JP7422048B2 - optical laminate - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate.

近年、有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELともいう。)表示装置に代表される画像表示装置が急速に普及している。有機EL表示装置には、偏光子及び位相差フィルムを備える円偏光板やさらに他光学機能層を積層された光学積層体が搭載される。 In recent years, image display devices typified by organic electroluminescent (hereinafter also referred to as organic EL) display devices have rapidly become popular. An organic EL display device is equipped with an optical laminate in which a circularly polarizing plate including a polarizer and a retardation film and other optical functional layers are laminated.

有機EL表示装置等の画像表示装置向けの位相差フィルムとしては、従来の樹脂フィルムを延伸したものや、液晶化合物を材料にして形成したものが検討され、画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴って、位相差フィルム及びそれを備える光学積層体についても薄型化が求められている(例えば、特許文献1参照)。この様な位相差フィルムを有する光学積層体は、温度変化による膨張収縮により位相差フィルムを起点としてクラックが生じることがあった。特に急激な温度変化(熱衝撃)が与えられると、クラックが生じやすい。この様なクラックが発生すると光学積層体の耐久性はもとより、表示装置の視認性も低下することがあった。 As retardation films for image display devices such as organic EL display devices, those made by stretching conventional resin films and those made from liquid crystal compounds are being considered, and there is a demand for thinner image display devices. As the strength increases, retardation films and optical laminates including the same are also required to be made thinner (see, for example, Patent Document 1). In an optical laminate having such a retardation film, cracks may occur starting from the retardation film due to expansion and contraction due to temperature changes. In particular, cracks are likely to occur when a sudden temperature change (thermal shock) is applied. When such cracks occur, not only the durability of the optical laminate but also the visibility of the display device may deteriorate.

特開2017-102286号公報Japanese Patent Application Publication No. 2017-102286

本発明の目的は、上記課題を解決することであり、位相差フィルムを有する光学積層体であって、急激な温度変化(熱衝撃)を受ける環境でも、クラックの発生を抑制できる光学積層体を提供することである。 The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide an optical laminate having a retardation film, which can suppress the occurrence of cracks even in an environment subject to sudden temperature changes (thermal shock). It is to provide.

本発明は、以下の[1]~[5]で示される光学積層体を提供する。
[1]位相差フィルムを有する光学積層体であって、前記位相差フィルムは、フィルム面に対し突刺し冶具の先端を垂直に押圧し、破断が生じたときの、前記突刺し冶具の先端から前記位相差フィルムへ加えられた応力F(g)と前記位相差フィルムのひずみ量S(mm)を用いて下記式(1)にて算出される突刺し弾性率が50g/mm以下であることを特徴とする光学積層体。

(1)突刺し弾性率(g/mm)=F(g)/S(mm)

[2]前記位相差フィルムは、重合性液晶化合物が硬化した位相差層を含む[1]の光学積層体。
[3]前記位相差フィルムは、配向層をさらに含む[2]の光学積層体。
[4]前記位相差層は、垂直配向性を有する[2]または[3]の光学積層体。
[5]前記光学積層体は、さらに偏光板を有する[1]~[4]のいずれかの光学積層体。
本発明は、以下の[6]で示される表示装置も提供する。
[6][1]~[5]のいずれかに記載の光学積層体が、表示素子に積層されている表示装置。
The present invention provides optical laminates shown in [1] to [5] below.
[1] An optical laminate having a retardation film, wherein the retardation film is formed by pressing the tip of the stabbing jig perpendicularly against the film surface, and when breakage occurs, the retardation film is separated from the tip of the stabbing jig. The puncture elastic modulus calculated by the following formula (1) using the stress F (g) applied to the retardation film and the amount of strain S (mm) of the retardation film is 50 g / mm or less. An optical laminate featuring:

(1) Puncture elastic modulus (g/mm) = F (g)/S (mm)

[2] The optical laminate according to [1], wherein the retardation film includes a retardation layer made of a cured polymerizable liquid crystal compound.
[3] The optical laminate according to [2], wherein the retardation film further includes an alignment layer.
[4] The optical laminate according to [2] or [3], in which the retardation layer has vertical alignment.
[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], further comprising a polarizing plate.
The present invention also provides a display device shown in [6] below.
[6] A display device in which the optical laminate according to any one of [1] to [5] is laminated on a display element.

本発明によれば、位相差フィルムを有する光学積層体であって、急激な温度変化を受ける環境下でも、クラックの発生を抑制できる光学積層体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical laminate having a retardation film, which can suppress the occurrence of cracks even in an environment subject to rapid temperature changes.

(a)~(c)は、本発明の光学積層体の層構成を示す概略断面図の一例である。(a) to (c) are examples of schematic cross-sectional views showing the layer structure of the optical laminate of the present invention. 有機EL表示装置の層構成を示す概略断面図の一例である。1 is an example of a schematic cross-sectional view showing a layer structure of an organic EL display device. 実施例1~6、比較例1、2にて作製した光学積層体を用いた熱衝撃試験時の層構成を示す概略断面図である。2 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure during a thermal shock test using the optical laminates produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2. FIG.

(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)突刺し弾性率
フィルム面に対し突刺し冶具の先端を垂直に押圧し、破断が生じたときの、前記突刺し冶具の先端から前記フィルムへ加えられた応力F(g)と貫通穴または破断が生じるまでにフィルムに生じたひずみ量S(mm)を用いて定義したフィルムの物性値であり、応力FとひずみSの間の比例定数(応力F/ひずみS)として表される。
突刺し弾性率の測定には、ロードセルを備えた圧縮試験機で行うことができ、圧縮試験機の例としては、カトーテック株式会社製の突き刺し試験機“NDG5”、ハンディー圧縮試験機“KES-G5”、株式会社島津製作所の小型卓上試験機 “EZ Test”等を挙げられる。この様な圧縮試験機を用いてもとめられる応力―ひずみ曲線から、破断が生じた際にフィルムに加えられた応力とそれまでにフィルムに生じたひずみ量を測定することができる。
突刺し冶具押圧時にフィルムに生じる破断には、冶具先端によりフィルムに貫通穴が生じる場合も含まれる。
(2)配向層
位相差層を形成する重合性液晶化合物の分子軸の方向を所望の位相差特性となるように規制する能力を有する層を示す。重合性液晶化合物が硬化した層(位相差層)は、配向層を介して基板上に形成される。配向層としては、配向性ポリマーを含む配向層、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向層が挙げられる。
(3)垂直配向性
位相差層を形成する重合性液晶化合物の分子軸の方向が、光学積層体を構成する各層の積層面に対し、略垂直となった状態を示す。垂直配向性を示す位相差層として代表的なものとしてポジティブC層が挙げられる。
(4)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大となる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(5)面内の位相差値
面内の位相差値(Re[λ])は、23℃、波長λ(nm)におけるフィルムの面内の位相差値をいう。Re[λ]は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、Re[λ]=(nx-ny)×dによって求められる。
(6)厚み方向の位相差値
面内の位相差値(Rth[λ])は、23℃、波長λ(nm)におけるフィルムの厚み方向の位相差値をいう。Rth[λ]は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、Rth[λ]=((nx+ny)/2-nz)×dによって求められる。
(Definition of terms and symbols)
Definitions of terms and symbols used herein are as follows.
(1) Puncture elastic modulus When the tip of the piercing jig is pressed perpendicularly to the film surface and breakage occurs, stress F (g) applied to the film from the tip of the piercing jig and the through hole Alternatively, it is a physical property value of a film defined using the amount of strain S (mm) generated in the film before breakage occurs, and is expressed as a proportionality constant between stress F and strain S (stress F/strain S).
The piercing modulus of elasticity can be measured using a compression testing machine equipped with a load cell. Examples of compression testing machines include the piercing testing machine "NDG5" manufactured by Kato Tech Co., Ltd., and the handy compression testing machine "KES-". G5" and Shimadzu Corporation's small tabletop testing machine "EZ Test". From the stress-strain curve obtained using such a compression tester, it is possible to measure the stress applied to the film at the time of breakage and the amount of strain that has occurred in the film up to that point.
Breaks that occur in the film when pressed by the stabbing jig include cases where a through hole is created in the film by the jig tip.
(2) Orientation layer This refers to a layer that has the ability to regulate the direction of the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound forming the retardation layer so that it has desired retardation characteristics. A layer (retardation layer) in which a polymerizable liquid crystal compound is cured is formed on a substrate via an alignment layer. Examples of the alignment layer include an alignment layer containing an alignment polymer, a photo alignment film, and a groove alignment layer in which a concavo-convex pattern or a plurality of grooves are formed on the surface for alignment.
(3) Vertical alignment A state in which the direction of the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound forming the retardation layer is approximately perpendicular to the lamination plane of each layer constituting the optical laminate. A typical example of a retardation layer exhibiting vertical alignment is a positive C layer.
(4) Refractive index (nx, ny, nz)
"nx" is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (that is, the slow axis direction), "ny" is the in-plane direction perpendicular to the slow axis, and "nz" is the refractive index in the thickness direction. It is the refractive index.
(5) In-plane retardation value The in-plane retardation value (Re[λ]) refers to the in-plane retardation value of the film at 23° C. and wavelength λ (nm). Re[λ] is determined by Re[λ]=(nx−ny)×d, where d (nm) is the thickness of the film.
(6) Retardation value in the thickness direction The in-plane retardation value (Rth[λ]) refers to the retardation value in the thickness direction of the film at 23° C. and wavelength λ (nm). Rth[λ] is determined by Rth[λ]=((nx+ny)/2−nz)×d, where d (nm) is the thickness of the film.

<光学積層体>
本発明の光学積層体は、位相差フィルムを有し、前記位相差フィルムの突刺し弾性率は、50g/mm以下である。また、前記位相差フィルムは位相差層を有する。位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物から構成される層を有することが好ましい。重合性液晶化合物を含む組成物から構成される層とは、具体的には、重合性液晶化合物が硬化した層を意味する。本明細書において、λ/2の位相差を与える層、λ/4の位相差を与える層(ポジティブA層)及びポジティブC層等を総称して、位相差層ということがある。さらに、位相差フィルムは後述の配向層を含んでいてもよい。
<Optical laminate>
The optical laminate of the present invention includes a retardation film, and the retardation film has a puncture elastic modulus of 50 g/mm or less. Further, the retardation film has a retardation layer. The retardation layer preferably has a layer made of a composition containing a polymerizable liquid crystal compound. Specifically, the layer composed of a composition containing a polymerizable liquid crystal compound means a layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured. In this specification, a layer that provides a retardation of λ/2, a layer that provides a retardation of λ/4 (positive A layer), a positive C layer, etc. may be collectively referred to as a retardation layer. Furthermore, the retardation film may include an alignment layer described below.

以下、図1を参照して、本発明の光学積層体の層構成の一例を説明する。図1(a)に示す光学積層体100は、配向層11の一方の面に位相差層10が積層され、配向層11のもう一方の面に粘着剤層12を備える層構成を有する。粘着剤層12は、有機EL表示素子等へ貼合するための粘着剤層であることができる。この光学積層体100において、位相差フィルム1は、位相差層10と配向層11とで構成されている。 Hereinafter, an example of the layer structure of the optical laminate of the present invention will be explained with reference to FIG. The optical laminate 100 shown in FIG. 1A has a layer structure in which a retardation layer 10 is laminated on one surface of an alignment layer 11, and an adhesive layer 12 is provided on the other surface of the alignment layer 11. The adhesive layer 12 can be an adhesive layer for bonding to an organic EL display element or the like. In this optical laminate 100, the retardation film 1 is composed of a retardation layer 10 and an alignment layer 11.

図1(b)に示す光学積層体101は、図1(a)の位相差層10の配向層11と積層される反対側の面に、接着剤層13を介して第2の位相差フィルム2を積層した層構成を有する。粘着剤層12は、図1(a)と同様、有機EL表示素子等へ貼合するための粘着剤層であることができる。この光学積層体101において、第1の位相差フィルム1は、位相差層10と配向層11とで構成されている。 The optical laminate 101 shown in FIG. 1(b) has a second retardation film attached to the surface of the retardation layer 10 of FIG. 1(a) opposite to the orientation layer 11 via an adhesive layer 13. It has a layered structure in which 2 layers are laminated. The adhesive layer 12 can be an adhesive layer for bonding to an organic EL display element or the like, as in FIG. 1(a). In this optical laminate 101, the first retardation film 1 is composed of a retardation layer 10 and an alignment layer 11.

図1(c)に示す光学積層体102は、図1(b)の第2の位相差フィルム2の第1の位相差フィルム1と積層される反対側の面に、接着剤層または粘着剤層を介して偏光板3を積層した層構成を有する。ここで、第2の位相差フィルム2と偏光板3とを貼合するための接着剤層または粘着剤層については図示していない。粘着剤層12は、図1(a)、(b)と同様、有機EL表示素子、タッチセンサ等へ貼合するための粘着剤層であることができる。この光学積層体102において、第1の位相差フィルム1は位相差層10と配向層11とで構成されている。 The optical laminate 102 shown in FIG. 1(c) has an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive on the surface of the second retardation film 2 in FIG. 1(b) opposite to the first retardation film 1. It has a layered structure in which polarizing plates 3 are laminated via layers. Here, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer for bonding the second retardation film 2 and the polarizing plate 3 is not illustrated. The adhesive layer 12 can be an adhesive layer for bonding to an organic EL display element, a touch sensor, etc., as in FIGS. 1(a) and 1(b). In this optical laminate 102, the first retardation film 1 is composed of a retardation layer 10 and an alignment layer 11.

図1に示すように本発明の光学積層体は、位相差フィルムを2層以上有していてもよい。光学積層体中に複数の位相差フィルムを備える場合は、少なくとも1つの位相差フィルムの突刺し弾性率が、50g/mm以下であればよいが、温度変化によるクラック発生を抑制する観点から光学積層体中に含まれるすべての位相差フィルムの突刺し弾性率が、50g/mm以下であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the optical laminate of the present invention may have two or more layers of retardation films. When a plurality of retardation films are included in the optical laminate, the puncture elastic modulus of at least one retardation film may be 50 g/mm or less, but from the viewpoint of suppressing crack generation due to temperature changes, the optical laminate It is preferable that the puncture elastic modulus of all retardation films contained in the body be 50 g/mm or less.

位相差フィルムの位相差層を、重合性液晶化合物を含む組成物から構成される層(重合性液晶化合物が硬化した層)とすると、本発明の突刺し弾性率50g/mm以下とすることが容易となるので好ましい。また、位相差フィルムは、重合性液晶化合物を配向させるための配向層を有していてもよい。また、その製造段階においては、配向層を支持する基材をさらに有していてもよい。 When the retardation layer of the retardation film is a layer composed of a composition containing a polymerizable liquid crystal compound (a layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured), the puncture elastic modulus of the present invention can be set to 50 g/mm or less. This is preferred because it is easy. Moreover, the retardation film may have an alignment layer for aligning the polymerizable liquid crystal compound. Further, at the manufacturing stage, it may further include a base material that supports the alignment layer.

重合性液晶化合物は、重合性基を有する化合物であって、液晶状態となりうる化合物である。重合性液晶化合物の重合性基同士が反応して重合性液晶化合物が重合することにより、重合性液晶化合物が硬化する。
重合性液晶化合物が硬化した層は例えば、基材に設けられた配向層上に形成される。前記基材は、配向層を支持する機能を有し、長尺に形成されている基材であってもよい。この基材は、離型性支持体として機能し、転写用の位相差層や配向層を支持することができる。さらに、その表面が剥離可能な程度の接着力を有するものが好ましい。前記基材としては、透光性を有する(好ましくは光学的に透明な)熱可塑性樹脂、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリプロピレン系樹脂等)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂等)のようなポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;メタクリル酸メチル系樹脂のような(メタ)アクリル系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリ塩化ビニル系樹脂;アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂;アクリロニトリル・スチレン系樹脂;ポリ酢酸ビニル系樹脂;ポリ塩化ビニリデン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリアセタール系樹脂;変性ポリフェニレンエーテル系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリアミドイミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;マレイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。
A polymerizable liquid crystal compound is a compound that has a polymerizable group and can be in a liquid crystal state. The polymerizable liquid crystal compound is cured by the polymerizable groups of the polymerizable liquid crystal compound reacting with each other and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound.
A layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured is formed, for example, on an alignment layer provided on a base material. The base material may be a long base material that has a function of supporting the alignment layer. This base material functions as a releasable support and can support a retardation layer and an alignment layer for transfer. Furthermore, it is preferable that the surface has adhesive strength to the extent that it can be peeled off. The base material may be a translucent (preferably optically transparent) thermoplastic resin, such as a chain polyolefin resin (such as a polypropylene resin) or a cyclic polyolefin resin (such as a norbornene resin). polyolefin resins; cellulose resins such as triacetylcellulose and diacetylcellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; polycarbonate resins; (meth)acrylic resins such as methyl methacrylate resins; Polystyrene resin; Polyvinyl chloride resin; Acrylonitrile/butadiene/styrene resin; Acrylonitrile/styrene resin; Polyvinyl acetate resin; Polyvinylidene chloride resin; Polyamide resin; Polyacetal resin; Modified polyphenylene ether resin; The film may be made of a polysulfone resin; a polyethersulfone resin; a polyarylate resin; a polyamideimide resin; a polyimide resin; a maleimide resin.

基材の厚みとしては、特に限定されないが、例えば20μm以上200μm以下の範囲とすることが好ましい。基材の厚さが20μm以上であると、強度が付与される。 The thickness of the base material is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 μm or more and 200 μm or less, for example. Strength is imparted when the thickness of the base material is 20 μm or more.

なお、基材は、種々のブロッキング防止処理が施されていてもよい。ブロッキング防止処理としては、例えば、易接着処理、フィラー等を練り込ませる処理、エンボス加工(ナーリング処理)等が挙げられる。このようなブロッキング防止処理を基材に対して施すことによって、基材を巻き取る際の基材同士の張り付き、いわゆるブロッキングを効果的に防止することができ、生産性高く光学フィルムを製造することが可能となる。 Note that the base material may be subjected to various anti-blocking treatments. Examples of the blocking prevention treatment include an adhesion-promoting treatment, a treatment in which a filler or the like is kneaded, an embossing process (knurling process), and the like. By applying such anti-blocking treatment to the base material, it is possible to effectively prevent the base materials from sticking to each other when they are wound up, so-called blocking, and to manufacture optical films with high productivity. becomes possible.

