

本開示は、有機溶剤回収システムに関する。 The present disclosure relates to organic solvent recovery systems.

国際公開2021/132071号(特許文献1)には、被処理ガスに含まれる有機溶剤の一部を凝縮回収装置で凝縮させた後、未凝縮の有機溶剤を吸脱着素子で吸着して、被処理ガスから有機溶剤を回収する、有機溶剤回収システムが開示されている。 International Publication No. 2021/132071 (Patent Document 1) discloses that after a part of the organic solvent contained in the gas to be treated is condensed in a condensation recovery device, the uncondensed organic solvent is adsorbed by an adsorption/desorption element to be treated. An organic solvent recovery system is disclosed that recovers organic solvent from a process gas.

国際公開2021/132071号International Publication 2021/132071

被処理ガスに含有される有機溶剤を吸脱着素子を用いて回収する場合、吸脱着素子から有機溶剤を脱着するときの熱によって、回収する有機溶剤の品質が低下することがある。 When an organic solvent contained in a gas to be treated is recovered using an adsorption/desorption element, the quality of the recovered organic solvent may deteriorate due to the heat generated when the organic solvent is desorbed from the adsorption/desorption element.

本開示では、回収する有機溶剤の品質を向上できる、有機溶剤回収システムが提案される。 The present disclosure proposes an organic solvent recovery system that can improve the quality of recovered organic solvents.

本開示では、以下の有機溶剤回収システムが提案される。
(第1項)有機溶剤を含有する被処理ガスは、第一被処理ガスと、含有する有機溶剤の濃度が第一被処理ガスよりも低い第二被処理ガスとを含んでいる。被処理ガスから有機溶剤を分離して回収する有機溶剤回収システムは、凝縮回収装置と、合流部と、吸脱着処理装置と、を備えている。凝縮回収装置は、第一被処理ガスを冷却することで、第一被処理ガスに含有される有機溶剤を凝縮させて、含有する有機溶剤の濃度が低減された冷却処理ガスとして排出する。合流部は、冷却処理ガスと第二被処理ガスとを合流させて第三被処理ガスとする。吸脱着処理装置は、第三被処理ガスに含有される有機溶剤を吸着および脱着する吸脱着素子を有している。吸脱着処理装置は、第三被処理ガスの導入による吸脱着素子への有機溶剤の吸着と、脱着用ガスの導入による吸脱着素子からの有機溶剤の脱着と、を交互に行なう。
In the present disclosure, the following organic solvent recovery system is proposed.
(Section 1) The processed gas containing an organic solvent includes a first processed gas and a second processed gas containing a lower concentration of organic solvent than the first processed gas. An organic solvent recovery system that separates and recovers an organic solvent from a gas to be treated includes a condensation recovery device, a confluence section, and an adsorption/desorption processing device. The condensation recovery device cools the first to-be-treated gas, condenses the organic solvent contained in the first to-be-treated gas, and discharges it as a cooled to-be-treated gas in which the concentration of the organic solvent contained therein is reduced. The confluence section merges the cooling process gas and the second process gas to form a third process gas. The adsorption/desorption processing device includes an adsorption/desorption element that adsorbs and desorbs an organic solvent contained in the third gas to be treated. The adsorption/desorption processing device alternately adsorbs the organic solvent to the adsorption/desorption element by introducing the third gas to be treated, and desorbs the organic solvent from the adsorption/desorption element by introducing the desorption gas.

(第2項)第1項に記載の有機溶剤回収システムにおいて、第二被処理ガスの風量を第一被処理ガスの風量で除した商をAとし、第一被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度を第二被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度で除した商をBとし、凝縮回収装置における第一被処理ガスに含有される有機溶剤の回収率をC(%)とした場合に、0<(A÷B÷C)≦0.033を満たしてもよい。 (Paragraph 2) In the organic solvent recovery system described in Paragraph 1, the quotient obtained by dividing the air volume of the second gas to be treated by the air volume of the first gas to be treated is defined as A, and the organic solvent contained in the first gas to be treated is The quotient obtained by dividing the concentration of the solvent by the concentration of the organic solvent contained in the second gas to be treated is designated as B, and the recovery rate of the organic solvent contained in the first gas to be treated in the condensation recovery device is designated as C (%). In this case, 0<(A÷B÷C)≦0.033 may be satisfied.

(第3項)第1項または第2項に記載の有機溶剤回収システムは、第二凝縮回収装置を備え、第二凝縮回収装置は、吸脱着処理装置から排出された脱着用ガスを冷却することで、脱着用ガスに含有される有機溶剤を凝縮させて回収してもよい。 (Section 3) The organic solvent recovery system according to Item 1 or 2 includes a second condensation recovery device, and the second condensation recovery device cools the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device. In this way, the organic solvent contained in the desorption gas may be condensed and recovered.

(第4項)第3項に記載の有機溶剤回収システムにおいて、脱着用ガスは水蒸気であってもよい。 (Section 4) In the organic solvent recovery system described in Section 3, the desorption gas may be water vapor.

(第5項)第1項から第3項のいずれか1項に記載の有機溶剤回収システムにおいて、脱着用ガスは不活性ガスであってもよい。 (Section 5) In the organic solvent recovery system according to any one of Items 1 to 3, the desorption gas may be an inert gas.

(第6項)第3項、第4項、または第3項を引用する第5項のいずれか1項に記載の有機溶剤回収システムは、脱着用ガスが循環する循環経路をさらに備え、吸脱着処理装置および第二凝縮回収装置は循環経路に設けられてもよい。 (Section 6) The organic solvent recovery system according to any one of Section 3, Section 4, or Section 5 citing Section 3 further includes a circulation path through which desorption gas circulates, and The desorption processing device and the second condensation recovery device may be provided in the circulation path.

(第7項)第6項に記載の有機溶剤回収システムは、循環経路に設けられ、第二凝縮回収装置から排出された脱着用ガスを加熱する加熱部をさらに備えてもよい。 (Section 7) The organic solvent recovery system according to Item 6 may further include a heating section that is provided in the circulation path and heats the desorption gas discharged from the second condensation and recovery device.

(第8項)第1項から第7項のいずれか1項に記載の有機溶剤回収システムは、第三被処理ガスの温度を検出して伝送する温度伝送器をさらに備えてもよい。 (Section 8) The organic solvent recovery system according to any one of Items 1 to 7 may further include a temperature transmitter that detects and transmits the temperature of the third gas to be treated.

本開示の有機溶剤回収システムによれば、回収する有機溶剤の品質を向上することができる。 According to the organic solvent recovery system of the present disclosure, the quality of the organic solvent to be recovered can be improved.

第1実施形態の有機溶剤回収システムの構成を概略的に示す図である。1 is a diagram schematically showing the configuration of an organic solvent recovery system according to a first embodiment. 第2実施形態の有機溶剤回収システムの構成を概略的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of an organic solvent recovery system according to a second embodiment. 本開示の有機溶剤回収システムによるエネルギー削減率を示すグラフである。It is a graph showing the energy reduction rate by the organic solvent recovery system of this disclosure.

以下、実施形態について図に基づいて説明する。以下の説明では、同一の部品および構成要素には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、これらについての詳細な説明は繰り返さない。実施形態から任意の構成が抽出され、それらが任意に組み合わされることも、当初から予定されている。 Hereinafter, embodiments will be described based on the drawings. In the following description, the same parts and components are given the same reference numerals. Their names and functions are also the same. Therefore, detailed explanations thereof will not be repeated. It is also planned from the beginning that arbitrary configurations will be extracted from the embodiments and that they will be combined arbitrarily.

[第1実施形態]
図1は、第1実施形態の有機溶剤回収システム1の構成を概略的に示す図である。有機溶剤回収システム1は、有機溶剤を含有する被処理ガスから有機溶剤を分離して回収するシステムである。
[First embodiment]
FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of an organic solvent recovery system 1 according to the first embodiment. The organic solvent recovery system 1 is a system that separates and recovers organic solvents from a gas to be treated containing organic solvents.

本開示の有機溶剤回収システムは、熱履歴によって分解する可能性のある有機溶剤の処理に対して好適である。より具体的には、有機溶剤は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチレン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ペンタクロロエタン、ジクロロプロパン、o-ジクロロベンゼン、m-ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ブロモプロパン、臭化メチル、フロン-112、フロン-113、ハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)、ハイドロフルオロカーボン(HFC)、ハイドロフルオロオレフィン(HFO)、ヨウ化メチル等のハロゲン系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ビニル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、炭酸ジエチル等のエステル系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセチル等のケトン系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、エポキシド等のエーテル系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、アクリロニトリル等のニトリル系有機溶剤であってもよい。 The organic solvent recovery system of the present disclosure is suitable for processing organic solvents that may be decomposed due to thermal history. More specifically, the organic solvents include methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, ethylene chloride, trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethane, tetrachloroethylene, pentachloroethane, dichloropropane, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, trichlorobenzene, Halogenated organic solvents such as bromopropane, methyl bromide, Freon-112, Freon-113, hydrochlorofluorocarbon (HCFC), hydrofluorocarbon (HFC), hydrofluoroolefin (HFO), and methyl iodide may be used. Organic solvents include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, vinyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl propionate, methyl butyrate, Ethyl butyrate, propyl butyrate, butyl butyrate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, carbonic acid An ester organic solvent such as diethyl may also be used. The organic solvent may be a ketone organic solvent such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetyl, or the like. The organic solvent may be an ether organic solvent such as diethyl ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran, dibutyl ether, or epoxide. The organic solvent may be a nitrile organic solvent such as acrylonitrile.

