JP7396932B2 - Resin composition and its solution - Google Patents

Resin composition and its solution Download PDF

Info

Publication number
JP7396932B2
JP7396932B2 JP2020035058A JP2020035058A JP7396932B2 JP 7396932 B2 JP7396932 B2 JP 7396932B2 JP 2020035058 A JP2020035058 A JP 2020035058A JP 2020035058 A JP2020035058 A JP 2020035058A JP 7396932 B2 JP7396932 B2 JP 7396932B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
cyclic polyolefin
hydrogenated
polymer block
aromatic vinyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020035058A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021138795A (en
Inventor
稔久 石原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MCPP Innovation LLC
Original Assignee
MCPP Innovation LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MCPP Innovation LLC filed Critical MCPP Innovation LLC
Priority to JP2020035058A priority Critical patent/JP7396932B2/en
Publication of JP2021138795A publication Critical patent/JP2021138795A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7396932B2 publication Critical patent/JP7396932B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

本発明は低誘電特性に優れた樹脂組成物、これを用いた低誘電特性に優れた樹脂組成物硬化物、及び電気・電子回路用積層板に関する。 The present invention relates to a resin composition with excellent low dielectric properties, a cured resin composition using the same with excellent low dielectric properties, and a laminate for electric/electronic circuits.

一般に、電気・電子回路基板としては、銅張積層板(CCL)と言われる、紙やガラス等の基材に樹脂を含侵させたシート(プリプレグ)を重ね、加圧加熱処理して得た絶縁板の表面に銅箔を施したものや、フレキシブルプリント基板(FPC)と言われる、ベースフィルムの上に絶縁接着層を形成してその上に銅等の導体箔を張り合わせたものが主に使われる。 In general, electrical/electronic circuit boards are made by stacking sheets (prepreg) made of resin-impregnated base materials such as paper or glass, called copper clad laminates (CCL), and applying pressure and heat treatment. The main types are those with copper foil applied to the surface of an insulating board, and those with an insulating adhesive layer formed on a base film, called flexible printed circuit boards (FPC), on which conductive foil such as copper is laminated. used.

ここでプリプレグ用樹脂や絶縁接着層としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂等の熱硬化性樹脂が用いられ、積層後に加熱加圧によって熱硬化し、耐熱性や接着性、耐水性、機械的強度、及び電気的特性に優れた回路基板となる。
近年、電気・電子機器に使用される多層回路基板は、機器の小型化、軽量化及び高機能化が進んでおり、更なる多層化、高密度化、薄型化、軽量化と信頼性及び成形加工性の向上等が要求されている。
Here, thermosetting resins such as epoxy resins, acrylic resins, phenolic resins, polyphenylene ether resins, polyimide resins, and bismaleimide resins are used as prepreg resins and insulating adhesive layers, and are thermally cured by heating and pressure after lamination. This results in a circuit board with excellent heat resistance, adhesiveness, water resistance, mechanical strength, and electrical properties.
In recent years, multilayer circuit boards used in electrical and electronic equipment have become smaller, lighter, and more highly functional. Improvements in workability, etc. are required.

電気・電子回路用積層板等の電気・電子部品の材料と樹脂材料に要求される重要な性能として、低誘電特性が挙げられる。近年、情報伝達量、速度の向上のため、通信周波数の高周波数化が進んでおり、その中で、伝送損失(α)の増大が大きな課題となっている。この伝送損失(α)の値が低いほど、情報信号の減衰が少なく、通信の高い信頼性が確保できることを意味する。
伝送損失(α)は周波数(f)に比例するため、高周波数領域での通信ではαが大きくなり、信頼性の低下につながる。伝送損失(α)を抑える手法として、周波数(f)と同じく、αが比例する誘電正接(tanδ)を低減する方法が挙げられる。通信信号の高速伝送のためには、誘電正接(tanδ)の低い材料、即ち、低誘電特性を有する材料が求められている。
Low dielectric properties are an important performance required of materials and resin materials for electrical and electronic components such as laminates for electrical and electronic circuits. In recent years, communication frequencies have been increasing in order to improve the amount and speed of information transmission, and the increase in transmission loss (α) has become a major issue. The lower the value of the transmission loss (α), the less attenuation of the information signal, which means that high communication reliability can be ensured.
Since transmission loss (α) is proportional to frequency (f), α increases in communication in a high frequency region, leading to a decrease in reliability. One method for suppressing transmission loss (α) is to reduce the dielectric loss tangent (tan δ), which is proportional to α, like the frequency (f). For high-speed transmission of communication signals, materials with a low dielectric loss tangent (tan δ), that is, materials with low dielectric properties are required.

例えば、エポキシ樹脂は接着性や耐熱性に優れることから広く回路基板用樹脂として用いられているが、tanδが大きいことから様々な改良、発明が行なわれている。
例えば、特許文献1では、ポリフェニレンエーテル変性エポキシ樹脂に第三成分を導入したエポキシ樹脂が開示されており、また、特許文献2では、エステル変性エポキシ樹脂が開示されている。
For example, epoxy resin is widely used as a resin for circuit boards because of its excellent adhesiveness and heat resistance, but various improvements and inventions have been made because of its large tan δ.
For example, Patent Document 1 discloses an epoxy resin in which a third component is introduced into a polyphenylene ether-modified epoxy resin, and Patent Document 2 discloses an ester-modified epoxy resin.

特開2019-052278号公報JP2019-052278A 特開2017-193649号公報Japanese Patent Application Publication No. 2017-193649

しかしながら、特許文献1や特許文献2に記載のいずれの樹脂も、そのtanδは高周波数領域では未だ不十分なものであった。
そこで、本発明の課題は、簡易な操作でも高周波数領域で低誘電特性に優れた熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物、並びに該組成物からなる電気・電子回路用積層板を提供することにある。
However, the tan δ of any of the resins described in Patent Document 1 and Patent Document 2 was still insufficient in the high frequency region.
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition that is easy to operate and has excellent low dielectric properties in a high frequency range, a cured product thereof, and a laminate for electric/electronic circuits made of the composition. It is in.

本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の変性環状ポリオレフィンを用い、これを熱硬化性樹脂と配合した樹脂組成物とすることにより、上記課題を解決し得ることを見出した。
即ち、本発明は以下の特徴を有する。
As a result of intensive studies aimed at solving the above problems, the present inventor found that the above problems could be solved by using a specific modified cyclic polyolefin and creating a resin composition by blending this with a thermosetting resin. .
That is, the present invention has the following features.

[1]変性環状ポリオレフィンと、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂及びビスマレイミド樹脂から選ばれる少なくとも1種の熱硬化性樹脂、更に硬化剤を含む樹脂組成物であって、該変性環状ポリオレフィンの重量平均分子量(Mw)が60,000以下であり、該変性環状ポリオレフィンが、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性体である環状ポリオレフィンであり、該環状ポリオレフィンが、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなる樹脂組成物。 [1] A resin composition comprising a modified cyclic polyolefin, at least one thermosetting resin selected from epoxy resins, acrylic resins, phenolic resins, polyphenylene ether resins, polyimide resins and bismaleimide resins, and a curing agent. , the weight average molecular weight (Mw) of the modified cyclic polyolefin is 60,000 or less, the modified cyclic polyolefin is a cyclic polyolefin modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an anhydride thereof, and the cyclic polyolefin is A resin composition comprising a hydrogenated block copolymer which is a hydrogenated block copolymer containing at least one aromatic vinyl monomer unit and at least one conjugated diene monomer unit.

[2]前記水素化ブロックコポリマーが、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有し、該水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有する、[1]に記載の樹脂組成物。
[3]前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が90%以上の水素化レベルをもち、且つ、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位が95%以上の水素化レベルをもつ、[2]に記載の樹脂組成物。
[2] The hydrogenated block copolymer is a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit which is a hydrogenated product of a polymer block made of the aromatic vinyl monomer unit, and a hydrogenated product of a polymer block made of the conjugated diene monomer unit. [ 1].
[3] The hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit has a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated conjugated diene polymer block unit has a hydrogenation level of 95% or more. Resin composition.

[4]前記変性環状ポリオレフィンの、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性率が0.1~2質量%である、[1]~[3]のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
[5]前記変性環状ポリオレフィンの、測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.001未満である、[1]~[4]のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
[6]前記変性環状ポリオレフィンの含有率が、10~60質量%(樹脂組成物全体に対して)、前記の熱硬化性樹脂及び硬化剤の合計の含有率が40~90質量%(樹脂組成物全体に対して)である、[1]~[5]のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the modified cyclic polyolefin has a modification rate of 0.1 to 2% by mass with an unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride. thing.
[5] The resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the modified cyclic polyolefin has a dielectric loss of less than 0.001 at a measurement frequency of 10 GHz.
[6] The content of the modified cyclic polyolefin is 10 to 60% by mass (based on the entire resin composition), and the total content of the thermosetting resin and curing agent is 40 to 90% by mass (based on the entire resin composition). The resin composition according to any one of [1] to [5], which is (with respect to the entire product).

[7][1]~[6]のいずれか一項に記載の樹脂組成物を、10~90質量%の固形分濃度で有機溶媒に溶解した、樹脂組成物溶液。
[8][1]~[6]のいずれか一項に記載の樹脂組成物を硬化させてなる、樹脂組成物硬化物。
[9][1]~[6]のいずれか一項に記載の樹脂組成物を用いてなる、電気・電子回路用積層板。
[10]測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、[8]に記載の樹脂組成物硬化物。
[11]測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、[9]に記載の電気・電子回路用積層板。
[7] A resin composition solution in which the resin composition according to any one of [1] to [6] is dissolved in an organic solvent at a solid content concentration of 10 to 90% by mass.
[8] A cured resin composition obtained by curing the resin composition according to any one of [1] to [6].
[9] A laminate for electric/electronic circuits, comprising the resin composition according to any one of [1] to [6].
[10] The cured resin composition according to [8], which has a dielectric loss of less than 0.01 at a measurement frequency of 10 GHz.
[11] The laminate for electric/electronic circuits according to [9], which has a dielectric loss of less than 0.01 at a measurement frequency of 10 GHz.

[12][7]に記載の樹脂組成物溶液の溶媒を除去した後に硬化して樹脂組成物硬化物を製造する方法。
[13][7]に記載の溶液の樹脂組成物溶媒を除去した後に硬化して電気・電子回路用積層体を製造する方法。
[14]測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、[12]に記載の樹脂組成物硬化物を製造する方法。
[15]測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、[13]に記載の電気・電子回路用積層体を製造する方法。
[12] A method for producing a cured resin composition by curing after removing the solvent from the resin composition solution according to [7].
[13] A method for producing a laminate for electric/electronic circuits by curing the resin composition of the solution described in [7] after removing the solvent.
[14] The method for producing the cured resin composition according to [12], wherein the dielectric loss at a measurement frequency of 10 GHz is less than 0.01.
[15] The method for manufacturing the laminate for electric/electronic circuits according to [13], wherein the dielectric loss at a measurement frequency of 10 GHz is less than 0.01.

本発明の樹脂組成物を用いることで、極めて低いtanδとなる硬化膜を提供することができ、伝送損失の少なく高速、高密度通信に適した回路基板用積層板に好適である。 By using the resin composition of the present invention, a cured film with an extremely low tan δ can be provided, and is suitable for a circuit board laminate with little transmission loss and suitable for high-speed, high-density communication.

以下に本発明について詳細に説明するが、以下の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。
以下において「~」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。
The present invention will be described in detail below, but the following explanation is an example of an embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following description unless it exceeds the gist thereof.
When the expression "~" is used below, it is used as an expression that includes numerical values or physical property values before and after it.

<樹脂組成物>
本発明は、変性環状ポリオレフィンと、特定の熱硬化性樹脂、更に硬化剤を含む樹脂組成物に係る発明である。
<Resin composition>
The present invention relates to a resin composition containing a modified cyclic polyolefin, a specific thermosetting resin, and a curing agent.

