JP7328747B2 - Ceramic electronic component and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、セラミック電子部品及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a ceramic electronic component and a manufacturing method thereof.

配線基板に実装されるセラミック電子部品には様々なタイプのものがある。なかでも、積層セラミックコンデンサは、セラミックの誘電体層と内部電極層とを交互に積層した構造を有しており、小型で大容量のコンデンサを実現できる。積層セラミックコンデンサは、例えばセラミックのグリーンシートの上にスクリーン印刷で導電パターンを印刷し、その導電パターンの周囲のグリーンシートの上にスクリーン印刷で誘電体ペーストを印刷し、それを焼成することにより形成される。 There are various types of ceramic electronic components mounted on wiring boards. Among them, a laminated ceramic capacitor has a structure in which ceramic dielectric layers and internal electrode layers are alternately laminated, and can realize a compact capacitor with a large capacity. A multilayer ceramic capacitor is formed by, for example, printing a conductive pattern on a ceramic green sheet by screen printing, printing a dielectric paste on the green sheet around the conductive pattern by screen printing, and firing it. be done.

ところで、上記した導電パターンは、印刷時に周縁部が盛り上がり、周縁部の膜厚が厚くなることが知られている(特許文献1)。このような現象はサドル現象とも呼ばれる。また、上記のように誘電体ペーストを印刷する際の位置ずれにより、誘電体ペーストが導電パターンの上に乗り上げてしまい、焼成後の誘電体層の平坦性が悪くなることも知られている(特許文献2)。 By the way, it is known that the conductive pattern described above has a bulge at the peripheral portion during printing, and the thickness of the peripheral portion increases (Patent Document 1). Such a phenomenon is also called a saddle phenomenon. In addition, it is also known that misalignment during printing of the dielectric paste as described above causes the dielectric paste to run over the conductive pattern, degrading the flatness of the dielectric layer after firing ( Patent document 2).

特開2006-335045号公報JP 2006-335045 A 特開2000-311831号公報JP-A-2000-311831

各層の厚みにバラツキが生じると、積層セラミックコンデンサの信頼性が低下するおそれがある。 Variation in the thickness of each layer may reduce the reliability of the multilayer ceramic capacitor.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、信頼性を向上させることができるセラミック電子部品とその製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a ceramic electronic component capable of improving reliability and a method of manufacturing the same.

本発明に係るセラミック電子部品は、複数の内部電極層がセラミックを主成分とする誘電体層を介して積層された積層チップと、前記複数の内部電極層のうちの少なくとも半数以上に形成されたスリットとを有し、上面視において、異なる層における前記スリットの位置が5μm以内の範囲で揃っていることを特徴とする。 A ceramic electronic component according to the present invention comprises a laminated chip in which a plurality of internal electrode layers are laminated via a dielectric layer containing ceramic as a main component, and at least half or more of the plurality of internal electrode layers. and slits, and the positions of the slits in different layers are uniform within a range of 5 μm when viewed from above.

上記セラミック電子部品において、前記複数の内部電極層の各々は上面視で長方形であると共に、上面視において前記複数の内部電極層の各々の長辺が揃えられており、かつ、前記長辺に沿って前記スリットが形成されてもよい。 In the above ceramic electronic component, each of the plurality of internal electrode layers has a rectangular shape when viewed from above, long sides of each of the plurality of internal electrode layers are aligned when viewed from above, and The slit may be formed by

上記セラミック電子部品において、前記スリットは、前記内部電極層を分断しないように形成されてもよい。 In the above ceramic electronic component, the slits may be formed so as not to divide the internal electrode layers.

上記セラミック電子部品において、前記内部電極層は、前記スリットによって複数の電極片に分けられており、各々の前記電極片に接続された外部電極を更に有してもよい。 In the above ceramic electronic component, the internal electrode layer may be divided into a plurality of electrode pieces by the slits, and may further have an external electrode connected to each of the electrode pieces.

上記セラミック電子部品において、前記積層チップの上面の中心から前記積層チップの短手方向に延びる第1の仮想線の下に、前記短手方向に延びる第2の仮想線を前記第1の仮想線から前記積層チップの厚みの1%の間隔をおいて引いたときに、前記第2の仮想線が前記積層チップの上面と交わる二点間の距離が、前記内部電極層の前記短手方向の幅以上であってもよい。 In the above ceramic electronic component, a second imaginary line extending in the transverse direction is positioned below a first imaginary line extending in the transverse direction of the laminated chip from the center of the upper surface of the laminated chip. , the distance between two points at which the second imaginary line intersects the upper surface of the laminated chip is the width of the internal electrode layer in the lateral direction. It may be greater than or equal to the width.

本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、セラミックを主成分とするグリーンシートの表面に印刷法で導電パターンを形成する工程と、前記グリーンシートと前記導電パターンとを交互に複数積層してなる積層体を形成する工程と、前記積層体を加圧することにより、前記グリーンシートと前記導電パターンの各々を圧着する工程と、前記積層体を焼成することにより、前記グリーンシートを誘電体層にすると共に、前記導電パターンを内部電極層にする工程とを有し、前記積層体に含まれる複数の導電パターンの少なくとも半数以上の前記導電パターンを形成する工程において、前記導電パターンにスリットを形成することを特徴とする。 A method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention includes a step of forming a conductive pattern on the surface of a green sheet containing ceramic as a main component by a printing method, and alternately laminating a plurality of the green sheets and the conductive pattern. forming a laminate; pressing the laminate to press each of the green sheets and the conductive patterns; and firing the laminate to form the green sheets into dielectric layers. and forming a slit in the conductive pattern in the step of forming at least half or more of the plurality of conductive patterns included in the laminate in the step of forming the conductive pattern as an internal electrode layer. characterized by

上記セラミック電子部品の製造方法において、前記導電パターンの周囲の前記グリーンシートの上に、前記セラミックを含むパターンを形成する工程を更に有してもよい。 The method for manufacturing a ceramic electronic component may further include the step of forming a pattern containing the ceramic on the green sheet around the conductive pattern.

上記セラミック電子部品の製造方法において、前記導電パターンを形成する工程において、前記導電パターンを上面視で長方形に形成すると共に、前記長方形の長辺に沿って前記スリットを形成し、前記積層体を形成する工程において、上面視において複数の前記導電パターンの各々の長辺を揃えてもよい。 In the method for manufacturing a ceramic electronic component, in the step of forming the conductive pattern, the conductive pattern is formed into a rectangle when viewed from above, and the slits are formed along the long sides of the rectangle to form the laminate. In the step of forming, long sides of the plurality of conductive patterns may be aligned when viewed from above.

上記セラミック電子部品の製造方法において、前記導電パターンを形成する工程において、前記導電パターンを分断しないように前記スリットを形成してもよい。 In the method for manufacturing a ceramic electronic component, in the step of forming the conductive pattern, the slits may be formed so as not to divide the conductive pattern.

本発明によれば、セラミック電子部品の信頼性を向上させることができる。 According to the present invention, the reliability of ceramic electronic components can be improved.

