JP7413314B2 - Silver gloss film and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、各種の被加飾体をメタリック加飾するための銀光沢膜およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a silver luster film for metallically decorating various objects to be decorated, and a method for manufacturing the same.

メタリック加飾は、例えば、自動車の内装・外装部品、エンブレム、電子機器、化粧品の容器、ゴルフクラブのシャフトなどの幅広い分野で必要とされており、高級感を得るために、金属に匹敵する程の高度な金属光沢が求められている。特に、銀は光の反射率が高いことから美しい金属光沢(メタリック性、光輝性、鏡面性)を有し、高度な意匠性に好適な金属として期待されている。 Metallic decoration is needed in a wide range of fields, such as automobile interior and exterior parts, emblems, electronic devices, cosmetic containers, and golf club shafts. A high level of metallic luster is required. In particular, silver has a beautiful metallic luster (metallicity, glitter, specularity) due to its high light reflectance, and is expected to be a metal suitable for advanced design.

被加飾体に金属光沢を付与するための手法としては、箔押し、蒸着、銀鏡反応を利用した銀鏡メッキ、クロムメッキのほか、光輝顔料としてアルミニウム顔料を用いたインクや、金属ナノ粒子を含むインクによる印刷や塗布によって、基材に金属光沢層を形成する方法が挙げられる。 Techniques for imparting metallic luster to objects to be decorated include foil stamping, vapor deposition, silver mirror plating using silver mirror reaction, and chrome plating, as well as inks using aluminum pigments as bright pigments and inks containing metal nanoparticles. Examples include a method of forming a metallic luster layer on a base material by printing or coating.

箔押し、蒸着、銀鏡メッキ、クロムメッキは、金属に近い金属光沢を付与することができるが、製造工程が複雑であることや、専用の設備が必要であることから製造コストの面で不利な方法である。また、銀鏡メッキは、メッキ特有の白化、クラック、発色のムラの発生や、メッキを施す部分以外の部分がメッキされてしまうことによる不良率も高い。さらに、クロムメッキは環境に対する負荷が大きい。これらの手法に対して、インクを用いた印刷や塗布などの方法は、製造コストが安価で、適用できる基材も幅広く選択できる。 Foil stamping, vapor deposition, silver mirror plating, and chrome plating can give a metallic luster close to that of metal, but these methods are disadvantageous in terms of manufacturing costs because the manufacturing process is complicated and special equipment is required. It is. In addition, silver mirror plating has a high defect rate due to whitening, cracking, and uneven coloring that are characteristic of plating, and because parts other than those to be plated are plated. Furthermore, chrome plating has a large impact on the environment. In contrast to these methods, methods such as printing and coating using ink have lower manufacturing costs and can be applied to a wide range of base materials.

インクの中でも、アルミニウム顔料(光輝顔料)を用いたインクよりも、金属ナノ粒子を含むインクによる金属光沢層の方が、金属光沢性に優れている。 Among inks, a metallic luster layer made of an ink containing metal nanoparticles has better metallic luster than an ink using an aluminum pigment (bright pigment).

特開2009-227736号公報(特許文献1)には、金属ナノ粒子と分散剤とで形成された金属コロイド粒子;および溶媒(B)を含み、前記分散剤がカルボキシル基を有する有機化合物および高分子分散剤を含むインクジェット印刷用インキ組成物が記載されている。この文献には、バインダー樹脂(ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性高分子など)などの添加剤を添加してもよいことも記載されている。 JP-A-2009-227736 (Patent Document 1) contains metal colloid particles formed of metal nanoparticles and a dispersant; and a solvent (B), and the dispersant contains an organic compound having a carboxyl group and a polymer. Inkjet printing ink compositions are described that include molecular dispersants. This document also describes that additives such as binder resins (hydrophilic polymers such as polyvinyl alcohol and polyethylene glycol) may be added.

特開2017-149942号公報(特許文献2)には、銀ナノ粒子と、カルボキシル基又はその塩を有する分散剤と、水性溶媒とを含み、被印刷体に印字または印刷するためのインキ組成物であって、固形分換算で、銀ナノ粒子100質量部に対して、被膜形成能を有する水溶性または水分散性高分子を1~30質量部の割合で含むインキ組成物が開示されている。 JP 2017-149942A (Patent Document 2) discloses an ink composition for printing or printing on a printing material, which includes silver nanoparticles, a dispersant having a carboxyl group or a salt thereof, and an aqueous solvent. discloses an ink composition containing 1 to 30 parts by mass of a water-soluble or water-dispersible polymer having a film-forming ability based on 100 parts by mass of silver nanoparticles in terms of solid content. .

特開2018-153965号公報(特許文献3)には、基材と、前記基材上に形成された金属光沢層とを有する画像形成物において、前記金属光沢層は、金属ナノ粒子と、前記金属ナノ粒子の表面に吸着した高分子分散剤と、バインダー樹脂と、を含み、前記高分子分散剤は、酸価が1以上80以下の化合物であり、前記バインダー樹脂は、SP値が23.0以上26.0以下の樹脂である画像形成物が開示されている。この文献には、前記バインダー樹脂、けん化度が72以上85以下のポリビニルアルコールが記載されている。 JP 2018-153965A (Patent Document 3) discloses an image formed product having a base material and a metallic luster layer formed on the base material, wherein the metallic luster layer includes metal nanoparticles and the metallic luster layer formed on the base material. The polymer dispersant is a compound having an acid value of 1 or more and 80 or less, and the binder resin has an SP value of 23. An image-formed product is disclosed in which the resin has a molecular weight of 0 or more and 26.0 or less. This document describes the binder resin as polyvinyl alcohol having a saponification degree of 72 or more and 85 or less.

特開2018-145319号公報(特許文献4)には、水、沸点が250℃以下の水溶性有機溶剤、光輝性顔料、及びビニルポリマーを含む第一の樹脂粒子、ならびに第二の樹脂粒子を含有するインクが開示されている。この文献には、光輝性顔料として銀コロイド粒子分散液が記載されている。 JP 2018-145319 A (Patent Document 4) discloses that first resin particles containing water, a water-soluble organic solvent with a boiling point of 250° C. or less, a glitter pigment, and a vinyl polymer, and second resin particles are used. An ink containing the invention is disclosed. This document describes a silver colloid particle dispersion as a glittering pigment.

特開2019-116522号公報(特許文献5)には、粒子径Dav90が45nm以下である銀粒子、ポリオール、シリコーン系界面活性剤、樹脂を含むインクが開示されている。この文献には、前記インクが水溶性樹脂または水分散性樹脂を含むことが記載されている。 JP 2019-116522A (Patent Document 5) discloses an ink containing silver particles having a particle size Dav90 of 45 nm or less, a polyol, a silicone surfactant, and a resin. This document describes that the ink contains a water-soluble resin or a water-dispersible resin.

特開2017-2219号公報(特許文献6)には、アルコール溶媒中に高分子分散剤を溶解させるとともに、酸化銀および炭酸銀から選択される少なくとも1種の銀化合物を分散させたアルコール溶液を用い、前記アルコール溶液中に超音波を照射することにより得られた、銀ナノ粒子の分散溶液からなる銀鏡膜層形成用組成液が開示されている。 JP 2017-2219 A (Patent Document 6) discloses an alcohol solution in which a polymer dispersant is dissolved in an alcohol solvent and at least one silver compound selected from silver oxide and silver carbonate is dispersed. A composition liquid for forming a silver mirror film layer is disclosed, which is made of a dispersion solution of silver nanoparticles and obtained by irradiating ultrasonic waves into the alcohol solution.

特開2009-227736号公報Japanese Patent Application Publication No. 2009-227736 特開2017-149942号公報Japanese Patent Application Publication No. 2017-149942 特開2018-153965号公報Japanese Patent Application Publication No. 2018-153965 特開2018-145319号公報Japanese Patent Application Publication No. 2018-145319 特開2019-116522号公報JP2019-116522A 特開2017-2219号公報JP 2017-2219 Publication

しかし、特許文献1~6に開示されている金属ナノ粒子を用いたインクでは、バインダーなどの樹脂量を多くすると金属光沢(銀光沢)が得られなくなるため、高い金属光沢を得るためには樹脂量を極力少なくする必要があった。樹脂量を少なくすると、基材との密着性、耐擦過性が低下するため、上塗り層、下塗り層との併用が必要であった。すなわち、金属光沢性と密着性とはトレードオフの関係にあるため、簡便な方法で両特性を両立させるのは困難であった。 However, in the inks using metal nanoparticles disclosed in Patent Documents 1 to 6, if the amount of resin such as a binder is increased, metallic luster (silver luster) cannot be obtained. It was necessary to reduce the amount as much as possible. If the amount of resin is reduced, the adhesion to the base material and scratch resistance will decrease, so it has been necessary to use the resin in combination with an overcoat layer and an undercoat layer. That is, since there is a trade-off relationship between metallic luster and adhesion, it has been difficult to achieve both properties using a simple method.

従って、本発明の目的は、銀光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できる銀光沢膜およびその製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a silver gloss film that can achieve both silver luster, adhesion, and scratch resistance, and a method for producing the same.

本発明者等は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、基材(または被加飾体)の上に、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(a)で形成された界面層(A)、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b1)および第1樹脂(b2)を含む第1相と、銀と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b3)および第2樹脂(b4)を含み、銀の含有割合が前記第1相よりも少ない第2相とに相分離した相分離構造を有する中間層(B)、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(c)で形成された表面層(C)が順次積層された構造を有することにより、銀光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors have discovered that composite nanoparticles (a) of a metal containing silver and a protective colloid are formed on a base material (or an object to be decorated). an interface layer (A), a first phase containing composite nanoparticles (b1) of a metal containing silver and a protective colloid, a first resin (b2), composite nanoparticles (b3) of silver and a protective colloid, and An intermediate layer (B) having a phase-separated structure including a second resin (b4) and a second phase containing less silver than the first phase; a composite of a metal containing silver and a protective colloid; The present invention was completed based on the discovery that by having a structure in which the surface layer (C) formed of body nanoparticles (c) is sequentially laminated, silver luster, adhesion, and scratch resistance can be achieved at the same time.

すなわち、本発明の銀光沢膜は、基材の上に積層された銀光沢膜であって、
前記基材の上に積層され、かつ銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(a)で形成された界面層(A)と、
この界面層(A)の上に積層され、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b1)および第1樹脂(b2)を含む第1相と、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b3)および第2樹脂(b4)を含み、銀を含む金属の含有割合が前記第1相よりも少ない第2相とに相分離した相分離構造を有する中間層(B)と、
この中間層(B)の上に積層され、かつ銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(c)で形成された表面層(C)とで形成されている。
That is, the silver luster film of the present invention is a silver luster film laminated on a base material,
an interface layer (A) laminated on the base material and formed of composite nanoparticles (a) of a metal containing silver and a protective colloid;
A first phase that is laminated on this interface layer (A) and includes composite nanoparticles (b1) of a metal containing silver and a protective colloid and a first resin (b2), and a metal containing silver and a protective colloid. An intermediate layer (B) having a phase-separated structure comprising composite nanoparticles (b3) of )and,
A surface layer (C) is laminated on the intermediate layer (B) and is formed of composite nanoparticles (c) of a metal containing silver and a protective colloid.

前記中間層(B)の相分離構造は海島構造であってもよい。前記第1相または前記第2相が分散相であり、かつ前記分散相の平均径が30~500nmであってもよい。前記表面層(C)および前記界面層(A)の平均厚みは、それぞれ10~200nmであってもよい。前記中間層(B)の平均厚みは、前記表面層(C)の平均厚みに対して25~250倍であってもよい。 The phase separation structure of the intermediate layer (B) may be a sea-island structure. The first phase or the second phase may be a dispersed phase, and the dispersed phase may have an average diameter of 30 to 500 nm. The surface layer (C) and the interface layer (A) may each have an average thickness of 10 to 200 nm. The average thickness of the intermediate layer (B) may be 25 to 250 times the average thickness of the surface layer (C).

本発明には、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子、第1樹脂、第2樹脂および溶剤を含む液状組成物を基材の上に塗布する塗布工程と、前記液状組成物で形成された塗膜を乾燥させ、スピノーダル分解により相分離させて銀光沢膜を得る相分離工程とを含む前記銀光沢膜の製造方法も含まれる。 The present invention includes a coating step of coating a substrate with a liquid composition containing composite nanoparticles of a metal containing silver and a protective colloid, a first resin, a second resin, and a solvent; The present invention also includes a method for producing the silvery glossy film, which includes a phase separation step of drying the formed coating film and phase-separating it by spinodal decomposition to obtain a silvery glossy film.

本発明には、基材の上に前記銀光沢膜が積層された装飾体も含まれる。 The present invention also includes a decorative body in which the silver luster film is laminated on a base material.

本発明では、基材または被加飾体の上に、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(a)で形成された界面層(A)、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b1)および第1樹脂(b2)を含む第1相と、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b3)および第2樹脂(b4)を含み、銀を含む金属の含有割合が前記第1相よりも少ない第2相とに相分離した相分離構造を有する中間層(B)、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(c)で形成された表面層(C)が順次積層された構造を有しているため、銀光沢膜の銀光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できる。詳しくは、被加飾体に対して、上塗り層や下塗り層などを別途形成することなく、高い密着性で銀光沢膜を形成できるため、簡便な方法で密着性を向上でき、耐擦過性も向上できる。さらに、膜表面が銀を含むナノ粒子が密な表面層を形成しているため、光の遮蔽性(非透過性)も大きく、銀光沢(鏡面)を向上できる。 In the present invention, an interface layer (A) formed of composite nanoparticles (a) of a metal containing silver and a protective colloid is formed on a base material or an object to be decorated; A first phase containing composite nanoparticles (b1) and a first resin (b2), a composite nanoparticle (b3) of a metal containing silver and a protective colloid, and a second resin (b4), containing silver. An intermediate layer (B) having a phase-separated structure in which the second phase has a lower metal content than the first phase, and a composite nanoparticle (c) of a metal containing silver and a protective colloid. Since the surface layer (C) has a structure in which the surface layers (C) are sequentially laminated, it is possible to achieve both the silver luster, adhesion, and scratch resistance of the silver luster film. Specifically, it is possible to form a silver glossy film with high adhesion on the object to be decorated without separately forming a topcoat layer or undercoat layer, so it is possible to improve adhesion with a simple method and also improve scratch resistance. You can improve. Furthermore, since the film surface forms a dense surface layer of silver-containing nanoparticles, it has a high light shielding property (non-transmission) and can improve silver luster (mirror surface).

図1は、実施例1で得られた銀光沢膜断面の透過型電子顕微鏡(TEM)像を示す。FIG. 1 shows a transmission electron microscope (TEM) image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 1. 図2は、図1のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 2 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 1 near the surface. 図3は、図1のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 3 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 1 near the interface with the base material. 図4は、図1のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 4 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 1 near the center of the film thickness. 図5は、実施例2で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 5 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 2. 図6は、図5のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 6 is an enlarged image of the vicinity of the surface in the TEM image of FIG. 図7は、図5のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 7 is an enlarged image of the vicinity of the interface with the base material in the TEM image of FIG. 図8は、図5のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 8 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 5 near the center of the film thickness. 図9は、実施例3で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 9 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 3. 図10は、図9のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 10 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 9 near the surface. 図11は、図9のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 11 is an enlarged image of the vicinity of the interface with the base material in the TEM image of FIG. 図12は、図9のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 12 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 9 near the center of the film thickness. 図13は、実施例4で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 13 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 4. 図14は、図13のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 14 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 13 near the surface. 図15は、図13のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 15 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 13 near the interface with the base material. 図16は、図13のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 16 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 13 near the center of the film thickness. 図17は、実施例5で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 17 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 5. 図18は、図17のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 18 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 17 near the surface. 図19は、図17のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 19 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 17 near the interface with the base material. 図20は、図17のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 20 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 17 near the center of the film thickness. 図21は、実施例6で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 21 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 6. 図22は、図21のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 22 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 21 near the surface. 図23は、図21のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 23 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 21 near the interface with the base material. 図24は、図21のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 24 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 21 near the center of the film thickness. 図25は、実施例7で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 25 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 7. 図26は、図25のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 26 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 25 near the surface. 図27は、図25のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 27 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 25 near the interface with the base material. 図28は、図25のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 28 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 25 near the center of the film thickness. 図29は、実施例8で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 29 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Example 8. 図30は、図29のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 30 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 29 near the surface. 図31は、図29のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 31 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 29 near the interface with the base material. 図32は、図29のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 32 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 29 near the center of the film thickness. 図33は、比較例1で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 33 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Comparative Example 1. 図34は、図33のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 34 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 33 near the surface. 図35は、図33のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 35 is an enlarged image of the vicinity of the interface with the base material in the TEM image of FIG. 33. 図36は、図33のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 36 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 33 near the center of the film thickness. 図37は、比較例2で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 37 shows a TEM image of a cross section of the silver glossy film obtained in Comparative Example 2. 図38は、図37のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 38 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 37 near the surface. 図39は、図37のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 39 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 37 near the interface with the base material. 図40は、図37のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 40 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 37 near the center of the film thickness.

[銀光沢膜]
本発明の銀光沢膜は、被加飾体(基材)の上に、界面層(A)、中間層(B)、表面層(C)が順次積層された構造を有しており、このような積層構造により、金属光沢性(銀光沢性)と耐擦過性とを両立できるメカニズムは、以下のように推定できる。
[Silver gloss film]
The silver luster film of the present invention has a structure in which an interface layer (A), an intermediate layer (B), and a surface layer (C) are sequentially laminated on an object to be decorated (base material). The mechanism by which such a laminated structure can achieve both metallic luster (silver luster) and scratch resistance can be estimated as follows.

