JP7413862B2 - Device - Google Patents

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  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Description

本発明は、主に流体の流れを切り替え可能な装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates primarily to a device capable of switching fluid flows.

非鉄精錬等を含む各種プラントには、水等の液体を流すための配管が設置されている。また、配管には、流体を分岐させ、移送割合や移送タイミングを切替調整することが可能な切替バルブが設けられる場合がある。 Various plants, including nonferrous refining plants, are equipped with piping for flowing liquids such as water. Further, the piping may be provided with a switching valve that can branch the fluid and switch and adjust the transfer rate and transfer timing.

例えば、特許文献1には、ニッケル酸化鉱石等から抽出したスカンジウムを含有する酸性溶液を用いて、スカンジウムをイオン交換樹脂により吸着、溶離させて不純物と分離し、高純度なスカンジウム原料溶液を回収するスカンジウムの回収方法が記載されている。 For example, in Patent Document 1, using an acidic solution containing scandium extracted from nickel oxide ore, scandium is adsorbed and eluted with an ion exchange resin to separate it from impurities, and a highly pure scandium raw material solution is recovered. A method for recovering scandium is described.

このスカンジウムの回収方法は、少なくとも、ニッケル、スカンジウム、アルミニウム、及びクロムを含有するニッケル酸化鉱石を高温高圧下で硫酸により浸出して浸出液を得る浸出工程と、浸出液に中和剤を添加して不純物を含む中和澱物と中和後液とを得る中和工程と、中和後液に硫化剤を添加してニッケル硫化物と硫化後液とを得る硫化工程と、硫化後液をキレート樹脂に接触させてスカンジウムを上記キレート樹脂に吸着させ、スカンジウム溶離液を得るイオン交換工程と、スカンジウム溶離液を抽出剤に接触させ、逆抽出液を得る溶媒抽出工程と、逆抽出液に中和剤又はシュウ酸を加え、沈殿物を得るスカンジウム沈殿工程と、この沈殿物を乾燥し、焙焼して、酸化スカンジウムを得る焙焼工程とを含む。 This scandium recovery method includes at least a leaching step in which nickel oxide ore containing nickel, scandium, aluminum, and chromium is leached with sulfuric acid under high temperature and high pressure to obtain a leachate, and a neutralizing agent is added to the leachate to remove impurities. a neutralization step to obtain a neutralized precipitate and a neutralized solution, a sulfurization step to obtain nickel sulfide and a sulfurized solution by adding a sulfiding agent to the neutralized solution, and a chelate resin to convert the sulfurized solution to a chelate resin. an ion exchange step in which scandium is adsorbed on the chelate resin by contacting with the chelate resin to obtain a scandium eluent; a solvent extraction step in which the scandium eluate is brought into contact with an extractant to obtain a back extract; and a neutralizing agent is added to the back extract. Alternatively, it includes a scandium precipitation step in which oxalic acid is added to obtain a precipitate, and a roasting step in which the precipitate is dried and roasted to obtain scandium oxide.

このように、スカンジウムの回収方法では、硫化後液をキレート樹脂に接触させてスカンジウムをキレート樹脂に吸着させる。具体的には、まず、カラムを並列に複数階で配置し、吸着始液の全量を均等に分割した量の吸着始液をそれぞれのカラムに通液し、回収対象であるスカンジウムを複数階の処理でキレート樹脂に吸着させる。それぞれのカラムは、1バッチ終了毎に、1つだけ移動して複数のバッチにわたりカラムを順次工程の下流側に移動させ、通液するカラムを切換えていく。 In this way, in the scandium recovery method, the sulfurized liquid is brought into contact with the chelate resin to cause scandium to be adsorbed onto the chelate resin. Specifically, first, columns are arranged in parallel on multiple floors, and an equal amount of the entire amount of adsorption starting solution is passed through each column, and the scandium to be recovered is spread over multiple floors. It is adsorbed to chelate resin through treatment. Each column is moved one by one every time one batch is completed, and the columns are sequentially moved downstream in the process over a plurality of batches, thereby switching the column through which the liquid is passed.

一方、吸着始液が送液されていない他のカラムに対しては洗浄液を送液して、同様に1バッチ終了毎に、1つだけ移動して複数のバッチにわたりカラムを順次移動させ、通液するカラムを切換えていく。 On the other hand, the cleaning solution is sent to other columns to which the adsorption starting solution has not been sent, and the columns are similarly moved sequentially over multiple batches by moving only one column after each batch. Switch the column to which the liquid is applied.

