JP7317161B2 - Evaluation method of physical structure - Google Patents

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Description

本発明は、分析方法に関する。より具体的には、本発明は、試料の構成成分の数および層構造によらず、低コストかつ迅速に試料全体の物理構造の差を成分毎に高感度で評価し、かつ複数の因子をまとめて評価し得る分析方法に関する。 The present invention relates to analytical methods. More specifically, the present invention evaluates the difference in the physical structure of the entire sample quickly and at low cost for each component with high sensitivity, regardless of the number and layer structure of the constituent components of the sample, and evaluates multiple factors. It relates to analytical methods that can be collectively evaluated.

有機エレクトロニクス分野において、有機膜は主に蒸着法で作製されている。しかしながら、産業の発展にはデバイスの大面積化および低コスト化が必須の課題であり、それを解決する手段として塗布法によるプロセスの開発が活発化している。有機膜の膜質はデバイス特性に大きな影響を及ぼすことが知られている。塗布法によって作製した有機膜の膜質は蒸着法によって作製した場合に比べて劣る点が大きな課題となっている。そのため、有機膜を構成する有機材料、並びにプロセス方法およびプロセス条件等の最適化が必要となる。 In the field of organic electronics, organic films are mainly produced by a vapor deposition method. However, for the development of industry, it is essential to increase the area of the device and reduce the cost. It is known that the film quality of an organic film has a great influence on device characteristics. A major problem is that the film quality of the organic film produced by the coating method is inferior to that produced by the vapor deposition method. Therefore, it is necessary to optimize the organic material forming the organic film, the process method, the process conditions, and the like.

そこで、蒸着法で得られた膜(蒸着膜)と塗布法で得られた膜(塗布膜)との間の膜質の差、または作製条件が異なる塗布膜間の差を評価する方法が求められている。特に有機膜は複数成分で構成され、多層構造になっている場合が多く、成分毎の評価が必要とされる。膜質には膜の密度、膜を構成する物質の配向、結晶性、凝集性およびアモルファス性、膜の硬さ、膜表面の粗さ、並びに膜厚等様々な因子が存在する。そのため、膜質評価には、顕微鏡観察(光学顕微鏡、SEM、TEM、AFMおよびSPM等)および分光分析(XRR、分光エリプソメトリー、ラマン分光、FTIR、SAXS、WAXSおよびXRD)等の様々な手法が利用されている。 Therefore, a method for evaluating the difference in film quality between a film obtained by a vapor deposition method (vapor-deposited film) and a film obtained by a coating method (coated film), or a difference between coated films produced under different conditions is required. ing. In particular, organic films are composed of multiple components and often have a multi-layered structure, requiring evaluation of each component. Film quality includes various factors such as film density, orientation of substances constituting the film, crystallinity, cohesiveness and amorphousness, film hardness, film surface roughness, and film thickness. Therefore, various methods such as microscopic observation (optical microscope, SEM, TEM, AFM, SPM, etc.) and spectroscopic analysis (XRR, spectroscopic ellipsometry, Raman spectroscopy, FTIR, SAXS, WAXS, and XRD) are used for film quality evaluation. It is

例えば、非特許文献1では、分光エリプソメトリーによる分子配向評価について記載されている。また、非特許文献2および3では、X線散乱等を利用した薄膜の構造等の解析について記載されている。 For example, Non-Patent Document 1 describes evaluation of molecular orientation by spectroscopic ellipsometry. Non-Patent Documents 2 and 3 describe the analysis of the structure of a thin film using X-ray scattering or the like.

一方、有機エレクトロニクス分野においては、化学成分毎にデータの抽出が可能なTOFMSを用いた分析も行われている。非特許文献4には、LDI-TOFMSによって有機発光ダイオードにおける化学的劣化を評価する技術が記載されている。非特許文献5には、LDI-TOFMSによって多層構造の有機膜試料について、層毎に分離して、構成される化学成分の膜の深さ方向の分布が評価される技術が記載されている。 On the other hand, in the field of organic electronics, analysis using TOFMS, which can extract data for each chemical component, is also performed. Non-Patent Document 4 describes a technique for evaluating chemical degradation in organic light-emitting diodes by LDI-TOFMS. Non-Patent Document 5 describes a technique in which an organic film sample having a multilayer structure is separated into layers by LDI-TOFMS, and the distribution of constituent chemical components in the depth direction of the film is evaluated.

横山 大輔、有機分子・バイオエレクトロニクス分科会会誌 Vol.22, No.4 (2011年11月) 203-208Daisuke Yokoyama, Vol.22, No.4 (November 2011) 203-208 G. Gupta et al., Appl.Mater.Interfaces 2015, 7, 12309-12318G. Gupta et al., Appl. Mater. Interfaces 2015, 7, 12309-12318 小島 優子、SPring-8利用推進協議会 グリーンエネルギー研究会、「塗布型有機太陽電池用薄膜のナノ構造解析」、2012年11月5日、[online]、[2016年4月13日検索]、インターネット<http://www.spring8.or.jp/ext/ja/iuss/htm/text/12file/green_energy/7th/2.kojima.pdf>Yuko Kojima, Green Energy Study Group, SPring-8 Utilization Promotion Council, "Nanostructural Analysis of Thin Films for Coated Organic Solar Cells", November 5, 2012, [online], [searched April 13, 2016], Internet <http://www.spring8.or.jp/ext/ja/iuss/htm/text/12file/green_energy/7th/2.kojima.pdf> I.R. de Moraes et. al.,Organic Electronics 13 (2012) 1900-1907I.R. de Moraes et. al., Organic Electronics 13 (2012) 1900-1907 佐藤貴弥ら、「レーザー脱離イオン化による有機薄膜の深さ方向分析の検討」、質量分析総合討論会講演要旨集 Vol. 62, Page. 131 (2014.05.07)Takaya Sato et al., ``Study of depth profile analysis of organic thin films by laser desorption ionization,'' Proceedings of the Symposium on Mass Spectrometry Vol. 62, Page.

しかしながら、上述のような従来技術は、低コストまたは迅速に試料の物理構造の差を高感度で評価し、かつ複数の因子を評価し得る分析方法を提供するという点からは改善の余地があった。また、試料が複数の成分で構成されている、もしくは多層構造になっている場合、解析が困難になることが多い。 However, the above-described conventional techniques have room for improvement in terms of providing analytical methods capable of evaluating differences in the physical structure of samples with high sensitivity at low cost or quickly and evaluating multiple factors. rice field. In addition, when a sample is composed of multiple components or has a multi-layered structure, analysis is often difficult.

例えば、非特許文献1~3に記載の技術は、限られた因子を測定するものであった。そのため、複数の因子を測定する場合には、複数の測定方法を組み合わせる必要があり、評価のためのコストおよび時間が問題となる。非特許文献1に記載の技術は、原理的に試料全体の光学特性について、試料自体の物理定数と、理論的に構築する計算式を用いて最適化されたフィッティングパラメーターとを算出して評価している。そのため、非特許文献1に記載の技術では、試料が複数の成分で構成されている、または多層構造になっている場合、成分毎または層毎の分離評価が難しい。 For example, the techniques described in Non-Patent Documents 1 to 3 measure limited factors. Therefore, when measuring a plurality of factors, it is necessary to combine a plurality of measurement methods, resulting in problems of cost and time for evaluation. In the technique described in Non-Patent Document 1, in principle, the optical properties of the entire sample are evaluated by calculating the physical constants of the sample itself and the fitting parameters optimized using a theoretically constructed calculation formula. ing. Therefore, in the technique described in Non-Patent Document 1, when a sample is composed of a plurality of components or has a multilayer structure, it is difficult to separate and evaluate each component or each layer.

また、従来技術では、感度の観点から試料の物理構造を評価することが難しい場合もあった。非特許文献1に記載の技術は有機エレクトロニクスで使用されているような100nm以下の薄膜試料では、原理的にフィッティングの精度が低下するため、適切な評価が困難である。 Moreover, in the prior art, it was sometimes difficult to evaluate the physical structure of the sample from the viewpoint of sensitivity. With the technique described in Non-Patent Document 1, it is difficult to make an appropriate evaluation for a thin film sample of 100 nm or less, which is used in organic electronics, because the accuracy of fitting is theoretically reduced.

さらに、放射光X線を利用した非特許文献2および3の技術は、評価の感度は高いが、それ自体コストが高く、特定の施設での利用となるため、評価頻度が限定される。また、試料が複数の成分で構成されている、または多層構造になっている場合、原理的に成分毎または層毎の分離評価が難しい上に、X線の試料への侵入深さが限られるため、試料全体の評価ができないことがある。特に感度を向上させるために使用されるGI-SAXS法またはGI-WAXS法では試料表面のみの評価に限られる。 Furthermore, although the techniques of Non-Patent Documents 2 and 3 using synchrotron radiation X-rays have high evaluation sensitivity, they themselves are expensive and are used in specific facilities, so the frequency of evaluation is limited. In addition, if the sample consists of multiple components or has a multi-layer structure, it is theoretically difficult to separate and evaluate each component or layer, and the penetration depth of X-rays into the sample is limited. Therefore, evaluation of the entire sample may not be possible. In particular, the GI-SAXS method or GI-WAXS method used to improve sensitivity is limited to evaluation of the sample surface only.

なお、非特許文献4に記載の技術は、化学的変化を評価するものであって、有機膜の物理構造を評価するものではない。 The technique described in Non-Patent Document 4 evaluates chemical changes, not physical structures of organic films.

本発明の一態様は、前記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、試料の構成成分の数および層構造によらず、低コストかつ迅速に試料全体の物理構造の差を成分毎に高感度で評価し、かつ複数の因子をまとめて評価し得る分析方法を実現することにある。 One aspect of the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to quickly and inexpensively determine differences in the physical structure of the entire sample, regardless of the number and layer structure of the constituent components of the sample. An object of the present invention is to realize an analysis method capable of evaluating each component with high sensitivity and collectively evaluating a plurality of factors.

本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、MALDI-TOFMSを用いて試料のイオン化挙動を解析することにより、低コストかつ迅速に試料の物理構造の差を高感度で評価し、かつ複数の因子を評価し得る分析方法を実現できることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、以下の構成を含むものである。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that by analyzing the ionization behavior of a sample using MALDI-TOFMS, the difference in the physical structure of the sample can be evaluated quickly at a low cost and with high sensitivity. , and found that an analysis method capable of evaluating a plurality of factors can be realized, leading to the completion of the present invention. That is, the present invention includes the following configurations.

〔1〕MALDI-TOFMSによって得られた試料のイオン化挙動に基づいて、当該試料の物理構造を評価する評価工程を含むことを特徴とする分析方法。 [1] An analysis method characterized by including an evaluation step of evaluating the physical structure of a sample based on the ionization behavior of the sample obtained by MALDI-TOFMS.

〔2〕上記試料は複数の成分から構成され、当該成分毎に評価することを特徴とする〔1〕に記載の分析方法。 [2] The analysis method according to [1], wherein the sample is composed of a plurality of components, and each component is evaluated.

〔3〕上記試料は複数の層から構成され、当該層毎に評価することを特徴とする〔1〕または〔2〕に記載の分析方法。 [3] The analysis method according to [1] or [2], wherein the sample is composed of a plurality of layers, and each layer is evaluated.

〔4〕上記試料は、有機膜を含むことを特徴とする〔1〕~〔3〕のいずれか1つに記載の分析方法。 [4] The analysis method according to any one of [1] to [3], wherein the sample contains an organic film.

〔5〕上記有機膜は、厚みが0.1nm~2μmであることを特徴とする〔4〕に記載の分析方法。 [5] The analysis method according to [4], wherein the organic film has a thickness of 0.1 nm to 2 μm.

