JP7406977B2 - Method for manufacturing optical laminates - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体の製造方法に関し、光学積層体にも関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an optical laminate, and also relates to an optical laminate.

有機EL表示装置等の画像表示装置では、金属電極による外光反射の防止等を目的として、偏光子(直線偏光子)と位相差層とを組み合わせた光学積層体(楕円偏光板)が用いられることがある。例えば特開2018-017996号公報(特許文献1)には、紫外線硬化性接着剤層を介して偏光子と重合性液晶化合物から形成される位相差層とを積層し、紫外線照射によって該接着剤層を硬化させて、楕円偏光板を製造することが記載されている。 In image display devices such as organic EL display devices, an optical laminate (elliptically polarizing plate) that combines a polarizer (linear polarizer) and a retardation layer is used for the purpose of preventing reflection of external light by metal electrodes. Sometimes. For example, in JP-A No. 2018-017996 (Patent Document 1), a polarizer and a retardation layer formed from a polymerizable liquid crystal compound are laminated via an ultraviolet curable adhesive layer, and the adhesive is cured by ultraviolet irradiation. It is described that the layers are cured to produce an elliptically polarizing plate.

特開2018-017996号公報JP2018-017996A

偏光子を含む光学フィルム等と重合性液晶化合物から形成される位相差層とを活性エネルギー線硬化性接着剤又は粘着剤を用いて接着することにより作製した従来の光学積層体は、曲率半径が徐々に小さくなるように湾曲させていくと、比較的大きな曲率半径の段階であっても、上記位相差層に微細な皺(以下、「皺欠陥」ともいう。)を生じやすい傾向にあった。湾曲可能、さらには折り曲げ可能な画像表示装置などへの適用を考慮した場合、上記光学積層体には、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくいことが求められる。 Conventional optical laminates produced by bonding optical films containing polarizers and retardation layers formed from polymerizable liquid crystal compounds using active energy ray-curable adhesives or pressure-sensitive adhesives have a radius of curvature. When the retardation layer is gradually curved to become smaller, fine wrinkles (hereinafter also referred to as "wrinkle defects") tend to occur in the retardation layer even at a relatively large radius of curvature. . When considering application to a bendable or even foldable image display device, the optical laminate is required to be resistant to wrinkle defects even when curved with a small radius of curvature.

本発明は、光学フィルムと重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを備える光学積層体であって、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体及びその製造方法を提供することにある。 The present invention relates to an optical laminate comprising an optical film and a retardation layer including a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, the optical laminate being less likely to cause wrinkle defects even when curved with a small radius of curvature, and a method for producing the same. Our goal is to provide the following.

本発明は、以下に示す光学積層体の製造方法及び光学積層体を提供する。
〔1〕 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記活性エネルギー線硬化性接着剤層と前記位相差層とが接するように積層する工程と、
下記(1)~(3):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動条件下で2時間以上保持する、
(3)48時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下で保持する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
〔2〕 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
基材フィルムと、これに接して積層される前記位相差層とを含む積層体を用意する工程と、
50m/分以上の剥離速度で前記位相差層から前記基材フィルムを剥離する工程と、
前記基材フィルムを剥離した後の前記位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
〔3〕 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、〔1〕又は〔2〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔4〕 前記積層工程において、前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記直線偏光子と前記活性エネルギー線硬化性接着剤層とが接するように積層する、〔3〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔5〕 光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記硬化接着剤層と前記位相差層とは接しており、
前記位相差層における前記硬化接着剤層側の表面は、下記(a)~(d):
(a)算術平均粗さSaが0.065μm以上である、
(b)二乗平均平方根高さSqが0.085μm以上である、
(c)界面の展開面積比Sdrが0.2%以上である、
(d)二法平均平方根傾斜Sdqが0.065以上である
のいずれか1以上を満たす、光学積層体。
〔6〕 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、〔5〕に記載の光学積層体。
〔7〕 前記直線偏光子と前記硬化接着剤層とが接している、〔6〕に記載の光学積層体。
The present invention provides a method for manufacturing an optical laminate and an optical laminate as shown below.
[1] A method for manufacturing an optical laminate, comprising:
The optical laminate includes, in this order, an optical film, a cured adhesive layer that is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive, and a retardation layer that includes a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The manufacturing method includes:
Laminating the optical film, the active energy ray curable adhesive layer, and the retardation layer so that the active energy ray curable adhesive layer and the retardation layer are in contact with each other;
Below (1) to (3):
(1) Hold at a temperature of 30°C or higher for 2 hours or more,
(2) Holding under vibration conditions for more than 2 hours,
(3) holding under conditions that satisfy at least one of the following: holding for 48 hours or more;
curing the active energy ray-curable adhesive layer to form the cured adhesive layer;
A method for producing an optical laminate, comprising: in this order.
[2] A method for manufacturing an optical laminate, comprising:
The optical laminate includes, in this order, an optical film, a cured adhesive layer that is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive, and a retardation layer that includes a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The manufacturing method includes:
preparing a laminate including a base film and the retardation layer laminated in contact with the base film;
Peeling the base film from the retardation layer at a peeling speed of 50 m/min or more;
Laminating an optical film on the peeled surface of the retardation layer after peeling off the base film via an active energy ray-curable adhesive layer;
curing the active energy ray-curable adhesive layer to form the cured adhesive layer;
A method for producing an optical laminate, comprising: in this order.
[3] The method for producing an optical laminate according to [1] or [2], wherein the optical film includes a linear polarizer.
[4] In the lamination step, the optical film, the active energy ray-curable adhesive layer, and the retardation layer are laminated such that the linear polarizer and the active energy ray-curable adhesive layer are in contact with each other. The method for producing an optical laminate according to [3].
[5] An optical film, a cured adhesive layer which is a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive, and a retardation layer including a cured product layer of a polymerizable liquid crystal compound, in this order,
The cured adhesive layer and the retardation layer are in contact with each other,
The surface of the retardation layer on the cured adhesive layer side has the following (a) to (d):
(a) the arithmetic mean roughness Sa is 0.065 μm or more;
(b) the root mean square height Sq is 0.085 μm or more;
(c) the developed area ratio Sdr of the interface is 0.2% or more;
(d) An optical laminate that satisfies one or more of the following: the bimodal root mean square slope Sdq is 0.065 or more.
[6] The optical laminate according to [5], wherein the optical film includes a linear polarizer.
[7] The optical laminate according to [6], wherein the linear polarizer and the cured adhesive layer are in contact with each other.

光学フィルムと重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを備える光学積層体であって、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体及びその製造方法を提供することができる。 To provide an optical laminate comprising an optical film and a retardation layer including a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, which hardly causes wrinkle defects even when curved with a small radius of curvature, and to provide a method for producing the same. Can be done.

実施形態1における積層工程によって得られる積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a laminate obtained by a lamination process in Embodiment 1. FIG. 光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing an example of the layer composition of an optical layered product. 実施形態2における準備工程で用意される積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a laminate prepared in a preparation step in Embodiment 2. FIG. 直線偏光板の層構成の一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a layer structure of a linearly polarizing plate. 位相差積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing an example of the layer composition of a retardation layered product. 光学積層体の層構成の他の例を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another example of the layer structure of the optical laminate. 光学積層体の層構成のさらに他の例を示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing still another example of the layer structure of the optical laminate. 皺欠陥の評価方法を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the evaluation method of a wrinkle defect. 光学積層体における吸収軸及び遅相軸の方向を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the direction of an absorption axis and a slow axis in an optical laminate.

<光学積層体の製造方法>
本発明に係る製造方法によって製造される光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層(以下、単に「硬化接着剤層」ともいう。)と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層(以下、単に「位相差層」ともいう。)とをこの順に備えるものである。
本発明に係る製造方法によって製造される光学積層体は、有機EL表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。
<Method for manufacturing optical laminate>
The optical laminate produced by the production method according to the present invention includes an optical film and a cured adhesive layer (hereinafter also simply referred to as "cured adhesive layer") which is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive. and a retardation layer (hereinafter also simply referred to as "retardation layer") including a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, in this order.
The optical laminate manufactured by the manufacturing method according to the present invention can be suitably applied to image display devices such as organic EL display devices.

以下、図面を参照して本発明に係る光学積層体の製造方法の実施形態について説明する。以下に示す各実施形態は任意に組み合わされてもよい。図面はいずれも概略図であり、実際の寸法を表していないことがある。
以下に示す各実施形態において、各工程に用いるフィルム又は層として長尺物を用い、各工程を連続的に行ってもよいし、各工程に用いるフィルム又は層として枚葉物を用い、各工程を非連続的に行ってもよい。枚葉物は、長尺物から裁断したものであってよい。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a method for manufacturing an optical laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings. Each embodiment shown below may be combined arbitrarily. All drawings are schematic illustrations and may not represent actual dimensions.
In each of the embodiments shown below, a long film or layer may be used in each step, and each step may be performed continuously, or a sheet film or layer may be used in each step, and each step may be performed continuously. may be performed discontinuously. The sheet material may be cut from a long material.

[実施形態1]
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、下記の工程を記載順に含む。
光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層と位相差層とが接するように積層する工程〔積層工程〕、
下記(1)~(3):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動条件下で2時間以上保持する、
(3)48時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下で保持する工程〔保持工程〕、及び
活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程〔硬化工程〕。
[Embodiment 1]
The method for manufacturing an optical laminate according to this embodiment includes the following steps in the order described.
A step of laminating an optical film, an active energy ray-curable adhesive layer, and a retardation layer containing a cured product layer of a polymerizable liquid crystal compound such that the active energy ray-curable adhesive layer and the retardation layer are in contact with each other. [Lamination process]
Below (1) to (3):
(1) Hold at a temperature of 30°C or higher for 2 hours or more,
(2) Holding under vibration conditions for more than 2 hours,
(3) A step of holding under conditions that satisfy at least one of the following: holding for 48 hours or more [holding step], and a step of curing the active energy ray-curable adhesive layer to form a cured adhesive layer [curing step] ].

〔1〕積層工程
図1は、本実施形態における積層工程によって得られる積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。積層工程は、光学フィルム10と位相差層30とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層20(以下、単に「接着剤層」ともいう。)を介して積層する工程である。本明細書において活性エネルギー線硬化性接着剤層とは、活性エネルギー線硬化性接着剤で構成される層をいう。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、位相差層30及び光学フィルム10を接着する能力を有するものが用いられる。
[1] Lamination process FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a laminate obtained by the lamination process in this embodiment. The lamination process is a process of laminating the optical film 10 and the retardation layer 30 via the active energy ray-curable adhesive layer 20 (hereinafter also simply referred to as "adhesive layer"). In this specification, the active energy ray curable adhesive layer refers to a layer composed of an active energy ray curable adhesive. As the active energy ray-curable adhesive, one having the ability to bond the retardation layer 30 and the optical film 10 is used.

積層工程において、光学フィルム10と接着剤層20と位相差層30とは、接着剤層20と位相差層30とが接するように積層される。また、光学フィルム10と接着剤層20と位相差層30とは、好ましくは、光学フィルム10と接着剤層20とが接するように積層される。 In the lamination process, the optical film 10, the adhesive layer 20, and the retardation layer 30 are laminated so that the adhesive layer 20 and the retardation layer 30 are in contact with each other. Moreover, the optical film 10, the adhesive layer 20, and the retardation layer 30 are preferably laminated so that the optical film 10 and the adhesive layer 20 are in contact with each other.

積層工程は、光学フィルム10の接着面及び位相差層30の接着面から選択される1以上の面に接着剤層20を形成し、接着剤層20を介して光学フィルム10と位相差層30とを積層することによって実施することができる。接着剤層20は、公知の塗工方法によって接着面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗工することによって形成できる。
積層工程によって得られる積層体において、接着剤層20の厚みは、通常0.5μm以上50μm以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム10と位相差層30との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは2μm以上20μm以下である。
In the lamination step, an adhesive layer 20 is formed on one or more surfaces selected from the adhesive surface of the optical film 10 and the adhesive surface of the retardation layer 30, and the optical film 10 and the retardation layer 30 are bonded via the adhesive layer 20. This can be carried out by laminating them. The adhesive layer 20 can be formed by applying an active energy ray-curable adhesive to the adhesive surface using a known coating method.
In the laminate obtained by the lamination process, the thickness of the adhesive layer 20 is usually 0.5 μm or more and 50 μm or less, from the viewpoint of suppressing wrinkle defects and from the viewpoint of adhesiveness between the optical film 10 and the retardation layer 30. From the viewpoint of reducing the thickness of the resulting optical laminate, the thickness is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, more preferably 2 μm or more and 20 μm or less.

