JP7319532B2 - cleaning equipment - Google Patents
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Description
本発明は、クリーニング装置に関する。 The present invention relates to cleaning devices.
製造業において、金型間にパリソンを垂下させ、成形体を成形する技術が知られている。かかる技術では、溶融状態のパリソンがダイヘッドに設けられたスリットから押し出されるが、スリット近傍に残留したパリソンが硬化することがある。かかる残留パリソンにより、成形体の品質に悪影響を与えるため、残留パリソンの清掃が行われている。 In the manufacturing industry, a technique is known in which a parison is suspended between molds to form a compact. In such a technique, a parison in a molten state is extruded through a slit provided in the die head, but the parison remaining in the vicinity of the slit may harden. Since such residual parison adversely affects the quality of the molded product, the residual parison is cleaned.
特許文献１には、溶融樹脂を積極的に剥離し、その滞留を防止する技術が開示されている。 Patent Literature 1 discloses a technique for actively removing molten resin and preventing its retention.
ところが、特許文献１に開示された技術では、円環状のダイにおけるパリソンの吐出口を取り囲むように溶融樹脂剥離用リングを設けており、部品数の増大が懸念される。 However, in the technique disclosed in Patent Document 1, a ring for peeling off the molten resin is provided so as to surround the discharge port of the parison in the annular die, and there is concern about an increase in the number of parts.
本発明は、かかる事情を鑑みてなされたものであり、円環状の底面を有するダイに対し、底面を効率的に清掃可能なクリーニング装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cleaning device capable of efficiently cleaning the bottom surface of a die having an annular bottom surface.
本発明の一態様によれば、クリーニング装置であって、成形装置のダイを清掃可能に構成され、前記ダイは、円環状の底面と、周面と、前記底面と前記周面の間に形成された円環状のスリットとを備え、前記スリットからパリソンを押出可能に構成され、本クリーニング装置は、クリーニング部材を備え、前記クリーニング部材は、前記底面に対して第１方向及び第２方向に相対移動することにより、前記底面を清掃可能に構成され、ここで、前記第２方向は前記第１方向と垂直に交わる方向であり、且つ、前記相対移動は前記底面の円環状に沿った移動であるものが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a cleaning device configured to be able to clean a die of a molding device, the die being formed between an annular bottom surface, a peripheral surface, and between the bottom surface and the peripheral surface. and an annular slit formed in a circular shape so that the parison can be pushed out from the slit, the cleaning device further comprising a cleaning member, the cleaning member facing the bottom surface in a first direction and a second direction. The bottom surface can be cleaned by moving, wherein the second direction is a direction perpendicular to the first direction, and the relative movement is movement along an annular shape of the bottom surface. Something is provided.
本発明の一態様に係るクリーニング装置は、ダイの底面に対して第１方向及び第２方向に相対移動可能に構成されたクリーニング部材を備える。ここで、第２方向は、第１方向に対して垂直に交わる方向である。そして、かかる相対移動は、底面の円環状に沿った移動である。これにより、ダイの周囲を取り囲むリング状の清掃部材を設けることなく、効率的にダイに設けられた円環状の底面を清掃することができる。 A cleaning device according to an aspect of the present invention includes a cleaning member configured to be relatively movable in a first direction and a second direction with respect to a bottom surface of a die. Here, the second direction is a direction perpendicular to the first direction. Such relative movement is movement along the annular shape of the bottom surface. As a result, the annular bottom surface provided on the die can be efficiently cleaned without providing a ring-shaped cleaning member surrounding the periphery of the die.
以下、図面を用いて実施形態について説明する。以下に示す実施形態中で示した各種特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。また、各特徴事項について独立して発明が成立する。 Embodiments will be described below with reference to the drawings. Various features shown in the embodiments shown below can be combined with each other. In addition, the invention is established independently for each characteristic item.