〔6〕上記試料は、有機エレクトロニクス分野で使用されるものであることを特徴とする〔1〕~〔5〕のいずれか1つに記載の分析方法。 [6] The analysis method according to any one of [1] to [5], wherein the sample is used in the field of organic electronics.

〔7〕上記イオン化挙動の指標は、MALDI-TOFMSによって得られたイオン強度またはイオンの生成比率であることを特徴とする〔1〕~〔6〕のいずれか1つに記載の分析方法。 [7] The analysis method according to any one of [1] to [6], wherein the index of the ionization behavior is ion intensity or ion production ratio obtained by MALDI-TOFMS.

〔8〕上記イオン化挙動は、レーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度および測定雰囲気からなる群より選択されるいずれか1つ以上を変化させて得られることを特徴とする〔1〕~〔7〕のいずれか1つに記載の分析方法。 [8] The ionization behavior is obtained by changing any one or more selected from the group consisting of laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature and measurement atmosphere [1] to [7]. ] The analysis method as described in any one of ].

〔9〕上記イオン化挙動は、レーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度および測定雰囲気からなる群より選択されるいずれか1つの変化に伴うイオン強度の変化を表したグラフによって示されることを特徴とする〔1〕~〔8〕のいずれか1つに記載の分析方法。 [9] The ionization behavior is characterized by being represented by a graph showing changes in ion intensity accompanying changes in any one selected from the group consisting of laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature, and measurement atmosphere. The analysis method according to any one of [1] to [8].

〔10〕上記評価工程を複数の試料に対して行い、その結果を比較する比較工程を含んでいることを特徴とする〔1〕~〔9〕のいずれか1つに記載の分析方法。 [10] The analysis method according to any one of [1] to [9], which includes a comparison step of performing the evaluation step on a plurality of samples and comparing the results.

〔11〕上記複数の試料は、異なる製造方法によって得られた試料であることを特徴とする〔10〕に記載の分析方法。 [11] The analysis method according to [10], wherein the plurality of samples are samples obtained by different manufacturing methods.

〔12〕上記複数の試料は、製造後に冷却、熱、光、電気、圧力下、減圧下および環境放置からなる群より選択されるいずれか1つによって変質させて得られた試料であることを特徴とする〔10〕に記載の分析方法。 [12] that the above plurality of samples are samples obtained by any one selected from the group consisting of cooling, heat, light, electricity, under pressure, under reduced pressure, and left in an environment after production; The analytical method according to [10], characterized in that:

本発明の一態様は、試料の構成成分の数および層構造によらず、低コストかつ迅速に試料全体の物理構造の差を成分毎に高感度で評価し、かつ複数の因子をまとめて評価し得る分析方法を実現できるという効果を奏する。 One aspect of the present invention is to evaluate the difference in the physical structure of the entire sample quickly and at low cost with high sensitivity for each component, regardless of the number and layer structure of the constituent components of the sample, and to collectively evaluate a plurality of factors. There is an effect that a possible analysis method can be realized.

レーザー強度を変化させた場合のTPBiおよびIr(t-buppy)3の分子イオンのイオン強度を表すグラフを示す図である。FIG. 4 is a graph showing the ion intensity of molecular ions of TPBi and Ir(t-buppy) 3 when laser intensity is varied. レーザー周波数を変化させた場合のTPBiおよびIr(t-buppy)3の分子イオンのイオン強度を表すグラフを示す図である。FIG. 4 is a graph showing the ionic strength of molecular ions of TPBi and Ir(t-buppy)3 with varying laser frequencies; レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMのイオン強度を表すグラフを示す図である。FIG. 4 is a graph showing ion intensity of B3PYMPM with varying laser intensity. レーザー周波数を変化させた場合のB3PYMPMのイオン強度を表すグラフを示す図である。FIG. 4 is a graph showing the ion intensity of B3PYMPM with varying laser frequencies. レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMの蒸着膜のマススペクトルを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing mass spectra of deposited films of B3PYMPM when laser intensity is changed. レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMの塗布膜のマススペクトルを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing mass spectra of coating films of B3PYMPM when laser intensity is changed. レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMの2量体および3量体のイオン強度を表すグラフを示す図である。FIG. 4 is a graph showing the ionic strength of B3PYMPM dimers and trimers with varying laser intensities. レーザー周波数を変化させた場合のB3PYMPMのネガティブイオンのイオン強度を表すグラフを示す図である。FIG. 10 is a graph showing the ion intensity of negative ions of B3PYMPM when the laser frequency is changed. レーザー周波数を変化させた場合の、B3PYMPMの蒸着膜におけるネガティブイオンのマススペクトルを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing mass spectra of negative ions in a deposited film of B3PYMPM when the laser frequency is changed; レーザー周波数を変化させた場合の、B3PYMPMの塗布膜におけるネガティブイオンのマススペクトルを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing mass spectra of negative ions in a coating film of B3PYMPM when the laser frequency is changed. レーザー周波数を変化させた場合のB3PYMPMの蒸着膜および塗布膜におけるマススペクトルを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing mass spectra of a B3PYMPM deposited film and a coated film when the laser frequency is changed; B3PYMPMの蒸着膜および塗布膜の、放射光軟X線吸収分光による測定結果を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing measurement results of a deposited film and a coated film of B3PYMPM by synchrotron radiation soft X-ray absorption spectroscopy. B3PYMPMの蒸着膜および塗布膜の、GI-WAXSによる測定結果を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing measurement results of a B3PYMPM deposited film and a coated film by GI-WAXS. TPBiおよびIr(t-buppy)3を混合して得られた蒸着膜および塗布膜の、GI-SAXSによる測定結果を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing measurement results by GI-SAXS of a deposited film and a coated film obtained by mixing TPBi and Ir(t-buppy)3. MALDI-TOFMSによる有機多層薄膜の測定結果を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing measurement results of an organic multilayer thin film by MALDI-TOFMS;

以下に本発明の実施形態について詳細に説明するが、これらは本発明の一態様であり、本発明はこれらの内容に限定されない。本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「A~B」は、「A以上(Aを含みかつAより大きい)B以下(Bを含みかつBより小さい)」を意味する。 Embodiments of the present invention are described in detail below, but these are aspects of the present invention, and the present invention is not limited to these contents. Unless otherwise specified in this specification, "A to B" representing a numerical range means "A or more (including A and greater than A) and B or less (including B and less than B)".

本発明の一実施形態に係る分析方法は、MALDI-TOFMSによって得られた試料のイオン化挙動に基づいて、当該試料の物理構造を評価する評価工程を含む。 An analysis method according to one embodiment of the present invention includes an evaluation step of evaluating the physical structure of a sample based on the ionization behavior of the sample obtained by MALDI-TOFMS.

〔1.評価工程〕
本工程は、MALDI-TOFMSによって得られた試料のイオン化挙動に基づいて、当該試料の物理構造を評価する工程である。
[1. Evaluation process]
This step is a step of evaluating the physical structure of the sample based on the ionization behavior of the sample obtained by MALDI-TOFMS.

本発明者らは、後述の実施例に示すように、同じ材料を用いて異なる製造方法によって得られた膜試料(すなわち、化学構造としては同様の膜試料)をMALDI-TOFMSによって観察した場合に、イオン化挙動に差が見られることを見出した。これらの膜試料は同じ材料を用いているため、化学的には同じ組成である。それゆえ、このイオン化挙動の差は物理構造の差を反映していると考えられる。 As shown in Examples below, the present inventors have found that when membrane samples obtained by different manufacturing methods using the same material (that is, membrane samples with the same chemical structure) are observed by MALDI-TOFMS, , found that there is a difference in ionization behavior. Since these film samples use the same material, they have the same chemical composition. Therefore, this difference in ionization behavior is considered to reflect the difference in physical structure.

また、本発明者らは後述の実施例に示すように、異なる製造方法によって得られた膜試料をMALDI-TOFMS以外の分析方法によって評価した場合には実際に物理構造の差が見出されることも確認している。以上のことから、本分析方法によれば、試料の化学構造ではなく、試料の物理構造を評価することができると考えられる。 In addition, as shown in Examples below, the inventors of the present invention may actually find differences in physical structures when membrane samples obtained by different manufacturing methods are evaluated by analytical methods other than MALDI-TOFMS. Confirmed. From the above, it is considered that the physical structure of the sample can be evaluated, not the chemical structure of the sample, according to this analytical method.

このように試料の物理構造を評価できる分析方法は、塗布法の開発において膜質評価のスクリーニング法として大変有用であり、開発速度および開発精度の向上に役立つ。 An analysis method capable of evaluating the physical structure of a sample in this way is very useful as a screening method for film quality evaluation in the development of a coating method, and is useful for improving development speed and development accuracy.

また、本分析方法によれば、MALDI-TOFMSを用いるため、上述の非特許文献2および3のように放射光X線を利用した技術に比べて、低コストである。また、MALDI-TOFMSを用いるがゆえに、試料の物理構造の差を高感度で評価し、かつ複数の因子をまとめて評価できる。 Moreover, according to this analysis method, since MALDI-TOFMS is used, the cost is lower than the techniques using synchrotron radiation X-rays, such as Non-Patent Documents 2 and 3 described above. Moreover, since MALDI-TOFMS is used, differences in the physical structure of samples can be evaluated with high sensitivity, and a plurality of factors can be collectively evaluated.

<1-1.MALDI-TOFMS>
本発明の一実施形態に係る分析方法では、MALDI-TOFMSを用いる。MALDI-TOFMSは、マトリックス支援レーザー脱離イオン化法(MALDI:Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization)と飛行時間型質量分析計(TOFMS:Time-of-Flight Mass Spectrometer)とを組み合わせた分析方法である。
<1-1. MALDI-TOF MS>
An analysis method according to an embodiment of the present invention uses MALDI-TOFMS. MALDI-TOFMS is an analysis method combining matrix-assisted laser desorption/ionization (MALDI) and time-of-flight mass spectrometer (TOFMS).

MALDIでは、まず、試料とマトリックス(イオン化補助剤)との混合結晶を作製する。そして、当該混合結晶へ、レーザー光のパルスを照射する。これにより、プロトンまたは金属カチオンが付加し、イオンが生成される。このイオンを質量分析計へ導入する。MALDIでは、マトリックスを利用するため、従来のイオン化法ではレーザー照射によって分解しやすかった高分子成分の質量分析が可能である。なお、分解しにくい成分の場合はマトリックスを使用しないで測定可能である。 In MALDI, first, a mixed crystal of a sample and a matrix (ionization aid) is produced. Then, the mixed crystal is irradiated with a pulse of laser light. This adds protons or metal cations to produce ions. This ion is introduced into the mass spectrometer. Since MALDI uses a matrix, it is possible to perform mass spectrometry of macromolecular components that are easily decomposed by laser irradiation in the conventional ionization method. In the case of components that are difficult to decompose, measurement can be performed without using a matrix.

TOFMSは、加速された荷電粒子(イオン)が一定距離を飛行する時間を測定することによって、質量電荷比(m/z)を測定する。質量電荷比が大きいイオンは低速で飛行し、質量電荷比が小さいイオンは高速で飛行する。それゆえ、質量電荷比が大きいイオンは遅くイオン検出器に到達し、質量電荷比が小さいイオンは早くイオン検出器に到達する。このイオン検出器に到達するまでの飛行時間差から試料の質量を測定することが可能である。 TOFMS measures the mass-to-charge ratio (m/z) by measuring the time it takes an accelerated charged particle (ion) to fly a certain distance. Ions with a high mass-to-charge ratio fly at low speeds, and ions with low mass-to-charge ratios fly at high speeds. Therefore, ions with a large mass-to-charge ratio reach the ion detector late, and ions with a small mass-to-charge ratio reach the ion detector early. It is possible to measure the mass of the sample from the flight time difference until it reaches the ion detector.