重合性液晶化合物が硬化した層は、配向層を介して基材上に形成される。すなわち、基材、配向層の順で積層され、重合性液晶化合物が硬化した層は前記配向層上に積層される。 A layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured is formed on the substrate via an alignment layer. That is, the base material and the alignment layer are laminated in this order, and the layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured is laminated on the alignment layer.

なお、配向層は、垂直配向層に限らず、重合性液晶化合物の分子軸を水平配向させる配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を傾斜配向させる配向層であってもよい。配向層としては、後述する重合性液晶化合物を含む組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向層としては、配向性ポリマーを含む配向層、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向層が挙げられる。配向層の厚さは、通常10nm~10000nmの範囲である。 Note that the alignment layer is not limited to a vertical alignment layer, but may be an alignment layer that horizontally aligns the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound, or may be an alignment layer that obliquely aligns the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound. . As the alignment layer, one that has a solvent resistance that does not dissolve when a composition containing a polymerizable liquid crystal compound described below is coated, etc., and has heat resistance in heat treatment for removing the solvent and aligning the liquid crystal compound. preferable. Examples of the alignment layer include an alignment layer containing an alignment polymer, a photo alignment film, and a groove alignment layer in which a concavo-convex pattern or a plurality of grooves are formed on the surface for alignment. The thickness of the alignment layer typically ranges from 10 nm to 10,000 nm.

また、配向層は位相差層を支持する機能を有し、離型性支持体として機能してもよい。転写用の位相差層を支持することができ、さらにその表面が剥離可能な程度の接着力を有するものでもよい。 Further, the alignment layer has a function of supporting the retardation layer and may function as a releasable support. It may be capable of supporting a retardation layer for transfer, and may also have adhesive strength to the extent that its surface can be peeled off.

配向層に用いる樹脂としては、重合性化合物が重合した樹脂が用いられる。重合性化合物は、重合性基を有する化合物であって、通常は、液晶状態とならない非液晶性の重合性非液晶性化合物である。重合性化合物の重合性基同士が反応して重合性化合物が重合することにより、樹脂となる。このような樹脂としては、位相差層の形成段階で重合性液晶化合物を配向させるための配向層として利用し、位相差フィルムに含まれないものであれば、公知の配向層の材料として用いられる樹脂であれば特に限定されるものではなく、従来公知の単官能又は多官能の(メタ)アクリレート系モノマーを重合開始剤下で硬化させた硬化物等を用いることができる。具体的に、(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、2-エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、2-フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、ウレタンアクリレート等を例示することができる。なお、樹脂としては、これらの1種類であってもよいし、2種類以上の混合物であってもよい。
配向層は、位相差層を形成した後、他光学フィルム等と積層させる工程の前後において、基材とともに剥離除去することができる。
As the resin used for the alignment layer, a resin obtained by polymerizing a polymerizable compound is used. The polymerizable compound is a compound having a polymerizable group, and is usually a non-liquid crystal polymerizable non-liquid crystal compound that does not enter a liquid crystal state. The polymerizable groups of the polymerizable compound react with each other and the polymerizable compound is polymerized to become a resin. Such a resin is used as an alignment layer for aligning a polymerizable liquid crystal compound at the stage of forming a retardation layer, and as long as it is not included in a retardation film, it can be used as a material for a known alignment layer. The resin is not particularly limited as long as it is a resin, and a cured product obtained by curing a conventionally known monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate monomer in the presence of a polymerization initiator can be used. Specifically, (meth)acrylate monomers include, for example, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether acrylate, diethylene glycol monophenyl ether acrylate, tetraethylene glycol monophenyl ether acrylate, and trimethylolpropane triacrylate. , lauryl acrylate, lauryl methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, benzyl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate , cyclohexyl methacrylate, methacrylic acid, urethane acrylate and the like. Note that the resin may be one type of these or a mixture of two or more types.
After forming the retardation layer, the alignment layer can be peeled off and removed together with the base material before and after the step of laminating it with another optical film or the like.

また、基材との剥離性向上および位相差フィルムに膜強度を付与する目的で、位相差フィルムに配向層を含めることができる。位相差フィルムが配向層を含む場合、突刺し弾性率50g/mm以下とする観点から、配向層に用いる樹脂として単官能や2官能の(メタ)アクリレート系モノマー、イミド系モノマーもしくはビニルエーテル系モノマーを硬化させた硬化物等を用いることが好ましい。
単官能の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、炭素数4から16のアルキル(メタ)アクリレート、炭素数2から14のβカルボキシアルキル(メタ)アクリレート、炭素数2から14のアルキル化フェニル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート及びイソボニル(メタ)アクリレート等が挙げられ、2官能の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート;1,3-ブタンジオール(メタ)アクリレート;1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート;トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジアクリレート;ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテル;エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート;プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート;エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及び3-メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、イミド系モノマーを硬化させたイミド系樹脂としては、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられる。なお、イミド系樹脂としては、これらの1種類であってもよいし、2種類以上の混合物であってもよい。
また、配向層を形成する樹脂として、単官能や2官能の(メタ)アクリレート系モノマー、イミド系モノマーおよびビニルエーテル系モノマー以外のモノマーを含んでいてもよいが、単官能や2官能の(メタ)アクリレート系モノマー、イミド系モノマーおよびビニルエーテル系モノマーの含有割合が、総モノマー中で50重量%以上であってもよく、55重量%以上であることが好ましく、60重量%以上であることがより好ましい。
Further, the retardation film can include an alignment layer for the purpose of improving the releasability from the base material and imparting film strength to the retardation film. When the retardation film includes an alignment layer, from the viewpoint of a puncture modulus of 50 g/mm or less, monofunctional or bifunctional (meth)acrylate monomers, imide monomers, or vinyl ether monomers are used as the resin for the alignment layer. It is preferable to use a cured product.
Monofunctional (meth)acrylate monomers include alkyl (meth)acrylates having 4 to 16 carbon atoms, β-carboxyalkyl (meth)acrylates having 2 to 14 carbon atoms, and alkylated phenyl (meth)acrylates having 2 to 14 carbon atoms. Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, isobonyl (meth)acrylate, etc. are mentioned, and the bifunctional (meth)acrylate monomer includes 1,3-butanediol di(meth)acrylate. Acrylate; 1,3-butanediol (meth)acrylate; 1,6-hexanediol di(meth)acrylate; ethylene glycol di(meth)acrylate; diethylene glycol di(meth)acrylate; neopentyl glycol di(meth)acrylate; Ethylene glycol di(meth)acrylate; Tetraethylene glycol di(meth)acrylate; Polyethylene glycol diacrylate; Bis(acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A; Ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate; Propoxylated neopentyl glycol diacrylate (Meth)acrylate; Examples include ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate and 3-methylpentanediol di(meth)acrylate.
Furthermore, examples of imide resins obtained by curing imide monomers include polyamides, polyimides, and the like. Note that the imide resin may be one type of these or a mixture of two or more types.
Furthermore, the resin forming the alignment layer may contain monomers other than monofunctional or difunctional (meth)acrylate monomers, imide monomers, and vinyl ether monomers, but monofunctional or difunctional (meth)acrylate monomers may be included. The content of the acrylate monomer, imide monomer, and vinyl ether monomer may be 50% by weight or more, preferably 55% by weight or more, and more preferably 60% by weight or more in the total monomers. .

配向層が位相差フィルムに含まれる場合、配向層の厚さは、通常10nm~10000nmの範囲であり、位相差層の配向性がフィルム面に対し面内配向である場合、配向層の厚みは、10nm~1000nmであることが好ましく、配向層の配向性がフィルム面に対し垂直配向である場合は、100nm~10000nmであることが好ましい。配向層の厚みが上記範囲内であると、基材の剥離性向上および適度な膜強度を付与することができる。 When the orientation layer is included in the retardation film, the thickness of the orientation layer is usually in the range of 10 nm to 10,000 nm, and when the orientation of the retardation layer is in-plane orientation with respect to the film surface, the thickness of the orientation layer is , 10 nm to 1000 nm, and when the orientation of the alignment layer is perpendicular to the film surface, it is preferably 100 nm to 10000 nm. When the thickness of the alignment layer is within the above range, it is possible to improve the peelability of the base material and provide appropriate film strength.

本実施形態で使用される重合性液晶化合物の種類については、特に限定されないものの、その形状から、棒状タイプ(棒状液晶化合物)と円盤状タイプ(円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物)とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。なお、高分子とは、一般に重合度が100以上のものを言う(高分子物理・相転移ダイナミクス、土井 正男著、2頁、岩波書店、1992)。 Although the type of polymerizable liquid crystal compound used in this embodiment is not particularly limited, it is classified into a rod-shaped type (rod-shaped liquid crystal compound) and a disc-shaped type (disc-shaped liquid crystal compound, discotic liquid crystal compound) based on its shape. can. Furthermore, there are low-molecular type and high-molecular type, respectively. Note that polymers generally refer to those having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer Physics/Phase Transition Dynamics, Masao Doi, p. 2, Iwanami Shoten, 1992).

本実施形態では、何れの重合性液晶化合物を用いることもできる。さらに、2種以上の棒状液晶化合物や、2種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。 In this embodiment, any polymerizable liquid crystal compound can be used. Furthermore, two or more kinds of rod-like liquid crystal compounds, two or more kinds of discotic liquid crystal compounds, or a mixture of a rod-like liquid crystal compound and a discotic liquid crystal compound may be used.

なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報の請求項1に記載のものを好適に用いることができる。円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007-108732号公報の段落[0020]~[0067]、又は、特開2010-244038号公報の段落[0013]~[0108]に記載のものを好適に用いることができる。 As the rod-shaped liquid crystal compound, for example, those described in claim 1 of Japanese Patent Publication No. Hei 11-513019 can be suitably used. As the discotic liquid crystal compound, for example, those described in paragraphs [0020] to [0067] of JP-A No. 2007-108732 or paragraphs [0013] to [0108] of JP-A No. 2010-244038 are preferable. It can be used for.

重合性液晶化合物は、2種類以上を併用してもよい。その場合、少なくとも1種類が分子内に2以上の重合性基を有している。すなわち、前記重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。 Two or more types of polymerizable liquid crystal compounds may be used in combination. In that case, at least one type has two or more polymerizable groups in the molecule. That is, the layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured is preferably a layer formed by fixing a liquid crystal compound having a polymerizable group by polymerization. In this case, it is no longer necessary to exhibit liquid crystallinity after forming a layer.

重合性液晶化合物は、重合反応をし得る重合性基を有する。重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基や環重合性基などの付加重合反応が可能な官能基が好ましい。より具体的には、重合性基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などを挙げることができる。その中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。なお、(メタ)アクリロイル基とは、メタアクリロイル基及びアクリロイル基の両者を包含する概念である。 The polymerizable liquid crystal compound has a polymerizable group that can undergo a polymerization reaction. As the polymerizable group, for example, a functional group capable of an addition polymerization reaction such as a polymerizable ethylenically unsaturated group or a ring polymerizable group is preferable. More specifically, examples of the polymerizable group include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among these, a (meth)acryloyl group is preferred. Note that the (meth)acryloyl group is a concept that includes both a methacryloyl group and an acryloyl group.

重合性液晶化合物が硬化した層は、後述するように、重合性液晶化合物を含む組成物を、例えば配向層上に塗工し、活性エネルギー線を照射することによって形成することができる。前記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、前記組成物には、重合開始剤が含まれていることが好ましい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤が選択される。例えば、光重合開始剤としては、α-カルボニル化合物、アシロインエーテル、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。重合開始剤の使用量は、前記塗工液中の全固形分に対して、0.01~20質量%であることが好ましく、0.5~5質量%であることがより好ましい。
本発明における「硬化した」とは、形成された層単独でも変形、流動することなく自立して存在できる状態を示し、形成された層の突刺し弾性率は、通常3g/mm以上である。
The layer in which the polymerizable liquid crystal compound is cured can be formed by applying, for example, a composition containing the polymerizable liquid crystal compound onto the alignment layer and irradiating it with active energy rays, as described below. The composition may contain components other than the above-mentioned polymerizable liquid crystal compound. For example, it is preferable that the composition contains a polymerization initiator. The polymerization initiator used is selected from, for example, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator depending on the type of polymerization reaction. Examples of the photopolymerization initiator include α-carbonyl compounds, acyloin ethers, α-hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compounds, polynuclear quinone compounds, and combinations of triarylimidazole dimer and p-aminophenyl ketone. The amount of the polymerization initiator used is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content in the coating liquid.
In the present invention, "hardened" refers to a state in which the formed layer alone can exist independently without deforming or flowing, and the puncture elastic modulus of the formed layer is usually 3 g/mm or more.

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。その中でも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。 Further, the composition may contain a polymerizable monomer from the viewpoint of uniformity of the coating film and strength of the film. Examples of the polymerizable monomer include radically polymerizable or cationically polymerizable compounds. Among these, polyfunctional radically polymerizable monomers are preferred.

なお、重合性モノマーとしては、上述した重合性液晶化合物と共重合することができるものが好ましい。重合性モノマーの使用量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、1~50質量%であることが好ましく、2~30質量%であることがより好ましい。 The polymerizable monomer is preferably one that can be copolymerized with the above-mentioned polymerizable liquid crystal compound. The amount of the polymerizable monomer used is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight, based on the total weight of the polymerizable liquid crystal compound.

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられる。その中でも特に、フッ素系化合物が好ましい。 Further, the composition may contain a surfactant from the viewpoint of uniformity of the coating film and strength of the film. Examples of the surfactant include conventionally known compounds. Among these, fluorine compounds are particularly preferred.

また、前記組成物には、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、アミド(例、N,N-ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン)が挙げられる。その中でも、アルキルハライド、ケトンが好ましい。また、2種類以上の有機溶媒を併用してもよい。 Further, the composition may contain a solvent, and organic solvents are preferably used. Examples of organic solvents include amides (e.g., N,N-dimethylformamide), sulfoxides (e.g., dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (e.g., pyridine), hydrocarbons (e.g., benzene, hexane), alkyl halides (e.g. , chloroform, dichloromethane), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone), and ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Among them, alkyl halides and ketones are preferred. Furthermore, two or more types of organic solvents may be used in combination.

また、前記組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤などの垂直配向促進剤、並びに、偏光子界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤などの水平配向促進剤といった各種配向剤が含まれていてもよい。さらに、前記組成物には、上記成分以外にも、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。 The composition also includes a vertical alignment promoter such as a polarizer interface side vertical alignment agent and an air interface side vertical alignment agent, and a horizontal alignment promoter such as a polarizer interface side horizontal alignment agent and an air interface side horizontal alignment agent. It may contain various alignment agents such as an agent. Furthermore, the composition may contain an adhesion improver, a plasticizer, a polymer, etc. in addition to the above components.

上記活性エネルギー線は、紫外線、可視光、電子線、X線を含み、好ましくは紫外線である。前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲380~440nmを発光するLED光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。 The active energy rays include ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays, and preferably ultraviolet rays. Examples of the light source of the active energy ray include a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp, an excimer laser, and a wavelength range. Examples include an LED light source that emits light in the range of 380 to 440 nm, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave-excited mercury lamp, and a metal halide lamp.

紫外線の照射強度は、通常、紫外線B波(波長域280~310nm)の場合、100mW/cm~3,000mW/cmである。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。紫外線を照射する時間は、通常0.1秒~10分であり、好ましくは0.1秒~5分であり、より好ましくは0.1秒~3分であり、さらに好ましくは0.1秒~1分である。 The irradiation intensity of ultraviolet rays is usually 100 mW/cm 2 to 3,000 mW/cm 2 in the case of ultraviolet B waves (wavelength range 280 to 310 nm). The ultraviolet irradiation intensity is preferably an intensity in a wavelength range effective for activating a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator. The time for irradiating ultraviolet rays is usually 0.1 seconds to 10 minutes, preferably 0.1 seconds to 5 minutes, more preferably 0.1 seconds to 3 minutes, and even more preferably 0.1 seconds. ~1 minute.

紫外線は、1回または複数回に分けて照射することができる。使用する重合開始剤にもよるが、波長365nmにおける積算光量は、700mJ/cm以上とすることが好ましく、1,100mJ/cm以上とすることがより好ましく、1,300mJ/cm以上とすることがさらに好ましい。上記積算光量とすることは、位相差フィルムを構成する重合性液晶化合物の重合率を高め、耐熱性を向上させるのに有利である。波長365nmにおける積算光量は、2,000mJ/cm以下とすることが好ましく、1,800mJ/cm以下とすることがより好ましい。上記積算光量とすることは、位相差フィルムの着色を招くおそれがある。また、紫外線の照射後に、冷却工程を設けてもよい。冷却温度は、例えば、20℃以下とすることができ、10℃以下とすることができる。冷却時間は、例えば、10秒間以上とすることができ、20秒間以上とすることができる。 The ultraviolet rays can be irradiated once or in multiple times. Although it depends on the polymerization initiator used, the cumulative light amount at a wavelength of 365 nm is preferably 700 mJ/cm 2 or more, more preferably 1,100 mJ/cm 2 or more, and 1,300 mJ/cm 2 or more. It is more preferable to do so. Setting the cumulative light amount as above is advantageous for increasing the polymerization rate of the polymerizable liquid crystal compound constituting the retardation film and improving the heat resistance. The integrated light amount at a wavelength of 365 nm is preferably 2,000 mJ/cm 2 or less, more preferably 1,800 mJ/cm 2 or less. Setting the above cumulative light amount may cause coloring of the retardation film. Further, a cooling step may be provided after irradiation with ultraviolet rays. The cooling temperature can be, for example, 20°C or lower, or 10°C or lower. The cooling time can be, for example, 10 seconds or more, or 20 seconds or more.