すなわち、中間層(B)では、相対的に複合体ナノ粒子を多く含む相と、少量しか含まない相とに相分離した相分離構造(海島構造、共連続構造など)が形成されるとともに、表面層(C)および界面層(A)では複合体ナノ粒子が配列または配向する構造を有することによって、遮蔽効果(非透過性)が高くなり、高度な銀光沢(鏡面)が発現している。 That is, in the intermediate layer (B), a phase-separated structure (sea-island structure, co-continuous structure, etc.) is formed into a phase containing a relatively large amount of composite nanoparticles and a phase containing only a small amount, and The surface layer (C) and interface layer (A) have a structure in which the composite nanoparticles are arranged or oriented, which increases the shielding effect (non-transparent) and produces a high degree of silver luster (mirror surface). .

これに対して、樹脂成分が1種類のみである従来の銀光沢膜では、膜の内部では、全体に亘って、銀を含むナノ粒子などの金属粒子が均一に分散する(銀を含むナノ粒子が偏在しない)ため、光を遮蔽できるような金属粒子が集中する領域がないため、光が透過し易く、銀光沢が得られないと推測できる。なお、樹脂成分の相分離はない場合であっても、金属粒子と樹脂成分とが相分離することがあり、この場合は、白濁が生じて金属光沢を消失していると推定できる。 On the other hand, in conventional silver luster films containing only one type of resin component, metal particles such as silver-containing nanoparticles are uniformly dispersed throughout the film (silver-containing nanoparticles It can be inferred that since there is no concentrated area of metal particles that can block light, light easily passes through and silver luster cannot be obtained. Note that even if there is no phase separation of the resin component, the metal particles and the resin component may undergo phase separation, and in this case, it can be assumed that cloudiness occurs and the metallic luster disappears.

また、銀光沢膜では、銀光沢性に加えて密着性および耐擦過性も必要となる。樹脂成分(バインダー)を用いることで密着性および耐擦過性を向上できるが、その反面、樹脂成分を多くするほど銀の割合が減るために、銀による光の遮蔽効果が減少して銀光沢は低下する。本発明では、中間層において、2種類の樹脂成分によって複合体ナノ粒子が偏在し、光を遮蔽できる相(相対的に複合体ナノ粒子を多く含む相)が形成されるため、多量の樹脂成分を配合しても、高い銀光沢が発現する。すなわち、高度な銀光沢を維持したまま、多量の樹脂成分を配合することにより、密着性、耐擦過性を向上できる。さらに、上塗りや下塗りは不要となり、シンプルな構造となって生産性も向上する上に、様々な被加飾体(基材または成形体)に塗布することが可能となる。 Furthermore, in addition to silver gloss, a silver gloss film requires adhesion and scratch resistance. Adhesion and scratch resistance can be improved by using a resin component (binder), but on the other hand, as the resin component increases, the proportion of silver decreases, so the light shielding effect of silver decreases and the silver luster decreases. descend. In the present invention, in the intermediate layer, the composite nanoparticles are unevenly distributed by the two types of resin components, and a phase that can shield light (a phase containing a relatively large amount of composite nanoparticles) is formed. High silver luster is achieved even when blended with . That is, by blending a large amount of resin component while maintaining a high degree of silver luster, adhesion and scratch resistance can be improved. Furthermore, topcoating and undercoating are no longer necessary, resulting in a simple structure that improves productivity and allows coating on various objects to be decorated (substrates or molded objects).

これに対して、従来の銀光沢膜では、樹脂成分の割合が少ないと(銀に対する樹脂成分の量が約10質量%以下になると)、光沢性は高いが、密着性、耐擦過性が低くなり、上塗り層および下塗り層が必要になる場合が多かった。一方、樹脂成分の割合が多いと(銀に対する樹脂成分の量が約10質量%以上になると)、密着性および耐擦過性は向上するが、光沢性は低下した。そのため、従来の銀光沢性インクでは、銀に対する樹脂量を少量に留める必要があり、銀に対する樹脂成分の量は、多くても10質量%程度であり、シンプルな構造で密着性および耐擦過性を向上することはできなかった。 On the other hand, in conventional silver gloss films, when the proportion of the resin component is small (the amount of the resin component relative to silver is about 10% by mass or less), the gloss is high, but the adhesion and scratch resistance are low. Therefore, a topcoat layer and an undercoat layer were often required. On the other hand, when the proportion of the resin component was high (the amount of the resin component relative to silver was about 10% by mass or more), the adhesion and scratch resistance improved, but the gloss decreased. Therefore, in conventional silver luster inks, it is necessary to keep the amount of resin relative to silver small, and the amount of resin component relative to silver is about 10% by mass at most, and it has a simple structure with good adhesion and scratch resistance. could not be improved.

(A)界面層
界面層(A)は、銀を含む金属(銀含有金属)と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(a)で形成されており、前記複合体ナノ粒子(a)が基材との界面において配列または配向することにより、銀を含む金属が密な薄膜(銀含有金属薄膜)を形成している。本発明では、基材との界面において、このような界面層(A)が形成されることにより、透明基材などにおいては裏面からの銀光沢性を向上できる。
(A) Interface layer The interface layer (A) is formed of composite nanoparticles (a) of a metal containing silver (silver-containing metal) and a protective colloid, and the composite nanoparticles (a) are The metal containing silver forms a dense thin film (silver-containing metal thin film) by being aligned or oriented at the interface with the metal. In the present invention, by forming such an interface layer (A) at the interface with the base material, it is possible to improve the silver luster from the back side of the transparent base material.

界面層(A)の平均厚みは300nm以下であってもよく、例えば3~300nm、好ましくは10~200nm、さらに好ましくは10~100nm、より好ましくは15~50nm、最も好ましくは20~40nmである。界面層(A)の平均厚みが厚すぎると、密着性が低下する虞がある。 The average thickness of the interface layer (A) may be 300 nm or less, for example 3 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, more preferably 15 to 50 nm, most preferably 20 to 40 nm. . If the average thickness of the interface layer (A) is too thick, there is a possibility that the adhesion will be reduced.

なお、本願において、界面層(A)の平均厚みは、銀光沢膜断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。 In addition, in this application, the average thickness of the interface layer (A) can be measured by observing the cross section of the silver glossy film with a transmission electron microscope (TEM), and in detail, it can be measured by the method described in the Examples below. .

(a)複合体ナノ粒子
前記複合体ナノ粒子(a)において、銀を含む金属と保護コロイドとの複合形態は、特に限定されず、銀含有金属ナノ粒子の表面に付着または配位した複合体であってもよく、銀含有金属ナノ粒子の表面を被覆した複合体であってもよい。銀含有金属ナノ粒子は、保護コロイド(または分散剤)に対する配位性が高いため、保護コロイドが銀含有金属ナノ粒子の表面に配位することにより、銀含有金属ナノ粒子を被覆した複合体であってもよい。銀含有金属ナノ粒子は、保護コロイドで複合化されていると、銀含有金属ナノ粒子の分散安定性を向上できるとともに、樹脂成分との親和性を調整し易くなり、相分離構造を形成できる。
(a) Composite nanoparticles In the composite nanoparticles (a), the composite form of the silver-containing metal and the protective colloid is not particularly limited, and is a composite attached or coordinated to the surface of the silver-containing metal nanoparticles. Alternatively, it may be a composite in which the surface of silver-containing metal nanoparticles is coated. Silver-containing metal nanoparticles have a high coordination ability with respect to protective colloids (or dispersants), so when the protective colloid coordinates to the surface of silver-containing metal nanoparticles, a composite coated with silver-containing metal nanoparticles can be formed. There may be. When the silver-containing metal nanoparticles are composited with a protective colloid, the dispersion stability of the silver-containing metal nanoparticles can be improved, and the affinity with the resin component can be easily adjusted, so that a phase-separated structure can be formed.

(銀含有金属ナノ粒子)
銀含有金属ナノ粒子はナノメーターサイズである。銀含有金属ナノ粒子の数平均粒径(数平均一次粒径)は、例えば1~100nm(例えば2~80nm)、好ましくは3~70nm(例えば4~50nm)、さらに好ましくは5~40nm(特に10~30nm)である。
(Silver-containing metal nanoparticles)
The silver-containing metal nanoparticles are nanometer sized. The number average particle size (number average primary particle size) of the silver-containing metal nanoparticles is, for example, 1 to 100 nm (for example, 2 to 80 nm), preferably 3 to 70 nm (for example, 4 to 50 nm), more preferably 5 to 40 nm (especially 10-30 nm).

銀含有金属ナノ粒子は、前記平均粒径を有するとともに、200nm以下の範囲で広い粒度分布を示すが、200nmを超える粗大粒子を殆ど含んでいなくてもよい。そのため、前記銀含有金属ナノ粒子の最大一次粒径は、例えば、200nm以下、好ましくは150nm以下、さらに好ましくは100nm以下である。 The silver-containing metal nanoparticles have the above average particle size and exhibit a wide particle size distribution in the range of 200 nm or less, but may contain almost no coarse particles exceeding 200 nm. Therefore, the maximum primary particle size of the silver-containing metal nanoparticles is, for example, 200 nm or less, preferably 150 nm or less, and more preferably 100 nm or less.

銀含有金属ナノ粒子において、一次粒子径が100nm以上の粒子の割合は、質量基準で、例えば10質量%以下(例えば0~8質量%)、好ましくは5質量%以下(例えば0.01~3質量%)、さらに好ましくは1質量%以下(例えば0.02~0.5質量%)である。 In the silver-containing metal nanoparticles, the proportion of particles having a primary particle diameter of 100 nm or more is, for example, 10% by mass or less (for example, 0 to 8% by mass), preferably 5% by mass or less (for example, 0.01 to 3% by mass). % by mass), more preferably 1% by mass or less (for example, 0.02 to 0.5% by mass).

なお、本願において、銀含有金属ナノ粒子の粒径および粒度分布は、透過型電子顕微鏡を用いて測定でき、平均粒径は、任意の10個の平均値として示す。 In addition, in this application, the particle size and particle size distribution of silver-containing metal nanoparticles can be measured using a transmission electron microscope, and the average particle size is shown as an average value of ten arbitrary particles.

(銀を含む金属)
銀を含む金属(銀含有金属)は、銀単体であってもよく、銀と他の金属との合金であってもよい。他の金属としては、銀と合金化できれば特に限定されないが、例えば、Cr、Mo、W、Ni、Pd、Pt、Cu、Au、Zn、In、Sn、Pbなどが挙げられる。これら他の金属は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これら他の金属のうち、Cuが好ましい。
(Metals including silver)
The metal containing silver (silver-containing metal) may be simple silver or may be an alloy of silver and other metals. Other metals are not particularly limited as long as they can be alloyed with silver, and examples thereof include Cr, Mo, W, Ni, Pd, Pt, Cu, Au, Zn, In, Sn, and Pb. These other metals can be used alone or in combination of two or more. Among these other metals, Cu is preferred.

銀含有金属のうち、銀の割合は、銀含有金属中50質量%以上であってもよく、例えば90質量%以上、好ましくは95質量%以上、さらに好ましくは97質量%以上、より好ましくは99質量%以上であり、最も好ましくは100質量%(銀単体)である。銀の割合が低すぎると、銀光沢性が低下する虞がある。 Among the silver-containing metals, the proportion of silver may be 50% by mass or more, for example 90% by mass or more, preferably 95% by mass or more, more preferably 97% by mass or more, more preferably 99% by mass or more. % by mass or more, most preferably 100% by mass (single silver). If the proportion of silver is too low, there is a risk that the silver luster will be reduced.

(保護コロイド)
保護コロイドは、分散剤であってもよく、非揮発性分散剤である場合が多い。特に、保護コロイドは、カルボキシル基またはその塩を有する高分子分散剤を含むのが好ましい。なお、本願において、カルボキシル基には、酸無水物基の形態であるカルボキシル基も含まれる。
(protective colloid)
Protective colloids may be dispersants, and are often non-volatile dispersants. In particular, the protective colloid preferably contains a polymeric dispersant having a carboxyl group or a salt thereof. In addition, in this application, the carboxyl group also includes a carboxyl group in the form of an acid anhydride group.

前記高分子分散剤(または高分子型分散剤)は、少なくともカルボキシル基を有し、銀含有金属ナノ粒子を分散可能であればよく、両親媒性の高分子分散剤(またはオリゴマー型分散剤)であってもよい。 The polymer dispersant (or polymer type dispersant) may have at least a carboxyl group and be capable of dispersing silver-containing metal nanoparticles, and may be an amphiphilic polymer dispersant (or oligomer type dispersant). It may be.

前記高分子分散剤としては、通常、塗料、インキ分野などで着色剤の分散に用いられている高分子分散剤が例示できる。代表的な高分子分散剤(両親媒性の高分子分散剤)としては、親水性モノマーで形成された親水性ユニット(または親水性ブロック)を含む水溶性または水分散性樹脂が含まれる。 Examples of the polymer dispersant include polymer dispersants that are commonly used for dispersing colorants in the paint and ink fields. Typical polymeric dispersants (amphiphilic polymeric dispersants) include water-soluble or water-dispersible resins containing hydrophilic units (or hydrophilic blocks) formed from hydrophilic monomers.

前記親水性モノマーとしては、例えば、カルボキシル基含有単量体((メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸などの不飽和多価カルボン酸またはその酸無水物など)、スルホ基を有する単量体(スチレンスルホン酸など)、ヒドロキシル基含有単量体(2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ビニルフェノールなど)などの付加重合性モノマー;エチレンオキシドなどの縮合重合性モノマーなどが例示できる。前記縮合重合性モノマーは、ヒドロキシル基などの活性水素(例えば、前記ヒドロキシル基)との反応により、親水性ユニット(またはブロック)を形成していてもよい。親水性モノマーは、単独でまたは2種以上組み合わせて親水性ユニット(またはブロック)を形成していてもよい。好ましい親水性モノマーは、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、エチレンオキシドである。 Examples of the hydrophilic monomer include carboxyl group-containing monomers (unsaturated polycarboxylic acids such as (meth)acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride, or acid anhydrides thereof), monomers having sulfo groups, etc. addition-polymerizable monomers such as hydroxyl group-containing monomers (hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, vinyl phenol, etc.); condensation-polymerizable monomers such as ethylene oxide; For example, The condensation polymerizable monomer may form a hydrophilic unit (or block) by reaction with active hydrogen such as a hydroxyl group (for example, the hydroxyl group). The hydrophilic monomers may be used alone or in combination of two or more to form a hydrophilic unit (or block). Preferred hydrophilic monomers are (meth)acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, and ethylene oxide.

なお、前記高分子分散剤は、少なくともカルボキシル基を有していればよく、前記親水性モノマーの官能基、例えば、酸基(スルホ基)、ヒドロキシル基を有していてもよい。これらの官能基は、単独でまたは2種以上組み合わせて高分子分散剤に導入してもよい。 The polymer dispersant only needs to have at least a carboxyl group, and may have a functional group of the hydrophilic monomer, such as an acid group (sulfo group) or a hydroxyl group. These functional groups may be introduced into the polymer dispersant singly or in combination of two or more.

高分子分散剤は、少なくとも親水性ユニット(または親水性ブロック)を含んでいてもよく、親水性モノマーの単独または共重合体(例えば、ポリアクリル酸またはその塩など)であってもよく、親水性モノマーと疎水性モノマーとのコポリマーであってもよい。疎水性モノマー(非イオン性モノマー)としては、(メタ)アクリル酸エステル[(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸C1-20アルキル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどの(メタ)アクリル酸シクロアルキル、(メタ)アクリル酸フェニルなどの(メタ)アクリル酸アリール、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2-フェニルエチルなどの(メタ)アクリル酸アラルキルなど]などの(メタ)アクリル系モノマー;スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエンなどのスチレン系モノマー;α-C2-20オレフィン(エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブチレン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-ドデセンなど)などのオレフィン系モノマー;酢酸ビニル、酪酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル系モノマーなどの付加重合性モノマー;プロピレンオキシドなどのC3-6アルキレンオキシドなどの縮合重合性モノマーが挙げられる。疎水性モノマーは、単独でまたは2種以上組み合わせて疎水性ユニットを構成していてもよい。 The polymeric dispersant may contain at least a hydrophilic unit (or hydrophilic block), may be a single or copolymer of hydrophilic monomers (for example, polyacrylic acid or a salt thereof, etc.), and may be a hydrophilic monomer. It may also be a copolymer of a hydrophobic monomer and a hydrophobic monomer. Hydrophobic monomers (nonionic monomers) include (meth)acrylic esters [methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate; , C 1-20 alkyl (meth)acrylates such as lauryl (meth)acrylate and stearyl (meth)acrylate, cycloalkyl (meth)acrylates such as cyclohexyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, etc. (meth)acrylic monomers such as aryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, aralkyl (meth)acrylate such as 2-phenylethyl (meth)acrylate]; styrene, α-methylstyrene, Styrenic monomers such as vinyltoluene; Olefinic monomers such as α-C 2-20 olefins (ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-hexene, 1-octene, 1-dodecene, etc.); vinyl acetate, vinyl butyrate addition-polymerizable monomers such as carboxylic acid vinyl ester monomers; and condensation-polymerizable monomers such as C 3-6 alkylene oxides such as propylene oxide. The hydrophobic monomers may be used alone or in combination of two or more to form a hydrophobic unit.

コポリマー(例えば、親水性モノマーと疎水性モノマーとのコポリマー)の高分子分散剤は、ランダムコポリマー、交互共重合体、ブロックコポリマー(例えば、親水性モノマーで構成された親水性ブロックと、疎水性モノマーで構成された疎水性ブロックとで構成されたコポリマー)、櫛型コポリマー(または櫛型グラフトコポリマー)などであってもよい。前記ブロックコポリマーの構造は、特に限定されず、ジブロック構造、トリブロック構造(ABA型、BAB型)などであってもよい。また、前記櫛型コポリマーにおいて、主鎖は、前記親水性ブロックまたは前記疎水性ブロックで形成してもよく、親水性ブロックおよび疎水性ブロックで形成してもよい。親水性ブロックおよび疎水性ブロックのブロック共重合体は、銀光沢性も向上できる。 Polymeric dispersants for copolymers (e.g., copolymers of hydrophilic monomers and hydrophobic monomers) are random copolymers, alternating copolymers, block copolymers (e.g., hydrophilic blocks composed of hydrophilic monomers and hydrophobic monomers). (or a comb-shaped graft copolymer), or a comb-shaped copolymer (or a comb-shaped graft copolymer). The structure of the block copolymer is not particularly limited, and may be a diblock structure, a triblock structure (ABA type, BAB type), or the like. Further, in the comb-shaped copolymer, the main chain may be formed of the hydrophilic block or the hydrophobic block, or may be formed of the hydrophilic block and the hydrophobic block. A block copolymer of a hydrophilic block and a hydrophobic block can also improve silver luster.

