JP7381912B2 - Method for producing fluorine-containing aromatic compound - Google Patents

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Description

本開示は、フッ素含有芳香族化合物の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method for producing a fluorine-containing aromatic compound.

次世代エッチングガス等として期待されるパーフルオロトルエンに代表されるフッ素含有芳香族化合物の製造方法としては、例えば、1~5質量%のテトラキス(ジエチルアミノ)ホスホニウム塩を触媒として用いて、1.2~1.4当量のアルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物により、ハロゲン化芳香族化合物のフッ素化を行うことが知られている(特許文献1参照)。 As a method for producing a fluorine-containing aromatic compound represented by perfluorotoluene, which is expected to be used as a next-generation etching gas, for example, 1.2% by mass of tetrakis(diethylamino)phosphonium salt is used as a catalyst. It is known to fluorinate a halogenated aromatic compound with ~1.4 equivalents of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride (see Patent Document 1).

ロシア国特許公告第2157800号Russian Patent Publication No. 2157800

本開示は、フッ素含有芳香族化合物を効率よく製造することができる新規な方法を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a novel method that can efficiently produce fluorine-containing aromatic compounds.

本開示は、以下の構成を包含する。 The present disclosure includes the following configurations.

項1.一般式(1): Item 1. General formula (1):

Figure 0007381912000001
Figure 0007381912000001

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは1~6の整数を示す。n1は1~6の整数を示す。ただし、n≧n1であり、且つ、nが2~6の整数である場合、n1は2~6の整数を示す。]
で表される化合物の製造方法であって、
窒素含有有機化合物を含む溶媒中で、
アルキル基を1個以上有するホスホニウム塩の存在下に、
一般式(2):
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 1 to 6. n1 represents an integer from 1 to 6. However, when n≧n1 and n is an integer from 2 to 6, n1 represents an integer from 2 to 6. ]
A method for producing a compound represented by
In a solvent containing a nitrogen-containing organic compound,
In the presence of a phosphonium salt having one or more alkyl groups,
General formula (2):

Figure 0007381912000002
Figure 0007381912000002

[式中、R、X及びnは前記に同じである。]
で表される化合物と、
金属フッ化物とを反応させ、nが2以上の整数である場合は2個以上のXをフッ素化させて、上記一般式(1)で表される化合物を生成させる工程
を備える、製造方法。
[In the formula, R 1 , X 1 and n are the same as above. ]
A compound represented by
A manufacturing method comprising the step of reacting with a metal fluoride and fluorinating two or more X 1 when n is an integer of 2 or more to produce a compound represented by the above general formula (1). .

項2.水分量が700質量ppm以下である系中で前記フッ素化を行う、項1に記載の製造方法。 Item 2. Item 2. The manufacturing method according to Item 1, wherein the fluorination is performed in a system having a water content of 700 mass ppm or less.

項3.前記nが3~6の整数である、請求項1又は2に記載の製造方法。 Item 3. The manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein the n is an integer of 3 to 6.

項4.前記金属フッ化物が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物である、項1~3のいずれか1項に記載の製造方法。 Item 4. Item 4. The manufacturing method according to any one of Items 1 to 3, wherein the metal fluoride is an alkali metal or alkaline earth metal fluoride.

項5.ジフルオロベンゾトリフルオリドと、クロロフルオロベンゾトリフルオリド、ブロモフルオロベンゾトリフルオリド及びヨードフルオロベンゾトリフルオリドよりなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドとを含有する、組成物。 Item 5. A composition containing difluorobenzotrifluoride and at least one halogenated fluorobenzotrifluoride selected from the group consisting of chlorofluorobenzotrifluoride, bromofluorobenzotrifluoride, and iodofluorobenzotrifluoride.

項6.前記組成物の総量を100モル%として、前記ジフルオロベンゾトリフルオリドの含有量が60.0~99.9モル%であり、前記ハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドの含有量が0.1~40.0モル%である、項5に記載の組成物。 Item 6. When the total amount of the composition is 100 mol%, the content of the difluorobenzotrifluoride is 60.0 to 99.9 mol%, and the content of the halogenated fluorobenzotrifluoride is 0.1 to 40.0 mol%. The composition according to item 5, which is mol %.

項7.有機合成用溶媒、農薬中間体又は医薬中間体として用いられる、項5又は6に記載の組成物。 Section 7. Item 7. The composition according to item 5 or 6, which is used as a solvent for organic synthesis, an agricultural chemical intermediate, or a pharmaceutical intermediate.

項8.ペンタフルオロベンゾトリフルオリドと、クロロテトラフルオロベンゾトリフルオリド、ブロモテトラフルオロベンゾトリフルオリド、ヨードテトラフルオロベンゾトリフルオリド、ジクロロトリフルオロベンゾトリフルオリド、ジブロモトリフルオロベンゾトリフルオリド、ジヨードトリフルオロベンゾトリフルオリド、トリクロロジフルオロベンゾトリフルオリド、トリブロモジフルオロベンゾトリフルオリド、トリヨードジフルオロベンゾトリフルオリド、テトラクロロフルオロベンゾトリフルオリド、テトラブロモフルオロベンゾトリフルオリド、及びテトラヨードフルオロベンゾトリフルオリドよりなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドとを含有する、組成物。 Section 8. Pentafluorobenzotrifluoride, chlorotetrafluorobenzotrifluoride, bromotetrafluorobenzotrifluoride, iodotetrafluorobenzotrifluoride, dichlorotrifluorobenzotrifluoride, dibromotrifluorobenzotrifluoride, diiodotrifluorobenzotrifluoride, At least one member selected from the group consisting of trichlorodifluorobenzotrifluoride, tribromodifluorobenzotrifluoride, triiododifluorobenzotrifluoride, tetrachlorofluorobenzotrifluoride, tetrabromofluorobenzotrifluoride, and tetraiodofluorobenzotrifluoride and a halogenated fluorobenzotrifluoride.

項9.前記組成物の総量を100モル%として、前記ペンタフルオロベンゾトリフルオリドの含有量が60.0~99.9モル%であり、前記ハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドの含有量が0.1~40.0モル%である、項8に記載の組成物。 Item 9. When the total amount of the composition is 100 mol%, the content of the pentafluorobenzotrifluoride is 60.0 to 99.9 mol%, and the content of the halogenated fluorobenzotrifluoride is 0.1 to 40. The composition according to item 8, wherein the composition is 0 mol%.

項10.エッチングガス又はクリーニングガスとして用いられる、項8又は9に記載の組成物。 Item 10. Item 10. The composition according to item 8 or 9, which is used as an etching gas or a cleaning gas.

本開示によれば、フッ素含有芳香族化合物を効率よく製造することができる新規な方法を提供することができる。 According to the present disclosure, a novel method that can efficiently produce a fluorine-containing aromatic compound can be provided.

本明細書において、「含有」は、「含む(comprise)」、「実質的にのみからなる(consist essentially of)」、及び「のみからなる(consist of)」のいずれも包含する概念である。 In this specification, "contain" is a concept that includes all of "comprise," "consist essentially of," and "consist of."

また、本明細書において、数値範囲を「A~B」で示す場合、A以上B以下を意味する。 Furthermore, in this specification, when a numerical range is expressed as "A to B", it means greater than or equal to A and less than or equal to B.

本開示において、「選択率」とは、反応器出口からの流出ガスにおける原料化合物以外の化合物の合計モル量に対する、当該流出ガスに含まれる目的化合物の合計モル量の割合(モル%)を意味する。 In the present disclosure, "selectivity" means the ratio (mol%) of the total molar amount of target compounds contained in the outflow gas to the total molar amount of compounds other than the raw material compounds in the outflow gas from the reactor outlet. do.

本開示において、「転化率」とは、反応器に供給される原料化合物のモル量に対する、反応器出口からの流出ガスに含まれる原料化合物以外の化合物の合計モル量の割合(モル%)を意味する。 In the present disclosure, "conversion rate" refers to the ratio (mol%) of the total molar amount of compounds other than the raw material compound contained in the outflow gas from the reactor outlet to the molar amount of the raw material compound supplied to the reactor. means.

本開示において、「収率」とは、反応器に供給される原料化合物のモル量に対する、反応器出口からの流出ガスに含まれる目的化合物の合計モル量の割合(モル%)を意味する。 In the present disclosure, "yield" means the ratio (mol %) of the total molar amount of target compounds contained in the outflow gas from the reactor outlet to the molar amount of the raw material compound supplied to the reactor.

特許文献1には、1~5質量%のテトラキス(ジエチルアミノ)ホスホニウム塩を触媒として用いて、1.2~1.4当量のアルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物(特にフッ化カリウム)により、ハロゲン化芳香族化合物のフッ素化を行うことが記載されているが、このうち、テトラキス(ジエチルアミノ)ホスホニウム塩は市販されておらず、合成コストがかかるため実用的な方法ではないため、フッ素含有芳香族化合物を製造することができる新規な方法が求められている。 Patent Document 1 discloses that 1 to 5% by mass of tetrakis(diethylamino)phosphonium salt is used as a catalyst, and 1.2 to 1.4 equivalents of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride (particularly potassium fluoride) is used. , it has been described that fluorination of halogenated aromatic compounds is carried out, but among these, tetrakis(diethylamino)phosphonium salt is not commercially available and is not a practical method due to high synthesis cost, so fluorine-containing There is a need for new methods by which aromatic compounds can be produced.