[熱硬化性樹脂]
本発明で用いる熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂及びビスマレイミド樹脂から選ばれる少なくとも1種の熱硬化性樹脂である。
これらの熱硬化性樹脂はいずれも公知の技術で得られるものである。
[Thermosetting resin]
The thermosetting resin used in the present invention is at least one thermosetting resin selected from epoxy resins, acrylic resins, phenol resins, polyphenylene ether resins, polyimide resins, and bismaleimide resins.
All of these thermosetting resins can be obtained using known techniques.

エポキシ樹脂は最も広範に用いられている樹脂であり、各種の構造、技術が開示されている。例えば、特開平8-333437号公報、特開2005-97473号公報、特開2019-172996号公報に開示されるものである。 Epoxy resin is the most widely used resin, and various structures and techniques have been disclosed. For example, these are disclosed in JP-A-8-333437, JP-A-2005-97473, and JP-A-2019-172996.

フェノール樹脂としては、特許第6025952号公報に記載されるようなビニルベンジル化フェノール化合物を用いることができる。
ポリフェニレンエーテル樹脂としては、特開2017-47648号公報に記載されるような末端に反応性官能基が付与されたものを用いることができる。
As the phenol resin, a vinylbenzylated phenol compound as described in Japanese Patent No. 6025952 can be used.
As the polyphenylene ether resin, one to which a reactive functional group is added at the end as described in JP-A No. 2017-47648 can be used.

ポリイミド樹脂としては、再表2018/079707号公報に記載されるようなテトラカルボン酸成分とジアミン成分とから得られるものを用いることができる。
ビスマレイミド樹脂としては、特開2001-028367号公報に記載されるようなビスマレイミドを用いることができる。
As the polyimide resin, one obtained from a tetracarboxylic acid component and a diamine component as described in 2018/079707 can be used.
As the bismaleimide resin, bismaleimide as described in JP-A-2001-028367 can be used.

[硬化剤]
本発明で用いる硬化剤は、例えば、エポキシ樹脂のエポキシ基間の架橋反応及び/又は鎖長延長反応に寄与する物質を示す。
尚、本発明においては通常「硬化促進剤」と呼ばれるものであってもエポキシ樹脂のエポキシ基間の架橋反応及び/又は鎖長延長反応に寄与する物質であれば、硬化剤とみなすこととする。
[Curing agent]
The curing agent used in the present invention is, for example, a substance that contributes to a crosslinking reaction and/or a chain lengthening reaction between epoxy groups of an epoxy resin.
In addition, in the present invention, even if it is normally called a "curing accelerator", it is considered to be a curing agent if it contributes to the crosslinking reaction and/or chain lengthening reaction between the epoxy groups of the epoxy resin. .

エポキシ樹脂に用いる硬化剤としては、特に制限はなく一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものはすべて使用できる。
アクリル樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂に用いられる硬化剤としては、耐熱性を高める観点から好ましいものとしてフェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール類及び活性エステル系硬化剤等が挙げられる。
これら硬化剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
There are no particular restrictions on the curing agent used for the epoxy resin, and any curing agent generally known as an epoxy resin curing agent can be used.
Preferred curing agents for use in acrylic resins, phenolic resins, and bismaleimide resins include phenolic curing agents, amide curing agents, imidazoles, and active ester curing agents from the viewpoint of increasing heat resistance.
These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

ポリフェニレンエーテル樹脂に用いる硬化剤としては、ポリフェニレンエーテルを3次元架橋する硬化剤を用いることができる。具体的には、架橋型硬化剤として、多官能ビニル化合物、ビニルベンジルエーテル系化合物、アリルエーテル系化合物、又はトリアルケニルイソシアヌレートを用いることができる。 As the curing agent used for the polyphenylene ether resin, a curing agent that three-dimensionally crosslinks polyphenylene ether can be used. Specifically, a polyfunctional vinyl compound, a vinylbenzyl ether compound, an allyl ether compound, or a trialkenyl isocyanurate can be used as the crosslinked curing agent.

多官能ビニル化合物は、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルビフェニルを含む。ビニルベンジルエーテル系化合物は、フェノール及びビニルベンジルクロライドの反応によって合成される。アリルエーテル系化合物は、スチレンモノマー、フェノール、及びアリルクロライドの反応によって合成される。トリアルケニルイソシアヌレートは相溶性が良好であり、トリアリルイソシアヌレート又はトリアリルシアヌレートを用いることができる。 Polyfunctional vinyl compounds include divinylbenzene, divinylnaphthalene, and divinylbiphenyl. Vinylbenzyl ether compounds are synthesized by the reaction of phenol and vinylbenzyl chloride. Allyl ether compounds are synthesized by the reaction of styrene monomer, phenol, and allyl chloride. Trialkenyl isocyanurate has good compatibility, and triallyl isocyanurate or triallyl cyanurate can be used.

ポリイミド樹脂に用いる硬化剤としてはとしては1,2-ジメチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、イソキノリン等の窒素原子を含有した複素環化合物、トリエチルアミンやトリエタノールアミン等の塩基性化合物等が挙げられる。 Examples of curing agents used for polyimide resins include imidazole compounds such as 1,2-dimethylimidazole, nitrogen atom-containing heterocyclic compounds such as isoquinoline, and basic compounds such as triethylamine and triethanolamine.

[その他の成分]
本発明の樹脂組成物に加え得るその他の成分としては、熱硬化性樹脂の触媒が使用できる。触媒は、熱硬化性樹脂単体又は熱硬化性樹脂と硬化剤の反応を促進するような触媒能を持つ化合物であればどのようなものでもよい。
[Other ingredients]
Other components that can be added to the resin composition of the present invention include a thermosetting resin catalyst. The catalyst may be any compound having a catalytic ability to promote the reaction between the thermosetting resin alone or the thermosetting resin and the curing agent.

例えば、エポキシ樹脂に対しては第3級アミン、環状アミン類、イミダゾール類、有機リン化合物、第4級アンモニウム塩等が挙げられる。ポリフェニレンエーテル樹脂に対してはα,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)-3-ヘキシン、過酸化ベンゾイル、3,3’,5,5’-テトラメチル-1,4-ジフェノキノン、クロラニル、2,4,6-トリ-t-ブチルフェノキシル、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、アゾビスイソブチロニトリル等の酸化剤を用いることができる。ここで、必要に応じてカルボン酸金属塩等を添加して、硬化反応をさらに促進させてもよい。 For example, for epoxy resins, tertiary amines, cyclic amines, imidazoles, organic phosphorus compounds, quaternary ammonium salts, etc. may be used. For polyphenylene ether resins, α,α'-bis(t-butylperoxy-m-isopropyl)benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)-3-hexyne, Benzoyl oxide, 3,3',5,5'-tetramethyl-1,4-diphenoquinone, chloranil, 2,4,6-tri-t-butylphenoxyl, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, azobisisobutyl Oxidizing agents such as lonitrile can be used. Here, a carboxylic acid metal salt or the like may be added as necessary to further accelerate the curing reaction.

本発明の樹脂組成物には、その機能性の更なる向上を目的として、以上で挙げたもの以外の成分を含んでいてもよい。例えば、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂、硬化促進剤(但し「硬化剤」に含まれるものを除く。)、紫外線防止剤、酸化防止剤、カップリング剤、可塑剤、フラックス、難燃剤、着色剤、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤、無機フィラー、有機フィラーが挙げられる。 The resin composition of the present invention may contain components other than those listed above for the purpose of further improving its functionality. For example, thermosetting resins, photocurable resins, curing accelerators (excluding those included in "curing agents"), ultraviolet inhibitors, antioxidants, coupling agents, plasticizers, fluxes, flame retardants, Colorants, dispersants, emulsifiers, elasticity reducing agents, diluents, antifoaming agents, ion trapping agents, inorganic fillers, and organic fillers are included.

[各成分の含有率]
前記樹脂組成物中の前記変性環状ポリオレフィンの含有率は、前記樹脂組成物全体(100質量%)に対して、10~60質量%が好ましく、30~50質量%がより好ましい。
前記変性環状ポリオレフィンの含有率が上記下限以上であれば、十分な誘電損失低下効果を発現するので好ましい。また、上記上限以下であれば、硬化物の耐熱性や機械的強度が十分に得られるため好ましい。
[Content of each component]
The content of the modified cyclic polyolefin in the resin composition is preferably 10 to 60% by mass, more preferably 30 to 50% by mass, based on the entire resin composition (100% by mass).
It is preferable that the content of the modified cyclic polyolefin is equal to or higher than the above lower limit because a sufficient dielectric loss reduction effect is exhibited. Moreover, if it is below the said upper limit, since heat resistance and mechanical strength of a cured|cured material can be fully obtained, it is preferable.

前記樹脂組成物中の前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の合計の含有率は、前記樹脂組成物全体(100質量%)に対して、40~90質量%が好ましく、50~70質量%がより好ましい。
前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の含有率が上記下限以上であれば、熱硬化性樹脂の各種特性が損なわれないので好ましい。また、上記上限以下であれば、誘電損失が悪化することがないので好ましい。
The total content of the thermosetting resin and the curing agent in the resin composition is preferably 40 to 90% by mass, and 50 to 70% by mass, based on the entire resin composition (100% by mass). More preferred.
It is preferable that the content of the thermosetting resin and the curing agent be equal to or higher than the lower limit, since various properties of the thermosetting resin are not impaired. Moreover, if it is below the above upper limit, the dielectric loss will not deteriorate, so it is preferable.

前記硬化剤の含有量は、前記熱硬化性樹脂100質量部に対して、0.1~100質量部が好ましい。より好ましくは90質量部以下であり、更に好ましくは80質量部以下である。
前記熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である場合、前記硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、10~100質量部が好ましい。その下限は20質量部以上がより好ましい。また、その上限は90質量部以下がより好ましく、80質量部以下が更に好ましい。
硬化剤の含有量が上記範囲内であれば、エポキシ樹脂の架橋が十分となり、目的とする耐熱性や機械強度が発現する。
The content of the curing agent is preferably 0.1 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the thermosetting resin. More preferably it is 90 parts by mass or less, and still more preferably 80 parts by mass or less.
When the thermosetting resin is an epoxy resin, the content of the curing agent is preferably 10 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin. The lower limit is more preferably 20 parts by mass or more. Further, the upper limit thereof is more preferably 90 parts by mass or less, and even more preferably 80 parts by mass or less.
If the content of the curing agent is within the above range, crosslinking of the epoxy resin will be sufficient, and the desired heat resistance and mechanical strength will be exhibited.

<変性環状ポリオレフィン>
本発明の変性環状ポリオレフィンは、後述する環状ポリオレフィンの、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性体である。この環状ポリオレフィンの変性操作は、後述する。
<Modified cyclic polyolefin>
The modified cyclic polyolefin of the present invention is a modified product of the cyclic polyolefin described below with an unsaturated carboxylic acid and/or an anhydride thereof. The modification operation of this cyclic polyolefin will be described later.

変性環状ポリオレフィンの重量平均分子量(以下、「Mw」と略する。)の下限は、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上である。また、Mwの上限は、好ましくは60,000以下であり、好ましくは30,000以下である。
変性環状ポリオレフィンのMwが上記下限以上であれば、耐熱性や誘電特性が向上するため好ましい。また、Mwが上記上限以下であれば、有機溶媒への溶解性が良好となるので好ましい。
変性環状ポリオレフィンのMwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定によって決定され、その具体的な測定方法は実施例の項に記載される通りである。
The lower limit of the weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as "Mw") of the modified cyclic polyolefin is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more. Moreover, the upper limit of Mw becomes like this. Preferably it is 60,000 or less, Preferably it is 30,000 or less.
It is preferable that the Mw of the modified cyclic polyolefin is equal to or higher than the above lower limit because heat resistance and dielectric properties are improved. Moreover, if Mw is below the above upper limit, the solubility in organic solvents will be good, so it is preferable.
The Mw of the modified cyclic polyolefin is determined by gel permeation chromatography (GPC), and the specific measuring method is as described in the Examples section.

