JP7346073B2 - Coating mechanism and coating device - Google Patents
Coating mechanism and coating device Download PDFInfo
- Publication number
- JP7346073B2 JP7346073B2 JP2019086214A JP2019086214A JP7346073B2 JP 7346073 B2 JP7346073 B2 JP 7346073B2 JP 2019086214 A JP2019086214 A JP 2019086214A JP 2019086214 A JP2019086214 A JP 2019086214A JP 7346073 B2 JP7346073 B2 JP 7346073B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- needle
- distal end
- mechanism according
- housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
本発明は、塗布機構及び塗布装置に関する。 The present invention relates to a coating mechanism and a coating device.
特許文献1(特開2015-112577号公報)には、塗布機構が記載されている。特許文献1に記載の塗布機構は、塗布針と、塗布針ホルダとを有している。塗布針ホルダは、塗布針の先端が露出するように、塗布針を保持している。
Patent Document 1 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-112577) describes a coating mechanism. The coating mechanism described in
特許文献2(特開2004-317189号公報)には、転写機構が記載されている。特許文献2に記載の転写機構は、複数の転写部材と、保持部材とを有している。保持部材には、複数の孔が形成されている。保持部材は、孔に転写部材が挿入されることにより、転写部材を保持している。
Patent Document 2 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-317189) describes a transfer mechanism. The transfer mechanism described in
特許文献1に記載の塗布機構が有する塗布針の本数は、1本である。そのため、特許文献1に記載の塗布機構は、塗布の高速化に関して、改善の余地がある。特許文献2に記載の転写機構において、保持部材の孔は、転写部材に対して所定の嵌合公差を持つように形成されている。この嵌合公差が大きくなると、転写部材の保持部材に対する摺動が容易になる一方で、転写部材が保持部材に対してガタついてしまうおそれがある。転写部材が保持部材に対してガタつくと、基板に塗布される液体材料のピッチがバラつく。この嵌合公差が小さくなると、転写部材の保持部材に対する摺動不良が生じるおそれがある。
The number of coating needles that the coating mechanism described in
また、特許文献2に記載の転写機構においては、液体材料が塗布される基板の高さ位置が転写部材ごとにバラつくことに関して、特段の考慮がなされていない。
Further, in the transfer mechanism described in
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものである。より具体的には、本発明は、塗布速度の改善、塗布液が塗布される基板の高さ位置やウェル底面の高さ位置がバラつく影響の緩和及び基板に塗布される塗布液のピッチのバラつきの抑制が可能な塗布機構を提供するものである。 The present invention has been made in view of the problems of the prior art as described above. More specifically, the present invention improves the coating speed, alleviates the influence of variations in the height position of the substrate to which the coating liquid is applied and the height position of the well bottom surface, and improves the pitch of the coating liquid applied to the substrate. The present invention provides a coating mechanism that can suppress variations.
本発明の一態様に係る塗布機構は、複数の塗布針と、塗布針を保持する塗布針ホルダとを備える。塗布針は、先端と、先端の反対側の端である基端とを有し、先端が塗布針ホルダから露出するように塗布針ホルダにより保持されている。塗布針ホルダは、筐体と、塗布針が固定された複数の固定部材と、基端から先端に向かう方向における複数の塗布針の変位を個別に吸収する高さ変位吸収機構とを有する。 A coating mechanism according to one aspect of the present invention includes a plurality of coating needles and a coating needle holder that holds the coating needles. The applicator needle has a distal end and a base end opposite to the distal end, and is held by the applicator needle holder so that the distal end is exposed from the applicator needle holder. The coating needle holder includes a housing, a plurality of fixing members to which the coating needles are fixed, and a height displacement absorption mechanism that individually absorbs displacement of the plurality of coating needles in the direction from the proximal end to the distal end.
上記の塗布機構において、塗布針ホルダは、筐体の内部において固定部材を基端から先端に向かう方向に沿って移動可能に支持している直動機構をさらに有していてもよい。 In the above application mechanism, the application needle holder may further include a linear motion mechanism that supports the fixing member movably in the direction from the base end to the distal end inside the housing.
上記の塗布機構は、塗布針により塗布される塗布液が充填される容器をさらに備えていてもよい。容器は、容器の上端を閉塞している蓋と、容器の下端を閉塞している底壁とを有していてもよい。蓋には、塗布針が挿通可能な第1貫通穴が形成されていてもよい。底壁には、塗布針が挿通可能な第2貫通穴が形成されていてもよい。 The coating mechanism described above may further include a container filled with the coating liquid applied by the coating needle. The container may have a lid closing the top end of the container and a bottom wall closing the bottom end of the container. The lid may have a first through hole through which the application needle can be inserted. A second through hole through which a coating needle can be inserted may be formed in the bottom wall.