このような種類の異なる流体の通液の切換を、連続向流多段式イオン交換装置(CCIX)により行われることがある。CCIXでは、イオン交換処理の通液操作を切り替えるために任意の吐出先へ送液することを可能な切り替えバルブを備えている。切り替えバルブを備えたCCIXに関する技術は、例えば、特許文献2に記載されている。 Such switching of the flow of different types of fluids is sometimes performed by a continuous countercurrent multistage ion exchanger (CCIX). CCIX is equipped with a switching valve that allows liquid to be sent to an arbitrary destination in order to switch the liquid passing operation for ion exchange treatment. A technique related to CCIX equipped with a switching valve is described in, for example, Patent Document 2.

切り替えバルブは、例えば図1に示す通り、上部に配置されるトッププレート11と、トッププレート11の下部に配置されるトップディスク12と、トッププレート11と接触してその下部に配置されるプロセスディスク13と、プロセスディスク13の端部と内縁が接触するように配置されるエクスターナルリング14と、で構成されており、切り替えバルブはこのプロセスディスク13が動力により回転する構造となっており、これにより、種類の異なる流体を自在に任意の吐出先へ送液することを可能としている。 For example, as shown in FIG. 1, the switching valve includes a top plate 11 disposed above, a top disk 12 disposed below the top plate 11, and a process disk disposed below the top plate 11 in contact with the top plate 11. 13 and an external ring 14 arranged so that the end and inner edge of the process disk 13 are in contact with each other, and the switching valve has a structure in which the process disk 13 is rotated by power. , it is possible to freely send different types of fluids to any destination.

プロセスディスクは、種類の異なる流体を取り扱うために、隔壁によって仕切れられた複数の隔室を有している。そして、種類の異なる流体の漏れ込みを防ぐためにプロセスディスクの密閉性が重要となる。 The process disk has a plurality of compartments separated by partition walls to handle different types of fluids. The hermeticity of the process disk is important in order to prevent different types of fluids from leaking into the process disk.

そこで、トッププレートと、トップディスクと、エクスターナルリングと、が平面視の端部近傍でボルト等を用いて固定することでプロセスディスクとトップディスクとを密着させてプロセスディスクの密閉性を確保して液漏れを防ぐ構造となっている。 Therefore, by fixing the top plate, top disk, and external ring using bolts or the like near the ends in plan view, the process disk and top disk are brought into close contact and the sealing performance of the process disk is ensured. It has a structure that prevents liquid leakage.

特開2017-210675号公報Japanese Patent Application Publication No. 2017-210675 特表2004-509761号公報Special Publication No. 2004-509761

さて、このような各種プラントなどで使用される切替バルブなどの装置は、使用によって僅かなひずみが生じてしまい、固定されている端部に比べて中心が浮いて、プロセスディスクの密閉性が失われ、これによりプロセスディスク内で液漏れが発生することが本発明者によって明らかにされた。 Devices such as switching valves used in various plants are subject to slight distortion as they are used, causing the center to float relative to the fixed ends, causing the process disk to lose its sealing properties. The inventor has revealed that this causes liquid leakage within the process disk.

特に、種類の異なる流体の流れを切り替え可能な切り替えバルブであると、ポンプからプロセスディスクの内部に流体が流入するため、その圧力によってプロセスディスク内に内圧がかかることでプロセスディスクの中心がより浮きやすくなり、これによりプロセスディスク内で液漏れがより顕著に発生する。 In particular, when using a switching valve that can switch the flow of different types of fluid, the fluid flows from the pump into the process disk, and this pressure causes internal pressure to be applied inside the process disk, causing the center of the process disk to float more. This causes liquid leakage to occur more significantly within the process disk.

本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、プロセスディスク内での液漏れを効果的に防止できる装置を提供することを目的とする。 The present invention has been proposed in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a device that can effectively prevent liquid leakage within a process disk.

本発明者らは、トッププレートとトップディスクとの間にはエラストマー板がこれらの中心を含む領域に配置されている装置であれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have discovered that the above problem can be solved by an apparatus in which an elastomer plate is disposed between the top plate and the top disk in an area including the centers of these plates, and have completed the present invention. Ta.

