JP5552889B2 - Thermosetting resin composition for printed wiring board and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same - Google Patents

Thermosetting resin composition for printed wiring board and varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same Download PDF

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本発明は、新規なセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたプリント配線板用樹脂ワニス、プリプレグ及び金属張積層板に関し、特に特定のシラン系又はシリコーン系表面処理剤で表面処理された無機充填剤を更に含有する熱硬化性樹脂組成物に関する。より詳しくは、動作周波数が1GHzを超える高周波域を利用する電子機器に好適な新規なセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたプリント配線板用樹脂ワニス、プリプレグ及び金属張積層板に関する。   The present invention relates to a novel semi-IPN composite thermosetting resin composition, and a resin varnish, prepreg and metal-clad laminate using the same, and particularly a specific silane-based or silicone-based surface treatment agent. The present invention relates to a thermosetting resin composition further containing an inorganic filler surface-treated in (1). More specifically, a novel semi-IPN-type composite thermosetting resin composition suitable for an electronic device using a high frequency range in which the operating frequency exceeds 1 GHz, and a resin varnish, prepreg and metal for a printed wiring board using the same The present invention relates to a tension laminate.

携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー及びルーター等のネットワーク関連電子機器、並びに大型コンピュータ等では、大容量の情報の伝送・処理を、低損失かつ高速で行なうことが要求されている。大容量の情報の伝送・処理は、電気信号が高周波数であればより高速化できる。ところが、電気信号は、基本的に高周波であるほど減衰しやすくなる、すなわちより短い伝送距離で出力が弱くなりやすく、損失が大きくなりやすい性質を有する。したがって、低損失かつ高速という上述の要求を満たすためには、伝送・処理を司る、機器搭載のプリント配線板自体の特性において、伝送損失、特に高周波帯域での伝送損失を一層低くする必要がある。   Mobile communication devices such as mobile phones, their base station devices, network-related electronic devices such as servers and routers, and large computers can transmit and process large volumes of information with low loss and high speed. It is requested. Transmission and processing of large-capacity information can be accelerated if the electrical signal has a high frequency. However, the electrical signal basically has a property of being easily attenuated as the frequency becomes high, that is, the output is likely to be weak at a shorter transmission distance and the loss is likely to be increased. Therefore, in order to satisfy the above requirement of low loss and high speed, it is necessary to further reduce the transmission loss, particularly in the high frequency band, in the characteristics of the printed circuit board mounted on the device that controls transmission and processing. .

このような低伝送損失のプリント配線板を得るために、従来、比誘電率及び誘電正接の低いフッ素系樹脂を使用した基板材料が使用されてきた。しかしながら、フッ素系樹脂は一般に溶融温度及び溶融粘度が高く、その流動性が比較的低いため、プレス成形条件が時に高温高圧となるという問題点がある。しかも、上述の用途、通信機器、ネットワーク関連電子機器及び大型コンピュータ等に使用される高多層のプリント配線板用途に使用するには、加工性、寸法安定性及び金属めっきとの接着性が充分ではないという問題点もある。   In order to obtain such a printed wiring board having a low transmission loss, conventionally, a substrate material using a fluorine-based resin having a low relative dielectric constant and low dielectric loss tangent has been used. However, since the fluororesin generally has a high melting temperature and melt viscosity, and its fluidity is relatively low, there is a problem that press molding conditions sometimes become high temperature and high pressure. Moreover, workability, dimensional stability, and adhesion to metal plating are not sufficient for use in the above-mentioned applications, high-layer printed wiring board applications used in communication equipment, network-related electronic equipment, large computers, and the like. There is also a problem of not.

そのため、フッ素系樹脂に替わる、高周波用途に対応するためのプリント配線板用樹脂材料が研究されている。ポリフェニレンエーテルは、耐熱性ポリマーの中で最も誘電特性が優れる樹脂の1つとして知られ、これを使用することが注目されている。しかし、ポリフェニレンエーテルは、フッ素系樹脂と同様に溶融温度及び溶融粘度が高い熱可塑性樹脂である。そのため、従来からプリント配線板用途には、溶融温度及び溶融粘度を低くさせ、プレス成形時に温度圧力条件を低く設定させるため、或いは、ポリフェニレンエーテルの溶融温度(230〜250℃)以上での耐熱性を付与する目的で、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂とを併用した樹脂組成物が用いられてきた。   Therefore, resin materials for printed wiring boards for replacing high-frequency resins for high-frequency applications have been studied. Polyphenylene ether is known as one of the resins having the most excellent dielectric properties among heat resistant polymers, and the use of this is drawing attention. However, polyphenylene ether is a thermoplastic resin having a high melting temperature and high melt viscosity, similar to a fluorine-based resin. Therefore, conventionally for printed wiring board applications, the melting temperature and melt viscosity are lowered, the temperature and pressure conditions are set low during press molding, or the heat resistance at the melting temperature (230 to 250 ° C.) or higher of polyphenylene ether. For the purpose of imparting, a resin composition in which polyphenylene ether and a thermosetting resin are used in combination has been used.

例えば、エポキシ樹脂を併用した樹脂組成物(特許文献1参照)、ビスマレイミドを併用した樹脂組成物(特許文献2参照)、シアネートエステルを併用した樹脂組成物(特許文献3参照)、スチレン−ブタジエン共重合体又はポリスチレンと、トリアリルシアヌレート又はトリアリルイソシアヌレートとを併用した樹脂組成物(特許文献4〜5参照)、ポリブタジエンを併用した樹脂組成物(特許文献6及び特許文献7参照)、水酸基、エポキシ基、カルボキシル基、(メタ)アクリル基等の官能基を有する変性ポリブタジエンとビスマレイミド及び/又はシアネートエステルとを予備反応させた樹脂組成物(特許文献8参照)、不飽和二重結合基を有する化合物を付与又はグラフトさせたポリフェニレンエーテルに上記トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートや上記ポリブタジエン等を併用した樹脂組成物(特許文献9及び特許文献10参照)、ポリフェニレンエーテルと不飽和カルボン酸又は不飽和酸無水物との反応生成物と上記ビスマレイミド等を併用した樹脂組成物(特許文献11参照)、末端に不飽和二重結合基を有し、かつ低分子量(オリゴマー)タイプのポリフェニレンエーテルオリゴマーにポリブタジエン又はスチレン−ブタジエン共重合体を併用した樹脂組成物(特許文献12参照)が提案されている。   For example, a resin composition using an epoxy resin (see Patent Document 1), a resin composition using a bismaleimide (see Patent Document 2), a resin composition using a cyanate ester (see Patent Document 3), styrene-butadiene A resin composition using a copolymer or polystyrene and triallyl cyanurate or triallyl isocyanurate in combination (see Patent Documents 4 to 5), a resin composition using polybutadiene in combination (see Patent Documents 6 and 7), Resin composition obtained by pre-reaction of modified polybutadiene having a functional group such as hydroxyl group, epoxy group, carboxyl group, (meth) acryl group, and bismaleimide and / or cyanate ester (see Patent Document 8), unsaturated double bond The above-mentioned triallyl cyanu is added to a polyphenylene ether provided or grafted with a group-containing compound. Resin composition (see Patent Document 9 and Patent Document 10), a reaction product of polyphenylene ether and unsaturated carboxylic acid or unsaturated acid anhydride, and the above bismaleimide And the like (see Patent Document 11), a resin having an unsaturated double bond group at the terminal and a polyphenylene ether oligomer of a low molecular weight (oligomer) type in combination with polybutadiene or a styrene-butadiene copolymer A composition (see Patent Document 12) has been proposed.

これらの文献には、ポリフェニレンエーテルの低伝送損失性を保ちつつ、上述したプレス成形時に高温高圧条件を必要とする熱可塑性樹脂組成物の欠点を改善するには、硬化後の熱可塑性樹脂組成物中に極性基が多くないことが好ましいことが開示されている。   In these documents, in order to improve the drawbacks of the above-mentioned thermoplastic resin composition that requires high-temperature and high-pressure conditions during press molding while maintaining the low transmission loss of polyphenylene ether, the cured thermoplastic resin composition It is disclosed that it is preferable that there are not many polar groups.

しかし、誘電率を高め、誘電正接を低減するような誘電特性の改善を目的として、誘電体粉末を含有させることが提案されている。そして、誘電体粉末の表面の接着性を制御するために表面処理を行うことが検討されており、アミノ及び/又はアクリル系シランカップリング剤のような特定のシランカップリング剤については、誘電特性のドリフトが抑えられるとともに、耐熱性及び寸法安定性が得られることが公知である(特許文献13参照)。また、ビニル基含有シランカップリング剤は、金属箔との間の引き剥がし強さを高くできることが公知である(特許文献15)。   However, it has been proposed to include a dielectric powder for the purpose of improving dielectric properties such as increasing the dielectric constant and reducing the dielectric loss tangent. In addition, it has been studied to perform surface treatment in order to control the adhesion of the surface of the dielectric powder. For specific silane coupling agents such as amino and / or acrylic silane coupling agents, the dielectric properties are It is well known that heat drift and dimensional stability can be obtained (see Patent Document 13). Moreover, it is known that a vinyl group-containing silane coupling agent can increase the peel strength between the metal foil (Patent Document 15).

無機誘電体粉末を含有する系としては、ポリフェニレンオキサイド系樹脂組成物(特許文献13参照)及びポリフェニレンエーテル系樹脂組成物(特許文献14参照)等が提案されている。   As a system containing an inorganic dielectric powder, a polyphenylene oxide resin composition (see Patent Document 13), a polyphenylene ether resin composition (see Patent Document 14), and the like have been proposed.

特開昭58−69046号公報JP 58-69046 A 特開昭56−133355号公報JP-A-56-133355 特公昭61−18937号公報Japanese Patent Publication No. 61-18937 特開昭61−286130号公報JP-A-61-286130 特開平3−275760号公報JP-A-3-275760 特開昭62−148512号公報JP-A-62-148512 特開昭59−193929号公報JP 59-193929 A 特開昭58−164638号公報JP 58-164638 A 特開平2−208355号公報JP-A-2-208355 特開平6−184213号公報JP-A-6-184213 特開平6−179734号公報JP-A-6-179734 特開2005−105061号公報JP 2005-105061 A 特開平6−52716号公報JP-A-6-52716 特開2005−105062号公報JP 2005-105062 A 特開2008−133414号公報JP 2008-133414 A

本発明者らは、特許文献1〜15に記載されたものを始めとする、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂とを併用した樹脂組成物など、そのプリント配線板用積層板用途への適用性について詳細に検討した。   Applicants of the present invention, such as those described in Patent Documents 1 to 15, such as resin compositions using polyphenylene ether and thermosetting resin in combination, for use in laminated boards for printed wiring boards We examined in detail.

その結果、特許文献1、特許文献2及び特許文献11に示されている樹脂組成物では、極性の高いエポキシ樹脂及びビスマレイミドの影響により、硬化後の誘電特性が悪化するため、高周波用途には不適であった。   As a result, in the resin compositions shown in Patent Document 1, Patent Document 2 and Patent Document 11, the dielectric properties after curing deteriorate due to the influence of highly polar epoxy resin and bismaleimide. It was inappropriate.

特許文献3に示されているシアネートエステルを併用した組成物では、誘電特性は優れるものの、吸湿後の耐熱性が低下した。   In the composition using the cyanate ester shown in Patent Document 3, the heat resistance after moisture absorption was lowered although the dielectric properties were excellent.

特許文献4〜5、特許文献9及び特許文献10に示されているトリアリルシアヌレートやトリアリルイソシアヌレートを併用した組成物では、比誘電率がやや高いことに加え、誘電特性の吸湿に伴うドリフトが大きいという傾向が見られた。   In the composition using triallyl cyanurate and triallyl isocyanurate shown in Patent Documents 4 to 5, Patent Document 9 and Patent Document 10, the relative dielectric constant is slightly high, and it is accompanied by moisture absorption of dielectric characteristics. There was a tendency for large drift.

特許文献4〜7及び特許文献10に示されているポリブタジエンを併用した樹脂組成物では、誘電特性は優れるものの、樹脂自体の強度が低いことや熱膨張係数が高いという問題があるため、高多層用のプリント配線板用途には不適切であった。   In the resin composition combined with polybutadiene shown in Patent Documents 4 to 7 and Patent Document 10, although the dielectric properties are excellent, there is a problem that the strength of the resin itself is low and the coefficient of thermal expansion is high. It was inappropriate for printed wiring board use.

特許文献8は、金属、ガラス基材との接着性を改善する目的で、変性ポリブタジエンを併用した樹脂組成物である。しかし、変性されていないポリブタジエンを用いた場合に比べて誘電特性が、特に1GHz以上の高周波領域において大幅に悪化するという問題があった。   Patent Document 8 is a resin composition in which a modified polybutadiene is used in combination for the purpose of improving adhesion to a metal or glass substrate. However, there has been a problem that the dielectric characteristics are greatly deteriorated particularly in a high frequency region of 1 GHz or more as compared with the case where unmodified polybutadiene is used.

特許文献11に示されているポリフェニレンエーテルと不飽和カルボン酸又は不飽和酸無水物との反応生成物を用いた組成物では、極性の高い不飽和カルボン酸や不飽和酸無水物の影響により通常のポリフェニレンエーテルを用いた場合よりも誘電特性が悪化する。   In the composition using the reaction product of polyphenylene ether and unsaturated carboxylic acid or unsaturated acid anhydride shown in Patent Document 11, it is usually caused by the influence of highly polar unsaturated carboxylic acid or unsaturated acid anhydride. Dielectric properties are worse than when polyphenylene ether is used.

特許文献12に示されている末端に不飽和二重結合基を有し、かつ低分子量(オリゴマー)タイプのポリフェニレンエーテルオリゴマーにポリブタジエン等の熱硬化性樹脂を併用した組成物では、硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー自体が、通常のポリフェニレンエーテルに対してのみならず、ポリブタジエン単独樹脂硬化物と比べても誘電特性が悪く、ポリフェニレンエーテルとしての良好な誘電特性が損なわれているため、通常のポリフェニレンエーテルを用いた場合よりも硬化組成物の誘電特性が悪化する。これに加えて、この硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマーは通常のポリフェニレンエーテルよりも大幅にコスト高となる。   In a composition having an unsaturated double bond group at the terminal and a low molecular weight (oligomer) type polyphenylene ether oligomer in combination with a thermosetting resin such as polybutadiene as shown in Patent Document 12, a curable polyphenylene ether is used. Since the oligomer itself has poor dielectric properties as compared to ordinary polyphenylene ether, as well as the cured polybutadiene resin, the good dielectric properties of polyphenylene ether are impaired. The dielectric properties of the cured composition are worse than if they were. In addition, this curable polyphenylene ether oligomer is significantly more expensive than ordinary polyphenylene ether.

一方、特許文献13及び特許文献14に示されているように、ポリフェニレンエーテルや特許文献12の硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマーに、上記トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ポリブタジエン等を併用した樹脂系に、アクリル系及び/又はアミノ系のシランカップリング剤で処理した無機充填剤を配合した組成物では、所望の無機充填剤の併用により比誘電率の制御や耐熱性の向上が期待され、かつ上記シランカップリング剤の添加により樹脂と無機充填剤との接着性は確保される。   On the other hand, as shown in Patent Document 13 and Patent Document 14, a resin system in which the above-mentioned triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, polybutadiene or the like is used in combination with polyphenylene ether or the curable polyphenylene ether oligomer of Patent Document 12. In a composition containing an inorganic filler treated with an acrylic and / or amino silane coupling agent, control of the dielectric constant and improvement of heat resistance are expected by the combined use of the desired inorganic filler, and the above Adhesion between the resin and the inorganic filler is ensured by the addition of the silane coupling agent.

しかし、これらシランカップリング剤はアミノ基やアクリル基の極性が高いため、1GHzを超える高周波帯域において、誘電特性(特に吸湿後)が悪化するという問題を本発明者らは見出した。そして、ビニル基含有シランカップリング剤についても、誘電特性(特に吸湿後)が悪化するという問題を本発明者らは見出した。同様に、特許文献15記載の樹脂組成物は前述した熱可塑性の欠点が改善され、かつ誘電特性にも優れたポリフェニレンエーテルを含有する熱硬化性樹脂組成物であるが、本発明者らの検討ではこの樹脂組成物は上記吸湿ドリフトの要求に対して充分ではないことを見出した。   However, since these silane coupling agents have high polarities of amino groups and acrylic groups, the present inventors have found a problem that dielectric properties (particularly after moisture absorption) deteriorate in a high frequency band exceeding 1 GHz. The inventors have also found a problem that the dielectric properties (particularly after moisture absorption) of the vinyl group-containing silane coupling agent deteriorate. Similarly, the resin composition described in Patent Document 15 is a thermosetting resin composition containing polyphenylene ether which is improved in the above-described thermoplastic defects and has excellent dielectric properties. Then, it discovered that this resin composition was not enough with respect to the request | requirement of the said moisture absorption drift.