上記の塗布機構において、塗布針ホルダは、基端から先端に向かう方向に沿って固定部材を付勢する複数の弾性部材をさらに有していてもよい。 In the above application mechanism, the application needle holder may further include a plurality of elastic members that bias the fixing member along the direction from the proximal end to the distal end.
上記の塗布機構において、筐体は、直動機構が取り付けられた第1筐体部分と、第1筐体部分に取り付けられた第2筐体部分とを含んでいてもよい。弾性部材は、一方端において固定部材に取り付けられているとともに、他方端において第2筐体部分に取り付けられていてもよい。第2筐体部分は、第1筐体部分に対する基端から先端に向かう方向における相対的な位置が変更可能に構成されていてもよい。 In the above application mechanism, the housing may include a first housing portion to which the linear motion mechanism is attached, and a second housing portion attached to the first housing portion. The elastic member may be attached to the fixed member at one end and to the second housing portion at the other end. The second housing portion may be configured to be able to change its relative position with respect to the first housing portion in the direction from the proximal end to the distal end.
上記の塗布機構において、塗布針は、先端において、基端から先端に向かう方向に交差する平面を含んでいてもよい。 In the above application mechanism, the application needle may include a plane at the distal end that intersects in the direction from the proximal end to the distal end.
上記の塗布機構において、平面には、基端側に向かって窪む凹部が形成されていてもよい。 In the above application mechanism, a concave portion that is depressed toward the base end may be formed in the plane.
上記の塗布機構において、平面には、基端から先端に向かう方向に沿って突出する凸部が形成されていてもよい。 In the above application mechanism, a convex portion may be formed on the plane to protrude in a direction from the base end to the distal end.
上記の塗布機構において、塗布針は、塗布液をウェルプレートの表面に形成されたウェルに塗布するように構成されていてもよい。隣り合う2つの塗布針の間の間隔は、隣り合う2つのウェルの間の間隔に等しくてもよい。 In the above coating mechanism, the coating needle may be configured to apply the coating liquid to a well formed on the surface of the well plate. The distance between two adjacent application needles may be equal to the distance between two adjacent wells.
本発明の一態様に係る塗布装置は、上記の塗布機構を備える。 A coating device according to one aspect of the present invention includes the coating mechanism described above.
本発明の一態様に係る塗布機構及び塗布装置によると、基板に塗布される塗布液のピッチのバラつきが抑制されるとともに、塗布速度が改善される。 According to the coating mechanism and coating device according to one aspect of the present invention, variation in the pitch of the coating liquid applied to the substrate is suppressed, and the coating speed is improved.
実施形態の詳細を、図面を参照しながら説明する。以下の図面においては、同一又は相当する部分に同一の参照符号を付し、重複する説明は繰り返さない。 Details of the embodiments will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the same or corresponding parts are given the same reference numerals, and overlapping descriptions will not be repeated.
(第1実施形態)
以下に、第1実施形態に係る塗布機構(以下においては、「塗布機構100」とする)の構成を説明する。
(First embodiment)
The configuration of the coating mechanism (hereinafter referred to as "
図1は、塗布機構100の正面図である。図2は、塗布機構100の側面図である。図1及び図2に示されるように、塗布機構100は、架台1と、サーボモータ2と、カム3と、軸受4と、カム連結板5と、可動部6と、弾性部材7と、複数の塗布針8と、塗布針ホルダ9と、複数の容器10とを有している。容器10の数は、塗布針8の数に一致している。
FIG. 1 is a front view of the
