JP7434704B2 - Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film - Google Patents

Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film Download PDF

Info

Publication number
JP7434704B2
JP7434704B2 JP2018179208A JP2018179208A JP7434704B2 JP 7434704 B2 JP7434704 B2 JP 7434704B2 JP 2018179208 A JP2018179208 A JP 2018179208A JP 2018179208 A JP2018179208 A JP 2018179208A JP 7434704 B2 JP7434704 B2 JP 7434704B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
retardation film
polyimide
retardation
film
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018179208A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020052138A (en
Inventor
光 堀田
勝哉 坂寄
滉大 岡田
義弘 小林
高徳 前田
敬輔 脇田
綾子 古瀬
綾 勝又
貴之 太田
奈保美 金澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2018179208A priority Critical patent/JP7434704B2/en
Publication of JP2020052138A publication Critical patent/JP2020052138A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7434704B2 publication Critical patent/JP7434704B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

本発明は、位相差フィルムの製造方法、位相差フィルム、該位相差フィルムを用いた表示パネル及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to a method for producing a retardation film, a retardation film, and a display panel and an image display device using the retardation film.

近年、液晶表示装置及び有機EL表示装置等の画像表示装置として、画面を曲面にしたもの、画面が折り畳み可能なもの等のフレキシブルな画像表示装置が提案されている。特に、有機EL表示装置ではガラス基板の使用を不要とできるため、フレキシブルに対応させやすい。
フレキシブルな画像表示装置に用いられる光学フィルムとしては、フレキシブル性に優れたポリイミドを基材とした光学フィルムが提案されている。
In recent years, flexible image display devices such as those with curved screens and those with foldable screens have been proposed as image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices. In particular, since organic EL display devices do not require the use of glass substrates, they can be easily adapted to flexible applications.
As an optical film used in a flexible image display device, an optical film based on polyimide, which has excellent flexibility, has been proposed.

また、画像表示装置に用いられる光学フィルムは、光学フィルム自体の位相差が画像の視認性に影響を与えることが知られている。例えば、光学フィルム用のポリイミドフィルムとして、特許文献1及び2が提案されている。
特許文献1及び2のポリイミドフィルムは、いわゆる光学補償フィルムとして用いられるものであり、なるべく薄い厚みで所定の位相差値を得るために、複屈折を高くすることを特徴としたものである。
Further, it is known that the phase difference of the optical film itself that is used in an image display device affects the visibility of the image. For example, Patent Documents 1 and 2 have been proposed as polyimide films for optical films.
The polyimide films of Patent Documents 1 and 2 are used as so-called optical compensation films, and are characterized by high birefringence in order to obtain a predetermined retardation value with as thin a thickness as possible.

しかし、特許文献1及び2のような所定の位相差を有する光学フィルムは、特定の画像表示装置に対しては視認性を改善し得るものの、その他の画像表示装置では却って視認性を低下する場合があった。これは、画像表示装置を構成する表示素子ごとに光の波長分布及び偏光特性等の光学特性が異なるためである。 However, although optical films having a predetermined retardation as disclosed in Patent Documents 1 and 2 can improve visibility for certain image display devices, they may actually reduce visibility for other image display devices. was there. This is because the optical characteristics such as the wavelength distribution and polarization characteristics of light are different for each display element constituting the image display device.

いかなるタイプの画像表示装置にも適用し得る光学フィルムとしては、位相差が小さいものが考えられる。特許文献3では、光学フィルム用の厚み方向の位相差が小さいポリイミドフィルムが提案されている。 As an optical film that can be applied to any type of image display device, one with a small retardation can be considered. Patent Document 3 proposes a polyimide film for optical films with a small retardation in the thickness direction.

特開2010-180350号公報Japanese Patent Application Publication No. 2010-180350 特開2015-209487号公報JP2015-209487A 特開2016-204569号公報Japanese Patent Application Publication No. 2016-204569

しかし、特許文献3のポリイミドフィルムは、実施例1の厚み方向の位相差値が101nmにとどまり、位相差が十分に低いとはいえないものであった。 However, in the polyimide film of Patent Document 3, the retardation value in the thickness direction of Example 1 was only 101 nm, and the retardation could not be said to be sufficiently low.

本発明は、位相差が小さいポリイミド系の位相差フィルムを簡易に製造し得る方法を提供することを目的とする。また、本発明は、ポリイミド系の位相差フィルム、並びに、これを用いた表示パネル及び画像表示装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for easily manufacturing a polyimide-based retardation film having a small retardation. Another object of the present invention is to provide a polyimide-based retardation film, and a display panel and an image display device using the same.

本発明は、以下の[1]~[4]を提供する。
[1]下記(1)~(2)の工程を有する、位相差フィルムの製造方法。
(1)基材上に、ガラス転移温度180~300℃のポリイミドを溶剤に溶解した位相差層形成用塗布液を塗布、乾燥して塗膜を形成する工程。
(2)塗膜をポリイミドのガラス転移温度以上の温度で加熱する工程。
[2]位相差フィルムであって、前記位相差フィルムはポリイミドを含み、前記ポリイミドのガラス転移温度が180~300℃であり、前記位相差フィルムの波長589nmにおける面内位相差をRe(589)、前記位相差フィルムの波長589nmにおける厚み方向の位相差をRth(589)とした際に、Re(589)及びRth(589)が何れも100nm以下である、位相差フィルム。
[3]表示素子の光出射面側の面上に、上記[2]に記載の位相差フィルムが配置されてなる表示パネル。
[4]上記[3]に記載の前記表示パネルを備えてなる、画像表示装置。
The present invention provides the following [1] to [4].
[1] A method for producing a retardation film, comprising the following steps (1) and (2).
(1) A step of applying a coating solution for forming a retardation layer in which polyimide having a glass transition temperature of 180 to 300° C. dissolved in a solvent is applied onto a substrate and dried to form a coating film.
(2) A step of heating the coating film at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of polyimide.
[2] A retardation film, wherein the retardation film contains polyimide, the polyimide has a glass transition temperature of 180 to 300°C, and the in-plane retardation of the retardation film at a wavelength of 589 nm is Re(589). A retardation film, wherein Re (589) and Rth (589) are both 100 nm or less, where Rth (589) is the retardation in the thickness direction at a wavelength of 589 nm.
[3] A display panel in which the retardation film described in [2] above is disposed on the light-emitting surface side of a display element.
[4] An image display device comprising the display panel described in [3] above.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、位相差値が十分に小さいポリイミド系の位相差フィルムを簡易に製造することができる。また、本発明の位相差フィルム、表示パネル及び画像表示装置は、表示素子の種類に関わらず、安定した視認性を付与することができる。 The method for producing a retardation film of the present invention can easily produce a polyimide-based retardation film having a sufficiently small retardation value. Further, the retardation film, display panel, and image display device of the present invention can provide stable visibility regardless of the type of display element.

以下、本発明の実施形態を説明する。
[位相差フィルムの製造方法]
本発明の位相差フィルムの製造方法は、下記(1)~(2)の工程を有するものである。
(1)基材上に、ガラス転移温度180~300℃のポリイミドを溶剤に溶解した位相差層形成用塗布液を塗布、乾燥して塗膜を形成する工程。
(2)塗膜をポリイミドのガラス転移温度以上の温度で加熱する工程。
Embodiments of the present invention will be described below.
[Method for manufacturing retardation film]
The method for producing a retardation film of the present invention includes the following steps (1) and (2).
(1) A step of applying a coating solution for forming a retardation layer in which polyimide having a glass transition temperature of 180 to 300° C. dissolved in a solvent is applied onto a substrate and dried to form a coating film.
(2) A step of heating the coating film at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of polyimide.

<工程(1)>
工程(1)は、基材上に、ガラス転移温度180~300℃のポリイミドを溶剤に溶解した位相差層形成用塗布液を塗布、乾燥して塗膜を形成する工程である。
<Step (1)>
Step (1) is a step in which a coating solution for forming a retardation layer in which polyimide having a glass transition temperature of 180 to 300° C. is dissolved in a solvent is applied onto a substrate and dried to form a coating film.

<<基材>>
基材としては、各種のプラスチックフィルムが挙げられる。
プラスチックフィルム自体が位相差を有するものであっても、該プラスチックフィルムが離型性を有するものであれば、工程(1)又は工程(2)の後にプラスチックフィルムから塗膜を剥離することにより、位相差の小さい位相差フィルムを得ることができる。
また、プラスチックフィルムとして、トリアセチルセルロースフィルム等の位相差が小さいプラスチックフィルムを用いれば、プラスチックフィルム上に位相差層を有してなる、位相差が小さい位相差フィルムを得ることができる。
<<Base material>>
Examples of the base material include various plastic films.
Even if the plastic film itself has a retardation, if the plastic film has releasability, by peeling the coating from the plastic film after step (1) or step (2), A retardation film with a small retardation can be obtained.
Moreover, if a plastic film with a small retardation, such as a triacetyl cellulose film, is used as the plastic film, a retardation film with a small retardation, which has a retardation layer on the plastic film, can be obtained.

また、基材としては、表面を平滑にしたドラム(キャスティングドラム)、ステンレス製の平滑ベルト等の製造装置に付属した基材も挙げられる。
このような製造装置に付属した基材を用いた場合、後述する工程(3)のように、工程(1)又は工程(2)の後に、基材から塗膜を剥離することが前提となる。
Further, examples of the base material include base materials attached to manufacturing equipment such as a drum with a smooth surface (casting drum) and a stainless steel smooth belt.
When using a base material attached to such manufacturing equipment, it is a premise that the coating film is peeled off from the base material after step (1) or step (2), as in step (3) described below. .

基材は表面が平滑であるものが好ましい。具体的には、基材表面は、カットオフ値0.8mmにおけるJIS B0601:2001の算術平均粗さRaが0.05μm以下であることが好ましく、0.03μm以下であることが好ましく、0.01μm以下であることがさらに好ましい。 The base material preferably has a smooth surface. Specifically, the arithmetic mean roughness Ra of the base material surface according to JIS B0601:2001 at a cutoff value of 0.8 mm is preferably 0.05 μm or less, preferably 0.03 μm or less, and 0.05 μm or less. More preferably, it is 0.01 μm or less.

工程(1)の後に基材から塗膜を剥離する場合、剥離した塗膜はシート状のままにしてもよいし、ロール状に巻き取ってもよい。 When the coating film is peeled off from the substrate after step (1), the peeled coating film may be left in the form of a sheet or may be wound up into a roll.

<<溶剤>>
溶剤は、ポリイミドを溶解し、かつ、工程(2)の開始時の塗膜に所定量残留するものであれば特に制限されることなく使用できる。
このような溶剤としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ-ノルマル-ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、オルト-ジクロルベンゼン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ノルマル-ブチル、酢酸ノルマル-プロピル、酢酸ノルマル-ペンチル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、1,4-ジオキサン、テトラクロルエチレン、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノン、メチル-ノルマル-ブチルケトン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、γ-ブチロラクトン及びこれらの混合溶剤等が挙げられる。これらの中でも、ジクロロメタン、酢酸エチル、酢酸ノルマル-ブチル、N,N-ジメチルアセトアミド及びこれらの混合溶剤からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
<<Solvent>>
The solvent can be used without any particular restriction as long as it dissolves the polyimide and remains in a predetermined amount in the coating film at the start of step (2).
Such solvents include ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-normal-butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ortho-dichlorobenzene, xylene, cresol, chloro Benzene, methyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, isopentyl acetate, n-butyl acetate, n-propyl acetate, n-pentyl acetate, cyclohexanol, cyclohexanone, cyclopentanone, 1,4-dioxane, tetrachloroethylene, toluene, Examples include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cyclohexanol, methyl cyclohexanone, methyl-n-butyl ketone, dichloromethane, dichloroethane, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone, and mixed solvents thereof. Among these, at least one selected from the group consisting of dichloromethane, ethyl acetate, n-butyl acetate, N,N-dimethylacetamide, and mixed solvents thereof is preferred.

位相差層形成用塗布液中の溶剤の含有量は、基材への塗布適性、乾燥した塗膜の表面の平滑性及び乾燥時間の低減の観点から、該塗布液の全量基準で50~91質量%であることが好ましく、75~85質量%であることがより好ましい。 The content of the solvent in the coating solution for forming a retardation layer is 50 to 91% based on the total amount of the coating solution, from the viewpoint of suitability for coating on the substrate, smoothness of the surface of the dried coating film, and reduction of drying time. It is preferably 75 to 85% by mass, more preferably 75 to 85% by mass.