本実施形態において位相差層の厚みは、0.5μm以上であることが好ましい。また、前記位相差層の厚みは、10μm以下であることが好ましく、5μm以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。位相差層の厚みが前記下限値以上であると、十分な耐久性が得られる。位相差層の厚みが前記上限値以下であると、光学積層体の薄層化に貢献し得る。位相差層の厚みは、λ/4の位相差を与える層、λ/2の位相差を与える層、又はポジティブC層の所望の面内位相差値、及び厚み方向の位相差値が得られるよう調整され得る。
位相差フィルム中には、それぞれ別の異なる位相差特性を有する複数の位相差層が積層されたものが含まれていてもよい。それぞれの位相差層は、接着剤や粘着剤を介して積層してもよいし、すでに形成された位相差層の表面に重合性液晶化合物を含む組成物を塗工し、硬化させてもよい。
In this embodiment, the thickness of the retardation layer is preferably 0.5 μm or more. Further, the thickness of the retardation layer is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. In addition, the upper limit value and lower limit value mentioned above can be combined arbitrarily. When the thickness of the retardation layer is equal to or greater than the lower limit, sufficient durability can be obtained. When the thickness of the retardation layer is less than or equal to the upper limit value, it can contribute to making the optical laminate thinner. The thickness of the retardation layer is such that the desired in-plane retardation value and thickness direction retardation value of the layer giving a retardation of λ/4, the layer giving a retardation of λ/2, or the positive C layer can be obtained. It can be adjusted accordingly.
The retardation film may include a stack of a plurality of retardation layers each having different retardation characteristics. Each retardation layer may be laminated via an adhesive or pressure-sensitive adhesive, or a composition containing a polymerizable liquid crystal compound may be applied to the surface of an already formed retardation layer and cured. .

位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した位相差層のみから形成される場合、突刺し弾性率を大幅に小さくすることができるため、熱衝撃によるクラック発生を抑えることができるので好ましい。位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した位相差層のみから形成される場合、位相差フィルムの突刺し弾性率は、例えば40g/mm以下や35g/mm以下であることができ、好ましくは30g/mm以下、より好ましくは25g/mm以下、さらに好ましくは15g/mm以下であり、通常3g/mm以上である。膜強度を保持する観点から突刺し弾性率は7g/mm以上であることが好ましい。 When the retardation film is formed only from a retardation layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured, it is preferable because the puncture elastic modulus can be significantly reduced and crack generation due to thermal shock can be suppressed. When the retardation film is formed only from a retardation layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured, the puncture elastic modulus of the retardation film can be, for example, 40 g/mm or less or 35 g/mm or less, and is preferably It is 30 g/mm or less, more preferably 25 g/mm or less, even more preferably 15 g/mm or less, and usually 3 g/mm or more. From the viewpoint of maintaining membrane strength, the puncture elastic modulus is preferably 7 g/mm or more.

一方、位相差フィルムは、重合性液晶化合物が硬化した位相差層と配向層から形成される場合、温度変化よるクラック抑制と適度な基材との剥離性および膜強度を維持する観点から、位相差フィルムの突刺し弾性率の下限値は、好ましくは15g/mm以上、より好ましくは20g/mm以上であり、上限値としては50g/mm以下、好ましくは40g/mm以下、さらに好ましくは30g/mm以下(通常5g/mm以上)とすることができる。 On the other hand, when a retardation film is formed from a retardation layer and an alignment layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured, the retardation film is The lower limit of the puncture elastic modulus of the retardation film is preferably 15 g/mm or more, more preferably 20 g/mm or more, and the upper limit is 50 g/mm or less, preferably 40 g/mm or less, and even more preferably 30 g/mm. mm or less (usually 5 g/mm or more).

上記のとおり、本発明の位相差フィルムは、位相差層のみから構成されていてもよいし、位相差層と配向層とから構成されていてもよいが、この位相差フィルムは、以下の計算式(A)

Figure 0007422048000001
で示される重合性基量Nが0.67以下、さらには0.64以下であることが好ましい。
重合性基量Nは通常0.01以上、好ましくは0.03以上である。
ここで、
ALは、位相差フィルムを構成する配向層を構成する樹脂を構成する重合性化合物に由来する構成単位の種類数を示す。なお、位相差フィルムが位相差層のみから構成されている場合には、AL=0である。
Cwiは、配向層を構成する樹脂における重合性化合物に由来する全構成単位を基準として、重合性化合物iに由来する構成単位の含有量(質量%)を示し、
Miは、配向層を構成する重合性化合物iの分子量を示し、
Niは、配向層を構成する重合性化合物iが有する重合性基の数を示す。
LCは、位相差層が重合性液晶化合物の硬化した層である場合に、位相差層を構成する重合性液晶化合物に由来する構成単位の種類数を示す。
Cwjは、位相差層における重合性液晶化合物に由来する全構成単位を基準として、重合性液晶化合物jに由来する構成単位の含有量(質量%)を示し、
Mjは、位相差層を構成する重合性液晶化合物jの分子量を示し、
Njは、位相差層を構成する重合性液晶化合物iが有する重合性基の数を示す。
ALは配向層の厚さ(μm)を示し、LLCは位相差層の厚さ(μm)を示す。
totalは、LALとLLCとの和を示す。 As mentioned above, the retardation film of the present invention may be composed of only a retardation layer or a retardation layer and an alignment layer. Formula (A)
Figure 0007422048000001
It is preferable that the amount N of polymerizable groups represented by is 0.67 or less, more preferably 0.64 or less.
The amount of polymerizable groups N is usually 0.01 or more, preferably 0.03 or more.
here,
AL indicates the number of types of structural units derived from the polymerizable compound constituting the resin constituting the alignment layer constituting the retardation film. In addition, when a retardation film is comprised only of a retardation layer, AL=0.
Cwi indicates the content (mass%) of structural units derived from polymerizable compound i, based on all structural units derived from polymerizable compounds in the resin constituting the alignment layer,
Mi indicates the molecular weight of the polymerizable compound i constituting the alignment layer,
Ni indicates the number of polymerizable groups that the polymerizable compound i that constitutes the alignment layer has.
LC indicates the number of types of structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound constituting the retardation layer when the retardation layer is a hardened layer of a polymerizable liquid crystal compound.
Cwj indicates the content (mass%) of the structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound j, based on all the structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound in the retardation layer,
Mj indicates the molecular weight of the polymerizable liquid crystal compound j constituting the retardation layer,
Nj indicates the number of polymerizable groups that the polymerizable liquid crystal compound i that constitutes the retardation layer has.
L AL indicates the thickness (μm) of the alignment layer, and L LC indicates the thickness (μm) of the retardation layer.
L total indicates the sum of L AL and L LC .

光学積層体が積層された表示装置の使用環境下において、温度変化が生じると光学積層体を構成する位相差フィルム、他光学フィルムや接着剤、粘着剤層において膨張、収縮が生じる。他構成部材の膨張、収縮による寸法変化の影響が位相差フィルムに集中し易い。温度変化による他部材の寸法変化に対し、位相差フィルムが追従できなくなり、位相差フィルムを起点としたクラックが生じやすい。
この様な温度変化によるクラックは、位相差フィルムが10μm以下の薄膜である場合や位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した位相差層を有する場合に生じやすい。特に位相差フィルムが位相差層または位相差層と配向層から形成され、位相差層または配向層に直接粘着剤や接着剤層が積層された場合にクラックが生じやすく、位相差層の配向性が、ポジティブC層の様な垂直配向性を有する場合は、その傾向が顕著となることがある。
本願の光学積層体は、その構成要素である位相差フィルムの突刺し弾性率を50g/mm以下とすることにより、前述の温度変化による他部材の寸法変化に対しても位相差フィルムが追従でき、上述のクラックが生じやすい位相差フィルムや光学積層体の構成でも好適にその発生を抑制することができる。
When a temperature change occurs in a usage environment of a display device on which an optical laminate is laminated, expansion and contraction occur in the retardation film, other optical films, adhesives, and pressure-sensitive adhesive layers constituting the optical laminate. The effects of dimensional changes due to expansion and contraction of other constituent members tend to concentrate on the retardation film. The retardation film becomes unable to follow the dimensional changes of other members due to temperature changes, and cracks are likely to occur starting from the retardation film.
Cracks due to such temperature changes are likely to occur when the retardation film is a thin film of 10 μm or less or when the retardation film has a retardation layer made of a cured polymerizable liquid crystal compound. In particular, cracks are likely to occur when a retardation film is formed from a retardation layer or a retardation layer and an orientation layer, and a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer is directly laminated on the retardation layer or orientation layer. However, when the layer has vertical alignment like a positive C layer, this tendency may become noticeable.
In the optical laminate of the present application, by setting the puncture elastic modulus of the retardation film, which is a component thereof, to 50 g/mm or less, the retardation film can follow the dimensional changes of other components due to the aforementioned temperature change. Even in the structure of a retardation film or an optical laminate that is prone to cracks as described above, the occurrence of cracks can be suitably suppressed.

本願の光学積層体は、2つ以上の位相差フィルムを有してもよい。光学積層体が、位相差フィルムを2層含む場合、2層はλ/4の位相差を与える層およびポジティブC層、またはλ/4の位相差を与える層およびλ/2の位相差を与える層であることが好ましい。
光学積層体が、位相差フィルムを2層含む場合、それぞれの位相差フィルムの位相差層を接着剤層や粘着剤層を介して積層してもよい。光学積層体の薄膜化の観点から複数の層を積層した位相差フィルムの厚みは、3~30μmであることが好ましく、5~25μmであることがより好ましい。
The optical laminate of the present application may have two or more retardation films. When the optical laminate includes two layers of retardation films, the two layers are a layer that provides a retardation of λ/4 and a positive C layer, or a layer that provides a retardation of λ/4 and a layer that provides a retardation of λ/2. Preferably, it is a layer.
When the optical laminate includes two retardation films, the retardation layers of the respective retardation films may be laminated via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. From the viewpoint of thinning the optical laminate, the thickness of the retardation film formed by laminating a plurality of layers is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 25 μm.

光学積層体の構成において、2つ以上の位相差フィルムを有し、それら位相差フィルムの少なくとも一つが、重合性液晶化合物が硬化した垂直配向性を示す位相差層を有する場合、熱衝撃によりクラックがより発生しやすい傾向がある。特に活性エネルギー線硬化性接着剤を介して位相差フィルム同士が積層され、且つその接着剤層の貯蔵弾性率が3000MPa以上である場合にクラックの発生が顕著となることがある。光学積層体が二つの位相差フィルムを有する場合の位相差特性の組み合わせとしては、例えば、位相差層がλ/4の位相差を与える層を有する位相差フィルムと垂直配向性を与える層を有する位相差フィルムの組み合わせが挙げられる。この様な構成の光学積層体でも、位相差フィルムの突刺し弾性率を本願で規定する範囲とすることにより、効率的にクラックの発生を抑制することができる。 In the configuration of an optical laminate, if there are two or more retardation films, and at least one of the retardation films has a retardation layer showing vertical alignment in which a polymerizable liquid crystal compound is cured, cracks may occur due to thermal shock. tends to occur more easily. In particular, when retardation films are laminated together via an active energy ray-curable adhesive and the storage modulus of the adhesive layer is 3000 MPa or more, cracks may occur significantly. When the optical laminate has two retardation films, for example, the retardation layer has a retardation film having a layer giving a retardation of λ/4 and a layer giving vertical alignment. A combination of retardation films can be mentioned. Even in an optical laminate having such a configuration, the occurrence of cracks can be efficiently suppressed by setting the puncture elastic modulus of the retardation film within the range specified in the present application.

位相差フィルム中に配向層が含まれる場合は、配向層の鉛筆硬度やスチールウール硬度等の耐摩耗性評価を熱衝撃によるクラック抑制の指標として用いることができる。
例えば鉛筆硬度は、JIS K 5600-5-4:1999に準じて求められ、各硬度の鉛筆を用いて引っかいたときに傷が生じない最も硬い鉛筆の硬度で表される。配向層の鉛筆硬度は、3B以下とすると熱衝撃によるクラック発生を抑制することができるので好ましい。
他指標としてのスチールウール硬度は、例えばスチールウール試験機(大栄精機社製)にて、クリーンルーム用ワイパー(旭化成株式会社製 BEMCOT AZ-8)を試験対象の表面にそれぞれ500gの荷重で接触させ、40r/minの速度で4往復摩耗試験を行い、目視にて確認されたキズの本数にて示すことができる。配向層に対するスチールウール試験にて測定されるキズの本数は、熱衝撃によるクラック発生を抑制するうえで、4本以上であることが好ましく、8本以上であることがさらに好ましい。
取り扱い性や有機EL表示装置等の表示装置の視認性の観点から、鉛筆硬度は通常5B以上であり、スチールウール試験で測定されるキズの本数は、通常50本以下であり、20本以下であることが好ましく、10本以下であることがより好ましい。
When an alignment layer is included in the retardation film, evaluation of wear resistance such as pencil hardness or steel wool hardness of the alignment layer can be used as an index for suppressing cracks due to thermal shock.
For example, pencil hardness is determined according to JIS K 5600-5-4:1999, and is expressed as the hardness of the hardest pencil that does not cause scratches when scratched with a pencil of each hardness. It is preferable that the pencil hardness of the alignment layer is 3B or less because this can suppress the occurrence of cracks due to thermal shock.
Steel wool hardness as another index can be determined by, for example, using a steel wool tester (manufactured by Daiei Seiki Co., Ltd.) and contacting the surface of the test object with a clean room wiper (BEMCOT AZ-8, manufactured by Asahi Kasei Corporation) with a load of 500 g. A 4-reciprocating abrasion test was conducted at a speed of 40 r/min, and the number of scratches was visually confirmed. The number of scratches measured by a steel wool test on the alignment layer is preferably 4 or more, more preferably 8 or more in order to suppress the occurrence of cracks due to thermal shock.
From the viewpoint of ease of handling and visibility of display devices such as organic EL display devices, the pencil hardness is usually 5B or more, and the number of scratches measured by the steel wool test is usually 50 or less, and 20 or less. It is preferable that there be one, and more preferably 10 or less.

上記位相差フィルムの光弾性係数は、好ましくは3~100×10-13Pa-1、より好ましくは5~70×10-13Pa-1であり、さらに好ましくは15~60×10-13Pa-1であり、よりさらに好ましくは20~60×10-13Pa-1である。なお、光弾性係数は、例えば、位相差測定装置KOBRA-WPR(王子計測機器株式会社製)を用いて、サンプル(サイズ1cm×10cm)の両端を挟持して応力(0.5N~3N)をかけながら、サンプル中央の位相差値(23℃/波長550nm)を測定し、応力と位相差値の関数の傾きから算出することができる。 The photoelastic coefficient of the retardation film is preferably 3 to 100×10 −13 Pa −1 , more preferably 5 to 70×10 −13 Pa −1 , and even more preferably 15 to 60×10 −13 Pa -1 , and even more preferably 20 to 60×10 −13 Pa −1 . The photoelastic coefficient can be determined by applying stress (0.5N to 3N) by holding both ends of a sample (size 1cm x 10cm) using, for example, a phase difference measuring device KOBRA-WPR (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.). The retardation value (23° C./wavelength 550 nm) at the center of the sample is measured while applying the stress, and can be calculated from the slope of the function of stress and retardation value.

光学積層体は、図1に示した層以外の層を有することができる。光学積層体がさらに有していてもよい層としては、前面板、遮光パターン、偏光板などの光学機能層や、他光学機能層と積層させるための接着剤層や粘着剤層、タッチセンサ等が挙げられる。前面板は、偏光板3における位相差フィルムが積層された側とは反対側に配置されることができる。遮光パターンは、前面板における偏光板側の面上に形成することができる。遮光パターンは、画像表示装置の額縁(非表示領域)に形成され、画像表示装置の配線が使用者に視認されないようにすることができる。タッチセンサは、粘着剤層12を介して、光学積層体に積層されることができる。 The optical laminate can have layers other than those shown in FIG. Examples of layers that the optical laminate may further include include optical functional layers such as a front plate, a light shielding pattern, and a polarizing plate, an adhesive layer or adhesive layer for laminating with other optical functional layers, a touch sensor, etc. can be mentioned. The front plate can be placed on the opposite side of the polarizing plate 3 to the side on which the retardation film is laminated. The light shielding pattern can be formed on the surface of the front plate on the polarizing plate side. The light-shielding pattern is formed on the frame (non-display area) of the image display device, and can prevent the wiring of the image display device from being visually recognized by the user. The touch sensor can be laminated to the optical laminate via the adhesive layer 12.

光学積層体の主面の形状は、実質的に矩形であることができる。主面とは表示面に対応する最も広い面積を有する面を意味する。実質的に矩形であるとは、4つの隅(角部)のうち少なくとも1つの角部が鈍角となるように切除された形状や丸みを設けた形状であったり、主面に垂直な端面の一部が面内方向に窪んだ凹み部(切り欠け)を有したり、主面内の一部が、円形、楕円形、多角形及びそれらの組合せ等の形状にくり抜かれた穴あき部を有したりしてもよいことをいう。 The shape of the main surface of the optical laminate can be substantially rectangular. The main surface means the surface having the widest area corresponding to the display surface. "Substantially rectangular" means a shape in which at least one of the four corners (corners) is cut off so that it becomes an obtuse angle, or a shape in which the end face is perpendicular to the main surface. A part of the main surface has a recessed part (notch) in the in-plane direction, or a part of the main surface has a hole cut out in a shape such as a circle, an ellipse, a polygon, or a combination thereof. It means something that you may have.

光学積層体の大きさは特に限定されない。光学積層体が実質的に矩形である場合、長辺の長さは6cm以上35cm以下であることが好ましく、10cm以上30cm以下であることがより好ましく、短辺の長さは5cm以上30cm以下であることが好ましく、6cm以上25cm以下であることがより好ましい。 The size of the optical laminate is not particularly limited. When the optical laminate is substantially rectangular, the length of the long side is preferably 6 cm or more and 35 cm or less, more preferably 10 cm or more and 30 cm or less, and the short side length is 5 cm or more and 30 cm or less. The length is preferably 6 cm or more and 25 cm or less.

光学積層体の厚さは、通常50~500μmであるが、薄膜化の観点から、150μm以下が好ましく、105μm以下がより好ましいが、光学積層体の厚さが105μm以下となると熱衝撃を受けた際、位相差フィルムを起点としたクラックが光学積層体全体に広がりやすい。
この様な薄膜の光学積層体となっても、位相差フィルムの突刺し弾性率を本願で規定する範囲とすることにより、温度変化によるクラック発生を好適に抑制することができる。
The thickness of the optical laminate is usually 50 to 500 μm, but from the viewpoint of thinning the film, it is preferably 150 μm or less, more preferably 105 μm or less, but if the thickness of the optical laminate is 105 μm or less, thermal shock may occur. In this case, cracks originating from the retardation film tend to spread throughout the optical laminate.
Even in the case of such a thin-film optical laminate, by setting the puncture elastic modulus of the retardation film within the range specified in the present application, it is possible to suitably suppress the occurrence of cracks due to temperature changes.