サーボモータ2は、本体部21と、軸22とを有している。本体部21は、軸22を中心軸周りに回転させる。軸22の延在方向(軸22の中心軸に沿う方向)を、第1方向DR1という。サーボモータ2は、架台1に取り付けられている。
The
カム3は、軸22に取り付けられている。カム3は、第1面31と、第2面32とを有している。カム3は、第1面31において軸22に取り付けられている。そのため、軸22の回転に伴って、カム3も回転する。第2面32は、第1面31の反対面である。
The
第1面31は、周方向に沿って、第1平坦領域と、スロープ領域と、第2平坦領域とを有している。第1平坦領域においては、第1面31と第2面32との間の距離が一定になっている。第2平坦領域においては、第1面31と第2面32との間の距離が一定になっている。第1平坦領域にある第1面31と第2面32との間の距離は、第2平坦領域にある第1面31と第2面32との間の距離よりも大きくなっている。スロープ領域は、周方向において、第1平坦領域と第2平坦領域との間に位置している。スロープ領域は、第1平坦領域及び第2平坦領域に連なっている。スロープ領域にある第1面31と第2面32との間の距離は、第1領域側から第2領域側に向かうにしたがって、徐々に小さくなっている。
The
軸受4は、軸受4の外周面が第1面31に接するように配置されている。カム連結板5は、一方端と、他方端とを有している。カム連結板5は、一方端において、軸受4に連結されている。
The
可動部6は、カム連結板5の他方端に連結されている。可動部6は、可動ベース61を有している。図3は、塗布針8及び塗布針ホルダ9の図示を省略した塗布機構100の正面図である。図3に示されるように、可動ベース61には、マグネット61a及びマグネット61bが取り付けられている。可動ベース61は、基準面61cと、基準面61dとを有している。可動ベース61には、塗布針ホルダ9が取り付けられる。
The
図2に示されるように、弾性部材7は、一方端において架台1に取り付けられた固定ピンに固定されており、他方端において可動部6に取り付けられた固定ピンに固定されている。弾性部材7は、軸受4が第1面31に押圧されるように、可動部6を付勢している。弾性部材7は、例えばコイルバネである。
As shown in FIG. 2, the
本体部21が軸22を回転させることにより、カム3が回転する。第1面31と第2面32との距離は、周方向に沿って変化しているため、カム3の回転に伴い、第1面31と接触している軸受4の第1方向DR1における位置が変動する。軸受4は、カム連結板5を介して可動部6に連結されている。塗布針ホルダ9は、可動部6(可動ベース61)に取り付けられている。そのため、軸受4の第1方向DR1における位置変動により、塗布針ホルダ9の第1方向DR1における位置が変動する。
When the
塗布針ホルダ9は、筐体91を有している。図4は、筐体91の斜視図である。図4に示されるように、筐体91は、上壁91aと、第1側壁91bと、第2側壁91cと、第3側壁91dと、第4側壁91eとを有している。第1側壁91b及び第2側壁91cは第2方向DR2において互いに対向しており、第3側壁91d及び第4側壁91eは第3方向DR3において互いに対向している。第2方向DR2は、第1方向DR1及び第3方向DR3に直交する方向であり、第3方向DR3は、第1方向DR1及び第2方向DR2に直交する方向である。
The
図5は、筐体91の分解斜視図である。図5に示されるように、筐体91は、ホルダベース91f(第1筐体部分)と、ホルダ蓋91g(第2筐体部分)とを有している。
FIG. 5 is an exploded perspective view of the
ホルダベース91fは、第1側壁91bと、第1起立壁91hと、第2起立壁91iとにより構成されている。第1起立壁91h及び第2起立壁91iは、第1側壁91bから第2側壁91c側へと突出しているとともに、第1方向DR1に沿って延在している。第1起立壁91h及び第2起立壁91iは、第3方向DR3に沿って間隔を空けて配置されている。第1起立壁91hにはネジ穴91haが形成されており、第2起立壁91iにはネジ穴91iaが形成されている。
The
ホルダ蓋91gは、第2側壁91cと、第3側壁91dと、第4側壁91eと、バネ受け部91jとにより構成されている。バネ受け部91jは、第1起立壁91h及び第2起立壁91iの第1方向DR1における端部とともに、上壁91aを構成している。
The
第2側壁91cには、貫通穴91ca及び貫通穴91cbが形成されている。貫通穴91ca及び貫通穴91cbは、第2側壁91cを厚さ方向に貫通している。貫通穴91ca及び貫通穴91cbは、ホルダ蓋91gをホルダベース91fに組み付けた状態において、ネジ穴91ha及びネジ穴91iaにそれぞれ重なる位置に配置されている。ホルダ蓋91gは、ネジ(図示せず)を貫通穴91caに通してネジ穴91haに螺合させるととともに、ネジ(図示せず)を貫通穴91cbに通してネジ穴91iaに螺合させることにより、ホルダベース91fに取り付けられる。
A through hole 91ca and a through hole 91cb are formed in the
貫通穴91caの第1方向DR1における幅は、貫通穴91caの第3方向DR3における幅よりも大きくなっている。貫通穴91caの第1方向DR1における幅は、貫通穴91caの第3方向DR3における幅よりも大きくなっている。貫通穴91caは、例えば、第1方向DR1に沿う長軸を有する楕円形状になっている。貫通穴91cbの第1方向DR1における幅は、貫通穴91cbの第3方向DR3における幅よりも大きくなっている。貫通穴91cbの第1方向DR1における幅は、貫通穴91cbの第3方向DR3における幅よりも大きくなっている。貫通穴91cbは、例えば、第1方向DR1に沿う長軸を有する楕円形状になっている。貫通穴91ca及び貫通穴91cbが上記のような形状を有していることにより、ホルダ蓋91gは、第1方向DR1におけるホルダベース91fに対する相対的な位置を変化させることができる。
