JP7351726B2 - Gypsum slurry dewatering system - Google Patents

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    • C04B11/00—Calcium sulfate cements
    • C04B11/02—Methods and apparatus for dehydrating gypsum

Description

本開示は、排煙脱硫装置で副生される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムに関する。 The present disclosure relates to a gypsum slurry dewatering system for dewatering gypsum slurry produced as a by-product in a flue gas desulfurization device.

例えばボイラなどの燃焼機関から排出される排ガスには、硫黄酸化物（ＳＯｘ）などの大気汚染物質が含まれるので、大気放出前に、排煙脱硫装置において排ガス中から硫黄酸化物が除去される。 For example, exhaust gas emitted from combustion engines such as boilers contains air pollutants such as sulfur oxides (SOx), so sulfur oxides are removed from the exhaust gas in a flue gas desulfurization device before being released into the atmosphere. .

排煙脱硫装置としては、石灰石膏法を用いる湿式の排煙脱硫装置が広く知られている。湿式の排煙脱硫装置では、排ガスと石灰石スラリー（吸収液）とを接触させて、排ガス中の硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収液に吸収させることで、排ガス中から硫黄酸化物を除去している。吸収液に吸収された硫黄酸化物は、吸収液中のカルシウムと反応して亜硫酸カルシウムとなり、該亜硫酸カルシウムが吸収液中に供給される空気により酸化し、石膏となる。湿式の排煙脱硫装置では、石膏スラリー（石膏を含む吸収液）が副生される。 As a flue gas desulfurization device, a wet type flue gas desulfurization device using a lime-gypsum method is widely known. In wet-type flue gas desulfurization equipment, sulfur oxides are removed from the flue gas by bringing the flue gas into contact with limestone slurry (absorbing liquid) and allowing the absorbing liquid to absorb sulfur oxides (for example, sulfur dioxide gas) in the flue gas. It is being removed. The sulfur oxides absorbed in the absorption liquid react with calcium in the absorption liquid to become calcium sulfite, and the calcium sulfite is oxidized by the air supplied to the absorption liquid to become gypsum. In wet flue gas desulfurization equipment, gypsum slurry (absorbent liquid containing gypsum) is produced as a by-product.

特許文献１には、湿式の排煙脱硫装置から抜き出した石膏スラリーを含むスラリー液が石膏分離機において固液分離させて石膏を回収することが開示されている。また、特許文献１には、ドラム間に張設したベルト上にろ布が走行自在に支持され、ろ布上に供給される石膏スラリーをベルトの下方から吸引してろ液と石膏とを分離するベルト式の石膏分離機、石膏スラリーを排出後のろ布を洗浄液により洗浄する洗浄装置、および上記ろ布を洗浄後の洗浄液と上記ろ液を貯留する液体貯留槽が開示されている。液体貯留槽に貯留された液体は、排水処理設備に送られ、排水処理設備において放流基準を満たす状態に排水処理された後に系外に放流される。 Patent Document 1 discloses that a slurry liquid containing gypsum slurry extracted from a wet flue gas desulfurization device is subjected to solid-liquid separation in a gypsum separator to recover gypsum. Furthermore, in Patent Document 1, a filter cloth is supported so as to run freely on a belt stretched between drums, and gypsum slurry supplied onto the filter cloth is sucked from below the belt to separate the filtrate and the gypsum. A belt-type gypsum separator, a cleaning device that cleans a filter cloth after discharging the gypsum slurry with a cleaning liquid, and a liquid storage tank that stores the cleaning liquid and the filtrate after cleaning the filter cloth are disclosed. The liquid stored in the liquid storage tank is sent to a wastewater treatment facility, where the liquid is treated to meet discharge standards, and then discharged outside the system.

特開平８－１２３８９号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-12389

特許文献１に示されるように、ろ布を洗浄後の洗浄液およびろ液は、同一の液体貯留槽に回収された後に、排水として排水処理設備に送られていた。上記排水処理設備は、液体貯留槽から送られる大量の排水を処理する必要があるため、その大型化や設備費用の高額化を招く虞がある。 As shown in Patent Document 1, the cleaning liquid and filtrate after washing the filter cloth are collected in the same liquid storage tank, and then sent to a wastewater treatment facility as wastewater. Since the above-mentioned wastewater treatment equipment needs to treat a large amount of wastewater sent from the liquid storage tank, there is a risk that the equipment will become larger and the equipment cost will increase.

上述した事情に鑑みて、本開示の少なくとも一実施形態の目的は、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることができ、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる石膏スラリー脱水システムを提供することにある。 In view of the above-mentioned circumstances, it is an object of at least one embodiment of the present disclosure to reduce the amount of wastewater sent from the gypsum slurry dehydration treatment equipment to the wastewater treatment equipment, thereby reducing the size of the wastewater treatment equipment and equipment costs. An object of the present invention is to provide a gypsum slurry dewatering system that can suppress the increase in cost.

本開示にかかる石膏スラリー脱水システムは、
排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムであって、
前記石膏スラリーをろ布上に載せた状態で搬送する搬送ベルトを有する搬送装置と、
前記ろ布に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部を有するろ布洗浄装置と、
前記ろ布により前記石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽と、
前記ろ液貯留槽に貯留された前記ろ液を、前記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備に送るように構成されたろ液排出ラインと、
前記ろ液貯留槽とは異なるろ布洗浄液貯留槽であって、前記噴出部から前記ろ布に対して噴出された前記ろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽と、を備える。 The gypsum slurry dewatering system according to the present disclosure includes:
A gypsum slurry dewatering system for dewatering gypsum slurry discharged from a flue gas desulfurization device, the system comprising:
a conveyance device having a conveyance belt that conveys the gypsum slurry on a filter cloth;
a filter cloth cleaning device having a spouting part capable of spouting a filter cloth cleaning liquid onto the filter cloth;
a filtrate storage tank configured to store the filtrate separated from the gypsum slurry by the filter cloth;
a filtrate discharge line configured to send the filtrate stored in the filtrate storage tank to a wastewater treatment facility that performs treatment to discharge the filtrate out of the system;
a filter cloth cleaning liquid storage tank different from the filtrate storage tank, and configured to store at least the filter cloth cleaning liquid spouted onto the filter cloth from the spouting part; Be prepared.

本開示の少なくとも一実施形態によれば、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることができ、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる石膏スラリー脱水システムが提供される。 According to at least one embodiment of the present disclosure, the amount of wastewater sent from the gypsum slurry dehydration treatment equipment to the wastewater treatment equipment can be reduced, thereby suppressing the increase in the size of the wastewater treatment equipment and the increase in equipment costs. A gypsum slurry dewatering system is provided.

本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムを備える排ガス洗浄システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram schematically showing the overall configuration of an exhaust gas cleaning system including a gypsum slurry dewatering system according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram schematically showing the overall configuration of a gypsum slurry dewatering system according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の一実施形態における排水処理設備を説明するための説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining wastewater treatment equipment in an embodiment of the present disclosure. 本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの他の一例を説明するための説明図である。It is an explanatory view for explaining another example of a gypsum slurry dewatering system concerning one embodiment of the present disclosure.

以下、添付図面を参照して本開示の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本開示の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
なお、同様の構成については同じ符号を付し説明を省略することがある。 Hereinafter, some embodiments of the present disclosure will be described with reference to the accompanying drawings. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, etc. of the components described as embodiments or shown in the drawings are not intended to limit the scope of the present disclosure, and are merely illustrative examples. do not have.
For example, expressions expressing relative or absolute positioning such as "in a certain direction,""along a certain direction,""parallel,""orthogonal,""centered,""concentric," or "coaxial" are strictly In addition to representing such an arrangement, it also represents a state in which they are relatively displaced with a tolerance or an angle or distance that allows the same function to be obtained.
For example, expressions such as "same,""equal," and "homogeneous" that indicate that things are in an equal state do not only mean that things are exactly equal, but also have tolerances or differences in the degree to which the same function can be obtained. It also represents the existing state.
For example, expressions expressing shapes such as squares and cylinders do not only refer to shapes such as squares and cylinders in a strict geometric sense, but also include uneven parts and chamfers to the extent that the same effect can be obtained. Shapes including parts, etc. shall also be expressed.
On the other hand, the expressions "comprising,""including," or "having" one component are not exclusive expressions that exclude the presence of other components.
Note that similar configurations may be given the same reference numerals and explanations may be omitted.

（排ガス洗浄システム）
図１は、本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムを備える排ガス洗浄システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。
図１に示されるように、幾つかの実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム１は、排ガス洗浄システム１０に搭載される。排ガス洗浄システム１０は、図１に示されるように、例えばエンジンやボイラなどの燃焼設備１１から排出される排ガスを脱硫するための湿式の排煙脱硫装置２０と、排煙脱硫装置２０から排出される石膏スラリーを脱水するための上記石膏スラリー脱水システム１と、を備える。 (Exhaust gas cleaning system)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram schematically showing the overall configuration of an exhaust gas cleaning system including a gypsum slurry dewatering system according to an embodiment of the present disclosure.
As shown in FIG. 1, a gypsum slurry dewatering system 1 according to some embodiments is installed in an exhaust gas cleaning system 10. As shown in FIG. 1, the exhaust gas cleaning system 10 includes a wet exhaust gas desulfurization device 20 for desulfurizing exhaust gas discharged from combustion equipment 11 such as an engine or a boiler, and a wet exhaust gas desulfurization device 20 for desulfurizing exhaust gas discharged from the flue gas desulfurization device 20. gypsum slurry dewatering system 1 for dewatering gypsum slurry.

排煙脱硫装置２０は、燃焼設備１１から排出される排ガスと吸収液とを接触させて、排ガス中の硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収液に吸収させることで、排ガス中から硫黄酸化物を除去するように構成されている。石灰石膏法を用いる排煙脱硫装置２０では、例えば、石灰石を溶解（分散）させた石灰石スラリーなどのアルカリ成分を含むスラリー液を上記吸収液とし、石膏スラリー（石膏を含む吸収液）が副生される。なお、スラリーは、厳密には液体ではないが、本明細書では便宜的に液体として扱うものとする。 The flue gas desulfurization device 20 removes sulfur oxidation from the flue gas by bringing the flue gas discharged from the combustion equipment 11 into contact with the absorbing liquid and causing the absorbing liquid to absorb sulfur oxides (for example, sulfur dioxide gas) in the flue gas. configured to remove objects. In the flue gas desulfurization device 20 using the lime plaster method, for example, a slurry liquid containing an alkaline component such as limestone slurry in which limestone is dissolved (dispersed) is used as the absorption liquid, and gypsum slurry (absorption liquid containing gypsum) is produced as a by-product. be done. Although slurry is not strictly a liquid, it will be treated as a liquid in this specification for convenience.

排煙脱硫装置２０は、その内部に導入される排ガスを脱硫するように構成された吸収塔２０Ａを含む。吸収塔２０Ａは、燃焼設備１１から排出された排ガスが導入される内部空間２１を内部に画定するように構成された吸収塔本体２２と、内部空間２１に排ガスを導入するための排ガス導入口２３と、内部空間２１から排ガスを排出するための排ガス排出口２４と、を含む。排ガス導入口２３および排ガス排出口２４の夫々は、吸収塔本体２２と連通している。 The flue gas desulfurization device 20 includes an absorption tower 20A configured to desulfurize the flue gas introduced thereinto. The absorption tower 20A includes an absorption tower main body 22 configured to define therein an internal space 21 into which exhaust gas discharged from the combustion equipment 11 is introduced, and an exhaust gas inlet 23 for introducing the exhaust gas into the internal space 21. and an exhaust gas outlet 24 for exhausting exhaust gas from the internal space 21. Each of the exhaust gas inlet 23 and the exhaust gas outlet 24 communicates with the absorption tower main body 22 .

内部空間２１は、排ガスと吸収液を気液接触させるための気液接触部２１Ａと、気液接触部２１Ａよりも下方に位置するとともに、気液接触部２１Ａにおいて排ガス中の硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収した吸収液が貯留される液だまり部２１Ｂと、を含む。 The internal space 21 includes a gas-liquid contact section 21A for bringing the exhaust gas and the absorption liquid into gas-liquid contact, and is located below the gas-liquid contact section 21A. , sulfur dioxide gas) is stored.

燃焼設備１１から排出された排ガスは、排ガス導入口２３を介して内部空間２１に導入される。内部空間２１に導かれた排ガスは、内部空間２１を上昇しながら流れて気液接触部２１Ａを通過する際に吸収液により洗浄され、排ガス中の硫黄酸化物などが除去される。気液接触部２１Ａにおいて洗浄後の排ガスは、浄化済みの排ガスである浄化ガスとして、排ガス排出口２４を介して吸収塔２０Ａの外部に排出される。吸収塔２０Ａの外部に排出された浄化ガスは、排ガス排出口２４よりも浄化ガス（排ガス）の流れ方向の下流側に設けられた不図示の煙突から大気中に放出される。図１に示されるように、浄化ガス（排ガス）から水分を除去するように構成されるミストエリミネータ２５を、気液接触部２１Ａよりも浄化ガス（排ガス）の流れ方向の下流側に設けてもよい。 Exhaust gas discharged from the combustion equipment 11 is introduced into the internal space 21 via the exhaust gas inlet 23. The exhaust gas introduced into the internal space 21 flows upward through the internal space 21 and is washed by the absorption liquid as it passes through the gas-liquid contact portion 21A, thereby removing sulfur oxides and the like in the exhaust gas. The exhaust gas after cleaning in the gas-liquid contact portion 21A is discharged to the outside of the absorption tower 20A through the exhaust gas outlet 24 as purified gas that is purified exhaust gas. The purified gas discharged to the outside of the absorption tower 20A is discharged into the atmosphere from a chimney (not shown) provided downstream of the exhaust gas outlet 24 in the flow direction of the purified gas (exhaust gas). As shown in FIG. 1, the mist eliminator 25 configured to remove moisture from the purified gas (exhaust gas) may be provided downstream of the gas-liquid contact portion 21A in the flow direction of the purified gas (exhaust gas). good.