本開示によれば、アルキル基を1個以上有するホスホニウム塩の存在下に、特定のハロゲン化芳香族化合物と金属フッ化物とを反応させる方法において、所望の反応条件(特定の溶媒を使用したり、系中の水分量を特定範囲に調整したり、特定の基質を採用したり、特定のホスホニウム塩を採用したりすること)により、ハロゲン化芳香族化合物中のフッ素以外のハロゲン原子を全てフッ素化させてフッ素含有芳香族化合物を効率よく製造することができ、特に、高転化率、高選択率、高収率でフッ素含有芳香族化合物を製造することができる。 According to the present disclosure, in a method of reacting a specific halogenated aromatic compound and a metal fluoride in the presence of a phosphonium salt having one or more alkyl groups, desired reaction conditions (using a specific solvent, , adjusting the water content in the system to a specific range, using a specific substrate, or using a specific phosphonium salt), all halogen atoms other than fluorine in the halogenated aromatic compound are converted to fluorine. fluorine-containing aromatic compounds can be produced efficiently, and in particular, fluorine-containing aromatic compounds can be produced with high conversion rate, high selectivity, and high yield.

1.フッ素含有芳香族化合物の製造方法(その1)
本開示の第1の態様に係る製造方法は、
一般式(1):
1. Method for producing fluorine-containing aromatic compound (Part 1)
The manufacturing method according to the first aspect of the present disclosure includes:
General formula (1):

Figure 0007381912000003
Figure 0007381912000003

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは1~6の整数を示す。n1は1~6の整数を示す。ただし、n≧n1であり、且つ、nが2~6の整数である場合、n1は2~6の整数を示す。]
で表される化合物の製造方法であって、
窒素含有有機化合物を含む溶媒中で、
アルキル基を1個以上有するホスホニウム塩の存在下に、
一般式(2):
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 1 to 6. n1 represents an integer from 1 to 6. However, when n≧n1 and n is an integer from 2 to 6, n1 represents an integer from 2 to 6. ]
A method for producing a compound represented by
In a solvent containing a nitrogen-containing organic compound,
In the presence of a phosphonium salt having one or more alkyl groups,
General formula (2):

Figure 0007381912000004
Figure 0007381912000004

[式中、R、X及びnは前記に同じである。]
で表される化合物と、
金属フッ化物とを反応させ、nが2以上の整数である場合は2個以上のXをフッ素化させて、上記一般式(1)で表される化合物を生成させる工程
を備える。
[In the formula, R 1 , X 1 and n are the same as above. ]
A compound represented by
The method includes a step of reacting with a metal fluoride and, when n is an integer of 2 or more, fluorinating two or more X 1 to produce a compound represented by the above general formula (1).

(1-1)出発化合物(一般式(2))
本開示の第1の態様の製造方法において、一般式(2)で表される化合物は、一般式(2):
(1-1) Starting compound (general formula (2))
In the manufacturing method of the first aspect of the present disclosure, the compound represented by general formula (2) is:

Figure 0007381912000005
Figure 0007381912000005

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは1~6の整数を示す。]
で表される化合物である。
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 1 to 6. ]
It is a compound represented by

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基としては、特に制限されず、例えばアルキル基、アリール基等、さらにはこれらが任意に組み合わされてなる基(例えば、アラルキル基、アルキルアリール基、アルキルアラルキル基)等が挙げられる。 In general formula (2), the hydrocarbon group represented by R 1 is not particularly limited, and includes, for example, an alkyl group, an aryl group, and a group formed by any combination of these groups (for example, an aralkyl group, an alkylaryl group, etc.). group, alkylaralkyl group), and the like.

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基としてのアルキル基には、直鎖状、分岐鎖状、又は環状(好ましくは直鎖状又は分枝鎖状、より好ましくは直鎖状)のいずれのものも包含される。該アルキル基(直鎖状又は分枝鎖状の場合)の炭素数は、特に制限されず、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、例えば1~20が好ましく、3~15がより好ましく、5~10がさらに好ましい。該アルキル基(環状の場合)の炭素数は、特に制限されず、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、例えば、3~8が好ましく、4~7がより好ましい。 In general formula (2), the alkyl group as a hydrocarbon group represented by R 1 may be linear, branched, or cyclic (preferably linear or branched, more preferably linear). ) are included. The number of carbon atoms in the alkyl group (in the case of a linear or branched chain) is not particularly limited, and the number of carbon atoms in the alkyl group (in the case of a linear or branched chain) is not particularly limited, and the number of carbon atoms in the alkyl group is not particularly limited. From the viewpoint of the yield of the represented compound, etc., the number is preferably from 1 to 20, more preferably from 3 to 15, and even more preferably from 5 to 10. The number of carbon atoms in the alkyl group (if cyclic) is not particularly limited, and depends on the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by general formula (1), and the yield of the compound represented by general formula (1). From the viewpoint of the like, for example, 3 to 8 is preferable, and 4 to 7 is more preferable.

該アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、3-メチルペンチル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。 Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group. , n-hexyl group, 3-methylpentyl group, n-heptyl group, n-octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and the like.

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基としてのアリール基は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、炭素数が6~20のものが好ましく、6~12のものがより好ましく、6~10のものがさらに好ましい。該アリール基は、単環式又は多環式(例えば2環式、3環式等)のいずれでも有り得るが、好ましくは単環式である。 In the general formula (2), the aryl group as a hydrocarbon group represented by R 1 is not particularly limited, but the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the selectivity of the compound represented by the general formula (1), etc. From the viewpoint of yield etc. of the compound represented by, those having 6 to 20 carbon atoms are preferred, those having 6 to 12 carbon atoms are more preferred, and those having 6 to 10 carbon atoms are even more preferred. The aryl group may be monocyclic or polycyclic (eg, bicyclic, tricyclic, etc.), but is preferably monocyclic.

該アリール基としては、具体的には、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ペンタレニル基、インデニル基、アントラニル基、テトラセニル基、ペンタセニル基、ピレニル基、ペリレニル基、フルオレニル基、フェナントリル基等が挙げられる。 Specific examples of the aryl group include phenyl group, naphthyl group, biphenyl group, pentalenyl group, indenyl group, anthranyl group, tetracenyl group, pentacenyl group, pyrenyl group, perylenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, etc. It will be done.

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基としてのアラルキル基は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、例えば直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1~6(好ましくは1~3)のアルキル基の水素原子(例えば1~3つ、好ましくは1つの水素原子)が上記アリール基に置換されてなるアラルキル基等が挙げられる。 In general formula (2), the aralkyl group as a hydrocarbon group represented by R 1 is not particularly limited, but the conversion rate of reaction, selectivity of the compound represented by general formula (1), general formula (1) From the viewpoint of the yield of the compound represented by Examples thereof include an aralkyl group in which one hydrogen atom) is substituted with the above aryl group.

該アラルキル基としては、具体的には、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。 Specific examples of the aralkyl group include benzyl group and phenethyl group.

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基としてのアルキルアリール基は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、例えば上記アリール基の水素原子(例えば1~3つ、好ましくは1つの水素原子)が、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1~6(好ましくは1~2)のアルキル基に置換されてなるアルキルアリール基等が挙げられる。 In the general formula (2), the alkylaryl group as a hydrocarbon group represented by R 1 is not particularly limited, but the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the selectivity of the compound represented by the general formula (1 ) From the viewpoint of the yield of the compound represented by Examples include alkylaryl groups substituted with (preferably 1 to 2) alkyl groups.

該アルキルアリール基としては、具体的には、例えばトリル基、キシリル基等が挙げられる Specific examples of the alkylaryl group include tolyl group and xylyl group .

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基としてのアルキルアラルキル基は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、例えば上記アラルキル基の芳香環上の水素原子(例えば1~3つ、好ましくは1つの水素原子)が、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1~6(好ましくは1~2)のアルキル基に置換されてなるアルキルアラルキル基等が挙げられる。 In the general formula (2), the alkylaralkyl group as a hydrocarbon group represented by R 1 is not particularly limited, but the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the selectivity of the compound represented by the general formula (1 ) From the viewpoint of the yield of the compound represented by Examples include alkylaralkyl groups substituted with 1 to 6 (preferably 1 to 2) alkyl groups.

一般式(2)において、Rで示される炭化水素基の置換基としては、例えばアルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。該置換基の数としては、特に制限されず、例えば0~6個が好ましく、0~3個がより好ましく、0~1個がさらに好ましい。 In general formula (2), examples of the substituent for the hydrocarbon group represented by R 1 include an alkoxy group and a halogen atom. The number of substituents is not particularly limited, and is preferably 0 to 6, more preferably 0 to 3, and even more preferably 0 to 1.

上記炭化水素基の置換基としてのアルコキシ基としては、特に制限はなく、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)等で置換されていてもよい直鎖状又は分岐鎖状(好ましくは直鎖状)の炭素数1~8、好ましくは1~5、より好ましくは1~3のアルコキシ基が挙げられる。置換基の数は特に制限はなく、例えば0~6個が好ましく、0~3個がより好ましく、0~1個がさらに好ましい。 The alkoxy group as a substituent for the above hydrocarbon group is not particularly limited, and is a straight chain or branched chain that may be substituted with a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), etc. (preferably linear) alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, and more preferably 1 to 3 carbon atoms. The number of substituents is not particularly limited, and is preferably 0 to 6, more preferably 0 to 3, and even more preferably 0 to 1.

このような置換されていてもよいアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、パーフルオロメトキシ基、パーフルオロエトキシ基等が挙げられる。 Examples of such optionally substituted alkoxy groups include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, per Examples include fluoromethoxy group and perfluoroethoxy group.

上記炭化水素基の置換基としてのハロゲン原子としては、特に制限は無く、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 The halogen atom as a substituent for the above-mentioned hydrocarbon group is not particularly limited and includes, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.

一般式(2)において、Rで示されるパーフルオロアルキル基は、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を意味する。 In general formula (2), the perfluoroalkyl group represented by R 1 means an alkyl group in which all hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.

パーフルオロアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれも採用することができる。なかでも、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、直鎖状パーフルオロアルキル基が好ましい。 The perfluoroalkyl group can be linear, branched, or cyclic. Among these, linear perfluoroalkyl groups are preferred from the viewpoints of reaction conversion rate, selectivity of the compound represented by general formula (1), yield of the compound represented by general formula (1), and the like.

