JP7319530B2 - 遠心噴霧装置および微粉末の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、遠心噴霧装置および微粉末の製造方法に関する。

特許文献１乃至特許文献４には、溶湯から微粉末を製造する遠心噴霧法のうち、高速回転するディスクに溶湯が供給されて、溶湯が、ディスクの遠心力によりディスクの表面を伝って、ディスクの周縁から噴霧されるディスクアトマイズ法が開示されている。

特開２００８－２４００６０号公報 特許第５０９５３８４号公報 特許第５７４８９９１号公報 特開２０１３－１４８１０号公報

ディスクアトマイズ法において、溶湯の温度とディスクの温度との温度差が比較的大きいことにより、溶湯がディスクの表面になじまず、ディスクの表面にて溶湯が跳ね返る場合がある。この場合、溶湯がディスクの表面を伝うことなく、ディスクから噴霧されないため、微粉末の安定した製造が困難である。

そこで、本明細書は、金属の微粉末を製造するディスクアトマイズ法において、溶湯の温度とディスクの温度との温度差を抑制して、微粉末の製造の安定化を図ることができる遠心噴霧装置を開示することを目的とする。

本明細書によって開示された実施例に記載の遠心噴霧装置は、溶融された金属である溶湯を、第１所定回転数にて回転駆動するディスクの上面に供給して、ディスクの遠心力によって噴霧することにより、溶湯から所望の粒径の微粉末を製造する遠心噴霧装置であって、ディスクの温度であるディスク温度を検出する温度検出部と、溶湯がディスクに供給されている際に、温度検出部によって検出されたディスク温度が溶湯の温度である溶湯温度以下に設定された第１温度以上であるか否かを判定する判定部と、判定部によってディスク温度が第１温度より低いと判定された場合、ディスクの回転数であるディスク回転数を第１所定回転数より低い回転数にて制御するとともに、判定部によってディスク温度が第１温度以上であると判定された場合、ディスク回転数を第１所定回転数にて制御する回転数制御部と、を備えている。

本明細書によって開示された実施例に記載の遠心噴霧装置によれば、溶湯が供給されている際に、ディスク温度が溶湯温度以下の第１温度より低い場合、ディスク回転数が第１所定回転数より低い回転数にて制御される。これにより、ディスクの上面において溶湯の跳ね返りが抑制されるため、溶湯がディスクの上面を伝いやすくなり、ひいては、溶湯の熱がディスクに伝達しやすくなる。したがって、溶湯の温度とディスクの温度との温度差を抑制して、微粉末の製造の安定化を図ることができる。

本明細書の実施例に係る遠心噴霧装置の概要図である。 図１に示すディスクの拡大図である。 図１に示す遠心噴霧装置のブロック図である。 図１に示す遠心噴霧装置が微粉末を製造する場合におけるタイムチャートであり、上段がディスク温度、下段がディスク回転数を表している。 本明細書の実施例の変形例に係る遠心噴霧装置のブロック図である。 本明細書の実施例の変形例に係る遠心噴霧装置が微粉末を製造する場合におけるタイムチャートである。

以下、本明細書の実施例に係る遠心噴霧装置について図面を参照しながら説明する。本明細書においては、説明の便宜上、図１の上下方向を、遠心噴霧装置１の上下方向とする。なお、上下方向は、鉛直方向である。遠心噴霧装置１は、インゴット等が溶融された金属である溶湯Ｍから微粉末Ｐを製造するものである。金属は、例えばチタンである。遠心噴霧装置１は、図１に示すように、るつぼ１０、ディスク２０、ディスク駆動部３０、第１温度センサ４０、第２温度センサ５０、及び、制御装置６０を備えている。

るつぼ１０は、溶湯Ｍを内側に貯留するものである。るつぼ１０は、下方に向けて突出する凸状に形成された底壁１０ａを有する筒状に設けられている。るつぼ１０は、出湯部１１および蓋部材１２を備えている。

