JP7379565B2 - 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
本発明は、塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。
特許文献１には、下記式（ＩＸ－１）で表される塩と、下記式（ＡＸ１）で表される構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献２には、下記式（ＩＸ－２）で表される酸発生剤と、下記式（ＡＸ２）で表される構造単位を含む樹脂とを含有するレジスト組成物が記載されている。
上記レジスト組成物では、得られるレジストパターンの解像度が必ずしも満足できない場合があった。
本発明は、以下の発明を含む。
［１］式（Ｉ０）で表される塩及び式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物を含有するレジスト組成物。
［式（Ｉ０）中、
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１８の２価の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、単結合又はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、Ａｒ及びＸ２は、互いに結合してヘテロ原子を含む縮合環を形成してもよい。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
［式（ＩＩａ）中、
Ｒ１a、Ｒ２a及びＲ３aは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１８の炭化水素基又は－Ｏ－＊を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｓは、１以上の整数を表す。
＊は、結合位を表す。］
［２］Ｒ１a、Ｒ２a及びＲ３aの少なくとも一つがフェニル基である［１］記載のレジスト組成物。
［３］Ａｒが、水酸基、フッ素原子又は炭素数１～６のアルキル基を有していてもよいフェニレン基である［１］又は［２］記載のレジスト組成物。
［４］ｎが１である［１］～［３］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［５］式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物が、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂である［１］～［４］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［式（ＩＩ）中、
Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基を表す。
Ｒ４は、水素原子又はメチル基を表す。］
［６］（１）［１］～［５］のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。
［７］式（Ｉ）で表される塩。
［式（Ｉ）中、
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１’は、置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっっていてもよい。
Ｘ２は、単結合又はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、ＡｒとＸ２は、互いに結合してヘテロ原子を含む縮合環を形成してもよい。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
［１］式（Ｉ０）で表される塩及び式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物を含有するレジスト組成物。
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１８の２価の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、単結合又はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、Ａｒ及びＸ２は、互いに結合してヘテロ原子を含む縮合環を形成してもよい。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
Ｒ１a、Ｒ２a及びＲ３aは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１８の炭化水素基又は－Ｏ－＊を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｓは、１以上の整数を表す。
＊は、結合位を表す。］
［２］Ｒ１a、Ｒ２a及びＲ３aの少なくとも一つがフェニル基である［１］記載のレジスト組成物。
［３］Ａｒが、水酸基、フッ素原子又は炭素数１～６のアルキル基を有していてもよいフェニレン基である［１］又は［２］記載のレジスト組成物。
［４］ｎが１である［１］～［３］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［５］式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物が、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂である［１］～［４］のいずれかに記載のレジスト組成物。
Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基を表す。
Ｒ４は、水素原子又はメチル基を表す。］
［６］（１）［１］～［５］のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。
［７］式（Ｉ）で表される塩。
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１’は、置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっっていてもよい。
Ｘ２は、単結合又はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、ＡｒとＸ２は、互いに結合してヘテロ原子を含む縮合環を形成してもよい。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
本発明のレジスト組成物を用いることにより、高解像度なレジストパターンを製造することができる。
本明細書では、特に断りのない限り、化合物の構造式の説明において「脂肪族炭化水素基」は直鎖状又は分岐状の炭化水素基を意味し、「脂環式炭化水素基」は脂環式炭化水素の環から価数に相当する数の水素原子を取り去った基を意味する。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「（メタ）アクリル系モノマー」とは、「ＣＨ2＝ＣＨ－ＣＯ－」又は「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」の構造を有するモノマーの少なくとも１種を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」及び「（メタ）アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートの少なくとも１種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも１種」を意味する。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。
本明細書において、「（メタ）アクリル系モノマー」とは、「ＣＨ2＝ＣＨ－ＣＯ－」又は「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」の構造を有するモノマーの少なくとも１種を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」及び「（メタ）アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートの少なくとも１種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも１種」を意味する。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。
〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、
式（Ｉ０）で表される塩（以下、「塩（Ｉ０）」という場合がある。）と、式（ＩＩａ）で表される部分構造（以下「部分構造（ＩＩａ）」という場合がある。）を有する化合物（以下、「化合物（ＩＩａ）」という場合がある。）とを含有する。
なお、部分構造（ＩＩａ）を有する化合物（ＩＩａ）は、後述するように重合性基を有する場合、化合物（ＩＩａ）に由来する構造単位を含む樹脂等としてレジスト組成物に含有されていてもよい。
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ０）と化合物（ＩＩａ）に加えて、さらにクエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）及び／又は溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有していることが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、
式（Ｉ０）で表される塩（以下、「塩（Ｉ０）」という場合がある。）と、式（ＩＩａ）で表される部分構造（以下「部分構造（ＩＩａ）」という場合がある。）を有する化合物（以下、「化合物（ＩＩａ）」という場合がある。）とを含有する。
なお、部分構造（ＩＩａ）を有する化合物（ＩＩａ）は、後述するように重合性基を有する場合、化合物（ＩＩａ）に由来する構造単位を含む樹脂等としてレジスト組成物に含有されていてもよい。
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ０）と化合物（ＩＩａ）に加えて、さらにクエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）及び／又は溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有していることが好ましい。
＜塩（Ｉ０）＞
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ０）を含有する。
［式（Ｉ０）中、
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１８の２価の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、単結合又はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、Ａｒ及びＸ２は、互いに結合してヘテロ原子を含む縮合環を形成してもよい。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ０）を含有する。
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１８の２価の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、単結合又はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、Ａｒ及びＸ２は、互いに結合してヘテロ原子を含む縮合環を形成してもよい。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１及びＲ２のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又はフッ素原子である。
ｚは、０であることが好ましい。
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又はフッ素原子である。
ｚは、０であることが好ましい。
Ｘ１は、＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－（＊はＣ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。）であることが好ましい。
Ａ１で表される炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、脂環式飽和炭化水素基であることが好ましい。
単環式の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。
多環式の２価の脂環式炭化水素基としては、ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等が挙げられる。
単環式の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。
多環式の２価の脂環式炭化水素基としては、ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等が挙げられる。
Ａ１で表される脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアシル基、炭素数２～１３のアシルオキシ基及びこれらの基のうち２種以上を組み合わせた基が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
炭素数２～１３のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ａ１は、なかでも、多環式の２価の脂環式炭化水素基が好ましく、多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基がより好ましい。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
炭素数２～１３のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ａ１は、なかでも、多環式の２価の脂環式炭化水素基が好ましく、多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基がより好ましい。
Ａ１１及びＡ１２で表される炭素数１～１８の２価の脂肪族炭化水素基としては、アルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基が挙げられる。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式炭化水素基としては、Ａ１で表される２価の炭化水素基と同じものが挙げられる。
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式炭化水素基としては、Ａ１で表される２価の炭化水素基と同じものが挙げられる。
Ａ１１及びＡ１２で表される脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、Ａ１で表される脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
－Ａ１１－Ａ１－Ａ１２－としては、単結合及び－無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基－炭素数１～６のアルカンジイル基－が好ましく、－無置換のシクロヘキサンジイル基又は無置換のアダマンタンジイル基－炭素数２～６のアルカンジイル基－がより好ましく、－無置換のシクロヘキサンジイル基、－無置換のアダマンタンジイル基－ＣＯ－Ｏ－又は－無置換のアダマンタンジイル基－Ｏ－ＣＯ－がさらに好ましい。ここでのアルカンジイル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯに置き換わっていてもよい。
Ａｒで表される２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントニレン基、トリレン基、キシリレン基、クミレン基、ビフェニレン基、トリフェニレン基、インデニレン基、テトラヒドロナフチレン基、ｐ－メチルフェニレン基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニレン基、ｐ－アダマンチルフェニレン基、メシチレン基、２，６－ジエチルフェニレン基、２－メチル－６－エチルフェニレン基等のアリール基等が挙げられる。
Ａｒの芳香族炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、ハロゲン原子を有する炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基又は炭素数２～４のジアルキルアミノ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
ハロゲン原子を有する炭素数１～１２のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルクロロメチル基、ペルブロモメチル基及びペルヨードメチル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基は、上記と同様の基が挙げられる。
炭素数２～４のジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
ハロゲン原子を有する炭素数１～１２のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルクロロメチル基、ペルブロモメチル基及びペルヨードメチル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基は、上記と同様の基が挙げられる。
炭素数２～４のジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
Ａｒで表される２価の芳香族炭化水素基のＣＨ基が、窒素原子に置き換わった基としては、ピロリレン基、イミダゾリレン基、ピラゾリレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、トリアゾリレン基、インドリレン基、キノリレン基、プリレン基、インダゾリレン基、アクリジレン基等が挙げられる。
Ａｒとしては、置換基を有してもよいフェニレン基であることが好ましく、水酸基、フッ素原子又は炭素数１～６のアルキル基を有してもよいフェニレン基であることがより好ましい。
Ａｒとしては、置換基を有してもよいフェニレン基であることが好ましく、水酸基、フッ素原子又は炭素数１～６のアルキル基を有してもよいフェニレン基であることがより好ましい。
Ｘ２で表される炭素数１～１８の２価の炭化水素基としては、アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基、直鎖、分岐又は環状の２価の不飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基などが挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せたものでもよい。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基及びドデカンジイル基等が挙げられる。
単環式の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられる。多環式の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、ノルボルナンジイル基、アダマンタンジイル基等が挙げられる。
直鎖の２価の不飽和炭化水素基としては、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、エチニレン基、プロペニレン基、ブチニレン基等が挙げられる。分岐の２価の不飽和炭化水素基としては、２－メチルプロペニレン基、２－メチルブテニレン基、２－メチルプロペニレン基、２－メチルブチニレン基等が挙げられる。環状の２価の不飽和炭化水素基としては、シクロプロペニレン基、シクロブテニレン基、シクロプロペニレン基、シクロブチニレン基等が挙げられる。
２価の芳香族炭化水素基としては、上記と同様のものが挙げられ、フェニレン基及びナフチレン基が好ましい。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ウンデカンジイル基及びドデカンジイル基等が挙げられる。
単環式の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられる。多環式の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、ノルボルナンジイル基、アダマンタンジイル基等が挙げられる。
直鎖の２価の不飽和炭化水素基としては、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、エチニレン基、プロペニレン基、ブチニレン基等が挙げられる。分岐の２価の不飽和炭化水素基としては、２－メチルプロペニレン基、２－メチルブテニレン基、２－メチルプロペニレン基、２－メチルブチニレン基等が挙げられる。環状の２価の不飽和炭化水素基としては、シクロプロペニレン基、シクロブテニレン基、シクロプロペニレン基、シクロブチニレン基等が挙げられる。
２価の芳香族炭化水素基としては、上記と同様のものが挙げられ、フェニレン基及びナフチレン基が好ましい。
Ｘ２としては、フッ素原子を有してもよい炭素数１～４のアルカンジイル基、又は、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－又は－ＩＲＪ－（ＲＪはハロゲン原子又は炭素数１～６のアルキル基）に置き換わったものが好ましい。
Ａｒ及びＸ２が互いに結合して形成する縮合環としては、ヘテロ原子を含んでいてもよい。この場合のヘテロ原子とは、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が挙げられる。ヘテロ原子は、１つ又は２つ以上含んでいてもよい。
ｎは、１であることが好ましい。
ｎは、１であることが好ましい。
塩（Ｉ０）におけるアニオンとしては、例えば、以下の式（Ｉａ－１）～式（Ｉａ－２２）で表されるアニオンが挙げられる。中でも、式（Ｉａ－１）～式（Ｉａ－１２）、式（Ｉａ－１９）～式（Ｉａ－２２）で表されるアニオンが好ましく、式（Ｉａ－１）、式（Ｉａ－２）、式（Ｉａ－４）、式（Ｉａ－１９）、式（Ｉａ－２０）で表されるアニオンがより好ましく、式（Ｉａ－１）、式（Ｉａ－２）、式（Ｉａ－１９）、式（Ｉａ－２０）で表されるアニオンがさらに好ましい。
塩（Ｉ０）におけるカチオンＺ＋は、有機オニウムカチオンであることが好ましい。
有機オニウムカチオンとしては、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン、有機ホスホニウムカチオン等が挙げられ、好ましくは有機スルホニウムカチオン又は有機ヨードニウムカチオンであり、より好ましくはアリールスルホニウムカチオンである。具体的には、式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）のいずれかで表されるカチオン（以下、式番号に応じて「カチオン（ｂ２－１）」等という場合がある。）が挙げられる。
［式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）において、
Ｒｂ４～Ｒｂ６は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基、炭素数２～４のアシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒｂ４とＲｂ５とは、一緒になってそれらが結合する硫黄原子を含む環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－に置き換わってもよい。
Ｒｂ７及びＲｂ８は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲｂ７は同一であっても異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複数のＲｂ８は同一であっても異なってもよい。