従来、MALDI-TOFMSは、非特許文献4に記載されているように、試料の化学構造の評価に用いられていた。すなわち、MALDI-TOFMSは、試料の定性的な観察に用いられていた。これに対し、本発明の一実施形態に係る分析方法では、MALDI-TOFMSを用いて試料のイオン化挙動を解析することにより、試料の物理構造の評価を行う。 Conventionally, MALDI-TOFMS has been used to evaluate the chemical structure of samples, as described in Non-Patent Document 4. That is, MALDI-TOFMS has been used for qualitative observation of samples. On the other hand, in the analysis method according to one embodiment of the present invention, the physical structure of the sample is evaluated by analyzing the ionization behavior of the sample using MALDI-TOFMS.

また、MALDI-TOFMSでは、測定対象とする成分の測定感度を向上させるために、試料の結晶状態を種々に変化させる前処理の工夫が行われ得る。特に微量の成分またはイオン化しにくい成分では結晶状態のわずかな差により検出の感度が大幅に変わる場合がある。本発明者らは、この点に着目し、MALDI-TOFMSを用いれば高感度にて物理構造を評価できることを見出した。すなわち、試料の物理構造は、イオン化する際に照射するレーザーエネルギーが試料を構成する各成分に伝わる方向および程度に影響を与えている。本発明の一実施形態は、その伝わり方の違いがTOFMSで検出されるイオンの生成率に反映されることを利用した発明である。 In addition, in MALDI-TOFMS, in order to improve the measurement sensitivity of the component to be measured, it is possible to devise a pretreatment to variously change the crystalline state of the sample. In particular, for trace amounts of components or components that are difficult to ionize, a slight difference in the crystal state may significantly change the sensitivity of detection. The present inventors focused on this point and found that the physical structure can be evaluated with high sensitivity using MALDI-TOFMS. In other words, the physical structure of the sample affects the direction and degree of transmission of the laser energy irradiated during ionization to each component constituting the sample. One embodiment of the present invention is an invention that utilizes the fact that the difference in the way of propagation is reflected in the generation rate of ions detected by TOFMS.

<1-2.試料>
分析対象となる試料はイオン化可能な物質を含む試料であれば、特に限定されず、有機物であってもよく、無機物であってもよく、それらの混合物であってもよい。有機物は、単一の有機物であってもよく、異なる2種類以上の有機物の混合物であってもよい。また、無機物は、単一の無機物であってもよく、異なる2種類以上の無機物の混合物であってもよい。すなわち、上記試料は、複数の成分から構成されていてもよい。そして、この場合、本発明の一実施形態に係る分析方法によって、当該成分毎に評価してもよい。上述のように従来技術では、複数の成分を当該成分毎に評価することが難しい場合があったが、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、成分毎の評価も可能である。
<1-2. Sample>
The sample to be analyzed is not particularly limited as long as it contains an ionizable substance, and may be an organic substance, an inorganic substance, or a mixture thereof. The organic substance may be a single organic substance or a mixture of two or more different organic substances. Further, the inorganic substance may be a single inorganic substance or a mixture of two or more different inorganic substances. That is, the sample may be composed of multiple components. In this case, each component may be evaluated by the analysis method according to one embodiment of the present invention. As described above, in the prior art, it was sometimes difficult to evaluate a plurality of components for each component, but according to the analysis method according to one embodiment of the present invention, evaluation for each component is possible.

有機物としては、例えば、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、多環芳香族炭化水素、ヘテロ芳香族炭化水素もしくはヘテロ多環芳香族炭化水素から誘導される化合物、環同士が共有結合を介して連結された化合物、フラーレンを骨格に含む化合物、ポルフィリンもしくはフタロシアニンを骨格に含む化合物、これらの構造を含む金属錯体化合物、並びに、これらの構造を含むオリゴマーおよびポリマー等が挙げられる。 Examples of organic substances include compounds derived from aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, polycyclic aromatic hydrocarbons, heteroaromatic hydrocarbons, or heteropolycyclic aromatic hydrocarbons, and the rings are covalently bonded to each other. Linked compounds, compounds containing fullerene in the skeleton, compounds containing porphyrin or phthalocyanine in the skeleton, metal complex compounds containing these structures, oligomers and polymers containing these structures, and the like.

無機物としては、例えば、以下の元素のうちの少なくとも一つを含むものが挙げられる:〔アルカリ金属元素〕Li、Na、K、Rb、Cs;〔アルカリ土類金属元素〕Be、Mg、Ca、Sr、Ba;〔ランタノイド元素〕La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu;〔アクチノイド元素〕Th、U;〔遷移金属元素〕Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au;〔ホウ素族元素〕B、Al、Ga、In、Tl;〔炭素族元素〕Si、Ge、Sn、Pb;〔ニクトゲン元素〕P、As、Sb、Bi;〔カルコゲン元素〕S、Se、Te;〔ハロゲン元素〕F、Cl、Br、I。 Examples of inorganic substances include those containing at least one of the following elements: [alkali metal elements] Li, Na, K, Rb, Cs; [alkaline earth metal elements] Be, Mg, Ca, Sr, Ba; [Lanthanoid elements] La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu; [Actinoid elements] Th, U; [Transition metal elements] Sc , Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt , Au; [boron group element] B, Al, Ga, In, Tl; [carbon group element] Si, Ge, Sn, Pb; [nictogen element] P, As, Sb, Bi; [chalcogen element] S, Se , Te; [halogen element] F, Cl, Br, I;

試料の形状も特に限定されないが、例えば、粉体の試料であってもよく、膜状の試料(以下、膜試料とも称する)であってもよい。また、本明細書において、有機物を含む膜試料を有機膜と称する場合もある。なお、有機膜は有機物の他に無機物を含んでいてもよい。また、上記膜試料は、1層の膜であってもよく、2層以上の膜からなる多層膜であってもよい。すなわち、上記試料は、複数の層から構成されていてもよい。そして、この場合、本発明の一実施形態に係る分析方法によって、当該層毎に評価してもよい。上述のように従来技術では、複数の層を当該層毎に評価することが難しい場合があった。非特許文献5に記載のとおり、LDI-TOFMSによれば、試料にレーザーを照射することで試料表面部においてアブレーションが起こる。従って、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、MALDI-TOFMSを用いて繰り返しレーザーを照射し、測定することで、層毎の評価も可能である。 The shape of the sample is also not particularly limited, and may be, for example, a powder sample or a film sample (hereinafter also referred to as a film sample). Also, in this specification, a film sample containing an organic substance may be referred to as an organic film. Note that the organic film may contain an inorganic substance in addition to the organic substance. Further, the film sample may be a single-layer film or a multilayer film composed of two or more layers. That is, the sample may be composed of multiple layers. In this case, each layer may be evaluated by the analysis method according to one embodiment of the present invention. As described above, in the prior art, it was sometimes difficult to evaluate a plurality of layers for each layer. As described in Non-Patent Document 5, according to LDI-TOFMS, ablation occurs on the sample surface by irradiating the sample with a laser. Therefore, according to the analysis method according to one embodiment of the present invention, it is possible to evaluate each layer by repeatedly irradiating a laser using MALDI-TOFMS and measuring.

以上のことから、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、試料の構成成分の数および層構造によらず、迅速に試料全体の物理構造の差を評価することができる。 As described above, according to the analysis method according to one embodiment of the present invention, differences in the physical structure of the entire sample can be quickly evaluated regardless of the number and layer structure of the constituent components of the sample.

また、試料は有機膜からなるものであってもよく、有機膜と他の部材とを備えるものであってもよい。すなわち、試料は有機膜を含むものであってよい。例えば、試料には、電極および/または固体封止膜等の無機物にて構成された部材が存在してもよい。 Moreover, the sample may consist of an organic film, or may comprise an organic film and other members. That is, the sample may contain an organic film. For example, the sample may have a member made of an inorganic substance such as an electrode and/or a solid sealing film.

上記膜試料の厚みも特に限定されず、1nm以下であってもよく、1~10nmであってもよく、10~100nmであってもよく、100~1000nmであってもよく、1~2μmであってもよく、2μm以上であってもよい。本明細書において、特に厚みが0.1nm~2μmである膜試料を薄膜とも称する。上記有機膜は、厚みが0.1nm~2μmであってもよい。本明細書において、有機膜であり、且つ薄膜である試料を有機薄膜とも称する。 The thickness of the film sample is not particularly limited, and may be 1 nm or less, 1 to 10 nm, 10 to 100 nm, 100 to 1000 nm, or 1 to 2 μm. It may be 2 μm or more. In this specification, a film sample having a thickness of 0.1 nm to 2 μm is also referred to as a thin film. The organic film may have a thickness of 0.1 nm to 2 μm. In this specification, a sample that is both an organic film and a thin film is also referred to as an organic thin film.

上記試料は、有機エレクトロニクス分野で使用されるものであってもよい。本明細書において、有機エレクトロニクス分野で使用される材料とは、例えば、有機EL、有機太陽電池および有機トランジスタ等にて使用される材料を意味する。上述のような有機薄膜は、有機エレクトロニクス分野で使用される材料に包含される。 The sample may be one used in the field of organic electronics. In this specification, materials used in the field of organic electronics mean materials used in, for example, organic EL, organic solar cells, organic transistors, and the like. Organic thin films as described above are included in materials used in the field of organic electronics.

また、上記試料は、有機エレクトロニクス分野にて用いられ得る成分として、例えば、以下の成分を含んでいてもよい:2,2’、2’’-(1,3,5-ベンゼントリイル)-トリス(1-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール)(以下、TPBiとも称する)、イリジウム(III)トリス(2-(4’-tert-ブチルフェニル)ピリジナト)(以下、Ir(t-buppy)3とも称する)、ビス-4,6-(3,5-ジ-3-ピリジルフェニル)-2-メチルピリミジン(以下、B3PYMPMとも称する)、トリス(8-キノリノラト)アルミニウム(以下、Alq3とも称する)、4,4’-ビス(9H-カルバゾール-9-イル)ビフェニル(以下、CBPとも称する)、N,N’-ジフェニル-N,N’-ジ(m-トリル)ベンジジン(以下、TPDとも称する)およびトリス(2-フェニルピリジナト)イリジウム(III)(以下、Ir(ppy)3とも称する)等。 In addition, the sample may contain, for example, the following components as components that can be used in the field of organic electronics: 2,2′,2″-(1,3,5-benzenetriyl)- Tris(1-phenyl-1H-benzimidazole) (hereinafter also referred to as TPBi), iridium (III) tris(2-(4′-tert-butylphenyl)pyridinato) (hereinafter also referred to as Ir(t-buppy)3 ), bis-4,6-(3,5-di-3-pyridylphenyl)-2-methylpyrimidine (hereinafter also referred to as B3PYMPM), tris(8-quinolinolato)aluminum (hereinafter also referred to as Alq3), 4, 4′-bis(9H-carbazol-9-yl)biphenyl (hereinafter also referred to as CBP), N,N′-diphenyl-N,N′-di(m-tolyl)benzidine (hereinafter also referred to as TPD) and tris (2-phenylpyridinato)iridium (III) (hereinafter also referred to as Ir(ppy)3);

なお、B3PYMPM、Alq3、CBP、TPDおよびIr(ppy)3はそれぞれ、下記式(1)~(5)で表される化合物である。 B3PYMPM, Alq3, CBP, TPD and Ir(ppy)3 are compounds represented by the following formulas (1) to (5), respectively.

