JP7389490B2 - 含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法 - Google Patents

含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7389490B2
JP7389490B2 JP2020548619A JP2020548619A JP7389490B2 JP 7389490 B2 JP7389490 B2 JP 7389490B2 JP 2020548619 A JP2020548619 A JP 2020548619A JP 2020548619 A JP2020548619 A JP 2020548619A JP 7389490 B2 JP7389490 B2 JP 7389490B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
boron
group
conjugated polyene
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020548619A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020059824A1 (ja
Inventor
雅文 平野
伸之 小峰
小織 清田
歩実 倉持
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo University of Agriculture and Technology NUC
Original Assignee
Tokyo University of Agriculture and Technology NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo University of Agriculture and Technology NUC filed Critical Tokyo University of Agriculture and Technology NUC
Publication of JPWO2020059824A1 publication Critical patent/JPWO2020059824A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7389490B2 publication Critical patent/JP7389490B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C1/00—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon
    • C07C1/32—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon starting from compounds containing hetero-atoms other than or in addition to oxygen or halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C11/00—Aliphatic unsaturated hydrocarbons
    • C07C11/21—Alkatrienes; Alkatetraenes; Other alkapolyenes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C15/00—Cyclic hydrocarbons containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts
    • C07C15/40—Cyclic hydrocarbons containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts substituted by unsaturated carbon radicals
    • C07C15/42—Cyclic hydrocarbons containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts substituted by unsaturated carbon radicals monocyclic
    • C07C15/44—Cyclic hydrocarbons containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts substituted by unsaturated carbon radicals monocyclic the hydrocarbon substituent containing a carbon-to-carbon double bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/612—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to an acyclic carbon atom and having a six-membered aromatic ring in the acid moiety
    • C07C69/618—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to an acyclic carbon atom and having a six-membered aromatic ring in the acid moiety having unsaturation outside the six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02—Boron compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B61/00—Other general methods