このパーフルオロアルキル基の炭素数は、特に制限されるわけではないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、1~5が好ましく、1~4がより好ましく、1~3がさらに好ましい。 The number of carbon atoms in this perfluoroalkyl group is not particularly limited, but it depends on the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), and the yield of the compound represented by the general formula (1). From the viewpoint of rate etc., the number is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.

このようなパーフルオロアルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタクルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられる。 Specific examples of such perfluoroalkyl groups include trifluoromethyl, pentafluoroethyl, and heptafluoropropyl groups.

一般式(2)において、Xで示されるフッ素原子以外のハロゲン原子としては、特に制限はなく、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 In the general formula (2), the halogen atom other than the fluorine atom represented by X 1 is not particularly limited, and examples thereof include a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.

一般式(2)において、Xの置換数であるnは特に制限はなく、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、1~6が好ましく、2~6、3~6、4~6、5~6等とすることもできる。 In general formula (2), n, which is the number of substitutions for From the viewpoint of yield, etc., the number is preferably 1 to 6, and may also be 2 to 6, 3 to 6, 4 to 6, 5 to 6, etc.

なお、Xの置換数であるnが3~6である場合、一般式(2)で表される化合物は、一般式(2A): In addition, when n, which is the number of substitutions for X, is 3 to 6, the compound represented by general formula (2) has general formula (2A):

Figure 0007381912000006
Figure 0007381912000006

[式中、R及びXは前記に同じである。nは3~6の整数を示す。]
で表される化合物である。
[In the formula, R 1 and X 1 are the same as above. n represents an integer from 3 to 6. ]
It is a compound represented by

上記のような条件を満たす一般式(2)で表される化合物としては、具体的には、 Specifically, the compound represented by the general formula (2) that satisfies the above conditions is:

Figure 0007381912000007
Figure 0007381912000007

Figure 0007381912000008
Figure 0007381912000008

Figure 0007381912000009
Figure 0007381912000009

等が挙げられる。 etc.

上記の一般式(2)で表される化合物は、公知又は市販品を用いることができる。また、上記の一般式(2)で表される化合物は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 As the compound represented by the above general formula (2), publicly known or commercially available products can be used. Moreover, the compound represented by the above general formula (2) can be used alone or in combination of two or more types.

(1-2)反応
本開示の反応では、上記した一般式(2)で表される化合物において、フッ素以外のハロゲン原子であるXが、特定のホスホニウム塩の存在下において金属フッ化物によるフッ素化によって、フッ素原子に置換され、上記した一般式(1)で表される化合物が生成される。
(1-2) Reaction In the reaction of the present disclosure, in the compound represented by the above general formula (2), X 1 , which is a halogen atom other than fluorine, is fluorinated by a metal fluoride in the presence of a specific phosphonium salt. By this reaction, a compound substituted with a fluorine atom and represented by the above general formula (1) is produced.

この際、フッ素以外のハロゲン原子であるXが複数ある場合、つまり、一般式(2)におけるnが2以上の整数である場合は、そのうち2個以上(特に全て)がフッ素化された化合物が選択的に合成される。 In this case, if there are multiple X 1 atoms that are halogen atoms other than fluorine, that is, if n in general formula (2) is an integer of 2 or more, a compound in which two or more (especially all) of them are fluorinated. are selectively synthesized.

一方、上記した一般式(2)で表される化合物において、Rは、特定のホスホニウム塩の存在下において金属フッ化物によるフッ素化によっても反応することなく残存する。 On the other hand, in the compound represented by the above general formula (2), R 1 remains without reacting even after fluorination with a metal fluoride in the presence of a specific phosphonium salt.

この結果、一般式(1)で表される化合物が得られる。 As a result, a compound represented by general formula (1) is obtained.

この本開示の第1の態様の反応は、反応器中に原料を一括して仕込むバッチ式と、原料を反応器中に連続して供給しながら生成物を反応器から抜き出す流通式のいずれの方式でも採用できる。本開示の反応はそれほど速い反応ではないため、バッチ式を採用することが好ましい。 The reaction according to the first aspect of the present disclosure can be carried out using either a batch method in which raw materials are charged into a reactor all at once, or a flow method in which raw materials are continuously supplied into the reactor and products are extracted from the reactor. This method can also be adopted. Since the reaction of the present disclosure is not a very fast reaction, it is preferable to employ a batch method.

(1-3)ホスホニウム塩
本開示の第1の態様の製造方法で使用するホスホニウム塩は、アルキル基を1個以上有するホスホニウム塩である。
(1-3) Phosphonium salt The phosphonium salt used in the production method of the first aspect of the present disclosure is a phosphonium salt having one or more alkyl groups.

このホスホニウム塩は、例えば、一般式(3): This phosphonium salt, for example, has the general formula (3):

Figure 0007381912000010
Figure 0007381912000010

[式中、R、R、R及びRは同一又は異なって、炭化水素基を示す。ただし、R、R、R及びRのうち少なくとも1つはアルキル基である。Yは対アニオンを示す。]
で表されるホスホニウム塩が挙げられる。
[In the formula, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and represent a hydrocarbon group. However, at least one of R 3 , R 4 , R 5 and R 6 is an alkyl group. Y represents a counter anion. ]
Examples include phosphonium salts represented by:

一般式(3)において、R、R、R及びRで示される炭化水素基としては、上記したものが挙げられる。置換基の種類及び数も同様である。なお、R、R、R及びRは、中央部のリン原子とは炭素原子が結合する部位であることが好ましい。 In general formula (3), the hydrocarbon groups represented by R 3 , R 4 , R 5 and R 6 include those described above. The types and number of substituents are also the same. Note that R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are preferably sites to which a carbon atom is bonded to the phosphorus atom in the center.

ただし、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、R、R、R及びRのうち少なくとも1つ(1つ、2つ、3つ又は4つ)はアルキル基である。 However, from the viewpoint of the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by general formula (1), the yield of the compound represented by general formula (1), etc., R 3 , R 4 , R 5 and R 6 At least one (one, two, three or four) of them is an alkyl group.

また、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、R、R、R及びRとしては、アルキル基が好ましい。なかでも、R、R、R及びRのうち少なくとも1つ(1つ、2つ、3つ又は4つ)は炭素数1~20、好ましくは3~15、より好ましくは4~12、さらに好ましくは5~10のアルキル基が好ましい。特に、ホスホニウム塩が有するアルキル基の炭素数を多くすることで、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等を特に向上させ、不純物の生成量を特に低減することも可能である。 In addition, from the viewpoint of the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the yield of the compound represented by the general formula (1), etc., R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are alkyl groups. is preferred. Among them, at least one (1, 2, 3 or 4) of R 3 , R 4 , R 5 and R 6 has 1 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 15 carbon atoms, more preferably 4 to 15 carbon atoms. 12, more preferably 5 to 10 alkyl groups are preferred. In particular, by increasing the number of carbon atoms in the alkyl group of the phosphonium salt, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the yield of the compound represented by the general formula (1), etc. can be particularly improved, It is also possible to particularly reduce the amount of impurities produced.

一般式(3)において、Yで示される対アニオンとしては、特に制限はなく、様々なアニオンを採用することができ、例えば、ハロゲン化物イオン(フッ化物イオン(F)、塩化物イオン(Cl)、臭化物イオン(Br)、ヨウ化物イオン(I)等)、テトラフルオロホウ酸イオン(BF )、硫酸水素イオン(HSO )、酢酸イオン(CHCOO)、ヘキサフルオロリン酸イオン(PF )等が挙げられる。 In the general formula (3), the counter anion represented by Y is not particularly limited, and various anions can be employed, such as halide ions (fluoride ions (F - ), chloride ions (Cl - ), bromide ion (Br - ), iodide ion (I - ), etc.), tetrafluoroborate ion (BF 4 - ), hydrogen sulfate ion (HSO 4 - ), acetate ion (CH 3 COO - ), hexa Examples include fluorophosphate ion (PF 6 ).

以上のような条件を満たす一般式(3)で表される化合物としては、具体的には、 Specifically, the compound represented by the general formula (3) that satisfies the above conditions is as follows:

Figure 0007381912000011
Figure 0007381912000011

Figure 0007381912000012
Figure 0007381912000012

等が挙げられる。 etc.

これらのホスホニウム塩は、公知又は市販品を用いることができる。また、上記のホスホニウム塩は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 As these phosphonium salts, known or commercially available products can be used. Moreover, the above-mentioned phosphonium salts can be used alone or in combination of two or more kinds.

本開示の第1の態様の製造方法における反応において、ホスホニウム塩の使用量は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、一般式(2)で表される化合物1モルに対して、0.01~10モルが好ましく、0.1~5モルがより好ましく、1~2.5モルがさらに好ましい。なお、ホスホニウム塩を複数使用する場合は、その合計量を上記範囲内となるように調整することが好ましい。 In the reaction in the production method of the first aspect of the present disclosure, the amount of the phosphonium salt used is not particularly limited, but the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the selectivity of the compound represented by the general formula (1), etc. From the viewpoint of the yield of the compound represented by formula (2), the amount is preferably 0.01 to 10 mol, more preferably 0.1 to 5 mol, and 1 to 5 mol, per 1 mol of the compound represented by general formula (2). 2.5 mol is more preferred. In addition, when using multiple phosphonium salts, it is preferable to adjust the total amount so that it falls within the above range.

(1-4)金属フッ化物
金属フッ化物としては一般式(2)で表される化合物におけるフッ素以外のハロゲン原子をフッ素化できるものであれば特に制限はないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物が好ましく、アルカリ金属のフッ化物がより好ましい
このため、金属フッ化物を構成する金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等のアルカリ金属;マグネシウム、カルシウム、バリウム等のアルカリ土類金属等が挙げられる。これらの金属は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。
(1-4) Metal fluoride The metal fluoride is not particularly limited as long as it can fluorinate halogen atoms other than fluorine in the compound represented by the general formula (2), but the conversion rate of the reaction, the general formula From the viewpoint of the selectivity of the compound represented by (1) and the yield of the compound represented by general formula (1), fluorides of alkali metals or alkaline earth metals are preferable, and fluorides of alkali metals are more preferable. Preferable Therefore, examples of metals constituting the metal fluoride include alkali metals such as lithium, sodium, potassium, and cesium; alkaline earth metals such as magnesium, calcium, and barium. These metals can be used alone or in combination of two or more.