１．クリーニング装置１
図１、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、本実施形態に係るクリーニング装置１は、クリーニング部材３を備える。クリーニング部材３の数は特に限定されないが、本実施形態では、クリーニング装置１は、一対のクリーニング部材３ａ，３ｂを備える。かかるクリーニング装置１は、射出成形、ブロー成形等に代表される成形装置のダイ２を清掃可能に構成される。
1. Cleaning device 1
As shown in FIGS. 1, 2A and 2B, the cleaning device 1 according to this embodiment includes a cleaning member 3. As shown in FIG. Although the number of cleaning members 3 is not particularly limited, the cleaning device 1 includes a pair of cleaning members 3a and 3b in this embodiment. Such a cleaning device 1 is configured to be able to clean a die 2 of a molding device typified by injection molding, blow molding, and the like.
＜ダイ２＞
図３に示すように、ダイ２は、本体部２１と、円環状の底面２２と、周面２３と、円環状のスリット２４を備える。スリット２４は、底面２２と周面２３の間に形成される。そして、スリット２４は、パリソンを押出可能に構成される。ここで、図３においては、視認性の向上のため、底面２２とスリット２４にハッチングを付している。本実施形態では、底面２２は、ダイ２の本体部２１の下面に相当し、スリット２４から押し出されるパリソンの垂下方向に対して垂直な面である。周面２３は、底面２２の周縁から立設した筒状の面である。
<Die 2>
As shown in FIG. 3 , the die 2 includes a body portion 21 , an annular bottom surface 22 , a peripheral surface 23 and an annular slit 24 . A slit 24 is formed between the bottom surface 22 and the peripheral surface 23 . And the slit 24 is comprised so that a parison can be pushed out. Here, in FIG. 3, the bottom surface 22 and the slits 24 are hatched for improved visibility. In this embodiment, the bottom surface 22 corresponds to the lower surface of the main body 21 of the die 2 and is a surface perpendicular to the hanging direction of the parison extruded from the slit 24 . The peripheral surface 23 is a cylindrical surface erected from the peripheral edge of the bottom surface 22 .
パリソンは、樹脂を加熱した溶融樹脂をスリット２４から押し出すことにより形成される。本実施形態では、スリット２４は円環状であるので、スリット２４から押し出されるパリソンも円環状となる。かかるパリソンは、パリソンの垂下方向に配置された金型により成形され、任意の成形体が形成される。 The parison is formed by extruding a molten resin obtained by heating the resin through the slit 24 . In this embodiment, since the slit 24 is annular, the parison extruded from the slit 24 is also annular. Such a parison is molded by a mold arranged in the hanging direction of the parison to form an arbitrary molded body.
一般的に、スリット２４から所定量のパリソンを押し出した後に、溶融状態のパリソンがスリット２４近傍に残留する場合がある。図３に示される構成のダイ２においては、特に底面２２に残留パリソンが付着しやすい。本実施形態に係るクリーニング装置１は、ダイ２のうち、特に底面２２を清掃するものである。 In general, after a predetermined amount of parison is extruded through the slit 24 , molten parison may remain in the vicinity of the slit 24 . In the die 2 configured as shown in FIG. 3, the residual parison is likely to adhere to the bottom surface 22 in particular. The cleaning device 1 according to this embodiment is for cleaning the bottom surface 22 of the die 2 in particular.
＜固定部材６＞
図１～図３に示すように、クリーニング装置１は、固定部材６を備える。固定部材６は、対向する支持レール６２と、支持レール６２に支持されて対向するガイドレール６１を備える。
<Fixing member 6>
As shown in FIGS. 1 to 3, the cleaning device 1 has a fixing member 6. As shown in FIG. The fixed member 6 includes opposing support rails 62 and opposing guide rails 61 supported by the support rails 62 .