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明は、含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法に関する。
炭素－炭素二重結合と単結合とが交互に繰り返される共役ポリエン骨格は、例えば抗真菌薬、ビタミン等の生理活性物質に多く見られる構造である。また、共役ポリエン骨格は、電子材料用途への適用も種々検討されている。このため、従来から、目的化合物に共役ポリエン骨格を導入する方法が検討されている。
例えば、非特許文献１には、特定の保護基で保護されたハロアルケニルボロン酸を用いて、共役ポリエン骨格上にボロン酸基を有するポリエニルボロン酸を形成し、クロスカップリング反応によって当該ポリエニルボロン酸を生理活性物質の合成に利用する方法が開示されている。
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，２００８，１３０，ｐ．４６６－４６８
本発明は、共役ポリエン骨格とそれに結合する含ホウ素基とを有し、生理活性物質、電子材料物質等の合成に有用な、新規の含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を用いた共役ポリエン化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一側面は、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法に関する。この製造方法は、炭素－炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素－炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備える。また、この製造方法では、上記第一の原料化合物及び上記第二の原料化合物のうち少なくとも一つは、上記三重結合又は前記共役ジ（又はポリ）エン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有している。これにより、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、上記共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有するものとなる。
上記製造方法によれば、共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格に結合した含ホウ素基と、を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を容易に得ることができる。上記含ホウ素共役ポリエン化合物によれば、含ホウ素基を起点とする反応（例えば、クロスカップリング反応）によって、共役ポリエン骨格を容易に目的化合物に導入することができる。また、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を有するπ共役化合物として電子材料等の用途に適用することもできる。
一態様において、上記第一の原料化合物は、下記式（１－１）で表される化合物であってよく、上記第二の原料化合物は、下記式（１－２－１）で表される化合物であってよく、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１－３－１）で表される化合物であってよい。
Figure 0007389490000001
 ［式（１－１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
Figure 0007389490000002
 ［式（１－２－１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
Figure 0007389490000003
 ［式（１－３－１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
上記態様において、上記式（１－２－１）中の上記Ｒ３のうち少なくとも一つが含ホウ素基であってよい。この場合、共役ポリエン骨格の両端に含ホウ素基を有する含ホウ素共役ポリエン化合物が得られる。この含ホウ素共役ポリエン化合物は、上述の用途以外に、クロスカップリング重合による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。
他の一態様において、上記第一の原料化合物は、下記式（１－１）で表される化合物であってよく、上記第二の原料化合物は、下記式（１－２－２）で表される化合物であってよく、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１－３－２）で表される化合物であってよい。この場合、共役ポリエン骨格の両端に含ホウ素基を有する含ホウ素共役ポリエン化合物が得られる。この含ホウ素共役ポリエン化合物は、上述の用途以外に、クロスカップリング重合による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。
Figure 0007389490000004
 ［式（１－１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
Figure 0007389490000005
 ［式（１－２－２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
Figure 0007389490000006
 ［式（１－３－２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
上記の各態様において、上記Ｒ１はシリル基であってよく、このとき、上記製造方法は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物における上記Ｒ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備えていてよい。これにより、Ｒ１の置換位置に置換基を有しない含ホウ素共役ポリエン化合物（すなわち、Ｒ１が水素原子となった含ホウ素共役ポリエン化合物）を容易に得ることができる。
更に他の一態様において、上記第一の原料化合物は、下記式（２－１）で表される化合物であってよく、上記第二の原料化合物は、下記式（２－２）で表される化合物であってよく、上記含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（２－３）で表される化合物であってよい。
Figure 0007389490000007
 ［式（２－１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。］
Figure 0007389490000008
 ［式（２－２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
Figure 0007389490000009
 ［式（２－３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
上記態様において、上記Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値は、上記Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい値であってよい。
また、上記態様において、上記Ｒ５はシリル基であってよく、このとき、上記製造方法は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物における上記Ｒ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備えていてよい。これにより、Ｒ５の置換位置に置換基を有しない含ホウ素共役ポリエン化合物（すなわち、Ｒ５が水素原子となった含ホウ素共役ポリエン化合物）を容易に得ることができる。
上記の各態様において、上記金属触媒は、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群より選択される少なくとも一種を含むものであってよい。
上記の各態様において、上記金属触媒は、ルテニウム触媒であってよい。
上記の各態様において、上記ルテニウム触媒は、反応系中で０価のルテニウムを形成していてよい。
本発明の他の一側面は、下記式（１－３－１Ａ）、下記式（１－３－２Ａ）又は下記式（２－３Ａ）で表される、含ホウ素共役ポリエン化合物に関する。
Figure 0007389490000010
 ［式（１－３－１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
Figure 0007389490000011
 ［式（１－３－２）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１１は水素原子又は一価の基を示し、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。また、２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
Figure 0007389490000012
 ［式（２－３）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ１５は水素原子又は一価の基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
本発明の更に他の一側面は、上記含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法によって、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を含有する反応液を得る第一工程と、上記反応液に、カップリング反応触媒と、上記含ホウ素基とのカップリング反応が可能な反応性基を有する第三の原料化合物と、を添加してカップリング反応を行う第二工程と、を備える、共役ポリエン化合物の製造方法に関する。
一態様において、上記反応性基はハロゲノ基であってよい。
一態様において、上記第一工程は、上記金属触媒の存在下での反応の反応系中に、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を生成させる工程であってよく、上記第二工程は、上記反応系中に、上記カップリング反応触媒と上記第三の原料化合物とを添加する工程であってよい。
本発明によれば、共役ポリエン骨格とそれに結合する含ホウ素基とを有し、生理活性物質、電子材料物質等の合成に有用な、新規の含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法が提供される。また、本発明によれば、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を用いた共役ポリエン化合物の製造方法が提供される。
以下、本発明の好適な実施形態について説明するが、本発明は下記の実施形態に限定されるものではない。
＜含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法＞
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法は、炭素－炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素－炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得るポリエン形成工程を備える。ここで、第一の原料化合物及び第二の原料化合物のうち少なくとも一つは、三重結合又は共役ジ（又はポリ）エン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有しており、これにより、含ホウ素共役ポリエン化合物は、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有するものとなる。
本実施形態に係る製造方法によれば、共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格に結合した含ホウ素基と、を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を容易に得ることができる。このような含ホウ素共役ポリエン化合物によれば、含ホウ素基を起点とする反応（例えば、クロスカップリング反応）によって、共役ポリエン骨格を容易に目的化合物に導入することができる。また、含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を有するπ共役化合物として電子材料等の用途に適用することもできる。
本明細書中、含ホウ素基は、ホウ素化合物におけるホウ素原子上の官能基を１つ除去した残りの原子団であってよい。すなわち、含ホウ素基は、結合対象に対して、ホウ素原子を介して結合する一価の基であってよい。
含ホウ素基は特に限定されず、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応が進行する範囲で適宜選択できる。含ホウ素基としては、例えば、ボリル基、ボロノ基、ボラート基、及び、これらの誘導体基が挙げられる。
ボリル基は、－ＢＨ２で表される基を示す。ボリル基の誘導体基としては、例えば、ジオルガノボリル基が挙げられる。
ジオルガノボリル基は、例えば、－Ｂ（Ｒ２１）２で表される基であってよい。Ｒ２１は一価の基を示す。２つのＲ２１は同一でも異なっていてもよく、互いに連結してホウ素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ２１は、例えば、一価の有機基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってもよい。
Ｒ２１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。Ｒ２１におけるアルキル基の炭素数は特に限定されず、例えば１～８であってよい。
Ｒ２１におけるアリール基は、芳香族化合物から芳香環上の水素原子を一つ除去した残りの原子団を示す。芳香族化合物が有する芳香環は、単環であっても縮合環であってもよく、複素環であってもよい。芳香族化合物としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、フラン、ピロール、チオフェン、ピリジン等が挙げられる。
Ｒ２１におけるアルキル基及びアリール基が有していてもよい置換基は、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応が進行する範囲であれば特に限定されない。当該置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボニル基、ホルミル基、ヒドロキシカルボニル基、エステル基、アミノ基、チオール基等が挙げられる。
ジオルガノボリル基の具体例としては、例えば、ジフェニルボリル基、ジシクロへキシル基、ビシクロ［３．３．１］ノナン－１，５－ジイル基、ジシアミル基等が挙げられる。
ボロノ基は、－Ｂ（ＯＨ）２で表される基を示す。ボロノ基の誘導体基としては、例えば、例えば、ボロナト基、保護されたボロノ基等が挙げられる。
ボロナト基は、例えば、－Ｂ（ＯＲ２２）２で表される基であってよい。Ｒ２２は一価の基を示す。２つのＲ２２は同一でも異なっていてもよく、互いに連結してホウ素原子及び酸素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ２２は、例えば、一価の有機基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってもよい。Ｒ２２におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基としては、Ｒ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
ボロナト基の具体例としては、例えば、ジイソプロピルボロナト基、ジｔｅｒｔ－ブチルボロナト基等が挙げられる。