The width of the through hole 91ca in the first direction DR1 is larger than the width of the through hole 91ca in the third direction DR3. The width of the through hole 91ca in the first direction DR1 is larger than the width of the through hole 91ca in the third direction DR3. The through hole 91ca has, for example, an elliptical shape with a long axis along the first direction DR1. The width of the through hole 91cb in the first direction DR1 is larger than the width of the through hole 91cb in the third direction DR3. The width of the through hole 91cb in the first direction DR1 is larger than the width of the through hole 91cb in the third direction DR3. The through hole 91cb has, for example, an elliptical shape with a long axis along the first direction DR1. Since the through hole 91ca and the through hole 91cb have the above shapes, the
図6は、塗布針ホルダ9の背面図である。図6に示されるように、第1側壁91bの第2側壁91cとは反対側の面には、マグネット91k及びマグネット91lが取り付けられている。筐体91は、マグネット91kをマグネット61aに吸着させるとともに、マグネット91lをマグネット61bに吸着させることにより、可動ベース61に取り付けられている。これにより、筐体91と可動ベース61との取り付けを簡易に行うことができる。なお、筐体91は、ボルト及びナット等を用いて可動ベース61に取り付けられてもよい。
FIG. 6 is a rear view of the
筐体91が可動ベース61に取り付けられた状態において、上壁91aは基準面61cに接しており、第3側壁91dは基準面61dに接している。上壁91aが基準面61cに接しているとともに、第3側壁91dが基準面61dに接している状態において、マグネット61aは、マグネット91kと正対する位置よりも基準面61c側にずれた位置に配置されており、マグネット61bは、マグネット91lと正対する位置よりも基準面61d側にずれた位置に配置されている。これにより、上壁91a及び第3側壁91dが基準面61c及び基準面61dにそれぞれ押し付けられる方向に上記の各マグネットの吸引力が作用するため、可動ベース61に対する筐体91の位置決め精度を高めることができる。
When the
図7は、ホルダ蓋91gの図示を省略した塗布針ホルダ9の正面図である。図7に示されるように、塗布針ホルダ9は、複数の固定部材92と、複数の直動機構93と、複数の弾性部材94とをさらに有している。固定部材92の数、直動機構93の数及び弾性部材94の数は、塗布針8の数に等しい。すなわち、塗布針8ごとに、固定部材92、直動機構93及び弾性部材94が設けられている。
FIG. 7 is a front view of the
固定部材92には、塗布針8が固定されている。塗布針8は、先端8aと、基端8bとを有している。基端8bから先端8aに向かう方向は、第1方向DR1に沿っている。塗布針8は、固定部材92に固定されることにより、先端8aが塗布針ホルダ9から露出するように塗布針ホルダ9に保持されている。
The
直動機構93は、筐体91の内部に配置されている。直動機構93は、第1側壁91bの第2側壁91cに対向している面に取り付けられている。直動機構93は、第3方向DR3に沿って間隔を空けて配置されている。直動機構93は、第1起立壁91hと第2起立壁91iとの間に配置されている。直動機構93は、固定部材92を第1方向DR1に沿って移動可能に支持している。固定部材92の第1方向DR1以外の方向への移動は、直動機構93により規制されている。直動機構93は、例えば、リニアガイドである。
The
弾性部材94は、一方端において固定部材92に取り付けられており、他方端においてバネ受け部91jに取り付けられている。弾性部材94は、固定部材92を基端8bから先端8aに向かう方向に沿って付勢している。弾性部材94は、塗布液が塗布される基板SUBの第1方向DR1における位置の変動を吸収する高さ変位吸収機構として機能している。第1方向DR1におけるホルダ蓋91gのホルダベース91fに対する相対的な位置は変化させることにより、弾性部材94による付勢力を調整することができる。弾性部材94の付勢力は、固定部材92の位置を保持可能な限りにおいて小さい方が好ましい。弾性部材94は、例えばコイルバネである。
The
上記においては、塗布針ホルダ9が保持している塗布針8の本数が4本である場合を例として説明したが、塗布針8の本数はこれに限られない。塗布針ホルダ9は、第3方向DR3に沿って配列された塗布針8の組を、第2方向DR2に沿って複数組保持していてもよい。
In the above description, an example has been described in which the number of
容器10は、第1方向DR1において、塗布針ホルダ9よりも基板SUBに近い位置に配置されている。容器10には、塗布液が充填されている。容器10の上端は、蓋で閉塞されている。容器10の蓋には、貫通穴が形成されており、当該貫通穴には、塗布針8が通される。塗布液は、基板SUBに回路パターンを描画する場合、導電性粒子を含有するペーストである。塗布液は、細胞又はたんぱく質を含む溶液であってもよい。基板SUBは、表面に複数のウェル(底有穴)が形成されたウェルプレートであってもよい。ウェルプレートの表面には、例えば、6ないし384個のウェルが格子状に整列して形成されている。ウェルプレートの具体例は、マイクロウェルプレート(Thermo Fisher Scientific Inc.の登録商標)である。なお、ウェルプレートにおいては、ウェル底面の第1方向DR1における位置が、ウェルごとにバラついていてもよい。なお、基板SUBとしてウェルプレートが用いられる場合、隣り合う2つのウェルの間の間隔は、隣り合う2つの塗布針8の間に等しいことが好ましい。容器10の下端は、底壁により閉塞されている。サーボモータ2を動作させることにより、塗布液が付着した先端8aが容器10の底壁に形成された貫通穴から突出する。なお、容器10の底壁に形成された貫通穴の径は、塗布液の表面張力により塗布液が流出しない程度の寸法に設定される。
容器10は、塗布針8ごとに配置されている。各々の容器10には、互いに異なる塗布液が充填されている。各々の容器10には、同一の塗布液が充填されていてもよい。容器10は、一体に形成されていてもよい。
