JP7318086B1 - 連続加熱炉 - Google Patents
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Abstract
【課題】連続加熱炉において、露点が適切に制御された加熱加湿処理を実施する。【解決手段】ここに開示される連続加熱炉１は、トンネル状の炉体１０と、ヒータ３０と、炉体内１０ｉを複数の領域Ｒ１～Ｒ３に仕切る隔壁４０と、複数の領域Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つの領域Ｒ１に設けられた湿潤ガス供給配管８０と、湿潤ガス供給配管８０に湿潤ガスを供給する加湿機構５０と、炉体内１０ｉのうち湿潤ガスが供給される領域（第１領域Ｒ１）の露点を測定する露点計６０と、制御装置７０とを備えている。そして、制御装置７０は、露点計６０の測定値に基づいて、第１領域Ｒ１の露点が、予め定められた目的露点範囲ＤＲの範囲内になるように加湿機構７０を制御する。これによって、炉体内１０ｉの所望の領域における露点を目的露点範囲ＤＲの範囲内に維持することができるため、露点が適切に制御された加熱加湿処理を実施できる。【選択図】図１
Description
本開示は、連続加熱炉に関する。
セラミック製品の製造では、製品の性能向上や過乾燥の防止などの観点から、加湿環境下で被処理物を加熱する加熱加湿処理が行われることがある。例えば、特開２０２１－３９９３３号公報では、リチウムニッケル複合酸化物の焼成粉末を吸湿処理した後に乾燥する正極活物質の製造方法が開示されている。これによって、放電容量に優れた正極活物質を製造できる。また、特開２００８－１１０５４１号公報には、高湿雰囲気でハニカム成形体を乾燥させる乾燥装置が開示されている。これによって、過乾燥によるハニカム成形体の割れ（クラック）などを防止できる。
ところで、従来の加熱加湿処理では、処理が完了する度に被処理物を入れ替えるバッチ処理が行われている。この種のバッチ処理では、密閉式の加熱炉を使用することができる。この密閉式の加熱炉を使用した場合、特開２００８－１１０５４１号公報などに記載の通り、炉内に供給される前の蒸気（湿潤ガス）の湿度を管理すれば、処理中の炉内の湿度を容易に制御することができる。また、適切な水分が存在している環境で加熱加湿処理を実施するために、湿潤ガスの露点が管理されることもある。
一方、セラミック製品を大量生産する際には、被処理物を搬送しながら連続的に処理する連続処理が行われる。この連続処理に使用される加熱炉（連続加熱炉）は、炉体内の空間が非常に広く、かつ、搬入口や搬出口などの開口部が複数形成されている。このため、連続加熱炉を用いた大量生産では、炉内の露点を適切に制御した状態で加熱加湿処理を実施することが困難であった。
上記課題を解決するために、ここに開示される技術によって、以下の構成の連続加熱炉が提供される。
ここに開示される連続加熱炉は、予め定められた搬送方向に沿って被処理物が搬送されるトンネル状の炉体と、炉体内に配置されたヒータと、炉体内を搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、炉体内のうち湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、制御装置とを備えている。ここで、制御装置は、露点計の測定値に基づいて、露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように加湿機構を制御するように構成されている。
上記構成の連続加熱炉では、炉体内の所望の領域の露点を露点計で測定し、当該露点計の測定値に基づいて湿潤ガスの露点を、予め定められた目的露点範囲の範囲内に維持することができる。このため、ここに開示される技術によると、大量生産のために連続加熱炉を用いた場合でも、露点を適切に制御した状態で加熱加湿処理を実施することができる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点を測定するように構成されており、制御装置は、露点計の測定値に基づいて、湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点が目的露点範囲の範囲内になるように加湿機構を制御するように構成されている。これによって、湿潤ガスが直接供給される領域の露点を正確に制御することができる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、露点計が露点を測定する領域に一端が接続され、炉体の外部に他端が延びる測定管と、炉体内のガスを測定管に引き込む吸引装置とをさらに備え、露点計は、測定管のうち、目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該露点計の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている。これによって、熱や結露による露点計の劣化を防止できる。この結果、より正確な測定値に基づいて、露点を制御することができる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、測定管は、露点計が配置された位置の圧力を測定するための圧力計を有し、制御装置は、圧力計の測定値に基づいて露点計の測定値を補正するように構成されている。これによって、より正確な測定値に基づいた露点制御を行うことができる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、測定管は、炉体内から流入したガスを保護温度域まで冷却する冷却部と、冷却部を通過したガスを保護温度域に維持する保温部とを備えている。これによって、熱や結露による露点計の劣化をより適切に防止できる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、露点計よりも炉体に近い位置にフィルタが配置されている。これによって、異物の付着による露点計の劣化を防止できる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、加湿機構は、水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する気化器と、気化器に水を供給する水供給ラインと、気化器にガスを供給するガス供給ラインと、気化器で生成した湿潤ガスを湿潤ガス供給配管に供給する湿潤ガス供給ラインとを備えている。かかる構成の加湿機構によると、湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを適切に供給することができる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、水供給ラインは、気化器に供給される水の流量を調整する流量調整手段を備えており、制御部は、流量調整手段を制御することによって湿潤ガスの露点を調節する。かかる構成によると、湿潤ガスの露点を容易に調節することができる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、湿潤ガス供給配管は、炉体内における被処理物の上方に配置され、下方に向けて湿潤ガスを噴射する上部噴射口を備えている。これによって、被処理物が搬送される搬送領域の露点を適切に制御できる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、露点計は、上部噴射口と被処理物との間における露点を測定する。これによって、搬送領域の露点をより適切に制御できる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、湿潤ガス供給配管は、炉体内における被処理物の下方に配置され、上方に向けて湿潤ガスを噴射する下部噴射口を備えている。これによって、被処理物が搬送される搬送領域の露点を適切に制御できる。
ここに開示される技術の他の側面として、次の構成の連続加熱炉が提供される。かかる連続加熱炉は、被処理物が予め定められた搬送方向に沿って搬送されるトンネル状の炉体と、炉体内に配置されたヒータと、炉体内を搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、炉体内のうち湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサと、センサの測定対象となる領域に一端が接続され、炉体の外部に他端が延びる測定管と、炉体内のガスを測定管に引き込む吸引装置とを備えている。ここで、センサは、測定管のうち、センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている。これによって、熱や結露によるセンサの劣化を防止できる。
ここに開示される連続加熱炉の一態様では、センサは、酸素センサ、マルチガスアナライザーから選択される少なくとも一種である。ここに開示される技術によると、これらのセンサの劣化を適切に防止できる。
以下、ここに開示される技術の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって、ここに開示される技術の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。ここに開示される技術は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施できる。なお、本明細書において数値範囲を示す「Ａ～Ｂ」の表記は、「Ａ以上Ｂ以下」の意と共に、「好ましくはＡより大きい」および「好ましくはＢより小さい」の意を包含するものとする。
１．連続加熱炉
図１は、本実施形態に係る連続加熱炉を模式的に示す縦断面図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ断面図である。図３は、本実施形態に係る連続加熱炉を模式的に示すブロック図である。図４は、図３中の気化器を模式的に示す断面図である。図５は、制御装置による制御動作を説明するフロー図である。なお、以下の説明において、図面中の符号Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒ、Ｕ、Ｄは、それぞれ、左方、右方、前方、後方、上方、下方を表すものとする。
図１は、本実施形態に係る連続加熱炉を模式的に示す縦断面図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ断面図である。図３は、本実施形態に係る連続加熱炉を模式的に示すブロック図である。図４は、図３中の気化器を模式的に示す断面図である。図５は、制御装置による制御動作を説明するフロー図である。なお、以下の説明において、図面中の符号Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒ、Ｕ、Ｄは、それぞれ、左方、右方、前方、後方、上方、下方を表すものとする。