また、吸湿ドリフトについては、携帯電話基地局アンテナなどの用途では、85℃85%RH程度の穏やかな条件で吸湿を行い、吸湿後の誘電率や誘電正接の変化(吸湿ドリフト)が一定レベル以下でなければならないという要求がある。例えば、通常、配線板はある特定の周波数帯で電気信号が共振するようにパターン設計される。電気信号の共振を、縦軸に信号強度、横軸に周波数をとって、ある周波数ωのところに信号強度のピークとして捉えた時、誘電率Dkが変動するとピークが左右にずれるので、ωのところでは利得が減少する。また、誘電正接Dfが変動するとピークの幅が広がるので、エネルギー保存則にしたがってピークの高さは低くなる。すなわち、吸湿によってDkが変わると共振の大きさが低下し、受信できる信号レベルが低下する。Dfが変わると同様に共振の大きさが低下し、受信できる信号レベルが低下し、更に共振の信号ピークが広がり、電気信号の減衰が大きくなる。このように吸湿により伝送損失は増大する。   As for moisture absorption drift, in applications such as mobile phone base station antennas, moisture absorption is performed under a mild condition of about 85 ° C and 85% RH, and the change in dielectric constant and dielectric loss tangent (moisture absorption drift) after moisture absorption is below a certain level. There is a requirement that it must be. For example, a wiring board is usually designed in a pattern so that an electric signal resonates in a specific frequency band. When the resonance of the electric signal is taken as a signal intensity peak at a certain frequency ω with the signal intensity on the vertical axis and the frequency on the horizontal axis, the peak shifts to the left and right when the dielectric constant Dk fluctuates. By the way, the gain decreases. Further, when the dielectric loss tangent Df varies, the peak width increases, so that the peak height decreases according to the energy conservation law. That is, when Dk changes due to moisture absorption, the magnitude of resonance decreases, and the signal level that can be received decreases. Similarly, when Df changes, the magnitude of resonance decreases, the signal level that can be received decreases, the signal peak of resonance further spreads, and the attenuation of the electrical signal increases. Thus, transmission loss increases due to moisture absorption.

しかし、携帯電話基地局アンテナなどのような屋外で使用する場合は吸湿が避けられないため、上記の吸湿によるDk及びDfの変動(ΔDk及びΔDf)は大きな問題になると考えられる。   However, since moisture absorption is unavoidable when used outdoors such as mobile phone base station antennas, the fluctuations in Δk and Df (ΔDk and ΔDf) due to moisture absorption are considered to be a major problem.

そこで、本発明は、上記の問題点を解決するため、特に高周波帯域での良好な誘電特性を備え、かつ吸湿時での誘電特性の変化(ΔDk及びΔDf)が小さく、伝送損失を有意に低減することができ、また、吸湿耐熱性、熱膨張特性に優れ、しかも金属箔との間の引き剥がし強さを満足させるプリント配線板を製造することができる熱硬化性樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂ワニス、プリプレグ及び金属張積層板を提供することを目的とする。これらの特性は、屋外使用において特に重要である。   Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, the present invention has good dielectric characteristics particularly in a high frequency band, and changes in dielectric characteristics (ΔDk and ΔDf) at the time of moisture absorption are small, thereby significantly reducing transmission loss. A thermosetting resin composition capable of producing a printed wiring board that is excellent in moisture absorption heat resistance and thermal expansion properties and satisfies the peel strength between the metal foil, and It aims at providing the used resin varnish, a prepreg, and a metal-clad laminate. These properties are particularly important for outdoor use.

本発明者らは、ポリフェニレンエーテルを含有する樹脂組成物について、上記課題を解決できるよう鋭意研究を重ねた結果、ポリフェニレンエーテルと化学変性されていないブタジエンポリマー及び架橋剤のプレポリマーが相容化した未硬化のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンポリマーから形成されるセミIPN型複合体と、耐吸湿性に優れた特定のシラン系表面処理剤又はシリコーン系表面処理剤で表面処理した無機充填剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物を見出した。   As a result of intensive research on the resin composition containing polyphenylene ether so as to solve the above-mentioned problems, the polyphenylene ether, a butadiene polymer not chemically modified, and a prepolymer of a crosslinking agent have been made compatible. Heat containing a semi-IPN type composite formed from an uncured polyphenylene ether-modified butadiene polymer and an inorganic filler surface-treated with a specific silane-based surface treatment agent or silicone-based surface treatment agent having excellent moisture absorption resistance A curable resin composition was found.

そして、本発明者らは、この樹脂組成物をプリント配線板用途に用いる場合、高周波帯域での良好な誘電特性と低吸湿依存特性のため、伝送損失の低減に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。   Then, the present inventors have found that when this resin composition is used for printed wiring board applications, it has excellent dielectric characteristics and low moisture absorption dependence characteristics in a high frequency band, and is excellent in reducing transmission loss. It came to be completed.

すなわち、本発明は、
(1)
未硬化のセミIPN型複合体と表面処理された無機充填剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物であって、未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルと、(B)側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマー及び(C)架橋剤から形成されるプレポリマーと、が相容化した未硬化のセミIPN型複合体であり、
表面処理された無機充填剤を処理する表面処理剤が、アルキルトリアルコキシシラン、アルキルジアルコキシシラン、シクロアルキルトリアルコキシシラン、シクロアルキルジアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、トリス(トリアルキルシロキシ)シラン、式(D−1):
That is, the present invention
(1)
A thermosetting resin composition comprising an uncured semi-IPN composite and a surface-treated inorganic filler, wherein the uncured semi-IPN composite comprises (A) polyphenylene ether and (B) A butadiene polymer containing at least 40% of 1,2-butadiene units having 1,2-vinyl groups in the side chain in the molecule and not chemically modified, and (C) a prepolymer formed from a crosslinking agent, Compatibilized uncured semi-IPN type composite,
Surface treatment agents for treating the surface-treated inorganic filler are alkyltrialkoxysilane, alkyldialkoxysilane, cycloalkyltrialkoxysilane, cycloalkyldialkoxysilane, phenyltrialkoxysilane, tris (trialkylsiloxy) silane, Formula (D-1):

(式中、R及びRは、H、CH3、C65、Ca2a+1、C24CF3、又は

のうちのいずれかであり、aは、1以上の整数であり、nは、1以上の整数である)
で表されるシリコーンオリゴマー、式(D−2):
Wherein R 1 and R 2 are H, CH 3 , C 6 H 5 , C a H 2a + 1 , C 2 H 4 CF 3 , or

A is an integer of 1 or more, and n is an integer of 1 or more)
A silicone oligomer represented by formula (D-2):


(式中、R、R、a及びnは、上記と同義であり、
、R、R、R、R及びRは、H、CH3、C65、Ca2a+1、C24CF3、又は

Wherein R 1 , R 2 , a and n are as defined above,
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are H, CH 3 , C 6 H 5 , C a H 2a + 1 , C 2 H 4 CF 3 , or


のうちのいずれかである)
で表されるシリコーンオイル、及び式(D−3):

One of
And a silicone oil represented by formula (D-3):


(式中、R、R、R、R、R、R、a及びnは、上記と同義であり、
及びRは、H、CH3、C65、Ca2a+1、C24CF3、又は

(Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , a and n are as defined above,
R 8 and R 9 are H, CH 3 , C 6 H 5 , C a H 2a + 1 , C 2 H 4 CF 3 , or


のうちのいずれかであり、bは、1以上の整数であり、cは、1以上の整数であり、dは、1以上の整数である)
で表されるシリコーンコーティング剤からなる群より選択される少なくとも一種の表面処理剤である、熱硬化性樹脂組成物。

And b is an integer of 1 or more, c is an integer of 1 or more, and d is an integer of 1 or more)
A thermosetting resin composition, which is at least one surface treatment agent selected from the group consisting of silicone coating agents represented by:

(2)
未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルと、(B)ブタジエンポリマー及び(C)架橋剤がラジカル重合したラジカル重合性重合体と、からなり、
(B)が、−〔CH−CH=CH−CH〕−単位(j)及び−〔CH−CH(CH=CH)〕−単位(k)からなる化学変性されていないブタジエンポリマーであり、j:kの比が60〜5:40〜95であり、
(C)が、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である、(1)の熱硬化性樹脂組成物。
(2)
The uncured semi-IPN type composite consists of (A) polyphenylene ether, (B) a radical polymerizable polymer obtained by radical polymerization of a butadiene polymer and (C) a crosslinking agent,
A chemically modified butadiene polymer in which (B) is composed of — [CH 2 —CH═CH—CH 2 ] —unit (j) and — [CH 2 —CH (CH═CH 2 )] — unit (k) And the ratio of j: k is 60-5: 40-95,
The thermosetting resin composition according to (1), wherein (C) is a compound having one or more ethylenically unsaturated double bonds in the molecule.

(3)
未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルの存在下で、(B)側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマー及び(C)架橋剤を予備反応させて得られる、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーである、(1)の熱硬化性樹脂組成物。
(3)
The uncured semi-IPN type composite contains (A) polyphenylene ether in the presence of (B) 1,2-butadiene unit having a 1,2-vinyl group in the side chain in a molecule of 40% or more, The thermosetting resin composition according to (1), which is a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer obtained by prereacting a butadiene polymer not chemically modified and (C) a crosslinking agent.

(4)
未硬化のセミIPN型複合体を、(C)成分の転化率が5〜100%の範囲となるように予備反応させて得る、(3)記載の熱硬化性樹脂組成物。
(4)
The thermosetting resin composition according to (3), obtained by pre-reacting an uncured semi-IPN type composite so that the conversion rate of the component (C) is in the range of 5 to 100%.

(5)
(D)表面処理された無機充填剤に用いられる無機充填剤が、酸化アルミニウム、酸化チタン、マイカ、酸化ケイ素、酸化ベリリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素、及びこれらの混合物からなる群より選択される少なくとも一種の無機充填剤である、(1)〜(4)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(5)
(D) The inorganic filler used for the surface-treated inorganic filler is aluminum oxide, titanium oxide, mica, silicon oxide, beryllium oxide, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate Magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, calcined clay, etc., talc, aluminum borate, aluminum borate, silicon carbide, and The thermosetting resin composition according to any one of (1) to (4), which is at least one inorganic filler selected from the group consisting of these mixtures.

(6)
無機充填剤が平均粒子径0.01〜30μmの球形酸化ケイ素である、(1)〜(5)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(6)
The thermosetting resin composition according to any one of (1) to (5), wherein the inorganic filler is spherical silicon oxide having an average particle diameter of 0.01 to 30 μm.

(7)
(D)成分に用いられる表面処理剤が、C〜C15アルキルトリアルコキシシラン、C〜C15アルキルジアルコキシシラン、C〜C15アルキルトリアルコキシシラン、シクロアルキルトリアルコキシシラン、シクロアルキルジアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、トリス(トリアルキルシロキシ)シラン、(1)の式(D−1)で表されるシリコーンオリゴマー、(1)の式(D−2)で表されるシリコーンオイル、及び(1)の式(D−3)で表されるシリコーンコーティング剤からなる群より選択される少なくとも一種である、(1)〜(6)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(7)
(D) a surface treatment agent used in the component, C 1 -C 15 alkyl trialkoxysilane, C 1 -C 15 alkyl dialkoxy silanes, C 1 -C 15 alkyl trialkoxysilane, cycloalkyl trialkoxysilane, cycloalkyl Dialkoxysilane, phenyltrialkoxysilane, tris (trialkylsiloxy) silane, silicone oligomer represented by formula (D-1) of (1), silicone oil represented by formula (D-2) of (1) And the thermosetting resin composition according to any one of (1) to (6), which is at least one selected from the group consisting of silicone coating agents represented by formula (D-3) in (1). object.

(8)
(D)成分に用いられる表面処理剤が、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、トリス(トリメチルシロキシ)シラン、(1)の式(D−1)で表されるシリコーンオリゴマー、(1)の式(D−2)で表されるシリコーンオイル、及び(1)の式(D−3)で表されるシリコーンコーティング剤からなる群より選択される少なくとも一種を含む、(1)〜(6)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(8)
The surface treatment agent used for component (D) is hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, tris (trimethylsiloxy) silane, formula (1) ( From the group consisting of a silicone oligomer represented by D-1), a silicone oil represented by formula (D-2) in (1), and a silicone coating agent represented by formula (D-3) in (1) The thermosetting resin composition according to any one of (1) to (6), comprising at least one selected.

(9)
(D)成分に用いられる表面処理剤を、無機充填剤重量の0.01〜20質量%で用いる、(1)〜(6)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(9)
(D) The thermosetting resin composition according to any one of (1) to (6), wherein the surface treating agent used for the component is used in an amount of 0.01 to 20% by mass of the inorganic filler weight.

(10)
(C)成分として、一般式(C−1):
(10)
As the component (C), the general formula (C-1):


(式中、R10は、m価の脂肪族性又は芳香族性の有機基であり、X及びXは、水素原子、ハロゲン原子及び脂肪族性の有機基から選ばれた同一又は異なっていてもよい一価の原子又は有機基であり、そしてmは、1以上の整数を示す。)で表される一種以上のマレイミド化合物を含有する、(1)〜(9)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。

(Wherein R 10 is an m-valent aliphatic or aromatic organic group, and X a and X b are the same or different selected from a hydrogen atom, a halogen atom and an aliphatic organic group. Any one of (1) to (9), which contains one or more maleimide compounds represented by the formula: The thermosetting resin composition according to Item.

(11)
(C)成分が、N−フェニルマレイミド、N−(2−メチルフェニル)マレイミド、N−(4−メチルフェニル)マレイミド、N−(2、6−ジメチルフェニル)マレイミド、N−(2、6−ジエチルフェニル)マレイミド、N−(2−メトキシフェニル)マレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−ドデシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミドからなる群より選択される一種以上のマレイミド化合物(I)、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンを含有する一種以上のマレイミド化合物(II)、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタンを含有する一種以上のマレイミド化合物(III)、又はジビニルビフェニルを含有する一種以上のビニル化合物である、(1)〜(10)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(11)
Component (C) is N-phenylmaleimide, N- (2-methylphenyl) maleimide, N- (4-methylphenyl) maleimide, N- (2,6-dimethylphenyl) maleimide, N- (2,6- One or more maleimide compounds (I) selected from the group consisting of diethylphenyl) maleimide, N- (2-methoxyphenyl) maleimide, N-benzylmaleimide, N-dodecylmaleimide, N-isopropylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide One or more maleimide compounds (II) containing 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, one containing bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane One or more maleimide compounds (III) or one or more containing divinylbiphenyl Vinyl compounds, (1) to the thermosetting resin composition according to any one claim of (10).

(12)
(A)成分の配合割合が、(B)成分と(C)成分との合計量100質量部に対して2〜200質量部の範囲であり、(C)成分の配合割合が、(B)成分100質量部に対して2〜200質量部の範囲であり、(D)成分の配合割合が、(A)成分と(B)成分と(C)成分との合計量100質量部に対して1〜1000質量部の範囲である、(1)〜(11)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(12)
The blending ratio of the component (A) is in the range of 2 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the component (B) and the component (C), and the blending ratio of the component (C) is (B). It is the range of 2-200 mass parts with respect to 100 mass parts of components, and the mixture ratio of (D) component is with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) component, (B) component, and (C) component. The thermosetting resin composition according to any one of (1) to (11), which is in a range of 1 to 1000 parts by mass.

(13)
さらに(E)ラジカル反応開始剤、(F)未硬化のセミIPN型複合体を構成しない、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合基を含有する架橋性モノマー又は架橋性ポリマー、(G)臭素系難燃剤及びリン系難燃剤から選択される一種以上、及び/或いは(H)飽和型熱可塑性エラストマを含有する、(1)〜(12)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(13)
Furthermore, (E) a radical reaction initiator, (F) a crosslinkable monomer or crosslinkable polymer that does not constitute an uncured semi-IPN type complex and contains one or more ethylenically unsaturated double bond groups in the molecule, (G) One or more types selected from a brominated flame retardant and a phosphorus based flame retardant, and / or (H) a thermosetting according to any one of (1) to (12), which contains a saturated thermoplastic elastomer. Resin composition.

(14)
(F)成分が、化学変性されていないブタジエンポリマー及びマレイミド化合物からなる群より選択される一種以上のエチレン性不飽和二重結合基含有の架橋性モノマー又は架橋性ポリマーである、(1)〜(13)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
(14)
The component (F) is one or more ethylenically unsaturated double bond group-containing crosslinkable monomers or crosslinkable polymers selected from the group consisting of butadiene polymers that are not chemically modified and maleimide compounds (1) to The thermosetting resin composition according to any one of (13).

(15)
(H)飽和型熱可塑性エラストマが、スチレン−ブタジエン共重合体のブタジエン部分の不飽和二重結合基を水素添加して得られる飽和型熱可塑性エラストマを含む一種以上である、(13)又は(14)記載の熱硬化性樹脂組成物。
(15)
(H) The saturated thermoplastic elastomer is one or more types including a saturated thermoplastic elastomer obtained by hydrogenating the unsaturated double bond group of the butadiene portion of the styrene-butadiene copolymer, (13) or ( The thermosetting resin composition according to 14).

(16)
(1)〜(15)のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物を溶媒に溶解又は分散させて得られるプリント配線板用樹脂ワニス。
(16)
A resin varnish for a printed wiring board obtained by dissolving or dispersing the thermosetting resin composition according to any one of (1) to (15) in a solvent.

(17)
(16)記載のプリント配線板用樹脂ワニスを基材に含浸させた後、60〜200℃で乾燥させて得られるプリプレグ。
(17)
(16) A prepreg obtained by impregnating a substrate with the resin varnish for printed wiring board and drying at 60 to 200 ° C.

(18)
(D)成分の含有比率、又は基材が無機基材である場合には(D)成分及び基材を合わせた無機成分の含有比率が、プリプレグ体積の50体積%未満である(17)記載のプリプレグ。
(18)
The content ratio of the component (D), or when the substrate is an inorganic substrate, the content ratio of the component (D) and the inorganic component combined with the substrate is less than 50% by volume of the prepreg volume (17) Prepreg.