出湯部１１は、るつぼ１０の底壁１０ａと一体に設けられ、溶湯Ｍを下方に向けて吐出するものである。出湯部１１は、底壁１０ａの中央部に、底壁１０ａを貫通する貫通穴１１ａを有する筒状に設けられている。

蓋部材１２は、第１位置Ｐ１に位置する場合に出湯部１１からの溶湯Ｍの吐出を規制し、第２位置Ｐ２に位置する場合にて出湯部１１からの溶湯Ｍの吐出を許容するものである。第１位置Ｐ１は、蓋部材１２が出湯部１１の上端に貫通穴１１ａを塞ぐように液密に接触する位置である。第２位置Ｐ２は、第１位置Ｐ１より上方の位置であり、貫通穴１１ａを開放する位置である。蓋部材１２は、蓋駆動部（図示省略）によって第１位置Ｐ１と第２位置Ｐ２との間を移動する。

ディスク２０は、円盤状に設けられた円盤部２１および軸部２２を備えている（図２参照）。ディスク２０は、軸部２２の軸線２２ａ周りに矢印Ａの方向に回転駆動する。ディスク２０の回転方向は、上面視において反時計回り方向である。軸線２２ａの方向は、上下方向に沿う方向である。

円盤部２１は、上面２１ａが軸線２２ａに対して直交するように、かつ、上面２１ａの中央部が出湯部１１と対向するように配置されている。すなわち、円盤部２１は、上面２１ａが水平方向に沿うように設けられている。以下、円盤部２１の上面２１ａをディスク２０の上面２１ａと記載する場合がある。円盤部２１の上面２１ａは、特許請求の範囲のディスク２０の上面２１ａに相当する。軸部２２は、円盤部２１の中央部から上下方向に沿って下方に向けて延びるように設けられている。円盤部２１と軸部２２は、一体的に設けられている。

ディスク駆動部３０は、ディスク２０を回転駆動させるものである。ディスク駆動部３０は、例えばサーボモータである。ディスク駆動部３０は、制御装置６０によって出力される制御指令値にしたがってディスク２０の回転数であるディスク回転数を調整する。

第１温度センサ４０は、ディスク２０の温度であるディスク温度を検出するものである。第１温度センサ４０は、非接触型の温度センサであり、具体的には、放射温度計である。第１温度センサ４０は、円盤部２１の上面２１ａの温度を検出する。第１温度センサ４０は、具体的には、円盤部２１の下面２１ｂの温度を検出することにより、円盤部２１の上面２１ａの温度を間接的に検出する。円盤部２１の上面２１ａの温度と円盤部２１の下面２１ｂの温度との相関関係は、実験等により実測されて導出されている。第１温度センサ４０によって検出されたディスク温度は、制御装置６０に出力される。第１温度センサ４０は、特許請求の範囲の温度検出部に相当する。

第２温度センサ５０は、溶湯Ｍの温度である溶湯温度を検出するものである。第２温度センサ５０は、るつぼ１０の底壁１０ａの外面に接触して配置されている。第２温度センサ５０は、るつぼ１０の底壁１０ａの温度を検出することにより、溶湯温度を間接的に検出する。溶湯温度とるつぼ１０の底壁１０ａの温度との相関関係は、実験等により実測されて導出されている。第２温度センサ５０によって検出された溶湯温度は、制御装置６０に出力される。

微粉末Ｐが製造される場合、図２に示すように、ディスク駆動部３０によってディスク２０が回転駆動され、出湯部１１からディスク２０の上面２１ａに溶湯Ｍが供給される。溶湯Ｍは、ディスク２０の遠心力によってディスク２０の上面２１ａを伝って、円盤部２１の周縁に向けて移動し、円盤部２１の周縁から円盤部２１の径方向に沿って円盤部２１の外側に向けて噴霧される。噴霧された溶湯Ｍは、ディスク２０の周囲にある気体によって冷却されることにより凝固して、微粉末Ｐが形成される。気体は、例えば不活性ガスである。