連続加熱炉１は、搬送方向Ｔ（図１中の前方Ｆから後方Ｒｒ）に向かって被処理物Ａを搬送しながら連続的に加熱する。なお、処理対象である被処理物Ａは、特に限定されず、加熱加湿処理が行われ得る従来公知の材料を適宜選択できる。被処理物Ａの一例として、電極材料（例えば、リチウムイオン二次電池の正極活物質）、セラミック製の構造体などが挙げられる。また、被処理物Ａは、連続加熱炉１に直接供給されてもよいし、耐火容器に収容して供給してもよい。かかる耐火容器は、例えば、ムライト、コーディライト、アルミナ、マグネシア、ジルコニア、カーボン等から構成されているものが用いられ得る。
本実施形態に係る連続加熱炉１は、炉体１０と、ヒータ３０と、隔壁４０と、湿潤ガス供給配管８０と、加湿機構５０と、露点計６０と、制御装置７０とを備えている。また、連続加熱炉１は、上記構成の他に、搬送ローラ２０も備えている。以下、各構成について説明する。
（１）炉体
図１に示すように、炉体１０は、予め定められた搬送方向Ｔに沿って被処理物Ａが搬送されるトンネル状の炉体である。具体的には、炉体１０は、前方Ｆから後方Ｒｒに向かって延びている。被処理物Ａは、この炉体１０の内部（炉体内１０ｉ）を搬送される。また、本実施形態における炉体１０は、被処理物Ａが搬入される搬入口１４と、被処理物Ａが搬出される搬出口１６とを備えている。そして、搬入口１４と搬出口１６は、炉体内１０ｉを介して連通している。なお、図示は省略するが、搬入口１４には、当該搬入口１４に被処理物Ａを搬入する搬入コンベアが取り付けられていてもよい。また、搬出口１６には、当該搬出口１６から被処理物Ａを搬出する搬出コンベアが取り付けられていてもよい。さらに、炉体１０は、基台１９の上に載置されている。
図１に示すように、炉体１０は、予め定められた搬送方向Ｔに沿って被処理物Ａが搬送されるトンネル状の炉体である。具体的には、炉体１０は、前方Ｆから後方Ｒｒに向かって延びている。被処理物Ａは、この炉体１０の内部（炉体内１０ｉ）を搬送される。また、本実施形態における炉体１０は、被処理物Ａが搬入される搬入口１４と、被処理物Ａが搬出される搬出口１６とを備えている。そして、搬入口１４と搬出口１６は、炉体内１０ｉを介して連通している。なお、図示は省略するが、搬入口１４には、当該搬入口１４に被処理物Ａを搬入する搬入コンベアが取り付けられていてもよい。また、搬出口１６には、当該搬出口１６から被処理物Ａを搬出する搬出コンベアが取り付けられていてもよい。さらに、炉体１０は、基台１９の上に載置されている。
炉体１０は、例えば、外壁１３と、断熱部１５とによって構成される。外壁１３は、炉体１０の最外面をなす部材である。外壁１３は、例えば、ステンレス等の金属材料によって構成される。断熱部１５は、炉体内１０ｉと外壁１３との間に配置される部材である。図２に示すように、炉体内１０ｉは、断熱部１５に囲まれていることが好ましい。これによって、炉体内の温度を制御しやすくなる。断熱部１５は、例えば、セラミックファイバーボードや煉瓦などを積層することによって形成される。なお、図１に示す炉体１０では、搬入口１４と搬出口１６の周囲に断熱部１５が配置されていない。但し、断熱部の配置位置は、ここに開示される技術を限定するものではない。すなわち、断熱部は、搬入口や搬出口の周囲に配置されていてもよい。
なお、搬送方向Ｔにおける炉体内１０ｉの全長は、５ｍ～２００ｍ（典型的には５ｍ～１００ｍ、例えば２５ｍ～７５ｍ）になり得る。ここに開示される技術によると、炉体内１０ｉが長大な連続加熱炉１であっても、適切な露点に制御された加熱加湿処理を実施できる。
また、図２に示すように、炉体内１０ｉは、左右方向において複数列（図２では３列）の被処理物Ａを配列できる程度の幅を有していることが好ましい。これによって、セラミック製品の生産効率を向上することができる。具体的な炉体内１０ｉの幅は、０．１ｍ～１０ｍ（好適には０．５ｍ～７．５ｍ、より好適には１ｍ～５ｍ）になり得る。ここに開示される技術によると、炉体内１０ｉの幅が広い連続加熱炉１であっても、適切な露点に制御された加熱加湿処理を実施できる。
（２）搬送ローラ
本実施形態に係る連続加熱炉１は、複数の搬送ローラ２０によって被処理物Ａを搬送するローラハースキルンである。図１に示すように、複数の搬送ローラ２０は、上下方向における位置が揃うように搬送方向Ｔに沿って連続的に配置されている。具体的には、図２に示すように、搬送ローラ２０は、左方Ｌから右方Ｒに延びる円筒状のローラである。この搬送ローラ２０は、炉体１０の両側壁１０ｃに形成された挿通孔１０ｄに挿通される。そして、搬送ローラ２０の両端部２０ａ、２０ｂは、炉体１０の外部において、一対の支持板２１ａ、２１ｂに回転可能に支持される。この一対の支持板２１ａ、２１ｂの各々は、搬送方向（図２の紙面に対して垂直方向）に延びている。この搬送方向に延びる支持板２１ａ、２１ｂには、複数の搬送ローラ２０が支持されている。これによって、複数の搬送ローラ２０を搬送方向Ｔに沿って連続的に配置することができる。
本実施形態に係る連続加熱炉１は、複数の搬送ローラ２０によって被処理物Ａを搬送するローラハースキルンである。図１に示すように、複数の搬送ローラ２０は、上下方向における位置が揃うように搬送方向Ｔに沿って連続的に配置されている。具体的には、図２に示すように、搬送ローラ２０は、左方Ｌから右方Ｒに延びる円筒状のローラである。この搬送ローラ２０は、炉体１０の両側壁１０ｃに形成された挿通孔１０ｄに挿通される。そして、搬送ローラ２０の両端部２０ａ、２０ｂは、炉体１０の外部において、一対の支持板２１ａ、２１ｂに回転可能に支持される。この一対の支持板２１ａ、２１ｂの各々は、搬送方向（図２の紙面に対して垂直方向）に延びている。この搬送方向に延びる支持板２１ａ、２１ｂには、複数の搬送ローラ２０が支持されている。これによって、複数の搬送ローラ２０を搬送方向Ｔに沿って連続的に配置することができる。
また、各々の搬送ローラ２０の右方Ｒ側の端部２０ｂには、スプロケット２２が取り付けられている。一方、炉体１０の外部（基台１９の下方Ｄ）には、駆動スプロケット２４を有する駆動装置２６が配置されている。そして、搬送ローラ２０のスプロケット２２と、駆動装置２６の駆動スプロケット２４とは、ローラチェーン２５を介して接続されている。これによって、駆動装置２６で生じた動力を搬送ローラ２０に伝達し、搬送ローラ２０を回転させることができる。なお、図示は省略するが、本実施形態では、搬送方向（紙面垂直方向）に並んだ複数の搬送ローラ２０の各々のスプロケット２２と、１つの駆動スプロケット２４とが、ローラチェーン２５を介して接続されている。これによって、１つの駆動装置２６で複数の搬送ローラ２０を同時に回転させることができる。
（３）ヒータ
ヒータ３０は、炉体内１０ｉに配置されている。図１に示すように、本実施形態に係る連続加熱炉１は、複数のヒータ３０を備えている。複数のヒータ３０は、上記複数の搬送ローラ２０に沿うように、搬送方向Ｔに沿って所定の間隔を空けて並べられている。これによって、搬送ローラ２０上を搬送される被処理物Ａを連続的に加熱できる。また、本実施形態におけるヒータ３０は、搬送ローラ２０の上方Ｕに配置される上部ヒータ３２と、搬送ローラ２０の下方Ｄに配置される下部ヒータ３４とを備えている。これによって、搬送中の被処理物Ａを均一に加熱できる。なお、ヒータ３０は、加熱炉に使用され得る従来公知のヒータを特に制限なく使用できる。かかるヒータ３０の一例として、セラミックヒータ、金属シースヒータ、カーボンヒータ等が挙げられる。また、ヒータの形状も特に限定されない。例えば、ヒータは、図１に示す円筒状のヒータ３０に限定されず、板状のパネルヒータ等を使用してもよい。
ヒータ３０は、炉体内１０ｉに配置されている。図１に示すように、本実施形態に係る連続加熱炉１は、複数のヒータ３０を備えている。複数のヒータ３０は、上記複数の搬送ローラ２０に沿うように、搬送方向Ｔに沿って所定の間隔を空けて並べられている。これによって、搬送ローラ２０上を搬送される被処理物Ａを連続的に加熱できる。また、本実施形態におけるヒータ３０は、搬送ローラ２０の上方Ｕに配置される上部ヒータ３２と、搬送ローラ２０の下方Ｄに配置される下部ヒータ３４とを備えている。これによって、搬送中の被処理物Ａを均一に加熱できる。なお、ヒータ３０は、加熱炉に使用され得る従来公知のヒータを特に制限なく使用できる。かかるヒータ３０の一例として、セラミックヒータ、金属シースヒータ、カーボンヒータ等が挙げられる。また、ヒータの形状も特に限定されない。例えば、ヒータは、図１に示す円筒状のヒータ３０に限定されず、板状のパネルヒータ等を使用してもよい。
なお、連続加熱炉１は、ヒータ３０を制御する温度制御部（図示省略）を備えていることが好ましい。これによって、炉体内の温度を容易に制御できる。なお、ヒータ３０の温度制御に関する構成は、ここに開示される技術を限定するものではなく、連続加熱炉で使用され得る従来公知の構成を適宜採用できる。例えば、炉体内１０ｉの上部と下部の各々に温度センサ（図示省略）を設置するという構成が挙げられる。この場合、上部の温度センサの測定結果に基づいて上部ヒータ３２を制御し、下部の温度センサの測定結果に基づいて下部ヒータ３４を制御するとよい。これによって、被処理物Ａを適切な温度で加熱できる。また、炉体内１０ｉの具体的な温度は、被処理物Ａの種類などに応じて適宜変更できる。
（３）隔壁
隔壁４０は、炉体内１０ｉを搬送方向Ｔに沿って複数の領域Ｒ１～Ｒ３に仕切る部材である。ここに開示される技術を限定するものではないが、隔壁４０には、断熱部１５と同様の断熱材を使用することができる。本実施形態における隔壁４０は、炉体１０の天井１０ａから下方Ｄに突出する上部隔壁４２と、炉体１０の底面１０ｂから上方Ｕに突出する下部隔壁４４とを備えている。この上部隔壁４２と下部隔壁４４とは、搬送ローラ２０を挟んで対向している。換言すると、本実施形態における隔壁４０は、隣接した領域を連通させ、被処理物Ａを通過させる開口部４０ａを有している。本実施形態における炉体内１０ｉには、この隔壁４０の開口部４０ａを介して複数の領域Ｒ１～Ｒ３を通過する搬送領域１ａが形成される。
隔壁４０は、炉体内１０ｉを搬送方向Ｔに沿って複数の領域Ｒ１～Ｒ３に仕切る部材である。ここに開示される技術を限定するものではないが、隔壁４０には、断熱部１５と同様の断熱材を使用することができる。本実施形態における隔壁４０は、炉体１０の天井１０ａから下方Ｄに突出する上部隔壁４２と、炉体１０の底面１０ｂから上方Ｕに突出する下部隔壁４４とを備えている。この上部隔壁４２と下部隔壁４４とは、搬送ローラ２０を挟んで対向している。換言すると、本実施形態における隔壁４０は、隣接した領域を連通させ、被処理物Ａを通過させる開口部４０ａを有している。本実施形態における炉体内１０ｉには、この隔壁４０の開口部４０ａを介して複数の領域Ｒ１～Ｒ３を通過する搬送領域１ａが形成される。