Ｒｂ９及びＲｂ１０は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の脂肪族炭化水素基又は炭素数３～３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒｂ９とＲｂ１０とは、一緒になってそれらが結合する硫黄原子を含む環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－に置き換わってもよい。
Ｒｂ１１は、水素原子、炭素数１～３６の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒｂ１２は、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Ｒｂ１１とＲｂ１２とは、一緒になってそれらが結合する－ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－に置き換わってもよい。
Ｒｂ１３～Ｒｂ１８は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌｂ３１は、－Ｓ－又は－Ｏ－を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲｂ１３は同一であっても異なってもよく、ｐ２が２以上のとき、複数のＲｂ１４は同一であっても異なってもよく、ｑ２が２以上のとき、複数のＲｂ１５は同一であっても異なってもよき、ｒ２が２以上のとき、複数のＲｂ１６は同一であっても異なってもよく、ｓ２が２以上のとき、複数のＲｂ１７は同一であっても異なってもよく、ｔ２が２以上のとき、複数のＲｂ１８は同一であっても異なってもよい。］
有機オニウムカチオンとしては、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン、有機ホスホニウムカチオン等が挙げられ、好ましくは有機スルホニウムカチオン又は有機ヨードニウムカチオンであり、より好ましくはアリールスルホニウムカチオンである。具体的には、式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）のいずれかで表されるカチオン（以下、式番号に応じて「カチオン（ｂ２－１）」等という場合がある。）が挙げられる。
Ｒｂ４～Ｒｂ６は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基、炭素数２～４のアシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒｂ４とＲｂ５とは、一緒になってそれらが結合する硫黄原子を含む環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－に置き換わってもよい。
Ｒｂ７及びＲｂ８は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲｂ７は同一であっても異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複数のＲｂ８は同一であっても異なってもよい。
Ｒｂ９及びＲｂ１０は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の脂肪族炭化水素基又は炭素数３～３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒｂ９とＲｂ１０とは、一緒になってそれらが結合する硫黄原子を含む環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－に置き換わってもよい。
Ｒｂ１１は、水素原子、炭素数１～３６の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒｂ１２は、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Ｒｂ１１とＲｂ１２とは、一緒になってそれらが結合する－ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－に置き換わってもよい。
Ｒｂ１３～Ｒｂ１８は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌｂ３１は、－Ｓ－又は－Ｏ－を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲｂ１３は同一であっても異なってもよく、ｐ２が２以上のとき、複数のＲｂ１４は同一であっても異なってもよく、ｑ２が２以上のとき、複数のＲｂ１５は同一であっても異なってもよき、ｒ２が２以上のとき、複数のＲｂ１６は同一であっても異なってもよく、ｓ２が２以上のとき、複数のＲｂ１７は同一であっても異なってもよく、ｔ２が２以上のとき、複数のＲｂ１８は同一であっても異なってもよい。］
カチオン（ｂ２－１）～カチオン（ｂ２－４）の中でも、好ましくはカチオン（ｂ２－１）が挙げられる。
カチオン（ｂ２－１）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－１）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－２）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－３）としては、以下のカチオンが挙げられる。
カチオン（ｂ２－４）としては、以下のカチオンが挙げられる。
中でも、式（ｂ２－ｃ－１）、（ｂ２－ｃ－１０）、（ｂ２－ｃ－１２）、（ｂ２－ｃ－１４）、（ｂ２－ｃ－２７）、（ｂ２－ｃ－３０）及び（ｂ２－ｃ－３１）で表されるカチオンが好ましい。
＜塩（Ｉ０）の具体例＞
塩（Ｉ０）は、上述のアニオンと有機カチオンとの組み合わせである。これらのアニオンと有機カチオンとは任意に組み合わせることができる。塩（Ｉ０）の具体例を下記表に示す。
塩（Ｉ０）は、上述のアニオンと有機カチオンとの組み合わせである。これらのアニオンと有機カチオンとは任意に組み合わせることができる。塩（Ｉ０）の具体例を下記表に示す。
下記表において、塩（Ｉ－１）は式（Ｉａ－１）で表されるアニオンと式（ｂ２－ｃ－ａ）で表される有機カチオンとからなる塩であり、以下に示す塩を表す。
中でも、塩（Ｉ０）は、塩（Ｉ－１）、塩（Ｉ－２）、塩（Ｉ－１５）、塩（Ｉ－１６）、塩（Ｉ－２９）、塩（Ｉ－３０）、塩（Ｉ－４３）、塩（Ｉ－４４）、塩（Ｉ－５７）、塩（Ｉ－５８）、塩（Ｉ－７１）、塩（Ｉ－７２）、塩（Ｉ－８５）、塩（Ｉ－８６）、塩（Ｉ－１０３）、塩（Ｉ－１０４）、塩（Ｉ－１１１）、塩（Ｉ－１１２）、塩（Ｉ－１１９）、塩（Ｉ－１２０）、塩（Ｉ－１２７）、塩（Ｉ－１２８）、塩（Ｉ－１３５）、塩（Ｉ－１３６）、塩（Ｉ－１４３）、塩（Ｉ－１５１）及び塩（Ｉ－１５２）、塩（Ｉ－１０４）が好ましい。
なお、塩（Ｉ０）のうち、以下の式（Ｉ）で表される塩（以下、塩（Ｉ）という場合がある）は、新規化合物である。
［式（Ｉ）中、Ｑ１、Ｑ２、ｚ、Ｘ１、Ａ１１、Ａ１２、Ａｒ、Ｘ２及びＺ＋は、上記と同じ意味を表す。
Ａ１’は、置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。］
Ａ１’で表される置換基を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基としては、Ａ１で表される２価の脂環式炭化水素基と同じものが挙げられる。
Ａ１’は、置換基を有してもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。］
Ａ１’で表される置換基を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基としては、Ａ１で表される２価の脂環式炭化水素基と同じものが挙げられる。
＜塩（Ｉ０）の製造方法＞
塩（Ｉ０）において、Ａ１２が、－Ａ１２ａ－ＣＯ－Ｏ－Ａ１２ｂ－＊（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である塩（式（Ｉ１）で表される塩）は、例えば、式（Ｉ１－ａ）で表される塩と、カルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物とを反応させることによって得ることができる。
［式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ１、Ｘ2、Ａ１、Ａ１１、Ａｒ、ｚ、ｎ及びＺ＋は上記と同じ意味を表す。Ａ１２ａ及びＡ１２ｂは、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～１６の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。］
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
塩（Ｉ０）において、Ａ１２が、－Ａ１２ａ－ＣＯ－Ｏ－Ａ１２ｂ－＊（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である塩（式（Ｉ１）で表される塩）は、例えば、式（Ｉ１－ａ）で表される塩と、カルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物とを反応させることによって得ることができる。
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
式（Ｉ１－ａ）で表される塩としては、例えば、以下で表される塩等が挙げられ、特開２０１１－４６６９４号公報、特開２０１７－０９５４４５号公報に記載された方法を参考にして製造することができる。
式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられる。
塩（Ｉ０）において、Ａ１２が、－Ａ１２ａ－Ｏ－ＣＯ－Ａ１２ｂ－＊（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である塩（式（Ｉ２）で表される塩）は、例えば、式（Ｉ２－ｂ）で表される化合物と、カルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式（Ｉ２－ａ）で表される塩とを反応させることによって得ることができる。
［式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ１、Ｘ2、Ａ１、Ａ１１、Ａ１２ａ、Ａ１２ｂ、Ａｒ、ｚ、ｎ及びＺ＋は上記と同じ意味を表す。］
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
式（Ｉ２－ａ）で表される塩としては、例えば、以下で表される塩等が挙げられ、特開２００６－２５７０７８号公報、特開２００９－０４６４７９号公報、特開２０１２－２２４６１１号公報、特開２０１６－１１３４５０号公報に記載された方法を参考にして製造することができる。
式（Ｉ２－ｂ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられる。
塩（Ｉ０）において、Ａ１２が、－Ａ１２ａ－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－Ａ１２ｂ－＊（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である塩（式（Ｉ３）で表される塩）は、例えば、式（Ｉ２－ａ）で表される塩と、カルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物とを反応させることによって得ることができる。
［式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ１、Ｘ2、Ａ１、Ａ１１、Ａ１２ａ、Ａ１２ｂ、Ａｒ、ｚ、ｎ及びＺ＋は上記と同じ意味を表す。］
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
塩（Ｉ０）において、Ａ１２が、－Ａ１２ａ－Ｏ－Ａ１２ｂ－＊（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である塩（式（Ｉ４）で表される塩）は、例えば、式（Ｉ２－ａ）で表される塩と、式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物とを、触媒下、溶剤中で反応させることによって得ることができる。
［式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ１、Ｘ2、Ａ１、Ａ１１、Ａ１２ａ、Ａ１２ｂ、Ａｒ、ｚ、ｎ及びＺ＋は上記と同じ意味を表す。］
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
塩基としては、水酸化カリウム等が挙げられる。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応は、５℃～８０℃の温度範囲で、０．５～２４時間行うことが好ましい。
塩基としては、水酸化カリウム等が挙げられる。
溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
＜酸発生剤＞
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ０）を含有する酸発生剤である。本発明の酸発生剤は、２種類以上の塩（Ｉ０）が含有されていてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ０）以外にレジスト分野で公知の酸発生剤（以下「酸発生剤（Ｂ）」という場合がある）を含有していてもよい。酸発生剤（Ｂ）については後述する。
また、酸発生剤として塩（Ｉ０）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する場合、塩（Ｉ０）と酸発生剤（Ｂ）との含有量の比（塩（Ｉ０）：酸発生剤（Ｂ））は、質量比で通常１：９９～９９：１、好ましくは２：９８～９８：２、より好ましくは５：９５～９５：５、さらに好ましくは１０：９０～９０：１０である。
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ０）を含有する酸発生剤である。本発明の酸発生剤は、２種類以上の塩（Ｉ０）が含有されていてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩（Ｉ０）以外にレジスト分野で公知の酸発生剤（以下「酸発生剤（Ｂ）」という場合がある）を含有していてもよい。酸発生剤（Ｂ）については後述する。
また、酸発生剤として塩（Ｉ０）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する場合、塩（Ｉ０）と酸発生剤（Ｂ）との含有量の比（塩（Ｉ０）：酸発生剤（Ｂ））は、質量比で通常１：９９～９９：１、好ましくは２：９８～９８：２、より好ましくは５：９５～９５：５、さらに好ましくは１０：９０～９０：１０である。
〔レジスト組成物〕
レジスト組成物は、本発明の塩（Ｉ０）と、酸不安定基を有する樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある）とを含有する。ここでの「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ０）に加えて、酸発生剤（Ｂ）をさらに含有していてもよい。
レジスト組成物は、クエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有することが好ましく、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。
レジスト組成物は、本発明の塩（Ｉ０）と、酸不安定基を有する樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある）とを含有する。ここでの「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、塩（Ｉ０）に加えて、酸発生剤（Ｂ）をさらに含有していてもよい。
レジスト組成物は、クエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有することが好ましく、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。
＜酸発生剤（Ｂ）＞
酸発生剤（Ｂ）は、非イオン系とイオン系とのいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤には、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類（例えば２－ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ－スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン ４－スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン）等が含まれる。イオン系酸発生剤は、公知のカチオンと公知のアニオンとの組合せからなるイオン性酸発生剤が挙げられ、オニウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等がある。
酸発生剤（Ｂ）は、非イオン系とイオン系とのいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤には、有機ハロゲン化物、スルホネートエステル類（例えば２－ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ－スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン ４－スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン）等が含まれる。イオン系酸発生剤は、公知のカチオンと公知のアニオンとの組合せからなるイオン性酸発生剤が挙げられ、オニウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等がある。
酸発生剤（Ｂ）としては、特開昭６３－２６６５３号、特開昭５５－１６４８２４号、特開昭６２－６９２６３号、特開昭６３－１４６０３８号、特開昭６３－１６３４５２号、特開昭６２－１５３８５３号、特開昭６３－１４６０２９号、米国特許第３，７７９，７７８号、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物、特開２０１３－６８９１４号公報、特開２０１３－３１５５号公報、特開２０１３－１１９０５号公報記載の酸発生剤等を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。
酸発生剤（Ｂ）としては、有機スルホン酸塩等が挙げられ、好ましくはフッ素含有酸発生剤が挙げられ、より好ましくは式（Ｂ１）で表される酸発生剤（以下「酸発生剤（Ｂ１）」という場合がある）が挙げられる。
［式（Ｂ１）中、
Ｑｂ１１及びＱｂ１２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
Ｑｂ１１及びＱｂ１２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
Ｑｂ１１及びＱｂ１２のペルフルオロアルキル基としては、Ｑ１及びＱ２で表されるペルフルオロアルキル基で挙げられたものと同様の基が挙げられる。
Ｑｂ１１及びＱｂ１２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基が好ましく、フッ素原子がより好ましい。Ｑｂ１１及びＱｂ１２が、ともにフッ素原子であることがさらに好ましい。
Ｑｂ１１及びＱｂ１２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基が好ましく、フッ素原子がより好ましい。Ｑｂ１１及びＱｂ１２が、ともにフッ素原子であることがさらに好ましい。
Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－１，１５－ジイル基、ヘキサデカン－１，１６－ジイル基及びヘプタデカン－１，１７－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－１，１５－ジイル基、ヘキサデカン－１，１６－ジイル基及びヘプタデカン－１，１７－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、例えば、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）及びそれらの具体例である式（ｂ１－４）から式（ｂ１－１１）において、＊は－Ｙとの結合手を表す。
［式（ｂ１－１）中、
Ｌｂ２は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ３は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ２とＬｂ３との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－２）中、
Ｌｂ４は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ４とＬｂ５との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－３）中、
Ｌｂ６は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ６とＬｂ７との炭素数合計は、２３以下である。］
Ｌｂ２は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ３は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ２とＬｂ３との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－２）中、
Ｌｂ４は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ４とＬｂ５との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－３）中、
Ｌｂ６は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ６とＬｂ７との炭素数合計は、２３以下である。］
式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）においては、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Ｌｂ２は、好ましくは単結合である。
Ｌｂ３は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ４は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基であり、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ３は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ４は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基であり、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、式（ｂ１－１）又は式（ｂ１－３）で表される基が好ましい。
式（ｂ１－１）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－２）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
式（ｂ１－３）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～式（Ｙ１１）、式（Ｙ３６）～式（Ｙ３８）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上の複数でもよい。そのような基としては、式（Ｙ１２）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）、式（Ｙ４０）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上の複数でもよい。そのような基としては、式（Ｙ１２）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）、式（Ｙ４０）で表される基が挙げられる。
つまり、Ｙは、脂環式炭化水素基に含まれる水素原子２つがそれぞれ、酸素原子に置換され、その２つの酸素原子が炭素数１～８のアルカンジイル基と一緒になってケタール環を形成してもよいし、異なる炭素原子にそれぞれ酸素原子が結合した構造を含んでいてもよい。ただし、式（Ｙ２８）～式（Ｙ３３）、式（Ｙ３９）、式（Ｙ４０）等のスピロ環を構成する場合には、２つの酸素間のアルカンジイル基は、１以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないものが好ましい。