光学フィルム10の接着面及び位相差層30の接着面から選択される1以上の面には、接着剤層20を形成する前に、あらかじめプラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレーム(火炎)処理、ケン化処理のような表面活性化処理を行ってもよい。この表面活性化処理により、光学フィルム10と位相差層30との接着性を高め得る。 One or more surfaces selected from the adhesive surface of the optical film 10 and the adhesive surface of the retardation layer 30 are subjected to plasma treatment, corona treatment, ultraviolet irradiation treatment, and flame (flame) treatment in advance before forming the adhesive layer 20. A surface activation treatment such as a saponification treatment or a saponification treatment may be performed. This surface activation treatment can improve the adhesiveness between the optical film 10 and the retardation layer 30.

光学フィルム10は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。光学フィルム10としては、例えば、直線偏光板等を挙げることができる。本明細書において直線偏光板とは、少なくとも直線偏光子を含む光学素子であり、直線偏光子とその少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルム等とを含んでいてもよい。
光学フィルム10が直線偏光板である場合、積層工程によって得られる積層体において、好ましくは、直線偏光板に含まれる直線偏光子と接着剤層20とが接している。
光学フィルム10及び活性エネルギー線硬化性接着剤については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
The optical film 10 may be a film with a single layer structure or a film with a multilayer structure. Examples of the optical film 10 include a linear polarizing plate. In this specification, a linear polarizing plate is an optical element that includes at least a linear polarizer, and may include a linear polarizer and a thermoplastic resin film bonded to at least one surface of the linear polarizer.
When the optical film 10 is a linearly polarizing plate, preferably the linear polarizer included in the linearly polarizing plate and the adhesive layer 20 are in contact with each other in the laminate obtained by the lamination process.
The optical film 10 and the active energy ray-curable adhesive will be described in more detail in the <Optical laminate> section below.

位相差層30は、重合性液晶化合物の硬化物層を含み、該層の形成に用いる液晶化合物の種類に応じた光学異方性を示す。以下、この重合性液晶化合物の硬化物層を「位相差発現層」ともいう。
本明細書において位相差層30は、位相差発現層からなっていてもよいし、位相差発現層と配向層とを含んでいてもよい。
The retardation layer 30 includes a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, and exhibits optical anisotropy depending on the type of liquid crystal compound used to form the layer. Hereinafter, this cured layer of the polymerizable liquid crystal compound will also be referred to as a "retardation layer".
In this specification, the retardation layer 30 may be made of a retardation layer, or may include a retardation layer and an alignment layer.

積層工程において、接着剤層20を介して光学フィルム10と貼合される位相差層30には、積層工程の前にあらかじめ他の1又は2以上の層が積層されていてもよい。例えば、位相差層30と他の位相差層とを含む位相差層積層体をあらかじめ作製しておき、この位相差層積層体を接着剤層20を介して光学フィルム10に貼合してもよい。
位相差層、位相差発現層、配向層及び位相差層積層体等については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
In the lamination process, the retardation layer 30 that is bonded to the optical film 10 via the adhesive layer 20 may have one or more other layers laminated in advance before the lamination process. For example, a retardation layer laminate including the retardation layer 30 and other retardation layers may be prepared in advance, and this retardation layer laminate may be bonded to the optical film 10 via the adhesive layer 20. good.
The retardation layer, retardation expression layer, alignment layer, retardation layer laminate, etc. will be described in more detail in the section <Optical laminate> below.

〔2〕保持工程
保持工程は、積層工程によって得られた積層体を特定の条件下に保持する工程である。保持する際の具体的態様は特に制限されないが、上記特定の条件下に上記積層体を静置することが挙げられる。
[2] Holding process The holding process is a process of holding the laminate obtained by the laminating process under specific conditions. Although the specific mode of holding is not particularly limited, an example of this is to leave the laminate still under the specific conditions described above.

上記特定の条件下とは、下記(1)~(3):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動条件下で2時間以上保持する、
(3)48時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下である。
The above specific conditions are as follows (1) to (3):
(1) Hold at a temperature of 30°C or higher for 2 hours or more,
(2) Holding under vibration conditions for more than 2 hours,
(3) Conditions that satisfy at least one of the following: 48 hours or more.

上記積層工程及び保持工程を含む本実施形態に係る製造方法によれば、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体を製造することが可能となる。これは、次の理由によるものと推定される。
積層工程によって硬化前の接着剤層20に位相差層30が接触した状態となり、続く保持工程において上記特定の条件下でこの状態が保持される。硬化前の活性エネルギー線硬化性接着剤は、硬化後は位相差層30に対して接着力を発揮することから、位相差層30との間に相互作用が働くと認められる。位相差層30との間に相互作用が働く活性エネルギー線硬化性接着剤が上記特定の条件下で位相差層30に接触する状態が続くと、位相差層30の該接着剤との接触面(図1に示される表面X)が荒れると考えられる。このような位相差層30の表面の荒れは、接着剤層20との密着力を向上させる。
上記密着力が向上すると、硬化接着剤層(硬化後の接着剤層)と位相差層30とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するため、皺欠陥の発生が抑制されやすくなるものと考えられる。
本実施形態に係る製造方法は、得られる光学積層体において、後述する虹ムラを抑制するうえでも有利である。
According to the manufacturing method according to this embodiment, which includes the above-described laminating step and holding step, it is possible to manufacture an optical laminate that is less likely to cause wrinkle defects even when curved with a small radius of curvature. This is presumed to be due to the following reasons.
In the lamination process, the retardation layer 30 comes into contact with the adhesive layer 20 before curing, and this state is maintained under the above-mentioned specific conditions in the subsequent holding process. Since the active energy ray-curable adhesive before curing exhibits adhesive force to the retardation layer 30 after curing, it is recognized that an interaction occurs between the active energy ray curable adhesive and the retardation layer 30 . When the active energy ray-curable adhesive that interacts with the retardation layer 30 continues to be in contact with the retardation layer 30 under the above specific conditions, the contact surface of the retardation layer 30 with the adhesive (Surface X shown in FIG. 1) is considered to be roughened. Such roughness on the surface of the retardation layer 30 improves its adhesion to the adhesive layer 20.
When the adhesion is improved, the cured adhesive layer (adhesive layer after curing) and the retardation layer 30 deform as one when the optical laminate is curved, thereby suppressing the occurrence of wrinkle defects. It is thought that this will make it easier to do so.
The manufacturing method according to the present embodiment is also advantageous in suppressing rainbow unevenness, which will be described later, in the resulting optical laminate.

上記条件(1)における保持温度は30℃以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは35℃以上であり、より好ましくは38℃以上であり、さらに好ましくは40℃以上である。該保持温度は、通常55℃以下であり、保持工程を終了した後に水分の含有量の変化を少なくし得ることから、好ましくは50℃以下である。 The holding temperature under the above condition (1) is 30°C or higher, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, it is preferably 35°C or higher, more preferably 38°C or higher, and still more preferably 40°C or higher. ℃ or higher. The holding temperature is usually 55° C. or lower, and is preferably 50° C. or lower because it can reduce the change in water content after the holding step is completed.

上記条件(1)における保持時間は、保持温度にも依存するが、通常2時間以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは3時間以上であり、より好ましくは4時間以上であり、さらに好ましくは5時間以上である。該保持時間は、保持温度にも依存するが、通常48時間未満で十分である。なお、該保持時間は48時間以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件(1)及び(3)を満たすこととなる。 The holding time under the above condition (1) depends on the holding temperature, but is usually 2 hours or more, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, is preferably 3 hours or more, more preferably It is 4 hours or more, more preferably 5 hours or more. The holding time depends on the holding temperature, but usually less than 48 hours is sufficient. Note that the holding time may be 48 hours or more, but in this case, the holding step satisfies conditions (1) and (3).

上記条件(2)における積層体に対する振動付与は、例えば、振動源に積層体を載置することにより行うことができる。振動源としては、一定の周期及び一定の振幅で振動することができるものであれば特に限定されるものではなく、振動発生器を用いてもよいし、例えば一定の回転数で回転することができる電動モーター等の回転機器を用いてもよいし、交流電流を通電することができるトランス等を用いてもよい。
該振動の周波数は、皺欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは5Hz以上であり、より好ましくは10Hz以上である。該振動の周波数は、積層体を構成する各層が互いに部分的に剥離する、いわゆる浮きの発生を抑制する観点から、好ましくは50Hz以下であり、より好ましくは40Hz以下である。
該振動の振幅は、皺欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは0.5mm以上であり、より好ましくは1mm以上である。該振動の振幅は、積層体を構成する各層が互いに部分的に剥離する、いわゆる浮きの発生を抑制する観点から、好ましくは30mm以下であり、より好ましくは10mm以下である。
The application of vibration to the laminate under the above condition (2) can be performed, for example, by placing the laminate on a vibration source. The vibration source is not particularly limited as long as it can vibrate at a constant frequency and constant amplitude, and a vibration generator may be used, or for example, it can rotate at a constant rotation speed. A rotary device such as an electric motor that can be used may be used, or a transformer or the like that can conduct alternating current may be used.
The frequency of the vibration is preferably 5 Hz or more, more preferably 10 Hz or more, from the viewpoint of suppressing the occurrence of wrinkle defects. The frequency of the vibration is preferably 50 Hz or less, more preferably 40 Hz or less, from the viewpoint of suppressing the occurrence of so-called floating, in which the layers constituting the laminate are partially peeled from each other.
The amplitude of the vibration is preferably 0.5 mm or more, more preferably 1 mm or more, from the viewpoint of suppressing the occurrence of wrinkle defects. The amplitude of the vibration is preferably 30 mm or less, more preferably 10 mm or less, from the viewpoint of suppressing the occurrence of so-called floating, in which the layers constituting the laminate are partially peeled from each other.

上記条件(2)における保持温度は特に制限されないが、通常5℃以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは10℃以上であり、より好ましくは15℃以上であり、さらに好ましくは20℃以上である。該保持温度は、30℃以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件(1)及び(2)を満たすこととなる。該保持温度は、通常55℃以下であり、保持工程を終了した後にも水分の含有量の変化を少なくし得ることから、好ましくは50℃以下である。 The holding temperature in the above condition (2) is not particularly limited, but is usually 5°C or higher, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, is preferably 10°C or higher, more preferably 15°C or higher. The temperature is more preferably 20°C or higher. The holding temperature may be 30° C. or higher; in this case, the holding step satisfies conditions (1) and (2). The holding temperature is usually 55° C. or lower, and is preferably 50° C. or lower because it can reduce the change in water content even after the holding step is finished.

上記条件(2)における保持時間は、保持温度にも依存するが、通常2時間以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは3時間以上であり、より好ましくは4時間以上であり、さらに好ましくは5時間以上である。該保持時間は、保持温度にも依存するが、通常48時間未満で十分である。なお、該保持時間は48時間以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件(2)及び(3)を満たすこととなる。 The holding time in the above condition (2) depends on the holding temperature, but is usually 2 hours or more, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, is preferably 3 hours or more, more preferably It is 4 hours or more, more preferably 5 hours or more. The holding time depends on the holding temperature, but usually less than 48 hours is sufficient. Note that the holding time may be 48 hours or more, but in this case, the holding step satisfies conditions (2) and (3).

上記条件(3)における保持温度は特に制限されないが、通常5℃以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは10℃以上であり、より好ましくは15℃以上であり、さらに好ましくは20℃以上である。該保持温度は、30℃以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件(1)及び(3)を満たすこととなる。該保持温度は、通常55℃以下であり、保持工程を終了した後にも水分の含有量の変化を少なくし得ること観点から、好ましくは50℃以下である。 The holding temperature in the above condition (3) is not particularly limited, but is usually 5°C or higher, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, is preferably 10°C or higher, more preferably 15°C or higher. The temperature is more preferably 20°C or higher. The holding temperature may be 30° C. or higher; in this case, the holding step satisfies conditions (1) and (3). The holding temperature is usually 55° C. or lower, and preferably 50° C. or lower from the viewpoint of reducing the change in water content even after the holding step is finished.

上記条件(3)における保持時間は、保持温度にも依存するが、通常48時間以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは54時間以上であり、より好ましくは66時間以上であり、さらに好ましくは72時間以上である。該保持時間は、保持温度にも依存するが、通常120時間以下で十分である。 The holding time in the above condition (3) depends on the holding temperature, but is usually 48 hours or more, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, is preferably 54 hours or more, more preferably It is 66 hours or more, more preferably 72 hours or more. The holding time depends on the holding temperature, but usually 120 hours or less is sufficient.

上記(1)~(3)のいずれの条件においても、積層体が保持される環境の相対湿度は、例えば20%RH以上80%RH以下であり、好ましくは30%RH以上70%RH以下である。 In any of the conditions (1) to (3) above, the relative humidity of the environment in which the laminate is held is, for example, 20% RH or more and 80% RH or less, preferably 30% RH or more and 70% RH or less. be.