(1)本発明の第1は、少なくとも、上部に配置されるトッププレートと、該トッププレートの下部に配置されるトップディスクと、該トップディスクと接触してその下部に配置されるプロセスディスクと、該プロセスディスクの端部と内縁が接触するように配置されるエクスターナルリングと、を備える装置であって、前記プロセスディスクは、流体を流入可能な少なくとも1以上の隔室を備え、前記トッププレートと前記トップディスクと前記エクスターナルリングとは、それらを固定する複数の固定手段を備え、複数の該固定手段は、平面視においてそれらの重心を通る対角線上の端部近傍に位置し、前記トッププレートと前記トップディスクとの間にはエラストマー板が中心を含む領域に配置されている装置である。 (1) The first aspect of the present invention includes at least a top plate disposed above, a top disk disposed below the top plate, and a process disk disposed below the top disk in contact with the top plate. an external ring disposed such that an end of the process disk and an inner edge thereof are in contact with each other, the process disk having at least one or more compartments into which fluid can flow, and the top plate The top disk and the external ring are provided with a plurality of fixing means for fixing them, and the plurality of fixing means are located near the ends on a diagonal line passing through their centers of gravity in a plan view, and the top plate and said top disk, in which an elastomeric plate is arranged in an area containing the center.

(2)本発明の第2は、第1の発明において、前記プロセスディスクは、流体を流入可能な複数の隔室を備える装置である。 (2) A second aspect of the present invention is the device according to the first aspect, in which the process disk includes a plurality of compartments into which fluid can flow.

(3)本発明の第3は、第2の発明において、前記プロセスディスクは、平面視において同心円状に形成された隔壁によって仕切れられた複数の隔室を備える装置である。 (3) A third aspect of the present invention is the device according to the second aspect, in which the process disk includes a plurality of compartments partitioned by partition walls formed concentrically in a plan view.

(4)本発明の第4は、第3の発明において、前記エラストマー板のショアA硬度は、40以上70以下の範囲である装置である。 (4) A fourth aspect of the present invention is the device according to the third aspect, wherein the elastomer plate has a Shore A hardness of 40 or more and 70 or less.

(5)本発明の第5は、第1から第4のいずれかの発明において、前記エラストマー板の厚さが2mm以上10mm以下である装置である。 (5) A fifth aspect of the present invention is the device according to any one of the first to fourth aspects, wherein the elastomer plate has a thickness of 2 mm or more and 10 mm or less.

(6)本発明の第6は、第1から第5のいずれかの発明において、前記エラストマー板のショアA硬度は、40以上70以下の範囲である装置である。 (6) A sixth aspect of the present invention is the device according to any one of the first to fifth aspects, wherein the elastomer plate has a Shore A hardness of 40 or more and 70 or less.

(7)本発明の第7は、第1から第6のいずれかの発明において、前記固定手段は、それらの端部近傍で周状に形成されている装置である。 (7) According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to sixth aspects, the fixing means is a device formed in a circumferential shape near the ends thereof.

(8)本発明の第8は、第1から第7のいずれかの発明において、流体の流れを切り替え可能な切り替えバルブである装置である。 (8) The eighth aspect of the present invention is the device according to any one of the first to seventh aspects, which is a switching valve capable of switching the flow of fluid.

本発明によれば、プロセスディスク内での液漏れを効果的に防止することができる。 According to the present invention, liquid leakage within the process disk can be effectively prevented.

装置の構成を模式的に示す概略図(断面図)である。FIG. 1 is a schematic diagram (cross-sectional view) schematically showing the configuration of the device. 図1における装置のA-A線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of the device in FIG. 1;

以下、本発明の具体的な実施形態(以下、「本実施の形態」という)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。 Hereinafter, a specific embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "this embodiment") will be described in detail. Note that the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within the scope of the purpose of the present invention.

<装置>
図1に本実施の形態に係る装置の構成を示す。本実施の形態に係る装置1は、少なくとも、上部に配置されるトッププレート11と、トッププレート11の下部に配置されるトップディスク12と、トップディスク12と接触してその下部に配置されるプロセスディスク13と、プロセスディスクの端部と内縁が接触するように配置されるエクスターナルリング14と、を備える。なお、このプロセスディスク13とエクスターナルリング14は、トップディスク12とボトムディスク15との間に挟持される。
<Device>
FIG. 1 shows the configuration of an apparatus according to this embodiment. The apparatus 1 according to the present embodiment includes at least a top plate 11 disposed above, a top disk 12 disposed below the top plate 11, and a process disposed in contact with and below the top disk 12. It includes a disk 13 and an external ring 14 arranged so that the end of the process disk and the inner edge are in contact with each other. Note that the process disk 13 and external ring 14 are sandwiched between the top disk 12 and the bottom disk 15.