また、上記した有機溶剤以外に、比較的分解しにくい有機溶剤が被処理ガスの一部に含まれてもよい。より具体的には、有機溶剤は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、2-ブタノール、イソブタノール、t-ブタノール、アリルアルコール、ペンタノール、ヘプタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、キシレノール等のフェノール系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、n-ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-ノナン、イソノナン、デカン、ドデカン、ウンデカン、テトラデカン、デカリン等の炭化水素系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、ベンゼン、トルエン、m-キシレン、p-キシレン、o-キシレン、エチルベンゼン、1,3,5-トリメチルベンゼン等の芳香族系有機溶剤であってもよい。有機溶剤は、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどであってもよい。 Further, in addition to the organic solvents described above, a portion of the gas to be treated may include an organic solvent that is relatively difficult to decompose. More specifically, the organic solvent is an alcoholic organic solvent such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, 2-butanol, isobutanol, t-butanol, allyl alcohol, pentanol, heptanol, ethylene glycol, diethylene glycol, etc. There may be. The organic solvent may be a phenolic organic solvent such as phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, or xylenol. The organic solvent may be a hydrocarbon organic solvent such as n-hexane, isohexane, cyclohexane, methylcyclohexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, isononane, decane, dodecane, undecane, tetradecane, decalin, etc. . The organic solvent may be an aromatic organic solvent such as benzene, toluene, m-xylene, p-xylene, o-xylene, ethylbenzene, or 1,3,5-trimethylbenzene. The organic solvent may be N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, or the like.

図1に示されるように、有機溶剤を含有する被処理ガスは、第一被処理ガスと、第二被処理ガスとを含む。第一被処理ガスは、比較的高濃度の有機溶剤を含有する。第一被処理ガスは、第一被処理ガス排出設備91から排出される。第二被処理ガスは、比較的低濃度の有機溶剤を含有する。第二被処理ガスが含有する有機溶剤の濃度は、第一被処理ガスが含有する有機溶剤の濃度よりも低い。第二被処理ガスは、第二被処理ガス排出設備92から排出される。 As shown in FIG. 1, the processed gas containing an organic solvent includes a first processed gas and a second processed gas. The first gas to be treated contains a relatively high concentration of organic solvent. The first gas to be treated is discharged from the first gas discharge facility 91 . The second gas to be treated contains a relatively low concentration of organic solvent. The concentration of the organic solvent contained in the second gas to be treated is lower than the concentration of the organic solvent contained in the first gas to be treated. The second gas to be treated is discharged from the second gas discharge facility 92 .

第一被処理ガス排出設備91と第二被処理ガス排出設備92とは、たとえば生産設備である。生産設備は、たとえばフィルム塗工機である。第一被処理ガスはたとえば、フィルム塗工機の上流側からの排気ガスである。第二被処理ガスはたとえば、フィルム塗工機の下流側からの排気ガスである。第一被処理ガスに含まれる有機溶剤と、第二被処理ガスに含まれる有機溶剤とは、同じであってもよく、異なってもよい。第一被処理ガスに含まれる有機溶剤と、第二被処理ガスに含まれる有機溶剤とは、混合しても危険のない物質である。 The first gas discharge facility 91 and the second gas discharge facility 92 are, for example, production facilities. The production equipment is, for example, a film coating machine. The first gas to be treated is, for example, exhaust gas from the upstream side of the film coating machine. The second gas to be treated is, for example, exhaust gas from the downstream side of the film coating machine. The organic solvent contained in the first gas to be treated and the organic solvent contained in the second gas to be treated may be the same or different. The organic solvent contained in the first gas to be treated and the organic solvent contained in the second gas to be treated are substances that are not dangerous even when mixed.

図1に示されるように、有機溶剤回収システム1は、凝縮回収装置10と、吸脱着処理装置50とを主に備えている。 As shown in FIG. 1, the organic solvent recovery system 1 mainly includes a condensation recovery device 10 and an adsorption/desorption processing device 50.

第一被処理ガス排出設備91から排出される第一被処理ガスは、第1流路F1を経由して凝縮回収装置10に導入される。第1流路F1は、第一被処理ガスを凝縮回収装置10に導入する経路である。凝縮回収装置10は、凝縮部20を有している。凝縮部20は、冷却部21と、分離部22と、チャンバ23を有している。 The first to-be-treated gas discharged from the first to-be-treated gas discharge facility 91 is introduced into the condensation recovery device 10 via the first flow path F1. The first flow path F1 is a path for introducing the first gas to be processed into the condensation recovery device 10. The condensation recovery device 10 has a condensation section 20. The condensing section 20 includes a cooling section 21, a separating section 22, and a chamber 23.

冷却部21は、冷却部21を通過する第一被処理ガスを冷却する。冷却部21は、第一被処理ガスを冷却することによって、第一被処理ガスに含有される有機溶剤の一部を凝縮させる。好ましくは冷却部21は、第一被処理ガスに含有される有機溶剤の半分以上を凝縮させる。分離部22は、第一被処理ガスから、凝縮された液体状の有機溶剤を分離する。 The cooling unit 21 cools the first gas to be processed that passes through the cooling unit 21 . The cooling unit 21 cools the first gas to be treated, thereby condensing a part of the organic solvent contained in the first gas to be treated. Preferably, the cooling unit 21 condenses half or more of the organic solvent contained in the first gas to be treated. The separation unit 22 separates the condensed liquid organic solvent from the first gas to be treated.

冷却部21が第一被処理ガスを冷却する手段は、特に限定されない。冷却部21はたとえば、冷却水、冷水、ブラインなどの冷媒と、第一被処理ガスと、の熱交換によって第一被処理ガスを冷却する熱交換器であってもよい。冷媒の流量および温度などの冷却条件は、第一被処理ガスに含有される有機溶剤に応じて、適宜決めることができる。 The means by which the cooling unit 21 cools the first gas to be processed is not particularly limited. The cooling unit 21 may be, for example, a heat exchanger that cools the first to-be-treated gas by heat exchange between the first to-be-treated gas and a refrigerant such as cooling water, cold water, or brine. Cooling conditions such as the flow rate and temperature of the refrigerant can be appropriately determined depending on the organic solvent contained in the first gas to be treated.

分離部22が液体状の有機溶剤を分離する手段は、特に限定されない。分離部22はたとえば、デミスター、フィルタ、メッシュなどの液滴を接触して捕捉する網目状構造体を用いてもよい。 The means by which the separation section 22 separates the liquid organic solvent is not particularly limited. For example, the separation unit 22 may use a network structure such as a demister, a filter, or a mesh that contacts and captures droplets.

チャンバ23は、一定容量の空間を有する構造体である。分離部22において有機溶剤が分離された第一被処理ガスは、中空空間であるチャンバ23を通過する。チャンバ23から、含有する有機溶剤の濃度が低減された冷却処理ガスが排出される。冷却処理ガスには、未凝縮の有機溶剤が含まれている。凝縮回収装置10から排出された冷却処理ガスは、第3流路F3を経由して流れる。第3流路F3は、凝縮回収装置10から合流部100への冷却処理ガスの経路である。 Chamber 23 is a structure having a certain volume of space. The first treated gas from which the organic solvent has been separated in the separation section 22 passes through the chamber 23, which is a hollow space. A cooled processing gas containing a reduced concentration of organic solvent is discharged from the chamber 23 . The cooling process gas contains an uncondensed organic solvent. The cooled processing gas discharged from the condensation recovery device 10 flows through the third flow path F3. The third flow path F3 is a path for cooling processing gas from the condensation recovery device 10 to the confluence section 100.

凝縮回収装置10は、回収タンク30を有している。回収タンク30は、分離部22の下方に配置されている。分離部22と回収タンク30とは、第8流路F8によって接続されている。冷却部21で凝縮され分離部22で捕捉された液体状の有機溶剤は、重力の作用によって、第8流路F8を経由して、回収タンク30に集液される。回収タンク30内には、液体状の有機溶剤が貯留する液貯留部32と、液貯留部32の上方の気層部31とが形成されている。第8流路F8の径は、第3流路F3の径よりも小さくてもよい。 The condensation recovery device 10 has a recovery tank 30. The recovery tank 30 is arranged below the separation section 22. The separation section 22 and the recovery tank 30 are connected by an eighth flow path F8. The liquid organic solvent condensed in the cooling unit 21 and captured in the separation unit 22 is collected in the recovery tank 30 via the eighth flow path F8 by the action of gravity. A liquid storage section 32 in which a liquid organic solvent is stored and an air layer section 31 above the liquid storage section 32 are formed in the recovery tank 30 . The diameter of the eighth flow path F8 may be smaller than the diameter of the third flow path F3.

液貯留部32に貯留されている液体状の有機溶剤が、回収液L3として回収される。回収液L3の流路に、図示しないポンプが設けられていてもよい。回収タンク30には、図示しない液面計が設けられていてもよい。回収タンク30内の有機溶剤の液面レベルが上限に到達したことを液面計が検知すると、ポンプを起動させて回収液L3の回収が開始されてもよい。液体状の有機溶剤が回収タンク30から流出すると、回収タンク30内の有機溶剤の液面レベルが低下する。有機溶剤の液面レベルが下限に到達したことを液面計が検知すると、ポンプを停止させて回収液L3の回収を停止してもよい。 The liquid organic solvent stored in the liquid storage section 32 is recovered as a recovery liquid L3. A pump (not shown) may be provided in the flow path of the recovery liquid L3. The recovery tank 30 may be provided with a liquid level gauge (not shown). When the liquid level gauge detects that the liquid level of the organic solvent in the recovery tank 30 has reached the upper limit, the pump may be activated to start collecting the recovery liquid L3. When the liquid organic solvent flows out of the recovery tank 30, the liquid level of the organic solvent in the recovery tank 30 decreases. When the liquid level gauge detects that the liquid level of the organic solvent has reached the lower limit, the pump may be stopped and collection of the collected liquid L3 may be stopped.

第3流路F3には、冷却処理ガス送風機40が設けられている。冷却処理ガスは、冷却処理ガス送風機40で送り出されて、合流部100に送り込まれる。 A cooling process gas blower 40 is provided in the third flow path F3. The cooled processing gas is sent out by the cooled processing gas blower 40 and sent into the merging section 100 .

第二被処理ガス排出設備92から排出される第二被処理ガスは、第2流路F2を経由して合流部100に導入される。第2流路F2は、第二被処理ガスを、冷却処理ガスとの合流点である合流部100に導入する経路である。合流部100は、第一被処理ガスに含有される有機溶剤の一部が凝縮回収された後の冷却処理ガスと、第二被処理ガスと、を合流させて、第三被処理ガスとする。 The second to-be-treated gas discharged from the second to-be-treated gas discharge facility 92 is introduced into the confluence section 100 via the second flow path F2. The second flow path F2 is a path for introducing the second to-be-processed gas into the merging section 100, which is the merging point with the cooled processing gas. The merging section 100 merges the cooled processing gas after a portion of the organic solvent contained in the first processing gas has been condensed and recovered, and the second processing gas to form a third processing gas. .

合流部100の出口に、フィルタ101が配置されている。フィルタ101は、後述する第三被処理ガス送風機42に導入される前に、ガスに含まれる比較的粗い塵埃を捕集するためのフィルタである。フィルタ101を収容する筐体が、合流部100として用いられてもよい。合流部100は、箱状の形状を有していてもよい。箱状の合流部100の第一面(たとえば、端面)に第3流路F3が接続され、箱状の合流部の第二面(たとえば、天井面)に第2流路F2が接続されてもよい。ガスの流れ方向におけるフィルタ101の上流側で、冷却処理ガスと第二被処理ガスとが合流してもよい。箱状の筐体に第2流路F2と第3流路F3とを繋げて合流部100にすることで、合流部100を容易に加工可能である。 A filter 101 is arranged at the outlet of the confluence section 100. The filter 101 is a filter for collecting relatively coarse dust contained in the gas before it is introduced into a third gas blower 42, which will be described later. A housing housing the filter 101 may be used as the merging section 100. The merging section 100 may have a box-like shape. A third flow path F3 is connected to a first surface (for example, an end surface) of the box-shaped merging section 100, and a second flow path F2 is connected to a second surface (for example, a ceiling surface) of the box-shaped merging section 100. Good too. The cooling processing gas and the second processing gas may join together on the upstream side of the filter 101 in the gas flow direction. By connecting the second flow path F2 and the third flow path F3 to form the merging portion 100 in a box-shaped housing, the merging portion 100 can be easily processed.

合流部100から、冷却処理ガスと第二被処理ガスとを混合させたガスである第三被処理ガスが排出される。合流部100から排出された第三被処理ガスは、第4流路F4を経由して流れる。第4流路F4は、合流部100から吸脱着処理装置50への第三被処理ガスの経路である。 A third to-be-treated gas, which is a mixture of the cooling process gas and the second to-be-treated gas, is discharged from the confluence section 100 . The third to-be-treated gas discharged from the confluence section 100 flows through the fourth flow path F4. The fourth flow path F4 is a path for the third gas to be processed from the confluence section 100 to the adsorption/desorption processing device 50.

第4流路F4に、第三被処理ガスを加温するガスヒーター41が設けられている。第三被処理ガスの湿度が高すぎると、吸脱着処理装置50が十分な性能を発揮できないことがある。ガスヒーター41によって第三被処理ガスの温度を上げることで、第三被処理ガスの湿度を下げて、吸脱着処理装置50の性能向上が図れる。第4流路F4には、第三被処理ガス送風機42が設けられている。第三被処理ガスは、第三被処理ガス送風機42で送り出されて、吸脱着処理装置50に送り込まれる。 A gas heater 41 that heats the third gas to be processed is provided in the fourth flow path F4. If the humidity of the third gas to be processed is too high, the adsorption/desorption processing device 50 may not be able to exhibit sufficient performance. By raising the temperature of the third gas to be processed using the gas heater 41, the humidity of the third gas to be processed can be lowered, and the performance of the adsorption/desorption processing device 50 can be improved. A third gas blower 42 is provided in the fourth flow path F4. The third gas to be treated is sent out by the third gas blower 42 and sent to the adsorption/desorption processing device 50 .

温度伝送器70は、第4流路F4を流れる第三被処理ガスの温度を検出する。温度伝送器70は、ガスヒーター41よりも上流側(合流部100に近い側)の、第三被処理ガスの温度を検出する。温度伝送器70は、検出した第三被処理ガスの温度を、図示しない制御装置に伝送する。温度伝送器70が検出し伝送する第三被処理ガスの温度に基づいて、冷却部21に供給される冷媒の流量および温度を調整するフィードバック制御が行なわれる。 The temperature transmitter 70 detects the temperature of the third gas to be processed flowing through the fourth flow path F4. The temperature transmitter 70 detects the temperature of the third gas to be processed upstream of the gas heater 41 (closer to the merging section 100). The temperature transmitter 70 transmits the detected temperature of the third gas to be processed to a control device (not shown). Based on the temperature of the third processed gas detected and transmitted by the temperature transmitter 70, feedback control is performed to adjust the flow rate and temperature of the refrigerant supplied to the cooling unit 21.

ガス中に含有される有機溶剤の飽和濃度は、そのガスの温度で決まる。ガスの温度が低いほど、ガス中に含有され得る有機溶剤の濃度が低くなる。第三被処理ガスの温度をモニタリングすることで、第三被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度が爆発下限界温度以下であるかどうかを判断できる。第三被処理ガスの温度に基づいて、第三被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度が爆発下限界温度以下となるように、冷却部21における第一被処理ガスの冷却を制御することができる。これにより、爆発下限界濃度を超える濃度の有機溶剤を含む第三被処理ガスが第三被処理ガス送風機42に送られて、空気雰囲気下で第三被処理ガスが発火する可能性を、低減できる。 The saturation concentration of the organic solvent contained in the gas is determined by the temperature of the gas. The lower the temperature of the gas, the lower the concentration of organic solvent that may be contained in the gas. By monitoring the temperature of the third gas to be treated, it can be determined whether the concentration of the organic solvent contained in the third gas to be treated is below the lower explosive limit temperature. Controlling the cooling of the first to-be-treated gas in the cooling unit 21 based on the temperature of the third to-be-treated gas so that the concentration of the organic solvent contained in the third to-be-treated gas is below the lower explosive limit temperature. Can be done. This reduces the possibility that the third to-be-treated gas containing the organic solvent at a concentration exceeding the lower explosive limit concentration will be sent to the third to-be-treated gas blower 42, and the third to-be-treated gas will ignite in an air atmosphere. can.

吸脱着処理装置50は、第1処理槽51を有している。第1処理槽51には、中空円筒形状の吸脱着素子52が収容されている。第1処理槽51の下部に、ダンパ55が設けられている。第1処理槽51の、吸脱着素子52の上方に、ダンパ56が設けられている。吸脱着処理装置50は、第2処理槽53を有している。第2処理槽53には、中空円筒形状の吸脱着素子54が収容されている。第2処理槽53の下部に、ダンパ57が設けられている。第2処理槽53の、吸脱着素子54の上方に、ダンパ58が設けられている。 The adsorption/desorption processing device 50 has a first processing tank 51 . The first processing tank 51 accommodates a hollow cylindrical adsorption/desorption element 52 . A damper 55 is provided at the bottom of the first processing tank 51. A damper 56 is provided above the adsorption/desorption element 52 in the first processing tank 51 . The adsorption/desorption processing device 50 has a second processing tank 53. The second processing tank 53 accommodates a hollow cylindrical adsorption/desorption element 54 . A damper 57 is provided at the bottom of the second processing tank 53. A damper 58 is provided in the second processing tank 53 above the adsorption/desorption element 54 .

吸脱着素子52,54に対して径方向外側から内側へ向けて第三被処理ガスが通過することにより、吸脱着素子52,54に第三被処理ガスが接触する。このとき、第三被処理ガスに含有される有機溶剤が吸脱着素子52,54に吸着される。これにより第三被処理ガスが清浄化される。清浄化された清浄ガスG9は、第5流路F5から外部に排出される。第5流路F5は、吸脱着処理装置50で有機溶剤の吸着処理が行なわれ清浄化された後の清浄ガスG9を、有機溶剤回収システム1の外部に排出する経路である。 The third gas to be treated passes through the adsorption/desorption elements 52, 54 from the outside in the radial direction toward the inside, so that the third gas to be treated comes into contact with the adsorption/desorption elements 52, 54. At this time, the organic solvent contained in the third gas to be treated is adsorbed by the adsorption/desorption elements 52 and 54. This cleans the third gas to be treated. The purified clean gas G9 is discharged to the outside from the fifth flow path F5. The fifth flow path F5 is a path for discharging to the outside of the organic solvent recovery system 1 the clean gas G9 that has been purified by adsorption processing of the organic solvent in the adsorption/desorption processing device 50.

系外から吸脱着処理装置50に、脱着用ガスG8が導入される。第6流路F6は、加熱気体である脱着用ガスを吸脱着処理装置50に供給する経路である。脱着用ガスG8は、水蒸気であってもよい。または、脱着用ガスG8は、不活性ガスであってもよく、加熱空気であってもよい。 A desorption gas G8 is introduced into the adsorption/desorption processing device 50 from outside the system. The sixth flow path F6 is a path for supplying the desorption gas, which is a heated gas, to the adsorption/desorption processing device 50. The desorption gas G8 may be water vapor. Alternatively, the desorption gas G8 may be an inert gas or heated air.

切換弁63,64は、第1処理槽51への脱着用ガスの供給および停止と、第2処理槽53への脱着用ガスの供給および停止とを切り換える。切換弁63は、第1処理槽51への脱着用ガスの経路に設けられている。切換弁63は、第1処理槽51への脱着用ガスの経路の開閉を切り換える。切換弁64は、第2処理槽53への脱着用ガスの経路に設けられている。切換弁64は、第2処理槽53への脱着用ガスの経路の開閉を切り換える。切換弁63,64は、開閉弁である。切換弁63,64は、電磁弁または電動弁であってもよい。 The switching valves 63 and 64 switch between supplying and stopping the desorption gas to the first processing tank 51 and supplying and stopping the desorption gas to the second processing tank 53. The switching valve 63 is provided in the path of the desorption gas to the first processing tank 51 . The switching valve 63 switches the path of the desorption gas to the first processing tank 51 to open or close. The switching valve 64 is provided in the path of the desorption gas to the second processing tank 53. The switching valve 64 switches the path of the desorption gas to the second processing tank 53 to open or close. The switching valves 63 and 64 are on-off valves. The switching valves 63 and 64 may be electromagnetic valves or electric valves.

吸脱着素子52,54に対して径方向内側から外側へ向けて脱着用ガスが通過することにより、吸脱着素子52,54に吸着された有機溶剤が吸脱着素子52,54から脱着する。 The organic solvent adsorbed by the adsorption/desorption elements 52, 54 is desorbed from the adsorption/desorption elements 52, 54 by the desorption gas passing through the adsorption/desorption elements 52, 54 from the inside to the outside in the radial direction.

第1処理槽51と第2処理槽53とのいずれか一方に、第三被処理ガスが供給されて、第三被処理ガスに含有される有機溶剤を吸着する処理が行なわれる。このとき、第1処理槽51と第2処理槽53とのいずれか他方には、脱着用ガスが供給されて、吸脱着素子52,54に吸着した有機溶剤を脱着する処理が行なわれる。吸脱着素子52,54への有機溶剤の吸着と、吸脱着素子52,54からの有機溶剤の脱着と、が交互に行なわれる。 The third processing gas is supplied to either the first processing tank 51 or the second processing tank 53, and a process of adsorbing the organic solvent contained in the third processing gas is performed. At this time, a desorption gas is supplied to the other of the first treatment tank 51 and the second treatment tank 53 to perform a process of desorbing the organic solvent adsorbed on the adsorption/desorption elements 52 and 54. Adsorption of the organic solvent to the adsorption/desorption elements 52, 54 and desorption of the organic solvent from the adsorption/desorption elements 52, 54 are performed alternately.

具体的に、ダンパ55は、第1処理槽51への第三被処理ガスの経路の開閉を切り換える。ダンパ56は、第1処理槽51から排出される清浄ガスの経路の開閉を切り換える。ダンパ57は、第2処理槽53への第三被処理ガスの経路の開閉を切り換える。ダンパ58は、第2処理槽53から排出される清浄ガスの経路の開閉を切り換える。ダンパ55~58による経路の開閉の切り換えと、切換弁63,64の開閉とが、互いに連動している。 Specifically, the damper 55 switches the path of the third gas to be processed to the first processing tank 51 to be opened or closed. The damper 56 switches the path of clean gas discharged from the first processing tank 51 to open or close. The damper 57 switches the path of the third gas to be processed to the second processing tank 53 to be opened or closed. The damper 58 switches the path of clean gas discharged from the second processing tank 53 to open or close. The opening and closing of the paths by the dampers 55 to 58 and the opening and closing of the switching valves 63 and 64 are linked to each other.

ダンパ55で第1処理槽51への第三被処理ガスの経路を開放するとともに、ダンパ56で第1処理槽51からの清浄ガスの経路を開放する。このとき、ダンパ57で第2処理槽53への第三被処理ガスの経路を閉塞させるとともに、ダンパ58で第2処理槽53からの清浄ガスの経路を閉塞させる。かつ、切換弁63を閉状態にして第1処理槽51への脱着用ガスの経路を閉塞させ、切換弁64を開状態にして第2処理槽53への脱着用ガスの経路を開放する。これにより、第1処理槽51に第三被処理ガスを通過させて、第三被処理ガスに含有される有機溶剤を吸脱着素子52で吸着する処理と、第2処理槽53に脱着用ガスを通過させて、吸脱着素子54から有機溶剤を脱着する処理と、が同時に行なわれる。 The damper 55 opens the path for the third gas to be processed to the first processing tank 51, and the damper 56 opens the path for the clean gas from the first processing tank 51. At this time, the damper 57 blocks the path of the third gas to be processed to the second processing tank 53, and the damper 58 blocks the path of the clean gas from the second processing tank 53. In addition, the switching valve 63 is closed to block the desorption gas path to the first processing tank 51, and the switching valve 64 is opened to open the desorption gas path to the second processing tank 53. As a result, the third processing gas is passed through the first processing tank 51 and the organic solvent contained in the third processing gas is adsorbed by the adsorption/desorption element 52, and the desorption gas is passed through the second processing tank 53. At the same time, the organic solvent is desorbed from the adsorption/desorption element 54 by passing through the organic solvent.

ダンパ57で第2処理槽53への第三被処理ガスの経路を開放するとともに、ダンパ58で第2処理槽53からの清浄ガスの経路を開放する。このとき、ダンパ55で第1処理槽51への第三被処理ガスの経路を閉塞させるとともに、ダンパ56で第1処理槽51への脱着用ガスの経路を閉塞させる。かつ、切換弁64を閉状態にして第2処理槽53への脱着用ガスの経路を閉塞させ、切換弁63を開状態にして第1処理槽51への脱着用ガスの経路を開放する。これにより、第2処理槽53に第三被処理ガスを通過させて、第三被処理ガスに含有される有機溶剤を吸脱着素子54で吸着する処理と、第1処理槽51に脱着用ガスを通過させて、吸脱着素子52から有機溶剤を脱着する処理と、が同時に行なわれる。 The damper 57 opens the path for the third gas to be processed to the second processing tank 53, and the damper 58 opens the path for the clean gas from the second processing tank 53. At this time, the damper 55 blocks the path of the third gas to be processed to the first processing tank 51, and the damper 56 blocks the path of the desorption gas to the first processing tank 51. In addition, the switching valve 64 is closed to block the desorption gas path to the second processing tank 53, and the switching valve 63 is opened to open the desorption gas path to the first processing tank 51. As a result, the third processing gas is passed through the second processing tank 53 and the organic solvent contained in the third processing gas is adsorbed by the adsorption/desorption element 54, and the desorption gas is passed through the first processing tank 51. At the same time, the organic solvent is desorbed from the adsorption/desorption element 52 by passing through the organic solvent.

吸脱着素子52,54に含まれる吸着材としては、たとえば、粒状、粉体状、繊維状、ハニカム状の活性炭、ゼオライト、シリカゲル、活性アルミナなどを用いることができる。特に活性炭素繊維(ACF)が用いることが好ましい。たとえば、ACFを支持体に固定し、または自己支持にて円筒状に構成し、芯材内に縦型に配設することで、吸脱着素子52,54を形成することができる。 As the adsorbent contained in the adsorption/desorption elements 52 and 54, for example, granular, powdered, fibrous, or honeycomb-shaped activated carbon, zeolite, silica gel, activated alumina, etc. can be used. In particular, it is preferable to use activated carbon fiber (ACF). For example, the adsorption/desorption elements 52 and 54 can be formed by fixing the ACF to a support or self-supporting it into a cylindrical shape and arranging it vertically within the core material.

吸脱着処理装置50には、第7流路F7が接続されている。吸脱着素子52,54から有機溶剤を脱着する処理をした後の脱着用ガスは、第7流路F7を経由して吸脱着処理装置50から排出される。第7流路F7に、第二凝縮回収装置80が設けられている。脱着用ガスの流れ方向において、第二凝縮回収装置80は、吸脱着処理装置50の下流側に設けられている。第二凝縮回収装置80は、脱着用ガスに含有される有機溶剤の一部を凝縮させて回収する。第二凝縮回収装置80は、第二凝縮部81と、第二回収タンク82とを有している。 A seventh flow path F7 is connected to the adsorption/desorption processing device 50. The desorption gas after the process of desorbing the organic solvent from the adsorption/desorption elements 52 and 54 is discharged from the adsorption/desorption processing device 50 via the seventh flow path F7. A second condensation recovery device 80 is provided in the seventh flow path F7. The second condensation and recovery device 80 is provided downstream of the adsorption/desorption processing device 50 in the flow direction of the desorption gas. The second condensation and recovery device 80 condenses and recovers a portion of the organic solvent contained in the desorption gas. The second condensation recovery device 80 has a second condensation section 81 and a second recovery tank 82.

第二凝縮回収装置80に導入される脱着用ガスには、吸脱着素子52,54から脱着した有機溶剤が含まれている。第二凝縮部81は、吸脱着処理装置50から排出された脱着用ガスを冷却することによって、脱着用ガスに含まれる有機溶剤の一部を凝縮させる。凝縮した液体状の有機溶剤は、第二回収タンク82に集液される。第二回収タンク82に貯留される液体状の有機溶剤が、回収液L4として回収される。 The desorption gas introduced into the second condensation and recovery device 80 contains the organic solvent desorbed from the adsorption/desorption elements 52 and 54. The second condensing section 81 cools the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device 50, thereby condensing a part of the organic solvent contained in the desorption gas. The condensed liquid organic solvent is collected in the second recovery tank 82 . The liquid organic solvent stored in the second recovery tank 82 is recovered as recovery liquid L4.

上記では吸脱着処理装置50は中空円筒形状の吸脱着素子が収容された処理槽を2つ備えている構成を説明したが、吸脱着処理装置50が備える処理槽の数に限定はない。また、吸脱着処理装置50として、例えば特開昭61-167430に示されるようなディスク型の吸脱着処理装置、例えば特開昭63-84616に示されるような縦置きシリンダー型の吸脱着処理装置、または、例えばWO2016/189958、WO2017/170207に示されるような横置きシリンダー型の吸脱着処理装置、を備えたシステムとしてもよい。 Although the adsorption/desorption processing device 50 has been described above as having two processing tanks in which hollow cylindrical adsorption/desorption elements are accommodated, there is no limitation on the number of processing tanks included in the adsorption/desorption processing device 50. Further, as the adsorption/desorption processing device 50, for example, a disk-type adsorption/desorption processing device as shown in JP-A No. 61-167430, or a vertical cylinder-type adsorption/desorption processing device as shown in JP-A-63-84616, for example. Alternatively, the system may include a horizontal cylinder type adsorption/desorption processing device as shown in WO2016/189958 and WO2017/170207, for example.

第二凝縮回収装置80から、含有する有機溶剤の濃度が低減された戻りガスが排出される。第7流路F7は、第4流路F4に接続されている。戻りガスは、第7流路F7を経由して、第4流路F4に戻され、第三被処理ガスに混合される。 Return gas containing a reduced concentration of organic solvent is discharged from the second condensation recovery device 80 . The seventh flow path F7 is connected to the fourth flow path F4. The return gas is returned to the fourth flow path F4 via the seventh flow path F7 and mixed with the third gas to be processed.

[第2実施形態]
図2は、第2実施形態の有機溶剤回収システム1の構成を概略的に示す図である。第1実施形態では、脱着用ガスを、含有する有機溶剤を凝縮回収した後に戻りガスとして第4流路F4に戻す例について説明した。この例に替えて、図2に示されるように、有機溶剤回収システム1は、脱着用ガスG8が循環する循環経路C1を備えてもよい。
[Second embodiment]
FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of an organic solvent recovery system 1 according to the second embodiment. In the first embodiment, an example has been described in which the desorption gas is returned to the fourth flow path F4 as a return gas after condensing and recovering the organic solvent it contains. Instead of this example, as shown in FIG. 2, the organic solvent recovery system 1 may include a circulation path C1 through which the desorption gas G8 circulates.

吸脱着処理装置50および第二凝縮回収装置80(具体的には、第二凝縮部81)は、循環経路C1に設けられている。循環経路C1を流れる脱着用ガスG8の流れ方向において、第二凝縮回収装置80は、吸脱着処理装置50の下流側に設けられている。この場合、脱着用ガスG8は、不活性ガスであってもよい。たとえば脱着用ガスG8は、窒素ガスであってもよい。 The adsorption/desorption processing device 50 and the second condensation recovery device 80 (specifically, the second condensation section 81) are provided in the circulation path C1. The second condensation and recovery device 80 is provided downstream of the adsorption/desorption processing device 50 in the flow direction of the desorption gas G8 flowing through the circulation path C1. In this case, the desorption gas G8 may be an inert gas. For example, the desorption gas G8 may be nitrogen gas.

循環経路C1にはまた、脱着用ガス送風機61と、脱着ヒーター62とが設けられている。循環経路C1を流れる脱着用ガスG8の流れ方向において、脱着用ガス送風機61は、吸脱着処理装置50の上流側に設けられている。脱着用ガスG8は、脱着用ガス送風機61で送り出されて、吸脱着処理装置50に送り込まれる。脱着用ガスG8の流れ方向において、脱着ヒーター62は、脱着用ガス送風機61の下流側かつ吸脱着処理装置50の上流側に設けられている。脱着ヒーター62は、吸脱着処理装置50に導入される前の脱着用ガスG8を加熱する。脱着ヒーター62は、第二凝縮回収装置80から排出された低温状態の脱着用ガスG8を加熱する。 The circulation path C1 is also provided with a desorption gas blower 61 and a desorption heater 62. The desorption gas blower 61 is provided upstream of the adsorption/desorption processing device 50 in the flow direction of the desorption gas G8 flowing through the circulation path C1. The desorption gas G8 is sent out by the desorption gas blower 61 and sent to the adsorption/desorption processing device 50. In the flow direction of the desorption gas G8, the desorption heater 62 is provided downstream of the desorption gas blower 61 and upstream of the adsorption/desorption processing device 50. The desorption heater 62 heats the desorption gas G8 before being introduced into the adsorption/desorption processing device 50. The desorption heater 62 heats the low-temperature desorption gas G8 discharged from the second condensation recovery device 80.

第2実施形態の吸脱着処理装置50には、ダンパは設けられていない。吸脱着処理装置50に導入される第三被処理ガスの経路である第4流路F4に、切換弁65A,66Aが設けられている。第三被処理ガスから有機溶剤が除去された清浄ガスG9の経路である第5流路F5に、切換弁65B,66Bが設けられている。吸脱着処理装置50に導入される脱着用ガスG8の経路に、切換弁63A,64Aが設けられている。吸脱着処理装置50から排出された脱着用ガスG8の経路に、切換弁63B,64Bが設けられている。各切換弁の開閉による経路の開閉の切換が、連動している。 The adsorption/desorption processing device 50 of the second embodiment is not provided with a damper. Switching valves 65A and 66A are provided in the fourth flow path F4, which is a path for the third gas to be processed introduced into the adsorption/desorption processing device 50. Switching valves 65B and 66B are provided in the fifth flow path F5, which is a path for the clean gas G9 from which the organic solvent has been removed from the third gas to be treated. Switching valves 63A and 64A are provided in the path of the desorption gas G8 introduced into the adsorption/desorption processing device 50. Switching valves 63B and 64B are provided in the path of the desorption gas G8 discharged from the adsorption/desorption processing device 50. The switching of opening and closing of the path by opening and closing of each switching valve is linked.

切換弁66Aを開にして第2処理槽53への第三被処理ガスの経路を開放するとともに、切換弁66Bを開にして第2処理槽53からの清浄ガスの経路を開放する。このとき、切換弁65Aを閉にして第1処理槽51への第三被処理ガスの経路を閉塞させるとともに、切換弁65Bを閉にして第1処理槽51からの清浄ガスの経路を閉塞させる。かつ、切換弁63Aを開にして第1処理槽51へ脱着用ガスを導入する経路を開放し、切換弁63Bを開にして第1処理槽51から脱着用ガスを排出する経路を開放する。切換弁64Aを閉にして第2処理槽53へ脱着用ガスを導入する経路を閉塞させ、切換弁64Bを閉にして第2処理槽53から脱着用ガスを排出する経路を閉塞させる。 The switching valve 66A is opened to open the path for the third gas to be processed to the second processing tank 53, and the switching valve 66B is opened to open the path for the clean gas from the second processing tank 53. At this time, the switching valve 65A is closed to block the path of the third processed gas to the first processing tank 51, and the switching valve 65B is closed to block the path of the clean gas from the first processing tank 51. . In addition, the switching valve 63A is opened to open a path for introducing the desorption gas into the first processing tank 51, and the switching valve 63B is opened to open a path for discharging the desorption gas from the first processing tank 51. The switching valve 64A is closed to block the path for introducing the desorption gas into the second processing tank 53, and the switching valve 64B is closed to block the path for discharging the desorption gas from the second processing tank 53.

これにより、第2処理槽53に第三被処理ガスを通過させて、第三被処理ガスに含有される有機溶剤を吸脱着素子54で吸着する処理と、第1処理槽51に脱着用ガスを通過させて、吸脱着素子52から有機溶剤を脱着する処理と、が同時に行なわれる。 As a result, the third processing gas is passed through the second processing tank 53 and the organic solvent contained in the third processing gas is adsorbed by the adsorption/desorption element 54, and the desorption gas is passed through the first processing tank 51. At the same time, the organic solvent is desorbed from the adsorption/desorption element 52 by passing through the organic solvent.

切換弁65Aを開にして第1処理槽51への第三被処理ガスの経路を開放するとともに、切換弁65Bを開にして第1処理槽51からの清浄ガスの経路を開放する。このとき、切換弁66Aを閉にして第2処理槽53への第三被処理ガスの経路を閉塞させるとともに、切換弁66Bを閉にして第2処理槽53からの清浄ガスの経路を閉塞させる。かつ、切換弁64Aを開にして第2処理槽53へ脱着用ガスを導入する経路を開放し、切換弁64Bを開にして第2処理槽53から脱着用ガスを排出する経路を開放する。切換弁63Aを閉にして第1処理槽51へ脱着用ガスを導入する経路を閉塞させ、切換弁63Bを閉にして第1処理槽51から脱着用ガスを排出する経路を閉塞させる。 The switching valve 65A is opened to open the path for the third gas to be processed to the first processing tank 51, and the switching valve 65B is opened to open the path for the clean gas from the first processing tank 51. At this time, the switching valve 66A is closed to block the path of the third gas to be processed to the second processing tank 53, and the switching valve 66B is closed to block the path of the clean gas from the second processing tank 53. . In addition, the switching valve 64A is opened to open a path for introducing the desorption gas into the second processing tank 53, and the switching valve 64B is opened to open a path for discharging the desorption gas from the second processing tank 53. The switching valve 63A is closed to block the path for introducing the desorption gas into the first processing tank 51, and the switching valve 63B is closed to block the path for discharging the desorption gas from the first processing tank 51.

これにより、第1処理槽51に第三被処理ガスを通過させて、第三被処理ガスに含有される有機溶媒を吸脱着素子52で吸着する処理と、第2処理槽53に脱着用ガスを通過させて、吸脱着素子54から有機溶剤を脱着する処理と、が同時に行なわれる。 As a result, the third processing gas is passed through the first processing tank 51 and the organic solvent contained in the third processing gas is adsorbed by the adsorption/desorption element 52, and the second processing tank 53 is supplied with the desorption gas. At the same time, the organic solvent is desorbed from the adsorption/desorption element 54 by passing through the organic solvent.

凝縮回収装置10は、冷却部21から分離部22へ第一被処理ガスが流れる方向と、分離部22からチャンバ23へ第一被処理ガスが流れる方向と、が交差する、L字状の構造を有してもよい。このとき分離部22の下方に、凝縮した有機溶剤を受ける漏斗状の受け部が設けられてもよい。これにより、凝縮した有機溶剤の液滴が凝縮部20から第2流路F2へ流出して吸脱着処理装置50へ到達することを抑制できる。 The condensation recovery device 10 has an L-shaped structure in which the direction in which the first gas to be processed flows from the cooling section 21 to the separation section 22 and the direction in which the first gas to be processed flows from the separation section 22 to the chamber 23 intersect. It may have. At this time, a funnel-shaped receiving part may be provided below the separation part 22 to receive the condensed organic solvent. Thereby, it is possible to suppress the condensed organic solvent droplets from flowing out from the condensing section 20 to the second flow path F2 and reaching the adsorption/desorption processing device 50.

[作用および効果]
上述した説明と一部重複する記載もあるが、本実施形態の特徴的な構成および作用効果についてまとめて記載すると、以下の通りである。
[Action and effect]
Although some descriptions overlap with the above description, the characteristic configuration and effects of this embodiment are summarized as follows.

図1,2に示されるように、有機溶剤回収システム1によって処理される被処理ガスは、第一被処理ガス排出設備91から排出される第一被処理ガスと、第二被処理ガス排出設備92から排出される第二被処理ガスとを含んでいる。第一被処理ガスが含有する有機溶剤の濃度よりも、第二被処理ガスが含有する有機溶剤の濃度の方が低い。高濃度の有機溶剤を含有する第一被処理ガスを凝縮回収装置10に供給して、凝縮回収装置10で第一被処理ガスに含有される有機溶剤の大半を凝縮させて回収する。未凝縮の有機溶剤を含む冷却処理ガスを、凝縮回収装置10から排出する。合流部100は、冷却処理ガスと、低濃度の有機溶剤を含有する第二被処理ガスとを合流させて、第三被処理ガスとする。第三被処理ガスを吸脱着処理装置50に供給して、第三被処理ガスから、第三被処理ガスが含有する有機溶剤を吸脱着素子52,54で吸着除去し、清浄ガスを排出する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the gas to be treated by the organic solvent recovery system 1 includes the first gas to be treated discharged from the first gas exhaust facility 91 and the second gas to be treated gas discharged from the second gas exhaust facility. 92. The concentration of the organic solvent contained in the second gas to be treated is lower than the concentration of the organic solvent contained in the first gas to be treated. The first gas to be treated containing a high concentration of organic solvent is supplied to the condensation and recovery device 10, and most of the organic solvent contained in the first gas to be treated is condensed and recovered by the condensation and recovery device 10. The cooled processing gas containing uncondensed organic solvent is discharged from the condensation recovery device 10. The confluence section 100 merges the cooling process gas and the second process gas containing a low concentration organic solvent to form a third process gas. The third gas to be treated is supplied to the adsorption/desorption processing device 50, and the organic solvent contained in the third gas to be treated is adsorbed and removed from the third gas to be treated by the adsorption/desorption elements 52, 54, and clean gas is discharged. .

高濃度の有機溶剤を含有する第一被処理ガスから、有機溶剤を凝縮させることによって回収する。凝縮回収装置10で回収される有機溶剤は、加熱されることがないため、分解しない。熱履歴によって分解する可能性のある有機溶剤が第一被処理ガスに多く含まれている場合に、回収される有機溶剤の着色、物性変化などが生じることを抑制できるので、回収される有機溶剤の品質を向上することができる。したがって、回収した有機溶剤を有効に再利用することができる。 The organic solvent is recovered from the first gas to be treated containing a high concentration of organic solvent by condensing it. The organic solvent recovered by the condensation recovery device 10 is not decomposed because it is not heated. If the first to-be-treated gas contains a large amount of organic solvents that may decompose due to thermal history, it is possible to suppress the coloring and changes in physical properties of the recovered organic solvents. quality can be improved. Therefore, the recovered organic solvent can be effectively reused.

また、第一被処理ガスから有機溶剤の一部を除去した後に第二被処理ガスと合流させることで、吸脱着処理装置50に供給される第三被処理ガスに含まれる有機溶剤の濃度が低減される。そのため、吸脱着処理装置50に充填される吸脱着素子52,54の重量を低減でき、吸脱着処理装置50が小型化する。さらに第二凝縮回収装置80も小型化することから、有機溶剤回収システム1全体として省スペース化を達成できる。 Furthermore, by removing a part of the organic solvent from the first gas to be treated and then combining it with the second gas to be treated, the concentration of the organic solvent contained in the third gas to be treated that is supplied to the adsorption/desorption processing device 50 can be reduced. reduced. Therefore, the weight of the adsorption/desorption elements 52 and 54 filled in the adsorption/desorption processing device 50 can be reduced, and the adsorption/desorption processing device 50 can be downsized. Furthermore, since the second condensation recovery device 80 is also downsized, space saving can be achieved for the organic solvent recovery system 1 as a whole.

従来のシステムでは、第一被処理ガスと第二被処理ガスとを合流させた後に、吸脱着素子で有機溶剤を吸着回収してから排気する。従来のシステムでは、第一被処理ガスと第二被処理ガスとの混合ガスに含まれる有機溶剤の濃度が、有機溶剤を効率的に凝縮回収できる所定の濃度よりも低くなるので、混合ガスから有機溶剤を凝縮回収できない。従来のシステムでは、第一被処理ガスと第二被処理ガスとに含まれる有機溶剤の全量を、吸脱着素子で吸着除去する必要がある。そのため、吸脱着素子の重量が大きくなる。 In conventional systems, after a first gas to be treated and a second gas to be treated are combined, an organic solvent is adsorbed and recovered by an adsorption/desorption element, and then exhausted. In conventional systems, the concentration of organic solvent contained in the mixed gas of the first to-be-treated gas and the second to-be-treated gas is lower than a predetermined concentration that allows efficient condensation and recovery of the organic solvent, so Organic solvents cannot be condensed and recovered. In the conventional system, it is necessary to adsorb and remove the entire amount of organic solvent contained in the first gas to be treated and the second gas to be treated using an adsorption/desorption element. Therefore, the weight of the adsorption/desorption element increases.

実施形態の有機溶剤回収システム1では、第一被処理ガスに含まれる有機溶剤の一部を凝縮回収装置10で凝縮回収した後の、未凝縮の有機溶剤を、吸脱着素子52,54で吸着除去することになる。従来のシステムに比べて、実施形態の有機溶剤回収システム1では、吸脱着素子52,54の重量が大幅に削減されている。そのため、吸脱着素子52,54から有機溶剤を脱着するためのエネルギーが大幅に削減されるので、省エネルギー化を達成できる。 In the organic solvent recovery system 1 of the embodiment, after a part of the organic solvent contained in the first gas to be treated is condensed and recovered by the condensation recovery device 10, the uncondensed organic solvent is adsorbed by the adsorption/desorption elements 52 and 54. It will be removed. In the organic solvent recovery system 1 of the embodiment, the weight of the adsorption/desorption elements 52 and 54 is significantly reduced compared to conventional systems. Therefore, the energy required to desorb the organic solvent from the adsorption/desorption elements 52 and 54 is significantly reduced, so that energy saving can be achieved.

ここで、従来のシステムと比較したエネルギー削減を実現するための有機溶剤回収システム1の運転条件について説明する。図3は、本開示の有機溶剤回収システム1によるエネルギー削減率を示すグラフである。第二被処理ガスの風量を第一被処理ガスの風量で除した商をAとする。第一被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度を、第二被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度で除した商を、Bとする。凝縮回収装置10における、第一被処理ガスに含有される有機溶剤の回収率をC(単位:%)とする。回収率Cは、第一被処理ガスに含有される有機溶剤のうち、凝縮回収装置10において回収される有機溶剤の割合を示す。 Here, operating conditions of the organic solvent recovery system 1 for realizing energy reduction compared to conventional systems will be explained. FIG. 3 is a graph showing the energy reduction rate by the organic solvent recovery system 1 of the present disclosure. Let A be the quotient obtained by dividing the air volume of the second gas to be treated by the air volume of the first gas to be treated. B is the quotient obtained by dividing the concentration of the organic solvent contained in the first gas to be treated by the concentration of the organic solvent contained in the second gas to be treated. The recovery rate of the organic solvent contained in the first gas to be treated in the condensation recovery device 10 is assumed to be C (unit: %). The recovery rate C indicates the proportion of the organic solvent recovered in the condensation recovery device 10 among the organic solvents contained in the first gas to be treated.

図3のグラフにおける横軸は、対数表示した(A÷B÷C)の値を示す。図3のグラフにおける縦軸は、エネルギー削減率(単位:%)を示す。第一被処理ガス中の有機溶剤を凝縮回収した後に第二被処理ガスと合流させて第三被処理ガスとし、第三被処理ガス中の有機溶剤を吸着除去する、実施形態の有機溶剤回収システム1に、有機溶剤を回収する処理のために投入されるエネルギー量をEとする。第一被処理ガスと第二被処理ガスとを合流させて吸脱着処理装置で有機溶剤を回収する従来の有機溶剤回収システムに、有機溶剤を回収する処理のために投入されるエネルギー量をE0とする。この場合、エネルギー削減率は、(1-E/E0)×100で表される。 The horizontal axis in the graph of FIG. 3 indicates the value of (A÷B÷C) expressed in logarithm. The vertical axis in the graph of FIG. 3 indicates the energy reduction rate (unit: %). Organic solvent recovery in an embodiment in which the organic solvent in the first gas to be treated is condensed and recovered, then combined with the second gas to be treated to form a third gas to be treated, and the organic solvent in the third gas to be treated is removed by adsorption. Let E be the amount of energy input into the system 1 for the process of recovering the organic solvent. E shall be. In this case, the energy reduction rate is expressed as (1-E/E0)×100.