このような条件を満たす金属フッ化物としては、具体的には、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属フッ化物;フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等のアルカリ土類金属フッ化物等が挙げられる。なかでも、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属フッ化物が好ましく、フッ化カリウムがより好ましい。 Examples of metal fluorides that meet these conditions include alkali metal fluorides such as lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, and cesium fluoride; magnesium fluoride, calcium fluoride, and barium fluoride. Examples include alkaline earth metal fluorides such as. Among them, lithium fluoride, sodium fluoride, fluoride Alkali metal fluorides such as potassium and cesium fluoride are preferred, and potassium fluoride is more preferred.

これらの金属フッ化物は、公知又は市販品を用いることができる。また、上記の金属フッ化物は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 As these metal fluorides, publicly known or commercially available products can be used. Further, the above metal fluorides can be used alone or in combination of two or more.

本開示の第1の態様の製造方法における反応において、金属フッ化物の使用量は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、一般式(2)で表される化合物1モルに対して、0.01~30モルが好ましく、0.1~20モルがより好ましく、1~15モルがさらに好ましい。なお、金属フッ化物を複数使用する場合は、その合計量を上記範囲内となるように調整することが好ましい。 In the reaction in the production method of the first aspect of the present disclosure, the amount of metal fluoride used is not particularly limited, but the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the selectivity of the compound represented by the general formula (1), ) is preferably 0.01 to 30 mol, more preferably 0.1 to 20 mol, 1 to 1 mol of the compound represented by general formula (2). ˜15 mol is more preferred. In addition, when using multiple metal fluorides, it is preferable to adjust the total amount so that it falls within the above range.

(1-5)溶媒
本開示の第1の態様の製造方法における製造方法で使用する溶媒は、特に、一般式(2)で表される化合物、ホスホニウム塩、金属フッ化物等を溶解させ、また、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等に優れる観点から、窒素含有有機化合物を含む溶媒、好ましくは窒素含有極性溶媒を使用する。このような溶媒としては、例えば、アミド化合物(N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等)、アミン化合物(トリエチルアミン、1-メチルピロリジン等)、ピリジン化合物(ピリジン、メチルピリジン等)、キノリン化合物(キノリン、メチルキノリン等)等が挙げられる。なかでも、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、アミド化合物、ピリジン化合物等が好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、メチルピリジン等がより好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン等がさらに好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン等が特に好ましい。
(1-5) Solvent The solvent used in the manufacturing method of the first aspect of the present disclosure is particularly suitable for dissolving the compound represented by general formula (2), phosphonium salt, metal fluoride, etc. , a solvent containing a nitrogen-containing organic compound, preferably a nitrogen-containing organic compound, from the viewpoint of being excellent in the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the yield of the compound represented by the general formula (1), etc. Contains polar solvents. Examples of such solvents include amide compounds (N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diisopropylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1, 3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydropyrimidinone, hexamethylphosphoric acid triamide, etc.), amine compounds (triethylamine, 1-methylpyrrolidine, etc.), pyridine Examples include compounds (pyridine, methylpyridine, etc.), quinoline compounds (quinoline, methylquinoline, etc.), and the like. Among these, amide compounds, pyridine compounds, etc. are preferable from the viewpoint of reaction conversion rate, selectivity of the compound represented by general formula (1), yield of the compound represented by general formula (1), etc. , N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-diisopropylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4, 5,6-tetrahydropyrimidinone, hexamethylphosphoric acid triamide, pyridine, methylpyridine, etc. are more preferred, and N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-diisopropylformamide, N-methyl-2 -pyrrolidone, pyridine, etc. are more preferred, and N,N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, etc. are particularly preferred.

これらの溶媒は、公知又は市販品を使用することができる。また、これらの溶媒は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 For these solvents, known or commercially available products can be used. Further, these solvents can be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、溶媒量であれば特に制限はなく、過剰量とすることができ、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、一般式(2)で表される化合物100質量部に対して、80~10000質量部が好ましく、100~1000質量部がより好ましく、150~800質量部がさらに好ましい。 The amount of solvent to be used is not particularly limited as long as it is a solvent amount, and an excess amount can be used. From the viewpoint of the yield of the compound represented by general formula (2), the amount is preferably 80 to 10,000 parts by mass, more preferably 100 to 1,000 parts by mass, and 150 to 800 parts by mass. is even more preferable.

(1-6)反応温度
本開示の第1の態様の反応では、反応温度は、温和な条件とすることができ、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の収率、選択率等を向上させやすく、副生成物を低減しやすい観点から、通常0~400℃が好ましく、25~300℃がより好ましく、50~200℃がさらに好ましい。
(1-6) Reaction temperature In the reaction of the first aspect of the present disclosure, the reaction temperature can be set to mild conditions, and the conversion rate of the reaction, the yield of the compound represented by general formula (1), From the viewpoint of easily improving selectivity and reducing by-products, the temperature is usually preferably 0 to 400°C, more preferably 25 to 300°C, and even more preferably 50 to 200°C.

(1-7)反応時間
本開示の第1の態様の反応の反応時間(最高到達温度における維持時間)は反応が十分に進行する程度とすることができ、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、1分~48時間が好ましく、5分~24時間がより好ましい。
(1-7) Reaction time The reaction time (maintenance time at the highest temperature) of the reaction according to the first aspect of the present disclosure can be set to such an extent that the reaction sufficiently proceeds, and the conversion rate of the reaction and the general formula (1 ) From the viewpoint of the selectivity of the compound represented by formula (1), the yield of the compound represented by general formula (1), etc., the time is preferably 1 minute to 48 hours, and more preferably 5 minutes to 24 hours.

(1-8)反応圧力
本開示の第1の態様の反応の反応圧力は、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、-2~2MPaが好ましく、-1~1MPaがより好ましく、-0.5~0.5MPaがさらに好ましい。なお、本開示において、圧力については特に表記が無い場合はゲージ圧とする。
(1-8) Reaction Pressure The reaction pressure of the reaction of the first aspect of the present disclosure is determined by the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), and the selectivity of the compound represented by the general formula (1). From the viewpoint of yield etc., -2 to 2 MPa is preferable, -1 to 1 MPa is more preferable, and -0.5 to 0.5 MPa is even more preferable. Note that in this disclosure, unless otherwise specified, pressure is referred to as gauge pressure.

本開示の第1の態様の反応において、一般式(2)で表される化合物と金属フッ化物とを反応させる反応器としては、上記温度及び圧力に耐え得るものであれば、形状及び構造は特に限定されない。反応器としては、例えば、縦型反応器、横型反応器、多管型反応器等が挙げられる。反応器の材質としては、例えば、ガラス、ステンレス、鉄、ニッケル、鉄ニッケル合金等が挙げられる。 In the reaction of the first aspect of the present disclosure, the reactor for reacting the compound represented by general formula (2) with the metal fluoride may have any shape and structure as long as it can withstand the above temperature and pressure. Not particularly limited. Examples of the reactor include a vertical reactor, a horizontal reactor, and a multitubular reactor. Examples of the material of the reactor include glass, stainless steel, iron, nickel, and iron-nickel alloy.

(1-9)反応の例示
本開示の第1の態様における反応を行う際の雰囲気については、一般式(2)で表される化合物、ホスホニウム塩及び金属フッ化物の劣化を抑制する点から、不活性ガス雰囲気下が好ましい。
(1-9) Examples of reactions Regarding the atmosphere during the reaction in the first aspect of the present disclosure, from the viewpoint of suppressing deterioration of the compound represented by general formula (2), the phosphonium salt, and the metal fluoride, An inert gas atmosphere is preferred.

当該不活性ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン等が挙げられる。これらの不活性ガスのなかでも、コストを抑える観点から、窒素が好ましい。 Examples of the inert gas include nitrogen, helium, argon, and the like. Among these inert gases, nitrogen is preferred from the viewpoint of reducing costs.

本開示の第1の態様の製造方法では、系中の水分量は、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、700質量ppm以下が好ましく、0.1~650質量ppmがより好ましく、1~600質量ppmがさらに好ましく、10~500質量ppmが特に好ましい。なお、系中の水分量は、反応に使用した試薬(一般式(2)で表される化合物、ホスホニウム塩、金属フッ化物、溶媒等)の総量を100質量%として、反応系中に含まれる水分の合計量を意味する。また、系中の水分量を調整するため、反応系中に水を添加することも可能である。なお、本開示において、系中の水分量は、カールフィッシャー水分計により測定する。 In the production method of the first aspect of the present disclosure, the amount of water in the system is determined by the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by general formula (1), and the yield of the compound represented by general formula (1). From the viewpoint of rate etc., the amount is preferably 700 ppm by mass or less, more preferably 0.1 to 650 ppm by mass, even more preferably 1 to 600 ppm by mass, and particularly preferably 10 to 500 ppm by mass. The amount of water in the system is the amount of water contained in the reaction system, assuming that the total amount of the reagents (compound represented by general formula (2), phosphonium salt, metal fluoride, solvent, etc.) used in the reaction is 100% by mass. Means the total amount of water. Furthermore, water can be added to the reaction system in order to adjust the amount of water in the system. Note that in the present disclosure, the amount of water in the system is measured using a Karl Fischer moisture meter.

反応終了後は、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行い、一般式(1)で表される化合物を得ることができる。 After the reaction is completed, a compound represented by the general formula (1) can be obtained by performing a purification treatment according to a conventional method if necessary.