(a)~(c)は、調査に使用した積層セラミックコンデンサの製造途中の断面図(その1)である。(a) to (c) are cross-sectional views (part 1) of a multilayer ceramic capacitor used in the investigation during manufacture. (a)、(b)は、調査に使用した積層セラミックコンデンサの製造途中の断面図(その2)である。(a) and (b) are cross-sectional views (part 2) of a multilayer ceramic capacitor used in the investigation during manufacture. (a)、(b)は、調査に使用した積層セラミックコンデンサの製造途中の分解斜視図である。(a) and (b) are exploded perspective views of a laminated ceramic capacitor used in the investigation during manufacture. 調査に使用した積層セラミックコンデンサの導電パターンの上面図である。FIG. 4 is a top view of a conductive pattern of a laminated ceramic capacitor used for investigation; 調査に使用した積層セラミックコンデンサにおいて、逆パターンと導電パターンとが位置ずれをした場合のシートの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a sheet in the case where the reverse pattern and the conductive pattern are misaligned in the multilayer ceramic capacitor used for the investigation; (a)~(c)は、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造途中の断面図(その1)である。1(a) to 1(c) are cross-sectional views (part 1) of a laminated ceramic capacitor according to the present embodiment during manufacture. (a)、(b)は、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造途中の断面図(その2)である。(a) and (b) are cross-sectional views (part 2) of the laminated ceramic capacitor according to the present embodiment during manufacture. 本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造途中の分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of the laminated ceramic capacitor according to the present embodiment, which is in the middle of manufacturing; 本実施形態に係る積層セラミックコンデンサを製造する際のキャリアフィルムの上面図である。FIG. 4 is a top view of a carrier film when manufacturing the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment; (a)は、本実施形態において内部電極層を印刷するときに使用するスクリーン印刷版の上面図であり、(b)は(a)のIV-IV線に沿う断面図である。(a) is a top view of a screen printing plate used when printing internal electrode layers in this embodiment, and (b) is a cross-sectional view taken along line IV-IV of (a). 図8(b)のVI-VI線に沿う断面図である。FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 8B; 本実施形態に係る積層セラミックコンデンサにおける各内部電極層の配置を示す斜視図である。3 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers in the multilayer ceramic capacitor according to the embodiment; FIG. (a)は、本実施形態において位置ずれによって導電パターンの上に逆パターンが乗り上げた場合の拡大断面図であり、(b)は、この状態で加圧をしたときの拡大断面図である。(a) is an enlarged cross-sectional view when a reverse pattern runs over the conductive pattern due to positional deviation in this embodiment, and (b) is an enlarged cross-sectional view when pressure is applied in this state. 調査で使用した積層チップの模式断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a laminated chip used in the investigation; 本実施形態の第1変形例に係るシートの上面図である。FIG. 10 is a top view of a seat according to a first modified example of the present embodiment; 本実施形態の第1変形例で使用するスクリーン版の上面図である。FIG. 10 is a top view of a screen plate used in a first modified example of the present embodiment; (a)は、本実施形態の第1変形例で使用する第1のスクリーン版の上面図であり、(b)は、本実施形態の第1変形例で使用する第2のスクリーン版の上面図である。(a) is a top view of a first screen plate used in the first modified example of the present embodiment, and (b) is a top view of a second screen plate used in the first modified example of the present embodiment. It is a diagram. 本実施形態の第1変形例に係る導電パターンを切断線に沿って切断し、更に焼成をして得られた内部電極層の上面図である。FIG. 10 is a top view of an internal electrode layer obtained by cutting the conductive pattern according to the first modified example of the present embodiment along the cutting line and then firing the cut conductive pattern. 本実施形態の第1変形例に係る積層セラミックコンデンサにおける各内部電極層の配置を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers in a multilayer ceramic capacitor according to a first modified example of the present embodiment; 本実施形態の第1変形例に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a laminated ceramic capacitor according to a first modified example of the present embodiment; (a)は、本実施形態の第2変形例に係るシートの上面図であり、(b)は、本実施形態の第2変形例に係る導電パターンを切断線に沿って切断し、更に焼成をして得られた内部電極層の上面図である。(a) is a top view of a sheet according to a second modification of the present embodiment, and (b) is a sheet obtained by cutting a conductive pattern according to the second modification of the present embodiment along a cutting line and baking the sheet. 2 is a top view of an internal electrode layer obtained by . 本実施形態の第2変形例に係る積層セラミックコンデンサにおける各内部電極層の配置を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers in a multilayer ceramic capacitor according to a second modification of the embodiment; 本実施形態の第2変形例に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a laminated ceramic capacitor according to a second modified example of the present embodiment; 本実施形態の第3変形例に係る積層セラミックコンデンサにおける各内部電極層の配置を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers in a multilayer ceramic capacitor according to a third modification of the embodiment;

本実施形態の説明に先立ち、本願発明者が調査した事項について説明する。 Prior to the description of this embodiment, the matters investigated by the inventors of the present application will be described.

図1(a)~(c)及び図2(a)、(b)は、その調査に使用した積層セラミックコンデンサの製造途中の断面図であり、図3(a)、(b)はその分解斜視図である。 FIGS. 1(a) to 1(c) and FIGS. 2(a) and (b) are cross-sectional views of the multilayer ceramic capacitor used in the investigation during manufacturing, and FIGS. 3(a) and 3(b) are exploded It is a perspective view.

まず、図1(a)に示すように、樹脂製のキャリアフィルム1の上にダイコータで誘電体スラリを塗布し、それを乾燥させてグリーンシート2aを形成する。そして、そのグリーンシート2aの上に、導電パターン3としてスクリーン印刷により導電ペーストを印刷する。導電ペーストの材料は特に限定されないが、この例ではニッケル粉末、誘電体粉末、バインダ、及び溶剤を混練してなる導電ペーストを使用する。このとき、サドル現象によって導電パターン3の周縁に凸部3aが形成されることになる。 First, as shown in FIG. 1(a), dielectric slurry is applied on a resin carrier film 1 by a die coater and dried to form a green sheet 2a. Then, a conductive paste is printed as the conductive pattern 3 on the green sheet 2a by screen printing. The material of the conductive paste is not particularly limited, but in this example, a conductive paste obtained by kneading nickel powder, dielectric powder, binder and solvent is used. At this time, a convex portion 3a is formed on the peripheral edge of the conductive pattern 3 due to the saddle phenomenon.

図4は、導電パターン3の上面図である。なお、上記した図1(a)は図4のI-I線に沿う断面図に相当する。図4に示されるように導電パターン3は上面視で長方形である。 FIG. 4 is a top view of the conductive pattern 3. FIG. Note that FIG. 1(a) described above corresponds to a cross-sectional view taken along line II in FIG. As shown in FIG. 4, the conductive pattern 3 is rectangular in top view.

続いて、図1(b)に示すように、導電パターン3の周囲のグリーンシート2aの上にスクリーン印刷により逆パターン2bを形成し、グリーンシート2aと導電パターン3との段差を逆パターン2bで埋める。例えば、逆パターン2bの主成分を、グリーンシート2aの主成分と同じ材料とする。その後に、図1(c)に示すように、キャリアフィルム1からグリーンシート2aを剥離し、パターン形成シート4を得る。 Subsequently, as shown in FIG. 1B, a reverse pattern 2b is formed on the green sheet 2a around the conductive pattern 3 by screen printing, and the step between the green sheet 2a and the conductive pattern 3 is formed by the reverse pattern 2b. fill in. For example, the main component of the reverse pattern 2b is the same material as the main component of the green sheet 2a. Thereafter, as shown in FIG. 1(c), the green sheet 2a is peeled off from the carrier film 1 to obtain a patterned sheet 4. Next, as shown in FIG.

次に、図2(a)に示すように、複数のパターン形成シート4を積層すると共に、最下層と最上層にカバーシート6を配することにより、グリーンシート2aと導電パターン3とを交互に複数積層してなる積層体5を形成する。例えば、カバーシート6の主成分を、グリーンシート2aの主成分と同じ材料とする。 Next, as shown in FIG. 2(a), a plurality of pattern forming sheets 4 are laminated, and cover sheets 6 are placed on the bottom layer and the top layer, so that the green sheets 2a and the conductive patterns 3 are alternately arranged. A laminated body 5 is formed by laminating a plurality of layers. For example, the main component of the cover sheet 6 is the same material as the main component of the green sheet 2a.

そして、この状態で積層体5を上下から加圧することにより、複数のパターン形成シート4の各々を圧着する。このとき、上記のサドル現象で形成された凸部3aに過大な圧力が加わるため、凸部3aの上下のグリーンシート2aの膜厚が低下したり、凸部3aの周囲のグリーンシート2aに過剰なストレスが加わることになる。 In this state, each of the plurality of pattern forming sheets 4 is pressure-bonded by applying pressure to the laminate 5 from above and below. At this time, since excessive pressure is applied to the convex portion 3a formed by the saddle phenomenon, the film thickness of the green sheets 2a above and below the convex portion 3a is reduced, and the green sheet 2a around the convex portion 3a is excessively compressed. stress will be added.

続いて、図2(b)に示すように、積層体5をカットして複数の積層チップ8を切り出す。そして、その積層チップ8を加熱することにより、各グリーンシート2aを焼成して誘電体層11にすると共に、導電パターン3を焼成して内部電極層7にする。 Subsequently, as shown in FIG. 2B, the laminate 5 is cut into a plurality of laminated chips 8. Next, as shown in FIG. By heating the laminated chip 8 , each green sheet 2 a is fired to form the dielectric layer 11 and the conductive pattern 3 is fired to form the internal electrode layer 7 .

図3(a)は、焼成後の積層チップ8の分解斜視図である。なお、前述の図1~図2の断面図は、図3(a)のII-II線に沿う断面図に相当する。図3(a)に示されるように、積層チップ8は概略直方体であり、互いに相対する端面8a、8bを有する。次に、図3(b)に示すように、各端面8a、8bの各々に導電ペーストを塗布して焼き付けることにより一対の外部電極9a、9bを形成する。 FIG. 3(a) is an exploded perspective view of the laminated chip 8 after firing. The sectional views of FIGS. 1 and 2 correspond to the sectional views taken along the line II-II of FIG. 3(a). As shown in FIG. 3(a), the laminated chip 8 is substantially rectangular parallelepiped and has end faces 8a and 8b facing each other. Next, as shown in FIG. 3(b), a pair of external electrodes 9a and 9b are formed by applying a conductive paste to each of the end surfaces 8a and 8b and baking it.

以上により、この例に係る積層セラミックコンデンサ10の基本構造が完成する。 With the above, the basic structure of the multilayer ceramic capacitor 10 according to this example is completed.

上記した積層セラミックコンデンサ10の製造方法によれば、図2(a)に示したように、サドル現象で導電パターン3に形成された凸部3aにより、積層体5を加圧するときに凸部3aに過大な圧力が加わることになる。その結果、凸部3aの周囲のグリーンシート2aの膜厚が低下する等して積層セラミックコンデンサ10の信頼性が低下する。 According to the manufacturing method of the laminated ceramic capacitor 10 described above, as shown in FIG. excessive pressure will be applied to As a result, the film thickness of the green sheet 2a around the convex portion 3a is reduced, and the reliability of the multilayer ceramic capacitor 10 is reduced.

また、図1(c)の工程で導電パターン3の周囲に逆パターン2bを形成する際に、逆パターン2bと導電パターン3とが位置ずれをすることもある。図5は、このように逆パターン2bと導電パターン3とが位置ずれをした場合のシート4の断面図である。図5の例では、位置ずれによって凸部3aの上に逆パターン2bが乗り上げている。こうなると、図2(a)の工程で積層体5を加圧する際に、凸部3aの上の逆パターン2bに過剰な圧力が加わり、積層セラミックコンデンサ10の信頼性が一層低下することになる。 Further, when the reverse pattern 2b is formed around the conductive pattern 3 in the step of FIG. 1(c), the reverse pattern 2b and the conductive pattern 3 may be misaligned. FIG. 5 is a sectional view of the sheet 4 when the reverse pattern 2b and the conductive pattern 3 are misaligned. In the example of FIG. 5, the reverse pattern 2b runs over the convex portion 3a due to positional deviation. In this case, when the laminated body 5 is pressed in the step of FIG. 2A, excessive pressure is applied to the reverse pattern 2b on the convex portion 3a, further reducing the reliability of the laminated ceramic capacitor 10. .

以下に、積層セラミックコンデンサの信頼性を高めることが可能な本実施形態について説明する。 The present embodiment capable of improving the reliability of the multilayer ceramic capacitor will be described below.

(本実施形態)
本実施形態では、以下のようにしてセラミック電子部品として積層セラミックコンデンサを製造する。
(this embodiment)
In this embodiment, a laminated ceramic capacitor is manufactured as a ceramic electronic component as follows.

図6(a)~(c)、及び図7(a)、(b)は、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造途中の断面図であり、図8(a)、(b)はその分解斜視図である。 6(a) to (c), and FIGS. 7(a) and (b) are cross-sectional views of the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment during manufacturing, and FIGS. It is an exploded perspective view.

まず、図6(a)に示すように、樹脂製のキャリアフィルム21の上にダイコータで誘電体スラリを塗布し、それを乾燥させてグリーンシート22aを4μm程度の厚さに形成する。誘電体スラリは、セラミックの誘電体を主成分とするスラリであって、例えばバインダであるPVB(ポリビニルブチラール)に誘電体粉末と溶媒とを混練してなる。なお、PVBに代えてエチルセルロースをバインダとして使用してもよい。 First, as shown in FIG. 6A, dielectric slurry is applied on a resin carrier film 21 by a die coater and dried to form a green sheet 22a having a thickness of about 4 μm. The dielectric slurry is a slurry containing a ceramic dielectric as a main component, and is obtained by, for example, kneading PVB (polyvinyl butyral) as a binder with dielectric powder and a solvent. Ethyl cellulose may be used as the binder instead of PVB.

また、誘電体粉末の材料としては、一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミック材料を使用し得る。そのようなセラミック材料としては、例えば、BaTiO(チタン酸バリウム)、CaZrO(ジルコン酸カルシウム)、CaTiO(チタン酸カルシウム)、及びSrTiO(チタン酸ストロンチウム)等がある。なお、化学量論的組成から外れたABO3-αで表されるペロブスカイト構造を有するセラミック材料を誘電体粉末の材料として使用してもよい。更に、ペロブスカイト構造を有するBa1-x-yCaSrTi1-zZr(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1)を誘電体粉末の材料として採用してもよい。 A ceramic material having a perovskite structure represented by the general formula ABO3 can be used as the dielectric powder material. Examples of such ceramic materials include BaTiO 3 (barium titanate), CaZrO 3 (calcium zirconate), CaTiO 3 (calcium titanate), and SrTiO 3 (strontium titanate). A ceramic material having a perovskite structure represented by ABO 3-α deviating from the stoichiometric composition may be used as the dielectric powder material. Furthermore, Ba 1-x-y Ca x Sr y Ti 1-z Zr 2 O 3 (0≦x≦1, 0≦y≦1, 0≦z≦1) having a perovskite structure is used as a dielectric powder material. may be adopted.

そして、グリーンシート22aの上にスクリーン印刷により導電パターン23として導電ペーストを焼成後の厚さが0.6μm~1.5μm程度となるように印刷する。その導電ペーストとして、例えばニッケル粉末、誘電体粉末、バインダ、及び溶剤を混練してなるペーストを使用する。このうち、バインダとしては、例えばPVBやエチルセルロースがある。また、ニッケル粉末に代えて、銅やスズ等の金属粉末を使用してもよい。更に、白金、パラジウム、銀、及び金等の貴金属やこれらの合金の金属粉末をニッケル粉末に代えて使用してもよい。 Then, a conductive paste is printed as the conductive pattern 23 on the green sheet 22a by screen printing so that the thickness after firing is about 0.6 μm to 1.5 μm. As the conductive paste, for example, a paste obtained by kneading nickel powder, dielectric powder, binder, and solvent is used. Among them, the binder includes, for example, PVB and ethyl cellulose. Metal powder such as copper or tin may be used instead of nickel powder. Further, metal powders of noble metals such as platinum, palladium, silver and gold, and alloys thereof may be used in place of the nickel powder.

更に、本実施形態では、スクリーン印刷で使用するスクリーン印刷版の形状を適宜選択することにより、導電パターン23の縁部23a寄りの部分に、導電パターン23を貫通するスリットGを形成する。そのスリットGの幅は特に限定されないが、例えば0.5μm~30μm程度とする。なお、この例ではスクリーン印刷により導電パターン23を形成したが、グラビア印刷により導電パターン23を形成してもよい。その後に、導電パターン23を乾燥させることにより、導電パターン23から溶剤を除去する。このように印刷法で導電パターン23を形成すると、前述のサドル現象によってスリットGの横の導電パターン23に凸部23cが形成される。 Furthermore, in this embodiment, the slit G penetrating the conductive pattern 23 is formed in the portion near the edge 23a of the conductive pattern 23 by appropriately selecting the shape of the screen printing plate used in the screen printing. Although the width of the slit G is not particularly limited, it is, for example, about 0.5 μm to 30 μm. Although the conductive pattern 23 is formed by screen printing in this example, the conductive pattern 23 may be formed by gravure printing. After that, the solvent is removed from the conductive pattern 23 by drying the conductive pattern 23 . When the conductive pattern 23 is formed by the printing method in this way, the convex portion 23c is formed on the conductive pattern 23 beside the slit G due to the saddle phenomenon described above.

図9は、本工程を終了した時点でのキャリアフィルム21の上面図であり、先の図6(a)は図9のIII-III線に沿う断面図に相当する。図9に示すように、導電パターン23は、長手方向Xの長さが短手方向Yの長さよりも長い長方形であり、その長辺23dに沿ってスリットGが形成される。なお、各々の導電パターン23は、後でカットする際に、短手方向Yに平行な切断線Dに沿って切断される。切断線Dは、導電パターン23を二等分するように設定される。カットする前の導電パターン23の平面サイズは特に限定されない。例えば、長辺23dの長さは0.45mm~11mmであり、短辺23kの長さは0.06mm~3.7mmである。 FIG. 9 is a top view of the carrier film 21 after this step, and FIG. 6(a) corresponds to a cross-sectional view taken along line III--III in FIG. As shown in FIG. 9, the conductive pattern 23 has a rectangular shape in which the length in the longitudinal direction X is longer than the length in the lateral direction Y, and slits G are formed along the long sides 23d. Each conductive pattern 23 is cut along a cutting line D parallel to the lateral direction Y when cutting later. A cutting line D is set to bisect the conductive pattern 23 . The planar size of the conductive pattern 23 before cutting is not particularly limited. For example, the long side 23d has a length of 0.45 mm to 11 mm, and the short side 23k has a length of 0.06 mm to 3.7 mm.

また、図10(a)は、導電パターン23を印刷するときに使用するスクリーン印刷版の上面図であり、図10(b)は図10(a)のIV-IV線に沿う断面図である。図10(a)、(b)に示すように、このスクリーン印刷版50は、メッシュ部51と乳剤部52とを有する。このうち、メッシュ部51は、導電ペーストを透過する部位であって、繊維状の金属細線を編み込むことにより形成される。また、乳剤部52は、導電ペーストをマスクする部位であり、前述のスリットGに対応した平面形状を有する。 10(a) is a top view of a screen printing plate used when printing the conductive pattern 23, and FIG. 10(b) is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 10(a). . As shown in FIGS. 10(a) and 10(b), this screen printing plate 50 has a mesh portion 51 and an emulsion portion 52. FIG. Among them, the mesh portion 51 is a portion through which the conductive paste passes, and is formed by weaving fibrous thin metal wires. The emulsion portion 52 is a portion to be masked with the conductive paste, and has a planar shape corresponding to the slit G described above.

続いて、図6(b)に示すように、導電パターン23の周囲のグリーンシート22aの上にスクリーン印刷により逆パターン22bを導電パターン23と同程度の厚さ、例えば焼成後の厚さが0.6μm~1.5μmとなるように形成する。そのスクリーン印刷においては、グリーンシート22aを形成した際に使用した誘電体スラリと同じ材料の誘電体ペーストを逆パターン22bとして印刷する。なお、スクリーン印刷に代えてグラビア印刷により逆パターン22bを形成してもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 6B, a reverse pattern 22b is formed on the green sheet 22a around the conductive pattern 23 by screen printing so as to have a thickness similar to that of the conductive pattern 23, for example, a thickness of 0 after firing. .6 μm to 1.5 μm. In the screen printing, the dielectric paste of the same material as the dielectric slurry used when forming the green sheet 22a is printed as the reverse pattern 22b. The reverse pattern 22b may be formed by gravure printing instead of screen printing.

その後に、図6(c)に示すように、キャリアフィルム21からグリーンシート22aを剥離して、パターン形成シート24を得る。そのパターン形成シート24においては、導電パターン23の周囲に逆パターン22bを形成したため、グリーンシート22aと導電パターン23との段差が逆パターン22bで埋められて、パターン形成シート24の平坦性が良好となる。 Thereafter, as shown in FIG. 6(c), the green sheet 22a is peeled off from the carrier film 21 to obtain a patterned sheet 24. Next, as shown in FIG. In the pattern-formed sheet 24, since the reverse pattern 22b is formed around the conductive pattern 23, the step between the green sheet 22a and the conductive pattern 23 is filled with the reverse pattern 22b, and the pattern-formed sheet 24 has good flatness. Become.

次に、図7(a)に示すように、複数の導電パターン23の各々の長辺23dを上面視で揃えた状態で200層~500層のパターン形成シート24を積層する。これと共に、最下層と最上層にカバーシート26を配することにより、グリーンシート22aと導電パターン23とを交互に複数積層してなる積層体25を形成する。例えば、カバーシート26の主成分を、グリーンシート22aの主成分と同じ材料とする。 Next, as shown in FIG. 7(a), 200 to 500 layers of pattern forming sheets 24 are laminated with the long sides 23d of the plurality of conductive patterns 23 aligned in plan view. At the same time, by disposing cover sheets 26 on the bottom layer and the top layer, a laminate 25 is formed by alternately stacking a plurality of green sheets 22a and conductive patterns 23 . For example, the main component of the cover sheet 26 is the same material as the main component of the green sheet 22a.

そして、この積層体25を50℃~300℃程度の温度に加熱しながら、10MPa~500MPa程度の圧力で上下から加圧することにより、グリーンシート22aと導電パターン23の各々を圧着する。 Then, while heating the laminate 25 to a temperature of about 50° C. to 300° C., pressure of about 10 MPa to 500 MPa is applied from above and below to press the green sheets 22a and the conductive patterns 23 together.

このとき、本実施形態では導電パターン23にスリットGを形成したため、矢印Aのように加圧時の圧力によって凸部23cが変形してスリットGに逃げるようになり、凸部23cの周囲のグリーンシート22aに過剰な圧力が加わるのが抑制される。 At this time, since the slits G are formed in the conductive pattern 23 in the present embodiment, the protrusions 23c are deformed by the pressure during pressurization as indicated by the arrow A and escape to the slits G, and the green around the protrusions 23c is deformed. Excessive pressure applied to the seat 22a is suppressed.

特に、この例のように複数の導電パターン23の長辺23d同士を揃えると、各導電パターン23の凸部23cが上下に連なるように位置するため、各凸部23cの間に高い圧力が加わる。よって、図9のように長辺23dに沿ってスリットGを形成することにより、加圧時に各凸部23cがスリットGに一層逃げ易くなり、凸部23cの周囲のグリーンシート22aに加わるストレスを緩和し易くなる。 In particular, when the long sides 23d of the plurality of conductive patterns 23 are aligned as in this example, the convex portions 23c of the conductive patterns 23 are positioned so as to be vertically connected, so that high pressure is applied between the convex portions 23c. . Therefore, by forming the slits G along the long side 23d as shown in FIG. 9, each convex portion 23c can more easily escape to the slit G during pressurization, and the stress applied to the green sheet 22a around the convex portions 23c can be reduced. easier to relax.

続いて、図7(b)に示すように、積層体25をカットして複数の積層チップ28を切り出す。その後に、積層チップ28を200℃~1000℃程度の温度に加熱して積層チップ28に含まれるバインダを除去する。そして、酸素分圧10-5~10-8atmの還元雰囲気中で積層チップ28を1100℃~1400℃程度の温度で10分~2時間程度加熱する。これにより、各グリーンシート22aが焼成して誘電体層31になると共に、導電パターン23が焼成して内部電極層27となる。 Subsequently, as shown in FIG. 7B, the laminate 25 is cut to cut out a plurality of laminated chips 28 . After that, the laminated chip 28 is heated to a temperature of about 200° C. to 1000° C. to remove the binder contained in the laminated chip 28 . Then, the laminated chip 28 is heated at a temperature of about 1100° C. to 1400° C. for about 10 minutes to 2 hours in a reducing atmosphere with an oxygen partial pressure of 10 −5 to 10 −8 atm. As a result, each green sheet 22 a is fired to become the dielectric layer 31 , and the conductive pattern 23 is fired to become the internal electrode layer 27 .

図8(a)は、その積層チップ28の分解斜視図である。なお、前述の図6~図7の断面図は、図8(a)のV-V線に沿う断面図に相当する。図8(a)に示されるように、積層チップ28は概略直方体であり、互いに相対する端面28a、28bを有する。 FIG. 8(a) is an exploded perspective view of the laminated chip 28. FIG. The sectional views of FIGS. 6 and 7 described above correspond to the sectional views taken along the line VV in FIG. 8(a). As shown in FIG. 8(a), the laminated chip 28 is substantially rectangular parallelepiped and has end faces 28a and 28b facing each other.

次に、図8(b)に示すように、各端面28a、28bの各々に導電ペーストを塗布して焼き付けることにより一対の外部電極29a、29bを形成する。その後に、外部電極29a、29bの表面にニッケル層とスズ層とをこの順に積層してなるめっき層を形成し、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ30の基本構造を完成させる。 Next, as shown in FIG. 8(b), a pair of external electrodes 29a and 29b are formed by applying a conductive paste to each of the end surfaces 28a and 28b and baking it. After that, a plating layer is formed by laminating a nickel layer and a tin layer in this order on the surfaces of the external electrodes 29a and 29b to complete the basic structure of the laminated ceramic capacitor 30 according to the present embodiment.

なお、この例では、積層チップ28を焼成した後に外部電極29a、29bを形成したが、工程順はこれに限定されない。例えば、焼成前の積層チップ28の、外部電極29a,29bに対応する位置に導電ペーストを塗布し、同時に焼成してもよい。 In this example, the external electrodes 29a and 29b are formed after firing the laminated chip 28, but the order of steps is not limited to this. For example, a conductive paste may be applied to positions corresponding to the external electrodes 29a and 29b of the laminated chip 28 before firing, and fired at the same time.

積層セラミックコンデンサ30のサイズは、例えば、長さ0.25mm、幅0.125mm、高さ0.125mmであり、または長さ0.4mm、幅0.2mm、高さ0.2mm、または長さ0.6mm、幅0.3mm、高さ0.3mmであり、または長さ1.0mm、幅0.5mm、高さ0.5mmであり、または長さ3.2mm、幅1.6mm、高さ1.6mmであり、または長さ4.5mm、幅3.2mm、高さ2.5mmであるが、これらのサイズに限定されるものではない。 The size of the laminated ceramic capacitor 30 is, for example, length 0.25 mm, width 0.125 mm, and height 0.125 mm, or length 0.4 mm, width 0.2 mm, height 0.2 mm, or length 0.6 mm, 0.3 mm wide and 0.3 mm high; or 1.0 mm long, 0.5 mm wide and 0.5 mm high; or 3.2 mm long, 1.6 mm wide and 0.5 mm high. 1.6 mm in height, or 4.5 mm in length, 3.2 mm in width and 2.5 mm in height, but are not limited to these sizes.