前記変性環状ポリオレフィンのMwは、環状ポリオレフィンを変性する際に用いる有機過酸化物の量で制御することができる。
環状ポリオレフィンの変性操作については後述の通りである。また、環状ポリオレフィンの変性操作と同様に、変性環状ポリオレフィンに有機過酸化物を配合し、ブレンドして混練機、押出機に投入し加熱溶融混練しながら押出を行なうことにより、Mwを変化させた変性環状ポリオレフィンを得ることができる。
The Mw of the modified cyclic polyolefin can be controlled by the amount of organic peroxide used when modifying the cyclic polyolefin.
The modification operation of the cyclic polyolefin will be described later. In addition, similar to the modification operation of cyclic polyolefin, Mw was changed by blending an organic peroxide with modified cyclic polyolefin, blending it, feeding it into a kneader or extruder, and performing extrusion while heating, melting, and kneading. A modified cyclic polyolefin can be obtained.

環状ポリオレフィンや変性環状ポリオレフィンは、有機過酸化物と処理することにより、環状ポリオレフィンや変性環状ポリオレフィンを構成するブロック単位の1つである水素化共役ジエンポリマーブロック単位の炭素-水素結合が一旦開裂し、生じた炭素ラジカル構造から、β水素脱離を伴う炭素-炭素結合開裂が生じて低分子量化を引き起こし、高い分子量の環状ポリオレフィン又は変性環状ポリオレフィンから、低い分子量の変性環状ポリオレフィンを得ることができる。
この操作は変性後に行なってもよいし、変性と同時に行なってもよい。即ち、分子量低下を変性と同時に行なうため、有機過酸化物を多く配合することで、変性と同時に低分子量化を生じさせることができる。
By treating cyclic polyolefins and modified cyclic polyolefins with organic peroxides, the carbon-hydrogen bonds of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit, which is one of the block units constituting the cyclic polyolefins and modified cyclic polyolefins, are once cleaved. From the resulting carbon radical structure, carbon-carbon bond cleavage accompanied by β-hydrogen elimination occurs, causing a reduction in molecular weight, and a low molecular weight modified cyclic polyolefin can be obtained from a high molecular weight cyclic polyolefin or a modified cyclic polyolefin. .
This operation may be performed after denaturation or simultaneously with denaturation. That is, since molecular weight reduction is carried out simultaneously with modification, by blending a large amount of organic peroxide, molecular weight reduction can be caused simultaneously with modification.

<変性環状ポリオレフィンの特性>
本発明で用いる変性環状ポリオレフィンは、誘電損失が十分に低いことが特徴である。
変性環状ポリオレフィンを少量添加することにより樹脂組成物全体の誘電損失を抑えることが可能となり、電気・電子回路用積層板としたときに信号伝達効率の向上が期待できる。
<Characteristics of modified cyclic polyolefin>
The modified cyclic polyolefin used in the present invention is characterized by sufficiently low dielectric loss.
By adding a small amount of modified cyclic polyolefin, it is possible to suppress the dielectric loss of the entire resin composition, and it is expected that the signal transmission efficiency will be improved when used as a laminate for electric/electronic circuits.

変性環状ポリオレフィンの、測定周波数10GHzにおける誘電損失は0.001未満であることが好ましく、0.0005未満であることがより好ましい。
環状ポリオレフィンの誘電損失は、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性によってわずかに悪化する傾向となる。従って、誘電損失を低く保つため、後述するように変性率を制御する必要がある。
The dielectric loss of the modified cyclic polyolefin at a measurement frequency of 10 GHz is preferably less than 0.001, more preferably less than 0.0005.
The dielectric loss of cyclic polyolefins tends to be slightly worsened by modification with unsaturated carboxylic acids and/or their anhydrides. Therefore, in order to keep the dielectric loss low, it is necessary to control the denaturation rate as described below.

<環状ポリオレフィンの変性操作>
次に、環状ポリオレフィンの変性操作について説明する。この変性操作は、環状ポリオレフィンに、変性剤として不飽和カルボン酸及び/又はその無水物を添加して反応させることによって行なわれる。
<Modification operation of cyclic polyolefin>
Next, the modification operation of the cyclic polyolefin will be explained. This modification operation is carried out by adding an unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride as a modifying agent to the cyclic polyolefin and causing the mixture to react.

前記変性剤としての不飽和カルボン酸及び/又はその無水物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α-エチルアクリル酸、マレイン酸、フマール酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ナジック酸類等の不飽和カルボン酸、及びこれらの無水物が挙げられる。
また、酸無水物としては、具体的には、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水ナジック酸類が挙げられる。
尚、ナジック酸類又はその無水物としては、エンドシス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2,3-ジカルボン酸(ナジック酸(商標))、メチル-エンドシス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボン酸(メチルナジック酸(商標))等及びその無水物が挙げられる。
Examples of the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride as the modifier include acrylic acid, methacrylic acid, α-ethyl acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, itaconic acid, Examples include unsaturated carboxylic acids such as citraconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and nadic acids, and anhydrides thereof.
Further, specific examples of the acid anhydride include maleic anhydride, citraconic anhydride, and nadic anhydride.
In addition, examples of nadic acids or anhydrides thereof include endocys-bicyclo[2.2.1]hept-2,3-dicarboxylic acid (nadic acid (trademark)), methyl-endocys-bicyclo[2.2.1]hept Examples thereof include -5-ene-2,3-dicarboxylic acid (methylnadic acid (trademark)) and its anhydride.

これらの不飽和カルボン酸及び/又はその無水物の中では、アクリル酸、マレイン酸、ナジック酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸が好ましい。
不飽和カルボン酸及び/又はその無水物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Among these unsaturated carboxylic acids and/or anhydrides thereof, acrylic acid, maleic acid, nadic acid, maleic anhydride, and nadic anhydride are preferred.
One type of unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride may be used alone, or two or more types may be used in combination.

上記環状ポリオレフィンを上記の不飽和カルボン酸及び/又はその無水物で変性することにより、変性環状ポリオレフィンを得ることができる。変性の方法としては、溶液変性、溶融変性、電子線や電離放射線の照射による固相変性、超臨界流体中での変性等が好適に用いられる。
中でも設備やコスト競争力に優れた溶融変性が好ましく、連続生産性に優れた押出機を用いた溶融混練変性がより好ましい。
この時用いられる装置としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ロールミキサーが挙げられる。中でも連続生産性に優れた単軸押出機、二軸押出機が好ましい。
A modified cyclic polyolefin can be obtained by modifying the above cyclic polyolefin with the above unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride. Suitable methods for modification include solution modification, melt modification, solid phase modification by irradiation with electron beams or ionizing radiation, and modification in a supercritical fluid.
Among these, melt modification with excellent equipment and cost competitiveness is preferred, and melt kneading modification using an extruder with excellent continuous productivity is more preferred.
Examples of devices used at this time include a single screw extruder, a twin screw extruder, a Banbury mixer, and a roll mixer. Among these, single-screw extruders and twin-screw extruders are preferred because of their excellent continuous productivity.

一般に、環状ポリオレフィンへの不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性は、環状ポリオレフィンを構成するブロック単位の1つである水素化共役ジエンポリマーブロック単位の炭素-水素結合を開裂させて炭素ラジカルを発生させ、これに不飽和官能基が付加するというグラフト反応によって行なわれる。
炭素ラジカルの発生源としては、上述した電子線や電離放射線の他、高温度とする方法や、有機過酸化物、無機過酸化物、アゾ化合物等のラジカル発生剤を用いることもできる。ラジカル発生剤としては、コストや操作性の観点から有機過酸化物を用いることが好ましい。
In general, modification of a cyclic polyolefin with an unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride cleaves a carbon-hydrogen bond in a hydrogenated conjugated diene polymer block unit, which is one of the block units constituting the cyclic polyolefin, to generate carbon radicals. This is carried out by a graft reaction in which an unsaturated functional group is added to the unsaturated functional group.
As the source of carbon radicals, in addition to the above-mentioned electron beams and ionizing radiation, methods using high temperatures, and radical generators such as organic peroxides, inorganic peroxides, and azo compounds can also be used. As the radical generator, it is preferable to use an organic peroxide from the viewpoint of cost and operability.

上記アゾ化合物としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、ジアゾニトロフェノールが挙げられる。
上記無機過酸化物としては、例えば、過酸化水素、過酸化カリウム、過酸化ナトリウム、過酸化カルシウム、過酸化マグネシウム、過酸化バリウムが挙げられる。
Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile, azobisdimethylvaleronitrile, azobis(2-methylbutyronitrile), and diazonitrophenol.
Examples of the inorganic peroxide include hydrogen peroxide, potassium peroxide, sodium peroxide, calcium peroxide, magnesium peroxide, and barium peroxide.

上記有機過酸化物としては、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル及びケトンパーオキサイド群に含まれるものが挙げられる。
具体的には、キュメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド;ジクミルパーオキサイド、ジt-ブチルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-3等のジアルキルパーオキサイド;ラウリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド;t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエイト、t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシエステル;シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイドが挙げられる。
これらのラジカル発生剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the organic peroxide include those included in the group of hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxy esters, and ketone peroxides.
Specifically, hydroperoxides such as cumene hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide; dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butyl peroxide); dialkyl peroxides such as oxy)hexane and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3; diacyl peroxides such as lauryl peroxide and benzoyl peroxide; t-butyl peroxyacetate , t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxyisopropyl carbonate, and other peroxyesters; and cyclohexanone peroxide and other ketone peroxides.
These radical generators may be used alone or in combination of two or more.

[溶融混練変性]
一般的に用いられる溶融混練変性の操作は、環状ポリオレフィン、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物、有機過酸化物を配合し、混練機、押出機に投入し、加熱溶融混練しながら押出を行ない、先端ダイスから出てくる溶融樹脂を水槽等で冷却して変性環状ポリオレフィンを得るものである。
[Melt-kneading modification]
A commonly used melt-kneading modification operation involves blending a cyclic polyolefin, an unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride, and an organic peroxide, charging the mixture into a kneader or extruder, and extruding it while heating, melt-kneading, and extruding the mixture. The molten resin coming out of the tip die is cooled in a water tank or the like to obtain a modified cyclic polyolefin.

環状ポリオレフィンと不飽和カルボン酸及び/又はその無水物との配合比率は、環状ポリオレフィン100質量部に対し、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物が0.2~5質量部である。
環状ポリオレフィンに対する不飽和カルボン酸及び/又はその無水物の配合比率が上記下限以上であれば、本発明の効果を奏するために必要な所定の変性率が得られる。また、上記上限以下であれば、未反応の不飽和カルボン酸及び/又はその無水物が残留することがなく、誘電特性としても好ましい。
The blending ratio of the cyclic polyolefin and the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride is 0.2 to 5 parts by mass of the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride per 100 parts by mass of the cyclic polyolefin.
If the blending ratio of the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride to the cyclic polyolefin is at least the above-mentioned lower limit, a predetermined modification rate necessary for achieving the effects of the present invention can be obtained. Moreover, if it is below the above upper limit, unreacted unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride will not remain, which is preferable in terms of dielectric properties.

上記不飽和カルボン酸及び/又はその無水物と上記有機過酸化物との配合比率は、上記不飽和カルボン酸及び/又はその無水物100質量部に対し、上記有機過酸化物が20~100質量部である。
上記不飽和カルボン酸及び/又はその無水物に対する上記有機過酸化物の配合比率が上記下限以上であれば、本発明の効果を奏するために必要な所定の変性率が得られる。また、上記上限以下であれば、環状ポリオレフィンの劣化が生じず、色相が悪化することがない。
The blending ratio of the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride to the organic peroxide is 20 to 100 parts by mass of the organic peroxide per 100 parts by mass of the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride. Department.
When the blending ratio of the organic peroxide to the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride is equal to or higher than the lower limit, a predetermined modification rate necessary for achieving the effects of the present invention can be obtained. Moreover, if it is below the said upper limit, deterioration of a cyclic polyolefin will not occur and a hue will not deteriorate.

