JP7430999B2 - Ophthalmological device and its control method - Google Patents

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Description

この発明は、眼科装置、及びその制御方法に関する。 The present invention relates to an ophthalmological apparatus and a control method thereof.

近年、スクリーニングにおいて眼科装置を用いた眼科検査が行われる。このような眼科装置は、自己検診への応用も期待されており、より一層の小型化、軽量化が望まれる。 In recent years, ophthalmological examinations using ophthalmological equipment are performed during screening. Such an ophthalmological device is also expected to be applied to self-examination, and further miniaturization and weight reduction are desired.

例えば、特許文献1及び特許文献2には、スリット光を用いて被検眼をパターン照明し、その戻り光をCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサで検出するように構成された眼科装置が開示されている。この眼科装置は、照明パターンと、CMOSイメージセンサによる受光タイミングとを調整することにより、簡素な構成で被検眼の画像を取得することが可能である。 For example, Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose an ophthalmological apparatus configured to pattern-illuminate a subject's eye using slit light and detect the returned light with a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor. ing. This ophthalmological apparatus can acquire an image of the eye to be examined with a simple configuration by adjusting the illumination pattern and the timing of light reception by the CMOS image sensor.

このような眼科装置においても、他の眼科装置と同様に、スリット光の合焦状態が最適なときにパターン照明することで、より高い分解能の画像を取得することができる。特許文献1及び特許文献2では、被検眼からの照明光の反射光量を用いて合焦機構を駆動する手法が開示されている。 In such an ophthalmological apparatus, as in other ophthalmological apparatuses, by performing pattern illumination when the slit light is optimally focused, images with higher resolution can be obtained. Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose a method of driving a focusing mechanism using the amount of reflected illumination light from an eye to be examined.

米国特許第7831106号明細書US Patent No. 7831106 米国特許第8237835号明細書US Patent No. 8237835

しかしながら、被検眼からの照明光の反射光量は、被検眼の状態、又は照明光の照射位置に応じて変化する。従って、被検眼によっては照明光の反射光量が少なく、スリット光の焦点位置を最適な位置に移動させることが困難な場合がある。すなわち、最適な合焦状態を再現性よく実現することが難しい。 However, the amount of illumination light reflected from the eye to be examined changes depending on the condition of the eye to be examined or the irradiation position of the illumination light. Therefore, depending on the eye to be examined, the amount of reflected illumination light may be small, and it may be difficult to move the focal position of the slit light to an optimal position. That is, it is difficult to achieve an optimal focusing state with good reproducibility.

この発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定するための新たな技術を提供することにある。 This invention was made to solve these problems, and its purpose is to provide a new technique for identifying the optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration. .

いくつかの実施形態の第1態様は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼に投影する投影部と、前記被検眼からの前記パターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも前記第1方向に交差する第2方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する取得部と、前記受光像の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦状態を特定する特定部と、を含む眼科装置である。 A first aspect of some embodiments includes a projection unit that projects pattern light having a projection shape extending in at least a first direction onto the subject's eye, and based on a detection result of return light of the pattern light from the subject's eye, an acquisition unit that acquires a received light image corresponding to an aperture shape extending at least in a second direction intersecting the first direction; and a identification unit that identifies a focused state of the patterned light based on a brightness distribution of the received light image. It is an ophthalmological device including.

いくつかの実施形態の第2態様は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼に投影する投影部と、前記被検眼からの前記パターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも前記第1方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する取得部と、前記取得部により取得された1以上の受光像における前記第1方向に交差する第2方向の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦状態を特定する特定部と、を含む眼科装置である。 A second aspect of some embodiments includes a projection unit that projects pattern light in a projection shape extending in at least the first direction onto the eye to be examined, and based on a detection result of return light of the pattern light from the eye to be examined, an acquisition unit that acquires a received light image corresponding to an aperture shape extending at least in the first direction; and a brightness distribution in a second direction intersecting the first direction in one or more received light images acquired by the acquisition unit. , and a specifying unit that specifies a focused state of the patterned light.

いくつかの実施形態の第3態様では、第1態様又は第2態様において、前記特定部は、前記受光像における前記第2方向の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦制御内容を特定し、前記特定された合焦制御内容に基づいて、前記パターン光の合焦制御を行う制御部を含む。 In a third aspect of some embodiments, in the first aspect or the second aspect, the specifying unit specifies the focus control content of the patterned light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image. The image forming apparatus further includes a control section that performs focusing control of the patterned light based on the specified focusing control content.

いくつかの実施形態の第4態様では、第3態様において、前記制御部は、明部又は暗部が所定の位置に移動するように前記合焦制御を行う。 In a fourth aspect of some embodiments, in the third aspect, the control unit performs the focusing control so that the bright part or the dark part moves to a predetermined position.

いくつかの実施形態の第5態様は、第3態様又は第4態様において、前記パターン光及び前記戻り光の光路に配置された合焦機構を含み、前記制御部は、前記特定された合焦制御内容に基づいて前記合焦機構を制御する。 A fifth aspect of some embodiments, in the third aspect or fourth aspect, includes a focusing mechanism disposed in the optical path of the patterned light and the return light, and the control unit is configured to control the identified focusing mechanism. The focusing mechanism is controlled based on the control content.

いくつかの実施形態の第6態様では、第1態様~第5態様のいずれかにおいて、前記投影部は、前記投影形状を変更可能なパターン光を出力するプロジェクタを含む。 In a sixth aspect of some embodiments, in any of the first to fifth aspects, the projection unit includes a projector that outputs patterned light whose projection shape can be changed.

いくつかの実施形態の第7態様では、第6態様において、前記投影部は、前記合焦状態を特定するための第1投影形状のパターン光を出力し、前記パターン光の合焦制御後に、前記第1投影形状と異なる第2投影形状のパターン光を出力し、前記取得部は、前記第2投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて受光像を取得する。 In a seventh aspect of some embodiments, in the sixth aspect, the projection unit outputs patterned light having a first projection shape for specifying the focused state, and after controlling the focusing of the patterned light, A pattern light having a second projection shape different from the first projection shape is output, and the acquisition unit acquires a received light image based on a detection result of the return light of the pattern light having the second projection shape.

いくつかの実施形態の第8態様では、第1態様~第7態様のいずれかにおいて、前記取得部は、前記戻り光を検出するイメージセンサを含み、ローリングシャッター方式により前記受光像を取得する。 In an eighth aspect of some embodiments, in any of the first to seventh aspects, the acquisition unit includes an image sensor that detects the returned light, and acquires the received light image using a rolling shutter method.

いくつかの実施形態の第9態様は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼に投影する投影ステップと、前記被検眼からの前記パターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも前記第1方向に交差する第2方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する取得ステップと、前記受光像の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦状態を特定する特定ステップと、を含む眼科装置の制御方法である。 A ninth aspect of some embodiments includes a projection step of projecting pattern light having a projection shape extending in at least a first direction onto the subject's eye, and based on the detection result of the return light of the pattern light from the subject's eye, an acquisition step of acquiring a received light image corresponding to an aperture shape extending at least in a second direction intersecting the first direction; and a specifying step of identifying a focused state of the patterned light based on a brightness distribution of the received light image. A method of controlling an ophthalmological apparatus includes the following steps.

いくつかの実施形態の第10態様は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼に投影する投影ステップと、前記被検眼からの前記パターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも前記第1方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する取得ステップと、前記取得ステップにおいて取得された1以上の受光像における前記第1方向に交差する第2方向の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦状態を特定する特定ステップと、を含む眼科装置の制御方法である。 A tenth aspect of some embodiments is based on a projection step of projecting pattern light having a projection shape extending in at least a first direction onto the subject's eye, and a detection result of the return light of the pattern light from the subject's eye. an acquisition step of acquiring a received light image corresponding to an aperture shape extending at least in the first direction; and a brightness distribution in a second direction intersecting the first direction in one or more received light images acquired in the acquisition step. , a specifying step of specifying a focused state of the patterned light.

いくつかの実施形態の第11態様では、第9態様又は第10態様において、前記特定ステップは、前記受光像における前記第2方向の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦制御内容を特定し、前記特定された合焦制御内容に基づいて、前記パターン光の合焦制御を行う制御ステップを含む。 In an eleventh aspect of some embodiments, in the ninth aspect or the tenth aspect, the identifying step specifies the focus control content of the patterned light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image. The method further includes a control step of performing focusing control of the patterned light based on the specified focusing control content.

いくつかの実施形態の第12態様では、第9態様~第11態様のいずれかにおいて、前記投影ステップは、前記合焦状態を特定するための第1投影形状のパターン光を出力する第1投影ステップと、前記パターン光の合焦制御後に、前記第1投影形状と異なる第2投影形状のパターン光を出力する第2投影ステップと、を含み、前記取得ステップは、前記第1投影ステップにおいて投影された前記第1投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて前記開口形状に対応した受光像を取得する第1取得ステップと、前記第2投影ステップにおいて投影された前記第2投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて受光像を取得する第2取得ステップと、を含む。 In a twelfth aspect of some embodiments, in any of the ninth to eleventh aspects, the projecting step includes a first projection that outputs patterned light having a first projection shape for specifying the focused state. and a second projection step of outputting pattern light of a second projection shape different from the first projection shape after focusing control of the pattern light, and the acquisition step includes the step of outputting the pattern light of a second projection shape different from the first projection shape, a first acquisition step of acquiring a received light image corresponding to the aperture shape based on a detection result of the returned light of the pattern light of the first projection shape; and a second projection shape projected in the second projection step. and a second acquisition step of acquiring a received light image based on the detection result of the returned light of the pattern light.

いくつかの実施形態の第13態様では、第9態様~第12態様のいずれかにおいて、前記取得ステップは、前記戻り光の検出結果に基づいてローリングシャッター方式により前記受光像を取得する。 In a thirteenth aspect of some embodiments, in any of the ninth to twelfth aspects, the acquiring step acquires the received light image by a rolling shutter method based on the detection result of the returned light.

なお、上記した複数の態様に係る構成を任意に組み合わせることが可能である。 Note that it is possible to arbitrarily combine the configurations according to the plurality of aspects described above.

この発明によれば、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定するための新たな技術を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a new technique for specifying an optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration.

実施形態に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of an ophthalmologic apparatus according to an embodiment. 実施形態に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of an ophthalmologic apparatus according to an embodiment. 実施形態に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of an ophthalmologic apparatus according to an embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作例のフロー図である。It is a flow diagram of an example of operation of an ophthalmological device concerning an embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing an example of composition of an ophthalmologic device concerning a modification of an embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の動作説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の動作例のフロー図である。It is a flowchart of the example of operation of the ophthalmologic apparatus concerning the modification of an embodiment.

この発明に係る眼科装置、及びその制御方法の実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書に記載された文献の記載内容を、以下の実施形態の内容として適宜援用することが可能である。 An example of an embodiment of an ophthalmologic apparatus and a control method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the contents of the documents described in this specification can be appropriately cited as the contents of the following embodiments.

実施形態に係る眼科装置は、被検眼にパターン光を投影する投影系と、被検眼からのパターン光の戻り光を受光する受光系とを含み、受光系により得られた戻り光の受光結果に基づいて被検眼の眼底の画像を取得することが可能である。いくつかの実施形態では、眼科装置は、上記と同様の構成を用いて、被検眼の前眼部の画像を取得する。 The ophthalmological apparatus according to the embodiment includes a projection system that projects pattern light onto the eye to be examined, and a light receiving system that receives the return light of the pattern light from the eye to be examined, and the ophthalmological apparatus includes It is possible to obtain an image of the fundus of the eye to be examined based on the following. In some embodiments, the ophthalmological device uses a configuration similar to that described above to obtain images of the anterior segment of the subject's eye.

例えば、投影系は、少なくとも第1方向に延びるスリット状(ライン状)のパターン光を被検眼に投影する。眼科装置は、受光系により得られた戻り光の受光結果から、少なくとも第2方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得し、受光像における第2方向の輝度分布に基づいてパターン光の合焦状態を特定する。ここで、第2方向は、第1方向に交差する方向である。いくつかの実施形態では、第2方向は、第1方向に直交する方向と異なる。 For example, the projection system projects a slit-shaped (line-shaped) pattern of light extending in at least the first direction onto the subject's eye. The ophthalmological apparatus acquires a received light image corresponding to the aperture shape extending in at least the second direction from the result of receiving the returned light obtained by the light receiving system, and combines the patterned light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image. Identify the state of focus. Here, the second direction is a direction intersecting the first direction. In some embodiments, the second direction is different from a direction perpendicular to the first direction.

なお、この明細書において、パターン光の「方向」、開口形状又は受光像の「方向」、及び開口方向のそれぞれは、絶対座標系における各位置での方向を意味するものではなく、所定の光学面(例えば、受光系における受光面)上の方向を意味するものとする。 In this specification, the "direction" of the pattern light, the "direction" of the aperture shape or the received light image, and the aperture direction do not mean the direction at each position in the absolute coordinate system, but rather It means a direction on a surface (for example, a light receiving surface in a light receiving system).

[光学系の構成]
図1~図3に、実施形態に係る眼科装置の構成例のブロック図を示す。図1及び図2は、実施形態に係る眼科装置1の光学系の構成例のブロック図を表す。図3は、眼科装置1の制御系の構成例のブロック図を表す。図1~図3において、同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。
[Optical system configuration]
FIGS. 1 to 3 show block diagrams of exemplary configurations of ophthalmological apparatuses according to embodiments. FIGS. 1 and 2 are block diagrams of exemplary configurations of the optical system of the ophthalmologic apparatus 1 according to the embodiment. FIG. 3 shows a block diagram of a configuration example of a control system of the ophthalmologic apparatus 1. As shown in FIG. In FIGS. 1 to 3, similar parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.

眼科装置1は、被検眼Eにパターン光を投影し、その戻り光を受光することによりパターン光の合焦状態を特定し、特定された合焦状態に基づいて合焦制御を行う。眼科装置1は、合焦制御後において、再び被検眼Eにパターン光を投影し、その戻り光を受光することにより被検眼Eの画像(眼底)の画像を取得することが可能である。 The ophthalmological apparatus 1 projects pattern light onto the eye E, receives the returned light, specifies the focused state of the pattern light, and performs focusing control based on the specified focused state. After the focus control, the ophthalmological apparatus 1 can obtain an image of the eye (fundus) of the eye E by projecting the pattern light onto the eye E again and receiving the returned light.

眼科装置1は、投影系10と、受光系20と、画像処理部30と、画像出力部40とを含む。 The ophthalmological apparatus 1 includes a projection system 10, a light receiving system 20, an image processing section 30, and an image output section 40.

眼科装置1は、合焦制御を行う合焦制御モードと撮影を行う撮影モードにおいて、パターン光を被検眼Eに投影し、各モードにおいて受光像を取得する。 The ophthalmologic apparatus 1 projects pattern light onto the eye E in a focus control mode for performing focus control and a photography mode for photographing, and acquires a received light image in each mode.

[合焦制御モード]
投影系10は、少なくとも開口方向(開口方向に対応した方向)と交差する方向(以下、開口交差方向と表記する場合がある)に延びる投影形状を有する合焦制御用のパターン光を被検眼Eに投影する。受光系20は、投影系10により被検眼Eに投影されたパターン光の戻り光を受光する。画像処理部30は、受光系20による戻り光の受光結果から、少なくとも開口方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する。画像処理部30は、受光像における開口交差方向の輝度分布に基づいてパターン光の合焦状態(合焦しているか否か)を特定する。画像処理部30は、輝度分布に基づいて後述の合焦機構に対する制御内容を特定することが可能である。後述の制御部は、画像処理部30により特定された制御内容に従って合焦制御を行う(すなわち、後述の合焦機構を制御する)。
[Focus control mode]
The projection system 10 emits pattern light for focusing control, which has a projected shape extending at least in a direction (hereinafter referred to as an aperture crossing direction) intersecting the aperture direction (a direction corresponding to the aperture direction), to the subject's eye E. to project. The light receiving system 20 receives the returned light of the pattern light projected onto the eye E by the projection system 10. The image processing unit 30 acquires a received light image corresponding to the shape of the aperture extending at least in the aperture direction from the result of receiving the returned light by the light receiving system 20. The image processing unit 30 identifies the focused state (whether or not it is focused) of the pattern light based on the luminance distribution in the direction across the aperture in the received light image. The image processing unit 30 can specify control details for a focusing mechanism, which will be described later, based on the brightness distribution. A control unit, which will be described later, performs focusing control according to control details specified by the image processing unit 30 (that is, controls a focusing mechanism, which will be described later).

