JP7358670B1 - connection body - Google Patents

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JP7358670B1 JP2023054561A JP2023054561A JP7358670B1 JP 7358670 B1 JP7358670 B1 JP 7358670B1 JP 2023054561 A JP2023054561 A JP 2023054561A JP 2023054561 A JP2023054561 A JP 2023054561A JP 7358670 B1 JP7358670 B1 JP 7358670B1
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Abstract

【課題】層間密着性の経時的な低下を抑制できる接続体を提供する。【解決手段】第1の金属基材、導電性接着剤層及び第2の金属基材をこの順に有する接続体であって、前記導電性接着剤層は、接着剤と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含み、前記接着剤として、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂と、グリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物を含む、接続体。【選択図】図1An object of the present invention is to provide a connecting body that can suppress deterioration of interlayer adhesion over time. [Solution] A connection body having a first metal base material, a conductive adhesive layer, and a second metal base material in this order, wherein the conductive adhesive layer is attached to an adhesive and a surface of a resin core. conductive particles having a conductive layer, and the adhesive comprises a cured product of an acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g and a glycidylamine-based epoxy compound. [Selection diagram] Figure 1

Description

本発明は、接続体に関する。 The present invention relates to a connecting body.

電気及び電子機器等の材料として、2つの導電性部材を、接着剤層を介して電気的に接続した接続体が用いられる場合がある。
接続体に用いられる接着剤は、等方導電性接着剤及び異方導電性接着剤が挙げられる。
2. Description of the Related Art Connecting bodies in which two conductive members are electrically connected via an adhesive layer are sometimes used as materials for electrical and electronic devices.
Examples of the adhesive used for the connection body include an isotropically conductive adhesive and an anisotropically conductive adhesive.

等方導電性接着剤の代表例として、導電剤としてカーボンブラックを用いた接着剤が挙げられる。等方導電性接着剤は、電気的に接続するために、接着剤中に導電剤を多量に含む必要がある。このため、等方導電性接着剤を用いた接続体は、層間密着性が低下しやすいという問題がある。また、等方導電性接着剤を用いた接続体は、抵抗値を十分に低くできないという問題がある。 A typical example of an isotropic conductive adhesive is an adhesive using carbon black as a conductive agent. The isotropic conductive adhesive needs to contain a large amount of a conductive agent in order to make an electrical connection. For this reason, a connection body using an isotropically conductive adhesive has a problem in that interlayer adhesion tends to decrease. Furthermore, a connection body using an isotropically conductive adhesive has a problem in that the resistance value cannot be sufficiently reduced.

異方導電性接着剤を用いた接続体として、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子を用いたものが提案されている(例えば、特許文献1)。 As a connection body using an anisotropic conductive adhesive, one using conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core has been proposed (for example, Patent Document 1).

特開2017-182709号公報Japanese Patent Application Publication No. 2017-182709

特許文献1の接続体は、接着剤中に導電粒子を多量に含む必要がないため、層間密着性の向上が期待できる。しかし、特許文献1の接続体は、層間密着性が経時的に低下する場合があった。 Since the connecting body of Patent Document 1 does not need to contain a large amount of conductive particles in the adhesive, it can be expected to improve interlayer adhesion. However, in the connection body of Patent Document 1, the interlayer adhesion may deteriorate over time.

本発明は、層間密着性の経時的な低下を抑制した接続体を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a connecting body in which deterioration in interlayer adhesion over time is suppressed.

本発明者らは鋭意研究した結果、接続体の層間密着性が経時的に低下する原因が、電解液等の薬品の影響であることを見出した。そして、本発明者らはさらに研究した結果、上記課題を解決するに至った。 As a result of intensive research, the present inventors found that the cause of the deterioration of the interlayer adhesion of the connection body over time is the influence of chemicals such as electrolyte. As a result of further research, the present inventors were able to solve the above problem.

本発明は、以下の[1]~[9]を提供する。
[1] 第1の金属基材、導電性接着剤層及び第2の金属基材をこの順に有する接続体であって、前記導電性接着剤層は、接着剤と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含み、前記接着剤として、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂と、グリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物を含む、接続体。
[2] 前記グリシジルアミン系エポキシ化合物のエポキシ当量が70g/eq以上140g/eq以下である、[1]に記載の接続体。
[3] 前記酸変性ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、前記グリシジルアミン系エポキシ化合物を0.1質量部以上27.5質量部以下含む、[1]又は[2]に記載の接続体。
[4] 前記酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価が0.1mgKOH/g以上15.0mgKOH/g未満である、[1]~[3]の何れかに記載の接続体。
[5] 前記硬化物の融点が60℃以上115℃以下である、[1]~[4]の何れかに記載の接続体。
[6] 前記接着剤100質量部に対して、前記導電性粒子を0.1質量部以上2.0質量部以下含む、[1]~[5]の何れかに記載の接続体。
[7] 前記導電性接着剤層の平均厚みをTn[μm]、前記導電性粒子の厚み方向の径の平均をDn[μm]と定義した際に、Dn/Tnが1.00以上の関係を満たす、[1]~[6]の何れかに記載の接続体。
[8] Dn/Tnが1.01以上1.50以下の関係を満たす、[7]に記載の接続体。
[9] リチウムイオン電池用である、[1]~[8]の何れかに記載の接続体。
The present invention provides the following [1] to [9].
[1] A connection body having a first metal base material, a conductive adhesive layer, and a second metal base material in this order, wherein the conductive adhesive layer includes an adhesive and a conductive layer on the surface of a resin core. conductive particles having a layer, and the adhesive comprises a cured product of an acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g and a glycidylamine-based epoxy compound.
[2] The connector according to [1], wherein the glycidylamine-based epoxy compound has an epoxy equivalent of 70 g/eq or more and 140 g/eq or less.
[3] The connector according to [1] or [2], which contains 0.1 parts by mass or more and 27.5 parts by mass or less of the glycidylamine-based epoxy compound based on 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin resin.
[4] The connector according to any one of [1] to [3], wherein the acid-modified polyolefin resin has an acid value of 0.1 mgKOH/g or more and less than 15.0 mgKOH/g.
[5] The connected body according to any one of [1] to [4], wherein the melting point of the cured product is 60°C or more and 115°C or less.
[6] The connecting body according to any one of [1] to [5], which contains the conductive particles in an amount of 0.1 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the adhesive.
[7] When the average thickness of the conductive adhesive layer is defined as Tn [μm] and the average diameter of the conductive particles in the thickness direction is defined as Dn [μm], a relationship in which Dn/Tn is 1.00 or more. The connecting body according to any one of [1] to [6], which satisfies the following.
[8] The connected body according to [7], wherein Dn/Tn satisfies the relationship of 1.01 or more and 1.50 or less.
[9] The connecting body according to any one of [1] to [8], which is for a lithium ion battery.

本発明の接続体は、接続体の層間密着性の経時的な低下を抑制することができる。 The connecting body of the present invention can suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time.

本発明の接続体の一実施形態を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a connecting body of the present invention. 本発明の接続体の他の実施形態を示す断面図である。It is a sectional view showing other embodiments of the connecting body of the present invention. 本発明の接続体の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the connection body of this invention.

以下、本発明の接続体の実施の形態を説明する。 Embodiments of the connecting body of the present invention will be described below.

[接続体]
本発明の接続体は、
第1の金属基材、導電性接着剤層及び第2の金属基材をこの順に有し、
前記導電性接着剤層は、接着剤と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含み、
前記接着剤として、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂と、グリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物を含む、ものである。
[Connection body]
The connecting body of the present invention includes:
having a first metal base material, a conductive adhesive layer and a second metal base material in this order,
The conductive adhesive layer includes an adhesive and conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core,
The adhesive includes a cured product of an acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g and a glycidylamine-based epoxy compound.

本明細書において、「樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子」及び「酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂」のことを、「導電性粒子」及び「酸変性ポリオレフィン樹脂」と略称する場合がある。 In this specification, "conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core" and "acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g" are referred to as "conductive particles" and "acid-modified polyolefin resin". It is sometimes abbreviated as "polyolefin resin".

図1及び2は、本発明の接続体の実施の形態を示す断面図である。
図1及び2の接続体100は、第1の金属基材10の上に、導電性接着剤層30及び第2の金属基材20をこの順に有している。図1及び2において、導電性接着剤層30は、接着剤31と、導電性粒子30を含んでいる。図1及び2において、第1の金属基材10と第2の金属基材20とは、導電性粒子30を介して電気的に接続されている。
図1の接続体は、導電性接着剤層30と第2の金属基材20との全面が接触している。一方、図2の接続体は、導電性接着剤層30と第2の金属基材20との一部が接触していない。
図1及び2において、導電性粒子30は、厚み方向の粒子径が幅方向の粒子径よりも小さくなっている。この状態は、ラミネート時の圧力により、厚み方向の粒子径が小さくなっている状態を示している。
1 and 2 are cross-sectional views showing embodiments of the connecting body of the present invention.
The connecting body 100 in FIGS. 1 and 2 has a conductive adhesive layer 30 and a second metal base material 20 on a first metal base material 10 in this order. 1 and 2, conductive adhesive layer 30 includes adhesive 31 and conductive particles 30. In FIGS. In FIGS. 1 and 2, a first metal base material 10 and a second metal base material 20 are electrically connected via conductive particles 30.
In the connection body shown in FIG. 1, the conductive adhesive layer 30 and the second metal base material 20 are in full contact with each other. On the other hand, in the connection body of FIG. 2, the conductive adhesive layer 30 and the second metal base material 20 are not partially in contact with each other.
In FIGS. 1 and 2, the conductive particles 30 have a particle diameter in the thickness direction that is smaller than a particle diameter in the width direction. This state indicates that the particle diameter in the thickness direction is reduced due to the pressure during lamination.

<金属基材>
第1の金属基材、及び、第2の金属基材を構成する金属としては、銅、ステンレス、黄銅、銀、アルミニウム及びニッケル等から選ばれる1種又は2種以上が挙げられる。
第1の金属基材及び第2の金属基材を構成する金属は、同一種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。
第1の金属基材及び第2の金属基材は、密着性を良好にするために、金属基材表面を凹凸化したり、金属基材表面の残油を取り除く処理をしたりしてもよい。
<Metal base material>
Examples of the metal constituting the first metal base material and the second metal base material include one or more metals selected from copper, stainless steel, brass, silver, aluminum, nickel, and the like.
The metals constituting the first metal base material and the second metal base material may be of the same type or may be of different types.
In order to improve adhesion, the first metal base material and the second metal base material may be roughened on the surface of the metal base material or treated to remove residual oil on the surface of the metal base material. .

第1の金属基材及び第2の金属基材の厚みは、1μm以上200μm以下であることが好ましく、3μm以上100μm以下であることがより好ましく、6μm以上50μm以下であることがさらに好ましい。
厚みを1μm以上とすることにより、接続体の強度を良好にしやすくできる。さらに、厚みを1μm以上とすることにより、第1の金属基材及び第2の金属基材に所定の強度を付与することができ、基材にテンションがかかった際に基材が破損することを抑制しやすくできる。
厚みを200μm以下とすることにより、第1の金属基材及び第2の金属基材が巻き取りやすくなるため、接続体をロールトウーロールで製造しやすくできる。
The thickness of the first metal base material and the second metal base material is preferably 1 μm or more and 200 μm or less, more preferably 3 μm or more and 100 μm or less, and even more preferably 6 μm or more and 50 μm or less.
By setting the thickness to 1 μm or more, the strength of the connecting body can be easily improved. Furthermore, by setting the thickness to 1 μm or more, a predetermined strength can be imparted to the first metal base material and the second metal base material, and the base material will not be damaged when tension is applied to the base material. can be easily suppressed.
By setting the thickness to 200 μm or less, the first metal base material and the second metal base material can be easily rolled up, so that the connected body can be easily manufactured by roll-to-roll.