そして、トッププレート11と、トップディスク12と、エクスターナルリング14と、はそれらを固定する複数の固定手段19を備えており、複数の固定手段19は、平面視においてそれらの重心を通る対角線上の端部近傍に位置している。このような複数の固定手段19により、トッププレート11と、トップディスク12と、エクスターナルリング14と、を端部から固定してプロセスディスク13の密閉性を高めることができる。 The top plate 11, the top disk 12, and the external ring 14 are provided with a plurality of fixing means 19 for fixing them, and the plurality of fixing means 19 are arranged on a diagonal line passing through their center of gravity in plan view. It is located near the end. With such a plurality of fixing means 19, the top plate 11, top disk 12, and external ring 14 can be fixed from the ends, thereby improving the sealing performance of the process disk 13.

プロセスディスク13は、流体を流入可能な少なくとも1以上の隔室を備えている。 The process disk 13 includes at least one compartment into which fluid can flow.

そして、本実施の形態に係る装置1は、トッププレート11とトップディスク12との間にはエラストマー板2がこれらの中心を含む領域に配置されていることを特徴としている。これにより、プロセスディスク13の密閉性が失われることを抑制してプロセスディスク13内で液漏れを効果的に防止することができる。 The device 1 according to the present embodiment is characterized in that an elastomer plate 2 is disposed between the top plate 11 and the top disk 12 in a region including the center thereof. Thereby, loss of sealing properties of the process disk 13 can be suppressed, and liquid leakage within the process disk 13 can be effectively prevented.

以下では、本実施の形態に係る装置を構成する各部材について説明する。 Below, each member constituting the device according to this embodiment will be explained.

[エラストマー板]
エラストマー板2は、平面視においてトッププレート11とトップディスク12との間にこれらの中心を含む領域に配置されることで、トップディスク12の中央部分で下方向に圧力がかかり、プロセスディスク13内の液漏れを効果的に防止することができる。
[Elastomer board]
The elastomer plate 2 is placed between the top plate 11 and the top disk 12 in a region including their centers in a plan view, so that pressure is applied downward at the center of the top disk 12, causing pressure to be applied to the inside of the process disk 13. can effectively prevent liquid leakage.

エラストマー板2とは、所定の厚さを有するゴムなどの弾性体である。エラストマー板2のショアA硬度は特に制限されるものではないが、40以上70以下であることが好ましい。エラストマー板2のショアA硬度(JIS K 6253)が40以上であることで、トップディスク12の中央部分で下方向により効果的に圧力をかけることができる。エラストマー板2のショアA硬度が70以下であることで、トップディスク12の歪みや傷の発生を抑制することができる。 The elastomer plate 2 is an elastic body such as rubber having a predetermined thickness. Although the Shore A hardness of the elastomer plate 2 is not particularly limited, it is preferably 40 or more and 70 or less. Since the Shore A hardness (JIS K 6253) of the elastomer plate 2 is 40 or more, downward pressure can be applied more effectively in the central portion of the top disk 12. By setting the Shore A hardness of the elastomer plate 2 to 70 or less, it is possible to suppress the occurrence of distortion and scratches on the top disk 12.

エラストマー板2の厚さは特に制限されるものではないが、2mm以上10mm以下であることが好ましい。エラストマー板2の厚さが2mm以上であることで、トップディスク12の中央部分で下方向により効果的に圧力をかけることができる。エラストマー板2の厚さが10mm以下であることで、トップディスクの歪みや傷の発生を抑制することができる。 The thickness of the elastomer plate 2 is not particularly limited, but is preferably 2 mm or more and 10 mm or less. By setting the thickness of the elastomer plate 2 to 2 mm or more, downward pressure can be applied more effectively in the central portion of the top disk 12. By setting the thickness of the elastomer plate 2 to 10 mm or less, it is possible to suppress the occurrence of distortion and scratches on the top disk.