遠心噴霧装置１の使用者が所望する微粉末Ｐの粒径を得るために、ディスク回転数が第１所定回転数に調整され、溶湯Ｍの流量が第１所定流量に調整される。溶湯Ｍの流量の調整は、出湯部１１に設けられた絞り弁（図示省略）によって、出湯部１１の流路面積が調整されることにより行われる。第１所定回転数及び第１所定流量は、金属の種類や溶湯温度に応じて、実験等によって実測されて設定されている。第１所定流量は、特許請求の範囲の所定流量に相当する。

このように、遠心噴霧装置１は、溶融された金属である溶湯Ｍを、第１所定回転数にて回転駆動するディスク２０の上面２１ａに供給して、ディスク２０の遠心力によって噴霧することにより、溶湯Ｍから微粉末Ｐを製造する。すなわち、遠心噴霧装置１は、遠心噴霧法（ディスクアトマイズ法）を用いて、微粉末Ｐを製造する。

また、円盤部２１の上面２１ａの温度すなわちディスク温度と、溶湯温度との温度差が比較的大きい場合、溶湯Ｍが円盤部２１の上面２１ａになじまず、図２の破線にて示すように溶湯Ｍの跳ね返りが発生する場合がある。この場合、微粉末Ｐが安定して製造されない。

金属粉末装置の構成について説明を続ける。
制御装置６０は、ディスク回転数を少なくとも制御するものである。制御装置６０と、ディスク駆動部３０、第１温度センサ４０及び第２温度センサ５０とは、有線または無線によって電気的に接続されている。制御装置６０は、図３に示すように、取得部６１、判定部６２、及び、回転数制御部６３を備えている。

取得部６１は、第１温度センサ４０及び第２温度センサ５０の検出結果を取得するものである。取得部６１によって取得された検出結果は、判定部６２に導出される。

判定部６２は、溶湯Ｍがディスク２０に供給されている際に、第１温度センサ４０によって検出されたディスク温度が溶湯Ｍの温度である溶湯温度以下に設定された第１温度以上であるか否かを判定する。第１温度は、第１所定回転数にて回転するディスク２０に溶湯Ｍが供給されている場合に、円盤部２１の上面２１ａにおいて溶湯Ｍの跳ね返りが抑制される温度に設定される。第１温度は、溶湯Ｍの種類毎に設定される。本実施例において、第１温度は、溶湯温度の９０％に設定されている。

回転数制御部６３は、ディスク回転数を制御するものである。回転数制御部６３は、ディスク回転数に応じたディスク駆動部３０の駆動量を制御指令値としてディスク駆動部３０に出力する。回転数制御部６３は、判定部６２によってディスク温度が第１温度より低いと判定された場合、ディスク２０の回転数であるディスク回転数を第１所定回転数より低い回転数にて制御する。

具体的には、回転数制御部６３は、判定部６２によってディスク温度が第１温度より低いと判定された場合、ディスク回転数を第１所定回転数より低い第２所定回転数にて一定とするように制御する。第２所定回転数は、ディスク温度が第１温度より低い場合であっても、溶湯Ｍの跳ね返りが抑制される回転数に設定される。第２所定回転数は、第１所定回転数のおよそ５～６０％、好ましくは１０～５０％、より好ましくは１５～４０％にて設定される。本実施例において、第２所定回転数は、第１所定回転数の２０％に設定されている。
一方、回転数制御部６３は、判定部６２によってディスク温度が第１温度以上であると判定された場合、ディスク回転数を第１所定回転数にて制御する。

次に、遠心噴霧装置１が微粉末Ｐを製造する動作について図４のタイムチャートを用いて説明する。るつぼ１０に溶湯Ｍが貯留されておらず、蓋部材１２が第１位置Ｐ１に位置し、かつ、ディスク２０が回転駆動していない状態から説明する。このとき、ディスク回転数はゼロであり、ディスク温度は、ディスクの周囲の気体の温度に相当する雰囲気温度である。