<導電性接着剤層>
導電性接着剤層は、接着剤と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含む。
<Conductive adhesive layer>
The conductive adhesive layer includes an adhesive and conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core.

《接着剤》
本発明の接続体は、接着剤として、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂と、グリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物を含むことを要する。接着剤として前記硬化物を含むことにより、電解液等の薬品への耐性を良好にできるため、接続体の層間密着性が経時的に低下することを抑制できる。特に、高温の薬品への耐性を良好にできる点で好ましい。電解液としては、リチウムイオン電池の電解液が挙げられる。リチウムイオン電池の電解液は、例えば、六フッ化リン酸リチウム等の電解質と、エチレンカーボネート等の溶媒とを含むものが挙げられる。リチウムイオン電池の電解液は高温になりやすい。このため、本発明の接続体は、リチウムイオン電池用の接続体として特に有用である。
"glue"
The connecting body of the present invention is required to contain, as an adhesive, a cured product of an acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g and a glycidylamine-based epoxy compound. By including the cured product as an adhesive, resistance to chemicals such as electrolyte can be improved, so that it is possible to suppress the interlayer adhesion of the connected body from decreasing over time. In particular, it is preferable because it can provide good resistance to high-temperature chemicals. Examples of the electrolytic solution include electrolytic solutions for lithium ion batteries. Examples of electrolytic solutions for lithium ion batteries include those containing an electrolyte such as lithium hexafluorophosphate and a solvent such as ethylene carbonate. The electrolyte in lithium-ion batteries tends to reach high temperatures. Therefore, the connecting body of the present invention is particularly useful as a connecting body for lithium ion batteries.

―酸変性ポリオレフィン樹脂―
酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂は、接着剤の主剤としての役割を有する。
酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価が20.0mgKOH/gを超える場合、導電性接着剤層用塗布液がゲル化しやすくなり、導電性接着剤層を形成しにくくなる。また、酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価が20.0mgKOH/gを超える場合、酸変性ポリオレフィン樹脂とグリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物の架橋点が増加しやすくなる。そして、架橋点が増加した場合、温度変化による体積の増減に硬化物が追随しにくくなるため、接続体の層間密着性が経時的に低下する場合がある。
-Acid-modified polyolefin resin-
The acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g has a role as a main ingredient of an adhesive.
When the acid value of the acid-modified polyolefin resin exceeds 20.0 mgKOH/g, the coating liquid for a conductive adhesive layer tends to gel, making it difficult to form a conductive adhesive layer. Further, when the acid value of the acid-modified polyolefin resin exceeds 20.0 mgKOH/g, the number of crosslinking points in the cured product between the acid-modified polyolefin resin and the glycidylamine-based epoxy compound tends to increase. When the number of crosslinking points increases, it becomes difficult for the cured product to follow changes in volume due to temperature changes, and thus the interlayer adhesion of the connected body may deteriorate over time.

接続体の層間密着性が経時的に低下することを抑制しやすくするため、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂は、主剤の全量に対して、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましく、100質量%であることが最も好ましい。 In order to easily suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time, the acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g is 80% by mass or more based on the total amount of the base resin. The content is preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and most preferably 100% by mass.

酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価は、15.0mgKOH/g未満であることが好ましく、10.0mgKOH/g未満であることがより好ましく、5.0mgKOH/g未満であることがさらに好ましい。
酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価が低すぎると、前記硬化物の架橋密度が不足する場合がある。前記硬化物の架橋密度が不足すると、耐薬品性が低下することにより、接続体の層間密着性の経時的な低下を抑制できない場合がある。このため、酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価は、0.1mgKOH/g以上であることが好ましく、0.5mgKOH/g以上であることがより好ましく、0.9mgKOH/g以上であることがさらに好ましい。
The acid value of the acid-modified polyolefin resin is preferably less than 15.0 mgKOH/g, more preferably less than 10.0 mgKOH/g, and even more preferably less than 5.0 mgKOH/g.
If the acid value of the acid-modified polyolefin resin is too low, the crosslinking density of the cured product may be insufficient. If the crosslinking density of the cured product is insufficient, the chemical resistance decreases, and it may not be possible to suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connected body over time. Therefore, the acid value of the acid-modified polyolefin resin is preferably 0.1 mgKOH/g or more, more preferably 0.5 mgKOH/g or more, and even more preferably 0.9 mgKOH/g or more.

酸変性ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン及びプロピレン-α-オレフィン共重合体等から選ばれる少なくとも1種のポリオレフィン樹脂に、α,β-不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトしたものが挙げられる。酸変性ポリオレフィン樹脂は、例えば、ラジカルグラフト反応により製造することができる。 As the acid-modified polyolefin resin, at least one polyolefin resin selected from polyethylene, polypropylene, propylene-α-olefin copolymer, etc. is grafted with at least one α,β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride. The following can be mentioned. Acid-modified polyolefin resin can be produced, for example, by radical graft reaction.

プロピレン-α-オレフィン共重合体は、主体であるプロピレンにα-オレフィンを共重合したものである。α-オレフィンとしては、例えば、エチレン、1-ブテン、1-ヘプテン、1-オクテン、4-メチル-1-ペンテン、酢酸ビニル等から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。α-オレフィンの中では、エチレン、1-ブテンが好ましい。プロピレン-α-オレフィン共重合体のプロピレン成分とα-オレフィン成分との比率は限定されないが、プロピレン成分が50モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましい。 Propylene-α-olefin copolymer is a copolymer of α-olefin with propylene as the main component. As the α-olefin, for example, at least one selected from ethylene, 1-butene, 1-heptene, 1-octene, 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate, etc. can be used. Among α-olefins, ethylene and 1-butene are preferred. The ratio of the propylene component to the α-olefin component of the propylene-α-olefin copolymer is not limited, but the proportion of the propylene component is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more.

α,β-不飽和カルボン酸及びその酸無水物としては、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸及びこれらの酸無水物等が挙げられる。これらの中でも酸無水物が好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。 Examples of the α,β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride include maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, and acid anhydrides thereof. Among these, acid anhydrides are preferred, and maleic anhydride is more preferred.

酸変性ポリオレフィン樹脂の具体例としては、無水マレイン酸変性ポリプロピレン、無水マレイン酸変性プロピレン-エチレン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン-エチレン-ブテン共重合体等が挙げられる。 Specific examples of acid-modified polyolefin resins include maleic anhydride-modified polypropylene, maleic anhydride-modified propylene-ethylene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer, and maleic anhydride-modified propylene-ethylene-butene copolymer. etc.

酸変性ポリオレフィン樹脂は、重量平均分子量が20000以上200000以下であることが好ましく、40000以上150000以下であることがより好ましく、60000以上100000以下であることがさらに好ましい。
重量平均分子量を20000以上とすることにより、電解液浸漬後の接着力低下を抑制しやすくできる。重量平均分子量を200000以下とすることにより、融点の上昇を防ぎラミネート適性を向上させ、さらに粘度が高くなることを防ぐことにより塗布適正を向上しやすくできる。
本明細書において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値を意味する。
The weight average molecular weight of the acid-modified polyolefin resin is preferably 20,000 or more and 200,000 or less, more preferably 40,000 or more and 150,000 or less, and even more preferably 60,000 or more and 100,000 or less.
By setting the weight average molecular weight to 20,000 or more, it is possible to easily suppress a decrease in adhesive strength after immersion in an electrolytic solution. By setting the weight average molecular weight to 200,000 or less, the melting point is prevented from increasing and suitability for lamination is improved, and furthermore, by preventing the viscosity from increasing, it is possible to easily improve the suitability for coating.
In this specification, the weight average molecular weight means a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography.

―グリシジルアミン系エポキシ化合物―
グリシジルアミン系エポキシ化合物は、主剤を硬化する硬化剤としての役割を有する。硬化剤には多くの種類があるが、硬化剤としてグリシジルアミン系エポキシ化合物を用いることにより、接続体の層間密着性の経時的な低下を抑制することができる。また、グリシジルアミン系エポキシ化合物は、低温で硬化反応を進行できるため、金属基材の酸化を抑制できる点で好ましい。
グリシジルアミン系エポキシ化合物以外の硬化剤としては、例えば、グリシジルエーテル系エポキシ化合物、イソシアネート系化合物が挙げられる。グリシジルエーテル系エポキシ化合物を用いた場合、耐薬品性が不十分となり、接続体の層間密着性の経時的な低下を抑制できない。イソシアネート系化合物を用いた場合、副生成物として二酸化炭素が生じる。金属基材はガス透過性が低いため、二酸化炭素により膨れなどの欠陥が生じてしまう。
本明細書において、グリシジルエーテル系エポキシ化合物は、分子内にグリシジルエーテル基を有し、かつ、分子内に窒素原子を有さない化合物を意味する。
-Glycidylamine-based epoxy compound-
The glycidylamine-based epoxy compound has a role as a curing agent that hardens the main resin. Although there are many types of curing agents, by using a glycidylamine-based epoxy compound as the curing agent, it is possible to suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time. In addition, glycidylamine-based epoxy compounds are preferable because they can proceed with the curing reaction at low temperatures and can therefore suppress oxidation of the metal base material.
Examples of curing agents other than glycidylamine-based epoxy compounds include glycidyl ether-based epoxy compounds and isocyanate-based compounds. When a glycidyl ether type epoxy compound is used, the chemical resistance becomes insufficient and it is not possible to suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time. When an isocyanate compound is used, carbon dioxide is produced as a by-product. Since the metal base material has low gas permeability, carbon dioxide causes defects such as blistering.
In this specification, a glycidyl ether-based epoxy compound means a compound that has a glycidyl ether group in its molecule and does not have a nitrogen atom in its molecule.

グリシジルアミン系エポキシ化合物は、硬化剤の全量に対して、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましく、100質量%であることが最も好ましい。 The glycidylamine-based epoxy compound is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, even more preferably 95% by mass or more, and 100% by mass based on the total amount of the curing agent. Most preferably.

グリシジルアミン系エポキシ化合物としては、分子の構成単位としてグリシジルアミンを有する化合物が挙げられる。グリシジルアミン系エポキシ化合物の1分子中のグリシジル基の数は、1以上であればよいが、接続体の層間密着性の経時的な低下をより抑制しやすくするため、2以上であることが好ましい。
グリシジルアミン系エポキシ化合物の1分子中のグリシジル基の数が多過ぎると、接続体の初期の層間密着性が弱くなる場合がある。このため、グリシジルアミン系エポキシ化合物の1分子中のグリシジル基の数は、6以下が好ましく、4以下がより好ましい。
Examples of glycidylamine-based epoxy compounds include compounds having glycidylamine as a molecular constituent unit. The number of glycidyl groups in one molecule of the glycidylamine-based epoxy compound may be 1 or more, but is preferably 2 or more in order to more easily suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time. .
If the number of glycidyl groups in one molecule of the glycidylamine-based epoxy compound is too large, the initial interlayer adhesion of the connected body may be weakened. Therefore, the number of glycidyl groups in one molecule of the glycidylamine-based epoxy compound is preferably 6 or less, more preferably 4 or less.

グリシジルアミン系エポキシ化合物としては、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。
As the glycidylamine-based epoxy compound, a compound represented by the following general formula (1) is preferable.