＜移動部材７＞
図１及び図２Ｂに示すように、支持レール６２を覆うように、対向する移動部材７が設けられる。移動部材７は、後述の保持部材８と接続されており、支持レール６２に沿って第１方向（図２ＢのＸ方向）に移動可能に構成される。
<Moving member 7>
Opposing moving members 7 are provided over the support rails 62, as shown in FIGS. 1 and 2B. The moving member 7 is connected to a holding member 8 which will be described later, and is configured to be movable along the support rail 62 in the first direction (X direction in FIG. 2B).
＜保持部材８＞
図１～図３に示すように、保持部材８は、保持レール８１及び接続部材８２を備える。保持レール８１は、クリーニング部材３ａ，３ｂを保持するものであり、保持レール８１の延在方向に沿ってクリーニング部材３ａ，３ｂが第２方向（図２ＢのＹ方向）に移動可能に構成される。接続部材８２は、保持レール８１の両端に設けられ、移動部材７に対して保持レール８１を接続するものである。本実施形態では、移動部材７の移動に伴って接続部材８２が第１方向に移動する。そして、接続部材８２により固定された保持レール８１も第１方向に移動する。これにより、クリーニング部材３が底面２２に対して第１方向に移動する。
<Holding member 8>
As shown in FIGS. 1-3, the holding member 8 comprises holding rails 81 and connecting members 82 . The holding rail 81 holds the cleaning members 3a and 3b, and is configured so that the cleaning members 3a and 3b can move in the second direction (the Y direction in FIG. 2B) along the extending direction of the holding rail 81. . The connection members 82 are provided at both ends of the holding rail 81 and connect the holding rail 81 to the moving member 7 . In this embodiment, the connecting member 82 moves in the first direction as the moving member 7 moves. Then, the holding rail 81 fixed by the connecting member 82 also moves in the first direction. This causes the cleaning member 3 to move in the first direction with respect to the bottom surface 22 .
＜ガイド部材４＞
図２Ａ，２Ｂ及び図３に示すように、本実施形態では、クリーニング装置１はガイド部材４を備える。ガイド部材４は、底面２２に対するクリーニング部材３の相対移動に際し、クリーニング部材３の相対移動をガイド可能に構成される。本実施形態では、ガイド部材４は、底面２２に対向する位置に設けられる。図３に示すように、本実施形態では、ガイド部材４は、複数のビス５により底面２２に固定される。なお、図３の例では、８個のビス５によりガイド部材４が底面２２に固定される。ここで、視認性の向上のため、図３においては全てのビス５に符号を付していないことに留意されたい。
<Guide member 4>
As shown in FIGS. 2A, 2B and 3, the cleaning device 1 includes a guide member 4 in this embodiment. The guide member 4 is configured to be able to guide the relative movement of the cleaning member 3 when the cleaning member 3 moves relative to the bottom surface 22 . In this embodiment, the guide member 4 is provided at a position facing the bottom surface 22 . As shown in FIG. 3, in this embodiment, the guide member 4 is fixed to the bottom surface 22 with a plurality of screws 5. As shown in FIG. In addition, in the example of FIG. 3, the guide member 4 is fixed to the bottom surface 22 with eight screws 5 . Note that not all the screws 5 are labeled in FIG. 3 for the purpose of improving visibility.
図４に示すように、ガイド部材４のガイド面４１と、クリーニング部材３ａ，３ｂの内側に設けられた非ガイド面３３ａ，３３ｂ（図５参照）が当接する位置にガイド部材４が設けられる。そして、図２Ｂ及び図４に示すように、クリーニング部材３ａ，３ｂの第１方向及び第２方向への移動に際し、ガイド面４１が非ガイド面３３ａ，３３ｂをガイドすることにより、底面２２に対するクリーニング部材３ａ，３ｂの相対移動が滑らかに行われる。 As shown in FIG. 4, the guide member 4 is provided at a position where the guide surface 41 of the guide member 4 and the non-guide surfaces 33a and 33b (see FIG. 5) provided inside the cleaning members 3a and 3b abut. As shown in FIGS. 2B and 4, when the cleaning members 3a and 3b move in the first direction and the second direction, the guide surface 41 guides the non-guide surfaces 33a and 33b, thereby cleaning the bottom surface 22. As shown in FIGS. Relative movement of the members 3a and 3b is performed smoothly.