(19)
(17)又は(18)に記載のプリプレグを1枚以上重ね、その片面又は両面に金属箔を配置し、加熱加圧して得られる金属張積層板に関する。
(19)
The present invention relates to a metal-clad laminate obtained by stacking one or more prepregs according to (17) or (18), placing a metal foil on one or both sides, and heating and pressing.

本発明によれば、本発明の樹脂組成物を用いたプリント配線板は、優れた高周波特性、良好な耐熱性(特に吸湿耐熱性)及び低熱膨張特性、良好な引き剥がし強さという基本的特性を満足しつつ、更に良好な低吸湿依存特性を有するため、電子機器の材料として用いられた場合、低損失かつ高速な電子機器を達成できる。   According to the present invention, the printed wiring board using the resin composition of the present invention has basic characteristics such as excellent high frequency characteristics, good heat resistance (particularly moisture absorption heat resistance) and low thermal expansion characteristics, and good peel strength. Therefore, when used as a material for an electronic device, a low-loss and high-speed electronic device can be achieved.

また、金属箔との間の引き剥がし強さを充分に高いレベルで達成させる樹脂組成物並びにそれを用いた樹脂ワニス、プリプレグ及び金属張積層板を提供することができる。したがって、本発明の樹脂組成物等は、1GHz以上の高周波信号を扱う移動体通信機器やその基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワーク関連電子機器及び大型コンピュータ等の各種電気・電子機器に使用されるプリント配線板の部材・部品用途として有用である。   Moreover, the resin composition which achieves the peeling strength between metal foils on a sufficiently high level, and the resin varnish, prepreg, and metal-clad laminate using the same can be provided. Therefore, the resin composition of the present invention is used in mobile communication devices that handle high-frequency signals of 1 GHz or higher, network-related electronic devices such as base station devices, servers and routers, and various electric and electronic devices such as large computers. This is useful as a printed wiring board member or component.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
本発明の新規なセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物が上述の目的を達成できることの理由は、現在のところ詳細には明らかになっていない。本発明者らは以下のように推測しているが、他の要素の関わりを除外するものではない。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
The reason why the novel semi-IPN composite thermosetting resin composition of the present invention can achieve the above-mentioned object has not been clarified in detail at present. The present inventors speculate as follows, but do not exclude the involvement of other elements.

本発明では、誘電特性が良好な熱可塑性樹脂であるポリフェニレンエーテルと、硬化後に最も優れた誘電特性を発現する熱硬化性樹脂の一つとして知られる化学変性されていないブタジエンポリマーと、を必須成分として含有することにより、誘電特性を格段に向上させることを目的としている。   In the present invention, essential components are polyphenylene ether which is a thermoplastic resin having good dielectric properties, and a butadiene polymer which is not chemically modified and is known as one of thermosetting resins which exhibit the most excellent dielectric properties after curing. It aims at improving a dielectric characteristic markedly by containing.

上述のように、ポリフェニレンエーテルと化学変性されていないブタジエンポリマーとは本来、互いに非相溶であり、均一な樹脂とすることが困難であった。ところが、本発明の予備反応を用いる手法により、均一に相容化した新規な構成の樹脂を得ることができる。   As described above, the polyphenylene ether and the butadiene polymer that has not been chemically modified are inherently incompatible with each other, and it has been difficult to obtain a uniform resin. However, a resin having a novel structure uniformly compatible can be obtained by the method using the preliminary reaction of the present invention.

本発明において、予備反応とは、反応温度、例えば60〜170℃でラジカルを発生させて、(B)成分と(C)成分とを反応させることであり、(B)成分中の所定量が架橋し、(C)成分の所定量が転化する。すなわち、この状態はゲル化には至っていない未硬化状態のことである。この予備反応の前後の、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の混合液と、セミIPNポリマーとは、粘度、濁度、液体クロマトグラフィー等の特性ピークの変化により容易に区別することができる。   In the present invention, the preliminary reaction means that a radical is generated at a reaction temperature, for example, 60 to 170 ° C., and the (B) component and the (C) component are reacted, and the predetermined amount in the (B) component is Crosslinking results in conversion of a predetermined amount of component (C). That is, this state is an uncured state that has not yet been gelled. Before and after this preliminary reaction, the mixture of component (A), component (B) and component (C) is easily distinguished from semi-IPN polymer by changes in the characteristic peaks such as viscosity, turbidity, and liquid chromatography. can do.

なお、一般に言われる硬化反応とは、熱プレス又は溶剤揮発温度以上でラジカルを発生させて硬化させることであり、本発明における予備反応との違いは明白である。   The curing reaction generally referred to is to generate radicals at a temperature equal to or higher than the hot press or the solvent volatilization temperature and cure, and the difference from the preliminary reaction in the present invention is clear.

本発明では、(A)成分であるポリフェニレンエーテルの存在下で、(B)成分の、側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマーと、(C)成分の架橋剤とを、(C)成分を適正な転化率(反応率)で予備反応させることにより、完全に硬化させる前の未硬化状態で、一旦、一方のリニアポリマー成分(ここでは、下図の実線部分で示される(A)成分)と、もう片方の架橋性成分(ここでは、下図の点線部分で示される(B)及び(C)成分)との間に、いわゆる“セミIPN”を形成させたポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを形成して均一な樹脂組成物を得ている(未硬化のセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物;下図参照)。   In the present invention, in the presence of polyphenylene ether as component (A), the component (B) contains 1,2-butadiene units having a 1,2-vinyl group in the side chain of 40% or more in the molecule, In addition, the butadiene polymer not chemically modified and the crosslinking agent of the component (C) are pre-reacted with the component (C) at an appropriate conversion rate (reaction rate), and in an uncured state before being completely cured. Once, one linear polymer component (here, component (A) indicated by the solid line in the lower figure) and the other crosslinkable component (here, indicated by the dotted line in the lower figure (B) and (C)) A uniform resin composition is obtained by forming a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer in which so-called “semi-IPN” is formed (components)) (thermosetting resin composition of uncured semi-IPN type composite) Things; see below ).

この際の均一化(相容化)は、(A)成分とそれ以外の成分((B)成分と(C)成分との部分架橋物)とが化学的結合を形成するのではなく、(A)成分とそれ以外の成分との分子鎖同士が互いに、部分的かつ物理的に絡み合いながらオリゴマー化するためミクロ相分離構造を形成し、見かけ上均一化(相容化)できるものと考えられる。
In this case, the homogenization (compatibility) does not mean that (A) component and other components (partially crosslinked product of (B) component and (C) component) form a chemical bond, It is considered that the molecular chains of the component A) and the other components are oligomerized while being partially and physically entangled with each other, so that a microphase separation structure is formed and apparently uniform (compatibilized). .

このポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを含有する樹脂組成物(未硬化のセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物)は、外観が見かけ上均一な外観を有する樹脂膜が得られる。   The resin composition containing this polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer (thermosetting resin composition of an uncured semi-IPN composite) can provide a resin film having an apparently uniform appearance.

従来知られているようなポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーやポリフェニレンエーテルとポリブタジエンとの単なる混合物は、セミIPNを形成しておらず、また、構成成分が相容化していないため、いわば相分離した状態である。そのために、本願発明の組成物とは異なり、従来のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーやポリフェニレンエーテルとポリブタジエンとの単なる混合物は見かけ上不均一なマクロ相分離を起こす。   A polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer known in the art or a simple mixture of polyphenylene ether and polybutadiene does not form a semi-IPN, and the components are not compatibilized. It is. Therefore, unlike the composition of the present invention, a conventional polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer or a simple mixture of polyphenylene ether and polybutadiene causes apparently non-uniform macrophase separation.

本願発明のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを含有する樹脂組成物(未硬化のセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物)を用いて製造されるプリプレグは、外観が均一であり、かつ、ある程度架橋したブタジエンプレポリマーと元々タックのないポリフェニレンエーテルが分子レベルで相容化しているためにタックの問題が解消される。   The prepreg produced using the resin composition containing the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer of the present invention (thermosetting resin composition of an uncured semi-IPN composite) has a uniform appearance and to some extent The tack problem is eliminated because the cross-linked butadiene prepolymer and the originally tack-free polyphenylene ether are compatible at the molecular level.

更に、このプリプレグを用いて製造される金属張積層板は、プリプレグと同様に外観上の問題もなく、また、分子鎖同士が部分的かつ物理的に絡み合いながら硬化するため、不均一状態の樹脂組成物を硬化させた場合よりも疑似的に架橋密度が高くなるため、弾性率が向上して熱膨張係数が低くなる。   Furthermore, the metal-clad laminate produced using this prepreg has no problem in appearance like the prepreg, and is cured while the molecular chains are partially and physically entangled with each other. Since the crosslink density is increased in a pseudo manner as compared with the case where the composition is cured, the elastic modulus is improved and the thermal expansion coefficient is lowered.

更に、弾性率の向上と均一なミクロ相分離構造の形成により、樹脂の破壊強度や耐熱性(特に吸湿時)を大幅に高めることができる。   Furthermore, by improving the elastic modulus and forming a uniform microphase separation structure, the fracture strength and heat resistance (especially during moisture absorption) of the resin can be significantly increased.

更に、(C)成分として、硬化物とした時の樹脂強度や靭性を高める、或いは分子運動を拘束させる等の特徴を持たせるような特定の架橋剤を選択することにより、金属箔引き剥がし強さ及び熱膨張特性のレベルを向上できることを見出している。   Furthermore, as a component (C), by selecting a specific cross-linking agent that enhances the resin strength and toughness when cured, or restricts molecular motion, the metal foil peel strength is increased. It has been found that the level of thermal expansion and thermal expansion properties can be improved.

また、この本願発明のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーに、(D)成分としての特定の表面処理剤で表面処理した無機充填剤を併用することで、一般的に言われている無機充填剤配合に基づく低熱膨張率化、更なる耐熱性向上及び所望の比誘電率制御に加え、誘電特性の悪化を抑えつつ、かつ誘電特性の吸湿時の変化率を小さくできること(低吸湿依存特性)を見出した。   In addition, the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer of the present invention is combined with an inorganic filler surface-treated with a specific surface treatment agent as the component (D), so that the inorganic filler is generally said to be blended. In addition to lowering the coefficient of thermal expansion, further improving heat resistance, and controlling the desired relative dielectric constant, it was found that the rate of change of the dielectric property during moisture absorption can be reduced (low moisture absorption dependent property) while suppressing deterioration of the dielectric property. .

通常、樹脂材料に無機充填剤を配合する際、分散性向上や樹脂との密着力向上を目的にカップリング剤を併用する場合が多い。しかし、本願発明のように、極めて良好な誘電特性を有する樹脂系に対して添加剤(ここでは、カップリング剤)を併用する場合、微量な添加量でもカップリング剤のような添加剤が誘電特性(特に高周波帯及び吸湿時)に及ぼす影響は小さくない。   Usually, when an inorganic filler is blended in a resin material, a coupling agent is often used in combination for the purpose of improving dispersibility and improving adhesion to the resin. However, when an additive (in this case, a coupling agent) is used in combination with a resin system having extremely good dielectric properties as in the present invention, the additive such as the coupling agent is dielectric even with a small amount. The effect on characteristics (especially in the high frequency band and moisture absorption) is not small.

しかし、本発明に用いられる特定の表面処理剤(シラン系表面処理剤又はシリコーン系表面処理剤)で表面処理した無機充填剤を併用すると、上記の通常の効果に加え、従来用いられているカップリング剤系よりも低極性であるため誘電特性(特に1GHzを超える高周波帯域において)を低下させることがない。更に、シラン系処理剤又はシリコーン系表面処理剤は、低吸湿性に優れているため、誘電特性(特に1GHzを超える高周波帯域において)の優れた低吸湿依存特性を発現できる。   However, when an inorganic filler surface-treated with a specific surface treatment agent (silane-based surface treatment agent or silicone-based surface treatment agent) used in the present invention is used in combination, the conventional cup is used in addition to the above normal effect. Since the polarity is lower than that of the ring agent system, dielectric characteristics (particularly in a high frequency band exceeding 1 GHz) are not deteriorated. Furthermore, since the silane-based treatment agent or the silicone-based surface treatment agent is excellent in low moisture absorption, it can exhibit low moisture absorption-dependent characteristics with excellent dielectric characteristics (particularly in a high frequency band exceeding 1 GHz).

本発明の新規なセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物は、未硬化のセミIPN型複合体と表面処理された無機充填剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物であって、未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルと、(B)側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマー及び(C)架橋剤から形成されるプレポリマーと、が相容化した未硬化のセミIPN型複合体であり、表面処理された無機充填剤を処理する表面処理剤が、アルキルトリアルコキシシラン、アルキルジアルコキシシラン、シクロアルキルトリアルコキシシラン、シクロアルキルジアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、トリス(トリアルキルシロキシ)シラン、式(D−1)のシリコーンオリゴマー、式(D−2)のシリコーンオイル、及び式(D−3)のシリコーンコーティング剤のうちの少なくとも一種を含む。   A novel semi-IPN composite thermosetting resin composition of the present invention is a thermosetting resin composition containing an uncured semi-IPN composite and a surface-treated inorganic filler, The cured semi-IPN type composite contains (A) polyphenylene ether and (B) 1,2-butadiene unit having 1,2-vinyl group in the side chain in the molecule of 40% or more, and is chemically modified. A non-cured semi-IPN type composite that is compatibilized with a prepolymer formed from an unmodified butadiene polymer and (C) a crosslinking agent, and the surface treatment agent for treating the surface-treated inorganic filler is an alkyl Trialkoxysilane, alkyldialkoxysilane, cycloalkyltrialkoxysilane, cycloalkyldialkoxysilane, phenyltrialkoxysilane, tris (trialkylsiloxy) Run, at least one of a silicone coating agent of formula (D-1) of the silicone oligomer, silicone oil of formula (D-2), and Formula (D-3).

以下、樹脂組成物の各成分、並びにポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー及び樹脂組成物の好適な製造方法について説明する。
本発明の新規なセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物において、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造に用いられる(A)成分は、例えば、2,6−ジメチルフェノールや2,3,6,−トリメチルフェノールの単独重合で得られるポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルやポリ(2,3,6−トリメチル−1,4−フェニレン)エーテルや2,6−ジメチルフェノールと2,3,6,−トリメチルフェノールとの共重合体等が挙げられる。
Hereinafter, each component of the resin composition, and a preferable method for producing the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer and the resin composition will be described.
In the novel semi-IPN composite thermosetting resin composition of the present invention, the component (A) used for producing the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer is, for example, 2,6-dimethylphenol or 2,3,6. Poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether or poly (2,3,6-trimethyl-1,4-phenylene) ether or 2,6-dimethylphenol obtained by homopolymerization of, -trimethylphenol And a copolymer of 2,3,6, -trimethylphenol and the like.

また、これらとポリスチレンやスチレン−ブタジエンコポリマー等とのアロイ化ポリマー等、いわゆる変性ポリフェニレンエーテルも用いることができるが、この場合はポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル成分、ポリ(2,3,6−トリメチル−1,4−フェニレン)エーテル成分及び2,6−ジメチルフェノールと2,3,6,−トリメチルフェノールとの共重合体成分を50%以上含有するポリマーであることがより好ましい。   In addition, so-called modified polyphenylene ether such as an alloyed polymer of these with polystyrene or styrene-butadiene copolymer can also be used. In this case, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether component, It is a polymer containing 50% or more of a (2,3,6-trimethyl-1,4-phenylene) ether component and a copolymer component of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6, -trimethylphenol. Is more preferable.

また、(A)成分の分子量については、特に限定されないが、プリント配線板とした時の誘電特性や耐熱性と、プリプレグとした時の樹脂の流動性とのバランスを考慮すると、数平均分子量で7000〜30000の範囲であることが好ましい。なお、ここでいう数平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定を行い、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算したものである。   The molecular weight of the component (A) is not particularly limited, but considering the balance between the dielectric properties and heat resistance when used as a printed wiring board and the fluidity of the resin when used as a prepreg, the number average molecular weight is It is preferable that it is the range of 7000-30000. In addition, the number average molecular weight here is measured by gel permeation chromatography and converted by a calibration curve prepared using standard polystyrene.

本発明において、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造に用いられる(B)成分は、側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマーであれば、特に限定されるものではなく、分子中の側鎖1,2−ビニル基や末端の両方又は片方を、エポキシ化、グリコール化、フェノール化、マレイン化、(メタ)アクリル化及びウレタン化等の化学変性された変性ポリブタジエンではなく、化学変性されていない未変性のブタジエンポリマーである。変性ポリブタジエンを用いると、誘電特性、耐湿性及び吸湿後の耐熱性が悪化するため望ましくない。   In the present invention, the component (B) used for the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer contains 40% or more of 1,2-butadiene units having 1,2-vinyl groups in the side chain in the molecule, and There is no particular limitation as long as it is an unmodified butadiene polymer, and epoxidation, glycolation, phenolization, maleation, or both of one or both of the side chain 1,2-vinyl group and terminal in the molecule, It is an unmodified butadiene polymer that is not chemically modified, not a chemically modified modified polybutadiene such as (meth) acrylated and urethanized. Use of modified polybutadiene is not desirable because it deteriorates dielectric properties, moisture resistance and heat resistance after moisture absorption.

(B)成分の分子中の側鎖1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位の含有量は、樹脂組成物の硬化性を考慮すると、50%以上がより好ましく、65%以上が更に好ましい。   The content of 1,2-butadiene units having a side chain 1,2-vinyl group in the molecule of the component (B) is more preferably 50% or more and 65% or more in view of the curability of the resin composition. Further preferred.