〔3〕硬化工程
図2を参照して、本工程において、活性エネルギー線の照射により接着剤層20を硬化させて硬化接着剤層20aを形成することによって光学積層体を得ることができる。照射する活性エネルギー線の種類は、接着剤層20を構成する活性エネルギー線硬化性接着剤に含まれる硬化性成分の感応波長等に応じて適切に選択される。活性エネルギー線は、好ましくは紫外線である。
[3] Curing Step Referring to FIG. 2, in this step, an optical laminate can be obtained by curing adhesive layer 20 by irradiating active energy rays to form a cured adhesive layer 20a. The type of active energy ray to be irradiated is appropriately selected depending on the sensitive wavelength of the curable component contained in the active energy ray-curable adhesive constituting the adhesive layer 20. The active energy rays are preferably ultraviolet rays.

[実施形態2]
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、下記の工程を記載順に含む。
基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含む積層体を用意する工程〔準備工程〕、
50m/分以上の剥離速度で位相差層から基材フィルムを剥離する工程〔剥離工程〕、
基材フィルムを剥離した後の位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程〔積層工程〕、
活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程〔硬化工程〕。
[Embodiment 2]
The method for manufacturing an optical laminate according to this embodiment includes the following steps in the order described.
A step of preparing a laminate including a base film and a retardation layer laminated in contact with the base film [preparation step];
A step of peeling the base film from the retardation layer at a peeling speed of 50 m/min or more [peeling step],
a step of laminating an optical film on the peeled surface of the retardation layer after peeling off the base film via an active energy ray-curable adhesive layer [lamination step];
A process of curing the active energy ray-curable adhesive layer to form a cured adhesive layer [curing process].

〔1〕準備工程
上述のように、位相差層30は位相差発現層(重合性液晶化合物の硬化物層)を含むものであり、位相差発現層からなっていてもよいし、位相差発現層と配向層とを含んでいてもよい。したがって、本工程において用意される、基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含む積層体は、例えば、基材フィルム/配向層/位相差発現層の層構成を有していてもよいし、基材フィルム/位相差発現層の層構成を有していてもよい。
[1] Preparation process As mentioned above, the retardation layer 30 includes a retardation developing layer (a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound), and may be composed of a retardation developing layer, or a retardation developing layer. It may include a layer and an alignment layer. Therefore, the laminate prepared in this step, which includes a base film and a retardation layer laminated in contact with the base film, has, for example, a layer configuration of base film/alignment layer/retardation layer. It may have a layer structure of base film/retardation expressing layer.

図3は、本実施形態における準備工程で用意される積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図3に示される積層体は、基材フィルム41/配向層32/位相差発現層31の層構成を有しており、位相差層30が位相差発現層31と配向層32とからなる例である。本工程において用意される積層体として、一つの市販品又は複数の市販品の組み合わせが用いられてもよい。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the laminate prepared in the preparation step in this embodiment. The laminate shown in FIG. 3 has a layer structure of base film 41/alignment layer 32/retardation layer 31, and is an example in which the retardation layer 30 is composed of the retardation layer 31 and the alignment layer 32. It is. As the laminate prepared in this step, one commercially available product or a combination of multiple commercially available products may be used.

本工程において用意される積層体は、基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含んでいればよく、図3の例に限定されるものではない。該積層体には、基材フィルム41及び位相差層30以外の他の1又は2以上の層が積層されていてもよい。例えば、基材フィルム41と位相差層30と他の位相差層とを含む位相差層積層体が本工程で用意されてもよい。
基材フィルム、位相差層、位相差発現層、配向層及び位相差層積層体等については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
The laminate prepared in this step may include a base film and a retardation layer laminated in contact with the base film, and is not limited to the example shown in FIG. 3. One or more layers other than the base film 41 and the retardation layer 30 may be laminated on the laminate. For example, a retardation layer laminate including the base film 41, the retardation layer 30, and other retardation layers may be prepared in this step.
The base film, retardation layer, retardation expression layer, alignment layer, retardation layer laminate, etc. will be explained in more detail in the section <Optical laminate> below.

〔2〕剥離工程
本工程は、50m/分以上の剥離速度で位相差層30から基材フィルム41を剥離する工程である。
剥離速度は、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは60m/分以上であり、より好ましくは70m/分以上であり、さらに好ましくは80m/分以上であり、特に好ましくは90m/分以上である。剥離速度は、通常150m/分以下であり、基材フィルムの破断防止の観点から、好ましくは120m/分以下である。
[2] Peeling process This process is a process of peeling the base film 41 from the retardation layer 30 at a peeling speed of 50 m/min or more.
The peeling speed is preferably 60 m/min or more, more preferably 70 m/min or more, still more preferably 80 m/min or more, and particularly preferably The speed is 90m/min or more. The peeling speed is usually 150 m/min or less, and preferably 120 m/min or less from the viewpoint of preventing breakage of the base film.

基材フィルム41が剥離される積層体に対する基材フィルム41の剥離角度は、通常90度より大きく180度以下である。基材フィルム41の剥離をより容易にする観点から、剥離角度は、好ましくは120度以上180度以下である。
剥離角度とは、基材フィルム41が剥離されるときの積層体の面方向又は搬送方向と、剥離される基材フィルム41の面方向又は搬送方向とがなす角度をいう。
The peeling angle of the base film 41 with respect to the laminate from which the base film 41 is peeled is usually greater than 90 degrees and less than 180 degrees. From the viewpoint of making peeling of the base film 41 easier, the peeling angle is preferably 120 degrees or more and 180 degrees or less.
The peeling angle refers to the angle between the surface direction or transport direction of the laminate when the base film 41 is peeled and the surface direction or transport direction of the base film 41 to be peeled.

準備工程で用意される積層体が基材フィルム41と配向層32と位相差発現層31とを有する場合において、基材フィルム41の剥離の際、基材フィルム41とともに配向層32が剥離される場合は、本工程により、積層体の表面に位相差発現層31の表面が露出する。配向層32が剥離されずに積層体側に残存する場合には、積層体の表面に配向層32の表面が露出する。
準備工程で用意される積層体が基材フィルム41と位相差発現層31とを有し、配向層32を有しない場合においては、本工程により、積層体の表面に位相差発現層31の表面が露出する。
In the case where the laminate prepared in the preparation step has a base film 41, an alignment layer 32, and a retardation layer 31, when the base film 41 is peeled off, the alignment layer 32 is peeled off together with the base film 41. In this case, the surface of the retardation expressing layer 31 is exposed on the surface of the laminate through this step. When the alignment layer 32 remains on the laminate without being peeled off, the surface of the alignment layer 32 is exposed on the surface of the laminate.
In the case where the laminate prepared in the preparation step has the base film 41 and the retardation layer 31 but does not have the alignment layer 32, the surface of the retardation layer 31 is added to the surface of the laminate in this step. is exposed.

〔3〕積層工程
本工程は、基材フィルム41を剥離した後の位相差層30の剥離面(露出面)に、活性エネルギー線硬化性接着剤層(接着剤層)20を介して光学フィルム10を積層する工程である。本工程により、図1に示される層構成と同様の層構成を得る。上記剥離面は、配向層32の表面又は位相差発現層31の表面であり得る。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、位相差層30及び光学フィルム10を接着する能力を有するものが用いられる。
[3] Lamination process In this process, an optical film is applied to the peeled surface (exposed surface) of the retardation layer 30 after peeling off the base film 41 via an active energy ray-curable adhesive layer (adhesive layer) 20. This is the process of laminating 10 layers. Through this step, a layer structure similar to that shown in FIG. 1 is obtained. The peeling surface may be the surface of the alignment layer 32 or the surface of the retardation layer 31. As the active energy ray-curable adhesive, one having the ability to bond the retardation layer 30 and the optical film 10 is used.

積層工程において、光学フィルム10と接着剤層20と位相差層30とは、接着剤層20と位相差層30とが接するように積層される。また、光学フィルム10と接着剤層20と位相差層30とは、好ましくは、光学フィルム10と接着剤層20とが接するように積層される。 In the lamination process, the optical film 10, the adhesive layer 20, and the retardation layer 30 are laminated so that the adhesive layer 20 and the retardation layer 30 are in contact with each other. Moreover, the optical film 10, the adhesive layer 20, and the retardation layer 30 are preferably laminated so that the optical film 10 and the adhesive layer 20 are in contact with each other.

積層工程は、光学フィルム10の接着面及び位相差層30の接着面(剥離面)から選択される1以上の面に接着剤層20を形成し、接着剤層20を介して光学フィルム10と位相差層30とを積層することによって実施することができる。接着剤層20は、公知の塗工方法によって接着面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗工することによって形成できる。
積層工程によって得られる積層体において、接着剤層20の厚みは、通常0.5μm以上50μm以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム10と位相差層30との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは2μm以上20μm以下である。
In the lamination process, an adhesive layer 20 is formed on one or more surfaces selected from the adhesive surface of the optical film 10 and the adhesive surface (peeling surface) of the retardation layer 30, and the adhesive layer 20 is formed on the optical film 10 via the adhesive layer 20. This can be implemented by laminating the retardation layer 30. The adhesive layer 20 can be formed by applying an active energy ray-curable adhesive to the adhesive surface using a known coating method.
In the laminate obtained by the lamination process, the thickness of the adhesive layer 20 is usually 0.5 μm or more and 50 μm or less, from the viewpoint of suppressing wrinkle defects and from the viewpoint of adhesiveness between the optical film 10 and the retardation layer 30. From the viewpoint of reducing the thickness of the resulting optical laminate, the thickness is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, more preferably 2 μm or more and 20 μm or less.

光学フィルム10の接着面及び位相差層30の接着面(剥離面)から選択される1以上の面には、接着剤層20を形成する前に、あらかじめプラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレーム(火炎)処理、ケン化処理のような表面活性化処理を行ってもよい。この表面活性化処理により、光学フィルム10と位相差層30との接着性を高め得る。 One or more surfaces selected from the adhesive surface of the optical film 10 and the adhesive surface (peeling surface) of the retardation layer 30 are subjected to plasma treatment, corona treatment, ultraviolet irradiation treatment, etc. before forming the adhesive layer 20. Surface activation treatments such as flame treatment and saponification treatment may also be performed. This surface activation treatment can improve the adhesiveness between the optical film 10 and the retardation layer 30.

光学フィルム10は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。光学フィルム10としては、例えば、直線偏光板等を挙げることができる。 光学フィルム10が直線偏光板である場合、積層工程によって得られる積層体において、好ましくは、直線偏光板に含まれる直線偏光子と接着剤層20とが接している。
光学フィルム10及び活性エネルギー線硬化性接着剤については、後掲の<光学積層体>の項でより詳細に説明する。
The optical film 10 may be a film with a single layer structure or a film with a multilayer structure. Examples of the optical film 10 include a linear polarizing plate. When the optical film 10 is a linearly polarizing plate, preferably the linear polarizer included in the linearly polarizing plate and the adhesive layer 20 are in contact with each other in the laminate obtained by the lamination process.
The optical film 10 and the active energy ray-curable adhesive will be described in more detail in the <Optical laminate> section below.

上記剥離工程及び積層工程を含む本実施形態に係る製造方法によれば、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体を製造することが可能となる。これは、次の理由によるものと推定される。
剥離工程において50m/分以上の剥離速度で位相差層30から基材フィルム41を剥離すると、剥離後の位相差層30の表面(剥離面)が荒れる。このような位相差層30の表面の荒れは、続く積層工程において該表面に接着剤層20を積層・接触させたときに接着剤層20との密着力を向上させる。
上記密着力が向上すると、硬化接着剤層(硬化後の接着剤層)と位相差層30とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するため、皺欠陥の発生が抑制されやすくなるものと考えられる。
本実施形態に係る製造方法は、得られる光学積層体において、後述する虹ムラを抑制するうえでも有利である。
According to the manufacturing method according to the present embodiment, which includes the above-described peeling step and lamination step, it is possible to manufacture an optical laminate that is less likely to cause wrinkle defects even when curved with a small radius of curvature. This is presumed to be due to the following reasons.
When the base film 41 is peeled from the retardation layer 30 at a peeling speed of 50 m/min or more in the peeling process, the surface (peeled surface) of the retardation layer 30 after peeling becomes rough. Such roughness on the surface of the retardation layer 30 improves the adhesion with the adhesive layer 20 when the adhesive layer 20 is laminated and brought into contact with the surface in the subsequent lamination step.
When the adhesion is improved, the cured adhesive layer (adhesive layer after curing) and the retardation layer 30 deform as one when the optical laminate is curved, thereby suppressing the occurrence of wrinkle defects. It is thought that this will make it easier to do so.
The manufacturing method according to the present embodiment is also advantageous in suppressing rainbow unevenness, which will be described later, in the resulting optical laminate.