(1-10)目的化合物(一般式(1))
このようにして生成される目的化合物は、一般式(1):
(1-10) Target compound (general formula (1))
The target compound thus produced has the general formula (1):

Figure 0007381912000013
Figure 0007381912000013

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは1~6の整数を示す。n1は1~6の整数を示す。ただし、n≧n1であり、且つ、nが2~6の整数である場合、n1は2~6の整数を示す。]
で表される化合物である。
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 1 to 6. n1 represents an integer from 1 to 6. However, when n≧n1 and n is an integer from 2 to 6, n1 represents an integer from 2 to 6. ]
It is a compound represented by

一般式(1)において、R、X及びnは前記したとおりである。ただし、一般式(1)におけるXの数がn-n1個であるため、必然的にn≧n1である。また、nが2以上の整数である場合は2個以上のXがフッ素化されることが好ましいため、nが2~6の整数である場合、n1は2~6の整数を示す。 In general formula (1), R 1 , X 1 and n are as described above. However, since the number of X 1 in general formula (1) is n−n1, n≧n1 is necessarily satisfied. Further, when n is an integer of 2 or more, it is preferable that two or more X 1 are fluorinated, so when n is an integer of 2 to 6, n1 represents an integer of 2 to 6.

つまり、本開示で生成される目的化合物である一般式(1)で表される化合物は、具体的には、 That is, the compound represented by the general formula (1), which is the target compound produced in the present disclosure, is specifically:

Figure 0007381912000014
Figure 0007381912000014

Figure 0007381912000015
Figure 0007381912000015

Figure 0007381912000016
Figure 0007381912000016

等が挙げられる。 etc.

2.フッ素含有芳香族化合物の製造方法(その2)
本開示の第2の態様に係る製造方法は、一般式(1A):
2. Method for producing fluorine-containing aromatic compound (Part 2)
The manufacturing method according to the second aspect of the present disclosure is based on general formula (1A):

Figure 0007381912000017
Figure 0007381912000017

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは3~6の整数を示す。n1は2~6の整数を示す。ただし、n≧n1である。]
で表される化合物の製造方法であって、
アルキル基を1個以上有するホスホニウム塩の存在下に、
一般式(2):
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 3 to 6. n1 represents an integer from 2 to 6. However, n≧n1. ]
A method for producing a compound represented by
In the presence of a phosphonium salt having one or more alkyl groups,
General formula ( 2A ):

Figure 0007381912000018
Figure 0007381912000018

[式中、R、X及びnは前記に同じである。]
で表される化合物と、
金属フッ化物とを反応させ、2個以上のXをフッ素化させて、上記一般式(1A)で表される化合物を生成させる工程
を備える。
[In the formula, R 1 , X 1 and n are the same as above. ]
A compound represented by
The method includes a step of reacting with a metal fluoride to fluorinate two or more X 1 to produce a compound represented by the general formula (1A).

(2-1)出発化合物(一般式(2A))
本開示の第2の態様において、一般式(2A)で表される化合物は、一般式(2A):
(2-1) Starting compound (general formula (2A))
In the second aspect of the present disclosure, the compound represented by general formula (2A) is represented by general formula (2A):

Figure 0007381912000019
Figure 0007381912000019

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは3~6の整数を示す。]
で表される化合物である。
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 3 to 6. ]
It is a compound represented by

一般式(2A)において、Rで示される炭化水素基及びパーフルオロアルキル基、Xで示されるフッ素原子以外のハロゲン原子としては、上記「(1-1)出発化合物(一般式(2))」におけるRで示される炭化水素基及びパーフルオロアルキル基、Xで示されるフッ素原子以外のハロゲン原子の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In general formula (2A), the hydrocarbon group and perfluoroalkyl group represented by R 1 and the halogen atom other than the fluorine atom represented by X 1 include the above-mentioned “(1-1) starting compound (general formula (2) )", the explanation of the hydrocarbon group and perfluoroalkyl group represented by R 1 and the halogen atom other than the fluorine atom represented by X 1 can be adopted. Preferred types and specific examples are also the same.

一般式(2A)において、Xの置換数であるnは、反応の転化率、一般式(1A)で表される化合物の選択率、一般式(1A)で表される化合物の収率等の観点から、3~6であり、4~6、5~6等とすることもできる。 In the general formula (2A), n, which is the number of substitutions for X 1 , is the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1A), the yield of the compound represented by the general formula (1A), etc. From the point of view, it is 3 to 6, and can also be 4 to 6, 5 to 6, etc.

上記のような条件を満たす一般式(2A)で表される化合物としては、具体的には、 Specifically, the compound represented by the general formula (2A) that satisfies the above conditions is:

Figure 0007381912000020
Figure 0007381912000020

Figure 0007381912000021
Figure 0007381912000021

等が挙げられる。 etc.

(2-2)反応、ホスホニウム塩、金属フッ化物、溶媒、反応温度、反応時間、反応圧力及び反応の例示
本開示の第2の態様における反応は、上記「(1-2)反応」の説明を採用できる。
(2-2) Reaction, phosphonium salt, metal fluoride, solvent, reaction temperature, reaction time, reaction pressure, and reaction examples The reaction in the second aspect of the present disclosure is as described in "(1-2) Reaction" above. can be adopted.

本開示の第2の態様において、ホスホニウム塩は、上記「(1-3)ホスホニウム塩」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the explanation of "(1-3) phosphonium salt" above can be adopted as the phosphonium salt. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第2の態様において、金属フッ化物は、上記「(1-4)金属フッ化物」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the above description of "(1-4) metal fluoride" can be adopted as the metal fluoride. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第2の態様において、溶媒は、上記「(2-2)溶媒」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the explanation of "(2-2) solvent" above can be adopted as the solvent. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第2の態様において、反応温度は、上記「(1-6)反応温度」の説明を採用できる。好ましい範囲も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the reaction temperature can be as described in "(1-6) Reaction temperature" above. The same applies to preferred ranges.

本開示の第2の態様において、反応時間は、上記「(1-7)反応時間」の説明を採用できる。好ましい範囲も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the reaction time can be as described in "(1-7) Reaction time" above. The same applies to preferred ranges.

本開示の第2の態様において、反応圧力は、上記「(1-8)反応圧力」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the reaction pressure can be as described in "(1-8) Reaction pressure" above. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第2の態様において、反応の例示は、上記「(1-9)反応の例示」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the second aspect of the present disclosure, the explanation of "(1-9) Reaction example" above can be adopted as the reaction example. Preferred types and specific examples are also the same.

(2-3)溶媒
本開示の第2の態様における製造方法で使用する溶媒としては、特に制限されないが、特に、一般式(2A)で表される化合物、ホスホニウム塩、金属フッ化物等を溶解させ、また、反応の転化率、一般式(1A)で表される化合物の選択率、一般式(1A)で表される化合物の収率等に優れる観点から極性有機溶媒が好ましい。また、一般式(2A)で表される化合物、ホスホニウム塩、金属フッ化物等を溶解させ、また、反応の転化率、一般式(1A)で表される化合物の選択率、一般式(1A)で表される化合物の収率等に優れる観点から、窒素含有有機化合物を含む溶媒、好ましくは窒素含有極性溶媒がより好ましい。このような溶媒としては、例えば、アミド化合物(N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等)、アミン化合物(トリエチルアミン、1-メチルピロリジン等)、ピリジン化合物(ピリジン、メチルピリジン等)、キノリン化合物(キノリン、メチルキノリン等)等が挙げられる。なかでも、反応の転化率、一般式(1A)で表される化合物の選択率、一般式(1A)で表される化合物の収率等の観点から、アミド化合物、ピリジン化合物等が好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、メチルピリジン等がより好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン等がさらに好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン等が特に好ましい。
(2-3) Solvent The solvent used in the production method according to the second aspect of the present disclosure is not particularly limited, but particularly dissolves the compound represented by the general formula (2A), phosphonium salt, metal fluoride, etc. In addition, polar organic solvents are preferable from the viewpoint of being excellent in the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1A), the yield of the compound represented by the general formula (1A), etc. In addition, the compound represented by the general formula (2A), phosphonium salt, metal fluoride, etc. is dissolved, and the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by the general formula (1A), the general formula (1A) From the viewpoint of excellent yield of the compound represented by the above, a solvent containing a nitrogen-containing organic compound, preferably a nitrogen-containing polar solvent is more preferable. Examples of such solvents include amide compounds (N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diisopropylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1, 3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydropyrimidinone, hexamethylphosphoric acid triamide, etc.), amine compounds (triethylamine, 1-methylpyrrolidine, etc.), pyridine Examples include compounds (pyridine, methylpyridine, etc.), quinoline compounds (quinoline, methylquinoline, etc.), and the like. Among these, amide compounds, pyridine compounds, etc. are preferable from the viewpoint of reaction conversion rate, selectivity of the compound represented by general formula (1A), yield of the compound represented by general formula (1A), etc. , N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-diisopropylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4, 5,6-tetrahydropyrimidinone, hexamethylphosphoric acid triamide, pyridine, methylpyridine, etc. are more preferred, and N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-diisopropylformamide, N-methyl-2 -pyrrolidone, pyridine, etc. are more preferred, and N,N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, etc. are particularly preferred.

これらの溶媒は、公知又は市販品を使用することができる。また、これらの溶媒は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 For these solvents, known or commercially available products can be used. Further, these solvents can be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、溶媒量であれば特に制限はなく、過剰量とすることができ、反応の転化率、一般式(1A)で表される化合物の選択率、一般式(1A)で表される化合物の収率等の観点から、一般式(2A)で表される化合物100質量部に対して、80~10000質量部が好ましく、100~1000質量部がより好ましく、150~800質量部がさらに好ましい。 The amount of solvent to be used is not particularly limited as long as it is a solvent amount, and an excess amount can be used. From the viewpoint of the yield of the compound represented by general formula (2A), the amount is preferably 80 to 10,000 parts by mass, more preferably 100 to 1,000 parts by mass, and 150 to 800 parts by mass. is even more preferable.