また溶融混練変性条件としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機においては150~300℃の温度にて押出すことが好ましい。 Further, as the melt-kneading modification conditions, for example, extrusion is preferably carried out at a temperature of 150 to 300°C in a single-screw extruder or a twin-screw extruder.

[変性環状ポリオレフィンの分子量低下]
上記変性環状ポリオレフィンの分子量低下を行なう場合、変性環状ポリオレフィンと有機過酸化物との配合比率は、上記変性環状ポリオレフィン100質量部に対し、上記有機過酸化物が0.01~2質量部である。
また溶融混練変性条件としては、例えば単軸押出機、二軸押出機においては150~300℃の温度にて押出すことが好ましい。
[Reduction in molecular weight of modified cyclic polyolefin]
When reducing the molecular weight of the modified cyclic polyolefin, the blending ratio of the modified cyclic polyolefin and the organic peroxide is such that the organic peroxide is 0.01 to 2 parts by mass per 100 parts by mass of the modified cyclic polyolefin. .
Further, as the melt-kneading modification conditions, for example, extrusion is preferably carried out at a temperature of 150 to 300° C. in a single screw extruder or a twin screw extruder.

[変性率]
上記変性環状ポリオレフィンの、上記不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性率は0.1~2質量%が好ましい。
変性率が上記下限以上であれば、エポキシ等の熱硬化性樹脂との相溶性が良好となり、結果として塗膜強度が向上するので好ましい。また、上記上限以下であれば、臭気の発生や色の悪化がなく、有機溶媒への溶解性も良好となる。
上記変性環状ポリオレフィンの変性率は、上記変性環状ポリオレフィンをメチルエステル化処理した後、HNMRにて測定することができる。
[Denaturation rate]
The modification rate of the modified cyclic polyolefin with the unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride is preferably 0.1 to 2% by mass.
If the modification rate is at least the above lower limit, the compatibility with thermosetting resins such as epoxy will be good, resulting in improved coating film strength, which is preferable. Moreover, if it is below the above upper limit, there will be no generation of odor or deterioration of color, and the solubility in organic solvents will be good.
The modification rate of the modified cyclic polyolefin can be measured by 1 HNMR after subjecting the modified cyclic polyolefin to methyl esterification.

<環状ポリオレフィン>
本発明で用いる変性環状ポリオレフィンの原料となる環状ポリオレフィンは、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなる。
該水素化ブロックコポリマーは、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び、前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有する。
また、該水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有するものである。
<Cyclic polyolefin>
The cyclic polyolefin used as a raw material for the modified cyclic polyolefin used in the present invention consists of a hydrogenated block copolymer that is a hydrogenated product of a block copolymer containing at least one type of aromatic vinyl monomer unit and at least one type of conjugated diene monomer unit.
The hydrogenated block copolymer comprises a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit which is a hydrogenated product of a polymer block made of the aromatic vinyl monomer unit, and hydrogen which is a hydrogenated product of a polymer block made of the conjugated diene monomer unit. It has a conjugated diene polymer block unit.
Further, the hydrogenated block copolymer has at least two of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one of the hydrogenated conjugated diene polymer block units.

本発明で用いる環状ポリオレフィンは、透明性及び誘電特性、具体的には低い誘電損失(正接)の観点から、前記水素化ブロックコポリマーからなることが好ましい。
尚、「ブロック」とは、後記するように、本明細書において、コポリマーの構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ層分離を表すコポリマーの重合セグメントをいう。このため、例えば「ブロック単位を少なくとも2個有する」とは、水素化ブロックコポリマーの中に、構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ層分離を表すコポリマーの重合セグメントを少なくとも2個有することをいう。
The cyclic polyolefin used in the present invention is preferably made of the hydrogenated block copolymer described above from the viewpoint of transparency and dielectric properties, specifically low dielectric loss (tangent).
As described later, the term "block" as used herein refers to a polymerized segment of a copolymer that represents microlayer separation from structurally or compositionally different polymerized segments of the copolymer. Thus, for example, "having at least two block units" means that the hydrogenated block copolymer has at least two polymerized segments of the copolymer that represent microlayer separation from structurally or compositionally different polymerized segments. Say something.

前記の芳香族ビニルモノマー単位の原料となる芳香族ビニルモノマーは、一般式(1)で示されるモノマーである。 The aromatic vinyl monomer serving as the raw material for the aromatic vinyl monomer unit is a monomer represented by general formula (1).

Figure 0007396932000001
ここでRは、水素又はアルキル基、Arはフェニル基、ハロフェニル基、アルキルフェニル基、アルキルハロフェニル基、ナフチル基、ピリジニル基又はアントラセニル基である。
Figure 0007396932000001
Here, R is hydrogen or an alkyl group, and Ar is a phenyl group, a halophenyl group, an alkylphenyl group, an alkylhalophenyl group, a naphthyl group, a pyridinyl group, or an anthracenyl group.

前記アルキル基は、ハロ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基及びカルボキシル基のような官能基で単置換若しくは多重置換されていてもよい。アルキル基の炭素数は1~6が好ましい。
前記のArは、フェニル基又はアルキルフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
The alkyl group may be mono- or multi-substituted with a functional group such as a halo group, a nitro group, an amino group, a hydroxy group, a cyano group, a carbonyl group, and a carboxyl group. The alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms.
The above Ar is preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, and more preferably a phenyl group.

芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン(全ての異性体を含み、特にp-ビニルトルエン)、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン(全ての異性体)、及びこれらの混合物が挙げられる。 Aromatic vinyl monomers include, for example, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene (including all isomers, but especially p-vinyltoluene), ethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, vinylbiphenyl, vinylnaphthalene, vinylanthracene. (all isomers), and mixtures thereof.

前記の共役ジエンモノマーは2個の共役二重結合を持つモノマーであればよく、特に限定されるものではない。
共役ジエンモノマーとしては、例えば、1,3-ブタジエン、2-メチル-1,3-ブタジエン(イソプレン)、2-メチル-1,3ペンタジエンとその類似化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。
The conjugated diene monomer described above is not particularly limited as long as it is a monomer having two conjugated double bonds.
Examples of the conjugated diene monomer include 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2-methyl-1,3-pentadiene and similar compounds thereof, and mixtures thereof.

前記1,3-ブタジエンの重合体であるポリブタジエンは、水素化で1-ブテン繰り返し単位の等価物を与える1,2配置、又は水素化でエチレン繰り返し単位の等価物を与える1,4配置のいずれかを含むことができる。 Polybutadiene, which is a polymer of 1,3-butadiene, has either a 1,2 configuration that gives an equivalent of a 1-butene repeating unit when hydrogenated, or a 1,4 configuration that gives an equivalent of an ethylene repeating unit when hydrogenated. It can include

前記の芳香族ビニルモノマーや、1,3-ブタジエンを含む前記共役ジエンモノマーから構成される重合性ブロックの水素化体は、本発明で使用される水素化ブロックコポリマーに含まれる。好ましくは、水素化ブロックコポリマーは官能基のないブロックコポリマーである。
尚、「官能基のない」とはブロックコポリマー中に如何なる官能基、即ち、炭素と水素以外の元素を含む基を存在しないことを意味する。
The hydrogenated product of the polymerizable block composed of the aromatic vinyl monomer and the conjugated diene monomer containing 1,3-butadiene is included in the hydrogenated block copolymer used in the present invention. Preferably, the hydrogenated block copolymer is a block copolymer without functional groups.
Note that "no functional group" means that the block copolymer does not contain any functional group, ie, a group containing elements other than carbon and hydrogen.

前記の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリスチレンを挙げることができ、前記の水素化共役ジエンポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリブタジエンを挙げることができる。
そして、水素化ブロックコポリマーの好ましい一態様としては、スチレンとブタジエンの水素化トリブロック又はペンタブロックコポリマーを挙げることができ、他の如何なる官能基又は構造的変性剤も含まないことが好ましい。
A preferred example of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is hydrogenated polystyrene, and a preferred example of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is hydrogenated polybutadiene.
A preferred embodiment of the hydrogenated block copolymer is a hydrogenated triblock or pentablock copolymer of styrene and butadiene, which preferably does not contain any other functional group or structural modifier.

「ブロック」とは、コポリマーの構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ層分離を表すコポリマーの重合セグメントとして定義される。ミクロ層分離は、ブロックコポリマー中で重合セグメントが混じり合わないことにより生ずる。
尚、ミクロ層分離とブロックコポリマーは、PHYSICS TODAYの1999年2月号32-38頁の“Block Copolymers-Designer Soft Materials”で広範に議論されている。
A "block" is defined as a polymerized segment of a copolymer that represents a microlayer separation from structurally or compositionally distinct polymerized segments of the copolymer. Microlayer separation occurs due to the immiscibility of polymerized segments in block copolymers.
Note that microlayer separation and block copolymers are extensively discussed in "Block Copolymers-Designer Soft Materials" in PHYSICS TODAY, February 1999 issue, pages 32-38.

水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の含有率は、前記環状ポリオレフィンに対して、好ましくは50~99モル%、より好ましくは60~90モル%である。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の比率が上記下限以上であれば剛性が低下することがなく、上記上限以下であれば脆性が悪化することがない。
The content of hydrogenated aromatic vinyl polymer block units is preferably 50 to 99 mol%, more preferably 60 to 90 mol%, based on the cyclic polyolefin.
If the ratio of hydrogenated aromatic vinyl polymer block units is at least the above-mentioned lower limit, the rigidity will not decrease, and if it is below the above-mentioned upper limit, the brittleness will not deteriorate.

また、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の含有率は、前記環状ポリオレフィンに対して、好ましくは1~50モル%、より好ましくは10~40モル%である。
水素化共役ジエンポリマーブロック単位の比率が上記下限以上であれば脆性が悪化することがなく、上記上限以下であれば剛性が低下することがない。
Further, the content of hydrogenated conjugated diene polymer block units is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, based on the cyclic polyolefin.
If the ratio of hydrogenated conjugated diene polymer block units is at least the above-mentioned lower limit, brittleness will not deteriorate, and if it is below the above-mentioned upper limit, rigidity will not decrease.

尚、前記のとおり、本願発明にかかるポリオレフィンは、「環状ポリオレフィン」であるが、この「環状」とは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が有する、芳香族環の水素化により生じる脂環式構造のことをいう。 As mentioned above, the polyolefin according to the present invention is a "cyclic polyolefin," and the term "cyclic" refers to an alicyclic ring produced by hydrogenation of an aromatic ring contained in the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit. Refers to the formula structure.

本発明の水素化ブロックコポリマーはSBS、SBSBS、SIS、SISIS、及びSISBS(ここで、Sはポリスチレン、Bはポリブタジエン、Iはポリイソプレンを意味する。)のようなトリブロック、マルチブロック、テーパーブロック及びスターブロックコポリマーを含むブロックコポリマーの水素化によって製造される。 Hydrogenated block copolymers of the present invention include triblock, multiblock, tapered block copolymers such as SBS, SBSBS, SIS, SISIS, and SISBS (where S means polystyrene, B means polybutadiene, and I means polyisoprene). and by hydrogenation of block copolymers, including star block copolymers.

本発明の水素化ブロックコポリマーはそれぞれの末端に芳香族ビニルポリマーからなるセグメントを含む。このため、本発明の水素化ブロックコポリマーは、少なくとも2個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を有することとなる。そして、この2個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の間には、少なくとも1つの水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有することとなる。 The hydrogenated block copolymers of the present invention contain segments of aromatic vinyl polymer at each end. Therefore, the hydrogenated block copolymer of the present invention will have at least two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units. And, between these two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units, there is at least one hydrogenated conjugated diene polymer block unit.

