JP7386452B2 - 光学素子の製造方法、及び光学素子製造装置 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る光学素子1の製造方法Mの概要を説明するための図である。光学素子1は、例えば、表面が非球面状の非球面光学素子であり、大型望遠鏡で使用される鏡である。製造方法Mは、平坦面を有する光学材料2を研磨することにより、表面が非球面状の光学素子1を製造するための方法である。
上述のとおり、光学材料2には、複数の切り欠き21が形成される。切り欠き21は、光学材料2における切断位置Cよりも外側の領域に形成される。具体的には、切り欠き21は、切断位置Cよりも外側の位置と、光学材料2の外周上の位置とを結ぶ線に沿う方向において延伸している。より具体的には、切り欠き21は、光学材料2の外周に接する線と直交する方向において延伸している。切り欠き21は、光学材料2の内部に生じる残留応力を解放するために形成されている。
図4は、光学素子製造装置Sの構成を模式的に示す図である。光学素子製造装置Sは、光学素子1の輪郭線に対応する切断位置Cで光学材料2を切断することにより光学素子1を製造するための装置である。図4(a)は、光学素子製造装置Sを側方から見た状態を示す図である。図4(b)は、光学素子製造装置Sに載置された光学材料2に切り欠き21が形成された状態を示す図である。
図5は、光学素子1を製造する工程を示すフローチャートである。以下、図5を参照しながら、光学素子1の製造方法を詳細に説明する。
図6は、円形状の光学材料に切り欠きを形成することによる効果を説明するための図である。図6において、濃淡がひずみの大きさに対応しており、色がうすいほど、ひずみが大きく、色が濃いほど、ひずみが小さいことを示す。図6(a)は、比較例としての切り欠きが形成されていない円形状の光学材料におけるひずみの分布を示す図である。図6(b)は、実施例1としての6方向に切り欠きが形成されている円形状の光学材料におけるひずみの分布を示す図である。図6(c)は、実施例2としての4方向に切り欠きが形成されている円形状の光学材料におけるひずみの分布を示す図である。
以上説明したように、製造方法Mにおいては、切り欠き形成工程において、光学材料2における切断位置Cよりも外側の領域に切り欠き21を形成する。その後、研磨工程において、光学材料2を研磨する。その後、切断位置Cで光学材料2を切断することにより光学素子1を製造する。
2 光学材料
21 切り欠き
S 光学素子製造装置
10 土台
11 内側支持体
12 外側支持体
13 研磨パッド
14 切断部
8 光学素子
9 光学材料
Claims (7)
- 光学素子の輪郭線に対応する切断位置で光学材料を切断することにより前記光学素子を製造する方法であって、
前記光学材料における前記切断位置よりも外側の領域において、前記切断位置よりも外側の位置と、前記光学材料の外周上の位置とを結ぶ線に沿って前記光学材料を切断することにより切り欠きを形成する切り欠き形成工程と、
前記切り欠き形成工程の後に前記光学材料を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程の後に、前記切断位置で前記光学材料を切断する切断工程と、
を有し、
前記切り欠きは、前記光学材料の前記外周から内側に向けて形成された凹部である光学素子の製造方法。 - 光学素子の輪郭線に対応する切断位置で光学材料を切断することにより前記光学素子を製造する方法であって、
前記光学材料における前記切断位置よりも外側の領域に、前記光学材料の外周に接する線と直交する方向に切り欠きを形成する切り欠き形成工程と、
前記切り欠き形成工程の後に前記光学材料を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程の後に、前記切断位置で前記光学材料を切断する切断工程と、
を有し、
前記切り欠きは、前記光学材料の前記外周から内側に向けて形成された凹部である光学素子の製造方法。 - 光学素子の輪郭線に対応する切断位置で光学材料を切断することにより前記光学素子を製造する方法であって、
前記光学材料における前記切断位置よりも外側の領域に、前記光学材料の中心点を通る直線に対して線対称となる複数の位置に複数の切り欠きを形成する切り欠き形成工程と、
前記切り欠き形成工程の後に前記光学材料を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程の後に、前記切断位置で前記光学材料を切断する切断工程と、
を有し、
前記切り欠きは、前記光学材料の外周から内側に向けて形成された凹部である光学素子の製造方法。 - 前記切り欠き形成工程において複数の前記切り欠きを形成し、
前記研磨工程において、前記複数の切り欠きの間の領域を少なくとも1つの支持体で支持した状態で前記光学材料を研磨する、
請求項1から3のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。 - 光学素子の輪郭線に対応する切断位置で光学材料を切断することにより前記光学素子を製造するための光学素子製造装置であって、
前記光学材料における前記切断位置よりも外側の領域において、前記切断位置よりも外側の位置と、前記光学材料の外周上の位置とを結ぶ線に沿って前記光学材料を切断することにより前記光学材料に切り欠きを形成する切断部と、
前記光学材料における少なくとも前記切断位置の内側の領域を研磨する研磨部と、
を有し、
前記切り欠きは、前記光学材料の前記外周から内側に向けて形成された凹部である光学素子製造装置。 - 光学素子の輪郭線に対応する切断位置で光学材料を切断することにより前記光学素子を製造するための光学素子製造装置であって、
前記光学材料における前記切断位置よりも外側の領域の一部を切断することにより、前記光学材料における前記光学材料の外周に接する線と直交する方向に切り欠きを形成する切断部と、
前記光学材料における少なくとも前記切断位置の内側の領域を研磨する研磨部と、
を有し、
前記切り欠きは、前記光学材料の前記外周から内側に向けて形成された凹部である光学素子製造装置。 - 光学素子の輪郭線に対応する切断位置で光学材料を切断することにより前記光学素子を製造するための光学素子製造装置であって、
前記光学材料における前記切断位置よりも外側の領域の一部を切断することにより、前記光学材料における前記光学材料の中心点を通る直線に対して線対称となる複数の位置に複数の切り欠きを形成する切断部と、
前記光学材料における少なくとも前記切断位置の内側の領域を研磨する研磨部と、
を有し、
前記切り欠きは、前記光学材料の外周から内側に向けて形成された凹部である光学素子製造装置。
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