図示される実施形態では、吸収塔２０Ａは、気液接触部２１Ａに配置される噴霧装置２６をさらに含む。噴霧装置２６は、気液接触部２１Ａを通過する排ガスに対して吸収液（石灰石スラリー）を噴霧するように構成されている。噴霧装置２６から噴霧された吸収液は、排ガスに接触して排ガス中に含まれる硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収除去する。 In the illustrated embodiment, the absorption tower 20A further includes a spray device 26 disposed in the gas-liquid contact section 21A. The spray device 26 is configured to spray an absorption liquid (limestone slurry) onto the exhaust gas passing through the gas-liquid contact portion 21A. The absorption liquid sprayed from the spray device 26 comes into contact with the exhaust gas and absorbs and removes sulfur oxides (for example, sulfur dioxide gas) contained in the exhaust gas.

噴霧装置２６は、排ガスの流れ方向に交差する方向である水平方向に沿って延在する噴霧管２６１と、噴霧管２６１に設けられた複数の噴霧ノズル２６２と、を含む。噴霧ノズル２６２は、図１に示されるように、排ガスの流れ方向における下流側に向かって、すなわち、鉛直方向における上方に向かって、吸収液を噴霧する噴霧口２６３を有する。なお、他の幾つかの実施形態では、噴霧ノズル２６２は、鉛直方向における下方に向かって、吸収液を噴霧する噴霧口を有していてもよい。 The spray device 26 includes a spray pipe 261 extending in the horizontal direction, which is a direction intersecting the flow direction of exhaust gas, and a plurality of spray nozzles 262 provided in the spray pipe 261. As shown in FIG. 1, the spray nozzle 262 has a spray port 263 that sprays the absorption liquid toward the downstream side in the flow direction of the exhaust gas, that is, toward the upward direction in the vertical direction. In some other embodiments, the spray nozzle 262 may have a spray port that sprays the absorption liquid downward in the vertical direction.

液だまり部２１Ｂには、内部空間２１に導かれた排ガスに対して噴霧ノズル２６２の噴霧口２６３から噴霧され、排ガス中に含まれる硫黄酸化物を吸収除去した吸収液が落下して貯留される。液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液には、排ガスから吸収した硫黄酸化物により生じた亜硫酸塩や、亜硫酸塩が酸化することで生成される石膏（硫酸カルシウム）が含まれることがある。 In the liquid pool portion 21B, an absorption liquid that is sprayed from the spray port 263 of the spray nozzle 262 onto the exhaust gas guided into the internal space 21, and which absorbs and removes sulfur oxides contained in the exhaust gas falls and is stored. . The absorption liquid stored in the liquid pool portion 21B may contain sulfite produced by sulfur oxides absorbed from exhaust gas, and gypsum (calcium sulfate) produced by oxidation of sulfite.

吸収塔本体２２には、液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液を外部に抜き出すための吸収液抜出口２２１、および液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液に酸化用気体（例えば、空気）を供給するためのノズルを貫通させるノズル貫通口２２２が開口している。吸収液抜出口２２１およびノズル貫通口２２２の夫々は、液だまり部２１Ｂに連通している。また、吸収塔本体２２には、石灰石スラリーを導入するための吸収液供給口２２３、および外部に抜き出した吸収液を液だまり部２１Ｂに返送するための吸収液返送口２２４が開口している。吸収液供給口２２３および吸収液返送口２２４の夫々は、液だまり部２１Ｂよりも上方における内部空間２１に連通している。 The absorption tower main body 22 includes an absorption liquid extraction port 221 for extracting the absorption liquid stored in the liquid pool part 21B to the outside, and an oxidizing gas (for example, air) for supplying the absorption liquid stored in the liquid pool part 21B. A nozzle through-hole 222 is opened through which a nozzle for supplying the liquid is passed. Each of the absorption liquid outlet 221 and the nozzle through-hole 222 communicates with the liquid reservoir 21B. Further, the absorption tower main body 22 is opened with an absorption liquid supply port 223 for introducing limestone slurry, and an absorption liquid return port 224 for returning the absorption liquid extracted to the outside to the liquid pool portion 21B. Each of the absorbent liquid supply port 223 and the absorbent liquid return port 224 communicates with the internal space 21 above the liquid pool portion 21B.

吸収塔２０Ａは、液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液に酸化用気体（例えば、空気）を供給するように構成された酸化用気体供給装置２７をさらに含む。図示される実施形態では、酸化用気体供給装置２７は、ノズル貫通口２２２を貫通するノズル２７１と、ノズル２７１に大気中の空気を供給するポンプ２７２と、を含む。大気中の空気（酸化用空気）は、ポンプ２７２によりノズル２７１に供給され、ノズル先端部の開口２７３から液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液に供給される。これにより、液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液中の亜硫酸塩を酸化させ、石膏を生じさせることができる。 The absorption tower 20A further includes an oxidizing gas supply device 27 configured to supply an oxidizing gas (for example, air) to the absorption liquid stored in the liquid pool portion 21B. In the illustrated embodiment, the oxidizing gas supply device 27 includes a nozzle 271 that penetrates the nozzle through hole 222 and a pump 272 that supplies atmospheric air to the nozzle 271. Air in the atmosphere (oxidizing air) is supplied to the nozzle 271 by a pump 272, and is supplied to the absorption liquid stored in the liquid pool 21B from an opening 273 at the tip of the nozzle. Thereby, sulfite in the absorption liquid stored in the liquid pool 21B can be oxidized to produce gypsum.

吸収塔２０Ａは、吸収塔２０Ａの液だまり部２１Ｂに吸収液を供給するように構成された吸収液供給ライン１２と、液だまり部２１Ｂから抜き出された吸収液を噴霧装置２６に送るように構成された吸収液循環ライン１３と、液だまり部２１Ｂから抜き出された吸収液を石膏スラリー脱水システム１に送るように構成された吸収液抜き出しライン１４と、をさらに含む。吸収塔２０Ａは、噴霧装置２６、液だまり部２１Ｂおよび吸収液循環ライン１３に吸収液を循環させている。液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液は、吸収塔２０Ａにおける排ガスの洗浄に繰り返し使用されるため、徐々に石膏が蓄積される。石膏スラリー（石膏を含む吸収液）を吸収液抜き出しライン１４を介して、石膏スラリー脱水システム１に送ることで、吸収液の循環系統（噴霧装置２６、液だまり部２１Ｂ、吸収液循環ライン１３）から石膏を抜き出している。また、吸収液による排ガス中の硫黄酸化物の吸収除去（ｐＨが高い方が効率が良好）と、吸収液中の亜硫酸塩の酸化（ｐＨが低い方が効率が良好）とを両立させるべく、吸収液のｐＨが５～６の範囲となるように、適宜、吸収液供給ライン１２を通じた吸収液の供給が行われる。 The absorption tower 20A includes an absorption liquid supply line 12 configured to supply the absorption liquid to the liquid pool 21B of the absorption tower 20A, and an absorption liquid supply line 12 configured to feed the absorption liquid extracted from the liquid pool 21B to the spray device 26. The gypsum slurry dewatering system 1 further includes an absorbent circulation line 13 configured to be configured, and an absorbent liquid extraction line 14 configured to send the absorbent extracted from the liquid pool portion 21B to the gypsum slurry dewatering system 1. The absorption tower 20A circulates the absorption liquid through the spray device 26, the liquid pool portion 21B, and the absorption liquid circulation line 13. Since the absorption liquid stored in the liquid pool portion 21B is repeatedly used for cleaning exhaust gas in the absorption tower 20A, gypsum gradually accumulates therein. By sending the gypsum slurry (absorbent liquid containing gypsum) to the gypsum slurry dewatering system 1 via the absorbent extraction line 14, the absorption liquid circulation system (spray device 26, liquid pool 21B, absorption liquid circulation line 13) The plaster is being extracted from. In addition, in order to achieve both the absorption and removal of sulfur oxides in the exhaust gas by the absorption liquid (the higher the pH, the better the efficiency) and the oxidation of the sulfites in the absorption liquid (the lower the pH, the better the efficiency), The absorption liquid is appropriately supplied through the absorption liquid supply line 12 so that the pH of the absorption liquid is in the range of 5 to 6.

図示される実施形態では、吸収液供給ライン１２は、吸収塔２０Ａの外部に配置されるとともに、吸収液を貯留するための内部空間１７１を画定するように構成された吸収液貯留槽１７に一端側が接続され、他端側が吸収液供給口２２３に接続される吸収液供給配管１２１と、吸収液供給配管１２１に設けられるとともに、吸収液供給配管１２１の一端側から他端側に吸収液を送るように構成された供給ポンプ１２２と、を含む。供給ポンプ１２２を駆動させることで、吸収液が内部空間１７１から抜き出されて、吸収塔２０Ａの液だまり部２１Ｂに供給される。 In the illustrated embodiment, the absorption liquid supply line 12 is disposed outside the absorption tower 20A and has one end connected to an absorption liquid storage tank 17 configured to define an internal space 171 for storing the absorption liquid. Absorbent liquid supply piping 121 is connected at one side and connected to the absorbent liquid supply port 223 at the other end. and a supply pump 122 configured to. By driving the supply pump 122, the absorption liquid is extracted from the internal space 171 and supplied to the liquid pool portion 21B of the absorption tower 20A.

図示される実施形態では、吸収液循環ライン１３は、吸収液抜出口２２１に一端側が接続され、他端側が噴霧管２６１に接続される吸収液循環配管１３１と、吸収液循環配管１３１に設けられるとともに、吸収液循環配管１３１の一端側から他端側に吸収液を送るように構成された循環ポンプ１３２と、を含む。吸収液抜き出しライン１４は、吸収液循環配管１３１の循環ポンプ１３２よりも吸収液の流れ方向の下流側（噴霧装置２６側）に位置する第１分岐部１３３に一端側が接続され、他端側が石膏スラリー脱水システム１（具体的には図２に示される供給装置４）に接続される吸収液抜き出し配管１４１を含む。この場合には、吸収液循環ライン１３および吸収液抜き出しライン１４が循環ポンプ１３２を共用している。循環ポンプ１３２を駆動させることで、吸収液が液だまり部２１Ｂから抜き出されて、噴霧装置２６や石膏スラリー脱水システム１に供給される。なお、他の幾つかの実施形態では、吸収液抜き出しライン１４が吸収液循環ライン１３との間に共有部を有しない構成にしてもよい。 In the illustrated embodiment, the absorption liquid circulation line 13 is provided in the absorption liquid circulation piping 131 , which has one end connected to the absorption liquid outlet 221 and the other end connected to the spray pipe 261 . It also includes a circulation pump 132 configured to send the absorption liquid from one end of the absorption liquid circulation piping 131 to the other end. One end of the absorption liquid extraction line 14 is connected to a first branch part 133 located downstream of the circulation pump 132 of the absorption liquid circulation piping 131 in the flow direction of the absorption liquid (on the side of the spray device 26), and the other end is connected to the gypsum It includes an absorption liquid extraction pipe 141 connected to the slurry dewatering system 1 (specifically, the supply device 4 shown in FIG. 2). In this case, the absorption liquid circulation line 13 and the absorption liquid extraction line 14 share the circulation pump 132. By driving the circulation pump 132, the absorption liquid is extracted from the liquid pool 21B and supplied to the spray device 26 and the gypsum slurry dewatering system 1. In some other embodiments, the absorption liquid extraction line 14 and the absorption liquid circulation line 13 may have a structure in which there is no shared part.

図示される実施形態では、吸収液抜き出しライン１４は、吸収液抜き出し配管１４１の他端側に設けられる調整弁１４２をさらに含む。調整弁１４２は、吸収液の流路である吸収液抜き出し配管１４１を開閉するための可動機構を有し、吸収液抜き出し配管１４１を流れて石膏スラリー脱水システム１に供給される吸収液の流量を調整可能に構成されている。 In the illustrated embodiment, the absorption liquid extraction line 14 further includes a regulating valve 142 provided at the other end of the absorption liquid extraction piping 141. The regulating valve 142 has a movable mechanism for opening and closing the absorption liquid extraction piping 141 which is a flow path for the absorption liquid, and controls the flow rate of the absorption liquid flowing through the absorption liquid extraction piping 141 and supplied to the gypsum slurry dewatering system 1. Configured to be adjustable.

吸収塔２０Ａは、吸収液抜き出しライン１４から吸収塔２０Ａの液だまり部２１Ｂに吸収液を戻すための吸収液返送ライン１５をさらに含む。吸収液返送ライン１５は、吸収液抜き出し配管１４１の調整弁１４２よりも吸収液の流れ方向の上流側（第１分岐部１３３側）に位置する第２分岐部１４３に一端側が接続され、他端側が吸収液返送口２２４に接続される吸収液返送配管１５１を含む。吸収液抜き出し配管１４１を流れる吸収液の少なくとも一部は、循環ポンプ１３２により圧送されて、吸収液返送配管１５１を介して、吸収塔２０Ａに戻される。吸収液の石膏スラリー脱水システム１への供給量が少ない場合であっても、吸収液抜き出し配管１４１に石膏スラリー脱水システム１への必要供給量よりも多い量の吸収液を流し、余剰分の吸収液を、吸収液返送配管１５１を経由させて吸収塔２０Ａに戻すことで、吸収液抜き出し配管１４１における吸収液（石膏スラリー）の流速を所定速度以上に保持し、吸収液中の固形分（例えば、石膏など）が吸収液抜き出し配管１４１内で沈降することを抑制することができる。 The absorption tower 20A further includes an absorption liquid return line 15 for returning the absorption liquid from the absorption liquid withdrawal line 14 to the liquid pool portion 21B of the absorption tower 20A. The absorption liquid return line 15 has one end connected to a second branch part 143 located upstream in the flow direction of the absorption liquid (first branch part 133 side) from the adjustment valve 142 of the absorption liquid extraction pipe 141, and the other end. It includes an absorbent liquid return piping 151 whose side is connected to the absorbent liquid return port 224 . At least a portion of the absorption liquid flowing through the absorption liquid extraction pipe 141 is pumped by the circulation pump 132 and returned to the absorption tower 20A via the absorption liquid return pipe 151. Even if the amount of absorption liquid supplied to the gypsum slurry dewatering system 1 is small, a larger amount of absorption liquid than the required amount to be supplied to the gypsum slurry dehydration system 1 is passed through the absorption liquid extraction pipe 141 to absorb the excess amount. By returning the liquid to the absorption tower 20A via the absorption liquid return pipe 151, the flow rate of the absorption liquid (gypsum slurry) in the absorption liquid extraction pipe 141 is maintained at a predetermined speed or higher, and the solid content in the absorption liquid (e.g. , gypsum, etc.) can be prevented from settling within the absorption liquid extraction pipe 141.