前記水素化ブロックを構成する水素化前のブロックコポリマーは、何個かの追加ブロックを含んでいてもよく、これらのブロックはトリブロックポリマー骨格のどの位置に結合していてもよい。このように、線状ブロックは例えばSBS、SBSB、SBSBS、そしてSBSBSBを含む。コポリマーは分岐していてもよく、重合連鎖はコポリマーの骨格に沿ってどの位置に結合していてもよい。 The pre-hydrogenated block copolymer constituting the hydrogenated block may contain several additional blocks, and these blocks may be bonded at any position on the triblock polymer backbone. Thus, linear blocks include, for example, SBS, SBSB, SBSBS, and SBSBSB. The copolymer may be branched and the polymeric chains may be attached anywhere along the backbone of the copolymer.

水素化ブロックコポリマーのMwの下限は、好ましくは10,000以上、より好ましくは20,000以上である。また、Mwの上限は、好ましくは120,000以下、より好ましくは100,000以下、更に好ましくは95,000以下、特に好ましくは90,000以下、最も好ましくは85,000以下、極めて好ましくは80,000以下である。
Mwが上記下限以上であれば機械強度が低下せず、上記上限以下であれば得られる変性環状ポリオレフィンの溶剤溶解性が向上する。
本明細書のMwは、GPCの測定によって決定される。
The lower limit of Mw of the hydrogenated block copolymer is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 or more. Further, the upper limit of Mw is preferably 120,000 or less, more preferably 100,000 or less, even more preferably 95,000 or less, particularly preferably 90,000 or less, most preferably 85,000 or less, and extremely preferably 80,000 or less. ,000 or less.
If Mw is at least the above-mentioned lower limit, mechanical strength will not decrease, and if it is below the above-mentioned upper limit, the solvent solubility of the obtained modified cyclic polyolefin will improve.
Mw in this specification is determined by GPC measurement.

ブロックコポリマーの水素化レベルは、好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が90%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が95%以上;より好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が95%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が99%以上;更に好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が98%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が99.5%以上;特に好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が99.5%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が99.5%以上である。
このように高レベルの水素化は、誘電損失を低減させるために好ましい。
尚、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルとは、芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示し、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルとは、共役ジエンポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。
The hydrogenation level of the block copolymer is preferably at least 90% hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least 95% hydrogenated conjugated diene polymer block units; more preferably at least 95% hydrogenated aromatic vinyl polymer block units. , 99% or more hydrogenated conjugated diene polymer block units; more preferably 98% or more hydrogenated aromatic vinyl polymer block units; 99.5% or more hydrogenated conjugated diene polymer block units; particularly preferably hydrogenated aromatic vinyl polymer block units; The vinyl polymer block units are 99.5% or more, and the hydrogenated conjugated diene polymer block units are 99.5% or more.
Such high levels of hydrogenation are preferred to reduce dielectric losses.
The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit refers to the rate at which the aromatic vinyl polymer block unit is saturated by hydrogenation, and the hydrogenation level of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit refers to the rate at which the aromatic vinyl polymer block unit is saturated by hydrogenation. Indicates the percentage of polymer block units saturated by hydrogenation.

水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルと水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルは、プロトンNMRを用いて決定される。 The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and the hydrogenation level of the hydrogenated conjugated diene polymer block units are determined using proton NMR.

本発明の環状ポリオレフィンのメルトフローレート(MFR)は特に限定されないが、通常0.1g/10分以上であり、成形方法や成形体の外観の観点から、好ましくは0.5g/10分以上である。また通常200g/10分以下であり、材料強度の観点から、好ましくは100g/10分以下、より好ましくは50g/10分以下である。
MFRは、ISO R1133に従って、測定温度230℃、測定荷重2.16kgの条件で測定した。
The melt flow rate (MFR) of the cyclic polyolefin of the present invention is not particularly limited, but is usually 0.1 g/10 minutes or more, and preferably 0.5 g/10 minutes or more from the viewpoint of the molding method and the appearance of the molded product. be. Further, it is usually 200 g/10 minutes or less, and from the viewpoint of material strength, preferably 100 g/10 minutes or less, more preferably 50 g/10 minutes or less.
MFR was measured in accordance with ISO R1133 at a measurement temperature of 230° C. and a measurement load of 2.16 kg.

環状ポリオレフィンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の環状ポリオレフィンとしては、市販のものを用いることができ、具体的には三菱ケミカル(株)製:ゼラス(商標登録)が挙げられる。
One type of cyclic polyolefin may be used alone, or two or more types may be used in combination.
Commercially available cyclic polyolefins can be used as the cyclic polyolefin of the present invention, and specific examples include Zelas (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

<樹脂組成物溶液>
本発明の樹脂組成物は、有機溶媒に溶解させて樹脂組成物溶液とすることができる。
本発明では、樹脂組成物を製造する工程で有機溶媒を用いることも可能であるし、樹脂組成物の反応途中で高粘性生成物が生じたときに有機溶媒を追加添加して、反応を継続することもできる。
反応の途中で有機溶媒を添加した場合、反応終了後に有機溶媒を除去してもよいし、更に追加してもよい。
<Resin composition solution>
The resin composition of the present invention can be dissolved in an organic solvent to form a resin composition solution.
In the present invention, it is possible to use an organic solvent in the process of manufacturing the resin composition, and when a highly viscous product is generated during the reaction of the resin composition, an organic solvent can be added to continue the reaction. You can also.
When an organic solvent is added during the reaction, the organic solvent may be removed or added after the reaction is completed.

樹脂組成物を溶液とする場合、固形分濃度は10~90質量%とすることが好ましい。
ここで「固形分」とは有機溶媒を除いた成分を意味し、固形の樹脂成分のみならず、半固形や粘稠な液状物のものをも含むものとする。
When the resin composition is made into a solution, the solid content concentration is preferably 10 to 90% by mass.
Here, the term "solid content" refers to components excluding organic solvents, and includes not only solid resin components but also semi-solid and viscous liquid components.

ここで用いる有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類;メタノール、エタノール等のアルコール類;ヘキサン、シクロヘキサン等のアルカン類;トルエン、キシレン等の芳香族類が挙げられる。
これらの有機溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the organic solvent used here include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether; N,N-dimethylformamide, Examples include amides such as N,N-dimethylacetamide; alcohols such as methanol and ethanol; alkanes such as hexane and cyclohexane; and aromatics such as toluene and xylene.
These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

<樹脂組成物硬化物>
本発明の樹脂組成物を硬化してなる樹脂組成物硬化物は、耐熱性と低吸水性、低誘電特性のバランスに優れ、良好な硬化物性を示すものである。
ここでいう「硬化」とは熱及び/又は光等により樹脂組成物を意図的に硬化させることを意味するものであり、その硬化の程度は所望の物性、用途により制御すればよい。
硬化の程度としては完全硬化であっても半硬化であってもよいが、例えば熱硬化性樹脂部分の反応率として通常5~95%である。
<Cured resin composition>
A cured resin composition obtained by curing the resin composition of the present invention has an excellent balance of heat resistance, low water absorption, and low dielectric properties, and exhibits good cured physical properties.
"Curing" here means intentionally curing the resin composition by heat and/or light, and the degree of curing may be controlled depending on desired physical properties and intended use.
The degree of curing may be either complete or semi-cured, but for example, the reaction rate of the thermosetting resin portion is usually 5 to 95%.

本発明の樹脂組成物を硬化させて硬化物とする際の硬化方法は、樹脂組成物中の配合成分や配合量によって異なるが、いずれも上述の各先行技術記載の条件に従って行なうことができる。
例えば、熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂の場合、通常80~280℃で60~360分の加熱条件が挙げられる。この加熱は80~160℃で10~90分の一次加熱と、120~200℃で60~150分の二次加熱との二段処理を行なうことが好ましく、また、ガラス転移温度(Tg)が二次加熱の温度を超える配合系においては更に150~280℃で60~120分の三次加熱を行なうことが好ましい。
このように二次加熱、三次加熱を行なうことは、硬化不良や溶剤の残留を低減する観点から好ましい。
The curing method for curing the resin composition of the present invention to form a cured product varies depending on the components and amounts blended in the resin composition, but can be carried out in accordance with the conditions described in each of the above-mentioned prior art techniques.
For example, when the thermosetting resin is an epoxy resin, the heating conditions are usually 80 to 280° C. for 60 to 360 minutes. This heating is preferably carried out in two stages: primary heating at 80-160°C for 10-90 minutes and secondary heating at 120-200°C for 60-150 minutes. In a compound system that exceeds the temperature of the secondary heating, it is preferable to further perform a tertiary heating at 150 to 280° C. for 60 to 120 minutes.
It is preferable to perform secondary heating and tertiary heating in this manner from the viewpoint of reducing curing failure and residual solvent.

また、熱硬化性樹脂がポリフェニレンエーテルの場合、170~230℃の条件で適切な時間加熱することが好ましい。
さらに、熱硬化性樹脂がビスマレイミド樹脂の場合、200~400℃で一次硬化を行ない、次いで400~500℃で完全硬化させることが好ましい。
Further, when the thermosetting resin is polyphenylene ether, it is preferable to heat it at 170 to 230° C. for an appropriate period of time.
Further, when the thermosetting resin is a bismaleimide resin, it is preferable to perform primary curing at 200 to 400°C and then completely cure at 400 to 500°C.

半硬化物を作製する際には、加熱等により形状が保てる程度に樹脂組成物の硬化反応を進行させることが好ましい。樹脂組成物が溶剤を含んでいる場合には、通常、加熱、減圧、風乾等の手法で大部分の溶剤を除去するが、半硬化物中に5質量%以下の溶剤を残留させてもよい。 When producing a semi-cured product, it is preferable to allow the curing reaction of the resin composition to proceed to such an extent that the shape can be maintained by heating or the like. If the resin composition contains a solvent, most of the solvent is usually removed by heating, reduced pressure, air drying, etc., but 5% by mass or less of the solvent may remain in the semi-cured product. .

[樹脂組成物硬化物の特性]
本発明の樹脂組成物硬化物は、誘電損失が十分に低いことが特徴である。
樹脂組成物硬化物の、測定周波数10GHzにおける誘電損失は0.01未満であることが好ましく、より好ましくは0.008未満である。誘電損失は低ければ低いほど回路基板とした際の電気信号の伝達効率、高速化が得られるために好ましい。
[Characteristics of cured resin composition]
The cured resin composition of the present invention is characterized by sufficiently low dielectric loss.
The dielectric loss of the cured resin composition at a measurement frequency of 10 GHz is preferably less than 0.01, more preferably less than 0.008. The lower the dielectric loss, the better the electrical signal transmission efficiency and speed when used as a circuit board.

[樹脂組成物硬化物の製造]
前記樹脂組成物硬化物は、前記樹脂組成物溶液から溶媒を除去した後に、前記の方法で硬化することにより製造することができる。
尚、本発明の樹脂組成物を用いることにより、この方法で得られる樹脂組成物硬化物の誘電損失は、上記範囲を満たすことができる。
[Manufacture of cured resin composition]
The cured resin composition can be produced by removing the solvent from the resin composition solution and then curing it by the method described above.
In addition, by using the resin composition of the present invention, the dielectric loss of the resin composition cured product obtained by this method can satisfy the above range.

<用途>
本発明の樹脂組成物は製膜性に優れる。また、耐熱性と低誘電特性に優れ、更に低吸水性に優れた硬化物を与えるという効果を奏する。このため、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に、電気・電子分野における絶縁注型、積層材料、封止材料等として有用である。
<Application>
The resin composition of the present invention has excellent film forming properties. Further, it has the effect of providing a cured product that has excellent heat resistance and low dielectric properties, and further has excellent low water absorption. Therefore, it can be applied to various fields such as adhesives, paints, materials for civil engineering and construction, and insulating materials for electrical and electronic parts.In particular, it can be used as insulation casting, laminated materials, sealing materials, etc. in the electrical and electronic fields. Useful.

本発明の樹脂組成物の用途の一例としては、銅箔積層板、フレキシブルプリント基板、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D-LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板が挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。 Examples of uses of the resin composition of the present invention include copper foil laminates, flexible printed circuit boards, multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, adhesives such as film adhesives, and liquid adhesives. Examples include, but are not limited to, semiconductor sealing materials, underfill materials, interchip fills for 3D-LSI, insulating sheets, prepregs, and heat sinks.