本願の位相差フィルムは、熱衝撃によるクラック発生を抑えるという観点から、基材付きのカール量を低減させた方がよい。カール量は基材付きの構成で、10cm×10cm角に切り出し、23℃55%に24時間調湿後に測定することができる。カール量は、基材の種類、厚みによって異なるが、基材が15~25μm(例えば20μm)の環状ポリオレフィン系樹脂(COP)フィルムの場合、4辺のカール量の平均値として、10mm以下が好ましく、さら5mm以下が好ましい。 In the retardation film of the present application, it is better to reduce the amount of curl attached to the base material from the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks due to thermal shock. The amount of curl can be measured by cutting out a 10 cm x 10 cm square with a base material and conditioning it at 23°C and 55% humidity for 24 hours. The amount of curl varies depending on the type and thickness of the base material, but when the base material is a cyclic polyolefin resin (COP) film of 15 to 25 μm (for example, 20 μm), the average value of the amount of curl on the four sides is preferably 10 mm or less. , and preferably 5 mm or less.

<偏光板>
本発明において偏光板とは、偏光子単独、または、偏光子の少なくとも1つの面に貼合された保護フィルムとからなる積層体のことをいう。偏光フィルムが備える保護フィルムは、後述のハードコート層、反射防止層、帯電防止層などの表面処理層を有していてもよい。偏光子と保護フィルムとは、例えば接着剤層や粘着剤層を介して積層することができる。偏光板が備える部材について、以下に説明する。
<Polarizing plate>
In the present invention, the polarizing plate refers to a laminate consisting of a polarizer alone or a protective film bonded to at least one surface of the polarizer. The protective film included in the polarizing film may have a surface treatment layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, and an antistatic layer, which will be described later. The polarizer and the protective film can be laminated, for example, via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. The members included in the polarizing plate will be explained below.

(1)偏光子
偏光板が備える偏光子は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する(透過軸と平行な)振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光子であることができる。第1の層が有する偏光子としては、一軸延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光子を好適に用いることができる。偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程;ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程;二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液等の架橋液で処理する工程;及び、架橋液による処理後に水洗する工程を含む方法によって製造できる。
(1) Polarizer The polarizer included in a polarizing plate absorbs linearly polarized light whose vibration plane is parallel to its absorption axis, and transmits linearly polarized light whose vibration plane is perpendicular to its absorption axis (parallel to its transmission axis). It can be an absorptive polarizer with properties. As the polarizer included in the first layer, a polarizer in which a dichroic dye is adsorbed and aligned on a uniaxially stretched polyvinyl alcohol resin film can be suitably used. The polarizer is produced by, for example, a process in which a polyvinyl alcohol resin film is uniaxially stretched; a process in which a dichroic dye is adsorbed by dyeing a polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye; a process in which a dichroic dye is adsorbed; It can be produced by a method including a step of treating an alcohol-based resin film with a crosslinking liquid such as a boric acid aqueous solution; and a step of washing with water after the treatment with the crosslinking liquid.

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体の例は、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド類等を含む。 As the polyvinyl alcohol resin, a saponified polyvinyl acetate resin can be used. Examples of polyvinyl acetate-based resins include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and copolymers of vinyl acetate with other monomers that can be copolymerized. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth)acrylamides having an ammonium group.

本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル及びメタクリルから選択される少なくとも一方を意味する。「(メタ)アクリロイル」、「(メタ)アクリレート」等においても同様である。 In this specification, "(meth)acrylic" means at least one selected from acrylic and methacryl. The same applies to "(meth)acryloyl", "(meth)acrylate", etc.

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は通常、85~100mol%であり、98mol%以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は通常、1000~10000であり、1500~5000が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726に準拠して求めることができる。 The degree of saponification of polyvinyl alcohol resin is usually 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol resin is usually 1,000 to 10,000, preferably 1,500 to 5,000. The average degree of polymerization of polyvinyl alcohol resin can be determined in accordance with JIS K 6726.

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光子(偏光子)の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚みは特に制限されないが、偏光子の厚みを15μm以下とするためには、5~35μmのものを用いることが好ましい。より好ましくは、20μm以下である。 A film made of such a polyvinyl alcohol resin is used as an original film of a polarizer (polarizer). The method of forming a polyvinyl alcohol resin into a film is not particularly limited, and any known method may be employed. The thickness of the polyvinyl alcohol base film is not particularly limited, but in order to make the thickness of the polarizer 15 μm or less, it is preferable to use one having a thickness of 5 to 35 μm. More preferably, it is 20 μm or less.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、架橋処理の前又は架橋処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。 The uniaxial stretching of the polyvinyl alcohol resin film can be performed before, simultaneously with, or after dyeing with the dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing, this uniaxial stretching may be performed before or during crosslinking treatment. Further, uniaxial stretching may be performed in these plural steps.

一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤や水を用いてポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は通常、3~8倍である。 In the uniaxial stretching, it may be uniaxially stretched between rolls having different circumferential speeds, or it may be uniaxially stretched using hot rolls. Further, the uniaxial stretching may be dry stretching in which the film is stretched in the atmosphere, or wet stretching in which the polyvinyl alcohol resin film is stretched in a swollen state using a solvent or water. The stretching ratio is usually 3 to 8 times.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、該フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。 As a method for dyeing a polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye, for example, a method of immersing the film in an aqueous solution containing a dichroic dye is adopted. Iodine and dichroic organic dyes are used as the dichroic dye. In addition, it is preferable that the polyvinyl alcohol resin film is subjected to a immersion treatment in water before the dyeing treatment.

二色性色素による染色後の架橋処理としては通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液は、ヨウ化カリウムを含有することが好ましい。 As the crosslinking treatment after dyeing with a dichroic dye, a method of immersing the dyed polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing boric acid is usually employed. When using iodine as the dichroic dye, the boric acid-containing aqueous solution preferably contains potassium iodide.

偏光子の厚みは、通常30μm以下であり、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは13μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下であり、特に好ましくは8μm以下である。偏光子の厚みは、通常2μm以上であり、3μm以上であることが好ましい。 The thickness of the polarizer is usually 30 μm or less, preferably 15 μm or less, more preferably 13 μm or less, even more preferably 10 μm or less, particularly preferably 8 μm or less. The thickness of the polarizer is usually 2 μm or more, preferably 3 μm or more.

偏光子としては、例えば特開2016-170368号公報に記載されるように、液晶化合物が重合した硬化膜中に、二色性色素が配向したものを使用してもよい。二色性色素としては、波長380~800nmの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。液晶化合物は、配向したまま重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。また、WO2011/024891に記載されるように、液晶性を有する二色性色素から偏光子を形成してもよい。 As the polarizer, for example, as described in JP-A No. 2016-170368, a polarizer in which a dichroic dye is oriented in a cured film in which a liquid crystal compound is polymerized may be used. As the dichroic dye, one having absorption within the wavelength range of 380 to 800 nm can be used, and it is preferable to use an organic dye. Examples of dichroic dyes include azo compounds. The liquid crystal compound is a liquid crystal compound that can be polymerized while being oriented, and can have a polymerizable group in the molecule. Further, as described in WO2011/024891, a polarizer may be formed from a dichroic dye having liquid crystallinity.

偏光子の収縮力は、好ましくは2.0N/2mm以下であり、より好ましくは1.8N/mm以下であり、さらに好ましくは1.5N以下である。 The shrinkage force of the polarizer is preferably 2.0 N/2 mm or less, more preferably 1.8 N/mm or less, and still more preferably 1.5 N/mm or less.

(2)保護フィルム
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも1つの面に保護フィルムを有していてもよい。偏光子と位相差フィルムの間に保護フィルムを有する場合は、負の複屈折性を持つことが好ましい。ここで、負の複屈折性とは、樹脂の延伸方向と垂直な方向に遅相軸が発現することを意味する。位相差フィルムとしては、正の複屈折性を持つ位相差層を含むものを用いることから、偏光子の熱収縮に伴う位相差フィルムの位相差発現とは逆の位相差が発現されるため、色変化が小さくなると考えられる。ここで、正の複屈折性とは、位相差フィルムの延伸方向と平行な方向に遅相軸が発現することを意味する。
(2) Protective film The polarizing plate of the present invention may have a protective film on at least one surface of the polarizer. When a protective film is provided between the polarizer and the retardation film, it is preferable that the film has negative birefringence. Here, negative birefringence means that a slow axis appears in a direction perpendicular to the stretching direction of the resin. Since the retardation film includes a retardation layer with positive birefringence, a retardation opposite to that of the retardation film due to thermal contraction of the polarizer is developed. It is thought that the color change will be smaller. Here, positive birefringence means that a slow axis is expressed in a direction parallel to the stretching direction of the retardation film.

偏光子に積層される保護フィルムは、透光性を有する(好ましくは光学的に透明な)熱可塑性樹脂、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリプロピレン系樹脂等)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂等)のようなポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;メタクリル酸メチル系樹脂のような(メタ)アクリル系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリ塩化ビニル系樹脂;アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂;アクリロニトリル・スチレン系樹脂;ポリ酢酸ビニル系樹脂;ポリ塩化ビニリデン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリアセタール系樹脂;変性ポリフェニレンエーテル系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリアミドイミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;マレイミド系樹脂等からなるフィルムであることができる。 The protective film laminated on the polarizer is made of a translucent (preferably optically transparent) thermoplastic resin, such as a chain polyolefin resin (polypropylene resin, etc.), a cyclic polyolefin resin (norbornene resin, etc.). Polyolefin resins such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose; Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; Polycarbonate resins; (meth) resins such as methyl methacrylate resins; Acrylic resin; Polystyrene resin; Polyvinyl chloride resin; Acrylonitrile/butadiene/styrene resin; Acrylonitrile/styrene resin; Polyvinyl acetate resin; Polyvinylidene chloride resin; Polyamide resin; Polyacetal resin; Modified polyphenylene The film may be made of an ether resin; a polysulfone resin; a polyether sulfone resin; a polyarylate resin; a polyamideimide resin; a polyimide resin; a maleimide resin.

特に、偏光子と位相差フィルムの間に用いる保護フィルムは、負の複屈折性を持つものを用いることが好ましい。つまり、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、マレイミド系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むフィルムを用いることが好ましい。このような樹脂フィルムを保護フィルムとして用いることで、異形形状に加工した場合でも、耐久性に優れた偏光板とすることができる。 In particular, the protective film used between the polarizer and the retardation film preferably has negative birefringence. That is, it is preferable to use a film containing at least one selected from the group consisting of (meth)acrylic resin, polystyrene resin, and maleimide resin. By using such a resin film as a protective film, a polarizing plate with excellent durability can be obtained even when processed into an irregular shape.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物を主な構成モノマーとする樹脂である。(メタ)アクリル系樹脂の具体例は、例えば、ポリメタクリル酸メチルのようなポリ(メタ)アクリル酸エステル;メタクリル酸メチル-(メタ)アクリル酸共重合体;メタクリル酸メチル-(メタ)アクリル酸エステル共重合体;メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル-(メタ)アクリル酸共重合体;(メタ)アクリル酸メチル-スチレン共重合体(MS樹脂等);メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体(例えば、メタクリル酸メチル-メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル-(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体等)を含む。好ましくは、ポリ(メタ)アクリル酸メチルのようなポリ(メタ)アクリル酸C1-6アルキルエステルを主成分とする重合体が用いられ、より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分(50~100重量%、好ましくは70~100重量%)とするメタクリル酸メチル系樹脂が用いられる。 A (meth)acrylic resin is a resin whose main constituent monomer is a compound having a (meth)acryloyl group. Specific examples of (meth)acrylic resins include poly(meth)acrylic esters such as polymethyl methacrylate; methyl methacrylate-(meth)acrylic acid copolymers; methyl methacrylate-(meth)acrylic acid Ester copolymer; Methyl methacrylate-acrylic ester-(meth)acrylic acid copolymer; Methyl (meth)acrylate-styrene copolymer (MS resin, etc.); Methyl methacrylate and alicyclic hydrocarbon group (eg, methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate-norbornyl (meth)acrylate copolymer, etc.). Preferably, a polymer containing methyl methacrylate as a main component (50 to 100 % by weight, preferably 70 to 100% by weight).

前記(メタ)アクリル系樹脂フィルムの波長590nmにおける面内の位相差値Reは、好ましくは10nm以下であり、より好ましくは7nm以下であり、さらに好ましくは5nm以下であり、特に好ましくは3nm以下であり、最も好ましくは1nm以下である。
波長590nmにおける(メタ)アクリル系樹脂フィルムの厚み方向の位相差値Rthは、好ましくは15nm以下であり、より好ましくは10nm以下であり、さらに好ましくは5nm以下であり、特に好ましくは3nm以下であり、最も好ましくは1nm以下である。面内の位相差値および厚み方向の位相差値がこのような範囲であれば、位相差フィルムの特性を損なうことなく、耐熱試験時における色変化を抑制することができる。面内の位相差値および厚み方向の位相差値をこのような範囲とするためには、例えば、後述のグルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂を用いて得ることができる。
The in-plane retardation value Re of the (meth)acrylic resin film at a wavelength of 590 nm is preferably 10 nm or less, more preferably 7 nm or less, still more preferably 5 nm or less, particularly preferably 3 nm or less. most preferably 1 nm or less.
The retardation value Rth in the thickness direction of the (meth)acrylic resin film at a wavelength of 590 nm is preferably 15 nm or less, more preferably 10 nm or less, still more preferably 5 nm or less, particularly preferably 3 nm or less. , most preferably 1 nm or less. If the in-plane retardation value and the thickness direction retardation value are within such ranges, color change during the heat resistance test can be suppressed without impairing the properties of the retardation film. In order to set the in-plane retardation value and the thickness direction retardation value within such ranges, for example, a (meth)acrylic resin having a glutarimide structure described below can be used.

前記(メタ)アクリル系樹脂は、負の複屈折性を持つ範囲で好ましくは、正の複屈折を発現する構造単位を有していてもよい。正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有していれば、その存在比を調整して、(メタ)アクリル系樹脂フィルムの位相差を制御することができ、低位相差の(メタ)アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。正の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、ラクトン環、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン等を構成する構造単位、後述の一般式(1)で示される構造単位が挙げられる。負の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、スチレン系モノマー、マレイミド系モノマー等を由来とする構造単位、ポリメチルメタクリレートの構造単位、後述の一般式(3)で示される構造単位等が挙げられる。 The (meth)acrylic resin may preferably have a structural unit that exhibits positive birefringence within a range that has negative birefringence. If it has a structural unit that expresses positive birefringence and a structural unit that expresses negative birefringence, it is possible to control the phase difference of the (meth)acrylic resin film by adjusting the abundance ratio. It is possible to obtain a (meth)acrylic resin film with a low retardation. Structural units that exhibit positive birefringence include, for example, structural units constituting lactone rings, polycarbonates, polyvinyl alcohol, cellulose acetate, polyesters, polyarylates, polyimides, polyolefins, etc., and those represented by the general formula (1) described below. Examples include structural units. Examples of structural units that exhibit negative birefringence include structural units derived from styrene monomers, maleimide monomers, etc., structural units of polymethyl methacrylate, and structural units represented by general formula (3) described below. Can be mentioned.

前記(メタ)アクリル系樹脂として、ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂が好ましく用いられる。ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は耐熱性に優れる。より好ましくは、グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂である。グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂を用いれば、上記のように、低透湿、かつ、位相差および紫外線透過率の小さい(メタ)アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂(以下、グルタルイミド樹脂とも称する)は、例えば、特開2006-309033号公報、特開2006-317560号公報、特開2006-328329号公報、特開2006-328334号公報、特開2006-337491号公報、特開2006-337492号公報、特開2006-337493号公報、特開2006-337569号公報、特開2007-009182号公報、特開2009-161744号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。 As the (meth)acrylic resin, a (meth)acrylic resin having a lactone ring structure or a glutarimide structure is preferably used. (Meth)acrylic resins having a lactone ring structure or a glutarimide structure have excellent heat resistance. More preferably, it is a (meth)acrylic resin having a glutarimide structure. By using a (meth)acrylic resin having a glutarimide structure, it is possible to obtain a (meth)acrylic resin film with low moisture permeability, small retardation, and small ultraviolet transmittance, as described above. (Meth)acrylic resins having a glutarimide structure (hereinafter also referred to as glutarimide resins) are disclosed in, for example, JP-A No. 2006-309033, JP-A No. 2006-317560, JP-A No. 2006-328329, and JP-A No. 2006-328329. 2006-328334, 2006-337491, 2006-337492, 2006-337493, 2006-337569, 2007-009182, 2009- It is described in No. 161744. These descriptions are incorporated herein by reference.

好ましくは、上記グルタルイミド樹脂は、下記一般式(1)で表される構造単位(以下、グルタルイミド単位とも称する)と、下記一般式(2)で表される構造単位(以下、(メタ)アクリル酸エステル単位とも称する)とを含む。 Preferably, the glutarimide resin has a structural unit represented by the following general formula (1) (hereinafter also referred to as a glutarimide unit) and a structural unit represented by the following general formula (2) (hereinafter referred to as (meth)). (also referred to as acrylic acid ester unit).

Figure 0007422048000002
式(1)において、RおよびRは、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、Rは、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数5~15の芳香環を含む置換基である。式(2)において、RおよびRは、それぞれ独立して、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、Rは、水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数5~15の芳香環を含む置換基である。
Figure 0007422048000002
In formula (1), R 1 and R 2 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms. 12 cycloalkyl group, or a substituent containing an aromatic ring having 5 to 15 carbon atoms. In formula (2), R 4 and R 5 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 18 carbon atoms. 12 cycloalkyl group, or a substituent containing an aromatic ring having 5 to 15 carbon atoms.

グルタルイミド樹脂は、必要に応じて、下記一般式(3)で表される構造単位(以下、芳香族ビニル単位とも称する)をさらに含んでいてもよい。 The glutarimide resin may further contain a structural unit represented by the following general formula (3) (hereinafter also referred to as an aromatic vinyl unit), if necessary.

Figure 0007422048000003
Figure 0007422048000003

式(3)において、Rは、水素または炭素数1~8のアルキル基であり、Rは、炭素数6~10のアリール基である。 In formula (3), R 7 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 8 is an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

上記一般式(1)において、好ましくは、RおよびRは、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、Rは水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、Rはメチル基であり、Rは水素であり、Rはメチル基である。 In the above general formula (1), preferably R 1 and R 2 are each independently hydrogen or a methyl group, and R 3 is hydrogen, a methyl group, a butyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably , R 1 is a methyl group, R 2 is hydrogen, and R 3 is a methyl group.