一般式(1)において、Rは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂環式炭化水素基である。
mが1の場合、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基等のアリール基が挙げられる。mが1の場合、置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。mが1の場合、Rは、シクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシル基がより好ましい。
mが2の場合、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等のアリーレン基が挙げられる。mが2の場合、置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基等のシクロアルキレン基が挙げられる。mが2の場合、Rはシクロアルキレン基が好ましく、シクロヘキシレン基がより好ましい。
Rの置換基としては、特に限定されないが、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、水酸基、アミノ基、グリシジル基、グリシジルアミノ基、またはグリシジルエーテル基が挙げられる。
In the general formula (1), R is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a saturated or unsaturated alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent.
When m is 1, examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include aryl groups such as phenyl group and naphthyl group. When m is 1, examples of the saturated or unsaturated alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group. When m is 1, R is preferably a cycloalkyl group, more preferably a cyclohexyl group.
When m is 2, examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include arylene groups such as a phenylene group and a naphthylene group. When m is 2, examples of the saturated or unsaturated alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent include cycloalkylene groups such as a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, and a cycloheptylene group. When m is 2, R is preferably a cycloalkylene group, more preferably a cyclohexylene group.
Examples of the substituent for R include, but are not limited to, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, a glycidyl group, a glycidylamino group, or a glycidyl ether group. It will be done.

一般式(1)において、X1およびX2はそれぞれ独立して炭素数1以上5以下の置換基を有してもよい直鎖のアルキレン基であり、好ましい炭素数は4以下であり、より好ましくは3以下であり、さらに好ましくは2以下である。
置換基としては、特に限定されないが、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、またはアミノ基が挙げられる。
In the general formula (1), X1 and X2 are each independently a linear alkylene group which may have a substituent having 1 or more carbon atoms and 5 or less carbon atoms, preferably 4 or less carbon atoms, and more preferably It is 3 or less, more preferably 2 or less.
Examples of the substituent include, but are not particularly limited to, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an amino group.

一般式(1)において、mは1または2であり、nは1または2である。好ましくは、mまたはnのいずれかが2であり、より好ましくは、m、nとも2である。 In general formula (1), m is 1 or 2, and n is 1 or 2. Preferably, either m or n is 2, more preferably both m and n are 2.

グリシジルアミン系エポキシ化合物の具体例としては、1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン等が挙げられる。これらの中でも、1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサンが好ましい。 Specific examples of glycidylamine-based epoxy compounds include 1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane, tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylpara-aminophenol, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexanone, N,N,N',N' -tetraglycidyl-m-xylene diamine and the like. Among these, 1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane is preferred.

グリシジルアミン系エポキシ化合物は、エポキシ当量が70g/eq以上140g/eq以下であることが好ましく、80g/eq以上125g/eq以下であることがより好ましく、85g/eq以上110g/eq以下であることがより好ましく、90g/eq以上100g/eq以下であることがより好ましい。
エポキシ当量を125g/eq以下とすることにより、接続体の層間密着性の経時的な低下をより抑制しやすくできる。エポキシ当量を80g/eq以上とすることにより、接続体の初期の層間密着性が弱くなることを抑制しやすくできる。
The glycidylamine-based epoxy compound preferably has an epoxy equivalent of 70 g/eq or more and 140 g/eq or less, more preferably 80 g/eq or more and 125 g/eq or less, and 85 g/eq or more and 110 g/eq or less. is more preferable, and more preferably 90 g/eq or more and 100 g/eq or less.
By setting the epoxy equivalent to 125 g/eq or less, it is possible to more easily suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time. By setting the epoxy equivalent to 80 g/eq or more, it is possible to easily suppress weakening of the initial interlayer adhesion of the connecting body.

グリシジルアミン系エポキシ化合物の配合量は、酸変性ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、0.1質量部以上27.5質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上20.0質量部以下であることがより好ましく、0.7質量部以上10.0質量部以下であることがさらに好ましく、1.0質量部以上8.0質量部以下であることがよりさらに好ましい。
グリシジルアミン系エポキシ化合物の配合量を0.1質量部以上とすることにより、接続体の層間密着性の経時的な低下をより抑制しやすくできる。グリシジルアミン系エポキシ化合物の配合量を27.5質量部以下とすることにより、接続体の初期の層間密着性が弱くなることを抑制しやすくできる。
The blending amount of the glycidylamine-based epoxy compound is preferably 0.1 parts by mass or more and 27.5 parts by mass or less, and 0.5 parts by mass or more and 20.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin resin. It is more preferably at least 0.7 parts by mass and at most 10.0 parts by mass, even more preferably at least 1.0 parts by mass and at most 8.0 parts by mass.
By setting the blending amount of the glycidylamine-based epoxy compound to 0.1 part by mass or more, it is possible to more easily suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connecting body over time. By controlling the blending amount of the glycidylamine-based epoxy compound to 27.5 parts by mass or less, it is possible to easily suppress weakening of the initial interlayer adhesion of the connecting body.

酸変性ポリオレフィン樹脂とグリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物は、融点が60℃以上115℃以下であることが好ましく、65℃以上110℃以下であることがより好ましく、70℃以上95℃以下であることがさらに好ましい。
融点を60℃以上とすることにより、熱を原因として、接続体の層間密着性が低下することを抑制しやすくできる。特に、融点を60℃以上とすることにより、高温の電解液に接続体を浸漬した際の層間密着性の低下を抑制しやすくできる。
融点を115℃以下とすることにより、第1の金属基材と第2の金属基材とを貼り合わせやすくできる。また、融点を115℃以下とすることにより、第1の金属基材と第2の金属基材とを貼り合わせる際のラミネート温度を低く設定できるため、金属基材が酸化することを抑制しやすくできる。
本明細書において、融点は、示差走査熱量計(DSC)により測定することができる。具体的には、実施例に記載の手法で融点を測定できる。また、本明細書において、融解ピークが複数の温度で観察された場合には、低温側の融解ピークの温度を融点とみなす。
The cured product of acid-modified polyolefin resin and glycidylamine-based epoxy compound preferably has a melting point of 60°C or more and 115°C or less, more preferably 65°C or more and 110°C or less, and 70°C or more and 95°C or less. It is even more preferable that there be.
By setting the melting point to 60° C. or higher, it is possible to easily suppress a decrease in interlayer adhesion of the connecting body due to heat. In particular, by setting the melting point to 60° C. or higher, it is possible to easily suppress a decrease in interlayer adhesion when the connecting body is immersed in a high-temperature electrolytic solution.
By setting the melting point to 115° C. or less, the first metal base material and the second metal base material can be easily bonded together. In addition, by setting the melting point to 115°C or lower, the lamination temperature when bonding the first metal base material and the second metal base material can be set low, making it easier to suppress oxidation of the metal base material. can.
As used herein, melting point can be measured by differential scanning calorimetry (DSC). Specifically, the melting point can be measured by the method described in Examples. Further, in this specification, when a melting peak is observed at a plurality of temperatures, the temperature of the melting peak on the lower temperature side is regarded as the melting point.

硬化物の融点は、例えば、酸変性ポリオレフィン樹脂の重量平均分子量、硬化剤の配合量で調整できる。例えば、重量平均分子量を大きくすると融点が高くなり、重量平均分子量を小さくすると融点が低くなる傾向がある。また、硬化剤の配合量を増やすと融点が高くなり、硬化剤の配合量を減らすと融点が低くなる傾向がある。また、エージングの時間を長くすると融点が高くなり、エージングの時間を短くすると融点が低くなる傾向がある。また、エージング温度を高くすると融点が高くなり、エージング温度を低くすると融点が低くなる傾向がある。 The melting point of the cured product can be adjusted, for example, by adjusting the weight average molecular weight of the acid-modified polyolefin resin and the amount of the curing agent. For example, increasing the weight average molecular weight tends to increase the melting point, while decreasing the weight average molecular weight tends to decrease the melting point. Furthermore, increasing the blending amount of the curing agent tends to increase the melting point, and decreasing the blending amount of the curing agent tends to lower the melting point. Furthermore, the longer the aging time, the higher the melting point, and the shorter the aging time, the lower the melting point. Furthermore, increasing the aging temperature tends to increase the melting point, and decreasing the aging temperature tends to decrease the melting point.

《導電性粒子》
本発明では、導電性粒子として、樹脂コアの表面に導電層を有する粒子を用いる。前記導電性粒子は、表面に導電層を有するため、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続することができる。また、前記導電性粒子は、コアが樹脂であるため、ラミネート時の圧力により、厚み方向の粒子径が小さくなる。そして、導電性粒子の厚み方向の粒子径が小さくなることにより、導電性接着剤層と第2の金属基材との接触面積が増え、層間密着性を良好にしやすくできる。
樹脂コアの表面に導電層を有する粒子は、例えば、樹脂コアに金属をメッキ又は蒸着することにより得ることができる。
《Conductive particles》
In the present invention, particles having a conductive layer on the surface of a resin core are used as the conductive particles. Since the conductive particles have a conductive layer on their surfaces, they can electrically connect the first metal base material and the second metal base material. Furthermore, since the conductive particles have resin cores, the particle diameter in the thickness direction becomes smaller due to the pressure during lamination. By reducing the particle size of the conductive particles in the thickness direction, the contact area between the conductive adhesive layer and the second metal base material increases, making it easier to improve interlayer adhesion.
Particles having a conductive layer on the surface of a resin core can be obtained by, for example, plating or vapor depositing a metal on the resin core.

導電性粒子は、表面に突起を有する粒子が好ましい。第1の金属基材及び第2の金属基材の表面に酸化物膜が形成されていても、表面に突起を有する導電性粒子は、前記突起により酸化物膜を突き破りやすいため、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続しやすくできる。
表面に突起を有する粒子は、例えば、樹脂コアの表面に、突起を形成する芯物質を複数配置した後、金属をメッキ又は蒸着することにより得ることができる。
樹脂コア粒子の表面に芯物質を付着させる方法としては、例えば、樹脂コアの分散液中に、芯物質を添加し、ファンデルワールス力等により、樹脂コア粒子の表面に芯物質を集積させる方法等が挙げられる。
The conductive particles preferably have protrusions on their surfaces. Even if an oxide film is formed on the surfaces of the first metal base material and the second metal base material, conductive particles having protrusions on the surface easily break through the oxide film due to the protrusions. It is possible to easily electrically connect the metal base material and the second metal base material.
Particles having protrusions on the surface can be obtained, for example, by arranging a plurality of core substances that form protrusions on the surface of a resin core, and then plating or vapor depositing metal.
As a method for attaching the core substance to the surface of the resin core particle, for example, a method of adding the core substance to a dispersion liquid of the resin core and accumulating the core substance on the surface of the resin core particle by van der Waals force or the like. etc.

樹脂コアを構成する樹脂としては、ベンゾグアナミン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂及びポリブタジエン樹脂等が挙げられる。また、樹脂コアを構成する樹脂としては、前述した樹脂を構成するモノマーの2種以上を組み合わせた共重合体も挙げられる。 Examples of the resin constituting the resin core include benzoguanamine resin, acrylic resin, styrene resin, silicone resin, and polybutadiene resin. Furthermore, examples of the resin constituting the resin core include copolymers that are a combination of two or more of the monomers constituting the resins described above.

