JP7375265B2 - 薄い光学セキュリティ要素及びそれを設計する方法 - Google Patents
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Description
δfよりも大きい深さδiのレリーフパターンを有する、すなわち、はるかに容易に対処できる深さの制約を有するモデル光偏向面の連続的な(又は部分的に連続的な)初期プロファイルから開始して、ターゲット参照パターンを好適に再現すること、及びそれに対応するレリーフパターンの連続的プロファイルを決定することを共に可能にする。しかし、これは、ターゲットδfに鑑みて非常に厚い光学セキュリティ要素を提供することになる。
連続的な(又は部分的に連続的な)初期プロファイルを特に平面に押しつぶすことによって、上記初期プロファイルを、不連続部を有するレリーフプロファイルに変形すると共に、プロファイルを薄くし、ターゲット参照パターンに対応しており人が視覚的に認識できるコースティックパターンを投影面上に投影することが可能な加工されたレリーフパターンを提供する能力を維持すること。
i)モデル光偏向面の(場合によっては連続する)初期レリーフパターンプロファイルをより小さい隣接するプロファイル区間にスライスし、上記初期レリーフパターンプロファイルが、δfよりも大きい深さδiを有し、光路シミュレーションによって、点状光源による照明の下で上記コースティックパターンを投影面に再現するように作用可能であり、スライスが、上記モデル光偏向面の光軸と平行に延在する任意の2つの隣接するプロファイル区間の間に境界面を生成し、
ii)光軸に沿って2つの連続する境界面の間に含まれる各プロファイル区間を押しつぶして、各境界面に沿って、不連続部を有する計算されたレリーフプロファイルを形成する
ことによって得られることが好ましい。
a)不連続性を有するレリーフプロファイルを計算するステップと、
b)ステップa)で計算された不連続部を有するレリーフパターンプロファイルに応じて、光学材料部片の表面を加工して、ステップa)で計算されたレリーフパターンプロファイルの不連続部に相当する急激な変化を有するレリーフパターンの加工されたプロファイルを有するステップと、
を含む方法に関する。
モデル光偏向面の初期レリーフパターンプロファイルを、より小さい隣接するプロファイル区間にスライスするステップであって、上記初期レリーフパターンプロファイルが、δfよりも大きい深さδiを有し、光路シミュレーションによって、点状光源による照明の下で上記コースティックパターンを投影面に再現するように作用可能であり、スライスが、上記モデル光偏向面の光軸と平行に延在する任意の2つの隣接するプロファイル区間の間に境界面を生成するさらなるステップと、
光軸に沿って2つの連続する境界面の間に含まれる各プロファイル区間を押しつぶして、各境界面に沿って、不連続部を有する計算されたレリーフプロファイルを形成するさらなるステップと、
によって行われることが好ましい。
ステップa)で、上記モデル光偏向面の光軸に対して高さが測定され、上記光軸に垂直なベース面の上方に延在する初期レリーフパターンプロファイルのプロファイル区間を押しつぶすさらなるステップが、その境界面が上記プロファイル区間と交差する最小高さに相当する距離値だけ、光軸と平行に、ベース面に向けてプロファイル区間を並進することによって行われ、δiよりも小さい低減された深さのレリーフパターンを有する計算されたレリーフプロファイルを得て、
ステップ(b)において、光学材料部片の表面が、δiよりも小さい低減された深さの計算されたレリーフパターンプロファイルに応じて加工され、
δiよりも小さい低減された深さδfのレリーフパターンを有する光学セキュリティ要素の光偏向面を得ることがより好ましい。
Claims (13)
- 反射性の光偏向面、又は屈折性の透明若しくは部分的に透明な光偏向面を備える光学セキュリティ要素において、点状光源から受け取る入射光を偏向し、コースティックパターンを含む投影画像を投影面上に形成するように適合された深さδfのレリーフパターンを有し、前記コースティックパターンが、参照パターンを再現し、視覚的に認識可能であり、
前記レリーフパターンのプロファイルが、不連続部を有する計算されたレリーフパターンプロファイルに従って光学材料部片の表面を加工することによって形成された急激な変化を有し、前記加工された急激な変化が前記不連続部に対応し、
不連続部を有する前記計算されたレリーフパターンプロファイルが、モデル光偏向面の初期レリーフパターンプロファイルをより小さい隣接するプロファイル区間にスライスすることによって得られ、前記初期レリーフパターンプロファイルが、δfよりも大きい深さδiを有し、光路シミュレーションによって、前記点状光源による照明の下で前記コースティックパターンを前記投影面に再現するように作用可能であり、前記スライスが、前記モデル光偏向面の光軸と平行に延在する任意の2つの隣接するプロファイル区間の間に境界面を生成し、前記光軸に沿って2つの連続する境界面の間に含まれる各プロファイル区間を押しつぶすことによって、各境界面に沿って、不連続部を有する前記計算されたレリーフプロファイルを形成する、
ことを特徴とする光学セキュリティ要素。 - 前記モデル光偏向面の前記光軸に対して高さが測定され、前記光軸に垂直なベース面の上方に延在する前記初期レリーフパターンプロファイルのプロファイル区間を前記押しつぶすことが、その境界面が前記プロファイル区間と交差する最小高さに相当する距離値だけ、前記光軸と平行に、前記ベース面に向けて前記プロファイル区間を並進することによって得られ、δiよりも小さい低減された深さのレリーフパターンを有する前記計算されたレリーフプロファイルを得る、請求項1に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記レリーフパターンの前記プロファイルが、30μm以下の小さい深さδfを有する、請求項1又は2に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記レリーフパターンの前記プロファイルが、250μm以下の小さい深さδfを有する、請求項1又は2に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記反射性の光偏向面、又は屈折性の透明若しくは部分的に透明な光偏向面が、平坦なベース基材全体にわたって配設され、前記光学セキュリティ要素の全厚が100μm以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記光学セキュリティ要素のレリーフパターンが、前記光偏向面から距離dsで、前記点状光源から受け取られた入射光を偏向し、前記コースティックパターンを含む前記投影画像を、前記光偏向面から距離diにある前記投影面上に形成するように適合され、diの値が30cm以下であり、比ds/diの値が5以上である、請求項1~5のいずれか一項に記載の光学セキュリティ要素。
- 消費者製品、納税印紙、IDカード、パスポート、クレジットカード、及び紙幣を含む群から選択される物体にマークを付ける、請求項1~6のいずれか一項に記載の光学セキュリティ要素。
- 反射性の光偏向面、又は屈折性の透明若しくは部分的に透明な光偏向面を設計する方法において、前記光偏向面が、点状光源から受け取る入射光を偏向し、投影面上にコースティックパターンを含む投影画像を形成するように適合された光学セキュリティ要素の深さδfのレリーフパターンを有し、前記コースティックパターンが、参照パターンを再現し、視覚的に認識可能であり、
a)不連続部を有するレリーフパターンプロファイルを計算するステップと、
b)ステップa)で計算された不連続部を有する前記レリーフパターンプロファイルに応じて、光学材料部片の表面を加工して、ステップa)で計算された前記レリーフパターンプロファイルの前記不連続部に相当する急激な変化を有する前記レリーフパターンの加工されたプロファイルを有するステップと、
を含み、
ステップa)において、不連続部を有する前記レリーフパターンプロファイルを計算することが、
モデル光偏向面の初期レリーフパターンプロファイルを、より小さい連続的なプロファイル区間にスライスするステップであって、前記初期レリーフパターンプロファイルが、δfよりも大きい深さδiを有し、光路シミュレーションによって、前記点状光源による照明の下で前記コースティックパターンを前記投影面に再現するように作用可能であり、前記スライスが、前記モデル光偏向面の光軸と平行に延在する任意の2つの隣接するプロファイル区間の間に境界面を生成するさらなるステップと、
前記光軸に沿って2つの連続する境界面の間に含まれる各プロファイル区間を押しつぶして、各境界面に沿って、不連続部を有する前記計算されたレリーフプロファイルを形成するさらなるステップと、
によって行われる
ことを特徴とする方法。 - ステップa)で、前記モデル光偏向面の前記光軸に対して高さが測定され、前記光軸に垂直なベース面の上方に延在する前記初期レリーフパターンプロファイルのプロファイル区間を漬す前記さらなるステップが、その境界面が前記プロファイル区間と交差する最小高さに相当する距離値だけ、前記光軸と平行に、前記ベース面に向けて前記プロファイル区間を並進することによって行われ、δiよりも小さい低減された深さのレリーフパターンを有する前記計算されたレリーフプロファイルを得て、
ステップ(b)において、前記光学材料部片の前記表面が、δiよりも小さい低減された深さの前記計算されたレリーフパターンプロファイルに応じて加工され、
δiよりも小さい低減された深さδfのレリーフパターンを有する前記光学セキュリティ要素の前記光偏向面を得る
請求項8に記載の方法。 - 前記光学材料部片の前記表面の前記加工が、超精密加工、レーザアブレーション、及びリソグラフィの任意の1つを含む、請求項8又は9に記載の方法。
- 前記加工される光偏向面が、前記光偏向面の複製を製造するために使用されるマスタ光偏向面であることをさらに含む、請求項8~10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記加工された光偏向面を基材上に複製することをさらに含む、請求項11に記載の方法。
- 複製が、UVキャスティング及びエンボス加工のうちの1つを含む、請求項11又は12に記載の方法。
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