平面視におけるエラストマー板2の形状は特に制限されるものではないが、略円状であることが好ましい。トップディスク12の中央近傍で均一に圧力がかかり、プロセスディスク内の液漏れをより効果的に防止することができる。特に後述するようにプロセスディスクが同心円状に形成された隔壁によって仕切れられた複数の隔室を備える場合(例えば図2)には、エラストマー板2の形状が略円状であることで中心近傍に配置された同心円状の隔壁の密閉部材132aが適切に押されることで、極めて効果的にプロセスディスク13を密閉することが可能となる。 Although the shape of the elastomer plate 2 in plan view is not particularly limited, it is preferably approximately circular. Pressure is applied uniformly near the center of the top disk 12, making it possible to more effectively prevent liquid leakage within the process disk. Particularly, as will be described later, when the process disk includes a plurality of compartments partitioned by concentric partition walls (for example, FIG. 2), the approximately circular shape of the elastomer plate 2 allows By appropriately pressing the sealing members 132a of the arranged concentric partition walls, it becomes possible to seal the process disk 13 very effectively.

また、エラストマー板2の形状が略円状である場合、エラストマー板2の直径(平面視)は、トップディスクの直径(平面視)に対して15%以上であることが好ましい。エラストマー板2の直径は、トップディスクの直径に対して15%以上であることで、トップディスク12の中央部分で下方向により効果的に圧力をかけることができる。なお、エラストマー板2の直径の上限は特に制限はされないが、トップディスクの直径に対して40%以下であることが好ましい。 Further, when the shape of the elastomer plate 2 is approximately circular, the diameter of the elastomer plate 2 (in plan view) is preferably 15% or more of the diameter (in plan view) of the top disk. By setting the diameter of the elastomer plate 2 to be 15% or more of the diameter of the top disk, downward pressure can be applied more effectively to the central portion of the top disk 12. Although the upper limit of the diameter of the elastomer plate 2 is not particularly limited, it is preferably 40% or less of the diameter of the top disk.

[プロセスディスク]
プロセスディスク13は、平面視において隔壁133a、133b、133cによって仕切れられた複数の隔室131a、131b、131cを備える。このプロセスディスク13は動力により回転する構造となっており、これにより、種類の異なる流体を自在に任意の吐出先へ送液することを可能としている。なお、本発明の装置において、プロセスディスクは、少なくとも1以上の隔室を備えていればよいが、複数の隔室を備えることで種類の異なる流体を取り扱うことが可能となる。
[Process disk]
The process disk 13 includes a plurality of compartments 131a, 131b, and 131c partitioned by partition walls 133a, 133b, and 133c in plan view. This process disk 13 has a structure that is rotated by power, thereby making it possible to freely send different types of fluids to any desired discharge destination. Note that in the apparatus of the present invention, the process disk only needs to have at least one compartment; however, by having a plurality of compartments, it is possible to handle different types of fluids.

図2に図1における装置のA-A線断面図(平面図)であって、プロセスディスク13とエクスターナルリング14の平面図を示す。プロセスディスク13は、平面視において同心円状に形成された隔壁133a、133b、133cによって仕切れられた複数の隔室131a、131b、131cを有している。この複数の隔室131a、131b、131cには流体が流入される。 FIG. 2 is a sectional view (plan view) taken along the line AA of the apparatus in FIG. 1, and shows a plan view of the process disk 13 and the external ring 14. The process disk 13 has a plurality of compartments 131a, 131b, and 131c partitioned by partition walls 133a, 133b, and 133c formed concentrically in plan view. Fluid flows into the plurality of compartments 131a, 131b, and 131c.

そして、隔壁133a、133b、133cには、例えばOリングなどの密閉部材132a、132b、132cが備えられており、この密閉部材132a、132b、132cがトップディスク12の下面と接触することで隔室131a、131b、131cを密閉して、液漏れを防止する。 The partition walls 133a, 133b, 133c are provided with sealing members 132a, 132b, 132c such as O-rings, and when the sealing members 132a, 132b, 132c come into contact with the lower surface of the top disk 12, the partition can be opened. 131a, 131b, and 131c are sealed to prevent liquid leakage.

このとき、例えば、プロセスディスク13の端部側に位置する隔壁133cでは、固定手段19と比較的近いため、トップディスク12によって隔壁133cの密閉部材132cが適切に押されることで隔室131aでの液漏れを防止することができる。一方、プロセスディスクの中心側の隔壁133aでは、相対的に固定手段19から遠く、長期間の使用によってプロセスディスクに僅かなひずみが生じることで中心付近でトップディスク12が浮いて、隔壁133aに存在する密閉部材132aが適切に押されなくなり、このプロセスディスクの中央付近の隔壁の間で液漏れが発生する場合がある。特に、ポリオレフィン樹脂のような高温時での耐久性の低い材質をプロセスディスク等の構成部材に用いたような場合には、このようなひずみが生じやすく液漏れの問題が顕著となる。 At this time, for example, the partition wall 133c located on the end side of the process disk 13 is relatively close to the fixing means 19, so that the sealing member 132c of the partition wall 133c is appropriately pressed by the top disk 12, so that the sealing member 132c of the partition wall 133c is appropriately pressed. Liquid leakage can be prevented. On the other hand, the partition wall 133a on the center side of the process disk is relatively far from the fixing means 19, and as a result of a slight strain occurring in the process disk due to long-term use, the top disk 12 floats near the center and is present on the partition wall 133a. The sealing member 132a may not be pressed properly, and liquid leakage may occur between the partition walls near the center of the process disk. In particular, when a material with low durability at high temperatures, such as a polyolefin resin, is used for a component such as a process disk, such distortion is likely to occur and the problem of liquid leakage becomes significant.