また、(B)成分の分子量は特に限定されないが、樹脂組成物の硬化性や硬化物とした時の誘電特性と、プリプレグとした時の樹脂の流動性とのバランスを考慮すると、数平均分子量が500〜10000の範囲であることが好ましく、700〜8000の範囲であることがより好ましく、1000〜5000の範囲であることが更に好ましい。なお、数平均分子量とは、(A)成分における数平均分子量の定義と同様である。   In addition, the molecular weight of the component (B) is not particularly limited, but considering the balance between the curability of the resin composition and the dielectric properties of the cured product and the fluidity of the resin of the prepreg, the number average molecular weight Is preferably in the range of 500 to 10000, more preferably in the range of 700 to 8000, and still more preferably in the range of 1000 to 5000. The number average molecular weight is the same as the definition of the number average molecular weight in the component (A).

(B)成分として、−〔CH−CH=CH−CH〕−単位(j)及び−〔CH−CH(CH=CH)〕−単位(k)からなる化学変性されていないブタジエンポリマーであり、j:kの比が60〜5:40〜95であるものを用いることができる。 As the component (B), - [CH 2 -CH = CH-CH 2] - units (j) and - [CH 2 -CH (CH = CH 2 ) ] - units (k) chemically unmodified butadiene consisting A polymer having a j: k ratio of 60 to 5:40 to 95 can be used.

本発明において好適に用いられる(B)成分の具体例としては、日本曹達社製の商品名:B−1000、B−2000、B−3000、新日本石油化学社製の商品名:B−1000、B−2000、B−3000、SARTOMER社製の商品名:Ricon142、Ricon150、Ricon152、Ricon153、Ricon154等を商業的に入手することができる。   Specific examples of the component (B) preferably used in the present invention include trade names: B-1000, B-2000, B-3000 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., and B-1000 manufactured by Shin Nippon Petrochemical Co., Ltd. B-2000, B-3000, trade names manufactured by SARTOMER: Ricon 142, Ricon 150, Ricon 152, Ricon 153, Ricon 154 and the like can be obtained commercially.

本発明において、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造に用いられる(C)成分は、分子中に(B)成分との反応性を有する官能基を有する化合物であり、例えば分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合基を含有する架橋性モノマー又は架橋性ポリマーが挙げられる。   In the present invention, the component (C) used in the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer is a compound having a functional group having reactivity with the component (B) in the molecule. For example, one or more components in the molecule Examples thereof include a crosslinkable monomer or a crosslinkable polymer containing an ethylenically unsaturated double bond group.

(C)成分としては、具体的には、ビニル化合物、マレイミド化合物、ジアリルフタレート、(メタ)アクリロイル化合物、不飽和ポリエステル等が挙げられる。この中でも好適に用いられる(C)成分としては、一種以上のマレイミド化合物、或いは一種以上のビニル化合物を含有すると、(B)成分との共架橋性に優れるため、樹脂組成物とした時の硬化性や保存安定性が良好であることや、プリント配線板とした時の成形性、誘電特性、吸湿後の誘電特性、熱膨張特性、金属箔引き剥がし強さ、Tg、吸湿時の耐熱性及び難燃性等のトータルバランスが優れるという観点から望ましい。   Specific examples of the component (C) include vinyl compounds, maleimide compounds, diallyl phthalates, (meth) acryloyl compounds, and unsaturated polyesters. Among these, the component (C) preferably used includes one or more maleimide compounds or one or more vinyl compounds, and is excellent in co-crosslinking property with the component (B). Good stability and storage stability, formability when used as a printed wiring board, dielectric properties, dielectric properties after moisture absorption, thermal expansion properties, metal foil peel strength, Tg, heat resistance during moisture absorption and It is desirable from the viewpoint that the total balance such as flame retardancy is excellent.

本発明の(C)成分として好適に用いられるマレイミド化合物は、下記一般式(C−1):

(式中、R10はm価の脂肪族性、脂環式、芳香族性、複素環式のいずれかである一価又は多価の有機基であり、X及びXは水素原子、ハロゲン原子及び脂肪族性の有機基から選ばれた同一又は異なっていてもよい一価の原子又は有機基であり、mは1以上の整数を示す。)で表される分子中に1個以上のマレイミド基を含有する化合物であれば特に限定されない。
The maleimide compound suitably used as the component (C) of the present invention is represented by the following general formula (C-1):

(In the formula, R 10 is a monovalent or polyvalent organic group that is any one of m-valent aliphatic, alicyclic, aromatic, and heterocyclic, and X a and X b are hydrogen atoms, A monovalent atom or an organic group which may be the same or different and selected from a halogen atom and an aliphatic organic group, and m represents an integer of 1 or more. If it is a compound containing the maleimide group of, it will not specifically limit.

モノマレイミド化合物や下記の一般式(C−2):

(式中、R11は、−C(X−、−CO−、−O−、−S−、−SO−、又は連結する結合であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい、Xは炭素数1〜4のアルキル基、−CF、−OCH、−NH、ハロゲン原子又は水素原子を示し、それぞれ同一又は異なっていてもよく、それぞれベンゼン環の置換位置は相互に独立であり、n及びpは、0〜10の整数を示す)で表されるポリマレイミド化合物が好適に使用できる。
A monomaleimide compound or the following general formula (C-2):

(Wherein R 11 is —C (X c ) 2 —, —CO—, —O—, —S—, —SO 2 —, or a bond to be linked, and may be the same or different, respectively. X c represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —CF 3 , —OCH 3 , —NH 2 , a halogen atom or a hydrogen atom, which may be the same or different from each other. Independent, n and p each represents an integer of 0 to 10).

上述のモノマレイミド化合物の具体例としては、N−フェニルマレイミド、N−(2−メチルフェニル)マレイミド、N−(4−メチルフェニル)マレイミド、N−(2、6−ジメチルフェニル)マレイミド、N−(2、6−ジエチルフェニル)マレイミド、N−(2−メトキシフェニル)マレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−ドデシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド及びN−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。   Specific examples of the monomaleimide compound include N-phenylmaleimide, N- (2-methylphenyl) maleimide, N- (4-methylphenyl) maleimide, N- (2,6-dimethylphenyl) maleimide, N- (2,6-diethylphenyl) maleimide, N- (2-methoxyphenyl) maleimide, N-benzylmaleimide, N-dodecylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.

一般式(C−2)で表されるポリマレイミド化合物の具体例としては、1,2−ジマレイミドエタン、1,3−ジマレイミドプロパン、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、2,7−ジマレイミドフルオレン、N,N′−(1,3−フェニレン)ビスマレイミド、N,N′−(1,3−(4−メチルフェニレン))ビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)エ−テル、1,3−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−(3−マレイミドフェノキシ)フェノキシ)ベンゼン、ビス(4−マレイミドフェニル)ケトン、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホキシド、4,4′−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(2−(3−マレイミドフェニル)プロピル)ベンゼン、1,3−ビス(1−(4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル)−1−プロピル)ベンゼン、ビス(マレイミドシクロヘキシル)メタン、2、2−ビス[4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス(マレイミドフェニル)チオフェン、下記の一般式(C−3):   Specific examples of the polymaleimide compound represented by the general formula (C-2) include 1,2-dimaleimidoethane, 1,3-dimaleimidopropane, bis (4-maleimidophenyl) methane, and bis (3-ethyl). -4-maleimidophenyl) methane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, 2,7-dimaleimidofluorene, N, N ′-(1,3-phenylene) bismaleimide, N, N ′-(1,3- (4-methylphenylene)) bismaleimide, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, bis (4-maleimidophenyl) sulfide, bis (4-maleimidophenyl) ether, 1,3 -Bis (3-maleimidophenoxy) benzene, 1,3-bis (3- (3-maleimidophenoxy) phenoxy) benzene, bis (4-ma Imidophenyl) ketone, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) sulfone, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] sulfoxide 4,4'-bis (3-maleimidophenoxy) biphenyl, 1,3-bis (2- (3-maleimidophenyl) propyl) benzene, 1,3-bis (1- (4- (3-maleimidophenoxy) Phenyl) -1-propyl) benzene, bis (maleimidocyclohexyl) methane, 2,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis (Maleimidophenyl) thiophene, the following general formula (C-3):


(式中、qは平均値で0〜10である。)
及び下記の一般式(C−4):

(In the formula, q is an average value of 0 to 10.)
And the following general formula (C-4):


(式中、rは平均値で0〜10である。)
のような脂肪族性、脂環式、芳香族性及び複素環式のポリマレイミド等(ただし、各々異性体を含む)が挙げられる。

(In the formula, r is an average value of 0 to 10.)
Such as aliphatic, alicyclic, aromatic and heterocyclic polymaleimides (but each includes isomers).

プリント配線板とした時の耐湿性、耐熱性、破壊強度、金属箔引き剥がし強さ及び低熱膨張特性の観点からは、芳香族性のポリマレイミドが好ましく、その中でも、特に熱膨張係数を更に低める点では、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタンを用いることがより好ましく、破壊強度及び金属箔引き剥がし強さを更に高める点では、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンを用いることがより好ましい。   Aromatic polymaleimide is preferred from the viewpoint of moisture resistance, heat resistance, breaking strength, metal foil peel strength and low thermal expansion characteristics when used as a printed wiring board, and among them, the thermal expansion coefficient is particularly further reduced. In terms of point, it is more preferable to use bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, and in terms of further increasing the breaking strength and the metal foil peeling strength, 2,2-bis (4- ( More preferably, 4-maleimidophenoxy) phenyl) propane is used.

また、プリプレグとした時の成形性を高める点では、緩やかな硬化反応となるモノマレイミドが好ましく、その中でもコストの点でN−フェニルマレイミドを用いることがより好ましい。   Moreover, in order to improve the moldability when it is used as a prepreg, monomaleimide that causes a gradual curing reaction is preferable, and among these, N-phenylmaleimide is more preferable in terms of cost.

そして、上記マレイミド化合物は単独でも、二種類以上を組み合わせて用いてもよく、又はこれら一種以上のマレイミド化合物と上記に示した架橋剤を一種以上とを併用して用いてもよい。   And the said maleimide compound may be used individually or in combination of 2 or more types, or may use together these 1 or more types of maleimide compounds and the crosslinking agent shown above 1 or more types.

(C)成分において、マレイミド化合物とその他の架橋剤とを併用して用いる場合は、(C)成分中のマレイミド化合物の割合を50質量%以上であることが好ましく、より好ましくは80質量%以上であり、特に好ましくは100質量%、すなわち(C)成分が全てマレイミド化合物である場合である。   In the component (C), when the maleimide compound and other crosslinking agent are used in combination, the proportion of the maleimide compound in the component (C) is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more. And particularly preferably 100% by mass, that is, the case where all of the component (C) are maleimide compounds.

(C)成分として好適に用いられるビニル化合物は、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ジビニルビフェニルが挙げられる。中でも、ジビニルビフェニルが好ましい。   Examples of the vinyl compound suitably used as the component (C) include styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, and divinylbiphenyl. Of these, divinylbiphenyl is preferred.

本発明において好適に用いられる(C)成分の具体例としては、新日鐵化学社製のジビニルビフェニルが商業的に入手可能である。   As a specific example of the component (C) preferably used in the present invention, divinylbiphenyl manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. is commercially available.

本発明の新規なセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物におけるポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーは、好ましくは媒体中に展開させた(A)成分の存在下で、(B)成分と(C)成分とをゲル化しない程度に予備反応させることにより製造することができる。   The polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer in the novel semi-IPN composite thermosetting resin composition of the present invention is preferably a component (B) and a component (C) in the presence of the component (A) developed in a medium. ) Component can be pre-reacted to such an extent that it does not gel.

これにより、本来非相溶系である(A)成分と(B)成分及び(C)成分との間に、分子鎖同士が互いに物理的に絡み合ったセミIPNポリマーが形成され、完全に硬化させる前段階の未硬化の状態で、見かけ上均一化(相容化)したプレポリマーが得られる。   As a result, a semi-IPN polymer in which molecular chains are physically entangled with each other is formed between the component (A), the component (B), and the component (C), which are inherently incompatible systems, and are completely cured. An apparently uniform (compatibilized) prepolymer is obtained in an uncured state in stages.

本発明によれば、例えば、(A)成分を溶媒に溶解させる等により媒体中に展開させた後、この溶液中に(B)成分及び(C)成分を溶解又は分散させて、60〜170℃で、0.1〜20時間、加熱・撹拌させることにより製造することができる。溶液中でポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを製造する場合、溶液中の固形分(不揮発分)濃度が通常5〜80質量%となるように溶媒の使用量を調節することが好ましい。   According to the present invention, for example, after the component (A) is developed in a medium by dissolving it in a solvent, the component (B) and the component (C) are dissolved or dispersed in this solution, It can be produced by heating and stirring at a temperature of 0.1 to 20 hours. When producing a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer in a solution, it is preferable to adjust the amount of the solvent used so that the solid content (nonvolatile content) concentration in the solution is usually 5 to 80% by mass.

そして、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを製造した後は、濃縮等により溶媒を完全に除去して無溶媒の樹脂組成物としてもよく、又はそのまま溶媒に溶解又は分散させたポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー溶液としてもよい。
また、溶液とする場合においても、濃縮等により固形分(不揮発分)濃度を高くした溶液としてもよい。
After the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer is produced, the solvent may be completely removed by concentration or the like to obtain a solvent-free resin composition, or the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer solution dissolved or dispersed in the solvent as it is. It is good.
Also, in the case of a solution, a solution having a solid content (nonvolatile content) concentration increased by concentration or the like may be used.

本発明の樹脂組成物において、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造に用いられる(A)成分、(B)成分及び(C)成分の配合割合は、(A)成分の配合割合が、(B)成分と(C)成分との合計量100質量部に対して2〜200質量部の範囲とするのが好ましく、10〜100質量部とすることがより好ましく、15〜50質量部とすることが更に好ましい。   In the resin composition of the present invention, the blending ratio of the component (A), the component (B) and the component (C) used for the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer is the blending ratio of the component (A) (B). It is preferable to set it as the range of 2-200 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of a component and (C) component, It is more preferable to set it as 10-100 mass parts, It is set as 15-50 mass parts. Further preferred.

(A)成分の配合割合は、熱膨張係数、誘電特性と樹脂ワニスの粘度に起因する塗工作業性及びプリプレグとした時の溶融粘度に起因するプリント配線板とした時の成形性とのバランスを考慮して、(B)成分と(C)成分との合計量100質量部に対して配合することが好ましい。   The blending ratio of component (A) is a balance between the coefficient of thermal expansion, the dielectric properties and the coating workability resulting from the viscosity of the resin varnish, and the moldability of the printed wiring board resulting from the melt viscosity when used as a prepreg. In consideration of the above, it is preferable to blend with respect to 100 parts by mass of the total amount of component (B) and component (C).

また、(C)成分の配合割合が、(B)成分100質量部に対して2〜200質量部の範囲とするのが好ましく、5〜100質量部とすることがより好ましく、10〜75質量部とすることが更に好ましい。   Moreover, it is preferable that the mixture ratio of (C) component shall be the range of 2-200 mass parts with respect to 100 mass parts of (B) component, It is more preferable to set it as 5-100 mass parts, 10-75 masses More preferably, it is a part.

(C)成分の配合割合は、熱膨張係数、Tg及び金属箔引き剥がし強さと誘電特性とのバランスを考慮して、(B)成分100質量部に対して配合することが好ましい。本発明のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーは、その製造の際に、(C)成分の転化率(反応率)が5〜100%の範囲となるように予備反応させて得られる。   The blending ratio of the component (C) is preferably blended with respect to 100 parts by weight of the component (B) in consideration of the balance between the coefficient of thermal expansion, Tg, peel strength of the metal foil, and dielectric properties. The polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer of the present invention is obtained by preliminary reaction so that the conversion rate (reaction rate) of the component (C) is in the range of 5 to 100% during the production thereof.

より好ましい範囲としては、上記(B)成分及び(C)成分の配合割合によって異なり、(C)成分の配合割合が、(B)成分100質量部に対して2〜10質量部の範囲の場合は、(C)成分の転化率(反応率)が10〜100%の範囲とするのがより好ましく、10〜100質量部の範囲の場合は、(C)成分の転化率(反応率)が7〜90%の範囲とするのがより好ましく、100〜200質量部の範囲の場合は、(C)成分の転化率(反応率)が5〜80%の範囲とするのがより好ましい。   More preferable range depends on the blending ratio of the component (B) and the component (C), and the blending ratio of the component (C) is in the range of 2 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (B). More preferably, the conversion rate (reaction rate) of the component (C) is in the range of 10 to 100%, and in the range of 10 to 100 parts by mass, the conversion rate (reaction rate) of the component (C) is More preferably, it is in the range of 7 to 90%, and in the range of 100 to 200 parts by mass, the conversion rate (reaction rate) of the component (C) is more preferably in the range of 5 to 80%.

(C)成分の転化率(反応率)は、樹脂組成物やプリプレグで外観が均一でかつタックなしであること、プリント配線板で、吸湿時の耐熱性や金属箔引き剥がし強さ、熱膨張係数を考慮すると、5%以上であることが好ましい。   The conversion rate (reaction rate) of component (C) is that the resin composition and prepreg have a uniform appearance and no tack, printed wiring board, heat resistance when absorbing moisture, metal foil peeling strength, thermal expansion Considering the coefficient, it is preferably 5% or more.