A
以下に、塗布機構100の効果を説明する。
塗布機構100において、塗布針ホルダ9は、複数の塗布針8を保持している。そのため、塗布機構100によると、複数箇所に一括して塗布液を塗布することができるため、塗布速度が改善される。
The effects of the
In the
塗布液が塗布される基板SUBの第1方向DR1における位置は、塗布針8ごとにバラつく場合がある。塗布機構100においては、塗布針8ごとに高さ位置吸収機構(弾性部材94)が設けられているため、塗布液が塗布される基板SUBの第1方向DR1における位置の変動を塗布針8ごとに吸収することができる。
The position of the substrate SUB to which the coating liquid is applied in the first direction DR1 may vary depending on the
塗布機構100において、塗布針8が固定された固定部材92は、直動機構93により第1方向DR1に沿ってガイドされ、第1方向DR1以外の方向への移動が規制されている。そのため、塗布機構100によると、塗布針8のガタつき及び当該ガタつきに起因した塗布液が塗布されるピッチのバラつきが抑制される。
In the
塗布機構100において、塗布針ホルダ9は、弾性部材94を有している。弾性部材94は、基端8bから先端8aに向かう方向に沿って固定部材92を付勢しているため、サーボモータ2を動作させることにより塗布針ホルダ9を上下動させた際に、固定部材92(塗布針8)の塗布針ホルダ9に対する相対的な位置が変動することを抑制できる。さらに、塗布針8が基板SUBに接触した際に弾性部材94が弾性変形することにより、塗布針8に過大な応力が加わることを抑制できる。
In the
塗布機構100においては、第1方向DR1におけるホルダ蓋91gのホルダベース91fに対する相対的な位置が調整可能になっているため、弾性部材94による固定部材92に対する付勢力を最適化することができる。なお、弾性部材94による固定部材92に対する付勢力は、塗布針8が基板SUBに接触した際に塗布針8に加わる応力に影響することになる。
In the
塗布機構100においては、容器10が蓋を有しているため、塗布液の乾燥が抑制されている。塗布機構100は、塗布針8ごとに容器10を有しているため、異なる塗布液が互いに混合してしまうことが抑制されている。
In the
以下に、第1実施形態に係る塗布装置(以下においては、「塗布装置200」とする)の構成を説明する。
The configuration of the coating apparatus (hereinafter referred to as "
図8は、塗布装置200の斜視図である。図8に示されるように、塗布装置200は、塗布機構100と、第1ステージ210と、第2ステージ220と、第3ステージ230と、光学系240と、カメラ250と、制御用コンピュータ260と、モニタ270と、操作パネル280とを有している。
FIG. 8 is a perspective view of the
塗布機構100は、第1ステージ210に取り付けられている。これにより、塗布機構100は、第1方向DR1に沿って移動可能になっている。第2ステージ220及び第3ステージ230には、基板SUBが載置されている。第2ステージ220及び第3ステージ230は、それぞれ、基板SUBを第2方向DR2及び第3方向DR3に移動させることが可能である。
The
光学系240は、基板SUB上の塗布位置を観察する。カメラ250は、光学系240により観察される基板SUB上の画像を、電気信号に変換する。カメラ250は、例えばCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等である。
The
制御用コンピュータ260は、塗布機構100、第1ステージ210、第2ステージ220、第3ステージ230、光学系240及びカメラ250の制御を行う。制御用コンピュータ260は、制御プログラムの塗布速度指令値に基づいてサーボモータ2の回転速度を決定することにより、所定の速度で塗布針8を上下動させる。塗布針8の上下動によって、塗布動作が行われる。制御用コンピュータ260が上位の制御システム(図示せず)と通信している場合、上記の塗布速度指令値は、当該上位の制御システムから受け取ってもよい。制御用コンピュータ260は、塗布液の種類に応じたパラメータを記憶部に保存しておき、指定された塗布液の種類と塗布量又は塗布寸法とに応じて、上記の塗布速度指令値を算出してもよい。
The
モニタ270は、カメラ250により取得された画像信号及び制御用コンピュータ260の画像を表示する。操作パネル280は、制御用コンピュータ260への指令が入力可能に構成されている。
The
塗布装置200を用いて回路パターンを基板SUB上に描画する場合、第1に、第2ステージ220及び第3ステージ230を動作させることにより、回路パターンが描画される基板SUB上の領域が光学系240の直下に位置するように基板SUBを移動させる。第2に、光学系240により描画開始位置を観察・確認することにより、描画開始位置を決定する。
When drawing a circuit pattern on the substrate SUB using the
第3に、決定された描画開始位置を基準として、塗布針8を容器10から突出させた際に先端8aが基板SUBに接触する位置まで、第1ステージ210を動作させて塗布機構100を下降させる。なお、塗布針8の下降端位置と光学系240のフォーカス位置との関係は、予め制御用コンピュータ260に記憶されているため、光学系240のフォーカス位置を基準として、塗布機構100の下降量を決定すればよい。第4に、サーボモータ2を動作させて塗布針8を容器10から突出させることにより、先端8aに付着した塗布液を基板SUBに接触させる。
Third, based on the determined drawing start position, the
連続して塗布を行う場合には、次の描画位置が塗布機構100の直下に位置するように第2ステージ220及び第3ステージ230を動作させるとともに、上記の第4の動作を行う。以上の動作が繰り返されることにより、基板SUB上に塗布材料を用いて回路パターンが描画される。なお、全ての塗布が完了した後、第1ステージ210を動作させることにより、塗布機構100が上昇される。
When coating is performed continuously, the