＜クリーニング部材３＞
図２Ｂ、図３及び図５に示すように、クリーニング部材３は、底面２２に対して第１方向（図２Ｂ及び図５のＸ方向）及び第２方向（図２Ｂ及び図５のＹ方向）に相対移動可能に構成される。ここで、第２方向は第１方向と垂直に交わる方向である。また、かかる相対移動は、底面２２の円環状に沿った移動である。本実施形態では、クリーニング部材３ａは、図２Ｂに示される第２方向（底面２２の中心から遠ざかる方向）に移動し、クリーニング部材３ｂは、クリーニング部材３ａと逆向き（底面２２の中心から遠ざかる方向）に移動可能に構成される。すなわち、一対のクリーニング部材３ａ，３ｂは、底面２２に対して線対称に相対移動可能に構成される。
<Cleaning member 3>
As shown in FIGS. 2B, 3 and 5, the cleaning member 3 is arranged in a first direction (X direction in FIGS. 2B and 5) and a second direction (Y direction in FIGS. 2B and 5) with respect to the bottom surface 22. are configured to be movable relative to each other. Here, the second direction is a direction perpendicular to the first direction. Moreover, such relative movement is movement along the annular shape of the bottom surface 22 . In this embodiment, the cleaning member 3a moves in the second direction (away from the center of the bottom surface 22) shown in FIG. ). That is, the pair of cleaning members 3a and 3b are configured to be movable relative to the bottom surface 22 in line symmetry.
また、図３に示すように、クリーニング部材３ａ，３ｂは、クリーニングヘッド３１ａ，３１ｂを備える。図５に示すように、クリーニングヘッド３１ａ，３１ｂの上面には、清掃面３２ａ，３２ｂが設けられる。清掃面３２ａ，３２ｂは底面２２を清掃するものであり、クリーニング部材３ａ，３ｂが底面２２に対して接近した状態で、清掃面３２ａ，３２ｂと底面２２が接触する位置にクリーニング部材３ａ，３ｂが到達する。特に、清掃面３２ａ，３２ｂと底面２２が接触するように、クリーニング部材３ａ，３ｂが可変に構成されることが好ましい。ここで、クリーニング部材３ａ，３ｂは、弾性部材等により互いに接近する向きに付勢されていてもよい。また、クリーニング部材３ａ，３ｂは、弾性部材等により底面２２に向けて付勢されていてもよい。ここで、弾性部材等により付勢に代えて、エアシリンダーやアクチュエータ等により機械的に付勢されていてもよい。 Further, as shown in FIG. 3, the cleaning members 3a and 3b are provided with cleaning heads 31a and 31b. As shown in FIG. 5, cleaning surfaces 32a and 32b are provided on the upper surfaces of the cleaning heads 31a and 31b. The cleaning surfaces 32a and 32b are for cleaning the bottom surface 22. When the cleaning members 3a and 3b are close to the bottom surface 22, the cleaning members 3a and 3b are positioned at positions where the cleaning surfaces 32a and 32b and the bottom surface 22 come into contact with each other. reach. In particular, it is preferable that the cleaning members 3a and 3b are variably configured so that the cleaning surfaces 32a and 32b and the bottom surface 22 are in contact with each other. Here, the cleaning members 3a and 3b may be biased toward each other by an elastic member or the like. Also, the cleaning members 3a and 3b may be biased toward the bottom surface 22 by an elastic member or the like. Here, instead of urging by an elastic member or the like, it may be urged mechanically by an air cylinder, an actuator, or the like.