蓋部材１２が第１位置Ｐ１から第２位置Ｐ２に移動されることにより、溶湯Ｍの供給が第１所定流量にて開始され、かつ、ディスク２０の回転駆動が開始される（時刻ｔ１）。溶湯Ｍがディスク２０の上面２１ａに到達することにより（図２参照）、溶湯Ｍの熱がディスク２０に伝達するため、ディスク温度がさらに上昇する。この時、ディスク温度が第１温度より低いため、ディスク回転数が第２所定回転数にて一定となるように、ディスク２０が回転駆動する（回転数制御部６３、ディスク駆動部３０）。

ディスク回転数が第１所定回転数より低い第２所定回転数であるため、ディスク温度が第１温度より低い場合であっても、ディスク２０の上面２１ａにおいて溶湯Ｍの跳ね返りが抑制される。よって、溶湯Ｍは、ディスク２０の上面２１ａを伝って、ディスク２０の上面２１ａの周縁から円盤部２１の径方向に沿って円盤部２１の外側に向けて噴霧される。また、このとき、製造される微粉末Ｐの粒径は、使用者が所望する粒径よりも大きくなる。

続けて、溶湯Ｍがディスク２０の上面２１ａに供給されることにより、ディスク温度がさらに上昇し、ディスク温度が第１温度に到達した時（時刻ｔ２）、ディスク回転数が第１所定回転数に切り替えられて、ディスク２０が回転駆動する（回転数制御部６３、ディスク駆動部３０）。これにより、製造される微粉末Ｐの粒径は、使用者が所望する粒径となる。さらに、溶湯Ｍが供給されることによってディスク温度が上昇し、溶湯温度に到達する。溶湯Ｍが供給されている間は、ディスク温度が溶湯温度に維持される。

微粉末Ｐの製造が終了し、蓋部材１２が第２位置Ｐ２から第１位置Ｐ１に移動されることにより溶湯Ｍの供給が停止され、かつ、ディスク２０の回転駆動が停止されると（時刻ｔ３）、ディスク温度が徐々に低下する。

一方、微粉末Ｐの製造が開始される時点（時刻ｔ１）において、ディスク温度が第１温度以上である場合、微粉末Ｐの製造が開始される時点から、ディスク回転数が第１所定回転数にてディスク２０が回転駆動される（回転数制御部６３、ディスク駆動部３０）。

なお、本実施例とは異なり、ディスク温度が第１温度より低い場合にディスク回転数が、第２所定回転数より高い第１所定回転数にて回転駆動された場合、上述したように、ディスク２０の上面２１ａにて溶湯Ｍの跳ね返りが発生する（図２の破線参照）。この場合、溶湯Ｍの熱がディスク２０に十分に伝達されないため、図４の一転鎖線にて示すように、ディスク温度が第１温度にまで上昇しないことが考えられる。

本実施例によれば、遠心噴霧装置１は、溶融された金属である溶湯Ｍを、第１所定回転数にて回転駆動するディスク２０の上面２１ａに供給して、ディスク２０の遠心力によって噴霧することにより、溶湯Ｍから所望の粒径の微粉末Ｐを製造する。遠心噴霧装置１は、ディスク２０の温度であるディスク温度を検出する第１温度センサ４０と、溶湯Ｍがディスク２０に供給されている際に、第１温度センサ４０によって検出されたディスク温度が溶湯Ｍの温度である溶湯温度以下に設定された第１温度以上であるか否かを判定する判定部６２と、判定部６２によってディスク温度が第１温度より低いと判定された場合、ディスク２０の回転数であるディスク回転数を第１所定回転数より低い回転数にて制御するとともに、判定部６２によってディスク温度が第１温度以上であると判定された場合、ディスク回転数を第１所定回転数にて制御する回転数制御部６３と、を備えている。