本実施形態では、位相差層30の表面を粗面化するための手段として、基材フィルム41の剥離速度を制御している。粗面化するための他の手段としては、例えば、あらかじめ少なくとも一方の面が粗面化されている基材フィルムを用い、この粗面化された面に位相差層30を形成して、準備工程において用意される積層体としてもよい。
基材フィルム41の表面の粗面化は、該表面を摩擦する方法等により実施できる。
In this embodiment, the peeling speed of the base film 41 is controlled as a means for roughening the surface of the retardation layer 30. As another means for roughening, for example, a base film whose at least one surface has been roughened in advance is used, and the retardation layer 30 is formed on this roughened surface. It may also be a laminate prepared in the process.
The surface of the base film 41 can be roughened by a method such as rubbing the surface.

〔4〕硬化工程
本工程において、活性エネルギー線の照射により接着剤層20を硬化させて硬化接着剤層20aを形成することによって、図2と同様の層構成を有する光学積層体を得ることができる。本工程については、実施形態1の硬化工程についての記述が引用される。
[4] Curing step In this step, an optical laminate having a layer structure similar to that shown in FIG. 2 can be obtained by curing the adhesive layer 20 by irradiating active energy rays to form a cured adhesive layer 20a. can. Regarding this step, the description regarding the curing step of Embodiment 1 is cited.

<光学積層体>
図2を参照して、本発明に係る光学積層体(以下、単に「光学積層体」ともいう。)は、光学フィルム10と、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層20aと、位相差発現層(重合性液晶化合物の硬化物層)を含む位相差層30とをこの順に備える。
光学積層体は、有機EL表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。
<Optical laminate>
Referring to FIG. 2, the optical laminate according to the present invention (hereinafter also simply referred to as "optical laminate") includes an optical film 10 and a cured adhesive that is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive. The layer 20a and a retardation layer 30 including a retardation developing layer (a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound) are provided in this order.
The optical laminate can be suitably applied to image display devices such as organic EL display devices.

光学積層体において、硬化接着剤層20aと位相差層30とは接している。光学積層体において、好ましくは、光学フィルム10と硬化接着剤層20aとは接している。 In the optical laminate, the cured adhesive layer 20a and the retardation layer 30 are in contact with each other. In the optical laminate, preferably the optical film 10 and the cured adhesive layer 20a are in contact with each other.

光学積層体は、位相差層30における硬化接着剤層20a側の表面(図2における表面Xa)が、下記(a)~(d):
(a)算術平均粗さSaが0.065μm以上である、
(b)二乗平均平方根高さSqが0.085μm以上である、
(c)界面の展開面積比Sdrが0.2%以上である、
(d)二法平均平方根傾斜Sdqが0.065以上である
のいずれか1以上を満たす。
In the optical laminate, the surface of the retardation layer 30 on the cured adhesive layer 20a side (surface Xa in FIG. 2) has the following (a) to (d):
(a) the arithmetic mean roughness Sa is 0.065 μm or more;
(b) the root mean square height Sq is 0.085 μm or more;
(c) the developed area ratio Sdr of the interface is 0.2% or more;
(d) One or more of the following conditions is satisfied: the bimodal root mean square slope Sdq is 0.065 or more.

算術平均粗さSa、二乗平均平方根高さSq、界面の展開面積比Sdr及び二法平均平方根傾斜Sdqはいずれも面の粗さを表す指標であり、ISO 25178に準拠して、[実施例]の項に記載の方法によって測定される。 The arithmetic mean roughness Sa, the root mean square height Sq, the developed area ratio Sdr of the interface, and the bimodal root mean square slope Sdq are all indicators of surface roughness, and according to ISO 25178, [Example] Measured by the method described in section.

本発明に係る光学積層体は、上記(a)~(d)のいずれか1以上を満たしているため、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい。これは、位相差層30における硬化接着剤層20a側の表面の粗さにより硬化接着剤層20aと位相差層30との密着力が向上しており、したがって、硬化接着剤層20と位相差層30とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するためであると考えられる。 Since the optical laminate according to the present invention satisfies any one or more of the above (a) to (d), wrinkle defects are unlikely to occur even when curved with a small radius of curvature. This is because the adhesion between the cured adhesive layer 20a and the retardation layer 30 is improved due to the roughness of the surface of the retardation layer 30 on the side of the cured adhesive layer 20a. This is believed to be because the layer 30 deforms as one when the optical laminate is bent.

また、上記(a)~(d)のいずれか1以上を満たす光学積層体は、その光学フィルム10側の表面からみたときの反射光において虹ムラを抑制できる点で有利である。虹ムラを抑制できることは、光学積層体を有機EL表示装置等の画像表示装置に適用したときの該装置の視認性を向上させるうえで有利である。
上記(a)~(d)のいずれか1以上を満たす光学積層体が虹ムラを抑制できるのは、光学積層体の内部に入射した光が各層の界面で反射することによって生じる反射光同士の干渉を抑制できるためであると考えられる。
Further, an optical laminate that satisfies any one or more of the above (a) to (d) is advantageous in that rainbow unevenness can be suppressed in reflected light when viewed from the surface on the optical film 10 side. Being able to suppress rainbow unevenness is advantageous in improving the visibility of an image display device such as an organic EL display device when the optical laminate is applied to the device.
An optical laminate that satisfies any one or more of the above (a) to (d) can suppress rainbow unevenness because the light incident on the inside of the optical laminate is reflected at the interface between each layer, resulting in a difference between the reflected lights. This is thought to be because interference can be suppressed.

上記(a)~(d)のいずれか1以上を満たす光学積層体は、上記<光学積層体の製造方法>の項に記載される本発明に係る製造方法によって好適に製造することができる。 An optical laminate that satisfies any one or more of the above (a) to (d) can be suitably manufactured by the manufacturing method according to the present invention described in the section <Method for manufacturing an optical laminate> above.

皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、光学積層体は、好ましくは、上記(a)~(d)のいずれか2以上を満たし、より好ましくは、上記(a)~(d)のいずれか3以上を満たし、さらに好ましくは、上記(a)~(d)のすべてを満たす。 From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects and rainbow unevenness, the optical laminate preferably satisfies any two or more of the above (a) to (d), and more preferably satisfies any two or more of the above (a) to (d). Any three or more of (d) are satisfied, and more preferably all of the above (a) to (d) are satisfied.

上記(a)における算術平均粗さSaは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは0.067μm以上であり、より好ましくは0.070μm以上である。算術平均粗さSaは、通常0.200μm以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは0.150μm以下である。 The arithmetic mean roughness Sa in the above (a) is preferably 0.067 μm or more, more preferably 0.070 μm or more, from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects and rainbow unevenness. The arithmetic mean roughness Sa is usually 0.200 μm or less, and preferably 0.150 μm or less from the viewpoint of reducing the internal haze of the optical laminate, ensuring transparency, and maintaining light transmittance.

上記(b)における二乗平均平方根高さSqは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは0.087μm以上であり、より好ましくは0.090μm以上である。二乗平均平方根高さSqは、通常0.250μm以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは0.200μm以下である。 The root mean square height Sq in the above (b) is preferably 0.087 μm or more, more preferably 0.090 μm or more, from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects and rainbow unevenness. The root mean square height Sq is usually 0.250 μm or less, and preferably 0.200 μm or less from the viewpoint of reducing the internal haze of the optical laminate, ensuring transparency, and maintaining light transmittance.

上記(c)における界面の展開面積比Sdrは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは0.25%以上であり、より好ましくは0.3%以上である。界面の展開面積比Sdrは、通常1.20%以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは1.10%以下である。 The developed area ratio Sdr of the interface in (c) above is preferably 0.25% or more, more preferably 0.3% or more, from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects and rainbow unevenness. . The developed area ratio Sdr of the interface is usually 1.20% or less, and is preferably 1.10% or less from the viewpoint of reducing the internal haze of the optical laminate, ensuring transparency, and maintaining light transmittance. be.

上記(d)における二法平均平方根傾斜Sdqは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは0.070以上であり、より好ましくは0.072以上である。二法平均平方根傾斜Sdqは、通常0.180以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは0.160以下である。 The bimodal root mean square slope Sdq in the above (d) is preferably 0.070 or more, more preferably 0.072 or more, from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects and rainbow unevenness. The bimodal mean square slope Sdq is usually 0.180 or less, and is preferably 0.160 or less from the viewpoint of reducing the internal haze of the optical laminate, ensuring transparency, and maintaining light transmittance.

以下、光学積層体を構成する又は構成し得る要素について説明する。
〔1〕光学フィルム
上述のように、光学フィルム10は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。
光学フィルム10としては、例えば、直線偏光板、直線偏光子等を挙げることができる。
Elements that constitute or can constitute the optical laminate will be described below.
[1] Optical Film As described above, the optical film 10 may be a film with a single layer structure or a film with a multilayer structure.
Examples of the optical film 10 include a linear polarizing plate, a linear polarizer, and the like.

〔2〕直線偏光板
直線偏光板は、少なくとも直線偏光子を含む光学素子であり、直線偏光子の少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルム等をさらに含んでいてもよい。直線偏光子とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学素子をいう。
[2] Linear polarizing plate A linear polarizing plate is an optical element that includes at least a linear polarizer, and may further include a thermoplastic resin film bonded to at least one surface of the linear polarizer. A linear polarizer is an optical element that has the property of transmitting linearly polarized light having a vibration plane perpendicular to the absorption axis when unpolarized light is incident thereon.

直線偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを配向させたものに、ヨウ素等の二色性色素を吸着配向させたものであってよい。直線偏光子は、単層のポリビニルアルコール樹脂フィルム(ポリビニルアルコール樹脂フィルムに含まれるポリビニルアルコール分子が配向したもの)に二色性色素が吸着配向したものであってもよく、基材フィルム上に二色性色素が吸着配向したポリビニルアルコール樹脂層を設けた二層以上の積層フィルムであってもよい。このような直線偏光子は、本技術分野で公知の種々の方法によって製造することができる。
単層のポリビニルアルコール樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向してなる直線偏光子の厚みは、好ましくは20μm以下であり、より好ましくは15μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下である。
The linear polarizer may be, for example, one in which a dichroic dye such as iodine is adsorbed and oriented on an oriented polyvinyl alcohol resin film. The linear polarizer may be a single-layer polyvinyl alcohol resin film (orientated polyvinyl alcohol molecules contained in the polyvinyl alcohol resin film) in which a dichroic dye is adsorbed and oriented. It may be a laminated film of two or more layers provided with a polyvinyl alcohol resin layer in which a color dye is adsorbed and oriented. Such linear polarizers can be manufactured by various methods known in the art.
The thickness of a linear polarizer formed by adsorbing and aligning a dichroic dye to a single layer polyvinyl alcohol resin film is preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less.

直線偏光子は、重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。該直線偏光子は、通常、熱可塑性樹脂フィルム等からなる基材フィルム、又はこの上に設けられた配向層上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む組成物を塗工して乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線照射により、塗工膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させて硬化させることで得ることができる。このようにして得られた基材フィルムと直線偏光子(硬化膜)との積層体は、直線偏光板として用いることができる。 The linear polarizer may be a cured film obtained by aligning a dichroic dye to a polymerizable liquid crystal compound and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound. The linear polarizer is usually produced by coating a composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye on a base film made of a thermoplastic resin film or the like, or on an alignment layer provided thereon, and then drying the composition. However, it can be obtained by polymerizing and curing the polymerizable liquid crystal compound contained in the coating film by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays. The thus obtained laminate of the base film and the linear polarizer (cured film) can be used as a linear polarizing plate.

上記の硬化膜を形成するための基材フィルムの厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の観点から、好ましくは1μm以上300μm以下であり、より好ましくは10μm以上200μm以下であり、さらに好ましくは30μm以上120μm以下である。 The thickness of the base film for forming the above-mentioned cured film is not particularly limited, but generally from the viewpoint of workability such as strength and handleability, it is preferably 1 μm or more and 300 μm or less, more preferably 10 μm or more and 200 μm or less. and more preferably 30 μm or more and 120 μm or less.

直線偏光板において、直線偏光子の少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリ(メタ)アクリル酸メチル等の(メタ)アクリル酸系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂;ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルケトン系樹脂;ポリフェニレンスルフィド系樹脂;ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等から構成される樹脂フィルムが挙げられる。
上記樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び(メタ)アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。
なお、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種」を意味する。
In the linear polarizing plate, the thermoplastic resin film bonded to at least one surface of the linear polarizer includes, for example, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; cyclic polyolefin resins such as norbornene polymers; polyethylene terephthalate, polyethylene Polyester resins such as naphthalate; (meth)acrylic acid resins such as methyl poly(meth)acrylate; Cellulose ester resins such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellulose acetate propionate; polyvinyl alcohol and polyvinyl acetate Vinyl alcohol resins such as; polycarbonate resins; polystyrene resins; polyarylate resins; polysulfone resins; polyethersulfone resins; polyamide resins; polyimide resins; polyetherketone resins; polyphenylene sulfide resins; polyphenylene Examples include resin films made of oxide resins, mixtures thereof, copolymers, and the like.
Among the above resins, it is preferable to use any one of a cyclic polyolefin resin, a polyester resin, a cellulose ester resin, and a (meth)acrylic acid resin, or a mixture thereof.
Note that "(meth)acrylic acid" means "at least one of acrylic acid and methacrylic acid."