保護されたボロノ基は特に限定されず、例えば、ボロノ基の保護として公知の方法により保護された基であってよい。
保護されたボロノ基としては、例えば、ジオール、ジアミン、ジカルボン酸等の２官能化合物とボロノ基との反応により形成される基が挙げられる。ジオールとしては、例えば、ピナコール、ネオペンチルグリコール、カテコール、ピナンジオール、１、２―ジシクロへキシルジオール等が挙げられる。ジアミンとしては、例えば、１，８－ジアミノナフタレン等が挙げられる。ジカルボン酸としては、例えば、Ｎ－メチルイミノ二酢酸等が挙げられる。
また、保護されたボロノ基としては、トリオールボラート基等のボラート基も例示できる。トリオールボラート基は、トリオールとボロノ基との反応により形成される。トリオールとしては、例えば、トリメチロールエタン（１，１，１－トリス（ヒドロキシメチル）エタン）等が挙げられる。ボラート基の対カチオンは特に限定されず、例えば、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、オルガノホスフォニウムイオン（ＰＲ４ ＋）等であってよい。
ボラート基としては、上述のトリオールボラート基に加え、トリフルオロボラート基（－ＢＦ３ －）等が例示できる。ボラート基の対カチオンは特に限定されず、例えば、ナトリウムイオン（Ｎａ＋）、カリウムイオン（Ｋ＋）、オルガノホスフォニウムイオン（ＰＲ４ ＋）等であってよい。
金属触媒は、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応によって含ホウ素共役ポリエン化合物を形成できる触媒、すなわち、炭素－炭素三重結合と１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基との反応によって共役トリエン骨格を形成できる触媒であればよい。
金属触媒としては、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、コバルト（Ｃｏ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群より選択される少なくとも一種を含む触媒が好ましく、ルテニウム触媒がより好ましい。
ルテニウム触媒は、後述する反応機構によって第一の原料化合物と第二の原料化合物とを効率良く反応させることができる観点から、反応系中で０価のルテニウム（Ｒｕ（０））を形成可能な触媒であることが好ましい。すなわち、上記ポリエン形成工程は、第一の原料化合物と第二の原料化合物とをＲｕ（０）の存在下で反応させる工程であってよい。
ポリエン形成工程の反応機構の一例について以下に説明する。なお、以下の例では、第一の原料化合物として後述の式（１－１）で表される化合物、第二の原料化合物としてブタジエン、金属触媒として［（ナフタレン）（１，５－シクロオクタジエン）ルテニウム（０）］を用いて反応機構を説明しているが、本発明はこれらに限定されない。また、ポリエン形成工程の反応機構は、以下の例に限定されない。
Figure 0007389490000013
上記反応機構では、まず、ルテニウム錯体からナフタレンが解離し、第一の原料化合物及び第二の原料化合物がそれぞれルテニウム（０）上に配位する（上記Ａ）。次いで、酸化的カップリング反応によって上記Ｂが形成され、βヒドリド脱離により上記Ｃが形成される。更に、還元的脱離によって、ルテニウム上に共役トリエンが配位した上記Ｄが形成される。上記の例では、ブタジエンが反応点を２つ有しているため、同様の機構でもう１分子の第一の原料化合物が反応して、共役テトラエンが配位した上記Ｅが形成される。最後に、共役テトラエンがルテニウム上から解離することで、含ホウ素共役ポリエン化合物が得られる。なお、第二の原料化合物が、反応点を１つしか有しない場合は、上記Ｄの段階でルテニウム上から含ホウ素共役ポリエン化合物が解離する。
反応系中でＲｕ（０）を形成可能な触媒としては、例えば、Ｒｕ（０）を有する０価ルテニウム錯体、Ｒｕ（ＩＩ）を有する２価ルテニウム錯体等が挙げられる。
０価ルテニウム錯体としては、例えば、［（ナフタレン）（１，５－シクロオクタジエン）ルテニウム（０）］、［（ブタジエン）（１，５―シクロオクタジエン）（アセトニトリル）ルテニウム（０）］等が挙げられる。
２価ルテニウム錯体としては、例えば、［ビス（アセチルアセトナト）（１，５－シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）］、［テトラクロロジ（アニソール）二ルテニウム］等が挙げられる。２価ルテニウム錯体は、反応系中で還元されてＲｕ（０）を形成してよい。２価ルテニウム錯体は、反応基質（第一の原料化合物及び／又は第二の原料化合物）との反応によって還元されてよく、ルテニウム錯体同士の反応によって還元されてよく、別途添加された還元剤との反応によって還元されてもよい。還元剤としては、例えば、ブチルリチウム、水素化アルミニウムリチウム、ナトリウムナフタレン、炭酸ナトリウムとイソプロピルアルコールの組み合わせ等が挙げられる。
なお、ルテニウム触媒の種類は上記のものに限定されず、メタラサイクルを形成可能な触媒であればよい。例えば、ルテニウム触媒は、メタラサイクル形成時に４価のルテニウム（Ｒｕ（ＩＶ））を形成する触媒であってもよい。すなわち、ルテニウム触媒は、反応系中で４価のルテニウム（Ｒｕ（ＩＶ））を含むメタラサイクルを形成可能な触媒であってもよい。
また、金属属触媒としては、ロジウム触媒、コバルト触媒、ニッケル触媒等を使用することもできる。
ロジウム触媒としては、反応系中で１価のロジウム（Ｒｈ（Ｉ））を形成可能な触媒が好ましい。このような触媒としては、例えば、Ｒｈ（Ｉ）を有する１価ロジウム錯体、Ｒｈ（ＩＩＩ）を有する３価ロジウム錯体等が挙げられる。３価ロジウム錯体は、還元剤と併用されてよい。還元剤としては、上記と同様のものが例示できる。
コバルト触媒としては、反応系中で１価のコバルト（Ｃｏ（Ｉ））又は０価のコバルト（Ｃｏ（０））を形成可能な触媒が好ましい。このような触媒としては、例えば、Ｃｏ（ＩＩ）を有する２価コバルト錯体等が挙げられる。２価コバルト錯体は、還元剤と併用されてよい。還元剤としては、上記と同様のものが例示できる。
ニッケル触媒としては、反応系中で０価のニッケル（Ｎｉ（０））を形成可能な触媒が好ましい。このような触媒としては、例えば、Ｎｉ（０）を有する０価ニッケル錯体、Ｎｉ（ＩＩ）を有する２価ニッケル錯体等が挙げられる。２価ニッケル錯体は、還元剤と併用されてよい。還元剤としては、上記と同様のものが例示できる。また、還元剤としては、亜鉛等も好適に用いることができる。
金属触媒の量は特に限定されず、第一の原料化合物に対して、例えば０．１ｍｏｌ％以上であってよく、好ましくは１ｍｏｌ％以上、より好ましくは５ｍｏｌ％以上である。また、金属触媒の量は、第一の原料化合物に対して、例えば３０ｍｏｌ％以下であってよく、好ましくは２０ｍｏｌ％以下、より好ましくは１５ｍｏｌ％以下である。
ポリエン形成工程において、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応は、無溶媒で行ってよく、有機溶媒中で行ってもよい。有機溶媒の種類は特に限定されず、第一の原料化合物及び第二の原料化合物を溶解可能な溶媒であればよい。有機溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応を阻害し難い観点からはテトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン等が好ましい。
有機溶媒の量は特に限定されず、第一の原料化合物及び第二の原料化合物の合計１００質量部に対して、例えば１００質量部以上であってよく、好ましくは１０００質量部以上であり、例えば１０００００質量部以下であってよく、好ましくは１００００質量部以下である。
ポリエン形成工程において、反応温度は特に限定されず、例えば０～１００℃であってよく、室温であってもよい。また、反応時間は特に限定されず、反応基質及び触媒の種類、所望の収量等に応じて適宜調整してよい。反応時間は、例えば０．１～７２時間であってよく、好ましくは１～２４時間である。
以下、本実施形態に係る製造方法の好適な態様について説明する。
（第一の態様）
第一の態様において、第一の原料化合物は、下記式（１－１）で表される化合物（以下、化合物（１－１）ともいう。）であり、第二の原料化合物は、下記式（１－２－１）で表される化合物（以下、化合物（１－２－１）ともいう。）である。第一の態様では、このような第一の原料化合物及び第二の原料化合物を用いることで、下記式（１－３－１）で表される化合物（以下、化合物（１－３－１）ともいう。）を得ることができる。
Figure 0007389490000014
Figure 0007389490000015
Figure 0007389490000016
式（１－１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。
式（１－２－１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（１－３－１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ上記と同義である。なお、式中の波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。すなわち、式（１－３－１）で表される化合物は、下記式（１－３－１ａ）で表される化合物、下記式（１－３－１ｂ）で表される化合物、又は、これらの混合物であってよい。第一の態様では、下記の化合物のうち、式（１－３－１ａ）で表される化合物が多く得られる傾向がある。
Figure 0007389490000017
Figure 0007389490000018
Ｒ１における一価の基は特に限定されず、化合物（１－１）と化合物（１－２－１）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ１における一価の基は、例えば、一価の有機基であってよい。
Ｒ１は、例えば、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、含ホウ素基、シリル基等であってよい。
Ｒ１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。Ｒ１におけるアルキル基の炭素数は特に限定されず、例えば１～８であってよい。
Ｒ１におけるアリール基は、芳香族化合物から芳香環上の水素原子を一つ除去した残りの原子団を示す。芳香族化合物が有する芳香環は、単環であっても縮合環であってもよく、複素環であってもよい。芳香族化合物としては、ベンゼン、ナフタレン、チオフェン等が挙げられる。
Ｒ１におけるアルキル基及びアリール基が有していてもよい置換基は、第一の原料化合物と第二の原料化合物との反応が進行する範囲であれば特に限定されない。当該置換基としては、例えば、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルボニル基、アミノ基、ハロゲノ基等が挙げられる。
Ｒ１におけるシリル基は、－Ｓｉ（Ｒ３１）３で表される基であってよい。Ｒ３１は、一価の基を示す。３つのＲ３１は互いに同一でも異なっていてもよく、互いに連結してケイ素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ３１は、例えば、一価の有機基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってもよい。Ｒ３１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基としては、上述のＲ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
Ｒ１が含ホウ素基である場合、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合する含ホウ素基を複数有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。
第一の態様において、Ｒ１が水素原子であると、化合物（１－１）と化合物（１－２－１）との反応が進行し難い。一方、Ｒ１がシリル基である場合、化合物（１－１）と化合物（１－２－１）との反応性は良好であり、位置選択的に化合物（１－３－１）が得られる。そして、脱シリル化反応によって、化合物（１－３－１）中のＲ１が水素原子に置換された含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。なお、このとき、Ｒ２が水素原子であると、側鎖に置換基を有しない共役ポリエン骨格を形成することができる。
脱シリル化反応は特に限定されず、公知の方法を適用してよい。例えば、脱シリル化反応は、フッ化テトラｎ－ブチルアンモニム（ＴＢＡＦ）を反応剤として用いて行うことができる。なお、反応が進行し難い場合は、触媒量のヨウ化銅（Ｉ）を添加してもよい。
Ｒ１は、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値が、Ｂ１のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より小さい基であってよい。第一の態様では、置換基定数σｐの値がより大きい置換基（Ｂ１）が、共役ポリエン骨格の末端に位置するように反応が進行しやすい傾向がある。
ｎは０以上の整数であり、その上限は特に限定されない。ｎは、例えば０～８であってよく、好ましくは０～２である。
Ｒ２における一価の基は、特に限定されず、化合物（１－１）と化合物（１－２－１）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ２における一価の基は、例えば、一価の有機基又はハロゲノ基であってよい。
Ｒ２は、例えば、水素原子、ハロゲノ基、アルキル基、アリール基、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ４１で表される基、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ４２で表される基、含ホウ素基、シリル基等であってよく、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｒ２におけるハロゲノ基は、フルオロ基（－Ｆ）、クロロ基（－Ｃｌ）、ブロモ基（－Ｂｒ）又はヨード基（－Ｉ）であってよく、好ましくはフルオロ基（－Ｆ）、クロロ基（－Ｃｌ）又はブロモ基（－Ｂｒ）である。
Ｒ２におけるアルキル基、アリール基は、及び、これらが有していてよい置換基としては、上述のＲ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
Ｒ４１は水素原子又は一価の基を示す。Ｒ４１は、例えば、水素原子又は一価の有機基であってよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってよい。
Ｒ４２は水素原子又は一価の基を示す。Ｒ４２は、例えば、水素原子又は一価の有機基であってよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってよく、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基であってよい。
Ｒ４１及びＲ４２おけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基としては、上述のＲ２１におけるアルキル基、アリール基及びこれらが有していてよい置換基と同じものが例示できる。
Ｒ３における一価の基は、特に限定されず、化合物（１－１）と化合物（１－２－１）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ３における一価の基は、例えば、一価の有機基又はハロゲノ基であってよい。
Ｒ３は、例えば、水素原子、ハロゲノ基、アルキル基、アリール基、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ４１で表される基、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ４２で表される基、含ホウ素基、シリル基等であってよく、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ３における各基としては、上述のＲ２における各基と同じものが例示できる。