[撮影モード]
投影系10は、合焦制御後に、開口方向に延びる投影形状(例えば、スリット状、ライン状)を有する撮影用のパターン光を、開口方向に直交する方向に順次に被検眼Eに投影する。いくつかの実施形態では、合焦制御モードにおける投影形状と撮影モードにおける投影形状とは、互いに異なる。受光系20は、投影系10により被検眼Eに投影されたパターン光の戻り光を受光する。画像処理部30は、受光系20による戻り光の受光結果から、開口形状を開口方向に直交する方向(又は開口交差方向)にシフトしつつ開口形状に対応した受光像を順次に取得することで、被検眼Eの眼底の画像を取得する。
[Shooting mode]
After focusing control, the projection system 10 sequentially projects pattern light for imaging having a projection shape (for example, slit shape, line shape) extending in the aperture direction onto the eye E in a direction orthogonal to the aperture direction. In some embodiments, the projection shape in the focus control mode and the projection shape in the imaging mode are different from each other. The light receiving system 20 receives the returned light of the pattern light projected onto the eye E by the projection system 10. The image processing unit 30 sequentially acquires received light images corresponding to the aperture shape while shifting the aperture shape in a direction perpendicular to the aperture direction (or an aperture cross direction) from the result of the return light received by the light receiving system 20. , an image of the fundus of the eye E to be examined is acquired.

(投影系10)
投影系10は、パターン光発生部11と、平滑化部12と、光学系13とを含む。
(Projection system 10)
Projection system 10 includes a pattern light generating section 11, a smoothing section 12, and an optical system 13.

(パターン光発生部11)
パターン光発生部11は、後述の制御部から制御を受け、少なくとも開口交差方向に延びる投影形状のパターン光を発生する。パターン光発生部11は、2以上の投影形状のパターン光を選択的に発生し、被検眼E(眼底)における2以上の投影領域にパターン光を選択的に投影することが可能である。
(Pattern light generating section 11)
The pattern light generating section 11 is controlled by a control section, which will be described later, and generates pattern light in a projected shape extending at least in the direction crossing the aperture. The pattern light generating section 11 can selectively generate pattern light having two or more projection shapes, and can selectively project the pattern light onto two or more projection areas in the eye E (fundus).

図2に示すように、パターン光発生部11は、光源11Aと、光学系11Bと、空間光変調器11Cとを含む。このような構成を有するパターン光発生部11の例として、プロジェクタがある。すなわち、パターン光発生部11は、プロジェクタのタイプに対応した光源11A、光学系11B、及び空間光変調器11Cを含む。光源11Aは、被検眼Eの撮影部位(例えば、眼底、前眼部)と光学的に略共役な位置に配置可能である。 As shown in FIG. 2, the pattern light generator 11 includes a light source 11A, an optical system 11B, and a spatial light modulator 11C. A projector is an example of the pattern light generating section 11 having such a configuration. That is, the pattern light generating section 11 includes a light source 11A, an optical system 11B, and a spatial light modulator 11C that correspond to the type of projector. The light source 11A can be placed at a position that is optically substantially conjugate with the imaging site of the eye E (for example, the fundus of the eye, the anterior segment of the eye).

いくつかの実施形態では、光源11Aは、赤外領域又は近赤外領域の光、可視領域の光を切り替えて出力可能な光源である。例えば、光源11Aは、合焦制御モードにおいて合焦制御用のパターン光(合焦インジケータ)を出力するとき赤外領域又は近赤外領域の光を出力し、撮影モードにおいて所望の撮影部位の撮影のとき可視領域の光を出力する。 In some embodiments, the light source 11A is a light source that can switch and output light in the infrared region or near-infrared region, and light in the visible region. For example, the light source 11A outputs light in the infrared region or near-infrared region when outputting a pattern light for focusing control (focus indicator) in the focus control mode, and in the imaging mode, the light source 11A outputs light in the infrared region or near-infrared region. When , it outputs light in the visible range.

いくつかの実施形態では、パターン光発生部11は、デジタルマイクロミラーデバイスを用いたDLP(Digital Light Processing(登録商標))方式のプロジェクタの機能を有する。この場合、第1構成例では、赤外領域又は近赤外領域の光に対して単一のデジタルマイクロミラーデバイスが用いられる。第2構成例では、白色光源からの光に対してRGBの色成分に共通のデジタルマイクロミラーデバイスが用いられる。第3構成例では、白色光源からの光に対してRGBの色成分毎にデジタルマイクロミラーデバイスが用いられる。 In some embodiments, the pattern light generator 11 has the function of a DLP (Digital Light Processing (registered trademark)) projector using a digital micromirror device. In this case, in the first configuration example, a single digital micromirror device is used for light in the infrared region or near-infrared region. In the second configuration example, a digital micromirror device common to RGB color components is used for light from a white light source. In the third configuration example, a digital micromirror device is used for each RGB color component for light from a white light source.

第1構成例では、光源11Aは、例えば、赤外領域又は近赤外領域の光を発光するLED(Light Emitting Diode)光源を含む。また、光学系11Bは、リレー光学系と、光学レンズとを含む。また、空間光変調器11Cは、複数のミラー素子が2次元に配列されたデジタルマイクロミラーデバイスを含む。複数のミラー素子のそれぞれは、独立に制御可能である。なお、空間光変調器11Cは、デジタルマイクロミラーデバイスにより空間的に変調された光を投影するための投影レンズを含むことができる。 In the first configuration example, the light source 11A includes, for example, an LED (Light Emitting Diode) light source that emits light in an infrared region or a near-infrared region. Further, the optical system 11B includes a relay optical system and an optical lens. Moreover, the spatial light modulator 11C includes a digital micromirror device in which a plurality of mirror elements are two-dimensionally arranged. Each of the plurality of mirror elements is independently controllable. Note that the spatial light modulator 11C can include a projection lens for projecting light spatially modulated by the digital micromirror device.

第2構成例では、光源11Aは、白色光源又はRGBの各色成分の光を出力可能な光源を含む。また、光学系11Bは、光源11Aからの光から時分割でRGBの各色成分の光を出力するためのカラーホイールと、リレー光学系と、光学レンズとを含む。また、空間光変調器11Cは、複数のミラー素子が2次元に配列されたデジタルマイクロミラーデバイスを含む。なお、空間光変調器11Cは、デジタルマイクロミラーデバイスにより空間的に変調された光を投影するための投影レンズを含むことができる。 In the second configuration example, the light source 11A includes a white light source or a light source capable of outputting light of each color component of RGB. Further, the optical system 11B includes a color wheel, a relay optical system, and an optical lens for time-divisionally outputting light of each color component of RGB from the light from the light source 11A. Moreover, the spatial light modulator 11C includes a digital micromirror device in which a plurality of mirror elements are two-dimensionally arranged. Note that the spatial light modulator 11C can include a projection lens for projecting light spatially modulated by the digital micromirror device.

第3構成例では、光源11Aは、白色光源又はRGBの各色成分の光を出力可能な光源を含む。また、光学系11Bは、リレー光学系と、光学レンズとを含む。また、空間光変調器11Cは、RGBの色成分毎に設けられた複数のデジタルマイクロミラーデバイスを含む。なお、空間光変調器11Cは、デジタルマイクロミラーデバイスにより空間的に変調された光を投影するための投影レンズを含むことができる。 In the third configuration example, the light source 11A includes a white light source or a light source capable of outputting light of each RGB color component. Further, the optical system 11B includes a relay optical system and an optical lens. Moreover, the spatial light modulator 11C includes a plurality of digital micromirror devices provided for each RGB color component. Note that the spatial light modulator 11C can include a projection lens for projecting light spatially modulated by the digital micromirror device.

いくつかの実施形態では、パターン光発生部11は、LCoS(Liquid Crystal on Silicon)を用いた反射型液晶方式のプロジェクタの機能を有する。この場合、光源11Aは、白色光源を含む。また、光学系11Bは、1以上の反射ミラーと、1以上のダイクロイックミラーと、1以上の偏光ビームスプリッタとを含む。また、空間光変調器11Cは、RGBの色成分毎に反射型の液晶パネルと、色成分毎に空間的に変調された光を合成するためのクロスダイクロイックプリズムと、合成された光を投影するための投影レンズとを含む。 In some embodiments, the pattern light generator 11 has the function of a reflective liquid crystal projector using LCoS (Liquid Crystal on Silicon). In this case, the light source 11A includes a white light source. Further, the optical system 11B includes one or more reflective mirrors, one or more dichroic mirrors, and one or more polarizing beam splitters. In addition, the spatial light modulator 11C includes a reflective liquid crystal panel for each RGB color component, a cross dichroic prism for combining spatially modulated light for each color component, and a projector for projecting the combined light. and a projection lens for.

いくつかの実施形態では、パターン光発生部11は、透過型液晶方式のプロジェクタの機能を有する。この場合、光源11Aは、白色光源を含む。また、光学系11Bは、1以上の反射ミラーと、1以上のダイクロイックミラーとを含む。また、空間光変調器11Cは、RGBの色成分毎に透過型の液晶パネルと、色成分毎に空間的に変調された光を合成するためのクロスダイクロイックプリズムと、合成された光を投影するための投影レンズとを含む。 In some embodiments, the pattern light generator 11 has the function of a transmissive liquid crystal projector. In this case, the light source 11A includes a white light source. Further, the optical system 11B includes one or more reflective mirrors and one or more dichroic mirrors. In addition, the spatial light modulator 11C includes a transmissive liquid crystal panel for each RGB color component, a cross dichroic prism for combining spatially modulated light for each color component, and a cross dichroic prism for projecting the combined light. and a projection lens for.

いくつかの実施形態では、パターン光発生部11は、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)を用いた公知のプロジェクタの機能を有する。 In some embodiments, the pattern light generator 11 has the function of a known projector using MEMS (Micro Electro Mechanical Systems).

以上のようなプロジェクタは、ピクセル化されたパターン光発生器としての機能を実現する。なお、上記のようなプロジェクタの構成は公知であるため、詳細な説明を省略する。パターン光発生部11は、形状や投影位置を任意に変更可能な照明パターンに対応したパターン光(照明光)を出力可能なものである。 The projector as described above functions as a pixelated pattern light generator. Note that since the configuration of the projector as described above is well known, detailed explanation will be omitted. The pattern light generator 11 is capable of outputting pattern light (illumination light) corresponding to an illumination pattern whose shape and projection position can be arbitrarily changed.

パターン光発生部11は、後述の制御部から制御を受け、任意の投影形状のパターン光を発生する。投影形状は、例えば、後述の操作部を用いてユーザが設定可能である。ユーザが操作部を用いて、形状パターン、外形、サイズなどを指定すると、制御部は、指定された形状パターンなどに基づいて照明パターンを特定し、特定された照明パターンに基づいて空間光変調器11Cを制御することが可能である。 The pattern light generating section 11 is controlled by a control section, which will be described later, and generates pattern light having an arbitrary projection shape. The projection shape can be set by the user using, for example, an operation unit described below. When the user uses the operation unit to specify a shape pattern, external shape, size, etc., the control unit specifies an illumination pattern based on the specified shape pattern, etc., and adjusts the spatial light modulator based on the specified illumination pattern. 11C.

(平滑化部12)
平滑化部12は、光量分布が少なくとも開口方向に拡散される(光量分布が少なくとも開口方向に広がる)ように、パターン光発生部11により発生されたパターン光(パターン光の光量分布)を平滑化する。すなわち、平滑化部12は、開口方向の拡散特性と開口交差方向の拡散特性とが異なるようにパターン光を平滑化する。具体的には、パターン光の開口方向成分について所定の入射角θ0に対する透過光の透過角θ1が、パターン光の開口交差方向成分について所定の入射角θ0に対する透過光の透過角θ2より大きい。
(Smoothing unit 12)
The smoothing unit 12 smoothes the pattern light (light intensity distribution of the pattern light) generated by the pattern light generating unit 11 so that the light intensity distribution is diffused at least in the aperture direction (the light intensity distribution spreads at least in the aperture direction). do. That is, the smoothing unit 12 smoothes the pattern light so that the diffusion characteristics in the aperture direction and the diffusion characteristics in the cross-aperture direction are different. Specifically, the transmission angle θ1 of the transmitted light with respect to the predetermined incident angle θ0 for the aperture direction component of the pattern light is larger than the transmission angle θ2 of the transmitted light with respect to the predetermined incidence angle θ0 of the aperture cross direction component of the pattern light.

平滑化部12は、被検眼Eの撮影部位(例えば、眼底、前眼部)と光学的に略共役な位置に配置可能である。 The smoothing unit 12 can be placed at a position that is optically approximately conjugate with the imaged region of the eye E to be examined (for example, the fundus of the eye, the anterior segment of the eye).

いくつかの実施形態では、平滑化部12は、拡散フィルタ(光学的ローパスフィルタ)を含む。いくつかの実施形態では、平滑化部12は、複屈折率を有する複屈折板を含む。 In some embodiments, the smoothing unit 12 includes a diffusion filter (optical low-pass filter). In some embodiments, the smoothing section 12 includes a birefringent plate having a birefringent index.

(光学系13)
光学系13は、平滑化部12により平滑化されたパターン光をリレーするためのリレー光学系を含む。いくつかの実施形態では、光学系13は、更に、コリメートレンズと、光スキャナとを含む。この場合、光スキャナは、後述の制御部から制御を受け、パターン光を偏向することが可能である。
(Optical system 13)
The optical system 13 includes a relay optical system for relaying the pattern light smoothed by the smoothing section 12. In some embodiments, optical system 13 further includes a collimating lens and an optical scanner. In this case, the optical scanner can deflect the pattern light under control from a control section, which will be described later.

光学系13を経由したパターン光は、光合波分波器50によって反射され、光学系51に導かれる。 The pattern light that has passed through the optical system 13 is reflected by the optical multiplexer/demultiplexer 50 and guided to the optical system 51.

(光合波分波器50)
光合波分波器50は、投影系10からの光を光学系51に導くと共に、光学系51からの光を受光系20に導く。このような光合波分波器50の機能は、ビームスプリッタ、又はダイクロイックミラーにより実現可能である。
(Optical multiplexer/demultiplexer 50)
The optical multiplexer/demultiplexer 50 guides the light from the projection system 10 to the optical system 51 and guides the light from the optical system 51 to the light receiving system 20 . Such a function of the optical multiplexer/demultiplexer 50 can be realized by a beam splitter or a dichroic mirror.

(光学系51)
光学系51は、光合波分波器50と被検眼Eとの間に配置される。光学系51は、合焦機構52を含む。いくつかの実施形態では、光学系51は、更に、合焦機構52と被検眼Eとの間に配置される対物レンズを含む。いくつかの実施形態では、光学系51は、パターン光の焦点位置を前眼部の近傍に移動するための前置レンズを含む。この場合、前置レンズは、パターン光の光路に対して挿脱可能に設けられる。
(Optical system 51)
The optical system 51 is arranged between the optical multiplexer/demultiplexer 50 and the eye E to be examined. Optical system 51 includes a focusing mechanism 52. In some embodiments, the optical system 51 further includes an objective lens disposed between the focusing mechanism 52 and the eye E to be examined. In some embodiments, optical system 51 includes an anterior lens for moving the focal position of the patterned light closer to the anterior segment of the eye. In this case, the front lens is provided so that it can be inserted into and removed from the optical path of the pattern light.

合焦機構52の例として、光軸方向(パターン光の光路の方向)に沿って移動可能な合焦レンズ、屈折率を変更可能な液体レンズ、屈折率を変更可能な液晶レンズ、光軸方向に沿って移動可能な対物レンズがある。 Examples of the focusing mechanism 52 include a focusing lens movable along the optical axis direction (the direction of the optical path of patterned light), a liquid lens whose refractive index can be changed, a liquid crystal lens whose refractive index can be changed, and an optical axis direction. There is an objective lens that can be moved along.

合焦レンズ又は対物レンズは、自動又は手動で光軸方向に移動可能である。例えば、眼科装置1は、合焦レンズ及び対物レンズの少なくとも一方を光軸方向に移動する移動機構を含み、制御部が移動機構を制御することにより合焦レンズ及び対物レンズの少なくとも一方を光軸方向に移動することで合焦制御を行うことができる。また、例えば、ユーザが移動機構を操作することにより合焦レンズ及び対物レンズの少なくとも一方を光軸方向に移動することで、手動で合焦状態を調整することができる。 The focusing lens or objective lens can be moved in the optical axis direction automatically or manually. For example, the ophthalmological apparatus 1 includes a moving mechanism that moves at least one of the focusing lens and the objective lens in the optical axis direction, and the control unit controls the moving mechanism to move at least one of the focusing lens and the objective lens along the optical axis. Focusing can be controlled by moving in the direction. Further, for example, the user can manually adjust the focusing state by moving at least one of the focusing lens and the objective lens in the optical axis direction by operating the moving mechanism.