熱可塑性樹脂フィルムは、樹脂材料を1種又は2種以上を混合した単層であってもよく、2層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層を構成する樹脂は互いに同じであってもよく異なっていてもよい。
熱可塑性樹脂フィルムには、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
The thermoplastic resin film may be a single layer made of one resin material or a mixture of two or more resin materials, or may have a multilayer structure of two or more layers. When having a multilayer structure, the resins constituting each layer may be the same or different.
Arbitrary additives may be added to the thermoplastic resin film. Examples of additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, color inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, and colorants.

熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、光学積層体の薄型化及びフレキシブル性の観点及び光学積層体の耐久性の観点から、好ましくは2μm以上300μm以下であり、より好ましくは5μm以上200μm以下であり、さらに好ましくは5μm以上100μm以下であり、なおさらに好ましくは5μm以上50μm以下であり、特に好ましくは5μm以上30μm以下である。 The thickness of the thermoplastic resin film is preferably 2 μm or more and 300 μm or less, more preferably 5 μm or more and 200 μm or less, from the viewpoint of thinning and flexibility of the optical laminate and the durability of the optical laminate. Preferably it is 5 μm or more and 100 μm or less, still more preferably 5 μm or more and 50 μm or less, particularly preferably 5 μm or more and 30 μm or less.

熱可塑性樹脂フィルムは、接着層を介して直線偏光子に積層することができる。
接着層を形成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤等が挙げられる。
水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化性接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性(メタ)アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。
The thermoplastic resin film can be laminated to the linear polarizer via an adhesive layer.
Examples of the adhesive forming the adhesive layer include water-based adhesives, active energy ray-curable adhesives, and the like.
Examples of water-based adhesives include polyvinyl alcohol resin aqueous solutions, water-based two-component urethane emulsion adhesives, and the like.
Active energy ray-curable adhesives are adhesives that are cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, and include those containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, those containing a photoreactive resin, and those containing a binder. Examples include those containing a resin and a photoreactive crosslinking agent. Examples of the polymerizable compound include photopolymerizable monomers such as photocurable epoxy monomers, photocurable (meth)acrylic monomers, and photocurable urethane monomers, and oligomers derived from these monomers. . Examples of the photopolymerization initiator include those containing substances that generate active species such as neutral radicals, anion radicals, and cation radicals upon irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.

直線偏光板は、上記以外の他のフィルム又は層をさらに含むことができる。他のフィルム又は層としては、直線偏光板の表面に積層されるプロテクトフィルム;直線偏光板の適宜の位置に配置される反射フィルム、半透過型反射フィルム、光学補償フィルム、防眩機能付きフィルム、位相差フィルム等が挙げられる。 The linearly polarizing plate can further include other films or layers than those described above. Other films or layers include a protection film laminated on the surface of the linear polarizing plate; a reflective film, a transflective film, an optical compensation film, a film with an anti-glare function, which is placed at an appropriate position on the linear polarizing plate; Examples include retardation films.

直線偏光板は、好ましくは、図4に示されるような、直線偏光子の一方の面のみに熱可塑性樹脂フィルムを貼合した片保護偏光板である。直線偏光板が片保護偏光板であると、その厚みは薄いものであるので、結果として、光学積層体の厚みを薄くできる。そのため、例えば、本発明の光学積層体を備えた有機EL表示装置は、屈曲や折曲げ、巻回し等が可能なフレキシブル有機EL表示装置として適用しやすくなる。
光学フィルム10が片保護偏光板である場合、光学積層体において直線偏光子は、硬化接着剤層20aと接していることが好ましい。
The linear polarizing plate is preferably a single-protected polarizing plate, as shown in FIG. 4, in which a thermoplastic resin film is bonded to only one side of a linear polarizer. When the linear polarizing plate is a single-protection polarizing plate, its thickness is small, and as a result, the thickness of the optical laminate can be reduced. Therefore, for example, an organic EL display device including the optical laminate of the present invention can be easily applied as a flexible organic EL display device that can be bent, folded, rolled, etc.
When the optical film 10 is a single-protection polarizing plate, it is preferable that the linear polarizer in the optical laminate be in contact with the cured adhesive layer 20a.

〔3〕硬化接着剤層
硬化接着剤層20aは、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である。硬化接着剤層20aは、上述の積層工程において形成される活性エネルギー線硬化性接着剤層(接着剤層)20を硬化工程において硬化させることによって形成することができる。
該活性エネルギー線硬化性接着剤としては、上記〔2〕で述べた活性エネルギー線硬化性接着剤と同様のものを用いることができる。
[3] Cured adhesive layer The cured adhesive layer 20a is a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive. The cured adhesive layer 20a can be formed by curing the active energy ray-curable adhesive layer (adhesive layer) 20 formed in the above-described lamination process in a curing process.
As the active energy ray curable adhesive, the same active energy ray curable adhesive as described in [2] above can be used.

光学積層体において、硬化接着剤層20aの厚みは、通常0.5μm以上50μm以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム10と位相差層30との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは2μm以上20μm以下である。 In the optical laminate, the thickness of the cured adhesive layer 20a is usually 0.5 μm or more and 50 μm or less. From the viewpoint of making the optical laminate thinner, the thickness is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, more preferably 2 μm or more and 20 μm or less.

〔4〕位相差層
位相差層30は、重合性液晶化合物の硬化物層である位相差発現層31を含み、配向層32をさらに含んでいてもよい。
[4] Retardation layer The retardation layer 30 includes a retardation expression layer 31 which is a layer of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, and may further include an alignment layer 32.

位相差発現層31は、重合性液晶化合物を用いて形成したものであり、この重合性液晶化合物としては公知のものを使用できる。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。逆波長分散性の1/4波長板を形成するための重合性液晶化合物は棒状液晶化合物、例えば、特開2011-207765号公報に記載の重合性液晶化合物であることが好ましい。 The retardation developing layer 31 is formed using a polymerizable liquid crystal compound, and any known polymerizable liquid crystal compound can be used. The type of polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited, and rod-like liquid crystal compounds, discotic liquid crystal compounds, and mixtures thereof can be used. The polymerizable liquid crystal compound for forming the reverse wavelength dispersive quarter-wave plate is preferably a rod-shaped liquid crystal compound, for example, the polymerizable liquid crystal compound described in JP-A No. 2011-207765.

重合性液晶化合物及び溶剤、並びに必要に応じて各種添加剤を含む位相差発現層形成用組成物を、配向層32上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、重合性液晶化合物の硬化物層である位相差発現層31を形成することができる。あるいは、基材フィルム上に位相差発現層形成用組成物を直接塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸することによって位相差発現層31を形成してもよい。
位相差発現層31の厚みは、通常0.1μm以上10μm以下であり、好ましくは0.2μm以上5μm以下である。
A composition for forming a retardation layer containing a polymerizable liquid crystal compound, a solvent, and various additives as necessary is applied onto the alignment layer 32 to form a coating film, and this coating film is cured. A retardation expression layer 31, which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound, can be formed. Alternatively, the retardation layer 31 may be formed by directly applying the composition for forming a retardation layer onto a base film to form a coating film, and stretching this coating film together with the base film.
The thickness of the retardation layer 31 is usually 0.1 μm or more and 10 μm or less, preferably 0.2 μm or more and 5 μm or less.

位相差発現層形成用組成物は、上記した重合性液晶化合物及び溶剤の他に、重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤等を含んでいてもよい。重合性液晶化合物、溶剤、重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤等は、公知のものを適宜用いることができる。
位相差発現層形成用組成物及び位相差発現層に含まれていてもよいレベリング剤としては、例えば、有機変性シリコーンオイルを主成分とするレベリング剤、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤、パーフルオロアルキル等のフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤等を挙げることができる。主成分とは、レベリング剤に含まれる全成分のうち、最も配合量が多い成分をいう。位相差発現層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上5質量部以下であり、より好ましくは0.1質量部以上3質量部以下である。
The composition for forming a retardation layer may contain a polymerization initiator, a reactive additive, a leveling agent, a polymerization inhibitor, etc. in addition to the above-mentioned polymerizable liquid crystal compound and solvent. As the polymerizable liquid crystal compound, solvent, polymerization initiator, reactive additive, leveling agent, polymerization inhibitor, etc., known ones can be used as appropriate.
Examples of the leveling agent that may be included in the composition for forming a retardation layer and the retardation layer include a leveling agent whose main component is an organically modified silicone oil, a leveling agent whose main component is a polyacrylate compound, Examples include leveling agents whose main component is a fluorine atom-containing compound such as perfluoroalkyl. The main component refers to the component that is included in the largest amount out of all the components contained in the leveling agent. The content of the leveling agent in the composition for forming a retardation layer is preferably 0.01 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, more preferably 0.1 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. The amount is 3 parts by mass or less.

位相差層30に含まれていてもよい配向層32は、その上に形成される液晶層に含まれる重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有する層である。配向層32としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ(溝)を有するグルブ配向層を挙げることができる。
配向層32の厚みは、通常10nm以上500nm以下であり、好ましくは10nm以上200nm以下である。
The alignment layer 32, which may be included in the retardation layer 30, is a layer having an alignment regulating force that causes the polymerizable liquid crystal compound included in the liquid crystal layer formed thereon to align the liquid crystal in a desired direction. Examples of the alignment layer 32 include an alignment polymer layer formed of an alignment polymer, a photoalignment polymer layer formed of a photoalignment polymer, and a groove alignment layer having an uneven pattern or a plurality of grooves on the layer surface. be able to.
The thickness of the alignment layer 32 is usually 10 nm or more and 500 nm or less, preferably 10 nm or more and 200 nm or less.

配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材フィルム41に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理を施して形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。 The oriented polymer layer can be formed by applying a composition in which an oriented polymer is dissolved in a solvent to the base film 41, removing the solvent, and performing a rubbing treatment if necessary. In this case, the alignment regulating force can be arbitrarily adjusted depending on the surface condition of the oriented polymer and rubbing conditions.

光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材フィルム41に塗布し、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。 The photo-alignable polymer layer can be formed by applying a composition containing a polymer having a photo-reactive group or a monomer and a solvent to the base film 41 and irradiating it with polarized light. In this case, the alignment regulating force in the photo-alignable polymer layer can be arbitrarily adjusted by adjusting the polarized light irradiation conditions for the photo-alignable polymer.

グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材フィルム41に転写して硬化する方法、基材フィルム41に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。 The groove alignment layer can be formed, for example, by exposing and developing the surface of a photosensitive polyimide film through an exposure mask having pattern-shaped slits to form a concavo-convex pattern, or by applying activation to a plate-shaped master having grooves on the surface. A method of forming an uncured layer of an energy ray curable resin, transferring this layer to a base film 41 and curing it, forming an uncured layer of an active energy ray curable resin on the base film 41, The layer can be formed by a method of forming irregularities by pressing a roll-shaped master having irregularities on the layer and curing the layer.

基材フィルム41としては、上述の熱可塑性樹脂フィルムと同様の構成を有する樹脂フィルムを用いることができる。
基材フィルム41の厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の観点から、好ましくは1μm以上300μm以下であり、より好ましくは10μm以上200μm以下であり、さらに好ましくは30μm以上120μm以下である。
基材フィルム41には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
As the base film 41, a resin film having the same structure as the above-mentioned thermoplastic resin film can be used.
The thickness of the base film 41 is not particularly limited, but generally from the viewpoint of workability such as strength and handleability, it is preferably 1 μm or more and 300 μm or less, more preferably 10 μm or more and 200 μm or less, and even more preferably 30 μm or more. It is 120 μm or less.
An arbitrary additive may be added to the base film 41. Examples of additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, color inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, and colorants.

〔5〕位相差層積層体
上述のように、光学積層体の製造方法に係る第1実施形態の積層工程及び第2実施形態の準備工程では、位相差層30として、位相差層30と他の位相差層とを含む位相差層積層体とを含む位相差層積層体を用いてもよい。
[5] Retardation layer laminate As described above, in the lamination step of the first embodiment and the preparation step of the second embodiment of the method for manufacturing an optical laminate, the retardation layer 30 and other layers are used as the retardation layer 30. A retardation layer laminate including a retardation layer and a retardation layer laminate may be used.

図5は、位相差積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図5に示される位相差積層体は、基材フィルム41、配向層32、位相差発現層31、接着層61、位相差発現層71、配向層72、基材フィルム42をこの順に含む。図5に示される位相差積層体において、位相差発現層31及び配向層32が、光学積層体において光学フィルム10と硬化接着剤層20aを介して貼合される位相差層30となり得る。
図5に示される位相差積層体において、配向層32及び配向層72の少なくともいずれか一方を有していなくてもよい。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the retardation laminate. The retardation laminate shown in FIG. 5 includes a base film 41, an orientation layer 32, a retardation layer 31, an adhesive layer 61, a retardation layer 71, an orientation layer 72, and a base film 42 in this order. In the retardation laminate shown in FIG. 5, the retardation layer 31 and the alignment layer 32 can become the retardation layer 30 bonded to the optical film 10 via the cured adhesive layer 20a in the optical laminate.
The retardation laminate shown in FIG. 5 does not need to have at least one of the alignment layer 32 and the alignment layer 72.

図5に示される位相差積層体において、位相差発現層31と位相差発現層71との組み合わせは、例えば、1/2波長板と1/4波長板との組み合わせ、又は、逆波長分散性の1/4波長板とポジティブCプレートとの組み合わせである。
1/2波長板と1/4波長板との組み合わせである場合において、光学積層体において光学フィルム10により近い側に配置される位相差発現層31が1/2波長板であることが好ましい。
In the retardation laminate shown in FIG. 5, the combination of the retardation layer 31 and the retardation layer 71 is, for example, a combination of a 1/2 wavelength plate and a 1/4 wavelength plate, or a reverse wavelength dispersion property. This is a combination of a 1/4 wavelength plate and a positive C plate.
In the case of a combination of a 1/2 wavelength plate and a 1/4 wavelength plate, it is preferable that the retardation developing layer 31 disposed closer to the optical film 10 in the optical laminate is a 1/2 wavelength plate.

光学積層体の製造方法に係る第1実施形態又は第2実施形態の積層工程において図5に示される位相差積層体が使用される場合、該位相差積層体は、基材フィルム41が剥離された後に、接着剤層20を介して光学フィルム10に積層される。
図6は、光学積層体の製造方法に係る第1実施形態又は第2実施形態の積層工程において図5に示される位相差積層体を使用したときに製造される光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図6に示される光学積層体において、配向層32及び配向層72の少なくともいずれか一方を有していなくてもよい。
When the retardation laminate shown in FIG. 5 is used in the lamination step of the first embodiment or the second embodiment of the method for producing an optical laminate, the retardation laminate has a structure in which the base film 41 is peeled off. After that, it is laminated to the optical film 10 via the adhesive layer 20.
FIG. 6 is an example of the layer structure of an optical laminate manufactured when the retardation laminate shown in FIG. 5 is used in the lamination step of the first embodiment or the second embodiment of the method for manufacturing an optical laminate. FIG. The optical laminate shown in FIG. 6 may not include at least one of the alignment layer 32 and the alignment layer 72.

図5に示される位相差積層体は、例えば、基材フィルム41/配向層32/位相差発現層31の層構成を有する積層体と、基材フィルム42/配向層72/位相差発現層71の層構成を有する積層体とを作製又は用意し、これらの積層体を接着層61を介して貼合することによって製造することができる。 For example, the retardation laminate shown in FIG. It can be manufactured by producing or preparing a laminate having a layer structure of 1 and bonding these laminates together via the adhesive layer 61.

接着層61を形成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤等が挙げられる。これらの接着剤としては、直線偏光子と熱可塑性樹脂フィルムとの貼合に用いることができる上述の接着剤と同様のものを用いることができる。
接着層61として、粘着剤層を用いることもできる。粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物等の架橋剤を加えた組成物を挙げることができる。
Examples of the adhesive forming the adhesive layer 61 include water-based adhesives, active energy ray-curable adhesives, and the like. As these adhesives, those similar to the above-mentioned adhesives that can be used for bonding the linear polarizer and the thermoplastic resin film can be used.
An adhesive layer can also be used as the adhesive layer 61. The adhesive composition forming the adhesive layer is a composition in which a (meth)acrylic resin, styrene resin, silicone resin, etc. is used as a base polymer, and a crosslinking agent such as an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, etc. is added. can be mentioned.

接着層61は、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは、紫外線硬化性接着剤等の活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層である。 From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of wrinkle defects, the adhesive layer 61 is preferably a cured layer of an active energy ray-curable adhesive such as a UV-curable adhesive.

〔6〕粘着剤層
光学積層体は、粘着剤層をさらに含むことができる。図7は、粘着剤層80を有する光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
図7に示される光学積層体は、例えば、図6に示される光学積層体から基材フィルム42を剥離し、その剥離面に粘着剤層を積層することによって製造することができる。粘着剤層の外側の面にセパレートフィルムを積層してもよい。
[6] Adhesive layer The optical laminate may further include an adhesive layer. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate having an adhesive layer 80.
The optical laminate shown in FIG. 7 can be manufactured, for example, by peeling off the base film 42 from the optical laminate shown in FIG. 6 and laminating an adhesive layer on the peeled surface. A separate film may be laminated on the outer surface of the adhesive layer.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<実施例1>
(1)直線偏光板の作製
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着・配向させてなる一軸延伸フィルムである直線偏光子〔厚み:8μm〕を準備した。
上記直線偏光子の一方の面にポリビニルアルコール系接着剤を介して第1熱可塑性樹脂フィルムを積層するとともに、上記直線偏光子の他方の面に第2熱可塑性樹脂フィルムを積層し、一対の貼合ロール間に通して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/第2熱可塑性樹脂フィルムの層構成を有する積層体を得た。直線偏光子と第2熱可塑性樹脂フィルムとの間には接着剤は介在しておらず、第2熱可塑性樹脂フィルムは、剥離可能に直線偏光子に積層されている。
<Example 1>
(1) Preparation of linear polarizing plate A linear polarizer (thickness: 8 μm), which is a uniaxially stretched film made by adsorbing and orienting iodine on a polyvinyl alcohol resin film, was prepared.
A first thermoplastic resin film is laminated on one surface of the linear polarizer via a polyvinyl alcohol adhesive, and a second thermoplastic resin film is laminated on the other surface of the linear polarizer. The mixture was passed between rolls to obtain a laminate having a layer structure of first thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer/linear polarizer/second thermoplastic resin film. There is no adhesive between the linear polarizer and the second thermoplastic resin film, and the second thermoplastic resin film is removably laminated on the linear polarizer.

第1熱可塑性樹脂フィルム及び第2熱可塑性樹脂フィルムとしては下記のものを用いた。
・第1熱可塑性樹脂フィルム:日本製紙(株)製のクリアハードコートフィルムである商品名「COP20ST-HC」(環状ポリオレフィン系樹脂フィルム上にクリアハードコート層が形成されているフィルム、厚み:25μm)
・第2熱可塑性樹脂フィルム:富士フイルム(株)製のトリアセチルセルロース(TAC)フィルムである商品名「フジタック」(厚み:80μm)
The following were used as the first thermoplastic resin film and the second thermoplastic resin film.
・First thermoplastic resin film: Nippon Paper Industries Co., Ltd.'s clear hard coat film, trade name "COP20ST-HC" (film in which a clear hard coat layer is formed on a cyclic polyolefin resin film, thickness: 25 μm) )
・Second thermoplastic resin film: triacetyl cellulose (TAC) film manufactured by Fujifilm Co., Ltd., product name "FujiTac" (thickness: 80 μm)

得られた積層体に対して、熱風乾燥機を用いて80℃、300秒間の加熱処理を行うことによりポリビニルアルコール系接着剤層を乾燥させて直線偏光板を得た。 The obtained laminate was heat-treated at 80° C. for 300 seconds using a hot air dryer to dry the polyvinyl alcohol adhesive layer to obtain a linear polarizing plate.

(2)位相差層積層体の作製
下記に示す位相差フィルム1及び2、並びに、活性エネルギー線硬化性接着剤1を用意した。
・1/2波長板である位相差フィルム1:富士フイルム(株)製の商品名「QL FILM QL AA 318」(厚み80μmのTACフィルムである基材フィルム1と、その上に形成される配向層1と、その上に形成される重合性液晶化合物の硬化物層(単層)である位相差発現層1(面内位相差値235nm)とから構成される総厚み2μmの位相差フィルム)
・1/4波長板である位相差フィルム2:富士フイルム(株)製の商品名「QL FILM QL AB 318」(厚み80μmのTACフィルムである基材フィルム2と、その上に形成される配向層2と、その上に形成される重合性液晶化合物の硬化物層(単層)である位相差発現層2(面内位相差値120nm)とから構成される総厚み1μmの位相差フィルム)
・活性エネルギー線硬化性接着剤1:カチオン重合性の紫外線硬化性高屈折率接着剤
(2) Production of retardation layer laminate Retardation films 1 and 2 and active energy ray-curable adhesive 1 shown below were prepared.
・Retardation film 1 which is a 1/2 wavelength plate: Product name "QL FILM QL AA 318" manufactured by Fuji Film Co., Ltd. (base film 1 which is a TAC film with a thickness of 80 μm and an orientation formed thereon) A retardation film with a total thickness of 2 μm consisting of layer 1 and a retardation developing layer 1 (in-plane retardation value of 235 nm) which is a cured product layer (single layer) of a polymerizable liquid crystal compound formed thereon)
・Retardation film 2 which is a quarter wavelength plate: Product name "QL FILM QL AB 318" manufactured by Fuji Film Co., Ltd. (base film 2 which is a TAC film with a thickness of 80 μm and an orientation formed thereon) A retardation film with a total thickness of 1 μm consisting of layer 2 and a retardation developing layer 2 (in-plane retardation value 120 nm) which is a cured product layer (single layer) of a polymerizable liquid crystal compound formed thereon)
・Active energy ray curable adhesive 1: Cationic polymerizable ultraviolet curable high refractive index adhesive

位相差フィルム1が有する位相差発現層1の表面及び位相差フィルム2が有する位相差発現層2の表面にコロナ処理を施した。これらの位相差フィルムのそれぞれのコロナ処理面に上記活性エネルギー線硬化性接着剤1をバーコータを用いて、接着剤層の硬化後の総厚みが1.5μmとなるように塗布した後、位相差フィルム1及び位相差フィルム2を重ね合わせ、一対の貼合ロール間に通して、基材フィルム1/配向層1/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の層/位相差発現層2/配向層2/基材フィルム2の層構成を有する積層体を得た。 The surface of the retardation layer 1 of the retardation film 1 and the surface of the retardation layer 2 of the retardation film 2 were subjected to corona treatment. The active energy ray-curable adhesive 1 was applied to the corona-treated surface of each of these retardation films using a bar coater so that the total thickness of the adhesive layer after curing was 1.5 μm, and then the retardation film was applied. Film 1 and retardation film 2 are superimposed and passed between a pair of laminating rolls to form base film 1/alignment layer 1/retardation expression layer 1/layer of active energy ray-curable adhesive 1/retardation expression. A laminate having a layer structure of layer 2/alignment layer 2/base film 2 was obtained.

得られた積層体に対し、紫外線照射装置(ランプはフュージョンUVシステムズ社製の「Dバルブ」を使用〕を用いて積算光量が250mJ/cm(UVB))となるように紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤1の層を硬化させて、位相差層積層体を得た。 The obtained laminate is irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (the lamp used is "D Bulb" manufactured by Fusion UV Systems) so that the cumulative light intensity is 250 mJ/cm 2 (UVB). The layer of active energy ray-curable adhesive 1 was cured to obtain a retardation layer laminate.

(3)光学積層体1の作製
上記(1)で得られた直線偏光板が有する第2熱可塑性樹脂フィルムを剥離するとともに、上記(2)で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム1を配向層1とともに25m/分の剥離速度で剥離した。基材フィルム1が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム1の剥離角度は180度とした。
第2熱可塑性樹脂フィルムの剥離によって露出した直線偏光子の表面及び基材フィルム1の剥離によって露出した位相差発現層1の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層1は、基材フィルム1とともに剥離除去された。
(3) Preparation of optical laminate 1 The second thermoplastic resin film of the linear polarizing plate obtained in (1) above is peeled off, and the base material of the retardation layer laminate obtained in (2) above is peeled off. Film 1 was peeled together with alignment layer 1 at a peeling speed of 25 m/min. The peeling angle of the base film 1 with respect to the retardation layer laminate from which the base film 1 was peeled was 180 degrees.
Corona treatment was applied to the surface of the linear polarizer exposed by peeling off the second thermoplastic resin film and the surface of retardation developing layer 1 exposed by peeling off base film 1.
Note that the alignment layer 1 was peeled and removed together with the base film 1.

直線偏光板及び位相差層積層体のそれぞれのコロナ処理面に活性エネルギー線硬化性接着剤2をバーコータを用いて、接着剤層の硬化後の総厚みが2μmとなるように塗布した後、直線偏光板及び位相差層積層体を重ね合わせ、一対の貼合ロール間に通して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/活性エネルギー線硬化性接着剤2の層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/配向層2/基材フィルム2の層構成を有する積層体を得た。 After applying the active energy ray-curable adhesive 2 to the corona-treated surfaces of the linear polarizing plate and the retardation layer laminate using a bar coater so that the total thickness of the adhesive layer after curing is 2 μm, The polarizing plate and retardation layer laminate are stacked and passed between a pair of laminating rolls to form a layer of first thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer/linear polarizer/active energy ray-curable adhesive 2. A laminate having a layer structure of /Retardation layer 1/cured layer of active energy ray-curable adhesive 1/Retardation layer 2/Orientation layer 2/Substrate film 2 was obtained.