また、図１に示す連続加熱炉１では、２組の隔壁４０が形成されている。これによって、炉体内１０ｉは、３つの領域Ｒ１～Ｒ３に仕切られる。説明の便宜上、これらの３つの領域Ｒ１～Ｒ３を、前方Ｆから後方Ｒｒに向かって、第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２、第３領域Ｒ３と称する。なお、炉体内に形成される領域の数は、特に限定されず、目的とする処理の内容や炉体内の全長などに応じて適宜増減できる。例えば、炉体内に形成される領域の数は、２個～１００個でもよく、５個～７０個でもよく、１０個～５０個でもよく、２０個～４０個でもよい。
（５）湿潤ガス供給配管
湿潤ガス供給配管８０は、複数の領域Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つの領域に設けられている。図１に示すように、本実施形態における湿潤ガス供給配管８０は、搬送方向Ｔの最上流側の領域（第１領域Ｒ１）に設けられている。なお、湿潤ガス供給配管を取り付ける領域の位置は、ここに開示される技術を限定するものではない。湿潤ガス供給配管は、下流側の領域（第２領域Ｒ２や第３領域Ｒ３）に設けられていてもよい。また、湿潤ガス供給配管を取り付ける領域の数も、ここに開示される技術を限定するものではない。すなわり、湿潤ガス供給配管は、２つ以上の領域に取り付けられていてもよい。また、湿潤ガス供給配管８０には、保温部材やヒータなどの保温機構が取り付けられていることが好ましい。これによって、湿潤ガス供給配管８０の内部での結露を抑制できる。
湿潤ガス供給配管８０は、複数の領域Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つの領域に設けられている。図１に示すように、本実施形態における湿潤ガス供給配管８０は、搬送方向Ｔの最上流側の領域（第１領域Ｒ１）に設けられている。なお、湿潤ガス供給配管を取り付ける領域の位置は、ここに開示される技術を限定するものではない。湿潤ガス供給配管は、下流側の領域（第２領域Ｒ２や第３領域Ｒ３）に設けられていてもよい。また、湿潤ガス供給配管を取り付ける領域の数も、ここに開示される技術を限定するものではない。すなわり、湿潤ガス供給配管は、２つ以上の領域に取り付けられていてもよい。また、湿潤ガス供給配管８０には、保温部材やヒータなどの保温機構が取り付けられていることが好ましい。これによって、湿潤ガス供給配管８０の内部での結露を抑制できる。
図１及び図３に示すように、本実施形態における湿潤ガス供給配管８０は、上部噴射口８２を備えている。この上部噴射口８２は、炉体内１０ｉにおける被処理物Ａの上方Ｕに配置され、下方Ｄに向けて湿潤ガスを噴射する。これによって、被処理物Ａが搬送される搬送領域１ａの露点を適切に制御できる。なお、上部噴射口８２としては、複数の開口部を有するシャワーパイプなどを使用できる。
また、本実施形態における湿潤ガス供給配管８０は、下部噴射口８４も備えている。下部噴射口８４は、炉体内１０ｉにおける被処理物Ａの下方Ｄに配置され、上方Ｕに向けて湿潤ガスを噴射する。これによって、被処理物Ａの上方Ｕと下方Ｄとの間で露点分布に偏りが生じることを防止できる。また、本実施形態では、複数（図３では４個）の下部噴射口８４が左右方向に沿って並べられている。これによって、左右方向における露点分布を均一にすることができる。
（４）加湿機構
加湿機構５０は、湿潤ガス供給配管８０に湿潤ガスを供給する。かかる加湿機構５０の構成は、特に限定されず、湿潤ガスの供給に用いられ得る従来公知の装置を特に制限なく使用できる。例えば、図３に示すように、本実施形態における加湿機構５０は、気化器５４と、水供給ラインＬ１と、ガス供給ラインＬ２と、湿潤ガス供給ラインＬ３とを備えている。以下、図３を参照しながら加湿機構５０の具体的な構成を説明する。なお、図３では、バルブや逆止弁などの流体制御に関する部材を、一部を除いて省略している。これらの流体制御に関する部材は、ここに開示される技術を限定するものではなく、流体（水、ガスなど）を適切に供給するという目的の下で適宜設置することができる。
加湿機構５０は、湿潤ガス供給配管８０に湿潤ガスを供給する。かかる加湿機構５０の構成は、特に限定されず、湿潤ガスの供給に用いられ得る従来公知の装置を特に制限なく使用できる。例えば、図３に示すように、本実施形態における加湿機構５０は、気化器５４と、水供給ラインＬ１と、ガス供給ラインＬ２と、湿潤ガス供給ラインＬ３とを備えている。以下、図３を参照しながら加湿機構５０の具体的な構成を説明する。なお、図３では、バルブや逆止弁などの流体制御に関する部材を、一部を除いて省略している。これらの流体制御に関する部材は、ここに開示される技術を限定するものではなく、流体（水、ガスなど）を適切に供給するという目的の下で適宜設置することができる。
（ａ）水供給ライン
水供給ラインＬ１は、気化器５４に水を供給するラインである。この水供給ラインＬ１は、配管やバルブ等を適宜組み合わせることによって構築される。そして、本実施形態における水供給ラインＬ１は、貯水タンク５１と、ポンプ５６とを備えている。貯水タンク５１は、水Ｗを貯留するタンクである。この貯水タンク５１の下流側にポンプ５６が設置されている。このポンプ５６を稼働させることによって、貯水タンク５１内の水Ｗが気化器５４に圧送される。
水供給ラインＬ１は、気化器５４に水を供給するラインである。この水供給ラインＬ１は、配管やバルブ等を適宜組み合わせることによって構築される。そして、本実施形態における水供給ラインＬ１は、貯水タンク５１と、ポンプ５６とを備えている。貯水タンク５１は、水Ｗを貯留するタンクである。この貯水タンク５１の下流側にポンプ５６が設置されている。このポンプ５６を稼働させることによって、貯水タンク５１内の水Ｗが気化器５４に圧送される。
本実施形態における水供給ラインＬ１は、気化器５４に供給される水Ｗの流量を調整する流量調整手段５２を備えている。この流量調整手段５２は、ポンプ５６と気化器５４との間に設置される。流量調整手段５２には、内部流路の開度を調節できる機能を有した弁体が使用され得る。これによって、ポンプ５６から圧送された水Ｗの流量を調節し、気化器５４に供給することができる。かかる流量調整手段５２の一例として、市販のマスフローコントローラ等が挙げられる。なお、流量調整手段５２は、制御装置７０の外部出力部７６と通信可能に接続されている。そして、制御装置７０は、流量調整手段５２を制御することによって湿潤ガスの露点を調節する。詳しくは後述するが、かかる構成を採用することによって、湿潤ガスの露点を容易に調節することができる。
なお、気化器５４への流量を低下させる場合、流量調整手段５２は、内部流路の開度を絞って、圧送された水Ｗの通過を制限する。このときに、配管内の圧力が急激に上昇することを防止するために、本実施形態における水供給ラインＬ１には循環ラインＬ１ａが設けられている。この水供給ラインＬ１は、流量調整手段５２の手前で分岐して貯水タンク５１に接続されている。また、循環ラインＬ１ａには、ボールバルブ５５が設置されている。これによって、流量調整手段５２を通過しなかった水Ｗを、循環ラインＬ１ａを介して貯水タンク５１に戻すことができるため、配管内の急激な圧力上昇を防止できる。
（ｂ）ガス供給ライン
ガス供給ラインＬ２は、気化器５４にガスを供給するラインである。このガス供給ラインＬ２も、配管とバルブとを適宜組み合わせることによって構築できる。ガス供給ラインＬ２は、ガス供給手段５３と、ガス量調整手段５７とを備えている。ガス供給手段５３は、所定のガスを気化器５４に圧送する機器である。なお、ガス供給手段５３は、ガスの種類に応じて従来公知の機器を適宜採用することができる。例えば、圧縮空気を使用する場合には、ガス供給手段５３としてコンプレッサを使用できる。一方、特定のガス（Ｏ２ガス等）を使用する場合には、目的のガスが充填されたガスボンベをガス供給手段５３として使用できる。また、ガス量調整手段５７は、ガス供給手段５３と気化器５４との間に設置されている。ガス量調整手段５７は、気化器５４に供給されるガスの流量を調整する。かかるガス量調整手段５７は、水供給ラインＬ１の流量調整手段５２と同様に、マスフローコントローラ等を使用できる。
ガス供給ラインＬ２は、気化器５４にガスを供給するラインである。このガス供給ラインＬ２も、配管とバルブとを適宜組み合わせることによって構築できる。ガス供給ラインＬ２は、ガス供給手段５３と、ガス量調整手段５７とを備えている。ガス供給手段５３は、所定のガスを気化器５４に圧送する機器である。なお、ガス供給手段５３は、ガスの種類に応じて従来公知の機器を適宜採用することができる。例えば、圧縮空気を使用する場合には、ガス供給手段５３としてコンプレッサを使用できる。一方、特定のガス（Ｏ２ガス等）を使用する場合には、目的のガスが充填されたガスボンベをガス供給手段５３として使用できる。また、ガス量調整手段５７は、ガス供給手段５３と気化器５４との間に設置されている。ガス量調整手段５７は、気化器５４に供給されるガスの流量を調整する。かかるガス量調整手段５７は、水供給ラインＬ１の流量調整手段５２と同様に、マスフローコントローラ等を使用できる。
（ｃ）気化器
気化器５４は、水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する機器である。図４に示すように、本実施形態における気化器５４は、混合タンク５４ａと、ガス排出部材５４ｂとを備えている。混合タンク５４ａは、水ＷとガスＧとが混合される容器である。混合タンク５４ａの底面には、水供給ラインＬ１が接続されている。そして、水供給ラインＬ１から供給された水Ｗは、混合タンク５４ａ内に貯められる。次に、ガス排出部材５４ｂは、混合タンク５４ａ内の水Ｗに浸漬された多孔質部材である。このガス排出部材５４ｂは、ガス供給ラインＬ２と接続されている。そして、ガス供給ラインＬ２から供給されたガスＧは、ガス排出部材５４ｂを介して、混合タンク５４ａ内の水Ｗの中に排出される。そして、ガスＧが水Ｗを通過しながら浮上することによって、混合タンク５４ａの上部空間に湿潤ガスが生成される。
気化器５４は、水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する機器である。図４に示すように、本実施形態における気化器５４は、混合タンク５４ａと、ガス排出部材５４ｂとを備えている。混合タンク５４ａは、水ＷとガスＧとが混合される容器である。混合タンク５４ａの底面には、水供給ラインＬ１が接続されている。そして、水供給ラインＬ１から供給された水Ｗは、混合タンク５４ａ内に貯められる。次に、ガス排出部材５４ｂは、混合タンク５４ａ内の水Ｗに浸漬された多孔質部材である。このガス排出部材５４ｂは、ガス供給ラインＬ２と接続されている。そして、ガス供給ラインＬ２から供給されたガスＧは、ガス排出部材５４ｂを介して、混合タンク５４ａ内の水Ｗの中に排出される。そして、ガスＧが水Ｗを通過しながら浮上することによって、混合タンク５４ａの上部空間に湿潤ガスが生成される。