また、制御部は、液体レンズ又は液晶レンズを制御することにより屈折率を変更することで合焦制御を行うことができる。 Further, the control unit can perform focus control by changing the refractive index by controlling the liquid lens or liquid crystal lens.

光合波分波器50により反射された投影系10からのパターン光は、光学系51を経由して被検眼Eに投影される。被検眼Eからのパターン光の戻り光は、光学系51を経由し、光合波分波器50により反射されて受光系20に導かれる。 The pattern light from the projection system 10 reflected by the optical multiplexer/demultiplexer 50 is projected onto the eye E via the optical system 51. The return light of the pattern light from the eye E to be examined passes through the optical system 51, is reflected by the optical multiplexer/demultiplexer 50, and is guided to the light receiving system 20.

(受光系20)
受光系20は、光学系21と、イメージセンサ22とを含む。
(Light receiving system 20)
The light receiving system 20 includes an optical system 21 and an image sensor 22.

(光学系21)
光学系21には、光合波分波器50によって反射された被検眼からのパターン光の戻り光が入射する。光学系21は、戻り光をイメージセンサ22の検出面に結像させる結像レンズを含む。いくつかの実施形態では、光学系21は、更に、戻り光をリレーするためのリレー光学系を含む。
(Optical system 21)
The return light of the pattern light from the eye to be examined reflected by the optical multiplexer/demultiplexer 50 is incident on the optical system 21 . The optical system 21 includes an imaging lens that forms an image of the returned light on the detection surface of the image sensor 22. In some embodiments, optical system 21 further includes a relay optical system for relaying the return light.

(イメージセンサ22)
イメージセンサ22は、ピクセル化された受光器としての機能を実現する。この実施形態では、イメージセンサ22は、CMOSイメージセンサを含む。すなわち、イメージセンサ22は、2次元的に配列された複数のフォトダイオードと、複数の垂直信号線と、水平信号線とを含む。複数の垂直信号線は、垂直方向のフォトダイオード群毎に設けられる。各垂直信号線は、受光結果に対応した電荷が蓄積されたフォトダイオード群と選択的に電気的に接続される。水平信号線は、複数の垂直信号線と選択的に電気的に接続される。これにより、ピクセル毎に設けられたフォトダイオードは、戻り光の受光結果に対応した電荷を蓄積し、蓄積された電荷は、例えば水平方向のフォトダイオード群毎に順次読み出される。すなわち、水平方向のライン毎に、各フォトダイオードに蓄積された電荷に対応した電圧が垂直信号線に供給される。複数の垂直信号線は、選択的に水平信号線と電気的に接続される。垂直方向に順次に上記の水平方向のライン毎の読み出し動作を行うことで、2次元的に配列された複数のフォトダイオードの受光結果を読み出す。
(Image sensor 22)
The image sensor 22 functions as a pixelated light receiver. In this embodiment, image sensor 22 includes a CMOS image sensor. That is, the image sensor 22 includes a plurality of two-dimensionally arranged photodiodes, a plurality of vertical signal lines, and a horizontal signal line. A plurality of vertical signal lines are provided for each vertical photodiode group. Each vertical signal line is selectively electrically connected to a group of photodiodes in which charges corresponding to light reception results are accumulated. The horizontal signal line is selectively electrically connected to the plurality of vertical signal lines. Thereby, the photodiode provided for each pixel accumulates charges corresponding to the result of receiving the returned light, and the accumulated charges are sequentially read out for each photodiode group in the horizontal direction, for example. That is, a voltage corresponding to the charge accumulated in each photodiode is supplied to the vertical signal line for each horizontal line. The plurality of vertical signal lines are selectively electrically connected to the horizontal signal line. By sequentially performing the readout operation for each horizontal line in the vertical direction, the light reception results of the plurality of two-dimensionally arranged photodiodes are read out.

イメージセンサ22の検出面は、被検眼Eの撮影部位(例えば、眼底、前眼部)と光学的に略共役な位置に配置可能である。すなわち、イメージセンサ22の検出面は、光源11Aと光学的に略共役な位置に配置可能である。 The detection surface of the image sensor 22 can be placed at a position that is optically substantially conjugate with the imaging site of the eye E to be examined (for example, the fundus of the eye, the anterior segment of the eye). That is, the detection surface of the image sensor 22 can be placed at a position that is optically substantially conjugate with the light source 11A.

このようなイメージセンサ22に対する読み出し制御は、後述の制御部からの制御を受け実行することができる。 Such readout control for the image sensor 22 can be executed under control from a control section, which will be described later.

また、制御部は、イメージセンサ22に対して、いわゆるローリングシャッター方式で戻り光の受光結果を読み出すことができる。それにより、所望の開口形状に対応した読み出し制御を行うことで、当該開口形状に対応した受光像が取得される。このような制御については、例えば、米国特許第8237835号明細書等に開示されている。 Further, the control unit can read the result of receiving the returned light from the image sensor 22 using a so-called rolling shutter method. Thereby, by performing readout control corresponding to the desired aperture shape, a received light image corresponding to the aperture shape is acquired. Such control is disclosed in, for example, US Pat. No. 8,237,835.

更に、制御部は、パターン光発生部11を制御することにより、少なくとも開口方向に延びるスリット状(ライン状)のパターン光を、開口方向に直交する方向に順次に発生させることができる。制御部は、米国特許第8237835号明細書等に開示されているように、パターン光発生部11によるパターン光の発生タイミングと、ローリングシャッター方式でのイメージセンサ22からの戻り光の受光結果の読み取りタイミングとを同期させる。それにより、簡素な構成で、被検眼の画像を取得することが可能である。 Further, by controlling the pattern light generating section 11, the control section can sequentially generate slit-shaped (line-shaped) pattern light extending at least in the aperture direction in a direction perpendicular to the aperture direction. As disclosed in U.S. Pat. No. 8,237,835, etc., the control section reads the timing of pattern light generation by the pattern light generation section 11 and the reception result of the return light from the image sensor 22 in a rolling shutter method. Synchronize the timing. Thereby, it is possible to obtain an image of the eye to be examined with a simple configuration.

(画像処理部30)
画像処理部30は、イメージセンサ22により得られた受光像に対して、各種の画像処理や解析処理を施す。画像処理には、受光像に対するノイズ除去処理、受光像に描出された所定の部位を識別しやすくするための輝度補正処理がある。解析処理には、後述の合焦状態の特定処理、後述の合焦制御を行うための制御内容の特定処理がある。
(Image processing unit 30)
The image processing unit 30 performs various image processing and analysis processing on the received light image obtained by the image sensor 22. Image processing includes noise removal processing for the received light image and brightness correction processing for making it easier to identify a predetermined region depicted in the received light image. The analysis processing includes processing for specifying a focus state, which will be described later, and processing for specifying control contents for performing focus control, which will be described later.

画像処理部30は、制御部からの制御を受けてローリングシャッター方式によりイメージセンサ22から読み出された受光結果に基づいて、任意の開口形状に対応した受光像を取得することが可能である。画像処理部30は、合焦制御用の投影形状(第1投影形状)のパターン光に対応した開口形状の受光像を取得すると共に、撮影用の投影形状(第2投影形状)のパターン光に対応した開口形状の受光像を取得する。これにより、画像処理部30は、合焦制御のために開口形状に対応した受光像を取得し、合焦制御後に(合焦制御時に開口形状と同一又は異なる)開口形状に対応した受光像をすることができる。 The image processing section 30 is capable of acquiring a received light image corresponding to an arbitrary aperture shape based on the received light results read out from the image sensor 22 using a rolling shutter method under the control of the control section. The image processing unit 30 acquires a light-receiving image of an aperture shape corresponding to the pattern light of the projection shape (first projection shape) for focusing control, and also acquires the light reception image of the aperture shape corresponding to the pattern light of the projection shape (second projection shape) for photographing. Obtain a light-receiving image of the corresponding aperture shape. As a result, the image processing unit 30 acquires a received light image corresponding to the aperture shape for focus control, and after the focus control acquires a received light image corresponding to the aperture shape (same or different from the aperture shape during focus control). can do.

いくつかの実施形態では、光学系21は、結像レンズとイメージセンサ22との間に配置される開口絞りを含む。この場合、イメージセンサ22の検出面には、開口絞りを通過した戻り光が結像される。従って、画像処理部30は、制御部からの制御を受けてグローバルシャッター方式によりイメージセンサ22から読み出された受光結果に基づいて、上記の開口絞りの開口形状に対応した受光像を取得することが可能である。 In some embodiments, optical system 21 includes an aperture stop located between the imaging lens and image sensor 22. In this case, the returned light that has passed through the aperture stop is imaged on the detection surface of the image sensor 22. Therefore, the image processing section 30 acquires a received light image corresponding to the aperture shape of the aperture diaphragm, based on the received light results read out from the image sensor 22 using the global shutter method under the control of the control section. is possible.

また、画像処理部30は、取得された受光像における開口方向(又は開口交差方向)の輝度分布に基づいてパターン光の合焦状態を特定する。いくつかの実施形態では、合焦状態は、パターン光の焦点位置が所望の照明位置に略一致しているか否かを表す。 Furthermore, the image processing unit 30 identifies the focused state of the pattern light based on the brightness distribution in the aperture direction (or aperture cross direction) in the acquired light reception image. In some embodiments, the focused state represents whether the focal position of the patterned light substantially corresponds to the desired illumination position.

また、画像処理部30は、取得された受光像における開口交差方向の輝度分布に基づいて、パターン光の焦点位置を移動すべき移動量及び移動方向を特定する。 The image processing unit 30 also specifies the amount and direction of movement of the focal position of the pattern light based on the luminance distribution in the direction across the aperture in the acquired light-receiving image.

画像処理部30の詳細な動作については、後述する。 The detailed operation of the image processing section 30 will be described later.

画像処理部30は、プロセッサを含み、記憶部等に記憶されたプログラムに従って処理を行うことで、上記の機能を実現する。 The image processing unit 30 includes a processor and implements the above functions by performing processing according to a program stored in a storage unit or the like.

本明細書において「プロセッサ」は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、プログラマブル論理デバイス(例えば、SPLD(Simple Programmable Logic Device)、CPLD(Complex Programmable Logic Device)、FPGA(Field Programmable Gate Array))等の回路を意味する。プロセッサは、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。 In this specification, a "processor" refers to, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), a programmable logic device (for example, an S PLD (Simple Programmable Logic Device), CPLD (Complex It means a circuit such as a programmable logic device (programmable logic device) or FPGA (field programmable gate array). The processor realizes the functions according to the embodiment by, for example, reading and executing a program stored in a storage circuit or a storage device.

(画像出力部40)
画像出力部40は、後述の制御部の制御を受けて各種の情報を表示する。例えば、画像出力部40は、画像処理部30により得られた受光像を出力する。画像処理部30により得られた受光像には、合焦制御用に取得された受光像と、合焦制御後に再度パターン光を投影することにより得られた受光像(撮影画像)とが含まれる。
(Image output unit 40)
The image output unit 40 displays various information under the control of a control unit described below. For example, the image output unit 40 outputs the received light image obtained by the image processing unit 30. The light reception image obtained by the image processing unit 30 includes a light reception image acquired for focus control and a light reception image (photographed image) obtained by projecting pattern light again after focus control. .

画像出力部40は、LCD(Liquid Crystal Display)等のフラットパネルディスプレイなどの表示デバイスを含んで構成される。 The image output unit 40 includes a display device such as a flat panel display such as an LCD (Liquid Crystal Display).

(その他の構成)
いくつかの実施形態では、眼科装置1は、更に、固視投影系を含む。例えば、固視投影系の光路は、図1に示す光学系の構成において、パターン光の光路に結合される。固視投影系は、内部固視標又は外部固視標を被検眼Eに提示することが可能である。内部固視標を被検眼Eに提示する場合、固視投影系は、制御部からの制御を受けて内部固視標を表示するLCDを含み、LCDから出力された固視光束を被検眼Eの眼底に投影する。LCDは、その画面上における固視標の表示位置を変更可能に構成されている。LCDにおける固視標の表示位置を変更することにより、被検眼Eの眼底における固視標の投影位置を変更することが可能である。LCDにおける固視標の表示位置は、操作部を用いることによりユーザが指定可能である。
(Other configurations)
In some embodiments, the ophthalmic device 1 further includes a fixation projection system. For example, the optical path of the fixation projection system is coupled to the optical path of the pattern light in the configuration of the optical system shown in FIG. The fixation projection system can present an internal fixation target or an external fixation target to the eye E to be examined. When presenting an internal fixation target to the eye E, the fixation projection system includes an LCD that displays the internal fixation target under the control of the control unit, and the fixation light flux output from the LCD is directed to the eye E. projected onto the fundus of the eye. The LCD is configured to be able to change the display position of the fixation target on the screen. By changing the display position of the fixation target on the LCD, it is possible to change the projected position of the fixation target on the fundus of the eye E to be examined. The display position of the fixation target on the LCD can be specified by the user using the operation unit.

いくつかの実施形態では、固視投影系は、LCDに代えて、たとえば複数のLEDが配列されたパネルを含み、いずれかのLEDを点灯させることにより固視標の投影を行うように構成される。 In some embodiments, the fixation projection system includes, for example, a panel in which a plurality of LEDs are arranged instead of the LCD, and is configured to project the fixation target by lighting any of the LEDs. Ru.

また、被検眼Eの眼底における固視標の投影位置を変更することにより固視を誘導することができるため、観察方向を変更することも可能になる。 Furthermore, since fixation can be induced by changing the projection position of the fixation target on the fundus of the eye E, it is also possible to change the observation direction.

いくつかの実施形態では、眼科装置1は、アライメント系を含む。いくつかの実施形態では、アライメント系は、XYアライメント系と、Zアライメント系とを含む。XYアライメント系は、装置光学系(対物レンズ)の光軸に交差する方向に装置光学系と被検眼Eとの位置合わせを行うために用いられる。Zアライメント系は、眼科装置1(対物レンズ)の光軸の方向に装置光学系と被検眼Eとの位置合わせを行うために用いられる。 In some embodiments, ophthalmic device 1 includes an alignment system. In some embodiments, the alignment system includes an XY alignment system and a Z alignment system. The XY alignment system is used to align the apparatus optical system and the subject's eye E in a direction intersecting the optical axis of the apparatus optical system (objective lens). The Z alignment system is used to align the apparatus optical system and the subject's eye E in the direction of the optical axis of the ophthalmological apparatus 1 (objective lens).

例えば、XYアライメント系は、被検眼Eに赤外領域又は近赤外領域の輝点を投影する。画像処理部30は、輝点が投影された被検眼Eの前眼部像を取得し、取得された前眼部像に描出された輝点像とアライメント基準位置との変位を求める。後述の制御部は、求められた変位がキャンセルされるように図示しない移動機構により装置光学系と被検眼Eとを光軸の方向と交差する方向に相対的に移動させる。 For example, the XY alignment system projects a bright spot in the infrared region or near-infrared region onto the eye E to be examined. The image processing unit 30 acquires the anterior segment image of the subject's eye E onto which the bright spot is projected, and determines the displacement between the bright spot image depicted in the acquired anterior eye segment image and the alignment reference position. A control unit, which will be described later, uses a moving mechanism (not shown) to relatively move the device optical system and the eye E in a direction intersecting the direction of the optical axis so that the determined displacement is canceled.

例えば、Zアライメント系は、装置光学系の光軸から外れた位置から赤外領域又は近赤外領域のアライメント光を投影し、被検眼Eの前眼部で反射されたアライメント光を受光する。画像処理部30は、装置光学系に対する被検眼Eの距離に応じて変化するアライメント光の受光位置から、装置光学系に対する被検眼Eの距離を特定する。後述の制御部は、特定された距離が所望の作動距離になるように図示しない移動機構により装置光学系と被検眼Eとを光軸の方向に相対的に移動させる。 For example, the Z alignment system projects alignment light in the infrared region or near-infrared region from a position off the optical axis of the apparatus optical system, and receives the alignment light reflected from the anterior segment of the eye E to be examined. The image processing unit 30 identifies the distance of the eye E to be examined relative to the apparatus optical system from the light receiving position of the alignment light, which changes depending on the distance of the eye E to be examined relative to the apparatus optical system. A control unit, which will be described later, relatively moves the device optical system and the eye E in the direction of the optical axis using a moving mechanism (not shown) so that the specified distance becomes a desired working distance.