なお、本発明におけるポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーとは、(C)成分が100%転化した状態を含む。また、(C)成分の転化が100%未満であり、反応しない、未転化の(C)成分が残存する状態も含む。   In addition, the polyphenylene ether modified butadiene prepolymer in the present invention includes a state in which the component (C) is 100% converted. Moreover, the conversion of (C) component is less than 100%, and the state which does not react and remains unconverted (C) component is also included.

(C)成分の転化率(反応率)とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー中の(C)成分の残存量と予め作成した(C)成分の検量線とから換算したものである。   The conversion rate (reaction rate) of the component (C) is based on the residual amount of the component (C) in the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer measured by gel permeation chromatography and the calibration curve of the component (C) prepared in advance. It is converted.

本発明の熱硬化性樹脂組成物の(D)成分は、特定の表面処理剤(シラン系表面処理剤又はシリコーン系表面処理剤)で表面処理した無機充填剤であり、これに用いられる無機充填剤としては、特に限定されないが、具体的には、酸化アルミニウム、酸化チタン、マイカ、酸化ケイ素、酸化ベリリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素等が用いられる。これらの無機充填剤は単独で用いてもよいし、二種類以上併用してもよい。また、無機充填剤の形状及び粒径についても特に制限はないが、粒径0.01〜30μm、好ましくは0.1〜15μmのものが好適に用いられる。   Component (D) of the thermosetting resin composition of the present invention is an inorganic filler surface-treated with a specific surface treatment agent (a silane surface treatment agent or a silicone surface treatment agent). The agent is not particularly limited, and specifically, aluminum oxide, titanium oxide, mica, silicon oxide, beryllium oxide, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, magnesium hydroxide Aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, clay such as calcined clay, talc, aluminum borate, aluminum borate, silicon carbide, etc. are used. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. The shape and particle size of the inorganic filler are not particularly limited, but those having a particle size of 0.01 to 30 μm, preferably 0.1 to 15 μm are suitably used.

本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(D)成分に用いられる特定の表面処理剤としては、極性の低いシラン系表面処理剤又はシリコーン系表面処理剤である。具体例としては、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシランなど炭素数が6以上のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシランなどの芳香族トリアルコキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシランなどのアルキルジアルコキシシラン、トリス(トリメチルシロキシ)シランなどのトリス(トリアルキルシロキシ)シラン、アルコキシシリコーンオリゴマーなどのシリコーンオリゴマー、長鎖アルキル変性非反応性シリコーンオイル又は長鎖アルキル・アラルキル変性非反応性シリコーンオイルなどのシリコーンオイル、シリコーンコーティング剤が挙げられる。例えば、式(D−1):   In the thermosetting resin composition of the present invention, the specific surface treatment agent used for the component (D) is a silane surface treatment agent or a silicone surface treatment agent having a low polarity. Specific examples include alkyltrialkoxysilanes having 6 or more carbon atoms such as hexyltrimethoxysilane and decyltrimethoxysilane, aromatic trialkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane, alkyldialkoxysilanes such as cyclohexylmethyldimethoxysilane, and tris. Silicone oils such as tris (trialkylsiloxy) silanes such as (trimethylsiloxy) silane, silicone oligomers such as alkoxysilicone oligomers, long-chain alkyl-modified non-reactive silicone oils or long-chain alkyl-aralkyl-modified non-reactive silicone oils, silicones A coating agent is mentioned. For example, Formula (D-1):


(式中、R及びRは、H、CH3、C65、Ca2a+1、C24CF3、又は

のうちのいずれかであり、aは、1以上の整数であり、nは、1以上の整数である)
で表されるシリコーンオリゴマー、式(D−2):

Wherein R 1 and R 2 are H, CH 3 , C 6 H 5 , C a H 2a + 1 , C 2 H 4 CF 3 , or

A is an integer of 1 or more, and n is an integer of 1 or more)
A silicone oligomer represented by formula (D-2):


(式中、R、R、a及びnは、上記と同義であり、
、R、R、R、R及びRは、H、CH3、C65、Ca2a+1、C24CF3、又は

のうちのいずれかである)
で表されるシリコーンオイル、及び式(D−3):

Wherein R 1 , R 2 , a and n are as defined above,
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are H, CH 3 , C 6 H 5 , C a H 2a + 1 , C 2 H 4 CF 3 , or

One of
And a silicone oil represented by formula (D-3):


(式中、R、R、R、R、R、R、a及びnは、上記と同義であり、
及びRは、H、CH3、C65、Ca2a+1、C24CF3、又は

のうちのいずれかであり、bは、1以上の整数であり、cは、1以上の整数であり、dは、1以上の整数である)
で表されるシリコーンコーティング剤である。

(Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , a and n are as defined above,
R 8 and R 9 are H, CH 3 , C 6 H 5 , C a H 2a + 1 , C 2 H 4 CF 3 , or

And b is an integer of 1 or more, c is an integer of 1 or more, and d is an integer of 1 or more)
It is the silicone coating agent represented by these.

これらのうち、特にヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、トリス(トリメチルシロキシ)シラン、シリコーンオリゴマー、長鎖アルキル変性非反応性シリコーンオイル、シリコーンコーティング剤が好ましい。   Of these, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, tris (trimethylsiloxy) silane, silicone oligomer, long-chain alkyl-modified non-reactive silicone oil, and silicone coating agent are particularly preferable.

これらの特定の表面処理剤(シラン系表面処理剤又はシリコーン系表面処理剤)は単独で用いてもよいし、二種類以上併用してもよい。表面処理剤としては、例えば、ヘキシルトリメトキシシラン(KBM−3063、信越化学工業社製)、デシルトリメトキシシラン(KBM−3103、信越化学工業社製)、メチルトリメトキシシラン(KBM−13、信越化学工業社製)、フェニルトリメトキシシラン(KBM−103、信越化学工業社製)、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン(CHMS−112、信越化学工業社製)、トリス(トリメチルシロキシ)シラン(S−1003TS、信越化学工業社製)、シリコーンオリゴマー(KR−2000、信越化学工業社製)、アルコキシシリコーンオリゴマー(X−40−9225、信越化学工業社製)、長鎖アルキル変性非反応性シリコーンオイル(KF−4917、信越化学工業社製)、長鎖アルキル・アラルキル変性非反応性シリコーンオイル(X−22−1877、信越化学工業社製)、シリコーンコーティング剤(KPN−3504、信越化学工業社製)が挙げられる。   These specific surface treatment agents (silane-based surface treatment agents or silicone-based surface treatment agents) may be used alone or in combination of two or more. Examples of the surface treatment agent include hexyltrimethoxysilane (KBM-3063, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), decyltrimethoxysilane (KBM-3103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), methyltrimethoxysilane (KBM-13, Shin-Etsu). Chemical Industry Co., Ltd.), phenyltrimethoxysilane (KBM-103, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), cyclohexylmethyldimethoxysilane (CHMS-112, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), tris (trimethylsiloxy) silane (S-1003TS, Shin-Etsu) Chemical Industries), silicone oligomer (KR-2000, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), alkoxy silicone oligomer (X-40-9225, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), long chain alkyl-modified non-reactive silicone oil (KF-4917) , Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), long chain alkyl aralkyl modification Non-reactive silicone oil (X-22-1877, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a silicone coating agent (KPN-3504, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

また,無機充填剤への表面処理剤の付着量は、特に制限はないが,無機充填剤の樹脂材料への分散性や硬化物とした時の耐熱性を考慮して、無機充填剤質量の0.01〜20質量%が好適であり,好ましくは0.05〜10質量%,より好ましくは0.1〜7質量%である。   The amount of the surface treatment agent attached to the inorganic filler is not particularly limited, but considering the dispersibility of the inorganic filler in the resin material and the heat resistance when cured, the amount of the inorganic filler 0.01-20 mass% is suitable, Preferably it is 0.05-10 mass%, More preferably, it is 0.1-7 mass%.

本発明の樹脂組成物における(D)成分の配合割合は、特に限定されないが、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分の合計量100質量部に対して、1〜1000質量部が好ましく、5〜500質量部がより好ましく、10〜350質量部が更に好ましく、所望の比誘電率制御、耐熱性向上及びプリプレグの成形性を考慮した配合量を適宜決定できる。   The blending ratio of component (D) in the resin composition of the present invention is not particularly limited, but with respect to 100 parts by mass of the total amount of component (A), component (B), component (C) and component (D), 1-1000 mass parts is preferable, 5-500 mass parts is more preferable, 10-350 mass parts is still more preferable, and the compounding quantity which considered desired relative dielectric constant control, heat resistance improvement, and the moldability of a prepreg can be determined suitably. .

また、(D)成分は、予め湿式法や乾式法で表面処理剤により表面処理したものを用いてもよく、又はポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー中に、表面処理剤と無機充填剤を配合・混合して表面処理して用いてもよい。   In addition, the component (D) may be pretreated by a wet or dry process with a surface treatment agent, or a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer is mixed and mixed with a surface treatment agent and an inorganic filler. Then, the surface treatment may be used.

湿式法の場合は、有機溶媒等(分散媒)に表面処理剤と無機充填剤を分散させて表面処理したスラリーとして用いることができ、乾式法で表面処理する場合は、表面処理後に有機溶媒等に分散させてスラリーとして用いることができる。なお、表面処理する際の時間、温度等の処理条件は特に制限されない。   In the case of a wet method, it can be used as a surface-treated slurry in which a surface treatment agent and an inorganic filler are dispersed in an organic solvent or the like (dispersion medium). And can be used as a slurry. In addition, processing conditions such as time and temperature during the surface treatment are not particularly limited.

本発明の樹脂組成物には、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造の際に(B)成分と(C)成分との予備反応を開始又は促進させる目的と、金属張積層板や多層プリント配線板を製造する際に樹脂組成物の硬化反応を開始又は促進させる目的として、(E)ラジカル反応開始剤を含有していることが好ましい。   The resin composition of the present invention includes a purpose of initiating or promoting a preliminary reaction between the component (B) and the component (C) in the production of a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer, a metal-clad laminate, and a multilayer printed wiring board. For the purpose of initiating or accelerating the curing reaction of the resin composition when producing, it is preferable to contain (E) a radical reaction initiator.

(E)成分の具体例としては、ジクミルペルオキサイド、t−ブチルクミルペルオキサイド、ベンゾイルペルオキサイド、クメンハイドロペルオキサイド、1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4,4−ジ(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキシル)プロパン、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロペルオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルペルオキサイド、α,α′−ビス(t−ブチルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルペルオキシイソフタレート、t−ブチルペルオキシベンゾエート、t−ブチルペルオキシアセテート、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)オクタン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、ビス(t−ブチルペルオキシ)イソフタレート、イソブチリルペルオキサイド、ジ(トリメチルシリル)ペルオキサイド、トリメチルシリルトリフェニルシリルペルオキサイド等の過酸化物や2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンゾインメチルエーテル、メチル−o−ベンゾイルベンゾエート等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of the component (E) include dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5- Trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2- Bis (4,4-di (t-butylperoxy) cyclohexyl) propane, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) Hexin-3, di-t-butyl peroxide, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropyl Pyrbenzene, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, di-t-butylperoxyisophthalate, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxyacetate, 2,2-bis (t- Butylperoxy) butane, 2,2-bis (t-butylperoxy) octane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, bis (t-butylperoxy) isophthalate, isobutyryl peroxide , Peroxides such as di (trimethylsilyl) peroxide, trimethylsilyltriphenylsilyl peroxide, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy -2-Methylpropan-1-one, benzoin methyl Ether, although methyl -o- benzoyl benzoate, and the like, without limitation.

また、(E)成分は、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー製造時の予備反応を開始又は促進させる目的で用いるものと、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造後に硬化反応を開始又は促進させる目的で用いるものとを、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造前後で分けて配合するのが好ましい。その場合、それぞれの目的で配合する(E)成分は、同種のものを用いても、異なる種類のものを用いてよく、それぞれ一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を混合して用いてもよい。   Component (E) is used for the purpose of initiating or accelerating a pre-reaction during the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer, and for the purpose of initiating or accelerating the curing reaction after the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer. Are preferably blended separately before and after the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer. In that case, (E) component mix | blended for each objective may use the same kind, may use a different kind, each may be used individually, and two or more types may be mixed. It may be used.

本発明の樹脂組成物における上記(E)成分の配合割合は、(B)成分及び(C)成分の配合割合に応じて決定することができ、(B)成分と(C)成分の合計量100質量部に対して、0.05〜10質量部とすることが好ましい。この数値範囲内で(E)成分のラジカル反応開始剤を配合すると、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを製造する際の予備反応において適切な反応速度が得られ、金属張積層板や多層プリント配線板を製造する際の硬化反応において、良好な硬化性が得られる。   The blending ratio of the component (E) in the resin composition of the present invention can be determined according to the blending ratio of the component (B) and the component (C), and the total amount of the component (B) and the component (C). It is preferable to set it as 0.05-10 mass parts with respect to 100 mass parts. When the radical reaction initiator of component (E) is blended within this numerical range, an appropriate reaction rate can be obtained in a preliminary reaction when producing a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer, and metal-clad laminates and multilayer printed wiring boards can be obtained. In the curing reaction during production, good curability is obtained.

また、本発明の樹脂組成物には、必要に応じて(F)未硬化のセミIPN型複合体を構成しない、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合基を含有する架橋性モノマー又は架橋性ポリマー、(G)臭素系難燃剤及び/又はリン系難燃剤、(H)飽和型熱可塑性エラストマ及び各種熱硬化性樹脂、各種熱可塑性樹脂、各種添加剤を、プリント配線板とした時の誘電特性、耐熱性、接着性(金属箔引き剥がし強さ、ガラス等の基材との接着性等)、耐湿性、Tg、熱膨張特性等の特性を悪化させない範囲の配合量で、更に配合してもよい。   In addition, the resin composition of the present invention contains (F) an uncured semi-IPN type composite, and if necessary, contains at least one ethylenically unsaturated double bond group in the molecule. Monomer or crosslinkable polymer, (G) brominated flame retardant and / or phosphorus flame retardant, (H) saturated thermoplastic elastomer and various thermosetting resins, various thermoplastic resins, various additives, When blended in a range that does not deteriorate properties such as dielectric properties, heat resistance, adhesiveness (stripping strength of metal foil, adhesion to a substrate such as glass), moisture resistance, Tg, and thermal expansion properties Furthermore, you may mix | blend.

上記(F)成分の未硬化のセミIPN型複合体を構成しない、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合基を含有する架橋性モノマー又は架橋性ポリマーとしては、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造後に配合されるものであり、特に限定されない。   The crosslinkable monomer or crosslinkable polymer containing one or more ethylenically unsaturated double bond groups in the molecule that does not constitute the uncured semi-IPN type complex of the component (F) is polyphenylene ether-modified butadiene. It is blended after the production of the prepolymer and is not particularly limited.

(F)成分は、具体的には化学変性されていないブタジエンポリマー及びマレイミド化合物からなる群より選択される。   Component (F) is specifically selected from the group consisting of butadiene polymers and maleimide compounds that are not chemically modified.

(F)成分はまた、上記(B)成分及び上記(C)成分として挙げられた化合物を用いることができる。また、化学変性されていないブタジエンポリマーとして、数平均分子量が10000を超える化学変性されていないブタジエンポリマーも挙げられる。これらの化合物は、一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を混合して用いてもよい。   As the component (F), compounds exemplified as the component (B) and the component (C) can be used. Moreover, as a butadiene polymer not chemically modified, a butadiene polymer having a number average molecular weight exceeding 10,000 is not chemically modified. These compounds may be used alone or in a combination of two or more.

上記の(B)成分及び(C)成分として例示されたものと同じ化合物を(F)成分として配合する場合は、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー製造時に用いたものと、それぞれ同種のものを用いても、異なる種類のものを用いてもよい。この場合、未硬化のセミIPN型複合体の熱硬化性樹脂組成物(ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー)の製造後に配合されるため、その場合の(F)成分の配合量は、(B)成分及び(C)成分の配合量とは区別され、下記に好ましい配合量が別途記述される。   When the same compound as exemplified as the component (B) and the component (C) is blended as the component (F), use the same type as that used when producing the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer. Alternatively, different types may be used. In this case, since it is blended after the production of the uncured semi-IPN composite thermosetting resin composition (polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer), the blending amount of the component (F) in that case is the component (B) In addition, it is distinguished from the blending amount of the component (C), and preferable blending amounts are separately described below.

上記(F)成分として、数平均分子量が10000を超える化学変性されていないブタジエンポリマーを配合する場合、液状タイプでも固形タイプでも用いることができ、1,2−ビニル結合比率及び1,4−結合比率についても特に制限されない。   As the component (F), when a butadiene polymer having a number average molecular weight exceeding 10,000 is not chemically modified, it can be used in a liquid type or a solid type, and a 1,2-vinyl bond ratio and a 1,4-bond can be used. The ratio is not particularly limited.

本発明の樹脂組成物における上記(F)成分の配合割合は、特に限定されないが、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の合計量100質量部に対して、2〜100質量部とすることが好ましく、2〜80質量部とすることがより好ましく、2〜60質量部とすることが更に好ましい。   Although the compounding ratio of the said (F) component in the resin composition of this invention is not specifically limited, 2-100 mass with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) component, (B) component, and (C) component. Part, preferably 2 to 80 parts by weight, more preferably 2 to 60 parts by weight.