本実施例によれば、遠心噴霧装置１は、溶湯Ｍが供給されている際に、ディスク温度が溶湯温度以下の第１温度より低い場合、ディスク回転数が第１所定回転数より低い回転数にて制御される。これにより、ディスク２０の上面２１ａにおいて溶湯Ｍの跳ね返りが抑制されるため、溶湯Ｍがディスク２０の上面２１ａを伝いやすくなり、ひいては、溶湯Ｍの熱がディスク２０に伝達しやすくなる。したがって、溶湯温度とディスク温度との温度差を抑制して、微粉末Ｐの製造の安定化を図ることができる。

また、回転数制御部６３は、判定部６２によってディスク温度が第１温度より低いと判定された場合、ディスク回転数を第１所定回転数より低い第２所定回転数にて一定とするように制御する。
これによれば、溶湯Ｍの熱がディスク２０に確実に伝達されるため、微粉末Ｐの製造の安定化をより図ることができる。

なお、上述した実施例において、遠心噴霧装置の一例を示したが、本明細書の実施例はこれに限定されず、他の構成を採用することもできる。例えば、ディスク温度が第１温度より低い場合、ディスク回転数が第２所定回転数にて一定となるように制御されているが、これに代えて、ディスク回転数を第２所定回転数より低い回転数にて変動させるように制御してもよい。この場合、例えば、ディスク回転数をゼロから第２所定回転数まで徐々に増加させる。また、ディスク回転数を第１所定回転数より低い回転数にて変動させるように制御してもよい。

また、上述した実施例において、回転数制御部６３は、判定部６２の判定結果に基づいて、ディスク回転数を制御しているが、これに代えて、判定部６２の判定結果に関わらず、微粉末Ｐの製造が開始される時（図４の時刻ｔ１）に、ディスク回転数を第１所定回転数より低い回転数に設定してもよい。この場合、例えば、回転数制御部６３は、製造が開始される時に、ディスク回転数を第２所定回転数に設定する。続けて、微粉末Ｐの製造が開始される時点から、ディスク温度が第１温度より低い場合、ディスク回転数が第２所定回転数に維持される（図４）。さらに、溶湯Ｍが供給されることによって、ディスク温度が第１温度以上となった場合、ディスク回転数が第１所定回転数に切り替えられる（図４の時刻ｔ２）。これに対して、微粉末Ｐの製造が開始される時点からディスク温度が第１温度以上である場合、ディスク回転数は、微粉末Ｐの製造が開始された時点の直後に第２所定回転数から第１所定回転数に切り替えられる。なお、この場合において、製造が開始された時点から所定時間（例えば５秒）経過した時点から、回転数制御部６３が、判定部６２の判定結果に基づいて、ディスク回転数を制御してもよい。

これによれば、微粉末Ｐの製造が開始される時から溶湯Ｍの跳ね返りを確実に抑制することができる。したがって、製造の安定化をさらに図ることができる。なお、微粉末Ｐの製造が開始される時点（時刻ｔ１）において、ディスク２０を第１所定回転数より低い回転数にて回転駆動させて、ディスク２０の上面２１ａに溶湯Ｍを供給する工程が、特許請求の範囲に記載の第１工程に相当する。また、第１工程が実行された後、ディスク２０の温度が第１温度以上となった場合、ディスクの回転数を第１所定回転数に調整する工程が、特許請求の範囲に記載の第２工程に相当する。

また、上述した実施例において、微粉末Ｐが製造されている間、溶湯Ｍが第１所定流量にて一定で供給されるが、これに代えて、溶湯Ｍの流量を変動させてもよい。この場合、遠心噴霧装置１は、図５に示すように、流量調整部１７０及び流量制御部１６４をさらに備える。

流量調整部１７０は、溶湯Ｍの流量を調整するものである。流量調整部１７０は、例えば、流量を調整する絞り弁（図示省略）を有する流量調整弁である。流量調整部１７０は、例えば、出湯部１１に配置され、制御装置６０と有線または無線によって電気的に接続されている。流量調整部１７０には、制御装置６０からの絞り弁の絞り量が制御指令値として出力される。