上記グルタルイミド樹脂は、グルタルイミド単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式(1)におけるR、R、およびRが異なる複数の種類を含んでいてもよい。 The glutarimide resin may contain only a single type of glutarimide unit, or may contain multiple types in which R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula (1) are different. good.

グルタルイミド単位は、上記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル単位をイミド化することにより、形成することができる。また、グルタルイミド単位は、無水マレイン酸等の酸無水物、または、このような酸無水物と炭素数1~20の直鎖または分岐のアルコールとのハーフエステル;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、シトラコン酸等のα,β-エチレン性不飽和カルボン酸等をイミド化することによっても、形成することができる。 The glutarimide unit can be formed by imidizing the (meth)acrylic acid ester unit represented by the above general formula (2). In addition, the glutarimide unit is an acid anhydride such as maleic anhydride, or a half ester of such an acid anhydride and a linear or branched alcohol having 1 to 20 carbon atoms; acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid. It can also be formed by imidizing α,β-ethylenically unsaturated carboxylic acids such as , maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, crotonic acid, fumaric acid, and citraconic acid.

上記一般式(2)において、好ましくは、RおよびRは、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、Rは水素またはメチル基であり、さらに好ましくは、Rは水素であり、Rはメチル基であり、Rはメチル基である。 In the above general formula (2), preferably R 4 and R 5 are each independently hydrogen or a methyl group, R 6 is hydrogen or a methyl group, and more preferably R 4 is hydrogen. , R 5 is a methyl group, and R 6 is a methyl group.

上記グルタルイミド樹脂は、(メタ)アクリル酸エステル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式(2)におけるR、R、およびRが異なる複数の種類を含んでいてもよい。 The above glutarimide resin may contain only a single type of (meth)acrylic acid ester unit, or may contain multiple types in which R 4 , R 5 and R 6 in the above general formula (2) are different. May contain.

上記グルタルイミド樹脂は、上記一般式(3)で表される芳香族ビニル単位として、好ましくはスチレン、α-メチルスチレン等を含み、さらに好ましくはスチレンを含む。このような芳香族ビニル単位を有することにより、グルタルイミド構造の正の複屈折性を低減し、より低位相差の(メタ)アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。 The glutarimide resin preferably contains styrene, α-methylstyrene, etc., and more preferably styrene as the aromatic vinyl unit represented by the general formula (3). By having such an aromatic vinyl unit, the positive birefringence of the glutarimide structure can be reduced, and a (meth)acrylic resin film with a lower retardation can be obtained.

上記グルタルイミド樹脂は、芳香族ビニル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、RおよびRが異なる複数の種類を含んでいてもよい。 The above-mentioned glutarimide resin may contain only a single type of aromatic vinyl unit, or may contain a plurality of types in which R 7 and R 8 are different.

上記グルタルイミド樹脂における上記グルタルイミド単位の含有量は、例えばRの構造等に依存して変化させることが好ましい。グルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド樹脂の総構造単位を基準として、好ましくは1重量%~80重量%であり、より好ましくは1重量%~70重量%であり、さらに好ましくは1重量%~60重量%であり、特に好ましくは1重量%~50重量%である。グルタルイミド単位の含有量がこのような範囲であれば、耐熱性に優れた低位相差の(メタ)アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。 The content of the glutarimide unit in the glutarimide resin is preferably varied depending on, for example, the structure of R3 . The content of glutarimide units is preferably 1% to 80% by weight, more preferably 1% to 70% by weight, even more preferably 1% by weight, based on the total structural units of the glutarimide resin. 60% by weight, particularly preferably 1% to 50% by weight. If the content of glutarimide units is within this range, a (meth)acrylic resin film with excellent heat resistance and low retardation can be obtained.

上記グルタルイミド樹脂における上記芳香族ビニル単位の含有量は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。用途によっては、芳香族ビニル単位の含有量は0であってもよい。芳香族ビニル単位が含まれる場合、その含有量は、グルタルイミド樹脂のグルタルイミド単位を基準として、好ましくは10重量%~80重量%であり、より好ましくは20重量%~80重量%であり、さらに好ましくは20重量%~60重量%であり、特に好ましくは20重量%~50重量%である。芳香族ビニル単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差、かつ、耐熱性および機械的強度に優れた(メタ)アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。 The content of the aromatic vinyl unit in the glutarimide resin can be appropriately set depending on the purpose and desired properties. Depending on the application, the content of aromatic vinyl units may be zero. When an aromatic vinyl unit is included, its content is preferably 10% to 80% by weight, more preferably 20% to 80% by weight, based on the glutarimide unit of the glutarimide resin. More preferably, it is 20% to 60% by weight, particularly preferably 20% to 50% by weight. If the content of aromatic vinyl units is within this range, a (meth)acrylic resin film with low retardation and excellent heat resistance and mechanical strength can be obtained.

上記グルタルイミド樹脂には、必要に応じて、グルタルイミド単位、(メタ)アクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位以外のその他の構造単位がさらに共重合されていてもよい。その他の構造単位としては、例えば、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N-メチルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体から構成される構造単位が挙げられる。これらのその他の構造単位は、上記グルタルイミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。 The above-mentioned glutarimide resin may further be copolymerized with other structural units other than glutarimide units, (meth)acrylic acid ester units, and aromatic vinyl units, if necessary. Other structural units include, for example, structures composed of nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, maleimide monomers such as maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide. Units are listed. These other structural units may be directly copolymerized or graft copolymerized in the glutarimide resin.

上記(メタ)アクリル系樹脂フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤;耐光安定剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;可塑剤;滑剤;位相差低減剤等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。 The (meth)acrylic resin film may contain any suitable additives depending on the purpose. Examples of additives include antioxidants such as hindered phenol, phosphorus, and sulfur; stabilizers such as light stabilizers, ultraviolet absorbers, weather stabilizers, and heat stabilizers; glass fibers, carbon fibers, etc. Reinforcing materials; near-infrared absorbers; flame retardants such as tris(dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; antistatic agents such as anionic, cationic, and nonionic surfactants; inorganic pigments, organic pigments, Coloring agents such as dyes; organic fillers and inorganic fillers; resin modifiers; plasticizers; lubricants; retardation reducing agents and the like. The types, combinations, contents, etc. of the additives contained can be appropriately set depending on the purpose and desired characteristics.

上記(メタ)アクリル系樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、(メタ)アクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、任意の適切な混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形することができる。あるいは、(メタ)アクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、それぞれ別々の溶液にしてから混合して均一な混合液とした後、フィルム成形してもよい。 The method for producing the above (meth)acrylic resin film is not particularly limited, but includes, for example, a (meth)acrylic resin, an ultraviolet absorber, and other polymers and additives as necessary. These can be thoroughly mixed using any appropriate mixing method to form a thermoplastic resin composition in advance, which can then be formed into a film. Alternatively, the (meth)acrylic resin, the ultraviolet absorber, and other polymers and additives as necessary are made into separate solutions and then mixed to form a uniform mixture, and then formed into a film. You may.

上記熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサー等、任意の適切な混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いられる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等、任意の適切な混合機を用いることができる。 To produce the thermoplastic resin composition, the film raw materials are preblended using any appropriate mixer such as an omnimixer, and then the resulting mixture is extruded and kneaded. In this case, the mixer used for extrusion kneading is not particularly limited, and any suitable mixer may be used, such as an extruder such as a single-screw extruder or twin-screw extruder, or a pressure kneader. Can be done.

上記フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法(溶液流延法)、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法等、任意の適切なフィルム成形法が挙げられる。溶融押出法が好ましい。溶融押出法は溶剤を使用しないので、製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。 Examples of the film forming method include any suitable film forming method, such as a solution casting method (solution casting method), a melt extrusion method, a calendar method, a compression molding method, and the like. Melt extrusion methods are preferred. Since the melt extrusion method does not use a solvent, it is possible to reduce manufacturing costs and the impact of solvents on the global environment and work environment.

上記溶融押出法としては、例えば、Tダイ法、インフレーション法等が挙げられる。成形温度は、好ましくは150~350℃、より好ましくは200~300℃である。 Examples of the melt extrusion method include the T-die method and the inflation method. The molding temperature is preferably 150 to 350°C, more preferably 200 to 300°C.

上記Tダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にTダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、1軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時2軸延伸、逐次2軸延伸等を行うこともできる。 When forming a film using the above T-die method, attach a T-die to the tip of a known single-screw extruder or twin-screw extruder, and wind up the extruded film to obtain a roll-shaped film. Can be done. At this time, it is also possible to perform uniaxial stretching by appropriately adjusting the temperature of the winding roll and applying stretching in the extrusion direction. Moreover, simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, etc. can also be performed by stretching the film in a direction perpendicular to the extrusion direction.

上記(メタ)アクリル系樹脂フィルムは、上記所望の位相差が得られる限りにおいて、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸フィルムである場合は、同時2軸延伸フィルムまたは逐次2軸延伸フィルムのいずれでもよい。 The (meth)acrylic resin film may be either an unstretched film or a stretched film as long as the desired retardation can be obtained. If it is a stretched film, it may be either a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film. In the case of a biaxially stretched film, it may be either a simultaneous biaxially stretched film or a sequentially biaxially stretched film.

上記延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは(ガラス転移温度-30℃)~(ガラス転移温度+30℃)、より好ましくは(ガラス転移温度-20℃)~(ガラス転移温度+20℃)の範囲内である。延伸温度が(ガラス転移温度-30℃)未満であると、得られるフィルムのヘイズが大きくなり、あるいは、フィルムが裂けたり、割れたりして所定の延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度が(ガラス転移温度+30℃)を超えると、得られるフィルムの厚みムラが大きくなったり、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質が十分に改善できなかったりする傾向がある。さらに、フィルムがロールに粘着するといったトラブルが発生しやすくなる傾向がある。 The above-mentioned stretching temperature is preferably close to the glass transition temperature of the thermoplastic resin composition that is the raw material for the film, and specifically, preferably (glass transition temperature -30°C) to (glass transition temperature +30°C), more It is preferably within the range of (glass transition temperature -20°C) to (glass transition temperature +20°C). If the stretching temperature is lower than (glass transition temperature - 30° C.), there is a risk that the obtained film will have a large haze, or the film will tear or crack, making it impossible to obtain a predetermined stretching ratio. On the other hand, if the stretching temperature exceeds (glass transition temperature + 30°C), the resulting film may have large thickness unevenness, and mechanical properties such as elongation, tear propagation strength, and rolling fatigue resistance may not be sufficiently improved. There is a tendency to Furthermore, troubles such as the film sticking to the roll tend to occur more easily.

上記延伸倍率は、好ましくは1.1~3倍、より好ましくは1.3~2.5倍である。延伸倍率がこのような範囲であれば、フィルムの伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を大幅に改善することができる。結果として、厚みムラが小さく、複屈折が実質的にゼロであり(したがって、位相差が小さく)、さらに、ヘイズが小さいフィルムを製造することができる。 The above stretching ratio is preferably 1.1 to 3 times, more preferably 1.3 to 2.5 times. When the stretching ratio is within this range, the mechanical properties such as elongation rate, tear propagation strength, and rolling fatigue resistance of the film can be significantly improved. As a result, it is possible to produce a film with small thickness unevenness, substantially zero birefringence (therefore, small retardation), and low haze.

上記(メタ)アクリル系樹脂フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理(アニーリング)等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用し得る。 The above (meth)acrylic resin film can be subjected to heat treatment (annealing) etc. after the stretching treatment in order to stabilize its optical isotropy and mechanical properties. Any suitable conditions may be adopted as the conditions for the heat treatment.

上記(メタ)アクリル系樹脂フィルムの光弾性係数は、好ましくは-3~-100×10-13Pa-1、より好ましくは-5~-70×10-13Pa-1であり、さらに好ましくは-15~-50×10-13Pa-1である。なお、光弾性係数は前述の方法で測定することができる。 The photoelastic coefficient of the (meth)acrylic resin film is preferably -3 to -100x10 -13 Pa -1 , more preferably -5 to -70x10 -13 Pa -1 , even more preferably -15 to -50×10 -13 Pa -1 . Note that the photoelastic coefficient can be measured by the method described above.

上記(メタ)アクリル系樹脂フィルムの厚みは、好ましくは10μm~200μmであり、より好ましくは20μm~100μmである。厚みが10μm未満であると、強度が低下するおそれがある。厚みが200μmを超えると、透明性が低下するおそれがある。 The thickness of the (meth)acrylic resin film is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 20 μm to 100 μm. If the thickness is less than 10 μm, the strength may decrease. If the thickness exceeds 200 μm, there is a risk that transparency may decrease.

偏光子の両面に保護フィルムを積層する場合は、前記と同一のフィルムを両面に貼合してもよいし、その他の樹脂フィルムを用いてもよい。例えば、オレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルムが好ましく用いられる。 When laminating protective films on both sides of the polarizer, the same films as above may be laminated on both sides, or other resin films may be used. For example, olefin resin films, polyester resin films, and cellulose resin films are preferably used.

鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂(エチレンの単独重合体であるポリエチレン樹脂や、エチレンを主体とする共重合体)、ポリプロピレン樹脂(プロピレンの単独重合体であるポリプロピレン樹脂や、プロピレンを主体とする共重合体)のような鎖状オレフィンの単独重合体の他、2種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。 Chain polyolefin resins include polyethylene resins (polyethylene resins that are homopolymers of ethylene and copolymers mainly composed of ethylene), polypropylene resins (polypropylene resins that are homopolymers of propylene, and copolymers mainly composed of propylene). In addition to homopolymers of chain olefins such as (copolymers), copolymers consisting of two or more types of chain olefins can be mentioned.

環状ポリオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平1-240517号公報、特開平3-14882号公報、特開平3-122137号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。環状ポリオレフィン系樹脂の具体例を挙げれば、環状オレフィンの開環(共)重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレンのような鎖状オレフィンとの共重合体(代表的にはランダム共重合体)、及びこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びにそれらの水素化物である。中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのようなノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。 Cyclic polyolefin resin is a general term for resins that are polymerized using cyclic olefins as polymerization units, and is described, for example, in JP-A-1-240517, JP-A-3-14882, JP-A-3-122137, etc. Examples include resins that are Specific examples of cyclic polyolefin resins include ring-opening (co)polymers of cyclic olefins, addition polymers of cyclic olefins, and copolymers of cyclic olefins with chain olefins such as ethylene and propylene (typically is a random copolymer), a graft polymer obtained by modifying these with an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, and a hydrogenated product thereof. Among these, a norbornene resin using a norbornene monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer as the cyclic olefin is preferably used.

ポリエステル系樹脂は、下記セルロースエステル系樹脂を除く、エステル結合を有する樹脂であり、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体からなるものが一般的である。多価カルボン酸又はその誘導体としては2価のジカルボン酸又はその誘導体を用いることができ、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、ナフタレンジカルボン酸ジメチルが挙げられる。多価アルコールとしては2価のジオールを用いることができ、例えばエチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。ポリエステル系樹脂の代表例として、テレフタル酸とエチレングリコールの重縮合体であるポリエチレンテレフタレートが挙げられる。 The polyester resin is a resin having an ester bond, excluding the cellulose ester resin described below, and is generally a polycondensate of a polyhydric carboxylic acid or a derivative thereof and a polyhydric alcohol. As the polyvalent carboxylic acid or its derivative, a divalent dicarboxylic acid or its derivative can be used, and examples thereof include terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, and dimethyl naphthalene dicarboxylate. As the polyhydric alcohol, divalent diols can be used, such as ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol. A typical example of polyester resin is polyethylene terephthalate, which is a polycondensate of terephthalic acid and ethylene glycol.

セルロースエステル系樹脂は、セルロースと脂肪酸とのエステルである。セルロースエステル系樹脂の具体例は、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネートを含む。また、これらの共重合物や、水酸基の一部が他の置換基で修飾されたものも挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース)が特に好ましい。 Cellulose ester resin is an ester of cellulose and fatty acid. Specific examples of cellulose ester resins include cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose tripropionate, and cellulose dipropionate. Also included are copolymers of these and those in which some of the hydroxyl groups are modified with other substituents. Among these, cellulose triacetate (triacetylcellulose) is particularly preferred.

保護フィルムの厚みは通常1~100μmであるが、強度や取扱性等の観点から5~60μmであることが好ましく、10~55μmであることがより好ましく、15~40μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the protective film is usually 1 to 100 μm, but from the viewpoint of strength and handleability, it is preferably 5 to 60 μm, more preferably 10 to 55 μm, and even more preferably 15 to 40 μm.

上述のように、保護フィルムは、その外面(偏光子とは反対側の面)に、ハードコート層、防眩層、光拡散層、反射防止層、低屈折率層、帯電防止層、防汚層のような表面処理層(コーティング層)を備えるものであってもよい。なお、保護フィルムの厚みは、表面処理層の厚みを含んだものである。 As mentioned above, the protective film has a hard coat layer, an antiglare layer, a light diffusion layer, an antireflection layer, a low refractive index layer, an antistatic layer, and an antifouling layer on its outer surface (the surface opposite to the polarizer). It may be provided with a surface treatment layer (coating layer) such as a layer. Note that the thickness of the protective film includes the thickness of the surface treatment layer.

保護フィルムは、例えば接着剤層または粘着剤層を介して偏光子に貼合することができる。接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤を用いることができ、好ましくは水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤である。粘着剤層としては後述のものが使用できる。 The protective film can be bonded to the polarizer via, for example, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. As the adhesive forming the adhesive layer, a water-based adhesive, an active energy ray-curable adhesive, or a thermosetting adhesive can be used, and preferably a water-based adhesive or an active energy ray-curable adhesive. As the adhesive layer, those described below can be used.

水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。中でもポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるポリビニルアルコール系共重合体、又はそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体等を用いることができる。水系接着剤は、アルデヒド化合物(グリオキザール等)、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤を含むことができる。 Examples of the water-based adhesive include adhesives made of polyvinyl alcohol resin aqueous solutions, water-based two-component urethane emulsion adhesives, and the like. Among them, a water-based adhesive made of an aqueous solution of a polyvinyl alcohol resin is preferably used. Polyvinyl alcohol-based resins include vinyl alcohol homopolymers obtained by saponifying polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, as well as vinyl alcohol homopolymers obtained by saponifying vinyl acetate and other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate. A polyvinyl alcohol copolymer obtained by saponifying a polymer, a modified polyvinyl alcohol copolymer obtained by partially modifying the hydroxyl groups thereof, or the like can be used. The water-based adhesive can contain a crosslinking agent such as an aldehyde compound (such as glyoxal), an epoxy compound, a melamine compound, a methylol compound, an isocyanate compound, an amine compound, or a polyvalent metal salt.