いくつかの実施形態では、アライメント系の機能は、装置光学系の光軸から外れた位置に配置された2以上の前眼部カメラにより実現される。例えば、特開2013-248376号公報に開示されているように、画像処理部30は、2以上の前眼部カメラで実質的に同時に取得された被検眼Eの前眼部像を解析して、公知の三角法を用いて被検眼Eの3次元位置を特定する。後述の制御部は、装置光学系の光軸が被検眼Eの軸に略一致し、かつ、被検眼Eに対する装置光学系の距離が所定の作動距離になるように図示しない移動機構により装置光学系と被検眼Eとを3次元的に相対的に移動させる。 In some embodiments, the functionality of the alignment system is accomplished by two or more anterior segment cameras positioned off-axis of the device optics. For example, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-248376, the image processing unit 30 analyzes anterior segment images of the subject's eye E obtained substantially simultaneously with two or more anterior segment cameras. , the three-dimensional position of the eye E to be examined is specified using known trigonometry. The control unit, which will be described later, moves the device optical system using a moving mechanism (not shown) so that the optical axis of the device optical system substantially coincides with the axis of the eye E and the distance of the device optical system to the eye E becomes a predetermined working distance. The system and the eye E to be examined are moved relative to each other in three dimensions.

[制御系の構成]
眼科装置1の制御系について、図3を参照しながら説明する。図3に示すように、眼科装置1の制御系は、制御部100を中心に構成されている。なお、制御系の構成の少なくとも一部が眼科装置1に含まれていてもよい。
[Control system configuration]
The control system of the ophthalmologic apparatus 1 will be described with reference to FIG. 3. As shown in FIG. 3, the control system of the ophthalmologic apparatus 1 is configured around a control section 100. Note that at least a part of the configuration of the control system may be included in the ophthalmologic apparatus 1.

(制御部100)
制御部100は、眼科装置1の各部を制御する。制御部100は、主制御部101と、記憶部102とを含む。主制御部101は、プロセッサを含み、記憶部102に記憶されたプログラムに従って処理を実行することで、眼科装置1の各部の制御処理を実行する。
(Control unit 100)
The control unit 100 controls each part of the ophthalmologic apparatus 1. Control unit 100 includes a main control unit 101 and a storage unit 102. The main control unit 101 includes a processor, and executes control processing for each unit of the ophthalmological apparatus 1 by executing processing according to a program stored in the storage unit 102.

(主制御部101)
主制御部101は、投影系10の制御、受光系20の制御、画像処理部30の制御、画像出力部40の制御、及び合焦機構52の制御を行う。
(Main control unit 101)
The main control unit 101 controls the projection system 10 , the light receiving system 20 , the image processing unit 30 , the image output unit 40 , and the focusing mechanism 52 .

投影系10の制御には、パターン光発生部11の制御が含まれる。パターン光発生部11の制御には、光源11Aの制御、空間光変調器11Cの制御が含まれる。光源11Aの制御には、光源の点灯や消灯の切り替え、光源の光量の変更制御が含まれる。空間光変調器11Cの制御には、光源11Aからの光に対する空間的な振幅制御、位相制御、及び偏光制御、光源11Aからの光に対する時間的な振幅制御、位相制御、及び偏光制御が含まれる。 Control of the projection system 10 includes control of the pattern light generating section 11. Control of the pattern light generator 11 includes control of the light source 11A and control of the spatial light modulator 11C. Control of the light source 11A includes switching the light source on and off, and changing the amount of light from the light source. Control of the spatial light modulator 11C includes spatial amplitude control, phase control, and polarization control for the light from the light source 11A, and temporal amplitude control, phase control, and polarization control for the light from the light source 11A. .

投影系10が光スキャナを含む場合、主制御部101は、光スキャナを制御することが可能である。光スキャナの制御には、スキャン範囲(スキャン開始位置及びスキャン終了位置)及びスキャン速度の制御が含まれる。 When the projection system 10 includes an optical scanner, the main control unit 101 can control the optical scanner. Control of the optical scanner includes control of the scan range (scan start position and scan end position) and scan speed.

受光系20の制御には、イメージセンサ22の制御がある。イメージセンサ22の制御には、露光タイイング、感度、及びフレームレートの少なくとも1つの変更制御、ローリングシャッター方式又はグローバルシャッター方式による読み出し制御がある。 Control of the light receiving system 20 includes control of the image sensor 22. Control of the image sensor 22 includes control of changing at least one of exposure tying, sensitivity, and frame rate, and readout control using a rolling shutter method or a global shutter method.

画像処理部30の制御には、上記の画像処理の実行制御と、解析処理の実行制御とが含まれる。画像出力部40の制御には、上記の各種情報の表示制御が含まれる。 The control of the image processing unit 30 includes execution control of the above-mentioned image processing and execution control of analysis processing. Control of the image output unit 40 includes display control of the various information described above.

合焦機構52の制御には、パターン光を合焦するための機構に応じた制御が含まれる。 Control of the focusing mechanism 52 includes control according to the mechanism for focusing the pattern light.

合焦機構52が合焦レンズを含む場合、主制御部101は、画像処理部30により特定されたパターン光の焦点位置を移動すべき移動量及び移動方向に対応した合焦制御内容を特定し、特定された合焦制御内容に基づいて、合焦レンズを光軸方向に移動する移動機構を制御する。 When the focusing mechanism 52 includes a focusing lens, the main control unit 101 specifies the focus control content corresponding to the amount and direction of movement of the focal position of the pattern light specified by the image processing unit 30. , controls a moving mechanism that moves the focusing lens in the optical axis direction based on the specified focusing control content.

合焦機構52が対物レンズを含む場合、主制御部101は、画像処理部30により特定されたパターン光の焦点位置を移動すべき移動量及び移動方向に対応した合焦制御内容を特定し、特定された合焦制御内容に基づいて、装置本体又は対物レンズを光軸方向に移動する移動機構を制御する。 When the focusing mechanism 52 includes an objective lens, the main control unit 101 specifies the focus control content corresponding to the amount and direction of movement of the focal position of the pattern light specified by the image processing unit 30, Based on the specified focusing control content, a moving mechanism that moves the apparatus main body or the objective lens in the optical axis direction is controlled.

合焦機構52が液体レンズ又は液晶レンズを含む場合、主制御部101は、画像処理部30により特定されたパターン光の焦点位置を移動すべき移動量及び移動方向に対応した合焦制御内容を特定し、特定された合焦制御内容に基づいて、液体レンズ又は液晶レンズを制御する。 When the focusing mechanism 52 includes a liquid lens or a liquid crystal lens, the main control unit 101 controls the focus control content corresponding to the amount and direction of movement of the focal position of the pattern light specified by the image processing unit 30. The liquid lens or liquid crystal lens is controlled based on the specified focusing control content.

図3に示すように、記憶部102には、制御情報102Aが記憶されている。制御情報102Aは、パターン光の焦点位置を移動すべき移動量及び移動方向の複数の組み合わせに対して、合焦機構52に対する複数の合焦制御内容(制御量、制御信号の種別)を対応付けた対応情報を含む。主制御部101は、対応情報を参照して、画像処理部30により特定されたパターン光の焦点位置を移動すべき移動量及び移動方向から合焦機構52に対する合焦制御内容を特定し、特定された合焦制御内容に基づいて合焦機構52を制御することが可能である。 As shown in FIG. 3, the storage unit 102 stores control information 102A. The control information 102A associates a plurality of focusing control contents (control amount, type of control signal) for the focusing mechanism 52 with a plurality of combinations of movement amounts and movement directions for moving the focal position of the pattern light. Contains corresponding information. The main control unit 101 refers to the correspondence information, specifies the focus control content for the focusing mechanism 52 from the movement amount and movement direction to move the focal position of the pattern light specified by the image processing unit 30, and specifies the It is possible to control the focusing mechanism 52 based on the focused focusing control contents.

(記憶部102)
記憶部102は、各種のコンピュータプログラムやデータを記憶する。コンピュータプログラムには、眼科装置1を制御するための演算プログラムや制御プログラムが含まれる。更に、記憶部102は、上記のように制御情報102Aを記憶する。
(Storage unit 102)
The storage unit 102 stores various computer programs and data. The computer program includes a calculation program and a control program for controlling the ophthalmologic apparatus 1. Furthermore, the storage unit 102 stores the control information 102A as described above.

(操作部110)
操作部110は、操作デバイス又は入力デバイスを含む。操作部110には、眼科装置1に設けられたボタンやスイッチ(たとえば操作ハンドル、操作ノブ等)や、操作デバイス(マウス、キーボード等)が含まれる。また、操作部110は、トラックボール、操作パネル、スイッチ、ボタン、ダイアルなど、任意の操作デバイスや入力デバイスを含んでいてよい。
(Operation unit 110)
The operation unit 110 includes an operation device or an input device. The operation unit 110 includes buttons and switches (for example, an operation handle, an operation knob, etc.) provided on the ophthalmologic apparatus 1, and operation devices (such as a mouse, a keyboard, etc.). Further, the operation unit 110 may include any operation device or input device such as a trackball, an operation panel, a switch, a button, a dial, or the like.

いくつかの実施形態では、画像出力部40及び操作部110の少なくとも一部が一体的に構成される。その具体例として、画像出力部40及び操作部110の機能は、タッチスクリーンにより実現される。 In some embodiments, at least a portion of the image output section 40 and the operation section 110 are configured integrally. As a specific example, the functions of the image output section 40 and the operation section 110 are realized by a touch screen.

投影系10は、実施形態に係る「投影部」の一例である。受光系20、及びイメージセンサ22を制御する制御部100は、実施形態に係る「取得部」の一例である。画像処理部30は、実施形態に係る「特定部」の一例である。 The projection system 10 is an example of a "projection section" according to the embodiment. The control unit 100 that controls the light receiving system 20 and the image sensor 22 is an example of the “acquisition unit” according to the embodiment. The image processing unit 30 is an example of a “specification unit” according to the embodiment.

[動作]
次に、眼科装置1の動作について説明する。
[motion]
Next, the operation of the ophthalmologic apparatus 1 will be explained.

図4に、実施形態に係る合焦状態の特定処理の説明図を示す。図4は、合焦レンズ又は対物レンズを通過するパターン光及びその戻り光と、戻り光の受光像RSにパターン光の投影像PSを重畳させたものとを表したものである。図4では、イメージセンサ22の検出面における戻り光の受光像RSにパターン光の投影像PSを模式的に重畳させている。 FIG. 4 shows an explanatory diagram of the focus state specifying process according to the embodiment. FIG. 4 shows the pattern light passing through the focusing lens or the objective lens, the returned light thereof, and the projected image PS of the pattern light superimposed on the received light image RS of the returned light. In FIG. 4, a projected image PS of pattern light is schematically superimposed on a received light image RS of returned light on the detection surface of the image sensor 22.

上記のように、投影系10は、任意の投影形状のパターン光を被検眼Eに投影することが可能である。また、受光系20は、イメージセンサ22においてパターン光の戻り光を受光し、画像処理部30は、受光された戻り光の検出結果に基づいて、例えばローリングシャッター方式を用いて任意の開口形状に対応した受光像を取得することが可能である。 As described above, the projection system 10 is capable of projecting pattern light having an arbitrary projection shape onto the eye E to be examined. Further, the light receiving system 20 receives the return light of the pattern light at the image sensor 22, and the image processing unit 30 creates an arbitrary aperture shape using a rolling shutter method, for example, based on the detection result of the received return light. It is possible to obtain a corresponding light reception image.

説明の便宜上、眼科装置1(対物レンズ又は合焦レンズ)の光軸に対して上方からパターン光PSを被検眼Eに投影し、当該光軸に対して下方からパターン光PSの戻り光RFを受光するものとする(図4の(A)、(B))。なお、パターン光PSと戻り光RFは、光軸に対して対称でなくてよい。パターン光PS及び戻り光RFのいずれか一方の光路が光軸上に配置されていてもよい。例えば、パターン光PSの光路を光軸に配置し、戻り光RFの光路を光軸の上方又は下方に配置してもよい。 For convenience of explanation, the patterned light PS is projected onto the eye E from above with respect to the optical axis of the ophthalmological apparatus 1 (objective lens or focusing lens), and the return light RF of the patterned light PS is projected from below with respect to the optical axis. It is assumed that light is received ((A) and (B) in FIG. 4). Note that the pattern light PS and the return light RF do not need to be symmetrical with respect to the optical axis. The optical path of either the pattern light PS or the return light RF may be arranged on the optical axis. For example, the optical path of the pattern light PS may be arranged on the optical axis, and the optical path of the return light RF may be arranged above or below the optical axis.

目的物(例えば、被検眼Eの眼底)が焦点位置FSにおける焦平面に位置するとき、パターン光の投影像PSの位置と受光側の開口の位置が一致し、輪郭がはっきりした明るい受光像RSが取得される(図4の(A))。 When the target object (for example, the fundus of the eye E to be examined) is located on the focal plane at the focal position FS, the position of the projected image PS of the pattern light and the position of the light-receiving side aperture match, and a bright light-receiving image RS with a clear outline is created. is obtained ((A) in FIG. 4).

これに対して、目的物が焦点位置FSから離れた位置FS1における焦平面に位置するとき、パターン光の投影像PSの位置と受光側の開口の位置が離れ、輪郭がぼやけた暗い受光像RSが取得される(図4の(B))。 On the other hand, when the object is located at the focal plane at a position FS1 distant from the focal position FS, the position of the projected image PS of the pattern light and the position of the light-receiving side aperture are far apart, resulting in a dark light-receiving image RS with a blurred outline. is obtained ((B) in FIG. 4).

ここで、パターン光発生部11により目的物におけるパターン光の投影位置をより上方又は下方に移動させる。このとき、目的物が位置FS1における焦平面に位置する場合であっても、パターン光の投影像PSの位置と受光側の開口の位置とを一致させることができる。それにより、図4の(A)に示すような明るい受光像RSが取得される(図4の(C))。 Here, the pattern light generating section 11 moves the projection position of the pattern light on the object further upward or downward. At this time, even if the object is located on the focal plane at position FS1, the position of the projected image PS of the pattern light and the position of the light-receiving side aperture can be made to match. As a result, a bright light-receiving image RS as shown in FIG. 4(A) is obtained (FIG. 4(C)).

すなわち、パターン光の投影位置又は投影範囲と受光側の開口とを、開口交差方向に相対的に移動することにより受光像の輝度分布が変化する。この実施形態では、画像処理部30は、取得された受光像の開口方向の輝度分布を特定し、特定された輝度分布に基づいてパターン光の合焦状態を特定する。 That is, by relatively moving the projection position or projection range of the pattern light and the light-receiving side aperture in the aperture cross direction, the brightness distribution of the light-receiving image changes. In this embodiment, the image processing unit 30 specifies the brightness distribution in the aperture direction of the acquired light-receiving image, and specifies the focused state of the pattern light based on the specified brightness distribution.

また、図4の(B)、(C)では、パターン光の投影位置(投影範囲)を開口方向と直交する方向に移動させるため、受光像の明暗が変化する。それにより、焦点位置が撮影部位に一致しているか否かを特定できるものの、焦点位置が撮影部位にどの程度一致していないかについて特定することができない。 Furthermore, in FIGS. 4B and 4C, the projection position (projection range) of the pattern light is moved in a direction perpendicular to the aperture direction, so the brightness of the received light image changes. Although it is thereby possible to specify whether or not the focal position matches the imaging site, it is not possible to specify to what extent the focal position does not match the imaging site.

そこで、パターン光の投影位置を開口方向に対して直交する方向と異なる方向(例えば、45度の方向)に交差させることで、受光像の輝度分布を交差方向に応じて変化させることができる。それにより、焦点位置が撮影部位に一致しているか否かに加えて、一致していない場合の焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能になる。 Therefore, by intersecting the projection position of the pattern light in a direction different from the direction perpendicular to the aperture direction (for example, at 45 degrees), the brightness distribution of the received light image can be changed according to the intersecting direction. This makes it possible to determine not only whether the focal position matches the imaging site but also the amount and direction of movement of the focal position if they do not match.

この実施形態では、次のように、開口方向に対して投影系形状が略45度で交差するパターン光を用いる。それにより、一度のパターン光の投影により得られた受光像から、焦点位置が撮影部位に一致しているか否かに加えて、一致していない場合の焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能になる。 In this embodiment, patterned light whose projection system shape intersects with the aperture direction at approximately 45 degrees is used as follows. As a result, from the received light image obtained by projecting the pattern light once, it is possible to determine whether the focal position matches the imaging area, as well as the amount and direction of movement of the focal position if the focal position does not match. becomes possible.