中でも、好ましくは式（Ｙ１）～式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）のいずれかで表される基が挙げられ、より好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１６）、式（Ｙ１９）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基が挙げられ、さらに好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルキル基、ヒドロキシ基含有炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、炭素数７～２１のアラルキル基、炭素数２～４のアシル基、グリシジルオキシ基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（式中、Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。ｊａは、０～４のいずれかの整数を表す。炭素数１～１６のアルキル基、及び炭素数３～１６の脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。）等が挙げられる。
ヒドロキシ基含有アルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基；トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基；トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
Ｙとしては、以下のものが挙げられる。
Ｙは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、これらの基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＳＯ２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。Ｙは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基又はオキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－５５）で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン（Ｂ１－Ａ－１）」等という場合がある。〕が好ましく、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－４）、式（Ｂ１－Ａ－９）、式（Ｂ１－Ａ－１０）、式（Ｂ１－Ａ－２４）～式（Ｂ１－Ａ－３３）、式（Ｂ１－Ａ－３６）～式（Ｂ１－Ａ－４０）、式（Ｂ１－Ａ－４７）～式（Ｂ１－Ａ－５５）のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
ここでＲｉ２～Ｒｉ７は、例えば、炭素数１～４のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒｉ８は、例えば、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基であり、好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ｌ４４は、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイル基である。
Ｑｂ１１及びＱｂ１２は、上記と同じ意味を表す。
式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Ｒｉ８は、例えば、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基であり、好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ｌ４４は、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイル基である。
Ｑｂ１１及びＱｂ１２は、上記と同じ意味を表す。
式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
好ましい式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３４）でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
なかでも、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３）、式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３４）のいずれかで表されるアニオンが好ましい。
Ｚ＋の有機カチオンとしては、塩（Ｉ０）における有機カチオンで例示したものと同様のものが挙げられる。
酸発生剤（Ｂ）としては、具体的には、式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－４８）のいずれかで表される塩が挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－３）、式（Ｂ１－５）～式（Ｂ１－７）、式（Ｂ１－１１）～式（Ｂ１－１４）、式（Ｂ１－１７）、式（Ｂ１－２０）～式（Ｂ１－２６）、式（Ｂ１－２９）、式（Ｂ１－３１）～式（Ｂ１－４８）のいずれかで表される塩がより好ましい。
塩（Ｉ０）は、レジスト組成物中において、酸発生剤として作用する。
塩（Ｉ０）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、１～４０質量部であることが好ましく、２～３５質量部であることがより好ましい。
酸発生剤（Ｂ）は、１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
酸発生剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、１～４０質量部であることが好ましく、３～３５質量部であることがより好ましい。
レジスト組成物においては、塩（Ｉ０）及び酸発生剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１．５質量部以上（より好ましくは３質量部以上）、好ましくは４０質量部以下（より好ましくは３５質量部以下）である。
塩（Ｉ０）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、１～４０質量部であることが好ましく、２～３５質量部であることがより好ましい。
酸発生剤（Ｂ）は、１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
酸発生剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、１～４０質量部であることが好ましく、３～３５質量部であることがより好ましい。
レジスト組成物においては、塩（Ｉ０）及び酸発生剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１．５質量部以上（より好ましくは３質量部以上）、好ましくは４０質量部以下（より好ましくは３５質量部以下）である。
＜化合物（ＩＩａ）＞
本発明の化合物（ＩＩａ）は、式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物である。
［式（ＩＩａ）中、
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１８の炭化水素基又は－Ｏ－＊を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｓは、１以上の整数を表す。
＊は、結合位を表す。］
本発明の化合物（ＩＩａ）は、式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物である。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１８の炭化水素基又は－Ｏ－＊を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｓは、１以上の整数を表す。
＊は、結合位を表す。］
炭素数１～１８の炭化水素基としては、アルキル基、単環式又は多環式の脂環式飽和炭化水素基、直鎖、分岐又は環状の不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基などが挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せたものでもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等が挙げられる。
単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等が挙げられる。
直鎖の不飽和炭化水素基としては、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、エチニル基、プロペニル基、ブチニル基等が挙げられる。分岐の不飽和炭化水素基としては、２－メチルプロペニル基、２－メチルブテニル基、２－メチルプロペニル基、２－メチルブチニル基等が挙げられる。環状の不飽和炭化水素基としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロプロペニル基、シクロブチニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等が挙げられる。
単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等が挙げられる。
直鎖の不飽和炭化水素基としては、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、エチニル基、プロペニル基、ブチニル基等が挙げられる。分岐の不飽和炭化水素基としては、２－メチルプロペニル基、２－メチルブテニル基、２－メチルプロペニル基、２－メチルブチニル基等が挙げられる。環状の不飽和炭化水素基としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロプロペニル基、シクロブチニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基等が挙げられる。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａとしては、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～６のアルキル基、フェニル基であることが好ましく、メチル基、ｔ－ブチル基、フェニル基であることがより好ましく、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つがフェニル基であることがさらに好ましく、二つがフェニル基であることがより一層好ましい。
式（ＩＩａ）において、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａがそれぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基を表す場合には、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、ｓは１～４のいずれかの整数を表すものが挙げられる。
さらに、式（ＩＩａ）において、Ｒ２ａが－Ｏ－＊である場合には、Ｒ１ａ及びＲ３ａはそれぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、ｓは５～６０のいずれかの整数を表すものが挙げられる。
また、式（ＩＩａ）において、Ｒ１ａ及びＲ３ａが－Ｏ－＊を表す場合には、Ｒ２ａは単結合又は－Ｏ－＊を表し、ｓは５～６０のいずれかの整数を表すものが挙げられる。
さらに、式（ＩＩａ）において、Ｒ２ａが－Ｏ－＊である場合には、Ｒ１ａ及びＲ３ａはそれぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、ｓは５～６０のいずれかの整数を表すものが挙げられる。
また、式（ＩＩａ）において、Ｒ１ａ及びＲ３ａが－Ｏ－＊を表す場合には、Ｒ２ａは単結合又は－Ｏ－＊を表し、ｓは５～６０のいずれかの整数を表すものが挙げられる。
式（ＩＩａ）で表される部分構造としては、例えば、式（ＩＩａ－１）～（ＩＩａ－１０）で表される部分構造が挙げられる。
式（ＩＩａ）で表される部分構造を有する化合物としては、式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手が重合性基(例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基又はメタクリロイルアミノ基等）と結合した化合物、該化合物に由来する構造単位を含む樹脂及び式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手がシロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）を有するシロキサン化合物等が挙げられる。なかでも、式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手が重合性基と結合した化合物に由来する構造単位を含む樹脂が好ましい。この場合、式（ＩＩａ）におけるＲ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａには、さらに、（メタ）アクリロイル基が含まれていてもよい。つまり、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１８の炭化水素基、－Ｏ－＊又は（メタ）アクリロイル基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
式（ＩＩａ）で表される部分構造を含む化合物に由来する構造単位を含む樹脂の重量平均分子量は、例えば、１００００以下が好ましく、１０００～５０００がより好ましく、３０００～５０００がさらに好ましい。
式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手が重合性基と結合した化合物としては、例えば、式（ＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩ）」という場合がある。）が挙げられ、式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手がシロキサン結合を有するシロキサン化合物としては、式（ＩＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩＩ）」という場合がある。）が挙げられる。
［式（ＩＩ）中、
Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基又は（メタ）アクリロイル基を表す。
Ｒ４は、水素原子又はメチル基を表す。］
［式（ＩＩＩ）中、
Ｒ１及びＲ３は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１１は、炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
Ｒは、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ｍは、１以上の整数を表す。］
式（ＩＩａ）で表される部分構造を含む化合物に由来する構造単位を含む樹脂の重量平均分子量は、例えば、１００００以下が好ましく、１０００～５０００がより好ましく、３０００～５０００がさらに好ましい。
式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手が重合性基と結合した化合物としては、例えば、式（ＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩ）」という場合がある。）が挙げられ、式（ＩＩａ）で表される部分構造における＊で表される結合手がシロキサン結合を有するシロキサン化合物としては、式（ＩＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩＩ）」という場合がある。）が挙げられる。
Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、炭素数１～１８の炭化水素基又は（メタ）アクリロイル基を表す。
Ｒ４は、水素原子又はメチル基を表す。］
Ｒ１及びＲ３は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１１は、炭素数１～１８の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
Ｒは、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
ｍは、１以上の整数を表す。］
Ｘ１１で表される炭素数１～１８の２価の炭化水素基としては、Ｘ１で表される炭素数１～１８の２価の炭化水素基と同じ基が挙げられる。
Ｒで表される炭素数１～１８の炭化水素基としては、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１～１８の炭化水素基と同じものが挙げられる。
炭素数１～１８の２価の炭化水素基としては、アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基などが挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せたものでもよい。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
炭素数１～１８の炭化水素基としては、アルキル基、単環式又は多環式の脂環式飽和炭化水素基、直鎖、分岐又は環状の不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基などが挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せたものでもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等が挙げられる。
単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等が挙げられる。
直鎖の不飽和炭化水素基としては、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、エチニル基、プロペニル基、ブチニル基等が挙げられる。分岐の不飽和炭化水素基としては、２－メチルプロペニル基、２－メチルブテニル基、２－メチルプロペニル基、２－メチルブチニル基等が挙げられる。環状の不飽和炭化水素基としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロプロペニル基、シクロブチニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等が挙げられる。
単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等が挙げられる。
直鎖の不飽和炭化水素基としては、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、エチニル基、プロペニル基、ブチニル基等が挙げられる。分岐の不飽和炭化水素基としては、２－メチルプロペニル基、２－メチルブテニル基、２－メチルプロペニル基、２－メチルブチニル基等が挙げられる。環状の不飽和炭化水素基としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロプロペニル基、シクロブチニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基等が挙げられる。
化合物（ＩＩ）としては、例えば、式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－７）で表される化合物、及び化合物（ＩＩ）において、Ｒ４に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物が挙げられる。
化合物（ＩＩＩ）は、例えば、重量平均分子量が２０００～１０００００のものが挙げられ、重量平均分子量が３０００～１００００のものであることが好ましい。化合物（ＩＩＩ）は、シロキサン結合が三次元に展開された化合物であってもよい。
化合物（ＩＩＩ）としては、例えば、式（ＩＩＩ－１）～（ＩＩＩ－４）で表される化合物が挙げられる。ここで、Ｒは前記と同じ意味を表す。
化合物（ＩＩＩ）としては、例えば、式（ＩＩＩ－１）～（ＩＩＩ－４）で表される化合物が挙げられる。ここで、Ｒは前記と同じ意味を表す。
化合物（ＩＩａ）は、レジスト組成物中に、そのままの形態で含有されてもよいし、重合性基によって重合した樹脂として含有されていてもよいし、双方が含有されていてもよい。
このような樹脂は、例えば、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位（以下「構造単位（ＩＩ）」という場合がある。）を含む樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある。）が挙げられる。
本発明のレジスト組成物は、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位を含む樹脂又は化合物（ＩＩＩ）を含むものが好ましく、なかもで、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位を含む樹脂であることが好ましい。
このような樹脂は、例えば、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位（以下「構造単位（ＩＩ）」という場合がある。）を含む樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある。）が挙げられる。
本発明のレジスト組成物は、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位を含む樹脂又は化合物（ＩＩＩ）を含むものが好ましく、なかもで、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位を含む樹脂であることが好ましい。
化合物（ＩＩ）に由来する構造単位としては、例えば、式（ＩＩ－１’）～（ＩＩ－４’）で表される構造単位が挙げられる。
Ｒ４に相当するメタクロイル基のメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位の具体例として挙げることができる。
化合物（ＩＩａ）が、化合物（ＩＩ）に由来する構造単位を含む樹脂である場合、構造単位（ＩＩ）の合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１０～９５モル％であり、好ましくは１０～８０モル％であり、より好ましくは１５～７５モル％である。
樹脂（Ａ）は、２種以上の構造単位（ＩＩ）を含んでいてもよい。
樹脂（Ａ）は、さらに、酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ１）」という場合がある）を有してもよい。ここで、「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を形成する基を意味する。
樹脂（Ａ）は、さらに、酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ１）」という場合がある）を有してもよい。ここで、「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を形成する基を意味する。
〈構造単位（ａ１）〉
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基及び／又は式（２）で表される基が好ましい。
［式（１）中、Ｒa1～Ｒa3は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒa1及びＲa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数３～２０の２価の脂環式炭化水素基を形成する。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方は１を表す。