また、クリーニングヘッド３１は、底面２２と接触する箇所の少なくとも一部が真鍮により構成されてもよい。本実施形態では、クリーニングヘッド３１ａ，３１ｂの清掃面３２ａ，３２ｂが真鍮により構成される。これにより、底面２２を傷つけることなく残留するパリソンを除去することができる。 At least a portion of the cleaning head 31 that contacts the bottom surface 22 may be made of brass. In this embodiment, the cleaning surfaces 32a and 32b of the cleaning heads 31a and 31b are made of brass. Thereby, the remaining parison can be removed without damaging the bottom surface 22 .
さらに、クリーニングヘッド３１ａ，３１ｂには、底面２２との摩擦により清掃面３２ａ，３２ｂに生じる熱を冷却するための水冷機構が設けられてもよい。 Furthermore, the cleaning heads 31a and 31b may be provided with a water cooling mechanism for cooling the heat generated on the cleaning surfaces 32a and 32b due to friction with the bottom surface 22. FIG.
かかる構成により、クリーニング部材３は、底面２２に対して第１方向及び第２方向に相対移動することにより、底面２２を清掃することができる。具体的には、本実施形態では、移動部材７が第１方向に移動することにより、移動部材７に接続された接続部材８２及び接続部材８２に固定された保持レール８１も第１方向に移動する。これにより、図２Ｂに示すように、保持レール８１に設けられたクリーニング部材３ａ，３ｂが第１方向に移動する。また、クリーニング部材３ａ，３ｂの第１方向への移動に伴い、クリーニング部材３ａ，３ｂのガイド面４１が非ガイド面３３に当接する。そして、ガイド面４１が非ガイド面３３にガイドされた状態でクリーニング部材３ａ，３ｂが第１方向に移動することにより、保持レール８１に対して第２方向に自由移動可能なクリーニング部材３ａ，３ｂに対してガイド面４１から生じる抗力により、クリーニング部材３ａ，３ｂが第２方向に移動する。 With such a configuration, the cleaning member 3 can clean the bottom surface 22 by moving relative to the bottom surface 22 in the first direction and the second direction. Specifically, in the present embodiment, when the moving member 7 moves in the first direction, the connecting member 82 connected to the moving member 7 and the holding rail 81 fixed to the connecting member 82 also move in the first direction. do. As a result, the cleaning members 3a and 3b provided on the holding rail 81 move in the first direction, as shown in FIG. 2B. Further, as the cleaning members 3a and 3b move in the first direction, the guide surfaces 41 of the cleaning members 3a and 3b come into contact with the non-guide surfaces 33. As shown in FIG. By moving the cleaning members 3a and 3b in the first direction while the guide surface 41 is guided by the non-guide surface 33, the cleaning members 3a and 3b can move freely in the second direction with respect to the holding rail 81. The cleaning members 3a and 3b move in the second direction due to the drag force generated from the guide surface 41 against.
その後、クリーニング部材３から見たガイド部材４の第２方向の直径が最大となる位置を通過した後は、クリーニング部材３ａ，３ｂは互いに対向する向きに付勢されるので、ガイド部材４の非ガイド面３３に沿って第２方向に移動する。これにより、クリーニング部材３ａ，３ｂの清掃面３２ａ，３２ｂは、移動部材７を第１方向に移動するだけで、清掃面３２ａ，３２ｂが底面２２に接触した状態を維持しつつ底面２２に対して第１方向及び第２方向に相対移動される。 Thereafter, after passing through the position where the diameter of the guide member 4 in the second direction as viewed from the cleaning member 3 is maximized, the cleaning members 3a and 3b are urged to face each other. It moves along the guide surface 33 in the second direction. As a result, the cleaning surfaces 32a and 32b of the cleaning members 3a and 3b are moved relative to the bottom surface 22 while maintaining contact with the bottom surface 22 simply by moving the moving member 7 in the first direction. Relatively moved in a first direction and a second direction.