上記(G)成分の難燃剤としては、特に限定されないが、臭素系、リン系、金属水酸化物等の難燃剤が好適に用いられる。より具体的には、臭素系難燃剤としては、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂及び臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の臭素化エポキシ樹脂、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモトルエン、エチレンビス(ペンタブロモフェニル)、エチレンビステトラブロモフタルイミド、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロオクタン、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、臭素化ポリフェニレンエーテル、臭素化ポリスチレン及び2,4,6−トリス(トリブロモフェノキシ)−1,3,5−トリアジン等の臭素化添加型難燃剤、トリブロモフェニルマレイミド、トリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、テトラブロモビスフェノールA型ジメタクリレート、ペンタブロモベンジルアクリレート及び臭素化スチレン等の不飽和二重結合基含有の臭素化反応型難燃剤等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a flame retardant of the said (G) component, Flame retardants, such as a bromine type, a phosphorus type, and a metal hydroxide, are used suitably. More specifically, brominated flame retardants include brominated epoxy resins such as brominated bisphenol A type epoxy resin and brominated phenol novolac type epoxy resin, hexabromobenzene, pentabromotoluene, ethylenebis (pentabromophenyl). , Ethylenebistetrabromophthalimide, 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane, hexabromocyclododecane, bis (tribromophenoxy) ethane, brominated polyphenylene ether, brominated Brominated flame retardants such as polystyrene and 2,4,6-tris (tribromophenoxy) -1,3,5-triazine, tribromophenyl maleimide, tribromophenyl acrylate, tribromophenyl methacrylate, tetrabromide Bisphenol A dimethacrylate, brominated reactive flame retardant unsaturated double bond-containing, such as pentabromobenzyl acrylate and brominated styrene.

リン系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジルジ−2,6−キシレニルホスフェート及びレゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)等の芳香族系リン酸エステル、フェニルホスホン酸ジビニル、フェニルホスホン酸ジアリル及びフェニルホスホン酸ビス(1−ブテニル)等のホスホン酸エステル、ジフェニルホスフィン酸フェニル、ジフェニルホスフィン酸メチル、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド誘導体等のホスフィン酸エステル、ビス(2−アリルフェノキシ)ホスファゼン、ジクレジルホスファゼン等のホスファゼン化合物、リン酸メラミン、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸メラム、ポリリン酸アンモニウム、リン含有ビニルベンジル化合物及び赤リン等のリン系難燃剤を例示でき、金属水酸化物難燃剤としては水酸化マグネシウムや水酸化アルミニウム等が例示される。また、上述の難燃剤は一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。   Phosphorus flame retardants include aromatic phosphoric acids such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl di-2,6-xylenyl phosphate and resorcinol bis (diphenyl phosphate) Esters, phosphonic esters such as divinyl phenylphosphonate, diallyl phenylphosphonate and bis (1-butenyl) phenylphosphonate, phenyl diphenylphosphinate, methyl diphenylphosphinate, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phos Phosphinic acid esters such as faphenanthrene-10-oxide derivatives, phosphazene compounds such as bis (2-allylphenoxy) phosphazene, dicresyl phosphazene, melamine phosphate, melamine pyrophosphate, Phosphorus flame retardants such as melamine phosphate, melam polyphosphate, ammonium polyphosphate, phosphorus-containing vinylbenzyl compounds and red phosphorus can be exemplified, and examples of metal hydroxide flame retardants include magnesium hydroxide and aluminum hydroxide. . Moreover, the above-mentioned flame retardant may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.

本発明の樹脂組成物における(G)成分の配合割合は、特に限定されないが、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の合計量100質量部に対して、5〜200質量部とすることが好ましく、5〜150質量部とすることがより好ましく、5〜100質量部とすることが更に好ましい。   Although the compounding ratio of the (G) component in the resin composition of the present invention is not particularly limited, it is 5 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the (A) component, the (B) component, and the (C) component. It is preferable to set it as 5 to 150 mass parts, and it is still more preferable to set it as 5 to 100 mass parts.

難燃剤の配合割合が5質量部未満では耐燃性が不充分となる傾向があり、200質量部を超えるとプリント配線板とした時の耐熱性や金属箔引き剥がし強さが低下する傾向にある。   If the blending ratio of the flame retardant is less than 5 parts by mass, the flame resistance tends to be insufficient, and if it exceeds 200 parts by mass, the heat resistance and the metal foil peeling strength tend to be reduced when a printed wiring board is used. .

上記(H)成分は、飽和型熱可塑性エラストマであれば特に限定されるものではないが、(A)成分との相溶性の良いスチレン系飽和型熱可塑性エラストマが望ましい。本発明において好適に用いられる(H)成分の具体例としては、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体が挙げられ、スチレン−ブタジエン共重合体のブタジエンブロックの不飽和二重結合部分を水素添加する方法等により得ることができる。   The component (H) is not particularly limited as long as it is a saturated thermoplastic elastomer, but a styrene saturated thermoplastic elastomer having good compatibility with the component (A) is desirable. Specific examples of the component (H) preferably used in the present invention include styrene-ethylene-butylene copolymers, and a method of hydrogenating an unsaturated double bond portion of a butadiene block of a styrene-butadiene copolymer. Etc. can be obtained.

また、スチレン系飽和型熱可塑性エラストマを用いる場合、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーとの相溶性と、樹脂組成物を硬化させた場合の熱膨張特性とのバランスから、スチレンブロックの含有比率が20〜70%であることが好ましい。   Further, when using a styrene-based saturated thermoplastic elastomer, the content ratio of the styrene block is 20 to 20 from the balance between the compatibility with the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer and the thermal expansion characteristics when the resin composition is cured. 70% is preferable.

更に、(H)成分は、分子中にエポキシ基、水酸基、カロボキシル基、アミノ基、酸無水物等の官能基を付与した化学変性飽和型熱可塑性エラストマを用いることもできる。また、(H)成分は単独でも、二種類以上を組み合わせて用いてもよく、スチレン系飽和型熱可塑性エラストマを用いる場合、スチレン含有量の異なる二種類以上を組み合わせて用いてもよい。   Furthermore, as the component (H), a chemically modified saturated thermoplastic elastomer having a functional group such as an epoxy group, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, or an acid anhydride in the molecule can be used. In addition, the component (H) may be used alone or in combination of two or more kinds, and when a styrene saturated thermoplastic elastomer is used, two or more kinds having different styrene contents may be used in combination.

また、(H)成分の飽和型熱可塑性エラストマは、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造後に配合してもよいし、例えば、溶媒等の媒体中に展開させた(A)成分と(H)成分の存在下で、(B)成分と、(C)成分とをゲル化しない程度に予備反応させることにより製造される飽和型熱可塑性エラストマ併用ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーとして用いてもよい。   Further, the saturated thermoplastic elastomer of component (H) may be blended after the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer, for example, component (A) and component (H) developed in a medium such as a solvent. May be used as a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer combined with a saturated thermoplastic elastomer produced by pre-reacting the component (B) and the component (C) in the presence of

なお、飽和型熱可塑性エラストマ併用ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを製造する際、各成分における好ましい具体例及び配合量並びに(C)成分の転化率(反応率)等の製造方法については、前記ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー製造の際の記載が適用される。   When producing a saturated thermoplastic elastomer combined polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer, the preferred specific examples and blending amounts in each component and the production method such as the conversion rate (reaction rate) of the component (C) are described above. The description in the production of modified butadiene prepolymers applies.

本発明の樹脂組成物における(H)成分の配合割合は、特に限定されないが、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の合計量100質量部に対して、1〜100質量部とすることが好ましく、2〜50質量部とすることがより好ましく、5〜30質量部とすることが更に好ましい。(H)成分の配合割合が1質量部未満では誘電特性の向上効果が不充分となる傾向があり、100質量部を超えると硬化物の熱膨張特性が悪化する傾向にある。   Although the compounding ratio of the (H) component in the resin composition of the present invention is not particularly limited, it is 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the (A) component, the (B) component, and the (C) component. It is preferable to set it as 2-50 mass parts, and it is still more preferable to set it as 5-30 mass parts. If the blending ratio of the component (H) is less than 1 part by mass, the effect of improving the dielectric characteristics tends to be insufficient, and if it exceeds 100 parts by mass, the thermal expansion characteristics of the cured product tend to deteriorate.

本発明における溶媒としては、特に限定するものではないが、具体例としては、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル、カルビトール、ブチルカルビトール等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、酢酸エチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の含窒素類等の溶媒が挙げられる。   The solvent in the present invention is not particularly limited, but specific examples include alcohols such as methanol, ethanol and butanol, ethers such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, carbitol and butyl carbitol. , Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, esters such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, butoxyethyl acetate, ethyl acetate, N, N -Solvents such as nitrogen-containing compounds such as dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone.

また、これらの溶媒は一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類や、芳香族炭化水素類とアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類との混合溶媒がより好ましい。   Moreover, these solvents may be used alone or in combination of two or more. More preferred are aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene, and mixed solvents of aromatic hydrocarbons and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone.

これらの溶媒のうち、芳香族炭化水素類及びケトン類を混合溶媒として用いる場合のそれらの配合割合は、芳香族炭化水素類100質量部に対してケトン類を5〜100質量部であると好ましく、10〜80質量部であるとより好ましく、15〜60質量部であると更に好ましい。   Among these solvents, the blending ratio when aromatic hydrocarbons and ketones are used as a mixed solvent is preferably 5 to 100 parts by mass of ketones with respect to 100 parts by mass of aromatic hydrocarbons. 10 to 80 parts by mass, more preferably 15 to 60 parts by mass.

なお、(D)成分として、有機溶媒中で表面処理した無機充填剤スラリーを用いる場合も、上記に示した溶媒等が使用できる。これらの溶媒は一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を組み合わせて用いてもよく、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造の際に用いられる溶媒と同種のものでも、異なる種類の溶媒を用いてもよい。   In addition, also when using the inorganic filler slurry surface-treated in the organic solvent as (D) component, the solvent etc. which were shown above can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Even if they are the same as the solvent used in the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer, different types of solvents may be used. It may be used.

また、本発明の樹脂組成物において、必要に応じて配合される各種熱硬化性樹脂としては、特に限定されないが、具体例としては、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂等が挙げられ、これらの硬化剤や硬化促進剤等を用いることができる。   In the resin composition of the present invention, various thermosetting resins to be blended as necessary are not particularly limited, but specific examples include epoxy resins, cyanate ester resins, phenol resins, urethane resins, and melamine resins. Benzoxazine resin, benzocyclobutene resin, dicyclopentadiene resin and the like, and these curing agents and curing accelerators can be used.

また、必要に応じて配合される各種熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン・プロピレン共重合体、ポリ(4−メチル−ペンテン)等のポリオレフィン類及びその誘導体、ポリエステル類及びその誘導体、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルフォン、(メタ)アクリル酸エステル共重合体類、ポリスチレン、アクリロニトリルスチレン共重合体類、アクリロニトリルスチレンブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール類、ポリビニルアルコール類、ポリブタジエンの完全水素添加物類、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイト、ポリアミドイミド、ポリアミド、熱可塑性ポリイミド、芳香族ポリエステル等の液晶ポリマー等が挙げられる。   Further, various thermoplastic resins to be blended as necessary are not particularly limited, but specific examples include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polybutene, ethylene / propylene copolymer, and poly (4-methyl-pentene). And derivatives thereof, polyesters and derivatives thereof, polycarbonate, polyacetal, polysulfone, (meth) acrylic acid ester copolymers, polystyrene, acrylonitrile styrene copolymers, acrylonitrile styrene butadiene copolymers, polyvinyl acetal, polyvinyl Butyrals, polyvinyl alcohols, polybutadiene complete hydrogenates, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide, polyphenylene sulfite, polyamideimide, polyamide, heat Plastic polyimide, and a liquid crystal polymer such as aromatic polyester.

各種添加剤としては、特に限定されないが、具体例としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、顔料、着色剤、滑剤等が挙げられる。   Various additives are not particularly limited, but specific examples include silane coupling agents, titanate coupling agents, antioxidants, heat stabilizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, pigments, colorants, lubricants, and the like. Can be mentioned.

また、これらの熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び添加剤は、それぞれ、単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。   Moreover, these thermosetting resins, thermoplastic resins and additives may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物の1つの製造方法としては、上述した(A)成分、(B)成分及び(C)成分とで得られるポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー、(D)成分、(E)ラジカル反応開始剤、必要に応じて配合される(F)未硬化のセミIPN型複合体を構成しない、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合基を含有する架橋性モノマー又は架橋性ポリマー、(G)難燃剤、(H)飽和型熱可塑性エラストマ及び各種熱硬化性樹脂、各種熱可塑性樹脂、各種添加剤を、公知の方法で配合、撹拌・混合することにより製造することができる。   As one method for producing the resin composition of the present invention, the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer obtained from the above-mentioned component (A), component (B) and component (C), component (D), radical (E) Initiator, crosslinkable monomer or crosslinkable containing one or more ethylenically unsaturated double bond groups in the molecule, which does not constitute (F) an uncured semi-IPN type composite compounded as necessary A polymer, (G) a flame retardant, (H) a saturated thermoplastic elastomer and various thermosetting resins, various thermoplastic resins, and various additives can be produced by blending, stirring and mixing by known methods. .

上述した本発明の樹脂組成物を溶媒に溶解又は分散させることにより、本発明の樹脂ワニスを得ることができる。また、溶液中でポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーを製造した場合は、一旦、溶媒を除去して無溶媒のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーと、上述のその他の配合剤とを溶媒に溶解又は分散させて樹脂ワニスとしてもよく、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー溶液に、(D)成分又は(D)成分を溶剤に分散させたスラリー、(E)成分及び必要に応じて(F)成分、(G)成分、(H)成分、上述のその他の配合剤と、必要に応じて追加の溶媒を更に配合して樹脂ワニスとしてもよい。   The resin varnish of the present invention can be obtained by dissolving or dispersing the above-described resin composition of the present invention in a solvent. In addition, when a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer is produced in a solution, the solvent is once removed, and the solvent-free polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer and the above-described other compounding agents are dissolved or dispersed in the solvent. It may be a resin varnish. A slurry in which (D) component or (D) component is dispersed in a solvent in a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer solution, (E) component, and (F) component, (G) component as required The (H) component, the above-mentioned other compounding agents, and an additional solvent may be further blended as necessary to obtain a resin varnish.

上述の樹脂組成物をワニス化する際に用いられる溶媒は、特に限定するものではないが、好ましい溶媒の具体例としては、上記ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー又は飽和型熱可塑性エラストマ併用ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造の際に用いられる溶媒について記載したものを用いることができ、これらは一種類を単独で用いてもよく、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類や、芳香族炭化水素類とアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類との混合溶媒がより好ましい。   The solvent used for varnishing the above resin composition is not particularly limited, but specific examples of preferred solvents include the above polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer or saturated thermoplastic elastomer combined polyphenylene ether-modified butadiene. What was described about the solvent used in the case of manufacture of a prepolymer can be used, These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more types. Of these, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and mesitylene, and mixed solvents of aromatic hydrocarbons and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are more preferable.

なお、ワニス化する際の溶媒は、上記ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造の際に用いられる溶媒と同種のものでも、異なる種類の溶媒を用いてもよい。また、ワニス化する際は、ワニス中の固形分(不揮発分)濃度が、5〜80質量%となるように溶媒の使用量を調節することが好ましいが、本発明の樹脂ワニスを用いてプリプレグ等の製造する際、溶媒量を調節することにより、塗工作業に最適な(例えば、良好な外観及び適正な樹脂付着量となるように)固形分(不揮発分)濃度やワニス粘度に調製することができる。   The solvent used for varnishing may be the same type as the solvent used in the production of the polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer or a different type of solvent. In addition, when the varnish is formed, it is preferable to adjust the amount of the solvent used so that the solid content (nonvolatile content) concentration in the varnish is 5 to 80% by mass, but the prepreg is prepared using the resin varnish of the present invention. When manufacturing, etc., by adjusting the amount of solvent, it is adjusted to a solid content (non-volatile content) concentration and varnish viscosity that is optimal for coating work (for example, to achieve a good appearance and an appropriate resin adhesion amount). be able to.

上述した本発明の樹脂組成物及び樹脂ワニスを用いて、公知の方法により、本発明のプリプレグ及び金属張積層板を製造することができる。例えば、本発明の熱硬化性樹脂組成物及び樹脂ワニスを、ガラス繊維及び有機繊維等の強化繊維基材に含浸させた後、乾燥炉中等で通常、60〜200℃、好ましくは80〜170℃の温度で、2〜30分間、好ましくは3〜15分間乾燥させることによってプリプレグが得られる。   Using the above-described resin composition and resin varnish of the present invention, the prepreg and metal-clad laminate of the present invention can be produced by a known method. For example, after impregnating the reinforcing fiber base material such as glass fiber and organic fiber with the thermosetting resin composition and resin varnish of the present invention, it is usually 60 to 200 ° C., preferably 80 to 170 ° C. in a drying furnace or the like. The prepreg is obtained by drying at a temperature of 2 to 30 minutes, preferably 3 to 15 minutes.

次いで、このプリプレグ1枚又は複数枚重ねたその片面又は両面に金属箔を配置し、所定の条件で加熱及び/又は加圧することにより両面又は片面の金属張積層板が得られる。   Next, a metal foil is placed on one or both sides of the prepreg or a plurality of the prepregs, and heated and / or pressurized under predetermined conditions to obtain a double-sided or single-sided metal-clad laminate.

この場合の加熱は、好ましくは100℃〜250℃の温度範囲で実施することができ、加圧は、好ましくは0.5〜10.0MPaの圧力範囲で実施することができる。加熱及び加圧は真空プレス等を用いて同時に行うことが好ましく、この場合、これらの処理を30分〜10時間実施することが好ましい。   The heating in this case can be carried out preferably in a temperature range of 100 ° C. to 250 ° C., and the pressurization can be carried out preferably in a pressure range of 0.5 to 10.0 MPa. Heating and pressing are preferably performed simultaneously using a vacuum press or the like. In this case, it is preferable to perform these treatments for 30 minutes to 10 hours.