＊は結合手を表す。］
［式（２）中、Ｒa1’及びＲa2’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒa3’は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒa2’及びＲa3’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに炭素数３～２０の２価の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該２価の複素環基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合手を表す。］
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基及び／又は式（２）で表される基が好ましい。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方は１を表す。
＊は結合手を表す。］
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合手を表す。］
Ｒa1～Ｒa3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基等が挙げられる。
Ｒa1～Ｒa3の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等が挙げられる。Ｒa1～Ｒa3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１６である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒa1及びＲa2が互いに結合して２価の脂環式炭化水素基を形成する場合の－Ｃ（Ｒa1）（Ｒa2）（Ｒa3）としては、下記の基が挙げられる。２価の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３～１２である。＊は－Ｏ－との結合手を表す。
Ｒa1～Ｒa3の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等が挙げられる。Ｒa1～Ｒa3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１６である。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒa1及びＲa2が互いに結合して２価の脂環式炭化水素基を形成する場合の－Ｃ（Ｒa1）（Ｒa2）（Ｒa3）としては、下記の基が挙げられる。２価の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３～１２である。＊は－Ｏ－との結合手を表す。
Ｒa1'～Ｒa3'の炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、上記と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa2'及びＲa3'が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに２価の複素環基を形成する場合、－Ｃ（Ｒa1'）（Ｒa2'）－Ｘ－（Ｒa3'）としては、下記の基が挙げられる。＊は、結合手を表す。
Ｒa1'及びＲa2'のうち、少なくとも１つは水素原子であることが好ましい。
ｎａ’は、好ましくは０である。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、上記と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa2'及びＲa3'が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに２価の複素環基を形成する場合、－Ｃ（Ｒa1'）（Ｒa2'）－Ｘ－（Ｒa3'）としては、下記の基が挙げられる。＊は、結合手を表す。
ｎａ’は、好ましくは０である。
式（１）で表される基としては、１，１－ジアルキルアルコキシカルボニル基（式（１）中においてＲa1～Ｒa3がアルキル基、ｍａ＝０、ｎａ＝１、好ましくはｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基）、２－アルキルアダマンタン－２－イルオキシカルボニル基（式（１）中、Ｒa1、Ｒa2及びこれらが結合する炭素原子がアダマンチル基、Ｒa3がアルキル基、ｍａ＝０、ｎａ＝１）及び１－（アダマンタン－１－イル）－１－アルキルアルコキシカルボニル基（式（１）中、Ｒa1及びＲa2がアルキル基、Ｒa3がアダマンチル基、ｍａ＝０、ｎａ＝１）等、具体的には以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
式（２）で表される基の具体例としては、以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
モノマー（ａ１）は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。
酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数５～２０の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する樹脂（Ａ）をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。
式（１）で表される基を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式（ａ１－０）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－０）という場合がある。）、式（ａ１－１）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－１）という場合がある。）又は式（ａ１－２）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－２）という場合がある。）が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
［式（ａ１－０）、式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒa01、Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒa01、Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］
Ｒa01、Ｒa4及びＲa5は、好ましくはメチル基である。
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、好ましくは酸素原子又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ０１－ＣＯ－Ｏ－であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１～４のいずれかの整数、より好ましくは１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７のアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式（１）のＲａ１～Ｒａ３で挙げた基と同様の基が挙げられる。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04のアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～８であり、より好ましくは３～６である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒa02及びＲa03は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa04は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～１２の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
ｍ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、好ましくは酸素原子又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ０１－ＣＯ－Ｏ－であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１～４のいずれかの整数、より好ましくは１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７のアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式（１）のＲａ１～Ｒａ３で挙げた基と同様の基が挙げられる。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04のアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～８であり、より好ましくは３～６である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒa02及びＲa03は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa04は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～１２の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
ｍ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。
構造単位（ａ１－０）としては、例えば、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１２）のいずれかで表される構造単位及びＲａ０１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１０）のいずれかで表される構造単位が好ましい。
構造単位（ａ１－１）を導くモノマーとしては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式（ａ１－１－１）～式（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位及びＲａ４に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式（ａ１－１－１）～式（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
構造単位（ａ１－２）としては、式（ａ１－２－１）～式（ａ１－２－６）のいずれかで表される構造単位及びＲａ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－２－２）、式（ａ１－２－５）及び式（ａ１－２－６）が好ましい。
樹脂（Ａ）が構造単位（ａ１－０）及び／又は構造単位（ａ１－１）及び／又は構造単位（ａ１－２）を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１０～９５モル％であり、好ましくは１５～９０モル％であり、より好ましくは２０～８５モル％である。
基（２）で表される基を有する構造単位（ａ１）としては、式（ａ１－４）で表される構造単位（以下、「構造単位（ａ１－４）」という場合がある。）が挙げられる。
［式（ａ１－４）中、
Ｒa32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０～４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲa33は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒa34及びＲa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒa36は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒa35及びＲa36は互いに結合してそれらが結合するＣ－Ｏとともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。］
Ｒa32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０～４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲa33は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒa34及びＲa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒa36は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒa35及びＲa36は互いに結合してそれらが結合するＣ－Ｏとともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。］
Ｒa32及びＲa33のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ｒa32及びＲa33のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，１－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロペンチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒa34、Ｒa35及びＲa36の炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられ、式（２）のＲa1’及びＲa2’と同様の基が挙げられる。特にＲa36としては、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
Ｒa32及びＲa33のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，１－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロペンチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒa34、Ｒa35及びＲa36の炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられ、式（２）のＲa1’及びＲa2’と同様の基が挙げられる。特にＲa36としては、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
式（ａ１－４）において、Ｒa32としては、水素原子が好ましい。
Ｒa33としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒa34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒa35は、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数７～１８のアラルキル基である。Ｒa36におけるアルキル基及び前記脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒa36における芳香族炭化水素基は、炭素数６～１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
Ｒa33としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒa34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒa35は、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数７～１８のアラルキル基である。Ｒa36におけるアルキル基及び前記脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒa36における芳香族炭化水素基は、炭素数６～１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位（ａ１－４）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４－８）でそれぞれ表される構造単位及びＲａ３２に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４－５）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位の合計に対して、１０～９５モル％であることが好ましく、１５～９０モル％であることがより好ましく、２０～８５モル％であることがさらに好ましい。
式（２）で表される基を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式（ａ１－５）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ１－５）」という場合がある）も挙げられる。
式（ａ１－５）中、
Ｒa8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｚa1は、単結合又は＊－（ＣＨ2）h3－ＣＯ－Ｌ54－を表し、ｈ３は１～４のいずれかの整数を表し、＊は、Ｌ51との結合手を表す。
Ｌ51、Ｌ52、Ｌ53及びＬ54は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
ｓ１は、１～３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。
Ｒa8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｚa1は、単結合又は＊－（ＣＨ2）h3－ＣＯ－Ｌ54－を表し、ｈ３は１～４のいずれかの整数を表し、＊は、Ｌ51との結合手を表す。
Ｌ51、Ｌ52、Ｌ53及びＬ54は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
ｓ１は、１～３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１－５）においては、Ｒa8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
Ｌ51は、酸素原子が好ましい。
Ｌ52及びＬ53のうち、一方が－Ｏ－であり、他方が－Ｓ－であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０～２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚa1は、単結合又は＊－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１－５）においては、Ｒa8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
Ｌ51は、酸素原子が好ましい。
Ｌ52及びＬ53のうち、一方が－Ｏ－であり、他方が－Ｓ－であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０～２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚa1は、単結合又は＊－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
構造単位（ａ１－５）を導くモノマーとしては、例えば、特開２０１０－６１１１７号公報に記載されたモノマーが挙げられる。中でも、式（ａ１－５－１）～式（ａ１－５－４）でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式（ａ１－５－１）又は式（ａ１－５－２）で表される構造単位がより好ましい。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～５０モル％が好ましく、３～４５モル％がより好ましく、５～４０モル％がさらに好ましい。
また、構造単位（ａ１）としては、以下の構造単位も挙げられる。
樹脂（Ａ）が上記構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１０～９５モル％が好ましく、１５～９０モル％がより好ましく、２０～８５モル％がさらに好ましい。
樹脂（Ａ）は、さらに、酸不安定基を有さないモノマー（以下「モノマー（ｓ）」という場合がある）に由来する構造単位（以下「構造単位（ｓ）」という場合がある）、構造単位（ａ１）及び構造単位（ｓ）以外の構造単位（例えば、ハロゲン原子を有する構造単位（ａ４）、非脱離炭化水素基を有する構造単位（ａ５）、カルボキシル基を有する構造単位（ａ６）、露光により分解して酸を発生する構造単位（ＩＶ））及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。
〈構造単位（ｓ）〉
構造単位（ｓ）は、酸不安定基を有さないモノマーから導かれる。構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位が好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
構造単位（ｓ）は、酸不安定基を有さないモノマーから導かれる。構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位が好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
〈構造単位（ａ２）〉
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）が好ましく、構造単位（ａ２－１）を用いることがより好ましい。構造単位（ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）が好ましく、構造単位（ａ２－１）を用いることがより好ましい。構造単位（ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。
フェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式（ａ２－Ａ）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－Ａ）」という場合がある）が挙げられる。
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－を表し、＊は－Ｒa50が結合する炭素原子との結合手を表す。
Ａa52は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上の整数である場合、複数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアシル基、炭素数２～４のアシルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－を表し、＊は－Ｒa50が結合する炭素原子との結合手を表す。
Ａa52は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上の整数である場合、複数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］
Ｒa50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