回路パターンを描画する面積が広く、描画途中での基板SUBの表面における高さの変動が大きい場合、必要に応じて、描画途中で光学系240のフォーカス位置を確認し、塗布針8の位置を修正しながら塗布動作を継続してもよい。この際のフォーカス位置の調整は、画像処理を用いて自動で行ってもよい。レーザセンサ等を用いて常に基板SUBの表面の高さを検出することにより、リアルタイムで塗布針8の位置調整を行ってもよい。
If the area on which the circuit pattern is drawn is large and the height of the surface of the substrate SUB varies greatly during the drawing, the focus position of the
上記においては、基板SUBに回路パターンを描画する例について説明を行ったが、基板SUBに複数のウェルが形成されている(基板SUBがウェルプレートである)場合、当該ウェルのピッチと隣り合う2つの塗布針8の間隔を一致させることにより、一回の塗布動作で塗布針8の本数に等しい数のウェルに対して一括して塗布を行うことができる。
In the above, an example in which a circuit pattern is drawn on the substrate SUB has been described, but if a plurality of wells are formed on the substrate SUB (the substrate SUB is a well plate), two wells adjacent to the pitch of the well By matching the intervals between the two
(第2実施形態)
以下に、第2実施形態に係る塗布機構(以下においては、「塗布機構300」とする)の構成を説明する。ここでは、塗布機構100の構成と異なる点を主に説明し、重複する説明は繰り返さない。
(Second embodiment)
The configuration of the coating mechanism (hereinafter referred to as "coating mechanism 300") according to the second embodiment will be described below. Here, points that are different from the configuration of the
図9は、塗布機構300における塗布針8の先端8a近傍の拡大図である。図9に示されるように、塗布針8は、先端8aにおいて、平面8aaを有している。平面8aaは、第1方向DR1(すなわち、基端8bから先端8aに向かう方向)に交差している。平面8aaは、第1方向DR1に直交していることが好ましい。平面8aaは、例えば円形形状を有している。平面8aaの直径は、例えば50μm以上330μm以下である。
FIG. 9 is an enlarged view of the vicinity of the
<第1変形例>
図10は、塗布機構300の第1変形例における塗布針8の先端8a近傍の拡大図である。図10に示されるように、平面8aaには、凹部8abが形成されている。凹部8abは、基端8bに向かって窪んでいる。
<First modification example>
FIG. 10 is an enlarged view of the vicinity of the
<第2変形例>
図11は、塗布機構300の第2変形例における塗布針8の先端8a近傍の拡大図である。図11に示されるように、平面8aaには、凸部8acが形成されている。凸部8acは、基端8bから先端8aに向かう方向に沿って平面8aaから突出している。
<Second modification example>
FIG. 11 is an enlarged view of the vicinity of the
(第3実施形態)
以下に、第3実施形態に係る塗布機構(以下においては、「塗布機構400」とする)の構成を説明する。ここでは、塗布機構100の構成と異なる点を主に説明し、重複する説明は繰り返さない。
(Third embodiment)
The configuration of a coating mechanism (hereinafter referred to as "coating mechanism 400") according to the third embodiment will be described below. Here, points that are different from the configuration of the
図12は、塗布機構400における筐体91の分解斜視図である。図12に示されるように、ホルダベース91fは、上壁91aと、第1側壁91bと、第1起立壁91hと、第2起立壁91iとにより構成されている。ホルダ蓋91gは、第2側壁91cと、第3側壁91dと、第4側壁91eとにより構成されている。
FIG. 12 is an exploded perspective view of the
図13は、ホルダ蓋91gの図示を省略した塗布機構300における塗布針ホルダ9の正面図である。図13に示されるように、塗布機構300の塗布針ホルダ9においては、弾性部材94の他方端が、バネ受けネジ95により、上壁91aに取り付けられている。弾性部材94による固定部材92に対する付勢力は、バネ受けネジ95の締め付け状態を調整することにより、調整される。
FIG. 13 is a front view of the
以上のように本発明の実施形態について説明を行ったが、上述の実施形態を様々に変形することも可能である。また、本発明の範囲は、上述の実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更を含むことが意図される。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments described above can be modified in various ways. Moreover, the scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments. The scope of the present invention is indicated by the claims, and is intended to include all changes within the meaning and scope equivalent to the claims.