活性エネルギー線硬化性接着剤2としては下記のものを用いた。
・活性エネルギー線硬化性接着剤2:カチオン重合性の紫外線硬化性接着剤
As the active energy ray curable adhesive 2, the following was used.
・Active energy ray curable adhesive 2: Cationic polymerizable ultraviolet ray curable adhesive

得られた積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度40℃の環境下で5時間保持(静置)した(保持工程)。保持工程における相対湿度は55%RHであった(他の実施例及び比較例も同じ)。 The obtained laminate was placed in a constant temperature and humidity chamber and held (left standing) in an environment at a temperature of 40° C. for 5 hours (holding step). The relative humidity in the holding step was 55% RH (the same applies to other Examples and Comparative Examples).

その後、積層体に対し、紫外線照射装置(ランプはフュージョンUVシステムズ社製の「Hバルブ」を使用〕を用いて積算光量が400mJ/cm(UVB))となるように紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤2の層を硬化させて、光学積層体1を得た。紫外線照射時の環境は、温度23℃相対湿度55%RHとした(他の実施例及び比較例も同じ)。
得られた光学積層体1は、直線偏光子の吸収軸PLに対する位相差発現層1(1/2波長板)の進相軸SL1の角度が75°であり、位相差発現層2(1/4波長板)の進相軸SL2の角度が15°であった。この光学積層体1は、円偏光板として機能するものであった。
Thereafter, the laminate is irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (the lamp used is "H Bulb" manufactured by Fusion UV Systems) so that the cumulative light intensity is 400 mJ/cm 2 (UVB). The layer of active energy ray-curable adhesive 2 was cured to obtain an optical laminate 1. The environment during ultraviolet irradiation was a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55% RH (the same applies to other Examples and Comparative Examples).
In the obtained optical laminate 1, the angle of the fast axis SL1 of the retardation layer 1 (1/2 wavelength plate) with respect to the absorption axis PL of the linear polarizer is 75°, and the angle of the fast axis SL1 of the retardation layer 2 (1/2 wavelength plate) is 75°. The angle of the fast axis SL2 of the 4-wavelength plate was 15°. This optical laminate 1 functioned as a circularly polarizing plate.

(4)光学積層体2の作製(光学積層体1への粘着剤層の積層)
下記に示すシート状粘着剤1を用意した。
・シート状粘着剤1:転写型ノンキャリアフィルム((メタ)アクリル系粘着剤層〔厚み:15μm〕と、その一方の面に積層される軽剥離性フィルムと、その他方の面に積層される重剥離性フィルムとを有する積層フィルム)
(4) Preparation of optical laminate 2 (lamination of adhesive layer on optical laminate 1)
A sheet-like adhesive 1 shown below was prepared.
・Sheet-like adhesive 1: transfer type non-carrier film ((meth)acrylic adhesive layer [thickness: 15 μm], easy peelable film laminated on one side, and laminated on the other side) laminated film with heavy release film)

上記(3)で得られた光学積層体1が有する基材フィルム2を配向層2とともに剥離するとともに、シート状粘着剤1が有する軽剥離性フィルムを剥離した。基材フィルム2の剥離によって露出した位相差発現層2の表面及び軽剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層2は、基材フィルム2とともに剥離除去された。
The base film 2 of the optical laminate 1 obtained in (3) above was peeled together with the alignment layer 2, and the easily peelable film of the sheet-like adhesive 1 was peeled off. Corona treatment was applied to the surface of the retardation layer 2 exposed by peeling off the base film 2 and the surface of the adhesive layer exposed by peeling off the easily peelable film.
Note that the alignment layer 2 was peeled off together with the base film 2.

光学積層体1及びシート状粘着剤1を重ね合わせ、一対の貼合ロール間に通して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/活性エネルギー線硬化性接着剤2の硬化物層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/粘着剤層/重剥離性フィルムの層構成を有する光学積層体2を得た。 The optical laminate 1 and the sheet-like adhesive 1 are stacked and passed between a pair of laminating rolls to form a first thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer/linear polarizer/active energy ray-curable adhesive 2. An optical laminate 2 was obtained having the following layer structure: cured layer of layer/retardation layer 1/cured layer of active energy ray curable adhesive 1/retardation layer 2/adhesive layer/heavy release film. .

<実施例2>
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽を内壁に貼付し、周波数10Hz、振幅1mmの振動環境下で5時間保持(静置)したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。保持工程における温度環境は23℃であった。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
<Example 2>
In the holding process, the optical laminate 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the laminate was attached to the inner wall of a constant temperature and humidity chamber and held (left still) in a vibration environment with a frequency of 10 Hz and an amplitude of 1 mm for 5 hours. Created. The temperature environment in the holding step was 23°C. Further, an optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that this optical laminate 1 was used.

<実施例3>
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度23℃の環境下で3日間保持(静置)したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。保持工程における相対湿度は55%RHであった。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
<Example 3>
In the holding step, an optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the laminate was placed in a constant temperature and humidity bath and held (left standing) for 3 days in an environment at a temperature of 23°C. The relative humidity during the holding step was 55% RH. Further, an optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that this optical laminate 1 was used.

<実施例4>
(1)直線偏光板の作製
実施例1と同様にして直線偏光板を作製した。
<Example 4>
(1) Production of linearly polarizing plate A linearly polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1.

(2)位相差層積層体の作製
実施例1と同様にして位相差層積層体を作製した。
(2) Production of retardation layer laminate A retardation layer laminate was produced in the same manner as in Example 1.

(3)光学積層体1の作製
上記(1)で得られた直線偏光板が有する第2熱可塑性樹脂フィルムを配向層1とともに剥離するとともに、上記(2)で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム1を90m/分の剥離速度で剥離した。基材フィルム1が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム1の剥離角度は180度とした。
これ以降は、保持工程を実施しなかったこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。
(3) Preparation of optical laminate 1 The second thermoplastic resin film of the linearly polarizing plate obtained in (1) above is peeled together with alignment layer 1, and the retardation layer laminate obtained in (2) above is removed. The base film 1 having the following was peeled off at a peeling speed of 90 m/min. The peeling angle of the base film 1 with respect to the retardation layer laminate from which the base film 1 was peeled was 180 degrees.
After this, an optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the holding step was not performed.

(4)光学積層体2の作製(光学積層体1への粘着剤層の積層)
上記(3)で得られた光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
(4) Preparation of optical laminate 2 (lamination of adhesive layer on optical laminate 1)
An optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical laminate 1 obtained in (3) above was used.

<比較例1>
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度23℃の環境下で5時間保持(静置)したこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。保持工程における相対湿度は55%RHであった。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
<Comparative example 1>
In the holding step, an optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the laminate was placed in a constant temperature and humidity chamber and held (left standing) in an environment at a temperature of 23° C. for 5 hours. The relative humidity during the holding step was 55% RH. Further, an optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that this optical laminate 1 was used.

<比較例2>
保持工程を実施することになく、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/活性エネルギー線硬化性接着剤2の層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/基材フィルム2の層構成を有する積層体を得た後、すぐさま紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤2の層を硬化させたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体1を作製した。また、この光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
<Comparative example 2>
First thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer/linear polarizer/layer of active energy ray curable adhesive 2/retardation layer 1/active energy ray curable adhesive without performing a holding step. After obtaining a laminate having a layer configuration of cured product layer of agent 1/retardation expression layer 2/base film 2, the layer of active energy ray-curable adhesive 2 was immediately cured by irradiation with ultraviolet rays. Optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. Further, an optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that this optical laminate 1 was used.

<比較例3>
(1)粘着剤層付直線偏光板の作製
実施例1と同様にして直線偏光板を作製した。
また、下記に示すシート状粘着剤2を用意した。
・シート状粘着剤2:転写型ノンキャリアフィルム((メタ)アクリル系粘着剤層〔厚み:5μm〕と、その一方の面に積層される軽剥離性フィルムと、その他方の面に積層される重剥離性フィルムとを有する積層フィルム)
<Comparative example 3>
(1) Production of linearly polarizing plate with adhesive layer A linearly polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1.
In addition, a sheet-like adhesive 2 shown below was prepared.
・Sheet-like adhesive 2: transfer type non-carrier film ((meth)acrylic adhesive layer [thickness: 5 μm], easy peelable film laminated on one side, and laminated on the other side) laminated film with heavy release film)

直線偏光板が有する第2熱可塑性樹脂フィルムを剥離するとともに、シート状粘着剤2が有する軽剥離性フィルムを剥離した。第2熱可塑性樹脂フィルムの剥離によって露出した直線偏光子の表面及び軽剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面にコロナ処理を施した。
その後、直線偏光子の表面(コロナ処理面)に軽剥離性フィルムが剥離されたシート状粘着剤2をそのコロナ処理面側で積層して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/粘着剤層/重剥離性フィルムの層構成を有する粘着剤層付直線偏光板を得た。
The second thermoplastic resin film of the linearly polarizing plate was peeled off, and the easily releasable film of the sheet-like adhesive 2 was also peeled off. Corona treatment was applied to the surface of the linear polarizer exposed by peeling off the second thermoplastic resin film and the surface of the adhesive layer exposed by peeling off the easily peelable film.
Thereafter, a sheet-like adhesive 2 with a lightly peelable film peeled off is laminated on the surface of the linear polarizer (corona-treated surface) on the corona-treated surface side, and the first thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer is formed. A linear polarizing plate with an adhesive layer having a layer structure of /linear polarizer/adhesive layer/heavy release film was obtained.

(2)位相差層積層体の作製
実施例1と同様にして位相差層積層体を作製した。
(2) Production of retardation layer laminate A retardation layer laminate was produced in the same manner as in Example 1.

(3)光学積層体1の作製
上記(1)で得られた粘着剤層付直線偏光板が有する重剥離性フィルムを剥離するとともに、上記(2)で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム1を配向層1とともに25m/分の剥離速度で剥離した。基材フィルム1が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム1の剥離角度は180度とした。
重剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面及び基材フィルム1の剥離によって露出した位相差発現層1の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層1は、基材フィルム1とともに剥離除去された。
(3) Preparation of optical laminate 1 The heavy releasable film possessed by the linear polarizing plate with an adhesive layer obtained in the above (1) is peeled off, and the retardation layer laminate obtained in the above (2) is The base film 1 was peeled together with the alignment layer 1 at a peeling speed of 25 m/min. The peeling angle of the base film 1 with respect to the retardation layer laminate from which the base film 1 was peeled was 180 degrees.
Corona treatment was applied to the surface of the adhesive layer exposed by peeling off the heavy release film and the surface of retardation expressing layer 1 exposed by peeling off base film 1.
Note that the alignment layer 1 was peeled and removed together with the base film 1.

その後、粘着剤層付直線偏光板のコロナ処理面に位相差層積層体をそのコロナ処理面側で積層して、第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/粘着剤層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/基材フィルム2の層構成を有する光学積層体1を得た。 Thereafter, a retardation layer laminate is laminated on the corona-treated surface of the linear polarizing plate with an adhesive layer on the corona-treated side, and the first thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer/linear polarizer/adhesive An optical laminate 1 having a layer structure of layer/retardation layer 1/cured layer of active energy ray-curable adhesive 1/retardation layer 2/base film 2 was obtained.

(4)光学積層体2の作製(光学積層体1への粘着剤層の積層)
上記(3)で得られた光学積層体1を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体2を作製した。
(4) Preparation of optical laminate 2 (lamination of adhesive layer on optical laminate 1)
An optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical laminate 1 obtained in (3) above was used.