Ｒa50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，１－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロペンチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基及びｎ－ペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒa50は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒa51のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｒa51のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒa51におけるアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒa51は、メチル基が好ましい。
Ｒa50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，１－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロペンチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基及びｎ－ペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒa50は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒa51のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｒa51のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒa51におけるアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒa51は、メチル基が好ましい。
＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－としては、＊－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－、＊－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、が挙げられる。なかでも、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
Ａa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
Ａa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
Ａa50は、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－であることが好ましく、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－であることがより好ましく、単結合又は＊－ＣＯ－Ｏ－であることがさらに好ましい。
ｍｂは０、１又は２が好ましく、０又は１がより好ましく、０が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のｏ－位又はｐ－位に結合することが好ましく、ｐ－位に結合することがより好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のｏ－位又はｐ－位に結合することが好ましく、ｐ－位に結合することがより好ましい。
構造単位（ａ２－Ａ）としては、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－４）で表される構造単位及びＲａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位（ａ２－Ａ）は、式（ａ２－２－１）で表される構造単位、式（ａ２－２－３）で表される構造単位及びＲａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
構造単位（ａ２－Ａ）を誘導するモノマーとしては、特開２０１０－２０４６３４号公報、特開２０１２－１２５７７号公報に記載されているモノマーが挙げられる。
樹脂（Ａ）中に構造単位（ａ２－Ａ）が含まれる場合の構造単位（ａ２－Ａ）の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは５～８０モル％であり、より好ましくは１０～７０モル％であり、さらに好ましくは１５～６５モル％である。
アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）としては、式（ａ２－１）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－１）」という場合がある。）が挙げられる。
式（ａ２－１）中、
Ｌa3は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ2）k2－ＣＯ－Ｏ－を表し、
ｋ２は１～７のいずれかの整数を表す。＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒa14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa15及びＲa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
Ｌa3は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ2）k2－ＣＯ－Ｏ－を表し、
ｋ２は１～７のいずれかの整数を表す。＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒa14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa15及びＲa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。
式（ａ２－１）では、Ｌa3は、好ましくは、－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ2）f1－ＣＯ－Ｏ－であり（前記ｆ１は、１～４のいずれかの整数である）、より好ましくは－Ｏ－である。
Ｒa14は、好ましくはメチル基である。
Ｒa15は、好ましくは水素原子である。
Ｒa16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。
Ｒa14は、好ましくはメチル基である。
Ｒa15は、好ましくは水素原子である。
Ｒa16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。
構造単位（ａ２－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－６）のいずれかで表される構造単位が好ましく、式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式（ａ２－１－１）又は式（ａ２－１－３）で表される構造単位がさらに好ましい。
樹脂（Ａ）が構造単位（ａ２－１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１～４５モル％であり、好ましくは１～４０モル％であり、より好ましくは１～３５モル％であり、さらに好ましくは２～２０モル％であり、さらにより好ましくは２～１０モル％である。
〈構造単位（ａ３）〉
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β－プロピオラクトン環、γ－ブチロラクトン環、δ－バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ－ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ－ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環が挙げられる。
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β－プロピオラクトン環、γ－ブチロラクトン環、δ－バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ－ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ－ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環が挙げられる。
構造単位（ａ３）は、好ましくは、式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。これらの１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
［式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）及び式（ａ３－４）中、
Ｌａ４、Ｌａ５及びＬａ６は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－（ｋ３は１～７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌａ７は、－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－Ｌａ９－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－ＣＯ－Ｌａ９－Ｏ－を表す。
Ｌａ８及びＬａ９は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合手を表す。
Ｒａ１８、Ｒａ１９及びＲａ２０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ２４は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｒａ２１は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒａ２２、Ｒａ２３及びＲａ２５は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
ｐ１は０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０～８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲａ２１、Ｒａ２２、Ｒａ２３及び／又はＲａ２５は互いに同一であってもよく、異なってもよい。］
Ｌａ４、Ｌａ５及びＬａ６は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－（ｋ３は１～７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌａ７は、－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－Ｌａ９－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－ＣＯ－Ｌａ９－Ｏ－を表す。
Ｌａ８及びＬａ９は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合手を表す。
Ｒａ１８、Ｒａ１９及びＲａ２０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ２４は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｒａ２１は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒａ２２、Ｒａ２３及びＲａ２５は、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
ｐ１は０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０～８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲａ２１、Ｒａ２２、Ｒａ２３及び／又はＲａ２５は互いに同一であってもよく、異なってもよい。］
Ｒa21、Ｒa22、Ｒa23及びＲa25の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
Ｒａ２４のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒａ２４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基及びｎ－ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
Ｒａ２４のハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Ｒａ２４のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒａ２４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基及びｎ－ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
Ｒａ２４のハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Ｌａ８及びＬａ９のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
式（ａ３－１）～式（ａ３－３）において、Ｌａ４～Ｌａ６は、互いに独立に、好ましくは－Ｏ－又は、ｋ３が１～４のいずれかの整数である＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－で表される基、より好ましくは－Ｏ－及び、＊－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－、さらに好ましくは酸素原子である。
Ｒａ１８～Ｒａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒａ２２及びＲａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
Ｒａ１８～Ｒａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒａ２２及びＲａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
式（ａ３－４）において、Ｒａ２４は、好ましくは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌａ７は、好ましくは－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－であり、より好ましくは－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ２Ｈ４－ＣＯ－Ｏ－である。
特に、式（ａ３－４）は、式（ａ３－４）’が好ましい。
（式中、Ｒａ２４、Ｌａ７は、上記と同じ意味を表す。）
Ｒａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌａ７は、好ましくは－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－であり、より好ましくは－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ２Ｈ４－ＣＯ－Ｏ－である。
特に、式（ａ３－４）は、式（ａ３－４）’が好ましい。
構造単位（ａ３）としては、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー、特開２０００－１２２２９４号公報に記載されたモノマー、特開２０１２－４１２７４号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位（ａ３）としては、式（ａ３－１－１）、式（ａ３－１－２）、式（ａ３－２－１）、式（ａ３－２－２）、式（ａ３－３－１）、式（ａ３－３－２）及び式（ａ３－４－１）～式（ａ３－４－１２）のいずれかで表される構造単位及びＲａ１８、Ｒａ１９、Ｒａ２０及びＲa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。
樹脂（Ａ）が構造単位（ａ３）を含む場合、その合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常５～７０モル％であり、好ましくは１０～６５モル％であり、より好ましくは１０～６０モル％である。
また、構造単位（ａ３－１）、構造単位（ａ３－２）、構造単位（ａ３－３）及び構造単位（ａ３－４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５～６０モル％が好ましく、５～５０モル％がより好ましく、１０～５０モル％がさらに好ましい。
また、構造単位（ａ３－１）、構造単位（ａ３－２）、構造単位（ａ３－３）及び構造単位（ａ３－４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５～６０モル％が好ましく、５～５０モル％がより好ましく、１０～５０モル％がさらに好ましい。
〈構造単位（ａ４）〉
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－０）で表される構造単位が挙げられる。
［式（ａ４－０）中、
Ｒ5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ4は、単結合又は炭素数１～４の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ3は、炭素数１～８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３～１２のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ6は、水素原子又はフッ素原子を表す。］
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－０）で表される構造単位が挙げられる。
Ｒ5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ4は、単結合又は炭素数１～４の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ3は、炭素数１～８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３～１２のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ6は、水素原子又はフッ素原子を表す。］
Ｌ4の脂肪族飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基及び２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
Ｌ3のペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン－１，１－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，３－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，２－ジイル基、ペルフルオロプロパン－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，４－ジイル基、ペルフルオロブタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－１，５－ジイル基、ペルフルオロペンタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－１，６－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－１，７－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－３，４－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－４，４－ジイル基、ペルフルオロオクタン－１，８－ジイル基、ペルフルオロオクタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロオクタン－３，３－ジイル基、ペルフルオロオクタン－４，４－ジイル基等が挙げられる。
Ｌ3のペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Ｌ3のペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Ｌ4は、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
Ｌ3は、好ましくは炭素数１～６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルカンジイル基である。
Ｌ3は、好ましくは炭素数１～６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルカンジイル基である。
構造単位（ａ４－０）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中のＲ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－１）で表される構造単位が挙げられる。
［式（ａ４－１）中、
Ｒa41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa42は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ａa41は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルカンジイル基又は式（ａ－ｇ１）で表される基を表す。ただし、Ａａ４１及びＲａ４２のうち少なくとも１つは、置換基としてフッ素原子を有する。
〔式（ａ－ｇ１）中、
ｓは０又は１を表す。
Ａa42及びＡa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～５の飽和炭化水素基を表す。
Ａa43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１～５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘa41及びＸa42は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ただし、Ａa42、Ａa43、Ａa44、Ｘa41及びＸa42の炭素数の合計は７以下である。〕
＊は結合手であり、右側の＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合手である。］
Ｒa41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa42は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ａa41は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルカンジイル基又は式（ａ－ｇ１）で表される基を表す。ただし、Ａａ４１及びＲａ４２のうち少なくとも１つは、置換基としてフッ素原子を有する。
ｓは０又は１を表す。
Ａa42及びＡa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～５の飽和炭化水素基を表す。
Ａa43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１～５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘa41及びＸa42は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ただし、Ａa42、Ａa43、Ａa44、Ｘa41及びＸa42の炭素数の合計は７以下である。〕
＊は結合手であり、右側の＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合手である。］