また、上述のようにして製造されたプリプレグ及び金属張積層板を用いて、公知の方法によって、穴開け加工、金属めっき加工、金属箔をエッチング等による回路形成加工及び多層化接着加工を行うことによって、片面、両面又は多層プリント配線板が得られる。
本発明は、上記の形態、態様に限定されず、その発明の目的から逸脱しない範囲内において、任意の変更、改変を行うことができる。
In addition, using the prepreg and metal-clad laminate produced as described above, drilling, metal plating, circuit formation by etching metal foil, and multilayer bonding are performed by known methods. Thus, a single-sided, double-sided or multilayer printed wiring board can be obtained.
The present invention is not limited to the above-described modes and embodiments, and can be arbitrarily changed and modified within the scope not departing from the object of the present invention.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

樹脂ワニス(樹脂組成物)の調製
調製例1
温度計、還流冷却器、減圧濃縮装置及び撹拌装置を備えた1リットル容のセパラブルフラスコに、トルエン333質量部と、成分(A)としてのポリフェニレンエーテル(S202A、旭化成ケミカルズ社製、Mn:16000)13質量部とを投入し、フラスコ内の温度を90℃に設定して撹拌溶解した。次いで、成分(B)としての化学変性されていないブタジエンポリマー(B−3000、日本曹達社製、Mn:3000、1,2−ビニル構造:90%)100質量部と、成分(C)としてのN−フェニルマレイミド(イミレックス−P、日本触媒社製)16質量部とを投入し、撹拌を続けた。これらが溶解又は均一分散したことを確認した。その後、液温を110℃に上昇させた。温度110℃を保ったまま、反応開始剤として、1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(パーヘキサTMH、日本油脂社製)0.5質量部を配合した。
配合した物を撹拌しながら約1時間予備反応させて、(A)ポリフェニレンエーテルと、(B)化学変性されていないブタジエンポリマーと、(C)架橋剤と、が相容化したポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー溶液を得た。このポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー溶液中のビス(4−マレイミドフェニル)メタンの転化率をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定したところ、転化率は30%であった。ここで転化率とは、100からN−フェニルマレイミドの未転化分(測定値)を引いた値である。次いで、フラスコ内の液温を80℃に設定した。その後、撹拌しながら溶液の固形分濃度が60質量%となるように減圧濃縮した。次に、溶液を室温まで冷却した。
Preparation example 1 of resin varnish (resin composition)
In a 1 liter separable flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, a vacuum concentrator and a stirrer, 333 parts by mass of toluene and polyphenylene ether (S202A, manufactured by Asahi Kasei Chemicals, Mn: 16000) as component (A) ) 13 parts by mass were charged, and the temperature in the flask was set to 90 ° C and dissolved by stirring. Next, butadiene polymer (B-3000, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., Mn: 3000, 1,2-vinyl structure: 90%) 100 parts by mass as component (B) and component (C) 16 parts by mass of N-phenylmaleimide (Imirex-P, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was added and stirring was continued. It was confirmed that these were dissolved or uniformly dispersed. Thereafter, the liquid temperature was raised to 110 ° C. While maintaining the temperature at 110 ° C., 0.5 parts by mass of 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane (Perhexa TMH, manufactured by NOF Corporation) was blended as a reaction initiator. .
The blended product is pre-reacted for about 1 hour with stirring, so that (A) polyphenylene ether, (B) butadiene polymer not chemically modified, and (C) cross-linking agent are compatibilized. A prepolymer solution was obtained. When the conversion rate of bis (4-maleimidophenyl) methane in this polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer solution was measured using gel permeation chromatography (GPC), the conversion rate was 30%. Here, the conversion rate is a value obtained by subtracting the unconverted portion (measured value) of N-phenylmaleimide from 100. Subsequently, the liquid temperature in a flask was set to 80 degreeC. Then, it concentrated under reduced pressure so that the solid content concentration of a solution might be 60 mass%, stirring. The solution was then cooled to room temperature.

次いで、成分(D)として、予め溶剤中でヘキシルトリメトキシシラン(KBM−3063、信越化学工業社製)を処理量2質量%で表面処理した球形酸化ケイ素(球形シリカ:SO−25R、平均粒径:0.5μm、アドマテックス社製)のスラリー(固形分:70質量%、溶剤:MIBK)315質量部(固形分:220質量部)を配合した。次いで、成分(H)の飽和型熱可塑性エラストマとしてスチレン−ブタジエン共重合体の水素添加物2種(タフテックH1043及びタフテックH1051、旭化成ケミカルズ社製)の24.5%トルエン溶液を155質量部(固形分:各19質量部)配合した。次いで、成分(F)としてのビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン(BMI−5100、大和化成工業社製)4質量部を配合した。次いで、成分(G)としてのエチレンビス(ペンタブロモフェニル)(SAYTEX8010、アルベマール社製)50質量部を配合した。次いで、成分(E)としてα,α′−ビス(t−ブチルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン(パーブチルP、日本油脂社製)3質量部を添加した。次いで、メチルイソブチルケトン(MIBK)を配合して、調製例1の樹脂ワニス(固形分濃度約50質量%)を調製した。   Next, as component (D), spherical silicon oxide (spherical silica: SO-25R, average particle) obtained by surface-treating hexyltrimethoxysilane (KBM-3063, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) in a solvent in a treatment amount of 2% by mass in advance. A slurry (solid content: 70% by mass, solvent: MIBK) of 315 parts by mass (solid content: 220 parts by mass) was blended. Next, 155 parts by mass (solid content) of 24.5% toluene solution of 2 types of hydrogenated styrene-butadiene copolymer (Tuftec H1043 and Tuftech H1051, manufactured by Asahi Kasei Chemicals) as a saturated thermoplastic elastomer of component (H) Min: 19 parts by mass). Next, 4 parts by mass of bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane (BMI-5100, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) as the component (F) was blended. Next, 50 parts by mass of ethylenebis (pentabromophenyl) (SAYTEX8010, manufactured by Albemarle) as a component (G) was blended. Next, 3 parts by mass of α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene (Perbutyl P, manufactured by NOF Corporation) was added as component (E). Subsequently, methyl isobutyl ketone (MIBK) was mix | blended and the resin varnish (solid content concentration of about 50 mass%) of the preparation example 1 was prepared.

調製例2
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにデシルトリメトキシシラン(KBM−3103、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例2の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 2
A resin varnish of Preparation Example 2 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that decyltrimethoxysilane (KBM-3103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例3
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにメチルトリメトキシシラン(KBM−13、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例3の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 3
A resin varnish of Preparation Example 3 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that methyltrimethoxysilane (KBM-13, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例4
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにフェニルトリメトキシシラン(KBM−103、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例4の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 4
A resin varnish of Preparation Example 4 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that phenyltrimethoxysilane (KBM-103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例5
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにシクロヘキシルメチルジメトキシシラン(CHMS−112、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例5の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 5
A resin varnish of Preparation Example 5 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that cyclohexylmethyldimethoxysilane (CHMS-112, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例6
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにトリス(トリメチルシロキシ)シラン(S−1003TS、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例6の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 6
A resin varnish of Preparation Example 6 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that tris (trimethylsiloxy) silane (S-1003TS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例7
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにシリコーンオリゴマー(KR−2000、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例7の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 7
A resin varnish of Preparation Example 7 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that a silicone oligomer (KR-2000, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例8
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにアルコキシシリコーンオリゴマー(X−40−9225、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例8の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 8
A resin varnish of Preparation Example 8 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that an alkoxysilicone oligomer (X-40-9225, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例9
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりに長鎖アルキル変性非反応性シリコーンオイル(KF−4917、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例9の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 9
The resin varnish of Preparation Example 9 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that long-chain alkyl-modified non-reactive silicone oil (KF-4917, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane. did.

調製例10
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりに長鎖アルキル・アラルキル変性非反応性シリコーンオイル(X−22−1877、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例10の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 10
In Preparation Example 1, the same procedure as in Preparation Example 10 was performed except that long-chain alkyl / aralkyl-modified non-reactive silicone oil (X-22-1877, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane. A resin varnish was prepared.

調製例11
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにシリコーンコーティング剤(KPN−3504、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、調製例11の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 11
A resin varnish of Preparation Example 11 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that a silicone coating agent (KPN-3504, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例12
調製例1において、球形シリカ(SO−25R)の代わりにチタン酸ストロンチウム(SL250、平均粒径:0.85μm、富士チタン工業社製)を1000質量部用いたこと以外は同様にして調製例12の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 12
Preparation Example 12 was carried out in the same manner as in Preparation Example 1, except that 1000 parts by mass of strontium titanate (SL250, average particle size: 0.85 μm, manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd.) was used instead of spherical silica (SO-25R). A resin varnish was prepared.

調製例13
調製例1において、球形シリカ(SO−25R)の代わりにチタン酸カルシウム(平均粒径2μm、商品名CT−D50、製造メーカー;富士チタン工業(株)社製)を1000質量部用いたこと以外は同様にして調製例13の樹脂ワニスを調製した。
Preparation Example 13
In Preparation Example 1, 1000 parts by mass of calcium titanate (average particle size 2 μm, trade name CT-D50, manufacturer: manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd.) was used instead of spherical silica (SO-25R). In the same manner, a resin varnish of Preparation Example 13 was prepared.

比較調製例1
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにビニルトリメトキシシラン(KBM−1003、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、比較調製例1の樹脂ワニスを調製した。
Comparative Preparation Example 1
A resin varnish of Comparative Preparation Example 1 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that vinyltrimethoxysilane (KBM-1003, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

比較調製例2
調製例1において、ヘキシルトリメトキシシランの代わりにスチリルトリメトキシシラン(KBM−1403、信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、比較調製例2の樹脂ワニスを調製した。
Comparative Preparation Example 2
A resin varnish of Comparative Preparation Example 2 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that styryltrimethoxysilane (KBM-1403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of hexyltrimethoxysilane.

調製例1〜13及び比較調製例1〜2の樹脂ワニス(硬化性樹脂組成物)の調製に用いた各原材料の使用量を表1−1、表1−2にまとめて示す。   The usage-amounts of each raw material used for preparation of the resin varnish (curable resin composition) of Preparation Examples 1-13 and Comparative Preparation Examples 1-2 are collectively shown in Table 1-1 and Table 1-2.

樹脂板の作製
調製例1〜13及び比較調製例1〜2で得られた樹脂ワニスを、ガラス板上に0.3mmのギャップで塗工した。次いで、110℃で10分間加熱乾燥して、Bステージの樹脂を得た。これをテフロン(R)の型枠に所定量入れ、両面に厚さ18μmのロープロファイル銅箔(F3−WS、M面Rz:3μm、古河電気工業社製)を光沢面が接するように配置し、185℃、2MPa、90分のプレス条件で加熱加圧成形して、樹脂板(厚さ:0.1mm)を作製した。
Production of Resin Plate The resin varnishes obtained in Preparation Examples 1 to 13 and Comparative Preparation Examples 1 and 2 were coated on a glass plate with a gap of 0.3 mm. Subsequently, it heat-dried at 110 degreeC for 10 minute (s), and B stage resin was obtained. A predetermined amount of this is put in a Teflon (R) formwork, and a low profile copper foil (F3-WS, M surface Rz: 3 μm, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm is arranged on both sides so that the glossy surface is in contact. The resin plate (thickness: 0.1 mm) was produced by heating and pressing under the press conditions of 185 ° C., 2 MPa, and 90 minutes.

プリプレグの作製
調製例1〜13及び比較調製例1〜2で得られた樹脂ワニスを、厚さ0.1mmのガラス布(Eガラス、日東紡績社製)に含浸した。次いで、100℃で6分間加熱乾燥して、樹脂含有割合56〜57質量%のプリプレグを作製した。
Preparation of Prepreg The resin varnish obtained in Preparation Examples 1 to 13 and Comparative Preparation Examples 1 and 2 was impregnated into a glass cloth (E glass, manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 0.1 mm. Subsequently, it heat-dried at 100 degreeC for 6 minute (s), and produced the prepreg with a resin content rate of 56-57 mass%.

両面銅張積層板の作製
上述のプリプレグ6枚を重ねてなる基材の両面に、厚さ18μmのロープロファイル銅箔(F3−WS、M面Rz:3μm、古河電気工業社製)をM面が接するように配置し、185℃、4MPa、80分のプレス条件で真空加熱加圧成形して、両面銅張積層板(厚さ:0.7mm)を作製した。銅張積層板は、評価のために銅を過硫酸アンモニウム水溶液で全面エッチングした。
Production of double-sided copper-clad laminate On both sides of the base material formed by stacking the above six prepregs, a low profile copper foil (F3-WS, M-plane Rz: 3 μm, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm is provided on the M-plane. Were placed in contact with each other and vacuum-heated and pressure-molded under press conditions of 185 ° C., 4 MPa, and 80 minutes to produce a double-sided copper-clad laminate (thickness: 0.7 mm). For the copper-clad laminate, copper was entirely etched with an aqueous ammonium persulfate solution for evaluation.

上述の樹脂板及びエッチングした銅張積層板について、10GHzでの誘電特性、吸水率、吸湿耐熱性を評価した。また、銅張積層板について、熱膨張特性及び引き剥がし強さを評価した。   The above-described resin plate and etched copper-clad laminate were evaluated for dielectric properties, water absorption, and moisture absorption heat resistance at 10 GHz. Moreover, the thermal expansion characteristic and peeling strength were evaluated about the copper clad laminated board.

特性評価方法は以下の通りである。
誘電特性の測定:
誘電特性は、空洞共振器法により測定した。更に、誘電特性(比誘電率、誘電正接)は、恒温恒湿槽(条件:85℃、85%RH)中に500時間保持した後のもの(略称:C−500/85/85)について測定した。常態と吸湿後の誘電率の差をΔDk、誘電正接の差をΔDfとした。なお、測定条件は常態の場合と同様とした。
The characteristic evaluation method is as follows.
Measurement of dielectric properties:
Dielectric properties were measured by the cavity resonator method. Furthermore, the dielectric properties (relative dielectric constant, dielectric loss tangent) are measured for those after being held in a constant temperature and humidity chamber (conditions: 85 ° C., 85% RH) for 500 hours (abbreviation: C-500 / 85/85). did. The difference in dielectric constant between normal and moisture absorption was ΔDk, and the difference in dielectric loss tangent was ΔDf. The measurement conditions were the same as in the normal case.

吸水率の測定:
吸水率は、吸湿前後の質量変化から求めた。吸湿処理は上記C−500/85/85の条件で行った。吸湿前の樹脂板及びエッチングした銅張積層板(MCL)の質量をWd、吸湿後の質量をWwとし、((Ww/Wd)−1)*100の値(%)を吸水率とした。
Measurement of water absorption:
The water absorption was determined from the change in mass before and after moisture absorption. The moisture absorption treatment was performed under the above conditions of C-500 / 85/85. The mass of the resin plate before moisture absorption and the etched copper clad laminate (MCL) was Wd, the mass after moisture absorption was Ww, and the value (%) of ((Ww / Wd) -1) * 100 was the water absorption rate.

吸湿耐熱性の測定:
全面エッチングしたMCLをプレッシャークッカー処理(121℃−2atm)して吸湿させ、288℃に加熱したはんだ浴中に20秒間沈めた。
はんだ浴に沈めた後、視認によりふくれやミーズリングが生じなかったものを合格とした。
Measurement of moisture absorption heat resistance:
The whole-surface etched MCL was subjected to pressure cooker treatment (121 ° C.-2 atm) to absorb moisture and submerged in a solder bath heated to 288 ° C. for 20 seconds.
After submerging in the solder bath, those that did not cause blistering or measling by visual inspection were regarded as acceptable.

熱膨張特性の測定:
全面エッチングしたMCLについて、熱膨張率α及びガラス転移温度Tgを、熱機械分析機(TMA Q−400、TAインスツルメンツ)を用いて測定した。
測定条件は、1st runが250℃、2nd runが260℃までの10℃/分の昇温速度、荷重は0.05Nで行った。2nd runの線膨張曲線の屈曲点をTgとした。
Measurement of thermal expansion characteristics:
About the MCL which etched the whole surface, the thermal expansion coefficient (alpha) and glass transition temperature Tg were measured using the thermomechanical analyzer (TMA Q-400, TA instruments).
The measurement conditions were as follows: 1st run was 250 ° C., 2nd run was 10 ° C./min up to 260 ° C., and the load was 0.05N. The inflection point of the 2nd run linear expansion curve was defined as Tg.

引き剥がし強さの測定:
JIS−C−6481に準拠して測定した。
Measurement of peel strength:
It measured based on JIS-C-6481.

特性評価結果:
誘電特性及び吸水率については、樹脂板の結果を表2に、エッチングしたMCLの結果を表3に示す。
吸湿耐熱性(PCT−5h処理後)は、いずれも良好であった。
熱膨張特性については、表4に示す。
引き剥がし強さは、いずれも良好であった。
Characterization results:
Regarding the dielectric characteristics and water absorption, Table 2 shows the results of the resin plate and Table 3 shows the results of the etched MCL.
The moisture absorption heat resistance (after PCT-5h treatment) was good.
The thermal expansion characteristics are shown in Table 4.
The peel strength was good.