<導電性金属層含有積層体>
本発明の樹脂組成物は、導電性金属層の上にこの樹脂組成物からなる層を形成することにより、導電性金属層含有積層体とすることができる。
この導電性金属層含有積層体は、本発明の樹脂組成物皮膜層と導電性金属層とを積層したものであり、本発明の樹脂組成物皮膜層と導電性金属層とを積層したものであれば、電気・電子回路や、キャパシタを有する回路等として使用できる。
尚、導電性金属層含有積層体中には2種以上の樹脂組成物からなる層が形成されていてもよく、少なくとも1つの層において本発明の樹脂組成物が用いられていればよい。また、2種以上の導電性金属層が形成されていてもよい。
<Laminated body containing conductive metal layer>
The resin composition of the present invention can be made into a conductive metal layer-containing laminate by forming a layer made of the resin composition on the conductive metal layer.
This conductive metal layer-containing laminate is a laminate of a resin composition film layer of the present invention and a conductive metal layer, and a laminate of a resin composition film layer of the present invention and a conductive metal layer. If so, it can be used for electrical/electronic circuits, circuits with capacitors, etc.
Note that layers made of two or more types of resin compositions may be formed in the conductive metal layer-containing laminate, and the resin composition of the present invention may be used in at least one layer. Moreover, two or more types of conductive metal layers may be formed.

前記導電性金属層含有積層体は、導電性金属の上に直接、樹脂組成物溶液を塗布したり、導電性金属を樹脂組成物溶液に浸漬したりする等の塗工による方法や、ベースとなる材である心材に樹脂組成物溶液を塗布したり、心材を樹脂組成物溶液に浸漬したりする等の塗工による方法で得られた樹脂組成物含有材を導電性金属に積層したりすることにより、積層体を得、積層の段階又は積層後に溶媒を除去し、次いで、前記の方法で硬化することにより製造することができる。 The conductive metal layer-containing laminate can be produced by a coating method such as directly applying a resin composition solution onto the conductive metal or by dipping the conductive metal in a resin composition solution, or by applying a coating method such as applying a resin composition solution directly onto the conductive metal or by dipping the conductive metal in a resin composition solution. A resin composition-containing material obtained by a coating method such as applying a resin composition solution to the core material, or dipping the core material in a resin composition solution, is laminated onto a conductive metal. This can be produced by obtaining a laminate, removing the solvent during or after lamination, and then curing in the manner described above.

前記心材としては、ガラス繊維、ポリエステル繊維、アラミド繊維、セルロース、ナノファイバーセルロース等の無機及び/又は有機の繊維材料を用いた不織布やクロス等が挙げられる。 Examples of the core material include nonwoven fabrics and cloths made of inorganic and/or organic fiber materials such as glass fibers, polyester fibers, aramid fibers, cellulose, and nanofiber cellulose.

尚、本発明の樹脂組成物を用いることにより、この方法で得られる導電性金属層含有積層体の誘電損失は、上記範囲を満たすことができる。 Note that by using the resin composition of the present invention, the dielectric loss of the conductive metal layer-containing laminate obtained by this method can satisfy the above range.

[電気・電子回路積層板]
前記導電性金属層含有積層体が電気・電子回路用積層板であるとき、電気・電子回路用積層板における樹脂組成物からなる層の厚みは通常10~200μm程度である。また、導電性金属層の厚みは通常0.2~70μm程度である。
[Electrical/electronic circuit laminate]
When the conductive metal layer-containing laminate is a laminate for electric/electronic circuits, the thickness of the layer made of the resin composition in the laminate for electric/electronic circuits is usually about 10 to 200 μm. Further, the thickness of the conductive metal layer is usually about 0.2 to 70 μm.

本発明の電気・電子回路用積層板は、誘電損失が十分に低いことが特徴である。
電気・電子回路用積層板の、測定周波数10GHzにおける誘電損失は0.01未満であることが好ましく、より好ましくは0.008未満である。誘電損失は低ければ低いほど回路基板とした際の電気信号の伝達効率、高速化が得られるために好ましい。
The electrical/electronic circuit laminate of the present invention is characterized by sufficiently low dielectric loss.
The dielectric loss of the laminate for electric/electronic circuits at a measurement frequency of 10 GHz is preferably less than 0.01, more preferably less than 0.008. The lower the dielectric loss, the better the electrical signal transmission efficiency and speed when used as a circuit board.

[導電性金属]
電気・電子回路用積層板における導電性金属としては、銅、アルミニウム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。本発明において電気・電子回路用積層板の導電性金属層においては、これらの金属の金属箔、あるいはメッキやスパッタリングで形成された金属層を用いることができる。
[Conductive metal]
Examples of the conductive metal in the laminate for electric/electronic circuits include metals such as copper and aluminum, and alloys containing these metals. In the present invention, a metal foil of these metals or a metal layer formed by plating or sputtering can be used as the conductive metal layer of the laminate for electric/electronic circuits.

[電気・電子回路用積層板の製造方法]
本発明における電気・電子回路用積層板の具体的な製造方法としては、例えば次のような方法が挙げられる。
(1)ガラス繊維、ポリエステル繊維、アラミド繊維、セルロース、ナノファイバーセルロース等の無機及び/又は有機の繊維材料を用いた不織布やクロス等に、本発明の樹脂組成物又はこれを含む溶液を含浸させてプリプレグとし、溶液を用いた場合には適宜溶媒を除去し、導電性金属箔及び/又はメッキにより導電性金属層を設けた後、フォトレジスト等を用いて回路を形成し、こうした層を必要数重ねて積層板とする。
[Method for manufacturing laminates for electrical/electronic circuits]
As a specific method for manufacturing the laminate for electric/electronic circuits in the present invention, the following method may be mentioned, for example.
(1) A nonwoven fabric or cloth made of inorganic and/or organic fiber materials such as glass fiber, polyester fiber, aramid fiber, cellulose, nanofiber cellulose, etc. is impregnated with the resin composition of the present invention or a solution containing the same. If a solution is used, remove the solvent appropriately, provide a conductive metal layer using conductive metal foil and/or plating, and then form a circuit using photoresist etc. Stack several layers to form a laminate.

(2)上記(1)のプリプレグを心材とし、その上(片面又は両面)に、樹脂組成物又はこれを含む溶液(溶媒は適宜除去する)からなる層と導電性金属層を積層する(ビルドアップ法)。この樹脂組成物からなる層は有機及び/又は無機のフィラーを含んでいてもよい。
(3)心材を用いず、樹脂組成物又はこれを含む溶液(溶媒は適宜除去する)からなる層と導電性金属層のみを交互に積層して電気・電子回路用積層板とする。
(2) The prepreg in (1) above is used as the core material, and a layer made of a resin composition or a solution containing the resin composition (the solvent is appropriately removed) and a conductive metal layer are laminated (on one side or both sides) (build). up method). The layer made of this resin composition may contain organic and/or inorganic fillers.
(3) A laminate for electric/electronic circuits is produced by alternately laminating only layers made of a resin composition or a solution containing the resin composition (the solvent is removed as appropriate) and a conductive metal layer without using a core material.

以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は本実施例により何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例及び比較例においては、下記の方法により各種物性を測定した。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples in any way. In addition, in the following examples and comparative examples, various physical properties were measured by the following methods.

<分子量>
・装置:東ソー(株)製 GPC HLC-832GPC/HT
・検出器:MIRAN社製 1A赤外分光光度計(測定波長、3.42μm)
・カラム:昭和電工(株)製:AD806M/S 3本(カラムの較正は東ソー製単分散ポリスチレン(A500,A2500,F1,F2,F4,F10,F20,F40,F288の各0.5mg/ml溶液)の測定を行ない、溶出体積と分子量の対数値を3次式で近似した。
・測定温度:135℃
・濃度 :20mg/10mL
・注入量:0.2ml
・溶媒 :o-ジクロロベンゼン
・流速 :1.0ml/分
<Molecular weight>
・Equipment: GPC HLC-832GPC/HT manufactured by Tosoh Corporation
・Detector: MIRAN 1A infrared spectrophotometer (measurement wavelength, 3.42 μm)
・Column: 3 AD806M/S manufactured by Showa Denko Co., Ltd. (Column calibration was performed using monodispersed polystyrene manufactured by Tosoh (0.5 mg/ml each of A500, A2500, F1, F2, F4, F10, F20, F40, F288) solution) was measured, and the logarithm of the elution volume and molecular weight was approximated by a cubic equation.
・Measurement temperature: 135℃
・Concentration: 20mg/10mL
・Injection amount: 0.2ml
・Solvent: o-dichlorobenzene ・Flow rate: 1.0ml/min

<ポリマーブロックの比率>
[カーボンNMRによる測定]
・装置:Bruker社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:o-ジクロロベンゼン-h/p-ジクロロベンゼン-d混合溶媒
・濃度:0.3g/2.5mL
・測定:13C-NMR
・共鳴周波数:400MHz
・積算回数:3600
・フリップ角:45度
・データ取得時間:1.5秒
・パルス繰り返し時間:15秒
・測定温度:100℃
H照射:完全デカップリング
<Polymer block ratio>
[Measurement by carbon NMR]
・Device: Bruker “AVANCE 400 spectrometer”
・Solvent: o-dichlorobenzene-h 4 /p-dichlorobenzene-d 4 mixed solvent ・Concentration: 0.3g/2.5mL
・Measurement: 13C -NMR
・Resonance frequency: 400MHz
・Accumulation count: 3600
・Flip angle: 45 degrees ・Data acquisition time: 1.5 seconds ・Pulse repetition time: 15 seconds ・Measurement temperature: 100℃
1H irradiation: complete decoupling

<水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベル>
[プロトンNMRによる測定]
・装置:Bruker社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:テトラクロロエタン
・濃度:0.045g/1.0mL
・測定:H-NMR
・共鳴周波数:400MHz
・フリップ角:45度
・データ取得時間:4秒
・パルス繰り返し時間:10秒
・積算回数:64
・測定温度:80℃
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベル:6.8~7.5ppmの積分値低減率
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベル:5.7~6.4ppmの積分値低減率
<Hydrogenation level of hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit and hydrogenated conjugated diene polymer block unit>
[Measurement by proton NMR]
・Device: Bruker “AVANCE 400 spectrometer”
・Solvent: Tetrachloroethane ・Concentration: 0.045g/1.0mL
・Measurement: 1H -NMR
・Resonance frequency: 400MHz
・Flip angle: 45 degrees ・Data acquisition time: 4 seconds ・Pulse repetition time: 10 seconds ・Number of integration: 64
・Measurement temperature: 80℃
・Hydrogenation level of hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit: Integral value reduction rate of 6.8 to 7.5 ppm ・Hydrogenation level of hydrogenated conjugated diene polymer block unit: Integral value reduction of 5.7 to 6.4 ppm rate

<変性環状ポリオレフィンの変性率>
[プロトンNMRによる測定]
・装置:BRUKER社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:重オルトジクロロベンゼン
・濃度:20mg/0.62mL
・測定:H-NMR
・共鳴周波数:400MHz
・フリップ角:45度
・データ取得時間:4秒
・パルス繰り返し時間:10秒
・積算回数:64
・測定温度:120℃
・酸変性環状ポリオレフィンの変性率:3.42~3.94ppmの積分値低減率
<Modification rate of modified cyclic polyolefin>
[Measurement by proton NMR]
・Device: BRUKER “AVANCE 400 Spectrometer”
・Solvent: Heavy orthodichlorobenzene ・Concentration: 20mg/0.62mL
・Measurement: 1H -NMR
・Resonance frequency: 400MHz
・Flip angle: 45 degrees ・Data acquisition time: 4 seconds ・Pulse repetition time: 10 seconds ・Number of integration: 64
・Measurement temperature: 120℃
・Modification rate of acid-modified cyclic polyolefin: Integral value reduction rate of 3.42 to 3.94 ppm

<誘電率、誘電損失測定>
誘電体レンズ付き透過減衰測定治具にて測定を行なった。
・装置:KEYSIGHT社製「ベクトルネットワークアナライザN5227A」
VIRGINIA DIODES社製「ミリ波モジュールWR10-VNAX」
KEYSIGHT社製「ネットワークアナライザE8361A」
・測定環境:26℃、湿度40%
・測定周波数:10GHz
<Permittivity and dielectric loss measurement>
Measurements were performed using a transmission attenuation measurement jig equipped with a dielectric lens.
・Device: KEYSIGHT “Vector Network Analyzer N5227A”
"Millimeter wave module WR10-VNAX" manufactured by VIRGINIA DIODES
"Network Analyzer E8361A" manufactured by KEYSIGHT
・Measurement environment: 26℃, humidity 40%
・Measurement frequency: 10GHz

変性環状ポリオレフィンは、200℃での熱プレスにより厚み1mm、10cm×10cmサイズのシートを作成し、これを測定に供した。
硬化物は、実施例1に記載の手法により離型PETフィルム上から剥がしたものを10cm×10cmのサイズにカットし、これを測定に供した。
The modified cyclic polyolefin was heat-pressed at 200°C to form a sheet with a thickness of 1 mm and a size of 10 cm x 10 cm, and this sheet was used for measurement.
The cured product was peeled off from the release PET film using the method described in Example 1, cut into a size of 10 cm x 10 cm, and used for measurement.