図11は、図8(b)のVI-VI線に沿う断面図である。図11に示すように、この積層セラミックコンデンサ30においては、各内部電極層27が一層おきに外部電極29a、29bのいずれかに接続されており、上下に隣接する内部電極層27によって複数のキャパシタが形成される。 FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. 8(b). As shown in FIG. 11, in this multilayer ceramic capacitor 30, each internal electrode layer 27 is connected to one of the external electrodes 29a and 29b every other layer, and the internal electrode layers 27 adjacent above and below form a plurality of capacitors. is formed.

また、図12は、積層セラミックコンデンサ30における各内部電極層27の配置を示す斜視図である。なお、図11においては、各内部電極層27同士の位置関係を見やすくするために、内部電極層27以外の要素については省略してある。 12 is a perspective view showing the arrangement of the internal electrode layers 27 in the laminated ceramic capacitor 30. As shown in FIG. Note that elements other than the internal electrode layers 27 are omitted in FIG. 11 in order to make it easier to see the positional relationship between the internal electrode layers 27 .

図12に示すように、各内部電極層27は、各々の長手方向Xに沿って互い違いになるように積層される。また、長手方向Xに沿った内部電極層27の長さをLとすると、上下に隣接する内部電極層27は、L/5~L/10の長さだけ相互にずれるように互い違いに積層される。更に、スリットGは、各々の内部電極層27を貫通するように形成される。また、スリットGは、各々の内部電極27を分断しないように形成される。なお、スリットGが内部電極層27を分断しないとは、内部電極層27がスリットGで複数片に分けられておらず、内部電極層27内の任意の二点を繋ぐ部分が当該内部電極層27に存在することを言う。
また、焼成後のスリットGの長さaは、内部電極層27の長さLの80%~96%程度の値であり、例えば0.2mm~3.6mmである。一方、焼成後のスリットGの幅bは、内部電極層27の幅Wの0.2%~8.0%程度の値であり、例えば0.5μm~30μmとなる。
なお、本実施形態に従って作製した積層セラミックコンデンサ30においては、上面視において、異なる層におけるスリットGの位置が、長手方向Xと短手方向Yの各々において5μm以内の範囲で揃うようになる。
As shown in FIG. 12, the internal electrode layers 27 are stacked alternately along the longitudinal direction X of each. Further, when the length of the internal electrode layers 27 along the longitudinal direction X is L, the vertically adjacent internal electrode layers 27 are stacked alternately so as to be shifted from each other by a length of L/5 to L/10. be. Further, slits G are formed to penetrate each internal electrode layer 27 . Moreover, the slit G is formed so as not to divide each internal electrode 27 . Note that the slit G does not divide the internal electrode layer 27 means that the internal electrode layer 27 is not divided into a plurality of pieces by the slit G, and the portion connecting any two points in the internal electrode layer 27 is the internal electrode layer. 27 is said to exist.
Moreover, the length a of the slit G after firing is a value of about 80% to 96% of the length L of the internal electrode layer 27, for example, 0.2 mm to 3.6 mm. On the other hand, the width b of the slit G after firing is about 0.2% to 8.0% of the width W of the internal electrode layer 27, for example, 0.5 μm to 30 μm.
In the multilayer ceramic capacitor 30 manufactured according to this embodiment, the positions of the slits G in different layers are aligned within 5 μm in each of the longitudinal direction X and the lateral direction Y when viewed from above.

以上説明した本実施形態によれば、図9に示したように、導電パターン23にスリットGを形成する。そのため、図7(a)の工程で積層体25を加圧するときに凸部23cが変形してスリットGに逃げるようになり、凸部23cの周囲のグリーンシート22aに過剰な圧力が加わるのが抑制される。その結果、凸部23cの周囲のグリーンシート22aが薄くなる等の不都合を回避でき、ひいては積層セラミックコンデンサ30の信頼性を向上させることが可能となる。
なお、スリットGではなく有底の溝を用いる構成では、積層体25を加圧したときに凸部23cが逃げるスペースが少なくなり、凸部23cを十分に吸収できないとうい不都合が生じるが、本実施形態のように導電パターン23を貫通したスリットGを用いることで、凸部23cを十分に吸収することができる。
According to the present embodiment described above, slits G are formed in the conductive pattern 23 as shown in FIG. Therefore, when the laminated body 25 is pressed in the process of FIG. 7A, the convex portion 23c is deformed and escapes to the slit G, and excessive pressure is applied to the green sheet 22a around the convex portion 23c. Suppressed. As a result, problems such as thinning of the green sheet 22a around the convex portion 23c can be avoided, and the reliability of the multilayer ceramic capacitor 30 can be improved.
In addition, in the configuration using the bottomed grooves instead of the slits G, the space for the projections 23c to escape when the laminate 25 is pressurized is reduced, resulting in the inconvenience that the projections 23c cannot be sufficiently absorbed. By using the slit G passing through the conductive pattern 23 as in the embodiment, the protrusion 23c can be sufficiently absorbed.

しかも、本実施形態では、図12に示したように、各々の内部電極層27がスリットGで分断されずに一枚の状態に維持される。そのため、内部電極層27に不要なキャパシタが形成されるのを防止することができ、設計値に近い容量を有する積層セラミックコンデンサを得ることができる。 Moreover, in this embodiment, as shown in FIG. 12, the internal electrode layers 27 are not separated by the slits G and are maintained as one sheet. Therefore, formation of unnecessary capacitors in the internal electrode layers 27 can be prevented, and a multilayer ceramic capacitor having a capacitance close to the designed value can be obtained.

なお、本実施形態では、図6(c)の工程でスクリーン印刷で逆パターン22bを形成する。そのため、印刷の際の位置ずれによって導電パターン23の上に逆パターン22bが乗り上げることがある。図13(a)は、その場合の拡大断面図である。図13(a)の例では、逆パターン22bの縁部が導電パターン23の上に乗り上げている。 In addition, in this embodiment, the reverse pattern 22b is formed by screen printing in the process of FIG.6(c). Therefore, the reverse pattern 22b may run over the conductive pattern 23 due to misalignment during printing. FIG. 13(a) is an enlarged sectional view in that case. In the example of FIG. 13( a ), the edge of the reverse pattern 22 b runs over the conductive pattern 23 .

図13(b)は、この状態で図7(a)の工程で加圧をしたときのパターンシート24の拡大断面図である。図13(b)に示すように、加圧によって凸部23cが矢印Aのように変形してスリットGに逃げると共に、導電パターン23に乗り上げていた部分の逆パターン22bも矢印Bのように潰れてスリットGに逃げるようになる。そのため、加圧の際に逆パターン22bに過剰な圧力が加わるのが抑制され、積層セラミックコンデンサ10の信頼性を高めることが可能となる。 FIG. 13(b) is an enlarged sectional view of the pattern sheet 24 when pressure is applied in the process of FIG. 7(a) in this state. As shown in FIG. 13(b), the convex portion 23c is deformed as indicated by the arrow A due to the pressure and escapes to the slit G. to escape to the slit G. Therefore, it is possible to prevent excessive pressure from being applied to the reverse pattern 22b during pressurization, and the reliability of the multilayer ceramic capacitor 10 can be improved.

また、本実施形態では、図6(c)に示したように、導電パターン23の周囲に逆パターン22bを形成したことでパターン形成シート4の平坦性が良好となる。これにより、凸部23cがスリットGに逃げるのと相俟って、パターン形成シート4を積層してなる積層チップ28の上面の平坦性が高められる。 Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 6C, by forming the reverse pattern 22b around the conductive pattern 23, the flatness of the pattern-formed sheet 4 is improved. As a result, the projection 23c escapes into the slit G, and the flatness of the upper surface of the laminated chip 28 formed by laminating the pattern forming sheets 4 is improved.

本願発明者は、本実施形態において積層チップ28の平坦性がどの程度向上するのかを調査した。 The inventor of the present application investigated how much the flatness of the laminated chip 28 is improved in this embodiment.