樹脂コアは、圧縮回復率が55%以下であることが好ましく、47%以下であることがより好ましく、40%以下であることがより好ましく、30%以下であることがより好ましく、18%以下であることがより好ましい。圧縮回復率を55%以下とすることにより、ラミネート時の圧力により、導電性粒子の厚み方向の粒子径が小さくなりやすくなる。このため、導電性接着剤層と第2の金属基材との接触面積が増え、接続体の層間密着性を良好にしやすくできる。
樹脂コアは、圧縮回復率が5%以上であることが好ましく、6%以上であることがより好ましく、7%以上であることがさらに好ましい。圧縮回復率を5%以上とすることにより、ラミネート時の圧力により、導電性粒子の厚み方向の粒子径が極端に小さくなることを抑制できる。このため、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続しやすくできる。
樹脂コアの圧縮回復率は、例えば、樹脂コアを構成する樹脂の成分、樹脂コアを構成する樹脂の架橋度により調整できる。具体的には、樹脂の架橋度を高くすると圧縮回復率は大きくなり、樹脂の架橋度を低くすると圧縮回復率は小さくなる傾向がある。
The compression recovery rate of the resin core is preferably 55% or less, more preferably 47% or less, more preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and 18% or less. It is more preferable that By setting the compression recovery rate to 55% or less, the particle diameter of the conductive particles in the thickness direction tends to become smaller due to the pressure during lamination. Therefore, the contact area between the conductive adhesive layer and the second metal base material increases, making it easier to improve the interlayer adhesion of the connection body.
The compression recovery rate of the resin core is preferably 5% or more, more preferably 6% or more, and even more preferably 7% or more. By setting the compression recovery rate to 5% or more, it is possible to prevent the particle diameter of the conductive particles in the thickness direction from becoming extremely small due to the pressure during lamination. Therefore, it is possible to easily electrically connect the first metal base material and the second metal base material.
The compression recovery rate of the resin core can be adjusted by, for example, the components of the resin constituting the resin core and the degree of crosslinking of the resin constituting the resin core. Specifically, as the degree of crosslinking of the resin increases, the compression recovery rate tends to increase, and as the degree of crosslinking of the resin decreases, the compression recovery rate tends to decrease.

本明細書において、圧縮回復率は、以下のように測定できる。
試料台上に樹脂コアを散布する。散布された樹脂コア1個について、微小圧縮試験機を用いて、樹脂コアの中心方向に、樹脂コアが30%圧縮変形するまで負荷(反転荷重値)を与える。その後、原点用荷重値(0.40mN)まで除荷を行う。この間の荷重-圧縮変位を測定し、下記式から圧縮回復率を求めることができる。負荷速度は0.33mN/秒とする。微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープH-100」等が用いられる。
圧縮回復率(%)=[(L1-L2)/L1]×100
L1:負荷を与えるときの原点用荷重値から反転荷重値に至るまでのまでの圧縮変位
L2:負荷を解放するときの反転荷重値から原点用荷重値に至るまでの除荷変位
In this specification, compression recovery rate can be measured as follows.
Spread the resin core onto the sample stage. For each dispersed resin core, a load (reversed load value) is applied in the direction of the center of the resin core using a micro compression tester until the resin core is compressed and deformed by 30%. Thereafter, the load is unloaded to the origin load value (0.40 mN). The load-compression displacement during this time can be measured, and the compression recovery rate can be determined from the following formula. The loading rate is 0.33 mN/sec. As a micro compression tester, for example, "Fisherscope H-100" manufactured by Fisher Co., Ltd. is used.
Compression recovery rate (%) = [(L1-L2)/L1] x 100
L1: Compression displacement from the origin load value to the reverse load value when applying a load L2: Unloading displacement from the reverse load value to the origin load value when releasing the load

芯物質は、モース硬度が5以上であることが好ましく、7以上であることがより好ましく、9以上であることがさらに好ましい。
芯物質の材質としては、ニッケル(モース硬度5)、ジルコニア(モース硬度8~9)、アルミナ(モース硬度9)、炭化タングステン(モース硬度9)及びダイヤモンド(モース硬度10)等が挙げられる。芯物質は、単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
The Mohs hardness of the core material is preferably 5 or more, more preferably 7 or more, and even more preferably 9 or more.
Examples of the core material include nickel (Mohs hardness: 5), zirconia (Mohs hardness: 8 to 9), alumina (Mohs hardness: 9), tungsten carbide (Mohs hardness: 9), and diamond (Mohs hardness: 10). The core substances may be used alone or in combination of two or more types.

芯物質の平均粒子径は、好ましくは50nm以上250nm以下、より好ましくは100nm以上200nm以下である。また、樹脂コアの表面に形成する突起の数は、好ましくは1個以上500個以下、より好ましくは30個以上200個以下である。 The average particle diameter of the core substance is preferably 50 nm or more and 250 nm or less, more preferably 100 nm or more and 200 nm or less. Further, the number of protrusions formed on the surface of the resin core is preferably 1 or more and 500 or less, more preferably 30 or more and 200 or less.

導電層は、金属から構成することが好ましい。導電層を構成する金属としては、金、パラジウム、ニッケル、銅、銀、スズ及びアルミニウム等が挙げられる。導電層を構成する金属は合金であってもよい。 Preferably, the conductive layer is made of metal. Examples of the metal constituting the conductive layer include gold, palladium, nickel, copper, silver, tin, and aluminum. The metal constituting the conductive layer may be an alloy.

導電層の厚みは、導電性及び経済性とのバランスの観点から、好ましくは50nm以上250nm以下、より好ましくは80nm以上150nm以下である。 The thickness of the conductive layer is preferably 50 nm or more and 250 nm or less, more preferably 80 nm or more and 150 nm or less, from the viewpoint of balance between conductivity and economical efficiency.

前記導電性粒子の含有量は、前記接着剤100質量部に対して、0.1質量部以上2.0質量部以下であることが好ましく、0.15質量部以上1.8質量部以下であることがより好ましく、0.2質量部以上1.7質量部以下であることがさらに好ましい。
導電性粒子の含有量を0.1質量部以上とすることにより、接続体の抵抗値を低くしやすくできる。導電性粒子の含有量を2.0質量部以下とすることにより、導電性粒子の凝集を抑制しやすくできるため、接続体の抵抗値を低くしやすくできる。
The content of the conductive particles is preferably 0.1 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less, and 0.15 parts by mass or more and 1.8 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the adhesive. It is more preferable that the amount is 0.2 parts by mass or more and 1.7 parts by mass or less.
By setting the content of the conductive particles to 0.1 part by mass or more, the resistance value of the connecting body can be easily lowered. By setting the content of the conductive particles to 2.0 parts by mass or less, agglomeration of the conductive particles can be easily suppressed, and therefore the resistance value of the connecting body can be easily lowered.

《厚み》
導電性接着剤層の平均厚みをTn[μm]、導電性粒子の厚み方向の径の平均をDn[μm]と定義した際に、Dn/Tnが1.00以上の関係を満たすことが好ましい。
Dn/Tnを1.00以上とすることにより、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続しやすくできる。
Dn/Tnは、1.01以上であることがより好ましく、1.03以上であることがさらに好ましい。また、Dn/Tnは、接続体の層間密着性を良好にしやすくするため、1.50以下であることが好ましく、1.40以下であることがより好ましく、1.30以下であることがさらに好ましい。
《Thickness》
When the average thickness of the conductive adhesive layer is defined as Tn [μm] and the average diameter of the conductive particles in the thickness direction is defined as Dn [μm], it is preferable that Dn/Tn satisfies the relationship of 1.00 or more. .
By setting Dn/Tn to 1.00 or more, it is possible to easily electrically connect the first metal base material and the second metal base material.
Dn/Tn is more preferably 1.01 or more, and even more preferably 1.03 or more. In addition, Dn/Tn is preferably 1.50 or less, more preferably 1.40 or less, and even more preferably 1.30 or less, in order to facilitate good interlayer adhesion of the connection body. preferable.

DnとTnとの差(Dn-Tn)は、0.01μm以上であることが好ましく、0.03μm以上であることがより好ましく、0.05μm以上であることがさらに好ましい。
DnとTnとの差(Dn-Tn)は、1.0μm以下であることが好ましく、0.8μm以下であることがより好ましく、0.7μm以下であることがさらに好ましい。
The difference between Dn and Tn (Dn-Tn) is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.03 μm or more, and even more preferably 0.05 μm or more.
The difference between Dn and Tn (Dn-Tn) is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.8 μm or less, and even more preferably 0.7 μm or less.

本明細書において、導電性接着剤層の平均厚みを示すTnは、ランダムに選択した30箇所の導電性接着剤層の厚みの平均値とする。前述した30箇所の厚みは、例えば、SEM等で撮影した導電性接着剤層の断面写真から測定できる。 In this specification, Tn indicating the average thickness of the conductive adhesive layer is the average value of the thickness of the conductive adhesive layer at 30 randomly selected locations. The thicknesses at the 30 points described above can be measured, for example, from a cross-sectional photograph of the conductive adhesive layer taken with a SEM or the like.

本明細書において、導電性粒子の平均粒子径を示すDnは、例えば、下記A1及びA2の手順で測定できる。
A1:SEM等で導電性接着剤層の断面写真を撮影する。
A2:前記断面写真に写った導電性粒子の厚み方向の径を測定する。合計30個の導電性粒子の厚み方向の径の平均を、Dnとする。
In this specification, Dn, which indicates the average particle diameter of the conductive particles, can be measured, for example, by the following procedures A1 and A2.
A1: Take a cross-sectional photograph of the conductive adhesive layer using a SEM or the like.
A2: Measure the diameter in the thickness direction of the conductive particles shown in the cross-sectional photograph. The average diameter in the thickness direction of a total of 30 conductive particles is defined as Dn.

導電性接着剤層の平均厚みを示すTnは、1.0μm以上10.0μm以下が好ましく、2.0μm以上8.0μm以下がより好ましく、3.0μm以上6.0μm以下がさらに好ましい。Tnを1.0μm以上とすることにより、接続体の層間密着性を良好にしやすくできるとともに、第1の金属基材と第2の金属基材とが導電性粒子を介さずに接触することを抑制しやすくできる。Tnを10.0μm以下とすることにより、導電性接着剤層の塗工安定性を良好にしやすくできる。 Tn, which indicates the average thickness of the conductive adhesive layer, is preferably 1.0 μm or more and 10.0 μm or less, more preferably 2.0 μm or more and 8.0 μm or less, and even more preferably 3.0 μm or more and 6.0 μm or less. By setting Tn to 1.0 μm or more, it is possible to easily improve the interlayer adhesion of the connecting body, and it is possible to make it possible to make contact between the first metal base material and the second metal base material without intervening conductive particles. It can be easily suppressed. By setting Tn to 10.0 μm or less, the coating stability of the conductive adhesive layer can be easily improved.

導電性粒子の厚み方向の径の平均を示すDnは、1.5μm以上12.0μm以下が好ましく、2.5μm以上9.0μm以下がより好ましく、3.5μm以上7.0μm以下がさらに好ましい。 Dn, which indicates the average diameter of the conductive particles in the thickness direction, is preferably 1.5 μm or more and 12.0 μm or less, more preferably 2.5 μm or more and 9.0 μm or less, and even more preferably 3.5 μm or more and 7.0 μm or less.

導電性粒子の粒子径分布のばらつきを示すCV値は10%以下が好ましく、5%以下がさらに好ましい。CV値の小さな材料を使用することにより、貼合の外観での粒子径の大きなフィラー起因の凸状欠点を抑制することができる。CV値は、「変動係数」の略称である。 The CV value, which indicates the variation in particle size distribution of the conductive particles, is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. By using a material with a small CV value, it is possible to suppress convex defects caused by fillers with large particle diameters in the appearance of lamination. CV value is an abbreviation for "coefficient of variation."