(2-4)目的化合物(一般式(1A))
このようにして生成される目的化合物は、一般式(1A):
(2-4) Target compound (general formula (1A))
The target compound thus produced has the general formula (1A):

Figure 0007381912000022
Figure 0007381912000022

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは3~6の整数を示す。n1は2~6の整数を示す。ただし、n≧n1である。]
で表される化合物である。
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 3 to 6. n1 represents an integer from 2 to 6. However, n≧n1. ]
It is a compound represented by

一般式(1A)において、R、X及びn1は前記したとおりである。ただし、一般式(1)におけるXの数がn-n1個であるため、必然的にn≧n1である。 In general formula (1A), R 1 , X 1 and n1 are as described above. However, since the number of X 1 in general formula (1) is n−n1, n≧n1 is necessarily satisfied.

つまり、本開示で生成される目的化合物である一般式(1A)で表される化合物は、具体的には、 That is, the compound represented by the general formula (1A), which is the target compound produced in the present disclosure, is specifically:

Figure 0007381912000023
Figure 0007381912000023

Figure 0007381912000024
Figure 0007381912000024

等が挙げられる。 etc.

3.フッ素含有芳香族化合物の製造方法(その3)
本開示の第3の態様に係る製造方法は、一般式(1):
3. Method for producing fluorine-containing aromatic compound (Part 3)
The manufacturing method according to the third aspect of the present disclosure includes general formula (1):

Figure 0007381912000025
Figure 0007381912000025

[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは1~6の整数を示す。n1は1~6の整数を示す。ただし、n≧n1であり、且つ、nが2~6の整数である場合、n1は2~6の整数を示す。]
で表される化合物の製造方法であって、
炭素数3以上のアルキル基を1個以上有するホスホニウム塩の存在下に、
一般式(2):
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 1 to 6. n1 represents an integer from 1 to 6. However, when n≧n1 and n is an integer from 2 to 6, n1 represents an integer from 2 to 6. ]
A method for producing a compound represented by
In the presence of a phosphonium salt having one or more alkyl groups having 3 or more carbon atoms,
General formula (2):

Figure 0007381912000026
Figure 0007381912000026

[式中、R、X及びnは前記に同じである。]
で表される化合物と、
金属フッ化物とを反応させ、nが2以上の整数である場合は2個以上のXをフッ素化させて、上記一般式(1)で表される化合物を生成させる工程
を備える。
[In the formula, R 1 , X 1 and n are the same as above. ]
A compound represented by
The method includes a step of reacting with a metal fluoride and, when n is an integer of 2 or more, fluorinating two or more X 1 to produce a compound represented by the above general formula (1).

(3-1)出発化合物(一般式(2))、反応、金属フッ化物、溶媒、反応温度、反応時間、反応圧力及び目的化合物
本開示の第3の態様において、出発化合物である一般式(2)で表される化合物は、上記「(1-1)出発化合物(一般式(2))」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。
(3-1) Starting compound (general formula (2)), reaction, metal fluoride, solvent, reaction temperature, reaction time, reaction pressure, and target compound In the third aspect of the present disclosure, the starting compound (general formula (2)) For the compound represented by 2), the above description of "(1-1) starting compound (general formula (2))" can be adopted. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第3の態様における反応は、上記「(1-2)反応」の説明を採用できる。 For the reaction in the third aspect of the present disclosure, the explanation of "(1-2) reaction" above can be adopted.

本開示の第3の態様において、金属フッ化物は、上記「(1-4)金属フッ化物」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the above description of "(1-4) metal fluoride" can be adopted as the metal fluoride. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第3の態様において、溶媒は、上記「(2-3)溶媒」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the explanation of "(2-3) solvent" above can be adopted as the solvent. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第3の態様において、反応温度は、上記「(1-6)反応温度」の説明を採用できる。好ましい範囲も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the reaction temperature can be as described in "(1-6) Reaction temperature" above. The same applies to preferred ranges.

本開示の第3の態様において、反応時間は、上記「(1-7)反応時間」の説明を採用できる。好ましい範囲も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the reaction time can be as described in "(1-7) Reaction time" above. The same applies to preferred ranges.

本開示の第3の態様において、反応圧力は、上記「(1-8)反応圧力」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the reaction pressure can be as described in "(1-8) Reaction pressure" above. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第3の態様において、反応の例示は、上記「(1-9)反応の例示」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the explanation of "(1-9) Reaction example" above can be adopted as the reaction example. Preferred types and specific examples are also the same.

本開示の第3の態様において、目的化合物である一般式(1)で表される化合物は、上記「(1-10)目的化合物(一般式(1))」の説明を採用できる。好ましい種類及び具体例も同様である。 In the third aspect of the present disclosure, the compound represented by general formula (1), which is the target compound, can be as described in "(1-10) Target compound (general formula (1))" above. Preferred types and specific examples are also the same.

(3-2)ホスホニウム塩
本開示の第3の態様で使用するホスホニウム塩は、炭素数3以上のアルキル基を1個以上有するホスホニウム塩である。
(3-2) Phosphonium salt The phosphonium salt used in the third aspect of the present disclosure is a phosphonium salt having one or more alkyl groups having 3 or more carbon atoms.

このホスホニウム塩は、例えば、一般式(3A): This phosphonium salt, for example, has the general formula (3A):

Figure 0007381912000027
Figure 0007381912000027

[式中、R3a、R4a、R5a及びR6aは同一又は異なって、炭化水素基を示す。ただし、R3a、R4a、R5a及びR6aのうち少なくとも1つは炭素数3以上のアルキル基である。Yは対アニオンを示す。]
で表されるホスホニウム塩が挙げられる。
[In the formula, R 3a , R 4a , R 5a and R 6a are the same or different and represent a hydrocarbon group. However, at least one of R 3a , R 4a , R 5a and R 6a is an alkyl group having 3 or more carbon atoms. Y represents a counter anion. ]
Examples include phosphonium salts represented by:

一般式(3A)において、R3a、R4a、R5a及びR6aで示される炭化水素基としては、上記したものが挙げられる。置換基の種類及び数も同様である。なお、R3a、R4a、R5a及びR6aは、中央部のリン原子とは炭素原子が結合する部位であることが好ましい。 In general formula (3A), the hydrocarbon groups represented by R 3a , R 4a , R 5a and R 6a include those described above. The types and number of substituents are also the same. Note that R 3a , R 4a , R 5a and R 6a are preferably sites to which a carbon atom is bonded to the phosphorus atom at the center.

ただし、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、R3a、R4a、R5a及びR6aのうち少なくとも1つ(1つ、2つ、3つ又は4つ)は炭素数3以上のアルキル基である。 However, from the viewpoint of the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by general formula (1), the yield of the compound represented by general formula (1), etc., R 3a , R 4a , R 5a and R 6a At least one of them (one, two, three or four) is an alkyl group having 3 or more carbon atoms.

また、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、R3a、R4a、R5a及びR6aとしては、アルキル基が好ましい。なかでも、R3a、R4a、R5a及びR6aのうち少なくとも1つ(1つ、2つ、3つ又は4つ)は炭素数3以上、好ましくは4~20、より好ましくは5~15のアルキル基である。特に、ホスホニウム塩が有するアルキル基の炭素数を多くすることで、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等を特に向上させ、不純物の生成量を特に低減することができる。 In addition, from the viewpoint of the selectivity of the compound represented by general formula (1), the yield of the compound represented by general formula (1), etc., R 3a , R 4a , R 5a and R 6a are selected from alkyl groups. is preferred. Among them, at least one (1, 2, 3 or 4) of R 3a , R 4a , R 5a and R 6a has 3 or more carbon atoms, preferably 4 to 20 carbon atoms, more preferably 5 to 15 carbon atoms. is an alkyl group. In particular, by increasing the number of carbon atoms in the alkyl group of the phosphonium salt, the selectivity of the compound represented by the general formula (1), the yield of the compound represented by the general formula (1), etc. can be particularly improved, The amount of impurities produced can be particularly reduced.

一般式(3A)において、Yで示される対アニオンとしては、上記したものを採用できる。 In general formula (3A), as the counter anion represented by Y, those described above can be employed.

以上のような条件を満たす一般式(3A)で表される化合物としては、具体的には、 Specifically, the compound represented by the general formula (3A) that satisfies the above conditions is:

Figure 0007381912000028
Figure 0007381912000028

等が挙げられる。 etc.

これらのホスホニウム塩は、公知又は市販品を用いることができる。また、上記のホスホニウム塩は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 As these phosphonium salts, known or commercially available products can be used. Moreover, the above-mentioned phosphonium salts can be used alone or in combination of two or more kinds.

本開示の第3の態様における反応において、ホスホニウム塩の使用量は、特に制限されないが、反応の転化率、一般式(1)で表される化合物の選択率、一般式(1)で表される化合物の収率等の観点から、一般式(2)で表される化合物1モルに対して、0.01~10モルが好ましく、0.1~5モルがより好ましく、1~2.5モルがさらに好ましい。なお、ホスホニウム塩を複数使用する場合は、その合計量を上記範囲内となるように調整することが好ましい。 In the reaction according to the third aspect of the present disclosure, the amount of the phosphonium salt to be used is not particularly limited, but the conversion rate of the reaction, the selectivity of the compound represented by general formula (1), the selectivity of the compound represented by general formula (1), From the viewpoint of the yield of the compound represented by general formula (2), the amount is preferably 0.01 to 10 mol, more preferably 0.1 to 5 mol, and 1 to 2.5 mol. Mole is more preferred. In addition, when using multiple phosphonium salts, it is preferable to adjust the total amount so that it falls within the above range.

4.組成物(その1)
以上のようにして、一般式(1)で表される化合物を得ることができるが、一般式(1)で表される化合物としてジフルオロベンゾトリフルオリドと、一般式(2)におけるXの一部のみがフッ素化された化合物としてクロロフルオロベンゾトリフルオリド、ブロモフルオロベンゾトリフルオリド及びヨードフルオロベンゾトリフルオリドよりなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドとを含む組成物の形で得られることもある。
4. Composition (Part 1)
As described above, the compound represented by the general formula (1) can be obtained, and the compound represented by the general formula (1) includes difluorobenzotrifluoride and one of X 1 in the general formula (2). In the form of a composition containing at least one halogenated fluorobenzotrifluoride selected from the group consisting of chlorofluorobenzotrifluoride, bromofluorobenzotrifluoride and iodofluorobenzotrifluoride as a partially fluorinated compound. Sometimes you can get it.