そこで、トッププレート11とトップディスク12との間にはエラストマー板2がこれらの中心を含む領域に配置されていることで、トップディスク12の中央部分で下方向に圧力がかかり、中央付近に存在する隔壁133aの密閉部材132aが適切に押されることとなり、隔室131aを適切に密閉することが可能となる。これにより、プロセスディスク13内での液漏れを効果的に防止することができる。 Therefore, by placing the elastomer plate 2 between the top plate 11 and the top disk 12 in an area including the centers of these, downward pressure is applied at the center of the top disk 12, and the The sealing member 132a of the partition wall 133a is pressed appropriately, making it possible to appropriately seal the compartment 131a. Thereby, liquid leakage within the process disk 13 can be effectively prevented.

なお、平面視において同心円状に形成された隔壁133a、133b、133cによって仕切れられた複数の隔室131a、131b、131cを備えるプロセスディスク13を備える装置を本発明の具体的な実施形態の一例として説明したが、本発明において、平面視における隔壁の形状は特に制限されるものではない。しかしながら、同心円状に形成された隔壁を備えるプロセスディスク13であると、図2の隔壁133aのようにプロセスディスク中央付近に隔壁が存在するような構成となるため、プロセスディスク13に僅かなひずみが生じることにより液漏れの問題が顕著となる。本実施の形態に係る装置1のようにトッププレート11とトップディスク12との間にエラストマー板2がこれらの中心を含む領域に配置されていることによって、このように液漏れがより発生しやすい構成の装置であってもプロセスディスク13内の液漏れを効果的に防止することができる。 Note that an apparatus including a process disk 13 including a plurality of compartments 131a, 131b, and 131c partitioned by partition walls 133a, 133b, and 133c formed concentrically in a plan view is an example of a specific embodiment of the present invention. Although described above, in the present invention, the shape of the partition wall in plan view is not particularly limited. However, if the process disk 13 has partition walls formed in concentric circles, the partition wall will be located near the center of the process disk, such as the partition wall 133a in FIG. As a result, the problem of liquid leakage becomes significant. Since the elastomer plate 2 is disposed between the top plate 11 and the top disk 12 in an area including their centers as in the device 1 according to the present embodiment, liquid leakage is more likely to occur in this way. Even if the apparatus has this configuration, liquid leakage within the process disk 13 can be effectively prevented.

Oリングなどの密閉部材132a、132b、132cの材質としては、天然ゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、ハイパロン、ポリブタジエンゴム、エチレン-プロピレンゴム(EPM)、エチレン-プロピレン-ジエン三元共重合体(EPDM)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、水素添加アクリロニトリルブタジエンゴム(H-NBR)、シリコンゴム、フッ素ゴム、アクリルゴム、スチレンブタジエンゴム、塩素化ポリエチレンゴム、ミラブルウレタン、熱硬化性ポリウレタン、熱可塑性ポリウレタン、又は熱可塑性ポリエステルなどを含むものやこれらのPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)などの樹脂によりコーティングされたものを挙げることができる。その中でも、エチレン-プロピレン-ジエン三元共重合体(EPDM)を含むもの及びEPDMがPTFEによりコーティングされたものが好ましい。 Materials for the sealing members 132a, 132b, 132c such as O-rings include natural rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, Hypalon, polybutadiene rubber, ethylene-propylene rubber (EPM), and ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM). ), acrylonitrile butadiene rubber (NBR), hydrogenated acrylonitrile butadiene rubber (H-NBR), silicone rubber, fluororubber, acrylic rubber, styrene butadiene rubber, chlorinated polyethylene rubber, millable urethane, thermosetting polyurethane, thermoplastic polyurethane, Alternatively, examples include those containing thermoplastic polyester and those coated with resins such as PTFE (polytetrafluoroethylene). Among these, those containing ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM) and those in which EPDM is coated with PTFE are preferred.