このように、クリーニング部材３ａ，３ｂが底面２２に対して第１方向及び第２方向に相対移動することにより、底面２２に対して押圧されているクリーニング部材３ａ，３ｂの清掃面３２ａ，３２ｂが底面２２を清掃することが可能になる。 As the cleaning members 3a and 3b move relative to the bottom surface 22 in the first direction and the second direction, the cleaning surfaces 32a and 32b of the cleaning members 3a and 3b pressed against the bottom surface 22 are It becomes possible to clean the bottom surface 22 .
ここで、クリーニング部材３ａ，３ｂによる底面２２の清掃は、任意のタイミングで実行することができる。特に、クリーニング部材３ａ，３ｂは、ダイ２からパリソンが押し出された後、底面２２に対して相対移動して底面２２を清掃することが好ましい。具体的には、所望の成形品の成形のため、ダイ２から１回分（成形体１個分）のパリソンが押し出された後、クリーニング部材３ａ，３ｂにより底面２２が少なくとも１回は清掃されることが好ましい。これにより、底面２２に付着した残留パリソン、すなわち、溶融状態の樹脂が冷却されて固まる前に、溶融状態の残留パリソンをクリーニング部材３ａ，３ｂがこそぎ落とすことが可能になる。一方、残留パリソンが冷却されて固まった後においては、底面２２に対してクリーニング部材３ａ，３ｂを強く押し付ける必要があるので、残留パリソンを十分に清掃するために大きなエネルギーを要するため、好ましくない。 Here, cleaning of the bottom surface 22 by the cleaning members 3a and 3b can be performed at arbitrary timing. In particular, it is preferable that the cleaning members 3 a and 3 b move relative to the bottom surface 22 to clean the bottom surface 22 after the parison is extruded from the die 2 . Specifically, in order to mold a desired molded product, after one batch of parison (for one molded body) is extruded from the die 2, the bottom surface 22 is cleaned at least once by the cleaning members 3a and 3b. is preferred. This allows the cleaning members 3a and 3b to scrape off the residual parison in the molten state before the residual parison adhering to the bottom surface 22, that is, the resin in the molten state, is cooled and solidified. On the other hand, after the residual parison is cooled and solidified, it is necessary to strongly press the cleaning members 3a and 3b against the bottom surface 22, which requires a large amount of energy to sufficiently clean the residual parison, which is not preferable.
２．その他
本実施形態に係るクリーニング装置１は、以下の態様でも実施可能である。
2. Others The cleaning device 1 according to this embodiment can also be implemented in the following aspects.
第一に、クリーニング部材３を１つ設け、移動部材７の回転移動と組み合わせて底面２２に対向するように相対移動させることにより、１つのクリーニング部材３で底面２２を清掃するように実施してもよい。 Firstly, one cleaning member 3 is provided and is relatively moved so as to face the bottom surface 22 in combination with the rotational movement of the moving member 7 , so that the bottom surface 22 is cleaned by one cleaning member 3 . good too.
第二に、移動部材７に代えて、他の移動装置によりクリーニング装置１を底面２２に対して第１方向に相対移動させてもよい。 Secondly, instead of the moving member 7, another moving device may be used to move the cleaning device 1 relative to the bottom surface 22 in the first direction.
第三に、クリーニング部材３を鉛直方向に昇降可能に構成されてもよい。特に、昇降させるタイミングに関しては、例えばダイ２の外径以下となるタイミングで上昇させ、これを抜けるタイミングで下降させるとよい。 Thirdly, the cleaning member 3 may be vertically movable. In particular, with regard to the timing of raising and lowering, for example, it is preferable to raise when the outer diameter of the die 2 or less is reached, and to lower when the outer diameter of the die 2 is passed.
第四に、クリーニング部材３は、待機位置で一定の向きとなる様、スプリング、マグネット、ボールプランジャー等を具備していてもよい。 Fourthly, the cleaning member 3 may be provided with a spring, magnet, ball plunger, etc. so that it is oriented in a fixed position at the standby position.