流量制御部１６４は、ディスク回転数に応じて、溶湯Ｍの流量を制御するものである。具体的には、流量制御部１６４は、回転数制御部６３によってディスク回転数が第１所定回転数にて制御されている場合、流量調整部１７０によって、溶湯Ｍの流量を第１所定流量にて制御する。また、回転数制御部６３によってディスク回転数が第１所定回転数より低い回転数にて制御されている場合、流量調整部１７０によって、溶湯Ｍの流量が第１所定流量より多い流量にて制御される。具体的には、流量調整部１７０によって、溶湯Ｍの流量が第１所定流量より多い第２所定流量一定にて制御される。

これにより、ディスク回転数が第１所定回転数より低い回転数にて制御されている場合、溶湯Ｍが第１所定流量より多い第２所定流量一定にて供給される。よって、ディスク２０に伝達される単位時間当たりの溶湯Ｍの熱量が増加するため、上述した実施例に比べて、ディスク温度が早期に第１温度に到達する。よって、微粉末Ｐの製造の安定化を早期に図ることができる。ディスク回転数が第１所定回転数にて制御されている場合、溶湯Ｍが第１所定流量にて供給されるため、使用者が所望する微粉末Ｐが製造される。

なお、流量制御部１６４は、ディスク回転数が第１所定回転数より低い回転数にて制御されている場合、第２所定流量一定ではなく、第１所定流量より多い流量にて変動させてもよい。

また、流量制御部１６４は、判定部６２の結果に基づいて溶湯Ｍの流量を制御してもよい。例えば、回転数制御部６３は、判定部６２によってディスク温度が第１温度より低いと判定された場合、溶湯Ｍの流量を第１所定流量より多い流量に設定するとともに、判定部６２によってディスク温度が第１温度以上であると判定された場合、溶湯Ｍの流量を第１所定流量にて制御する。

また、上述した実施例において、溶湯Ｍの流量の調整は、絞り弁によって行われているが、これに代えて、蓋部材１２の移動量の調整によって行うようにしても良い。また、るつぼ１０に貯留された溶湯Ｍの液面に作用する圧力を調整することによって、溶湯Ｍの流量を調整可能としてもよい。

また、上述した実施例において、溶湯Ｍの供給が開始された時点（時刻ｔ１）からディスク温度が上昇するが、これに代えて、溶湯Ｍの供給が開始される時点より前からディスク温度を上昇させるようにしてもよい。具体的には、るつぼ１０とディスク２０との距離を調整し、るつぼ１０に貯留された溶湯Ｍの熱がディスク２０に伝わるようにする。この場合、図６に示すように、るつぼ１０に溶湯Ｍが貯められることにより（時刻ｔ０）、るつぼ１０からの輻射熱でディスク温度が雰囲気温度から上昇する。これによれば、溶湯Ｍの供給が開始される時点（時刻ｔ１）より前にディスク温度を上昇させることができるため、微粉末Ｐの製造の安定化をより早期に図ることができる。具体的には、ディスク回転数が第２所定回転数にて制御されている時間を短くすることができる。

また、本明細書の要旨を逸脱しない範囲において、るつぼ１０やディスク２０の形状、溶湯Ｍの吐出方法、ディスク２０の回転方向を変更してもよい。また、るつぼ１０としては、耐火物炉やコールドクルーシブル炉であってもよい。

１…遠心噴霧装置、２０…ディスク、３０…ディスク駆動部、４０…第１温度センサ（温度検出部）、６０…制御装置、６２…判定部、６３…回転数制御部、１６４…流量制御部、１７０…流量調整部、Ｍ…溶湯、Ｐ…微粉末。

Claims (5)