Figure 0007317161000001
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Figure 0007317161000002
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Figure 0007317161000003
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Figure 0007317161000004
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なお、試料の物理構造が製品の性能に大きな影響を及ぼす分野は有機エレクトロニクス分野に限らない。すなわち、本発明の一実施形態に係る分析方法の対象となる試料は、有機エレクトロニクス分野において使用されるものに限らない。有機エレクトロニクスと同様に、電子またはイオンの流れが発生する蓄電池および燃料電池等の電池分野も該当する。また、水蒸気および酸素等のガス透過性、並びに引っ張り、引き裂き、ねじれ、加圧、減圧および温度等に対する機械強度に物理構造が影響を及ぼすようなフィルム、樹脂、ゴム、カーボン材料および金属、並びにそれらの複合材料等を使う分野でも該当する。 The field in which the physical structure of the sample greatly affects the performance of the product is not limited to the field of organic electronics. That is, the sample that is the target of the analysis method according to one embodiment of the present invention is not limited to those used in the field of organic electronics. As well as organic electronics, the field of batteries such as accumulators and fuel cells in which a flow of electrons or ions is generated also applies. In addition, films, resins, rubbers, carbon materials and metals whose physical structure affects gas permeability such as water vapor and oxygen, and mechanical strength against tension, tear, twist, pressure, pressure reduction, temperature, etc., and those This also applies to fields using composite materials, etc.

上記試料が膜試料である場合、その製造方法は特に限定されない。本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、異なる製造方法によって得られた試料の間の物理構造の差を評価することができる。例えば、膜試料は、塗布膜および蒸着膜の少なくとも一方であってもよい。 When the sample is a film sample, the manufacturing method is not particularly limited. According to the analysis method according to one embodiment of the present invention, differences in physical structure between samples obtained by different manufacturing methods can be evaluated. For example, the film sample may be at least one of a coated film and a deposited film.

蒸着膜は、蒸着法によって製造された膜を意図する。蒸着法としては、物理的気相成長法(PVD)および化学的気相成長法(CVD)等が挙げられる。PVDとしては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、分子線エピタキシー法(MBE)およびレーザーアブレーション法等が挙げられる。CVDとしては、熱CVD、光CVD、プラズマCVDおよび有機金属気相成長法(MOCVD)等が挙げられる。 By vapor-deposited film is intended a film produced by a vapor deposition method. Vapor deposition methods include physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). PVD includes a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a molecular beam epitaxy method (MBE), a laser ablation method, and the like. CVD includes thermal CVD, optical CVD, plasma CVD, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), and the like.

塗布膜は、塗布法によって製造された膜を意図する。塗布法としては、インクジェット法、スピンコート法、ダイコート法、スプレー法およびスクリーン印刷法等が挙げられる。 By coated film is intended a film produced by a coating method. Examples of coating methods include an inkjet method, a spin coating method, a die coating method, a spray method and a screen printing method.

この他に、膜試料は、めっき法、陽極酸化またはゾル-ゲル法等によって製造されたものであってもよい。 Alternatively, the film sample may be produced by a plating method, anodization, a sol-gel method, or the like.

<1-3.物理構造>
本発明の一実施形態に係る分析方法は、試料の物理構造を評価する。本明細書において、試料の物理構造とは、同じ材料からなる試料間にて差が現れ得る特性を意図する。例えば、試料の物理構造には、同じ材料からなり、異なる製造方法によって得られた試料間にて差が現れ得る特性が含まれる。上記物理構造は、化学構造(例えば、高分子の末端基の構造、分子量分布および共重合体の組成等)を除くものである。
<1-3. Physical Structure>
An analytical method according to one embodiment of the present invention evaluates the physical structure of a sample. As used herein, the physical structure of a sample is intended to be a property that can differ between samples made of the same material. For example, the physical structure of a sample includes properties that may differ between samples made of the same material and obtained by different manufacturing methods. The physical structure excludes the chemical structure (eg, structure of polymer end groups, molecular weight distribution, copolymer composition, etc.).

上記物理構造は、例えば、分子配向、密度、混合の程度、結晶性、ラジカル発生の状態、電荷トラップの状態および界面の状態からなる群より選択されるいずれか1つ以上を含むものであってもよい。これらの物理構造が異なる場合、MALDI-TOFMSのレーザーによるエネルギーの伝わり方が異なり得る。それゆえ、本発明の一実施形態に係る分析方法によってこれらの物理構造を評価することができると推察される。これらの物理構造は、例えば、有機膜の膜質として重要である。すなわち、本発明の一実施形態に係る分析方法は、複数の因子をまとめて評価し得るものである。 The physical structure includes, for example, any one or more selected from the group consisting of molecular orientation, density, degree of mixing, crystallinity, radical generation state, charge trap state, and interface state. good too. If these physical structures are different, the way energy is transmitted by the laser in MALDI-TOFMS can be different. Therefore, it is conjectured that these physical structures can be evaluated by the analytical method according to one embodiment of the present invention. These physical structures are important, for example, as the film quality of organic films. That is, the analysis method according to one embodiment of the present invention can collectively evaluate a plurality of factors.

分子配向とは、試料を構成している分子がランダムに配向しているか、または特定の方向(例えば、膜が形成されている基板に平行または垂直な方向)へ配向しているかを表す。 Molecular orientation refers to whether the molecules constituting the sample are randomly oriented or oriented in a specific direction (for example, parallel or perpendicular to the substrate on which the film is formed).

密度は、試料全体の平均として分子が詰まっているか否かを表す指標となる。換言すれば、密度は、隙間があるか否かを表す指標である。凝集性は、試料全体の中で、ある部分で分子同士が互いの間の引力等によって引き合い集合している状態が存在しているか否か、または当該部分の量が多いか少ないかを表す指標となる。なお、凝集性は、試料内において隙間のある箇所(密度の小さい箇所)と隙間のない箇所(密度の大きい箇所)とが存在するか(試料内において密度に偏りがあるか否か)も包含する意味である。 Density is an index of whether or not molecules are packed as an average for the entire sample. In other words, the density is an index representing whether or not there is a gap. Cohesiveness is an index that indicates whether or not there is a state in which molecules are attracted to each other and aggregated in a certain portion of the sample as a whole, or whether the amount of such portion is large or small. becomes. The cohesiveness also includes whether there are gaps (low-density areas) and no gaps (high-density areas) in the sample (whether the density is uneven in the sample). It means to

混合の程度とは、例えば、試料に含まれる複数の成分が、試料全体として均一に混ざっているか否かを表す。「均一に混ざっているか否か」は、試料内において成分比が一定である箇所と一定でない箇所とが存在するかも包含する意味である。 The degree of mixing represents, for example, whether or not a plurality of components contained in the sample are uniformly mixed in the sample as a whole. "Whether or not they are uniformly mixed" means that there are locations where the component ratio is constant and locations where the component ratio is not constant in the sample.

結晶性とは、結晶化しているか否かを表す。また、結晶における分子のパッキングの程度も物理構造に包含される。 Crystallinity represents whether or not it is crystallized. Physical structure also includes the degree of molecular packing in a crystal.

ラジカル発生の状態とは、試料中のラジカルの発生の有無および分布等を表す。 The state of radical generation represents the presence or absence and distribution of radical generation in a sample.

電荷トラップの状態とは、捕捉された電荷の有無および分布等を表す。 The charge trap state indicates the presence or absence and distribution of trapped charges.

界面の状態とは、複数の成分から構成される、または複数の層(多層膜)で構成される試料の場合に、ある一つの成分に対して別の成分がどの程度の距離、量および引力で密着しているかを表す。多層膜で構成される試料の場合、各層の界面が、試料の作製中もしくは作製後に上層の成分と下層の成分とが混合される状態も含まれる。 In the case of a sample composed of multiple components or composed of multiple layers (multilayer film), the state of the interface is the degree of distance, amount, and attractive force between one component and another component. to indicate whether they are in close contact with each other. In the case of a sample composed of a multilayer film, the interface of each layer also includes a state in which an upper layer component and a lower layer component are mixed during or after sample preparation.

また、物理構造には、分子が弱い力で結合しているか否かおよび分子が溶媒和しているか否か等も包含される。 Physical structure also includes whether or not molecules are weakly bound and whether or not molecules are solvated.

このような物理構造は、試料の内部と表面との間で差が見られる場合もある。また、膜試料の上層部と下層部との間(界面)で差が見られる場合もある。 Such physical structures may differ between the interior and surface of the sample. In some cases, a difference is observed between the upper layer and the lower layer (interface) of the film sample.

また、塗布膜では、乾燥させるか否かによって溶媒の残留の程度が異なり、パッキングに影響する場合もある。さらに、塗布法で得られた多層膜では、残留溶媒の影響により、各層の界面付近が溶解する場合もある。一方、蒸着法で得られた多層膜ではこのようなことは起こらない。これにより、蒸着膜と塗布膜とで物理構造の差が生じることも考えられる。 In addition, depending on whether or not the coated film is dried, the degree of residual solvent varies, which may affect packing. Furthermore, in the multilayer film obtained by the coating method, the vicinity of the interface between each layer may dissolve due to the influence of the residual solvent. On the other hand, this does not occur in multilayer films obtained by vapor deposition. This may cause a difference in physical structure between the deposited film and the coated film.

従来の分析方法では、1つの分析方法につき、上述の物理構造のうちの限られた項目しか評価することができなかった。これに対し、本発明の一実施形態に係る分析方法では、上述のような様々な物理構造を評価することができる。 Conventional analysis methods can only evaluate a limited number of the physical structures described above per analysis method. In contrast, an analysis method according to an embodiment of the present invention can evaluate various physical structures as described above.

<1-4.イオン化挙動>
本発明の一実施形態に係る分析方法では、MALDI-TOFMSによって得られた試料のイオン化挙動を利用する。本明細書において、イオン化挙動とは、上記試料に含まれる成分をイオン化させた場合のイオンの挙動を意図する。イオン化挙動の指標としては、例えば、MALDI-TOFMSによって得られたイオン強度またはイオンの生成比率が挙げられる。
<1-4. Ionization Behavior>
An analysis method according to an embodiment of the present invention utilizes the ionization behavior of a sample obtained by MALDI-TOFMS. In this specification, the ionization behavior means the behavior of ions when the components contained in the sample are ionized. The index of ionization behavior includes, for example, ion intensity or ion production ratio obtained by MALDI-TOFMS.

イオン化挙動の解析において着目されるイオンとしては試料に含まれる成分のイオンであれば特に限定されない。本発明の一実施形態に係る分析方法では、MALDI-TOFMSを用いるがゆえに、試料が複数の成分の混合物であっても、質量電荷比に基づいて当該試料中の特定の成分のイオン化挙動に着目して解析することができる。着目されるイオンは、例えば、上述の有機エレクトロニクス分野にて用いられ得る成分のイオンであってもよい。 The ions to be focused on in the analysis of ionization behavior are not particularly limited as long as they are ions of components contained in the sample. Since the analysis method according to one embodiment of the present invention uses MALDI-TOFMS, even if the sample is a mixture of a plurality of components, the ionization behavior of a specific component in the sample is focused on based on the mass-to-charge ratio. can be analyzed as The ions of interest may, for example, be ions of constituents that may be used in the field of organic electronics as described above.