３．結言
以上のように、本実施形態によれば、残留パリソンが付着しやすい底面２２に対し、クリーニング部材３を第１方向及び第２方向に相対移動させることにより、円環状の底面２２に付着した残留パリソンを効率的に清掃することができる。ここで、クリーニング部材３は、底面２２に対して一方向に配置すればよいので、従来のように円環状の溶融樹脂剥離用リングを設ける必要がなく、部品数の低減に寄与する。
3. Conclusion As described above, according to the present embodiment, by moving the cleaning member 3 in the first direction and the second direction relative to the bottom surface 22 to which residual parison is likely to adhere, the residual parison adheres to the annular bottom surface 22 . Residual parison can be cleaned efficiently. Here, since the cleaning member 3 may be arranged in one direction with respect to the bottom surface 22, there is no need to provide an annular ring for peeling off the molten resin, which contributes to a reduction in the number of parts.
すなわち、クリーニング装置であって、成形装置のダイを清掃可能に構成され、前記ダイは、円環状の底面と、周面と、前記底面と前記周面の間に形成された円環状のスリットとを備え、前記スリットからパリソンを押出可能に構成され、本クリーニング装置は、クリーニング部材を備え、前記クリーニング部材は、前記底面に対して第１方向及び第２方向に相対移動することにより、前記底面を清掃可能に構成され、ここで、前記第２方向は前記第１方向と垂直に交わる方向であり、且つ、前記相対移動は前記底面の円環状に沿った移動であるものが提供される。 That is, the cleaning device is configured to be able to clean a die of a molding device, and the die includes an annular bottom surface, a peripheral surface, and an annular slit formed between the bottom surface and the peripheral surface. and a parison can be pushed out from the slit, and the cleaning device includes a cleaning member, and the cleaning member moves relative to the bottom surface in a first direction and a second direction to move the bottom surface. wherein said second direction is a direction perpendicular to said first direction, and said relative movement is movement along an annular shape of said bottom surface.
次に記載の各態様で提供されてもよい。
前記クリーニング装置において、前記クリーニング部材が一対であり、前記底面に対して線対称に相対移動可能に構成されるもの。
前記クリーニング装置において、ガイド部材をさらに備え、前記ガイド部材は、前記底面に対する前記クリーニング部材の前記相対移動に際し、前記クリーニング部材の前記相対移動をガイド可能に構成されるもの。
前記クリーニング装置において、前記ガイド部材は、前記底面に対向する位置に設けられるもの。
前記クリーニング装置において、前記クリーニング部材は、前記ダイから前記パリソンが押し出された後、前記底面に対して前記相対移動して前記底面を清掃可能に構成されるもの。
前記クリーニング装置において、前記クリーニング部材は、クリーニングヘッドを備え、前記クリーニングヘッドは、前記底面と接触する箇所の少なくとも一部が真鍮により構成されるもの。
前記クリーニング装置において、前記クリーニングヘッドは、水冷機構をさらに備えるもの。
もちろん、この限りではない。
It may be provided in each aspect described below.
In the above-mentioned cleaning device, the cleaning member is a pair and configured to be movable relative to the bottom surface in line symmetry.
The cleaning device further includes a guide member, wherein the guide member is configured to be capable of guiding the relative movement of the cleaning member when the cleaning member moves relative to the bottom surface.
In the cleaning device, the guide member is provided at a position facing the bottom surface.
In the cleaning device, the cleaning member is configured to move relative to the bottom surface to clean the bottom surface after the parison is extruded from the die.
In the cleaning device, the cleaning member includes a cleaning head, and at least a portion of the cleaning head that contacts the bottom surface is made of brass.
In the cleaning device, the cleaning head further includes a water cooling mechanism.
Of course, this is not the only case.
本発明の実施形態を説明したが、あくまでも例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 While embodiments of the invention have been described, they have been presented by way of example only and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and modifications can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are included in the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.