（石膏スラリー脱水システム）
図２は、本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。
幾つかの実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム１は、吸収液抜き出し配管１４１を介して吸収塔２０Ａから送られる石膏スラリー（石膏を含む吸収液）を脱水し、石膏とろ液に分離するように構成されている。 (Gypsum slurry dewatering system)
FIG. 2 is a schematic configuration diagram schematically showing the overall configuration of a gypsum slurry dewatering system according to an embodiment of the present disclosure.
The gypsum slurry dewatering system 1 according to some embodiments is configured to dehydrate the gypsum slurry (absorption liquid containing gypsum) sent from the absorption tower 20A via the absorption liquid extraction pipe 141 and separate it into gypsum and filtrate. has been done.

石膏スラリー脱水システム１は、図２に示されるように、石膏スラリーをろ布３１上に載せた状態で搬送する搬送ベルト３２を有する搬送装置３と、石膏スラリーを搬送ベルト３２のろ布３１上に供給可能な供給部４１を有する供給装置４と、石膏スラリーが脱水されつつ搬送される過程でろ布３１上に形成される石膏ケーキを洗浄するために、石膏ケーキに向けてケーキ洗浄液を噴出可能なケーキ洗浄液噴出部４５を有するケーキ洗浄装置４４と、乾燥用蒸気を噴出可能な蒸気噴出部５５（噴出部）を有する蒸気噴出装置５４と、を備える。供給部４１、ケーキ洗浄液噴出部４５および蒸気噴出部５５の夫々は、搬送ベルト３２に対して上方に配置されている。ケーキ洗浄液噴出部４５は、供給部４１よりも搬送ベルト３２の搬送方向に沿う方向の下流側（図２中右側）に位置し、蒸気噴出部５５は、ケーキ洗浄液噴出部４５よりも搬送ベルト３２の搬送方向に沿う方向の下流側に位置している。 As shown in FIG. 2, the gypsum slurry dewatering system 1 includes a conveyor belt 32 that conveys the gypsum slurry on a filter cloth 31, and a conveyor belt 32 that conveys the gypsum slurry on the filter cloth 31 of the conveyor belt 32. A supply device 4 having a supply unit 41 capable of supplying the gypsum slurry to the gypsum slurry, and a cake cleaning liquid capable of spouting toward the gypsum cake in order to clean the gypsum cake formed on the filter cloth 31 while the gypsum slurry is being conveyed while being dehydrated. A cake cleaning device 44 having a cake cleaning liquid spouting section 45, and a steam spouting device 54 having a steam spouting section 55 (spouting section) capable of spouting drying steam. The supply section 41, the cake cleaning liquid spouting section 45, and the steam spouting section 55 are each arranged above the conveyor belt 32. The cake cleaning liquid spouting part 45 is located downstream of the supply part 41 in the direction along the conveyance direction of the conveyor belt 32 (on the right side in FIG. It is located on the downstream side in the direction along the conveyance direction.

図示される実施形態では、搬送装置３は、回転自在に支持される二つのドラム３３（３３Ａ、３３Ｂ）と、上記二つのうちの何れか一方のドラム３３（例えば、３３Ａ）に接続され、該ドラム３３（３３Ａ）を回転駆動させるように構成されたモータ３４と、複数のガイドローラ３５と、をさらに有する。搬送ベルト３２は、無端帯状のゴム製の部材（弾性体）からなり、水平方向に沿って互いに離れて配置される二つのドラム３３に走行自在に掛け回されている。搬送ベルト３２は、二つのドラム３３に張設されているため、モータ３４により上記一方のドラム３３（３３Ａ）が回転駆動されることにより、他方のドラム３３（３３Ｂ）が回転するとともに、搬送ベルト３２が搬送ベルト３２の搬送方向に沿って周回移動する。 In the illustrated embodiment, the conveyance device 3 is connected to two rotatably supported drums 33 (33A, 33B) and one of the two drums 33 (for example, 33A). It further includes a motor 34 configured to rotate the drum 33 (33A) and a plurality of guide rollers 35. The conveyor belt 32 is made of an endless band-shaped rubber member (elastic body), and is freely runnable around two drums 33 arranged apart from each other along the horizontal direction. Since the conveyor belt 32 is stretched between two drums 33, when one of the drums 33 (33A) is rotationally driven by the motor 34, the other drum 33 (33B) rotates, and the conveyor belt 32 rotates along the conveyance direction of the conveyor belt 32.

ろ布３１は、無端帯状に設けられ、複数のガイドローラ３５に走行自在に掛け回されるとともに、その長さ方向の一部が搬送ベルト３２の上面３２１上に重ねられている。ろ布の搬送ベルト３２の上面３２１上に重ねられた部分（以下、被支持部３１１とする）は、搬送ベルト３２により搬送ベルト３２とともに上記搬送方向に沿って走行自在に支持されている。このため、ドラム３３（３３Ａ）が回転駆動して搬送ベルト３２が周回移動すると、ろ布３１の被支持部３１１が、搬送ベルト３２の被支持部３１１を下側から支持する支持部３２２と一緒に上記搬送方向に沿って走行する。或る実施形態では、ろ布３１は、繊維状に形成された樹脂材料（例えばポリエステルやポリプロピレンなど）を編み込むことにより形成される織布を含む。また、他の或る実施形態では、ろ布３１は、繊維状に形成された樹脂材料（例えばポリエステルやポリプロピレンなど）を絡み合わせることにより形成される不織布を含む。 The filter cloth 31 is provided in the shape of an endless band, and is freely runnable around the plurality of guide rollers 35 , and a portion of the filter cloth 31 in the length direction is overlapped on the upper surface 321 of the conveyor belt 32 . A portion of the filter cloth overlaid on the upper surface 321 of the conveyor belt 32 (hereinafter referred to as a supported portion 311) is supported by the conveyor belt 32 so as to be able to freely run along the conveyor belt 32 together with the conveyor belt 32. Therefore, when the drum 33 (33A) is rotationally driven and the conveyor belt 32 moves around, the supported portion 311 of the filter cloth 31 is moved together with the support portion 322 that supports the supported portion 311 of the conveyor belt 32 from below. It travels along the above-mentioned transport direction. In some embodiments, filter cloth 31 includes a woven fabric formed by weaving a resin material (eg, polyester, polypropylene, etc.) formed into fibers. In another embodiment, the filter cloth 31 includes a nonwoven fabric formed by intertwining fibrous resin materials (eg, polyester, polypropylene, etc.).

供給装置４は、吸収液抜き出しライン１４を介して吸収塔２０Ａから送られた石膏スラリーを、その供給部４１から搬送ベルト３２のろ布３１上に供給するように構成されている。図示される実施形態では、供給装置４は、上記供給部４１（例えば、噴射ノズル）と、吸収液抜き出し配管１４１の他端側にその一端側が接続され、その他端側が供給部４１に接続される供給配管４２と、を有する。この場合には、石膏スラリーは、上述した循環ポンプ１３２により圧送されて、供給配管４２を通過して、供給部４１から流下することで、搬送ベルト３２のろ布３１上に供給される。なお、「搬送ベルト３２のろ布３１上」とは、厳密には、ろ布３１の被支持部３１１の上面（外面）３１２上を意味している。 The supply device 4 is configured to supply the gypsum slurry sent from the absorption tower 20A via the absorption liquid extraction line 14 from its supply section 41 onto the filter cloth 31 of the conveyor belt 32. In the illustrated embodiment, the supply device 4 has one end connected to the supply section 41 (for example, an injection nozzle) and the other end of the absorption liquid extraction pipe 141, and the other end connected to the supply section 41. It has a supply pipe 42. In this case, the gypsum slurry is pumped by the circulation pump 132 described above, passes through the supply pipe 42, and flows down from the supply section 41, thereby being supplied onto the filter cloth 31 of the conveyor belt 32. Note that "on the filter cloth 31 of the conveyor belt 32" strictly means on the upper surface (outer surface) 312 of the supported portion 311 of the filter cloth 31.

石膏スラリーは、搬送ベルト３２のろ布３１上に載せられ、搬送ベルト３２によりろ布３１とともに搬送される際に脱水処理される。搬送装置３における石膏スラリーが脱水される領域を脱水部３６とする。脱水部３６では、搬送ベルト３２がドラム３３よりも上方に位置しており、ろ布３１の被支持部３１１が搬送ベルト３２の支持部３２２に支持されている。上述した供給部４１、ケーキ洗浄液噴出部４５および蒸気噴出部５５の夫々は、脱水部３６の領域内に配置されている。 The gypsum slurry is placed on the filter cloth 31 of the conveyor belt 32, and is dehydrated while being conveyed together with the filter cloth 31 by the conveyor belt 32. The area where the gypsum slurry is dehydrated in the conveying device 3 is referred to as a dewatering section 36. In the dewatering section 36 , the conveyor belt 32 is located above the drum 33 , and the supported portion 311 of the filter cloth 31 is supported by the support portion 322 of the conveyor belt 32 . Each of the above-mentioned supply section 41, cake cleaning liquid ejection section 45, and steam ejection section 55 is arranged within the region of the dehydration section 36.

ろ布３１は通気性を有し、また、搬送ベルト３２には、ろ液を通過させるための複数の孔が形成されている。搬送ベルト３２のろ布３１上に載せられた石膏スラリーは、上記脱水部３６において、ろ布３１や搬送ベルト３２をろ液が通過することで、脱水される。 The filter cloth 31 has air permeability, and the conveyor belt 32 is formed with a plurality of holes through which the filtrate passes. The gypsum slurry placed on the filter cloth 31 of the conveyor belt 32 is dehydrated in the dewatering section 36 as the filtrate passes through the filter cloth 31 and the conveyor belt 32 .

図示される実施形態では、搬送装置３は、ろ布３１上に載せられた石膏スラリーを下方から吸引してろ液を脱水するように構成された脱水装置３７をさらに有する。脱水装置３７は、搬送ベルト３２の支持部３２２の下方に設けられて、内部の圧力が負圧（大気圧よりも低い圧力）に保持される脱水室３７１と、真空ポンプ３７２と、脱水室３７１に一端部が接続され、他端部が真空ポンプ３７２に接続される減圧配管３７３と、減圧配管３７３に設けられる真空タンク３７４と、を含む。真空ポンプ３７２を駆動することで、脱水室３７１が減圧されて負圧となり、ろ布３１上に載せられた石膏スラリー中の水分は、下方から強制的に吸引され、石膏スラリーは脱水される。 In the illustrated embodiment, the conveying device 3 further includes a dewatering device 37 configured to suck the gypsum slurry placed on the filter cloth 31 from below and dehydrate the filtrate. The dehydration device 37 includes a dehydration chamber 371 that is provided below the support portion 322 of the conveyor belt 32 and whose internal pressure is maintained at negative pressure (lower than atmospheric pressure), a vacuum pump 372, and a dehydration chamber 371. A vacuum tank 374 is provided in the pressure reduction pipe 373, and the vacuum tank 374 is provided in the pressure reduction pipe 373. By driving the vacuum pump 372, the pressure in the dehydration chamber 371 is reduced to negative pressure, and the moisture in the gypsum slurry placed on the filter cloth 31 is forcibly sucked from below, and the gypsum slurry is dehydrated.

真空ポンプ３７２により吸引されて脱水室３７１から真空タンク３７４に送られた水分（ろ液）は、真空タンク３７４の下端部に一端側が接続されて他端側が下方に向かって延在する液体排出配管３７５内を通り、ろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽６に流下する。 The water (filtrate) sucked by the vacuum pump 372 and sent from the dehydration chamber 371 to the vacuum tank 374 is transferred to a liquid discharge pipe whose one end is connected to the lower end of the vacuum tank 374 and whose other end extends downward. 375 and flows down to the filtrate storage tank 6 configured to store the filtrate.

ろ布３１上に載せられて搬送される石膏スラリーは、搬送ベルト３２に搬送されるにつれて脱水が進んでケーキとなる。図示される実施形態では、ケーキ洗浄装置４４は、上記ケーキ洗浄液噴出部４５（例えば、噴射ノズル）と、ケーキ洗浄液噴出部４５に一端部が接続され、他端部が不図示の洗浄液タンクに接続されるケーキ洗浄液供給配管４６と、ケーキ洗浄液供給配管４６に設けられるポンプ４７と、を有する。ポンプ４７を駆動することで、洗浄液が洗浄液タンクからケーキ洗浄液噴出部４５に送られ、ケーキ洗浄液噴出部４５から下方に位置するろ布上の石膏スラリー（ケーキ）に向かって噴出される。石膏スラリー（ケーキ）は、洗浄液により洗浄されることで、不純物（例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、塩素（Ｃｌ）、ナトリウム（Ｎａ）といった金属イオンなど）が除去される。ケーキ洗浄液としては、例えば、工業用水などが挙げられる。ケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液は、脱水装置３７により吸引され、ろ布３１や搬送ベルト３２を通過し、ろ液として、脱水室３７１から真空タンク３７４に送られ、液体排出配管３７５内を通り、ろ液貯留槽６に流下する。 The gypsum slurry placed on the filter cloth 31 and conveyed is dehydrated and becomes a cake as it is conveyed to the conveyor belt 32. In the illustrated embodiment, the cake cleaning device 44 has one end connected to the cake cleaning liquid spouting part 45 (for example, a jetting nozzle) and the cake cleaning liquid spouting part 45, and the other end connected to a cleaning liquid tank (not shown). The cake washing liquid supply pipe 46 has a cake washing liquid supply pipe 46 and a pump 47 provided in the cake washing liquid supply pipe 46. By driving the pump 47, the cleaning liquid is sent from the cleaning liquid tank to the cake cleaning liquid spouting part 45, and is jetted from the cake cleaning liquid spouting part 45 toward the gypsum slurry (cake) on the filter cloth located below. The gypsum slurry (cake) is washed with a cleaning solution to remove impurities (for example, metal ions such as magnesium (Mg), chlorine (Cl), and sodium (Na)). Examples of the cake cleaning liquid include industrial water. The cake washing liquid used for washing the cake is sucked by the dehydration device 37, passes through the filter cloth 31 and the conveyor belt 32, is sent as a filtrate from the dehydration chamber 371 to the vacuum tank 374, and is passed through the liquid discharge pipe 375. and flows down into the filtrate storage tank 6.