なお、前記のように、親水性ユニットは、親水性ブロック(ポリエチレンオキシドなどのポリアルキレンオキシドなど)で形成することもできる。親水性ブロック(ポリアルキレンオキシドなど)と疎水性ブロック(ポリオレフィンブロックなど)とは、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合などの連結基を介して結合していてもよい。これらの結合は、例えば、疎水性ブロック(ポリオレフィンなど)を変性剤[不飽和カルボン酸またはその無水物((無水)マレイン酸など)、ラクタムまたはアミノカルボン酸、ヒドロキシルアミン、ジアミンなど]で変性した後、親水性ブロックを導入することにより形成してもよい。また、ヒドロキシル基やカルボキシル基などの親水性基を有するモノマー(前記ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなど)から得られるポリマーと、前記縮合系の親水性モノマー(エチレンオキシドなど)とを反応(または結合)させることにより、櫛型コポリマー(主鎖が疎水性ブロックで構成された櫛型コポリマー)を形成してもよい。 Note that, as described above, the hydrophilic unit can also be formed from a hydrophilic block (such as polyalkylene oxide such as polyethylene oxide). The hydrophilic block (such as polyalkylene oxide) and the hydrophobic block (such as polyolefin block) may be bonded via a linking group such as an ester bond, amide bond, ether bond, or urethane bond. These bonds can be achieved, for example, by modifying hydrophobic blocks (such as polyolefins) with modifiers [unsaturated carboxylic acids or their anhydrides (such as maleic acid anhydride), lactams or aminocarboxylic acids, hydroxylamines, diamines, etc.] After that, it may be formed by introducing a hydrophilic block. In addition, a polymer obtained from a monomer having a hydrophilic group such as a hydroxyl group or a carboxyl group (such as the above-mentioned hydroxyalkyl (meth)acrylate) is reacted (or bonded) with the above-mentioned condensed hydrophilic monomer (such as ethylene oxide). In this way, a comb-shaped copolymer (a comb-shaped copolymer whose main chain is composed of hydrophobic blocks) may be formed.

さらに、共重合成分として、親水性の非イオン性モノマーを使用することにより、親水性と疎水性とのバランスを調整してもよい。このような成分としては、2-(2-メトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート(例えば、数平均分子量200~1,000)などのエチレンオキシユニットを有するモノマーまたはオリゴマーなどを例示できる。また、親水性基(カルボキシル基など)を変性(例えば、エステル化)することにより親水性と疎水性とのバランスを調整してもよい。 Furthermore, the balance between hydrophilicity and hydrophobicity may be adjusted by using a hydrophilic nonionic monomer as a copolymerization component. Such components include monomers or oligomers having ethyleneoxy units such as 2-(2-methoxyethoxy)ethyl (meth)acrylate and polyethylene glycol mono(meth)acrylate (for example, number average molecular weight 200 to 1,000). Examples include: Furthermore, the balance between hydrophilicity and hydrophobicity may be adjusted by modifying (for example, esterifying) a hydrophilic group (such as a carboxyl group).

カルボキシル基を有する高分子分散剤において、カルボキシル基は塩や酸無水物基であってもよく、例えば、少なくとも一部のカルボキシル基は、塩(アミンとの塩、金属塩など)を形成していてもよいが、カルボキシル基などの酸基が塩を形成していない高分子分散剤[すなわち、遊離のカルボキシル基を有する高分子分散剤]を好適に使用できる。 In a polymeric dispersant having a carboxyl group, the carboxyl group may be a salt or an acid anhydride group. For example, at least some of the carboxyl groups may form a salt (salt with an amine, metal salt, etc.). However, a polymeric dispersant in which acid groups such as carboxyl groups do not form salts (that is, polymeric dispersants having free carboxyl groups) can be preferably used.

カルボキシル基を有する高分子分散剤の酸価は、例えば1mgKOH/g以上(例えば2~100mgKOH/g)、好ましくは3mgKOH/g以上(例えば4~90mgKOH/g)、さらに好ましくは5mgKOH/g以上(例えば6~80mgKOH/g)、より好ましくは7mgKOH/g以上(例えば8~50mgKOH/g)であってもよく、通常3~30mgKOH/g(特に5~20mgKOH/g)である。なお、このような高分子分散剤において、アミン価は0(またはほぼ0)であってもよい。 The acid value of the polymer dispersant having a carboxyl group is, for example, 1 mgKOH/g or more (for example, 2 to 100 mgKOH/g), preferably 3 mgKOH/g or more (for example, 4 to 90 mgKOH/g), and more preferably 5 mgKOH/g or more ( For example, the amount may be 6 to 80 mgKOH/g), more preferably 7 mgKOH/g or more (for example, 8 to 50 mgKOH/g), and usually 3 to 30 mgKOH/g (especially 5 to 20 mgKOH/g). In addition, in such a polymeric dispersant, the amine value may be 0 (or almost 0).

なお、前記高分子分散剤において、官能基の位置は、特に限定されず、主鎖であってもよく、側鎖であってもよく、主鎖および側鎖に位置していてもよい。このような官能基は、例えば、親水性モノマーまたは親水性ユニット由来の官能基(例えば、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、エチレンオキサイドなどの共重合により導入された官能基)であってもよい。 In addition, in the said polymeric dispersant, the position of a functional group is not specifically limited, The main chain may be sufficient as it may be sufficient, and a side chain may be sufficient as it, and it may be located in a main chain and a side chain. Such a functional group may be, for example, a functional group derived from a hydrophilic monomer or a hydrophilic unit (for example, a functional group introduced by copolymerization of (meth)acrylic acid, maleic anhydride, ethylene oxide, etc.). good.

カルボキシル基を有する高分子分散剤は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用してもよい。 The polymer dispersants having carboxyl groups may be used alone or in combination of two or more.

なお、高分子分散剤として、特開2004-207558号公報などに記載の高分子分散剤(高分子量顔料分散剤)を使用してもよい。また、高分子分散剤は、合成してもよく、市販品を用いてもよい。以下に、市販の高分子分散剤(または少なくとも両親媒性の分散剤で構成された分散剤)を具体的に例示すると、ソルスパース13240、ソルスパース13940、ソルスパース32550、ソルスパース31845、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース41090などのソルスパースシリーズ[アビシア(株)製];ディスパービック160、ディスパービック161、ディスパービック162、ディスパービック163、ディスパービック164、ディスパービック166、ディスパービック170、ディスパービック180、ディスパービック182、ディスパービック184、ディスパービック190、ディスパービック191、ディスパービック192、ディスパービック193、ディスパービック194、ディスパービック2001、ディスパービック2015、ディスパービック2050などのディスパービックシリーズ[ビックケミー(株)製];EFKA-46、EFKA-47、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-1501、EFKA-1502、EFKA-4540、EFKA-4550、ポリマー100、ポリマー120、ポリマー150、ポリマー400、ポリマー401、ポリマー402、ポリマー403、ポリマー450、ポリマー451、ポリマー452、ポリマー453[EFKAケミカル(株)製];アジスパーPB711、アジスパーPAl11、アジスパーPB811、アジスパーPB821、アジスパーPW911などのアジスパーシリーズ[味の素(株)製];フローレンDOPA-158、フローレンDOPA-22、フローレンDOPA-17、フローレンTG-700、フローレンTG-720W、フローレン-730W、フローレン-740W、フローレン-745Wなどのフローレンシリーズ[共栄社化学(株)製];ジョンクリル678、ジョンクリル679、ジョンクリル62などのジョンクリルシリーズ[ジョンソンポリマー(株)製]などが挙げられる。代表的な高分子分散剤には、ディスパービック190、ディスパービック194、ディスパービック2015などが挙げられる。 As the polymer dispersant, a polymer dispersant (high molecular weight pigment dispersant) described in JP-A-2004-207558 and the like may be used. Further, the polymer dispersant may be synthesized or a commercially available product may be used. Specific examples of commercially available polymer dispersants (or dispersants made of at least amphiphilic dispersants) include Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 32550, Solsperse 31845, Solsperse 24000, Solsperse 26000, Solsperse series such as Solsperse 27000, Solsperse 28000, Solsperse 41090 [manufactured by Avecia Co., Ltd.]; Disperbic 160, Disperbic 161, Disperbic 162, Disperbic 163, Disperbic 164, Disperbic 166, Disperbic 170, Disperbic Disperbic series [BIK Chemie ( EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-1501, EFKA-1502, EFKA-4540, EFKA-4550, Polymer 100, Polymer 120, Polymer 150, Polymer 400, Polymer 401, Polymer 402, Polymer 403, Polymer 450, Polymer 451, Polymer 452, Polymer 453 [manufactured by EFKA Chemical Co., Ltd.]; Ajisper series such as Ajisper PB711, Ajisper PAl11, Ajisper PB811, Ajisper PB821, Ajisper PW911 [Ajinomoto ( Floren series such as Floren DOPA-158, Floren DOPA-22, Floren DOPA-17, Floren TG-700, Floren TG-720W, Floren-730W, Floren-740W, Floren-745W [Kyoeisha Chemical Co., Ltd.]; (manufactured by Johnson Polymer Co., Ltd.); and Jonkryl series such as Jonkryl 678, Jonkryl 679, and Jonkryl 62 (manufactured by Johnson Polymer Co., Ltd.). Typical polymeric dispersants include Dispervic 190, Dispervic 194, Dispervic 2015, and the like.

前記高分子分散剤の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で測定したとき、ポリスチレン換算で、例えば1,500~100,000、好ましくは2,000~80,000(例えば2,000~60,000)、さらに好ましくは3,000~50,000(例えば5,000~30,000)、より好ましくは7,000~20,000である。 The number average molecular weight of the polymer dispersant is, for example, 1,500 to 100,000, preferably 2,000 to 80,000 (for example, 2,000 60,000), more preferably 3,000 to 50,000 (for example 5,000 to 30,000), more preferably 7,000 to 20,000.

カルボキシル基を有する高分子分散剤は、ヒドロキシル基を有さない高分子分散剤であってもよい。 The polymer dispersant having a carboxyl group may be a polymer dispersant having no hydroxyl group.

保護コロイドの割合は、銀含有金属100質量部に対して、例えば0.1~100質量部(特に1~50質量部)である。カルボキシル基を有する高分子分散剤の割合は、銀含有金属100質量部に対して、例えば0.1~60質量部(例えば1~50質量部)程度の範囲から選択でき、通常2~40質量部(例えば2.5~30質量部)、さらに好ましくは3~25質量部(特に5~20質量部)である。 The proportion of the protective colloid is, for example, 0.1 to 100 parts by weight (especially 1 to 50 parts by weight) per 100 parts by weight of the silver-containing metal. The proportion of the polymeric dispersant having a carboxyl group can be selected from a range of, for example, about 0.1 to 60 parts by mass (for example, 1 to 50 parts by mass), and usually 2 to 40 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the silver-containing metal. parts (for example, 2.5 to 30 parts by weight), more preferably 3 to 25 parts by weight (especially 5 to 20 parts by weight).

なお、本願において、複合体ナノ粒子(a)中の保護コロイドの割合は、慣用の方法、例えば、熱分析(例えば、熱重量/示差熱同時分析など)により、測定することができる。 In the present application, the proportion of the protective colloid in the composite nanoparticle (a) can be measured by a conventional method, for example, thermal analysis (for example, simultaneous thermogravimetric/differential thermal analysis).

保護コロイドは、必要であれば、他の分散剤を含んでいてもよく、他の分散剤は、無機化合物であってもよいが、通常、有機化合物である。他の分散剤としては、例えば、アルカノール類(ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノール、オクタデカノールなどのC6-20アルカンモノオール)、アルデヒド類(カプリルアルデヒド、ラウリルアルデヒド、パルミトアルデヒドなどのC6-20脂肪族アルデヒド)、脂肪族ヒドロキシカルボン酸、高級脂肪酸またはその塩、スルホン酸類(アルカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸などのアレーンスルホン酸など)が挙げられる。これらの他の分散剤は、単独でまたは2種以上組み合わせてもよい。 The protective colloid may contain other dispersants, if necessary, and the other dispersants may be inorganic compounds, but are usually organic compounds. Other dispersants include, for example, alkanols ( C6-20 alkane monools such as hexanol , octanol, decanol, dodecanol, and octadecanol), aldehydes (C6-20 alkane monools such as capryaldehyde, laurylaldehyde, and palmitaldehyde). -20 aliphatic aldehydes), aliphatic hydroxycarboxylic acids, higher fatty acids or their salts, and sulfonic acids (alkanesulfonic acids, benzenesulfonic acids, arenesulfonic acids such as toluenesulfonic acids, etc.). These other dispersants may be used alone or in combination of two or more.

他の分散剤の割合は、前記高分子分散剤100質量部に対して、例えば0.1~100質量部、好ましくは0.5~50質量部、さらに好ましくは1~30質量部である。 The proportion of other dispersants is, for example, 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.5 to 50 parts by weight, and more preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymeric dispersant.

前記複合体ナノ粒子の製造方法は、特に限定されず、慣用の方法、例えば、銀含有金属が銀単体である場合、銀ナノ粒子に対応する銀化合物を、保護コロイドおよび還元剤の存在下、溶媒中で還元することにより調製できる。具体的な製造方法としては、例えば、特開2010-80442号公報や特開2010-229544号公報に記載の方法などが挙げられる。 The method for producing the composite nanoparticles is not particularly limited, and may be a conventional method. For example, when the silver-containing metal is simple silver, a silver compound corresponding to the silver nanoparticles is mixed in the presence of a protective colloid and a reducing agent, It can be prepared by reduction in a solvent. Specific manufacturing methods include, for example, the methods described in JP-A-2010-80442 and JP-A-2010-229544.

(B)中間層
中間層(B)は、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b1)および第1樹脂(b2)を含む第1相と、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b3)および第2樹脂(b4)を含み、銀含有金属の含有割合が前記第1相よりも少ない第2相とに相分離した相分離構造を有している。銀含有金属の濃度が異なる相分離構造を有することにより、樹脂成分の割合を高めても、銀光沢性を向上でき、銀光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できる。
(B) Intermediate layer The intermediate layer (B) includes a first phase containing composite nanoparticles (b1) of a metal containing silver and a protective colloid and a first resin (b2), and a first phase containing a metal containing silver and a protective colloid. The composite nanoparticles (b3) and the second resin (b4) have a phase-separated structure in which the phase is separated into a second phase containing a smaller proportion of silver-containing metal than the first phase. By having a phase-separated structure in which the concentrations of silver-containing metals are different, even if the proportion of the resin component is increased, silver luster can be improved, and silver luster, adhesion, and scratch resistance can be achieved simultaneously.

(第1相)
第1相において、前記複合体ナノ粒子(b1)は、好ましい態様も含め、前記界面層(A)の項で記載された前記複合体ナノ粒子(a)と同様であり、通常、前記複合体ナノ粒子(a)と同一である。
(Phase 1)
In the first phase, the composite nanoparticles (b1) are the same as the composite nanoparticles (a) described in the section of the interface layer (A), including preferred embodiments, and are usually Same as nanoparticle (a).

第1樹脂(b2)としては、特に限定されず、例えば、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステル系樹脂が好ましく、(メタ)アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂が特に好ましい。 The first resin (b2) is not particularly limited, and examples include polyolefin resins, (meth)acrylic resins, styrene resins, vinyl resins, polyvinyl acetal resins, polyester resins, polyamide resins, and polyurethane resins. Examples include resins, epoxy resins, and silicone resins. Among these, (meth)acrylic resins, polyvinyl acetal resins, and polyester resins are preferred, and (meth)acrylic resins and polyvinyl acetal resins are particularly preferred.

(メタ)アクリル系樹脂は、特に限定されないが、例えば(メタ)アクリル系単量体の単独または共重合体、(メタ)アクリルポリオール、変性(メタ)アクリル系樹脂であってもよい。 The (meth)acrylic resin is not particularly limited, and may be, for example, a single or copolymer of (meth)acrylic monomers, a (meth)acrylic polyol, or a modified (meth)acrylic resin.

(メタ)アクリル系単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸C1-20アルキル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどの(メタ)アクリル酸シクロアルキル;(メタ)アクリル酸フェニルなどの(メタ)アクリル酸アリール;(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2-フェニルエチルなどの(メタ)アクリル酸アラルキル;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシC1-4アルキル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの(メタ)アクリル系単量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどの(メタ)アクリル酸C1-4アルキル;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシC2-3アルキル(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of (meth)acrylic monomers include (meth)acrylic acid; methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. , C 1-20 alkyl (meth)acrylates such as lauryl (meth)acrylate and stearyl (meth)acrylate; cycloalkyl (meth)acrylates such as cyclohexyl (meth)acrylate; phenyl (meth)acrylate, etc. Aryl (meth)acrylates; Aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate and 2-phenylethyl (meth)acrylate; Hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, etc. Examples include hydroxy C 1-4 alkyl (meth)acrylate. These (meth)acrylic monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, C 1-4 alkyl (meth)acrylates such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate; hydroxyC 2-3 such as hydroxyethyl (meth)acrylate Alkyl (meth)acrylates are preferred.