<面積比>
接続体を平面視した際の接続体の面積をS、接続体を平面視した際の第1の金属基材の面積をS1、接続体を平面視した際の第2の金属基材の面積をS2とした際に、下記式(1)及び(2)を満たすことが好ましい。下記式(1)及び(2)を満たすことにより、位置合わせを不要とすることができる。また、下記式(1)及び(2)を満たすことにより、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続しやすくできる。
0.99≦S1/S≦1.01 (1)
0.99≦S2/S≦1.01 (2)
<Area ratio>
The area of the connecting body when viewed from above is S, the area of the first metal base when viewed from above is S1, and the area of the second metal base when viewed from above. When is S2, it is preferable that the following formulas (1) and (2) are satisfied. By satisfying the following formulas (1) and (2), alignment can be made unnecessary. Moreover, by satisfying the following formulas (1) and (2), it is possible to easily electrically connect the first metal base material and the second metal base material.
0.99≦S1/S≦1.01 (1)
0.99≦S2/S≦1.01 (2)

接続体を平面視した際の導電性接着剤層の面積をS3とした際に、上述したS1及びS2と、S3とが、下記式(3)及び(4)を満たすことが好ましい。下記式(3)及び(4)を満たすことにより、位置合わせを不要とすることができる。また、下記式(3)及び(4)を満たすことにより、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続しやすくできる。
1.00≦S1/S3≦1.02 (3)
1.00≦S2/S3≦1.02 (4)
When the area of the conductive adhesive layer when the connecting body is viewed in plan is S3, it is preferable that S1 and S2 and S3 described above satisfy the following formulas (3) and (4). By satisfying the following formulas (3) and (4), alignment can be made unnecessary. Moreover, by satisfying the following formulas (3) and (4), it is possible to easily electrically connect the first metal base material and the second metal base material.
1.00≦S1/S3≦1.02 (3)
1.00≦S2/S3≦1.02 (4)

<抵抗値>
接続体は、抵抗値が10.0mΩ以下であることが好ましく、8.0mΩ以下であることがより好ましく、6.0mΩ以下であることがさらに好ましい。接続体の抵抗値の下限は特に制限されないが、1.0mΩ以上であることが好ましく、2.0mΩ以上であることがより好ましい。
接続体の抵抗値は、一方の端子を第1の金属基材に設置し、他方の端子を第2の金属基材に設置して、4端子法により測定できる。
<Resistance value>
The resistance value of the connecting body is preferably 10.0 mΩ or less, more preferably 8.0 mΩ or less, and even more preferably 6.0 mΩ or less. Although the lower limit of the resistance value of the connecting body is not particularly limited, it is preferably 1.0 mΩ or more, and more preferably 2.0 mΩ or more.
The resistance value of the connection body can be measured by a four-terminal method by installing one terminal on the first metal base material and installing the other terminal on the second metal base material.

[製造方法]
本発明の接続体は、例えば、下記の工程1及び2により製造することができる。
[Production method]
The connecting body of the present invention can be manufactured, for example, by the following steps 1 and 2.

工程1:第1の金属基材上に、接着剤用組成物と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含む導電性接着剤層用塗布液を塗布、乾燥して、導電性接着剤層を形成する工程。前記接着剤用組成物は、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂と、グリシジルアミン系エポキシ化合物とを含む組成物である。
工程2:前記導電性接着剤層上に、第2の金属基材をラミネートして、前記第1の金属基材、前記導電性接着剤層及び前記第2の金属基材をこの順に有する、接続体を得る工程。
Step 1: A coating liquid for a conductive adhesive layer containing an adhesive composition and conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core is applied onto the first metal base material, dried, and conductive. Step of forming a adhesive layer. The adhesive composition is a composition containing an acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g and a glycidylamine-based epoxy compound.
Step 2: Laminating a second metal base material on the conductive adhesive layer to have the first metal base material, the conductive adhesive layer, and the second metal base material in this order. Process of obtaining a connected body.

<工程1>
工程1は、第1の金属基材上に、接着剤と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含む導電性接着剤層用塗布液を塗布、乾燥して、導電性接着剤層を形成する工程である。
<Step 1>
Step 1 is to apply a coating liquid for a conductive adhesive layer containing an adhesive and conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core onto a first metal base material, and dry it to form a conductive adhesive. This is a step of forming a chemical layer.

工程1では、前記導電性接着剤層の平均厚みをT1[μm]、前記導電性粒子の平均粒子径をD1[μm]と定義した際に、T1<D1の関係を満たすようにすることが好ましい。 In step 1, when the average thickness of the conductive adhesive layer is defined as T1 [μm] and the average particle diameter of the conductive particles is defined as D1 [μm], it is possible to satisfy the relationship T1<D1. preferable.

図3(a)は、工程1の後の状態の一実施形態を示す断面図である。
図3(a)の積層体50は、第1の金属基材10の上に導電性接着剤層30を有している。図3(a)において、導電性接着剤層30は、接着剤31、及び、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子32を有している。
FIG. 3(a) is a cross-sectional view showing an embodiment of the state after step 1.
The laminate 50 in FIG. 3(a) has a conductive adhesive layer 30 on the first metal base 10. In FIG. 3A, the conductive adhesive layer 30 includes an adhesive 31 and conductive particles 32 having a conductive layer on the surface of a resin core.

工程1では、T1<D1の関係を満たすようにすることが好ましい。
T1<D1の関係を満たすことにより、製造時に高温及び高圧で処理をしなくても、簡易なラミネート工程により、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続することができる。
In step 1, it is preferable to satisfy the relationship T1<D1.
By satisfying the relationship T1<D1, the first metal base material and the second metal base material can be electrically connected through a simple lamination process without the need for high temperature and high pressure processing during manufacturing. I can do it.

D1とT1との比(D1/T1)は、1.03以上であることが好ましく、1.05以上であることがより好ましく、1.10以上であることがさらに好ましい。前記比を1.03以上とすることにより、第1の金属基材と第2の金属基材とを電気的に接続しやすくできる。
D1とT1との比(D1/T1)は、1.50以下であることが好ましく、1.30以下であることがより好ましく、1.20以下であることがさらに好ましい。前記比を1.50以下とすることにより、接続体の層間密着性を良好にしやすくできる。
The ratio between D1 and T1 (D1/T1) is preferably 1.03 or more, more preferably 1.05 or more, and even more preferably 1.10 or more. By setting the ratio to 1.03 or more, it is possible to easily electrically connect the first metal base material and the second metal base material.
The ratio between D1 and T1 (D1/T1) is preferably 1.50 or less, more preferably 1.30 or less, and even more preferably 1.20 or less. By setting the ratio to 1.50 or less, the interlayer adhesion of the connecting body can be easily improved.

D1とT1との差(D1-T1)は、0.1μm以上であることが好ましく、0.3μm以上であることがより好ましく、0.4μm以上であることがさらに好ましい。
D1とT1との差(D1-T1)は、2.0μm以下であることが好ましく、1.0μm以下であることがより好ましく、0.7μm以下であることがさらに好ましい。
The difference between D1 and T1 (D1-T1) is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and even more preferably 0.4 μm or more.
The difference between D1 and T1 (D1-T1) is preferably 2.0 μm or less, more preferably 1.0 μm or less, and even more preferably 0.7 μm or less.

導電性接着剤層の平均厚みを示すT1は、1.0μm以上10.0μm以下が好ましく、2.0μm以上8.0μm以下がより好ましく、3.0μm以上6.0μm以下がさらに好ましい。T1を1.0μm以上とすることにより、接続体の層間密着性を良好にしやすくできるとともに、第1の金属基材と第2の金属基材とが導電性粒子を介さずに接触することを抑制しやすくできる。T1を10.0μm以下とすることにより、導電性接着剤層の塗工安定性を良好にしやすくできる。 T1, which indicates the average thickness of the conductive adhesive layer, is preferably 1.0 μm or more and 10.0 μm or less, more preferably 2.0 μm or more and 8.0 μm or less, and even more preferably 3.0 μm or more and 6.0 μm or less. By setting T1 to 1.0 μm or more, it is possible to easily improve the interlayer adhesion of the connection body, and it is also possible to prevent the first metal base material and the second metal base material from coming into contact without intervening conductive particles. It can be easily suppressed. By setting T1 to 10.0 μm or less, the coating stability of the conductive adhesive layer can be easily improved.

導電性粒子の平均粒子径を示すD1は、1.5μm以上12.0μm以下が好ましく、2.5μm以上9.0μm以下がより好ましく、3.5μm以上7.0μm以下がさらに好ましい。
上述したように、導電性粒子は、ラミネート時の圧力によって、厚み方向に若干つぶれる。このため、D1はDnよりも若干大きくすることが好ましい。D1とDnの差は0.05μm以上0.70μm程度である。
D1, which indicates the average particle diameter of the conductive particles, is preferably 1.5 μm or more and 12.0 μm or less, more preferably 2.5 μm or more and 9.0 μm or less, and even more preferably 3.5 μm or more and 7.0 μm or less.
As described above, the conductive particles are slightly crushed in the thickness direction by the pressure during lamination. For this reason, it is preferable that D1 be slightly larger than Dn. The difference between D1 and Dn is 0.05 μm or more and about 0.70 μm.

本明細書において、導電性接着剤層の平均厚みを示すT1は、ランダムに選択した30箇所の導電性接着剤層の厚みの平均値とする。前述した30箇所の厚みの測定は、工程1が完了した後であって、工程2の開始前に実施するものとする。前述した30箇所の厚みは、例えば、SEM等で撮影した導電性接着剤層の断面写真から測定できる。 In this specification, T1 indicating the average thickness of the conductive adhesive layer is the average value of the thickness of the conductive adhesive layer at 30 randomly selected locations. It is assumed that the thickness measurements at the 30 points described above are carried out after the completion of step 1 and before the start of step 2. The thicknesses at the 30 points described above can be measured, for example, from a cross-sectional photograph of the conductive adhesive layer taken with a SEM or the like.

本明細書において、導電性粒子の平均粒子径を示すD1は、例えば、下記B1及びB2の手順で測定できる。下記B1及びB2は、工程1が完了した後であって、工程2の開始前に実施するものとする。
B1:SEM等で導電性接着剤層の断面写真を撮影する。
B2:前記断面写真に写った導電性粒子の最大径を測定する。合計30個の導電性粒子の最大径の平均を、D1とする。
In this specification, D1 indicating the average particle diameter of the conductive particles can be measured, for example, by the following procedures B1 and B2. B1 and B2 below are to be performed after Step 1 is completed and before Step 2 is started.
B1: Take a cross-sectional photograph of the conductive adhesive layer using SEM or the like.
B2: Measure the maximum diameter of the conductive particles shown in the cross-sectional photograph. The average maximum diameter of a total of 30 conductive particles is defined as D1.

導電性接着剤層用塗布液は、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコール類(イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等)、等の有機溶剤が挙げられる。また、溶剤としては、前記有機溶剤と水との混合溶剤を用いることもできる。溶剤は、1種類からなる溶剤であってもよいし、2種類以上の混合溶剤であってもよい。 It is preferable that the coating liquid for the conductive adhesive layer contains a solvent. Examples of solvents include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) ), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), glycol ethers (propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.) ), and other organic solvents. Further, as the solvent, a mixed solvent of the above-mentioned organic solvent and water can also be used. The solvent may be a single type of solvent or a mixed solvent of two or more types.

塗布手段としては、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコート、ダイコート等の汎用の塗布手段が挙げられる。
乾燥条件は、金属基材の特性、導電性接着剤層用塗布液を構成する材料、塗布液の塗布量等により調整すればよい。例えば、乾燥温度は80℃以上120℃以下、乾燥時間は30秒以上90秒以下とすることが好ましい。前記温度範囲であれば、金属基材の膨張及び酸化等を抑制しやすくでき、接続体の品質を良好にしやすくできる。
酸変性ポリオレフィン樹脂とグリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化反応は、工程1の乾燥によっても進行する。前記硬化反応をより進行するため、工程2の後に工程3を行うことが好ましい。
Examples of the coating means include general-purpose coating means such as gravure coating, bar coating, roll coating, reverse roll coating, comma coating, and die coating.
The drying conditions may be adjusted depending on the characteristics of the metal base material, the material constituting the coating liquid for the conductive adhesive layer, the amount of the coating liquid applied, and the like. For example, it is preferable that the drying temperature be 80° C. or more and 120° C. or less, and the drying time be 30 seconds or more and 90 seconds or less. In the above temperature range, expansion and oxidation of the metal base material can be easily suppressed, and the quality of the connected body can be easily improved.
The curing reaction between the acid-modified polyolefin resin and the glycidylamine-based epoxy compound also proceeds during the drying in step 1. In order to further advance the curing reaction, it is preferable to perform step 3 after step 2.