Ｒ２及びＲ３のうち少なくとも一つが含ホウ素基である場合、共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合する含ホウ素基を複数有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。
Ｒ３のうち少なくとも一つが含ホウ素基である場合、共役ポリエン骨格の両端に含ホウ素基を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得ることができる。このような含ホウ素共役ポリエン化合物は、クロスカップリング重合による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。
（第二の態様）
第二の態様において、第一の原料化合物は、式（１－１）で表される化合物（化合物（１－１））であり、第二の原料化合物は、下記式（１－２－２）で表される化合物（以下、化合物（１－２－２）ともいう。）である。第二の態様では、化合物（１－２－２）が、化合物（１－１）との反応点を２箇所有している。このため、第二の態様では、化合物（１－１）由来の含ホウ素基を少なくとも２つ有する、下記式（１－３－２）で表される化合物（以下、化合物（１－３－２）ともいう。）を得ることができる。
Figure 0007389490000019
Figure 0007389490000020
Figure 0007389490000021
式（１－１）中、Ｂ１は含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。
式（１－２－２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（１－３－２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ上記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。すなわち、式（１－３－２）で表される化合物は、下記式（１－３－２ａ）で表される化合物、下記式（１－３－２ｂ）で表される化合物、下記式（１－３－２ｃ）で表される化合物、下記式（１－３－２ｄ）で表される化合物、又は、これらの混合物であってよい。第二の態様では、下記の化合物のうち、式（１－３－２ａ）で表される化合物が最も多く得られる傾向がある。
Figure 0007389490000022
Figure 0007389490000023
Figure 0007389490000024
Figure 0007389490000025
式（１－１）中のＲ１は、第一の態様における式（１－１）中のＲ１と同様であってよい。
式（１－２－２）中のＲ２は、第一の態様における式（１－２－１）中のＲ２と同様であってよい。
ｎ１は０以上の整数であり、その上限は特に限定されない。ｎ１は、例えば０～８であってよく、好ましくは０～１である。
ｎ１が０のとき、ｎ２は０又は１であり、ｎが１以上のとき、ｎ２は１である。
（第三の態様）
第三の態様において、第一の原料化合物は、下記式（２－１）で表される化合物であり、第二の原料化合物は、下記式（２－２）で表される化合物である。第三の態様では、このような第一の原料化合物及び第二の原料化合物を用いることで、下記式（２－３）で表される化合物（以下、化合物（２－３）ともいう。）を得ることができる。
Figure 0007389490000026
Figure 0007389490000027
Figure 0007389490000028
式（２－１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。
式（２－２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（２－３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ上記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。すなわち、式（２－３）で表される化合物は、下記式（２－３ａ）で表される化合物、下記式（２－３ｂ）で表される化合物、又は、これらの混合物であってよい。第三の態様では、下記の化合物のうち、式（２－３ａ）で表される化合物が多く得られる傾向がある。
Figure 0007389490000029
Figure 0007389490000030
Ｒ４及びＲ５における一価の基は特に限定されず、化合物（２－１）と化合物（２－２）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ４及びＲ５における一価の基としては、上述のＲ１と同じ基が例示できる。
第三の態様において、Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値は、Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい。第３の態様では、置換基定数σｐの値がより大きい置換基（Ｒ４）が、共役ポリエン骨格の末端に位置するように反応が進行しやすい傾向がある。
ｍは０以上の整数であり、その上限は特に限定されない。ｍは、例えば０～８であってよく、好ましくは０～２である。
Ｒ６における一価の基は、特に限定されず、化合物（２－１）と化合物（２－２）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ６としては、上述のＲ２と同じ基が例示できる。
Ｒ７における一価の基は、特に限定されず、化合物（２－１）と化合物（２－２）との反応が進行する範囲で適宜選択できる。Ｒ７としては、上述のＲ３と同じ基が例示できる。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。
＜含ホウ素共役ポリエン化合物＞
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、上述の製造方法により製造される化合物であり、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基と、を有する。
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物の好適な態様について以下に説明する。
（第一の態様）
第一の態様に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１－３－１Ａ）で表される化合物である。
Figure 0007389490000031
式（１－３－１Ａ）中、Ｂ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３は、上述の式（１－３－１）におけるＢ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３と同義である。また、Ｒ１１は、水素原子又は一価の基を示し、Ｒ１１における一価の基としては、上述のＲ１と同じ基が例示できる。
Ｒ１１が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ１がシリル基である化合物（１－１）と化合物（１－２－１）とを反応させた後、Ｒ１のシリル基を脱シリル化反応によって水素原子に置換することで製造することができる。
（第二の態様）
第二の態様に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（１－３－２Ａ）で表される化合物である。
Figure 0007389490000032
式（１－３－２Ａ）中、Ｂ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２は、上述の式（１－３－２）におけるＢ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２と同義である。また、Ｒ１１は、水素原子又は一価の基を示し、Ｒ１１における一価の基としては、上述のＲ１と同じ基が例示できる。
Ｒ１１が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ１がシリル基である化合物（１－１）と化合物（１－２－２）とを反応させた後、Ｒ１のシリル基を脱シリル化反応によって水素原子に置換することで製造することができる。
（第三の態様）
第三の態様に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、下記式（２－３Ａ）で表される化合物である。
Figure 0007389490000033
式（２－３Ａ）中、Ｒ４、ｍ、Ｒ６及びＲ７は、上述の式（２－３）におけるＲ４、ｍ、Ｒ６及びＲ７と同義である。また、Ｒ１５は、水素原子又は一価の基を示し、Ｒ１５における一価の基としては、上述のＲ５と同じ基が例示できる。
Ｒ１５が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ５がシリル基である化合物（２－１）と化合物（２－２）とを反応させた後、Ｒ５のシリル基を脱シリル化反応によって水素原子に置換することで製造することができる。
本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、共役ポリエン骨格と、当該共役ポリエン骨格に結合した含ホウ素基と、を有している。このため、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物によれば、含ホウ素基を起点とする反応（例えば、クロスカップリング反応）によって、共役ポリエン骨格を容易に目的化合物に導入することができる。この用途において、含ホウ素基は、ボロノ基又はその誘導体基が好ましい。
また、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を有するπ共役化合物として電子材料等の用途に適用することもできる。この用途において、含ホウ素基は、ボリル基又はその誘導体基が好ましい。
また、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物は、含ホウ素基を２つ以上有することができ、この場合は、クロスカップリング重合（例えば、ジハロゲン化芳香族化合物との重合）による高分子化合物の製造等に好適に利用することができる。この用途において、含ホウ素基は、ボロノ基又はその誘導体基が好ましい。
以上、本実施形態に係る含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法について記載したが、本発明はこれらに限定されない。
例えば、本発明の一側面は、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物を用いた、共役ポリエン化合物の製造方法に関する。
一実施形態に係る共役ポリエンの製造方法は、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法によって、含ホウ素共役ポリエン化合物を含有する反応液を得る第一工程と、上記反応液に、カップリング反応触媒と、上記含ホウ素基とのカップリング反応が可能な反応性基を有する第三の原料化合物と、を添加してカップリング反応を行う第二工程と、を備える。
第一工程は、例えば、第一の原料化合物及び第二の原料化合物の金属触媒存在下での反応によって、反応系中に、上記含ホウ素共役ポリエン化合物を生成させる工程であってよい。そして、第二工程は、当該反応系中に、カップリング反応触媒と第三の原料化合物とを添加する工程であってよい。このようなワンポット反応によれば、目的の共役ポリエン化合物を効率良く製造することができる。
このように、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法では、反応後の反応系中から含ホウ素共役ポリエン化合物を回収することなく、ワンポットで続くカップリング反応を実施することができる。この点は、上述の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法の大きな利点と言える。
カップリング反応触媒は特に限定されず、公知のカップリング反応触媒から適宜選択して使用することができる。カップリング反応触媒の具体例としては、例えば、［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］等の鈴木－宮浦カップリング反応に使用される公知の触媒（例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、鉄錯体触媒等）、固定化触媒（例えば、固定化パラジウム触媒、固定化ニッケル触媒、固定化鉄触媒等）、金属微粒子触媒（例えば、パラジウム微粒子触媒、ニッケル微粒子触媒、鉄微粒子触媒等）などが挙げられる。
第三の原料化合物が有する反応性基は、含ホウ素基とのカップリング反応可能な官能基であれば特に制限されないが、基質の選択性及び反応性に優れる観点からは、ハロゲノ基であることが好ましい。
カップリング反応の反応条件は特に限定されず、公知のカップリング反応の反応条件から適宜選択できる。
（実施例１－１）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－１）の合成を行った。
Figure 0007389490000034
具体的には、１－ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（２０．３μＬ，０．０８８４ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）－２，４－ペンタジエン酸メチル（１０．３μＬ，０．０８８１ｍｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（２．９９ｍｇ，０．００８８６ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－１）が、反応時間４時間において収率５４％で生成し、２４時間後には収率８９％で生成していた。なお、含ホウ素共役ポリエン化合物の生成は、１Ｈ－ＮＭＲ測定により確認した。測定結果は以下のとおりであった。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．９８（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ），１．１３（ｄ，Ｊ＝６．２ Ｈｚ，１２Ｈ），１．５５（ｓｅｘｔ，Ｊ＝７．７ Ｈｚ，２Ｈ），２．５９（ｔ，Ｊ＝７．７ Ｈｚ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），４．４３（ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．２ Ｈｚ，２Ｈ），５．５４（ｓ，１Ｈ），５．９１（ｄ，Ｊ＝１５．６ Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄ，Ｊ＝１５．１ Ｈｚ，１Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝１５．１，１１．０ Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄｄ，Ｊ＝１５．６，１１．０ Ｈｚ，１Ｈ）．
（実施例１－２）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－１）の合成を行った。
Figure 0007389490000035
具体的には、１－ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（２０．５μＬ，０．０８９４ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）－２，４－ペンタジエン酸メチル（１０．４μＬ，０．０８９５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン－ｄ２（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（２．９４ｍｇ，０．００８７３ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－１）が、反応時間７時間において収率５０％で生成した。