図14は、その調査で使用した積層チップ28の模式断面図である。この調査では、積層チップ28の上面28cの平坦性を図るために、上面28cの中心Cから積層チップ28の短手方向Yに延びる第1の仮想線Lを引いた。そして、その第1の仮想線Lの下に、積層チップ28の厚みTの1%の間隔Δをおいて短手方向Yに延びる第2の仮想線Lを引いた。また、第2の仮想線L2が積層チップ28の上面28cと交わる二点P、Q間の距離をdとした。 FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of the laminated chip 28 used in the investigation. In this investigation, a first imaginary line L1 extending in the transverse direction Y of the laminated chip 28 from the center C of the upper surface 28c was drawn in order to ensure the flatness of the upper surface 28c of the laminated chip 28. FIG. Then, a second imaginary line L2 extending in the lateral direction Y with an interval Δ of 1% of the thickness T of the laminated chip 28 is drawn below the first imaginary line L1 . Also, the distance between two points P and Q where the second imaginary line L2 intersects the upper surface 28c of the laminated chip 28 is d.

この場合、本実施形態では、距離dが、内部電極層27の短手方向Yの幅W以上(d≧W)となった。これに対し、逆パターン22bとスリットGとを形成しない積層チップ28においては、距離dが幅Wよりも狭くなった。このことから、逆パターン22bとスリットGとを形成することが、積層チップ28の上面28cの平坦性を高めるのに有効であることが確かめられた。 In this case, in this embodiment, the distance d is equal to or greater than the width W of the internal electrode layers 27 in the lateral direction Y (d≧W). On the other hand, the distance d was narrower than the width W in the laminated chip 28 in which the reverse pattern 22b and the slit G were not formed. From this, it was confirmed that the formation of the reverse pattern 22b and the slit G is effective in improving the flatness of the upper surface 28c of the laminated chip 28. FIG.

このように上面28cの平坦性が高められると、上面28cを下にして積層セラミックコンデンサ30を配線基板に実装する際に配線基板の表面に上面28cが密着するため、配線基板に積層セラミックコンデンサ30を安定して実装できるようになる。 When the flatness of the upper surface 28c is improved in this way, the upper surface 28c is in close contact with the surface of the wiring board when the multilayer ceramic capacitor 30 is mounted on the wiring board with the upper surface 28c facing down. can be stably implemented.

次に、本実施形態の変形例について説明する。 Next, a modified example of this embodiment will be described.

(第1変形例)
図15は、第1変形例に係るパターン形成シート24の上面図である。図15に示すように、本変形例では、パターン形成シート24を形成する際に、長方形状の導電パターン23の四辺に沿って枠状にスリットGを形成する。また、この導電パターン23は、カットの際に切断線Dに沿って切断される。
(First modification)
FIG. 15 is a top view of the pattern forming sheet 24 according to the first modified example. As shown in FIG. 15, in this modification, when forming the pattern forming sheet 24, the slits G are formed in a frame shape along the four sides of the rectangular conductive pattern 23. As shown in FIG. Also, the conductive pattern 23 is cut along the cutting line D at the time of cutting.

導電パターン23は、前述のようにスクリーン印刷により形成される。図16は、そのスクリーン印刷で使用するスクリーン版の上面図である。図16に示すように、このスクリーン版55の乳剤部52は、スリットGに対応した枠状の平面形状を有する。そして、枠状の乳剤部52の内側と外側の領域にメッシュ部51が設けられており、そのメッシュ部51を導電ペーストが透過することで図15に示したような平面形状の導電パターン23が形成される。 The conductive pattern 23 is formed by screen printing as described above. FIG. 16 is a top view of a screen plate used in the screen printing. As shown in FIG. 16, the emulsion portion 52 of the screen plate 55 has a frame-like planar shape corresponding to the slit G. As shown in FIG. A mesh portion 51 is provided in the inner and outer regions of the frame-shaped emulsion portion 52, and the conductive paste passes through the mesh portion 51 to form a planar conductive pattern 23 as shown in FIG. It is formed.

なお、このように一枚のスクリーン版55を使用するのに代えて、次のように二枚のスクリーン版を使用して導電パターン23を形成してもよい。図17(a)は第1のスクリーン版61の上面図であり、図17(b)は第2のスクリーン版62の上面図である。 Instead of using one screen plate 55 as described above, two screen plates may be used to form the conductive pattern 23 as follows. 17(a) is a top view of the first screen plate 61, and FIG. 17(b) is a top view of the second screen plate 62. FIG.

このうち、第1のスクリーン版61は、上面視でスリットG(図15参照)よりも内側の領域に相当する長方形状のメッシュ部51を有しており、そのメッシュ部51の外側の領域に乳剤部52が設けられる。また、第2のスクリーン版62は、上面視でスリットG(図15参照)よりも外側の領域に相当する枠状のメッシュ部51を有しており、そのメッシュ部51の内側の領域に乳剤部52が設けられる。 Of these, the first screen plate 61 has a rectangular mesh portion 51 corresponding to an area inside the slit G (see FIG. 15) in top view, and an area outside the mesh portion 51 An emulsion section 52 is provided. In addition, the second screen plate 62 has a frame-shaped mesh portion 51 corresponding to an area outside the slit G (see FIG. 15) in a top view. A portion 52 is provided.

これらのスクリーン版61、62を用いる場合には、例えば最初に第1のスクリーン版61を用いてスリットGよりも内側の領域に導電ペーストを印刷する。その後に、第2のスクリーン版62を用いてスリットGよりも外側の領域に導電ペーストを印刷することで、図15のような平面形状を有する導電パターン23を形成することができる。
このように二回に分けて導電パターン23を形成することで、各回の印刷におけるペースト量や粘度等を最適化することができ、一回で導電パターン23を形成する場合よりもスリットGの幅を狭くすることができる。
When using these screen plates 61 and 62, for example, the first screen plate 61 is first used to print the conductive paste on the region inside the slit G. As shown in FIG. After that, by printing the conductive paste on the area outside the slit G using the second screen plate 62, the conductive pattern 23 having a planar shape as shown in FIG. 15 can be formed.
By forming the conductive pattern 23 in two steps in this way, it is possible to optimize the amount of paste, viscosity, etc. in each printing, and the width of the slit G is smaller than in the case of forming the conductive pattern 23 in one step. can be narrowed.

図18は、導電パターン23を切断線Dに沿って切断し、更に焼成をして得られた内部電極層27の上面図である。内部電極層27は、スリットGによって複数の電極片27e、27fに分けられる。これらの電極片27e、27fは、前述の切断線Dに対応する縁部27g、27hを有する。本変形例では、これらの縁部27g、27hを外部電極29a(図8(b)参照)や外部電極29bに接続する。また、スリットGは、内部電極層27の長辺27dと短辺27kの各々に沿うように形成される。 FIG. 18 is a top view of the internal electrode layer 27 obtained by cutting the conductive pattern 23 along the cutting line D and baking it. The internal electrode layer 27 is divided by slits G into a plurality of electrode pieces 27e and 27f. These electrode pieces 27e and 27f have edges 27g and 27h corresponding to the cutting line D described above. In this modification, these edge portions 27g and 27h are connected to the external electrode 29a (see FIG. 8(b)) and the external electrode 29b. Moreover, the slit G is formed along each of the long side 27d and the short side 27k of the internal electrode layer 27 .

図19は、本変形例に係る積層セラミックコンデンサ30における各内部電極層27の配置を示す斜視図である。なお、図19では、各内部電極層27同士の位置関係を見やすくするために内部電極層27以外の要素については省略してある。これについては後述の図22や図24でも同様である。図12の例と同様に、本変形例においても、各内部電極層27は、L/5の長さだけ相互にずれるように互い違いに積層される。
なお、本変形例における焼成後のスリットGの長さaは、内部電極層27の長さLの90%~96%程度の値であり、例えば0.2mm~3.6mmである。一方、焼成後のスリットGの幅bは、内部電極層27の幅Wの0.2%~8.0%程度の値であり、例えば0.5μm~30μmである。
FIG. 19 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers 27 in a laminated ceramic capacitor 30 according to this modification. In FIG. 19, elements other than the internal electrode layers 27 are omitted in order to make the positional relationship between the internal electrode layers 27 easier to see. This also applies to FIGS. 22 and 24, which will be described later. Similarly to the example of FIG. 12, also in this modified example, the respective internal electrode layers 27 are alternately laminated so as to be shifted from each other by the length of L/5.
Note that the length a of the slit G after firing in this modified example is about 90% to 96% of the length L of the internal electrode layer 27, for example, 0.2 mm to 3.6 mm. On the other hand, the width b of the slit G after firing is about 0.2% to 8.0% of the width W of the internal electrode layer 27, for example, 0.5 μm to 30 μm.

図20は、本変形例に係る積層セラミックコンデンサ30の断面図であって、図19のVII-VII線に沿う断面図に相当する。前述のように、本変形例では内部電極層27がスリットGによって電極片27e、27fに分けられており、その各々が外部電極29aや外部電極29bに接続される。そのため、電極片27e、27fの各々の電位を同一に保つことができ、各電極片27e、27fによって不要なキャパシタが形成されるのを防止できる。 FIG. 20 is a cross-sectional view of the laminated ceramic capacitor 30 according to this modification, and corresponds to the cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. As described above, in this modified example, the internal electrode layer 27 is divided into the electrode pieces 27e and 27f by the slits G, and each of them is connected to the external electrode 29a and the external electrode 29b. Therefore, the potential of each of the electrode strips 27e and 27f can be maintained at the same level, and formation of unnecessary capacitors by the electrode strips 27e and 27f can be prevented.