また、図４に示す気化器５４は、混合タンク５４ａ内の水Ｗを加熱する内部ヒータ５４ｃを備えている。この内部ヒータ５４ｃは、混合タンク５４ａの底面近傍に設定されている。これによって、水Ｗを通過するガスＧの露点を上昇させやすくなる。また、混合タンク５４ａの外面は、断熱材５４ｄに覆われている。そして、混合タンク５４ａと断熱材５４ｄとの間には、外部ヒータ５４ｅが設置されている。この外部ヒータ５４ｅは、混合タンク５４ａの上部空間を加熱する。これによって、混合タンク５４ａの上部空間での結露を防止し、混合タンク５４ａから排出される湿潤ガスの露点の低下を抑制できる。また、図示は省略するが、外部ヒータは、混合タンク５４ａの上面側にも設置されていることがより好ましい。
なお、上記構成の気化器５４において混合タンク５４ａの水位ＷＬが上昇すると、ガスＧが水中を移動する距離が長くなるため、生成後の湿潤ガスの露点が高くなる。この混合タンク５４ａの水位ＷＬを調節することによって湿潤ガスを所定の露点に保つことができる。この露点の制御をより正確に実施するという観点から、気化器５４は、混合タンク５４ａの水位ＷＬを測定するレベルセンサ５４ｆを備えていることが好ましい。このレベルセンサ５４ｆで混合タンク５４ａの水位ＷＬを検知しながら、流量調整手段５２の動作を制御することによって、湿潤ガスの露点をより正確に調節することができる。
（ｄ）湿潤ガス供給ラインＬ３
湿潤ガス供給ラインＬ３は、気化器５４で生成した湿潤ガスを湿潤ガス供給配管８０に供給する。図４に示すように、湿潤ガス供給ラインＬ３は、混合タンク５４ａの上部に接続されている。これによって、混合タンク５４ａの上部空間に溜まった湿潤ガスが、湿潤ガス供給ラインＬ３を介して気化器５４の外部に排出される。なお、湿潤ガス供給ラインＬ３も、配管とバルブとを適宜組み合わせることによって構築できる。また、湿潤ガス供給ラインＬ３を構成する配管の外側には、保温部材やヒータが取り付けられていることが好ましい。これによって、湿潤ガス供給ラインＬ３の配管内部での結露を抑制できる。
湿潤ガス供給ラインＬ３は、気化器５４で生成した湿潤ガスを湿潤ガス供給配管８０に供給する。図４に示すように、湿潤ガス供給ラインＬ３は、混合タンク５４ａの上部に接続されている。これによって、混合タンク５４ａの上部空間に溜まった湿潤ガスが、湿潤ガス供給ラインＬ３を介して気化器５４の外部に排出される。なお、湿潤ガス供給ラインＬ３も、配管とバルブとを適宜組み合わせることによって構築できる。また、湿潤ガス供給ラインＬ３を構成する配管の外側には、保温部材やヒータが取り付けられていることが好ましい。これによって、湿潤ガス供給ラインＬ３の配管内部での結露を抑制できる。
そして、本実施形態における湿潤ガス供給ラインＬ３は、図３に示すように、ヘッダー５８において上部供給ラインＬ３ａと下部供給ラインＬ３ｂに分岐する。そして、上部供給ラインＬ３ａは、湿潤ガス供給配管８０の上部噴射口８２に接続される。これによって、被処理物Ａの上方から炉体内１０ｉに湿潤ガスを供給することができる。一方、下部供給ラインＬ３ｂは、下部噴射口８４と接続される。これによって、被処理物Ａの下方から炉体内１０ｉに湿潤ガスを供給することができる。なお、下部供給ラインＬ３ｂは、基部８６においてさらに分岐し、複数の下部噴射口８４の各々と接続されている。これによって、左右方向における露点分布を均一にできる。
（５）露点計６０
露点計６０は、炉体内１０ｉのうち湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する。なお、本明細書における「湿潤ガスが供給される領域」は、湿潤ガス供給配管から湿潤ガスが直接供給される領域だけでなく、隔壁の開口部を介して間接的に湿潤ガスが供給される領域を包含する。本実施形態に係る連続加熱炉１では、湿潤ガス供給配管８０が設けられた第１領域Ｒ１を露点計６０の測定対象としている。以下、かかる露点計６０の構成について説明する。
露点計６０は、炉体内１０ｉのうち湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する。なお、本明細書における「湿潤ガスが供給される領域」は、湿潤ガス供給配管から湿潤ガスが直接供給される領域だけでなく、隔壁の開口部を介して間接的に湿潤ガスが供給される領域を包含する。本実施形態に係る連続加熱炉１では、湿潤ガス供給配管８０が設けられた第１領域Ｒ１を露点計６０の測定対象としている。以下、かかる露点計６０の構成について説明する。
図３に示すように、露点計６０は、制御装置７０（露点記憶部７１）と通信可能に接続されている。露点計６０は、測定対象の領域の露点（ここでは、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）を電気信号に変換して制御装置７０に送信する。詳しくは後述するが、制御装置７０は、露点計６０の測定結果に基づいて加湿機構５０（流量調整手段５２）を制御する。
なお、露点計６０は、後述の目的露点範囲ＤＲの上限値ＤＭＡＸよりも高温であり、かつ、露点計６０の耐熱温度よりも低温である温度域（保護温度域）になる領域に配置されていると好ましい。具体的には、炉体内１０ｉは非常に高温であるため、炉体内１０ｉに露点計６０を直接設置すると、露点計６０が熱劣化するおそれがある。このため、露点計６０を炉体１０外部に配置し、炉体１０外部の露点計６０に炉体内１０ｉからガスを移送した方が好ましい。しかしながら、炉体内１０ｉのガスは、露点が高いため、炉体１０外部への移送中に冷却されると結露する。このときの水滴が露点計６０に付着すると、露点の測定結果に誤差が生じる可能性がある。これに対して、上記保護温度域になる領域に露点計６０を配置すると、熱や結露による露点計６０の劣化を適切に防止することができる。
なお、上記保護温度域は、制御装置７０に設定された目的露点範囲ＤＲと、露点計６０の構成に応じて適宜設定することが好ましい。一例として、露点計６０の保護温度域の下限値は、８５℃以上が好ましく、９０℃以上がより好ましく、９５℃以上が特に好ましい。これによって、炉体内１０ｉから移送されたガスの結露を好適に防止できる。なお、保護温度域は、結露を防止することができる温度域であればよく、上述の範囲に限定されない。例えば、炉体内１０ｉから移送されるガスの露点が３０℃未満（例えば０℃程度）である場合、保護温度域は３０℃以上に設定され得る。一方、保護温度域の上限値は、例えば、１２０℃以下が好ましく、１１５℃以下がより好ましく、１１０℃以下がさらに好ましく、１０５℃以下が特に好ましい。これによって、露点計６０の熱劣化を好適に防止できる。
上記保護温度域となる領域に露点計６０を配置する手段を説明する。図３に示すように、本実施形態に係る連続加熱炉１は、測定管６２と吸引装置６５とを備えている。測定管６２は、露点計が露点を測定する領域（第１領域Ｒ１）に一端６２ａが挿入され、炉体１０の外部に他端６２ｂが延びる配管である。そして、吸引装置６５は、炉体内１０ｉのガスを測定管６２に引き込むための機器である。この吸引装置６５は、測定管６２の他端６２ｂと接続されている。なお、吸引装置６５には、ポンプ、真空エジェクタなどを使用できる。これによって、炉体内１０ｉから測定管６２にガスを移送することができる。そして、露点計６０は、測定管６２に取り付けられている。この測定管６２における設置位置を調節することによって、保護温度域となる領域に露点計６０を配置できる。また、本実施形態では、測定管６２におけるガスの流速を測定する流量計６６を備えている。この流量計６６の測定結果に基づいてポンプ６５を制御することによって、炉体内１０ｉのガスを安定的に採集できるため、露点の測定を正確に行うことができる。
また、本実施形態における測定管６２は、冷却部６２ｃと保温部６２ｄを備えている。冷却部６２ｃは、炉体内１０ｉから流入したガスを保護温度域まで冷却する領域である。例えば、冷却部６２ｃは、測定管６２を大気中に露出させることによって構成される。これによって、移送中のガスを空冷し、保護温度域まで容易に冷却することができる。なお、冷却部６２ｃは、水冷ジャケットなどを備えていてもよい。一方、保温部６２ｄは、冷却部６２ｃを通過したガスを保護温度域に維持する領域である。例えば、保温部６２ｄは、テープヒータなどのヒータや断熱材を測定管６２に取り付けることによって構成される。これによって、測定管６２内の所定の領域を保護温度域に維持できるため、結露を好適に防止できる。そして、本実施形態では、測定管６２の保温部６２ｄに露点計６０が配置されている。これによって、熱や結露による露点計６０の劣化をより適切に防止できる。
また、本実施形態では、露点計６０よりも炉体１０に近い位置にフィルタ６７が配置されている。被処理物Ａの種類によっては、炉体内１０ｉの雰囲気中に被焼成物の粉などの異物が混入することがある。この異物が測定管６２に侵入して露点計６０に付着すると、露点計６０の性能が低下する可能性がある。これに対して、測定管６２にフィルタ６７を配置することによって、異物の付着による露点計６０の劣化を防止できる。
また、本実施形態における測定管６２は、露点計６０が配置された位置の圧力を測定するための圧力計６９を有している。この圧力計６９は、制御装置７０の圧力記憶部７２と接続されている。詳しくは後述するが、本実施形態における制御装置７０は、この圧力計６９の測定値に基づいて露点計６０の測定値を補正するように構成されている。これによって、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１をより正確に測定できる。
なお、露点計６０は、湿潤ガス供給配管８０の上部噴射口８２と被処理物Ａとの間における露点を測定するように構成されていると好ましい。具体的には、図３に示すように、本実施形態における測定管６２の一端６２ａは、上部噴射口８２と被処理物Ａとの間に配置される。これによって、上部噴射口８２と被処理物Ａとの間の搬送領域１ａにおけるガスを露点計６０に移送できる。この搬送領域１ａのガスは、搬送中の被処理物Ａに直接作用する。このため、搬送領域１ａのガスの露点を適切に制御することによって、より適切な露点で加熱加湿処理を実施できる。特に、露点計６０は、隔壁４０の開口部４０ａと同じ高さの領域の露点を測定するように構成されているとより好ましい。連続加熱炉１では、開口部４０ａを介して、複数の領域Ｒ１～Ｒ３の間でガスが移動する。このため、隔壁４０の開口部４０ａと同じ高さの領域におけるガスは、被処理物Ａに直接作用する一方で、露点が変動しやすいという特徴を有している。この領域における露点を制御対象とすることによって、より好適な加熱加湿処理を実施することができる。
（６）制御装置７０
制御装置７０は、加湿機構５０を制御して湿潤ガスの露点を調節するマイクロコンピュータである。制御装置７０は、各種制御を司るコントローラ（例えばＣＰＵ）と、プログラムおよびデータを記憶する記憶装置を備える。