（実施例２）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000036
具体的には、１－ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（２０．５μＬ，０．０８９５ｍｍｏｌ）及び１，３－ペンタジエン（９．０μＬ，０．０８９ｍｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０７ｍｇ，０．００１８０ｍｍｏｌ）を更に加えた。７０℃において１時間反応を行ったところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－２）が収率２７％で得られた。なお、同様の反応を室温で行ったところ、２８時間後に収率３６％で目的物が得られた。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．９４（ｄ，Ｊ＝６．０ Ｈｚ，３Ｈ），１．１５（ｔ，Ｊ＝６．４ Ｈｚ，３Ｈ），１．１７（ｄ，Ｊ＝６．２ Ｈｚ，１２Ｈ），１．５５（ｍ，２Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝７．７ Ｈｚ，２Ｈ），４．４５（ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．０ Ｈｚ，２Ｈ），５．５８（ｓ，１Ｈ），５．６０（ｄｑｄ，Ｊ＝１５．８，６．０，４．４ Ｈｚ，１Ｈ），５．９９（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄ，Ｊ＝１４．７ Ｈｚ，１Ｈ），６．４８（ｄｄｄ，Ｊ＝１４．７，１０．６，４．４ Ｈｚ，１Ｈ）．
（実施例３）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000037
具体的には、３－ヘキシン（６．５μＬ，０．０５７ｍｍｏｌ）と２－｛（Ｅ）－１，３－ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝－４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（１１．５μＬ，０．０５７５ｍｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（１．９３ｍｇ，０．００５７２ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で２５分後には、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－３）が収率８９％で生成した。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．８１（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ），０．８９（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ），１．１１（ｓ，１２Ｈ），１．９０（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，２Ｈ），２．０６（ｑ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，２Ｈ），５．２８（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，１Ｈ），５．９３（ｄ，Ｊ＝１７．８ Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝１５．５ Ｈｚ，１Ｈ），６．３５（ｄｄ，Ｊ＝１５．５，９．８ Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄｄ，Ｊ＝１７．５，９．７ Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，［Ｄ６］ｂｅｎｚｅｎｅ，ｒ．ｔ．）：δ １３．８４（ｓ），１４．１４（ｓ），２１．６９（ｓ），１９．９４（ｓ），２４．９２（ｓ），８２．９９（ｓ），１２０（ｂｒ），１２７－１２８（ｏｂｓｃｕｒｅｄ ｂｙ ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ ｗｉｔｈ Ｃ６Ｄ６），１２６．０１（ｓ），１３７．０１（ｓ），１４０．６４（ｓ），１５１．４９（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１６Ｈ２８ＢＯ２＋Ｈ＋：２６３．２１８０［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：２６３．２１７７．
（実施例４）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000038
具体的には、ジフェニルアセチレン（３２．０９ｍｇ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに２－｛（Ｅ）－１，３－ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝－４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（３６．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）を加え、次いで［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０７ｍｇ，０．０１８０ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で５分後には反応が完了し、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－４）が収率６３％で得られた。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ １．０７（ｓ，１２Ｈ），５．６５（ｄ，Ｊ＝１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，Ｊ＝１４．９，１０．９ Ｈｚ，１Ｈ），６．４７（ｓ，１Ｈ），６．６１（ｄ，Ｊ＝１４．９ Ｈｚ，１Ｈ），７．００－７．０２（ｍ，５Ｈ），７．０４－７．１０（ｍ，５Ｈ）７．５０（ｄｄ，Ｊ＝１７，１０ Ｈｚ，１Ｈ，ｐａｒｔｌｙ ｏｂｓｃｕｒｅｄ ｂｙ ｏｖｅｒｌａｐ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ２４．５５（ｓ），２４．８６（ｓ），７７．６１（ｓ），８２．０２（ｓ），１２２（ｂｒ），１２７．４０（ｓ），１２８（ｏｂｓｃｕｒｅｄ ｂｙ ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ ｗｉｔｈ Ｃ６Ｄ６），１２９．１７（ｓ），１２９．７０（ｓ），１２９．９１（ｓ），１３３．６７（ｓ），１３３．８９（ｓ），１３７．０８（ｓ），１３８．４５（ｓ），１４１．８５（ｓ），１４１．９８（ｓ，３ＣＨ），１５０．４１（ｓ，５－ＣＨ）．
ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ＝３５８（Ｍ＋）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２４Ｈ２７ＢＯ２＋Ｈ＋：３５９．２１８１［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３５９．２１８３．
（実施例５）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000039
具体的には、２－｛（Ｅ）－１，３－ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝－４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（４０．４μＬ，０．２２４４ｍｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに１－ペンチニルボロン酸ジイソプロピル（５１．０μＬ，０．２２２ｍｍｏｌ）を加え、次いで［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（７．５９ｍｇ，０．０２２５ｍｍｏｌ）を更に加えた。室温で３時間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－５）が収率３８％で得られた。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．９６（ｔ，Ｊ＝８ Ｈｚ，３Ｈ），１．１０（ｓ，１２Ｈ），１．１６（ｄ，Ｊ＝７ Ｈｚ，１２Ｈ），１．５６－１．６１（ｍ，２Ｈ），２．６０－２．６４（ｍ，２Ｈ），４．４２（ｓｅｐｔ，Ｊ＝７ Ｈｚ，２Ｈ），５．５１（ｓ，１Ｈ），５．９２（ｄ，Ｊ＝１７ Ｈｚ，１Ｈ），６．３４（ｄ，Ｊ＝１５ Ｈｚ，１Ｈ），６．５２（ｄｄ，Ｊ＝１５，１１ Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝１７，１１ Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ １４．４６（ｓ），２３．８７（ｓ），２４．８６（ｓ），２４．９１（ｓ），３２．７８（ｓ），６５．５６（ｓ），８３．０５（ｓ），１２２（ｂｒ），１２６．０１（ｓ），１３１．４５（ｓ），１４２．４２（ｓ），１５０．９２（ｓ），１５６．１８（ｓ）．
（実施例６）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000040
具体的には、１－フェニル－１－プロピン（２２．５μＬ，１８２μｍｏｌ）及び２－｛（Ｅ）－１，３－ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝－４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（３６．０μＬ，１８０μｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０７ｍｇ，１８．０μｍｏｌ）を更に加えた。室温で１時間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－６）が収率６１％で得られた。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ １．１２（ｓ，１２Ｈ），１．７５（ｄ，Ｊ＝１．１６ Ｈｚ，３Ｈ），５．９６（ｄ，Ｊ＝１７．７ Ｈｚ，１Ｈ），６．３５－６．４４（ｍ，２Ｈ），６．４１（ｓ，１Ｈ），６．９７－７．０２（ｍ，２Ｈ），７．１０－７．１５（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｄｄｄ，Ｊ＝１７．６，８．３，１．５ Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ １３．７８（ｓ），２４．９４（ｓ），８３．０８（ｓ），１２１（ｂｒ），１２７．００（ｓ），１２９．６０（ｓ），１３０．６８（ｓ），１３４．０９（ｓ），１３６．０１（ｓ），１３８．００（ｓ），１４２．０８（ｓ，４－ＣＨ），１５０．９６（ｓ，５－ＣＨ）．６－ＣＨ ｗａｓ ｎｏｔ ｏｂｓｅｒｖｅｄ ｂｙ ＨＭＱＣ ｐｒｏｂａｂｌｙ ｄｕｅ ｔｏ ｂｒｏａｄｅｎｉｎｇ．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１９Ｈ２５ＢＯ２＋Ｈ＋：２９７．２０２４［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：２９７．２０１０．
（実施例７）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000041
具体的には、１－フェニル－２－トリメチルシリル－アセチレン（３４．０μＬ，１７６μｍｏｌ）及び２－｛（Ｅ）－１，３－ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝－４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（１９．０μＬ，９５．０μｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、ここに［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（３．２０ｍｇ，９．４８μｍｏｌ）を更に加えた。室温で３０分間反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－７）が収率４１％で得られた。なお、この反応では、１－フェニル－２－トリメチルシリル－アセチレンは位置選択的に反応して、初期生成物として末端のフェニル基の立体選択性がＺ体の生成物が得られた。しかし、その後室温において溶液中で放置することで異性化が進行し、フェニル基の立体選択性がＥ体の生成物が得られた。
トリメチル（（１Ｚ，３Ｅ，５Ｅ）－１－フェニル－６－（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）ヘキサ－１，３，５－トリエン－２－イル）シラン
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．２０（ｓ，９Ｈ），１．０８（ｓ，１２Ｈ），５．９１（ｄ，Ｊ＝１７ Ｈｚ，１Ｈ），６．５４（ｄ，Ｊ＝１６ Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄｄ，Ｊ＝１６，１０ Ｈｚ，１Ｈ），６．９（ｓ，１Ｈ，ｏｂｓｃｕｒｅｄ ｂｙ ｏｖｅｒｌａｐ），７．０－７．１（ｍ，３Ｈ），７．２（ｄ，Ｊ＝７ Ｈｚ，１２Ｈ）７．４４（ｄｄ，Ｊ＝１７．２，１０．３ Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．４５（ｓ），２４．８８（ｓ），８３．０２（ｓ），１２０．９２（ｂｒ），１２８（ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ ｗｉｔｈ Ｃ６Ｄ６），１２９．９３（ｓ），１３４．８５（ｓ），１３７．７０（ｓ），１３８．１４（ｓ），１４０．８４（ｓ），１４１．７８（ｓ），１４２．９１（ｓ），１５１．３３（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２１Ｈ３１ＢＯ２Ｓｉ＋Ｈ＋：３５５．２２６３［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３５５．２２６３．
トリメチル（（１Ｅ，３Ｅ，５Ｅ）－１－フェニル－６－（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）ヘキサ－１，３，５－トリエン－２－イル）シラン
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．２１（ｓ，９Ｈ），１．０８（ｓ，１２Ｈ），５．９１（ｄ，Ｊ＝１８ Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄｄ，Ｊ＝１５，１０ Ｈｚ，１Ｈ），６．９（１Ｈ，ｏｂｓｃｕｒｅｄ ｂｙ ｏｖｅｒｌａｐ），７．０－７．１（ｍ，３Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝１５ Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｄｄ，Ｊ＝１８，１０ Ｈｚ，１Ｈ，ｐａｒｔｌｙ ｏｂｓｃｕｒｅｄ ｂｙ ｏｖｅｒｌａｐ）．
（実施例１０）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000042