また、着目されるイオンは、例えば、試料に含まれる成分の分子イオン(MおよびM)、プロトン化分子([M+H])、ナトリウムイオン付加分子([M+Na])、脱ハイドライド分子([M-H])、多価プロトン化分子([M+nH]n+)、脱プロトン化分子([M-H])および多価脱プロトン化分子([M-nH]n-)等が挙げられる。さらに、着目されるイオンは、その他の付加イオンであってもよく、フラグメントイオンであってもよく、単量体、2量体、3量体、4量体、またはそれ以上の多量体であってもよい。それらイオンが付加したものであってもよい。複数の成分が含まれる試料の場合は当該成分に由来するイオン同士が付加したものであってもよい。塗布法で作製された試料で残留する溶媒に由来するイオンが、試料に由来する成分由来のイオンに付加してもよい。試料を作製する際または作製した後に、非意図的に混入した不純物に由来するイオンが試料に由来する成分由来のイオンに付加してもよい。無機物と有機物とが含まれる試料の場合はそれらの錯体に相当するイオンでもよい。試料作製後に熱、光および/または電気等により変質したイオンも含まれる。上記イオンは、ポジティブイオンであってもよく、ネガティブイオンであってもよい。 In addition, ions of interest are, for example, molecular ions (M + and M ) of components contained in the sample, protonated molecules ([M+H] + ), sodium ion adduct molecules ([M+Na] + ), dehydrated molecules ([M−H] + ), multivalent protonated molecules ([M+nH] n+ ), deprotonated molecules ([M−H] ) and multivalent deprotonated molecules ([M−nH] n− ), etc. is mentioned. Furthermore, the ions of interest may be other adduct ions, fragment ions, monomers, dimers, trimers, tetramers, or higher multimers. may Those ions may be added. In the case of a sample containing a plurality of components, ions derived from the components may be added to each other. Ions derived from the solvent remaining in the sample prepared by the coating method may be added to ions derived from components derived from the sample. During or after preparation of the sample, ions derived from unintentionally mixed impurities may be added to ions derived from components derived from the sample. In the case of a sample containing inorganic substances and organic substances, ions corresponding to their complexes may be used. Also included are ions that have been altered by heat, light, and/or electricity after sample preparation. The ions may be positive ions or negative ions.

これらのイオンのそれぞれのイオン強度、または各イオンの生成比率をイオン化挙動の指標として用いればよい。例えば、上記イオン化挙動の指標は、イオン強度、フラグメントイオンの生成比率、付加イオンの生成比率、ポジティブイオンとネガティブイオンとの比率、またはプロトン化分子と分子イオンとの生成比率であることが好ましい。これらの指標は、物理構造の評価に好適に用いることができる。 The ion intensity of each of these ions or the production ratio of each ion may be used as an index of ionization behavior. For example, the indicator of ionization behavior is preferably ionic strength, fragment ion generation ratio, adduct ion generation ratio, positive ion to negative ion generation ratio, or protonated molecule to molecular ion generation ratio. These indexes can be suitably used for evaluating the physical structure.

上記イオン化挙動は、ある特定の条件にて得られたものであってもよく、複数の条件にて得られたものであってもよい。好ましくは、上記イオン化挙動は、複数の条件にて得られたものであり、例えば、ある条件を段階的に(または連続的に)変化させて得られたものである。具体的には、上記イオン化挙動は、レーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度および測定雰囲気からなる群より選択されるいずれか1つ以上を変化させて得られることが好ましい。当業者であれば、MALDI-TOFMSによる分析において、これらの条件を変化させることが可能であり、これらの条件の変化に伴ってイオン化挙動が変化し得ることを理解できるであろう。これらの条件の変化に伴う上記イオン化挙動の指標の変化を解析することにより、試料の物理構造を評価することができる。これらの条件を変化させる範囲は特に限定されず、試料の種類および着目するイオンの種類等によって適宜選択すればよいが、以下に例を示す。 The above ionization behavior may be obtained under certain specific conditions, or may be obtained under a plurality of conditions. Preferably, the ionization behavior is obtained under a plurality of conditions, for example, by changing certain conditions stepwise (or continuously). Specifically, the ionization behavior is preferably obtained by changing any one or more selected from the group consisting of laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature and measurement atmosphere. Those skilled in the art will appreciate that these conditions can be varied in the analysis by MALDI-TOF MS, and that the ionization behavior can change as these conditions vary. The physical structure of the sample can be evaluated by analyzing the change in the index of ionization behavior that accompanies changes in these conditions. The range in which these conditions are changed is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the type of sample and the type of ions of interest. Examples are shown below.

レーザー強度は、発振するレーザーの最大強度を100%として、0.1~10%であってもよく、10~60%であってもよく、20~55%であってもよく、35~45%であってもよく、40~55%であってもよい。レーザー強度はレーザーが発振できるパワーなら限定されない。一般的に、レーザー強度が高ければ、試料が受けるエネルギーが大きく、イオン化しやすいため、イオン強度は高くなる。レーザー強度を変化させる場合は、1%ずつ変化させてもよく、10%ずつ変化させてもよい。 The laser intensity may be 0.1 to 10%, 10 to 60%, 20 to 55%, or 35 to 45%, with the maximum intensity of the oscillating laser being 100%. %, or 40 to 55%. The laser intensity is not limited as long as the laser can oscillate. In general, the higher the laser intensity, the higher the energy received by the sample and the easier it is to ionize, resulting in a higher ion intensity. When changing the laser intensity, it may be changed by 1% or by 10%.

レーザー周波数は、0.1~1000000Hzであってもよく、10~1000Hzであってもよい。レーザー周波数を変化させる場合は、10Hzずつ変化させてもよく、100Hzずつ変化させてもよい。レーザー周波数は、レーザーが発振できる周波数なら限定されない。 The laser frequency may be 0.1-1000000 Hz, or 10-1000 Hz. When changing the laser frequency, it may be changed by 10 Hz or by 100 Hz. The laser frequency is not limited as long as the laser can oscillate.

レーザー波長は、200~380nmであってもよく、10~200nmであってもよく、10~121nmであってもよく、380~780nmであってもよく、780~1400nmであってもよく、1400~3000nmであってもよい。レーザー波長は、レーザーが発振できる波長なら限定されない。レーザー波長を変化させる場合は、5nmずつ変化させてもよく、50nmずつ変化させてもよい。 The laser wavelength may be 200-380 nm, 10-200 nm, 10-121 nm, 380-780 nm, 780-1400 nm, 1400 It may be ~3000 nm. The laser wavelength is not limited as long as it is a wavelength at which the laser can oscillate. When changing the laser wavelength, it may be changed by 5 nm or by 50 nm.

温度は、絶対零度~-196℃であってもよく、-196~0℃であってもよく、0~25℃であってもよく、25~40℃であってもよく、40~100℃であってもよく、100℃以上であってもよい。温度を変化させる場合は、5℃ずつ変化させてもよく、10℃ずつ変化させてもよい。 The temperature may be from absolute zero to -196°C, may be from -196 to 0°C, may be from 0 to 25°C, may be from 25 to 40°C, may be from 40 to 100°C. or 100° C. or higher. When changing the temperature, it may be changed by 5°C or by 10°C.

測定雰囲気は、窒素、アルゴン、ヘリウム、空気、酸素または水素であってもよい。 The measurement atmosphere may be nitrogen, argon, helium, air, oxygen or hydrogen.

本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、MALDI-TOFMSを用いるがゆえに、上述のように様々なイオン化挙動の指標を用いることができる。また、同様に、様々な条件を変化させた場合についてイオン化挙動を評価することができる。それゆえ、試料を様々な観点から評価することが可能である。すなわち、限られた因子についてのみ評価可能な従来技術に比べて、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、試料の物理構造に影響する様々な因子について評価できると考えられる。 According to the analysis method according to one embodiment of the present invention, since MALDI-TOFMS is used, various indicators of ionization behavior can be used as described above. Also, similarly, the ionization behavior can be evaluated when various conditions are changed. Therefore, it is possible to evaluate the sample from various viewpoints. In other words, compared with the conventional technique that can evaluate only limited factors, the analysis method according to one embodiment of the present invention is considered to be able to evaluate various factors that affect the physical structure of the sample.

上記イオン化挙動は、グラフまたはマススペクトルとして表されてもよい。これにより、イオン化挙動を視覚的に理解しやすい。 The ionization behavior may be represented graphically or as a mass spectrum. This makes it easy to visually understand the ionization behavior.

上記イオン化挙動は、レーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度および測定雰囲気からなる群より選択されるいずれか1つの変化に伴うイオン強度の変化を表したグラフによって示されることが好ましい。これにより、イオン化挙動が試料の物理構造に与える影響を視覚的に理解しやすい。グラフとしては、例えば、縦軸をイオン強度とし、横軸をレーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度または測定雰囲気等としたものが挙げられる。この場合、上述の特定のイオンのイオン強度またはマススペクトル全域の積算のイオン強度を縦軸としてもよい。 The ionization behavior is preferably represented by a graph showing changes in ion intensity accompanying changes in any one selected from the group consisting of laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature, and measurement atmosphere. This makes it easier to visually understand the effect of ionization behavior on the physical structure of the sample. As a graph, for example, the vertical axis represents ion intensity, and the horizontal axis represents laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature, measurement atmosphere, or the like. In this case, the vertical axis may be the ion intensity of the specific ion described above or the integrated ion intensity of the entire mass spectrum.

また、マススペクトルとしては、イオン強度を縦軸とし、質量電荷比を横軸としたものが挙げられる。上述のレーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度または測定雰囲気を変化させた場合に得られた複数のマススペクトルを利用してもよい。 Further, as a mass spectrum, there is a spectrum in which the ion intensity is plotted on the vertical axis and the mass-to-charge ratio is plotted on the horizontal axis. A plurality of mass spectra obtained when changing the above-described laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature, or measurement atmosphere may be used.

〔2.比較工程〕
本発明の一実施形態に係る分析方法では、上記評価工程を複数の試料に対して行い、その結果を比較する比較工程を含んでいてもよい。上記複数の試料とは、物理構造に差が存在するか否かを調べたい試料であればよい。これにより、イオン化挙動に基づいて、試料間の物理構造の差を比較することができる。
[2. Comparison process]
The analysis method according to one embodiment of the present invention may include a comparison step of performing the evaluation step on a plurality of samples and comparing the results. The plurality of samples may be samples for which it is desired to examine whether or not there is a difference in physical structure. This allows comparison of differences in physical structure between samples based on their ionization behavior.

例えば、上記複数の試料は、異なる製造方法によって得られた試料であってもよい。これにより、製造方法に起因する物理構造の差を比較することができる。具体的には、上記複数の試料は、蒸着膜および塗布膜であってもよい。 For example, the plurality of samples may be samples obtained by different manufacturing methods. This makes it possible to compare differences in physical structure due to manufacturing methods. Specifically, the plurality of samples may be a deposited film and a coated film.

また、上記複数の試料は、製造後に冷却、熱、光、電気、圧力下、減圧下および環境放置からなる群より選択されるいずれか1つによって変質させて得られた試料であってもよい。これにより、製造後に冷却、熱、光、電気および/または環境放置に起因する物理構造の差を比較することができる。なお、本明細書において、環境放置とは、試料を特定の環境下にて放置することを意図する。特定の環境とは、ある一定の環境条件を指しており、例えば大気圧で恒温恒湿の環境を意図する。 Further, the plurality of samples may be samples obtained by altering properties by any one selected from the group consisting of cooling, heat, light, electricity, under pressure, under reduced pressure, and left in the environment after production. . This allows comparison of differences in physical structure due to cooling, heat, light, electricity and/or environmental exposure after fabrication. In this specification, "environmental exposure" means to leave the sample in a specific environment. A specific environment refers to certain environmental conditions, for example, an environment of atmospheric pressure and constant temperature and humidity.

評価工程の結果は、上述のようにグラフまたはマススペクトルとして表されてもよい。これにより、物理構造の差を視覚的に比較することができる。 The results of the evaluation process may be represented graphically or as a mass spectrum as described above. This makes it possible to visually compare differences in physical structure.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be modified in various ways within the scope of the claims, and can be obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. is also included in the technical scope of the present invention.

以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.