このプロセスディスク13の外縁は、トップディスク12側からボトムディスク15側に向けて縮径するようにテーパー状に形成されている。エクスターナルリング14との密着性を向上させて、液漏れを防ぐことができる。なお、プロセスディスク13の外縁には、ガスケットが備えられていてもよい。 The outer edge of this process disk 13 is formed in a tapered shape so that the diameter decreases from the top disk 12 side toward the bottom disk 15 side. It is possible to improve the adhesion with the external ring 14 and prevent liquid leakage. Note that the outer edge of the process disk 13 may be provided with a gasket.

[エクスターナルリング]
エクスターナルリング14は、プロセスディスク13の端部と内縁が接触するように配置される。エクスターナルリング14の内縁は、トップディスク12側からボトムディスク15側に向けて縮径するようにテーパー状に形成されている。このように、エクスターナルリング14の内縁はテーパー状の形状とすることでプロセスディスク13との密閉性を向上させて、液漏れを防ぐことができる。
[External ring]
The external ring 14 is arranged so that the end of the process disk 13 and its inner edge are in contact with each other. The inner edge of the external ring 14 is tapered so as to reduce in diameter from the top disk 12 side toward the bottom disk 15 side. In this way, by forming the inner edge of the external ring 14 into a tapered shape, it is possible to improve the sealing performance with the process disk 13 and prevent liquid leakage.

[トッププレート及びボトムプレート]
トッププレート11及びボトムプレート16は主にSUSなどの金属部材から構成されている。そして、後述する固定手段によって他の部材とともに固定されることで装置1に剛性を付与することができる。
[Top plate and bottom plate]
The top plate 11 and the bottom plate 16 are mainly made of metal members such as SUS. Then, rigidity can be imparted to the device 1 by being fixed together with other members by a fixing means to be described later.

[固定手段]
トッププレート11とトップディスク12とエクスターナルリング14はそれらを固定する複数の固定手段19を備え、複数の固定手段19は、平面視においてそれらの重心を通る対角線上の端部近傍に位置している。このように対角線上の端部近傍に位置するように複数の固定手段19を備えることにより、これらの部材を略水平に固定することができる。
[Fixing means]
The top plate 11, the top disk 12, and the external ring 14 are provided with a plurality of fixing means 19 for fixing them, and the plurality of fixing means 19 are located near the ends on a diagonal line passing through their centers of gravity in plan view. . By providing a plurality of fixing means 19 so as to be located near the ends on the diagonal line in this manner, these members can be fixed substantially horizontally.

固定手段としては、図1に示すように、ボルト17をこれらの部材に挿通させ、ボルト17にナット18を装着してナット18を締め付ける固定手段を挙げることができる。 As shown in FIG. 1, the fixing means includes a fixing means that inserts a bolt 17 through these members, attaches a nut 18 to the bolt 17, and tightens the nut 18.

また、複数の固定手段19は、重心を通る対角線上に位置するように形成されていればよいが、図2に示すように複数の固定手段19がそれらの端部近傍で周状に形成されていることが好ましい。これにより周状にプロセスディスク13とトップディスク12とを固定させてプロセスディスク13の密閉性をより高めることが可能となる。 Further, the plurality of fixing means 19 may be formed so as to be located on a diagonal line passing through the center of gravity, but as shown in FIG. It is preferable that This makes it possible to fix the process disk 13 and the top disk 12 circumferentially, thereby further improving the sealing performance of the process disk 13.

以上のように、本発明によれば、プロセスディスク内での液漏れを効果的に防止することができる。そのため、本発明の装置はその用途は特に制限はないが、種類の異なる流体の流れを切り替え可能な切り替えバルブに用いることが好ましい。 As described above, according to the present invention, liquid leakage within the process disk can be effectively prevented. Therefore, although the device of the present invention is not particularly limited in its use, it is preferably used as a switching valve that can switch between different types of fluid flows.