図示される実施形態では、蒸気噴出装置５４の蒸気噴出部５５（例えば、噴射ノズル）に、不図示のボイラに繋がる蒸気配管５６から乾燥用蒸気が送られ、蒸気噴出部５５から下方に位置するろ布３１上の石膏スラリーに向かって噴出される。ろ布３１上の石膏スラリーは、乾燥用蒸気により、石膏スラリーに含まれる水分が加熱除去される。 In the illustrated embodiment, drying steam is sent to a steam jetting part 55 (for example, an injection nozzle) of a steam jetting device 54 from a steam pipe 56 connected to a boiler (not shown), and is located below from the steam jetting part 55. It is ejected toward the gypsum slurry on the filter cloth 31. The moisture contained in the gypsum slurry on the filter cloth 31 is heated and removed by drying steam.

図示される実施形態では、ろ布３１上の石膏スラリーを脱水部３６において脱水して得られる石膏は、搬送ベルト３２の搬送方向における脱水部３６（例えば、蒸気噴出部５５）よりも下流側において、ろ布３１上から取り除かれる。搬送装置３における石膏がろ布３１上から取り除かれる領域を石膏排出部４３とする。 In the illustrated embodiment, the gypsum obtained by dewatering the gypsum slurry on the filter cloth 31 in the dewatering section 36 is transported downstream of the dewatering section 36 (for example, the steam jetting section 55) in the conveyance direction of the conveyor belt 32. , removed from above the filter cloth 31. A region in the conveying device 3 from which gypsum is removed from the filter cloth 31 is defined as a gypsum discharge section 43.

石膏スラリー脱水システム１は、図２に示されるように、搬送ベルト３２の搬送方向における石膏排出部４３よりも下流側において、ろ布３１に対してろ布洗浄液を噴出可能なろ布洗浄液噴出部５１を有するろ布洗浄装置５をさらに備える。図示される実施形態では、ろ布洗浄装置５は、二つのドラム３３よりも下方に配置された上記ろ布洗浄液噴出部５１（例えば、噴射ノズル）と、ろ布洗浄液噴出部５１に一端部が接続され、他端部が不図示の洗浄液タンクに接続されるろ布洗浄液供給配管５２と、ろ布洗浄液供給配管５２に設けられるポンプ５３と、を有する。ポンプ５３を駆動することで、洗浄液が洗浄液タンクからろ布洗浄液噴出部５１に送られ、ろ布洗浄液噴出部５１からろ布３１に向かって噴出される。ろ布３１は、洗浄液により洗浄されることで、不純物が除去される。ろ布洗浄液としては、例えば、工業用水などが挙げられる。なお、ろ布洗浄液は、ろ布３１の外面又は内面の少なくとも一方に向かって噴出される。 As shown in FIG. 2, the gypsum slurry dewatering system 1 includes a filter cloth cleaning liquid spouting part 51 capable of spouting filter cloth cleaning liquid onto the filter cloth 31 on the downstream side of the gypsum discharge part 43 in the conveying direction of the conveying belt 32. It further includes a filter cloth cleaning device 5. In the illustrated embodiment, the filter cloth cleaning device 5 includes the filter cloth cleaning liquid jetting section 51 (for example, a jetting nozzle) disposed below the two drums 33, and one end of the filter cloth cleaning liquid jetting section 51. It has a filter cloth cleaning liquid supply pipe 52 connected to the filter cloth cleaning liquid supply pipe 52 whose other end is connected to a cleaning liquid tank (not shown), and a pump 53 provided in the filter cloth cleaning liquid supply pipe 52. By driving the pump 53, the cleaning liquid is sent from the cleaning liquid tank to the filter cloth cleaning liquid spouting part 51, and is jetted from the filter cloth cleaning liquid spouting part 51 toward the filter cloth 31. Impurities are removed from the filter cloth 31 by washing it with a washing liquid. Examples of the filter cloth cleaning liquid include industrial water. Note that the filter cloth cleaning liquid is ejected toward at least one of the outer surface and the inner surface of the filter cloth 31.

石膏スラリー脱水システム１は、例えば図２に示されるように、ろ布洗浄液噴出部５１の下方に設けられるろ布洗浄液受け部５８（例えば、トレイ）と、ろ布洗浄液受け部５８に一端側が接続されて他端側が下方に向かって延在するろ布洗浄液排出配管５９と、をさらに備える。ろ布洗浄液噴出部５１から噴出されたろ布洗浄液は、ろ布洗浄液受け部５８上に落下する。ろ布洗浄液受け部５８上に落下したろ布洗浄液は、ろ布洗浄液排出配管５９内を通り、ろ布洗浄液を貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽８に流下する。 As shown in FIG. 2, for example, the gypsum slurry dewatering system 1 includes a filter cloth cleaning liquid receiving part 58 (for example, a tray) provided below the filter cloth cleaning liquid spouting part 51, and one end side connected to the filter cloth cleaning liquid receiving part 58. It further includes a filter cloth cleaning liquid discharge pipe 59 whose other end extends downward. The filter cloth cleaning liquid spouted from the filter cloth cleaning liquid spouting part 51 falls onto the filter cloth cleaning liquid receiving part 58 . The filter cloth cleaning liquid that has fallen onto the filter cloth cleaning liquid receiving portion 58 passes through the filter cloth cleaning liquid discharge pipe 59 and flows down into the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 configured to store the filter cloth cleaning liquid.

図示される実施形態では、石膏スラリー脱水システム１は、吸収塔２０Ａの外部に配置されるとともに、ろ液を貯留するための内部空間６１を画定するように構成された上記ろ液貯留槽６と、吸収塔２０Ａの外部に配置されるとともに、ろ布洗浄液を貯留するための内部空間８１を画定するように構成された上記ろ布洗浄液貯留槽８と、ろ液貯留槽６に貯留されたろ液を、上記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備１６に送るように構成されたろ液排出ライン７と、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体を、上述した吸収液貯留槽１７に送るように構成された送水ライン９と、をさらに備える。つまり、ろ液貯留槽６に貯留される液体（ろ液）は、排水処理設備１６に送られた後に系外に排出され、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体（ろ布洗浄液を含む液体）は、吸収液貯留槽１７に送られ、不図示の供給ラインを介して供給された石灰石と混合され、吸収液として吸収塔２０Ａに送られる。 In the illustrated embodiment, the gypsum slurry dewatering system 1 includes the filtrate storage tank 6, which is arranged outside the absorption tower 20A and is configured to define an internal space 61 for storing filtrate. , the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 which is arranged outside the absorption tower 20A and configured to define an internal space 81 for storing the filter cloth cleaning liquid, and the filtrate stored in the filtrate storage tank 6. The above-mentioned absorption liquid A water line 9 configured to feed to the storage tank 17 is further provided. In other words, the liquid (filtrate) stored in the filtrate storage tank 6 is sent to the wastewater treatment equipment 16 and then discharged outside the system, and the liquid (including the filter cloth cleaning liquid) stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 is The liquid) is sent to the absorption liquid storage tank 17, mixed with limestone supplied via a supply line (not shown), and sent as an absorption liquid to the absorption tower 20A.

幾つかの実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム１は、図２に示されるように、石膏スラリーをろ布３１上に載せた状態で搬送する搬送ベルト３２を有する上述した搬送装置３と、ろ布３１に対してろ布洗浄液を噴出可能なろ布洗浄液噴出部５１（噴出部）を有する上述したろ布洗浄装置５と、ろ布３１により石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成された上述したろ液貯留槽６と、ろ液貯留槽６に貯留されたろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備１６に送るように構成された上述したろ液排出ライン７と、ろ液貯留槽６とは異なるろ布洗浄液貯留槽８であって、ろ布洗浄液噴出部５１（噴出部）からろ布３１に対して噴出されたろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成された上述したろ布洗浄液貯留槽８と、を備える。 As shown in FIG. 2, the gypsum slurry dewatering system 1 according to some embodiments includes the above-described transport device 3 having a transport belt 32 that transports the gypsum slurry on a filter cloth 31, and a filter cloth 31. The above-mentioned filter cloth cleaning device 5 has a filter cloth cleaning liquid spouting part 51 (spouting part) capable of spouting a filter cloth cleaning liquid to the filter cloth 31, and the above-mentioned filter cloth cleaning device 5 is configured to store the filtrate separated from the gypsum slurry by the filter cloth 31. The filtrate storage tank 6, the above-mentioned filtrate discharge line 7 configured to send the filtrate stored in the filtrate storage tank 6 to the wastewater treatment equipment 16 that performs treatment for discharging the filtrate outside the system, The filter cloth cleaning liquid storage tank 8 is different from the liquid storage tank 6, and is configured to store at least the filter cloth cleaning liquid spouted onto the filter cloth 31 from the filter cloth cleaning liquid spouting part 51 (spouting part). A filter cloth cleaning liquid storage tank 8 is provided.

排煙脱硫装置２０から排出される石膏スラリーは、排煙脱硫装置２０において排ガスから不純物（例えば、排ガスから除去した燃焼灰やスートなどの懸濁物質や、溶解重金属などの汚濁物質など）を吸収している。そして、脱水処理設備（例えば、搬送装置３など）において石膏スラリーから不純物がろ液とともに石膏から分離される。また、ケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液には、マグネシウム（Ｍｇ）、塩素（Ｃｌ）、ナトリウム（Ｎａ）といった金属イオンなどの不純物が含まれる。このため、石膏スラリーから分離されたろ液やケーキの洗浄に供された後、ろ液として、ろ液貯留槽に送られたケーキ洗浄液は、ろ布３１に対して噴出されたろ布洗浄液に比べて、不純物の含有率が高い。不純物の含有率の高いろ液を、排煙脱硫装置２０における吸収液の循環系統に戻すと、排煙脱硫装置２０における吸収液中の不純物の含有率が増加するため適切ではない。不純物の含有率の高いろ液は、排水処理設備１６において排水処理後に系外に排出することが好ましい。 The gypsum slurry discharged from the flue gas desulfurization device 20 absorbs impurities from the flue gas (for example, suspended solids such as combustion ash and soot removed from the flue gas, and pollutants such as dissolved heavy metals). are doing. Then, impurities from the gypsum slurry are separated from the gypsum together with the filtrate in a dehydration treatment facility (for example, the transport device 3, etc.). Further, the cake cleaning liquid used for cleaning the cake contains impurities such as metal ions such as magnesium (Mg), chlorine (Cl), and sodium (Na). Therefore, the cake cleaning liquid that is sent to the filtrate storage tank as a filtrate after being used for cleaning the filtrate and cake separated from the gypsum slurry is smaller than the filter cloth cleaning liquid that is spouted onto the filter cloth 31. , high content of impurities. Returning the filtrate with a high impurity content to the absorption liquid circulation system in the flue gas desulfurization device 20 is not appropriate because the impurity content in the absorption liquid in the flue gas desulfurization device 20 increases. It is preferable that the filtrate with a high impurity content be discharged outside the system after being treated with waste water in the waste water treatment equipment 16.

上記の構成によれば、石膏スラリーから分離されたろ液とケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液をろ液貯留槽６に貯留することができ、ろ布３１に対して噴出されたろ布洗浄液をろ布洗浄液貯留槽８に貯留することができる。そして、ろ液貯留槽６に貯留されたろ液を、ろ液排出ライン７を介して排水処理設備１６に送り、排水処理設備１６において排水処理後に系外に排出することができる。このように、不純物の含有率が高いろ液と不純物の含有率が低いろ布洗浄液とを分けて貯留し、排水処理設備１６に送られる排水を、ろ液貯留槽６に貯留された不純物の含有率が高いろ液に限定することで、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備１６に送られる排水の量を、ろ布洗浄液の分だけ少なくすることができる。また、排水処理設備１６に送られる排水の量を少なくすることで、排水処理設備１６の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる。 According to the above configuration, the filtrate separated from the gypsum slurry and the cake washing liquid used for washing the cake can be stored in the filtrate storage tank 6, and the filter cloth washing liquid spouted to the filter cloth 31 can be filtered. It can be stored in the cloth cleaning liquid storage tank 8. Then, the filtrate stored in the filtrate storage tank 6 can be sent to the wastewater treatment facility 16 via the filtrate discharge line 7, and after being treated in the wastewater treatment facility 16, it can be discharged to the outside of the system. In this way, the filtrate with a high impurity content and the filter cloth washing liquid with a low impurity content are stored separately, and the wastewater sent to the wastewater treatment equipment 16 is separated from the impurities stored in the filtrate storage tank 6. By limiting the content to the filtrate with a high content, the amount of wastewater sent from the gypsum slurry dehydration treatment equipment to the wastewater treatment equipment 16 can be reduced by the amount of filter cloth cleaning liquid. Further, by reducing the amount of wastewater sent to the wastewater treatment equipment 16, it is possible to suppress the increase in the size of the wastewater treatment equipment 16 and the increase in equipment costs.

幾つかの実施形態では、上述したろ液貯留槽６は、図２に示されるように、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液の内、所定の高さＨ１を上回ったろ液がろ布洗浄液貯留槽８に越流するように構成される。 In some embodiments, the above-mentioned filtrate storage tank 6 is configured such that, as shown in FIG. The water is configured to overflow into the cleaning liquid storage tank 8 .