<工程2>
工程2は、前記導電性接着剤層上に、第2の金属基材をラミネートして、前記第1の金属基材、前記導電性接着剤層及び前記第2の金属基材をこの順に有する、接続体を得る工程である。
<Step 2>
Step 2 is to laminate a second metal base material on the conductive adhesive layer to have the first metal base material, the conductive adhesive layer, and the second metal base material in this order. , is the process of obtaining a connected body.

図3(b)は、工程2の後の状態の一実施形態を示す断面図である。
図3(b)の接続体100は、第1の金属基材10の上に、導電性接着剤層30及び第2の金属基材20をこの順に有している。図3(b)において、第1の金属基材10と第2の金属基材20とは、導電性粒子30を介して電気的に接続されている。
FIG. 3(b) is a cross-sectional view showing an embodiment of the state after step 2.
The connection body 100 in FIG. 3(b) has a conductive adhesive layer 30 and a second metal base material 20 on the first metal base material 10 in this order. In FIG. 3(b), the first metal base material 10 and the second metal base material 20 are electrically connected via conductive particles 30.

図3(a)と図3(b)とを対比すると、図3(b)の導電性粒子30は、厚み方向につぶされることにより、厚み方向の粒子径が小さくなっている。このように、導電性粒子が厚み方向につぶされることにより、導電性粒子の上方に存在する接着剤(図3(a)の導電性粒子32の上側に存在する接着剤31)は、ラミネート時の圧力で幅方向に広がりやすくなる。このため、導電性接着剤層と第2の金属基材との接触面積が増加しやすくなり、接続体の層間密着性を良好にしやすくできる。 Comparing FIG. 3(a) and FIG. 3(b), the conductive particles 30 in FIG. 3(b) are crushed in the thickness direction, so that the particle diameter in the thickness direction is reduced. As the conductive particles are crushed in the thickness direction, the adhesive present above the conductive particles (the adhesive 31 present above the conductive particles 32 in FIG. 3(a)) is removed during lamination. The pressure makes it easier to spread in the width direction. Therefore, the contact area between the conductive adhesive layer and the second metal base material can be easily increased, and the interlayer adhesion of the connected body can be easily improved.

図3(b)の左右両端は、導電性接着剤層30と第2の金属基材20とが接触していない。このような箇所は、ラミネート時に混入した気泡である。後述するように、ラミネート時の温度を調整することにより、気泡を減らしやすくできる。 At both left and right ends in FIG. 3(b), the conductive adhesive layer 30 and the second metal base material 20 are not in contact. Such areas are caused by air bubbles mixed in during lamination. As will be described later, bubbles can be easily reduced by adjusting the temperature during lamination.

工程2において、ラミネート温度は55℃以上であることが好ましく、60℃以上であることがより好ましく、70℃以上であることがさらに好ましい。
ラミネート温度を55℃以上とすることにより、ラミネート時の気泡の混入を抑制し、抵抗値を低くしやすくできる。ラミネート時に気泡が混入すると、導電性粒子が元の形状に復元しようとすることを接着剤が抑制しにくくなるため、接続体の抵抗値が経時的に上昇する場合がある。このため、ラミネート温度を上記範囲とすることにより、初期の抵抗値を低くできるとともに、接続体の抵抗値の経時的な上昇を抑制しやすくできる。
ラミネート温度の上限は特に制限されないが、好ましくは110℃以下、より好ましくは100℃以下、さらに好ましくは90℃以下である。
In step 2, the lamination temperature is preferably 55°C or higher, more preferably 60°C or higher, and even more preferably 70°C or higher.
By setting the lamination temperature to 55° C. or higher, inclusion of air bubbles during lamination can be suppressed and the resistance value can be easily lowered. If air bubbles are mixed in during lamination, it becomes difficult for the adhesive to suppress the conductive particles from restoring to their original shape, so the resistance value of the connection body may increase over time. Therefore, by setting the lamination temperature within the above range, the initial resistance value can be lowered, and the increase in resistance value of the connecting body over time can be easily suppressed.
The upper limit of the lamination temperature is not particularly limited, but is preferably 110°C or lower, more preferably 100°C or lower, and still more preferably 90°C or lower.

工程2のラミネートの圧力は、0.1MPa以上1.0MPa以下が好ましく、0.2MPa以上0.7MPa以下がより好ましく、0.3MPa以上0.5MPa以下がさらに好ましい。
圧力を0.1MPa以上とすることにより、導電性粒子を厚み方向に潰しやすくできる。また、圧力を0.1MPa以上とすることにより、導電性粒子の上方に存在する接着剤(図1の導電性粒子32の上側に存在する接着剤31)をは、ラミネート時の圧力で幅方向に広がりやすくできる。
圧力を1.0MPa以下とすることにより、高い圧力を付加することが不要になるため、接続体の製造を簡易にすることができ、かつ接続体の製造が安定し、さらに、接続体を連続的に製造しやすくできる。
The laminating pressure in Step 2 is preferably 0.1 MPa or more and 1.0 MPa or less, more preferably 0.2 MPa or more and 0.7 MPa or less, and even more preferably 0.3 MPa or more and 0.5 MPa or less.
By setting the pressure to 0.1 MPa or more, the conductive particles can be easily crushed in the thickness direction. In addition, by setting the pressure to 0.1 MPa or more, the adhesive present above the conductive particles (the adhesive 31 present above the conductive particles 32 in FIG. 1) is removed in the width direction by the pressure during lamination. It can spread easily.
By setting the pressure to 1.0 MPa or less, there is no need to apply high pressure, which simplifies and stabilizes the manufacturing of the connecting body. It can be manufactured easily.

工程2のラミネートの速度は、0.2m/min以上30m/min以下が好ましく、0.4m/min以上2.0m/min以下がより好ましく、1.0m/min以上15.0m/min以下がさらに好ましい。 The laminating speed in step 2 is preferably 0.2 m/min or more and 30 m/min or less, more preferably 0.4 m/min or more and 2.0 m/min or less, and 1.0 m/min or more and 15.0 m/min or less. More preferred.

<ロールトウーロール>
上述した接続体の製造方法は、前記第1の金属基材のロール状物から前記第1の金属基材を連続的に送り出すことにより、前記工程1を行うとともに、前記第2の金属基材のロール状物から前記第2の金属基材を連続的に送り出すことにより、前記工程2を行うことが好ましい。
上記手段を採用することにより、接続体を連続的に製造することができ、製造効率を飛躍的に高めることができる。
なお、工程1の後に、第1の金属基材上に導電性接着剤層を形成した積層体を一旦巻き取ってもよい。そして、巻き取ったロール状の積層体から積層体を連続的に送り出すとともに、前記第2の金属基材のロール状物から前記第2の金属基材を連続的に送り出すことにより、工程2を行ってもよい。このように、工程1と工程2との間に、積層体を巻き取る工程を含んでいても、ロールトウーロールでの製造であるため、製造率を飛躍的に高めることができる。
<Roll toe roll>
The above-described method for manufacturing a connecting body includes performing the step 1 by continuously feeding out the first metal base material from a roll-shaped object of the first metal base material, and at the same time performing the step 1 on the second metal base material. It is preferable to carry out the step 2 by continuously feeding out the second metal base material from a roll-shaped material.
By employing the above means, the connecting bodies can be manufactured continuously, and manufacturing efficiency can be dramatically improved.
Note that after step 1, the laminate in which the conductive adhesive layer is formed on the first metal base material may be wound up once. Then, step 2 is carried out by continuously feeding out the laminate from the rolled-up roll-shaped laminate and by continuously feeding out the second metal base material from the roll-shaped object of the second metal base material. You may go. In this way, even if the step of winding up the laminate is included between Step 1 and Step 2, the manufacturing rate can be dramatically increased because the manufacturing is performed using a roll-to-roll method.

<工程3>
接続体の製造方法は、さらに、下記の工程3を有していてもよい。
工程3:接続体をエージング処理する工程。
<Step 3>
The method for manufacturing a connecting body may further include the following step 3.
Step 3: A step of aging the connected body.

工程3のエージング処理を行うことにより、酸変性ポリオレフィン樹脂とグリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化を進行させることができる。このため、工程3を実施した接続体は、接続体の層間密着性の経時的な低下を抑制しやすくできる。さらに、工程3を実施した接続体は、導電性粒子が元の形状に復元しようとすることを接着剤が抑制しやすくなるため、接続体の抵抗値の経時的な変化を抑制しやすくできる。 By performing the aging treatment in step 3, curing of the acid-modified polyolefin resin and the glycidylamine-based epoxy compound can proceed. Therefore, the connected body subjected to Step 3 can easily suppress the deterioration of the interlayer adhesion of the connected body over time. Furthermore, in the connected body that has undergone Step 3, the adhesive can more easily suppress the conductive particles from restoring to their original shape, so it is easier to suppress changes in the resistance value of the connected body over time.

工程3において、エージング処理の温度及び時間は、以下の範囲が好ましい。 In step 3, the temperature and time of the aging treatment are preferably within the following ranges.

エージング処理の温度は、55℃以下であることが好ましく、50℃以下であることがより好ましく、47℃以下であることがさらに好ましい。エージング処理の温度を55℃以下とすることにより、金属基材が酸化することを抑制しやすくできる。さらに、エージング処理の温度を55℃以下とすることにより、エージング処理中に導電性粒子が元の形状に復元することを抑制しやすくできる。
エージング処理の温度の下限は、酸変性ポリオレフィン樹脂とグリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化を促進するため、25℃以上が好ましく、30℃以上がより好ましく、40℃以上がさらに好ましい。
エージング処理の時間は特に制限されないが、1日以上9日以下が好ましく、3日以上7日以下がより好ましい。
The temperature of the aging treatment is preferably 55°C or lower, more preferably 50°C or lower, and even more preferably 47°C or lower. By setting the temperature of the aging treatment to 55° C. or lower, oxidation of the metal base material can be easily suppressed. Furthermore, by setting the temperature of the aging treatment to 55° C. or lower, it is possible to easily suppress the conductive particles from restoring to their original shape during the aging treatment.
The lower limit of the temperature of the aging treatment is preferably 25°C or higher, more preferably 30°C or higher, and even more preferably 40°C or higher, in order to promote curing of the acid-modified polyolefin resin and the glycidylamine-based epoxy compound.
The aging treatment time is not particularly limited, but is preferably 1 day or more and 9 days or less, more preferably 3 days or more and 7 days or less.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

1.測定
1-1.抵抗値
実施例及び比較例で作製した接続体の抵抗値を測定した。一方の一対の端子を第1の金属基材に設置し、他方の一対の端子を第2の金属基材に設置して、4端子法により抵抗値を測定した。測定装置は日置電機社の商品名「抵抗計RM3544」を用いた。結果を表1に示す。
1. Measurement 1-1. Resistance Value The resistance values of the connected bodies produced in Examples and Comparative Examples were measured. One pair of terminals was installed on the first metal base material, and the other pair of terminals was installed on the second metal base material, and the resistance value was measured by a four-terminal method. As a measuring device, a product name of "Resistance Meter RM3544" manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. was used. The results are shown in Table 1.