<溶液状態>
目視観察により、液の均一性及び流動性で判定した。
○:液状態が均一であり、容器を傾けると液面が速やかに流動する状態
△:液状態は均一ではないが、容器を傾けると液面は速やかに流動する状態
×:液状態は均一でなく、容器を傾けた程度では流動しない状態
<Solution state>
The uniformity and fluidity of the liquid were determined by visual observation.
○: The liquid state is uniform, and the liquid surface flows quickly when the container is tilted. △: The liquid state is not uniform, but when the container is tilted, the liquid surface flows quickly. ×: The liquid state is uniform. The liquid does not flow even when the container is tilted.

<塗工膜状態>
目視観察により、気泡、ダマ、塗り残し及び弾きの有無で判定した。
○:気泡、ダマ、塗り残し及び弾きがナシ
△:気泡、ダマ、塗り残し及び弾きが僅かにアリ
×:気泡、ダマ、塗り残し及び弾きが多くアリ
<Coating film condition>
Judgment was made by visual observation based on the presence or absence of bubbles, clumps, unpainted areas, and flickering.
○: No air bubbles, clumps, unpainted areas, or repellents △: Slight bubbles, clumps, unpainted areas, or repellents ×: Many air bubbles, clumps, unpainted areas, or repellents

<硬化膜状態>
目視観察により、気泡、ダマ、塗り残し及び弾きの有無で判定した。
○:気泡、ダマ、塗り残し及び弾きがナシ
△:気泡、ダマ、塗り残し及び弾きが僅かにアリ
×:気泡、ダマ、塗り残し及び弾きが多くアリ
<Cured film condition>
Judgment was made by visual observation based on the presence or absence of bubbles, clumps, unpainted areas, and flickering.
○: No air bubbles, clumps, unpainted areas, or repellents △: Slight bubbles, clumps, unpainted areas, or repellents ×: Many air bubbles, clumps, unpainted areas, or repellents

<原材料>
[環状ポリオレフィン]
・a-1:
環状ポリオレフィンとして、三菱ケミカル(株)製ゼラスMC930を用い、これと無水マレイン酸及び有機過酸化物(日本油脂(株)製:パーヘキサ25B(2,5?ジメチル?2,5?ジ(t?ブチルパーオキシ)ヘキサン))を、環状ポリオレフィン100質量部に対して無水マレイン酸を1.3質量部、有機過酸化物0.0065質量部となる配合比率にてよく攪拌した後、二軸押出機(日本製鋼(株)製、TEX25αIII)を使用し、シリンダー温度280℃、スクリュー回転数400rpm、吐出量10kg/hで溶融混練し、押出された溶融ストランドを水冷、カッティングすることにより、変性環状ポリオレフィンa-1を得た。得られたa-1の物性を表1に示す。
<Raw materials>
[Cyclic polyolefin]
・a-1:
As the cyclic polyolefin, Zelas MC930 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. was used, and maleic anhydride and organic peroxide (manufactured by NOF Corporation: Perhexa 25B (2,5?dimethyl?2,5?di(t?)) were used as the cyclic polyolefin. Butylperoxy)hexane)) was stirred well at a mixing ratio of 1.3 parts by mass of maleic anhydride and 0.0065 parts by mass of organic peroxide per 100 parts by mass of cyclic polyolefin, and then twin-screw extruded. Using a machine (manufactured by Nippon Steel Corporation, TEX25αIII), the cylinder temperature was 280°C, the screw rotation speed was 400 rpm, and the discharge rate was 10 kg/h, and the extruded molten strand was water-cooled and cut to form a modified ring shape. Polyolefin a-1 was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained a-1.

[変性環状ポリオレフィン]
・A-1:
無水マレイン酸の配合量を1.0質量部、有機過酸化物の配合量を2質量部とすること以外はa-1と同様にして、変性環状ポリオレフィンA-1を得た。A-1の物性を表1に示す。
[Modified cyclic polyolefin]
・A-1:
Modified cyclic polyolefin A-1 was obtained in the same manner as a-1 except that the amount of maleic anhydride was 1.0 parts by mass and the amount of organic peroxide was 2 parts by mass. The physical properties of A-1 are shown in Table 1.

・A-2:
a-1を100質量部、パーヘキサ25Bを1質量部の配合比率でよく攪拌した後、a-1と同様にして変性環状ポリオレフィンA-2を得た。A-2の物性を表1に示す。
・A-2:
After stirring thoroughly at a blending ratio of 100 parts by mass of a-1 and 1 part by mass of Perhexa 25B, modified cyclic polyolefin A-2 was obtained in the same manner as a-1. The physical properties of A-2 are shown in Table 1.

・a-2:
環状ポリオレフィンとして三菱ケミカル(株)製ゼラスMC930を、変性処理せずにそのまま使用した。a-2の物性を表1に示す。
・a-2:
As the cyclic polyolefin, Zelas MC930 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used as it was without any modification treatment. The physical properties of a-2 are shown in Table 1.

・a-3:
スチレン-ブタジエンブロック共重合体水素化物のマレイン酸変性体として、旭化成(株)製タフテックM1943を用いた。
a-3は、ポリオレフィンのマレイン酸変性体であるが、原料となるポリオレフィンの芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化されていないものである。a-3の物性を表1に示す。
・a-3:
As a maleic acid modified product of a hydrogenated styrene-butadiene block copolymer, Tuftec M1943 manufactured by Asahi Kasei Corporation was used.
A-3 is a polyolefin modified with maleic acid, but the aromatic vinyl polymer block unit of the raw material polyolefin is not hydrogenated. Table 1 shows the physical properties of a-3.

Figure 0007396932000002
Figure 0007396932000002

[熱硬化性樹脂]
・B-1:
三菱ケミカル(株)製:商品名「jER YX7700」(キシレノール骨格含有ノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量:271g/当量、Mn:660、1分子中の平均エポキシ基数:2.4個);85g、安息香酸-2-ナフチル(活性当量:248g/当量);38.41g、4-(ジメチルアミノ)ピリジン;0.01gを撹拌機付き反応容器に入れ、窒素ガス雰囲気下で、反応温度140℃、反応時間6時間で反応を行ない、固形状態のエポキシ樹脂を得た。得られたエポキシ樹脂を用いた。
[Thermosetting resin]
・B-1:
Manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: Product name "jER YX7700" (xylenol skeleton-containing novolac type epoxy resin, epoxy equivalent: 271 g/equivalent, Mn: 660, average number of epoxy groups in 1 molecule: 2.4); 85 g, benzoic 38.41 g of 2-naphthyl acid (active equivalent: 248 g/equivalent) and 0.01 g of 4-(dimethylamino)pyridine were placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, and the reaction was carried out at a reaction temperature of 140° C. under a nitrogen gas atmosphere. The reaction was carried out for 6 hours to obtain a solid epoxy resin. The obtained epoxy resin was used.

・B-2:
三菱ケミカル(株)製:商品名「jER1007」(ビスフェノール-A型エポキシ樹脂、エポキシ当量:2000g/当量、Mn:2900)を用いた。
・B-2:
Mitsubishi Chemical Corporation's product name "jER1007" (bisphenol-A type epoxy resin, epoxy equivalent: 2000 g/equivalent, Mn: 2900) was used.

[硬化剤]
・C-1:
住友化学(株)製:商品名「ユニファイアー W575」(官能基等量:220g/等量、数平均分子量;3500)を用いた。
[Curing agent]
・C-1:
The product manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade name "Unifire W575" (functional group equivalent: 220 g/equivalent, number average molecular weight: 3500) was used.

・C-2:
群栄化学工業(株)製:「PSM-4261」(フェノール樹脂)を用いた。
・C-2:
"PSM-4261" (phenol resin) manufactured by Gun-ei Chemical Industry Co., Ltd. was used.

[触媒]
四国化成工業(株)製:商品名「キュアゾール 2E4MZ」(イミダゾール系エポキシ樹脂硬化促進剤)を用いた。
[catalyst]
The product manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. under the trade name "Curezol 2E4MZ" (imidazole-based epoxy resin curing accelerator) was used.

<実施例1>
表2に従い、変性環状ポリオレフィンA-1を5g、熱硬化性樹脂B-1を9g、溶媒としてトルエン68mL、メチルエチルケトン(MEK)16.3gを200mLのセパラブルフラスコに入れ、攪拌しながら60℃へ加熱し、溶液とした。次に液温を40℃まで低下させ、硬化剤C-2を1.65g投入し、攪拌しながら全て溶解したら触媒0.05gを投入し、更に20分攪拌溶解させた。
得られた溶液を離型PETフィルム(東レフィルム加工(株)製、セラピールPJ271)の離型面上にコート厚10ミルで塗工し、溶媒をドライヤーで除去した後にオーブン中にて160℃、2時間加熱処理を行ない、硬化処理を行なった。
得られた膜を離型PETフィルムより剥離し、誘電正接を測定した。結果を表2に示す。
<Example 1>
According to Table 2, 5 g of modified cyclic polyolefin A-1, 9 g of thermosetting resin B-1, 68 mL of toluene as a solvent, and 16.3 g of methyl ethyl ketone (MEK) were placed in a 200 mL separable flask and heated to 60°C while stirring. It was heated to form a solution. Next, the liquid temperature was lowered to 40° C., 1.65 g of curing agent C-2 was added, and when it was completely dissolved with stirring, 0.05 g of catalyst was added, and the mixture was further stirred and dissolved for 20 minutes.
The obtained solution was coated on the release surface of a release PET film (Toray Film Processing Co., Ltd., Therapel PJ271) at a coating thickness of 10 mils, and after removing the solvent with a dryer, it was heated in an oven at 160°C. A heat treatment was performed for 2 hours to perform a hardening treatment.
The obtained film was peeled off from the release PET film, and the dielectric loss tangent was measured. The results are shown in Table 2.

<実施例2>
硬化剤としてC-1を用い、溶媒としてはトルエンのみを用いる他は実施例1と同様にし、但し表2記載の比率にて溶液を作成し、同様にして誘電正接を測定した。
<Example 2>
The procedure was the same as in Example 1 except that C-1 was used as the curing agent and only toluene was used as the solvent, except that solutions were prepared at the ratios shown in Table 2, and the dielectric loss tangent was measured in the same manner.

<実施例3>
変性環状ポリオレフィンとしてA-2を用いる他は実施例2と同様にし、但し表2記載の比率にて溶液を作成し、同様にして誘電正接を測定した。
<Example 3>
The procedure was the same as in Example 2 except that A-2 was used as the modified cyclic polyolefin, except that solutions were prepared at the ratios shown in Table 2, and the dielectric loss tangent was measured in the same manner.