<<乾燥条件>>
乾燥温度及び乾燥時間は、使用する溶媒の種類及び塗膜厚みを考慮して、剥離した塗膜中の残留溶剤の割合が適切な範囲となるように、適宜調整することが好ましい。また、位相差フィルムの表面形状が荒れること、及び、位相差フィルムの場所ごとで物性差が生じることなどを抑制するため、塗布液は急速に乾燥させないことが好ましい。
乾燥温度は常圧下では80~150℃であることが好ましく、減圧下では10~100℃であることが好ましい。乾燥時間は常圧下では2~60分、減圧下では1~60分であることが好ましい。
なお、溶剤の乾燥は不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
<<Drying conditions>>
It is preferable to adjust the drying temperature and drying time appropriately, taking into consideration the type of solvent used and the thickness of the coating film, so that the proportion of the residual solvent in the peeled coating film falls within an appropriate range. Further, in order to prevent the surface shape of the retardation film from becoming rough and the physical properties from varying depending on the location of the retardation film, it is preferable that the coating liquid is not dried rapidly.
The drying temperature is preferably 80 to 150°C under normal pressure, and preferably 10 to 100°C under reduced pressure. The drying time is preferably 2 to 60 minutes under normal pressure and 1 to 60 minutes under reduced pressure.
Note that it is preferable to dry the solvent under an inert atmosphere.

<<ポリイミド>>
位相差層形成用塗布液には、樹脂成分としてポリイミドを含む。樹脂成分としてポリイミドを含まない場合、位相差フィルムの耐屈曲性を良好にすることができない。
樹脂成分は、本発明の効果を阻害しない範囲でポリイミド以外の樹脂を含有していてもよいが、ポリイミドの含有量は、位相差層の全樹脂の80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましく、99質量%以上であることがよりさらに好ましく、100質量%であることがもっとも好ましい。
<<Polyimide>>
The coating liquid for forming a retardation layer contains polyimide as a resin component. When polyimide is not included as a resin component, the bending resistance of the retardation film cannot be improved.
The resin component may contain resins other than polyimide as long as the effects of the present invention are not impaired, but the content of polyimide is preferably 80% by mass or more of the total resin of the retardation layer, and 90% by mass or more of the total resin of the retardation layer. It is more preferably at least 95% by mass, even more preferably at least 99% by mass, and most preferably 100% by mass.

ポリイミドは、テトラカルボン酸とジアミンとの反応生成物であることが好ましい。すなわち、ポリイミドは、テトラカルボン酸の残基及びジアミンの残基を含むことが好ましい。なお、テトラカルボン酸残基とは、テトラカルボン酸から、4つのカルボキシル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基と同じ構造を表す。また、ジアミン残基とは、ジアミンから2つのアミノ基を除いた残基をいう。 Preferably, the polyimide is a reaction product of a tetracarboxylic acid and a diamine. That is, the polyimide preferably contains a tetracarboxylic acid residue and a diamine residue. Note that the term "tetracarboxylic acid residue" refers to a residue obtained by removing four carboxyl groups from a tetracarboxylic acid, and represents the same structure as a residue obtained by removing the acid dianhydride structure from a tetracarboxylic dianhydride. Moreover, a diamine residue refers to a residue obtained by removing two amino groups from a diamine.

工程(1)で使用するポリイミドは、ガラス転移温度が180~300℃であることを要する。
ポリイミドのガラス転移温度が180℃未満の場合、位相差フィルムの耐熱性を良好にすることができない。また、ポリイミドのガラス転移温度が300℃を超える場合、厚み方向の位相差を小さくすることができない(この現象の理由は工程(2)において述べる。)。また、ポリイミドのガラス転移温度が300℃を超える場合、工程(2)の加熱温度が高くなり、位相差フィルムの平面性が低下したり、黄色度(YI)が増加したりする傾向がある。
工程(1)で用いるポリイミドは、ガラス転移温度が185~250℃であることが好ましい。
The polyimide used in step (1) must have a glass transition temperature of 180 to 300°C.
When the glass transition temperature of polyimide is less than 180°C, the heat resistance of the retardation film cannot be improved. Further, when the glass transition temperature of polyimide exceeds 300° C., the retardation in the thickness direction cannot be reduced (the reason for this phenomenon will be described in step (2)). Moreover, when the glass transition temperature of polyimide exceeds 300° C., the heating temperature in step (2) becomes high, and the flatness of the retardation film tends to decrease or the yellowness index (YI) increases.
The polyimide used in step (1) preferably has a glass transition temperature of 185 to 250°C.

<<<テトラカルボン酸>>>
ポリイミドの原料であるテトラカルボン酸としては、芳香族環を有するテトラカルボン酸二無水物、脂肪族環を有するテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
<<<Tetracarboxylic acid>>>
Examples of the tetracarboxylic acid that is a raw material for polyimide include tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring and tetracarboxylic dianhydride having an aliphatic ring.

芳香族環を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、1,3-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、1,4-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、2,2-ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}プロパン二無水物、2,2-ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}プロパン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、4,4’-ビス〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕ビフェニル二無水物、4,4’-ビス〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕ビフェニル二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルホン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルホン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルフィド二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルフィド二無水物、4,4’-オキシジフタル酸無水物、3,4’-オキシジフタル酸無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ぺリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8-フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
脂肪族環を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキサン-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
Examples of the tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring include pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3' -Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, bis( 3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3 ,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 1,3-bis[(3,4-dicarboxy)benzoyl]benzene dianhydride, 1,4-bis[(3,4-dicarboxy)benzoyl]benzene Dianhydride, 2,2-bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}propane dianhydride, 2,2-bis{4-[3-(1,2-dicarboxy) ) phenoxy]phenyl}propane dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy) [phenyl}ketone dianhydride, 4,4'-bis[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]biphenyl dianhydride, 4,4'-bis[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy] ] Biphenyl dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone Dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfone dianhydride bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfide dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfide dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 3,4'-oxydiphthalic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride , 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride, and the like.
Examples of the tetracarboxylic dianhydride having an aliphatic ring include cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, and dicyclohexane-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride. Examples include anhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, and the like.

<<<ジアミン>>>
ポリイミドの原料であるジアミンとしては、芳香族環を有するジアミン、脂肪族環を有するジアミン、環構造を有さないジアミン等の各種のジアミンが挙げられる。
これら各種のジアミンの中でも、主鎖にケイ素原子を有するジアミンが好ましい。すなわち、ポリイミドは、ジアミンの残基として、主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基を含むことが好ましい。
ポリイミドが主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基を含むことにより、位相差フィルムの耐屈曲性をより良好にしやすくできる。また、ポリイミドが主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基を含むことにより、ポリイミドのガラス転移温度を下げて上述した範囲にしやすくできる。
<<<Diamine>>>
Diamines that are raw materials for polyimide include various diamines such as diamines having an aromatic ring, diamines having an aliphatic ring, and diamines having no ring structure.
Among these various diamines, diamines having a silicon atom in the main chain are preferred. That is, it is preferable that the polyimide contains a diamine residue having a silicon atom in its main chain as a diamine residue.
When the polyimide contains a diamine residue having a silicon atom in its main chain, the bending resistance of the retardation film can be easily improved. Furthermore, since the polyimide contains a diamine residue having a silicon atom in its main chain, the glass transition temperature of the polyimide can be easily lowered to the above-mentioned range.

主鎖にケイ素原子を有するジアミンは、下記一般式(i)、(ii)で示すもの等が挙げられる。下記一般式(i)及び(ii)のジアミンは、ポリイミド固有の複屈折を低減しやすく、ひいては位相差フィルムの位相差を小さくしやすい点でも好ましい。

[式(i)中、nは1~5の整数を示す。また、式(i)中、R及びRは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1~20のアルキレン基を示す。また、式(i)中、R~Rは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1~20のアルキル基を示す。]
Examples of diamines having a silicon atom in the main chain include those represented by the following general formulas (i) and (ii). Diamines represented by the following general formulas (i) and (ii) are preferable because they easily reduce the birefringence inherent in polyimide, and furthermore, they easily reduce the retardation of the retardation film.

[In formula (i), n represents an integer of 1 to 5. Further, in formula (i), R 1 and R 2 may be the same or different, and each represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. Further, in formula (i), R 3 to R 6 may be the same or different, and each represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. ]

式(i)において、nは1~3であることが好ましく、1~2であることがより好ましく、1であることがさらに好ましい。
また、式(i)において、R及びRは、炭素数1~10のアルキレン基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数2~5のアルキレン基であることがさらに好ましく、炭素数2~3のアルキレン基であることがよりさらに好ましい。また、R及びRは同一であることが好ましい。
また、式(i)において、R~Rは、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~5のアルキル基であることがさらに好ましく、炭素数1~3のアルキル基であることがよりさらに好ましい。また、R~Rは同一であることが好ましい。
In formula (i), n is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, and even more preferably 1.
Further, in formula (i), R 1 and R 2 are preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms. It is more preferably an alkylene group, even more preferably an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms. Moreover, it is preferable that R 1 and R 2 are the same.
Further, in formula (i), R 3 to R 6 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 to R 6 are preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. It is more preferably an alkyl group, even more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Further, R 3 to R 6 are preferably the same.


[式(ii)中、R及びRは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1~20のアルキレン基を示す。また、式(ii)中、R及びR10は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1~20のアルキル基を示す。]

[In formula (ii), R 7 and R 8 may be the same or different, and each represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. Furthermore, in formula (ii), R 9 and R 10 may be the same or different, and each represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. ]

また、式(ii)において、R及びRは、炭素数1~10のアルキレン基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数2~5のアルキレン基であることがさらに好ましく、炭素数2~3のアルキレン基であることがよりさらに好ましい。また、R及びRは同一であることが好ましい。
また、式(ii)において、R及びR10は、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~5のアルキル基であることがさらに好ましく、炭素数1~3のアルキル基であることがよりさらに好ましい。また、R及びR10は同一であることが好ましい。
Furthermore, in formula (ii), R 7 and R 8 are preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms. It is more preferably an alkylene group, even more preferably an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms. Moreover, it is preferable that R 7 and R 8 are the same.
Further, in formula (ii), R 9 and R 10 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 9 and R 10 are preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. It is more preferably an alkyl group, even more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Moreover, it is preferable that R 9 and R 10 are the same.

また、ポリイミドの原料であるジアミンとして主鎖にケイ素原子を有するジアミンを用いる場合、さらに、芳香族環又は脂肪族環を有するジアミンを用いることが好ましい。すなわち、ポリイミドが主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基を含む場合、ポリイミドは、さらに、芳香族環又は脂肪族環を有するジアミンの残基を含むことが好ましい。
ポリイミドが主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基に加えて、芳香族環又は脂肪族環を有するジアミンの残基を含むことにより、上述した主鎖にケイ素原子を有するジアミンによる効果を保持しつつ、位相差フィルムの耐熱性を良好にしやすくできる。
Further, when using a diamine having a silicon atom in the main chain as the diamine which is a raw material for polyimide, it is preferable to use a diamine having an aromatic ring or an aliphatic ring. That is, when the polyimide contains a diamine residue having a silicon atom in its main chain, it is preferable that the polyimide further contains a diamine residue having an aromatic ring or an aliphatic ring.
In addition to the diamine residue having a silicon atom in the main chain, the polyimide contains a diamine residue having an aromatic ring or an aliphatic ring, thereby retaining the effects of the diamine having a silicon atom in the main chain. At the same time, the heat resistance of the retardation film can be easily improved.

ポリイミド中における、芳香族環又は脂肪族環を有するジアミンの残基に対する、主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基のモル比(主鎖にケイ素原子を有するジアミンの残基/芳香族環又は脂肪族環を有するジアミンの残基)は、0.05~1.50であることが好ましく、0.08~1.20であることがより好ましく、0.10~1.00であることがさらに好ましい。
該比を0.10以上とすることにより、位相差フィルムの耐屈曲性を良好にしやすくできるとともに、ポリイミドのガラス転移温度を下げて上述した範囲にしやすくできる。また、ジアミンの残基が芳香族環を有する場合、ポリイミドが剛直となり位相差が発現しやすくなる傾向がある。このため、該比を0.05以上とすることにより、ポリイミドの剛直化を抑制し、位相差フィルムの位相差を低くしやすくできる。
また、該比を1.50以下とすることにより、位相差フィルムの強度が低下することを抑制しやすくできる。
Molar ratio of diamine residues having a silicon atom in the main chain to diamine residues having an aromatic ring or aliphatic ring in polyimide (diamine residue having a silicon atom in the main chain/aromatic ring or (residue of diamine having an aliphatic ring) is preferably 0.05 to 1.50, more preferably 0.08 to 1.20, and preferably 0.10 to 1.00. More preferred.
By setting the ratio to 0.10 or more, the bending resistance of the retardation film can be easily improved, and the glass transition temperature of the polyimide can be easily lowered to the above-mentioned range. Furthermore, when the diamine residue has an aromatic ring, the polyimide becomes rigid and tends to cause a phase difference. Therefore, by setting the ratio to 0.05 or more, it is possible to suppress the polyimide from becoming rigid and to easily reduce the retardation of the retardation film.
Further, by setting the ratio to 1.50 or less, it is possible to easily suppress the strength of the retardation film from decreasing.