図5A~図5Cに、イメージセンサ22の検出面におけるパターン光の投影形状と受光側の開口形状との関係と、受光像とを模式的に表したものである。図5Aは、主として、合焦時における投影形状と開口形状と受光像とを模式的に表す。図5Bは、焦点位置が前側のときの投影形状と開口形状と受光像とを模式的に表す。図5Cは、焦点位置が後側のときの投影形状と開口形状と受光像とを模式的に表す。図5A~図5Cでは、パターン光PLの投影形状が開口形状AFの開口方向に対して略45度で交差するものとする。 5A to 5C schematically represent the relationship between the projected shape of the pattern light on the detection surface of the image sensor 22 and the aperture shape on the light receiving side, and the received light image. FIG. 5A mainly shows schematically the projected shape, the aperture shape, and the received light image at the time of focusing. FIG. 5B schematically represents the projected shape, aperture shape, and received light image when the focus position is on the front side. FIG. 5C schematically represents a projected shape, an aperture shape, and a received light image when the focus position is on the rear side. In FIGS. 5A to 5C, it is assumed that the projected shape of the pattern light PL intersects the aperture direction of the aperture shape AF at approximately 45 degrees.

図5Aに示すように、合焦時には、輪郭がはっきりした受光像Rmが取得される。受光像Rmでは、パターン光PLの端部側よりも中心部に明部Rpが現れる。明部Rpは、(イメージセンサ22の検出面における)光軸に相当する位置に描出される。従って、画像処理部30は、受光像Rmを解析して開口方向の輝度分布において明部Rpの位置を特定し、特定された明部Rpの位置が所定の基準位置(光軸に相当する位置)であるか否かを判別することで、パターン光PLの合焦状態(すなわち、パターン光PLの焦点位置が撮影部位の位置であるか否か)を判別することができる。いくつかの実施形態では、画像処理部30は、受光像Rmを解析して開口方向の輝度分布において明部Rpが特定されたか否かを判別することにより、パターン光PLの合焦状態を判別することができる。この場合、明部Rpの輝度レベルと所定の閾値とを比較することにより、明部Rpが特定されたか否かを判別することが可能である。 As shown in FIG. 5A, upon focusing, a received light image Rm with a clear outline is obtained. In the received light image Rm, a bright portion Rp appears at the center of the patterned light PL rather than at the end. The bright area Rp is drawn at a position corresponding to the optical axis (on the detection surface of the image sensor 22). Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image Rm, specifies the position of the bright area Rp in the brightness distribution in the aperture direction, and sets the position of the identified bright area Rp to a predetermined reference position (a position corresponding to the optical axis). ), it is possible to determine the in-focus state of the patterned light PL (that is, whether or not the focal position of the patterned light PL is the position of the imaging site). In some embodiments, the image processing unit 30 determines the in-focus state of the patterned light PL by analyzing the received light image Rm and determining whether a bright area Rp is identified in the brightness distribution in the aperture direction. can do. In this case, it is possible to determine whether the bright portion Rp has been identified by comparing the brightness level of the bright portion Rp with a predetermined threshold value.

図5Bに示すように、パターン光PLの焦点位置が前側のとき、輪郭がぼやけた受光像Rmが取得される。受光像Rmでは、パターン光PLの中心部よりも端部側に明部Rp1が現れる。例えば、明部Rp1は、(イメージセンサ22の検出面における)光軸に相当する位置に対して左側に描出される。従って、画像処理部30は、受光像Rmを解析して開口方向の輝度分布において明部Rp1の位置を特定し、所定の基準位置(光軸に相当する位置)に対する明部Rp1の位置の変位(ずれ量、ずれの方向)を求める。画像処理部30は、例えば、あらかじめ求められた変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を表す換算情報を用いて、基準位置に対する明部Rp1の位置の変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能である。主制御部101は、特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 As shown in FIG. 5B, when the focal position of the patterned light PL is on the front side, a received light image Rm with a blurred outline is obtained. In the received light image Rm, a bright portion Rp1 appears closer to the end than the center of the patterned light PL. For example, the bright area Rp1 is depicted on the left side with respect to the position corresponding to the optical axis (on the detection surface of the image sensor 22). Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image Rm, identifies the position of the bright area Rp1 in the brightness distribution in the aperture direction, and determines the displacement of the position of the bright area Rp1 with respect to a predetermined reference position (position corresponding to the optical axis). Find (amount of deviation, direction of deviation). For example, the image processing unit 30 calculates the amount of movement of the focus position corresponding to the displacement of the bright area Rp1 with respect to the reference position using conversion information representing the amount of movement and direction of movement of the focus position corresponding to the displacement determined in advance. and the direction of movement. The main control unit 101 specifies focus control information from the specified movement amount and movement direction of the focus position, and controls the focusing mechanism 52 based on the specified focus control information.

図5Cに示すように、パターン光PLの焦点位置が後側のとき、輪郭がぼやけた受光像Rmが取得される。受光像Rmでは、パターン光PLの中心部よりも端部側に明部Rp2が現れる。例えば、明部Rp2は、(イメージセンサ22の検出面における)光軸に相当する位置に対して右側に描出される。従って、画像処理部30は、受光像Rmを解析して開口方向の輝度分布において明部Rp2の位置を特定し、所定の基準位置(光軸に相当する位置)に対する明部Rp2の位置の変位を求める。画像処理部30は、例えば、あらかじめ求められた変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を表す換算情報を用いて、基準位置に対する明部Rp2の位置の変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能である。主制御部101は、特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 As shown in FIG. 5C, when the focal position of the patterned light PL is on the rear side, a received light image Rm with a blurred outline is obtained. In the received light image Rm, a bright portion Rp2 appears closer to the end than the center of the patterned light PL. For example, the bright area Rp2 is depicted on the right side with respect to the position corresponding to the optical axis (on the detection surface of the image sensor 22). Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image Rm, identifies the position of the bright area Rp2 in the brightness distribution in the aperture direction, and determines the displacement of the position of the bright area Rp2 with respect to a predetermined reference position (position corresponding to the optical axis). seek. For example, the image processing unit 30 calculates the amount of movement of the focus position corresponding to the displacement of the bright area Rp2 with respect to the reference position using conversion information representing the amount of movement and direction of movement of the focus position corresponding to the displacement determined in advance. and the direction of movement. The main control unit 101 specifies focus control information from the specified movement amount and movement direction of the focus position, and controls the focusing mechanism 52 based on the specified focus control information.

なお、図5A~図5Cでは、合焦時に明部が現れる場合について説明したが、合焦時に暗部が現れる場合も同様である。 Note that in FIGS. 5A to 5C, the case where a bright portion appears during focusing has been described, but the same applies to the case where a dark portion appears during focusing.

以上のように、投影系10は、少なくとも開口交差方向(第1方向)に延びる投影形状のパターン光を被検眼Eに投影し、画像処理部30は、受光系20により検出された被検眼Eからのパターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも開口方向(第1方向に交差する第2方向)に延びる開口形状に対応した受光像を取得する。画像処理部30は、取得された受光像の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦状態を特定することができる。いくつかの実施形態では、合焦状態は、合焦しているか否かを表す情報と、合焦していない場合に合焦させるための制御内容とを含む。 As described above, the projection system 10 projects pattern light having a projection shape extending at least in the aperture cross direction (first direction) onto the eye E, and the image processing unit 30 processes the eye E detected by the light receiving system 20. A received light image corresponding to an aperture shape extending at least in the aperture direction (a second direction intersecting the first direction) is acquired based on the detection result of the return light of the pattern light from the aperture. The image processing unit 30 can identify the focused state of the pattern light based on the brightness distribution of the acquired light-receiving image. In some embodiments, the focus state includes information indicating whether or not the object is in focus, and control details for focusing when the object is out of focus.

図6に、実施形態に係る眼科装置1の動作例のフロー図を示す。記憶部102には、図6に示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。主制御部101は、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図6に示す処理を実行する。 FIG. 6 shows a flow diagram of an example of the operation of the ophthalmologic apparatus 1 according to the embodiment. The storage unit 102 stores a computer program for implementing the processing shown in FIG. The main control unit 101 executes the processing shown in FIG. 6 by operating according to this computer program.

ここでは、図示しないアライメント系により被検眼Eに対して装置光学系のアライメントが完了し、図示しない固視投影系により所望の固視位置に導くように被検眼Eの眼底に対して固視標が投影されているものとする。 Here, alignment of the apparatus optical system with respect to the eye E to be examined is completed by an alignment system (not shown), and a fixation target is set to the fundus of the eye E to be examined so as to guide the eye to a desired fixation position by a fixation projection system (not shown). is projected.

(S1:パターン光を投影)
まず、主制御部101は、パターン光発生部11を制御することにより合焦制御用の投影形状のパターン光を発生させる。
(S1: Project pattern light)
First, the main controller 101 controls the pattern light generator 11 to generate a projection-shaped pattern light for focusing control.

具体的には、パターン光発生部11は、少なくとも開口形状の開口方向に交差する方向(開口交差方向)に延びるパターン光を発生する。パターン光発生部11により発生されたパターン光は、平滑化部12、光学系13、光合波分波器50、及び光学系51を経由し、被検眼Eに投影される。 Specifically, the pattern light generator 11 generates pattern light that extends at least in a direction intersecting the opening direction of the aperture shape (aperture cross direction). The pattern light generated by the pattern light generation section 11 is projected onto the eye E through the smoothing section 12, the optical system 13, the optical multiplexer/demultiplexer 50, and the optical system 51.

(S2:受光像を取得)
次に、主制御部101は、画像処理部30に受光像を取得させる。
(S2: Obtain a received light image)
Next, the main control unit 101 causes the image processing unit 30 to acquire a received light image.

具体的には、投影系10により被検眼Eに投影されたパターン光は、被検眼Eにより反射される。被検眼Eからのパターン光の戻り光は、光学系51、光合波分波器50、及び光学系21を経由して、イメージセンサ22の検出面に結像する。主制御部101は、イメージセンサ22による戻り光の受光結果を、所定の開口形状に対応したローリングシャッター方式により読み出す。画像処理部30は、読み出された受光結果に基づいて、開口形状に対応した受光像を取得する。 Specifically, the pattern light projected onto the eye E by the projection system 10 is reflected by the eye E to be examined. The returned pattern light from the eye E passes through the optical system 51, the optical multiplexer/demultiplexer 50, and the optical system 21, and forms an image on the detection surface of the image sensor 22. The main control unit 101 reads out the result of the return light received by the image sensor 22 using a rolling shutter method corresponding to a predetermined aperture shape. The image processing unit 30 acquires a light reception image corresponding to the aperture shape based on the read light reception results.

(S3:解析)
続いて、主制御部101は、ステップS2において取得された受光像に対して画像処理部30に所定の解析処理を実行させる。
(S3: Analysis)
Next, the main control unit 101 causes the image processing unit 30 to perform a predetermined analysis process on the received light image acquired in step S2.

具体的には、取得された受光像には、上記のように明部と暗部とが現れる。画像処理部30は、上記のように、取得された受光像における開口方向の輝度分布を特定する。 Specifically, bright areas and dark areas appear in the acquired light-receiving image as described above. As described above, the image processing unit 30 identifies the brightness distribution in the aperture direction in the acquired light reception image.

(S4:合焦状態を特定)
次に、主制御部101は、画像処理部30にパターン光の合焦状態を特定させる。
(S4: Identify the focus state)
Next, the main control unit 101 causes the image processing unit 30 to specify the focused state of the pattern light.

具体的には、画像処理部30は、図5Aに示すように、ステップS3において特定された輝度分布から明部(又は暗部)の位置を特定し、特定された明部(又は暗部)の位置が所定の基準位置(光軸に相当する位置)であるか否かを判別する。特定された明部(又は暗部)の位置が所定の基準位置であると判定されたとき、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置であると判定する。 Specifically, as shown in FIG. 5A, the image processing unit 30 identifies the position of the bright area (or dark area) from the luminance distribution identified in step S3, and determines the position of the identified bright area (or dark area). It is determined whether or not is at a predetermined reference position (a position corresponding to the optical axis). When it is determined that the position of the identified bright area (or dark area) is a predetermined reference position, it is determined that the focal position of the pattern light is the position of the imaging region.

特定された明部(又は暗部)の位置が所定の基準位置ではないと判定されたとき、画像処理部30は、図5B又は図5Cに示すように、輝度分布において、所定の基準位置に対する明部(又は暗部)の位置の変位を求める。更に、画像処理部30は、求められた変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定する。 When it is determined that the position of the identified bright part (or dark part) is not the predetermined reference position, the image processing unit 30 adjusts the brightness relative to the predetermined reference position in the luminance distribution, as shown in FIG. 5B or 5C. Find the displacement of the part (or dark part). Further, the image processing unit 30 specifies the amount and direction of movement of the focal position corresponding to the determined displacement.

いくつかの実施形態では、主制御部101は、特定された合焦状態又は特定された焦点位置の移動量及び移動方向に対応する情報を画像出力部40に出力(表示)させる。合焦状態に対応する情報として、パターン光の焦点位置が所望の撮影部位の位置(合焦位置)にあるか否かを示す情報、パターン光の焦点位置が合焦位置に対して前側にあるか後側にあるかを示す情報などがある。例えば、主制御部101は、パターン光の焦点位置が合焦位置にあるか否かを示す情報(又は画像、文字、マーク、インジケータ)を緑色で表示させ、パターン光の焦点位置が合焦位置に対して前側にあることを示す情報を青色で表示させ、パターン光の焦点位置が合焦位置に対して後側にあることを示す情報を赤色で画像出力部40に表示させる。いくつかの実施形態では、主制御部101は、合焦位置に対するパターン光の焦点位置を文字、画像、インジケータを画像出力部40に表示させる。 In some embodiments, the main control unit 101 causes the image output unit 40 to output (display) information corresponding to the specified focus state or the movement amount and movement direction of the specified focal position. Information corresponding to the focus state includes information indicating whether the focus position of the pattern light is at the position of the desired imaging region (focus position), and information indicating whether the focus position of the pattern light is in front of the focus position. There is information such as whether it is located on the rear side or on the rear side. For example, the main control unit 101 displays information (or an image, text, mark, indicator) indicating whether the focal position of the pattern light is at the in-focus position in green, and Information indicating that the pattern light is located in front of the focal position is displayed in blue, and information indicating that the focal position of the pattern light is located in the rear of the focal position is displayed in red on the image output unit 40. In some embodiments, the main control unit 101 causes the image output unit 40 to display characters, images, and indicators indicating the focal position of the pattern light relative to the in-focus position.

(S5:合焦制御)
続いて、主制御部101は、合焦制御を行う。
(S5: Focus control)
Next, the main control unit 101 performs focusing control.

具体的には、ステップS4において、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置であると判定されたとき、ステップS5がスキップされる。 Specifically, when it is determined in step S4 that the focal position of the pattern light is the position of the imaging site, step S5 is skipped.

一方、ステップS4において、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置ではないと判定されたとき、主制御部101は、ステップS4において特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 On the other hand, when it is determined in step S4 that the focal position of the pattern light is not the position of the imaging site, the main control unit 101 obtains focus control information from the movement amount and movement direction of the focal position specified in step S4. The focusing mechanism 52 is controlled based on the specified focusing control information.

(S6:撮影)
次に、主制御部101は、パターン光発生部11を制御することにより撮影用の投影形状のパターン光を発生させる。
(S6: Shooting)
Next, the main control section 101 controls the pattern light generation section 11 to generate a projection-shaped pattern light for photographing.

具体的には、パターン光発生部11は、例えば、開口形状の開口方向に略平行な方向(例えば、開口方向)に延びるパターン光を発生する。パターン光発生部11により発生されたパターン光は、平滑化部12、光学系13、光合波分波器50、及び光学系51を経由し、被検眼Eに投影される。被検眼Eに投影されたパターン光は、被検眼Eにより反射される。被検眼Eからのパターン光の戻り光は、光学系51、光合波分波器50、及び光学系21を経由して、イメージセンサ22の検出面に結像する。主制御部101は、イメージセンサ22による戻り光の受光結果を、所定の開口形状に対応したローリングシャッター方式により読み出す。画像処理部30は、読み出された受光結果に基づいて、開口形状に対応した受光像を取得する。 Specifically, the pattern light generating section 11 generates pattern light that extends in a direction (for example, the opening direction) substantially parallel to the opening direction of the opening shape, for example. The pattern light generated by the pattern light generation section 11 is projected onto the eye E through the smoothing section 12, the optical system 13, the optical multiplexer/demultiplexer 50, and the optical system 51. The pattern light projected onto the eye E to be examined is reflected by the eye E to be examined. The returned pattern light from the eye E passes through the optical system 51, the optical multiplexer/demultiplexer 50, and the optical system 21, and forms an image on the detection surface of the image sensor 22. The main control unit 101 reads out the result of the return light received by the image sensor 22 using a rolling shutter method corresponding to a predetermined aperture shape. The image processing unit 30 acquires a light reception image corresponding to the aperture shape based on the read light reception results.