(メタ)アクリル系樹脂は、これらの単量体の単独重合体であってもよいが、共重合体が好ましい。共重合体としては、2種以上の前記(メタ)アクリル系単量体の共重合体であってもよく、前記(メタ)アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体であってもよい。共重合性単量体としては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエンなどのスチレン系単量体;α-C2-20オレフィン(エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブチレン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-ドデセンなど)などのオレフィン系単量体;酢酸ビニル、酪酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル系単量体などの付加重合性単量体などが挙げられる。これらの共重合性単量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、スチレンなどのスチレン系単量体が好ましい。 Although the (meth)acrylic resin may be a homopolymer of these monomers, a copolymer is preferable. The copolymer may be a copolymer of two or more of the above (meth)acrylic monomers, and a copolymer of the above (meth)acrylic monomer and a copolymerizable monomer. It may be. Examples of copolymerizable monomers include styrene monomers such as styrene, α-methylstyrene, and vinyltoluene; α-C 2-20 olefins (ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-hexene, (1-octene, 1-dodecene, etc.); and addition-polymerizable monomers such as carboxylic acid vinyl ester monomers such as vinyl acetate and vinyl butyrate. These copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, styrenic monomers such as styrene are preferred.

(メタ)アクリル系樹脂が(メタ)アクリル系単量体とスチレン系単量体との共重合体(特に、メタクリル系単量体とスチレン系単量体との共重合体)である場合、(メタ)アクリル系単量体とスチレン系単量体とのモル比は、前者/後者=95/5~5/95、好ましくは90/10~10/90、さらに好ましくは80/20~20/80、より好ましくは70/30~30/70である。 When the (meth)acrylic resin is a copolymer of a (meth)acrylic monomer and a styrene monomer (especially a copolymer of a methacrylic monomer and a styrene monomer), The molar ratio of the (meth)acrylic monomer to the styrene monomer is former/latter = 95/5 to 5/95, preferably 90/10 to 10/90, more preferably 80/20 to 20. /80, more preferably 70/30 to 30/70.

(メタ)アクリルポリオールとしては、分子内に2以上の水酸基を有する(メタ)アクリル系ポリマーであれば、特に制限されず、例えば、前記(メタ)アクリル系樹脂の単量体としてヒドロキシC2-3アルキル(メタ)アクリレートを含む(メタ)アクリル系樹脂であってもよい。 The (meth)acrylic polyol is not particularly limited as long as it is a (meth)acrylic polymer having two or more hydroxyl groups in the molecule. For example, hydroxy C 2- as a monomer of the (meth)acrylic resin It may also be a (meth)acrylic resin containing 3- alkyl (meth)acrylate.

変性(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのポリエステル変性(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン(メタ)アクリレートなどのポリウレタン変性(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ(メタ)アクリレートなどのエポキシ変性(メタ)アクリル系樹脂、シリコーン(メタ)アクリレートなどのシリコーン変性(メタ)アクリル系樹脂などが挙げられる。これらの変性(メタ)アクリル系樹脂は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of modified (meth)acrylic resins include polyester modified (meth)acrylic resins such as polyester (meth)acrylate, polyurethane modified (meth)acrylic resins such as urethane (meth)acrylate, and epoxy (meth)acrylate. Examples include epoxy-modified (meth)acrylic resins such as epoxy-modified (meth)acrylic resins, and silicone-modified (meth)acrylic resins such as silicone (meth)acrylate. These modified (meth)acrylic resins can be used alone or in combination of two or more.

これらの(メタ)アクリル系樹脂は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、銀含有金属ナノ粒子(特に、複合体ナノ粒子)に対する親和性が高く、かつ用途に応じて硬化剤によって硬化し易い点から、水酸基を有する(メタ)アクリル系樹脂(特に、イソシアネート硬化型(メタ)アクリル系樹脂などの複数の水酸基を有する(メタ)アクリル系樹脂)が好ましく、水酸基およびスチレン単位を有する(メタ)アクリル系樹脂(例えば、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート-メチル(メタ)アクリレート-ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート-スチレン共重合体など)が特に好ましい。なお、水酸基の位置は、特に限定されず、主鎖であってもよく、側鎖であってもよく、主鎖および側鎖に位置していてもよい。 These (meth)acrylic resins can be used alone or in combination of two or more. Among these, (meth)acrylic resins having hydroxyl groups (especially isocyanate (meth)acrylic resins having a plurality of hydroxyl groups such as curable (meth)acrylic resins are preferred, and (meth)acrylic resins having hydroxyl groups and styrene units (for example, hydroxyalkyl (meth)acrylate-methyl (meth)acrylic resins) are preferred. ) acrylate-hydroxyalkyl (meth)acrylate-styrene copolymer, etc.) are particularly preferred. Note that the position of the hydroxyl group is not particularly limited, and it may be located on the main chain, on the side chain, or on the main chain and the side chain.

(メタ)アクリル系樹脂の水酸基価は、例えば1mgKOH/g以上(例えば2~400mgKOH/g)、好ましくは3mgKOH/g以上(例えば4~300mgKOH/g)、さらに好ましくは5mgKOH/g以上(例えば6~200mgKOH/g)、より好ましくは7mgKOH/g以上(例えば8~150mgKOH/g)であってもよく、通常10~150mgKOH/g(特に50~100mgKOH/g)である。 The hydroxyl value of the (meth)acrylic resin is, for example, 1 mgKOH/g or more (for example, 2 to 400 mgKOH/g), preferably 3 mgKOH/g or more (for example, 4 to 300 mgKOH/g), more preferably 5 mgKOH/g or more (for example, 6 ~200 mgKOH/g), more preferably 7 mgKOH/g or more (for example, 8 to 150 mgKOH/g), and usually 10 to 150 mgKOH/g (especially 50 to 100 mgKOH/g).

後述する第2樹脂(b4)が(メタ)アクリル系である場合、第1樹脂(b2)の(メタ)アクリル系樹脂の水酸基価は、15mgKOH/g以上であってもよく、例えば15~400mgKOH/g、好ましくは30~300mgKOH/g、さらに好ましくは50~200mgKOH/g、より好ましくは70~150mgKOH/g、最も好ましくは80~100mgKOH/gである。 When the second resin (b4) described below is (meth)acrylic, the hydroxyl value of the (meth)acrylic resin of the first resin (b2) may be 15 mgKOH/g or more, for example, 15 to 400 mgKOH. /g, preferably 30 to 300 mgKOH/g, more preferably 50 to 200 mgKOH/g, more preferably 70 to 150 mgKOH/g, and most preferably 80 to 100 mgKOH/g.

(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で測定したとき、ポリスチレン換算で、例えば1,000~100,000、好ましくは2,000~80,000(例えば3,000~50,000)、さらに好ましくは5,000~30,000(例えば10,000~20,000)、より好ましくは12,000~16,000である。 The weight average molecular weight of the (meth)acrylic resin, when measured by gel permeation chromatography (GPC), is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 80,000 (for example, 3, 000 to 50,000), more preferably 5,000 to 30,000 (for example, 10,000 to 20,000), and even more preferably 12,000 to 16,000.

(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、例えば0~120℃、好ましくは40~110℃、より好ましくは50~100℃、最も好ましくは60~90℃である。なお、本願において、ガラス転移温度は、示差走査熱量計を用いて測定できる。 The glass transition temperature of the (meth)acrylic resin is, for example, 0 to 120°C, preferably 40 to 110°C, more preferably 50 to 100°C, and most preferably 60 to 90°C. Note that in the present application, the glass transition temperature can be measured using a differential scanning calorimeter.

(メタ)アクリル系樹脂は、カルボキシル基またはその塩を有さない(メタ)アクリル系樹脂であってもよい。 The (meth)acrylic resin may be a (meth)acrylic resin that does not have a carboxyl group or a salt thereof.

ポリビニルアセタール系樹脂は、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリビニルアルコールと、アルデヒド(特に、n-ブチルアルデヒド)とを反応(アセタール化反応)させて得られる。アセタール化反応において、ポリビニルアルコールを完全にアセタール化(特に、ブチラール化)することはできないため、水酸基が残存し、またケン化の際にも少量のアセチル基が残存するため、ポリビニルアセタール系樹脂は、構成単位中にアセタール基、水酸基、アセチル基を有している。 Polyvinyl acetal resin is obtained by reacting polyvinyl alcohol obtained by saponifying polyvinyl acetate with an aldehyde (particularly n-butyraldehyde) (acetalization reaction). In the acetalization reaction, polyvinyl alcohol cannot be completely acetalized (especially butyralized), so hydroxyl groups remain, and even during saponification, a small amount of acetyl groups remain, so polyvinyl acetal resins are , has an acetal group, a hydroxyl group, and an acetyl group in the structural unit.

すなわち、前記ポリビニルアセタール系樹脂は、構成単位として、下記式(1)で表されるビニルアセタール単位、下記式(2)で表されるビニルアルコール単位、下記式(3)で表されるビニルエステル単位を含む。 That is, the polyvinyl acetal resin has, as constituent units, a vinyl acetal unit represented by the following formula (1), a vinyl alcohol unit represented by the following formula (2), and a vinyl ester represented by the following formula (3). Contains units.

Figure 0007413314000001
Figure 0007413314000001

(式中、Rは水素原子または炭化水素基である)。 (wherein R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

前記式(1)において、Rで表される炭化水素基には、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基が含まれる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、2-エチルブチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基などの直鎖状または分岐鎖状C1-10アルキル基などが挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、ヘキシル基などのC5-10シクロアルキル基などが挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基などのC6-10アリール基などが挙げられる。Rとして、これらの炭化水素基および水素原子は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 In the formula (1), the hydrocarbon group represented by R 1 includes an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, a hexyl group, a 2-ethylbutyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, and a nonyl group. Examples include linear or branched C 1-10 alkyl groups. Examples of the cycloalkyl group include C 5-10 cycloalkyl groups such as hexyl group. Examples of the aryl group include C 6-10 aryl groups such as phenyl group. As R, these hydrocarbon groups and hydrogen atoms can be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、Rとしては、水素原子またはアルキル基が好ましく、直鎖状または分岐鎖状C1-5アルキル基がさらに好ましく、直鎖状C2-4アルキル基がより好ましく、プロピル基が最も好ましい。すなわち、ポリビニルアセタール系樹脂としては、ポリビニルホルマール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂(ブチラール系樹脂)が好ましく、ポリビニルブチラール系樹脂が特に好ましい。 Among these, R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a linear or branched C 1-5 alkyl group, more preferably a linear C 2-4 alkyl group, and a propyl group is more preferable. Most preferred. That is, as the polyvinyl acetal resin, polyvinyl formal resin and polyvinyl butyral resin (butyral resin) are preferable, and polyvinyl butyral resin is particularly preferable.

ポリビニルアセタール系樹脂は、前記式(1)~(3)で表される構成単位に加えて、他の構成単位をさらに含んでいてもよい。他の構成単位としては、ラジカル重合性基を有する共重合性単量体由来の単位であればよい。 In addition to the structural units represented by formulas (1) to (3), the polyvinyl acetal resin may further contain other structural units. Other structural units may be units derived from copolymerizable monomers having radically polymerizable groups.

共重合性単量体としては、例えば、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニルなどのC3-8アルカン酸-ビニルエステル;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、i-プロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテルなどのC1-6アルキル-ビニルエーテル;エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブテン、1-ヘキセンなどのα-C2-6オレフィン;(メタ)アクリル酸およびその塩;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピルなどの(メタ)アクリル酸C1-6アルキルエステル;(メタ)アクリルアミド;エチレンスルホン酸、アリルスルホン酸などの不飽和スルホン酸などが挙げられる。これらの共重合性単量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of copolymerizable monomers include C 3-8 alkanoic acid-vinyl esters such as vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, and vinyl caproate; methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, i- C 1-6 alkyl-vinyl ethers such as propyl vinyl ether and n-butyl vinyl ether; α-C 2-6 olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, and 1-hexene; (meth)acrylic acid and its salts; (meth)acrylic acid C 1-6 alkyl esters such as methyl meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, and propyl (meth)acrylate; (meth)acrylamide; unsaturated sulfones such as ethylenesulfonic acid and allylsulfonic acid Examples include acids. These copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

また、ポリビニルアセタール系樹脂は、慣用の方法で修飾または変性されたポリビニルアセタール系樹脂であってもよい。 Further, the polyvinyl acetal resin may be a polyvinyl acetal resin modified or modified by a conventional method.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(1)で表される単位の割合(アセタール化度)は5~95モル%(例えば10~90モル%)程度であり、用途に応じて、例えば20~90モル%、好ましくは30~85モル%であってもよく、また50モル%以上(例えば50~90モル%)、好ましくは60モル%以上(例えば60~85モル%)、さらに好ましくは70モル%以上(例えば70~80モル%)であってもよい。また、アセタール化度は、例えば9~98質量%、好ましくは25~95質量%、さらに好ましくは35~90質量%であってもよく、55質量%以上(例えば55~95質量%)、好ましくは65質量%以上(例えば65~90質量%)、さらに好ましくは70質量%以上(例えば70~80質量%)である。アセタール化度が小さすぎると、銀光沢性が低下する虞があり、逆に高すぎると、ポリビニルアセタール系樹脂の調製が困難となる虞がある。 The proportion of units represented by the formula (1) in the polyvinyl acetal resin (degree of acetalization) is about 5 to 95 mol% (for example, 10 to 90 mol%), and depending on the use, for example, 20 to 90 mol%. mol%, preferably 30 to 85 mol%, and 50 mol% or more (for example, 50 to 90 mol%), preferably 60 mol% or more (for example, 60 to 85 mol%), more preferably 70 mol% % or more (for example, 70 to 80 mol %). Further, the degree of acetalization may be, for example, 9 to 98% by mass, preferably 25 to 95% by mass, more preferably 35 to 90% by mass, and 55% by mass or more (for example, 55 to 95% by mass), preferably is 65% by mass or more (for example, 65 to 90% by mass), more preferably 70% by mass or more (for example, 70 to 80% by mass). If the degree of acetalization is too small, there is a risk that the silver luster will be reduced, and if the degree of acetalization is too high, there is a risk that it will be difficult to prepare a polyvinyl acetal resin.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(2)で表される単位(水酸基を有する単位)の割合は10~50モル%(例えば15~40モル%)であってもよく、好ましくは20~35モル%、さらに好ましくは23~27モル%である。また、ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(2)で表される単位の割合は5~40質量%(例えば12~30質量%)であってもよく、好ましくは15~25質量%、さらに好ましくは18~23質量%である。式(2)で表される単位の割合が少なすぎると、樹脂成分としてポリビニルアセタール系樹脂を単独で使用した場合、銀光沢性が低下する虞があり、逆に多すぎても同様である。ポリビニルアセタール系樹脂は、銀含有金属ナノ粒子(特に、複合体ナノ粒子)に対する親和性が高く、かつ用途に応じて硬化剤によって硬化し易い点から、水酸基を有する単位を含むのが好ましい。 The proportion of the unit represented by the formula (2) (unit having a hydroxyl group) in the polyvinyl acetal resin may be 10 to 50 mol% (for example, 15 to 40 mol%), preferably 20 to 35 mol%. %, more preferably 23 to 27 mol%. Further, the proportion of the units represented by formula (2) in the polyvinyl acetal resin may be 5 to 40% by mass (for example, 12 to 30% by mass), preferably 15 to 25% by mass, and more preferably is 18 to 23% by mass. If the proportion of the units represented by formula (2) is too small, there is a risk that the silver luster will decrease when polyvinyl acetal resin is used alone as a resin component, and conversely, if the proportion is too large, the same will happen. The polyvinyl acetal resin preferably contains a unit having a hydroxyl group because it has a high affinity for silver-containing metal nanoparticles (particularly composite nanoparticles) and is easily hardened with a hardening agent depending on the application.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(3)で表される単位(アセチル基を有する単位)の割合は、例えば15モル%以下、好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下である。また、ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(3)で表される単位の割合は、例えば20質量%以下、好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下である。前記式(3)で表される単位の割合が多すぎると、銀光沢性が低下する虞がある。 The proportion of the unit represented by the formula (3) (unit having an acetyl group) in the polyvinyl acetal resin is, for example, 15 mol% or less, preferably 10 mol% or less, and more preferably 5 mol% or less. Further, the proportion of the units represented by the formula (3) in the polyvinyl acetal resin is, for example, 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less. If the proportion of the units represented by formula (3) is too large, there is a risk that silver luster may be reduced.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(1)~(3)で表される構成単位の合計割合は、例えば80モル%以上、好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上であり、より好ましくは100モル%である。 The total proportion of the structural units represented by formulas (1) to (3) in the polyvinyl acetal resin is, for example, 80 mol% or more, preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and more Preferably it is 100 mol%.

ポリビニルアセタール系樹脂中における共重合性単量体由来の割合は、例えば20モル%以下、好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下である。 The proportion derived from the copolymerizable monomer in the polyvinyl acetal resin is, for example, 20 mol% or less, preferably 10 mol% or less, and more preferably 5 mol% or less.

なお、本願において、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度および各単位の割合は、慣用の方法を用いて測定でき、例えば、滴定法、IR法、NMR法などを用いて測定できる。また、ブチラール系樹脂の場合は、JIS K 6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法で測定できる。 In the present application, the degree of acetalization and the proportion of each unit of the polyvinyl acetal resin can be measured using a conventional method, such as a titration method, an IR method, or an NMR method. In the case of a butyral resin, it can be measured by a method based on JIS K 6728 "Polyvinyl butyral test method".

ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ブチラール系樹脂)の重量平均分子量は、例えば5,000~100,000、好ましくは7,000~70,000、さらに好ましくは10,000~40,000、より好ましくは12,000~20,000である。分子量が小さすぎると、銀光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (especially butyral resin) is, for example, 5,000 to 100,000, preferably 7,000 to 70,000, more preferably 10,000 to 40,000, and more preferably 12,000 to 20,000. If the molecular weight is too small, there is a risk that the mechanical properties of the silver glossy film will deteriorate, and if the molecular weight is too high, there is a risk that the film formability will deteriorate.

なお、本願において、ポリビニルアセタール系樹脂の重量平均分子量は、JIS K 0124-2011に記載の方法に準じ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したクロマトグラムから標準ポリスチレンの分子量を基準にして算出した値である。 In addition, in this application, the weight average molecular weight of polyvinyl acetal resin is calculated based on the molecular weight of standard polystyrene from a chromatogram measured by gel permeation chromatography (GPC) according to the method described in JIS K 0124-2011. This is the value.

ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ブチラール系樹脂)のガラス転移温度は50~130℃程度の範囲から選択でき、例えば60~125℃、好ましくは70~120℃、さらに好ましくは80~115℃、より好ましくは90~115℃である。ガラス転移温度が低すぎると、銀光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The glass transition temperature of polyvinyl acetal resin (especially butyral resin) can be selected from a range of about 50 to 130°C, for example 60 to 125°C, preferably 70 to 120°C, more preferably 80 to 115°C, more preferably is 90-115°C. If the glass transition temperature is too low, there is a risk that the mechanical properties of the silver luster film will deteriorate, and if it is too high, there is a risk that film formability will deteriorate.

なお、本願において、ポリビニルアセタール系樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定できる。 In this application, the glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).

ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ブチラール系樹脂)の10質量%溶液粘度(溶媒:トルエン/エタノール(質量比)=50/50)は、温度20℃において、回転粘度型(BM型)で測定したとき、2~20,000mPa・s(特に10~10,000mPa・s)程度の範囲から選択でき、用途に応じて、例えば5~1,000mPa・s(例えば10~500mPa・s)、好ましくは20~400mPa・s(例えば25~300mPa・s)、さらに好ましくは50~250mPa・s(例えば70~200mPa・s)であってもよく、また例えば3~150mPa・s(例えば5~100mPa・s)、好ましくは10~50mPa・s(特に10~30mPa・s)である。粘度が低すぎると、銀光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The 10% by mass solution viscosity (solvent: toluene/ethanol (mass ratio) = 50/50) of polyvinyl acetal resin (especially butyral resin) is measured with a rotational viscosity type (BM type) at a temperature of 20 ° C. , 2 to 20,000 mPa・s (especially 10 to 10,000 mPa・s), and depending on the application, for example, 5 to 1,000 mPa・s (for example, 10 to 500 mPa・s), preferably 20 ~400 mPa·s (for example, 25 to 300 mPa·s), more preferably 50 to 250 mPa·s (for example, 70 to 200 mPa·s), and for example 3 to 150 mPa·s (for example, 5 to 100 mPa·s) , preferably 10 to 50 mPa·s (especially 10 to 30 mPa·s). If the viscosity is too low, there is a risk that the mechanical properties of the silver glossy film will deteriorate, and if the viscosity is too high, there is a possibility that the film formability will deteriorate.

なかでも、銀光沢性に優れる点から、(メタ)アクリル系樹脂が最も好ましい。 Among these, (meth)acrylic resin is most preferred because of its excellent silver luster.

第1相において、銀含有金属の割合は、第1樹脂(b2)100質量部に対して、例えば20~20,000質量部、好ましくは50~10,000質量部、さらに好ましくは100~5,000質量部である。銀含有金属の割合が少なすぎると、遮蔽性が低下する虞があり、多すぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞がある。 In the first phase, the proportion of the silver-containing metal is, for example, 20 to 20,000 parts by mass, preferably 50 to 10,000 parts by mass, more preferably 100 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the first resin (b2). ,000 parts by mass. If the proportion of the silver-containing metal is too small, there is a risk that the shielding properties will be reduced, and if it is too large, there is a possibility that the adhesion and scratch resistance will be reduced.

(第2相)
第2相において、前記複合体ナノ粒子(b3)は、好ましい態様も含め、前記界面層(A)の項で記載された前記複合体ナノ粒子(a)と同様であり、通常、前記複合体ナノ粒子(a)と同一である。
(Phase 2)
In the second phase, the composite nanoparticles (b3) are the same as the composite nanoparticles (a) described in the section of the interface layer (A), including preferred embodiments, and are usually Same as nanoparticle (a).

第2樹脂(b4)としては、特に限定されず、前記第1相の第1樹脂(b2)として例示された樹脂などが挙げられる。前記樹脂のうち、第1樹脂(b2)よりも銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子に対する親和性が低い樹脂が好ましく、(メタ)アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂が特に好ましい。 The second resin (b4) is not particularly limited, and examples thereof include the resins exemplified as the first resin (b2) of the first phase. Among the resins, resins having a lower affinity for composite nanoparticles of silver-containing metal and protective colloid than the first resin (b2) are preferred, and (meth)acrylic resins and silicone resins are particularly preferred.

(メタ)アクリル系樹脂としては、前記第1樹脂(b2)の(メタ)アクリル系樹脂として例示された樹脂などが挙げられる。 Examples of the (meth)acrylic resin include the resins exemplified as the (meth)acrylic resin of the first resin (b2).

前記第1樹脂(b2)が(メタ)アクリル系樹脂である場合、第2樹脂(b4)の(メタ)アクリル系樹脂は、第1樹脂(b2)の(メタ)アクリル系樹脂よりも低い水酸基価を有するのが好ましい。 When the first resin (b2) is a (meth)acrylic resin, the (meth)acrylic resin of the second resin (b4) has a lower hydroxyl group than the (meth)acrylic resin of the first resin (b2). It is preferable that it has a value.

第2樹脂(b4)の(メタ)アクリル系樹脂の水酸基価は、70mgKOH/g以下であってもよく、例えば1~50mgKOH/g、好ましくは2~30mgKOH/g、さらに好ましくは3~20mgKOH/g、より好ましくは5~15mgKOH/g、最も好ましくは8~12mgKOH/gである。 The hydroxyl value of the (meth)acrylic resin of the second resin (b4) may be 70 mgKOH/g or less, for example 1 to 50 mgKOH/g, preferably 2 to 30 mgKOH/g, more preferably 3 to 20 mgKOH/g. g, more preferably 5 to 15 mgKOH/g, most preferably 8 to 12 mgKOH/g.

シリコーン系樹脂は、特に制限されず、シリコーン系レジンであってもよく、シリコーン系オリゴマーであってもよい。これらのうち、密着性および耐擦過性を向上できる点から、シリコーン系レジンが好ましい。 The silicone resin is not particularly limited, and may be a silicone resin or a silicone oligomer. Among these, silicone resins are preferred because they can improve adhesion and scratch resistance.

シリコーン系レジンは、ポリオルガノシロキサン骨格を有する熱可塑性樹脂、硬化性樹脂(未架橋樹脂)または硬化樹脂(架橋樹脂)であればよい。ポリオルガノシロキサン骨格は、Si-O結合(シロキサン結合)を有する直鎖状、分岐鎖状または網目状の化合物であって、式:R SiO(4-a)/2(式中、Rは置換基を示し、係数aは0~3の数である)で表される単位で構成されている。シリコーン系レジンとしては、前記式で表される各単位である単官能性のM単位(一般的にR SiO1/2で表される単位)、二官能性のD単位(一般的にR SiO2/2で表される単位)、三官能性のT単位(一般的にRSiO3/2で表される単位)、四官能性のQ単位(一般的にSiO4/2で表される単位)のうち、通常、T単位を主単位として含むポリオルガノシロキサンが使用される。 The silicone resin may be a thermoplastic resin, a curable resin (uncrosslinked resin), or a cured resin (crosslinked resin) having a polyorganosiloxane skeleton. The polyorganosiloxane skeleton is a linear, branched or network compound having Si-O bonds (siloxane bonds), and has the formula: R 2 a SiO (4-a)/2 (in the formula, R 2 represents a substituent, and the coefficient a is a number from 0 to 3). Silicone resins include monofunctional M units (generally represented by R 2 3 SiO 1/2), which are each unit represented by the above formula, and difunctional D units (generally represented by R 2 3 SiO 1/2 ). unit represented by R 2 2 SiO 2/2 ), trifunctional T unit (generally represented by R 2 SiO 3/2 ), tetrafunctional Q unit (generally represented by SiO 4/ Among the units represented by 2 ), polyorganosiloxanes containing T units as main units are usually used.

前記式において、置換基Rとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのC1-10アルキル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基などのハロゲン化C1-10アルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基などのC2-10アルケニル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基などのC6-20アリール基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのC3-10シクロアルキル基、ベンジル基、フェネチル基などのC6-12アリール-C1-4アルキル基などが挙げられる。これらの置換基は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 In the above formula, the substituent R 2 is, for example, a C 1-10 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 3-chloropropyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, etc. Halogenated C 1-10 alkyl group, C 2-10 alkenyl group such as vinyl group, allyl group, butenyl group, C 6-20 aryl group such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. Examples include C 3-10 cycloalkyl groups, C 6-12 aryl-C 1-4 alkyl groups such as benzyl groups, and phenethyl groups. These substituents can be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、Rとしては、メチル基、プロピル基などのC1-4アルキル基、フェニル基、ナフチル基などのC6-10アリール基が好ましく、C1-3アルキル基、C6-8アリール基がさらに好ましく、メチル基、フェニル基が最も好ましい。さらに、Rとしては、単独で使用するよりも、(メタ)アクリル系樹脂との相溶性を向上できる点から、二種以上組み合わせて使用する方が好ましく、C1-4アルキル基とC6-10アリール基がさらに好ましく、C1-3アルキル基とC6-8アリール基との組み合わせがより好ましく、メチル基とフェニル基との組み合わせが最も好ましい。 Among these, R 2 is preferably a C 1-4 alkyl group such as a methyl group or a propyl group, a C 6-10 aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, a C 1-3 alkyl group, or a C 6-8 alkyl group. An aryl group is more preferred, and a methyl group and a phenyl group are most preferred. Furthermore, as for R 2 , it is preferable to use two or more types in combination rather than using it alone from the viewpoint of improving compatibility with the ( meth )acrylic resin . A -10 aryl group is more preferred, a combination of a C 1-3 alkyl group and a C 6-8 aryl group is more preferred, and a combination of a methyl group and a phenyl group is most preferred.

1-4アルキル基とC6-10アリール基とを組み合わせる場合、両者のモル比は、C1-4アルキル基/C6-10アリール基=30/1~1/30程度の範囲から選択でき、例えば20/1~1/10、好ましくは10/1~1/5、さらに好ましくは8/1~1/1、より好ましくは5/1~1.5/1、最も好ましくは3/1~2/1である。 When combining a C 1-4 alkyl group and a C 6-10 aryl group, the molar ratio of the two is selected from a range of approximately C 1-4 alkyl group/C 6-10 aryl group = 30/1 to 1/30. For example, 20/1 to 1/10, preferably 10/1 to 1/5, more preferably 8/1 to 1/1, more preferably 5/1 to 1.5/1, most preferably 3/1. It is 1 to 2/1.

シリコーン系レジンは、ストレートシリコーン系レジン(未変性シリコーン系レジン)であってもよく、変性シリコーン系レジンであってもよい。変性シリコーン系レジンとしては、例えば、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの他の樹脂で変性されたシリコーン系レジンなどが挙げられる。 The silicone resin may be a straight silicone resin (unmodified silicone resin) or a modified silicone resin. Examples of the modified silicone resin include silicone resins modified with other resins such as alkyd resins, phenol resins, urea resins, melamine resins, and epoxy resins.

具体的に好ましいシリコーン系レジンとしては、置換基Rがメチル基などのC1-4アルキル基であるC1-4アルキル系シリコーンレジン(例えば、メチル系シリコーンレジンなどのC1-3アルキル系シリコーンレジンなど)、置換基Rがフェニル基などのC6-10アリール基であるC6-10アリール系シリコーンレジン(例えば、フェニル系シリコーンレジンなどのC6-8アリール系シリコーンレジン)、置換基RがC1-4アルキル基とC6-10アリール基との組み合わせであるC1-4アルキルC6-10アリール系シリコーンレジン(例えば、メチルフェニル系シリコーンレジン、プロピルフェニル系シリコーンレジンなどのC1-3アルキルC6-8アリール系シリコーンレジンなど)などが挙げられる。これらのシリコーン系レジンは、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。密着性および耐擦過性を向上できる点から、C1-4アルキルC6-10アリール系シリコーンレジンなどのアルキルアリール系シリコーンレジンが好ましく、メチルフェニル系シリコーンレジンなどのC1-2アルキルC6-8アリール系シリコーレジンが特に好ましい。 Specifically preferred silicone resins include C 1-4 alkyl silicone resins in which the substituent R 2 is a C 1-4 alkyl group such as a methyl group (for example, C 1-3 alkyl resins such as methyl silicone resins). silicone resin, etc.), C 6-10 aryl silicone resin in which substituent R 2 is a C 6-10 aryl group such as phenyl group (for example, C 6-8 aryl silicone resin such as phenyl silicone resin), substituted C 1-4 alkyl C 6-10 aryl silicone resin in which the group R 2 is a combination of a C 1-4 alkyl group and a C 6-10 aryl group (for example, methylphenyl silicone resin, propylphenyl silicone resin, etc.) C 1-3 alkyl C 6-8 aryl silicone resin, etc.). These silicone resins can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of improving adhesion and scratch resistance, alkylaryl silicone resins such as C 1-4 alkyl C 6-10 aryl silicone resins are preferred, and C 1-2 alkyl C 6- such as methylphenyl silicone resins are preferred. Particularly preferred are 8- aryl silicone resins.

中間層(B)において、第2樹脂(b4)は、第1樹脂(b2)よりも、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子に対する親和性が低いため、第2相は、第1相よりも銀含有金属(特に、銀含有金属ナノ粒子)の含有割合が小さい。 In the intermediate layer (B), the second resin (b4) has a lower affinity for composite nanoparticles of silver-containing metal and protective colloid than the first resin (b2); The content ratio of silver-containing metal (particularly silver-containing metal nanoparticles) is smaller than that of one phase.

第2相において、銀含有金属の割合は、第2樹脂(b4)100質量部に対して10,000質量部以下であってもよく、例えば0~5,000質量部、好ましくは0~3,000質量部、さらに好ましくは0~2,000質量部である。銀含有金属の割合が多すぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞がある。 In the second phase, the proportion of the silver-containing metal may be 10,000 parts by mass or less, for example 0 to 5,000 parts by mass, preferably 0 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the second resin (b4). ,000 parts by mass, more preferably 0 to 2,000 parts by mass. If the proportion of silver-containing metal is too high, there is a risk that adhesion and scratch resistance will decrease.

(中間層(B)の組成)
第1樹脂(b2)の割合は、固形分換算で、銀光沢膜の銀含有金属[すなわち、複合体ナノ粒子(a)、(b1)、(b3)および(c)に含まれる銀含有金属の総量であり、以下同様]100質量部に対して、例えば1~50質量部、好ましくは3~40質量部、さらに好ましくは5~30質量部、より好ましくは10~25質量部、最も好ましくは15~20質量部である。第1樹脂(b2)の割合が少なすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、多すぎると、銀光沢性が低下する虞がある。
(Composition of intermediate layer (B))
The proportion of the first resin (b2) is, in terms of solid content, the silver-containing metal in the silver glossy film [i.e., the silver-containing metal contained in the composite nanoparticles (a), (b1), (b3), and (c)]. 100 parts by weight, for example, 1 to 50 parts by weight, preferably 3 to 40 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 10 to 25 parts by weight, most preferably is 15 to 20 parts by mass. If the proportion of the first resin (b2) is too small, there is a risk that the adhesion and scratch resistance will be reduced, and if it is too large, there is a possibility that the silver luster will be reduced.

第1樹脂(b2)と第2樹脂(b4)との質量比は、固形分換算で、前者/後者=97/3~3/97程度の範囲から選択でき、例えば95/5~5/95、好ましくは90/10~10/90(例えば80/20~30/70)、さらに好ましくは75/25~40/60、より好ましくは70/30~50/50(特に65/35~55/45)である。第1樹脂(b2)の割合が少なすぎると、銀光沢性および密着性が低下する虞があり、多すぎても同様の虞がある。 The mass ratio of the first resin (b2) and the second resin (b4) can be selected from a range of about 97/3 to 3/97 (former/latter), for example, 95/5 to 5/95 in terms of solid content. , preferably 90/10 to 10/90 (for example 80/20 to 30/70), more preferably 75/25 to 40/60, more preferably 70/30 to 50/50 (especially 65/35 to 55/ 45). If the proportion of the first resin (b2) is too small, there is a risk that the silver luster and adhesion will deteriorate, and if the proportion is too large, the same may occur.

第1樹脂(b2)および第2樹脂(b4)の合計割合は、銀光沢膜の銀含有金属100質量部に対して1~500質量部程度の範囲から選択でき、例えば5~300質量部(例えば10~250質量部)、好ましくは5~200質量部(例えば10~200質量部)、さらに好ましくは10~100質量部(例えば10~50質量部)、より好ましくは20~50質量部(特に25~35質量部)である。合計割合が少なすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、多すぎると、銀光沢性が低下する虞がある。 The total proportion of the first resin (b2) and the second resin (b4) can be selected from a range of about 1 to 500 parts by mass, for example 5 to 300 parts by mass ( For example, 10 to 250 parts by weight), preferably 5 to 200 parts by weight (for example, 10 to 200 parts by weight), more preferably 10 to 100 parts by weight (for example, 10 to 50 parts by weight), more preferably 20 to 50 parts by weight ( In particular, 25 to 35 parts by mass). If the total ratio is too small, there is a risk that the adhesion and scratch resistance will be reduced, and if it is too large, there is a risk that the silver luster will be reduced.

(b5)硬化剤
中間層は、前記複合体ナノ粒子および樹脂に加えて、硬化剤(b5)をさらに含んでいてもよい。硬化剤(b5)としては、慣用の硬化剤、例えば、イソシアネート系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤などが挙げられる。これらのうち、イソシアネート系硬化剤が好ましく、ポリイソシアネートが特に好ましい。ポリイソシアネートなどのイソシアネート系硬化剤は、(メタ)アクリル系樹脂が官能基(特に、水酸基)を有する場合に特に有効である。
(b5) Curing agent In addition to the composite nanoparticles and resin, the intermediate layer may further contain a curing agent (b5). Examples of the curing agent (b5) include conventional curing agents such as isocyanate curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, and imidazole curing agents. Among these, isocyanate-based curing agents are preferred, and polyisocyanates are particularly preferred. Isocyanate curing agents such as polyisocyanate are particularly effective when the (meth)acrylic resin has a functional group (particularly a hydroxyl group).

ポリイソシアネートとしては、例えば、脂肪族ポリイソシアネート[プロピレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)、リジンジイソシアネート(LDI)などのジイソシアネート;1,6,11-ウンデカントリイソシアネートメチルオクタン、1,3,6-ヘキサメチレントリイソシアネートなどのトリ又はポリイソシアネート]、脂環族ポリイソシアネート[シクロヘキサン1,4-ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、水添キシリレンジイソシアネート、水添ビス(イソシアナトフェニル)メタンなどのジイソシアネート;ビシクロヘプタントリイソシアネートなどのトリまたはポリイソシアネートなど]、芳香族ポリイソシアネート[フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート(TDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)、ナフタレンジイソシアネート(NDI)、ビス(イソシアナトフェニル)メタン(MDI)、トリジンジイソシアネート(TODI)、1,3-ビス(イソシアナトフェニル)プロパンなどのジイソシアネート;トリ又はポリイソシアネート]などが挙げられる。 Examples of the polyisocyanate include aliphatic polyisocyanates [diisocyanates such as propylene diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), and lysine diisocyanate (LDI); , 11-undecane triisocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate and other tri- or polyisocyanates], alicyclic polyisocyanates [cyclohexane 1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), hydrogenated xylylene di isocyanates, diisocyanates such as hydrogenated bis(isocyanatophenyl)methane; tri- or polyisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate], aromatic polyisocyanates [phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate (TDI), xylylene diisocyanate (XDI), Diisocyanates such as tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), naphthalene diisocyanate (NDI), bis(isocyanatophenyl)methane (MDI), toridine diisocyanate (TODI), 1,3-bis(isocyanatophenyl)propane; isocyanate] and the like.

ポリイソシアネートは、多量体(二量体や三量体、四量体など)、アダクト体、変性体(ビウレット変性体、アロハネート変性体、ウレア変性体など)などの誘導体や、複数のイソシアネート基を有するウレタンオリゴマーなどであってもよい。ポリイソシアネートの変性体または誘導体としては、例えば、ポリイソシアネート(ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネートなど)と多価アルコール(トリメチロールプロパンやペンタエリスリトールなど)とのアダクト体、前記ポリイソシアネートのビウレット体、前記ポリイソシアネート(例えば、脂肪族ポリイソシアネート)の多量体(例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体などのイソシアヌレート環を有するポリイソシアネートなど)などが例示できる。 Polyisocyanates include derivatives such as multimers (dimers, trimers, tetramers, etc.), adducts, modified products (biuret modified products, allophanate modified products, urea modified products, etc.), and derivatives containing multiple isocyanate groups. It may also be a urethane oligomer having Modified products or derivatives of polyisocyanates include, for example, adducts of polyisocyanates (aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, etc.) and polyhydric alcohols (trimethylolpropane, pentaerythritol, etc.), and biuret products of the polyisocyanates. , a multimer of the polyisocyanate (for example, aliphatic polyisocyanate) (for example, a polyisocyanate having an isocyanurate ring such as a trimer of hexamethylene diisocyanate), and the like.

これらのポリイソシアネートは単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのポリイソシアネートのうち、脂肪族ポリイソシアネートまたはその誘導体(例えば、HDIまたはその三量体など)、芳香族ポリイソシアネート(TDI、MDIなど)などが汎用される。 These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more. Among these polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates or derivatives thereof (eg, HDI or its trimer, etc.), aromatic polyisocyanates (TDI, MDI, etc.), and the like are commonly used.

硬化剤(b5)の割合は、第1樹脂(b2)100質量部に対して、例えば10~200質量部、好ましくは20~150質量部、さらに好ましくは25~100質量部である。 The proportion of the curing agent (b5) is, for example, 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 150 parts by weight, and more preferably 25 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the first resin (b2).

(b6)他の金属ナノ粒子
中間層(B)は、前記複合体ナノ粒子および樹脂に加えて、他の金属ナノ粒子(b6)をさらに含んでいてもよい。他の金属ナノ粒子(b6)としては、例えば、周期表第8族金属(鉄、ニッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、イリジウム、白金など)、周期表第1B族金属(銅、金など)、周期表第3B族金属(アルミニウム、ガリウム、インジウムなど)および周期表第4B族金属(ゲルマニウム、スズ、鉛など)などであってもよい。なお、金属(金属原子)は、保護コロイドに対する配位性の高い金属、例えば、周期表第8族金属、周期表第1B族金属などである場合が多い。他の金属粒子(b6)の割合は、銀光沢膜の銀含有金属100質量部に対して100質量部以下であり、好ましくは50質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。
(b6) Other metal nanoparticles In addition to the composite nanoparticles and resin, the intermediate layer (B) may further contain other metal nanoparticles (b6). Examples of other metal nanoparticles (b6) include metals from group 8 of the periodic table (iron, nickel, cobalt, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, iridium, platinum, etc.), metals from group 1B of the periodic table (copper, gold, etc.). ), Group 3B metals of the periodic table (aluminum, gallium, indium, etc.), metals of Group 4B of the periodic table (germanium, tin, lead, etc.), and the like. Note that the metal (metal atom) is often a metal that has a high degree of coordination with the protective colloid, such as a metal from group 8 of the periodic table or a metal from group 1B of the periodic table. The proportion of the other metal particles (b6) is 100 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the silver-containing metal of the silver luster film.

(b7)他の成分
中間層(B)は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の成分(b7)として、慣用の添加剤、例えば、可塑剤(または造膜助剤)、光沢付与剤、金属腐食防止剤(防錆剤)、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤など)、界面活性剤(アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特に、アニオン性界面活性剤および/またはノニオン性界面活性剤)、分散安定化剤、増粘剤または粘度調整剤、保湿剤、チクソトロピー性賦与剤、レベリング剤、浸透剤、消泡剤、pH調整剤、キレート剤、表面張力調整剤、着色剤(染顔料など)、色相改良剤、染料定着剤、殺菌剤、防カビ剤、防腐剤、酸素吸収剤などを含んでいてもよい。なお、界面活性剤は、アセチレングリコール系界面活性剤、ポリシロキサン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などであってもよい。これらの添加剤は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。他の成分(b7)の割合は、銀光沢膜の銀含有金属100質量部に対して50質量部以下であり、好ましくは30質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。
(b7) Other components The intermediate layer (B) contains conventional additives as other components (b7), such as plasticizers (or film-forming aids), gloss imparting agents, to the extent that the effects of the present invention are not impaired. agents, metal corrosion inhibitors (rust inhibitors), stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, etc.), surfactants (anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants) , amphoteric surfactants, in particular anionic and/or nonionic surfactants), dispersion stabilizers, thickeners or viscosity modifiers, humectants, thixotropic agents, leveling agents, penetrants, Contains antifoaming agents, pH adjusting agents, chelating agents, surface tension adjusting agents, coloring agents (dyes and pigments, etc.), hue improvers, dye fixing agents, bactericidal agents, antifungal agents, preservatives, oxygen absorbers, etc. Good too. Note that the surfactant may be an acetylene glycol surfactant, a polysiloxane surfactant, a fluorine surfactant, or the like. These additives can be used alone or in combination of two or more. The proportion of the other component (b7) is 50 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the silver-containing metal of the silver luster film.

(中間層(B)の構造)
中間層(B)は、第1相と、この第1相よりも銀含有金属の含有割合が少ない第2相とに相分離した相分離構造を有していればよい。
(Structure of middle layer (B))
The intermediate layer (B) may have a phase-separated structure in which the first phase and the second phase have a smaller content of silver-containing metal than the first phase.

第1相と第2相との比率(断面における面積比率)は、第1相/第2相=97/3~10/90程度の範囲から選択でき、例えば95/5~20/80、好ましくは90/10~30/70、さらに好ましくは80/20~40/60、より好ましくは70/30~50/50、最も好ましくは65/35~55/45である。第1相の割合が少なすぎると、銀光沢性および密着性が低下する虞があり、多すぎても同様の虞がある。 The ratio of the first phase to the second phase (area ratio in the cross section) can be selected from the range of first phase/second phase = 97/3 to 10/90, for example, 95/5 to 20/80, preferably is 90/10 to 30/70, more preferably 80/20 to 40/60, more preferably 70/30 to 50/50, most preferably 65/35 to 55/45. If the proportion of the first phase is too small, there is a risk that the silver luster and adhesion will deteriorate, and if the proportion is too large, the same may occur.

なお、本願において、前記比率は、銀光沢膜断面の透過型電子顕微鏡(TEM)像に基づいて測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。 In addition, in this application, the said ratio can be measured based on the transmission electron microscope (TEM) image of the cross section of a silver luster film, and can be measured in detail by the method described in the Example mentioned later.

前記相分離構造は、海島構造であってもよく、共連続構造であってもよい。これらのうち、海島構造が好ましい。 The phase separation structure may be a sea-island structure or a co-continuous structure. Among these, the sea-island structure is preferred.

中間層(B)が海島構造である場合、海部を構成する連続相(マトリックス相)は、第1相であってもよく、第2相であってもよい。これらのうち、第2相が連続相であるのが好ましい。銀含有金属の含有割合が少ない第2相が連続相を形成することにより、分散相に前記複合体ナノ粒子(b1)を凝集させて遮蔽性を向上できる。 When the intermediate layer (B) has a sea-island structure, the continuous phase (matrix phase) constituting the sea portion may be the first phase or the second phase. Among these, it is preferable that the second phase is a continuous phase. By forming a continuous phase with the second phase containing a small proportion of silver-containing metal, the composite nanoparticles (b1) can be aggregated in the dispersed phase to improve the shielding property.

海島構造において、分散相の平均径は、例えば5~3,000nm、好ましくは10~1,000nm、さらに好ましくは100~800nm、より好ましくは300~600nm、最も好ましくは400~500nmである。分散相の平均径が小さすぎると、遮蔽性が低下する虞があり、大きすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞がある。なお、本願において、分散相の形状が異方形状である場合、長径と短径との平均値を各分散相の径とする。 In the sea-island structure, the average diameter of the dispersed phase is, for example, 5 to 3,000 nm, preferably 10 to 1,000 nm, more preferably 100 to 800 nm, more preferably 300 to 600 nm, most preferably 400 to 500 nm. If the average diameter of the dispersed phase is too small, there is a risk that the shielding properties will be reduced, and if it is too large, there is a risk that the adhesiveness and scratch resistance will be reduced. In the present application, when the shape of the dispersed phase is anisotropic, the average value of the major axis and the minor axis is defined as the diameter of each dispersed phase.

分散相の平均ピッチ(隣接する分散相の中心間の距離の平均値)は、例えば5~2,500nm、好ましくは10~2,000nm、さらに好ましくは100~1,500nm、より好ましくは300~1,000nm、最も好ましくは500~700nmである。分散相の平均ピッチが小さすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、大きすぎると、遮蔽性が低下する虞がある。 The average pitch of the dispersed phases (the average value of the distance between the centers of adjacent dispersed phases) is, for example, 5 to 2,500 nm, preferably 10 to 2,000 nm, more preferably 100 to 1,500 nm, and more preferably 300 to 2,000 nm. 1,000 nm, most preferably 500-700 nm. If the average pitch of the dispersed phase is too small, there is a risk that the adhesion and abrasion resistance will be reduced, and if it is too large, there is a risk that the shielding performance will be reduced.

銀光沢膜断面の観察方法としては、特に限定されず、通常の構造解析に用いられる手法を用いることができる。観察方法としては、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡(SEM)、電子線マイクロアナライザ(EPMA)、走査型プローブ顕微鏡(SPM)等による形態・構造観察;蛍光X線やエネルギー分散型X線分光法(EDX)、波長分散型X線分光法(WDX)、電子エネルギー損失分光法(Electron Energy-Loss Spectroscopy(EELS))等による構成元素の解析を行うことができる。これらのうち、特に微細構造まで観察できる点から、透過型電子顕微鏡(TEM)観察が好ましい。観察に供する試料は、観察や分析に適するように、適宜加工して用いることができ、例えば、ミクロトーム等を用いて薄片試料を作製してもよい。 The method for observing the cross section of the silver glossy film is not particularly limited, and any method used for ordinary structural analysis can be used. Observation methods include morphology and structure observation using transmission electron microscopes (TEM), scanning electron microscopes (SEM), electron beam microanalyzers (EPMA), scanning probe microscopes (SPM), etc.; fluorescent X-rays and energy dispersive Constituent elements can be analyzed by X-ray spectroscopy (EDX), wavelength dispersive X-ray spectroscopy (WDX), electron energy-loss spectroscopy (EELS), or the like. Among these, transmission electron microscopy (TEM) observation is particularly preferred since it allows observation of even the fine structure. A sample to be subjected to observation can be appropriately processed and used to make it suitable for observation and analysis. For example, a thin section sample may be prepared using a microtome or the like.

そのため、本願において、銀光沢膜断面における島構造の構造、サイズおよび分布状態は、銀光沢膜断面のTEM像に基づいて、観察および測定でき、サイズについては、任意の10カ所の平均値である。詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。さらに、TEM像では、銀含有金属ナノ粒子は、濃色であるため、容易に確認でき、中間層においては、銀含有金属ナノ粒子の凝集部を分散相とする。 Therefore, in this application, the structure, size, and distribution state of the island structure in the cross section of the silver glossy film can be observed and measured based on the TEM image of the cross section of the silver gloss film, and the size is the average value of arbitrary 10 locations. . In detail, it can be measured by the method described in Examples below. Furthermore, in the TEM image, the silver-containing metal nanoparticles are dark-colored and can be easily confirmed, and in the intermediate layer, the aggregated portions of the silver-containing metal nanoparticles serve as the dispersed phase.

中間層(B)の平均厚みは、例えば0.05~100μm、好ましくは0.1~30μm、さらに好ましくは0.5~20μm、より好ましくは1~10μm、最も好ましくは5~7μmである。中間層(B)の平均厚みが薄すぎると、光の遮蔽性が低下したり、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、厚すぎると、銀光沢性が低下する虞がある。 The average thickness of the intermediate layer (B) is, for example, 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 30 μm, more preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, and most preferably 5 to 7 μm. If the average thickness of the intermediate layer (B) is too thin, there is a risk that the light shielding property will be reduced, and the adhesion and scratch resistance will be reduced, and if it is too thick, there is a risk that the silver luster will be reduced.

中間層(B)の平均厚みは、表面層(C)の平均厚みに対して2倍以上(例えば3~1,000倍)であってもよく、例えば5~500倍、好ましくは10~300倍、さらに好ましくは25~250倍、より好ましくは25~100倍、最も好ましくは30~50倍である。中間層(B)の厚み比が小さすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、大きすぎると、銀光沢性が低下する虞がある。 The average thickness of the intermediate layer (B) may be twice or more (for example, 3 to 1,000 times) the average thickness of the surface layer (C), for example, 5 to 500 times, preferably 10 to 300 times. times, more preferably 25 to 250 times, more preferably 25 to 100 times, and most preferably 30 to 50 times. If the thickness ratio of the intermediate layer (B) is too small, there is a risk that the adhesion and scratch resistance will be reduced, and if it is too large, there is a risk that the silver luster will be reduced.

なお、本願において、中間層(B)の平均厚みは、銀光沢膜断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより測定でき、任意の3カ所の平均値である。 In addition, in this application, the average thickness of the intermediate layer (B) can be measured by observing the cross section of the silver glossy film with a transmission electron microscope (TEM), and is the average value of three arbitrary locations.

(C)表面層
表面層(C)は、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(c)で形成されており、前記複合体ナノ粒子(c)が銀光沢膜の表面部において配列または配向することにより、銀含有金属が密な薄膜(銀薄膜)を形成している。本発明では、銀光沢膜の表面において、このような表面層(C)が形成されることにより、銀光沢性を向上できる。
(C) Surface layer The surface layer (C) is formed of composite nanoparticles (c) of a metal containing silver and a protective colloid, and the composite nanoparticles (c) are formed on the surface of the silver glossy film. By being arranged or oriented, the silver-containing metal forms a dense thin film (silver thin film). In the present invention, silver luster can be improved by forming such a surface layer (C) on the surface of the silver luster film.

前記複合体ナノ粒子(c)は、好ましい態様も含め、前記界面層(A)の項で記載された前記複合体ナノ粒子(a)と同様であり、通常、前記複合体ナノ粒子(a)と同一である。 The composite nanoparticles (c) are the same as the composite nanoparticles (a) described in the section of the interface layer (A), including preferred embodiments, and are usually the same as the composite nanoparticles (a). is the same as

表面層(C)の平均厚みは、例えば3~300nm(例えば10~250nm)、好ましくは5~200nm、さらに好ましくは10~100nm、より好ましくは15~50nm、最も好ましくは20~40nmである。表面層(C)の平均厚みが薄すぎると、銀光沢性が低下する虞があり、厚すぎると、耐擦過性が低下する虞がある。 The average thickness of the surface layer (C) is, for example, 3 to 300 nm (for example, 10 to 250 nm), preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, more preferably 15 to 50 nm, most preferably 20 to 40 nm. If the average thickness of the surface layer (C) is too thin, there is a possibility that the silver luster will be reduced, and if it is too thick, there is a possibility that the scratch resistance will be reduced.

なお、本願において、表面層(C)の平均厚みは、銀光沢膜断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。 In addition, in this application, the average thickness of the surface layer (C) can be measured by observing the cross section of the silver glossy film with a transmission electron microscope (TEM), and in detail, it can be measured by the method described in the Examples below. .

[銀光沢膜の製造方法]
本発明の銀光沢膜は、銀含有金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子、第1樹脂、第2樹脂および溶剤を含む液状組成物を被加飾体(基材)の上に塗布する塗布工程、前記液状組成物で形成された塗膜を乾燥させ、スピノーダル分解により相分離させて銀光沢膜を得る相分離工程を経て得られる。
[Method for manufacturing silver gloss film]
The silver luster film of the present invention is produced by applying a liquid composition containing composite nanoparticles of a silver-containing metal and a protective colloid, a first resin, a second resin, and a solvent onto an object to be decorated (substrate). step, the coating film formed from the liquid composition is dried and phase separated by spinodal decomposition to obtain a silver glossy film.