制御装置７０は、加湿機構５０を制御して湿潤ガスの露点を調節するマイクロコンピュータである。制御装置７０は、各種制御を司るコントローラ（例えばＣＰＵ）と、プログラムおよびデータを記憶する記憶装置を備える。
制御装置７０は、露点計６０の測定値に基づいて、露点計６０が露点を測定する領域（図１中の第１領域Ｒ１）の露点Ｄ１が、予め定められた目的露点範囲ＤＲの範囲内になるように加湿機構５０を制御するように構成されている。以下、具体的に説明する。
まず、目的露点範囲ＤＲは、露点計６０が露点を測定する領域（第１領域Ｒ１）で実施される加熱加湿処理に適した露点の範囲である。連続加熱炉１の使用者は、制御装置７０に任意の目的露点範囲ＤＲを設定することができる。例えば、目的露点範囲ＤＲの下限値ＤＭＩＮは、－１０℃以上（好ましくは３０℃以上）に設定される。一方、目的露点範囲ＤＲの上限値ＤＭＡＸは、１００℃以下（好ましくは８０℃以下）に設定される。なお、目的露点範囲ＤＲは、被処理物Ａの種類などに応じて適宜変更することが好ましい。
そして、本実施形態における制御装置７０は、露点記憶部７１と、圧力記憶部７２と、補正手段７３と、演算部７５と、外部出力部７６とを備えている（図３参照）。露点記憶部７１は、露点計６０の測定値（第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）を記憶する。圧力記憶部７２は、圧力計６９の測定値（測定管６２の圧力）を記憶する。補正手段７３は、圧力計６９の測定値に基づいて露点計６０の測定値を補正する。演算部７５は、露点計６０が露点を測定する領域（第１領域Ｒ１）における露点制御に関する演算を行う。また、演算部７５は、演算結果に基づいた制御信号を作成する。外部出力部７６は、演算部７５が作成した制御信号を加湿機構５０に送信する。以下、図５を参照しながら、上記構成の制御装置７０による制御動作を説明する。
（ａ）露点測定工程Ｓ１０
本実施形態に係る連続加熱炉１では、露点計６０が第１領域Ｒ１の露点Ｄ１を測定する露点測定工程Ｓ１０を実施する。このときの測定結果は、露点記憶部７１に記憶される。
本実施形態に係る連続加熱炉１では、露点計６０が第１領域Ｒ１の露点Ｄ１を測定する露点測定工程Ｓ１０を実施する。このときの測定結果は、露点記憶部７１に記憶される。
（ｂ）圧力補正工程Ｓ２０
上述の通り、本実施形態における露点計６０は、炉体１０外部の測定管６２に設置されている。このとき、露点計６０が測定する露点Ｄ１は、測定環境の気圧によって変動する。このため、測定管６２内の圧力変動によって測定値に誤差が生じる可能性がある。これに対して、補正手段７３は、圧力計６９の測定値（測定管６２の圧力）に基づいて、露点計６０の測定値（第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）を補正する圧力補正工程Ｓ２０を行う。例えば、補正手段７３は、圧力計６９の測定値に基づいて、露点計６０の測定値を大気圧換算する。これによって、より正確な露点Ｄ１を得ることができる。具体的には、本実施形態における圧力補正工程Ｓ２０は、圧力計６９が測定管６２の圧力を測定して圧力記憶部７２に記憶する圧力測定工程Ｓ２２と、補正手段７３が露点Ｄ１を補正する露点補正工程Ｓ２４とを備えている。
上述の通り、本実施形態における露点計６０は、炉体１０外部の測定管６２に設置されている。このとき、露点計６０が測定する露点Ｄ１は、測定環境の気圧によって変動する。このため、測定管６２内の圧力変動によって測定値に誤差が生じる可能性がある。これに対して、補正手段７３は、圧力計６９の測定値（測定管６２の圧力）に基づいて、露点計６０の測定値（第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）を補正する圧力補正工程Ｓ２０を行う。例えば、補正手段７３は、圧力計６９の測定値に基づいて、露点計６０の測定値を大気圧換算する。これによって、より正確な露点Ｄ１を得ることができる。具体的には、本実施形態における圧力補正工程Ｓ２０は、圧力計６９が測定管６２の圧力を測定して圧力記憶部７２に記憶する圧力測定工程Ｓ２２と、補正手段７３が露点Ｄ１を補正する露点補正工程Ｓ２４とを備えている。
（ｃ）露点比較工程Ｓ３０
次に、制御装置７０の演算部７５は、露点比較工程Ｓ３０において、露点計６０の測定値（第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）と目的露点範囲ＤＲとを比較検討する。この露点比較工程Ｓ３０は、下限比較工程Ｓ３２と上限比較工程Ｓ３４を備えている。
次に、制御装置７０の演算部７５は、露点比較工程Ｓ３０において、露点計６０の測定値（第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）と目的露点範囲ＤＲとを比較検討する。この露点比較工程Ｓ３０は、下限比較工程Ｓ３２と上限比較工程Ｓ３４を備えている。
先ず、下限比較工程Ｓ３２において、演算部７５は、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１と目的露点範囲ＤＲの下限値ＤＭＩＮとを比較する（Ｄ１≧ＤＭＩＮ？）。この下限比較工程Ｓ３２において、露点Ｄ１が下限値ＤＭＩＮ未満であった場合（Ｓ３２のＮＯ）、演算部７５は、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が低下していると判断して露点上昇工程Ｓ４０に進む。そして、露点上昇工程Ｓ４０において、演算部７５は、露点上昇信号ＨＵを作成する（Ｓ４２）。この露点上昇信号ＨＵは、外部出力部７６を介して、加湿機構５０の流量調整手段５２に送信される。露点上昇信号ＨＵを受信した流量調整手段５２は、気化器５４への水Ｗの流量を増加させる（Ｓ４４）。これによって、気化器５４で生成される湿潤ガスの露点が高くなるため、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が上昇する。
一方、上述した下限比較工程Ｓ３２において、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が目的露点範囲ＤＲの下限値ＤＭＩＮ以上であった場合（Ｓ３２のＹＥＳ）、演算部７５は、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が十分に高いと判断して上限比較工程Ｓ３４に進む。
上限比較工程Ｓ３４において、演算部７５は、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１と目的露点範囲ＤＲの上限値ＤＭＡＸとを比較する（Ｄ１≦ＤＭＡＸ？）。この上限比較工程Ｓ３４において、露点Ｄ１が上限値ＤＭＡＸを超えている場合（Ｓ３４のＮＯ）、演算部７５は、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が高くなり過ぎていると判断して露点低下工程Ｓ５０に進む。この露点低下工程Ｓ５０において、演算部７５は、露点低下信号ＨＤを作成する（Ｓ５２）。上記露点上昇信号ＨＵと同様に、露点低下信号ＨＤも流量調整手段５２に送信される。そして、露点低下信号ＨＤを受信した流量調整手段５２は、気化器５４への水Ｗの流量を減少させる（Ｓ５４）。これによって、気化器５４で生成される湿潤ガスの露点が低くなるため、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が低下する。
一方、上限比較工程Ｓ３４において、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が上限値ＤＭＡＸ以下である場合（Ｓ３４のＹＥＳ）、演算部７５は、第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が、予め設定した目的露点範囲ＤＲの範囲内であると判断して制御を終了する（図５中のＥＮＤ）。
以上の通り、本実施形態に係る連続加熱炉１は、予め定められた搬送方向Ｔに沿って被処理物Ａが搬送されるトンネル状の炉体１０と、炉体内１０ｉに配置されたヒータ３０と、炉体内１０ｉを搬送方向Ｔに沿って複数の領域Ｒ１～Ｒ３に仕切る隔壁４０と、複数の領域Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つの領域Ｒ１に設けられた湿潤ガス供給配管８０と、湿潤ガス供給配管８０に湿潤ガスを供給する加湿機構５０と、炉体内１０ｉのうち湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計６０と、制御装置７０とを備えている。そして、本実施形態における制御装置７０は、露点計６０の測定値（第１領域Ｒ１の露点Ｄ１）に基づいて、露点計６０が露点を測定する領域（第１領域Ｒ１）の露点が、予め定められた目的露点範囲ＤＲの範囲内になるように加湿機構７０を制御するように構成されている。これによって、炉体内１０ｉの所望の領域（第１領域Ｒ１）における露点を、予め定められた目的露点範囲ＤＲの範囲内に維持することができる。このため、大量生産のために連続加熱炉１を用いた場合でも、露点が適切に制御された加熱加湿処理を実施できる。
また、本実施形態に係る連続加熱炉１の露点計６０は、湿潤ガス供給配管８０が設けられた第１領域Ｒ１の露点Ｄ１を測定するように構成されている。そして、制御装置７０は、露点計６０の測定値に基づいて、湿潤ガス供給配管８０が設けられた第１領域Ｒ１の露点Ｄ１が目的露点範囲ＤＲの範囲内になるように加湿機構５０を制御するように構成されている。これによって、湿潤ガスが直接供給される領域である第１領域Ｒの露点Ｄ１を正確に制御できる。この結果、露点がさらに適切に制御された状態で加熱加湿処理を実施することができる。
（７）他の構成
以上、本実施形態に係る連続加熱炉１の主要な構成について説明した。なお、本実施形態に係る連続加熱炉１は、上述の主要な構成の他に、以下の構成も有している。
以上、本実施形態に係る連続加熱炉１の主要な構成について説明した。なお、本実施形態に係る連続加熱炉１は、上述の主要な構成の他に、以下の構成も有している。
（ａ）他のセンサ
一般的な連続加熱炉は、炉体内の状態（酸素濃度、ガス組成など）を測定するために、種々のセンサを備えている。しかし、上述の露点計６０と同様に、これらのセンサを炉体内に設置すると熱劣化が生じ得る。一方で、炉体外にセンサを配置し、当該センサに炉体内のガスを移送すると、結露による劣化が生じるおそれがある。このため、露点計以外のセンサを取り付ける場合、当該センサは、センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温であり、かつ、センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域になる領域に配置されていることが好ましい。