水系接着剤を使用する場合は、偏光子と保護フィルムとを貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するための乾燥工程を実施することが好ましい。乾燥工程後、例えば20~45℃の温度で養生する養生工程を設けてもよい。 When using a water-based adhesive, it is preferable to perform a drying step to remove water contained in the water-based adhesive after bonding the polarizer and the protective film. After the drying step, a curing step of curing at a temperature of, for example, 20 to 45° C. may be provided.

上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含有する接着剤であり、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。 The above-mentioned active energy ray-curable adhesive is an adhesive containing a curable compound that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays, and preferably an ultraviolet curable adhesive. It is.

上記硬化性化合物は、カチオン重合性の硬化性化合物やラジカル重合性の硬化性化合物であることができる。カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、エポキシ系化合物(分子内に1個又は2個以上のエポキシ基を有する化合物)や、オキセタン系化合物(分子内に1個又は2個以上のオキセタン環を有する化合物)、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル系化合物(分子内に1個又は2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)や、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。カチオン重合性の硬化性化合物とラジカル重合性の硬化性化合物とを併用してもよい。活性エネルギー線硬化性接着剤は通常、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤及び/又はラジカル重合開始剤をさらに含む。 The curable compound may be a cationically polymerizable curable compound or a radically polymerizable curable compound. Examples of cationic polymerizable curable compounds include epoxy compounds (compounds having one or more epoxy groups in the molecule) and oxetane compounds (compounds having one or more oxetane rings in the molecule). ) or a combination thereof. Examples of radically polymerizable curable compounds include (meth)acrylic compounds (compounds having one or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule) and radically polymerizable double bonds. Other vinyl compounds or combinations thereof can be mentioned. A cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound may be used together. The active energy ray-curable adhesive usually further contains a cationic polymerization initiator and/or a radical polymerization initiator for initiating the curing reaction of the curable compound.

偏光子と保護フィルムとを貼合するにあたっては、接着性を高めるために、これらの少なくともいずれか一方の貼合面に表面活性化処理を施してもよい。表面活性化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、放電処理(グロー放電処理等)、火炎処理、オゾン処理、UVオゾン処理、電離活性線処理(紫外線処理、電子線処理等)のような乾式処理;水やアセトン等の溶媒を用いた超音波処理、ケン化処理、アンカーコート処理のような湿式処理を挙げることができる。これらの表面活性化処理は、単独で行ってもよいし、2つ以上を組み合わせてもよい。 When bonding the polarizer and the protective film, at least one of the bonding surfaces thereof may be subjected to surface activation treatment in order to improve adhesiveness. Surface activation treatments include dry treatments such as corona treatment, plasma treatment, discharge treatment (glow discharge treatment, etc.), flame treatment, ozone treatment, UV ozone treatment, ionizing active ray treatment (ultraviolet treatment, electron beam treatment, etc.) Examples include wet treatments such as ultrasonic treatment using a solvent such as water or acetone, saponification treatment, and anchor coating treatment. These surface activation treatments may be performed alone or in combination of two or more.

偏光子の両面に保護フィルムが貼合される場合においてこれらの保護フィルムを貼合するための接着剤は、同種の接着剤であってもよいし異種の接着剤であってもよい。
また、前述の接着剤や接着剤を介した貼合方法については、偏光子と保護フィルムの貼合だけでなく、本願発明の光学積層体に含まれる他光学機能層の貼合に用いてもよい。例えば、光学積層体が2層以上の位相差フィルムを有する場合、位相差フィルム同士の貼合に用いることができる。
When protective films are pasted on both sides of the polarizer, the adhesives for pasting these protective films may be the same type of adhesive or different types of adhesives.
In addition, the above-mentioned adhesive or bonding method using an adhesive can be used not only for bonding a polarizer and a protective film, but also for bonding other optical functional layers included in the optical laminate of the present invention. good. For example, when the optical laminate has two or more layers of retardation films, it can be used to bond the retardation films together.

<粘着剤層>
粘着剤層12は、(メタ)アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる(メタ)アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層の厚みは、通常3~30μmであり、好ましくは3~25μmである。
<Adhesive layer>
The adhesive layer 12 can be composed of an adhesive composition whose main component is a resin such as (meth)acrylic, rubber, urethane, ester, silicone, or polyvinyl ether. Among these, a pressure-sensitive adhesive composition whose base polymer is a (meth)acrylic resin having excellent transparency, weather resistance, heat resistance, etc. is suitable. The adhesive composition may be of an active energy ray curable type or a thermosetting type. The thickness of the adhesive layer is usually 3 to 30 μm, preferably 3 to 25 μm.

粘着剤組成物に用いられる(メタ)アクリル系樹脂(ベースポリマー)としては、例えば、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルのような(メタ)アクリル酸エステルの1種又は2種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。 Examples of the (meth)acrylic resin (base polymer) used in the adhesive composition include butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and 2-(meth)acrylate. Polymers or copolymers containing one or more types of (meth)acrylic esters such as ethylhexyl as monomers are preferably used. It is preferable to copolymerize a polar monomer with the base polymer. Examples of the polar monomer include (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and glycidyl ( Examples include monomers having carboxyl groups, hydroxyl groups, amide groups, amino groups, epoxy groups, etc., such as meth)acrylates.

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、2価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの;ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの;ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの;ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。 The pressure-sensitive adhesive composition may contain only the above base polymer, but usually further contains a crosslinking agent. Examples of crosslinking agents include metal ions with a valence of two or more that form carboxylic acid metal salts with carboxyl groups; polyamine compounds that form amide bonds with carboxyl groups; polyamine compounds that form amide bonds with carboxyl groups; Examples include epoxy compounds and polyols that form ester bonds with carboxyl groups; polyisocyanate compounds that form amide bonds with carboxyl groups. Among these, polyisocyanate compounds are preferred.

粘着剤層及び粘着剤組成物について、本願発明の光学積層体と有機EL表示素子の貼合に用いる粘着剤層12に用いる例として説明したが、それに限らない。例えば、本願発明の光学積層体と他光学機能層との貼合や、光学積層体中を構成する光学機能層同士の貼合にも用いてもよい。 Although the adhesive layer and the adhesive composition have been described as an example of use in the adhesive layer 12 used for laminating the optical laminate of the present invention and an organic EL display element, the present invention is not limited thereto. For example, it may be used to bond the optical laminate of the present invention with other optical functional layers, or to bond optical functional layers constituting the optical laminate.

<前面板>
前面板は、偏光板の視認側に配置される。前面板は、接着層を介して偏光板に積層されることができる。接着層としては、例えば前述の粘着剤層や接着剤層が挙げられる。図2に示すように、前面板5は、偏光板3上に、不図示の粘着剤層を介して積層されることができる。前面板5は、図2に示すように、遮光パターン6が形成されていてもよい。
<Front plate>
The front plate is arranged on the viewing side of the polarizing plate. The front plate can be laminated to the polarizing plate via an adhesive layer. Examples of the adhesive layer include the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer and adhesive layer. As shown in FIG. 2, the front plate 5 can be laminated on the polarizing plate 3 via an adhesive layer (not shown). As shown in FIG. 2, the front plate 5 may have a light shielding pattern 6 formed thereon.

前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるものなどが挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば100μm~5mmとすることができる。 Examples of the front plate include glass or a resin film that includes a hard coat layer on at least one surface. As the glass, for example, high transmittance glass or tempered glass can be used. Especially when using a thin transparent surface material, chemically strengthened glass is preferable. The thickness of the glass can be, for example, 100 μm to 5 mm.

樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、5~100μmであってもよい。 The front panel, which includes a hard coat layer on at least one surface of the resin film, is not rigid like existing glass, but can have flexible characteristics. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, and may be, for example, 5 to 100 μm.

樹脂フィルムとしては、ノルボルネンまたは多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース)エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、 ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシなどの高分子で形成されたフィルムであってもよい。樹脂フィルムは、未延伸、1軸または2軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独または2種以上混合して使用することができる。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れたポリアミドイミドフィルムまたはポリイミドフィルム、1軸または2軸延伸ポリエステルフィルム、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できるシクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム及び透明性と光学的に異方性のないトリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが好ましい。樹脂フィルムの厚さは5~200μm、好ましくは、20~100μmであってもよい。 Examples of resin films include cycloolefin derivatives having monomer units containing cycloolefins such as norbornene or polycyclic norbornene monomers, cellulose (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, isobutyl ester cellulose) , propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose) ethylene-vinyl acetate copolymer, polycycloolefin, polyester, polystyrene, polyamide, polyetherimide, polyacrylic, polyimide, polyamideimide, polyethersulfone, polysulfone, polyethylene, Polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyetherketone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polymethylmethacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate It may also be a film made of a polymer such as polyurethane, epoxy, or the like. As the resin film, an unstretched, uniaxially or biaxially stretched film can be used. These polymers can be used alone or in a mixture of two or more. Examples of resin films include polyamide-imide films or polyimide films that have excellent transparency and heat resistance, uniaxially or biaxially stretched polyester films, and cycloolefin derivative films that have excellent transparency and heat resistance and can accommodate larger films. , polymethyl methacrylate films, and triacetyl cellulose and isobutyl ester cellulose films that are transparent and optically free of anisotropy are preferred. The thickness of the resin film may be 5 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm.

前記ハードコート層は、光或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記ハードコート層は、光硬化型(メタ)アクリレートモノマー、或いはオリゴマー及び光硬化型エポキシモノマー、或いはオリゴマーを同時に含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記光硬化型(メタ)アクリレートモノマーは、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートで構成された群から選択された1種以上を含むことができる。前記エポキシ(メタ)アクリレートは、エポキシ化合物に対して(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸を反応させて得ることができる。 The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition containing a reactive material that forms a crosslinked structure by irradiating light or thermal energy. The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition that simultaneously contains a photocurable (meth)acrylate monomer or oligomer and a photocurable epoxy monomer or oligomer. The photocurable (meth)acrylate monomer may include one or more selected from the group consisting of epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, and polyester (meth)acrylate. The epoxy (meth)acrylate can be obtained by reacting an epoxy compound with a carboxylic acid having a (meth)acryloyl group.

ハードコート組成物は溶剤、光開始剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。添加剤は、無機ナノ粒子、レベリング剤及び安定剤からなる群から選択される一つ以上を含むことができ、それ以外にも当該技術分野で一般的に使用される各成分として、例えば、抗酸化剤、UV吸収剤、界面活性剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。 The hard coat composition may further include one or more selected from the group consisting of a solvent, a photoinitiator, and an additive. The additive may include one or more selected from the group consisting of inorganic nanoparticles, leveling agents, and stabilizers, as well as other components commonly used in the art, such as antiseptics. It may further contain oxidizing agents, UV absorbers, surfactants, lubricants, antifouling agents, and the like.

<遮光パターン>
遮光パターンは、前面板または前面板が適用される表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として提供することができる。遮光パターンは、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンは、表示装置の各配線を隠し使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び/または材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色などの多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは2μm~50μmであってもよく、好ましくは4μm~30μmであってもよく、より好ましくは6μm~15μmの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。
<Shading pattern>
The light-blocking pattern may be provided as at least part of the front plate or a bezel or housing of the display device to which the front plate is applied. The light shielding pattern can be formed on the display element side of the front plate. The light shielding pattern can hide each wiring of the display device so that it is not visible to the user. The color and/or material of the light shielding pattern is not particularly limited, and may be formed of resin materials having various colors such as black, white, and gold. In one embodiment, the thickness of the light shielding pattern may be in the range of 2 μm to 50 μm, preferably 4 μm to 30 μm, and more preferably 6 μm to 15 μm. Furthermore, in order to suppress the inclusion of air bubbles and visibility of the boundary due to the step difference between the light shielding pattern and the display section, a shape can be given to the light shielding pattern.

<タッチセンサ>
タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域(表示部)に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は画像表示装置で画面が表示されない領域(非表示部)に対応する領域である。タッチセンサは基板と;基板の活性領域に形成された感知パターンと;基板の非活性領域に形成され、感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。基板としては、ガラスや上述の前面板を構成する樹脂フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が2,000MPa%以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000MPa%以上30,000MPa%以下であってもよい。
<Touch sensor>
A touch sensor is used as an input means. Various types of touch sensors have been proposed, including a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitance type, and any of these types may be used. Among these, the capacitive method is preferable. A capacitive touch sensor is divided into an active area and a non-active area located outside the active area. The active area is an area corresponding to the area where the screen is displayed on the display panel (display part), and is the area where the user's touch is sensed, and the inactive area is the area where the screen is not displayed on the image display device ( This is the area corresponding to the non-display area. The touch sensor includes a substrate; a sensing pattern formed on an active area of the substrate; and sensing lines formed on a non-active area of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad part. Can be done. As the substrate, glass or the same material as the resin film that constitutes the above-mentioned front plate can be used. The substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 MPa% or more and 30,000 MPa% or less.

感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4―ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独または2種以上混合して使用することができる。 The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer and must be electrically connected to each other in order to sense a touched point. The first pattern has unit patterns connected to each other via joints, but the second pattern has a structure in which each unit pattern is isolated from each other in an island configuration, so the second pattern is electrically connected to the unit patterns. A separate bridge electrode is required for connection. A well-known transparent electrode material can be applied to the sensing pattern. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly(3,4- ethylenedioxythiophene), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wires, etc., and these can be used alone or in a mixture of two or more. Preferably ITO can be used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, terenium, and chromium. These can be used alone or in combination of two or more.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタンまたはこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。
タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、光学調節層は無機絶縁物質または有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。無機粒子によって光学調節層の屈折率が上昇することができる。
The bridge electrode may be formed on the sensing pattern through an insulation layer, and the bridge electrode may be formed on the substrate, and the insulation layer and the sensing pattern may be formed on the bridge electrode. The bridge electrode can also be made of the same material as the sensing pattern, such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. You can also do that. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer structure covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer.
Touch sensors detect the difference in transmittance between patterned areas and non-patterned areas, specifically the difference in light transmittance induced by the difference in refractive index in these areas. An optical adjustment layer may further be included between the substrate and the electrodes as a means for appropriately compensating for the oxidation, and the optical adjustment layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical adjustment layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition can further include inorganic particles. Inorganic particles can increase the refractive index of the optical adjustment layer.

光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。 The photocurable organic binder can include, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate monomer, a styrene monomer, or a carboxylic acid monomer. The photocurable organic binder may be a copolymer containing different repeating units such as epoxy group-containing repeating units, acrylate repeating units, and carboxylic acid repeating units. Inorganic particles can include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, and the like. The photocurable composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

<光学積層体の製造方法>
図1(a)~(c)に示した光学積層体を例に、光学積層体の製造方法を説明する。
光学積層体100(図1(a))は、例えば次のように製造することができる。基材上に配向層11を形成し、配向層11上に重合性液晶化合物を含む塗工液を塗工する。重合性液晶化合物を配向させた状態で、加熱処理または活性エネルギー線を照射し、重合性液晶化合物を硬化させる。重合性液晶化合物が硬化し、位相差層10を形成した後、基材を剥離し、剥離フィルム上に形成された粘着剤層12を配向層11における基材を剥離した面に積層させる。
図1(b)に示した光学積層体101の場合、図1(a)に示した光学積層体100と位相差層10を形成するところまでは同様であり、位相差層10を形成後、位相差層10と第2の位相差フィルムを接着剤層13を介して積層させる。光学積層体100と位相差層10が長尺状である場合は、接着剤層13を介して、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせてもよい。光学積層体100と第2の位相差フィルムを積層した後、基材を剥離し、剥離フィルム上に形成された粘着剤層12を配向層11における基材を剥離した面に積層させる。
図1(c)に示した光学積層体102の場合、まず偏光板3を製造する。偏光板3は、偏光子と保護フィルムとを、それぞれ接着剤層を介して積層して製造することができる。保護フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に積層されていればよい。偏光板は、長尺の部材を準備し、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせた後、所定形状に裁断して製造してもよいし、それぞれの部材を所定の形状に裁断した後、貼り合わせてもよい。偏光子に保護フィルムを貼り合わせた後、加熱工程や調湿工程を設けてもよい。位相差フィルムは、図1(b)の光学積層体101と同様、第2の位相差フィルムを積層したところまでは同じであり、第2の位相差フィルムの接着剤層13とは反対側の面に接着剤層または粘着剤層を介して偏光板3と積層させる。偏光板3や光学積層体101が長尺状である場合は、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせてもよい。偏光板3を積層後、基材を剥離し、剥離フィルム上に形成された粘着剤層12を配向層11における基材を剥離した面に積層させる。
<Method for manufacturing optical laminate>
A method for manufacturing an optical laminate will be described using the optical laminate shown in FIGS. 1(a) to 1(c) as an example.
The optical laminate 100 (FIG. 1(a)) can be manufactured, for example, as follows. An alignment layer 11 is formed on a base material, and a coating liquid containing a polymerizable liquid crystal compound is applied onto the alignment layer 11. In a state in which the polymerizable liquid crystal compound is oriented, the polymerizable liquid crystal compound is cured by heat treatment or irradiation with active energy rays. After the polymerizable liquid crystal compound is cured and the retardation layer 10 is formed, the base material is peeled off, and the adhesive layer 12 formed on the release film is laminated on the surface of the alignment layer 11 from which the base material has been peeled off.
In the case of the optical laminate 101 shown in FIG. 1(b), the steps up to the formation of the retardation layer 10 are the same as the optical laminate 100 shown in FIG. 1(a), and after forming the retardation layer 10, The retardation layer 10 and the second retardation film are laminated with an adhesive layer 13 interposed therebetween. When the optical laminate 100 and the retardation layer 10 are elongated, the respective members may be bonded together via the adhesive layer 13 in a roll-to-roll manner. After laminating the optical laminate 100 and the second retardation film, the base material is peeled off, and the adhesive layer 12 formed on the release film is laminated on the surface of the alignment layer 11 from which the base material has been peeled off.
In the case of the optical laminate 102 shown in FIG. 1(c), the polarizing plate 3 is first manufactured. The polarizing plate 3 can be manufactured by laminating a polarizer and a protective film through adhesive layers, respectively. The protective film only needs to be laminated on at least one surface of the polarizer. A polarizing plate may be manufactured by preparing long members, pasting each member together in a roll-to-roll manner, and then cutting it into a predetermined shape, or by cutting each member into a predetermined shape. Afterwards, they may be pasted together. After bonding the protective film to the polarizer, a heating step or a humidity conditioning step may be provided. The retardation film is the same as the optical laminate 101 shown in FIG. A polarizing plate 3 is laminated on the surface via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer. When the polarizing plate 3 and the optical laminate 101 are elongated, the respective members may be bonded together in a roll-to-roll manner. After laminating the polarizing plate 3, the base material is peeled off, and the adhesive layer 12 formed on the release film is laminated on the surface of the alignment layer 11 from which the base material has been peeled off.