以上説明した本変形例においても、導電パターン23にスリットGを形成することにより、サドル現象によって導電パターン23に発生した凸部をスリットGに逃がし、積層セラミックコンデンサ30の信頼性を向上させることができる。 Also in this modified example described above, by forming the slits G in the conductive pattern 23, the protrusions generated in the conductive pattern 23 due to the saddle phenomenon can escape to the slits G, and the reliability of the multilayer ceramic capacitor 30 can be improved. can.

しかも、本変形例においては、内部電極層27の長辺27dだけでなく短辺27kに沿ってスリットGを形成する。そのため、サドル効果によって短辺27kの近傍に生じた凸部もスリットGに逃がすことができるようになる。 Moreover, in this modification, the slits G are formed along not only the long sides 27d of the internal electrode layers 27 but also the short sides 27k. As a result, the projections generated in the vicinity of the short side 27k due to the saddle effect can also escape to the slit G. As shown in FIG.

(第2変形例)
図21(a)は、第2変形例に係るパターン形成シート24の上面図である。図21(a)に示すように、本変形例では、パターン形成シート24を形成する際に、長方形状の導電パターン23の短辺23kに沿ってスリットGを形成する。なお、導電パターン23の長辺23dに沿う部分にはスリットGを形成しない。
グラビア印刷で導電パターン23を形成すると短辺23k側にサドル現象が強くでることがあるが、このように短辺23kに沿ってスリットGを形成することでサドル現象を効果的に防止できる。しかも、長辺23dに沿う部分にスリットGを形成しないため、スリットGによって内部電極層27同士の対向面積が低減するのを抑制できる。
(Second modification)
FIG. 21(a) is a top view of a pattern forming sheet 24 according to a second modified example. As shown in FIG. 21( a ), in this modification, slits G are formed along the short sides 23 k of the rectangular conductive pattern 23 when forming the pattern forming sheet 24 . The slit G is not formed in the portion along the long side 23d of the conductive pattern 23. As shown in FIG.
When the conductive pattern 23 is formed by gravure printing, the saddle phenomenon may occur strongly on the side of the short side 23k, but the saddle phenomenon can be effectively prevented by forming the slit G along the short side 23k. Moreover, since the slits G are not formed along the long side 23d, it is possible to prevent the slits G from reducing the opposing areas of the internal electrode layers 27. FIG.

図21(b)は、この導電パターン23を切断線Dに沿って切断し、更に焼成をして得られた内部電極層27の上面図である。図21(b)に示すように、内部電極層27はスリットGで分断されておらず、内部電極層27は一枚に繋がった状態となる。 FIG. 21(b) is a top view of the internal electrode layer 27 obtained by cutting the conductive pattern 23 along the cutting line D and baking it. As shown in FIG. 21(b), the internal electrode layers 27 are not divided by the slits G, and the internal electrode layers 27 are in a continuous state.

図22は、本変形例に係る積層セラミックコンデンサ30における各内部電極層27の配置を示す斜視図である。図12や図19の例と同様に、本変形例においても、各内部電極層27は、L/5の長さだけ相互にずれるように互い違いに積層される。また、本変形例では、スリットGの位置を交互に入れ替えながら各内部電極層27を積層する。
なお、本変形例における焼成後のスリットGの長さaは、内部電極層27の幅Wの80%~96%程度の値であり、例えば0.04mm~2.8mmである。一方、焼成後のスリットGの幅bは、内部電極層27の長さLの0.1%~3.1%程度の値であり、例えば0.5μm~30μmである。
FIG. 22 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers 27 in a laminated ceramic capacitor 30 according to this modification. 12 and 19, also in this modified example, the internal electrode layers 27 are alternately laminated so as to be shifted from each other by the length of L/5. Further, in this modified example, the internal electrode layers 27 are laminated while alternately exchanging the positions of the slits G. As shown in FIG.
In addition, the length a of the slit G after firing in this modified example is a value of about 80% to 96% of the width W of the internal electrode layer 27, for example, 0.04 mm to 2.8 mm. On the other hand, the width b of the slit G after firing is about 0.1% to 3.1% of the length L of the internal electrode layer 27, for example, 0.5 μm to 30 μm.

図23は、本変形例に係る積層セラミックコンデンサ30の断面図であって、図22のVIII-VIII線に沿う断面図に相当する。図23に示すように、スリットGの位置を交互に入れ替えながら各内部電極層27を積層することで、積層セラミックコンデンサ30の断面の一部領域RにおいてはスリットGが一層おきに現れるようになる。
これにより、内部電極層27同士の対向面積がスリットGによって減少するのを抑制しつつ、サドル効果を抑えることができる。
FIG. 23 is a cross-sectional view of the laminated ceramic capacitor 30 according to this modification, and corresponds to the cross-sectional view taken along line VIII-VIII in FIG. As shown in FIG. 23, by laminating the internal electrode layers 27 while alternately exchanging the positions of the slits G, the slits G appear every other layer in the partial region R of the cross section of the multilayer ceramic capacitor 30. .
As a result, it is possible to suppress the saddle effect while suppressing the decrease in the facing area between the internal electrode layers 27 due to the slit G.

以上説明した本変形例においても、第1変形例と同様に、内部電極層27にスリットGを形成することにより、積層セラミックコンデンサ30の信頼性を向上させることができる。 Also in this modified example described above, the reliability of the laminated ceramic capacitor 30 can be improved by forming the slits G in the internal electrode layers 27 in the same manner as in the first modified example.

(第3変形例)
図24は、本変形例に係る積層セラミックコンデンサ30における各内部電極層27の配置を示す斜視図である。図24に示すように、本変形例では、スリットGが形成されていない内部電極層27と、スリットGが形成されている内部電極層27とを交互に積層する。このように複数の内部電極層27のうちの半数のみにスリットGを形成し、残りの内部電極層27にスリットGを形成しなくても、スリットGによる信頼性の向上をある程度期待することができる。
(Third modification)
FIG. 24 is a perspective view showing the arrangement of internal electrode layers 27 in a laminated ceramic capacitor 30 according to this modification. As shown in FIG. 24, in this modification, the internal electrode layers 27 in which the slits G are not formed and the internal electrode layers 27 in which the slits G are formed are alternately laminated. Thus, even if the slits G are formed in only half of the plurality of internal electrode layers 27 and the slits G are not formed in the remaining internal electrode layers 27, it is possible to expect an improvement in reliability due to the slits G to some extent. can.

以下、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサを作製し、その特性について調べた。
(実施例1)
A laminated ceramic capacitor according to this embodiment was produced and its characteristics were investigated.
(Example 1)

図12に示した形状の内部電極層27を備えた積層セラミックコンデンサ30を2000個作製し、その各々に対して温度を150℃、各外部電極29a、29b間の電圧を38Vとする条件で高温負荷試験を行った。 2000 multilayer ceramic capacitors 30 having internal electrode layers 27 having the shape shown in FIG. A load test was performed.

なお、導電パターン23の厚さは1.0μmとし、スリットGの幅は20μmとした。また、導電パターン23の積層数は474層とし、グリーンシート22aの厚さは2.7μm、逆パターン22bの厚さは0.9μmとした。その高温負荷試験の結果、本実施例ではスリットGを形成しない場合と比較して故障率が1/10に低減することが明らかとなった。
(実施例2)
The thickness of the conductive pattern 23 was set to 1.0 μm, and the width of the slit G was set to 20 μm. The number of layers of the conductive pattern 23 was 474, the thickness of the green sheet 22a was 2.7 μm, and the thickness of the reverse pattern 22b was 0.9 μm. As a result of the high-temperature load test, it was found that the failure rate was reduced to 1/10 in this embodiment as compared with the case where the slit G was not formed.
(Example 2)

第1変形例に従い、図19に示した形状の内部電極層27を備えた積層セラミックコンデンサ30を2000個作製し、その各々に対して温度を150℃、各外部電極29a、29b間の電圧を38Vとする条件で高温負荷試験を行った。 According to the first modification, 2000 laminated ceramic capacitors 30 having internal electrode layers 27 having the shape shown in FIG. A high temperature load test was performed under the condition of 38V.