<比較例1>
変性環状ポリオレフィンは用いず、表2記載の比率で溶液を作成し、実施例1と同様にして誘電正接を測定した。
<Comparative example 1>
A solution was prepared at the ratio shown in Table 2 without using the modified cyclic polyolefin, and the dielectric loss tangent was measured in the same manner as in Example 1.

<比較例2>
熱硬化性樹脂としてB-2を用い、硬化剤としてC-2を用いる他は比較例1と同様にし、但し表2記載の比率にて溶液を作成し、同様にして誘電正接を測定した。
<Comparative example 2>
The procedure was the same as in Comparative Example 1 except that B-2 was used as the thermosetting resin and C-2 was used as the curing agent, except that solutions were prepared at the ratios listed in Table 2, and the dielectric loss tangent was measured in the same manner.

<比較例3>
変性環状ポリオレフィンとしてa-1を用いる他は実施例2と同様にして溶液を作成し、硬化膜を作成した。得られた硬化膜は脆く、離型PETフィルムから剥離する際に粉々に割れてしまい、誘電正接を測定することができなかった。
<Comparative example 3>
A solution was prepared and a cured film was prepared in the same manner as in Example 2 except that a-1 was used as the modified cyclic polyolefin. The resulting cured film was brittle and broke into pieces when it was peeled off from the release PET film, making it impossible to measure the dielectric loss tangent.

<比較例4>
変性環状ポリオレフィンとしてA-1の代わりにa-2を用いる他は実施例2と同様にして溶液を作成し、硬化膜を作成した。得られた硬化膜は脆く、離型PETフィルムから剥離する際に粉々に割れてしまい、誘電正接を測定することができなかった。
<Comparative example 4>
A solution was prepared and a cured film was prepared in the same manner as in Example 2, except that a-2 was used instead of A-1 as the modified cyclic polyolefin. The resulting cured film was brittle and broke into pieces when it was peeled off from the release PET film, making it impossible to measure the dielectric loss tangent.

<比較例5>
変性環状ポリオレフィンとしてA-1の代わりにa-3を用いる他は実施例2と同様にして溶液を作成した。離型PETフィルム上に塗工しようとしたが、溶液はゲル化して不均一となり、塗工することができなかった。
<Comparative example 5>
A solution was prepared in the same manner as in Example 2 except that a-3 was used instead of A-1 as the modified cyclic polyolefin. An attempt was made to coat the solution onto a release PET film, but the solution gelled and became non-uniform, making it impossible to coat.

Figure 0007396932000003
Figure 0007396932000003

<結果>
これらの結果から、水素化が不十分な芳香族ビニルポリマーブロック単位を有するブロックコポリマー(a-3:比較例5)、水素化が十分な環状ポリオレフィンであっても酸変性がなされていないもの(a-2:比較例4)、及び、酸変性された環状ポリオレフィンであってもMwが大きすぎるもの(a-1:比較例3)では、熱硬化性樹脂との組成物では良好な硬化膜を得られないことがわかった。
<Results>
From these results, a block copolymer having an aromatic vinyl polymer block unit that is insufficiently hydrogenated (a-3: Comparative Example 5), a cyclic polyolefin that is sufficiently hydrogenated but not acid-modified ( a-2: Comparative Example 4) and acid-modified cyclic polyolefin with too large Mw (a-1: Comparative Example 3), the composition with thermosetting resin showed a good cured film. I found out that I can't get it.

これに対して、Mwの制御された変性環状ポリオレフィンを用いた熱硬化性樹脂組成物(実施例1及び2)は、誘電損失が大幅に改良された熱硬化膜を与えることがわかった。 On the other hand, it was found that the thermosetting resin compositions (Examples 1 and 2) using modified cyclic polyolefins with controlled Mw provided thermosetting films with significantly improved dielectric loss.

Claims (15)

変性環状ポリオレフィンと、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂及びビスマレイミド樹脂から選ばれる少なくとも1種の熱硬化性樹脂、更に硬化剤を含む樹脂組成物であって、
該変性環状ポリオレフィンの重量平均分子量(Mw)が60,000以下であり、
該変性環状ポリオレフィンが、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性体である環状ポリオレフィンであり、
該環状ポリオレフィンが、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなり、
前記水素化ブロックコポリマーが、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有する樹脂組成物。
A resin composition comprising a modified cyclic polyolefin, at least one thermosetting resin selected from epoxy resins, acrylic resins, phenolic resins, polyphenylene ether resins, polyimide resins and bismaleimide resins, and a curing agent,
The weight average molecular weight (Mw) of the modified cyclic polyolefin is 60,000 or less,
The modified cyclic polyolefin is a cyclic polyolefin modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an anhydride thereof,
The cyclic polyolefin consists of a hydrogenated block copolymer that is a hydrogenated product of a block copolymer containing at least one aromatic vinyl monomer unit and at least one conjugated diene monomer unit,
The hydrogenated block copolymer is a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit which is a hydrogenated product of a polymer block made of the aromatic vinyl monomer unit, and a hydrogenated product which is a hydrogenated product of a polymer block made of the conjugated diene monomer unit. A resin composition having a conjugated diene polymer block unit .
前記水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有する、請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 , wherein the hydrogenated block copolymer has at least two of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one of the hydrogenated conjugated diene polymer block units. 前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が90%以上の水素化レベルをもち、且つ、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位が95%以上の水素化レベルをもつ、請求項2に記載の樹脂組成物。 The resin composition of claim 2, wherein the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units have a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated conjugated diene polymer block units have a hydrogenation level of 95% or more. . 前記変性環状ポリオレフィンの、不飽和カルボン酸及び/又はその無水物による変性率が0.1~2質量%である、請求項1~3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the modified cyclic polyolefin has a modification rate of 0.1 to 2% by mass with an unsaturated carboxylic acid and/or its anhydride. 前記変性環状ポリオレフィンの、測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.001未満である、請求項1~4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the modified cyclic polyolefin has a dielectric loss of less than 0.001 at a measurement frequency of 10 GHz. 前記変性環状ポリオレフィンの含有率が、10~60質量%(樹脂組成物全体に対して)、前記の熱硬化性樹脂及び硬化剤の合計の含有率が40~90質量%(樹脂組成物全体に対して)である、請求項1~5のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The content of the modified cyclic polyolefin is 10 to 60% by mass (based on the entire resin composition), and the total content of the thermosetting resin and curing agent is 40 to 90% by mass (based on the entire resin composition). The resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is (as opposed to). 請求項1~6のいずれか一項に記載の樹脂組成物を、10~90質量%の固形分濃度で有機溶媒に溶解した、樹脂組成物溶液。 A resin composition solution in which the resin composition according to any one of claims 1 to 6 is dissolved in an organic solvent at a solid content concentration of 10 to 90% by mass. 請求項1~6のいずれか一項に記載の樹脂組成物を硬化させてなる、樹脂組成物硬化物。 A cured resin composition obtained by curing the resin composition according to any one of claims 1 to 6. 請求項1~6のいずれか一項に記載の樹脂組成物を用いてなる、電気・電子回路用積層板。 A laminate for electric/electronic circuits, comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 6. 測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、請求項8に記載の樹脂組成物硬化物。 The cured resin composition according to claim 8, having a dielectric loss of less than 0.01 at a measurement frequency of 10 GHz. 測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、請求項9に記載の電気・電子回路用積層板。 The laminate for electric/electronic circuits according to claim 9, wherein the dielectric loss at a measurement frequency of 10 GHz is less than 0.01. 請求項7に記載の樹脂組成物溶液の溶媒を除去した後に硬化して樹脂組成物硬化物を製造する方法。 A method for producing a cured resin composition by curing the resin composition solution according to claim 7 after removing the solvent. 請求項7に記載の溶液の樹脂組成物溶媒を除去した後に硬化して電気・電子回路用積層体を製造する方法。 A method for producing a laminate for electric/electronic circuits by curing the resin composition of the solution according to claim 7 after removing the solvent. 測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、請求項12に記載の樹脂組成物硬化物を製造する方法。 The method for producing a cured resin composition according to claim 12, wherein the dielectric loss at a measurement frequency of 10 GHz is less than 0.01. 測定周波数10GHzにおける誘電損失が0.01未満である、請求項13に記載の電気・電子回路用積層体を製造する方法。 The method for manufacturing a laminate for electric/electronic circuits according to claim 13, wherein the dielectric loss at a measurement frequency of 10 GHz is less than 0.01.
JP2020035058A 2020-03-02 2020-03-02 Resin composition and its solution Active JP7396932B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020035058A JP7396932B2 (en) 2020-03-02 2020-03-02 Resin composition and its solution

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020035058A JP7396932B2 (en) 2020-03-02 2020-03-02 Resin composition and its solution

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021138795A JP2021138795A (en) 2021-09-16
JP7396932B2 true JP7396932B2 (en) 2023-12-12

Family

ID=77667856

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020035058A Active JP7396932B2 (en) 2020-03-02 2020-03-02 Resin composition and its solution

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7396932B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW202336201A (en) * 2022-01-12 2023-09-16 日商力森諾科股份有限公司 Adhesive composition, adhesive film for circuit connection, and method for manufacturing connection structure

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017159590A (en) 2016-03-10 2017-09-14 日本ゼオン株式会社 Assembly and composite assembly

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2764746B2 (en) * 1989-05-19 1998-06-11 ジェイエスアール株式会社 Hydrogenated diene copolymer, modified hydrogenated diene copolymer and composition thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017159590A (en) 2016-03-10 2017-09-14 日本ゼオン株式会社 Assembly and composite assembly

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021138795A (en) 2021-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5303854B2 (en) Novel semi-IPN composite thermosetting resin composition and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same
TWI441866B (en) A thermosetting resin composition of a semi-IPN type composite and a varnish, a prepreg and a metal laminate
JP5261943B2 (en) Semi-IPN type thermosetting resin composition and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same
JP5104507B2 (en) Process for producing resin varnish containing thermosetting resin of semi-IPN type composite, and resin varnish for printed wiring board, prepreg and metal-clad laminate using the same
JP5549055B2 (en) Thermosetting resin composition, resin varnish for printed wiring board, prepreg and metal-clad laminate using the same
JP2017047686A (en) Method for manufacturing flexible copper-clad laminated sheet and flexible copper-clad laminated sheet
US11015052B2 (en) Halogen-free low dielectric resin composition, and prepreg, metal-clad laminate, and printed circuit board prepared using the same
JP5303852B2 (en) Semi-IPN type composite resin composition and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same
JP5552889B2 (en) Thermosetting resin composition for printed wiring board and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same
JP2011225639A (en) Thermosetting resin composition, and resin varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same
WO2018097010A1 (en) Resin composition, thermosetting film using same, resin cured product, laminate, printed wiring board and semiconductor device
JP5303853B2 (en) Thermosetting resin composition of IPN type composite and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same
JP5374891B2 (en) Process for producing resin varnish containing semi-IPN type thermosetting resin, resin varnish for printed wiring board, prepreg and metal-clad laminate
JP7396932B2 (en) Resin composition and its solution
JP7339800B2 (en) Curable compositions, dry films, cured products and electronic components
WO2021172189A1 (en) Modified hydrogenated block copolymer
JP2024019126A (en) Resin composition, resin sheet, laminate, sheet cured product, and circuit board material
WO2024018945A1 (en) Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and wiring board
WO2023008524A1 (en) Resin composition, resin sheet, multilayer body, sheet cured product, and circuit board material
JP2022028230A (en) Resin sheet and circuit board material using the same
TWI843461B (en) Prepolymer, resin composition containing the same and its product
JP2023065939A (en) Resin composition, resin sheet and circuit board material including the same
CN117642465A (en) Resin composition, resin sheet, laminate, sheet cured product, and circuit board material
JP2023032286A (en) Low dielectric adhesive composition
CN115210317A (en) Resin sheet and circuit board material using same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221024

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230808

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230926

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231114

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231130

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7396932

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150