続いて、主制御部101は、例えば、開口方向に直交する方向にシフトした投影位置に上記と同様の投影形状のパターン光を投影させ、上記と同様に開口位置をシフトさせてイメージセンサ22による戻り光の受光結果の読み出し制御を行う。このような制御を複数回繰り返して1フレーム分の受光像を取得することで、被検眼Eの眼底像が取得される。 Next, the main control unit 101 projects a pattern light having the same projection shape as described above at a projection position shifted in a direction perpendicular to the aperture direction, shifts the aperture position in the same manner as described above, and causes the image sensor 22 to Controls the reading of the return light reception results. A fundus image of the eye E to be examined is obtained by repeating such control a plurality of times to obtain a received light image for one frame.

以上で、眼科装置1の動作は終了である(エンド)。 This is the end of the operation of the ophthalmologic apparatus 1 (END).

<変形例>
実施形態に係る眼科装置の構成及び制御は、上記の態様に限定されるものではない。以下、実施形態の変形例について、実施形態との相違点を中心に説明する。
<Modified example>
The configuration and control of the ophthalmological apparatus according to the embodiments are not limited to the above aspects. Modifications of the embodiment will be described below, focusing on the differences from the embodiment.

(第1変形例)
実施形態では、パターン光発生部11が光源と非発光型のデバイスとを用いて、光源からの光を空間的に変調することによりパターン光を発生する場合について説明したが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。本変形例では、パターン光発生部が、自発光型のデバイスを含む。
(First modification)
In the embodiment, a case has been described in which the pattern light generation unit 11 generates pattern light by spatially modulating the light from the light source using a light source and a non-light emitting device, but the configuration according to the embodiment is not limited to this. In this modification, the pattern light generating section includes a self-emitting device.

図7に、実施形態の変形例に係るパターン光発生部の構成例のブロック図を示す。本変形例に係る眼科装置は、パターン光発生部11に代えて、図7に示すパターン光発生部11aを含む。 FIG. 7 shows a block diagram of a configuration example of a patterned light generation section according to a modification of the embodiment. The ophthalmologic apparatus according to this modification includes a pattern light generation section 11a shown in FIG. 7 instead of the pattern light generation section 11.

本変形例に係るパターン光発生部11aは、自発光デバイス120と、光学系121とを含む。自発光デバイス120は、画素毎に変調された光を発生することで、ピクセル化されたパターン光発生器としての機能を実現する。自発光デバイス120の例として、ブラウン管(Cathode-Ray Tube:CRT)、プラズマディスプレイ(Plasma Display Panel:PDP)、有機EL(Organic Electro-Luminescence:OEL)、LED、無機EL(Inorganic Electro-Luminescence:IEL)、蛍光表示管(Vaccum Floorescent Display:VFD)、電界電子放出ディスプレイ(Field Emission Dsiplay:FED)などがある。 The patterned light generating section 11a according to this modification includes a self-emitting device 120 and an optical system 121. The self-emissive device 120 realizes a function as a pixelated pattern light generator by generating light that is modulated for each pixel. Examples of the self-luminous device 120 include a cathode-ray tube (CRT), a plasma display panel (PDP), an organic EL (OEL), an LED, and an inorganic EL. electro-luminescence:IEL ), vacuum fluorescent display (VFD), and field emission display (FED).

自発光デバイス120は、被検眼Eの撮影部位(例えば、眼底、前眼部)と光学的に略共役な位置に配置可能である。光学系121は、自発光デバイス120により空間的に変調された光を投影するための投影レンズを含む。 The self-luminous device 120 can be placed at a position that is optically approximately conjugate with the imaging site of the eye E to be examined (for example, the fundus of the eye, the anterior segment of the eye). Optical system 121 includes a projection lens for projecting light spatially modulated by self-emissive device 120.

本変形例に係る眼科装置の動作は、実施形態と同様であるため詳細な説明を省略する。 The operation of the ophthalmologic apparatus according to this modification is the same as that in the embodiment, so detailed explanation will be omitted.

(第2変形例)
実施形態又はその変形例では、パターン光の投影形状が開口方向に交差する直線形状(矩形形状)である場合について説明したが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。本変形例では、パターン光の投影形状は、曲線状である。また、本変形例では、パターン光の投影形状は、開口方向に対して複数回交差する形状である。
(Second modification)
In the embodiment or its modification, a case has been described in which the projected shape of the pattern light is a linear shape (rectangular shape) intersecting the aperture direction, but the configuration according to the embodiment is not limited to this. In this modification, the projected shape of the pattern light is curved. Furthermore, in this modification, the projected shape of the pattern light is a shape that intersects the opening direction multiple times.

図8に、実施形態の変形例に係るパターン光の投影形状を模式的に示す。図8は、合焦時、焦点位置が前側のとき、及び焦点位置が後側のときのイメージセンサ22の検出面におけるパターン光の投影形状と受光側の開口形状との関係を模式的に表す。 FIG. 8 schematically shows a projected shape of pattern light according to a modification of the embodiment. FIG. 8 schematically represents the relationship between the projected shape of the pattern light on the detection surface of the image sensor 22 and the aperture shape on the light receiving side when in focus, when the focal position is on the front side, and when the focal position is on the rear side. .

図8に示すように、合焦時には、輪郭がはっきりした受光像が取得される。受光像では、開口形状AFに対してパターン光PL1が複数回交差するため、明部と暗部とが交互に現れる。従って、画像処理部30は、受光像を解析して開口方向の輝度分布において交互に現れる明部の位置と暗部の位置とを特定し、特定された複数の明部のいずれかの位置が所定の基準位置(光軸に相当する位置)であるか否かを判別することで、パターン光PL1の合焦状態(すなわち、パターン光PL1の焦点位置が撮影部位の位置であるか否か)を判別することができる。 As shown in FIG. 8, upon focusing, a received light image with a clear outline is obtained. In the received light image, since the pattern light PL1 intersects the aperture shape AF multiple times, bright parts and dark parts appear alternately. Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image to specify the positions of bright parts and dark parts that appear alternately in the brightness distribution in the aperture direction, and the position of any one of the plurality of identified bright parts is determined to be a predetermined position. By determining whether the reference position (position corresponding to the optical axis) of can be determined.

また、本変形例では、複数の明部の位置について所定の基準位置であるか否かを判別することで、より高精度にパターン光PL1の合焦状態を判別することが可能になる。 Furthermore, in this modification, by determining whether or not the positions of the plurality of bright portions are at predetermined reference positions, it becomes possible to determine the focused state of the patterned light PL1 with higher accuracy.

同様に、パターン光PL2の焦点位置が前側のとき又はパターン光PL3の焦点位置が後側のとき、輪郭がぼやけた受光像が取得される。受光像では、開口形状AFに対してパターン光PL2、PL3が複数回交差するため、明部と暗部とが交互に現れる。従って、画像処理部30は、受光像を解析して開口方向の輝度分布において交互に現れる明部の位置と暗部の位置とを特定し、所定の基準位置(光軸に相当する位置)に対する複数の明部のいずれかの位置の変位(ずれ量、ずれの方向)を求める。画像処理部30は、例えば、上記と同様に、あらかじめ決められた換算情報を用いて、基準位置に対する明部の位置の変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能である。主制御部101は、特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 Similarly, when the focal position of patterned light PL2 is on the front side or when the focal position of patterned light PL3 is on the rear side, a received light image with a blurred outline is acquired. In the received light image, since the pattern lights PL2 and PL3 cross the aperture shape AF multiple times, bright areas and dark areas appear alternately. Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image, identifies the positions of bright parts and the positions of dark parts that appear alternately in the brightness distribution in the aperture direction, and identifies the positions of bright parts and dark parts that appear alternately in the brightness distribution in the aperture direction, and Find the displacement (amount of displacement, direction of displacement) at any position of the bright part of . For example, similar to the above, the image processing unit 30 can use predetermined conversion information to specify the amount and direction of movement of the focal position corresponding to the displacement of the position of the bright area with respect to the reference position. be. The main control unit 101 specifies focus control information from the specified movement amount and movement direction of the focus position, and controls the focusing mechanism 52 based on the specified focus control information.

また、本変形例では、所定の基準位置に対する複数の明部の位置の変位を求め、求められた複数の変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定することで、より高精度にパターン光PL2、PL3の焦点位置を調整することが可能になる。 In addition, in this modification, the displacements of the positions of multiple bright areas with respect to a predetermined reference position are determined, and the amount and direction of movement of the focal position corresponding to the determined displacements are specified, thereby achieving higher accuracy. It becomes possible to adjust the focal position of pattern lights PL2 and PL3.

なお、図8では、合焦時に明部が現れる場合について説明したが、合焦時に暗部が現れる場合も同様である。 Although FIG. 8 describes the case where a bright portion appears during focusing, the same applies to the case where a dark portion appears during focusing.

(第3変形例)
第2変形例では、パターン光の投影形状は、開口方向に対して複数回交差する形状である場合について説明したが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。例えば、パターン光の投影形状は、合焦状態の判別に対して感度が高い形状であってよい。合焦状態の判別に対して感度が高い形状の例として、光軸に相当する位置において開口方向に略平行な部分を有する形状がある。
(Third modification)
In the second modification, a case has been described in which the projected shape of the pattern light is a shape that intersects the aperture direction multiple times, but the configuration according to the embodiment is not limited to this. For example, the projected shape of the pattern light may be a shape that is highly sensitive to determination of the in-focus state. An example of a shape that is highly sensitive for determining the in-focus state is a shape that has a portion substantially parallel to the aperture direction at a position corresponding to the optical axis.

図9に、実施形態の変形例に係るパターン光の投影形状を模式的に示す。図9は、合焦時、焦点位置が前側のとき、及び焦点位置が後側のときのイメージセンサ22の検出面におけるパターン光の投影形状と受光側の開口形状との関係を模式的に表す。 FIG. 9 schematically shows a projected shape of pattern light according to a modification of the embodiment. FIG. 9 schematically represents the relationship between the projected shape of the pattern light on the detection surface of the image sensor 22 and the aperture shape on the light receiving side when in focus, when the focal position is on the front side, and when the focal position is on the rear side. .

図9に示すように、合焦時には、輪郭がはっきりした受光像が取得される。イメージセンサ22の検出面における光軸に相当する位置(合焦制御時に基準位置)では開口形状AFの開口方向に略平行な部分を有する形状のパターン光PL11が投影されるため、受光像において、端部側よりも中心部において明部が現れる。従って、画像処理部30は、受光像を解析して開口方向の輝度分布において明部の位置を特定し、特定された明部の位置が所定の基準位置(光軸に相当する位置)であるか否かを判別することで、パターン光PL11の合焦状態(すなわち、パターン光PL1の焦点位置が撮影部位の位置であるか否か)を判別することができる。 As shown in FIG. 9, at the time of focusing, a received light image with a clear outline is obtained. At a position corresponding to the optical axis on the detection surface of the image sensor 22 (a reference position during focus control), pattern light PL11 having a shape having a portion approximately parallel to the aperture direction of the aperture shape AF is projected, so that in the received light image, A brighter area appears at the center than at the edges. Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image, identifies the position of the bright part in the brightness distribution in the aperture direction, and determines that the position of the identified bright part is a predetermined reference position (position corresponding to the optical axis). By determining whether this is the case, it is possible to determine whether the patterned light PL11 is in focus (that is, whether the focal position of the patterned light PL1 is at the position of the imaging site).

同様に、パターン光PL12の焦点位置が前側のとき又はパターン光PL13の焦点位置が後側のとき、輪郭がぼやけた受光像が取得される。受光像では、全体的に暗部が現れやすくなる。従って、画像処理部30は、受光像を解析して開口方向の輝度分布において明部の位置を特定し、所定の基準位置(光軸に相当する位置)に対する明部の位置の変位(ずれ量、ずれの方向)を求める。画像処理部30は、例えば、上記と同様に、あらかじめ決められた換算情報を用いて、基準位置に対する明部の位置の変位に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能である。主制御部101は、特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 Similarly, when the focal position of patterned light PL12 is on the front side or when the focal position of patterned light PL13 is on the rear side, a received light image with a blurred outline is acquired. In the received light image, dark areas tend to appear overall. Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image, identifies the position of the bright part in the brightness distribution in the aperture direction, and determines the displacement (displacement amount) of the position of the bright part with respect to a predetermined reference position (position corresponding to the optical axis). , direction of deviation). For example, similar to the above, the image processing unit 30 can use predetermined conversion information to specify the amount and direction of movement of the focal position corresponding to the displacement of the position of the bright area with respect to the reference position. be. The main control unit 101 specifies focus control information from the specified movement amount and movement direction of the focus position, and controls the focusing mechanism 52 based on the specified focus control information.

なお、図9では、合焦時に明部が現れる場合について説明したが、合焦時に暗部が現れる場合も同様である。 Although FIG. 9 describes the case where a bright portion appears during focusing, the same applies to the case where a dark portion appears during focusing.

(第4変形例)
実施形態又はその変形例では、受光側の開口形状に対してパターン光の投影形状が交差する場合について説明したが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。例えば、パターン光の投影形状が、開口方向と略平行な方向に延びる形状であってよい。
(Fourth modification)
In the embodiment or its modified example, a case has been described in which the projected shape of the pattern light intersects with the aperture shape on the light receiving side, but the configuration according to the embodiment is not limited to this. For example, the projected shape of the pattern light may be a shape extending in a direction substantially parallel to the aperture direction.

図10A~図10Cに、実施形態の変形例に係るイメージセンサ22の検出面におけるパターン光の投影形状と受光側の開口形状との関係を模式的に表したものである。図10Aは、主として、合焦時における投影形状と開口形状とを模式的に表す。図10Bは、焦点位置が前側のときの投影形状と開口形状とを模式的に表す。図10Cは、焦点位置が後側のときの投影形状と開口形状とを模式的に表す。図10A~図10Cでは、パターン光PLの投影形状が開口形状AFの開口方向と平行であるものとする。 10A to 10C schematically represent the relationship between the projected shape of the pattern light on the detection surface of the image sensor 22 and the shape of the aperture on the light receiving side according to a modification of the embodiment. FIG. 10A mainly shows schematically the projected shape and the aperture shape at the time of focusing. FIG. 10B schematically represents the projected shape and aperture shape when the focal position is on the front side. FIG. 10C schematically represents the projected shape and aperture shape when the focal position is on the rear side. In FIGS. 10A to 10C, it is assumed that the projected shape of pattern light PL is parallel to the aperture direction of aperture shape AF.

図10Aに示すように、合焦時には、輪郭がはっきりした受光像が取得される。受光像では、全体的に明るくなる。従って、画像処理部30は、受光像を解析して開口方向の輝度分布において明部が特定されたか否かを判別することで、パターン光PLの合焦状態(すなわち、パターン光PLの焦点位置が撮影部位の位置であるか否か)を判別することができる。この場合、明部の輝度レベルと所定の閾値とを比較することにより、明部が特定されたか否かを判別することが可能である。 As shown in FIG. 10A, upon focusing, a received light image with a clear outline is obtained. In the received light image, it becomes brighter overall. Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image and determines whether a bright area is identified in the brightness distribution in the aperture direction, thereby determining the in-focus state of the patterned light PL (i.e., the focal position of the patterned light PL). is the position of the imaging site). In this case, it is possible to determine whether or not the bright portion has been identified by comparing the brightness level of the bright portion with a predetermined threshold.

図10B又は図10Cに示すように、パターン光PLの焦点位置が前側又は後側のとき、輪郭がぼやけ全体的に暗い受光像が取得される。従って、画像処理部30は、受光像を解析して開口方向の輝度分布において明部が特定されたか否かを判別することで、パターン光PLの合焦状態(すなわち、パターン光PLの焦点位置が撮影部位の位置であるか否か)を判別することができる。 As shown in FIG. 10B or 10C, when the focal position of the patterned light PL is on the front side or the rear side, a received light image with a blurred outline and a dark overall light is obtained. Therefore, the image processing unit 30 analyzes the received light image and determines whether a bright area is identified in the brightness distribution in the aperture direction, thereby determining the in-focus state of the patterned light PL (i.e., the focal position of the patterned light PL). is the position of the imaging site).

明部が特定されなかったとき、主制御部101は、パターン光の投影位置と開口形状の位置とを開口方向と直交する方向に相対的に移動する。具体的には、主制御部101は、パターン光発生部11(11a)を制御することにより、撮影部位における投影位置がシフトするようにパターン光を発生させる。或いは、主制御部101は、イメージセンサ22によるパターン光の戻り光の受光結果の読み出しタイミングを制御することにより開口位置を変更し、変更された開口位置に対応する受光像を画像処理部30に取得させる。 When a bright portion is not specified, the main control unit 101 relatively moves the projection position of the pattern light and the position of the aperture shape in a direction perpendicular to the aperture direction. Specifically, the main control unit 101 controls the pattern light generation unit 11 (11a) to generate pattern light so that the projection position on the imaging site is shifted. Alternatively, the main control unit 101 changes the aperture position by controlling the read timing of the light reception result of the return light of the pattern light by the image sensor 22, and sends the received light image corresponding to the changed aperture position to the image processing unit 30. Let them get it.