一般的な連続加熱炉は、炉体内の状態（酸素濃度、ガス組成など）を測定するために、種々のセンサを備えている。しかし、上述の露点計６０と同様に、これらのセンサを炉体内に設置すると熱劣化が生じ得る。一方で、炉体外にセンサを配置し、当該センサに炉体内のガスを移送すると、結露による劣化が生じるおそれがある。このため、露点計以外のセンサを取り付ける場合、当該センサは、センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温であり、かつ、センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域になる領域に配置されていることが好ましい。
すなわち、本実施形態に係る連続加熱炉１は、被処理物Ａが予め定められた搬送方向Ｔに沿って搬送されるトンネル状の炉体１０と、炉体内１０ｉに配置されたヒータ３０と、炉体内１０ｉを搬送方向Ｔに沿って複数の領域Ｒ１～Ｒ３に仕切る隔壁４０と、複数の領域Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つの領域Ｒ１に設けられた湿潤ガス供給配管８０と、湿潤ガス供給配管８０に湿潤ガスを供給する加湿機構５０と、炉体内１０ｉのうち湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサ（酸素センサ９０）と、センサの測定対象となる領域Ｒ１に一端９２ａが接続され、炉体１０の外部に他端９２ｂが延びる測定管９２と、炉体内１０ｉのガスを測定管９２に引き込む吸引装置９５とを備えている。そして、センサ（酸素センサ９０）は、測定管９２のうち、センサの測定対象となる領域Ｒ１における目的露点範囲ＤＲの上限値ＤＭＡＸよりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている。これによって、熱や結露によるセンサの劣化を防止できる。
例えば、図１及び図３に示すように、本実施形態に係る連続加熱炉１は、炉体内１０ｉの酸素濃度を測定する酸素センサ９０を備えている。炉体内１０ｉで被処理物Ａを酸化させる場合、炉体内１０ｉの酸素濃度を管理することが好ましい。しかし、このような酸素センサ９０も、上述の露点計６０と同様に、熱や結露による劣化が生じるおそれがある。これに対して、本実施形態では、酸素センサ９０の測定対象となる第１領域Ｒ１に一端９２ａが接続され、炉体１０の外部に他端９２ｂが延びる測定管９２と、炉体内１０ｉのガスを測定管９２に引き込む吸引装置９５とを備えている。そして、酸素センサ９０は、測定管９２のうち、上記第１領域Ｒ１における目的露点範囲ＤＲの上限値ＤＭＡＸよりも高温で、かつ、当該酸素センサ９０の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置される。これによって、熱や結露による酸素センサ９０の劣化を防止することができる。
なお、露点計６０用の測定管６２と同様に、酸素センサ９０用の測定管９２も、炉体内１０ｉから流入したガスを保護温度域まで冷却する冷却部９２ｃと、冷却部９２ｃを通過したガスを保護温度域に維持する保温部９２ｄを備えていることが好ましい。これによって、測定管９２内を保護温度域に維持できるため、熱や結露による酸素センサ９０の劣化をより適切に防止できる。また、本実施形態では、酸素センサ９０よりも炉体１０に近い位置にフィルタ９８が配置されている。これによって、異物の付着による酸素センサ９０の劣化を防止できる。さらに、酸素センサ９０用の測定管９２も、当該測定管９２におけるガスの流速を測定する流量計９６を備えている。これによって、炉体内１０ｉのガスを安定的に採集できる。なお、酸素センサ９０用の測定管９２の構成は、上述した露点計６０用の測定管６２と同様の構成を採用できるため、詳しい説明を省略する。
また、被処理物Ａの種類（例えば、断熱材など）によっては、加熱初期に多くの不純物が発生する。このとき、炉体内１０ｉの酸素を測定すると、酸素センサ９０の劣化が促進される可能性がある。かかる点を考慮すると、酸素センサ９０用の測定管９２には、開閉可能なバルブ９２ｅが取り付けられていることが好ましい。これによって、炉体内１０ｉのガスを酸素センサ９０に必要に応じて供給することが可能になるため、不純物による酸素センサ９０の劣化を抑制できる。
なお、連続加熱炉の炉体に取り付けられるセンサは、上述した露点計６０や酸素センサ９０に限定されない。他のセンサとしては、炉体内のガス組成を測定するマルチガスアナライザーなどが挙げられる。これらのセンサを配置する際も、上記保護温度域となる位置にセンサを配置することが好ましい。これによって、熱や結露によるセンサの劣化を防止できる。なお、センサの保護温度域は、上述した露点計６０の保護温度域と同じ温度域でもよいし、異なる温度域を設定してもよい。
（ｂ）ドレン構造
加熱加湿処理用の連続加熱炉１では、炉体内１０ｉに湿潤ガスが供給されるため、炉体１０の底面１０ｂに水が溜まる可能性がある。このため、図３に示すように、炉体１０の底面１０ｂには、炉体１０外部に水を排出するためのドレン管１０ｆが取り付けられていることが好ましい。そして、このドレン管１０ｆには、当該ドレン管１０ｆを開閉するドレンバルブ１０ｅが設けられているとよい。これによって、炉体内１０ｉに溜まった水を必要に応じて排出できる。また、このようなドレン構造を設ける場合、炉体１０の底面１０ｂは、ドレン管１０ｆに向かって下るように傾斜していると好ましい。これによって、炉体内１０ｉの水をより容易に排出できる。
加熱加湿処理用の連続加熱炉１では、炉体内１０ｉに湿潤ガスが供給されるため、炉体１０の底面１０ｂに水が溜まる可能性がある。このため、図３に示すように、炉体１０の底面１０ｂには、炉体１０外部に水を排出するためのドレン管１０ｆが取り付けられていることが好ましい。そして、このドレン管１０ｆには、当該ドレン管１０ｆを開閉するドレンバルブ１０ｅが設けられているとよい。これによって、炉体内１０ｉに溜まった水を必要に応じて排出できる。また、このようなドレン構造を設ける場合、炉体１０の底面１０ｂは、ドレン管１０ｆに向かって下るように傾斜していると好ましい。これによって、炉体内１０ｉの水をより容易に排出できる。
２．他の実施形態
以上、ここに開示される技術の一実施形態について説明した。しかし、上述した実施形態は、ここに開示される技術を限定することを意図したものではない。以下、ここに開示される技術の他の実施形態について説明する。
以上、ここに開示される技術の一実施形態について説明した。しかし、上述した実施形態は、ここに開示される技術を限定することを意図したものではない。以下、ここに開示される技術の他の実施形態について説明する。
（１）加熱炉の種類
図１に示すように、上述の実施形態に係る連続加熱炉１は、複数の搬送ローラ２０で被処理物Ａを搬送するローラハースキルンである。しかしながら、ここに開示される連続加熱炉は、所定の搬送方向に沿って被処理物を搬送しながら加熱できればよく、ローラハースキルンに限定されない。例えば、ここに開示される連続加熱炉は、プッシャー炉でもよい。このプッシャー炉は、図１中の搬送ローラ２０のような駆動ローラは有していない。代わりに、プッシャー炉の炉体内には、被処理物の搬送をガイドするセラミックレールが敷設される。このセラミックレールの上には、被処理物が隙間なく載置される。この状態で搬入口から一個の被処理物を搬入すると、搬出口から一個分の被処理物が押し出される。プッシャー炉では、この搬入処理を繰り返すことによって、セラミックレールに沿って被処理物を順次搬送する。かかる構成のプッシャー炉においても、ここに開示される技術を、特に制限なく適用することができる。
図１に示すように、上述の実施形態に係る連続加熱炉１は、複数の搬送ローラ２０で被処理物Ａを搬送するローラハースキルンである。しかしながら、ここに開示される連続加熱炉は、所定の搬送方向に沿って被処理物を搬送しながら加熱できればよく、ローラハースキルンに限定されない。例えば、ここに開示される連続加熱炉は、プッシャー炉でもよい。このプッシャー炉は、図１中の搬送ローラ２０のような駆動ローラは有していない。代わりに、プッシャー炉の炉体内には、被処理物の搬送をガイドするセラミックレールが敷設される。このセラミックレールの上には、被処理物が隙間なく載置される。この状態で搬入口から一個の被処理物を搬入すると、搬出口から一個分の被処理物が押し出される。プッシャー炉では、この搬入処理を繰り返すことによって、セラミックレールに沿って被処理物を順次搬送する。かかる構成のプッシャー炉においても、ここに開示される技術を、特に制限なく適用することができる。
なお、図２に示すように、ローラハースキルンの炉体１０には、搬送ローラ２０を挿通させる挿通孔１０ｄを形成する必要がある。そして、搬送ローラ２０を回転させるために、挿通孔１０ｄの壁面と搬送ローラ２０との間には一定の隙間（クリアランス）が設けられる。すなわち、ローラハースキルンは、搬送ローラ２０の回転のために、炉体１０の密閉性が大きく低下しているため、炉体内１０ｉの露点が特に変動しやすい。一方、ここに開示される技術によると、ローラハースキルンを採用した場合でも、炉体内１０ｉの所望の領域における露点を的露点範囲ＤＲの範囲内に維持できる。このため、ここに開示される技術は、ローラハースキルンで加熱加湿処理を実施する際に特に好適に適用できる。
（２）露点の圧力補正
図５中の圧力補正工程Ｓ２０に示すように、上述の実施形態における制御装置７０は、圧力計６９の測定結果に基づいて露点計６０の測定結果を補正する。しかし、この圧力補正Ｓ２０に関する構成は、ここに開示される技術における必須の構成ではない。例えば、制御装置は、露点計が測定した露点をそのまま用いて加湿機構を制御してもよい。この場合でも、炉体内の所望の領域の露点を十分に制御できる。また、露点の圧力補正は、露点計の周囲に圧力計を設けなくても実施することができる。例えば、炉体内と露点計の周囲の各々の圧力を測定する予備試験を実施し、当該予備試験の結果に基づいた補正値を予め設定してもよい。かかる構成を採用した場合でも、露点の圧力補正を適切に実施できる。
図５中の圧力補正工程Ｓ２０に示すように、上述の実施形態における制御装置７０は、圧力計６９の測定結果に基づいて露点計６０の測定結果を補正する。しかし、この圧力補正Ｓ２０に関する構成は、ここに開示される技術における必須の構成ではない。例えば、制御装置は、露点計が測定した露点をそのまま用いて加湿機構を制御してもよい。この場合でも、炉体内の所望の領域の露点を十分に制御できる。また、露点の圧力補正は、露点計の周囲に圧力計を設けなくても実施することができる。例えば、炉体内と露点計の周囲の各々の圧力を測定する予備試験を実施し、当該予備試験の結果に基づいた補正値を予め設定してもよい。かかる構成を採用した場合でも、露点の圧力補正を適切に実施できる。
（３）測定管の構成