Ｒa42の炭化水素基としては、鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、並びにこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基は、炭素－炭素不飽和結合を有していてもよいが、鎖式及び環式の脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。該脂肪族飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルキル基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、アルキル基及び脂環式炭化水素基を組み合わせることにより形成される脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
鎖式及び環式の脂肪族炭化水素基は、炭素－炭素不飽和結合を有していてもよいが、鎖式及び環式の脂肪族飽和炭化水素基が好ましい。該脂肪族飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルキル基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、アルキル基及び脂環式炭化水素基を組み合わせることにより形成される脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
鎖式の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基及びｎ－オクタデシル基が挙げられる。環式の脂肪族炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニリル基、フェナントリル基及びフルオレニル基が挙げられる。
Ｒa42は、置換基として、ハロゲン原子及び式（ａ－ｇ３）で表される基を有していてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
［式（ａ－ｇ３）中、
Ｘa43は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
Ａa45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
＊は結合手を表す。］
ただし、Ｒa42－Ｘa43－Ａa45において、Ｒa42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａa45は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘa43は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
Ａa45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
＊は結合手を表す。］
ただし、Ｒa42－Ｘa43－Ａa45において、Ｒa42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａa45は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
Ａa45の脂肪族炭化水素基としては、Ｒa42で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｒa42は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び／又は式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基がより好ましい。
Ｒa42がハロゲン原子を有する脂肪族炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１～６のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa42が、式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基である場合、式（ａ－ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、脂肪族炭化水素基の総炭素数は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。式（ａ－ｇ３）で表される基を置換基として有する場合、その数は１個が好ましい。
Ｒa42は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び／又は式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基がより好ましい。
Ｒa42がハロゲン原子を有する脂肪族炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１～６のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa42が、式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素基である場合、式（ａ－ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、脂肪族炭化水素基の総炭素数は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。式（ａ－ｇ３）で表される基を置換基として有する場合、その数は１個が好ましい。
式（ａ－ｇ３）で表される基を有する脂肪族炭化水素は、さらに好ましくは式（ａ－ｇ２）で表される基である。
［式（ａ－ｇ２）中、
Ａa46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘa44は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
Ａa47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Ａa46、Ａa47及びＸa44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａa46及びＡa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合手を表す。］
Ａa46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘa44は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
Ａa47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Ａa46、Ａa47及びＸa44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａa46及びＡa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合手を表す。］
Ａa46の脂肪族炭化水素基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
Ａa47の脂肪族炭化水素基の炭素数は４～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、Ａa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
Ａa47の脂肪族炭化水素基の炭素数は４～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、Ａa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
＊－Ａa46－Ｘa44－Ａa47で表される部分構造（＊はカルボニル基との結合手である）のより好ましい構造は、以下の構造である。
Ａa41のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
Ａa41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
Ａa41は、好ましくは炭素数１～４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数２～４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
Ａa41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
Ａa41は、好ましくは炭素数１～４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数２～４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
式（ａ－ｇ１）で表される基におけるＡａ４２、Ａａ４３及びＡａ４４の飽和炭化水素基は、鎖式及び環式の飽和炭化水素基並びにこれらを組合せることにより形成される基が好ましい。該飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環脂環式炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される飽和炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、１－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等が挙げられる。
Ａａ４２、Ａａ４３及びＡａ４４の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。
Ａａ４２、Ａａ４３及びＡａ４４の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。
Ｘa42が酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す式（ａ－ｇ１）で表される基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、＊及び＊＊はそれぞれ結合手を表わし、＊＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合手である。
式（ａ４－１）で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中のＲa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－４）で表される構造単位も挙げられる。
［式（ａ４－４）中、
Ｒf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａf21は、－（ＣＨ2）j1－、－（ＣＨ2）j2－Ｏ－（ＣＨ2）j3－又は－（ＣＨ2）j4－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ2）j5－を表す。
ｊ１～ｊ５は、それぞれ独立に、１～６のいずれかの整数を表す。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０の炭化水素基を表す。］
Ｒf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａf21は、－（ＣＨ2）j1－、－（ＣＨ2）j2－Ｏ－（ＣＨ2）j3－又は－（ＣＨ2）j4－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ2）j5－を表す。
ｊ１～ｊ５は、それぞれ独立に、１～６のいずれかの整数を表す。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０の炭化水素基を表す。］
Ｒf22の炭化水素基は、鎖式、環式及びこれらの組み合わせることにより形成される脂肪族炭化水素基を含む。脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基が好ましい。
Ｒf22のフッ素原子を有する炭化水素基としては、フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有する脂環式炭化水素基等が挙げられる。
具体的には、フッ素原子を有するアルキル基としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１－ジフルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロプロピル基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、１－（トリフルオロメチル）－１，２，２，２－テトラフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，２，２－テトラフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、１，１－ビス（トリフルオロ）メチル－２，２，２－トリフルオロエチル基、２－（ペルフルオロプロピル）エチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５－デカフルオロペンチル基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、２－（ペルフルオロブチル）エチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５－デカフルオロヘキシル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等のフッ化アルキル基が挙げられる。
フッ素原子を有する脂環式炭化水素基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロアダマンチル基等のフッ化シクロアルキル基が挙げられる。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数１～１０の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。
Ｒf22のフッ素原子を有する炭化水素基としては、フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有する脂環式炭化水素基等が挙げられる。
具体的には、フッ素原子を有するアルキル基としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１－ジフルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロプロピル基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、１－（トリフルオロメチル）－１，２，２，２－テトラフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，２，２－テトラフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、１，１－ビス（トリフルオロ）メチル－２，２，２－トリフルオロエチル基、２－（ペルフルオロプロピル）エチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５－デカフルオロペンチル基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、ペルフルオロペンチル基、２－（ペルフルオロブチル）エチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５－デカフルオロヘキシル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等のフッ化アルキル基が挙げられる。
フッ素原子を有する脂環式炭化水素基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロアダマンチル基等のフッ化シクロアルキル基が挙げられる。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数１～１０の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。
式（ａ４－４）においては、Ａf21としては、－（ＣＨ2）ｊ1－が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。
式（ａ４－４）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位においてはＲf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～２０モル％が好ましく、２～１５モル％がより好ましく、３～１０モル％がさらに好ましい。
〈構造単位（ａ５）〉
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を含むものが好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５－１）で表される構造単位が挙げられる。
［式（ａ５－１）中、
Ｒ51は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ52は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。但し、Ｌ55との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されない。
Ｌ55は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を含むものが好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５－１）で表される構造単位が挙げられる。
Ｒ51は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ52は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。但し、Ｌ55との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されない。
Ｌ55は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
Ｒ52の脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数１～８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有した脂環式炭化水素基としては、３－メチルアダマンチル基などが挙げられる。
Ｒ52は、好ましくは、無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
炭素数１～８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有した脂環式炭化水素基としては、３－メチルアダマンチル基などが挙げられる。
Ｒ52は、好ましくは、無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
Ｌ55の２価の飽和炭化水素基としては、２価の脂肪族飽和炭化水素基及び２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
２価の脂肪族飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
２価の脂肪族飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、例えば、式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－４）で表される基が挙げられる。下記式中、＊は酸素原子との結合手を表す。
式（Ｌ１－１）中、
Ｘx1は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
Ｌx1は、炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx2は、単結合又は炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx1及びＬx2の合計炭素数は、１６以下である。
式（Ｌ１－２）中、
Ｌx3は、炭素数１～１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx4は、単結合又は炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx3及びＬx4の合計炭素数は、１７以下である。
式（Ｌ１－３）中、
Ｌx5は、炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx6及びＬx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx5、Ｌx6及びＬx7の合計炭素数は、１５以下である。
式（Ｌ１－４）中、
Ｌx8及びＬx9は、単結合又は炭素数１～１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗx1は、炭素数３～１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx8、Ｌx9及びＷx1の合計炭素数は、１５以下である。
Ｘx1は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
Ｌx1は、炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx2は、単結合又は炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx1及びＬx2の合計炭素数は、１６以下である。
式（Ｌ１－２）中、
Ｌx3は、炭素数１～１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx4は、単結合又は炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx3及びＬx4の合計炭素数は、１７以下である。
式（Ｌ１－３）中、
Ｌx5は、炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx6及びＬx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx5、Ｌx6及びＬx7の合計炭素数は、１５以下である。
式（Ｌ１－４）中、
Ｌx8及びＬx9は、単結合又は炭素数１～１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗx1は、炭素数３～１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx8、Ｌx9及びＷx1の合計炭素数は、１５以下である。
Ｌx1は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx2は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
Ｌx3は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx4は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx5は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx6は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx7は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx8は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌx9は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗx1は、好ましくは、炭素数３～１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
Ｌx2は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
Ｌx3は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx4は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx5は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx6は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx7は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx8は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌx9は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗx1は、好ましくは、炭素数３～１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