1-2.層間密着性の経時変化
(1)初期の層間密着性の測定
実施例及び比較例で作製した接続体を、幅15mm、長さ10cmに切断したサンプルを2つ作製した。一方のサンプルの先端10mmの第2の金属基材を剥離し、剥離した第2の金属基材をチャックでつかみ、島津製作所社の商品名「AUTOGRAPH AGS-50D」を用いて、剥離角度180°剥離速度200mm/minの条件で剥離し、剥離力1を測定した。
もう1方のサンプルの先端10mmの第1の金属基材を剥離し、剥離した第1の金属基材をチャックでつかみ、島津製作所社の商品名「AUTOGRAPH AGS-50D」を用いて、剥離角度180°剥離速度200mm/minの条件で剥離し、剥離力2を測定した。
剥離力1及び剥離力2のうち、弱い方の剥離力を「初期の層間密着力」とした。
1-2. Time-dependent change in interlayer adhesion (1) Measurement of initial interlayer adhesion Two samples were prepared by cutting the connected bodies prepared in Examples and Comparative Examples into pieces of 15 mm in width and 10 cm in length. Peel off the second metal base material of 10 mm from the tip of one sample, grasp the peeled second metal base material with a chuck, and use Shimadzu Corporation's product name "AUTOGRAPH AGS-50D" to peel it off at a peel angle of 180°. Peeling was performed at a peeling rate of 200 mm/min, and the peeling force 1 was measured.
Peel off the first metal base material of 10 mm from the tip of the other sample, grasp the peeled first metal base material with a chuck, and adjust the peeling angle using Shimadzu Corporation's product name "AUTOGRAPH AGS-50D". Peeling was performed at a 180° peeling rate of 200 mm/min, and peeling force 2 was measured.
The weaker of peeling force 1 and peeling force 2 was defined as "initial interlayer adhesion strength".

(2)耐久試験を300時間実施した後の層間密着性の測定
各実施例及び比較例の接続体に関して、上記(1)と同様のサンプルを2つ作製した。パウチ内に下記の耐久試験液を充填した後、さらに、パウチ内にサンプルを投入した。パウチを60℃のオイルバスに300時間浸漬した後、パウチからサンプルを取り出した。その後、上記(1)と同様にして、2つのサンプルの剥離力を測定した。測定した剥離力を、剥離力3及び4とした。剥離力3及び剥離力4のうち、弱い方の剥離力を「300時間後の層間密着力」とした。
<耐久試験液>
X1:六フッ化リン酸リチウムと溶媒とを、六フッ化リン酸リチウムの濃度が1mol/Lとなるように混合し、リチウムイオン電池用の電解液を調整した。溶媒は、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとを、質量比1:1で混合した、混合溶媒を用いた。
X2:X1で得た電解液1kgに対して、水を600mg添加した。水を添加する理由は、六フッ化リン酸リチウムからフッ酸を発生させるためである。
(2) Measurement of interlayer adhesion after carrying out a durability test for 300 hours Regarding the connected bodies of each example and comparative example, two samples similar to the above (1) were produced. After filling the pouch with the following durability test liquid, a sample was further placed in the pouch. After the pouch was immersed in a 60°C oil bath for 300 hours, the sample was taken out from the pouch. Thereafter, the peeling force of the two samples was measured in the same manner as in (1) above. The measured peeling forces were designated as peeling forces 3 and 4. The weaker of peeling force 3 and peeling force 4 was defined as "interlayer adhesion strength after 300 hours."
<Durability test liquid>
X1: Lithium hexafluorophosphate and a solvent were mixed so that the concentration of lithium hexafluorophosphate was 1 mol/L to prepare an electrolytic solution for a lithium ion battery. The solvent used was a mixed solvent in which ethylene carbonate and diethyl carbonate were mixed at a mass ratio of 1:1.
X2: 600 mg of water was added to 1 kg of the electrolyte obtained in X1. The reason for adding water is to generate hydrofluoric acid from lithium hexafluorophosphate.

(3)層間密着性の経時変化の算出
各実施例及び比較例の接続体に関して、300時間後の層間密着力/初期の層間密着力、を算出した。結果を表1に示す。比較例4は、耐久試験液中でサンプルの界面が剥離してしまい、300時間後の層間密着力が測定できなかった。このため、表1の比較例4の評価は「-」と記載した。
(3) Calculation of change in interlayer adhesion over time For the connected bodies of each example and comparative example, interlayer adhesion after 300 hours/initial interlayer adhesion was calculated. The results are shown in Table 1. In Comparative Example 4, the interface of the sample peeled off in the durability test liquid, and the interlayer adhesion strength after 300 hours could not be measured. Therefore, the evaluation of Comparative Example 4 in Table 1 was written as "-".

1-3.融点の測定
実施例及び比較例で用いた酸変性ポリオレフィン樹脂とエポキシ化合物との硬化物の融点を測定した。測定方法は下記の通りとした。
<融点の測定方法>
測定温度0~160℃、昇温速度20℃/分の条件で、示差走査熱量計(商品名:EXSTRA DSC6200、日立ハイテクサイエンス社製)により融解ピーク温度を測定した。1stヒーティングの融解ピークを、硬化物の融点とした。
1-3. Measurement of Melting Point The melting point of the cured product of the acid-modified polyolefin resin and the epoxy compound used in Examples and Comparative Examples was measured. The measurement method was as follows.
<Method of measuring melting point>
The melting peak temperature was measured using a differential scanning calorimeter (trade name: EXSTRA DSC6200, manufactured by Hitachi High-Tech Science) under conditions of a measurement temperature of 0 to 160°C and a heating rate of 20°C/min. The melting peak of the 1st heating was taken as the melting point of the cured product.

2.樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子の作製
特開2020-97739号公報の実施例3の記載に準じて、樹脂コア(圧縮回復率:9.8%)の表面に、厚み0.1μm程度の導電層(ニッケル層)が形成された導電性粒子を得た(平均粒子径3.1μm)。
2. Preparation of conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core According to the description in Example 3 of JP-A-2020-97739, a layer with a thickness of 0.5% was applied to the surface of a resin core (compression recovery rate: 9.8%). Conductive particles on which a conductive layer (nickel layer) of about 1 μm was formed were obtained (average particle size: 3.1 μm).

3.酸変性ポリオレフィン樹脂の製造
(1)酸変性ポリオレフィン樹脂1
1Lオートクレーブに、プロピレン-ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7080」)100質量部、トルエン150質量部及び無水マレイン酸1質量部、ジ-tert-ブチルパーオキサイド5質量部を加え、140℃まで昇温した後、更に3時間撹拌した。その後、得られた反応液を冷却後、多量のメチルエチルケトンが入った容器に注ぎ、樹脂を析出させた。その後、当該樹脂を含有する液を遠心分離することにより、無水マレイン酸がグラフト重合した酸変性プロピレン-ブテン共重合体と(ポリ)無水マレイン酸および低分子量物とを分離、精製した。その後、減圧下70℃で5時間乾燥させることにより、酸変性ポリオレフィン樹脂1(無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体、酸価1mgKOH/g、重量平均分子量100000)を得た。
3. Production of acid-modified polyolefin resin (1) Acid-modified polyolefin resin 1
In a 1L autoclave, 100 parts by mass of propylene-butene copolymer ("Tafmer (registered trademark) XM7080" manufactured by Mitsui Chemicals), 150 parts by mass of toluene, 1 part by mass of maleic anhydride, and 5 parts by mass of di-tert-butyl peroxide was added, the temperature was raised to 140°C, and the mixture was further stirred for 3 hours. Thereafter, the resulting reaction solution was cooled and poured into a container containing a large amount of methyl ethyl ketone to precipitate the resin. Thereafter, the liquid containing the resin was centrifuged to separate and purify the acid-modified propylene-butene copolymer graft-polymerized with maleic anhydride, the (poly)maleic anhydride, and the low molecular weight substance. Thereafter, acid-modified polyolefin resin 1 (maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer, acid value 1 mgKOH/g, weight average molecular weight 100,000) was obtained by drying at 70° C. for 5 hours under reduced pressure.

(2)酸変性ポリオレフィン樹脂2
無水マレイン酸の仕込み量を19質量部に変更し、ジ-tert-ブチルパーオキサイドの仕込み量を5質量部に変更した以外は、製造例1と同様にすることにより、酸変性ポリオレフィン樹脂2(無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体、酸価12mgKOH/g、重量平均分子量100000)を得た。
(2) Acid-modified polyolefin resin 2
Acid-modified polyolefin resin 2 ( A maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (acid value: 12 mgKOH/g, weight average molecular weight: 100,000) was obtained.

(3)酸変性ポリオレフィン樹脂3
プロピレン-ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7080」)をプロピレン-ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7090」)に変更し、無水マレイン酸の仕込み量を19質量部に変更し、ジ-tert-ブチルパーオキサイドの仕込み量を5質量部に変更した以外は、製造例1と同様にすることにより、酸変性ポリオレフィン樹脂3(無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体、酸価12mgKOH/g、重量平均分子量100000)を得た。
(3) Acid-modified polyolefin resin 3
Changing the propylene-butene copolymer (“Tafmer (registered trademark) XM7080” manufactured by Mitsui Chemicals) to a propylene-butene copolymer (“Tafmer (registered trademark) Acid-modified polyolefin resin 3 (maleic anhydride-modified propylene -butene copolymer, acid value 12 mgKOH/g, weight average molecular weight 100,000) was obtained.

4.接続体の作製
[実施例1]
下記の工程1~3により、実施例1の接続体を作製した。実施例1の接続体は、明細書本文のT1が2.9μm、D1が3.1μm、Tnが2.9μm、Dnが2.93μmであった。
4. Production of connection body [Example 1]
The connection body of Example 1 was produced by the following steps 1 to 3. In the connection body of Example 1, T1 was 2.9 μm, D1 was 3.1 μm, Tn was 2.9 μm, and Dn was 2.93 μm.

工程1:第1の金属基材(厚み50μmのアルミニウム箔)上に、下記の導電性接着剤層用塗布液1をグラビアコート法により塗布した。次いで、100℃で1分間乾燥して、平均厚み2.9μmの導電性接着剤層を形成した。工程1は、第1の金属基材のロール状物から、第1の金属基材を連続的に送り出すことにより、連続的に実施した。 Step 1: On the first metal base material (aluminum foil with a thickness of 50 μm), the following coating liquid 1 for conductive adhesive layer was applied by gravure coating. Next, it was dried at 100° C. for 1 minute to form a conductive adhesive layer with an average thickness of 2.9 μm. Step 1 was carried out continuously by continuously feeding out the first metal base material from a roll of the first metal base material.

<導電性接着剤層用塗布液1>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.27質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂1)
・硬化剤 5質量部
(グリシジルアミン系エポキシ化合物)
(1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン)
・希釈溶剤 適量
<Coating liquid 1 for conductive adhesive layer>
- 0.27 parts by mass of conductive particles prepared in "2" above - 100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 1 above)
・Curing agent 5 parts by mass (glycidylamine epoxy compound)
(1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane)
・Appropriate amount of diluting solvent

工程2:導電性接着剤層上に、第2の金属基材(厚み8μmの銅箔)をラミネートして、第1の金属基材、導電性接着剤層及び第2の金属基材とをこの順に有する、接続体を得た。ラミネート条件は下記の通りとした。
工程2は、第2の金属基材のロール状物から、第2の金属基材を連続的に送り出すことにより、連続的に実施した。工程1及び工程2は、一つのラインで連続的に実施した。
<ラミネート条件>
・ラミネートロールの温度:80℃
・ラミネートの圧力:0.4MPa
・ラミネート速度:5m/min
Step 2: Laminate the second metal base material (copper foil with a thickness of 8 μm) on the conductive adhesive layer to combine the first metal base material, the conductive adhesive layer, and the second metal base material. A connected body having these components in this order was obtained. The lamination conditions were as follows.
Step 2 was carried out continuously by continuously feeding out the second metal base material from a roll of the second metal base material. Step 1 and Step 2 were performed continuously on one line.
<Lamination conditions>
・Temperature of laminating roll: 80℃
・Lamination pressure: 0.4MPa
・Lamination speed: 5m/min

工程3:工程2で得られた接続体を巻き取り、45℃で5日間エージング処理した。 Step 3: The connected body obtained in Step 2 was wound up and aged at 45° C. for 5 days.

[実施例2]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液2に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液2>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.28質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂2)
・硬化剤 1.12質量部
(グリシジルアミン系エポキシ化合物)
(1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン)
・希釈溶剤 適量
[Example 2]
A connection body of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for conductive adhesive layer was changed to Coating Liquid 2 for conductive adhesive layer below.
<Coating liquid 2 for conductive adhesive layer>
・0.28 parts by mass of conductive particles prepared in “2” above ・100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 2 above)
・Curing agent 1.12 parts by mass (glycidylamine-based epoxy compound)
(1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane)
・Appropriate amount of diluting solvent

[実施例3]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液3に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液3>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.75質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂3)
・硬化剤 2.45質量部
(グリシジルアミン系エポキシ化合物)
(1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン)
・希釈溶剤 適量
[Example 3]
A connection body of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for conductive adhesive layer was changed to Coating Liquid 3 for conductive adhesive layer below.
<Coating liquid 3 for conductive adhesive layer>
・0.75 parts by mass of the conductive particles prepared in “2” above ・100 parts by mass of the main agent (acid-modified polyolefin resin 3 above)
・Curing agent 2.45 parts by mass (glycidylamine-based epoxy compound)
(1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane)
・Appropriate amount of diluting solvent

[実施例4]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液4に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液4>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.27質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂1)
・硬化剤 25質量部
(グリシジルアミン系エポキシ化合物)
(1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン)
・希釈溶剤 適量
[Example 4]
A connection body of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for conductive adhesive layer was changed to Coating Liquid 4 for conductive adhesive layer below.
<Coating liquid 4 for conductive adhesive layer>
- 0.27 parts by mass of conductive particles prepared in "2" above - 100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 1 above)
・Curing agent 25 parts by mass (glycidylamine-based epoxy compound)
(1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane)
・Appropriate amount of diluting solvent

[実施例5]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液5に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液5>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.27質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂1)
・硬化剤 30質量部
(グリシジルアミン系エポキシ化合物)
(1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン)
・希釈溶剤 適量
[Example 5]
A connection body of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for conductive adhesive layer was changed to Coating Liquid 5 for conductive adhesive layer below.
<Coating liquid 5 for conductive adhesive layer>
- 0.27 parts by mass of conductive particles prepared in "2" above - 100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 1 above)
・Curing agent 30 parts by mass (glycidylamine-based epoxy compound)
(1,3-bis(diglycidylaminomethyl)cyclohexane)
・Appropriate amount of diluting solvent

[比較例1]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液6に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液6>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.14質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂2)
・硬化剤 2.16質量部
(グリシジルエーテル系エポキシ化合物)
(ナガセケムテックス社、商品名:デナコール EX-321L、固形分100%)
・希釈溶剤 適量
[Comparative example 1]
A connected body of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for Conductive Adhesive Layer was changed to Coating Liquid 6 for Conductive Adhesive Layer below.
<Coating liquid 6 for conductive adhesive layer>
・0.14 parts by mass of conductive particles prepared in “2” above ・100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 2 above)
・Curing agent 2.16 parts by mass (glycidyl ether epoxy compound)
(Nagase ChemteX, product name: Denacol EX-321L, solid content 100%)
・Appropriate amount of diluting solvent

[比較例2]
導電性接着剤層用塗布液1を、上記の導電性接着剤層用塗布液6に変更し、さらに、工程3のエージング処理を120℃2時間に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例2の接続体を作製した。
[Comparative example 2]
The procedure was the same as in Example 1, except that the conductive adhesive layer coating liquid 1 was changed to the above-mentioned conductive adhesive layer coating liquid 6, and the aging treatment in step 3 was changed to 120 ° C. for 2 hours. Thus, a connection body of Comparative Example 2 was produced.

[比較例3]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液7に変更し、さらに、工程3のエージング処理を120℃2時間に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例3の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液7>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.14質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂2)
・硬化剤 2.16質量部
(グリシジルエーテル系エポキシ化合物)
(ナガセケムテックス社、商品名:デナコール EX-321L、固形分100%)
・硬化触媒 0.9質量部
(四国化成社、キュアゾール2E4MZ、固形分1%)
・希釈溶剤 適量
[Comparative example 3]
The procedure was the same as in Example 1, except that the conductive adhesive layer coating liquid 1 was changed to the conductive adhesive layer coating liquid 7 below, and the aging treatment in step 3 was changed to 120°C for 2 hours. Thus, a connection body of Comparative Example 3 was produced.
<Coating liquid 7 for conductive adhesive layer>
・0.14 parts by mass of conductive particles prepared in “2” above ・100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 2 above)
・Curing agent 2.16 parts by mass (glycidyl ether epoxy compound)
(Nagase ChemteX, product name: Denacol EX-321L, solid content 100%)
・Curing catalyst 0.9 parts by mass (Shikoku Kasei Co., Ltd., Curesol 2E4MZ, solid content 1%)
・Appropriate amount of diluting solvent

[比較例4]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液8に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例4の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液8>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.24質量部
・主剤 100質量部
(ポリエステル系樹脂)
(東洋モートン社、商品名:AD76P1、固形分51質量%)
・硬化剤 10質量部
(イソシアネート系化合物)
(東洋モートン社、商品名:CAT10L、固形分53質量%)
・希釈溶剤 適量
[Comparative example 4]
A connected body of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for Conductive Adhesive Layer was changed to Coating Liquid 8 for Conductive Adhesive Layer below.
<Coating liquid 8 for conductive adhesive layer>
・0.24 parts by mass of conductive particles prepared in “2” above ・100 parts by mass of main agent (polyester resin)
(Toyo Morton Co., Ltd., product name: AD76P1, solid content 51% by mass)
・Curing agent 10 parts by mass (isocyanate compound)
(Toyo Morton Co., Ltd., product name: CAT10L, solid content 53% by mass)
・Appropriate amount of diluting solvent

[比較例5]
導電性接着剤層用塗布液1を、下記の導電性接着剤層用塗布液9に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例5の接続体を作製した。
<導電性接着剤層用塗布液9>
・上記「2」で作製した導電性粒子 0.27質量部
・主剤 100質量部
(上記の酸変性ポリオレフィン樹脂1)
・希釈溶剤 適量
[Comparative example 5]
A connected body of Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 1, except that Coating Liquid 1 for conductive adhesive layer was changed to Coating Liquid 9 for conductive adhesive layer below.
<Coating liquid 9 for conductive adhesive layer>
- 0.27 parts by mass of conductive particles prepared in "2" above - 100 parts by mass of main agent (acid-modified polyolefin resin 1 above)
・Appropriate amount of diluting solvent

表1の結果から、実施例の接続体は、層間密着性の経時的な低下を抑制し得ることを確認できる。なお、実施例1~4では300時間後の層間密着力が上昇している。この理由は、「工程2のラミネート時の接着剤層の軟化が不十分であったこと」、及び、「60℃のオイルバスに長時間浸漬することにより、工程2で十分に軟化しなかった接着剤層が軟化して、金属基材と接着剤層との密着性が向上したこと」が考えられる。
表1には記載していないが、実施例の接続体は、いずれも、初期の層間密着力、100時間後の層間密着力、及び300時間後の層間密着力が0.20N/mm以上であり、十分な層間密着力を有するものであった。
表1には記載していないが、実施例及び比較例の接続体は、明細書本文のS1/S、S2/S、S1/S3、S2/S3は、何れも1.00である。
From the results in Table 1, it can be confirmed that the connection bodies of Examples can suppress the deterioration of interlayer adhesion over time. Note that in Examples 1 to 4, the interlayer adhesion strength increased after 300 hours. The reasons for this were that "the adhesive layer was not sufficiently softened during lamination in step 2" and "due to long immersion in a 60°C oil bath, it was not softened sufficiently in step 2." This is thought to be due to the fact that the adhesive layer softened and the adhesion between the metal base material and the adhesive layer improved.
Although not listed in Table 1, all of the connected bodies of Examples had an initial interlayer adhesion force, an interlayer adhesion force after 100 hours, and an interlayer adhesion force after 300 hours of 0.20 N/mm or more. It had sufficient interlayer adhesion.
Although not listed in Table 1, S1/S, S2/S, S1/S3, and S2/S3 in the main body of the specification are all 1.00 for the connectors of Examples and Comparative Examples.

10::第1の金属基材
20::第2の金属基材
30:導電性接着剤層
31:接着剤
32:樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子
50:積層体
100:接続体
10:: First metal base material 20:: Second metal base material 30: Conductive adhesive layer 31: Adhesive 32: Conductive particles having a conductive layer on the surface of the resin core 50: Laminated body 100: Connection body

Claims (9)

第1の金属基材、導電性接着剤層及び第2の金属基材をこの順に有する接続体であって、
前記導電性接着剤層は、接着剤と、樹脂コアの表面に導電層を有する導電性粒子とを含み、
前記接着剤として、酸価が20.0mgKOH/g未満である酸変性ポリオレフィン樹脂と、グリシジルアミン系エポキシ化合物との硬化物を含む、接続体。
A connection body having a first metal base material, a conductive adhesive layer, and a second metal base material in this order,
The conductive adhesive layer includes an adhesive and conductive particles having a conductive layer on the surface of a resin core,
A connection body comprising, as the adhesive, a cured product of an acid-modified polyolefin resin having an acid value of less than 20.0 mgKOH/g and a glycidylamine-based epoxy compound.
前記グリシジルアミン系エポキシ化合物のエポキシ当量が70g/eq以上140g/eq以下である、請求項1に記載の接続体。 The connector according to claim 1, wherein the glycidylamine-based epoxy compound has an epoxy equivalent of 70 g/eq or more and 140 g/eq or less. 前記酸変性ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、前記グリシジルアミン系エポキシ化合物を0.1質量部以上27.5質量部以下含む、請求項1に記載の接続体。 The connecting body according to claim 1, comprising 0.1 parts by mass or more and 27.5 parts by mass or less of the glycidylamine-based epoxy compound based on 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin resin. 前記酸変性ポリオレフィン樹脂の酸価が0.1mgKOH/g以上15.0mgKOH/g未満である、請求項1に記載の接続体。 The connector according to claim 1, wherein the acid-modified polyolefin resin has an acid value of 0.1 mgKOH/g or more and less than 15.0 mgKOH/g. 前記硬化物の融点が60℃以上115℃以下である、請求項1に記載の接続体。 The connecting body according to claim 1, wherein the cured product has a melting point of 60°C or more and 115°C or less. 前記接着剤100質量部に対して、前記導電性粒子を0.1質量部以上2.0質量部以下含む、請求項1に記載の接続体。 The connecting body according to claim 1, wherein the conductive particles are contained in a range of 0.1 parts by mass to 2.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the adhesive. 前記導電性接着剤層の平均厚みをTn[μm]、前記導電性粒子の厚み方向の径の平均をDn[μm]と定義した際に、Dn/Tnが1.00以上の関係を満たす、請求項1に記載の接続体。 When the average thickness of the conductive adhesive layer is defined as Tn [μm] and the average diameter in the thickness direction of the conductive particles is defined as Dn [μm], Dn/Tn satisfies the relationship of 1.00 or more. The connecting body according to claim 1. Dn/Tnが1.01以上1.50以下の関係を満たす、請求項7に記載の接続体。 The connecting body according to claim 7, wherein Dn/Tn satisfies a relationship of 1.01 or more and 1.50 or less. リチウムイオン電池用である、請求項1~8の何れかに記載の接続体。 The connecting body according to any one of claims 1 to 8, which is for use in a lithium ion battery.
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