一般式(1)で表される化合物としてジフルオロベンゾトリフルオリドとしては、特に制限はないが、2,3-ジフルオロベンゾトリフルオリド、2,4-ジフルオロベンゾトリフルオリド、2,6-ジフルオロベンゾトリフルオリド等が挙げられる。これらジフルオロベンゾトリフルオリドは、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 Difluorobenzotrifluoride as a compound represented by general formula (1) is not particularly limited, but examples include 2,3-difluorobenzotrifluoride, 2,4-difluorobenzotrifluoride, and 2,6-difluorobenzotrifluoride. etc. These difluorobenzotrifluorides can be used alone or in combination of two or more.

一般式(2)におけるXの一部のみがフッ素化された化合物としてハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドとしては、特に制限はないが、2-クロロ-3-フルオロベンゾトリフルオリド、2-クロロ-4-フルオロベンゾトリフルオリド、2-クロロ-6-フルオロベンゾトリフルオリド、3-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリド、4-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリド、6-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリド、2-ブロモ-3-フルオロベンゾトリフルオリド、2-ブロモ-4-フルオロベンゾトリフルオリド、2-ブロモ-6-フルオロベンゾトリフルオリド、3-ブロモ-2-フルオロベンゾトリフルオリド、4-ブロモ-2-フルオロベンゾトリフルオリド、6-ブロモ-2-フルオロベンゾトリフルオリド、2-ヨード-3-フルオロベンゾトリフルオリド、2-ヨード-4-フルオロベンゾトリフルオリド、2-ヨード-6-フルオロベンゾトリフルオリド、3-ヨード-2-フルオロベンゾトリフルオリド、4-ヨード-2-フルオロベンゾトリフルオリド、6-ヨード-2-フルオロベンゾトリフルオリド等が挙げられる。これらハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドは、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 There are no particular restrictions on the halogenated fluorobenzotrifluoride, which is a compound in which only a portion of X 1 in the general formula (2) is fluorinated, but examples thereof include 2-chloro-3-fluorobenzotrifluoride, 2-chloro-4 -fluorobenzotrifluoride, 2-chloro-6-fluorobenzotrifluoride, 3-chloro-2-fluorobenzotrifluoride, 4-chloro-2-fluorobenzotrifluoride, 6-chloro-2-fluorobenzotrifluoride, 2-bromo-3-fluorobenzotrifluoride, 2-bromo-4-fluorobenzotrifluoride, 2-bromo-6-fluorobenzotrifluoride, 3-bromo-2-fluorobenzotrifluoride, 4-bromo-2- Fluorobenzotrifluoride, 6-bromo-2-fluorobenzotrifluoride, 2-iodo-3-fluorobenzotrifluoride, 2-iodo-4-fluorobenzotrifluoride, 2-iodo-6-fluorobenzotrifluoride, 3 -iodo-2-fluorobenzotrifluoride, 4-iodo-2-fluorobenzotrifluoride, 6-iodo-2-fluorobenzotrifluoride and the like. These halogenated fluorobenzotrifluorides can be used alone or in combination of two or more.

第1の態様に係る本開示の組成物の総量を100モル%として、ジフルオロベンゾトリフルオリドの含有量は60.0~99.9モル%であり、65.0~99.5モル%、70.0~99.0モル%、75.0~98.5モル%、80.0~98.0モル%、85.0~97.5モル%、90.0~97.0モル%等とすることも可能である。 When the total amount of the composition of the present disclosure according to the first aspect is 100 mol%, the content of difluorobenzotrifluoride is 60.0 to 99.9 mol%, 65.0 to 99.5 mol%, and 70 mol%. .0 to 99.0 mol%, 75.0 to 98.5 mol%, 80.0 to 98.0 mol%, 85.0 to 97.5 mol%, 90.0 to 97.0 mol%, etc. It is also possible to do so.

また、第1の態様に係る本開示の組成物の総量を100モル%として、ハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドは0.1~40.0モル%であり、0.5~35.0モル%、1.0~30.0モル%、1.5~25.0モル%、2.0~20.0モル%、2.5~15.0モル%、3.0~10.0モル%等とすることも可能である。 Furthermore, when the total amount of the composition of the present disclosure according to the first aspect is 100 mol%, the halogenated fluorobenzotrifluoride is 0.1 to 40.0 mol%, 0.5 to 35.0 mol%, 1.0 to 30.0 mol%, 1.5 to 25.0 mol%, 2.0 to 20.0 mol%, 2.5 to 15.0 mol%, 3.0 to 10.0 mol%, etc. It is also possible to do this.

このような第1の態様に係る本開示の組成物は、有機合成用溶媒、農薬中間体、医薬中間体等の各種用途に有効利用できる。 The composition of the present disclosure according to the first aspect can be effectively used for various purposes such as a solvent for organic synthesis, an agricultural chemical intermediate, and a pharmaceutical intermediate.

5.組成物(その2)
以上のようにして、一般式(1)で表される化合物を得ることができるが、一般式(1)で表される化合物としてペンタフルオロベンゾトリフルオリドと、一般式(2)におけるXの一部のみがフッ素化された化合物としてクロロテトラフルオロベンゾトリフルオリド、ブロモテトラフルオロベンゾトリフルオリド、ヨードテトラフルオロベンゾトリフルオリド、ジクロロトリフルオロベンゾトリフルオリド、ジブロモトリフルオロベンゾトリフルオリド、ジヨードトリフルオロベンゾトリフルオリド、トリクロロジフルオロベンゾトリフルオリド、トリブロモジフルオロベンゾトリフルオリド、トリヨードジフルオロベンゾトリフルオリド、テトラクロロフルオロベンゾトリフルオリド、テトラブロモフルオロベンゾトリフルオリド、及びテトラヨードフルオロベンゾトリフルオリドよりなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドとを含む組成物の形で得られることもある。
5. Composition (Part 2)
As described above, the compound represented by the general formula (1) can be obtained, and the compound represented by the general formula (1) includes pentafluorobenzotrifluoride and X 1 in the general formula (2). Only partially fluorinated compounds include chlorotetrafluorobenzotrifluoride, bromotetrafluorobenzotrifluoride, iodotetrafluorobenzotrifluoride, dichlorotrifluorobenzotrifluoride, dibromotrifluorobenzotrifluoride, diiodotrifluorobenzo selected from the group consisting of trifluoride, trichlorodifluorobenzotrifluoride, tribromodifluorobenzotrifluoride, triiododifluorobenzotrifluoride, tetrachlorofluorobenzotrifluoride, tetrabromofluorobenzotrifluoride, and tetraiodofluorobenzotrifluoride It may also be obtained in the form of a composition comprising at least one halogenated fluorobenzotrifluoride.

一般式(1)で表される化合物としてペンタフルオロベンゾトリフルオリドとしては、特に制限はないが、2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンゾトリフルオリドが挙げられる。ペンタフルオロベンゾトリフルオリドは、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 Pentafluorobenzotrifluoride as a compound represented by general formula (1) is not particularly limited, but includes 2,3,4,5,6-pentafluorobenzotrifluoride. Pentafluorobenzotrifluoride can be used alone or in combination of two or more.

一般式(2)におけるXの一部のみがフッ素化された化合物としてハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドとしては、同位体をいずれも採用できる。ハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドは、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。 Any isotope can be employed as the halogenated fluorobenzotrifluoride, which is a compound in which only a portion of X 1 in the general formula (2) is fluorinated. The halogenated fluorobenzotrifluoride can be used alone or in combination of two or more.

第2の態様に係る本開示の組成物の総量を100モル%として、ペンタフルオロベンゾトリフルオリドの含有量は60.0~99.9モル%であり、65.0~99.5モル%、70.0~99.0モル%、75.0~98.5モル%、80.0~98.0モル%、85.0~97.5モル%、90.0~97.0モル%等とすることも可能である。 When the total amount of the composition of the present disclosure according to the second aspect is 100 mol%, the content of pentafluorobenzotrifluoride is 60.0 to 99.9 mol%, 65.0 to 99.5 mol%, 70.0-99.0 mol%, 75.0-98.5 mol%, 80.0-98.0 mol%, 85.0-97.5 mol%, 90.0-97.0 mol%, etc. It is also possible to do this.

また、第2の態様に係る本開示の組成物の総量を100モル%として、ハロゲン化フルオロベンゾトリフルオリドは0.1~40.0モル%であり、0.5~35.0モル%、1.0~30.0モル%、1.5~25.0モル%、2.0~20.0モル%、2.5~15.0モル%、3.0~10.0モル%等とすることも可能である。 Furthermore, when the total amount of the composition of the present disclosure according to the second aspect is 100 mol%, the halogenated fluorobenzotrifluoride is 0.1 to 40.0 mol%, 0.5 to 35.0 mol%, 1.0 to 30.0 mol%, 1.5 to 25.0 mol%, 2.0 to 20.0 mol%, 2.5 to 15.0 mol%, 3.0 to 10.0 mol%, etc. It is also possible to do this.

このような第2の態様に係る本開示の組成物は、エッチングガス、クリーニングガス等の各種用途に有効利用できる。 The composition of the present disclosure according to the second aspect can be effectively used for various purposes such as etching gas and cleaning gas.

以上、本開示の実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能である。 Although the embodiments of the present disclosure have been described above, various changes in form and details can be made without departing from the spirit and scope of the claims.

以下に実施例を示し、本開示の特徴を明確にする。本開示はこれら実施例に限定されるものではない。 Examples are shown below to clarify the features of the present disclosure. The present disclosure is not limited to these examples.