図３に示すように、上述の実施形態では、測定管６２に吸引装置６５と流量計６６が設けられている、しかし、測定管は、炉体内のガスを露点計に供給できればよく、上述の実施形態に記載した構成に限定されない。例えば、炉体内の圧力は、焼成条件に応じて適宜設定される。このとき、炉体内の圧力は、大気圧よりも格段に高い圧力になることがある。このような場合には、測定管の他端を大気に開放するだけでも、炉体内のガスを炉体外に移送できる。そして、この測定管の途中に露点計を設置することによって、炉体内のガスを露点計に供給することができる。但し、露点計へのガスの供給量を安定化させるという観点から、ポンプや真空エジェクタなどの吸引装置を測定管に設けた方が好ましい。
図３に示すように、上述の実施形態では、測定管６２に吸引装置６５と流量計６６が設けられている、しかし、測定管は、炉体内のガスを露点計に供給できればよく、上述の実施形態に記載した構成に限定されない。例えば、炉体内の圧力は、焼成条件に応じて適宜設定される。このとき、炉体内の圧力は、大気圧よりも格段に高い圧力になることがある。このような場合には、測定管の他端を大気に開放するだけでも、炉体内のガスを炉体外に移送できる。そして、この測定管の途中に露点計を設置することによって、炉体内のガスを露点計に供給することができる。但し、露点計へのガスの供給量を安定化させるという観点から、ポンプや真空エジェクタなどの吸引装置を測定管に設けた方が好ましい。
（４）露点計の測定位置
上記の通り、ここに開示される技術における露点計は、「湿潤ガスが供給される領域」の露点を測定する。そして、本明細書における「湿潤ガスが供給される領域」は、湿潤ガス供給配管から湿潤ガスが直接供給される領域だけでなく、隔壁の開口部を介して間接的に湿潤ガスが供給される領域を包含する。すなわち、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域（図１中の第１領域Ｒ１）以外の領域の露点を測定してもよい。例えば、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域よりも下流側の領域（図１中の第２領域Ｒ２や第３領域Ｒ３など）を測定してもよい。また、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域よりも上流側の領域（図１中の搬入口１２）を測定してもよい。これらの領域の露点を測定した場合でも、露点が適切に制御された加熱加湿処理を実施できる。なお、湿潤ガス供給配管が設けられた領域と、露点計が露点を測定する領域とが離れ過ぎると、露点計で測定される露点が低くなり、湿潤ガスの露点制御が難しくなる可能性がある。このことから、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域を基準として、５領域以内（より好適には３領域以内、さらに好適には２領域以内、特に好適には１領域以内）の領域の露点を測定することが好ましい。
上記の通り、ここに開示される技術における露点計は、「湿潤ガスが供給される領域」の露点を測定する。そして、本明細書における「湿潤ガスが供給される領域」は、湿潤ガス供給配管から湿潤ガスが直接供給される領域だけでなく、隔壁の開口部を介して間接的に湿潤ガスが供給される領域を包含する。すなわち、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域（図１中の第１領域Ｒ１）以外の領域の露点を測定してもよい。例えば、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域よりも下流側の領域（図１中の第２領域Ｒ２や第３領域Ｒ３など）を測定してもよい。また、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域よりも上流側の領域（図１中の搬入口１２）を測定してもよい。これらの領域の露点を測定した場合でも、露点が適切に制御された加熱加湿処理を実施できる。なお、湿潤ガス供給配管が設けられた領域と、露点計が露点を測定する領域とが離れ過ぎると、露点計で測定される露点が低くなり、湿潤ガスの露点制御が難しくなる可能性がある。このことから、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域を基準として、５領域以内（より好適には３領域以内、さらに好適には２領域以内、特に好適には１領域以内）の領域の露点を測定することが好ましい。
また、上述の実施形態における露点計６０は、測定管６２の保温部６２ｄに設置されている。しかし、露点計６０の設置位置は、保温部６２ｄに限定されない。例えば、ヒータや断熱材を有する保温部が測定管に形成されていない場合、露点計は、長さ方向における測定管の温度分布を予め測定し、保護温度域の範囲内になる位置に取り付けるとよい。これによって、保温部を設けなくても、熱や結露による露点計の劣化を防止できる。
（５）露点測定ユニットの構成
また、加湿機構は、湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給することができればよく、上述の構成に限定されない。例えば、上述の実施形態では、水供給ラインＬ１の流量調整手段５２を制御することによって湿潤ガスの露点を調節している。しかし、湿潤ガスの露点を調節する手段は、流量調整手段５２に限定されない。例えば、気化器に水を供給するポンプ（図３中のポンプ５６に相当）と制御装置とを接続し、当該ポンプの稼働を制御してもよい。かかる構成を採用した場合でも、湿潤ガスの露点を制御できる。
また、加湿機構は、湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給することができればよく、上述の構成に限定されない。例えば、上述の実施形態では、水供給ラインＬ１の流量調整手段５２を制御することによって湿潤ガスの露点を調節している。しかし、湿潤ガスの露点を調節する手段は、流量調整手段５２に限定されない。例えば、気化器に水を供給するポンプ（図３中のポンプ５６に相当）と制御装置とを接続し、当該ポンプの稼働を制御してもよい。かかる構成を採用した場合でも、湿潤ガスの露点を制御できる。
３．ここに開示される技術に包含される形態
また、ここに開示される技術は、以下の項目１～項目１２に記載の形態を包含する。
また、ここに開示される技術は、以下の項目１～項目１２に記載の形態を包含する。
＜項目１＞
予め定められた搬送方向に沿って被処理物が搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
制御装置と
を備え、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、連続加熱炉。
予め定められた搬送方向に沿って被処理物が搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
制御装置と
を備え、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、連続加熱炉。
＜項目２＞
前記露点計は、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点を測定するように構成されており、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点が前記目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、項目１に記載の連続加熱炉。
前記露点計は、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点を測定するように構成されており、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点が前記目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、項目１に記載の連続加熱炉。
＜項目３＞
前記露点計が露点を測定する領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
をさらに備え、
前記露点計は、前記測定管のうち、前記目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該露点計の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、項目１または２に記載の連続加熱炉。
前記露点計が露点を測定する領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
をさらに備え、
前記露点計は、前記測定管のうち、前記目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該露点計の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、項目１または２に記載の連続加熱炉。
＜項目４＞
前記測定管は、前記露点計が配置された位置の圧力を測定するための圧力計を有し、
前記制御装置は、前記圧力計の測定値に基づいて前記露点計の測定値を補正するように構成された、項目３に記載の連続加熱炉。
前記測定管は、前記露点計が配置された位置の圧力を測定するための圧力計を有し、
前記制御装置は、前記圧力計の測定値に基づいて前記露点計の測定値を補正するように構成された、項目３に記載の連続加熱炉。
＜項目５＞
前記測定管は、
前記炉体内から流入したガスを前記保護温度域まで冷却する冷却部と、
前記冷却部を通過したガスを前記保護温度域に維持する保温部と
を備えている、項目３または４に記載の連続加熱炉。
前記測定管は、
前記炉体内から流入したガスを前記保護温度域まで冷却する冷却部と、
前記冷却部を通過したガスを前記保護温度域に維持する保温部と
を備えている、項目３または４に記載の連続加熱炉。
＜項目６＞
前記露点計よりも前記炉体に近い位置にフィルタが配置されている、項目３～５のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記露点計よりも前記炉体に近い位置にフィルタが配置されている、項目３～５のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
＜項目７＞
前記加湿機構は、
水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する気化器と、
前記気化器に水を供給する水供給ラインと、
前記気化器にガスを供給するガス供給ラインと、
前記気化器で生成した前記湿潤ガスを前記湿潤ガス供給配管に供給する湿潤ガス供給ラインと
を備えている、項目１～６のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記加湿機構は、