〔1.試料の調製〕
後述する材料を用いた真空蒸着法によって蒸着膜を作製した。また、同じ材料を用いたスピンコート法によって塗布膜を作製した。具体的には材料を溶媒にて溶解した後、回転数2000rpmにて塗布膜を作製した。なお、塗布膜については、110℃にて30分間乾燥(ベーク)させたものを作製した。蒸着膜および塗布膜のいずれも、シリコン基板上に作製した。
[1. Preparation of sample]
A deposited film was produced by a vacuum deposition method using materials described later. Further, a coating film was produced by a spin coating method using the same material. Specifically, after dissolving the materials in a solvent, a coating film was produced at a rotation speed of 2000 rpm. In addition, about the coating film, what dried (baked) for 30 minutes at 110 degreeC was produced. Both the deposited film and the coated film were produced on silicon substrates.

〔2.MALDI-TOFMSによる測定〕
上述のように調製した蒸着膜および塗布膜について、MALDI-TOFMSを用いてイオン強度を測定した。ここでは、下記〔3.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(1)〕以降で実施したMALDI-TOFMSによる測定における共通の条件について説明する。
[2. Measurement by MALDI-TOFMS]
The ionic strength of the deposited film and coated film prepared as described above was measured using MALDI-TOFMS. Here, the following [3. Ionization Behavior Accompanying Changes in Laser Intensity (1)] Conditions common to measurements by MALDI-TOFMS performed thereafter will be described.

測定用プレートに蒸着膜および塗布膜を配置し、当該測定プレートをMALDI-TOFMS装置に設置した。MALDI-TOFMS装置としては、日本電子社製JMS-S3000を用いた。 The deposited film and the coated film were placed on a measurement plate, and the measurement plate was installed in a MALDI-TOFMS apparatus. As the MALDI-TOFMS apparatus, JMS-S3000 manufactured by JEOL Ltd. was used.

より詳細な条件については、下記〔3.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(1)〕以降にて説明する。 For more detailed conditions, see [3. Ionization Behavior Accompanying Change in Laser Intensity (1)] will be described later.

〔3.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(1)〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー周波数を10Hzとして、レーザー強度を19%から40%まで変化させてイオン強度を測定した。材料としてTPBiを85重量%およびIr(t-buppy)3を15重量%用いて、厚み25nmに製膜した試料について測定を行った。なお、塗布膜作製時の材料を溶解する溶媒としてトルエンを用いた。また、イオン強度は、各試料上の複数の箇所から得られた測定値の平均値である。
[3. Ionization Behavior with Changes in Laser Intensity (1)]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured with a laser frequency of 10 Hz and a laser intensity varying from 19% to 40%. Measurement was performed on a sample formed to a thickness of 25 nm using 85% by weight of TPBi and 15% by weight of Ir(t-buppy)3 as materials. Note that toluene was used as a solvent for dissolving the materials used in forming the coating film. Also, the ionic strength is the average value of measurements obtained from multiple locations on each sample.

図1は、レーザー強度を変化させた場合のTPBiおよびIr(t-buppy)3の分子イオンのイオン強度を表すグラフを示す図である。縦軸はイオン強度を表し、横軸はレーザー強度を表す。ひし形(ダイヤ)は蒸着膜を表し、三角形は塗布膜を表す。 FIG. 1 is a graph showing the ion intensity of molecular ions of TPBi and Ir(t-buppy)3 when the laser intensity is varied. The vertical axis represents ion intensity and the horizontal axis represents laser intensity. A diamond represents a deposited film, and a triangle represents a coated film.

図1の(a)は、m/z 653であるTPBiの分子イオンのイオン強度を表すグラフである。図1の(a)からわかるように、TPBiに着目した場合、レーザー強度が高い範囲においては、蒸着膜は塗布膜に比べてイオン強度が高かった。 FIG. 1(a) is a graph showing the ionic strength of the molecular ion of TPBi at m/z 653. FIG. As can be seen from FIG. 1(a), when focusing on TPBi, the ionic strength of the deposited film was higher than that of the coated film in the range where the laser intensity was high.

図1の(b)は、m/z 821であるIr(t-buppy)3の分子イオンのイオン強度を表すグラフである。図1の(b)からわかるように、Ir(t-buppy)3に着目した場合、TPBiに比べて、蒸着膜と塗布膜との差は小さかった。 FIG. 1(b) is a graph showing the ionic strength of the molecular ion of Ir(t-buppy)3 with m/z 821. FIG. As can be seen from FIG. 1(b), when focusing on Ir(t-buppy)3, the difference between the deposited film and the coated film was smaller than that of TPBi.

以上のように、本発明の一実施形態に係る分析方法によってレーザー強度を変化させた場合のイオン化挙動を解析することにより、蒸着膜と塗布膜との間の差を検出することができる。蒸着膜と塗布膜とは同じ材料を用いているため、これらの間の差は化学構造によるものではなく、物理構造によるものであると考えられる。すなわち、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、MALDI-TOFMSを用いて試料の物理構造を評価できる。 As described above, the difference between the deposited film and the coated film can be detected by analyzing the ionization behavior when the laser intensity is changed by the analysis method according to one embodiment of the present invention. Since the vapor-deposited film and the coated film use the same material, it is believed that the difference between them is due to the physical structure rather than the chemical structure. That is, according to the analysis method according to one embodiment of the present invention, the physical structure of a sample can be evaluated using MALDI-TOFMS.

また、本発明の一実施形態に係る分析方法は、試料が複数の成分から構成される場合にも適用可能である。また、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、成分毎に分析することが可能である。例えば、今回は、TPBiとIr(t-buppy)3との間でイオン化挙動に差が見られた。そのため、着目する成分毎に高感度で物理構造を評価することができると考えられる。 Moreover, the analysis method according to one embodiment of the present invention can also be applied when a sample is composed of a plurality of components. Moreover, according to the analysis method according to one embodiment of the present invention, it is possible to analyze each component. For example, this time we found a difference in ionization behavior between TPBi and Ir(t-buppy)3. Therefore, it is considered that the physical structure of each target component can be evaluated with high sensitivity.

〔4.レーザー周波数の変化に伴うイオン化挙動(1)〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー強度を21%として、レーザー周波数を10Hzから1000Hzまで変化させてイオン強度を測定した。試料としては、〔3.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(1)〕と同様のものを用いた。また、イオン強度は、各試料上の複数の箇所から得られた測定値の平均値である。
[4. Ionization behavior with change in laser frequency (1)]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured by changing the laser frequency from 10 Hz to 1000 Hz with a laser intensity of 21%. As a sample, [3. The same ionization behavior as in (1)] with changes in laser intensity was used. Also, the ionic strength is the average value of measurements obtained from multiple locations on each sample.

図2は、レーザー周波数を変化させた場合のTPBiおよびIr(t-buppy)3の分子イオンのイオン強度を表すグラフを示す図である。縦軸はイオン強度を表し、横軸はレーザー周波数を表す。ひし形は蒸着膜を表し、三角形は塗布膜を表す。 FIG. 2 is a graph showing the ion intensity of molecular ions of TPBi and Ir(t-buppy)3 when the laser frequency is varied. The vertical axis represents ion intensity and the horizontal axis represents laser frequency. Diamonds represent deposited films, and triangles represent coated films.

図2の(a)は、m/z 653であるTPBiの分子イオンのイオン強度を表すグラフである。図2の(a)からわかるように、TPBiに着目した場合、蒸着膜は塗布膜に比べてイオン強度が高かった。 FIG. 2(a) is a graph showing the ionic strength of the molecular ion of TPBi at m/z 653. FIG. As can be seen from FIG. 2(a), when focusing on TPBi, the deposited film had a higher ionic strength than the coated film.

図2の(b)は、m/z 821であるIr(t-buppy)3の分子イオンのイオン強度を表すグラフである。図2の(b)からわかるように、蒸着膜は塗布膜に比べてイオン強度が高かった。 FIG. 2(b) is a graph showing the ionic strength of the molecular ion of Ir(t-buppy)3 with m/z 821. FIG. As can be seen from FIG. 2(b), the deposited film had a higher ionic strength than the coated film.

以上のことから、本発明の一実施形態に係る分析方法によってレーザー周波数を変化させた場合のイオン化挙動を解析することによっても、試料の物理構造の差を評価することができる。すなわち、本発明の一実施形態に係る分析方法によれば、多様なパラメータを用いて物理構造の評価を行うことができる。 From the above, it is possible to evaluate the difference in the physical structure of the sample also by analyzing the ionization behavior when the laser frequency is changed by the analysis method according to one embodiment of the present invention. That is, according to the analysis method according to one embodiment of the present invention, the physical structure can be evaluated using various parameters.

また、周波数の変化に対するイオン強度の傾向に着目すると、Ir(t-buppy)3に該当する図2の(b)では、測定した周波数の全領域に対してイオン強度が直線的に正の相関を示す。これに対して、TPBiに該当する図2の(a)では500Hzまではイオン強度が正の相関を示すが、1000Hzでは大きく減少している。つまり、化合物によって周波数の変化に対する影響の受け方が異なる様子が現れている。従って、着目する化合物の種類を変更することによって、膜質(物理構造)に影響する因子を異なる観点にて評価することができると考えられる。 In addition, focusing on the tendency of ion intensity with respect to frequency change, in (b) of FIG. indicates On the other hand, in (a) of FIG. 2 corresponding to TPBi, the ion intensity shows a positive correlation up to 500 Hz, but greatly decreases at 1000 Hz. In other words, it appears that different compounds are affected differently by changes in frequency. Therefore, by changing the type of compound to be focused on, it is possible to evaluate the factors affecting the film quality (physical structure) from different viewpoints.

また、上述の図1の(b)においてIr(t-buppy)3に着目すると蒸着膜と塗布膜との差はほとんどなかったが、図2の(b)ではIr(t-buppy)3に着目した場合にも蒸着膜と塗布膜との差が見出された。このように図1と図2とでは異なる結果が得られたことから、レーザー強度を変化させた場合とレーザー周波数を変化させた場合とで、異なる観点にて評価することができると考えられる。 In addition, when focusing on Ir(t-buppy)3 in FIG. Also when paying attention, the difference between the deposited film and the coated film was found. Since different results were obtained between FIG. 1 and FIG. 2, it is considered that evaluation can be made from different viewpoints depending on whether the laser intensity is changed or the laser frequency is changed.

〔5.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(2)〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー周波数を10Hzとして、レーザー強度を35%から54%まで変化させてイオン強度を測定した。材料としてB3PYMPMを用いて30nmに製膜した試料について測定を行った。なお、塗布膜作製時の材料を溶解する溶媒としてクロロホルムを用いた。また、イオン強度は、各試料上の複数の箇所から得られた測定値の平均値である。
[5. Ionization Behavior with Changes in Laser Intensity (2)]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured with the laser frequency set to 10 Hz and the laser intensity varied from 35% to 54%. Measurement was performed on a sample formed into a film of 30 nm using B3PYMPM as a material. Chloroform was used as a solvent for dissolving the materials used in the preparation of the coating film. Also, the ionic strength is the average value of measurements obtained from multiple locations on each sample.

図3は、m/z 555([M+H])であるB3PYMPMのイオン強度を表すグラフを示す図である。縦軸はイオン強度を表し、横軸はレーザー強度を表す。ひし形は蒸着膜を表し、正方形は塗布膜を表す。図3から、B3PYMPMに着目した場合、蒸着膜と塗布膜との差は小さいものの、レーザー強度41~44%の範囲では差が見られた。また、このことから、B3PYMPMのイオン化挙動は、上述のTPBiのイオン化挙動とは異なる傾向を示すことがわかる。従って、着目する化合物の種類を変更することによって、膜質に影響する因子を異なる観点にて評価することができると考えられる。 FIG. 3 shows a graph representing the ionic strength of B3PYMPM at m/z 555 ([M+H] + ). The vertical axis represents ion intensity and the horizontal axis represents laser intensity. Diamonds represent deposited films and squares represent coated films. From FIG. 3, when focusing on B3PYMPM, although the difference between the deposited film and the coated film was small, a difference was observed in the laser intensity range of 41 to 44%. In addition, it can be seen from this that the ionization behavior of B3PYMPM exhibits a tendency different from that of TPBi described above. Therefore, by changing the type of compound of interest, it is possible to evaluate the factors affecting the film quality from different viewpoints.