なお、導電パターン23の厚さは1.0μmとし、スリットGの幅は20μmとした。また、導電パターン23の積層数は474層とし、グリーンシート22aの厚さは2.7μm、逆パターン22bの厚さは0.9μmとした。その高温負荷試験の結果、本実施例ではスリットGを形成しない場合と比較して故障率が1/15に低減することが明らかとなった。
(実施例3)
The thickness of the conductive pattern 23 was set to 1.0 μm, and the width of the slit G was set to 20 μm. The number of layers of the conductive pattern 23 was 474, the thickness of the green sheet 22a was 2.7 μm, and the thickness of the reverse pattern 22b was 0.9 μm. As a result of the high-temperature load test, it was found that the failure rate was reduced to 1/15 of the case where the slit G was not formed in this embodiment.
(Example 3)

第2変形例に従い、図22に示した形状の内部電極層27を備えた積層セラミックコンデンサ30を2000個作製し、その各々に対して温度を150℃、各外部電極29a、29b間の電圧を38Vとする条件で高温負荷試験を行った。 According to the second modification, 2000 laminated ceramic capacitors 30 having internal electrode layers 27 having the shape shown in FIG. A high temperature load test was performed under the condition of 38V.

なお、導電パターン23の厚さは1.0μmとし、スリットGの幅は20μmとした。また、導電パターン23の積層数は474層とし、グリーンシート22aの厚さは2.7μm、逆パターン22bの厚さは0.9μmとした。その高温負荷試験の結果、本実施例ではスリットGを形成しない場合と比較して故障率が1/3に低減することが明らかとなった。 The thickness of the conductive pattern 23 was set to 1.0 μm, and the width of the slit G was set to 20 μm. The number of layers of the conductive pattern 23 was 474, the thickness of the green sheet 22a was 2.7 μm, and the thickness of the reverse pattern 22b was 0.9 μm. As a result of the high-temperature load test, it was found that the failure rate was reduced to 1/3 of the case where the slit G was not formed in this embodiment.

以上、本実施形態について詳細に説明したが、本実施形態は上記に限定されない。例えば、上記ではセラミック電子部品として積層セラミックコンデンサを製造したが、バリスタやサーミスタ等をセラミック電子部品として製造してもよい。 As mentioned above, although this embodiment was described in detail, this embodiment is not limited above. For example, in the above description, a laminated ceramic capacitor was manufactured as a ceramic electronic component, but a varistor, a thermistor, or the like may be manufactured as a ceramic electronic component.

1 キャリアフィルム
2a グリーンシート
2b 逆パターン
3 導電パターン
3a 凸部
4 パターン形成シート
5 積層体
6 カバーシート
7 内部電極層
8 積層チップ
8a 端面
8b 端面
9a 外部電極
9b 外部電極
10 積層セラミックコンデンサ
11 誘電体層
21 キャリアフィルム
22a グリーンシート
22b 逆パターン
23 導電パターン
23a 縁部
23c 凸部
23d 長辺
24 パターン形成シート
25 積層体
26 カバーシート
27 内部電極層
27d 長辺
27e 電極片
27f 電極片
27g 縁部
27h 縁部
27k 短辺
28 積層チップ
28a 端面
28b 端面
28c 上面
29a 外部電極
29b 外部電極
30 積層セラミックコンデンサ
31 誘電体層
50 スクリーン印刷版
51 メッシュ部
52 乳剤部
55 スクリーン版
61 第1のスクリーン版
62 第2のスクリーン版
G スリット
1 Carrier film 2a Green sheet 2b Reverse pattern 3 Conductive pattern 3a Projection 4 Pattern forming sheet 5 Laminated body 6 Cover sheet 7 Internal electrode layer 8 Laminated chip 8a End surface 8b End surface 9a External electrode 9b External electrode 10 Multilayer ceramic capacitor 11 Dielectric layer 21 Carrier film 22a Green sheet 22b Reverse pattern 23 Conductive pattern 23a Edge 23c Projection 23d Long side 24 Pattern forming sheet 25 Laminate 26 Cover sheet 27 Internal electrode layer 27d Long side 27e Electrode piece 27f Electrode piece 27g Edge 27h Edge 27k short side 28 laminated chip 28a end surface 28b end surface 28c upper surface 29a external electrode 29b external electrode 30 laminated ceramic capacitor 31 dielectric layer 50 screen printing plate 51 mesh portion 52 emulsion portion 55 screen plate 61 first screen plate 62 second screen Plate G slit

Claims (4)

セラミックを主成分とする複数の誘電体層と、複数の内部電極層とが交互に積層され、積層された前記複数の内部電極層が異なる2端面に交互に引き出されるように形成された積層チップと、
前記2端面のそれぞれに形成された外部電極と、
前記複数の内部電極層のうちの少なくとも半数以上に設けられ、前記2端面が対向する方向に延びる複数本のスリットと、を有し、
上面視において、異なる層における前記複数本のスリットの位置が5μm以内の範囲で揃っており、
前記複数本のスリットは、前記スリットを備える内部電極層が接続される前記外部電極に至るまで幅が大きくならないように延び、他方の前記外部電極側では前記積層チップの表面に露出せず、かつ前記他方の外部電極側で、前記複数本のスリットが延びる方向に略直交するスリットによって互いに接続されていることを特徴とするセラミック電子部品。
A laminated chip formed by alternately laminating a plurality of dielectric layers containing ceramic as a main component and a plurality of internal electrode layers, wherein the plurality of laminated internal electrode layers are alternately led out to two different end surfaces. and,
an external electrode formed on each of the two end faces;
a plurality of slits provided in at least half or more of the plurality of internal electrode layers and extending in a direction in which the two end faces face each other ;
In a top view, the positions of the plurality of slits in different layers are aligned within a range of 5 μm,
The plurality of slits extend to the external electrodes to which the internal electrode layers having the slits are connected so as not to increase in width , and the other external electrode side is not exposed on the surface of the laminated chip, and A ceramic electronic component , wherein the slits are connected to each other on the other external electrode side by means of slits substantially perpendicular to the extending direction of the plurality of slits.
前記積層チップの上面の中心から前記積層チップの短手方向に延びる第1の仮想線の下に、前記短手方向に延びる第2の仮想線を前記第1の仮想線から前記積層チップの厚みの1%の間隔をおいて引いたときに、前記第2の仮想線が前記積層チップの上面と交わる二点間の距離が、前記内部電極層の前記短手方向の幅以上であることを特徴とする請求項1に記載のセラミック電子部品。 Under the first virtual line extending in the width direction of the laminated chip from the center of the upper surface of the laminated chip, a second virtual line extending in the width direction is drawn from the first virtual line to the thickness of the laminated chip. that the distance between two points where the second imaginary line intersects the upper surface of the laminated chip is equal to or greater than the width of the internal electrode layer in the lateral direction when drawn at intervals of 1% of 2. The ceramic electronic component according to claim 1. セラミックを主成分とするグリーンシートと、前記グリーンシートの表面に印刷法で形成された導電パターンと、を交互に積層して焼成前の積層体を形成し、前記積層体を加圧することにより前記グリーンシートと前記導電パターンの各々を圧着し、前記積層体の異なる2端面に、積層された前記導電パターンを交互に露出させる工程と、
前記積層体の焼成時または焼成後に、前記2端面に外部電極を形成する工程と、を含み、
前記積層体に含まれる複数の前記導電パターンの少なくとも半数以上の前記導電パターンを形成する工程において、前記導電パターンに、前記2端面が対向する方向に延びる複数本のスリットを形成し、前記複数本のスリットは、前記2端面のいずれかまで幅が大きくならずに延び、他方の端面側では前記他方の端面の表面に露出せず、かつ前記他方の端面側で、前記複数本のスリットが延びる方向に略直交する方向に前記複数本のスリットを接続するスリットを形成することを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。
A green sheet containing ceramic as a main component and a conductive pattern formed on the surface of the green sheet by a printing method are alternately laminated to form a laminate before firing, and the laminate is pressurized to obtain the above-described a step of crimping each of the green sheets and the conductive patterns to alternately expose the stacked conductive patterns on two different end faces of the laminate;
forming external electrodes on the two end surfaces during or after firing the laminate,
In the step of forming at least half or more of the plurality of conductive patterns included in the laminate, a plurality of slits extending in a direction in which the two end faces face each other are formed in the conductive pattern, and the plurality of slits are formed in the conductive pattern. extends to one of the two end faces without increasing its width, is not exposed on the surface of the other end face on the other end face side, and the plurality of slits extends on the other end face side A method of manufacturing a ceramic electronic component, characterized by forming a slit connecting the plurality of slits in a direction substantially perpendicular to the direction of the ceramic electronic component.
前記導電パターンの周囲の前記グリーンシートの上に、前記セラミックを含むパターンを形成する工程を更に有することを特徴とする請求項3に記載のセラミック電子部品の製造方法。 4. The method of manufacturing a ceramic electronic component according to claim 3 , further comprising the step of forming a pattern containing said ceramic on said green sheet around said conductive pattern.
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