芳香族環を有するジアミンとしては、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、o-フェニレンジアミン、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、3,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)プロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)プロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)プロパン、1,1-ジ(3-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,1-ジ(4-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1-(3-アミノフェニル)-1-(4-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゾニトリル、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ピリジン、N,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-フェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-ビフェノキシベンゾフェノン、6,6’-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン、6,6’-ビス(4-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン等が挙げられる。
芳香族環を有するジアミンは、位相差フィルムの耐熱性をより良好にできる点で好適である。また、分子中に芳香族環を有するジアミンの中でも、透明性の観点から、さらに、分子中にフッ素原子を有するもの、及び、芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素で置換されていても良いアルキレン基で連結してなるものが好ましい。
Examples of diamines having an aromatic ring include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3, 3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenyl Sulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane , 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-di(3-aminophenyl)propane, 2,2-di(4-aminophenyl)propane, 2-(3-aminophenyl)-2-(4-amino phenyl)propane, 1,1-di(3-aminophenyl)-1-phenylethane, 1,1-di(4-aminophenyl)-1-phenylethane, 1-(3-aminophenyl)-1-( 4-aminophenyl)-1-phenylethane, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminobenzoyl)benzene, 1,3-bis(4-aminobenzoyl)benzene, 1,4-bis(3-aminobenzoyl) Benzene, 1,4-bis(4-aminobenzoyl)benzene, 1,3-bis(3-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(4-amino-α,α-dimethylbenzyl) ) benzene, 1,4-bis(3-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 2,6-bis(3-amino phenoxy)benzonitrile, 2,6-bis(3-aminophenoxy)pyridine, N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl,3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl,3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl,3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl,4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl,4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[ 4-(4-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, 2,2- Bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1,3-bis[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,3-bis[4-(4-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,4-bis[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-aminophenoxy) benzoyl]benzene, 1,3-bis[4-(3-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(4-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl] Benzene, 1,4-bis[4-(3-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 4,4'-bis[4-(4-aminophenoxy)benzoyl]diphenyl ether, 4,4'-bis[4-(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy]benzophenone, 4,4'-bis [4-(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy]diphenylsulfone, 4,4'-bis[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]diphenylsulfone, 3,3'-diamino-4,4 '-Diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 6,6 '-bis(3-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis(4-aminophenoxy)-3,3,3', Examples include 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane.
A diamine having an aromatic ring is suitable because it can improve the heat resistance of the retardation film. In addition, among diamines having an aromatic ring in the molecule, from the viewpoint of transparency, those having a fluorine atom in the molecule, and alkylene which may have aromatic rings substituted with a sulfonyl group or fluorine. It is preferable to use a group connected by a group.

脂肪族環を有するジアミンとしては、trans-シクロヘキサンジアミン、trans-1,4-ビスメチレンシクロヘキサンジアミン、2,6-ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2,5-ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン等が挙げられる。
脂肪族環を有するジアミンは、位相差フィルムの透明性を良好にし得る点で好適である。
Examples of diamines having an aliphatic ring include trans-cyclohexane diamine, trans-1,4-bismethylenecyclohexane diamine, 2,6-bis(aminomethyl)bicyclo[2,2,1]heptane, and 2,5-bis( (aminomethyl)bicyclo[2,2,1]heptane and the like.
Diamines having an aliphatic ring are suitable because they can improve the transparency of the retardation film.

位相差フィルムの透明性を良好にする観点から、テトラカルボン酸の残基、及び/又は、ジアミンの残基中にはフッ素原子を含むことが好ましい。
残基にフッ素原子を含ませることができるテトラカルボン酸としては、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、3,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、及び3,3’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物が挙げられる。
残基にフッ素原子を含ませることができるジアミンとしては、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,3-ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,2-ビス[3-(3-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。ここに例示した、残基にフッ素原子を含ませることができるジアミンは、何れも分子中に芳香族環を有するものである。
残基に、芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素で置換されていても良いアルキレン基で連結してなる構造を含ませることができるジアミンとしては、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン等が挙げられる。
From the viewpoint of improving the transparency of the retardation film, it is preferable that the tetracarboxylic acid residue and/or the diamine residue contain a fluorine atom.
As the tetracarboxylic acid that can contain a fluorine atom in the residue, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride , 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride , 3,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride, and 3,3'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride.
Examples of diamines that can contain a fluorine atom in the residue include 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,2-di(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3, 3-hexafluoropropane, 2,2-di(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl) )-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis(3-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(4-amino-α , α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(3-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(4-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl) Benzene, 2,2-bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl ]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and the like. The diamines exemplified here that can contain a fluorine atom in their residues all have aromatic rings in their molecules.
Examples of diamines whose residues can include a structure in which aromatic rings are connected by a sulfonyl group or an alkylene group optionally substituted with fluorine include bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl] Examples include sulfone and bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone.

位相差層形成用塗布液中には、本発明の効果を阻害しない範囲で、無機微粒子、紫外線吸収剤及び光安定剤等のその他の材料を含んでいてもよい。無機微粒子は、シリカ及びアルミナ等の弾性率向上剤、ジルコニア及び酸化チタン等の屈折率調整剤が挙げられる。また、無機微粒子はヘイズの上昇を抑制するため、平均粒子径が200nm以下であることが好ましい。また、その他の材料は、面内位相差及び厚み方向の位相差を発現しないものが好ましい。 The coating liquid for forming a retardation layer may contain other materials such as inorganic fine particles, ultraviolet absorbers, and light stabilizers within a range that does not impede the effects of the present invention. Examples of the inorganic fine particles include elastic modulus improvers such as silica and alumina, and refractive index adjusters such as zirconia and titanium oxide. Further, in order to suppress an increase in haze, the inorganic fine particles preferably have an average particle diameter of 200 nm or less. Further, it is preferable that the other materials do not exhibit an in-plane retardation or a retardation in the thickness direction.

<<<ポリイミドの製造>>>
ポリイミドは、例えば、下記(A1)~(A2)の工程で製造できる。
(A1)ポリイミド前駆体組成物の調製
(A2)イミド化工程
<<<Manufacture of polyimide>>>
Polyimide can be produced, for example, by the following steps (A1) and (A2).
(A1) Preparation of polyimide precursor composition (A2) Imidization step

工程(A1)において、ポリイミド前駆体組成物は、テトラカルボン酸とジアミンとを溶剤中で反応させることにより得ることができる。テトラカルボン酸とジアミンとのモル比は略1:1とすることが好ましい。
溶剤は、汎用の溶剤の中から、テトラカルボン酸及びジアミンを溶解できるものを選択して用いればよい。溶剤の含有量は、ポリイミド前駆体100質量部に対して、100~1900質量部であることが好ましい。溶剤の含有量を100~1900質量部とすることにより、分子量を向上しやすくできる。
In step (A1), the polyimide precursor composition can be obtained by reacting a tetracarboxylic acid and a diamine in a solvent. The molar ratio of tetracarboxylic acid and diamine is preferably approximately 1:1.
The solvent may be selected from general-purpose solvents that can dissolve the tetracarboxylic acid and diamine. The content of the solvent is preferably 100 to 1900 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyimide precursor. By controlling the content of the solvent to 100 to 1900 parts by mass, the molecular weight can be easily improved.

ポリイミド前駆体のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法による重量平均分子量は、位相差フィルムの強度の観点から、ポリスチレン換算で10,000以上であることが好ましく、20,000以上であることがより好ましい。一方、重量平均分子量が大きすぎると、高粘度となり、ろ過などの作業性が低下の恐れがある点から、10,000,000以下であることが好ましく、500,000以下であることがより好ましい。 The weight average molecular weight of the polyimide precursor measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 or more in terms of polystyrene, from the viewpoint of the strength of the retardation film. . On the other hand, if the weight average molecular weight is too large, the viscosity may become high and workability such as filtration may deteriorate, so it is preferably 10,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less. .

工程(A2)は、ポリイミド前駆体をイミド化する工程である。イミド化の手段としては、化学イミド化及び熱イミド化が挙げられる。これらの中でも、位相差フィルムの黄色度(YI)を低くしやすい化学イミド化が好ましい。すなわち、工程(1)で用いるポリイミドは化学イミド化したポリイミドが好ましい。
化学イミド化は、無水酢酸とピリジンとの混合物等の脱水試薬で処理する方法である。熱イミド化法は、200~350℃で加熱処理する方法である。何れの手法も、ポリイミド前駆体を溶剤に溶解した状態、すなわち、ポリイミド前駆体組成物の状態で、ポリイミド前駆体をイミド化することができる。
Step (A2) is a step of imidizing the polyimide precursor. Examples of imidization methods include chemical imidization and thermal imidization. Among these, chemical imidization is preferred because it easily lowers the yellowness index (YI) of the retardation film. That is, the polyimide used in step (1) is preferably a chemically imidized polyimide.
Chemical imidization is a method of treatment with a dehydrating reagent such as a mixture of acetic anhydride and pyridine. The thermal imidization method is a method of heat treatment at 200 to 350°C. In either method, the polyimide precursor can be imidized in a state in which the polyimide precursor is dissolved in a solvent, that is, in the state of a polyimide precursor composition.

<工程(2)>
工程(2)は、塗膜をポリイミドのガラス転移温度以上の温度で加熱する工程である。
<Step (2)>
Step (2) is a step of heating the coating film at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of polyimide.

工程(2)において、塗膜をポリイミドのガラス転移温度以上の温度で加熱することにより、ポリイミド分子が塗膜中で動きやすくなり、塗膜中における厚み方向の向きが概ね水平方向であったポリイミド分子の厚み方向の向きがランダムに乱れ、厚み方向の位相差を十分に小さくすることができる。但し、ポリイミドのガラス転移温度が300℃を超える場合、塗膜をポリイミドのガラス転移温度以上の温度で加熱してもポリイミド分子が塗膜中で動きにくいため、厚み方向の位相差を小さくすることができない(実施例の実験例4-2~4-4参照)。すなわち、本発明では、耐熱性のレベルをあえて抑えることで、厚み方向の位相差が十分に小さい位相差フィルムの製造を可能としたものである。
また、工程(2)の加熱を行うことで、工程(1)の際に塗膜内に生じたひずみを開放し、位相差フィルムの熱収縮を抑制することができる。具体的には、工程(2)の加熱を行うことで、25℃からポリイミドのガラス転移温度までの温度領域において、何れの温度で加熱しても、位相差フィルムの熱収縮を生じないようにすることができる。
In step (2), by heating the coating film at a temperature higher than the glass transition temperature of polyimide, the polyimide molecules move more easily in the coating film, and the polyimide whose thickness direction in the coating film is approximately horizontal. The orientation of the molecules in the thickness direction is randomly disturbed, and the phase difference in the thickness direction can be made sufficiently small. However, if the glass transition temperature of polyimide exceeds 300°C, polyimide molecules will be difficult to move in the coating even if the coating is heated to a temperature higher than the glass transition temperature of the polyimide, so it is necessary to reduce the retardation in the thickness direction. (See Experimental Examples 4-2 to 4-4 in Examples). That is, in the present invention, by intentionally suppressing the level of heat resistance, it is possible to manufacture a retardation film having a sufficiently small retardation in the thickness direction.
Moreover, by performing the heating in step (2), it is possible to release the strain generated in the coating film in step (1) and suppress thermal shrinkage of the retardation film. Specifically, by performing the heating in step (2), the retardation film does not undergo thermal shrinkage even when heated at any temperature in the temperature range from 25 ° C. to the glass transition temperature of polyimide. can do.

ポリイミドのガラス転移温度をA(℃)とした場合、工程(2)の加熱温度は、A+10℃以上であることが好ましく、A+20℃以上であることがより好ましい。
また、ポリイミド分子の厚み方向の向きをランダムにしやすくする観点から、工程(2)の加熱温度は230℃以上であることが好ましく、240℃以上であることがより好ましい。
なお、工程(2)において、加熱温度を高くし過ぎると、位相差フィルムの平面性が低下したり、JIS K7373:2006の黄色度(YI)が増加したりする場合がある。このため、工程(2)の加熱温度はA+50℃以下であることが好ましい。同様の観点から、工程(2)の加熱温度は370℃以下であることが好ましく、350℃以下であることがより好ましく、330℃以下であることがさらに好ましく、300℃以下であることがよりさらに好ましい。
When the glass transition temperature of polyimide is A (°C), the heating temperature in step (2) is preferably A+10°C or higher, more preferably A+20°C or higher.
Further, from the viewpoint of making it easier to randomize the orientation of the polyimide molecules in the thickness direction, the heating temperature in step (2) is preferably 230°C or higher, more preferably 240°C or higher.
In addition, in step (2), if the heating temperature is made too high, the flatness of the retardation film may decrease or the yellowness index (YI) of JIS K7373:2006 may increase. For this reason, the heating temperature in step (2) is preferably A+50°C or lower. From the same viewpoint, the heating temperature in step (2) is preferably 370°C or lower, more preferably 350°C or lower, even more preferably 330°C or lower, and even more preferably 300°C or lower. More preferred.