〔6.レーザー周波数の変化に伴うイオン化挙動(2)〕
上述の図3では、レーザー強度が41~44%の範囲において、蒸着膜と塗布膜との間でイオン強度にわずかに差が見られた。そこで、MALDI-TOFMSを用いて、レーザー強度を44%として、レーザー周波数を10Hzから1000Hzまで変化させてイオン強度を測定した。試料としては、〔5.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(2)〕と同様のものを用いた。また、イオン強度は、各試料上の複数の箇所から得られた測定値の平均値である。
[6. Ionization behavior with change in laser frequency (2)]
In FIG. 3 described above, a slight difference in ion intensity was observed between the evaporated film and the coated film in the laser intensity range of 41 to 44%. Therefore, using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured by setting the laser intensity to 44% and varying the laser frequency from 10 Hz to 1000 Hz. As a sample, [5. The same ionization behavior as in (2)] with changes in laser intensity was used. Also, the ionic strength is the average value of measurements obtained from multiple locations on each sample.

図4は、m/z 554(M)であるB3PYMPMのイオン強度を表すグラフを示す図である。縦軸はイオン強度を表し、横軸はレーザー周波数を表す。ひし形は蒸着膜を表し、正方形は塗布膜を表す。図4において、塗布膜は蒸着膜に比べてイオン強度が高かった。このことからも、B3PYMPMのイオン化挙動は、上述のTPBiのイオン化挙動とは異なる傾向を示すことがわかる。 FIG. 4 shows a graph representing the ionic strength of B3PYMPM at m/z 554 (M + ). The vertical axis represents ion intensity and the horizontal axis represents laser frequency. Diamonds represent deposited films and squares represent coated films. In FIG. 4, the coated film had a higher ionic strength than the deposited film. This also indicates that the ionization behavior of B3PYMPM exhibits a tendency different from that of TPBi described above.

また、蒸着膜では周波数の変化に対して、イオン強度がほぼ一定なのに対し、塗布膜では100Hzまではイオン強度が高く、250Hzではイオン強度が大きく減少し、1000Hzまではほぼ一定のイオン強度を示した。これらの結果は上述のTPBiおよびIr(t-buppy)3のイオン化挙動とは異なる傾向を示すことがわかる。つまり、着目する化合物の種類を変更することによって、膜質に影響する因子を異なる観点にて評価することができると考えられる。 In addition, while the ionic strength of the deposited film is almost constant with respect to the change in frequency, the ionic strength of the coated film is high up to 100 Hz, the ionic strength is greatly reduced at 250 Hz, and the ionic strength is almost constant up to 1000 Hz. rice field. These results show a tendency different from the ionization behavior of TPBi and Ir(t-buppy)3 described above. In other words, it is considered that factors affecting film quality can be evaluated from different viewpoints by changing the type of compound to be focused on.

〔7.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(3)〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー周波数を10Hzとして、レーザー強度を40%から44%まで変化させてイオン強度を測定した。試料としては、〔5.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(2)〕と同様のものを用いた。
[7. Ionization behavior with changes in laser intensity (3)]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured with a laser frequency of 10 Hz and a laser intensity varying from 40% to 44%. As a sample, [5. The same ionization behavior as in (2)] with changes in laser intensity was used.

図5は、レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMの蒸着膜のマススペクトルを示す図である。図5の(a)~(c)はそれぞれ、レーザー強度が40%、41%および44%の場合を表す。 FIG. 5 is a diagram showing mass spectra of deposited films of B3PYMPM when the laser intensity is varied. (a) to (c) of FIG. 5 represent cases where the laser intensity is 40%, 41% and 44%, respectively.

図6は、レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMの塗布膜のマススペクトルを示す図である。図6の(a)~(c)はそれぞれ、レーザー強度が40%、41%および44%%の場合を表す。 FIG. 6 is a diagram showing the mass spectrum of the coating film of B3PYMPM when the laser intensity is changed. (a) to (c) of FIG. 6 represent cases where the laser intensity is 40%, 41% and 44%, respectively.

図5および6においては、レーザー強度が高くなるにつれ、高分子のピークが現れた。具体的には、2量体および3量体等の高分子のピークが現れた。また、図6では、レーザー強度が高くなるにつれ、低分子の分解ピーク(フラグメントイオンのピーク)が増加した。つまり、マススペクトルを用いることにより、膜質に影響する因子を上述の実施例とは異なる観点にて評価することができると考えられる。 In Figures 5 and 6, the peaks of macromolecules appeared as the laser intensity increased. Specifically, peaks of macromolecules such as dimers and trimers appeared. In addition, in FIG. 6, as the laser intensity increased, the low-molecular decomposition peak (fragment ion peak) increased. In other words, it is considered that the use of the mass spectrum makes it possible to evaluate the factors affecting the film quality from a viewpoint different from that of the above-described examples.

なお、図5および6において、点線で囲んだピークは粉体測定(データは示していない)では見られなかったピークを表す。また、図6において、一点鎖線で囲んだピークは、図5(すなわち、蒸着膜)では見られなかったピークを表す。このように膜試料のマススペクトルからも蒸着膜と塗布膜との間の差を検出することができる。 5 and 6, the peaks enclosed by dotted lines represent peaks that were not observed in the powder measurements (data not shown). In addition, in FIG. 6, the peaks enclosed by the dashed-dotted line represent peaks that were not seen in FIG. 5 (ie, the deposited film). In this way, the difference between the deposited film and the coated film can also be detected from the mass spectrum of the film sample.

〔8.二量体および三量体のイオン化挙動〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー周波数を10Hzとして、レーザー強度を35%から54%まで変化させてイオン強度を測定した。試料としては、〔5.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(2)〕と同様のものを用いた。また、イオン強度は、各試料上の複数の箇所から得られた測定値の平均値である。
[8. Ionization Behavior of Dimers and Trimers]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured with the laser frequency set to 10 Hz and the laser intensity varied from 35% to 54%. As a sample, [5. The same ionization behavior as in (2)] with changes in laser intensity was used. Also, the ionic strength is the average value of measurements obtained from multiple locations on each sample.

図7は、レーザー強度を変化させた場合のB3PYMPMの2量体および3量体のイオン強度を表すグラフを示す図である。縦軸はイオン強度を表し、横軸はレーザー強度を表す。ひし形は蒸着膜を表し、正方形は塗布膜を表す。 FIG. 7 is a graph showing the ion intensity of B3PYMPM dimers and trimers when laser intensity is varied. The vertical axis represents ion intensity and the horizontal axis represents laser intensity. Diamonds represent deposited films and squares represent coated films.

図7の(a)は、m/z 1107([2M+H])であるB3PYMPMの2量体のイオン強度を表すグラフである。図7の(b)は、m/z 1659([3M+H])であるB3PYMPMの3量体のイオン強度を表すグラフである。 FIG. 7(a) is a graph representing the ionic strength of the B3PYMPM dimer with m/z 1107 ([2M+H] + ). FIG. 7(b) is a graph representing the ionic strength of the trimer of B3PYMPM at m/z 1659 ([3M+H] + ).

図7の(a)および(b)にいずれにおいても、レーザー強度が高い範囲(例えば、レーザー強度が45%以上の範囲)では、蒸着膜は塗布膜に比べてイオン強度が高かった。この結果は、図3に示すように蒸着膜と塗布膜との間の差が小さかった分子イオンの結果とは異なる。また、2量体に比べて3量体のほうが、差が大きかった。つまり、2量体および3量体等に着目することによって、膜質に影響する因子を上述の実施例とは異なる観点にて評価することができると考えられる。 In both (a) and (b) of FIG. 7, in the high laser intensity range (for example, the laser intensity range of 45% or more), the deposited film had a higher ion intensity than the coated film. This result is different from the results for molecular ions where the difference between the deposited film and the coated film was small as shown in FIG. Moreover, the difference was larger in the trimer than in the dimer. In other words, by paying attention to dimers, trimers, and the like, factors affecting film quality can be evaluated from a viewpoint different from that of the above-described examples.

〔9.ネガティブイオンの挙動〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー強度を44%として、レーザー周波数を10Hzから1000Hzまで変化させてイオン強度を測定した。試料としては、〔5.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(2)〕と同様のものを用いた。また、イオン強度は、各試料上の複数の箇所から得られた測定値の平均値である。
[9. Behavior of Negative Ions]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured by changing the laser frequency from 10 Hz to 1000 Hz with a laser intensity of 44%. As a sample, [5. The same ionization behavior as in (2)] with changes in laser intensity was used. Also, the ionic strength is the average value of measurements obtained from multiple locations on each sample.

図8は、m/z 554(M)であるB3PYMPMのネガティブイオンのイオン強度を表すグラフを示す図である。 FIG. 8 shows a graph representing the ion intensity of negative ions of B3PYMPM at m/z 554 (M ).

ここで、上述の図4はポジティブイオンのイオン強度を表している。図4では、レーザー周波数が小さい範囲で蒸着膜と塗布膜との差が大きかったのに対し、図8では、レーザー周波数が大きい範囲で蒸着膜と塗布膜との差が大きかった。また、図4および8からわかるように、その差は、ポジティブイオンに比べてネガティブイオンのほうが大きい。従って、B3PYMPMのネガティブイオンに着目した場合は、ポジティブイオンに着目した場合に比べて、より高感度にて物理構造の差を評価することができると考えられる。 Here, FIG. 4 described above represents the ion intensity of positive ions. In FIG. 4, the difference between the deposited film and the coated film was large in the low laser frequency range, whereas in FIG. 8, the difference between the deposited film and the coated film was large in the high laser frequency range. Also, as can be seen from FIGS. 4 and 8, the difference is greater for negative ions than for positive ions. Therefore, when focusing on the negative ions of B3PYMPM, it is considered possible to evaluate the difference in physical structure with higher sensitivity than when focusing on the positive ions.

図9は、レーザー強度を41%としてレーザー周波数を変化させた場合の、B3PYMPMの蒸着膜におけるネガティブイオンのマススペクトルを示す図である。図9の(a)~(c)はそれぞれ、レーザー周波数が10Hz、100Hzおよび1000Hzの場合を表す。 FIG. 9 is a diagram showing mass spectra of negative ions in a deposited film of B3PYMPM when the laser frequency is changed with the laser intensity set at 41%. (a) to (c) of FIG. 9 represent cases where the laser frequency is 10 Hz, 100 Hz and 1000 Hz, respectively.

図10は、レーザー強度が41%としてレーザー周波数を変化させた場合の、B3PYMPMの塗布膜におけるネガティブイオンのマススペクトルを示す図である。図10の(a)~(c)はそれぞれ、レーザー周波数が10Hz、100Hzおよび1000Hzの場合を表す。 FIG. 10 is a diagram showing mass spectra of negative ions in the coating film of B3PYMPM when the laser intensity is 41% and the laser frequency is changed. FIGS. 10(a) to 10(c) represent cases where the laser frequency is 10 Hz, 100 Hz and 1000 Hz, respectively.