具体的には、２－フェニルエチニルボロン酸ピナコールエステル（４０．６２μＬ，０．１７８１ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）－２，４－ペンタジエン酸メチル（２１．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン－ｄ６（０．６ｍＬ）に溶解し、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（７．１２ｍｇ，０．０２１１ｍｍｏｌ）を更に加えた。３０℃で反応させたところ、含ホウ素共役ポリエン化合物（Ａ－１０５）が、反応時間２時間において収率４７％で生成した。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ １．０２（ｓ，１２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），６．０７（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１４．９Ｈｚ，１Ｈ），６．５５（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．２，１０．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｓ，１Ｈ），７．００－７．１３（ｍ，３Ｈ），７．３９－７．４０（ｍ，１Ｈ），７．６１（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．２，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ２４．９（ｓ），５１．０（ｓ），８３．９（ｓ），１２０．５（ｓ），１２８．９（ｓ），１２９．１（ｓ），１３８．７（ｓ），１４５．７（ｓ），１４７．１（ｓ），１４７．３（ｓ），１６７．１（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２０Ｈ２５ＢＯ４＋Ｈ＋：３４１．１９２２［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：３４１．１９１４．
（実施例１３）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000043
具体的には、２５ｍＬシュレンクに［Ｒｕ（ａｃａｃ）２（１，５－ｃｏｄ）］（４．３０ｍｇ，０．０１０６ｍｍｏｌ）を量り入れ、窒素置換した。ヘキサン（６００μＬ）、ＢｕＬｉ（６．２μＬ，０．００９９ｍｍｏｌ）、３－ｈｅｘｙｎｅ（１１．５μＬ，０．１０１ｍｍｏｌ）、（Ｅ）－１－（４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ－２－ｙｌ）ｂｕｔａｄｉｅｎｅ（２０．０μＬ，０．１００ｍｍｏｌ）を順に加え室温で７時間撹拌した。その後、反応液をＧＣ－ＭＳで測定したところ、目的物の生成が確認された。溶媒留去をし、全量ｂｅｎｚｅｎｅ－ｄ６に溶解させ、ｄｉｂｅｎｚｙｌ（１．９４ｍｇ，１０．６μｍｏｌ）を加えた。１Ｈ ＮＭＲより目的物の収率を求めた。収率は８３％であった。
（実施例１４）
下記方法により、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成を行った。
Figure 0007389490000044
具体的には、２５ｍＬシュレンクにＣｏＢｒ２（ＰＰｈ３）２（８．５ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ），ＰＰｈ３（９．６ｍｇ，０．０３７ｍｍｏｌ），Ｚｎ（５３．５ｍｇ，０．８２０ｍｍｏｌ）を量りとり、窒素置換をしたのち、ＣＨ３ＣＮ（５００μＬ）を加え、１０分間攪拌した。その後、３－ｈｅｘｙｎｅ（１２．０μＬ，０．１０７ｍｍｏｌ），（Ｅ）－２－（ｂｕｔａ－１，３－ｄｉｅｎｙｌ）－４，４，５，５－ｔｅｔｏｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（２０．０μＬ，０．０９９０ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ（７０．０μＬ）を加え、室温下で攪拌した。２４時間反応させた後、反応液をＧＣ－ＭＳで測定したところ、目的物の生成が確認された。収率は約４％であった。
（実施例１５）
下記方法により、ワンポットで、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成とそれに続くクロスカップリング反応とを行い、共役ポリエン化合物を合成した。
Figure 0007389490000045
具体的には、１－ペンチニルボロン酸ジイソプロピルエステル（２２．５μＬ，０．０９８２ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）－２，４－ペンタジエン酸メチル（１１．５μＬ，０．０９８７ｍｍｏｌ）をベンゼン中（５００μＬ）で［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（３．３５ｍｇ，０．００９９３ｍｍｏｌ）の存在下、室温で２４時間反応させた。引き続き同じ溶液中にヨウ化フェニル（１１．０μＬ，０．０９８７ｍｍｏｌ），ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１２０μＬ ｉｎ ｍｅｔｈａｎｏｌ，０．１２０ｍｍｏｌ）、及び［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（９．２８ｍｇ，０．００８０３ｍｍｏｌ）をこの順番で加え、５０℃で１５分間反応させた。生成物はリサイクルＨＰＬＣにより精製した。収率は７９％（（Ａ－１１０）／（Ａ－１１１）＝５／１）であった。
（Ａ－１１０）
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ ０．９９（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．５６（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．４３（ｍ，２Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），５．９１（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．４，１０．９Ｈｚ，１Ｈ），６．６２（ｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５Ｈｚ，１Ｈ），７．２６－７．３５（ｍ，５Ｈ），７．３８（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．９Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ １４．３６（ｓ），２２．４４（ｓ），２９．３８（ｓ），５１．５３（ｓ），１１９．８１（ｓ），１２５．４５（ｓ），１２７．３３（ｓ），１２８．４０（ｓ），１２８．９１（ｓ），１３５．６４（ｓ），１３７．０３（ｓ），１４０．１８（ｓ），１４５．４２（ｓ），１４５．６７（ｓ），１６７．６８（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１７Ｈ２０Ｏ２＋Ｈ＋：２５７．１５３６［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：２５７．１５２８．
（実施例１６）
下記方法により、ワンポットで、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成とそれに続くクロスカップリング反応とを行い、共役ポリエン化合物を合成した。
Figure 0007389490000046
３－へキシン（２０．０μＬ，０．１７５ｍｍｏｌ）及び２－｛（Ｅ）－１，３－ｂｕｔａｄｉｅｎｙｌ｝－４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ（３６．０μＬ，０．１８０ｍｍｏｌ）をベンゼン中（５００μＬ）で［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（ｃｏｄ）］（６．０３ｍｇ，０．０１７８ｍｍｏｌ）の存在下、室温で５分間反応させた。引き続き、同じ溶液中にヨウ化フェニル（２０．０μＬ，０．１７９ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１８０．０μＬ ｉｎ ｍｅｔｈａｎｏｌ，０．１８０ｍｍｏｌ）、及び［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（１６．５１ｍｇ，０．０１４２９ｍｍｏｌ）をこの順番で加え、５０℃で２時間反応させた。生成物はリサイクルＨＰＬＣにより精製した。収率は６２％であった。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，ｒ．ｔ．）：δ ０．９１（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，３Ｈ），１．０５（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４８Ｈｚ，３Ｈ；１０－Ｍｅ），２．０３（ｑｕｉｎｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），２．２４（ｑ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，２Ｈ），５．４５（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４４Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），６．４４（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８５（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１５．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｔ，１Ｈ），７．１－７．２（ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ ｗｉｔｈ ｓｏｌｖｅｎｔ），７．３０（ｄ，３ＪＨ，Ｈ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）．
（実施例１７）
下記方法により、ワンポットで、含ホウ素共役ポリエン化合物の合成とそれに続くクロスカップリング反応とを行い、共役ポリエン化合物を合成した。
Figure 0007389490000047
具体的には、１－ペンチニルボロン酸ジイソプロピルエステル（２２．５μＬ，０．０９８２ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）－１－（４，４，５，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ－１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ－２－ｙｌ）ｂｕｔａｄｉｅｎｅ（２２．０μＬ，０．１１０ｍｍｏｌ）、［Ｒｕ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）（１，５－ｃｏｄ）］（３．３４ｍｇ，０．００９９０ｍｍｏｌ）をベンゼン中５０℃で３時間反応させた。臭化ビニル（１５．０μＬ，０．２１２ｍｍｏｌ）、ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（２４０μＬ ｉｎ ＥｔＯＨ，０．２４０ｍｍｏｌ）及び［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（１８．４６ｍｇ，０．０１５９７ｍｍｏｌ）を加えて５０℃で５時間反応させた。その結果、化合物（Ａ－１１３）が収率４６％で生成した。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ ０．９２（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４６（ｓｅｘｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．３３（ｔ，３ＪＨ，Ｈ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），５．０９（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１０．３Ｈｚ，２ＪＨ，Ｈ＝－１．０Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝－０．９Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１０．３Ｈｚ，２ＪＨ，Ｈ＝－３．０Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝－０．５Ｈｚ，１Ｈ），５．１９（ｄｔ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，２ＪＨ，Ｈ＝２．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），５．２３（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，２ＪＨ，Ｈ＝－３．０，４ＪＨ，Ｈ＝－０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．０８（ｄｄｔ，３ＪＨ，Ｈ＝１０．５，４ＪＨ，Ｈ＝－２．５，４ＪＨ，Ｈ＝－１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝－１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．２８（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．５，１０．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝－１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．３０（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１６．０，１０．５Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝－１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．３２（ｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｄｄｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１６．０，１１．８，１０．３Ｈｚ，４ＪＨ，Ｈ＝－１．０，－０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６０（ｄｄｄ，３ＪＨ，Ｈ＝１７．８，１１．５，１０．３Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ｛１Ｈ｝ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ｒ．ｔ．）：δ １４．２２（ｓ），２２．７０（ｓ），２８．８９（ｓ），１１７．００（ｓ），１１７．９２（ｓ），１２８．２１（ｓ），１３２．３２（ｓ），１３３．０５（ｓ），１３３．９７（ｓ），１３４．０４（ｓ），１３７．０２（ｓ），１３７．１３（ｓ），１４０．６３（ｓ）．
ＨＲＭＳ（ＡＰＣＩ）：ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１３Ｈ１８＋Ｈ＋：１７５．１４８１［Ｍ＋Ｈ］＋；ｆｏｕｎｄ：１７５．１４７４．