画像処理部30は、パターン光の投影位置と開口形状の位置とを相対的に移動して得られた2以上の受光像の輝度分布における輝度レベルを特定し、所定の閾値レベルとの差分を求める。画像処理部30は、例えば、あらかじめ求められた差分に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を表す換算情報を用いて、当該差分に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定することが可能である。主制御部101は、特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 The image processing unit 30 specifies the brightness level in the brightness distribution of two or more received light images obtained by relatively moving the projection position of the pattern light and the position of the aperture shape, and calculates the difference from a predetermined threshold level. demand. For example, the image processing unit 30 may specify the amount of movement and the direction of movement of the focus position corresponding to the difference, using conversion information representing the amount of movement and direction of movement of the focus position corresponding to the difference determined in advance. It is possible. The main control unit 101 specifies focus control information from the specified movement amount and movement direction of the focus position, and controls the focusing mechanism 52 based on the specified focus control information.

なお、図10A~図10Cでは、合焦時に明部が現れる場合について説明したが、合焦時に暗部が現れる場合も同様である。 Note that in FIGS. 10A to 10C, the case where a bright portion appears during focusing has been described, but the same applies to the case where a dark portion appears during focusing.

また、図10A~図10Cにおいて、グローバルシャッター方式で受光像を取得してもよい。この場合、パターン光を複数回被検眼に投影する必要がなくなる。 Furthermore, in FIGS. 10A to 10C, the received light images may be acquired using a global shutter method. In this case, there is no need to project the pattern light onto the eye to be examined multiple times.

図11に、実施形態の変形例に係る眼科装置1の動作例のフロー図を示す。記憶部102には、図11に示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。主制御部101は、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図11に示す処理を実行する。 FIG. 11 shows a flowchart of an operation example of the ophthalmologic apparatus 1 according to a modification of the embodiment. A computer program for realizing the processing shown in FIG. 11 is stored in the storage unit 102. The main control unit 101 executes the processing shown in FIG. 11 by operating according to this computer program.

ここでは、図示しないアライメント系により被検眼Eに対して装置光学系のアライメントが完了し、図示しない固視投影系により所望の固視位置に導くように被検眼Eの眼底に対して固視標が投影されているものとする。 Here, alignment of the apparatus optical system with respect to the eye E to be examined is completed by an alignment system (not shown), and a fixation target is set to the fundus of the eye E to be examined so as to guide the eye to a desired fixation position by a fixation projection system (not shown). is projected.

(S11:パターン光を投影)
まず、主制御部101は、パターン光発生部11を制御することにより合焦制御用の投影形状のパターン光を発生させる。
(S11: Project pattern light)
First, the main controller 101 controls the pattern light generator 11 to generate a projection-shaped pattern light for focusing control.

具体的には、パターン光発生部11は、開口形状の開口方向と略平行な方向に延びるパターン光を発生する。パターン光発生部11により発生されたパターン光は、平滑化部12、光学系13、光合波分波器50、及び光学系51を経由し、被検眼Eに投影される。 Specifically, the pattern light generating section 11 generates pattern light extending in a direction substantially parallel to the opening direction of the aperture shape. The pattern light generated by the pattern light generation section 11 is projected onto the eye E through the smoothing section 12, the optical system 13, the optical multiplexer/demultiplexer 50, and the optical system 51.

(S12:受光像を取得)
次に、主制御部101は、ステップS2と同様に、画像処理部30に受光像を取得させる。
(S12: Obtain a received light image)
Next, the main control unit 101 causes the image processing unit 30 to acquire a received light image, similarly to step S2.

(S13:解析)
続いて、主制御部101は、ステップS3と同様に、ステップS12において取得された受光像に対して画像処理部30に所定の解析処理を実行させる。
(S13: Analysis)
Next, the main control unit 101 causes the image processing unit 30 to perform a predetermined analysis process on the received light image acquired in step S12, similarly to step S3.

(S14:合焦状態を特定)
次に、主制御部101は、画像処理部30にパターン光の合焦状態を特定させる。
(S14: Identify the focus state)
Next, the main control unit 101 causes the image processing unit 30 to specify the focused state of the pattern light.

具体的には、画像処理部30は、図10Aに示すように、ステップS13において特定された輝度分布から輝度レベルを特定し、特定された輝度レベルと所定の閾値とを比較することにより受光像が明るいか否かを判定する。 Specifically, as shown in FIG. 10A, the image processing unit 30 specifies the brightness level from the brightness distribution specified in step S13, and compares the specified brightness level with a predetermined threshold value to determine the received light image. Determine whether or not it is bright.

(S15:次?)
ステップS14において、受光像が明るいと判定されたとき、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置であると判定し(S15:N)、眼科装置1の動作はステップS16に移行する。
(S15: Next?)
In step S14, when it is determined that the received light image is bright, it is determined that the focal position of the pattern light is the position of the imaging site (S15:N), and the operation of the ophthalmological apparatus 1 moves to step S16.

受光像が明るくないと判定されたとき、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置ではないと判定し(S15:Y)、眼科装置1の動作はステップS11に移行する。ステップS11では、主制御部101は、パターン光発生部11(11a)を制御することにより、撮影部位における投影位置がシフトするようにパターン光を発生させる。或いは、ステップS11に続くステップS12において、主制御部101は、イメージセンサ22によるパターン光の戻り光の受光結果の読み出しタイミングを制御することにより開口位置を変更し、変更された開口位置に対応する受光像を画像処理部30に取得させる。 When it is determined that the received light image is not bright, it is determined that the focal position of the pattern light is not the position of the photographed region (S15: Y), and the operation of the ophthalmologic apparatus 1 moves to step S11. In step S11, the main control unit 101 controls the pattern light generation unit 11 (11a) to generate pattern light so that the projection position on the imaging site is shifted. Alternatively, in step S12 following step S11, the main control unit 101 changes the aperture position by controlling the readout timing of the reception result of the return light of the pattern light by the image sensor 22, and corresponds to the changed aperture position. The image processing unit 30 is caused to acquire the received light image.

(S16:合焦制御)
続いて、主制御部101は、合焦制御を行う。
(S16: Focus control)
Next, the main control unit 101 performs focusing control.

具体的には、ステップS14において、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置であると判定されたとき、ステップS16がスキップされる。 Specifically, when it is determined in step S14 that the focal position of the pattern light is the position of the imaging site, step S16 is skipped.

一方、ステップS14において、パターン光の焦点位置が撮影部位の位置ではないと判定されたとき、主制御部101は、上記のように、パターン光の投影位置と開口形状の位置とを相対的に移動して得られた2以上の受光像の輝度分布における輝度レベルを特定し、所定の閾値レベルとの差分を求める。画像処理部30は、例えば、あらかじめ決められた換算情報を用いて、求められた差分に対応する焦点位置の移動量及び移動方向を特定する。主制御部101は、特定された焦点位置の移動量及び移動方向から合焦制御情報を特定し、特定された合焦制御情報に基づいて合焦機構52を制御する。 On the other hand, when it is determined in step S14 that the focal position of the pattern light is not the position of the imaging site, the main control unit 101 relatively changes the projection position of the pattern light and the position of the aperture shape, as described above. The brightness level in the brightness distribution of two or more received light images obtained by the movement is specified, and the difference from a predetermined threshold level is determined. The image processing unit 30 uses, for example, predetermined conversion information to specify the amount and direction of movement of the focal position corresponding to the calculated difference. The main control unit 101 specifies focus control information from the specified movement amount and movement direction of the focus position, and controls the focusing mechanism 52 based on the specified focus control information.

(S17:撮影)
次に、主制御部101は、ステップS6と同様に、パターン光発生部11を制御することにより撮影用の投影形状のパターン光を発生させ、被検眼Eの眼底の画像を取得する。
(S17: Shooting)
Next, as in step S6, the main control unit 101 controls the pattern light generation unit 11 to generate a projection-shaped pattern light for photographing, and acquires an image of the fundus of the eye E to be examined.

以上で、眼科装置1の動作は終了である(エンド)。 This is the end of the operation of the ophthalmologic apparatus 1 (END).

なお、本変形例では、ステップS11において、パターン光の投影形状が開口方向と略平行な方向に延びる形状である場合について説明したが、パターン光の投影形状に限定されるものではない。例えば、パターン光の投影形状が、正方形形状、円形形状、輝点であってよい。すなわち、時間的にパターン光の投影形状(被検眼Eにおける投影位置、投影範囲)を順次に変更しつつ得られた被検眼Eの画像を解析することにより、パターン光の合焦状態(又は合焦位置に移動すべき移動量及び移動方向)を特定することが可能である。 In this modification, a case has been described in which the projected shape of the pattern light is a shape extending in a direction substantially parallel to the aperture direction in step S11, but the shape is not limited to the projected shape of the pattern light. For example, the projected shape of the pattern light may be a square shape, a circular shape, or a bright spot. That is, by analyzing images of the eye E obtained while sequentially changing the projection shape of the pattern light (projection position, projection range on the eye E), the focused state (or focus) of the pattern light can be determined. It is possible to specify the amount and direction of movement to be made to the focal position.

以上のように、投影系10は、少なくとも開口方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼Eに投影し、画像処理部30は、受光系20により検出された被検眼Eからのパターン光の戻り光の検出結果に基づいて、所定の開口方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する。画像処理部30は、取得された1以上の受光像の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦状態を特定することができる。いくつかの実施形態では、画像処理部30は、パターン光の投影位置又は開口位置がシフトすることにより取得された2以上の受光像の輝度分布に基づいて、合焦させるための制御内容を特定する。 As described above, the projection system 10 projects pattern light having a projection shape extending at least in the aperture direction onto the eye E, and the image processing unit 30 returns the pattern light from the eye E detected by the light receiving system 20. Based on the light detection results, a received light image corresponding to an aperture shape extending in a predetermined aperture direction is acquired. The image processing unit 30 can identify the focused state of the pattern light based on the luminance distribution of one or more acquired light-receiving images. In some embodiments, the image processing unit 30 specifies the control content for focusing based on the brightness distribution of two or more received light images obtained by shifting the projection position or aperture position of the pattern light. do.

[作用・効果]
実施形態に係る眼科装置、及びその制御方法の作用および効果について説明する。
[Action/Effect]
The functions and effects of the ophthalmologic apparatus and the control method thereof according to the embodiment will be described.

いくつかの実施形態に係る眼科装置(1)は、投影部(投影系10)と、取得部(受光系20、及びイメージセンサ22を制御する制御部100)と、特定部(画像処理部30)とを含む。投影部は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼(E)に投影する。取得部は、被検眼からのパターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも第1方向に交差する第2方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する。特定部は、受光像の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦状態を特定する。 An ophthalmological apparatus (1) according to some embodiments includes a projection section (projection system 10), an acquisition section (light receiving system 20 and a control section 100 that controls the image sensor 22), and a specific section (image processing section 30). ). The projection unit projects pattern light having a projection shape extending in at least the first direction onto the eye (E). The acquisition unit acquires a received light image corresponding to an aperture shape extending at least in a second direction intersecting the first direction, based on a detection result of the return light of the pattern light from the eye to be examined. The identifying unit identifies the focused state of the pattern light based on the brightness distribution of the received light image.

このような構成によれば、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光の戻り光の受光結果に基づいて、少なくとも第1方向に交差する第2方向に延びる開口形状に対応した受光像が取得される。それにより、パターン光の合焦状態に応じて輝度分布が変化する受光像を取得することが可能になる。従って、簡素な構成で,最適な合焦状態を再現性よく特定することが可能になる。 According to such a configuration, a received light image corresponding to the aperture shape extending in at least the second direction intersecting the first direction is obtained based on the reception result of the return light of the pattern light in the projection shape extending in at least the first direction. be done. This makes it possible to obtain a received light image in which the brightness distribution changes depending on the focused state of the pattern light. Therefore, with a simple configuration, it becomes possible to identify the optimal focusing state with good reproducibility.

いくつかの実施形態に係る眼科装置(1)は、投影部(投影系10)と、取得部(受光系20、及びイメージセンサ22を制御する制御部100)と、特定部(画像処理部30)とを含む。投影部は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼(E)に投影する。取得部は、被検眼からのパターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも第1方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する。特定部は、取得部により取得された1以上の受光像における第1方向に交差する第2方向の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦状態を特定する。 An ophthalmological apparatus (1) according to some embodiments includes a projection section (projection system 10), an acquisition section (light receiving system 20 and a control section 100 that controls the image sensor 22), and a specific section (image processing section 30). ). The projection unit projects pattern light having a projection shape extending in at least the first direction onto the eye (E). The acquisition unit acquires a received light image corresponding to an aperture shape extending in at least the first direction based on a detection result of the return light of the pattern light from the eye to be examined. The identification unit identifies the focused state of the pattern light based on the luminance distribution in a second direction intersecting the first direction in the one or more received light images acquired by the acquisition unit.

このような構成によれば、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光の戻り光の受光結果に基づいて、少なくとも第1方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得し、取得された1以上の受光像における第1方向に交差する第2方向の輝度分布に基づいてパターン光の合焦状態が特定される。それにより、簡素な構成で,最適な合焦状態を再現性よく特定することが可能になる。 According to such a configuration, a received light image corresponding to the aperture shape extending at least in the first direction is acquired based on the reception result of the return light of the pattern light having a projection shape extending in at least the first direction, and the acquired one The focused state of the pattern light is specified based on the luminance distribution in the second direction intersecting the first direction in the above-mentioned received light image. This makes it possible to identify the optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration.

いくつかの実施形態では、特定部は、受光像における第2方向の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦制御内容を特定し、特定された合焦制御内容に基づいて、パターン光の合焦制御を行う制御部(110)を含む。 In some embodiments, the identifying unit identifies the focus control details of the pattern light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image, and determines the focus control details of the pattern light based on the identified focus control details. It includes a control section (110) that performs focus control.

このような構成によれば、簡素な構成で、パターン光の合焦制御を行うことが可能になる。 According to such a configuration, it becomes possible to perform focusing control of pattern light with a simple configuration.

いくつかの実施形態では、制御部は、明部又は暗部が所定の位置(イメージセンサ22の検出面における光軸に相当する位置)に移動するように合焦制御を行う。 In some embodiments, the control unit performs focusing control so that the bright portion or the dark portion moves to a predetermined position (a position corresponding to the optical axis on the detection surface of the image sensor 22).

このような構成によれば、受光像に現れる明部又は暗部に基づいて合焦制御を行うことができるので、簡素な構成で、パターン光の合焦制御を行うことが可能になる。 According to such a configuration, focus control can be performed based on bright areas or dark areas appearing in the received light image, so it is possible to perform focus control of pattern light with a simple configuration.

いくつかの実施形態は、パターン光及び戻り光の光路に配置された合焦機構(52)を含み、制御部は、特定された合焦制御内容に基づいて合焦機構を制御する。 Some embodiments include a focusing mechanism (52) disposed in the optical path of the pattern light and the return light, and the control unit controls the focusing mechanism based on the specified focusing control content.

このような構成によれば、簡素な構成で、パターン光の合焦制御を行うことが可能になる。 According to such a configuration, it becomes possible to perform focusing control of pattern light with a simple configuration.

いくつかの実施形態では、投影部は、投影形状を変更可能なパターン光を出力するプロジェクタを含む。 In some embodiments, the projection unit includes a projector that outputs patterned light whose projection shape can be changed.

このような構成によれば、簡便に投影形状を変更してパターン光を出力させることができるので、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定する眼科装置を提供することができるようになる。 According to such a configuration, it is possible to easily change the projection shape and output pattern light, so it is possible to provide an ophthalmological device that can identify the optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration. It becomes like this.

いくつかの実施形態では、投影部は、合焦状態を特定するための第1投影形状のパターン光を出力し、パターン光の合焦制御後に、第1投影形状と異なる第2投影形状のパターン光を出力し、取得部は、第2投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて受光像を取得する。 In some embodiments, the projection unit outputs a pattern of light with a first projection shape for identifying the focused state, and after controlling the focus of the pattern light, outputs a pattern of light with a second projection shape different from the first projection shape. The acquisition unit outputs the light and acquires a received light image based on the detection result of the return light of the pattern light of the second projection shape.

このような構成によれば、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定してパターン光の合焦制御を行い、合焦制御後に、新たにパターン光を出力して被検眼の画像を取得することが可能な眼科装置を提供することができるようになる。 According to such a configuration, with a simple configuration, the optimum focusing state is identified with good reproducibility, the pattern light is controlled to focus, and after the focus control, a new pattern light is output to focus on the subject's eye. It becomes possible to provide an ophthalmological device that can acquire images.