上記の実施形態は、塗布機構及び当該塗布機構を有する塗布装置に特に有利にてきようされるものである。 The above-described embodiments are particularly advantageously applied to a coating mechanism and a coating device having the coating mechanism.
1 架台、2 サーボモータ、3 カム、4 軸受、5 カム連結板、6 可動部、7 弾性部材、8 塗布針、8a 先端、8aa 平面、8ab 凹部、8b 基端、9 塗布針ホルダ、10 容器、21 本体部、22 軸、31 第1面、32 第2面、61 可動ベース、61a,61b マグネット、61c,61d 基準面、91 筐体、91a 上壁、91b 第1側壁、91c 第2側壁、91ca,91cb 貫通穴、91d 第3側壁、91e 第4側壁、91f ホルダベース、91g ホルダ蓋、91h 第1起立壁、91ha ネジ穴、91i 第2起立壁、91ia ネジ穴、91j バネ受け部、91k,91l マグネット、92 固定部材、93 直動機構、94 弾性部材、95 バネ受けネジ、100 塗布機構、200 塗布装置、210 第1ステージ、220 第2ステージ、230 第3ステージ、240 光学系、250 カメラ、260 制御用コンピュータ、270 モニタ、280 操作パネル、300,400 塗布機構、DR1 第1方向、DR2 第2方向、DR3 第3方向、SUB 基板。 1 frame, 2 servo motor, 3 cam, 4 bearing, 5 cam connection plate, 6 movable part, 7 elastic member, 8 coating needle, 8a tip, 8aa plane, 8ab recess, 8b base end, 9 coating needle holder, 10 container , 21 main body, 22 shaft, 31 first surface, 32 second surface, 61 movable base, 61a, 61b magnet, 61c, 61d reference surface, 91 housing, 91a upper wall, 91b first side wall, 91c second side wall , 91ca, 91cb through hole, 91d third side wall, 91e fourth side wall, 91f holder base, 91g holder lid, 91h first standing wall, 91ha screw hole, 91i second standing wall, 91ia screw hole, 91j spring receiving part, 91k, 91l magnet, 92 fixed member, 93 linear motion mechanism, 94 elastic member, 95 spring receiving screw, 100 coating mechanism, 200 coating device, 210 first stage, 220 second stage, 230 third stage, 240 optical system, 250 camera, 260 control computer, 270 monitor, 280 operation panel, 300, 400 coating mechanism, DR1 first direction, DR2 second direction, DR3 third direction, SUB substrate.
Claims (9)
前記塗布針を保持する塗布針ホルダとを備え、
前記塗布針は、先端と、前記先端の反対側の端である基端とを有し、前記先端が前記塗布針ホルダから露出するように前記塗布針ホルダにより保持されており、
前記塗布針ホルダは、筐体と、前記塗布針が固定された複数の固定部材と、前記基端から前記先端に向かう方向における複数の前記塗布針の変位を個別に吸収する高さ変位吸収機構とを有し、
前記塗布針により塗布される塗布液が充填される容器をさらに備え、
前記容器は、前記容器の上端を閉塞している蓋と、前記容器の下端を閉塞している底壁とを有し、
前記蓋には、前記塗布針が挿通可能な第1貫通穴が形成されており、
前記底壁には、前記塗布針が挿通可能な第2貫通穴が形成されている、塗布機構。 multiple application needles,
and a coating needle holder that holds the coating needle,
The applicator needle has a distal end and a proximal end opposite to the distal end, and is held by the applicator needle holder such that the distal end is exposed from the applicator needle holder,
The coating needle holder includes a housing, a plurality of fixing members to which the coating needles are fixed, and a height displacement absorption mechanism that individually absorbs displacement of the plurality of coating needles in a direction from the base end to the distal end. and has
further comprising a container filled with the coating liquid applied by the coating needle,
The container has a lid that closes an upper end of the container, and a bottom wall that closes a lower end of the container,
A first through hole is formed in the lid, through which the applicator needle can be inserted;
A coating mechanism, wherein a second through hole through which the coating needle can be inserted is formed in the bottom wall.