そして、粘着剤層12上に積層された剥離フィルムを剥離し、粘着剤層12を介して光学積層体と有機EL表示素子を貼合することにより、有機EL表示装置を作製することができる。 Then, the release film laminated on the adhesive layer 12 is peeled off, and the optical laminate and the organic EL display element are bonded together via the adhesive layer 12, thereby producing an organic EL display device.

<用途>
本発明の光学積層体は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(以下、無機ELともいう)表示装置、電子放出表示装置(例えば電場放出表示装置(FEDともいう)、表面電界放出表示装置(SEDともいう))、電子ペーパー(電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置(例えばグレーティングライトバルブ(GLVともいう)表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス(DMDともいう)を有する表示装置)及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、2次元画像を表示する表示装置であってもよいし、3次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。光学積層体は、特に有機EL表示装置又は無機EL表示装置に特に有効に用いることができる。
<Application>
The optical laminate of the present invention can be used in various display devices. A display device is a device having a display element, and includes a light emitting element or a light emitting device as a light emitting source. Examples of display devices include liquid crystal display devices, organic EL display devices, inorganic electroluminescence (hereinafter also referred to as inorganic EL) display devices, electron emission display devices (for example, field emission displays (also referred to as FEDs), and surface field emission displays). (also referred to as SED)), electronic paper (display devices using electronic ink or electrophoretic elements, plasma display devices, projection type display devices (e.g. grating light valve (also referred to as GLV) display devices, digital micromirror devices (DMD) ) and piezoelectric ceramic displays.Liquid crystal display devices include both transmissive liquid crystal display devices and semi-transmissive liquid crystal display devices.These display devices are capable of displaying two-dimensional images. It may be a display device that displays a three-dimensional image, or a stereoscopic display device that displays a three-dimensional image.The optical laminate can be particularly effectively used in an organic EL display device or an inorganic EL display device. .

図2において、有機EL表示装置103は、位相差フィルム1上に積層された粘着剤層12を介して、光学積層体が有機EL表示素子4に積層された層構成を有する。 In FIG. 2, an organic EL display device 103 has a layered structure in which an optical laminate is laminated on an organic EL display element 4 via an adhesive layer 12 laminated on a retardation film 1.

また、表示装置は、フレキシブル表示装置であることもでき、フレキシブル有機EL表示装置であることができる。フレキシブル有機EL表示装置は、本発明の光学積層体と、有機EL表示素子とを含む。有機EL表示素子に対して視認側に本発明の光学積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。折り曲げ可能とは、クラック及び破断を生じさせずに屈曲できることを意味する。本発明の光学積層体をフレキシブル有機EL表示装置に適用する場合、光学積層体は、前面板およびタッチセンサの少なくとも一方を備えることが好ましい。 Further, the display device can be a flexible display device, and can be a flexible organic EL display device. The flexible organic EL display device includes the optical laminate of the present invention and an organic EL display element. The optical laminate of the present invention is arranged on the viewing side with respect to the organic EL display element, and is configured to be bendable. Bendable means capable of being bent without cracking or breaking. When applying the optical laminate of the present invention to a flexible organic EL display device, the optical laminate preferably includes at least one of a front plate and a touch sensor.

具体的な光学積層体としては、視認側から前面板、偏光板、位相差フィルム、タッチセンサの順に積層された態様、または視認側から前面板、タッチセンサ、偏光板、位相差フィルムの順に積層された態様が挙げられる。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、位相差フィルム、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。 A specific optical laminate includes a front plate, a polarizing plate, a retardation film, and a touch sensor laminated in this order from the viewing side, or a front plate, a touch sensor, a polarizing plate, and a retardation film laminated in this order from the viewing side. For example, the following embodiments can be mentioned. It is preferable that a polarizing plate is present on the viewing side of the touch sensor because the pattern of the touch sensor becomes difficult to see and the visibility of the displayed image improves. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like. Furthermore, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any one of the layers of the front plate, polarizing plate, retardation film, and touch sensor can be provided.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す部及び%は、特記しないかぎり重量基準である。なお、以下の例における各物性の測定は、次の方法で行った。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the examples, parts and percentages indicating the content or amount used are based on weight unless otherwise specified. In addition, the measurement of each physical property in the following examples was performed by the following method.

(1)フィルム厚みの測定
株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーターであるMH-15Mを用いて測定した。
(1) Measurement of film thickness Measurement was performed using a digital micrometer MH-15M manufactured by Nikon Corporation.

(突刺し弾性率の測定)
実施例、比較例で得られた基材フィルム付き第1の位相差フィルムを、縦40mm×横40mmの断片を切り出した。また縦40mm×横40mmの糊付き台紙を用意した。この糊付き台紙は、中央部が30mm×30mmの正方形で切り抜かれている。位相差層1の表面が糊付き台紙における糊に接するように、上記積層体を糊付き台紙に貼合した後、第1の位相差フィルムから基材を剥離して、突刺し試験用サンプルを作製した。
(Measurement of piercing elastic modulus)
The first retardation film with a base film obtained in Examples and Comparative Examples was cut into pieces measuring 40 mm in length and 40 mm in width. In addition, a glued mount having a length of 40 mm and a width of 40 mm was prepared. This glued mount has a 30 mm x 30 mm square cut out in the center. After laminating the above laminate to the adhesive mount so that the surface of the retardation layer 1 is in contact with the adhesive on the adhesive mount, the base material is peeled off from the first retardation film to obtain a sample for the puncture test. Created.

突刺し弾性率の測定は、次のように行った。カトーテック株式会社製の“NDG5 突き刺し試験機”にニードルを取り付けて行った。ニードルを突刺し試験用サンプルの主面(位相差層1の表面)に対して垂直に突刺し、突刺し試験用サンプルが破断する直前の応力F(g)とそのときのひずみ量S(mm)を算出し、突刺し弾性率(g/mm)を応力F(g)/ひずみ量S(mm)にて算出した。ニードルとしては、先端径が1mmφ、0.5Rであるものを使用した。ニードルを突き刺す速度は、0.33cm/秒とした。位相差フィルム1の突刺し弾性率を表1に示す。測定は温度23℃、湿度50%の室温環境下で行った。 The puncture elastic modulus was measured as follows. The test was carried out by attaching a needle to a "NDG5 piercing tester" manufactured by Kato Tech Co., Ltd. A needle is pierced perpendicularly to the main surface of the test sample (the surface of the retardation layer 1), and the stress F (g) just before the puncture test sample breaks and the amount of strain S (mm ) was calculated, and the puncture elastic modulus (g/mm) was calculated as stress F (g)/strain amount S (mm). The needle used had a tip diameter of 1 mmφ and a diameter of 0.5R. The needle piercing speed was 0.33 cm/sec. Table 1 shows the puncture elastic modulus of the retardation film 1. The measurements were performed in a room temperature environment with a temperature of 23° C. and a humidity of 50%.

(3)耐摩耗性評価(スチールウール硬度)
位相差フィルムの配向層表面の耐摩耗性の評価をスチールウール試験にて行った。
スチールウール試験機(大栄精機社製)にて、クリーンルーム用ワイパー(旭化成株式会社製 BEMCOT AZ-8)をガラス板上に配置した環状ポリオレフィン系樹脂(COP)基材(厚み20μm)上に各実施例、比較例と同様の方法で製膜した配向層表面に500gの荷重で接触させ、40r/minの速度で4往復摩耗試験をおこない、蛍光灯下で目視にて発生したキズの本数を数えた。
(3) Abrasion resistance evaluation (steel wool hardness)
The abrasion resistance of the surface of the alignment layer of the retardation film was evaluated using a steel wool test.
Using a steel wool tester (manufactured by Daiei Seiki Co., Ltd.), each test was carried out on a cyclic polyolefin resin (COP) substrate (thickness 20 μm) on which a clean room wiper (BEMCOT AZ-8, manufactured by Asahi Kasei Corporation) was placed on a glass plate. The surface of the alignment layer formed in the same manner as in Examples and Comparative Examples was brought into contact with a load of 500 g, and a 4-reciprocating abrasion test was performed at a speed of 40 r/min, and the number of scratches that occurred was counted visually under fluorescent lighting. Ta.

(4)耐摩耗性評価(鉛筆硬度評価)
位相差フィルムの配向層表面の表面硬度評価を鉛筆硬度試験にて行った。
鉛筆硬度試験器(安田精機製作所製No.553-M1)にて、試験用の鉛筆(三菱鉛筆株式会社製ユニスター)をガラス板上に配置した環状ポリオレフィン系樹脂(COP)基材(厚み20μm)上に各実施例、比較例と同様の方法で製膜した配向層表面に500gの荷重で斜め45度から接触させ、0.5mm/secの速度で硬度試験をおこない、蛍光灯下で目視にて発生したキズの有無を数えた。5本試験の内、1本以下の傷つきとなる硬度を確認した。
(4) Abrasion resistance evaluation (pencil hardness evaluation)
The surface hardness of the surface of the alignment layer of the retardation film was evaluated using a pencil hardness test.
Using a pencil hardness tester (No. 553-M1 manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho), a cyclic polyolefin resin (COP) base material (thickness 20 μm) was prepared by placing a test pencil (Unistar manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) on a glass plate. The hardness test was carried out at a speed of 0.5 mm/sec by contacting the surface of the alignment layer formed in the same manner as in each Example and Comparative Example from an angle of 45 degrees with a load of 500 g, and visually observing it under fluorescent light. The presence or absence of scratches that occurred was counted. Out of 5 tests, the hardness was confirmed to cause one or less scratches.

[実施例1]
(第1の位相差フィルム1の作製)
配向層形成用の組成物として、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製 A-600)10.0重量部と、
トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業(株)製 A-TMPT)10.0重量部と、
1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製 A-HD-N)10.0重量部と、
光重合開始材としてイルガキュア907(BASF社製 Irg-907)1.50重量部とを、
溶媒メチルエチルケトン 70.0重量部中で溶解させ、配向層形成用塗工液を調整した。
[Example 1]
(Production of first retardation film 1)
As a composition for forming an alignment layer,
10.0 parts by weight of polyethylene glycol di(meth)acrylate (A-600 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.),
10.0 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.),
10.0 parts by weight of 1,6-hexanediol di(meth)acrylate (A-HD-N manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.),
1.50 parts by weight of Irgacure 907 (Irg-907 manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator,
A coating solution for forming an alignment layer was prepared by dissolving it in 70.0 parts by weight of a solvent methyl ethyl ketone.

基材フィルムとして厚さ20μmの長尺状の環状オレフィン系樹脂フィルム(日本ゼオン株式会社製)を準備し、基材フィルムの片面に、得られた配向層形成用塗工液をバーコーターにて塗布した。
塗工後の塗布層に温度80℃で60秒間の熱処理を施した後、紫外線(UVB)を220mJ/cm照射し、配向層形成用の組成物を重合、硬化させて、基材フィルム上に厚さ3.5μmの配向層1を形成した。
A long cyclic olefin resin film (manufactured by Zeon Corporation) with a thickness of 20 μm was prepared as a base film, and the obtained coating liquid for forming an alignment layer was applied to one side of the base film using a bar coater. Coated.
After applying heat treatment to the coated layer at a temperature of 80°C for 60 seconds, it is irradiated with ultraviolet rays (UVB) at 220 mJ/ cm2 to polymerize and harden the composition for forming an alignment layer, and then apply it on the base film. An alignment layer 1 having a thickness of 3.5 μm was formed on the substrate.

位相差形成用の組成物として、光重合性ネマチック液晶化合物(メルク社製 RMM28B)20.0重量部と、光重合開始剤としてイルガキュア907(BASF社製 Irg-907)1.0重量部とを、溶媒のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート80.0重量部中に溶解させ、位相差層形成用塗工液を調整した。
先に得られた配向層上に位相差層形成用塗工液を塗布し、塗布層に温度80℃で60秒間の熱処理を施した。その後、紫外線(UVB)を220mJ/cm照射し、位相差層形成用の組成物を重合、硬化させて、配向層上に厚さ0.7μmの位相差層1を形成した。この様にして基材フィルム上に配向層1と位相差層1からなる第1の位相差フィルム1を得た。この第1の位相差フィルム1は厚み方向に位相差を示した。また、基材フィルムから第1の位相差フィルム1が剥離可能であることを確認した。
As a composition for forming a retardation, 20.0 parts by weight of a photopolymerizable nematic liquid crystal compound (RMM28B, manufactured by Merck & Co., Ltd.) and 1.0 parts by weight of Irgacure 907 (manufactured by BASF, Irg-907) as a photopolymerization initiator. , was dissolved in 80.0 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent to prepare a coating liquid for forming a retardation layer.
A coating solution for forming a retardation layer was applied onto the previously obtained alignment layer, and the coating layer was heat-treated at a temperature of 80° C. for 60 seconds. Thereafter, ultraviolet light (UVB) was irradiated at 220 mJ/cm 2 to polymerize and harden the composition for forming a retardation layer, thereby forming a retardation layer 1 with a thickness of 0.7 μm on the alignment layer. In this manner, a first retardation film 1 consisting of an alignment layer 1 and a retardation layer 1 was obtained on a base film. This first retardation film 1 showed a retardation in the thickness direction. Furthermore, it was confirmed that the first retardation film 1 could be peeled off from the base film.

(偏光板の作製)
厚み20μmのポリビニルアルコールフィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%以上)を、乾式延伸により約4倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、40℃の純水に40秒間浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の重量比が0.052/5.7/100の水溶液に28℃で30秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の重量比が11.0/6.2/100の水溶液に70℃で120秒間浸漬した。引き続き、8℃の純水で15秒間洗浄した後、300Nの張力で保持した状態で、60℃で50秒間、次いで75℃で20秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み8μmの吸収型偏光子フィルムを得た。得られた偏光子フィルムの両面にポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤を塗布し、偏光子フィルムの片面に保護フィルム(ゼオン製COPフィルム ゼオノアZF14)ともう一方の面に保護フィルム(富士フィルム製TACフィルム フジタックTJ25)貼り合わせて両面保護フィルム付偏光板を得た。
(Preparation of polarizing plate)
A polyvinyl alcohol film with a thickness of 20 μm (average degree of polymerization of about 2400, degree of saponification of 99.9 mol% or more) was uniaxially stretched to about 4 times by dry stretching, and then immersed in pure water at 40°C while maintaining the tension state. After being immersed for 40 seconds, it was immersed in an aqueous solution with a weight ratio of iodine/potassium iodide/water of 0.052/5.7/100 at 28° C. for 30 seconds for dyeing treatment. Thereafter, it was immersed in an aqueous solution having a weight ratio of potassium iodide/boric acid/water of 11.0/6.2/100 at 70° C. for 120 seconds. Subsequently, after washing with pure water at 8°C for 15 seconds, the polyvinyl alcohol film was dried at 60°C for 50 seconds and then at 75°C for 20 seconds while being held under a tension of 300N, so that iodine was adsorbed and oriented in the polyvinyl alcohol film. An absorption type polarizer film having a thickness of 8 μm was obtained. A water-based adhesive consisting of an aqueous polyvinyl alcohol resin solution was applied to both sides of the polarizer film obtained, and a protective film (COP film manufactured by Zeon, Zeonor ZF14) was applied to one side of the polarizer film, and a protective film (Fuji Film) was applied to the other side. TAC film produced by Fujitac TJ25) was laminated to obtain a polarizing plate with double-sided protective film.

(光学積層体の作製)
両面剥離フィルム付きシート状粘着剤(厚み25μm リンテック株式会社製P-3132)の一方の剥離フィルムを剥離し、得られた偏光板のTACフィルム側表面に粘着層剤を介して貼り合わせた後、シート状粘着剤の他方側の剥離フィルムを剥離し、粘着剤層を偏光板のTACフィルム側表面に積層させた。積層された粘着剤層を介して第1の位相差フィルムの位相差層1側表面と偏光板を貼り合わせた後、第1の位相差フィルム1から基材フィルムを剥離した。さらに先の両面剥離フィルム付きシート状粘着剤の一方の剥離フィルムを剥離した後、第1の位相差フィルム1の基材フィルムを剥離した面に粘着剤層を介して貼り合わせ、積層構造が、偏光板/粘着剤層/第1の位相差フィルム1/粘着剤層/剥離フィルムである光学積層体を得た。
(Preparation of optical laminate)
After peeling off one of the release films of a sheet-like adhesive with a double-sided release film (thickness 25 μm, manufactured by Lintec Corporation P-3132) and bonding it to the TAC film side surface of the obtained polarizing plate via an adhesive layer agent, The release film on the other side of the sheet-like adhesive was peeled off, and the adhesive layer was laminated on the TAC film side surface of the polarizing plate. After the polarizing plate was bonded to the surface of the first retardation film on the retardation layer 1 side via the laminated adhesive layer, the base film was peeled off from the first retardation film 1. Furthermore, after peeling off one of the release films of the sheet-like adhesive with double-sided release film, it is bonded to the peeled side of the base film of the first retardation film 1 via the adhesive layer, so that the laminated structure is An optical laminate consisting of polarizing plate/adhesive layer/first retardation film 1/adhesive layer/release film was obtained.

[実施例2、3、比較例1、2]
第1の位相差フィルムを構成する配向層1と位相差層1の形成用の組成物を表1の配合比、厚みを変えた以外は、実施例1と同様の方法で実施例2、3、比較例1、2の光学積層体を作製した。また、実施例2、3、比較例1、2で得られた第1の位相差フィルムは、厚み方向に位相差を示した。
[Examples 2 and 3, Comparative Examples 1 and 2]
Examples 2 and 3 were carried out in the same manner as in Example 1, except that the compositions for forming the alignment layer 1 and the retardation layer 1 constituting the first retardation film were changed in the blending ratio and thickness shown in Table 1. , optical laminates of Comparative Examples 1 and 2 were produced. Moreover, the first retardation films obtained in Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 showed a retardation in the thickness direction.

[実施例4]
配向層形成用の組成物を表1の材料および配合比として配向層形成用塗工液を作成し、その塗工液の塗布層に温度100℃で120秒間の熱処理を施し、硬化させた。
それ以外は実施例1と同様の方法で光学積層体を作製した。また、実施例4で得られた第1の位相差フィルムは、厚み方向に位相差を示した。
[Example 4]
A coating solution for forming an alignment layer was prepared using the composition for forming an alignment layer using the materials and compounding ratios shown in Table 1, and the coating layer of the coating solution was heat-treated at a temperature of 100° C. for 120 seconds to be cured.
An optical laminate was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. Moreover, the first retardation film obtained in Example 4 showed a retardation in the thickness direction.

[実施例5]
[第1の位相差フィルム2の作製]
下記構造の光配向性材料5.0重量部(重量平均分子量:30,000)とシクロペンタノン(溶媒)95.0重量部とを混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより、配向膜形成用組成物を得た。

Figure 0007422048000004
[Example 5]
[Production of first retardation film 2]
5.0 parts by weight of a photo-alignable material having the following structure (weight average molecular weight: 30,000) and 95.0 parts by weight of cyclopentanone (solvent) are mixed, and the resulting mixture is stirred at 80°C for 1 hour. In this way, a composition for forming an alignment film was obtained.
Figure 0007422048000004

以下に示す重合性液晶化合物A、及び重合性液晶化合物Bを9:1の質量比で混合した混合物10重量部に対して、レベリング剤(F-556;DIC社製)を0.1重量部、及び重合開始剤である2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(「イルガキュア369(Irg369)」、BASFジャパン株式会社製)を0.6重量部添加した。 0.1 part by weight of a leveling agent (F-556; manufactured by DIC) was added to 10 parts by weight of a mixture of polymerizable liquid crystal compound A and polymerizable liquid crystal compound B shown below at a mass ratio of 9:1. , and 0.6 parts by weight of 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one ("Irgacure 369 (Irg369)", manufactured by BASF Japan Ltd.) as a polymerization initiator. Added.

さらに、固形分濃度が13%となるようにN-メチル-2-ピロリドン(NMP)を添加し、80℃で1時間攪拌することにより、液晶硬化膜形成用組成物を得た。 Furthermore, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solid content concentration was 13%, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour to obtain a composition for forming a liquid crystal cured film.

重合性液晶化合物Aは、特開2010-31223号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Bは、特開2009-173893号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。 Polymerizable liquid crystal compound A was produced by the method described in JP-A-2010-31223. Furthermore, polymerizable liquid crystal compound B was produced according to the method described in JP-A No. 2009-173893. The molecular structure of each is shown below.

(重合性液晶化合物A)

Figure 0007422048000005
(Polymerizable liquid crystal compound A)
Figure 0007422048000005

(重合性液晶化合物B)

Figure 0007422048000006
(Polymerizable liquid crystal compound B)
Figure 0007422048000006

〔基材、配向膜、重合性液晶化合物が硬化した層からなる積層体の製造〕
基材として50μm厚のシクロオレフィン系フィルム〔日本ゼオン株式会社製の商品名「ZF-14-50」〕上にコロナ処理を実施した。コロナ処理が施された面に、配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布した。塗布膜を80℃で1分間乾燥した。乾燥した塗布膜に、偏光UV照射装置〔ウシオ電機株式会社の商品名「SPOT CURE SP-9」〕を用いて、軸角度45゜にて偏光UVを照射し、配向膜を得た。偏光UVの照射は、波長313nmにおける積算光量が100mJ/cmとなるように行われた。
[Manufacture of a laminate consisting of a base material, an alignment film, and a layer in which a polymerizable liquid crystal compound is cured]
Corona treatment was performed on a 50 μm thick cycloolefin film (trade name “ZF-14-50” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) as a base material. A composition for forming an alignment film was applied to the corona-treated surface using a bar coater. The coated film was dried at 80° C. for 1 minute. The dried coating film was irradiated with polarized UV at an axial angle of 45° using a polarized UV irradiation device [trade name "SPOT CURE SP-9" manufactured by Ushio Inc.] to obtain an alignment film. Polarized UV irradiation was performed such that the cumulative amount of light at a wavelength of 313 nm was 100 mJ/cm 2 .

続いて、配向膜上に、液晶硬化膜形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布した。塗布膜を120℃で1分間乾燥した。乾燥した塗布膜に、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機株式会社の商品名:「ユニキュアVB-15201BY-A」〕を用いて、紫外線を照射した。紫外線の照射工程は、波長365nmにおける積算光量が250mJ/cmとなるように、窒素雰囲気下で行われた。照射直後に冷却工程として、硬化膜を5℃に設定したオーブンに20秒間投入した。オーブン取り出し後、すぐに再度前記紫外線照射工程および冷却工程を実施し、基材上に配向膜、および重合性液晶化合物が硬化した層からなる第1の位相差フィルム2を得た。この第1の位相差フィルム2は面内方向に位相差を示した。得られた第1の位相差フィルム2を第1の位相差フィルム1の代わりに用いて、実施例1と同様にして光学積層体を得た。 Subsequently, a composition for forming a liquid crystal cured film was applied onto the alignment film using a bar coater. The coating film was dried at 120° C. for 1 minute. The dried coating film was irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp [trade name of Ushio Inc.: "Unicure VB-15201BY-A"]. The ultraviolet irradiation step was performed in a nitrogen atmosphere so that the cumulative amount of light at a wavelength of 365 nm was 250 mJ/cm 2 . Immediately after irradiation, the cured film was placed in an oven set at 5° C. for 20 seconds as a cooling step. Immediately after taking out the oven, the ultraviolet irradiation step and the cooling step were carried out again to obtain a first retardation film 2 consisting of an alignment film and a layer of a cured polymerizable liquid crystal compound on a base material. This first retardation film 2 showed a retardation in the in-plane direction. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1, using the obtained first retardation film 2 instead of the first retardation film 1.

[実施例6]
比較例1と同じ方法で第1の位相差フィルムを作成し、光学積層体を作製する際に配向層1と位相差層1の間で剥離し、第1の位相差フィルムを位相差層1のみとした以外は実施例1と同じ方法で実施例6の光学積層体を作製した。
[Example 6]
A first retardation film was created in the same manner as in Comparative Example 1, and when producing an optical laminate, the alignment layer 1 and the retardation layer 1 were peeled off, and the first retardation film was removed from the retardation layer 1. An optical laminate of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical laminate of Example 6 was used.

Figure 0007422048000007
Figure 0007422048000007

実施例1~6、比較例1、2にて得られた光学積層体について剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を介してそれぞれガラス板に貼合し、図3で示す状態とした上で、次に示す方法で耐熱衝撃性試験を行った。
荷重 10Nに設定したエリクセンペン(エリクセン社製 型番318)のペン先を光学積層体中の偏光板におけるガラス板側とは反対側の面に押し当て起点とした。同様の起点を他2カ所(計3カ所)等間隔で設けた。その後、-20℃ 30分と60℃ 30分を1サイクルとする熱衝撃性試験(ESPEC CORP.製 品名:TSA-303EL-W)を数サイクル実施した。熱衝撃性試験前に光学積層体中の偏光板表面にエリクセンペンを押し当てた各起点から生じたクラックの長さを測定し、3か所の起点のクラック測定結果の平均値をクラック長さ(mm)とした。
The release films of the optical laminates obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were peeled off, and each was laminated to a glass plate via the exposed adhesive layer to form the state shown in FIG. 3. A thermal shock resistance test was conducted using the following method.
The pen tip of an Eriksen pen (manufactured by Eriksen, Model No. 318) set at a load of 10 N was pressed against the surface of the polarizing plate in the optical laminate opposite to the glass plate side as a starting point. Two other similar starting points (total of 3 locations) were established at equal intervals. Thereafter, several cycles of a thermal shock test (ESPEC CORP. product name: TSA-303EL-W) were conducted, each cycle consisting of -20°C for 30 minutes and 60°C for 30 minutes. Before the thermal shock test, an Erichsen pen was pressed against the surface of the polarizing plate in the optical laminate to measure the length of the crack that occurred from each starting point, and the average value of the crack measurement results from the three starting points was calculated as the crack length. (mm).

実施例1~6、比較例1、2で得られた第1の位相差フィルムの突刺し弾性率、膜厚、耐摩耗性評価(スチールウール、鉛筆硬度)及び光学積層体の熱衝撃試験の結果について、表2に示す。実施例1~5、比較例1、2の第1の位相差フィルムの突刺し弾性率は、第1の位相差フィルムと基材フィルムの積層体より、基材フィルムを剥離した後、第1の位相差フィルム(位相差層1+配向層1)に対して、突刺し冶具を位相差層1側から押圧することにより測定した。実施例6の第1の位相差フィルムは、基材フィルムと配向層1を位相差層1より剥離し、第1の位相差フィルム(位相差層1のみ)に対し測定した結果を示した。また、耐摩耗性評価については、実施例1、2、比較例1の配向層について実施した。 Puncture modulus, film thickness, abrasion resistance evaluation (steel wool, pencil hardness) of the first retardation films obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, and thermal shock test of the optical laminate The results are shown in Table 2. The puncture elastic modulus of the first retardation films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was determined by peeling the base film from the laminate of the first retardation film and the base film. The measurement was performed by pressing a piercing jig against the retardation film (retardation layer 1 + orientation layer 1) from the retardation layer 1 side. For the first retardation film of Example 6, the base film and the alignment layer 1 were peeled from the retardation layer 1, and the results were measured for the first retardation film (only the retardation layer 1). In addition, abrasion resistance evaluation was performed on the alignment layers of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1.

Figure 0007422048000008
Figure 0007422048000008

表3に、各実施例および各比較例で得た位相差フィルムにおける
配向層の厚さLALと、配向層を構成する樹脂における重合性化合物iに由来する単位の含有量Cwi、当該重合性化合物iの分子量Miおよび官能基数Niを示す。配向層の重合性基量は、計算式(A-1)

Figure 0007422048000009

により算出された値N1である。 Table 3 shows the thickness L AL of the alignment layer in the retardation film obtained in each Example and each Comparative Example, the content Cwi of units derived from the polymerizable compound i in the resin constituting the alignment layer, and the polymerizability The molecular weight Mi and number of functional groups Ni of compound i are shown. The amount of polymerizable groups in the alignment layer is calculated using formula (A-1)
Figure 0007422048000009

This is the value N1 calculated by.

また、表3に、各実施例および各比較例で得た位相差フィルムにおける位相差層の厚さLLCと、位相差層を構成する重合性液晶化合物jに由来する単位の含有量Cwjと、当該重合性液晶化合物jの分子量Mjおよび官能基数Njとを示す。位相差層の重合性基量は、計算式(A-2)

Figure 0007422048000010

により算出される値N2である。
そして表3に、前記の計算式(A)により算出された重合性基量Nを併せて示す。 Table 3 also shows the thickness LLC of the retardation layer in the retardation films obtained in each Example and each Comparative Example, and the content Cwj of units derived from the polymerizable liquid crystal compound j constituting the retardation layer. , represents the molecular weight Mj and the number Nj of functional groups of the polymerizable liquid crystal compound j. The amount of polymerizable groups in the retardation layer is calculated using formula (A-2)

Figure 0007422048000010

This is the value N2 calculated by
Table 3 also shows the amount N of polymerizable groups calculated using the above formula (A).

Figure 0007422048000011
Figure 0007422048000011

本発明によれば、位相差フィルムを備える光学積層体であって、急激な温度変化を受ける環境下でも、クラックの発生を抑制できる光学積層体を提供することができるので有用である。 Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide an optical laminate including a retardation film, which can suppress the occurrence of cracks even in an environment subject to rapid temperature changes, which is useful.

1 第1の位相差フィルム(位相差フィルム)
2 第2の位相差フィルム
3 偏光板
4 有機EL表示素子
5 前面板
6 遮光パターン
10 位相差層
11 配向層
12 粘着剤層
13 接着剤層
14 ガラス板
100,101,102,104 光学積層体
103 有機EL表示装置
1 First retardation film (retardation film)
2 Second retardation film 3 Polarizing plate 4 Organic EL display element 5 Front plate 6 Light shielding pattern 10 Retardation layer 11 Alignment layer 12 Adhesive layer 13 Adhesive layer 14 Glass plate 100, 101, 102, 104 Optical laminate 103 Organic EL display device

Claims (7)

位相差フィルムを有する光学積層体であって、
前記位相差フィルムは、
フィルム面に対し突刺し冶具の先端を垂直に押圧し、破断が生じたときの、
前記突刺し冶具の先端から前記位相差フィルムへ加えられた応力F(g)と前記位相差フィルムのひずみ量S(mm)を用いて下記式(1)にて算出される突刺し弾性率が15g/mm以上50g/mm以下であることを特徴とする、ここで、該ひずみ量Sは該フィルムの突刺し方向の撓みによる変位量であり、突刺し弾性率の測定は、該フィルムを中央部が30mm×30mmの正方形で切り抜かれた糊付き台紙に貼合した測定試料を用い、先端径が1mmφ0.5Rである突刺し冶具の先端を0.33cm/秒の速度で押圧する条件において測定され、前記位相差フィルムは、重合性液晶化合物である棒状液晶化合物が硬化した、垂直配向性を有する転写型位相差層を含み、前記位相差フィルムは(メタ)アクリレート系モノマーの硬化物を含む転写型配向層をさらに含み、前記転写型配向層の鉛筆硬度は3B以下であり、かつ、前記転写型配向層の厚さは100nm~10000nmであり、該位相差フィルムの、次の計算式(A):
Figure 0007422048000012
[計算式(A)中、
ALは、位相差フィルムを構成する配向層を構成する樹脂を構成する重合性化合物に由来する構成単位の種類数を示し、
Cwiは、配向層を構成する樹脂における重合性化合物に由来する全構成単位を基準として、重合性化合物iに由来する構成単位の含有量(質量%)を示し、
Miは、配向層を構成する重合性化合物iの分子量を示し、
Niは、配向層を構成する重合性化合物iが有する重合性基の数を示し、
LCは、位相差層を構成する重合性液晶化合物に由来する構成単位の種類数を示し、
Cwjは、位相差層における重合性液晶化合物に由来する全構成単位を基準として、重合性液晶化合物jに由来する構成単位の含有量(質量%)を示し、
Mjは、位相差層を構成する重合性液晶化合物jの分子量を示し、
Njは、位相差層を構成する重合性液晶化合物jが有する重合性基の数を示し、
ALは配向層の厚さ(μm)を示し、
LCは位相差層の厚さ(μm)を示し、
totalは、LALとLLCとの和を示す]
により算出される重合性基量Nは0.59以下である、光学積層体。

(1)突刺し弾性率(g/mm)=F(g)/S(mm)
An optical laminate having a retardation film,
The retardation film is
When the tip of the piercing jig is pressed perpendicularly to the film surface and a break occurs,
The piercing elastic modulus is calculated using the following formula (1) using the stress F (g) applied to the retardation film from the tip of the piercing jig and the amount of strain S (mm) of the retardation film. 15 g/mm or more and 50 g/mm or less, where the strain amount S is the amount of displacement due to deflection of the film in the puncture direction, and the puncture elastic modulus is measured with the film at the center. Measurement was carried out using a measurement sample pasted on a glued mount with a square cutout of 30 mm x 30 mm, under conditions of pressing the tip of a stabbing jig with a tip diameter of 1 mm φ 0.5R at a speed of 0.33 cm / sec. and the retardation film includes a transfer type retardation layer having vertical alignment properties, in which a rod-shaped liquid crystal compound that is a polymerizable liquid crystal compound is cured, and the retardation film includes a cured product of a (meth)acrylate monomer. The retardation film further includes a transfer type alignment layer, the pencil hardness of the transfer type alignment layer is 3B or less, and the thickness of the transfer type alignment layer is 100 nm to 10000 nm, and the retardation film is calculated according to the following calculation formula ( A):
Figure 0007422048000012
[In formula (A),
AL indicates the number of types of structural units derived from the polymerizable compound constituting the resin constituting the alignment layer constituting the retardation film,
Cwi indicates the content (mass%) of structural units derived from polymerizable compound i, based on all structural units derived from polymerizable compounds in the resin constituting the alignment layer,
Mi indicates the molecular weight of the polymerizable compound i constituting the alignment layer,
Ni indicates the number of polymerizable groups possessed by the polymerizable compound i constituting the alignment layer,
LC indicates the number of types of structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound constituting the retardation layer,
Cwj indicates the content (mass%) of the structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound j, based on all the structural units derived from the polymerizable liquid crystal compound in the retardation layer,
Mj indicates the molecular weight of the polymerizable liquid crystal compound j constituting the retardation layer,
Nj indicates the number of polymerizable groups possessed by the polymerizable liquid crystal compound j constituting the retardation layer,
L AL indicates the thickness (μm) of the alignment layer,
LLC indicates the thickness (μm) of the retardation layer,
L total indicates the sum of L AL and L LC ]
An optical laminate in which the amount N of polymerizable groups calculated by is 0.59 or less.

(1) Puncture elastic modulus (g/mm) = F (g)/S (mm)
前記転写型配向層の厚さは2.0~3.5μmである、請求項1に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the transfer type alignment layer has a thickness of 2.0 to 3.5 μm. 前記位相差フィルムの厚さは3.5~30μmである、請求項1又は2に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the retardation film is 3.5 to 30 μm. 前記光学積層体は、さらに偏光板を有する請求項1~3のいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, further comprising a polarizing plate. 前記光学積層体は、さらに前面板を有し、
前記前面板は、前記偏光板における前記位相差フィルムが積層された側とは反対側に配置される請求項4に記載の光学積層体。
The optical laminate further includes a front plate,
The optical laminate according to claim 4, wherein the front plate is arranged on a side of the polarizing plate opposite to the side on which the retardation film is laminated.
前記光学積層体は、さらにタッチセンサを有する請求項5に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 5, further comprising a touch sensor. 請求項1~6のいずれかに記載の光学積層体が、表示素子に積層されている表示装置。 A display device, wherein the optical laminate according to claim 1 is laminated on a display element.
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