1. 溶融された金属である溶湯を、第１所定回転数にて回転駆動するディスクの上面に供給して、前記ディスクの遠心力によって噴霧することにより、前記溶湯から所望の粒径の微粉末を製造する遠心噴霧装置であって、
   前記ディスクの温度であるディスク温度を検出する温度検出部と、
   前記溶湯が前記ディスクに供給されている際に、前記温度検出部によって検出された前記ディスク温度が前記溶湯の温度である溶湯温度以下に設定された第１温度以上であるか否かを判定する判定部と、
   前記判定部によって前記ディスク温度が前記第１温度より低いと判定された場合、前記ディスクの回転数であるディスク回転数を前記第１所定回転数より低い回転数にて制御するとともに、
   前記判定部によって前記ディスク温度が前記第１温度以上であると判定された場合、前記ディスク回転数を前記第１所定回転数にて制御する回転数制御部と、
   前記溶湯の流量を調整する流量調整部と、
   前記回転数制御部によって前記ディスク回転数が前記第１所定回転数にて制御されている場合、前記流量調整部によって、前記溶湯の流量を所定流量にて制御するとともに、
   前記回転数制御部によって前記ディスク回転数が前記第１所定回転数より低い回転数にて制御されている場合、前記流量調整部によって、前記溶湯の流量を前記所定流量より多い流量にて制御する流量制御部と、備えている遠心噴霧装置。
2. 溶融された金属である溶湯を、第１所定回転数にて回転駆動するディスクの上面に供給して、前記ディスクの遠心力によって噴霧することにより、前記溶湯から所望の粒径の微粉末を製造する遠心噴霧装置であって、
   前記ディスクの温度であるディスク温度を検出する温度検出部と、
   前記溶湯が前記ディスクに供給されている際に、前記温度検出部によって検出された前記ディスク温度が前記溶湯の温度である溶湯温度以下に設定された第１温度以上であるか否かを判定する判定部と、
   前記判定部によって前記ディスク温度が前記第１温度より低いと判定された場合、前記ディスクの回転数であるディスク回転数を前記第１所定回転数より低い回転数にて制御するとともに、
   前記判定部によって前記ディスク温度が前記第１温度以上であると判定された場合、前記ディスク回転数を前記第１所定回転数にて制御する回転数制御部と、を備え、
   前記温度検出部は、
   非接触型の温度センサであり、
   前記ディスクの下面側に配置されることで、前記溶湯が前記ディスクに供給されている際に、前記ディスクの下面の温度を検出し、検出された前記ディスクの下面の温度と、予め定められた相関関係とに基づいて、前記ディスクの上面の温度を間接的に検出する、遠心噴霧装置。
3. 前記回転数制御部は、前記判定部によって前記ディスク温度が前記第１温度より低いと判定された場合、前記ディスク回転数を前記第１所定回転数より低い第２所定回転数にて一定とするように制御する請求項１又は請求項２に記載の遠心噴霧装置。
4. 前記回転数制御部は、前記微粉末の製造が開始される時に、前記ディスク回転数を前記第１所定回転数より低い回転数に設定する請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の遠心噴霧装置。
5. 第１所定回転数にて回転駆動するディスクの上面に、溶融された金属である溶湯が供給されて、前記ディスクの遠心力によって噴霧されることにより、所望の粒径を有する微粉末を製造する遠心噴霧法に適用される微粉末の製造方法であって、
   前記ディスクを前記第１所定回転数より低い回転数にて回転駆動させて、前記ディスクの上面に前記溶湯を供給する第１工程と、
   前記第１工程が実行された後、前記ディスクの温度が前記溶湯の温度以下に設定された第１温度以上となった場合、前記ディスクの回転数を前記第１所定回転数に調整する第２工程と、
   前記溶湯の流量を調整する第３工程と、
   前記ディスクの回転数が前記第１所定回転数にて制御されている場合、前記溶湯の流量を所定流量にて制御するとともに、
   前記ディスクの回転数が前記第１所定回転数より低い回転数にて制御されている場合、前記溶湯の流量を前記所定流量より多い流量にて制御する第４工程と、を備えている微粉末の製造方法。
   

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