工程(2)は、減圧下で行っても良いし、常圧下で行っても良い。
また、工程(2)の加熱時間は、1~40分であることが好ましく、5~35分であることがより好ましく、10~30分であることがさらに好ましい。
また、工程(2)の加熱は、大気中で行っても良いし、不活性雰囲気下で行っても良い。
Step (2) may be performed under reduced pressure or under normal pressure.
Further, the heating time in step (2) is preferably 1 to 40 minutes, more preferably 5 to 35 minutes, and even more preferably 10 to 30 minutes.
Further, the heating in step (2) may be performed in the air or in an inert atmosphere.

工程(2)の開始時の塗膜の総質量をW、工程(2)の開始時の塗膜中に含まれる残留溶剤の質量をW1とした際に、W1/Wが0.02以下であることが好ましく、0.01以下であることがより好ましく、0.005以下であることがさらに好ましい。
W1/Wを0.02以下とすることにより、工程(1)と工程(2)との間の溶剤の揮発量が抑制されるため、塗膜のカール及び収縮を抑制しやすくできる。
When the total mass of the coating film at the start of step (2) is W, and the mass of the residual solvent contained in the coating film at the start of step (2) is W1, W1/W is 0.02 or less. It is preferably at most 0.01, more preferably at most 0.005, and even more preferably at most 0.005.
By setting W1/W to 0.02 or less, the amount of solvent volatilization between step (1) and step (2) is suppressed, so that curling and shrinkage of the coating film can be easily suppressed.

工程(2)の終了時には、塗膜は溶剤を実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、工程(2)の終了時の塗膜の全量を基準として0.1質量%以下であり、好ましくは0.02質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下である。 At the end of step (2), it is preferred that the coating film is substantially free of solvent. Substantially not containing means 0.1% by mass or less, preferably 0.02% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less based on the total amount of the coating film at the end of step (2). It is.

工程(1)において、基材から塗膜を剥離した後の塗膜をロール状に巻き取った場合、工程(2)では、塗膜の収縮を抑制するため、ロールから塗膜を巻き出しながら行うことが好ましい。 In step (1), when the coating film is peeled from the base material and wound up into a roll, in step (2), in order to suppress shrinkage of the coating film, while unrolling the coating film from the roll, It is preferable to do so.

工程(2)は、塗膜の収縮を抑制するため、塗膜の4方向を固定して行うことが好ましい。例えば、ロール状に巻き取った塗膜を巻き出しながら工程(2)を行う場合には、巻きだし装置によって固定されている流れ方向の両端部に加えて、幅方向の両端部をクリップ等で固定することが好ましい。特に、工程(1)の後であって、工程(2)の前に後述する工程(3)を行う場合には、塗膜が熱収縮しやすい状態となっているため、上記のように、塗膜の4方向を固定して工程(2)を行うことが重要となる。
また、工程(1)において、金属枠等の枠内に位相差層形成用塗布液を塗布、乾燥して塗膜を形成し、引き続き工程(2)を行う場合には、該枠によって塗膜の4方向を固定することができる。
In order to suppress shrinkage of the coating film, step (2) is preferably performed with the coating film fixed in four directions. For example, when performing step (2) while unwinding a coating film wound into a roll, in addition to both ends in the flow direction fixed by the unwinding device, both ends in the width direction are secured with clips, etc. Preferably, it is fixed. In particular, when performing step (3), which will be described later, after step (1) and before step (2), the coating film is in a state where it is susceptible to heat shrinkage, so as mentioned above, It is important to perform step (2) while fixing the four directions of the coating film.
In addition, in step (1), if the retardation layer forming coating liquid is applied within a frame such as a metal frame and dried to form a coating film, and then step (2) is performed, the coating liquid can be formed by using the frame. can be fixed in four directions.

工程(2)が終了した後は、塗膜を冷却することが好ましい。塗膜を冷却することにより、ポリイミド分子が固定化されて動き難くなり、工程(2)の加熱工程により得られた効果を維持しやすくできる。
塗膜の冷却条件は特に限定されないが、例えば、温度15~40℃で時間を1~40分とすることが好ましい。
After completing step (2), it is preferable to cool the coating film. By cooling the coating film, the polyimide molecules are fixed and become difficult to move, making it easier to maintain the effect obtained by the heating step in step (2).
Although the conditions for cooling the coating film are not particularly limited, it is preferable, for example, that the temperature is 15 to 40°C and the time is 1 to 40 minutes.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、さらに、下記工程(3)を有することが好ましい。工程(3)を行うことにより、位相差フィルムが基材レスとなり、位相差フィルムの厚みを薄くすることができる。
<工程(3)>
(3)工程(1)又は工程(2)の後に、基材から塗膜を剥離する工程。
It is preferable that the method for producing a retardation film of the present invention further includes the following step (3). By performing step (3), the retardation film becomes base-free, and the thickness of the retardation film can be reduced.
<Step (3)>
(3) A step of peeling off the coating film from the substrate after step (1) or step (2).

工程(2)の終了後に、上述した塗膜の冷却工程、及び、工程(3)を行う場合には、作業性の観点から、工程(3)よりも先に塗膜の冷却工程を行うことが好ましい。 If the above-mentioned coating film cooling step and step (3) are performed after the completion of step (2), from the viewpoint of workability, the coating film cooling step should be performed before step (3). is preferred.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他の工程を有していてもよい。なお、面内位相差を極力生じさせないようにするため、本発明の位相差フィルムの製造方法は、延伸工程を行わないことが好ましい。 The method for producing a retardation film of the present invention may include other steps as long as the effects of the present invention are not impaired. In addition, in order to prevent in-plane retardation from occurring as much as possible, it is preferable that the method for producing a retardation film of the present invention does not include a stretching step.

本発明の製造方法により得られた位相差フィルムの厚みは特に限定されないが、取り扱い性及び機械的強度を良好にする観点から、15~300μmであることが好ましく、20~200μmであることがより好ましく、25~100μmであることがさらに好ましい。
位相差フィルムの厚みは、例えば、マイクロメーター(商品名:Digimatic Micrometer、ミツトヨ社製)により測定できる。
The thickness of the retardation film obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of improving handleability and mechanical strength, it is preferably 15 to 300 μm, more preferably 20 to 200 μm. The thickness is preferably 25 to 100 μm, more preferably 25 to 100 μm.
The thickness of the retardation film can be measured, for example, with a micrometer (trade name: Digimatic Micrometer, manufactured by Mitutoyo Corporation).

<大きさ、形状等>
本発明の製造方法により得られた位相差フィルムは枚葉状であってもよいしロール状であってもよい。
また、枚葉の大きさは特に限定されないが、一般的には、大きさは対角で2~500インチ程度である。ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は500~3000mm、長さは500~5000m程度である。
また、枚葉の形状も特に限定されず、例えば、多角形(三角形、四角形、五角形等)や円形であってもよいし、ランダムな不定形であってもよい。
<諸物性>
本発明の製造方法により得られた位相差フィルムは、諸物性(面内位相差、厚み方向の位相差、黄色度(YI)、ヘイズ、全光線透過率、マンドレルの直径、熱収縮)が後述する本発明の位相差フィルムの範囲であることが好ましい。
<Size, shape, etc.>
The retardation film obtained by the production method of the present invention may be in the form of a sheet or a roll.
Further, the size of the leaves is not particularly limited, but generally the size is about 2 to 500 inches diagonally. The width and length of the roll are not particularly limited, but generally the width is about 500 to 3000 mm and the length is about 500 to 5000 m.
Further, the shape of each leaf is not particularly limited, and may be, for example, a polygon (triangle, quadrangle, pentagon, etc.), a circle, or a random amorphous shape.
<Physical properties>
The retardation film obtained by the production method of the present invention has various physical properties (in-plane retardation, thickness direction retardation, yellowness index (YI), haze, total light transmittance, mandrel diameter, heat shrinkage) as described below. It is preferable that the retardation film of the present invention falls within the range of the retardation film of the present invention.

<用途>
本発明の製造方法により得られた位相差フィルムは位相差を小さくできることから、各種の光学用途に好適に用いることができ、特に、画像表示装置用の光学フィルムの基材、画像表示装置用のタッチパネルの基材等の画像表示装置用として好適に用いることができる。
また、該位相差フィルムは、ポリイミドを含むため耐屈曲性に優れる。このため、該位相差フィルムは、折り曲げ可能な画像表示装置に適用することが好ましい。折り曲げ可能な画像表示装置としては、有機EL表示装置が挙げられる。
また、該位相差フィルムは、ポリイミドを含み耐熱性に優れるため、熱に晒される部材として好適に用いることができる。熱に晒される部材としては、画像表示装置(特に有機EL表示装置)の部材、透明導電性フィルムの基材が挙げられる。特に、透明導電性フィルムの基材は極めて高い温度に晒されるため、該位相差フィルムが好適に用いられる。
以上のことから、該位相差フィルムは、画像表示装置に組み込まれたタッチパネル用透明導電性フィルムの基材として有用であり、中でも有機EL表示装置に組み込まれたタッチパネル用透明導電性フィルムの基材として極めて有用である。
<Application>
Since the retardation film obtained by the production method of the present invention can reduce the retardation, it can be suitably used for various optical applications, and in particular, it can be used as a substrate for optical films for image display devices, and as a base material for optical films for image display devices. It can be suitably used for image display devices such as base materials for touch panels.
Furthermore, the retardation film contains polyimide and therefore has excellent bending resistance. Therefore, the retardation film is preferably applied to a foldable image display device. An example of a foldable image display device is an organic EL display device.
Further, since the retardation film contains polyimide and has excellent heat resistance, it can be suitably used as a member exposed to heat. Examples of members exposed to heat include members of image display devices (particularly organic EL display devices) and base materials of transparent conductive films. In particular, since the base material of the transparent conductive film is exposed to extremely high temperatures, the retardation film is preferably used.
From the above, the retardation film is useful as a base material for a transparent conductive film for a touch panel incorporated in an image display device, and especially as a base material for a transparent conductive film for a touch panel incorporated in an organic EL display device. It is extremely useful as a

[位相差フィルム]
本発明の位相差フィルムは、ポリイミドを含み、前記ポリイミドのガラス転移温度が180~300℃であり、前記位相差フィルムの波長589nmにおける面内位相差をRe(589)、前記位相差フィルムの波長589nmにおける厚み方向の位相差をRth(589)とした際に、Re(589)及びRth(589)が何れも100nm以下であるものである。
[Retardation film]
The retardation film of the present invention includes polyimide, the polyimide has a glass transition temperature of 180 to 300°C, and the in-plane retardation at a wavelength of 589 nm of the retardation film is Re (589), and the wavelength of the retardation film is When the retardation in the thickness direction at 589 nm is Rth (589), Re (589) and Rth (589) are both 100 nm or less.

<ポリイミド>
ポリイミドはガラス転移温度が180~300℃である。
ポリイミドのガラス転移温度が180℃未満の場合、位相差フィルムの耐熱性を良好にすることができない。また、ポリイミドのガラス転移温度が300℃を超える場合、位相差を小さくするためのガラス転移温度以上での加熱工程を行ったとしても、厚み方向の位相差を小さくすることができない。また、ポリイミドのガラス転移温度が300℃を超える場合、位相差を小さくするための加熱時に高熱がかかり、位相差フィルムの平面性が低下したり、黄色度(YI)が増加したりしやすくなる。
すなわち、本発明では、ポリイミドのガラス転移温度を180~300℃として必要以上に高くせず、耐熱性のレベルをあえて抑えることにより、位相差フィルムの位相差を小さくするとともに、位相差フィルムの諸物性を良好にしやすくできる。
ポリイミドはガラス転移温度が185~250℃であることが好ましい。
<Polyimide>
Polyimide has a glass transition temperature of 180 to 300°C.
When the glass transition temperature of polyimide is less than 180°C, the heat resistance of the retardation film cannot be improved. Furthermore, when the glass transition temperature of polyimide exceeds 300° C., even if a heating step above the glass transition temperature is performed to reduce the retardation, the retardation in the thickness direction cannot be reduced. Furthermore, when the glass transition temperature of polyimide exceeds 300°C, high heat is applied during heating to reduce the retardation, which tends to reduce the flatness of the retardation film and increase the yellowness index (YI). .
That is, in the present invention, the glass transition temperature of polyimide is set to 180 to 300°C, which is not unnecessarily high, and the heat resistance level is deliberately suppressed, thereby reducing the retardation of the retardation film and improving various aspects of the retardation film. Physical properties can be easily improved.
The polyimide preferably has a glass transition temperature of 185 to 250°C.

位相差フィルムに含まれるポリイミドの実施の形態は、上述した本発明の位相差フィルムの製造方法で用いるポリイミドの実施の形態と同じである。 The embodiment of the polyimide contained in the retardation film is the same as the embodiment of the polyimide used in the method for producing a retardation film of the present invention described above.

本発明の位相差フィルムは、波長589nmにおける面内位相差をRe(589)、波長589nmにおける厚み方向の位相差をRth(589)とした際に、Re(589)及びRth(589)が何れも100nm以下であることを要する。
Re(589)及びRth(589)が100nmを超える場合、表示素子の種類に関わらず安定した視認性を付与することができない。
Re(589)及びRth(589)は75nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましい。
In the retardation film of the present invention, when the in-plane retardation at a wavelength of 589 nm is Re (589) and the retardation in the thickness direction at a wavelength of 589 nm is Rth (589), Re (589) and Rth (589) are both It is also required that the thickness is 100 nm or less.
When Re (589) and Rth (589) exceed 100 nm, stable visibility cannot be provided regardless of the type of display element.
Re(589) and Rth(589) are preferably 75 nm or less, more preferably 50 nm or less.

本明細書において、Re(589)及びRth(589)は、位相差フィルムの面内において屈折率が最も大きい方向である遅相軸方向の屈折率を「N」、面内において遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率を「N」、位相差フィルムの厚み方向の屈折率を「N」、位相差フィルムの厚みを「d(nm)」とした際に、下記式で表すことができる。
面内位相差(Re)=(N-N)×d
厚さ方向の位相差(Rth)=((N+N)/2-N)×d
In this specification, Re (589) and Rth (589) are "N x ", the refractive index in the slow axis direction, which is the direction in which the retardation film has the largest refractive index, and the slow axis in the plane. When the refractive index in the fast axis direction which is perpendicular to the direction is "N y ", the refractive index in the thickness direction of the retardation film is "N z ", and the thickness of the retardation film is "d (nm)". can be expressed by the following formula.
In-plane phase difference (Re) = (N x - N y ) x d
Phase difference in thickness direction (Rth) = ((N x + N y )/2-N z )×d

位相差フィルムは、位相差フィルムの一方の面又は両面に一又は二以上の機能層を積層してなる機能層付きの位相差フィルムとして用いてもよい。機能層としては、ハードコート層、透明導電層、接着剤層、光学粘着剤層(OCA)及び帯電防止層等が挙げられる。
これらの機能層が、面内位相差及び厚み方向の位相差を実質的に有さない場合には、位相差フィルム上に機能層が積層された状態でRe(589)及びRth(589)を測定してもよい。面内位相差及び厚み方向の位相差を実質的に有さないとは、位相差が1nm以下のことをいう。
The retardation film may be used as a retardation film with a functional layer formed by laminating one or more functional layers on one or both surfaces of the retardation film. Examples of the functional layer include a hard coat layer, a transparent conductive layer, an adhesive layer, an optical adhesive layer (OCA), and an antistatic layer.
When these functional layers have substantially no in-plane retardation or thickness direction retardation, Re (589) and Rth (589) are applied with the functional layers laminated on the retardation film. May be measured. "Substantially no in-plane retardation and no thickness direction retardation" means that the retardation is 1 nm or less.

また、位相差フィルムの一方の面又は両面に一又は二以上の機能層が積層されてなる場合、機能層を取り除いたり、機能層の膜厚をなるべく薄くする前処理をしたりした後に、位相差フィルムのRe(589)及びRth(589)を測定してもよい。但し、該前処理の際に位相差フィルムの膜厚に影響を与えないことが重要である。すなわち、位相差フィルムが既に明確に見えて、機能層が極めて薄膜と推測できる場合はそのままでも測定可能なので、無理に全てを剥離しない方がよい。
例えば、位相差フィルム上にパターン化された透明導電層を有してなる導電性フィルムがタッチパネルのセンサーとして使用されている場合には、導電性フィルム上には、粘着剤層を介してカバーフィルムやカバーガラスが存在する。このため、まず、端にカッターの刃を入れてカバーフィルムまたはカバーガラスを剥離する。容易に剥離しない場合は、無理に剥離せずに、次工程に移る。次いで、40℃の温水に10秒浸し取り出すことを3回繰り返す。その後にカッターなどで粘着剤層の剥がれ具合を確認し、場合によっては、40℃の温水に10秒浸し、取り出すことを更に3回繰り返す。その後、透明導電層を傷つけないようなツール(例えば、薄く平らだが刃のないもの)で粘着剤層を剥いでいく。なお、粘着剤層を全面剥離できなくとも、測定したい部位で剥離できればよい。このようにすることで、タッチパネルから、位相差フィルム上にパターン化された透明導電層を有してなる導電性フィルムを取り出すことができる。そして、透明導電層は通常は位相差を有さないため、位相差フィルムの位相差を測定できる。
In addition, if one or more functional layers are laminated on one or both sides of the retardation film, the functional layers may be removed or pre-treated to make the thickness of the functional layers as thin as possible, and then the Re (589) and Rth (589) of the retardation film may be measured. However, it is important not to affect the thickness of the retardation film during the pretreatment. That is, if the retardation film is already clearly visible and the functional layer is presumed to be extremely thin, it is possible to measure it as is, so it is better not to forcibly peel off the entire film.
For example, when a conductive film comprising a patterned transparent conductive layer on a retardation film is used as a touch panel sensor, a cover film is placed on the conductive film via an adhesive layer. There is a cover glass. For this purpose, first, insert a cutter blade into the edge and peel off the cover film or cover glass. If it does not peel off easily, move on to the next step without forcing it off. Next, the process of immersing the sample in 40°C warm water for 10 seconds and taking it out is repeated three times. After that, use a cutter or the like to check the degree of peeling of the adhesive layer, and if necessary, repeat the process of immersing it in 40°C warm water for 10 seconds and taking it out three more times. The adhesive layer is then peeled off using a tool that does not damage the transparent conductive layer (for example, something thin and flat but without a blade). Note that even if the adhesive layer cannot be peeled off from the entire surface, it is sufficient if it can be peeled off at the part to be measured. By doing so, a conductive film including a patterned transparent conductive layer on a retardation film can be taken out from the touch panel. Since the transparent conductive layer usually does not have a retardation, the retardation of the retardation film can be measured.

<諸物性>
位相差フィルムは、JIS K7373:2006の黄色度を示すYIが5.0以下であることが好ましく、3.0以下であることがより好ましく、2.5以下であることがさらに好ましく、2.3以下であることがよりさらに好ましい。
<Physical properties>
The retardation film preferably has a yellowness YI of JIS K7373:2006 of 5.0 or less, more preferably 3.0 or less, even more preferably 2.5 or less, 2. It is even more preferable that it is 3 or less.

位相差フィルムは、JIS K7136:2000のヘイズが1.0%以下であることが好ましく、0.9%以下であることがより好ましく、0.8%以下であることがさらに好ましい。
位相差フィルムは、JIS K7361-1:1997の全光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
上記のYI、ヘイズ及び全光線透過率の範囲は、原則として位相差フィルム単層の範囲である。ただし、機能層が、YI、ヘイズ及び全光線透過率の値に実質的な影響を与えない場合には、位相差フィルム上に機能層が積層された状態でYI、ヘイズ及び全光線透過率を測定してもよい。
The retardation film preferably has a haze of 1.0% or less according to JIS K7136:2000, more preferably 0.9% or less, and even more preferably 0.8% or less.
The retardation film preferably has a total light transmittance of 80% or more according to JIS K7361-1:1997, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more.
The above ranges of YI, haze and total light transmittance are, in principle, within the range of a single layer of retardation film. However, if the functional layer does not have a substantial effect on the values of YI, haze, and total light transmittance, the YI, haze, and total light transmittance may be changed with the functional layer laminated on the retardation film. May be measured.

本明細書において、Re(589)、Rth(589)、YI、ヘイズ及び全光線透過率は、16箇所の測定値の平均値を意味する。16の測定箇所は、測定サンプルの外縁から1cmの領域を余白として、該余白よりも内側の領域に関して、縦方向及び横方向を5等分する線を引いた際の、交点の16箇所を測定の中心とすることが好ましい。測定サンプルが四角形の場合には、四角形の外縁から1cmの領域を余白として、該余白よりも内側の領域を縦方向及び横方向に5等分した線の交点の16箇所を中心として測定を行い、その平均値を算出することが好ましい。なお、測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の四角形以外の形状の場合、これらの形状に内接する最大面積の四角形を書き、該四角形に関して、上記手法により16箇所の測定を行うことが好ましい。なお、測定サンプルの大きさと、測定スポットの大きさとの関係によっては、測定領域が部分的に重複する場合があるが、その場合は重複して測定すればよい。
上記のように測定した16箇所の測定値のうち、Re(589)及びRth(589)のバラツキは、平均値に対して±10nm以内であることが好ましく、±5nm以内であることがより好ましく、±3nm以内であることがさらに好ましく、±1nm以内であることがよりさらに好ましい。また、上記のように測定した16箇所の測定値のうち、YI、ヘイズ及び全光線透過率のバラツキは、平均値に対して±15%以内であることが好ましく、±10%以内であることがより好ましく、±7%以内であることがさらに好ましく、±5%以内であることがよりさらに好ましい。
In this specification, Re (589), Rth (589), YI, haze, and total light transmittance mean average values of measured values at 16 locations. The 16 measurement points are the 16 points of intersection when drawing a line that divides the area inside the margin into 5 equal parts in the vertical and horizontal directions, using a 1 cm area from the outer edge of the measurement sample as a margin. It is preferable to set it at the center of If the measurement sample is a rectangle, take a 1cm area from the outer edge of the rectangle as a margin, and perform measurements centered on 16 points of intersection of lines that divide the area inside the margin into 5 equal parts in the vertical and horizontal directions. , it is preferable to calculate the average value thereof. In addition, if the measurement sample has a shape other than a quadrilateral such as a circle, ellipse, triangle, or pentagon, draw a quadrilateral with the maximum area inscribed in these shapes and perform measurements at 16 locations using the above method regarding the quadrilateral. preferable. Note that depending on the relationship between the size of the measurement sample and the size of the measurement spot, the measurement areas may partially overlap, and in that case, it is sufficient to perform the measurement overlappingly.
Among the measured values at 16 locations measured as above, the variation in Re (589) and Rth (589) is preferably within ±10 nm, more preferably within ±5 nm with respect to the average value. , more preferably within ±3 nm, even more preferably within ±1 nm. Furthermore, among the measured values at 16 locations measured as above, the variation in YI, haze, and total light transmittance is preferably within ±15% of the average value, and preferably within ±10%. is more preferably within ±7%, even more preferably within ±5%.

位相差フィルムは、25℃からポリイミドのガラス転移温度までの温度領域(25℃以上ポリイミドのガラス転移温度以下の温度領域)において、何れの温度で加熱しても熱収縮を生じないことが好ましい。位相差フィルムが該構成を有することにより、熱収縮により経時的に位相差が増加することを抑制できる。なお、下限の25℃は平均的な室温を規定したものである。 It is preferable that the retardation film does not undergo thermal shrinkage even when heated at any temperature in the temperature range from 25°C to the glass transition temperature of polyimide (temperature range of 25°C or higher and lower than or equal to the glass transition temperature of polyimide). When the retardation film has this configuration, it is possible to suppress the retardation from increasing over time due to heat shrinkage. Note that the lower limit of 25° C. defines an average room temperature.

位相差フィルムは、JIS K5600-5-1:1999に規定の円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験において、位相差フィルムに割れが生じたマンドレルの直径が3mm以下であることが好ましく、2mm以下であることがより好ましい。
マンドレルの直径を3mm以下とすることにより、耐屈曲性をより良好にすることができる。
In the bending resistance test of the retardation film using the cylindrical mandrel method specified in JIS K5600-5-1:1999, it is preferable that the diameter of the mandrel in which cracks occur in the retardation film is 3 mm or less, and 2 mm or less. It is more preferable that there be.
By setting the diameter of the mandrel to 3 mm or less, better bending resistance can be achieved.

[表示パネル]
本発明の表示パネルは、表示素子の光出射面側の面上に、上述した本発明の位相差フィルムが配置されてなるものである。
表示素子上に配置する位相差フィルムは、位相差フィルムの一方の面又は両面に一又は二以上の機能層が積層されたものであってもよい。機能層としては、ハードコート層、透明導電層、接着剤層、光学粘着剤層(OCA)及び帯電防止層等が挙げられる。
[Display panel]
The display panel of the present invention includes the above-described retardation film of the present invention disposed on the light exit surface side of the display element.
The retardation film disposed on the display element may be one in which one or more functional layers are laminated on one or both surfaces of the retardation film. Examples of the functional layer include a hard coat layer, a transparent conductive layer, an adhesive layer, an optical adhesive layer (OCA), and an antistatic layer.

<表示素子>
表示素子としては、液晶表示素子、有機EL表示素子、無機EL表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー表示素子、LED表示素子(マイクロLEDなど)、量子ドットを用いた表示素子等が挙げられる。なお、液晶表示素子は、タッチパネル機能を素子内に備えたインセルタッチパネル液晶表示素子であってもよい。
これらの表示素子の中でも、有機EL表示素子は、本発明の効果を有効に発揮し得る点で好ましい。
<Display element>
Examples of display elements include liquid crystal display elements, organic EL display elements, inorganic EL display elements, plasma display elements, electronic paper display elements, LED display elements (such as micro LEDs), display elements using quantum dots, and the like. Note that the liquid crystal display element may be an in-cell touch panel liquid crystal display element that has a touch panel function within the element.
Among these display elements, organic EL display elements are preferred in that they can effectively exhibit the effects of the present invention.

また、本発明の表示パネルはタッチパネルを有していてもよい。タッチパネルは、例えば、表示素子と位相差フィルムとの間に配置される。また、上述した本発明の位相差フィルムをタッチパネルの構成部材として用いてもよい(例えば、タッチパネルの透明導電性フィルムの基材として本発明の位相差フィルムを用いてもよい)。
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。なお、これらタッチパネルは圧力検知機能を備えたものであってもよい。
Furthermore, the display panel of the present invention may include a touch panel. A touch panel is arranged, for example, between a display element and a retardation film. Further, the retardation film of the present invention described above may be used as a constituent member of a touch panel (for example, the retardation film of the present invention may be used as a base material of a transparent conductive film of a touch panel).
Examples of the touch panel include a resistive touch panel, a capacitive touch panel, an optical touch panel, an ultrasonic touch panel, and an electromagnetic induction touch panel. Note that these touch panels may be equipped with a pressure detection function.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、本発明の表示パネルを備えるものであれば特に限定されないが、本発明の表示パネルと、該表示パネルに電気的に接続された駆動制御部と、これらを収容する筐体とを備えることが好ましい。
[Image display device]
The image display device of the present invention is not particularly limited as long as it includes the display panel of the present invention, but the image display device accommodates the display panel of the present invention, a drive control section electrically connected to the display panel, and It is preferable to include a housing.

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「%」は特に断りのない限り質量基準とする。 Next, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples in any way. Note that "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

1.測定、評価
各実験例で得られた位相差フィルムについて、下記の測定、評価を行った。結果を表1に示す。なお、各測定及び評価時の雰囲気は、温度は23℃±5℃、湿度40~65%とした。また、測定及び評価の前に、前記雰囲気にサンプルを30分以上晒した。結果を表1に示す。
1. Measurement and Evaluation The following measurements and evaluations were performed on the retardation films obtained in each experimental example. The results are shown in Table 1. The atmosphere during each measurement and evaluation was such that the temperature was 23°C ± 5°C and the humidity was 40 to 65%. Furthermore, before measurement and evaluation, the samples were exposed to the above atmosphere for 30 minutes or more. The results are shown in Table 1.

1-1.位相差の測定
各実験例で得られた位相差フィルムを縦50mm×横50mmの大きさに切断した測定用サンプルを作製した。大塚電子社製の商品名「RETS-100(測定スポット:直径5mm)」を用いて、該測定用サンプルのRe(589)及びRth(589)を測定した。測定箇所は、明細書本文で規定した16箇所として、16箇所の値の平均値を、各実験例のRe(589)及びRth(589)とした。
1-1. Measurement of Retardation A sample for measurement was prepared by cutting the retardation film obtained in each experimental example into a size of 50 mm in length x 50 mm in width. Re (589) and Rth (589) of the measurement sample were measured using a product named "RETS-100 (measurement spot: diameter 5 mm)" manufactured by Otsuka Electronics. The measurement locations were 16 as defined in the main text of the specification, and the average value of the values at the 16 locations was taken as Re (589) and Rth (589) for each experimental example.

1-2.YIの測定
紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社、商品名「V-7100」)を用い、JIS K7373:2006に準拠して、上記1-1で作製したサンプルのYIを測定した。具体的には、前記紫外可視近赤外分光光度計を用い、JIS Z8720に規定する分光測色方法により透過率を測定し、該透過率をもとにYIを算出した。測定箇所は、明細書本文で規定した16箇所として、16箇所の値の平均値を、各実験例のYIとした。
1-2. Measurement of YI Using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (JASCO Corporation, trade name "V-7100"), the YI of the sample prepared in 1-1 above was measured in accordance with JIS K7373:2006. Specifically, transmittance was measured using the ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer according to the spectrophotometric method specified in JIS Z8720, and YI was calculated based on the transmittance. The measurement locations were 16 as specified in the main text of the specification, and the average value of the values at the 16 locations was taken as the YI of each experimental example.

1-3.全光線透過率及びヘイズの測定
ヘイズメーター(村上色彩技術研究所社、商品名「HM150」)を用い、JIS K7361-1:1997及びJIS K7136:2000に準拠して、上記1-1で作製したサンプルの全光線透過率及びヘイズを測定した。測定箇所は、明細書本文で規定した16箇所として、16箇所の値の平均値を、各実験例の全光線透過率及びヘイズとした。
1-3. Measurement of total light transmittance and haze The samples were prepared in 1-1 above using a haze meter (Murakami Color Research Institute, trade name "HM150") in accordance with JIS K7361-1:1997 and JIS K7136:2000. The total light transmittance and haze of the sample were measured. The measurement locations were 16 as specified in the main text of the specification, and the average value of the values at the 16 locations was used as the total light transmittance and haze of each experimental example.

1-4.耐屈曲性(マンドレル直径)
各実験例の位相差フィルムに関して、JIS K5600-5-1:1999に規定の円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験を行った。マンドレルの直径を徐々に小さくし、位相差フィルムに最初に割れが生じたマンドレルの直径を表1に示す。
1-4. Flexibility (mandrel diameter)
The retardation film of each experimental example was subjected to a bending resistance test using the cylindrical mandrel method specified in JIS K5600-5-1:1999. The diameter of the mandrel was gradually reduced, and the diameter of the mandrel at which the retardation film first cracked is shown in Table 1.

1-5.熱収縮
熱機械分析装置(島津製作所社製、商品名「TMA-60」)を用いて、10℃/分の昇温条件で、各実験例の位相差フィルムを25℃からガラス転移温度まで加熱した際の温度ごとのサンプルの寸法を測定した。25℃からガラス転移温度まで連続して昇温した際に、サンプルの寸法が収縮する温度領域が存在しなかったものを「A」、サンプルの寸法が収縮する温度領域が存在したものを「C」とした。
1-5. Heat shrinkage Using a thermomechanical analyzer (manufactured by Shimadzu Corporation, product name "TMA-60"), the retardation film of each experimental example was heated from 25 °C to the glass transition temperature at a temperature increase of 10 °C/min. The dimensions of the sample at each temperature were measured. When the temperature was raised continuously from 25°C to the glass transition temperature, there was no temperature range in which the sample size contracted, and it was rated "A," and there was a temperature range in which the sample size contracted. ”.

1-6.ガラス転移温度(Tg)
動的粘弾性測定装置(TA Instruments社製、商品名「RSA-G2」)を用いて、各実験例で用いたポリイミドのガラス転移温度(Tg)を測定した。測定条件は、測定範囲を-150℃以上490℃以下として、変形様式として引張りを選定し、周波数1Hz、昇温速度5℃/min、サンプル幅を5mm、チャック間距離を20mmとして動的粘弾性測定を行い、tanδ(tanδ=損失弾性率(E’’)/貯蔵弾性率(E’))の曲線を得て、ピークの頂点の温度を求めた。装置の測定条件は以下のように設定した。tanδ曲線のピークが複数存在する場合、ピークの極大値が最大であるピークの頂点の温度をガラス転移温度とした。ピーク及び変曲点の解析時は、目視評価せず、データを数値化して、数値から解析した。
<RSA-G2の測定条件>
(Initial value)
Axial force :3.0g
Sensitivity :1.0g
Proportional force Mode:Force Tracking
Axial Force > Dynamic Force :1.5%
Minimum axial force :2.0g
Programmed Extension Below :0Pa
(Auto strain)
Mode : Enabled
Strain adjust :20.0%
Minimum strain :0.01%
Maximum strain :3.0%
Minimum force :1.5g
Maximum force :200.0g
(Test parameters)
Sampling rate :10pts/s
Strain % :0.1%
周波数 :Single point
Frequency 1Hz
なお、tanδ曲線を測定するサンプルとしては、23℃±2℃ RH30~50%の環境下に24時間静置したポリイミドフィルムを10cm角以上にサンプリングしたフィルムのさらに中央部を、剃刀またはメスにて5mm幅にスリットの入った切り出し治具を用いて、幅5mm×長さ50mmに(チャック時にサンプル長が20mmとなるように)切り出した物を用いた。幅の測定はノギスを用いて、位置を変えて3回計測した平均値を記録した。この際、幅測定の一部に平均値の3%以上の変動幅のある場合、そのサンプルは使用しなかった。ポリイミドフィルムの厚みは、前記膜厚測定法で測定した値を用いた。
1-6. Glass transition temperature (Tg)
The glass transition temperature (Tg) of the polyimide used in each experimental example was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments, trade name "RSA-G2"). The measurement conditions were a measurement range of -150°C to 490°C, tension as the deformation mode, frequency of 1Hz, heating rate of 5°C/min, sample width of 5mm, and distance between chucks of 20mm to determine dynamic viscoelasticity. Measurements were performed to obtain a tan δ (tan δ = loss modulus (E'')/storage modulus (E')) curve, and the temperature at the top of the peak was determined. The measurement conditions of the device were set as follows. When there were multiple peaks in the tan δ curve, the temperature at the apex of the peak with the maximum peak value was defined as the glass transition temperature. When analyzing peaks and inflection points, the data was digitized and analyzed from the numerical values without visual evaluation.
<RSA-G2 measurement conditions>
(Initial value)
Axial force: 3.0g
Sensitivity: 1.0g
Proportional force Mode: Force Tracking
Axial Force > Dynamic Force: 1.5%
Minimum axial force: 2.0g
Programmed Extension Below: 0Pa
(Auto strain)
Mode: Enabled
Strain adjustment: 20.0%
Minimum strain: 0.01%
Maximum strain: 3.0%
Minimum force: 1.5g
Maximum force: 200.0g
(Test parameters)
Sampling rate: 10pts/s
Strain%: 0.1%
Frequency: Single point
Frequency 1Hz
In addition, as a sample for measuring the tan δ curve, a polyimide film that has been left for 24 hours in an environment of 23°C ± 2°C and RH 30-50% is sampled to a size of 10 cm or more, and the central part of the film is sampled with a razor or scalpel. Using a cutting jig with a 5 mm wide slit, a sample was cut into a size of 5 mm wide x 50 mm long (so that the sample length was 20 mm when chucked). The width was measured three times at different positions using calipers, and the average value was recorded. At this time, if part of the width measurement had a variation range of 3% or more of the average value, that sample was not used. For the thickness of the polyimide film, the value measured by the film thickness measurement method described above was used.

1-7.工程(2)開始時の残留溶剤
工程(2)の開始時の塗膜の総質量をW、工程(2)の開始時の塗膜中に含まれる残留溶剤の質量をW1として、各実験例のW1/Wを算出し、W1/Wが0.02超のものを「C」、W1/Wが0.02以下のものを「A」とした。塗膜中の残留溶剤は、ガスクロマトグラフィー質量分析計により測定した。
1-7. Residual solvent at the start of step (2) The total mass of the coating film at the start of step (2) is W, and the mass of the residual solvent contained in the coating film at the start of step (2) is W1, and each experimental example is The W1/W of the sample was calculated, and those with W1/W exceeding 0.02 were graded as "C", and those with W1/W of 0.02 or less were graded as "A". The residual solvent in the coating film was measured using a gas chromatography mass spectrometer.