Claims (14)

  1. 炭素－炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素－炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、ルテニウム触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
    前記第一の原料化合物が下記式（１－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１－２－１）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１－３－１）で表される化合物であるか、
    前記第一の原料化合物が下記式（１－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１－２－２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１－３－２）で表される化合物であるか、又は、
    前記第一の原料化合物が下記式（２－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（２－２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（２－３）で表される化合物である、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
    ［式（１－１）中、Ｂ１は結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
    ［式（１－２－１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
    ［式（１－３－１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
    ［式（１－２－２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
    ［式（１－３－２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
    ［式（２－１）中、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の基を示す。］
    ［式（２－２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
    ［式（２－３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
  2. 前記第一の原料化合物が前記式（１－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が前記式（１－２－１）で表される化合物であり、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が前記式（１－３－１）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  3. 前記式（１－２－１）中の前記Ｒ３のうち、少なくとも一つが結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基である、請求項２に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  4. 前記第一の原料化合物が前記式（１－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が前記式（１－２－２）で表される化合物であり、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が前記式（１－３－２）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  5. 前記Ｒ１がシリル基であり、
    前記含ホウ素共役ポリエン化合物における前記Ｒ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、請求項２～４のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  6. 前記第一の原料化合物が前記式（２－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が前記式（２－２）で表される化合物であり、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が前記式（２－３）で表される化合物である、請求項１に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  7. 前記Ｒ４のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値が、前記Ｒ５のＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐの値より大きい、請求項６に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  8. 前記Ｒ５がシリル基であり、
    前記含ホウ素共役ポリエン化合物における前記Ｒ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、請求項６又は７に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  9. 前記ルテニウム触媒が、反応系中で０価のルテニウムを形成する、請求項１～８のいずれか一項に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
  10. 下記式（１－３－１Ａ）、下記式（１－３－２Ａ）又は下記式（２－３Ａ）で表される、含ホウ素共役ポリエン化合物。
    ［式（１－３－１Ａ）中、Ｂ１はボロノ基、ボロナト基、ジオールとボロノ基との反応により形成される基、又は、ボラート基を示し、Ｒ１１ は一価の基（但し、メチル基を除く）を示し、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
    ［式（１－３－２Ａ）中、Ｂ１はボロノ基、ボロナト基、ジオールとボロノ基との反応により形成される基、又は、ボラート基を示し、Ｒ１１ は一価の基（但し、メチル基を除く）を示し、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
    ［式（２－３Ａ）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ１５ は一価の基（但し、メチル基を除く）を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つはボロノ基、ボロナト基、ジオールとボロノ基との反応により形成される基、又は、ボラート基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
  11. 前記式（１－３－１Ａ）又は前記式（１－３－２Ａ）で表される化合物である、請求項１０に記載の含ホウ素共役ポリエン化合物。
  12. 炭素－炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素－炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
    前記第一の原料化合物が下記式（１－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１－２－２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１－３－２）で表される化合物である、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
    ［式（１－１）中、Ｂ１は結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基を示し、Ｒ１は一価の基を示す。］
    ［式（１－２－２）中、ｎ１は０以上の整数を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｒ２は水素原子又は一価の基を示す。ｎ１が１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、ｎ１が１以上のとき、ｎ２は１である。Ｒ２同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
    ［式（１－３－２）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ１、ｎ２及びＲ２はそれぞれ前記と同義である。２つのＢ１は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
  13. 炭素－炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素－炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、金属触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
    前記第一の原料化合物が下記式（１－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（１－２－１）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（１－３－１）で表される化合物であり、
    前記含ホウ素共役ポリエン化合物におけるＲ１を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
    ［式（１－１）中、Ｂ１は結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基を示し、Ｒ１はシリル基を示す。］
    ［式（１－２－１）中、ｎは０以上の整数を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。ｎが１以上のとき、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２同士、Ｒ３同士、並びに、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
    ［式（１－３－１）中、Ｂ１、Ｒ１、ｎ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
  14. 炭素－炭素三重結合を有する第一の原料化合物と、１，３－ブタジエン－４，４－ジイル基を有し、当該基中の２つの炭素－炭素二重結合を含む共役ジ（又はポリ）エン骨格を有する第二の原料化合物とを、ルテニウム触媒の存在下で反応させて、３つ以上の炭素－炭素二重結合を含む共役ポリエン骨格を有する含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を備え、
    前記第一の原料化合物が下記式（２－１）で表される化合物であり、前記第二の原料化合物が下記式（２－２）で表される化合物であり、且つ、前記含ホウ素共役ポリエン化合物が下記式（２－３）で表される化合物であり、
    前記含ホウ素共役ポリエン化合物におけるＲ５を水素原子に置換して、第二の含ホウ素共役ポリエン化合物を得る工程を更に備える、含ホウ素共役ポリエン化合物の製造方法。
    ［式（２－１）中、Ｒ４は一価の基を示し、Ｒ５はシリル基を示す。］
    ［式（２－２）中、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、２つのＲ７のうち少なくとも一つは結合対象に対してホウ素原子を介して結合する含ホウ素基である。ｍが１以上のとき、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよい。また、２つのＲ７は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ６同士、Ｒ７同士、並びに、Ｒ６及びＲ７は、互いに結合して環を形成していてもよい。］
    ［式（２－３）中、Ｒ４、Ｒ５、ｍ、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ前記と同義である。なお、波線は、波線に結合する二重結合がシス及びトランスのいずれであってもよいことを示す。］
JP2020548619A 2018-09-19 2019-09-19 含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法 Active JP7389490B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018174979 2018-09-19
JP2018174979 2018-09-19
PCT/JP2019/036830 WO2020059824A1 (ja) 2018-09-19 2019-09-19 含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2020059824A1 JPWO2020059824A1 (ja) 2021-11-04
JP7389490B2 true JP7389490B2 (ja) 2023-11-30