図示される実施形態では、図２に示されるように、ろ液貯留槽６は、角筒状の内側面６２と底面６３とを有する。内部空間６１は、内側面６２と底面６３により区画される。ろ布洗浄液貯留槽８は、角筒状の内側面８２と底面８３とを有する。内部空間８１は、内側面８２と底面８３により区画される。図２に示される実施形態では、ろ布洗浄液貯留槽８の底面８３は、ろ液貯留槽６の底面６３と同じ高さ位置になるように構成されている。ろ液貯留槽６は、ろ布洗浄液貯留槽８との間に堰６４を挟んでろ布洗浄液貯留槽８に隣接して配置されている。堰６４は、底面６３から鉛直方向に沿って上方に向かって立設するとともに、上記内側面６２のうちの一面６２Ａを一方側に有し、且つ上記内側面８２のうちの一面８２Ａを他方側に有する。この場合には、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液の内、上記所定の高さＨ１である堰６４の上端の高さを上回ったろ液が、堰６４を越えてろ布洗浄液貯留槽８に流れ込む。他の幾つかの実施形態では、上記堰６４の代わりに、ろ液貯留槽６の上記所定の高さ位置に一端側が接続され、且つ、他端側がろ布洗浄液貯留槽８の上記所定の高さ位置よりの低い位置に接続されるオーバーフロー管を設けてもよい。 In the illustrated embodiment, the filtrate storage tank 6 has a rectangular cylindrical inner surface 62 and a bottom surface 63, as shown in FIG. The internal space 61 is defined by an inner surface 62 and a bottom surface 63. The filter cloth cleaning liquid storage tank 8 has a rectangular cylindrical inner surface 82 and a bottom surface 83. The internal space 81 is defined by an inner surface 82 and a bottom surface 83. In the embodiment shown in FIG. 2, the bottom surface 83 of the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 is configured to be at the same height as the bottom surface 63 of the filtrate storage tank 6. The filtrate storage tank 6 is arranged adjacent to the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 with a weir 64 interposed therebetween. The weir 64 stands vertically upward from the bottom surface 63, and has one surface 62A of the inner surfaces 62 on one side and one surface 82A of the inner surfaces 82 on the other side. has. In this case, of the filtrate stored in the filtrate storage tank 6, the filtrate that exceeds the height of the upper end of the weir 64, which is the predetermined height H1, crosses the weir 64 and enters the filter cloth cleaning liquid storage tank 6. flows into. In some other embodiments, instead of the weir 64, one end is connected to the predetermined height position of the filtrate storage tank 6, and the other end is connected to the predetermined height position of the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. An overflow pipe may be provided which is connected to a lower position.

上記の構成によれば、ろ液貯留槽６は、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液の内、所定の高さＨ１を上回ったろ液がろ布洗浄液貯留槽８に越流するように構成されている。このため、排水処理設備１６に送る必要が有る所定量のろ液以外のろ液を、ポンプやレベル制御などの複雑な設備を介すること無くろ布洗浄液貯留槽８に送液することができ、設備の複雑化や高額化を抑制することができる。
また、例えば、ろ液貯留槽６に、排水処理設備１６で処理可能な量を超えるろ液が供給されたときでも、ろ液貯留槽６から、排水処理設備１６に、処理可能な量だけのろ液を送れば、残りの、処理可能な量を超えた分のろ液は、自然に、ろ布洗浄液貯留槽８に越流して、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留されるため、排水処理設備１６を、余裕をみて、大きな設備とする必要はなく、排水処理設備１６の高額化を抑制することができる。 According to the above configuration, the filtrate storage tank 6 is configured such that among the filtrate stored in the filtrate storage tank 6, the filtrate exceeding the predetermined height H1 overflows into the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. It is configured. Therefore, it is possible to send filtrate other than the predetermined amount of filtrate that needs to be sent to the wastewater treatment equipment 16 to the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 without using complicated equipment such as a pump or level control. It is possible to prevent equipment from becoming more complex and expensive.
Furthermore, for example, even when filtrate is supplied to the filtrate storage tank 6 in excess of the amount that can be treated by the wastewater treatment equipment 16, only the amount that can be processed is supplied from the filtrate storage tank 6 to the wastewater treatment equipment 16. If the filtrate is sent, the remaining filtrate that exceeds the amount that can be treated will naturally overflow into the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 and be stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8, so that wastewater treatment There is no need to make the equipment 16 a large equipment, and it is possible to suppress the increase in the cost of the wastewater treatment equipment 16.

幾つかの実施形態では、上述したろ液排出ライン７は、上述したろ液貯留槽６と上述した排水処理設備１６に接続される排水配管７１と、排水配管７１に設けられた排水ポンプ７２と、排水配管７１における排水ポンプ７２の下流側に設けられるとともに、ろ液貯留槽６から排水処理設備１６に送られるろ液の流量を調整可能に構成された流量調整弁７３と、を少なくとも含む。 In some embodiments, the above-mentioned filtrate discharge line 7 includes a drainage pipe 71 connected to the above-mentioned filtrate storage tank 6 and the above-mentioned wastewater treatment equipment 16, and a drainage pump 72 provided in the drainage pipe 71. , includes at least a flow rate adjustment valve 73 that is provided on the downstream side of the drainage pump 72 in the drainage pipe 71 and is configured to be able to adjust the flow rate of the filtrate sent from the filtrate storage tank 6 to the wastewater treatment equipment 16.

図３は、本開示の一実施形態における排水処理設備を説明するための説明図である。
排水処理設備１６は、図３に示されるように、排水を貯留するように構成された内部空間１６２を有するとともに、凝集沈殿処理が行われる第１凝集沈殿槽１６１と、排水を貯留するように構成された内部空間１６４を有するとともに、凝集沈殿処理が行われる第２凝集沈殿槽１６３と、を少なくとも含む。第２凝集沈殿槽１６３は、第１凝集沈殿槽１６１よりも排水の流れ方向の下流側に設けられる。 FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining wastewater treatment equipment in an embodiment of the present disclosure.
As shown in FIG. 3, the wastewater treatment equipment 16 has an internal space 162 configured to store wastewater, and a first coagulation and sedimentation tank 161 in which coagulation and sedimentation treatment is performed, and a first coagulation and sedimentation tank 161 configured to store wastewater. It includes at least a second flocculation and sedimentation tank 163 which has a configured internal space 164 and in which a flocculation and sedimentation process is performed. The second coagulation and sedimentation tank 163 is provided on the downstream side of the first coagulation and sedimentation tank 161 in the flow direction of the waste water.

排水処理設備１６は、第１凝集沈殿槽１６１に凝集剤を添加するように構成された第１凝集剤添加ライン１６５と、第２凝集沈殿槽１６３に凝集剤を添加するように構成された第２凝集剤添加ライン１６６と、をさらに含む。第１凝集剤添加ライン１６５により、第１凝集沈殿槽１６１に凝集剤（例えば、硫酸アルミニウムなどのアルミニウム化合物）が添加されることで、排水中に水酸化アルミニウムのフロックが析出し、排ガスから除去した燃焼灰やスートなどの懸濁物質や、溶解重金属などの汚濁物質などの不純物が上記フロックに包含されて沈殿する。第２凝集剤添加ライン１６６により、第２凝集沈殿槽１６３に凝集剤（例えば、炭酸ソーダ）が添加されることで、排水中に炭酸カルシウムのフロックが析出し、懸濁物質などが上記フロックに包含されて沈殿する。なお、第１凝集沈殿槽１６１や第２凝集沈殿槽１６３にはｐＨ調整剤も添加してもよい。 The wastewater treatment equipment 16 includes a first flocculant addition line 165 configured to add a flocculant to a first coagulation sedimentation tank 161 and a first flocculant addition line 165 configured to add a flocculant to a second flocculation sedimentation tank 163. 2 flocculant addition line 166. By adding a flocculant (for example, an aluminum compound such as aluminum sulfate) to the first flocculant-sedimentation tank 161 through the first flocculant addition line 165, flocs of aluminum hydroxide are precipitated in the waste water and removed from the exhaust gas. Impurities such as suspended solids such as combustion ash and soot, and pollutants such as dissolved heavy metals are included in the floc and precipitate. By adding a flocculant (for example, soda carbonate) to the second flocculant-sedimentation tank 163 through the second flocculant addition line 166, flocs of calcium carbonate are precipitated in the waste water, and suspended solids are transferred to the flocs. Included and precipitated. Note that a pH adjuster may also be added to the first coagulation sedimentation tank 161 and the second coagulation sedimentation tank 163.

第１凝集沈殿槽１６１は、排水配管７１の流量調整弁７３よりも下流側に接続されており、排水配管７１を介してろ液貯留槽６から排水（ろ液）が送られる。第１凝集沈殿槽１６１は、第１凝集沈殿槽１６１に貯留される排水の内、第１凝集沈殿槽１６１における凝縮処理が行われた排水であって、所定の高さＨ２を上回った排水が第２凝集沈殿槽１６３に越流するように構成されている。 The first coagulation-sedimentation tank 161 is connected to the downstream side of the flow rate adjustment valve 73 of the drainage pipe 71, and the waste water (filtrate) is sent from the filtrate storage tank 6 via the drainage pipe 71. The first coagulation-sedimentation tank 161 is the wastewater that has been subjected to condensation treatment in the first coagulation-sedimentation tank 161 among the wastewater stored in the first coagulation-sedimentation tank 161, and the wastewater that exceeds a predetermined height H2 is It is configured to overflow into the second flocculation and sedimentation tank 163.

図示される実施形態では、第１凝集沈殿槽１６１は、第１凝集沈殿槽１６１に隣接して配置される第２凝集沈殿槽１６３との間に設けられる堰１６７と、堰１６７よりも排水の流れ方向の上流側に設けられる仕切り１６８と、をさらに含む。仕切り１６８は、堰１６７の上端よりも下方に垂れ下がることで、第１凝集沈殿槽１６１を、排水配管７１から排水が投入される一方側と、仕切り１６８を挟んで上記一方側とは反対側の他方側と、に区分する。第１凝集沈殿槽１６１の上記他方側には、主に第１凝集沈殿槽１６１における凝集沈殿処理が行われた排水が貯留される。この場合には、第１凝集沈殿槽１６１の上記他方側に貯留される液体のうち、上記所定の高さＨ２である堰１６７の上端の高さを上回った排水が、堰１６７を越えて第２凝集沈殿槽１６３に流れ込む。なお、排水処理設備１６は、第１凝集沈殿槽１６１や第２凝集沈殿槽１６３において、沈殿したフロックを除去するように構成された不図示の不純物除去機構を備える。また、他の幾つかの実施形態では、上述した堰１６７の代わりにオーバーフロー管を設けてもよい。 In the illustrated embodiment, the first flocculation and sedimentation tank 161 has a weir 167 provided between the second flocculation and sedimentation tank 163 disposed adjacent to the first flocculation and sedimentation tank 161, and a weir 167 that has a higher drainage capacity than the weir 167. It further includes a partition 168 provided on the upstream side in the flow direction. The partition 168 hangs below the upper end of the weir 167 to separate the first coagulation-sedimentation tank 161 from one side into which wastewater is input from the drainage pipe 71 and the other side with the partition 168 in between. The other side is divided into two parts. The other side of the first coagulation and sedimentation tank 161 mainly stores wastewater that has been subjected to the coagulation and sedimentation treatment in the first coagulation and sedimentation tank 161 . In this case, out of the liquid stored on the other side of the first coagulation-sedimentation tank 161, the wastewater exceeding the height of the upper end of the weir 167, which is the predetermined height H2, crosses the weir 167 and enters the second side. 2 flows into the coagulation sedimentation tank 163. Note that the wastewater treatment equipment 16 includes an impurity removal mechanism (not shown) configured to remove precipitated flocs in the first coagulation sedimentation tank 161 and the second coagulation sedimentation tank 163. Further, in some other embodiments, an overflow pipe may be provided in place of the weir 167 described above.

排水処理設備１６は、第１凝集沈殿槽１６１や第２凝集沈殿槽１６３などの各槽に送られる排水の量が多いと、各槽において不純物を十分に除去する前に排水が下流側に送られるので、排水処理が不十分となる虞がある。このため、上述したろ液排出ライン７は、排水処理設備１６の処理性能に応じた量のろ液を排水処理設備１６に送ることが好ましい。 In the wastewater treatment equipment 16, when the amount of wastewater sent to each tank such as the first coagulation sedimentation tank 161 and the second coagulation sedimentation tank 163 is large, the wastewater is sent to the downstream side before impurities are sufficiently removed in each tank. Therefore, there is a risk that wastewater treatment will be insufficient. For this reason, it is preferable that the above-mentioned filtrate discharge line 7 sends an amount of filtrate to the wastewater treatment equipment 16 according to the treatment performance of the wastewater treatment equipment 16.

上記の構成によれば、ろ液排出ライン７は、ろ液貯留槽６と排水処理設備１６に接続される排水配管７１、排水配管７１に設けられる排水ポンプ７２、および排水配管７１における排水ポンプ７２の下流側に設けられる流量調整弁７３を含むので、排水配管７１を介してろ液貯留槽６から排水処理設備１６に送られるろ液の流量を調整することができる。このため、ろ液排出ライン７は、排水処理設備１６の処理性能に応じた量のろ液を排水処理設備１６に送ることができる。 According to the above configuration, the filtrate discharge line 7 includes a drainage pipe 71 connected to the filtrate storage tank 6 and the wastewater treatment equipment 16, a drainage pump 72 provided in the drainage pipe 71, and a drainage pump 72 in the drainage pipe 71. , the flow rate of the filtrate sent from the filtrate storage tank 6 to the wastewater treatment equipment 16 via the drainage pipe 71 can be adjusted. Therefore, the filtrate discharge line 7 can send an amount of filtrate to the wastewater treatment equipment 16 according to the treatment performance of the wastewater treatment equipment 16.

幾つかの実施形態では、上述した石膏スラリー脱水システム１は、排煙脱硫装置２０において排ガスに気液接触させる吸収液を貯留するように構成された上述した吸収液貯留槽１７と、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留される液体を吸収液貯留槽１７に送るように構成された送水ライン９と、をさらに備える。 In some embodiments, the above-described gypsum slurry dewatering system 1 includes the above-described absorption liquid storage tank 17 configured to store an absorption liquid to be brought into gas-liquid contact with exhaust gas in the flue gas desulfurization device 20, and a filter cloth cleaning liquid. It further includes a water supply line 9 configured to send the liquid stored in the storage tank 8 to the absorption liquid storage tank 17.

石膏排出後のろ布３１に付着している不純物は少量であるため、ろ布洗浄液は、ろ布３１に付着している不純物を吸収しても不純物の含有率が低い。ろ布洗浄液貯留槽８には、ろ液貯留槽６から不純物の含有率が高いろ液が越流することがあるが、ろ布洗浄液により薄められるため、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留される液体は、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液に比べて、不純物の含有率が低い。上記の構成によれば、不純物の含有率の低いろ布洗浄液貯留槽８に貯留される液体を、送水ライン９を介して吸収液貯留槽１７に送ることで、上記液体を排煙脱硫装置２０における吸収液の循環系統に戻して吸収液として再利用することができる。 Since the amount of impurities adhering to the filter cloth 31 after the gypsum has been discharged is small, the content of impurities in the filter cloth cleaning liquid is low even if it absorbs the impurities adhering to the filter cloth 31. The filtrate with a high impurity content may overflow from the filtrate storage tank 6 into the filter cloth cleaning liquid storage tank 8, but since it is diluted by the filter cloth cleaning liquid, it is stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. The liquid has a lower impurity content than the filtrate stored in the filtrate storage tank 6. According to the above configuration, by sending the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 with a low impurity content to the absorption liquid storage tank 17 via the water supply line 9, the liquid is transferred to the flue gas desulfurization device 20. It can be returned to the absorption liquid circulation system and reused as an absorption liquid.

幾つかの実施形態では、上述した上記送水ライン９は、図２に示されるように、上述したろ布洗浄液貯留槽８と上述した吸収液貯留槽１７に接続される送水配管９１と、送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２と、を含む。送水ポンプ９２は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さＨ３に応じて回転数が制御されるように構成される。 In some embodiments, the above-mentioned water supply line 9 includes, as shown in FIG. 2, a water supply pipe 91 connected to the above-mentioned filter cloth cleaning liquid storage tank 8 and the above-mentioned absorption liquid storage tank 17, and a water supply pipe. A water pump 92 provided at 91 is included. The water pump 92 is configured such that its rotational speed is controlled according to the liquid level H3 of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8.

図示される実施形態では、図２に示されるように、上述した石膏スラリー脱水システム１は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さＨ３を取得するように構成された液面高さ取得装置９３と、液面高さ取得装置９３が取得した液面高さＨ３に応じて、送水ポンプ９２に回転数を指示するように構成された回転数指示部９４１を含む制御装置９４と、をさらに備える。 In the illustrated embodiment, as shown in FIG. 2, the above-described gypsum slurry dewatering system 1 includes a liquid solution configured to obtain the liquid surface height H3 of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. A control device including a surface height acquisition device 93 and a rotation speed instruction section 941 configured to instruct a rotation speed to the water pump 92 according to the liquid level height H3 acquired by the liquid level height acquisition device 93. 94.

液面高さ取得装置９３としては、例えば赤外線式の液面センサなどが挙げられる。制御装置９４は、送水ポンプ９２の回転数を調整するための電子制御ユニットであり、図示しないＣＰＵ（プロセッサ）や、ＲＯＭやＲＡＭといったメモリ、外部記憶装置などの記憶装置、Ｉ／Ｏインターフェース、通信インターフェースなどからなるマイクロコンピュータとして構成されていてもよい。そして、例えば上記メモリの主記憶装置にロードされたプログラムの命令に従ってＣＰＵが動作（例えばデータの演算など）することで、各機能部を実現する。制御装置９４は、送水ポンプ９２や液面高さ取得装置９３に対して信号の送受信が可能に構成されている。送水ポンプ９２は、制御装置９４から送られる信号により電気的に制御され、該信号に応じて、駆動や停止するとともに、その回転数を調整可能に構成されている。このような送水ポンプ９２としては、例えばインバータモータなどを内蔵する送水ポンプが挙げられる。 Examples of the liquid level height acquisition device 93 include an infrared liquid level sensor. The control device 94 is an electronic control unit for adjusting the rotation speed of the water pump 92, and includes a CPU (processor) (not shown), memory such as ROM and RAM, storage devices such as external storage devices, I/O interfaces, and communication. It may be configured as a microcomputer consisting of an interface and the like. Then, each functional unit is realized by the CPU operating (for example, calculating data) according to instructions of a program loaded into the main storage device of the memory. The control device 94 is configured to be able to send and receive signals to and from the water pump 92 and the liquid level height acquisition device 93. The water pump 92 is electrically controlled by a signal sent from a control device 94, and is configured to be driven or stopped in response to the signal, and its rotation speed can be adjusted. An example of such a water pump 92 is a water pump that includes an inverter motor or the like.

図示される実施形態では、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨに満たない場合には、送水ポンプ９２に停止するように指示する。また、送水ポンプ９２が停止した状態において、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨ以上になった場合には、送水ポンプ９２に駆動するように指示する。また、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨ以下、且つ下限閾値ＬＨ以上である場合には、送水ポンプ９２に第１の回転数により回転するように指示する。回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨを超える場合には、送水ポンプ９２に第１の回転数よりも速い第２の回転数により回転するように指示する。上限閾値ＵＨは、所定の高さＨ１（堰６４の上端の高さ）よりも低く設定される。
なお、他の幾つかの実施形態では、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上がるにつれて、連続的又は段階的に送水ポンプ９２に指示する回転数を増加させるように構成されていてもよい。 In the illustrated embodiment, the rotation speed instruction unit 941 instructs the water pump 92 to stop when the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 is less than the lower limit threshold LH. . In addition, while the water pump 92 is stopped, the rotation speed instruction unit 941 causes the water pump 92 to be driven when the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 becomes equal to or higher than the lower limit threshold LH. instruct them to do so. In addition, when the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 is less than or equal to the upper limit threshold UH and greater than or equal to the lower limit threshold LH, the rotation speed instruction unit 941 causes the water pump 92 to have a first rotation speed. Instruct it to rotate. When the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 exceeds the upper limit threshold UH, the rotation speed instruction unit 941 causes the water pump 92 to operate at a second rotation speed faster than the first rotation speed. Instruct it to rotate. The upper limit threshold UH is set lower than a predetermined height H1 (the height of the upper end of the weir 64).
In some other embodiments, the rotation speed instruction unit 941 instructs the water pump 92 to rotate continuously or in stages as the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 increases. The number may be increased.

ろ布洗浄液貯留槽８には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽６から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れ出す虞がある。上記の構成によれば、送水ライン９は、ろ布洗浄液貯留槽８と吸収液貯留槽１７に接続される送水配管９１、および送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２を含む。そして、上記送水ポンプ９２は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように送水ポンプ９２の回転数が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れることを抑制することができる。 Since not only the filter cloth cleaning liquid but also the filtrate overflowing from the filtrate storage tank 6 is sent to the filter cloth cleaning liquid storage tank 8, the liquid level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 may suddenly rise. There is a risk that the liquid will rise significantly and overflow from the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. According to the above configuration, the water supply line 9 includes a water supply pipe 91 connected to the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 and the absorption liquid storage tank 17, and a water supply pump 92 provided in the water supply pipe 91. The water pump 92 is configured such that its rotational speed is controlled according to the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. In this case, the rotation speed of the water pump 92 is controlled so that the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 does not become excessively high, so that the liquid is removed from the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. can prevent overflow.

図４は、本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの他の一例を説明するための説明図である。
幾つかの実施形態では、上述した送水ライン９は、図４に示されるように、上述した送水配管９１と、送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２と、送水配管９１に設けられるとともに、ろ布洗浄液貯留槽８から吸収液貯留槽１７に送られる液体の流量を調整可能に構成された流量制御弁９５と、を含む。流量制御弁９５は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さＨ３に応じてその開度が制御されるように構成される。なお、この場合、送水ポンプ９２の回転数は一定に維持される。 FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining another example of the gypsum slurry dewatering system according to an embodiment of the present disclosure.
In some embodiments, as shown in FIG. 4, the above-mentioned water supply line 9 is provided with the above-mentioned water supply pipe 91, a water supply pump 92 provided in the water supply pipe 91, and a filter. It includes a flow control valve 95 configured to be able to adjust the flow rate of the liquid sent from the cloth cleaning liquid storage tank 8 to the absorption liquid storage tank 17. The flow rate control valve 95 is configured such that its opening degree is controlled according to the liquid level H3 of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. Note that in this case, the rotation speed of the water pump 92 is maintained constant.

図示される実施形態では、図４に示されるように、上述した石膏スラリー脱水システム１は、上述した液面高さ取得装置９３と、液面高さ取得装置９３が取得した液面高さＨ３に応じて、流量制御弁９５に開度を指示するように構成された開度指示部９４２を含む制御装置９４Ａ（９４）と、を備える。 In the illustrated embodiment, as shown in FIG. 4, the above-described gypsum slurry dewatering system 1 includes the above-described liquid level height acquisition device 93 and the liquid level height H3 acquired by the liquid level height acquisition device 93. The control device 94A (94) includes an opening instruction section 942 that is configured to instruct the flow rate control valve 95 to open according to the opening.

制御装置９４Ａは、流量制御弁９５の開度を調整するための電子制御ユニットであり、図示しないＣＰＵ（プロセッサ）や、ＲＯＭやＲＡＭといったメモリ、外部記憶装置などの記憶装置、Ｉ／Ｏインターフェース、通信インターフェースなどからなるマイクロコンピュータとして構成されていてもよい。そして、例えば上記メモリの主記憶装置にロードされたプログラムの命令に従ってＣＰＵが動作（例えばデータの演算など）することで、各機能部を実現する。制御装置９４Ａは、流量制御弁９５や液面高さ取得装置９３に対して信号の送受信が可能に構成されている。流量制御弁９５は、制御装置９４Ａから送られる信号により電気的に制御され、該信号に応じて、流量制御弁９５の弁体を駆動させて流量制御弁９５の内部の流路を開閉させるとともに、流量制御弁９５の開度を、全閉および全開以外の所望の開度に調整可能に構成されている。このような流量制御弁９５としては、例えば制御弁が挙げられる。なお、図示される実施形態では、流量制御弁９５は、送水ポンプ９２よりも送水配管９１の下流側（吸収液貯留槽１７側）に設けられている。 The control device 94A is an electronic control unit for adjusting the opening degree of the flow control valve 95, and includes a CPU (processor) (not shown), memory such as ROM and RAM, storage devices such as external storage devices, I/O interfaces, It may be configured as a microcomputer including a communication interface and the like. Then, each functional unit is realized by the CPU operating (for example, calculating data) according to instructions of a program loaded into the main storage device of the memory. The control device 94A is configured to be able to send and receive signals to and from the flow rate control valve 95 and the liquid level height acquisition device 93. The flow rate control valve 95 is electrically controlled by a signal sent from the control device 94A, and in response to the signal, the valve body of the flow rate control valve 95 is driven to open and close the flow path inside the flow rate control valve 95. The opening degree of the flow rate control valve 95 can be adjusted to a desired opening degree other than fully closed and fully open. An example of such a flow control valve 95 is a control valve. In the illustrated embodiment, the flow rate control valve 95 is provided on the downstream side of the water supply pipe 91 (on the absorption liquid storage tank 17 side) rather than the water supply pump 92.

図示される実施形態では、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨに満たない場合には、流量制御弁９５に全閉となるように指示する。また、流量制御弁９５が閉じた状態において、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨ以上になった場合には、流量制御弁９５に開くように指示する。また、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨ以下、且つ下限閾値ＬＨ以上である場合には、流量制御弁９５にその開度が第１の開度となるように指示する。流量制御弁９５は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨを超える場合には、流量制御弁９５にその開度が第１の開度よりも開いた第２の開度（例えば、全開）となるように指示する。なお、他の幾つかの実施形態では、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上がるにつれて、連続的又は段階的に流量制御弁９５に指示する開度を大きくして、流量制御弁９５を通過する液体の流量を増加させるように構成されていてもよい。 In the illustrated embodiment, the opening degree instruction section 942 instructs the flow rate control valve 95 to fully close when the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 is less than the lower limit threshold LH. instruct. In addition, in the state where the flow rate control valve 95 is closed, the opening degree instruction unit 942 causes the flow rate control valve 95 instruct them to open it. Further, when the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 is less than the upper limit threshold UH and more than the lower limit threshold LH, the opening degree instruction section 942 instructs the flow rate control valve 95 to adjust the opening degree. Instruct to open to the first opening degree. When the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 exceeds the upper limit threshold UH, the flow rate control valve 95 is configured to set the flow rate control valve 95 to a first valve whose opening degree is larger than the first opening degree. 2 (for example, fully open). In some other embodiments, the opening degree instruction unit 942 instructs the flow rate control valve 95 continuously or in stages as the liquid level height H3 sent from the liquid level height acquisition device 93 increases. The opening degree may be increased to increase the flow rate of liquid passing through the flow rate control valve 95.

また、他の幾つかの実施形態では、上述した流量制御弁９５は、全閉および全開の二位置になるが、全閉および全開以外の開度に調整できないように構成されていてもよい。開度指示部９４２は、流量制御弁９５に開度として全開又は全閉の何れかを指示する。この場合には、開度指示部９４２は、一定期間内における流量制御弁９５を全開とする期間の割合を増やすことで、流量制御弁９５を通過する液体の流量を増加させることができる。このような流量制御弁９５としては、例えば電磁弁などが挙げられる。 Further, in some other embodiments, the flow rate control valve 95 described above has two positions, fully closed and fully open, but may be configured such that it cannot be adjusted to an opening other than fully closed and fully open. The opening degree instruction section 942 instructs the flow rate control valve 95 to either fully open or fully close as the degree of opening. In this case, the opening degree instructing section 942 can increase the flow rate of the liquid passing through the flow rate control valve 95 by increasing the proportion of the period during which the flow rate control valve 95 is fully open within a certain period of time. An example of such a flow control valve 95 is a solenoid valve.

上述したように、ろ布洗浄液貯留槽８には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽６から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れ出す虞がある。上記の構成によれば、送水ライン９は、上記送水配管９１、送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２および送水配管９１に設けられた流量制御弁９５を含む。そして、上記流量制御弁９５は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さに応じてその開度が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように流量制御弁９５の開度が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れることを抑制することができる。 As described above, not only the filter cloth cleaning liquid but also the filtrate overflowing from the filtrate storage tank 6 is sent to the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. Therefore, the liquid level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 is There is a risk that the height will suddenly increase and the liquid will overflow from the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. According to the above configuration, the water supply line 9 includes the water supply pipe 91 , a water pump 92 provided on the water supply pipe 91 , and a flow rate control valve 95 provided on the water supply pipe 91 . The flow rate control valve 95 is configured such that its opening degree is controlled according to the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8. In this case, the opening degree of the flow rate control valve 95 is controlled so that the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank 8 does not become excessively high. It is possible to prevent liquid from overflowing.

本開示は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。 The present disclosure is not limited to the embodiments described above, and also includes forms in which modifications are added to the embodiments described above, and forms in which these forms are appropriately combined.

上述した幾つかの実施形態に記載の内容は、例えば以下のように把握されるものである。 The contents described in the several embodiments described above can be understood, for example, as follows.

１）本開示の少なくとも一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム（１）は、
排煙脱硫装置（２０）から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記石膏スラリーをろ布（３１）上に載せた状態で搬送する搬送ベルト（３２）を有する搬送装置（３）と、
上記ろ布（３１）に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部（ろ布洗浄液噴出部５１）を有するろ布洗浄装置（５）と、
上記ろ布（３１）により上記石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽（６）と、
上記ろ液貯留槽（６）に貯留された上記ろ液を、上記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備（１６）に送るように構成されたろ液排出ライン（７）と、
上記ろ液貯留槽（６）とは異なるろ布洗浄液貯留槽（８）であって、上記噴出部（ろ布洗浄液噴出部５１）から上記ろ布（３１）に対して噴出された上記ろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽（８）と、を備える。 1) A gypsum slurry dewatering system (1) according to at least one embodiment of the present disclosure,
A gypsum slurry dewatering system (1) for dewatering gypsum slurry discharged from a flue gas desulfurization device (20), comprising:
a conveyor device (3) having a conveyor belt (32) for conveying the gypsum slurry on a filter cloth (31);
a filter cloth cleaning device (5) having a spouting part (filter cloth cleaning liquid spouting part 51) capable of spouting a filter cloth cleaning liquid to the filter cloth (31);
a filtrate storage tank (6) configured to store the filtrate separated from the gypsum slurry by the filter cloth (31);
A filtrate discharge line (7) configured to send the filtrate stored in the filtrate storage tank (6) to a wastewater treatment facility (16) that performs treatment to discharge the filtrate out of the system. and,
A filter cloth cleaning liquid storage tank (8) different from the filtrate storage tank (6), the filter cloth being jetted from the spouting part (filter cloth cleaning liquid spouting part 51) to the filter cloth (31). A filter cloth cleaning liquid storage tank (8) configured to store at least a cleaning liquid is provided.

排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーは、排煙脱硫装置において排ガスから不純物（例えば、排ガスから除去した燃焼灰やスートなどの懸濁物質や、溶解重金属などの汚濁物質など）を吸収している。そして、脱水処理設備（例えば、搬送装置など）において石膏スラリーから不純物がろ液とともに石膏から分離される。また、ケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液には、マグネシウム（Ｍｇ）、塩素（Ｃｌ）、ナトリウム（Ｎａ）といった金属イオンなどの不純物が含まれる。このため、石膏スラリーから分離されたろ液やケーキの洗浄に供された後、ろ液として、ろ液貯留槽に送られたケーキ洗浄液は、ろ布に対して噴出されたろ布洗浄液に比べて、不純物の含有率が高い。不純物の含有率の高いろ液を、排煙脱硫装置における吸収液の循環系統に戻すと、排煙脱硫装置における吸収液中の不純物の含有率が増加するため適切ではない。不純物の含有率の高いろ液は、排水処理設備において排水処理後に系外に排出することが好ましい。 The gypsum slurry discharged from the flue gas desulfurization equipment absorbs impurities from the flue gas (for example, suspended solids such as combustion ash and soot removed from the flue gas, and pollutants such as dissolved heavy metals). There is. Then, impurities are separated from the gypsum slurry together with the filtrate in a dehydration treatment facility (for example, a conveyance device, etc.). Further, the cake cleaning liquid used for cleaning the cake contains impurities such as metal ions such as magnesium (Mg), chlorine (Cl), and sodium (Na). For this reason, the cake cleaning liquid that is sent to the filtrate storage tank after being used for washing the filtrate and cake separated from the gypsum slurry is compared to the filter cloth cleaning liquid that is spouted onto the filter cloth. High content of impurities. Returning a filtrate with a high impurity content to the absorption liquid circulation system in the flue gas desulfurization equipment is not appropriate because the impurity content in the absorption liquid in the flue gas desulfurization equipment increases. It is preferable that the filtrate with a high impurity content be discharged outside the system after being treated with waste water in a waste water treatment facility.

上記１）の構成によれば、石膏スラリーから分離されたろ液とケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液をろ液貯留槽（６）に貯留することができ、ろ布に対して噴出されたろ布洗浄液をろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留することができる。そして、ろ液貯留槽に貯留されたろ液を、ろ液排出ライン（７）を介して排水処理設備（１６）に送り、排水処理設備において排水処理後に系外に排出することができる。このように、不純物の含有率が高いろ液と不純物の含有率が低いろ布洗浄液とを分けて貯留し、排水処理設備に送られる排水を、ろ液貯留槽に貯留された不純物の含有率が高いろ液に限定することで、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を、ろ布洗浄液の分だけ少なくすることができる。また、排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることで、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる。 According to the configuration of 1) above, the filtrate separated from the gypsum slurry and the cake washing liquid used for washing the cake can be stored in the filtrate storage tank (6), and the filter cloth is sprayed against the filter cloth. The cleaning liquid can be stored in a filter cloth cleaning liquid storage tank (8). Then, the filtrate stored in the filtrate storage tank can be sent to the wastewater treatment facility (16) via the filtrate discharge line (7), and after being treated in the wastewater treatment facility, it can be discharged to the outside of the system. In this way, the filtrate with a high impurity content and the filter cloth washing liquid with a low impurity content are stored separately, and the wastewater sent to the wastewater treatment equipment is adjusted to the impurity content stored in the filtrate storage tank. By limiting the filtrate to a high filtrate, the amount of wastewater sent from the gypsum slurry dehydration treatment equipment to the wastewater treatment equipment can be reduced by the amount of filter cloth cleaning liquid. Furthermore, by reducing the amount of wastewater sent to the wastewater treatment equipment, it is possible to suppress the increase in the size of the wastewater treatment equipment and the increase in equipment costs.

２）幾つかの実施形態では、上記１）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記ろ液貯留槽（６）は、上記ろ液貯留槽（６）に貯留される上記ろ液の内、所定の高さを上回ったろ液が上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に越流するように構成される。 2) In some embodiments, the gypsum slurry dewatering system (1) described in 1) above,
The filtrate storage tank (6) is configured such that among the filtrate stored in the filtrate storage tank (6), filtrate exceeding a predetermined height overflows into the filter cloth cleaning liquid storage tank (8). It is configured as follows.

上記２）の構成によれば、ろ液貯留槽（６）は、ろ液貯留槽に貯留されるろ液の内、所定の高さを上回ったろ液がろ布洗浄液貯留槽（８）に越流するように構成されている。このため、排水処理設備（１６）に送る必要が有る所定量のろ液以外のろ液を、ポンプやレベル制御などの複雑な設備を介すること無くろ布洗浄液貯留槽（８）に送液することができ、設備の複雑化や高額化を抑制することができる。
また、例えば、ろ液貯留槽（８）に、排水処理設備（１６）で処理可能な量を超えるろ液が供給されたときでも、ろ液貯留槽（８）から、排水処理設備（１６）に、処理可能な量だけのろ液を送れば、残りの、処理可能な量を超えた分のろ液は、自然に、ろ布洗浄液貯留槽（８）に越流して、ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留されるため、排水処理設備（１６）を、余裕をみて、大きな設備とする必要はなく、排水処理設備（１６）の高額化を抑制することができる。 According to the configuration 2) above, the filtrate storage tank (6) allows the filtrate that exceeds a predetermined height out of the filtrate stored in the filtrate storage tank to overflow into the filter cloth cleaning liquid storage tank (8). It is configured to flow. Therefore, filtrate other than the predetermined amount of filtrate that needs to be sent to the wastewater treatment equipment (16) can be sent to the filter cloth cleaning liquid storage tank (8) without going through complicated equipment such as pumps and level control. This makes it possible to prevent equipment from becoming more complex and expensive.
Further, for example, even when the filtrate storage tank (8) is supplied with filtrate exceeding the amount that can be treated by the wastewater treatment equipment (16), the filtrate is supplied from the filtrate storage tank (8) to the wastewater treatment equipment (16). If only the amount of filtrate that can be processed is sent to the filter, the remaining filtrate that exceeds the amount that can be processed will naturally overflow into the filter cloth cleaning liquid storage tank (8). Since the water is stored in the tank (8), there is no need to make the wastewater treatment equipment (16) a large equipment, and the cost of the wastewater treatment equipment (16) can be suppressed.

３）幾つかの実施形態では、上記２）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記ろ液排出ライン（７）は、
上記ろ液貯留槽（６）と上記排水処理設備（１６）に接続される排水配管（７１）と、
上記排水配管（７１）に設けられた排水ポンプ（７２）と、
上記排水配管（７１）における上記排水ポンプ（７２）の下流側に設けられるとともに、上記ろ液貯留槽（６）から上記排水処理設備（１６）に送られる上記ろ液の流量を調整可能に構成された流量調整弁（７３）と、を少なくとも含む。 3) In some embodiments, the gypsum slurry dewatering system (1) described in 2) above,
The filtrate discharge line (7) is
a drainage pipe (71) connected to the filtrate storage tank (6) and the wastewater treatment equipment (16);
a drainage pump (72) provided in the drainage pipe (71);
It is provided on the downstream side of the drainage pump (72) in the drainage pipe (71), and is configured to be able to adjust the flow rate of the filtrate sent from the filtrate storage tank (6) to the wastewater treatment equipment (16). and a flow rate adjustment valve (73).

上記３）の構成によれば、ろ液排出ラインは、ろ液貯留槽と排水処理設備に接続される排水配管、上記排水配管に設けられる排水ポンプ、および上記排水配管における排水ポンプの下流側に設けられる流量調整弁を含むので、排水配管を介してろ液貯留槽から排水処理設備に送られるろ液の流量を調整することができる。このため、ろ液排出ラインは、排水処理設備の処理性能に応じた量のろ液を排水処理設備に送ることができる。 According to configuration 3) above, the filtrate discharge line is connected to the drainage pipe connected to the filtrate storage tank and the wastewater treatment equipment, the drainage pump provided in the drainage pipe, and the downstream side of the drainage pump in the drainage pipe. Since the flow rate adjustment valve is included, the flow rate of the filtrate sent from the filtrate storage tank to the wastewater treatment equipment via the drainage pipe can be adjusted. Therefore, the filtrate discharge line can send an amount of filtrate to the wastewater treatment equipment according to the treatment performance of the wastewater treatment equipment.

４）幾つかの実施形態では、上記３）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記排煙脱硫装置（２０）において排ガスに気液接触させる吸収液を貯留するように構成された吸収液貯留槽（１７）と、
上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留される液体を上記吸収液貯留槽（１７）に送るように構成された送水ライン（９）と、をさらに備える。 4) In some embodiments, the gypsum slurry dewatering system (1) described in 3) above,
an absorption liquid storage tank (17) configured to store an absorption liquid to be brought into gas-liquid contact with the exhaust gas in the flue gas desulfurization device (20);
It further includes a water supply line (9) configured to send the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank (8) to the absorption liquid storage tank (17).

石膏排出後のろ布に付着している不純物は少量であるため、ろ布洗浄液は、ろ布に付着している不純物を吸収しても不純物の含有率が低い。ろ布洗浄液貯留槽には、ろ液貯留槽から不純物の含有率が高いろ液が越流することがあるが、ろ布洗浄液により薄められるため、ろ布洗浄液貯留槽に貯留される液体は、ろ液貯留槽に貯留されるろ液に比べて、不純物の含有率が低い。上記４）の構成によれば、不純物の含有率の低い上記ろ布洗浄液貯留槽に貯留される液体を、送水ラインを介して吸収液貯留槽１７に送ることで、上記液体を排煙脱硫装置における吸収液の循環系統に戻して吸収液として再利用することができる。 Since the amount of impurities adhering to the filter cloth after the gypsum is discharged is small, the filter cloth cleaning liquid has a low impurity content even if it absorbs the impurities adhering to the filter cloth. Filtrate with a high impurity content may overflow from the filtrate storage tank into the filter cloth cleaning liquid storage tank, but since it is diluted by the filter cloth cleaning liquid, the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank is The content of impurities is lower than that of the filtrate stored in the filtrate storage tank. According to configuration 4) above, by sending the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank with a low impurity content to the absorption liquid storage tank 17 via the water supply line, the liquid can be transferred to the flue gas desulfurization device. It can be returned to the absorption liquid circulation system and reused as an absorption liquid.

５）幾つかの実施形態では、上記４）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記送水ライン（９）は、
上記ろ布洗浄液貯留槽（８）と上記吸収液貯留槽（１７）に接続される送水配管（９１）と、
上記送水配管（９１）に設けられた送水ポンプ（９２）と、を含み、
上記送水ポンプ（９２）は、上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される。 5) In some embodiments, the gypsum slurry dewatering system (1) described in 4) above,
The above water supply line (9) is
a water supply pipe (91) connected to the filter cloth cleaning liquid storage tank (8) and the absorption liquid storage tank (17);
A water pump (92) provided in the water pipe (91),
The water pump (92) is configured such that its rotation speed is controlled according to the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank (8).

ろ布洗浄液貯留槽には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽（６）から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れ出す虞がある。上記５）の構成によれば、送水ラインは、ろ布洗浄液貯留槽と吸収液貯留槽に接続される送水配管、および上記送水配管に設けられた送水ポンプを含む。そして、上記送水ポンプは、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように送水ポンプの回転数が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れることを抑制することができる。 Since not only the filter cloth cleaning liquid but also the filtrate overflowing from the filtrate storage tank (6) is sent to the filter cloth cleaning liquid storage tank, the liquid level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank may suddenly rise. There is a risk that the liquid will rise significantly and overflow from the filter cloth cleaning liquid storage tank. According to configuration 5) above, the water supply line includes a water supply pipe connected to the filter cloth cleaning liquid storage tank and the absorption liquid storage tank, and a water supply pump provided on the water supply pipe. The water pump is configured such that its rotational speed is controlled according to the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank. In this case, the rotation speed of the water pump is controlled so that the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank does not become excessively high, thereby preventing the liquid from overflowing from the filter cloth cleaning liquid storage tank. can be suppressed.

６）幾つかの実施形態では、上記４）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記送水ライン（９）は、
上記ろ布洗浄液貯留槽（８）と上記吸収液貯留槽（１７）に接続される送水配管（９１）と、
上記送水配管（９１）に設けられた送水ポンプ（９２）と、
上記送水配管（９１）に設けられるとともに、上記ろ布洗浄液貯留槽（８）から上記吸収液貯留槽（１７）に送られる液体の流量を調整可能に構成された流量制御弁（９５）と、を含み、
上記流量制御弁（９５）は、上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留された液体の液面高さに応じて開度が制御されるように構成される。 6) In some embodiments, the gypsum slurry dewatering system (1) described in 4) above,
The above water supply line (9) is
a water supply pipe (91) connected to the filter cloth cleaning liquid storage tank (8) and the absorption liquid storage tank (17);
a water pump (92) provided in the water pipe (91);
a flow control valve (95) provided in the water supply pipe (91) and configured to be able to adjust the flow rate of the liquid sent from the filter cloth cleaning liquid storage tank (8) to the absorption liquid storage tank (17); including;
The flow rate control valve (95) is configured to have an opening degree controlled according to the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank (8).

上述したように、ろ布洗浄液貯留槽には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽（６）から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れ出す虞がある。上記６）の構成によれば、送水ラインは、上記送水配管、送水配管に設けられた送水ポンプおよび送水配管に設けられた流量制御弁を含む。そして、上記流量制御弁は、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じてその開度が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように流量制御弁の開度が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れることを抑制することができる。 As mentioned above, not only the filter cloth cleaning liquid but also the filtrate overflowing from the filtrate storage tank (6) is sent to the filter cloth cleaning liquid storage tank, so the liquid level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank There is a risk that the height will increase rapidly and the liquid will overflow from the filter cloth cleaning liquid storage tank. According to configuration 6) above, the water supply line includes the water supply pipe, a water pump provided on the water supply pipe, and a flow rate control valve provided on the water supply pipe. The flow rate control valve is configured such that its opening degree is controlled according to the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank. In this case, the opening degree of the flow control valve is controlled so that the level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank does not become excessively high, so that the liquid overflows from the filter cloth cleaning liquid storage tank. This can be suppressed.

１ 石膏スラリー脱水システム
３ 搬送装置
３１ ろ布
３１１ 被支持部
３１２ 上面
３２ 搬送ベルト
３２１ 上面
３２２ 支持部
３３，３３Ａ，３３Ｂ ドラム
３４ モータ
３５ ガイドローラ
３６ 脱水部
３７ 脱水装置
３７１ 脱水室
３７２ 真空ポンプ
３７３ 減圧配管
３７４ 真空タンク
３７５ 液体排出配管
４ 供給装置
４１ 供給部
４２ 供給配管
４３ 石膏排出部
４４ ケーキ洗浄装置
４５ ケーキ洗浄液噴出部
４６ ケーキ洗浄液供給配管
４７ ポンプ
５ ろ布洗浄装置
５１ ろ布洗浄液噴出部
５２ ろ布洗浄液供給配管
５３ ポンプ
５４ 蒸気噴出装置
５５ 蒸気噴出部
５６ 蒸気配管
５８ ろ布洗浄液受け部
５９ ろ布洗浄液排出配管
６ ろ液貯留槽
６１ 内部空間
６２ 内側面
６３ 底面
６４ 堰
７ ろ液排出ライン
７１ 排水配管
７２ 排水ポンプ
７３ 流量調整弁
８ ろ布洗浄液貯留槽
８１ 内部空間
８２ 内側面
８３ 底面
９ 送水ライン
９１ 送水配管
９２ 送水ポンプ
９３ 液面高さ取得装置
９４，９４Ａ 制御装置
９４１ 回転数指示部
９４２ 開度指示部
９５ 流量制御弁
１０ 排ガス洗浄システム
１１ 燃焼設備
１２ 吸収液供給ライン
１２１ 吸収液供給配管
１２２ 供給ポンプ
１３ 吸収液循環ライン
１３１ 吸収液循環配管
１３２ 循環ポンプ
１３３ 第１分岐部
１４ 吸収液抜き出しライン
１４１ 配管
１４２ 調整弁
１４３ 第２分岐部
１５ 吸収液返送ライン
１５１ 吸収液返送配管
１６ 排ガス処理設備
１６１ 第１凝集沈殿槽
１６２ 内部空間
１６３ 第２凝集沈殿槽
１６４ 内部空間
１６５ 第１凝集剤添加ライン
１６６ 第２凝集剤添加ライン
１６７ 堰
１６８ 仕切り
１７ 吸収液貯留槽
１７１ 内部空間
２０ 排煙脱硫装置
２０Ａ 吸収塔
２１ 内部空間
２１Ａ 気液接触部
２１Ｂ 液だまり部
２２ 吸収塔本体
２２１ 吸収液抜出口
２２２ ノズル貫通口
２２３ 吸収液供給口
２２４ 吸収液返送口
２３ 排ガス導入口
２４ 排ガス排出口
２５ ミストエリミネータ
２６ 噴霧装置
２６１ 噴霧管
２６２ 噴霧ノズル
２６３ 噴霧口
２７ 酸化用気体供給装置
２７１ ノズル
２７２ ポンプ
２７３ 開口
ＬＨ 下限閾値
ＵＨ 上限閾値
Ｖ１ ろ液貯留槽の容量
Ｖ２ ろ布洗浄液貯留槽の容量 1 Gypsum slurry dewatering system 3 Conveying device 31 Filter cloth 311 Supported part 312 Upper surface 32 Conveying belt 321 Upper surface 322 Supporting parts 33, 33A, 33B Drum 34 Motor 35 Guide roller 36 Dewatering section 37 Dehydrating device 371 Dehydrating chamber 372 Vacuum pump 373 Depressurization Piping 374 Vacuum tank 375 Liquid discharge piping 4 Supply device 41 Supply section 42 Supply piping 43 Gypsum discharge section 44 Cake cleaning device 45 Cake cleaning liquid spouting section 46 Cake cleaning liquid supply piping 47 Pump 5 Filter cloth cleaning device 51 Filter cloth cleaning liquid spouting section 52 Filter Cloth cleaning liquid supply piping 53 Pump 54 Steam jetting device 55 Steam jetting part 56 Steam piping 58 Filter cloth cleaning liquid receiving part 59 Filter cloth cleaning liquid discharge piping 6 Filtrate storage tank 61 Internal space 62 Inner surface 63 Bottom surface 64 Weir 7 Filtrate discharge line 71 Drainage pipe 72 Drainage pump 73 Flow rate adjustment valve 8 Filter cloth cleaning liquid storage tank 81 Internal space 82 Inner surface 83 Bottom surface 9 Water supply line 91 Water supply pipe 92 Water supply pump 93 Liquid level height acquisition device 94, 94A Control device 941 Rotation speed instruction section 942 Opening degree indicator 95 Flow rate control valve 10 Exhaust gas cleaning system 11 Combustion equipment 12 Absorption liquid supply line 121 Absorption liquid supply piping 122 Supply pump 13 Absorption liquid circulation line 131 Absorption liquid circulation piping 132 Circulation pump 133 First branch part 14 Absorption liquid extraction Line 141 Piping 142 Regulating valve 143 Second branch 15 Absorbent return line 151 Absorbent return pipe 16 Exhaust gas treatment equipment 161 First coagulation sedimentation tank 162 Internal space 163 Second coagulation sedimentation tank 164 Internal space 165 First flocculant addition line 166 Second flocculant addition line 167 Weir 168 Partition 17 Absorption liquid storage tank 171 Internal space 20 Flue gas desulfurization device 20A Absorption tower 21 Internal space 21A Gas-liquid contact section 21B Liquid pool section 22 Absorption tower main body 221 Absorption liquid extraction port 222 Nozzle Penetration port 223 Absorption liquid supply port 224 Absorption liquid return port 23 Exhaust gas introduction port 24 Exhaust gas discharge port 25 Mist eliminator 26 Spray device 261 Spray pipe 262 Spray nozzle 263 Spray port 27 Oxidizing gas supply device 271 Nozzle 272 Pump 273 Opening LH Lower limit threshold UH Upper threshold V1 Capacity of filtrate storage tank V2 Capacity of filter cloth cleaning liquid storage tank

Claims (4)

排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムであって、
前記石膏スラリーをろ布上に載せた状態で搬送する搬送ベルトを有する搬送装置と、
前記ろ布に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部を有するろ布洗浄装置と、
前記ろ布により前記石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽と、
前記ろ液貯留槽に貯留された前記ろ液を、前記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備に送るように構成されたろ液排出ラインと、
前記ろ液貯留槽とは異なるろ布洗浄液貯留槽であって、前記噴出部から前記ろ布に対して噴出された前記ろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽と、
前記排煙脱硫装置において排ガスに気液接触させる吸収液を貯留するように構成された吸収液貯留槽と、
前記ろ布洗浄液貯留槽に貯留される液体を前記吸収液貯留槽に送るように構成された送水ラインと、を備え、
前記ろ液排出ラインは、
前記ろ液貯留槽と前記排水処理設備に接続される排水配管と、
前記排水配管に設けられた排水ポンプと、
前記排水配管における前記排水ポンプの下流側に設けられるとともに、前記ろ液貯留槽から前記排水処理設備に送られる前記ろ液の流量を調整可能に構成された流量調整弁と、を少なくとも含み、
前記ろ液貯留槽は、前記ろ液貯留槽に貯留される前記ろ液の内、前記排水処理設備の処理可能な量に対応する所定の高さを上回ったろ液が前記ろ布洗浄液貯留槽に越流するように構成される
石膏スラリー脱水システム。 A gypsum slurry dewatering system for dewatering gypsum slurry discharged from a flue gas desulfurization device, the system comprising:
a conveyance device having a conveyance belt that conveys the gypsum slurry on a filter cloth;
a filter cloth cleaning device having a spouting part capable of spouting a filter cloth cleaning liquid onto the filter cloth;
a filtrate storage tank configured to store the filtrate separated from the gypsum slurry by the filter cloth;
a filtrate discharge line configured to send the filtrate stored in the filtrate storage tank to a wastewater treatment facility that performs treatment to discharge the filtrate out of the system;
a filter cloth cleaning liquid storage tank different from the filtrate storage tank and configured to store at least the filter cloth cleaning liquid spouted onto the filter cloth from the spouting part;
an absorption liquid storage tank configured to store an absorption liquid to be brought into gas-liquid contact with the exhaust gas in the flue gas desulfurization device;
a water supply line configured to send the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank to the absorption liquid storage tank,
The filtrate discharge line is
a drainage pipe connected to the filtrate storage tank and the wastewater treatment equipment;
a drainage pump provided in the drainage pipe;
At least a flow rate adjustment valve provided downstream of the drainage pump in the drainage piping and configured to be able to adjust the flow rate of the filtrate sent from the filtrate storage tank to the wastewater treatment equipment,
The filtrate storage tank is configured such that among the filtrate stored in the filtrate storage tank, filtrate exceeding a predetermined height corresponding to the amount that can be treated by the wastewater treatment equipment is stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank. A gypsum slurry dewatering system configured to overflow. 前記送水ラインは、
前記ろ布洗浄液貯留槽と前記吸収液貯留槽に接続される送水配管と、
前記送水配管に設けられた送水ポンプと、を含み、
前記送水ポンプは、前記ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される
請求項１に記載の石膏スラリー脱水システム。 The water supply line is
a water supply pipe connected to the filter cloth cleaning liquid storage tank and the absorption liquid storage tank;
A water pump installed in the water pipe,
The gypsum slurry dewatering system according to claim 1, wherein the water pump is configured to have a rotation speed controlled according to a level of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank. 前記送水ラインは、
前記ろ布洗浄液貯留槽と前記吸収液貯留槽に接続される送水配管と、
前記送水配管に設けられた送水ポンプと、
前記送水配管に設けられるとともに、前記ろ布洗浄液貯留槽から前記吸収液貯留槽に送られる液体の流量を調整可能に構成された流量制御弁と、を含み、
前記流量制御弁は、前記ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じて開度が制御されるように構成される
請求項１に記載の石膏スラリー脱水システム。 The water supply line is
a water supply pipe connected to the filter cloth cleaning liquid storage tank and the absorption liquid storage tank;
a water pump installed in the water pipe;
a flow rate control valve provided in the water supply piping and configured to be able to adjust the flow rate of the liquid sent from the filter cloth cleaning liquid storage tank to the absorption liquid storage tank,
The gypsum slurry dewatering system according to claim 1, wherein the flow rate control valve is configured to have an opening degree controlled according to a liquid level height of the liquid stored in the filter cloth cleaning liquid storage tank. 前記排水処理設備は、第１凝集沈殿槽と、前記第１凝集沈殿槽の下流側に設けられた第２凝集沈殿槽と、を含み、
前記第１凝集沈殿槽は、前記第２凝集沈殿槽との間に設けられる堰と、前記堰よりも上流側に設けられる仕切りであって、前記堰の上端よりも下方に垂れ下がるように構成された仕切りと、を有する
請求項１乃至３の何れか１項に記載の石膏スラリー脱水システム。 The wastewater treatment equipment includes a first coagulation sedimentation tank and a second coagulation sedimentation tank provided downstream of the first coagulation sedimentation tank ,
The first coagulation and sedimentation tank includes a weir provided between the second coagulation and sedimentation tank and a partition provided upstream of the weir, and is configured to hang downward from the upper end of the weir. The gypsum slurry dewatering system according to any one of claims 1 to 3, further comprising a partition.
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