JP7398689B2 - 複合タングステン酸化物粒子の製造方法 - Google Patents
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Description
一般式MxWyOz(但し、M元素は、アルカリ金属のうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3.0)で表わされる複合タングステン酸化物粒子の製造方法であって、
被処理物である、タングステン源と前記M元素を含有するM元素源とを含む原料混合溶液の液滴を形成する液滴形成工程と、
前記被処理物を1000℃以上1200℃以下で熱処理する熱処理工程と、を有する複合タングステン酸化物粒子の製造方法を提供する。
以下、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法の一構成例について説明する。
被処理物を、500℃以上で熱処理する熱処理工程。
(液滴形成工程)
液滴形成工程では、被処理物である、タングステン源とM元素源とを含む原料混合溶液の液滴を形成することができる。
(熱処理工程)
熱処理工程では被処理物を500℃以上で熱処理することができる。
[複合タングステン酸化物粒子]
次に、本実施形態の複合タングステン酸化物粒子について説明する。本実施形態の複合タングステン酸化物粒子は、既述の複合タングステン酸化物粒子の製造方法により製造することができるため、既に説明した事項の一部は説明を省略する。
[複合材料製造装置]
本実施形態の複合タングステン酸化物粒子の製造方法に好適に用いることができる複合材料製造装置の構成例について以下に説明する。
[実施例1]
図1に示した複合材料製造装置10を用いて、複合タングステン酸化物粒子として、Cs0.32WO3粒子の製造を行い、評価を行った。以下、具体的な条件について説明する。
(1)粉末X線回折
得られた複合タングステン酸化物粒子について、粉末X線回折装置(Bruker社製 型式:D2 PHASER)を用い、粉末X線回折パターン(XRDパターン)の測定を行った。なお、線源としてはCuKα線を用い、管電圧40kV、管電流30mAとして粉末X線回折パターンの測定を行った。
(2)SEM像観察
得られた複合タングステン酸化物粒子について、電界放出形走査型電子顕微鏡(FE-SEM:Field Emission-Scanning Electron Microscope 日立ハイテクノロジーズ製 型式:S-5200)を用いて観察を行った。観察は印加電圧を5~20kVとして行った。
(3)TEM像観察
得られた複合タングステン酸化物粒子について、透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope 日本電子株式会社製 型式:JEM-3000F)を用いて観察を行った。観察は印加電圧を297kVとして行った。
(4)XPS測定
図7(A)、図7(B)にXPSを用いたW原子の4fとCs原子の3dのスペクトルの測定結果を示す。なお、測定には、島津製作所社製ESCA-3400を用いた。図7(A)がW原子の4fの結果であり、図7(B)がCsの3dの結果である。W原子の4fの測定結果は37.8eVと、35.7eVとにピークを有し、これらのピークはW6+に由来すると考えられる。すなわち、複合タングステン酸化物相中のW原子が6価になっていることを確認できた。
(5)STEM観察
図9(A)、図9(B)、図9(D)に日本電子製STEM(型式:JEM―ARM200F)を用いて観察したhigh-angle angular dark-field images(HAADF)像を示す。HAADF像では、重い原子ほど明るいコントラストを示すため、最も明るいコントラストがW、次に明るいコントラストがCsであり、Oは確認できないと考えられる。
(6)XAFS測定
図10にあいちシンクロトロン光センターのBL5S1ビームラインを用いてXAFS測定を行い、タングステンからの動径分布関数を算出した結果を示す。ピーク位置は1.35Åであった。本分布は空間的な平均値であるが、Wのまわりにはc面内に4つの酸素が位置し、c軸方向に2つの酸素原子が位置するため、c面内の酸素の影響が強い。本ピーク位置は実際の原子間距離よりも短いことが知られるが、W欠損によりW欠損に隣接するc面方向のWが間の酸素を強く引き付けるためと考えられる。
Claims (6)
- 一般式MxWyOz(但し、M元素は、アルカリ金属のうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3.0)で表わされる複合タングステン酸化物粒子の製造方法であって、
被処理物である、タングステン源と前記M元素を含有するM元素源とを含む原料混合溶液の液滴を形成する液滴形成工程と、
前記被処理物を1000℃以上1200℃以下で熱処理する熱処理工程と、を有する複合タングステン酸化物粒子の製造方法。 - 前記液滴形成工程において、前記タングステン源を含む溶液と、前記M元素源を含む溶液とを混合し、前記原料混合溶液を形成する請求項1に記載の複合タングステン酸化物粒子の製造方法。
- 前記液滴形成工程では、超音波噴霧装置を用いて前記原料混合溶液の液滴を形成しており、
前記超音波噴霧装置において、前記タングステン源を含む溶液と、前記M元素源を含む溶液とを混合し、前記原料混合溶液を形成する請求項1または請求項2に記載の複合タングステン酸化物粒子の製造方法。 - 前記タングステン源がパラタングステン酸アンモニウムである請求項1~請求項3のいずれか一項に記載の複合タングステン酸化物粒子の製造方法。
- 前記M元素源が、前記M元素の炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、水酸化物から選択された1種類以上である請求項1~請求項4のいずれか一項に記載の複合タングステン酸化物粒子の製造方法。
- 前記複合タングステン酸化物粒子の複合タングステン酸化物相の格子定数が、a軸が7.37Å以上7.42Å以下、c軸が7.58Å以上7.71Å以下であり、
前記複合タングステン酸化物相中のタングステン原子サイトにおけるタングステン原子の占有率が、50%以上である請求項1~請求項5のいずれか一項に記載の複合タングステン酸化物粒子の製造方法。
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