(塗布工程)
塗布工程において、基材の種類は、特に制限はなく、用途に応じて樹脂基板、金属基板、ガラス基板、セラミックス基板、紙などを利用できる。
(Coating process)
In the coating process, the type of base material is not particularly limited, and resin substrates, metal substrates, glass substrates, ceramic substrates, paper, etc. can be used depending on the purpose.

液状組成物は、前記複合体ナノ粒子、第1樹脂、第2樹脂および溶剤を慣用の方法で混合することにより調製できる。混合方法としては、慣用の攪拌装置を利用でき、例えば、攪拌脱泡装置を利用してもよい。液状組成物に溶剤を配合することにより、スピノーダル分解による相分離を促進できるとともに、製膜性も向上できる。 The liquid composition can be prepared by mixing the composite nanoparticles, the first resin, the second resin, and the solvent in a conventional manner. As a mixing method, a conventional stirring device may be used, for example, a stirring defoaming device may be used. By adding a solvent to the liquid composition, phase separation due to spinodal decomposition can be promoted, and film-forming properties can also be improved.

溶剤は、極性有機溶媒を含むのが好ましい。極性有機溶媒としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのC1-4アルカノール、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノールなど)、多価アルコール類(エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパンなどのアルカントリオール、ペンタエリスリトールなどのアルカンテトラオールなど)、アミド類(ホルムアミド、アセトアミドなどのアシルアミド類、N-メチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのモノ又はジC1-4アシルアミド類など)、ピロリドン類(2-ピロリドン、3-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチル-3-ピロリドンなど)、ケトン類(アセトン、ジアセトンアルコール、メチルエチルケトン、イソホロンなど)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、有機カルボン酸類(酢酸など)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどの酢酸エステルなど)、アルキレングリコールモノアルキルエーテル(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテル、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノールなどのC2-6アルキレングリコールモノC1-4アルキルエーテルなど)、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル(メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトールなどのジC2-6アルキレングリコールモノC1-4アルキルエーテルなど)、セロソルブアセテート類(エチルセロソルブアセテートなどのC1-4アルキルセロソルブアセテート類)、カルビトールアセテート類(メチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテートなどのC1-4アルキルカルビトールアセテートなど)、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの極性有機溶媒は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Preferably, the solvent comprises a polar organic solvent. Examples of polar organic solvents include alcohols (C 1-4 alkanols such as methanol, ethanol, propanol, and isopropanol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, etc.), polyhydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol, etc.), and polyhydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol, etc.). alkanediols such as glycerin, alkanetriols such as trimethylolpropane, alkanetetraols such as pentaerythritol), amides (acylamides such as formamide and acetamide, N-methylformamide, N-methylacetamide, N,N- dimethylformamide, mono- or di-C 1-4 acylamides such as N,N-dimethylacetamide, etc.), pyrrolidones (2-pyrrolidone, 3-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl-3-pyrrolidone, etc.) ), ketones (acetone, diacetone alcohol, methyl ethyl ketone, isophorone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), organic carboxylic acids (acetic acid, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, acetic acid) acetate esters such as amyl), alkylene glycol monoalkyl ethers (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether, C 2-6 alkylene glycol mono C 1-4 alkyl such as 3-methoxy-3-methyl-1-butanol) ethers, etc.), dialkylene glycol monoalkyl ethers (di-C 2-6 alkylene glycol mono-C 1-4 alkyl ethers such as methyl carbitol, ethyl carbitol, propyl carbitol, butyl carbitol, etc.), cellosolve acetates (ethyl Examples include C 1-4 alkyl cellosolve acetates such as cellosolve acetate), carbitol acetates (C 1-4 alkyl carbitol acetates such as methyl carbitol acetate and butyl carbitol acetate), and dimethyl sulfoxide. These polar organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

極性有機溶媒の割合は、溶剤中50質量%以上であってもよく、好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上であり、100質量%であってもよい。 The proportion of the polar organic solvent in the solvent may be 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and 100% by mass. Good too.

溶剤は、極性溶媒に加えて、無極性溶媒をさらに含んでいてもよい。無極性溶媒としては、例えば、ヘキサン、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、テトラリンなどの脂環族炭化水素などが挙げられる。無極性有機溶媒の割合は、極性有機溶媒100質量部に対して50質量部以下(例えば0.1~50質量部程度)であってもよく、好ましくは30質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。 In addition to the polar solvent, the solvent may further include a non-polar solvent. Examples of the nonpolar solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane, and decane, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and tetralin. The proportion of the nonpolar organic solvent may be 50 parts by mass or less (for example, about 0.1 to 50 parts by mass), preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the polar organic solvent. below.

これらの溶剤のうち、アルコール類、エステル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルから選択される1種以上を含むのが好ましく、脂肪族カルボン酸C1-6アルキルエステル、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルから選択される1種以上を含むのがさらに好ましい。なかでも、溶剤は、アルキレングリコールモノアルキルエーテルとジアルキレングリコールモノアルキルエーテルとの組み合わせが好ましく、C2-6アルキレングリコールモノC1-3アルキルエーテルとジC2-6アルキレングリコールモノC1-3アルキルエーテルとの組み合わせがさらに好ましく、C4-6アルキレングリコールモノC1-2アルキルエーテルとジC2-4アルキレングリコールモノC1-2アルキルエーテルとの組み合わせが最も好ましい。 Among these solvents, it is preferable that the solvent contains one or more selected from alcohols, esters, alkylene glycol monoalkyl ethers, and dialkylene glycol monoalkyl ethers, and includes aliphatic carboxylic acid C 1-6 alkyl esters, alkylene glycols, etc. It is more preferable to contain one or more selected from monoalkyl ethers and dialkylene glycol monoalkyl ethers. Among these, the solvent is preferably a combination of an alkylene glycol monoalkyl ether and a dialkylene glycol monoalkyl ether, and a combination of a C 2-6 alkylene glycol mono-C 1-3 alkyl ether and a di-C 2-6 alkylene glycol mono-C 1-3 A combination with an alkyl ether is more preferred, and a combination of a C 4-6 alkylene glycol mono-C 1-2 alkyl ether and a di-C 2-4 alkylene glycol mono-C 1-2 alkyl ether is most preferred.

溶剤がアルキレングリコールモノアルキルエーテルとジアルキレングリコールモノアルキルエーテルとの組み合わせである場合、前記複合体ナノ粒子は、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルに分散させた分散液の形態で、第1樹脂、第2樹脂およびアルキレングリコールモノアルキルエーテルと混合してもよい。 When the solvent is a combination of an alkylene glycol monoalkyl ether and a dialkylene glycol monoalkyl ether, the composite nanoparticles are in the form of a dispersion in the dialkylene glycol monoalkyl ether, the first resin and the second resin. May be mixed with resin and alkylene glycol monoalkyl ether.

溶剤がアルキレングリコールモノアルキルエーテルとジアルキレングリコールモノアルキルエーテルとの組み合わせである場合、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルの割合は、アルキレングリコールモノアルキルエーテル100質量部に対して100質量部以下であってもよく、例えば0.01~50質量部、好ましくは0.1~30質量部、さらに好ましくは0.5~20質量部、より好ましくは1~15質量部、最も好ましくは2~10質量部である。ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルの割合が多すぎると、相分離構造を促進する効果が低下する虞がある。ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルは、原料としての複合体ナノ粒子を分散させるための分散媒由来の極性溶媒であってもよい。 When the solvent is a combination of alkylene glycol monoalkyl ether and dialkylene glycol monoalkyl ether, the proportion of dialkylene glycol monoalkyl ether may be 100 parts by mass or less based on 100 parts by mass of alkylene glycol monoalkyl ether. Often, for example, 0.01 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 15 parts by weight, most preferably 2 to 10 parts by weight. be. If the proportion of dialkylene glycol monoalkyl ether is too high, the effect of promoting a phase-separated structure may be reduced. The dialkylene glycol monoalkyl ether may be a polar solvent derived from a dispersion medium for dispersing composite nanoparticles as a raw material.

溶剤の割合は、前記複合体ナノ粒子の銀含有金属100質量部に対して、例えば50~500質量部、好ましくは80~400質量部、さらに好ましくは100~300質量部、より好ましくは120~250質量部、最も好ましくは150~200質量部である。溶剤の割合が少なすぎると、相分離構造を形成するのが困難となる上に、製膜性が低下する虞があり、多すぎると、生産性や製膜性が低下する虞がある。 The proportion of the solvent is, for example, 50 to 500 parts by weight, preferably 80 to 400 parts by weight, more preferably 100 to 300 parts by weight, and more preferably 120 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silver-containing metal of the composite nanoparticles. 250 parts by weight, most preferably 150-200 parts by weight. If the proportion of the solvent is too small, it will be difficult to form a phase-separated structure and there is a risk that film-forming properties will be reduced, and if it is too large, there is a possibility that productivity and film-forming properties will be reduced.

塗布方法としては、特に制限されず、慣用のコーティング方法、例えば、フローコーティング法、ディスペンサーコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法、フォトリソグラフィ法、インクジェット法、オフセット印刷法などを利用できる。 The application method is not particularly limited and may include any conventional coating method, such as flow coating method, dispenser coating method, spin coating method, spray coating method, screen printing method, flexographic printing method, casting method, bar coating method, curtain coating method. method, roll coating method, gravure coating method, dipping method, slit method, photolithography method, inkjet method, offset printing method, etc. can be used.

塗膜の平均厚み(乾燥厚み)は、例えば0.05~100μm、好ましくは0.1~30μm、さらに好ましくは0.5~10μm、より好ましくは1~5μmである。 The average thickness (dry thickness) of the coating film is, for example, 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 30 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and even more preferably 1 to 5 μm.

なお、本発明では、下塗り層、上塗り層を形成することなく、銀光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できるが、用途に応じて、下塗り層および/または上塗り層を併用してもよい。 In addition, in the present invention, it is possible to achieve both silver luster, adhesion, and scratch resistance without forming an undercoat layer or a topcoat layer, but depending on the application, an undercoat layer and/or a topcoat layer may also be used in combination. good.

(相分離工程)
相分離工程では、塗膜を乾燥させることにより、溶剤の揮発に伴って、スピノーダル分解によって、銀含有金属を多量に含む第1相と、銀含有金属を少量含む第2相とに相分離する。
(Phase separation process)
In the phase separation step, by drying the coating film, as the solvent evaporates, spinodal decomposition causes phase separation into a first phase containing a large amount of silver-containing metal and a second phase containing a small amount of silver-containing metal. .

塗膜の乾燥方法としては、加熱して乾燥する方法が好ましく、相分離構造を形成し易い点から、予備加熱処理と本加熱処理とを組み合わせた二段階で加熱処理して乾燥する方法が好ましい。 As a method for drying the coating film, a method of heating and drying is preferable, and a method of heating and drying in two stages combining a preliminary heat treatment and a main heat treatment is preferable since it is easy to form a phase-separated structure. .

予備加熱処理において、予備加熱温度は、例えば40~80℃、好ましくは45~70℃、さらに好ましくは45~60℃、より好ましくは45~55℃である。予備加熱時間は、例えば1~100分、好ましくは3~60分、さらに好ましくは5~30分である。 In the preheating treatment, the preheating temperature is, for example, 40 to 80°C, preferably 45 to 70°C, more preferably 45 to 60°C, and more preferably 45 to 55°C. The preheating time is, for example, 1 to 100 minutes, preferably 3 to 60 minutes, and more preferably 5 to 30 minutes.

本加熱処理において、本加熱温度は、例えば60~150℃、好ましくは65~120℃、さらに好ましくは70~90℃、より好ましくは75~85℃である。本加熱時間は、例えば30~240分、好ましくは80~180分、さらに好ましくは100~150分である。 In the main heat treatment, the main heating temperature is, for example, 60 to 150°C, preferably 65 to 120°C, more preferably 70 to 90°C, and more preferably 75 to 85°C. The main heating time is, for example, 30 to 240 minutes, preferably 80 to 180 minutes, and more preferably 100 to 150 minutes.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下の例において、インク組成物の調製方法および評価試験の測定方法を以下に示す。 The present invention will be explained in more detail below based on Examples, but the present invention is not limited by these Examples. In the following examples, the preparation method of the ink composition and the measurement method of the evaluation test are shown below.

[使用した材料]
アクリル樹脂A:東亞合成(株)製「ARUFON UH2170」、スチレンアクリル系樹脂、不揮発分98%以上、水酸基価88mgKOH/g、ガラス転移温度60℃
アクリル樹脂B:DIC(株)製「WXU-880」、イソシアネート硬化型アクリル樹脂、不揮発分50%、水酸基価10mgKOH/g、ガラス転移温度90℃
アクリル樹脂C:DIC(株)製「ZU-582」、イソシアネート硬化型アクリル樹脂、不揮発分50%、水酸基価46mgKOH/g
ポリビニルブチラール樹脂:積水化学工業(株)製「エスレックKS-10」、アセタール化度70モル%以上、アセチル基3モル%以下、水酸基25モル%、10質量%溶液粘度(温度20℃、回転粘度型(BM型)、溶媒=トルエン/エタノール=50/50(質量比))10~30mPa・s、ガラス転移温度106℃、重量平均分子量17,000
シリコーン樹脂A:信越化学工業(株)製「KR211」、メチルフェニル系シリコーンレジン
シリコーン樹脂B:DOW東レ(株)製「RSN6018」、プロピルフェニル系シリコーンレジン
硬化剤:DIC(株)製「バーノックDN902S」、イソシアネート化合物。
[Materials used]
Acrylic resin A: “ARUFON UH2170” manufactured by Toagosei Co., Ltd., styrene acrylic resin, non-volatile content 98% or more, hydroxyl value 88 mgKOH/g, glass transition temperature 60°C
Acrylic resin B: “WXU-880” manufactured by DIC Corporation, isocyanate-curing acrylic resin, non-volatile content 50%, hydroxyl value 10 mgKOH/g, glass transition temperature 90°C
Acrylic resin C: “ZU-582” manufactured by DIC Corporation, isocyanate-curing acrylic resin, non-volatile content 50%, hydroxyl value 46 mgKOH/g
Polyvinyl butyral resin: "S-LEC KS-10" manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., degree of acetalization 70 mol% or more, acetyl group 3 mol% or less, hydroxyl group 25 mol%, 10% by mass Solution viscosity (temperature 20 ° C., rotational viscosity Type (BM type), solvent = toluene/ethanol = 50/50 (mass ratio)) 10 to 30 mPa・s, glass transition temperature 106°C, weight average molecular weight 17,000
Silicone resin A: "KR211" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., methylphenyl silicone resin Silicone resin B: "RSN6018" manufactured by DOW Toray Industries, Inc., propylphenyl silicone resin Curing agent: "Burnock DN902S" manufactured by DIC Corporation ”, isocyanate compounds.

[光沢度]
アピアランスアナライザー(コニカミノルタジャパン(株)製「Rhopoint IQ-S」)を用い、20°光沢度を測定し、以下の基準に従いランク付け(A、B、C)した。なお、光沢度の値が400以上であると目視で金属光沢(鏡面)を確認することができるため、ランクA、Bを合格とした。
[Glossiness]
The 20° glossiness was measured using an appearance analyzer ("Rhopoint IQ-S" manufactured by Konica Minolta Japan, Inc.) and ranked (A, B, C) according to the following criteria. Note that when the glossiness value is 400 or more, metallic luster (mirror surface) can be visually confirmed, so ranks A and B were determined to be acceptable.

ランクA:光沢度が600以上(合格)
ランクB:光沢度が400以上600未満(合格)
ランクC:光沢度が400未満(不合格)。
Rank A: Gloss level is 600 or higher (passed)
Rank B: Glossiness is 400 or more and less than 600 (pass)
Rank C: Glossiness is less than 400 (fail).

[光非透過性]
紫外可視近赤外分光光度計((株)島津製作所製「UV-3100PC」)、積分球ISR-3100を用い、380~780nmの波長域の可視光透過率を測定した。ブランク測定(大気)の積分値に対する透過率の積分値を、380~780nmの波長域における透過率を積分して求め、以下の基準に従い評価した。ブランク測定に対する透過率の積分値は、小さい方が膜の透過性が低く、優れている。
[Light opacity]
Visible light transmittance in the wavelength range of 380 to 780 nm was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer ("UV-3100PC" manufactured by Shimadzu Corporation) and an integrating sphere ISR-3100. The integral value of the transmittance with respect to the integral value of the blank measurement (atmosphere) was determined by integrating the transmittance in the wavelength range of 380 to 780 nm, and evaluated according to the following criteria. The smaller the integral value of the transmittance for the blank measurement, the lower the permeability of the membrane, which is better.

○:透過率の積分値が1.0%以下(合格)
△:透過率の積分値が1.0%より大きく5.0%以下(合格)
×:透過率の積分値が5.0%より大きい(不合格)。
○: Integral value of transmittance is 1.0% or less (pass)
△: Integral value of transmittance is greater than 1.0% and less than 5.0% (pass)
x: The integral value of transmittance is larger than 5.0% (fail).

[密着性]
硬化膜に対し、セロテープ(登録商標)を貼り、勢いよく剥離し、以下の基準で評価した。
[Adhesion]
Cellotape (registered trademark) was applied to the cured film, peeled off vigorously, and evaluated based on the following criteria.

○:膜に剥離がない(合格)
×:膜に剥離がある(不合格)。
○: No peeling in the film (passed)
×: There is peeling in the film (fail).

[耐擦過性]
硬化膜に対し、摩擦摩耗試験機を用い、乾いた木綿で、荷重500gおよび10往復する摩擦試験を行った。摩擦試験後の硬化膜の20°光沢度を測定し、摩擦試験前後での光沢度の低下率を求め、以下の基準に従い耐擦過性を評価した。
[Abrasion resistance]
The cured film was subjected to a friction test using a friction and abrasion tester with dry cotton under a load of 500 g and 10 reciprocations. The 20° glossiness of the cured film after the friction test was measured, the rate of decrease in glossiness before and after the friction test was determined, and the scratch resistance was evaluated according to the following criteria.