表2、表3に示す結果から、ΔDkが小さいと、吸湿時の信号レベルの低下を抑制できる。また、ΔDfが小さいと、共振の信号ピークの鋭さを表すQ値を保つことができ、ΔDkの場合と同様に吸湿時の電気信号レベルの低下を抑制できる。さらにDfが大きくならないことで、回路基板上での電気信号の減衰量を抑制できる。   From the results shown in Tables 2 and 3, when ΔDk is small, it is possible to suppress a decrease in signal level during moisture absorption. Further, when ΔDf is small, the Q value representing the sharpness of the resonance signal peak can be maintained, and a decrease in the electric signal level during moisture absorption can be suppressed as in the case of ΔDk. Furthermore, since Df does not become large, the attenuation amount of the electric signal on the circuit board can be suppressed.

表2において樹脂板を85℃85%RHに500時間おいたときの誘電率変化量ΔDkを見ると、比較例1及び2のビニル基含有シランカップリング剤では平均値が0.037であるのに対し、実施例では平均値が0.031程度と小さく、約15%の減少を示している。特許文献15によると比較例のビニル基含有シランカップリング剤を使用した樹脂系は誘電特性に優れており吸湿後の誘電率変化も小さいが、本発明の表面処理剤群を使用すると、それよりも誘電率変化量が小さく、更に優れていることが分かる。誘電正接変化量ΔDfも比較例の平均値0.00195程度と比べ、実施例では平均値が0.00125程度と小さく、約35%の減少を示しており、こちらも本発明の表面処理剤のほうが優れていることが分かる。吸水率(C−500/85/85)も同様に、比較例の平均値0.195%程度に対し、実施例では平均値が0.12%程度と、約40%少なく、耐吸湿性に優れている。   When the dielectric constant change ΔDk when the resin plate is placed at 85 ° C. and 85% RH for 500 hours in Table 2, the average value is 0.037 in the vinyl group-containing silane coupling agents of Comparative Examples 1 and 2. On the other hand, in the examples, the average value is as small as about 0.031, indicating a reduction of about 15%. According to Patent Document 15, the resin system using the vinyl group-containing silane coupling agent of the comparative example is excellent in dielectric properties and the dielectric constant change after moisture absorption is small, but when the surface treatment agent group of the present invention is used, It can also be seen that the change in dielectric constant is small and even better. The dielectric loss tangent variation ΔDf is smaller than the average value of about 0.00195 in the comparative example, about 0.00125 in the example, indicating a decrease of about 35%. This is also the case of the surface treatment agent of the present invention. You can see that it is better. Similarly, the water absorption rate (C-500 / 85/85) is about 40% less than the average value of the comparative example of about 0.195%, and the average value of the example is about 0.12%. Are better.

次に、表3においてエッチングした銅張積層板のΔDkを見ると、比較例の平均値0.0375程度に対し実施例では平均値が0.032程度と小さく、樹脂板同様誘電率の吸湿依存性が約15%小さいことが分かる。ΔDfについても比較例の平均値0.05765程度に対し、実施例では平均値が0.00115程度と良く、約55%の減少を示している。吸水率も比較例の平均値0.24%程度に対し、実施例では平均値が0.17%程度と少なく、約30%の減少を示し、同等以上の耐吸湿性を持っていることが分かる。     Next, when ΔDk of the copper-clad laminate etched in Table 3 is seen, the average value in the example is as small as about 0.032 compared to the average value of about 0.0375 in the comparative example. It can be seen that the property is about 15% smaller. As for ΔDf, the average value of the comparative example is about 0.00115 in comparison with the average value of about 0.05765, indicating a decrease of about 55%. The water absorption rate is about 0.24% in the comparative example, while the average value in the example is as small as about 0.17%, showing a decrease of about 30%, and having a moisture absorption resistance equivalent to or higher. I understand.

以上より、本発明の範囲の表面処理剤は、誘電特性における吸湿依存性が低く(低吸湿依存性)、特許文献15のビニル基含有シランカップリング剤と比較して、低吸湿依存特性に優れているといえる。そして、本発明の実施例では、吸湿耐熱性、熱膨張特性、引き剥がし強さにも優れていた。     From the above, the surface treatment agent within the scope of the present invention has low moisture absorption dependency in dielectric properties (low moisture absorption dependency), and is excellent in low moisture absorption dependency properties as compared with the vinyl group-containing silane coupling agent of Patent Document 15. It can be said that. And in the Example of this invention, it was excellent also in moisture absorption heat resistance, a thermal expansion characteristic, and peeling strength.

本発明の樹脂組成物は、相容化した未硬化のセミIPN型複合体に特定の表面処理剤で表面処理した無機充填剤を組み合わせた熱硬化性樹脂組成物という新規な構成を有し、本発明の樹脂組成物を用いたプリント配線板は、高周波での良好な誘電特性、伝送損失を低減する特性、低熱膨張特性を達成しつつも、金属箔との間の引き剥がし強さを充分なレベルまで高くさせることができる。また、無機充填剤を併用する際に得られる耐熱性向上、所望の比誘電率制御及び更なる低熱膨張率化に加え、本発明では吸湿による誘電特性の変化率を小さく抑えることができる。更に本発明の樹脂組成物を用いた樹脂ワニス、プリプレグ、金属張積層板は、誘電特性の向上による誘電体損失低減と表面粗さの小さい金属箔の適用による導体損失低減の両面からアプローチするために、高周波帯域での伝送損失を充分な程度までに低減することができ、高周波分野で使用されるプリント配線板の製造に好適に用いることができる。したがって、本発明は、高周波帯域、例えば1GHz以上の高周波信号を扱う移動体通信機器及びその基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワーク関連電子機器及び大型コンピュータ等の各種電気・電子機器に使用されるプリント配線板の部材・部品用途として有用である。   The resin composition of the present invention has a novel configuration of a thermosetting resin composition in which an inorganic filler surface-treated with a specific surface treatment agent is combined with a compatibilized uncured semi-IPN type composite, The printed wiring board using the resin composition of the present invention has a sufficient dielectric strength at a high frequency, a characteristic to reduce transmission loss, and a low thermal expansion characteristic, but has a sufficient peeling strength with a metal foil. Can be raised to a certain level. Further, in addition to the improvement in heat resistance, desired dielectric constant control and further reduction in thermal expansion obtained when an inorganic filler is used in combination, in the present invention, the rate of change in dielectric properties due to moisture absorption can be kept small. Furthermore, resin varnishes, prepregs, and metal-clad laminates that use the resin composition of the present invention are approached from both aspects of reducing dielectric loss by improving dielectric properties and reducing conductor loss by applying metal foil with low surface roughness. In addition, the transmission loss in the high frequency band can be reduced to a sufficient level, and can be suitably used for the manufacture of printed wiring boards used in the high frequency field. Therefore, the present invention is used in mobile communication devices that handle high-frequency signals in a high-frequency band, for example, 1 GHz or more, and network-related electronic devices such as base station devices, servers, and routers, and various electric and electronic devices such as large computers. It is useful as a printed wiring board member / part application.

Claims (19)

未硬化のセミIPN型複合体と表面処理された無機充填剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物であって、
未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルと、(B)側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマー及び(C)架橋剤から形成されるプレポリマーと、が相容化した未硬化のセミIPN型複合体であり、
表面処理された無機充填剤を処理する表面処理剤が、アルキルトリアルコキシシラン、アルキルジアルコキシシラン、シクロアルキルトリアルコキシシラン、シクロアルキルジアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン及びトリス(トリアルキルシロキシ)シランからなる群より選択される少なくとも一種の表面処理剤である、熱硬化性樹脂組成物。
A thermosetting resin composition comprising an uncured semi-IPN type composite and a surface-treated inorganic filler,
The uncured semi-IPN type composite contains (A) polyphenylene ether and (B) 1,2-butadiene unit having 1,2-vinyl group in the side chain in the molecule of 40% or more, and is chemically modified. Uncured butadiene polymer and (C) a prepolymer formed from a crosslinker are uncured semi-IPN type composites that are compatibilized,
Surface treatment agent for treating a surface treated inorganic filler, alkyltrialkoxysilane, alkyl dialkoxy silanes, cycloalkyl trialkoxysilane, cycloalkyl dialkoxysilane, phenyltrialkoxysilane and tris (trialkylsiloxy) Sila down at least one is a surface treatment agent, the thermosetting resin composition is selected from or Ranaru group.
未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルと、(B)ブタジエンポリマー及び(C)架橋剤がラジカル重合したラジカル重合性重合体と、からなり、
(B)が、−〔CH−CH=CH−CH〕−単位(j)及び−〔CH−CH(CH=CH)〕−単位(k)からなる化学変性されていないブタジエンポリマーであり、j:kの比が60〜5:40〜95であり、
(C)が、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である、請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。
The uncured semi-IPN type composite consists of (A) polyphenylene ether, (B) a radical polymerizable polymer obtained by radical polymerization of a butadiene polymer and (C) a crosslinking agent,
A chemically modified butadiene polymer in which (B) is composed of — [CH 2 —CH═CH—CH 2 ] —unit (j) and — [CH 2 —CH (CH═CH 2 )] — unit (k) And the ratio of j: k is 60-5: 40-95,
The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein (C) is a compound having one or more ethylenically unsaturated double bonds in the molecule.
未硬化のセミIPN型複合体が、(A)ポリフェニレンエーテルの存在下で、(B)側鎖に1,2−ビニル基を有する1,2−ブタジエン単位を分子中に40%以上含有し、かつ化学変性されていないブタジエンポリマー及び(C)架橋剤を予備反応させて得られる、ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーである、請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。   The uncured semi-IPN type composite contains (A) polyphenylene ether in the presence of (B) 1,2-butadiene unit having a 1,2-vinyl group in the side chain in a molecule of 40% or more, The thermosetting resin composition according to claim 1, which is a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer obtained by pre-reacting a butadiene polymer not chemically modified and (C) a crosslinking agent. 未硬化のセミIPN型複合体を、(C)成分の転化率が5〜100%の範囲となるように予備反応させて得る、請求項3記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 3, which is obtained by pre-reacting an uncured semi-IPN composite so that the conversion rate of the component (C) is in the range of 5 to 100%. (D)表面処理された無機充填剤に用いられる無機充填剤が、酸化アルミニウム、酸化チタン、マイカ、酸化ケイ素、酸化ベリリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素、及びこれらの混合物からなる群より選択される少なくとも一種の無機充填剤である、請求項1〜4のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。 (D) The inorganic filler used for the surface-treated inorganic filler is aluminum oxide, titanium oxide, mica, silicon oxide, beryllium oxide, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate , magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, clay, talc, aluminum borate, carbonization silicon, and from mixtures thereof The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is at least one inorganic filler selected. 無機充填剤が、平均粒子径0.01〜30μmの球形の酸化ケイ素である、請求項1〜5のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic filler is spherical silicon oxide having an average particle diameter of 0.01 to 30 µm. (D)成分に用いられる表面処理剤が、C〜C30アルキルトリアルコキシシラン、C〜C30アルキルジアルコキシシラン、シクロアルキルトリアルコキシシラン、シクロアルキルジアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン及びトリス(トリアルキルシロキシ)シランからなる群より選択される少なくとも一種である、請求項1〜6のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。 (D) a surface treatment agent used in the component, C 1 -C 30 alkyl trialkoxysilane, C 1 -C 30 alkyl dialkoxy silanes, cycloalkyl trialkoxysilane, cycloalkyl dialkoxysilane, phenyltrialkoxysilane and tris it is at least one selected from (trialkylsiloxy) Sila down or Ranaru group, a thermosetting resin composition of any one of claims 1-6. (D)成分に用いられる表面処理剤が、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン及びトリス(トリメチルシロキシ)シランからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項1〜6のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。 (D) a surface treatment agent used in component selection, hexyl trimethoxysilane, decyl trimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, from cyclohexyl methyl dimethoxy silane and tris (trimethylsiloxy) Sila down or Ranaru group The thermosetting resin composition as described in any one of Claims 1-6 containing the at least 1 type | mold made. (D)成分に用いられる表面処理剤を、無機充填剤質量の0.01〜20質量%で用いる、請求項1〜8のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition as described in any one of Claims 1-8 which uses the surface treating agent used for (D) component by 0.01-20 mass% of an inorganic filler mass. (C)成分として、一般式(C−1):

(式中、R10は、m価の脂肪族性又は芳香族性の有機基であり、X及びXは、水素原子、ハロゲン原子及び脂肪族性の有機基から選ばれた同一又は異なっていてもよい一価の原子又は有機基であり、そしてmは、1以上の整数を示す。)で表される一種以上のマレイミド化合物を含有する、請求項1〜9のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。
As the component (C), the general formula (C-1):

(Wherein R 10 is an m-valent aliphatic or aromatic organic group, and X a and X b are the same or different selected from a hydrogen atom, a halogen atom and an aliphatic organic group. It is a monovalent atom or an organic group that may be present, and m represents one or more maleimide compounds represented by the formula (1). Thermosetting resin composition.
(C)成分が、N−フェニルマレイミド、N−(2−メチルフェニル)マレイミド、N−(4−メチルフェニル)マレイミド、N−(2、6−ジメチルフェニル)マレイミド、N−(2、6−ジエチルフェニル)マレイミド、N−(2−メトキシフェニル)マレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−ドデシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミドからなる群より選択される一種以上のマレイミド化合物(I)、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンを含有する一種以上のマレイミド化合物(II)、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタンを含有する一種以上のマレイミド化合物(III)、又はジビニルビフェニルを含有する一種以上のビニル化合物である、請求項1〜10のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。   Component (C) is N-phenylmaleimide, N- (2-methylphenyl) maleimide, N- (4-methylphenyl) maleimide, N- (2,6-dimethylphenyl) maleimide, N- (2,6- One or more maleimide compounds (I) selected from the group consisting of diethylphenyl) maleimide, N- (2-methoxyphenyl) maleimide, N-benzylmaleimide, N-dodecylmaleimide, N-isopropylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide One or more maleimide compounds (II) containing 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, one containing bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane One or more maleimide compounds (III) or one or more containing divinylbiphenyl Vinyl compounds, the thermosetting resin composition of any one of claims 1 to 10. (A)成分の配合割合が、(B)成分と(C)成分との合計量100質量部に対して2〜200質量部の範囲であり、(C)成分の配合割合が、(B)成分100質量部に対して2〜200質量部の範囲であり、(D)成分の配合割合が、(A)成分と(B)成分と(C)成分との合計量100質量部に対して1〜1000質量部の範囲である、請求項1〜11のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。   The blending ratio of component (A) is in the range of 2 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of component (B) and component (C), and the blending ratio of component (C) is (B). It is the range of 2-200 mass parts with respect to 100 mass parts of components, and the mixture ratio of (D) component is with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) component, (B) component, and (C) component. The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 11, which is in a range of 1 to 1000 parts by mass. さらに(E)ラジカル反応開始剤、(F)未硬化のセミIPN型複合体を構成しない、分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合基を含有する架橋性モノマー又は架橋性ポリマー、(G)臭素系難燃剤及びリン系難燃剤から選択される一種以上、及び/或いは(H)飽和型熱可塑性エラストマを含有する、請求項1〜12のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, (E) a radical reaction initiator, (F) a crosslinkable monomer or crosslinkable polymer that does not constitute an uncured semi-IPN type complex and contains one or more ethylenically unsaturated double bond groups in the molecule, The thermosetting resin according to any one of claims 1 to 12, comprising (G) one or more selected from a brominated flame retardant and a phosphorus flame retardant, and / or (H) a saturated thermoplastic elastomer. Composition. (F)成分が、化学変性されていないブタジエンポリマー及びマレイミド化合物からなる群より選択される一種以上のエチレン性不飽和二重結合基含有の架橋性モノマー又は架橋性ポリマーである、請求項13記載の熱硬化性樹脂組成物。   The component (F) is a crosslinkable monomer or crosslinkable polymer containing one or more ethylenically unsaturated double bond groups selected from the group consisting of a butadiene polymer that is not chemically modified and a maleimide compound. Thermosetting resin composition. (H)飽和型熱可塑性エラストマが、スチレン−ブタジエン共重合体のブタジエン部分の不飽和二重結合基を水素添加して得られる飽和型熱可塑性エラストマを含む一種以上である、請求項13又は14記載の熱硬化性樹脂組成物。   The saturated thermoplastic elastomer (H) is one or more types including a saturated thermoplastic elastomer obtained by hydrogenating an unsaturated double bond group of a butadiene portion of a styrene-butadiene copolymer. The thermosetting resin composition as described. 請求項1〜15のいずれか一項記載の熱硬化性樹脂組成物を溶媒に溶解又は分散させて得られるプリント配線板用樹脂ワニス。   A resin varnish for a printed wiring board obtained by dissolving or dispersing the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 15 in a solvent. 請求項16記載のプリント配線板用樹脂ワニスを基材に含浸させた後、60〜200℃で乾燥させて得られるプリプレグ。   A prepreg obtained by impregnating a substrate with the resin varnish for a printed wiring board according to claim 16 and drying at 60 to 200 ° C. (D)成分の含有比率、又は基材が無機基材である場合には(D)成分及び基材を合わせた無機成分の含有比率が、プリプレグ体積の50体積%未満である請求項17記載のプリプレグ。   The content ratio of the component (D), or, when the substrate is an inorganic substrate, the content ratio of the component (D) and the inorganic component combined with the substrate is less than 50% by volume of the prepreg volume. Prepreg. 請求項17又は請求項18に記載のプリプレグを1枚以上重ね、その片面又は両面に金属箔を配置し、加熱加圧して得られる金属張積層板。   A metal-clad laminate obtained by stacking one or more prepregs according to claim 17 or 18, placing a metal foil on one side or both sides, and heating and pressing.
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