前記弾性部材は、一方端において前記固定部材に取り付けられているとともに、他方端において前記第2筐体部分に取り付けられており、
前記第2筐体部分は、前記第1筐体部分に対する前記基端から前記先端に向かう方向における相対的な位置が変更可能に構成されている、請求項3に記載の塗布機構。 The housing includes a first housing portion to which the linear motion mechanism is attached, and a second housing portion attached to the first housing portion,
The elastic member is attached to the fixed member at one end and attached to the second housing portion at the other end,
The coating mechanism according to claim 3 , wherein the second housing portion is configured to be able to change a relative position with respect to the first housing portion in a direction from the base end toward the distal end.
隣り合う2つの前記塗布針の間の間隔は、隣り合う2つの前記ウェルの間の間隔に等しい、請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の塗布機構。 The coating needle is configured to apply a coating liquid to a well formed on a surface of a well plate,
The coating mechanism according to any one of claims 1 to 7, wherein the spacing between two adjacent coating needles is equal to the spacing between two neighboring wells.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019086214A JP7346073B2 (en) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | Coating mechanism and coating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019086214A JP7346073B2 (en) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | Coating mechanism and coating device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020179378A JP2020179378A (en) | 2020-11-05 |
JP7346073B2 true JP7346073B2 (en) | 2023-09-19 |
Family
ID=73022907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019086214A Active JP7346073B2 (en) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | Coating mechanism and coating device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7346073B2 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000015154A (en) | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Fujitsu Ten Ltd | Transfer pin and transfer of adhesive |
JP2006276350A (en) | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Toppan Printing Co Ltd | Needle for applying correction fluid, and method for correcting color filter |
JP2018140336A (en) | 2017-02-27 | 2018-09-13 | Ntn株式会社 | Liquid coating unit and liquid coating device |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04247256A (en) * | 1991-01-31 | 1992-09-03 | Toyoda Gosei Co Ltd | Coating jig |
JPH0866650A (en) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Transfer head |
JPH11276154A (en) * | 1998-03-30 | 1999-10-12 | Takahisa Matsue | Simultaneous transfer apparatus for sample |
-
2019
- 2019-04-26 JP JP2019086214A patent/JP7346073B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000015154A (en) | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Fujitsu Ten Ltd | Transfer pin and transfer of adhesive |
JP2006276350A (en) | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Toppan Printing Co Ltd | Needle for applying correction fluid, and method for correcting color filter |
JP2018140336A (en) | 2017-02-27 | 2018-09-13 | Ntn株式会社 | Liquid coating unit and liquid coating device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020179378A (en) | 2020-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6758085B2 (en) | Apparatus for measuring a surface profile | |
KR101819226B1 (en) | Spectacle frame shape measuring apparatus | |
JP2802317B2 (en) | Micro manipulator | |
US10404918B2 (en) | Translational driving apparatus and electronic apparatus using this | |
JP7346073B2 (en) | Coating mechanism and coating device | |
US20230151478A1 (en) | Apparatus for accommodating an article in a vacuum-coating installation | |
JP2009536332A (en) | Measuring instrument for measuring surface properties | |
JP7469823B2 (en) | Gripper Module | |
JP2005049197A (en) | Nozzle tip position measuring device and spotting device using it | |
CN105700108A (en) | Piezoelectric ceramic micro actuator for controlling vibration of optical mirror | |
US4484854A (en) | Robotic height sensor in laterally compliant probe | |
JP6147884B2 (en) | Lens drive device | |
JP6361729B2 (en) | Aspherical eccentricity measurement method and shape analysis method | |
US11117755B2 (en) | Electronic component handler, electronic component transport unit, and electronic component tester | |
JP5927235B2 (en) | Sample holder | |
JP6837392B2 (en) | Manual actuator | |
CN114486204B (en) | Collimation objective lens adjusting mechanism and objective lens testing system | |
JP4464643B2 (en) | Microscope device and control method of microscope device | |
KR102373182B1 (en) | An apparatus for controlling a globular object | |
US11121113B2 (en) | Bonding apparatus incorporating variable force distribution | |
JP2005127785A (en) | Hardness tester | |
JP2003161617A (en) | Laser ink marking device and method and device for adjusting the same | |
JPH0411196Y2 (en) | ||
JPS6325504A (en) | Position detector | |
JP2005091866A (en) | Microscope stage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220329 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230620 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230816 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7346073 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |