JP7351567B2 - 排気ガス処理のためのプラズマ装置 - Google Patents
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Description
本発明のプラズマトーチが装着されたプラズマ装置を真空ポンプに連結する時に、連結部30に設置されたオリフィスがプラズマトーチ内のタングステン電極の摩耗にどのような影響を及ぼすのか調べるために、次のような実験を行った。
10 プラズマ反応部
11 プラズマトーチ
12 排気ガス注入部
13 反応チャンバー
14 冷却水チャンバー
20 冷却部
21 移動通路
22 冷却水チャンバー
23、25 冷却水注入口
24、26 冷却水排出口
30 連結部
31 オリフィス
110 カソード電極
120 カソード電極体
121 電極収容ホール
122 凸部
123 アーク発生部
130 カバー
140 アノード電極体
141 排出部
142 第1排出部
143 第2排出部
144 第3排出部
145 第1傾斜部
146 第2傾斜部
147 突出部
150 プラズマ発生ガス供給部
151 本体
152 プラズマ発生ガス注入管
153 プラズマ発生ガス注入口
154 プラズマ発生ガス排出口
160 冷却水供給部
161 冷却ホール
162 冷却水注入口
163 冷却水排出口
170 第1絶縁部
180 第2絶縁部
Claims (12)
- 真空ポンプと連結されて排気ガス処理のためのプラズマ装置において、
プラズマトーチと、
前記プラズマトーチの下部に備えられた排気ガス注入部と、
前記排気ガス注入部の下部に備えられた反応チャンバーと、
前記プラズマトーチ及び前記反応チャンバーに冷却水が供給されるように備えられた冷却水チャンバーと、を含むプラズマ反応部;
前記プラズマ反応部下部に連通して形成されて、通路と前記通路を囲む冷却水チャンバーが備えられた冷却部;及び
前記冷却部と真空ポンプを連結する連結部;を含み、
前記連結部には、真空ポンプによる圧力降下を遮断するためのオリフィスが備えられたことを特徴とする、プラズマ装置。 - 前記オリフィスは、連結部の通路を遮る本体と、前記本体の一部に形成される少なくとも一つのオリフィス孔を含むことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ装置。
- 前記オリフィス孔の大きさは、排気ガスの流入流量に比例して増大することを特徴とする、請求項2に記載のプラズマ装置。
- 前記プラズマ反応部は、プラズマトーチと、排気ガス注入部と、反応チャンバーが一体型で形成されることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ装置。
- 前記プラズマトーチは
内部が満たされた柱形状を有するカソード電極;
前記カソード電極を包むように形成されて、下部が盛り上がる凸部を有するカソード電極体;
前記カソード電極及び前記カソード電極体の上部を覆うカバー;
前記カソード電極体の下部に所定距離離隔して配置されたアノード電極体;
前記カソード電極体と前記アノード電極体との間に配置されて、プラズマを発生させるためのプラズマ発生ガスを供給するプラズマ発生ガス供給部;及び
前記カソード電極体及び前記アノード電極体に冷却水を供給するための冷却水供給部;を含むことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ装置。 - 前記カソード電極の下部の一端は、前記カソード電極体に所定部分露出することを特徴とする、請求項5に記載のプラズマ装置。
- 前記凸部の内部には、プラズマ発生ガスの渦流が発生するように円筒形状の溝となるアーク発生部が形成されることを特徴とする、請求項5に記載のプラズマ装置。
- 前記アノード電極体の内部には、下部方向に行くほど直径が広くなる円筒形の排出部が形成されることを特徴とする、請求項5に記載のプラズマ装置。
- 前記プラズマ発生ガス供給部は、
内部に空間が形成されたリング形状の本体;及び
前記本体に形成されてガスを注入するプラズマ発生ガス注入管;を含むことを特徴とする、請求項5に記載のプラズマ装置。 - 前記プラズマ発生ガス注入管は、前記本体内部空間の円周方向に接するように形成されて、二つのプラズマ発生ガス注入管が互いに180°となるように配置されることを特徴とする、請求項9に記載のプラズマ装置。
- 前記プラズマ発生ガス注入管のガス排出口の直径は、ガス注入口の直径より小さく形成されることを特徴とする、請求項9に記載のプラズマ装置。
- 前記反応チャンバー及び冷却部に備えられた冷却水チャンバーは、ガス気泡形成を防止するために冷却水注入口を冷却水チャンバーの最下端に備えて、冷却水排出口を冷却水チャンバーの最上端に備えることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ装置。
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