式（Ｌ１－１）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
式（Ｌ１－２）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
式（Ｌ１－３）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
式（Ｌ１－４）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
Ｌ55は、好ましくは、単結合又は式（Ｌ１－１）で表される基である。
構造単位（ａ５－１）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中のＲ51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～３０モル％が好ましく、２～２０モル％がより好ましく、３～１５モル％がさらに好ましい。
＜構造単位（ａ６）＞
構造単位（ａ６）としては、以下で表される構造単位が挙げられる。
構造単位（ａ６）としては、以下で表される構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ６）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～４０モル％が好ましく、２～３５モル％がより好ましく、３～３０モル％がさらに好ましい。
＜構造単位（ＩＶ）＞
露光により分解して酸を発生する構造単位（（ＩＶ）としては、具体的には特開２０１６－７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
露光により分解して酸を発生する構造単位（（ＩＶ）としては、具体的には特開２０１６－７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式（ＩＶ－２－Ａ’）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＶ－２－Ａ’）中、
ＸＩＩＩ３は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａｘ１は、炭素数１～８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
ＲＡ－は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
ＲＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｚａ＋は、有機カチオンを表す。］
ＸＩＩＩ３は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａｘ１は、炭素数１～８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
ＲＡ－は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
ＲＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｚａ＋は、有機カチオンを表す。］
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａｘ１で表される炭素数１～８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａｘ１で表される炭素数１～８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わったものとしては、例えば式（Ｘ１）～式（Ｘ５３）で表される２価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わる前の炭素数はそれぞれ１７以下である。下記式において、＊はＡｘ１との結合手を表す。
Ｘ3は、２価の炭素数１～１６の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ4は、２価の炭素数１～１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ5は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ6は、炭素数１～１４のアルキル基を表す。
Ｘ7は、３価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ8は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ4は、２価の炭素数１～１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ5は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ6は、炭素数１～１４のアルキル基を表す。
Ｘ7は、３価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ8は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｚa+で表される有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、例えば有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオンなどが挙げられ、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。
具体的には、塩（Ｉ０）における有機カチオンと同様のものが挙げられる。
具体的には、塩（Ｉ０）における有機カチオンと同様のものが挙げられる。
式（ＩＶ－２－Ａ’）で表される構造単位は、式（ＩＶ－２－Ａ）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＶ－２－Ａ）中、
ＲＩＩＩ３、ＸＩＩＩ３及びＺａ＋は、上記と同じ意味を表す。
Ｚは、０～６の整数を表す。
ＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑａ及びＱｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。］
ＲＩＩＩ３、ＸＩＩＩ３及びＺａ＋は、上記と同じ意味を表す。
Ｚは、０～６の整数を表す。
ＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑａ及びＱｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。］
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ４、Ｑａ及びＱｂで表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基としては、Ｑ１で表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。
式（ＩＶ－２－Ａ）で表される構造単位は、式（ＩＶ－２－Ａ－１）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＶ－２－Ａ－１）中、
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ４、Ｑa、Ｑb、ｚ及びＺa＋は、上記と同じ意味を表す。
ＲＩＩＩ５は、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ2は、炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ４、Ｑa、Ｑb、ｚ及びＺa＋は、上記と同じ意味を表す。
ＲＩＩＩ５は、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ2は、炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
ＲＩＩＩ５で表される炭素数１～１２の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
Ｘ２で表される炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基としては、ＸＩＩＩ３で表される２価の飽和炭化水素基のうちの炭素数１１までのものが挙げられる。
Ｘ２で表される炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基としては、ＸＩＩＩ３で表される２価の飽和炭化水素基のうちの炭素数１１までのものが挙げられる。
式（ＩＶ－２－Ａ）で表される構造単位としては、式（ＩＶ－２－Ａ－２）で表される構造単位がさらに好ましい。
［式（ＩＶ－２－Ａ－２）中、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ５及びＺa＋は、上記と同じ意味を表す。
ｍ及びｎは、互いに独立に、１又は２を表す。］
ｍ及びｎは、互いに独立に、１又は２を表す。］
式（ＩＶ－２－Ａ－１）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及びＷＯ２０１２／０５００１５記載の構造単位が挙げられる。Ｚa＋は、有機カチオンを表す。
側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式（ＩＶ－１－１）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＶ－１－１）中、
ＡＩＩ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
ＲＩＩ１は、炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
ＲＩＩ４は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ａ－は、有機アニオンを表す。］
ＡＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基が挙げられ、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。具体的には、ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ１で表される炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３で表される炭素数１～１８の炭化水素基としては、式（２）のＲａ３’で表される炭素数１～１８の炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
ＡＩＩ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
ＲＩＩ１は、炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
ＲＩＩ４は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ａ－は、有機アニオンを表す。］
ＡＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基が挙げられ、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。具体的には、ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ１で表される炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３で表される炭素数１～１８の炭化水素基としては、式（２）のＲａ３’で表される炭素数１～１８の炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
式（ＩＶ－１－１）中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Ａ－で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Ａ－で表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、酸発生剤（Ｂ１）に含まれるアニオンであることがより好ましい。
Ａ－で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
構造単位（ＩＶ－１）としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
樹脂（Ａ）中に、構造単位（ＩＶ）を含有する場合の構造単位（ＩＶ）の含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、好ましくは１～２０モル％であり、より好ましくは２～１５モル％であり、さらに好ましくは３～１０モル％である。
樹脂（Ａ）は、好ましくは、構造単位（ＩＩ）と構造単位（ｓ）と構造単位（ａ６）とからなる樹脂である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び又は構造単位（ａ３）である。構造単位（ａ２）は、好ましくは式（ａ２－Ａ）又は式（ａ２－１）で表される構造単位である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３－１）又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。
構造単位（ａ６）は、好ましくは式（ａ６－３）で表される構造単位である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び又は構造単位（ａ３）である。構造単位（ａ２）は、好ましくは式（ａ２－Ａ）又は式（ａ２－１）で表される構造単位である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３－１）又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。
構造単位（ａ６）は、好ましくは式（ａ６－３）で表される構造単位である。
樹脂（Ａ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組み合わせて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ａ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは、２，０００以上（より好ましくは２，５００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは、２，０００以上（より好ましくは２，５００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。
樹脂（Ａ）の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下が好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。
＜樹脂（Ａ）以外の樹脂＞
本発明のレジスト組成物は、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含んでもよい。このような樹脂としては、例えば、フッ素原子を有する構造単位を含有する樹脂が挙げられる。
本発明のレジスト組成物は、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含んでもよい。このような樹脂としては、例えば、フッ素原子を有する構造単位を含有する樹脂が挙げられる。
フッ素原子を有する構造単位を含有する樹脂としては、構造単位（ａ４）を含む樹脂（ただし、構造単位（Ｉ）を含まない。以下「樹脂（Ｘ）」という場合がある。）が好ましい。樹脂（Ｘ）において、構造単位（ａ４）の含有率は、樹脂（Ｘ）の全構造単位に対して、４０モル％以上が好ましく、４５モル％以上がより好ましく、５０モル％以上がさらに好ましい。
樹脂（Ｘ）は、構造単位（ａ１）を含まないことが好ましい。
樹脂（Ｘ）がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位（ａ２）、構造単位（ａ３）及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。
樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、好ましくは、８，０００以上（より好ましくは１０，０００以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。かかる樹脂（Ｘ）の重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
樹脂（Ｘ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１～６０質量部であり、より好ましくは１～５０質量部であり、さらに好ましくは１～４０質量部であり、特に好ましくは２～３０質量部である。
樹脂（Ｘ）は、構造単位（ａ１）を含まないことが好ましい。
樹脂（Ｘ）がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位（ａ２）、構造単位（ａ３）及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。
樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、好ましくは、８，０００以上（より好ましくは１０，０００以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。かかる樹脂（Ｘ）の重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
樹脂（Ｘ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１～６０質量部であり、より好ましくは１～５０質量部であり、さらに好ましくは１～４０質量部であり、特に好ましくは２～３０質量部である。
樹脂（Ａ）と樹脂（Ａ）以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下が好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。
〈溶剤（Ｅ）〉
溶剤（Ｅ）の含有率は、通常、レジスト組成物中９０質量％以上、好ましくは９２質量％以上、より好ましくは９４質量％以上であり、９９．９質量％以下、好ましくは９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤（Ｅ）の含有率は、通常、レジスト組成物中９０質量％以上、好ましくは９２質量％以上、より好ましくは９４質量％以上であり、９９．９質量％以下、好ましくは９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤（Ｅ）としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類；γ－ブチロラクトン等の環状エステル類；等を挙げることができる。溶剤（Ｅ）の１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
〈クエンチャー（Ｃ）〉
本発明のレジスト組成物は、クエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有していてもよい。クエンチャー（Ｃ）は、塩基性の含窒素有機化合物又は酸発生剤（Ｂ）よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。
本発明のレジスト組成物は、クエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有していてもよい。クエンチャー（Ｃ）は、塩基性の含窒素有機化合物又は酸発生剤（Ｂ）よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。
〈塩基性の含窒素有機化合物〉
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
具体的には、１－ナフチルアミン、２－ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、２－，３－又は４－メチルアニリン、４－ニトロアニリン、Ｎ－メチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔２－（２－メトキシエトキシ）エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’－ジアミノ－１，２－ジフェニルエタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジエチルジフェニルメタン、２，２’－メチレンビスアニリン、イミダゾール、４－メチルイミダゾール、ピリジン、４－メチルピリジン、１，２－ジ（２－ピリジル）エタン、１，２－ジ（４－ピリジル）エタン、１，２－ジ（２－ピリジル）エテン、１，２－ジ（４－ピリジル）エテン、１，３－ジ（４－ピリジル）プロパン、１，２－ジ（４－ピリジルオキシ）エタン、ジ（２－ピリジル）ケトン、４，４’－ジピリジルスルフィド、４，４’－ジピリジルジスルフィド、２，２’－ジピリジルアミン、２，２’－ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリンが挙げられ、特に好ましくは２，６－ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、３－（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
〈酸性度の弱い酸を発生する塩〉
酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸のｐＫａが、通常－３＜ｐＫａの塩であり、好ましくは－１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。酸発生剤から発生する酸よりも弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開２０１５－１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される弱酸分子内塩、並びに特開２０１２－２２９２０６号公報、特開２０１２－６９０８号公報、特開２０１２－７２１０９号公報、特開２０１１－３９５０２号公報及び特開２０１１－１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。
酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸のｐＫａが、通常－３＜ｐＫａの塩であり、好ましくは－１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。酸発生剤から発生する酸よりも弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開２０１５－１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される弱酸分子内塩、並びに特開２０１２－２２９２０６号公報、特開２０１２－６９０８号公報、特開２０１２－７２１０９号公報、特開２０１１－３９５０２号公報及び特開２０１１－１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。
弱酸分子内塩（Ｄ）としては、以下の塩が挙げられる。
クエンチャー（Ｃ）の含有率は、レジスト組成物の固形分中、好ましくは、０．０１～５質量％であり、より好ましく０．０１～４質量％であり、特に好ましく０．０１～３質量％である。
〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、本発明の樹脂（Ａ）及び塩（Ｉ０）を含む酸発生剤、並びに、必要に応じて用いられる樹脂（Ｘ）、酸発生剤（Ｂ）、クエンチャー（Ｃ）、溶剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、１０～４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、０．５～２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３～０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、本発明の樹脂（Ａ）及び塩（Ｉ０）を含む酸発生剤、並びに、必要に応じて用いられる樹脂（Ｘ）、酸発生剤（Ｂ）、クエンチャー（Ｃ）、溶剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、１０～４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、０．５～２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３～０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
＜レジストパターンの製造方法＞
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよいし、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること（いわゆるプリベーク）により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は５０～２００℃が好ましく、加熱時間は１０～１８０秒間が好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、１～１．０×１０5Ｐａ程度が好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源（ＹＡＧ又は半導体レーザ等）からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光（ＥＵＶ）を照射するもの等、種々のものを用いることができる。本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理（いわゆるポストエキスポジャーベーク）を行う。加熱温度は、通常５０～２００℃程度、好ましくは７０～１５０℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は５～６０℃が好ましく、現像時間は５～３００秒間が好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや（２－ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウムヒドロキシド（通称コリン）の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液（以下「有機系現像液」という場合がある）を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２－ヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２－ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２－ヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２－ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物、特に電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物、特に電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「％」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置：ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ型（東ソー社製）
カラム：TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μｌ
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製）
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置：ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ型（東ソー社製）
カラム：TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μｌ
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製）
化合物の構造は、質量分析（ＬＣはＡｇｉｌｅｎｔ製１１００型、ＭＡＳＳはＡｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「ＭＡＳＳ」で示す。
合成例１：式（Ｉ－１３）で表される塩の合成
式（Ｉ－１３－ａ）で表される塩５．０部及びアセトニトリル３０部を混合し、４０℃で１時間攪拌した。得られた混合物に、４０℃で、式（Ｉ－１３－ｂ）で表される化合物２．４部を１０分かけて添加し、７０℃に昇温後、７０℃で２時間撹拌することにより、式（Ｉ－１３－ｃ）で表される塩を含む溶液を得た。得られた式（Ｉ－１３－ｃ）で表される塩を含む溶液を２３℃まで冷却した後、式（Ｉ－１３－ｄ）で表される化合物１．４部及びアセトニトリル１０部の混合溶液を３０分かけて添加し、２３℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、クロロホルム１００部及び５％シュウ酸水３９部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液した。回収された有機層に、イオン交換水５０部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を４回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、得られた濃縮物に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル５０部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式（Ｉ－１３）で表される塩４．８９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４０．９
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３４０．９
実施例１：式（Ｉ－１）で表される塩の合成
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩７．１部及びアセトニトリル３０部を混合し、４０℃で１時間攪拌した。得られた混合物に、４０℃で、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物２．４部を１０分かけて添加した。得られた混合物を７０℃に昇温後、７０℃で２時間撹拌して、式（Ｉ－１－ｃ）で表される塩を含む溶液を得た。得られた式（Ｉ－１－ｃ）で表される塩を含む溶液を２３℃まで冷却した後、式（Ｉ－１－ｄ）で表される化合物１．４部及びアセトニトリル１０部の混合溶液を３０分かけて添加し、２３℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、クロロホルム１００部及び５％シュウ酸水３９部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液した。回収された有機層に、イオン交換水５０部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を４回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、得られた濃縮物に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル５０部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式（Ｉ－１）で表される塩６．９８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ５１９．０
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ５１９．０
実施例２：式（Ｉ－１０３）で表される塩の合成
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩７．１部及びアセトニトリル３０部を混合し、４０℃で１時間攪拌した。得られた混合物に、４０℃で、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物２．４部を１０分かけて添加した。得られた混合物を７０℃に昇温後、７０℃で２時間撹拌して、式（Ｉ－１－ｃ）で表される塩を含む溶液を得た。得られた式（Ｉ－１－ｃ）で表される塩を含む溶液を２３℃まで冷却した後、式（Ｉ－１０３－ｄ）で表される化合物１．１部及びアセトニトリル１０部の混合溶液を３０分かけて添加し、２３℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、クロロホルム１００部及び５％シュウ酸水３９部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液した。回収された有機層に、イオン交換水５０部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を４回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、得られた濃縮物に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル５０部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式（Ｉ－１０３）で表される塩５．２２部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ４８３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ４８３．１
実施例３：式（Ｉ－１０４）で表される塩の合成
式（Ｉ－１０４－ａ）で表される塩７．１部及びアセトニトリル３０部を混合し、４０℃で１時間攪拌した。得られた混合物に、４０℃で、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物２．４部を１０分かけて添加した。得られた混合物を７０℃に昇温後、７０℃で２時間撹拌して、式（Ｉ－１０４－ｃ）で表される塩を含む溶液を得た。得られた式（Ｉ－１０４
－ｃ）で表される塩を含む溶液を２３℃まで冷却した後、式（Ｉ－１－ｄ）で表される化合物１．４部及びアセトニトリル１０部の混合溶液を３０分かけて添加し、２３℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、クロロホルム１００部及び５％シュウ酸水３９部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液した。回収された有機層に、イオン交換水５０部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を４回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、得られた濃縮物に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル５０部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式（Ｉ－１０４）で表される塩５．２８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ５１９．０
－ｃ）で表される塩を含む溶液を２３℃まで冷却した後、式（Ｉ－１－ｄ）で表される化合物１．４部及びアセトニトリル１０部の混合溶液を３０分かけて添加し、２３℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、クロロホルム１００部及び５％シュウ酸水３９部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液した。回収された有機層に、イオン交換水５０部を加え、２３℃で３０分間攪拌し、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を４回繰り返した。回収された有機層を濃縮し、得られた濃縮物に、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル５０部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式（Ｉ－１０４）で表される塩５．２８部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ５１９．０
樹脂の合成
樹脂の合成において使用した化合物（モノマー）を下記に示す。
樹脂の合成において使用した化合物（モノマー）を下記に示す。
合成例２〔樹脂Ａ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ６－３－１）、モノマー（ＩＩ－１）、モノマー（ａ２－１－１）及びモノマー（ａ３－１－１）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ６－３－１）：モノマー（ＩＩ－１）：モノマー（ａ２－１－１）：モノマー（ａ３－１－１）〕が、１０：３０：１０：５０の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、２質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを混合した。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．５ｍｏｌ％及び４．５ｍｏｌ％添加し、これらを７２℃で約６時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約４．４×１０３である樹脂Ａ１（共重合体）を収率７６％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有するものである。
モノマーとして、モノマー（ａ６－３－１）、モノマー（ＩＩ－１）、モノマー（ａ２－１－１）及びモノマー（ａ３－１－１）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ６－３－１）：モノマー（ＩＩ－１）：モノマー（ａ２－１－１）：モノマー（ａ３－１－１）〕が、１０：３０：１０：５０の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、２質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを混合した。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．５ｍｏｌ％及び４．５ｍｏｌ％添加し、これらを７２℃で約６時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約４．４×１０３である樹脂Ａ１（共重合体）を収率７６％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有するものである。
合成例３〔樹脂ＡＸ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ＩＩＸ－１）、モノマー（ａｘ）及びモノマー（ａ１－２－４）を用い、そのモル比〔モノマー（ＩＩＸ－１）：モノマー（ａｘ）：モノマー（ａ１－２－４）〕が、２４：４４：３２の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、２質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを混合した。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、０．７ｍｏｌ％及び２．１ｍｏｌ％添加し、これらを７５℃で約６時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約１．４×１０４である樹脂ＡＸ１（共重合体）を収率６５％で得た。この樹脂ＡＸ１は、以下の構造単位を有するものである。
モノマーとして、モノマー（ＩＩＸ－１）、モノマー（ａｘ）及びモノマー（ａ１－２－４）を用い、そのモル比〔モノマー（ＩＩＸ－１）：モノマー（ａｘ）：モノマー（ａ１－２－４）〕が、２４：４４：３２の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、２質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを混合した。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、０．７ｍｏｌ％及び２．１ｍｏｌ％添加し、これらを７５℃で約６時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約１．４×１０４である樹脂ＡＸ１（共重合体）を収率６５％で得た。この樹脂ＡＸ１は、以下の構造単位を有するものである。
合成例４〔樹脂ＡＸ２の合成〕
モノマー（ａ１－１－１）、モノマー（ａ２－１－１）及びモノマー（ａ３－１－１）を、そのモル比〔モノマー（ａ１－１－１）：モノマー（ａ２－１－１）：モノマー（ａ３－１－１）〕が３５：２０：４５となるように混合し、全モノマー量の２質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．１ｍｏｌ％及び３．３ｍｏｌ％添加し、これらを７５℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を２回行い、重量平均分子量７．０×１０３の樹脂ＡＸ２（共重合体）を収率８７％で得た。この樹脂ＡＸ２は、以下の構造単位を有するものである。
モノマー（ａ１－１－１）、モノマー（ａ２－１－１）及びモノマー（ａ３－１－１）を、そのモル比〔モノマー（ａ１－１－１）：モノマー（ａ２－１－１）：モノマー（ａ３－１－１）〕が３５：２０：４５となるように混合し、全モノマー量の２質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．１ｍｏｌ％及び３．３ｍｏｌ％添加し、これらを７５℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を２回行い、重量平均分子量７．０×１０３の樹脂ＡＸ２（共重合体）を収率８７％で得た。この樹脂ＡＸ２は、以下の構造単位を有するものである。
＜レジスト組成物の調製＞
表２に示す各成分を混合して溶解することにより得られた混合物を孔径０．２μｍのフッ素樹脂製フィルターで濾過し、レジスト組成物を調製した。
表２に示す各成分を混合して溶解することにより得られた混合物を孔径０．２μｍのフッ素樹脂製フィルターで濾過し、レジスト組成物を調製した。
＜樹脂＞
Ａ１、ＡＸ１：樹脂Ａ１、樹脂ＡＸ１
＜塩（Ｉ０）＞
Ｉ－１：式（Ｉ－１）で表される塩
Ｉ－１３：式（Ｉ－１３）で表される塩
Ｉ－１０３：式（Ｉ－１０３）で表される塩
Ｉ－１０４：式（Ｉ－１０４）で表される塩
ＩＸ－１：特開２００７－２４０９７８号公報を参考にして合成
ＩＸ－２：特開２００９－１３７８７３号公報の実施例に従って合成
＜クエンチャー（Ｃ）＞
Ｄ１：（東京化成工業（株）製）
＜溶剤＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３０５部
γ－ブチロラクトン ５部
Ａ１、ＡＸ１：樹脂Ａ１、樹脂ＡＸ１
＜塩（Ｉ０）＞
Ｉ－１：式（Ｉ－１）で表される塩
Ｉ－１３：式（Ｉ－１３）で表される塩
Ｉ－１０３：式（Ｉ－１０３）で表される塩
Ｉ－１０４：式（Ｉ－１０４）で表される塩
ＩＸ－１：特開２００７－２４０９７８号公報を参考にして合成
Ｄ１：（東京化成工業（株）製）
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３０５部
γ－ブチロラクトン ５部
（レジスト組成物の電子線露光評価）
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表２の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）日立製作所製の「ＨＬ－８００Ｄ ５０ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表２の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で６０秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表２の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）日立製作所製の「ＨＬ－８００Ｄ ５０ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表２の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で６０秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
解像度評価：レジストパターンを走査型電子顕微鏡で観察し、７０ｎｍを解像しているものを○、７０ｎｍを解像していないものは×とした。
これらの結果を表３に示す。括弧内の数値は解像度（ｎｍ）を示す。
これらの結果を表３に示す。括弧内の数値は解像度（ｎｍ）を示す。
本発明のレジスト組成物は、得られるレジストパターンの解像度に優れるため、半導体の微細加工に好適であり、産業上極めて有用である。
Claims (6)
- 式（Ｉ）で表される塩。
［式（Ｉ）中、
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｘ１は、＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、＊－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は＊－Ｏ－を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合手を表す。
Ａ１’は、置換基を有していてもよい炭素数３～１８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ａｒは、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基及びフェナントニレン基から選択され、水素原子が－Ｘ２－Ｆ以外の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表す。該芳香族炭化水素基に含まれるＣＨ基は、窒素原子に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、フッ素原子を有する炭素数１～４のアルカンジイル基を表す。
ｎは、１～３のいずれかの整数を表す。ｎが２又は３の時、Ｘ１は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］ - Ａ１１は、単結合であり、
Ａ１２は、炭素数１～６のアルカンジイル基（アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）である請求項１に記載の塩。 - Ａ１’は、シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基、ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基又はアダマンタン－２，６－ジイル基である請求項１又は２に記載の塩。
- 請求項１～３のいずれかに記載の塩を含む酸発生剤。
- 請求項４に記載の酸発生剤を含むレジスト組成物。
- （１）請求項５に記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。
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