１ ：クリーニング装置
２ ：ダイ
３ ：クリーニング部材
３ａ ：クリーニング部材
３ｂ ：クリーニング部材
４ ：ガイド部材
５ ：ビス
６ ：固定部材
７ ：移動部材
８ ：保持部材
２１ ：本体部
２２ ：底面
２３ ：周面
２４ ：スリット
３１ ：クリーニングヘッド
３１ａ ：クリーニングヘッド
３１ｂ ：クリーニングヘッド
３２ａ ：清掃面
３２ｂ ：清掃面
３３ ：非ガイド面
３３ａ ：非ガイド面
３３ｂ ：非ガイド面
４１ ：ガイド面
６１ ：ガイドレール
６２ ：支持レール
８１ ：保持レール
８２ ：接続部材
Reference Signs List 1 : cleaning device 2 : die 3 : cleaning member 3a : cleaning member 3b : cleaning member 4 : guide member 5 : screw 6 : fixing member 7 : moving member 8 : holding member 21 : main body 22 : bottom surface 23 : peripheral surface 24 : slit 31 : cleaning head 31a : cleaning head 31b : cleaning head 32a : cleaning surface 32b : cleaning surface 33 : non-guide surface 33a : non-guide surface 33b : non-guide surface 41 : guide surface 61 : guide rail 62 : support rail 81 : Holding rail 82 : Connecting member
Claims (7)
本クリーニング装置は、クリーニング部材を備え、
前記クリーニング部材は、前記底面に対して第１方向及び第２方向に相対移動することにより、前記底面を清掃可能に構成され、ここで、前記第２方向は前記第１方向と垂直に交わる方向であり、且つ、前記相対移動は前記底面の円環状に沿った移動である、クリーニング装置。 A cleaning device configured to be able to clean a die of a molding device, the die having an annular bottom surface, a peripheral surface, and an annular slit formed between the bottom surface and the peripheral surface. , configured to allow the parison to be extruded from the slit,
The cleaning device comprises a cleaning member,
The cleaning member is configured to be able to clean the bottom surface by moving relative to the bottom surface in a first direction and a second direction, wherein the second direction is a direction perpendicular to the first direction. and the relative movement is movement along an annular shape of the bottom surface.
前記クリーニング部材が一対であり、前記底面に対して線対称に相対移動可能に構成される、クリーニング装置。 The cleaning device of claim 1, wherein
The cleaning device , wherein the cleaning member is a pair and configured to be movable relative to the bottom surface in line symmetry.
ガイド部材をさらに備え、
前記ガイド部材は、前記底面に対する前記クリーニング部材の前記相対移動に際し、前記クリーニング部材の前記相対移動をガイド可能に構成される、クリーニング装置。 In the cleaning device according to claim 1 or claim 2,
further comprising a guide member,
The cleaning device , wherein the guide member is configured to be capable of guiding the relative movement of the cleaning member when the cleaning member moves relative to the bottom surface.
前記ガイド部材は、前記底面に対向する位置に設けられる、クリーニング装置。 A cleaning device according to claim 3, wherein
The cleaning device , wherein the guide member is provided at a position facing the bottom surface.
前記クリーニング部材は、前記ダイから前記パリソンが押し出された後、前記底面に対して前記相対移動して前記底面を清掃可能に構成される、クリーニング装置。 The cleaning device according to any one of claims 1 to 4,
The cleaning device according to claim 1, wherein the cleaning member is configured to move relative to the bottom surface to clean the bottom surface after the parison is extruded from the die.
前記クリーニング部材は、クリーニングヘッドを備え、
前記クリーニングヘッドは、前記底面と接触する箇所の少なくとも一部が真鍮により構成される、クリーニング装置。 In the cleaning device according to any one of claims 1 to 5,
the cleaning member comprises a cleaning head,
The cleaning device according to claim 1, wherein at least a portion of the cleaning head that contacts the bottom surface is made of brass.
前記クリーニングヘッドは、水冷機構をさらに備える、クリーニング装置。 7. A cleaning device according to claim 6, wherein
The cleaning device , wherein the cleaning head further includes a water cooling mechanism.
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