水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する気化器と、
前記気化器に水を供給する水供給ラインと、
前記気化器にガスを供給するガス供給ラインと、
前記気化器で生成した前記湿潤ガスを前記湿潤ガス供給配管に供給する湿潤ガス供給ラインと
を備えている、項目１～６のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
＜項目８＞
前記水供給ラインは、前記気化器に供給される水の流量を調整する流量調整手段を備えており、
前記制御部は、前記流量調整手段を制御することによって前記湿潤ガスの露点を調節する、項目７に記載の連続加熱炉。
前記水供給ラインは、前記気化器に供給される水の流量を調整する流量調整手段を備えており、
前記制御部は、前記流量調整手段を制御することによって前記湿潤ガスの露点を調節する、項目７に記載の連続加熱炉。
＜項目９＞
前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の上方に配置され、下方に向けて前記湿潤ガスを噴射する上部噴射口を備えている、項目１～８のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の上方に配置され、下方に向けて前記湿潤ガスを噴射する上部噴射口を備えている、項目１～８のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
＜項目１０＞
前記露点計は、前記上部噴射口と前記被処理物との間における露点を測定する、項目９に記載の連続加熱炉。
前記露点計は、前記上部噴射口と前記被処理物との間における露点を測定する、項目９に記載の連続加熱炉。
＜項目１１＞
前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の下方に配置され、上方に向けて前記湿潤ガスを噴射する下部噴射口を備えている、項目１～１０のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の下方に配置され、上方に向けて前記湿潤ガスを噴射する下部噴射口を備えている、項目１～１０のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
＜項目１２＞
被処理物が予め定められた搬送方向に沿って搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサと、
前記センサの測定対象となる領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
を備え、
前記センサは、前記測定管のうち、前記センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、連続加熱炉。
被処理物が予め定められた搬送方向に沿って搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサと、
前記センサの測定対象となる領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
を備え、
前記センサは、前記測定管のうち、前記センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、連続加熱炉。
＜項目１３＞
前記センサは、酸素センサ、マルチガスアナライザーから選択される少なくとも一種である、項目１２に記載の連続加熱炉。
前記センサは、酸素センサ、マルチガスアナライザーから選択される少なくとも一種である、項目１２に記載の連続加熱炉。
以上、具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。このように、請求の範囲に記載の技術には、以上に記載した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。また、上記実施形態で例示された複数の技術の一部を連続加熱炉に採用することも可能である。
１ 連続加熱炉
１０ 炉体
２０ 搬送ローラ
３０ ヒータ
４０ 隔壁
５０ 加湿機構
５１ 貯水タンク
５２ 流量調整手段
５３ ガス供給手段
５４ 気化器
５６ ポンプ
５７ ガス量調整手段
６０ 露点計
６２ 測定管
６２ｃ 冷却部
６２ｄ 保温部
６５ 吸引装置
６６ 流量計
６９ 圧力計
７０ 制御装置
８０ 湿潤ガス供給配管
８２ 上部噴射口
８４ 下部噴射口
９０ 酸素センサ
９２ 測定管
Ａ 被処理物
Ｌ１ 水供給ライン
Ｌ２ ガス供給ライン
Ｌ３ 湿潤ガス供給ライン
Ｒ１ 第１領域
Ｒ２ 第２領域
Ｒ３ 第３領域
ＷＬ 水位
１０ 炉体
２０ 搬送ローラ
３０ ヒータ
４０ 隔壁
５０ 加湿機構
５１ 貯水タンク
５２ 流量調整手段
５３ ガス供給手段
５４ 気化器
５６ ポンプ
５７ ガス量調整手段
６０ 露点計
６２ 測定管
６２ｃ 冷却部
６２ｄ 保温部
６５ 吸引装置
６６ 流量計
６９ 圧力計
７０ 制御装置
８０ 湿潤ガス供給配管
８２ 上部噴射口
８４ 下部噴射口
９０ 酸素センサ
９２ 測定管
Ａ 被処理物
Ｌ１ 水供給ライン
Ｌ２ ガス供給ライン
Ｌ３ 湿潤ガス供給ライン
Ｒ１ 第１領域
Ｒ２ 第２領域
Ｒ３ 第３領域
ＷＬ 水位
Claims (11)
- 予め定められた搬送方向に沿って被処理物が搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
制御装置と
を備え、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成されており、
前記露点計が露点を測定する領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
をさらに備え、
前記露点計は、前記測定管のうち、前記目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該露点計の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、連続加熱炉。 - 前記露点計は、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点を測定するように構成されており、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点が前記目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、請求項１に記載の連続加熱炉。 - 前記測定管は、前記露点計が配置された位置の圧力を測定するための圧力計を有し、
前記制御装置は、前記圧力計の測定値に基づいて前記露点計の測定値を補正するように構成された、請求項１または２に記載の連続加熱炉。 - 前記測定管は、
前記炉体内から流入したガスを前記保護温度域まで冷却する冷却部と、
前記冷却部を通過したガスを前記保護温度域に維持する保温部と
を備えている、請求項１または２に記載の連続加熱炉。 - 前記露点計よりも前記炉体に近い位置にフィルタが配置されている、請求項１または２に記載の連続加熱炉。
- 前記加湿機構は、
水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する気化器と、
前記気化器に水を供給する水供給ラインと、
前記気化器にガスを供給するガス供給ラインと、
前記気化器で生成した前記湿潤ガスを前記湿潤ガス供給配管に供給する湿潤ガス供給ラインと
を備えている、請求項１または２に記載の連続加熱炉。 - 前記水供給ラインは、前記気化器に供給される水の流量を調整する流量調整手段を備えており、
前記制御装置は、前記流量調整手段を制御することによって前記湿潤ガスの露点を調節する、請求項６に記載の連続加熱炉。 - 前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の上方に配置され、下方に向けて前記湿潤ガスを噴射する上部噴射口を備えている、請求項１または２に記載の連続加熱炉。
- 前記露点計は、前記上部噴射口と前記被処理物との間における露点を測定する、請求項８に記載の連続加熱炉。
- 前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の下方に配置され、上方に向けて前記湿潤ガスを噴射する下部噴射口を備えている、請求項１または２に記載の連続加熱炉。
- 被処理物が予め定められた搬送方向に沿って搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも１つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御する制御装置と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサと、
前記センサの測定対象となる領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
を備え、
前記センサは、前記測定管のうち、前記センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されており、
前記センサは、酸素センサ、マルチガスアナライザーから選択される少なくとも一種である、連続加熱炉。
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006226561A (ja) | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Muramatsu Fuusou Setsubi Kogyo Kk | 熱処理装置 |
| JP2006242538A (ja) | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Tdk Corp | 連続焼成炉の雰囲気測定装置 |
| JP2009036505A (ja) | 2007-07-12 | 2009-02-19 | Ngk Insulators Ltd | 雰囲気ガスの露点制御装置 |
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| JP2011064423A (ja) | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Panasonic Corp | 熱処理装置 |
| JP2016001064A (ja) | 2014-06-11 | 2016-01-07 | 日本碍子株式会社 | 熱処理炉 |
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