また、キレート樹脂に金属イオンを吸着させ、金属イオンの溶離液を得るイオン交換工程では、吸着始液と洗浄液とを自在にキレート樹脂へと送液することが求められる。このようなイオン交換工程を含むようなプラントでは、本実施の形態に係る装置は、長期間使用することによって発生し得るプロセスディスク内で液漏れが発生する問題を効果的に解決することができるものである。 Furthermore, in the ion exchange step of adsorbing metal ions onto a chelate resin and obtaining an eluent for the metal ions, it is required to freely feed an adsorption starting solution and a cleaning solution to the chelate resin. In a plant that includes such an ion exchange process, the apparatus according to the present embodiment can effectively solve the problem of liquid leakage in the process disk that may occur due to long-term use. It is something.

1 装置
11 トッププレート
12 トップディスク
13 プロセスディスク
131a、131b、131c 隔室
132a、132b、132c 密閉部材
133a、133b、133c 隔壁
14 エクスターナルリング
15 ボトムディスク
16 ボトムプレート
17 ボルト
18 ナット
19 固定手段
2 エラストマー板
1 Apparatus 11 Top plate 12 Top disk 13 Process disk 131a, 131b, 131c Compartment 132a, 132b, 132c Sealing member 133a, 133b, 133c Partition wall 14 External ring 15 Bottom disk 16 Bottom plate 17 Bolt 18 Nut 19 Fixing means 2 Elastomer plate

Claims (6)

少なくとも、上部に配置されるトッププレートと、該トッププレートの下部に配置されるトップディスクと、該トップディスクと接触してその下部に配置され、動力により回転するプロセスディスクと、該プロセスディスクの端部と内縁が接触するように配置されるエクスターナルリングと、を備え、前記プロセスディスクの回転により流体を任意の吐出先へ送液する、流体の流れを切り替え可能な切り替えバルブであって、
前記プロセスディスクの外縁及び前記エクスターナルリングの内縁は、上側から下側に向けて縮径するようにテーパー状に形成され、
前記プロセスディスクの上面及び前記トップディスクの下面には、流体を流入可能な少なくとも複数の隔室を備え、
前記複数の隔室は、それぞれ隔壁によって仕切られ、該隔壁は、前記トップディスクの下面と接触する密閉部材を備え、
前記トッププレートと前記トップディスクと前記エクスターナルリングとは、それらを固定する複数の固定手段を備え、複数の該固定手段は、平面視においてそれらの重心を通る対角線上の端部近傍に位置し、
前記トッププレートと前記トップディスクとの間にはエラストマー板がこれらの中心を含む領域に配置されている
切り替えバルブ
At least a top plate disposed above, a top disk disposed below the top plate, a process disk disposed in contact with and below the top disk and rotated by power , and an end of the process disk. and an external ring arranged so that the inner edge and the inner edge of the valve are in contact with each other, the switching valve is capable of switching the flow of fluid and sends the fluid to an arbitrary discharge destination by rotation of the process disk ,
The outer edge of the process disk and the inner edge of the external ring are tapered so as to reduce in diameter from the upper side to the lower side,
The upper surface of the process disk and the lower surface of the top disk are provided with at least a plurality of compartments into which fluid can flow;
The plurality of compartments are each partitioned by a partition wall, and the partition wall includes a sealing member that contacts the lower surface of the top disk,
The top plate, the top disk, and the external ring are provided with a plurality of fixing means for fixing them, and the plurality of fixing means are located near the ends on a diagonal line passing through their centers of gravity in a plan view,
An elastomer plate is disposed between the top plate and the top disk in a region including the center thereof.
switching valve .
前記プロセスディスクは、平面視において同心円状に形成された隔壁によって仕切れられた複数の隔室を備える
請求項に記載の切り替えバルブ
The switching valve according to claim 1 , wherein the process disk includes a plurality of compartments partitioned by partition walls formed concentrically in a plan view.
平面視における前記エラストマー板の形状は略円状である
請求項に記載の切り替えバルブ
The switching valve according to claim 2 , wherein the elastomer plate has a substantially circular shape in plan view.
前記エラストマー板の厚さが2mm以上10mm以下である
請求項1からのいずれかに記載の切り替えバルブ
The switching valve according to any one of claims 1 to 3 , wherein the thickness of the elastomer plate is 2 mm or more and 10 mm or less.
前記エラストマー板のショアA硬度は、40以上70以下の範囲である
請求項1からのいずれかに記載の切り替えバルブ
The switching valve according to any one of claims 1 to 4 , wherein the elastomer plate has a Shore A hardness of 40 or more and 70 or less.
前記固定手段は、それらの端部近傍で周状に形成されている
請求項1からのいずれかに記載の切り替えバルブ
The switching valve according to any one of claims 1 to 5 , wherein the fixing means are circumferentially formed near their ends.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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