Family

ID=69887162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020548619A Active JP7389490B2 (ja) 2018-09-19 2019-09-19 含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7389490B2 (ja)
CN (1) CN112714767A (ja)
WO (1) WO2020059824A1 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010534240A (ja) 2007-07-23 2010-11-04 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニバーシティ オブ イリノイ ボロン酸の反応性の調節系

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2011280890B2 (en) * 2010-07-23 2014-07-31 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Apparatus and methods for the automated synthesis of small molecules

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010534240A (ja) 2007-07-23 2010-11-04 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニバーシティ オブ イリノイ ボロン酸の反応性の調節系

Non-Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Angew. Chem. Int. Ed.，2017年，Vol.56，p.7525-7530
Chemical Communications，Vol.55，2019年08月，p.10527-10530
Chemistry - A European Journal，2011年，Vol. 17，No. 49，Pages 13670-13675，DOI: 10.1002/chem.201101624
Chemistry - A European Journal，2018年，Vol. 24，No. 40，Pages 10044-10048，DOI: 10.1002/chem.201802084
J. Med. Chem.，2010年，Vol.53，p.7967-7978
Nat Chem.，2014年，Vol.6, No.6，p.484-491 (pages 1-16)
Org. Lett.，2015年，Vol.17，p.1708-1711
Organic Letters，2015年，Vol.17，p.948-951, Supporting Information(S1-S4)

Also Published As

Publication number Publication date
CN112714767A (zh) 2021-04-27
JPWO2020059824A1 (ja) 2021-11-04
WO2020059824A1 (ja) 2020-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI457176B (zh) 使用非貴金屬作為催化劑以製備單矽氫化產物之方法及其製得之組合物
Ishiyama et al. Platinum (0)-catalyzed diboration of alkynes with tetrakis (alkoxo) diborons: an efficient and convenient approach to cis-bis (boryl) alkenes
Fogler et al. New CNN-type ruthenium pincer NHC complexes. Mild, efficient catalytic hydrogenation of esters
Verlinden et al. Converting a perimidine derivative to a cationic N-heterocyclic carbene
Wu et al. Palladium Catalyzed Selective B (3)–H Activation/Oxidative Dehydrogenative Coupling for the Synthesis of Bis (o-carborane) s
Liu et al. Catalytic addition of alcohols to carbodiimides mediated by benzimidazolin-2-iminato actinide complexes
US8513465B2 (en) Potassium organotrifluoroborate derivative and a production method therefor
US10258976B2 (en) Precatalysts and process for the metal-free functionalization of SP2 carbons using the same
JP7389490B2 (ja) 含ホウ素共役ポリエン化合物及びその製造方法、並びに、共役ポリエン化合物の製造方法
Antonioli et al. Interaction of copper (II) and palladium (II) with linked 2, 2′-dipyridylamine derivatives: Synthetic and structural studies
Štěpnička et al. Preparation, structure and catalytic activity of palladium (II) complexes with a carboxyferrocenylphosphine and an ortho-metallated C, N-ligand
Zhou et al. An organoantimony nitrate complex with azastibocine framework as water tolerant Lewis acid catalyst for the synthesis of 1, 2‐disubstitued benzimidazoles
US9209409B2 (en) Naphthobisthiadiazole derivative
US10821429B2 (en) Precatalysts and process for the metal-free functionalization of SP2 carbons using the same
Rangel Salas et al. Synthesis, structure, spectroscopy, and reactivity of half-open rhodocenium and iridocenium with oxodienyl ligands
Sivaramakrishna et al. Novel reactivity aspects of cis-bis (1-alkenyl) platinum (II) compounds of the type Pt (CH2 (CH2) nCHCH2) 2L2 (where L2= dppp, dppe, dppm and n= 1, 2)
Urbala et al. Solvent-free Ru-catalyzed isomerization of allyloxyalcohols: Methods for highly selective synthesis of 1-propenyloxyalcohols
Liu et al. Reactions of hydrogen with ruthenium and osmium complexes containing tridentate ligands Cy2PCH2CH (CH2) 2PCy2 and 2, 6-(Ph2PCH2) 2C6H3
KR101614887B1 (ko) 알코올과 함질소 화합물로부터 아미드 및 이미드를 제조하는 방법
Matos et al. Palladium complexes based on tridentate pyrazolyl-ligands: Synthesis, structures and use in Suzuki cross-coupling reactions
Wang et al. Synthesis of rare earth metal complexes incorporating amido and enolate mixed ligands: Characterization and reactivity
CN114026100A (zh) 含硼化合物及其制造方法
FR2996846A1 (fr) Procede de preparation de formamidines
TW201030014A (en) Process for the preparation of organo-oxazaborolidines
JP2011183366A (ja) Ｃ−ｃカップリング反応用触媒組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A529 Written submission of copy of amendment under article 34 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A5211

Effective date: 20210302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20210302

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230704

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230831

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231110

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7389490

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150