なお、各実施例及び比較例において、水分量は、反応開始時において、カールフィッシャー水分計により測定した。 In each Example and Comparative Example, the moisture content was measured using a Karl Fischer moisture meter at the start of the reaction.

実施例1~7及び比較例1~3
オートクレーブに、2,4-ジクロロベンゾトリフルオリド(1g,0.005mol)、フッ化カリウム(0.8g,0.014mol)、溶媒(N-メチル-2-ピロリドン(NMP)又はスルホラン)4.5mL、及び表1に示すホスホニウム塩(0.0014mol)を添加し、蓋をして200℃に加熱し24時間反応を進行させた。
Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3
In an autoclave, add 2,4-dichlorobenzotrifluoride (1 g, 0.005 mol), potassium fluoride (0.8 g, 0.014 mol), and 4.5 mL of solvent (N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or sulfolane). , and the phosphonium salt (0.0014 mol) shown in Table 1 were added, and the mixture was covered with a lid and heated to 200°C to allow the reaction to proceed for 24 hours.

反応終了後、ガスクロマトグラフィー、GCMS(ガスクロマトグラフィー質量分析法)にて質量分析を行い、NMR(核磁気共鳴)を用いて構造解析を行った。 After the reaction was completed, mass spectrometry was performed using gas chromatography and GCMS (gas chromatography mass spectrometry), and structural analysis was performed using NMR (nuclear magnetic resonance).

質量分析及び構造解析の結果から、目的物として2,4-ジフルオロベンゾトリフルオリドが生成したことが確認できた。 From the results of mass spectrometry and structural analysis, it was confirmed that 2,4-difluorobenzotrifluoride was produced as the target product.

結果を表1に示す。 The results are shown in Table 1.

なお、表1において、使用したホスホニウム塩は、以下のとおりである。 In addition, in Table 1, the phosphonium salts used are as follows.

Figure 0007381912000029
Figure 0007381912000029

また、表1において、生成物である2,4-2F-BTFは、2,4-ジフルオロベンゾトリフルオリドを意味し、2,4-Cl-F-BTFは、2-クロロ-4-フルオロベンゾトリフルオリド及び/又は4-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリドを意味する。表1において、2,4-Cl-F-BTFの選択率は、2-クロロ-4-フルオロベンゾトリフルオリド及び4-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリドの合計選択率を意味する。 In addition, in Table 1, the product 2,4-2F-BTF means 2,4-difluorobenzotrifluoride, and 2,4-Cl-F-BTF means 2-chloro-4-fluorobenzotrifluoride. Means trifluoride and/or 4-chloro-2-fluorobenzotrifluoride. In Table 1, the selectivity of 2,4-Cl-F-BTF means the total selectivity of 2-chloro-4-fluorobenzotrifluoride and 4-chloro-2-fluorobenzotrifluoride.

Figure 0007381912000030
Figure 0007381912000030

実施例8~13
2,4-ジクロロベンゾトリフルオリドの代わりに、表2~4に示す基質(0.005mol)及び表2~4に示すホスホニウム塩(0.0014mol)を用いた以外は、実施例1~7と同様に反応を行った。
Examples 8-13
Examples 1 to 7 except that the substrates shown in Tables 2 to 4 (0.005 mol) and the phosphonium salts shown in Tables 2 to 4 (0.0014 mol) were used instead of 2,4-dichlorobenzotrifluoride. The reaction was carried out in the same manner.

質量分析及び構造解析の結果から、目的物としてジフルオロベンゾトリフルオリド又はペンタフルオロベンゾトリフルオリドが生成したことが確認できた。 From the results of mass spectrometry and structural analysis, it was confirmed that difluorobenzotrifluoride or pentafluorobenzotrifluoride was produced as the target product.

結果を表2~4に示す。 The results are shown in Tables 2 to 4.

また、表2~4において、基質である2,3-2Cl-BTFは、2,3-ジクロロベンゾトリフルオリドを意味し、2,6-2Cl-BTFは、2,6-ジクロロベンゾトリフルオリドを意味し、5Cl-BTFは、2,3,4,5,6-ペンタクロロベンゾトリフルオリドを意味する。 In addition, in Tables 2 to 4, the substrate 2,3-2Cl-BTF means 2,3-dichlorobenzotrifluoride, and 2,6-2Cl-BTF means 2,6-dichlorobenzotrifluoride. 5Cl-BTF means 2,3,4,5,6-pentachlorobenzotrifluoride.

また、表2~4において、使用したホスホニウム塩は、以下のとおりである。 Furthermore, in Tables 2 to 4, the phosphonium salts used are as follows.

Figure 0007381912000031
Figure 0007381912000031

また、表2~4において、生成物である2,3-2F-BTFは、2,3-ジフルオロベンゾトリフルオリドを意味し、2,3-Cl-F-BTFは、2-クロロ-3-フルオロベンゾトリフルオリド及び/又は3-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリドを意味し、2,6-2F-BTFは、2,6-ジフルオロベンゾトリフルオリドを意味し、2,6-Cl-F-BTFは、2-クロロ-6-フルオロベンゾトリフルオリドを意味し、5F-BTFは、2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンゾトリフルオリドを意味し、4F,1Cl-BTFは、クロロテトラフルオロベンゾトリフルオリド(同位体をいずれも含む)を意味し、3F,2Cl-BTFは、ジクロロトリフルオロベンゾトリフルオリド(同位体をいずれも含む)を意味し、2F,3Cl-BTFは、トリクロロジフルオロベンゾトリフルオリド(同位体をいずれも含む)を意味し、1F,4Cl-BTFは、テトラクロロフルオロベンゾトリフルオリド(同位体をいずれも含む)を意味する。なお、表2~4において、2,3-Cl-F-BTFの選択率は、2-クロロ-3-フルオロベンゾトリフルオリド及び3-クロロ-2-フルオロベンゾトリフルオリドの合計選択率を意味し、4F,1Cl-BTFの選択率は、クロロテトラフルオロベンゾトリフルオリドの同位体の合計選択率を意味し、3F,2Cl-BTFの選択率は、ジクロロトリフルオロベンゾトリフルオリドの同位体の合計選択率を意味し、2F,3Cl-BTFの選択率は、トリクロロジフルオロベンゾトリフルオリドの合計選択率を意味し、1F,4Cl-BTFの選択率は、テトラクロロフルオロベンゾトリフルオリドの合計選択率を意味する。 Furthermore, in Tables 2 to 4, the product 2,3-2F-BTF means 2,3-difluorobenzotrifluoride, and 2,3-Cl-F-BTF means 2-chloro-3- 2,6-2F-BTF means 2,6-difluorobenzotrifluoride, 2,6-Cl-F- BTF means 2-chloro-6-fluorobenzotrifluoride, 5F-BTF means 2,3,4,5,6-pentafluorobenzotrifluoride, and 4F,1Cl-BTF means chlorotetrafluoride. 3F,2Cl-BTF means dichlorotrifluorobenzotrifluoride (including all isotopes), 2F,3Cl-BTF means trichlorodifluoride 1F,4Cl-BTF means tetrachlorofluorobenzotrifluoride (including all isotopes). In addition, in Tables 2 to 4, the selectivity of 2,3-Cl-F-BTF means the total selectivity of 2-chloro-3-fluorobenzotrifluoride and 3-chloro-2-fluorobenzotrifluoride. , the selectivity of 4F,1Cl-BTF means the total isotopic selectivity of chlorotetrafluorobenzotrifluoride, and the selectivity of 3F,2Cl-BTF means the total isotopic selectivity of dichlorotrifluorobenzotrifluoride. The selectivity of 2F,3Cl-BTF means the total selectivity of trichlorodifluorobenzotrifluoride, and the selectivity of 1F,4Cl-BTF means the total selectivity of tetrachlorofluorobenzotrifluoride. do.

Figure 0007381912000032
Figure 0007381912000032

Figure 0007381912000033
Figure 0007381912000033

Figure 0007381912000034
Figure 0007381912000034

Claims (4)

一般式(1):
Figure 0007381912000035
[式中、Rは水素原子、水酸基、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を示す。Xは同一又は異なって、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す。nは1~6の整数を示す。n1は1~6の整数を示す。ただし、n≧n1であり、且つ、nが2~6の整数である場合、n1は2~6の整数を示す。]
で表される化合物の製造方法であって、
アミド化合物を含む溶媒中で、
アルキル基を1個以上有するホスホニウム塩の存在下に、
一般式(2):
Figure 0007381912000036
[式中、R、X及びnは前記に同じである。]
で表される化合物と、
金属フッ化物とを反応させ、nが2以上の整数である場合は2個以上のXをフッ素化させて、上記一般式(1)で表される化合物を生成させる工程
を備える、製造方法。
General formula (1):
Figure 0007381912000035
[In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a fluorine atom, a cyano group, a nitro group, a hydrocarbon group, or a perfluoroalkyl group. X 1 is the same or different and represents a halogen atom other than a fluorine atom. n represents an integer from 1 to 6. n1 represents an integer from 1 to 6. However, when n≧n1 and n is an integer from 2 to 6, n1 represents an integer from 2 to 6. ]
A method for producing a compound represented by
In a solvent containing an amide compound,
In the presence of a phosphonium salt having one or more alkyl groups,
General formula (2):
Figure 0007381912000036
[In the formula, R 1 , X 1 and n are the same as above. ]
A compound represented by
A manufacturing method comprising the step of reacting with a metal fluoride and fluorinating two or more X 1 when n is an integer of 2 or more to produce a compound represented by the above general formula (1). .
水分量が700質量ppm以下である系中で前記フッ素化を行う、請求項1に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 1, wherein the fluorination is performed in a system having a water content of 700 mass ppm or less. 前記nが3~6の整数である、請求項1又は2に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein the n is an integer of 3 to 6. 前記金属フッ化物が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物である、請求項1~3のいずれか1項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal fluoride is an alkali metal or alkaline earth metal fluoride.
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