1-8.画像表示装置の視認性
市販の画像表示装置(液晶表示装置及び有機EL表示装置をそれぞれ3機種)を準備して、様々な角度から観察した。また、前記画像表示装置上に各実験例の位相差フィルムを配置し、様々な角度から観察した。位相差フィルムの有無での画像の視認性に関して20人の成人が評価を行い、下記基準でランク付けした。
AA:いかなる機種でも、位相差フィルムの有無で画像の視認性が変化しないと感じる人が18人以上。
A:いかなる機種でも、位相差フィルムの有無で画像の視認性が変化しないと感じる人が16人以上17人以下。
B:いかなる機種でも、位相差フィルムの有無で画像の視認性が変化しないと感じる人が10人以上15人以下。
C:いかなる機種でも、位相差フィルムの有無で画像の視認性が変化しないと感じる人が10人以下。
1-8. Visibility of Image Display Devices Commercially available image display devices (three types each of liquid crystal display devices and organic EL display devices) were prepared and observed from various angles. Further, the retardation film of each experimental example was placed on the image display device and observed from various angles. Twenty adults evaluated the visibility of images with and without a retardation film and ranked them based on the following criteria.
AA: 18 or more people feel that the visibility of images does not change with or without a retardation film, regardless of the model.
A: Regardless of the model, between 16 and 17 people feel that the visibility of images does not change with or without a retardation film.
B: 10 to 15 people feel that the visibility of images does not change with or without a retardation film, regardless of the model.
C: Regardless of the model, 10 or fewer people feel that the visibility of images does not change with or without a retardation film.

2.ポリイミド前駆体組成物の調製 2. Preparation of polyimide precursor composition

<ポリイミド前駆体組成物1>
500mlのセパラブルフラスコに、脱水されたジメチルアセトアミド100.0g、及び、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(AprTMOS)1.9g(7.6mmol)、を溶解させた溶液を液温30℃に制御されたところへ、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)1.7g(3.8mmol)を、温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで1時間撹拌した。そこへ、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン(BAPS-M)29.8g(68.9mmol)を添加し、完全に溶解したことを確認後、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)34.0g(76.5mmol)を温度上昇が2℃以下になるように数回に分けて徐々に投入し、ポリイミド前駆体1が溶解したポリイミド前駆体組成物1(固形分40重量%)を得た。ポリイミド前駆体1に用いられたAprTMOSとBAPS-Mとのモル比は10:90であった。GPCによって測定したポリイミド前駆体1の重量平均分子量は230000であった。
<Polyimide precursor composition 1>
A solution in which 100.0 g of dehydrated dimethylacetamide and 1.9 g (7.6 mmol) of 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane (AprTMOS) were dissolved in a 500 ml separable flask. Add 1.7 g (3.8 mmol) of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA) to a liquid temperature controlled at 30°C so that the temperature rise is 2°C or less. The mixture was gradually added and stirred using a mechanical stirrer for 1 hour. To this, 29.8 g (68.9 mmol) of bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone (BAPS-M) was added, and after confirming that it had completely dissolved, 4,4'-(hexafluoro 34.0 g (76.5 mmol) of isopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA) was gradually added in several portions so that the temperature rise was 2° C. or less, and the polyimide precursor composition in which polyimide precursor 1 was dissolved was prepared. Product 1 (solid content 40% by weight) was obtained. The molar ratio of AprTMOS and BAPS-M used in polyimide precursor 1 was 10:90. The weight average molecular weight of polyimide precursor 1 measured by GPC was 230,000.

<ポリイミド前駆体組成物2>
AprTMOSとBAPS-Mとのモル比を20:80に変更した以外は、ポリイミド前駆体組成物1と同様にして、ポリイミド前駆体組成物2(固形分40重量%)を得た。GPCによって測定したポリイミド前駆体2の重量平均分子量は185000であった。
<Polyimide precursor composition 2>
Polyimide precursor composition 2 (solid content 40% by weight) was obtained in the same manner as polyimide precursor composition 1 except that the molar ratio of AprTMOS and BAPS-M was changed to 20:80. The weight average molecular weight of polyimide precursor 2 measured by GPC was 185,000.

<ポリイミド前駆体組成物3>
500mlのセパラブルフラスコに、脱水されたジメチルアセトアミド187.7g、及び、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(AprTMOS)12.5g(50mmol)、を溶解させた溶液を液温30℃に制御されたところへ、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)11.1g(25mmol)を、温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで1時間撹拌した。そこへ、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)16.0g(50mmol)を添加し、完全に溶解したことを確認後、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)33.3g(74.9mmol)を温度上昇が2℃以下になるように数回に分けて徐々に投入し、ポリイミド前駆体3が溶解したポリイミド前駆体組成物3(固形分28重量%)を得た。ポリイミド前駆体3に用いられたAprTMOSとTFMBとのモル比は50:50であった。GPCによって測定したポリイミド前駆体3の重量平均分子量は79000であった。
<Polyimide precursor composition 3>
A solution in which 187.7 g of dehydrated dimethylacetamide and 12.5 g (50 mmol) of 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane (AprTMOS) were dissolved was placed in a 500 ml separable flask. 11.1 g (25 mmol) of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA) was gradually added to the temperature controlled at 30°C so that the temperature rise was 2°C or less. , and stirred for 1 hour using a mechanical stirrer. To this, 16.0 g (50 mmol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine (TFMB) was added, and after confirming that it had completely dissolved, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid was added. 33.3 g (74.9 mmol) of anhydride (6FDA) was gradually added in several portions so that the temperature rise was 2°C or less, and polyimide precursor composition 3 (solid content) in which polyimide precursor 3 was dissolved was added. 28% by weight). The molar ratio of AprTMOS and TFMB used in polyimide precursor 3 was 50:50. The weight average molecular weight of polyimide precursor 3 measured by GPC was 79,000.

<ポリイミド前駆体組成物4>
AprTMOSとTFMBとのモル比を5:95に変更した以外は、ポリイミド前駆体組成物3と同様にして、ポリイミド前駆体組成物4(固形分28重量%)を得た。GPCによって測定したポリイミド前駆体4の重量平均分子量は200000であった。
<Polyimide precursor composition 4>
Polyimide precursor composition 4 (solid content 28% by weight) was obtained in the same manner as polyimide precursor composition 3 except that the molar ratio of AprTMOS and TFMB was changed to 5:95. The weight average molecular weight of polyimide precursor 4 measured by GPC was 200,000.

3.イミド化(化学イミド化)
ポリイミド前駆体組成物1に、触媒であるピリジン0.4g(4.9mmol)と無水酢酸38.0g(372mmol)を加え24時間室温で攪拌し、ポリイミド1を得た。得られたポリイミド溶液250gを5Lのセパラブルフラスコに移し、DMAc500gを加えて均一になるまで攪拌した。次に2-イソプロパノールを、僅かに濁りが見られるまで徐々に加え、濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に2-イソプロパノール2kgを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過し、2-イソプロパノールで10回洗浄し、ポリイミド1を得た。
ポリイミド前駆体組成物2に、触媒であるピリジン0.7g(8.9mmol)と無水酢酸73.4g(719mmol)を加え24時間室温で攪拌し、ポリイミド2を得た。得られたポリイミド溶液300gを5Lのセパラブルフラスコに移し、DMAc840gを加えて均一になるまで攪拌した。次に2-イソプロパノールを、僅かに濁りが見られるまで徐々に加え、濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に2-イソプロパノール2kgを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過し、2-イソプロパノールで10回洗浄し、ポリイミド2を得た。
ポリイミド前駆体組成物3に、触媒であるピリジン0.4g(4.9mmol)と無水酢酸38.0g(372mmol)を加え24時間室温で攪拌し、ポリイミド溶液を得た。得られたポリイミド溶液280gを5Lのセパラブルフラスコに移し、酢酸ブチル400gを加えて均一になるまで攪拌した。次に2-イソプロパノールを、僅かに濁りが見られるまで徐々に加え、濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に2-イソプロパノール2kgを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過し、2-イソプロパノールで10回洗浄し、ポリイミド3を得た。
同様に、ポリイミド前駆体組成物4に、触媒であるピリジン0.4g(4.9mmol)と無水酢酸39.6g(388mmol)を加え24時間室温で攪拌し、ポリイミド溶液を得た。得られたポリイミド溶液300gを5Lのセパラブルフラスコに移し、酢酸ブチル430gを加えて均一になるまで攪拌した。次に2-イソプロパノールを、僅かに濁りが見られるまで徐々に加え、濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に2-イソプロパノール2kgを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過し、2-イソプロパノールで10回洗浄し、ポリイミド4を得た。
3. Imidization (chemical imidization)
0.4 g (4.9 mmol) of pyridine as a catalyst and 38.0 g (372 mmol) of acetic anhydride were added to polyimide precursor composition 1 and stirred at room temperature for 24 hours to obtain polyimide 1. 250 g of the obtained polyimide solution was transferred to a 5 L separable flask, 500 g of DMAc was added, and the mixture was stirred until it became homogeneous. Next, 2-isopropanol was gradually added until a slight cloudiness was observed to obtain a cloudy solution. 2 kg of 2-isopropanol was added all at once to the cloudy solution to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed 10 times with 2-isopropanol to obtain polyimide 1.
0.7 g (8.9 mmol) of pyridine as a catalyst and 73.4 g (719 mmol) of acetic anhydride were added to polyimide precursor composition 2 and stirred at room temperature for 24 hours to obtain polyimide 2. 300 g of the obtained polyimide solution was transferred to a 5 L separable flask, 840 g of DMAc was added, and the mixture was stirred until it became homogeneous. Next, 2-isopropanol was gradually added until a slight cloudiness was observed to obtain a cloudy solution. 2 kg of 2-isopropanol was added all at once to the cloudy solution to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed 10 times with 2-isopropanol to obtain polyimide 2.
0.4 g (4.9 mmol) of pyridine as a catalyst and 38.0 g (372 mmol) of acetic anhydride were added to polyimide precursor composition 3 and stirred at room temperature for 24 hours to obtain a polyimide solution. 280 g of the obtained polyimide solution was transferred to a 5 L separable flask, 400 g of butyl acetate was added, and the mixture was stirred until it became homogeneous. Next, 2-isopropanol was gradually added until a slight cloudiness was observed to obtain a cloudy solution. 2 kg of 2-isopropanol was added all at once to the cloudy solution to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed 10 times with 2-isopropanol to obtain polyimide 3.
Similarly, 0.4 g (4.9 mmol) of pyridine as a catalyst and 39.6 g (388 mmol) of acetic anhydride were added to polyimide precursor composition 4 and stirred at room temperature for 24 hours to obtain a polyimide solution. 300 g of the obtained polyimide solution was transferred to a 5 L separable flask, 430 g of butyl acetate was added, and the mixture was stirred until it became homogeneous. Next, 2-isopropanol was gradually added until a slight cloudiness was observed to obtain a cloudy solution. 2 kg of 2-isopropanol was added all at once to the cloudy solution to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed 10 times with 2-isopropanol to obtain polyimide 4.

4.位相差層形成用塗布液の調製
<位相差フィルム形成用塗液1~4>
ポリイミド1をジクロロメタンに溶解し、固形分15.4質量%の位相差フィルム形成用塗液1を得た。
ポリイミド2をジクロロメタンに溶解し、固形分18.2質量%の位相差フィルム形成用塗液2を得た。
ポリイミド3をジクロロメタンに溶解し、固形分28.6質量%の位相差フィルム形成用塗液3を得た。
ポリイミド4をジクロロメタンに溶解し、固形分13.3質量%の位相差フィルム形成用塗液4を得た。
4. Preparation of coating liquid for forming retardation layer <Coating liquid 1 to 4 for forming retardation film>
Polyimide 1 was dissolved in dichloromethane to obtain a coating liquid 1 for forming a retardation film having a solid content of 15.4% by mass.
Polyimide 2 was dissolved in dichloromethane to obtain a coating liquid 2 for forming a retardation film having a solid content of 18.2% by mass.
Polyimide 3 was dissolved in dichloromethane to obtain a coating liquid 3 for forming a retardation film having a solid content of 28.6% by mass.
Polyimide 4 was dissolved in dichloromethane to obtain a retardation film forming coating liquid 4 having a solid content of 13.3% by mass.