〇:光沢度の低下率が20%未満(合格)
△:光沢度の低下率が20%以上50%未満(合格)
×:光沢度の低下率が50%以上(不合格)。
〇: Decrease rate of glossiness is less than 20% (pass)
△: Decrease rate of glossiness is 20% or more and less than 50% (pass)
×: Decrease rate of glossiness is 50% or more (fail).

[総合判定]
光沢度、光非透過性、密着性、耐擦過性の結果から、優劣判定を行い、A、B判定を合格とした。
[Comprehensive judgment]
Judgments were made based on the results of glossiness, light opacity, adhesion, and abrasion resistance, and grades A and B were considered acceptable.

A判定:光沢度がランクA、光非透過性、密着性、耐擦過性が合格
B判定:光沢度がランクB、光非透過性、密着性、耐擦過性が合格
C判定:光沢度がランクC、または光非透過性、密着性、耐擦過性のいずれかが不合格。
A rating: Glossiness is rank A, light opacity, adhesion, and scratch resistance pass B rating: Glossiness is rank B, light opacity, adhesion, and scratch resistance pass C rating: Glossiness is rank B Rank C, or failure in any one of light opacity, adhesion, and scratch resistance.

[膜の断面観察]
得られた銀光沢膜から試料を切り出し、汎用の包埋樹脂であるエポキシ樹脂で試料を包埋し、ミクロトームにて切削断面を露出させてSEM観察を行った。さらに、微細な構造観察を行うため、ミクロトームにて切削断面を露出した後、100nm以下程度の厚みで超薄切片を作製し、TEM観察を行なって、以下の方法により、分散相のサイズ(平均径および平均ピッチ)を測定した。
[Cross-sectional observation of membrane]
A sample was cut out from the obtained shiny silver film, embedded in an epoxy resin which is a general-purpose embedding resin, and the cut cross section was exposed using a microtome and subjected to SEM observation. Furthermore, in order to observe the fine structure, after exposing the cut cross section with a microtome, we prepared ultrathin sections with a thickness of about 100 nm or less, performed TEM observation, and determined the size of the dispersed phase (average diameter and average pitch).

(表面層および界面層の平均厚み)
表面付近、界面付近のTEM拡大像において、銀ナノ粒子が配列している層の厚みを測定した。任意の3カ所について測定した層の厚みの平均値を平均厚みとした。
(Average thickness of surface layer and interface layer)
The thickness of the layer in which the silver nanoparticles were arranged was measured in the TEM enlarged image near the surface and near the interface. The average value of the layer thicknesses measured at three arbitrary locations was defined as the average thickness.

(分散相の平均径)
銀ナノ粒子が凝集している分散相(島)について長径と短径を測定し、その平均値を分散相(島)の径とした。そして、任意の10個の分散相(島)について算出した径の平均値を分散相の平均径とした。
(Average diameter of dispersed phase)
The long axis and short axis of the dispersed phase (island) in which silver nanoparticles were aggregated were measured, and the average value was taken as the diameter of the dispersed phase (island). Then, the average value of the diameters calculated for ten arbitrary dispersed phases (islands) was taken as the average diameter of the dispersed phase.

(分散相の平均ピッチ)
分散相の長径と短径との交点を分散相の中心とし、隣接する分散相の中心間の距離を測定した。任意の10カ所について測定した中心間の距離の平均値を、分散相の平均ピッチとした。
(Average pitch of dispersed phase)
The intersection between the long axis and the short axis of the dispersed phase was set as the center of the dispersed phase, and the distance between the centers of adjacent dispersed phases was measured. The average value of the distances between the centers measured at arbitrary 10 locations was defined as the average pitch of the dispersed phase.

(第1相と第2相との比率)
断面のTEM像に対し、画像処理ソフト「ImageJ」(https://imagej.Nih.gov/ij/より入手可能)を用いて、第1相と第2相とを2値化した。2値化した前記画像処理像により、第1相および第2相の面積をそれぞれ求め、第1相と第2相との比率を算出した。なお、本実施例では、前記比率を算出するに当たり、表面層および界面層を除外せずに算出したため、第1相の比率には表面層および界面層の面積も含まれている。
(Ratio of 1st phase and 2nd phase)
The first phase and second phase of the cross-sectional TEM image were binarized using image processing software "ImageJ" (available from https://imagej.Nih.gov/ij/). The areas of the first phase and the second phase were determined from the binarized image processed image, and the ratio between the first phase and the second phase was calculated. In this example, the ratio was calculated without excluding the surface layer and the interface layer, so the ratio of the first phase also includes the areas of the surface layer and the interface layer.

実施例1~8および比較例1~2
(銀ナノ粒子分散液の調製方法)
硝酸銀66.8g、カルボキシル基を有する高分子分散剤(ビックケミー社製「ディスパービック190」、顔料親和性基を有する高分子量ブロック共重合物の溶液、溶媒:水、不揮発成分40%、酸価10mgKOH/g、アミン価0)7.2gを、イオン交換水100gに投入し、激しく攪拌し、懸濁液を得た。この懸濁液に対して、ジメチルアミノエタノール(富士フイルム和光純薬工業(株)製)100gを水温が50℃を超えないように徐々に加えた後、水温50℃のウォーターバス中で4時間加熱攪拌した。
Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 2
(Method for preparing silver nanoparticle dispersion)
66.8 g of silver nitrate, a polymer dispersant having a carboxyl group ("Disperbic 190" manufactured by BIC Chemie), a solution of a high molecular weight block copolymer having a pigment affinity group, solvent: water, non-volatile components 40%, acid value 10 mg KOH /g, amine value 0) was added to 100 g of ion-exchanged water and vigorously stirred to obtain a suspension. To this suspension, 100 g of dimethylaminoethanol (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was gradually added so that the water temperature did not exceed 50°C, and then placed in a water bath at a water temperature of 50°C for 4 hours. The mixture was heated and stirred.

銀ナノ粒子分散液に過剰量のメタノールを入れて攪拌し、その後、遠心分離により銀ナノ粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。再度、メタノールを加えて攪拌し、その後、遠心分離により銀ナノ粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。得られた沈殿を含んだメタノール液にジエチレングリコールモノブチルエーテルを加え、エバポレータで混入したメタノールを除去することで銀含有量が70質量%の銀ナノ粒子分散液を得た。この分散液について、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製)で銀ナノ粒子の粒径を確認したところ、一次粒子の個数平均粒子径は約20nmであった。 An excess amount of methanol was added to the silver nanoparticle dispersion and stirred, and then the silver nanoparticles were precipitated by centrifugation, and the supernatant liquid was removed. Methanol was added and stirred again, and then the silver nanoparticles were precipitated by centrifugation, and the supernatant liquid was removed. Diethylene glycol monobutyl ether was added to the methanol solution containing the obtained precipitate, and the mixed methanol was removed using an evaporator to obtain a silver nanoparticle dispersion having a silver content of 70% by mass. Regarding this dispersion, when the particle size of the silver nanoparticles was confirmed using a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd.), the number average particle size of the primary particles was about 20 nm.

(メタリックインク組成物の調製方法)
表1に示す割合で、得られた銀ナノ粒子分散液、樹脂、溶剤を、攪拌脱泡装置(クラボウ(株)製「マゼルスター」)を用いて攪拌混合し、メタリックインク組成物を調製した。なお、表のアクリル樹脂の量は、固形分換算の含有量である。メタリックインク組成物をガラス基板に20μmのアプリケーターで塗布した。その後、50℃のホットプレートで10分間加熱後、80℃のホットプレートで120分間加熱した。
(Method for preparing metallic ink composition)
The obtained silver nanoparticle dispersion, resin, and solvent were stirred and mixed in the proportions shown in Table 1 using a stirring defoaming device ("Mazel Star" manufactured by Kurabo Industries, Ltd.) to prepare a metallic ink composition. Note that the amount of acrylic resin in the table is the content in terms of solid content. The metallic ink composition was applied to a glass substrate using a 20 μm applicator. Thereafter, it was heated on a 50°C hot plate for 10 minutes, and then heated on an 80°C hot plate for 120 minutes.

得られた銀光沢膜の評価結果を表1に示す。 Table 1 shows the evaluation results of the obtained silver gloss film.

Figure 0007413314000002
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表1の結果から明らかなように、実施例の銀光沢膜では、銀光沢性および光非透過性と密着性および耐擦過性とを両立できたのに対して、比較例の銀光沢膜では、銀光沢性および光透過性が低かった。 As is clear from the results in Table 1, the silver luster film of the example was able to achieve both silver luster and light non-transparency, as well as adhesion and scratch resistance, whereas the silver luster film of the comparative example , silver luster and light transmittance were low.

詳しくは、実施例1~5、8の銀光沢膜では、銀光沢性および光非透過性と密着性および耐擦過性とを両立できた。また、実施例6、7の銀光沢膜では、銀光沢性および光非透過性と密着性および耐擦過性とを実用レベルで両立できた。 Specifically, the silver luster films of Examples 1 to 5 and 8 were able to achieve both silver luster and light non-transmission, as well as adhesion and scratch resistance. In addition, the silver gloss films of Examples 6 and 7 were able to achieve both silver gloss and light non-transmittance, as well as adhesion and scratch resistance at a practical level.

実施例1~4で得られた銀光沢膜の断面写真を図1~16に示す。実施例1~4の銀光沢膜では、全体像を示す図1、5、9および13ならびに膜内部の拡大像である図4、8、12および16から明らかなように、膜内部では、銀ナノ粒子(写真中の濃色粒子)が凝集した領域(分散相)と、銀ナノ粒子の凝集が少ない領域(連続相)とに相分離していた。すなわち、全体像および膜内部の拡大像から明らかなように、膜内部では銀ナノ粒子が凝集した領域(第1相)と銀ナノ粒子の凝集が少ない領域(第2相)とに相分離した相分離構造を有していた(銀ナノ粒子は分散相に偏在した構造を有していた)。相分離構造は、海島構造であり、銀ナノ粒子が凝集した第1相が分散相を形成し、銀ナノ粒子の凝集が少ない第2相が連続相を形成していた。さらに、表面付近の拡大像である図2、6、10および14ならびに基材との界面付近の拡大像である図3、7、11および15から明らかなように、表面および基材との界面では、銀ナノ粒子が整列して薄肉の連続層(薄肉層)を形成していた。連続層の平均厚みは、19~171nmの範囲であった。表面層に対する中間層の平均厚みの最小値は、27倍であった。 Cross-sectional photographs of the silver luster films obtained in Examples 1 to 4 are shown in FIGS. 1 to 16. In the silver glossy films of Examples 1 to 4, as is clear from FIGS. 1, 5, 9, and 13 showing the overall image and FIGS. 4, 8, 12, and 16 showing enlarged images of the inside of the film, there was no silver There was phase separation into a region where nanoparticles (dark colored particles in the photo) aggregated (dispersed phase) and a region where silver nanoparticles were less aggregated (continuous phase). That is, as is clear from the overall image and the enlarged image of the inside of the membrane, there is phase separation inside the membrane into a region where silver nanoparticles aggregate (first phase) and a region where silver nanoparticles are less agglomerated (second phase). It had a phase-separated structure (silver nanoparticles had a structure in which they were unevenly distributed in the dispersed phase). The phase separation structure was a sea-island structure, in which the first phase in which silver nanoparticles aggregated formed a dispersed phase, and the second phase in which silver nanoparticles aggregated less formed a continuous phase. Furthermore, as is clear from FIGS. 2, 6, 10, and 14, which are enlarged images of the vicinity of the surface, and FIGS. 3, 7, 11, and 15, which are enlarged images of the vicinity of the interface with the base material, the surface and the interface with the base material In this case, silver nanoparticles were aligned to form a thin continuous layer (thin layer). The average thickness of the continuous layer ranged from 19 to 171 nm. The minimum average thickness of the intermediate layer was 27 times that of the surface layer.

実施例5~8で得られた銀光沢膜の断面写真を図17~32に示す。実施例5~8の銀光沢膜では、全体像を示す図17、21、25および29ならびに膜内部の拡大像である図20、24、28および32から明らかなように、膜内部では、銀ナノ粒子(写真中の濃色粒子)が凝集した領域(連続相)と、銀ナノ粒子の凝集が少ない領域(分散相)とに相分離していた。さらに、表面付近の拡大像である図18、22、26および30ならびに基材との界面付近の拡大像である図19、23、27および31から明らかなように、表面および基材との界面では、銀ナノ粒子が整列して薄肉の連続層(薄肉層)を形成していた。すなわち、膜内部は、海島構造の相分離構造を有しており、銀ナノ粒子が凝集した第1相が連続相を形成し、銀ナノ粒子の凝集が少ない第2相が分散相を形成していた。表面層に対する中間層の平均厚みの最大値は、200倍であった。 Cross-sectional photographs of the silver luster films obtained in Examples 5 to 8 are shown in FIGS. 17 to 32. In the silver glossy films of Examples 5 to 8, as is clear from FIGS. 17, 21, 25 and 29 showing the overall image and FIGS. 20, 24, 28 and 32 showing enlarged images of the inside of the film, there was no silver There was phase separation into a region where nanoparticles (dark particles in the photo) aggregated (continuous phase) and a region where silver nanoparticles were less aggregated (dispersed phase). Furthermore, as is clear from FIGS. 18, 22, 26, and 30, which are enlarged images of the vicinity of the surface, and FIGS. 19, 23, 27, and 31, which are enlarged images of the vicinity of the interface with the base material, the surface and the interface with the base material In this case, silver nanoparticles were aligned to form a thin continuous layer (thin layer). In other words, the inside of the membrane has a phase separation structure with a sea-island structure, in which the first phase in which silver nanoparticles aggregate forms a continuous phase, and the second phase in which silver nanoparticles aggregate less forms a dispersed phase. was. The maximum average thickness of the intermediate layer was 200 times that of the surface layer.

比較例1~2の銀光沢膜では、実施例の銀光沢膜に対して銀光沢性および光非透過性が低かった。 The silver luster films of Comparative Examples 1 and 2 had lower silver luster and light opacity than the silver luster films of Examples.

比較例1~2で得られた銀光沢膜の断面写真を図33~40に示す。図33~40から明らかなように、比較例1~2では、膜全体において、銀ナノ粒子が均一に分散しており、表面および基材との界面に、膜内部と異なる銀ナノ粒子の配列は見られなかった。 Cross-sectional photographs of the silver luster films obtained in Comparative Examples 1 and 2 are shown in FIGS. 33 to 40. As is clear from FIGS. 33 to 40, in Comparative Examples 1 and 2, the silver nanoparticles were uniformly dispersed throughout the film, and the arrangement of silver nanoparticles on the surface and the interface with the base material was different from that inside the film. was not seen.

本発明の銀光沢膜は、各種の被加飾体(成形体)の装飾性を向上させるために利用でき、例えば、自動車の内装や外装部品、エンブレム、携帯電話、ノートパソコン、ゴルフクラブのシャフト、化粧品の容器などの加飾、塗装用途などに利用できる。 The silver luster film of the present invention can be used to improve the decorativeness of various objects to be decorated (molded objects), such as interior and exterior parts of automobiles, emblems, mobile phones, notebook computers, and shafts of golf clubs. It can be used to decorate cosmetic containers, etc., and for painting purposes.

Claims (6)

基材の上に積層された銀光沢膜であって、
前記基材の上に積層され、かつ銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(a)で形成された界面層(A)と、
この界面層(A)の上に積層され、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b1)および第1樹脂(b2)を含む第1相と、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(b3)および第2樹脂(b4)を含み、銀を含む金属の含有割合が前記第1相よりも少ない第2相とに相分離した相分離構造を有する中間層(B)と、
この中間層(B)の上に積層され、かつ銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(c)で形成された表面層(C)とで形成された銀光沢膜。
A silver glossy film laminated on a base material,
an interface layer (A) laminated on the base material and formed of composite nanoparticles (a) of a metal containing silver and a protective colloid;
A first phase that is laminated on this interface layer (A) and includes composite nanoparticles (b1) of a metal containing silver and a protective colloid and a first resin (b2), and a metal containing silver and a protective colloid. An intermediate layer (B) having a phase-separated structure comprising composite nanoparticles (b3) of )and,
A silver glossy film laminated on the intermediate layer (B) and a surface layer (C) formed of composite nanoparticles (c) of a metal containing silver and a protective colloid.
前記中間層(B)の相分離構造が海島構造である請求項1記載の銀光沢膜。 The silver luster film according to claim 1, wherein the phase separation structure of the intermediate layer (B) is a sea-island structure. 前記第1相または前記第2相が分散相であり、かつ前記分散相の平均径が30~500nmである請求項2記載の銀光沢膜。 The silver luster film according to claim 2, wherein the first phase or the second phase is a dispersed phase, and the average diameter of the dispersed phase is 30 to 500 nm. 前記表面層(C)および前記界面層(A)の平均厚みが、それぞれ10~200nmであり、かつ前記中間層(B)の平均厚みが、前記表面層(C)の平均厚みに対して25~250倍である請求項1~3のいずれか一項に記載の銀光沢膜。 The average thickness of the surface layer (C) and the interface layer (A) is 10 to 200 nm, respectively, and the average thickness of the intermediate layer (B) is 25 nm with respect to the average thickness of the surface layer (C). The silver luster film according to any one of claims 1 to 3, which is 250 times larger. 銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子、第1樹脂、第2樹脂および溶剤を含む液状組成物を基材の上に塗布する塗布工程と、前記液状組成物で形成された塗膜を乾燥させ、スピノーダル分解により相分離させて銀光沢膜を得る相分離工程とを含む請求項1~4のいずれか一項に記載の銀光沢膜の製造方法。 A coating step of applying a liquid composition containing composite nanoparticles of a metal containing silver and a protective colloid, a first resin, a second resin, and a solvent onto a substrate, and a coating film formed with the liquid composition. The method for producing a silver luster film according to any one of claims 1 to 4, comprising a phase separation step of drying and phase separation by spinodal decomposition to obtain a silver luster film. 基材の上に、請求項1~4のいずれか一項に記載の銀光沢膜が積層された装飾体。 A decorative body in which the silver luster film according to any one of claims 1 to 4 is laminated on a base material.
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