エネルギー削減率が0%より大きければ、従来のシステムと比較して投入されるエネルギー量が削減されており、省エネルギー化を達成できるので従来のシステムよりも有利であるということになる。図3のグラフに示されるように、(A÷B÷C)の値が0より大きく0.033以下の範囲で、省エネルギー化を達成できる。 If the energy reduction rate is greater than 0%, the amount of energy input is reduced compared to the conventional system, and energy saving can be achieved, which means that the system is more advantageous than the conventional system. As shown in the graph of FIG. 3, energy saving can be achieved within a range where the value of (A÷B÷C) is greater than 0 and less than or equal to 0.033.

つまり、図3に示されるように、第一被処理ガスと第二被処理ガスとを含む被処理ガスから、実施形態の有機溶剤回収システム1によって有機溶剤を回収する場合には、計算式0<(A÷B÷C)≦0.033を満たす運転条件とすることで、エネルギー使用量を削減でき、従来のシステムよりもエネルギー使用を抑えることができる。なお、従来のシステムは、凝縮回収装置10を備えておらず、凝縮回収装置10における回収率Cは0%であるので、上記の計算式を使うことはできない。 In other words, as shown in FIG. 3, when the organic solvent is recovered from the gas to be treated including the first gas to be treated and the second gas to be treated by the organic solvent recovery system 1 of the embodiment, the calculation formula 0 By setting the operating condition to satisfy <(A÷B÷C)≦0.033, the amount of energy used can be reduced, and the energy consumption can be suppressed more than in the conventional system. Note that the conventional system does not include the condensation recovery device 10 and the recovery rate C in the condensation recovery device 10 is 0%, so the above calculation formula cannot be used.

図1,2に示されるように、有機溶剤回収システム1は、吸脱着処理装置50から排出された脱着用ガスを冷却することで、脱着用ガスに含有される有機溶剤を凝縮させて回収する、第二凝縮回収装置80を備えてもよい。第三被処理ガスが含有する有機溶剤を吸脱着素子52,54で吸着除去し、吸脱着処理装置50に脱着用ガスを導入して吸脱着素子52,54から有機溶剤を脱着させる。吸脱着処理装置50から排出された脱着用ガスに含有する有機溶剤を、第二凝縮回収装置80で凝縮させて回収する。これにより、有機溶剤回収システム1による有機溶剤の回収率を向上することができる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the organic solvent recovery system 1 cools the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device 50 to condense and recover the organic solvent contained in the desorption gas. , a second condensation recovery device 80 may be provided. The organic solvent contained in the third gas to be treated is adsorbed and removed by the adsorption/desorption elements 52 and 54, and a desorption gas is introduced into the adsorption/desorption processing device 50 to desorb the organic solvent from the adsorption/desorption elements 52 and 54. The organic solvent contained in the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device 50 is condensed and recovered by the second condensation and recovery device 80 . Thereby, the recovery rate of the organic solvent by the organic solvent recovery system 1 can be improved.

被処理ガスに含有される有機溶剤が熱履歴によって分解しやすい成分を含んでいる場合に、第二凝縮回収装置80を備える構成とすることで、吸脱着素子52,54から脱着した有機溶剤をそのまま凝縮回収することができる。分解しやすい成分をシステム入口の第1流路F1に戻すことなく、第二凝縮回収装置80で凝縮回収することができる。 When the organic solvent contained in the gas to be treated contains components that are easily decomposed due to thermal history, the second condensation and recovery device 80 is provided to remove the organic solvent desorbed from the adsorption/desorption elements 52 and 54. It can be condensed and recovered as is. The easily decomposed components can be condensed and recovered by the second condensation recovery device 80 without returning them to the first flow path F1 at the system inlet.

脱着用ガスは、水蒸気であってもよい。高温の水蒸気を吸脱着処理装置50に導入することで、吸脱着素子52,54に吸着された有機溶剤を、確実に吸脱着素子52,54から脱着させることができる。被処理ガスに含有される有機溶剤が熱履歴によって分解しやすい成分を含んでいる場合に、第二凝縮回収装置80を備える構成とするとともに脱着用ガスとして水蒸気を用いることで、水蒸気で吸脱着素子52,54から脱着した有機溶剤をそのまま凝縮回収することができる。分解しやすい成分をシステム入口の第1流路F1に戻すことなく、第二凝縮回収装置80で凝縮回収することができる。 The desorption gas may be water vapor. By introducing high temperature water vapor into the adsorption/desorption processing device 50, the organic solvent adsorbed on the adsorption/desorption elements 52, 54 can be reliably desorbed from the adsorption/desorption elements 52, 54. When the organic solvent contained in the gas to be treated contains components that are easily decomposed due to thermal history, the structure is equipped with the second condensation recovery device 80 and uses water vapor as the desorption gas, so that the water vapor can be adsorbed and desorbed. The organic solvent desorbed from the elements 52 and 54 can be condensed and recovered as is. The easily decomposed components can be condensed and recovered by the second condensation recovery device 80 without returning them to the first flow path F1 at the system inlet.

脱着用ガスは、不活性ガスであってもよい。図2に示されるように、不活性ガスを脱着ヒーター62で加熱して吸脱着処理装置50に導入することで、吸脱着素子52,54に吸着された有機溶剤を、確実に吸脱着素子52,54から脱着させることができる。比較的熱分解しにくい成分の有機溶剤が被処理ガスに含有されている場合には、脱着用ガスとして不活性ガスを用いることで、吸脱着処理装置50から排出された脱着用ガスを、システム入口の第1流路F1に戻して、脱着用ガスに含まれる有機溶剤を凝縮回収装置10で凝縮回収することが可能である。 The desorption gas may be an inert gas. As shown in FIG. 2, by heating the inert gas with the desorption heater 62 and introducing it into the adsorption/desorption treatment device 50, the organic solvent adsorbed on the adsorption/desorption elements 52, 54 is reliably transferred to the adsorption/desorption elements 52, 54. , 54. When the to-be-treated gas contains an organic solvent with a component that is relatively difficult to thermally decompose, an inert gas is used as the desorption gas, so that the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device 50 is removed from the system. The organic solvent contained in the desorption gas can be returned to the first flow path F1 at the inlet and condensed and recovered by the condensation recovery device 10.

図2に示されるように、脱着用ガスG8が循環する循環経路C1に、吸脱着処理装置50および第二凝縮回収装置80が設けられてもよい。循環経路C1を循環する脱着用ガスG8で、有機溶剤を吸脱着素子52,54から脱着させ、脱着用ガスG8をシステム入口には戻さずに、第二凝縮回収装置80で凝縮回収することができる。 As shown in FIG. 2, an adsorption/desorption processing device 50 and a second condensation recovery device 80 may be provided in the circulation path C1 through which the desorption gas G8 circulates. The organic solvent can be desorbed from the adsorption/desorption elements 52 and 54 by the desorption gas G8 circulating through the circulation path C1, and the desorption gas G8 can be condensed and recovered in the second condensation and recovery device 80 without returning to the system inlet. can.

図2に示されるように、第二凝縮回収装置80から排出された脱着用ガスG8を加熱する脱着ヒーター62が、循環経路C1に設けられてもよい。脱着用ガスG8を脱着ヒーター62で加熱して吸脱着処理装置50に導入することで、吸脱着素子52,54に吸着された有機溶剤を、確実に吸脱着素子52,54から脱着させることができる。 As shown in FIG. 2, a desorption heater 62 that heats the desorption gas G8 discharged from the second condensation recovery device 80 may be provided in the circulation path C1. By heating the desorption gas G8 with the desorption heater 62 and introducing it into the adsorption/desorption treatment device 50, the organic solvent adsorbed on the adsorption/desorption elements 52, 54 can be reliably desorbed from the adsorption/desorption elements 52, 54. can.

図1,2に示されるように、温度伝送器70は、第三被処理ガスの温度を検出して伝送してもよい。第三被処理ガスの温度に基づいて、冷却部21に供給される冷媒の流量および温度を調整するフィードバック制御をすることで、第三被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度を、爆発下限界温度以下に確実に維持することができる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the temperature transmitter 70 may detect and transmit the temperature of the third gas to be processed. By performing feedback control that adjusts the flow rate and temperature of the refrigerant supplied to the cooling unit 21 based on the temperature of the third gas to be treated, the concentration of the organic solvent contained in the third gas to be treated can be reduced to an explosive level. The temperature can be reliably maintained below the critical temperature.

以下、実施例について説明する。まず、高濃度の有機溶剤を含む第一被処理ガスと、第一被処理ガスよりも低濃度の有機溶剤を含む第二被処理ガスとを準備した。実施例および比較例の有機溶剤回収システムで処理される第一被処理ガスおよび第二被処理ガスの条件は、表1の通りとした。 Examples will be described below. First, a first gas to be treated containing a highly concentrated organic solvent and a second gas to be treated containing an organic solvent at a lower concentration than the first gas to be treated were prepared. Table 1 shows the conditions for the first gas to be treated and the second gas to be treated in the organic solvent recovery systems of Examples and Comparative Examples.

Figure 0007435934000001
Figure 0007435934000001

実施例の有機溶剤回収システムは、上述した実施形態の通りとした。すなわち、第一被処理ガスに含有される有機溶剤を凝縮回収装置で凝縮させて回収し、未凝縮の有機溶剤を含む冷却処理ガスと低濃度の有機溶剤を含有する第二被処理ガスとを合流させて吸脱着処理装置に供給して有機溶剤を吸脱着素子で吸着除去し、吸脱着処理装置から排出された脱着用ガスに含有される有機溶剤を第二凝縮回収装置で回収する態様とした。 The organic solvent recovery system of the example was as in the embodiment described above. That is, the organic solvent contained in the first to-be-treated gas is condensed and recovered by a condensation recovery device, and the cooled to-be-treated gas containing the uncondensed organic solvent and the second to-be-treated gas containing a low concentration of organic solvent are combined. A mode in which the organic solvents are combined and supplied to an adsorption/desorption processing device, the organic solvent is adsorbed and removed by an adsorption/desorption element, and the organic solvent contained in the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device is recovered by a second condensation recovery device. did.