5.位相差フィルムの作製
[実験例1-4]
<位相差フィルムの作製>
厚み250μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(製品名「ルミラーT60」、東レ株式会社製)上に位相差層形成用塗液1を付着させ、室温で5分放置した後、130℃で30分乾燥して塗膜を形成した(工程(1))。
次いで、PETフィルムから塗膜(位相差層)を剥離し(工程(3))、金属枠(外寸150mm×200mm、内寸130mm×180mm)を2枚使用して、剥離した塗膜を挟持し固定治具で金属枠と塗膜とを固定した。固定した塗膜を循環オーブン中で、ガラス転移温度以上の温度(280℃)で20分加熱した(工程(2))。
次いで、金属枠から塗膜(位相差層)を外し、実験例1-4の位相差フィルムを得た。位相差フィルム(位相差層)の厚みは29μmであった。
5. Production of retardation film [Experiment example 1-4]
<Production of retardation film>
Coating liquid 1 for forming a retardation layer was applied onto a 250 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (product name “Lumirror T60”, manufactured by Toray Industries, Inc.), left at room temperature for 5 minutes, and then dried at 130° C. for 30 minutes. A coating film was formed (step (1)).
Next, the coating film (retardation layer) is peeled off from the PET film (step (3)), and the peeled coating film is held between two metal frames (outer dimensions 150 mm x 200 mm, inner dimensions 130 mm x 180 mm). The metal frame and the paint film were fixed using a fixing jig. The fixed coating film was heated in a circulation oven at a temperature (280° C.) above the glass transition temperature for 20 minutes (step (2)).
Next, the coating film (retardation layer) was removed from the metal frame to obtain the retardation film of Experimental Example 1-4. The thickness of the retardation film (retardation layer) was 29 μm.

[実験例1-2~1-3、2-2~2-4、3-2~3-4、4-1~4-4]
位相差層形成用塗布液、工程(2)の加熱温度、及び位相差フィルム(位相差層)の厚みを表1の条件とした以外は、実験例1-4と同様にして、実験例1-2~1-3、2-2~2-4、3-2~3-4及び4-1~4-4の位相差フィルムを得た。
[Experimental Examples 1-2 to 1-3, 2-2 to 2-4, 3-2 to 3-4, 4-1 to 4-4]
Experimental Example 1 was carried out in the same manner as in Experimental Example 1-4, except that the coating liquid for forming a retardation layer, the heating temperature in step (2), and the thickness of the retardation film (retardation layer) were set to the conditions shown in Table 1. Retardation films of -2 to 1-3, 2-2 to 2-4, 3-2 to 3-4, and 4-1 to 4-4 were obtained.

[実験例1-1、2-1、3-1]
位相差層形成用塗布液及び位相差フィルム(位相差層)の厚みを表1の条件として、工程(2)を行わなかった以外は、実験例1-4と同様にして、実験例1-1、2-1及び3-1の位相差フィルムを得た。
[Experimental Examples 1-1, 2-1, 3-1]
Experimental Example 1-4 was carried out in the same manner as Experimental Example 1-4, except that the coating liquid for forming a retardation layer and the thickness of the retardation film (retardation layer) were as shown in Table 1, and step (2) was not performed. Retardation films 1, 2-1 and 3-1 were obtained.

表1の結果から、工程(1)及び(2)の条件を満たす実験例1-3、1-4、2-3、2-4、3-2~3-4の位相差フィルムの製造方法によれば、位相差値が十分に小さく、熱収縮を抑制し得る位相差フィルムを簡易に製造できることが確認できる。 From the results in Table 1, the method for manufacturing retardation films of Experimental Examples 1-3, 1-4, 2-3, 2-4, and 3-2 to 3-4 that satisfies the conditions of steps (1) and (2) According to the above, it can be confirmed that a retardation film having a sufficiently small retardation value and capable of suppressing thermal shrinkage can be easily produced.

Claims (8)

下記(1)~(2)の工程を有し、工程(2)の開始時の塗膜の総質量をW、工程(2)の開始時の塗膜中に含まれる残留溶剤の質量をW1とした際に、W1/Wが0.02以下である、位相差フィルムの製造方法。
(1)基材上に、ガラス転移温度234~244℃のポリイミドを溶剤に溶解した位相差層形成用塗布液を塗布、乾燥して塗膜を形成し、前記ポリイミドが、テトラカルボン酸とジアミンの反応生成物であり、前記テトラカルボン酸が、芳香族環を有するテトラカルボン酸二無水物であり、前記ジアミンが、主鎖にケイ素原子を有するジアミンである工程。
(2)塗膜をポリイミドのガラス転移温度以上の温度で加熱する工程。
It has the following steps (1) and (2), where W is the total mass of the coating film at the start of step (2), and W1 is the mass of the residual solvent contained in the coating film at the start of step (2). A method for producing a retardation film, wherein W1/W is 0.02 or less.
(1) A coating solution for forming a retardation layer in which polyimide with a glass transition temperature of 234 to 244°C is dissolved in a solvent is applied onto the base material, and dried to form a coating film. A step in which the tetracarboxylic acid is a tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring, and the diamine is a diamine having a silicon atom in its main chain .
(2) A step of heating the coating film at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of polyimide.
工程(1)で用いるポリイミドが化学イミド化したポリイミドである、請求項1に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 1, wherein the polyimide used in step (1) is a chemically imidized polyimide. さらに下記工程(3)を有する、請求項1又は2に記載の位相差フィルムの製造方法。
(3)工程(1)又は工程(2)の後に、基材から塗膜を剥離する工程。
The method for producing a retardation film according to claim 1 or 2, further comprising the following step (3).
(3) A step of peeling off the coating film from the substrate after step (1) or step (2).
位相差フィルムであって、前記位相差フィルムはポリイミドを含み、前記ポリイミドが、テトラカルボン酸とジアミンの反応生成物であり、前記テトラカルボン酸が、芳香族環を有するテトラカルボン酸二無水物であり、前記ジアミンが、主鎖にケイ素原子を有するジアミンであり、前記ポリイミドのガラス転移温度が234~244℃であり、前記位相差フィルムの波長589nmにおける面内位相差をRe(589)、前記位相差フィルムの波長589nmにおける厚み方向の位相差をRth(589)とした際に、Re(589)及びRth(589)が何れも100nm以下であり、JIS K7373:2006の黄色度を示すYIが5.0以下であり、JIS K5600-5-1:1999に規定の円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験において、位相差フィルムに割れが生じたマンドレルの直径が3mm以下である、位相差フィルム。 The retardation film includes polyimide, the polyimide is a reaction product of a tetracarboxylic acid and a diamine, and the tetracarboxylic acid is a tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring. , the diamine is a diamine having a silicon atom in the main chain , the glass transition temperature of the polyimide is 234 to 244°C, and the in-plane retardation of the retardation film at a wavelength of 589 nm is Re (589), When the retardation in the thickness direction at a wavelength of 589 nm of the retardation film is Rth (589), both Re (589) and Rth (589) are 100 nm or less, and YI exhibits the yellowness of JIS K7373:2006. is 5.0 or less, and the diameter of the mandrel in which cracks occurred in the retardation film in the bending resistance test by the cylindrical mandrel method specified in JIS K5600-5-1:1999 is 3 mm or less. . 25℃からポリイミドのガラス転移温度までの温度領域において、何れの温度で加熱しても熱収縮を生じない、請求項4に記載の位相差フィルム。 The retardation film according to claim 4, which does not cause thermal shrinkage even when heated at any temperature in the temperature range from 25° C. to the glass transition temperature of polyimide. 表示素子の光出射面側の面上に、請求項4又は5に記載の位相差フィルムが配置されてなる表示パネル。 A display panel comprising the retardation film according to claim 4 or 5 disposed on the light exit surface side of a display element. 前記表示素子が有機EL表示素子である、請求項6に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 6, wherein the display element is an organic EL display element. 請求項6又は7に記載の前記表示パネルを備えてなる、画像表示装置。 An image display device comprising the display panel according to claim 6 or 7.
JP2018179208A 2018-09-25 2018-09-25 Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film Active JP7434704B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018179208A JP7434704B2 (en) 2018-09-25 2018-09-25 Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018179208A JP7434704B2 (en) 2018-09-25 2018-09-25 Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020052138A JP2020052138A (en) 2020-04-02
JP7434704B2 true JP7434704B2 (en) 2024-02-21

Family

ID=69996859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018179208A Active JP7434704B2 (en) 2018-09-25 2018-09-25 Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7434704B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI824189B (en) * 2020-10-26 2023-12-01 南亞塑膠工業股份有限公司 Method for producing polyimide film

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008163107A (en) 2006-12-27 2008-07-17 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Optical member
JP2008297360A (en) 2007-05-29 2008-12-11 New Japan Chem Co Ltd Solvent-soluble polyimide resin
WO2016158825A1 (en) 2015-03-31 2016-10-06 旭化成株式会社 Polyimide film, polyimide varnish, product using polyimide film, and laminate
WO2017002664A1 (en) 2015-06-30 2017-01-05 Jxエネルギー株式会社 Polyimide film, organic electroluminescent element, transparent conductive laminate, touch panel, solar cell, and display device
JP2017102443A (en) 2015-11-20 2017-06-08 日東電工株式会社 Optical laminated body and organic electroluminescence display device using same
JP2018028073A (en) 2016-08-10 2018-02-22 大日本印刷株式会社 Polyimide film, laminate, and surface material for display
WO2018061350A1 (en) 2016-09-30 2018-04-05 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing optical film
WO2018062190A1 (en) 2016-09-30 2018-04-05 大日本印刷株式会社 Polyimide film, laminate, and display surface material
WO2018070146A1 (en) 2016-10-12 2018-04-19 コニカミノルタ株式会社 Production method for optical film
WO2018074020A1 (en) 2016-10-20 2018-04-26 コニカミノルタ株式会社 Optical film manufacturing method
WO2018117145A1 (en) 2016-12-22 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Polyimide film, polyimide, polyimide precursor, laminate and surface material for displays

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008163107A (en) 2006-12-27 2008-07-17 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Optical member
JP2008297360A (en) 2007-05-29 2008-12-11 New Japan Chem Co Ltd Solvent-soluble polyimide resin
WO2016158825A1 (en) 2015-03-31 2016-10-06 旭化成株式会社 Polyimide film, polyimide varnish, product using polyimide film, and laminate
WO2017002664A1 (en) 2015-06-30 2017-01-05 Jxエネルギー株式会社 Polyimide film, organic electroluminescent element, transparent conductive laminate, touch panel, solar cell, and display device
JP2017102443A (en) 2015-11-20 2017-06-08 日東電工株式会社 Optical laminated body and organic electroluminescence display device using same
JP2018028073A (en) 2016-08-10 2018-02-22 大日本印刷株式会社 Polyimide film, laminate, and surface material for display
WO2018061350A1 (en) 2016-09-30 2018-04-05 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing optical film
WO2018062190A1 (en) 2016-09-30 2018-04-05 大日本印刷株式会社 Polyimide film, laminate, and display surface material
WO2018070146A1 (en) 2016-10-12 2018-04-19 コニカミノルタ株式会社 Production method for optical film
WO2018074020A1 (en) 2016-10-20 2018-04-26 コニカミノルタ株式会社 Optical film manufacturing method
WO2018117145A1 (en) 2016-12-22 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Polyimide film, polyimide, polyimide precursor, laminate and surface material for displays

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020052138A (en) 2020-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5015953B2 (en) Multilayer films containing thermoplastic silicone block copolymers
TW201938381A (en) Optical film and image display device
TWI803457B (en) Polyimide films, polyimide film production method, and polyimide precursor resin compositions
KR20170103946A (en) Products using polyimide film, polyimide varnish, polyimide film, and laminate
JP2008163107A (en) Optical member
CN110450494B (en) Laminate and method for producing same
KR20190109481A (en) Polyimide Films and Laminates
JP6495525B1 (en) Laminated body and method for producing the same
KR20180048955A (en) Optical film, laminated film using the same, and manufacturing method of optical film
WO2007004602A1 (en) Method for producing optically functional film, optically functional film, polarizing plate, optical device and image display
JP2023133318A (en) Cover member, cover member base material film, and display device equipped with the same
CN111267433A (en) Laminate and method for producing same
TW202132100A (en) Optical layered body and display device
JP7434704B2 (en) Method for producing a retardation film, retardation film, display panel and image display device using the retardation film
JP7424454B2 (en) Retardation film, optical laminate, display panel, and image display device using the same
CN110039867B (en) Laminate and method for producing same
JP6394045B2 (en) Polyimide, laminated film, retardation film, and laminated film manufacturing method
WO2023074536A1 (en) Protective film-equipped laminate of inorganic substrate and heat-resistant polymer film
US20240027653A1 (en) Optical Multilayer Structure and Method for Manufacturing the Same
WO2021241574A1 (en) Laminate including transparent film with high heat resistance
WO2021192789A1 (en) Laminate
CN118076482A (en) Laminate with protective film-assisted release tape
CN118524933A (en) Laminate body

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20200827

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210727

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220802

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221003

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230117

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20230302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230411

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230620

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231010

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231102

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240122

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7434704

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150