[測定・評価]
(1)面粗さの測定
光学積層体2から直線偏光子の吸収軸を長さ方向とする長さ50mm(長辺)、幅15mmの矩形状の積層体片を切り出し、重剥離性フィルムを剥離して粘着剤層を露出させ、露出した粘着剤層でアクリル板(黒色)に貼り付けて試験片〔第1熱可塑性樹脂フィルム/ポリビニルアルコール系接着剤層/直線偏光子/活性エネルギー線硬化性接着剤2の硬化物層/位相差発現層1/活性エネルギー線硬化性接着剤1の硬化物層/位相差発現層2/粘着剤層/アクリル板(黒色)の層構成を有する。〕とした。この試験片に第1熱可塑性樹脂フィルム側から光を当てて、ISO 25178に準拠し、走査型白色干渉顕微鏡「VertScan」(日立はテクサイエンス社製)により層断面解析モードで、光学積層体1が有する位相差層(位相差発現層1)における直線偏光子側の表面の算術平均粗さSa、二乗平均平方根高さSq、界面の展開面積比Sdr、及び、二法平均平方根傾斜Sdqを測定した。結果を表1に示す。測定条件は以下のとおりであった。
カメラ :ソニー社製「XCL-32」
対物レンズ :5CTI
鏡胴 :1.0X
ズームレンズ:1X
光源 :530White
測定デバイス:ピエゾ
測定モード :Wave
[Measurement/Evaluation]
(1) Measurement of surface roughness A rectangular laminate piece with a length of 50 mm (long side) and a width of 15 mm with the absorption axis of the linear polarizer in the longitudinal direction was cut out from the optical laminate 2, and a heavy release film was cut out. Peel it off to expose the adhesive layer, and attach the exposed adhesive layer to an acrylic plate (black) to form a test piece [first thermoplastic resin film/polyvinyl alcohol adhesive layer/linear polarizer/active energy ray curing] The layer structure is as follows: cured layer of adhesive 2/retardation layer 1/cured layer of active energy ray curable adhesive 1/retardation layer 2/adhesive layer/acrylic plate (black). ]. This test piece was irradiated with light from the first thermoplastic resin film side, and the optical laminate 1 was measured in layer cross-section analysis mode using a scanning white interference microscope "VertScan" (manufactured by Hitachi Techscience) in accordance with ISO 25178. Measure the arithmetic mean roughness Sa, root mean square height Sq, developed area ratio Sdr of the interface, and bimodal root mean square slope Sdq of the linear polarizer side surface of the retardation layer (retardation expression layer 1). did. The results are shown in Table 1. The measurement conditions were as follows.
Camera: Sony “XCL-32”
Objective lens: 5CTI
Lens barrel: 1.0X
Zoom lens: 1X
Light source: 530White
Measurement device: Piezo Measurement mode: Wave

(2)皺欠陥の評価
光学積層体1から、直線偏光子の吸収軸を長さ方向とする長さ50mm(長辺)、幅15mm(短辺)の試験片(矩形)を切り出した。
図8に示すように、この試験片(S)を2つの短辺(S1)同士が互いに向き合うように湾曲させて長辺方向中央部に湾曲部(C)を形成し、この状態を保ちながら互いに平行に配置された2枚のガラス板(平板状)(G)の間に保持しながら、2枚のガラス板(G)の間隔を縮小することにより試験片の湾曲部の曲率直径(R)が10mmとなるまで狭める縮小工程と、次いで湾曲状態が解消するまで2枚のガラス板の間隔を拡げる拡張工程とを10回繰り返す10mm屈曲試験を行った。なお、試験片(S)の2つの短辺(S1)はそれぞれガラス板(G)に固定した。
10mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを5mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す5mm屈曲試験を行った。
5mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを4mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す4mm屈曲試験を行った。
4mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを3mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す3mm屈曲試験を行った。
3mm屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Rを2mmとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを10回繰り返す2mm屈曲試験を行った。
(2) Evaluation of wrinkle defects A test piece (rectangle) having a length of 50 mm (long side) and a width of 15 mm (short side) with the absorption axis of the linear polarizer in the length direction was cut out from the optical laminate 1.
As shown in Fig. 8, this test piece (S) is curved so that the two short sides (S1) face each other to form a curved part (C) at the center in the long side direction, and while maintaining this state, The curvature diameter (R A 10 mm bending test was conducted by repeating 10 times a reduction step in which the distance between the two glass plates was increased until the curved state was resolved, followed by an expansion step in which the distance between the two glass plates was increased until the curved state was resolved. Note that the two short sides (S1) of the test piece (S) were each fixed to a glass plate (G).
If no wrinkle defects occur in the test piece after the 10 mm bending test, the same test piece is subjected to 5 mm bending by repeating the shrinking process and expanding process 10 times in the same manner as above, except that the curvature diameter R of the bent part is set to 5 mm. The test was conducted.
If no wrinkle defects occur in the test piece after the 5 mm bending test, the same test piece is further subjected to 4 mm bending by repeating the reduction process and the expansion process 10 times in the same manner as above, except that the curvature diameter R of the bend part is set to 4 mm. The test was conducted.
If no wrinkle defects occur in the test piece after the 4 mm bending test, the same test piece is subjected to 3 mm bending by repeating the shrinking process and expanding process 10 times in the same manner as above, except that the curvature diameter R of the bent part is set to 3 mm. The test was conducted.
If no wrinkle defects occur in the test piece after the 3 mm bending test, the same test piece is further subjected to 2 mm bending by repeating the shrinking process and expanding process 10 times in the same manner as above, except that the curvature diameter R of the bent part is set to 2 mm. The test was conducted.

試験片における心棒への巻き掛け部分を目視にて観察し、皺欠陥の生じにくさを下記の基準に従って評価した。結果を表1に示す。
A:10mm屈曲試験からスタートし、2mm屈曲試験を終えても皺欠陥が認められない。
B:10mm屈曲試験からスタートし、3mm屈曲試験を終えても皺欠陥は認められなかったが、引き続き2mm屈曲試験を行うと、皺欠陥が発生した。
C:10mm屈曲試験からスタートし、4mm屈曲試験を終えても皺欠陥は認められなかったが、引き続き3mm屈曲試験を行うと、皺欠陥が発生した。
The part of the test piece wrapped around the mandrel was visually observed, and the resistance to wrinkle defects was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: Starting from a 10 mm bending test, no wrinkle defects are observed even after completing a 2 mm bending test.
B: Starting from the 10 mm bending test, no wrinkle defects were observed even after the 3 mm bending test was completed, but when the 2 mm bending test was subsequently performed, wrinkle defects occurred.
C: Starting from the 10 mm bending test, no wrinkle defects were observed even after the 4 mm bending test was completed, but when the 3 mm bending test was subsequently performed, wrinkle defects occurred.

なお、各試験片における直線偏光子の吸収軸(PL)、位相差発現層1の進相軸(SL1)及び位相差発現層2の進相軸(SL2)は、直線偏光子側から見て図9に示すとおりであった。すなわち、第1熱可塑性樹脂フィルム側(直線偏光子側)から見て左回りを正(+)として、吸収軸(PL)は短辺に対して+135°、進相軸(SL1)は短辺に対して+60°、進相軸(SL2)は短辺に対して+120°であった。各試験片は円偏光板として機能するものである。 The absorption axis (PL) of the linear polarizer, the fast axis (SL1) of the retardation layer 1, and the fast axis (SL2) of the retardation layer 2 in each test piece are as follows when viewed from the linear polarizer side. It was as shown in FIG. In other words, when viewed from the first thermoplastic resin film side (linear polarizer side), counterclockwise rotation is positive (+), the absorption axis (PL) is +135° with respect to the short side, and the fast axis (SL1) is relative to the short side. The fast axis (SL2) was +120° with respect to the short side. Each test piece functions as a circularly polarizing plate.

(3)虹ムラの評価
光学積層体2から、縦100mm×横100mmのサイズの試験片(矩形)を切り出した。この試験片から重剥離性フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を用いて平坦な黒色アクリル板に貼合した。また、光学積層体2の最上層である第1熱可塑性樹脂フィルム上に水膜を介してガラス板〔コーニング社製の無アルカリガラス「イーグルXG」、厚み0.7mm〕を積層し、評価用積層体とした。
(3) Evaluation of rainbow unevenness A test piece (rectangle) with a size of 100 mm in length x 100 mm in width was cut out from the optical laminate 2. The heavy release film was peeled off from this test piece, and the exposed adhesive layer was used to bond it to a flat black acrylic board. In addition, a glass plate [alkali-free glass "Eagle It was made into a laminate.

得られた評価用積層体を蛍光灯の点いた室内に置いた。蛍光灯の位置は、黒色アクリル板から250mmの高さとした。この状態で、蛍光灯からの光の反射光を評価用積層体の表面(ガラス板側の表面)側から目視で観察し、虹ムラの生じにくさを下記の基準に従って評価した。結果を表1に示す。蛍光灯からの光の反射光とは、光学積層体2の内部に入射した蛍光灯からの光が各層の界面で反射することによってガラス板側から出射する光を意味している。
A:反射光に虹ムラが認められない。
B:反射光にごくわずかに虹ムラが認められる。
C:反射光に虹ムラが認められる(Bよりも明確に虹ムラが認められる)。
The obtained laminate for evaluation was placed in a room lit with fluorescent lights. The fluorescent lamp was positioned at a height of 250 mm from the black acrylic board. In this state, the reflected light from the fluorescent lamp was visually observed from the surface of the evaluation laminate (the surface on the glass plate side), and the difficulty of producing rainbow unevenness was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1. The reflected light from the fluorescent lamp refers to the light that is emitted from the glass plate side when the light from the fluorescent lamp enters the inside of the optical laminate 2 and is reflected at the interface between each layer.
A: No rainbow unevenness is observed in the reflected light.
B: Very slight rainbow unevenness is observed in the reflected light.
C: Rainbow unevenness is observed in the reflected light (rainbow unevenness is observed more clearly than in B).

Figure 0007406977000001
Figure 0007406977000001

10 光学フィルム、20 活性エネルギー線硬化性接着剤層(接着剤層)、20a 硬化接着剤層、30 位相差層、31,71 位相差発現層、32,72 配向層、41,42 基材フィルム、50 直線偏光子、51,61 接着層、52 熱可塑性樹脂フィルム、80 粘着剤層。 10 Optical film, 20 Active energy ray curable adhesive layer (adhesive layer), 20a Cured adhesive layer, 30 Retardation layer, 31, 71 Retardation expression layer, 32, 72 Orientation layer, 41, 42 Base film , 50 linear polarizer, 51, 61 adhesive layer, 52 thermoplastic resin film, 80 adhesive layer.

Claims (6)

光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記活性エネルギー線硬化性接着剤層と前記位相差層とが接するように積層する工程と、
下記(1)~(2):
(1)30℃以上の温度で2時間以上保持する、
(2)振動の周波数が5Hz以上であり、振動の振幅が0.5mm以上である振動条件下、5℃以上の温度で2時間以上保持する
のいずれか1以上を満たす条件下で保持する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
A method for manufacturing an optical laminate, comprising:
The optical laminate includes, in this order, an optical film, a cured adhesive layer that is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive, and a retardation layer that includes a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The manufacturing method includes:
Laminating the optical film, the active energy ray curable adhesive layer, and the retardation layer so that the active energy ray curable adhesive layer and the retardation layer are in contact with each other;
Below (1) to (2):
(1) Hold at a temperature of 30°C or higher for 2 hours or more,
(2) Holding under conditions that satisfy one or more of the following conditions: holding at a temperature of 5°C or more for 2 hours or more under vibration conditions in which the frequency of vibration is 5Hz or more and the amplitude of vibration is 0.5mm or more and,
curing the active energy ray-curable adhesive layer to form the cured adhesive layer;
A method for producing an optical laminate, comprising: in this order.
前記光学フィルムが直線偏光子を含む、請求項1に記載の光学積層体の製造方法。 The method for manufacturing an optical laminate according to claim 1, wherein the optical film includes a linear polarizer. 前記積層工程において、前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記直線偏光子と前記活性エネルギー線硬化性接着剤層とが接するように積層する、請求項2に記載の光学積層体の製造方法。 In the lamination step, the optical film, the active energy ray-curable adhesive layer, and the retardation layer are laminated so that the linear polarizer and the active energy ray-curable adhesive layer are in contact with each other. Item 2. A method for producing an optical laminate according to item 2. 光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記硬化接着剤層と前記位相差層とは接しており、
前記位相差層における前記硬化接着剤層側の表面は、下記(a)~(d):
(a)算術平均粗さSaが0.065μm以上0.150μm以下である、
(b)二乗平均平方根高さSqが0.085μm以上である、
(c)界面の展開面積比Sdrが0.2%以上である、
(d)二法平均平方根傾斜Sdqが0.065以上である
すべてを満たす、光学積層体。
An optical film, a cured adhesive layer that is a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive, and a retardation layer containing a cured product layer of a polymerizable liquid crystal compound, in this order,
The cured adhesive layer and the retardation layer are in contact with each other,
The surface of the retardation layer on the cured adhesive layer side has the following (a) to (d):
(a) Arithmetic mean roughness Sa is 0.065 μm or more and 0.150 μm or less,
(b) the root mean square height Sq is 0.085 μm or more;
(c) the developed area ratio Sdr of the interface is 0.2% or more;
(d) An optical laminate that satisfies all of the conditions that the bimodal root mean square slope Sdq is 0.065 or more.
前記光学フィルムが直線偏光子を含む、請求項4に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 4, wherein the optical film includes a linear polarizer. 前記直線偏光子と前記硬化接着剤層とが接している、請求項5に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 5, wherein the linear polarizer and the cured adhesive layer are in contact with each other.
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