一方、比較例の有機溶剤回収システムは、従来のシステムに従った、第一被処理ガスと第二被処理ガスとを混合した後に、実施例と同じ吸脱着処理装置と第二凝縮回収装置とで有機溶剤を回収する態様とした。 On the other hand, in the organic solvent recovery system of the comparative example, after mixing the first to-be-treated gas and the second to-be-treated gas according to the conventional system, the same adsorption/desorption treatment device and the second condensation and recovery device as in the example The organic solvent was recovered in this manner.

凝縮回収装置における、有機溶剤を凝縮させるための設定温度は、-19℃とした。吸脱着処理装置における、吸脱着素子から有機溶剤を脱着させるための脱着用ガスとして、水蒸気を用いた。水蒸気の温度は常圧で120℃、水蒸気の使用量は34kg/minとした。第二凝縮回収装置における、有機溶剤を凝縮させるための設定温度は、32℃とした。この条件下で、実施例および比較例の有機溶剤回収システムを用いて有機溶媒を回収する処理を実行するときに、各機器で消費されるエネルギー量を、表2に示した。 The set temperature for condensing the organic solvent in the condensation recovery device was -19°C. Water vapor was used as a desorption gas for desorbing the organic solvent from the adsorption/desorption element in the adsorption/desorption processing device. The temperature of the steam was 120° C. at normal pressure, and the amount of steam used was 34 kg/min. The set temperature for condensing the organic solvent in the second condensation recovery device was 32°C. Table 2 shows the amount of energy consumed by each device when performing the process of recovering organic solvents using the organic solvent recovery systems of Examples and Comparative Examples under these conditions.

なお、本実施例では第二被処理ガスの風量を第一被処理ガスの風量で除した商A=30、第一被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度を第二被処理ガスに含有される有機溶剤の濃度で除した商B=100、凝縮回収装置10における第一被処理ガスに含有される有機溶剤の回収率C=90であり、A÷B÷C=0.003であった。 In this example, the quotient A obtained by dividing the air volume of the second gas to be treated by the air volume of the first gas to be treated is 30, and the concentration of the organic solvent contained in the first gas to be treated is equal to the concentration of the organic solvent contained in the second gas to be treated. The quotient B divided by the concentration of the organic solvent to be treated is 100, the recovery rate C of the organic solvent contained in the first gas to be treated in the condensation recovery device 10 is 90, and A÷B÷C=0.003. Ta.

Figure 0007435934000002
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表2に示されるように、実施例の有機溶剤回収システムにおいて各機器で消費されるエネルギー量の合計値に対して、比較例の有機溶剤回収システムにおいて各機器で消費されるエネルギー量の合計値は、2.5倍以上であった。したがって、実施例の有機溶剤回収システムによって、従来のシステムに従った比較例よりもエネルギー使用を大幅に抑えながら高品質な有機溶剤を回収できることが示された。 As shown in Table 2, compared to the total amount of energy consumed by each device in the organic solvent recovery system of the example, the total amount of energy consumed by each device in the organic solvent recovery system of the comparative example was 2.5 times or more. Therefore, it was shown that the organic solvent recovery system of the example can recover high-quality organic solvents while using significantly less energy than the comparative example that follows the conventional system.

今回開示された実施形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiments and examples disclosed herein are illustrative in all respects and should not be considered restrictive. The scope of the present invention is indicated not by the above description but by the claims, and it is intended that equivalent meanings and all changes within the scope of the claims are included.

1 有機溶剤回収システム、10 冷却凝縮装置、20 凝縮部、21 冷却部、22 分離部、23 チャンバ、30 回収タンク、31 気層部、32 液貯留部、40 冷却処理ガス送風機、41 ガスヒーター、42 第三被処理ガス送風機、50 吸脱着処理装置、51 第1処理槽、52,54 吸脱着素子、53 第2処理槽、55~58 ダンパ、61 脱着用ガス送風機、62 脱着ヒータ-、63,63A,63B,64,64A,64B,65A,65B,66A,66B 切換弁、70 温度伝送器、80 第二凝縮回収装置、81 第二凝縮部、82 第二回収タンク、91 第一被処理ガス排出設備、92 第二被処理ガス排出設備、100 合流部、101 フィルタ、C1 循環流路、F1 第1流路、F2 第2流路、F3 第3流路、F4 第4流路。 1 organic solvent recovery system, 10 cooling condensation device, 20 condensation section, 21 cooling section, 22 separation section, 23 chamber, 30 recovery tank, 31 gas layer section, 32 liquid storage section, 40 cooling processing gas blower, 41 gas heater, 42 Third processing gas blower, 50 Adsorption/desorption processing device, 51 First processing tank, 52, 54 Adsorption/desorption element, 53 Second processing tank, 55 to 58 Damper, 61 Desorption gas blower, 62 Desorption heater, 63 , 63A, 63B, 64, 64A, 64B, 65A, 65B, 66A, 66B switching valve, 70 temperature transmitter, 80 second condensation recovery device, 81 second condensation section, 82 second recovery tank, 91 first to be treated Gas discharge equipment, 92 second gas discharge equipment to be treated, 100 merging section, 101 filter, C1 circulation flow path, F1 first flow path, F2 second flow path, F3 third flow path, F4 fourth flow path.

Claims (8)

有機溶剤を含有する被処理ガスから前記有機溶剤を分離して回収する有機溶剤回収システムであって、
前記被処理ガスは、第一被処理ガスと、含有する前記有機溶剤の濃度が前記第一被処理ガスよりも低い第二被処理ガスとを含み、
前記第一被処理ガスを冷却することで、前記第一被処理ガスに含有される前記有機溶剤を凝縮させて、含有する前記有機溶剤の濃度が低減された冷却処理ガスとして排出する、凝縮回収装置と、
前記冷却処理ガスと前記第二被処理ガスとを合流させて第三被処理ガスとする合流部と、
前記第三被処理ガスに含有される前記有機溶剤を吸着および脱着する吸脱着素子を有し、前記第三被処理ガスの導入による前記吸脱着素子への前記有機溶剤の吸着と、脱着用ガスの導入による前記吸脱着素子からの前記有機溶剤の脱着と、を交互に行なう吸脱着処理装置と、を備える、有機溶剤回収システム。
An organic solvent recovery system that separates and recovers an organic solvent from a gas to be treated containing an organic solvent, the system comprising:
The to-be-treated gas includes a first to-be-treated gas and a second to-be-treated gas containing a lower concentration of the organic solvent than the first to-be-treated gas,
Condensation recovery in which the organic solvent contained in the first gas to be treated is condensed by cooling the first gas to be treated and is discharged as a cooled gas in which the concentration of the organic solvent contained therein is reduced. a device;
a merging section that merges the cooling processing gas and the second processing gas to form a third processing gas;
an adsorption/desorption element that adsorbs and desorbs the organic solvent contained in the third gas to be treated, and adsorption of the organic solvent to the adsorption/desorption element by introducing the third gas to be treated, and a desorption gas; An organic solvent recovery system, comprising: an adsorption/desorption processing device that alternately desorbs the organic solvent from the adsorption/desorption element by introducing a.
前記第二被処理ガスの風量を前記第一被処理ガスの風量で除した商をAとし、前記第一被処理ガスに含有される前記有機溶剤の濃度を前記第二被処理ガスに含有される前記有機溶剤の濃度で除した商をBとし、前記凝縮回収装置における前記第一被処理ガスに含有される前記有機溶剤の回収率をC(%)とした場合に、
0<(A÷B÷C)≦0.033
を満たす、請求項1に記載の有機溶剤回収システム。
A is the quotient obtained by dividing the air volume of the second gas to be treated by the air volume of the first gas to be treated, and the concentration of the organic solvent contained in the first gas to be treated is the concentration of the organic solvent contained in the second gas to be treated. When the quotient divided by the concentration of the organic solvent is B, and the recovery rate of the organic solvent contained in the first gas to be treated in the condensation recovery device is C (%),
0<(A÷B÷C)≦0.033
The organic solvent recovery system according to claim 1, which satisfies the following.
前記吸脱着処理装置から排出された前記脱着用ガスを冷却することで、前記脱着用ガスに含有される前記有機溶剤を凝縮させて回収する、第二凝縮回収装置を備える、請求項1または請求項2に記載の有機溶剤回収システム。 Claim 1 or claim 1, further comprising a second condensation recovery device that cools the desorption gas discharged from the adsorption/desorption processing device to condense and recover the organic solvent contained in the desorption gas. The organic solvent recovery system according to item 2. 前記脱着用ガスは水蒸気である、請求項3に記載の有機溶剤回収システム。 The organic solvent recovery system according to claim 3, wherein the desorption gas is water vapor. 前記脱着用ガスは不活性ガスである、請求項1または請求項2に記載の有機溶剤回収システム。 The organic solvent recovery system according to claim 1 or 2, wherein the desorption gas is an inert gas. 前記脱着用ガスが循環する循環経路をさらに備え、前記吸脱着処理装置および前記第二凝縮回収装置は前記循環経路に設けられる、請求項3に記載の有機溶剤回収システム。 The organic solvent recovery system according to claim 3, further comprising a circulation path through which the desorption gas circulates, and wherein the adsorption/desorption processing device and the second condensation recovery device are provided in the circulation path. 前記循環経路に設けられ、前記第二凝縮回収装置から排出された前記脱着用ガスを加熱する加熱部をさらに備える、請求項6に記載の有機溶剤回収システム。 The organic solvent recovery system according to claim 6, further comprising a heating unit provided in the circulation path and heating the desorption gas discharged from the second condensation recovery device. 前記第三被処理ガスの温度を検出して伝送する温度伝送器をさらに備える、請求項1または請求項2に記載の有機溶剤回収システム。 The organic solvent recovery system according to claim 1 or 2, further comprising a temperature transmitter that detects and transmits the temperature of the third gas to be treated.
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