いくつかの実施形態では、取得部は、戻り光を検出するイメージセンサ(22)を含み、ローリングシャッター方式により受光像を取得する。 In some embodiments, the acquisition unit includes an image sensor (22) that detects returned light, and acquires a received light image using a rolling shutter method.

このような構成によれば、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定することが可能な眼科装置を提供することができるようになる。 According to such a configuration, it is possible to provide an ophthalmologic apparatus that can identify an optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration.

いくつかの実施形態に係る眼科装置(1)の制御方法は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼(E)に投影する投影ステップと、被検眼からのパターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも第1方向に交差する第2方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する取得ステップと、受光像の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦状態を特定する特定ステップと、を含む。 A method for controlling an ophthalmologic apparatus (1) according to some embodiments includes a projection step of projecting pattern light in a projection shape extending in at least a first direction onto an eye to be examined (E), and a step of projecting the pattern light back from the eye to be examined. an acquisition step of acquiring a received light image corresponding to an aperture shape extending in at least a second direction intersecting the first direction based on the detection results of and a specific step of doing so.

このような方法によれば、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光の戻り光の受光結果に基づいて、少なくとも第1方向に交差する第2方向に延びる開口形状に対応した受光像が取得される。それにより、パターン光の合焦状態に応じて輝度分布が変化する受光像を取得することが可能になる。従って、簡素な構成で,最適な合焦状態を再現性よく特定することが可能になる。 According to such a method, a received light image corresponding to the aperture shape extending in at least the second direction intersecting the first direction is obtained based on the result of receiving the return light of the pattern light in the projection shape extending in at least the first direction. be done. This makes it possible to obtain a received light image in which the brightness distribution changes depending on the focused state of the pattern light. Therefore, with a simple configuration, it becomes possible to identify the optimal focusing state with good reproducibility.

いくつかの実施形態に係る眼科装置(1)の制御方法は、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光を被検眼(E)に投影する投影ステップと、被検眼からのパターン光の戻り光の検出結果に基づいて、少なくとも第1方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得する取得ステップと、取得ステップにおいて取得された1以上の受光像における第1方向に交差する第2方向の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦状態を特定する特定ステップと、を含む。 A method for controlling an ophthalmologic apparatus (1) according to some embodiments includes a projection step of projecting pattern light in a projection shape extending in at least a first direction onto an eye to be examined (E), and a step of projecting a pattern light that returns from the eye to be examined. an acquisition step of acquiring a received light image corresponding to the aperture shape extending at least in the first direction based on the detection result; and a brightness in a second direction intersecting the first direction in the one or more received light images acquired in the acquisition step. The method includes a step of specifying a focused state of the patterned light based on the distribution.

このような方法によれば、少なくとも第1方向に延びる投影形状のパターン光の戻り光の受光結果に基づいて、少なくとも第1方向に延びる開口形状に対応した受光像を取得し、取得された1以上の受光像における第1方向に交差する第2方向の輝度分布に基づいてパターン光の合焦状態が特定される。それにより、簡素な構成で,最適な合焦状態を再現性よく特定することが可能になる。 According to such a method, a received light image corresponding to an aperture shape extending at least in the first direction is acquired based on the reception result of the return light of the pattern light having a projection shape extending at least in the first direction, and the acquired 1 The focused state of the pattern light is specified based on the luminance distribution in the second direction intersecting the first direction in the above-mentioned received light image. This makes it possible to identify the optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration.

いくつかの実施形態では、特定ステップは、受光像における第2方向の輝度分布に基づいて、パターン光の合焦制御内容を特定し、特定された合焦制御内容に基づいて、パターン光の合焦制御を行う制御ステップを含む。 In some embodiments, the identifying step includes identifying the focus control content of the pattern light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image, and determining the focus control content of the pattern light based on the identified focus control content. A control step for performing focus control is included.

このような方法によれば、簡素な構成で、パターン光の合焦制御を行うことが可能になる。 According to such a method, it becomes possible to perform focusing control of pattern light with a simple configuration.

いくつかの実施形態では、投影ステップは、合焦状態を特定するための第1投影形状のパターン光を出力する第1投影ステップと、パターン光の合焦制御後に、第1投影形状と異なる第2投影形状のパターン光を出力する第2投影ステップと、を含み、取得ステップは、第1投影ステップにおいて投影された第1投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて開口形状に対応した受光像を取得する第1取得ステップと、第2投影ステップにおいて投影された第2投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて受光像を取得する第2取得ステップと、を含む。 In some embodiments, the projecting step includes a first projecting step of outputting a pattern of light having a first projection shape for identifying the focused state, and a first projection step of outputting a pattern of light having a first projection shape different from the first projection shape after controlling the focus of the pattern light. a second projection step of outputting pattern light of two projection shapes, and the acquisition step corresponds to the aperture shape based on the detection result of the return light of the pattern light of the first projection shape projected in the first projection step. a first acquisition step of acquiring a received light image; and a second acquisition step of acquiring a received light image based on the detection result of the return light of the pattern light of the second projection shape projected in the second projection step.

このような方法によれば、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定してパターン光の合焦制御を行い、合焦制御後に、新たにパターン光を出力して被検眼の画像を取得することができるようになる。 According to this method, with a simple configuration, the optimal focusing state is identified with good reproducibility, the pattern light is focused, and after the focus control, a new pattern light is output to focus on the subject's eye. You will be able to obtain images.

いくつかの実施形態では、取得ステップは、戻り光の検出結果に基づいてローリングシャッター方式により受光像を取得する。 In some embodiments, the acquiring step acquires a received light image using a rolling shutter method based on the detection result of the returned light.

このような方法によれば、簡素な構成で、最適な合焦状態を再現性よく特定することができるようになる。 According to such a method, it becomes possible to specify the optimal focusing state with good reproducibility with a simple configuration.

以上に示された実施形態又はその変形例は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。 The embodiment shown above or its modification example is only an example for implementing the present invention. Those who wish to implement this invention can make arbitrary modifications, omissions, additions, etc. within the scope of the gist of this invention.

上記の実施形態又はその変形例において、眼科装置は、例えば、眼軸長測定機能、眼圧測定機能、眼底撮影機能、光干渉断層撮影(OCT)機能、超音波検査機能など、眼科分野において使用可能な任意の機能を有していてもよい。なお、眼軸長測定機能は、光干渉断層計等により実現される。また、眼軸長測定機能は、被検眼に光を投影し、当該被検眼に対する光学系のZ方向(前後方向)の位置を調整しつつ眼底からの戻り光を検出することにより、当該被検眼の眼軸長を測定するようにしてもよい。眼圧測定機能は、眼圧計等により実現される。眼底撮影機能は、眼底カメラや走査型検眼鏡(SLO)等により実現される。OCT機能は、光干渉断層計等により実現される。超音波検査機能は、超音波診断装置等により実現される。また、このような機能のうち2つ以上を具備した装置(複合機)に対してこの発明を適用することも可能である。 In the above embodiments or variations thereof, the ophthalmological apparatus is used in the ophthalmological field, for example, with an axial length measurement function, an intraocular pressure measurement function, a fundus imaging function, an optical coherence tomography (OCT) function, an ultrasound examination function, etc. It may have any possible functionality. Note that the axial length measurement function is realized by an optical coherence tomography device or the like. In addition, the axial length measurement function projects light onto the eye to be examined and detects the return light from the fundus while adjusting the position of the optical system in the Z direction (anterior-posterior direction) with respect to the eye to be examined. The axial length of the eye may be measured. The intraocular pressure measurement function is realized by a tonometer or the like. The fundus photographing function is realized by a fundus camera, a scanning ophthalmoscope (SLO), or the like. The OCT function is realized by optical coherence tomography or the like. The ultrasonic testing function is realized by an ultrasonic diagnostic device or the like. Further, the present invention can also be applied to a device (multifunction device) that has two or more of these functions.

いくつかの実施形態では、上記の眼科装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムが提供される。このようなプログラムを、コンピュータによって読み取り可能な任意の記録媒体に記憶させることができる。この記録媒体としては、たとえば、半導体メモリ、光ディスク、光磁気ディスク(CD-ROM/DVD-RAM/DVD-ROM/MO等)、磁気記憶媒体(ハードディスク/フロッピー(登録商標)ディスク/ZIP等)などを用いることが可能である。また、インターネットやLAN等のネットワークを通じてこのプログラムを送受信することも可能である。 In some embodiments, a program is provided for causing a computer to execute the method for controlling an ophthalmological apparatus described above. Such a program can be stored in any computer-readable recording medium. Examples of this recording medium include semiconductor memory, optical disks, magneto-optical disks (CD-ROM/DVD-RAM/DVD-ROM/MO, etc.), magnetic storage media (hard disks/floppy (registered trademark) disks/ZIP, etc.), etc. It is possible to use It is also possible to send and receive this program via a network such as the Internet or LAN.

1 眼科装置
10 投影系
11、11a パターン光発生部
11A 光源
11C 空間光変調器
12 平滑化部
11B、13、21、51、121 光学系
20 受光系
22 イメージセンサ
30 画像処理部
40 画像出力部
50 光合波分波器
52 合焦機構
100 制御部
101 主制御部
102 記憶部
102A 制御情報
110 操作部
120 自発光デバイス
E 被検眼
1 Ophthalmological apparatus 10 Projection system 11, 11a Pattern light generating section 11A Light source 11C Spatial light modulator 12 Smoothing section 11B, 13, 21, 51, 121 Optical system 20 Light receiving system 22 Image sensor 30 Image processing section 40 Image output section 50 Optical multiplexer/demultiplexer 52 Focusing mechanism 100 Control section 101 Main control section 102 Storage section 102A Control information 110 Operation section 120 Self-luminous device E Subject's eye

Claims (4)

被検眼に受光側の開口の形状に対応した投影形状を有するパターン光を投影し、前記被検眼からの前記パターン光の戻り光を受光するイメージセンサの検出面における前記開口の形状に対応してローリングシャッター方式により前記イメージセンサから前記戻り光の受光結果を読み出す眼科装置であって、
投影形状を変更可能なパターン光を出力するプロジェクタを含み、第1方向に延びる投影形状の前記パターン光を前記被検眼に投影する投影部と、
前記戻り光の検出結果に基づいて、前記第1方向に交差する第2方向に延びる前記開口の形状に対応した受光像を取得する取得部と、
前記受光像の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦状態を特定する特定部と、
を含み、
前記投影部は、前記検出面において前記第2方向に対して直交する方向と異なる交差方向に前記開口と交差するように前記パターン光を投影し、
前記特定部は、前記検出面において前記開口に対する前記パターン光の投影位置に応じて変化する前記輝度分布に基づいて、前記合焦状態を特定し、
前記特定部は、前記受光像における前記第2方向の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦制御内容を特定し、
前記眼科装置は、前記特定された合焦制御内容に基づいて、前記パターン光の合焦制御を行う制御部を含み、
前記投影部は、前記合焦状態を特定するための第1投影形状のパターン光を出力し、前記パターン光の合焦制御後に、前記第1投影形状と異なる第2投影形状のパターン光を出力し、
前記取得部は、前記第2投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて受光像を取得する、眼科装置。
A pattern light having a projection shape corresponding to the shape of the aperture on the light receiving side is projected onto the eye to be examined, and the pattern light corresponds to the shape of the aperture on the detection surface of an image sensor that receives the return light of the pattern light from the eye to be examined. An ophthalmological apparatus that reads out a reception result of the return light from the image sensor using a rolling shutter method,
a projection unit that includes a projector that outputs pattern light whose projection shape can be changed, and projects the pattern light having a projection shape extending in a first direction onto the subject's eye;
an acquisition unit that acquires a received light image corresponding to a shape of the aperture extending in a second direction intersecting the first direction, based on a detection result of the returned light;
a specifying unit that specifies a focused state of the patterned light based on the luminance distribution of the received light image;
including;
The projection unit projects the pattern light on the detection surface so as to intersect the aperture in a crossing direction different from a direction orthogonal to the second direction,
The identifying unit identifies the focused state based on the brightness distribution that changes depending on the projection position of the pattern light with respect to the aperture on the detection surface,
The specifying unit specifies the focus control content of the patterned light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image,
The ophthalmologic apparatus includes a control unit that performs focus control of the patterned light based on the specified focus control content,
The projection unit outputs pattern light having a first projection shape for identifying the focused state, and after controlling the focus of the pattern light, outputs pattern light having a second projection shape different from the first projection shape. death,
The acquisition unit is an ophthalmological apparatus that acquires a received light image based on a detection result of return light of the pattern light having the second projection shape .
前記制御部は、明部又は暗部が所定の位置に移動するように前記合焦制御を行う
ことを特徴とする請求項に記載の眼科装置。
The ophthalmologic apparatus according to claim 1 , wherein the control unit performs the focusing control so that a bright area or a dark area moves to a predetermined position.
前記パターン光及び前記戻り光の光路に配置された合焦機構を含み、
前記制御部は、前記特定された合焦制御内容に基づいて前記合焦機構を制御する
ことを特徴とする請求項又は請求項に記載の眼科装置。
including a focusing mechanism disposed in the optical path of the pattern light and the return light,
The ophthalmologic apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the control unit controls the focusing mechanism based on the specified focusing control content.
投影形状を変更可能なパターン光を出力するプロジェクタを用いて被検眼に受光側の開口の形状に対応した投影形状を有するパターン光を投影し、前記被検眼からの前記パターン光の戻り光を受光するイメージセンサの検出面における前記開口の形状に対応してローリングシャッター方式により前記イメージセンサから前記戻り光の受光結果を読み出す眼科装置の制御方法であって、
第1方向に延びる投影形状の前記パターン光を前記被検眼に投影する投影ステップと、
前記戻り光の検出結果に基づいて、前記第1方向に交差する第2方向に延びる前記開口の形状に対応した受光像を取得する取得ステップと、
前記受光像の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦状態を特定する特定ステップと、
を含み、
前記投影ステップは、前記検出面において前記第2方向に対して直交する方向と異なる交差方向に前記開口と交差するように前記パターン光を投影し、
前記特定ステップは、前記検出面において前記開口に対する前記パターン光の投影位置に応じて変化する前記輝度分布に基づいて、前記合焦状態を特定
前記特定ステップは、前記受光像における前記第2方向の輝度分布に基づいて、前記パターン光の合焦制御内容を特定し、
前記眼科装置の制御方法は、前記特定された合焦制御内容に基づいて、前記パターン光の合焦制御を行う制御ステップを含み、
前記投影ステップは、
前記合焦状態を特定するための第1投影形状のパターン光を出力する第1投影ステップと、
前記パターン光の合焦制御後に、前記第1投影形状と異なる第2投影形状のパターン光を出力する第2投影ステップと、
を含み、
前記取得ステップは、
前記第1投影ステップにおいて投影された前記第1投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて前記開口の形状に対応した受光像を取得する第1取得ステップと、
前記第2投影ステップにおいて投影された前記第2投影形状のパターン光の戻り光の検出結果に基づいて受光像を取得する第2取得ステップと、
を含む、眼科装置の制御方法。
Projecting pattern light having a projection shape corresponding to the shape of the aperture on the light receiving side onto the eye to be examined using a projector that outputs pattern light whose projection shape can be changed , and receiving return light of the pattern light from the eye to be examined. A control method for an ophthalmological apparatus that reads out the reception result of the return light from the image sensor using a rolling shutter method in accordance with the shape of the aperture on the detection surface of the image sensor, the method comprising:
a projection step of projecting the pattern light having a projection shape extending in a first direction onto the eye to be examined;
an acquisition step of acquiring a received light image corresponding to a shape of the aperture extending in a second direction intersecting the first direction, based on the detection result of the return light;
a specifying step of specifying a focused state of the patterned light based on the luminance distribution of the received light image;
including;
The projection step projects the pattern light so as to intersect the aperture in a cross direction different from a direction perpendicular to the second direction on the detection surface,
The identifying step identifies the focused state based on the brightness distribution that changes depending on the projection position of the pattern light with respect to the aperture on the detection surface,
The specifying step specifies the focus control content of the pattern light based on the luminance distribution in the second direction in the received light image,
The method for controlling the ophthalmological apparatus includes a control step of controlling the focus of the patterned light based on the specified focus control content,
The projection step includes:
a first projection step of outputting pattern light having a first projection shape for specifying the focused state;
After controlling the focus of the patterned light, a second projection step of outputting patterned light having a second projection shape different from the first projection shape;
including;
The acquisition step includes:
a first acquisition step of acquiring a received light image corresponding to the shape of the aperture based on a detection result of the return light of the pattern light of the first projection shape projected in the first projection step;
a second acquisition step of acquiring a received light image based on a detection result of the return light of the pattern light of the second projection shape projected in the second projection step;
A method of controlling an ophthalmological device , including :
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