図9および10のいずれにおいても、レーザー周波数が高くなるにつれて低分子のフラグメントピークが減少し、1000Hzでは、きれいなマススペクトルのパターンを示している。ここで、いずれの周波数でも図10の塗布膜試料の方が低分子のフラグメントの強度が図9の蒸着膜試料より小さく、きれいなパターンを示している。このようにマススペクトルに着目した場合にも、物理構造の差を評価することができる。 In both FIGS. 9 and 10, the low-molecular-weight fragment peaks decrease as the laser frequency increases, and at 1000 Hz, a clean mass spectral pattern is shown. Here, the applied film sample in FIG. 10 has a smaller intensity of low-molecular fragment fragments than the deposited film sample in FIG. 9 at any frequency, showing a clear pattern. Also when focusing on the mass spectrum in this way, the difference in physical structure can be evaluated.

〔10.分子イオン〕
MALDI-TOFMSを用いて、レーザー強度を41%として、レーザー周波数を20Hzから250Hzまで変化させてイオン強度を測定した。試料としては、〔5.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(2)〕と同様のものを用いた。図11は、レーザー周波数を変化させた場合のB3PYMPMの蒸着膜および塗布膜におけるマススペクトルを示す図である。
[10. molecular ion]
Using MALDI-TOFMS, the ion intensity was measured by changing the laser frequency from 20 Hz to 250 Hz with a laser intensity of 41%. As a sample, [5. The same ionization behavior as in (2)] with changes in laser intensity was used. FIG. 11 is a diagram showing mass spectra of a deposited film and a coated film of B3PYMPM when the laser frequency is changed.

図11の(a)および(b)は蒸着膜のマススペクトルを表し、それぞれレーザー周波数が20Hzおよび250Hzの場合を表す。 FIGS. 11(a) and 11(b) represent the mass spectrum of the deposited film at laser frequencies of 20 Hz and 250 Hz, respectively.

図11の(c)および(d)は塗布膜のマススペクトルを表し、それぞれレーザー周波数が20Hzおよび250Hzの場合を表す。 (c) and (d) of FIG. 11 represent the mass spectrum of the coating film at laser frequencies of 20 Hz and 250 Hz, respectively.

蒸着膜および塗布膜のいずれにおいても、レーザー周波数の上昇に伴うイオン強度の上昇は[M+H]よりもMのほうが大きく、その程度は蒸着膜のほうが塗布膜より顕著であった。この変化には分子内または分子間のプロトンの有無が関与していると考えられる。イオンの種類に着目することによって、膜質に影響する因子を上述の実施例とは異なる観点にて評価することができると考えられる。 In both the deposited film and the coated film, the increase in ion intensity with increasing laser frequency was greater for M + than for [M+H] + , and the degree of increase was more pronounced for the deposited film than for the coated film. This change is thought to involve the presence or absence of intramolecular or intermolecular protons. By paying attention to the type of ions, it is considered that the factors affecting the film quality can be evaluated from a viewpoint different from that of the above-described examples.

〔11.分子配向性の確認〕
放射光軟X線吸収分光を用いて、蒸着膜および塗布膜の分子配向を評価した。B3PYMPMを材料として蒸着膜(真空蒸着法、厚み50nm)および塗布膜(スピンコート法、1000rpm、厚み10nm)をそれぞれシリコン基板上に製膜し、これらを試料として用いた。測定装置としてはAdvanced Light Source(ALS)BL6.3.2を用い、全電子収量法によって測定した。測定においては、軟X線の入射角度を30~90度に変化させた。なお、評価はN-K吸収端領域にて行った。これにより、N原子に着目した異方性評価を行った。
[11. Confirmation of molecular orientation]
The molecular orientation of the vapor-deposited film and the coated film was evaluated using synchrotron radiation soft X-ray absorption spectroscopy. Using B3PYMPM as a material, a deposited film (vacuum deposition method, thickness 50 nm) and a coating film (spin coating method, 1000 rpm, thickness 10 nm) were each formed on a silicon substrate, and these films were used as samples. Advanced Light Source (ALS) BL6.3.2 was used as a measuring device, and the total electron yield method was used. In the measurement, the incident angle of soft X-rays was varied from 30 to 90 degrees. The evaluation was performed in the NK absorption edge region. Thus, an anisotropic evaluation focusing on N atoms was performed.

図12は、B3PYMPMの蒸着膜および塗布膜の、放射光軟X線吸収分光による測定結果を示す図である。なお、図12の縦軸は、σ*の強度を基準として規格化した強度を表す。 FIG. 12 is a diagram showing measurement results of a deposited film and a coated film of B3PYMPM by synchrotron radiation soft X-ray absorption spectroscopy. Note that the vertical axis in FIG. 12 represents the intensity normalized with the intensity of σ* as a reference.

図12の(a)は、蒸着膜の測定結果を表す。図12の(a)では、軟X線の入射角度が90度に近づくにつれてπ*の相対強度が低下した。このことから、蒸着膜では、π軌道が基板に対して垂直に張り出していると考えられる。すなわち、蒸着膜は、水平配向性を示す。 FIG. 12(a) represents the measurement results of the deposited film. In FIG. 12(a), the relative intensity of π* decreased as the soft X-ray incident angle approached 90 degrees. From this, it is considered that the π orbital extends perpendicularly to the substrate in the deposited film. That is, the deposited film exhibits horizontal orientation.

図12の(b)は、塗布膜の測定結果を表す。図12の(b)では、軟X線の入射角度を変化させても、スペクトル形状に変化が見られなかった。すなわち、塗布膜は、ランダム配向性を示す。 (b) of FIG. 12 represents the measurement result of the coating film. In FIG. 12(b), even if the incident angle of the soft X-rays was changed, no change was observed in the spectral shape. That is, the coating film exhibits random orientation.

このように、蒸着膜と塗布膜とでは、材料が同じであっても分子配向が異なることが明らかになった。すなわち、蒸着膜と塗布膜とは、上述のMALDI-TOFMSにおいても観察されたように、物理構造が異なる。 As described above, it has been clarified that the deposited film and the coated film have different molecular orientations even if the materials are the same. That is, the deposited film and the coated film have different physical structures, as observed in the above MALDI-TOFMS.

〔12.結晶性の確認〕
GI-WAXS(微小角入射広角X線散乱)を用いて、蒸着膜および塗布膜の結晶性を評価した。B3PYMPMを材料としてシリコン基板上に厚み30nmの蒸着膜(真空蒸着法)および塗布膜(スピンコート法、1000rpm)をそれぞれ作製し、これらを試料として用いた。測定装置としてはSPring-8のBL08B2を用い、波長1.0Å、カメラ長(試料と検出器との距離)125.4mm、入射角0.1度、露光時間10秒とした。
[12. Confirmation of crystallinity]
GI-WAXS (grazing-incidence wide-angle X-ray scattering) was used to evaluate the crystallinity of the deposited film and the coated film. Using B3PYMPM as a material, a vapor deposition film (vacuum vapor deposition method) and a coating film (spin coating method, 1000 rpm) each having a thickness of 30 nm were formed on a silicon substrate, and these films were used as samples. SPring-8's BL08B2 was used as the measuring apparatus, and the wavelength was 1.0 Å, the camera length (the distance between the sample and the detector) was 125.4 mm, the incident angle was 0.1 degrees, and the exposure time was 10 seconds.

図13は、B3PYMPMの蒸着膜および塗布膜の、GI-WAXSによる測定結果を示す図である。GI-WAXSによる測定結果において、ピークが一致する場合、同様の結晶性を有すると判断できる。図13によれば、蒸着膜では、~3.7Åと~3.2Åにおいてピークが見られ、これはπ-スタッキングに相当すると考えられる。一方、塗布膜ではこのようなピークは見られない。 FIG. 13 is a diagram showing the measurement results of the B3PYMPM deposited film and coated film by GI-WAXS. If the peaks match in the measurement results by GI-WAXS, it can be determined that they have similar crystallinity. According to FIG. 13, the evaporated film shows peaks at ˜3.7 Å and ˜3.2 Å, which is considered to correspond to π-stacking. On the other hand, no such peak is observed in the coated film.

従って、蒸着膜と塗布膜とでは、材料が同じであっても結晶性が異なることが明らかになった。すなわち、蒸着膜と塗布膜とは、上述のMALDI-TOFMSにおいても観察されたように、物理構造が異なる。 Therefore, it has been clarified that the deposited film and the coated film have different crystallinities even if the materials are the same. That is, the deposited film and the coated film have different physical structures, as observed in the above MALDI-TOFMS.

〔13.混合膜試料の物理構造の確認〕
GI-SAXS(微小角入射小角X線散乱)を用いて、蒸着膜および塗布膜の結晶性を評価した。試料としては、〔3.レーザー強度の変化に伴うイオン化挙動(1)〕と同様のものを用いた。
[13. Confirmation of physical structure of mixed film sample]
GI-SAXS (grazing incidence small angle X-ray scattering) was used to evaluate the crystallinity of the deposited film and the coated film. As a sample, [3. The same ionization behavior as in (1)] with changes in laser intensity was used.

図14は、TPBiおよびIr(t-buppy)3を混合して得られた蒸着膜および塗布膜の、GI-SAXSによる測定結果を示す図である。図14から、蒸着膜と塗布膜とでは、異なる曲線が得られる。従って、図14からも、蒸着膜と塗布膜とは、異なる物理構造を有することがわかる。 FIG. 14 is a diagram showing measurement results by GI-SAXS of a deposited film and a coated film obtained by mixing TPBi and Ir(t-buppy)3. From FIG. 14, different curves are obtained for the deposited film and the coated film. Therefore, it can be seen from FIG. 14 that the deposited film and the coated film have different physical structures.

より具体的には、蒸着膜と塗布膜とでは、密度もしくは均一性が異なる、配向が異なる、分子構造(分子内の結合角度または結合長さ)が異なる、または分子間の距離と均一性とが異なる、と考えられる。また、蒸着膜の曲線はフリンジを有するため、周期構造が揃っている(均一性が高い)と考えられる。 More specifically, the deposited film and the coated film have different densities or uniformities, different orientations, different molecular structures (intramolecular bond angles or bond lengths), or differences in intermolecular distance and uniformity. are different. In addition, since the curve of the deposited film has fringes, it is considered that the periodic structure is uniform (high uniformity).

〔14.有機多層薄膜の評価〕
ガラス基板上にTPD膜、CBPとIr(ppy)3との混合膜、Alq3膜、Al膜(電極)をこの順番に製膜した試料(すなわち、有機多層薄膜)についてMALDI-TOFMSによる測定を行った。
[14. Evaluation of Organic Multilayer Thin Film]
A sample (that is, an organic multilayer thin film) in which a TPD film, a mixed film of CBP and Ir(ppy)3, an Alq3 film, and an Al film (electrode) were formed in this order on a glass substrate was measured by MALDI-TOFMS. rice field.

図15は、MALDI-TOFMSによる有機多層薄膜の測定結果(マススペクトル)を示す図である。図15から、試料が複数の層から構成されている場合にも、用いた成分全てを検出できることがわかる。すなわち、本発明の一実施形態に係る分析方法は、試料の層構造によらずに適用可能である。 FIG. 15 is a diagram showing measurement results (mass spectrum) of an organic multilayer thin film by MALDI-TOFMS. From FIG. 15, it can be seen that all the components used can be detected even when the sample is composed of multiple layers. That is, the analysis method according to one embodiment of the present invention can be applied regardless of the layer structure of the sample.

本発明の一態様は、有機エレクトロニクス等の種々の分野において、試料の物理構造の分析に利用することができる。 One aspect of the present invention can be used to analyze the physical structure of samples in various fields such as organic electronics.

Claims (7)

MALDI-TOFMSによって得られた試料のイオン化挙動に基づいて、当該試料の物理構造を評価する評価工程を含み、
上記イオン化挙動の指標は、MALDI-TOFMSによって得られたイオン強度またはイオンの生成比率であり、
上記物理構造は、分子配向、密度、混合の程度、結晶性、ラジカル発生の状態、電荷トラップの状態および界面の状態からなる群より選択されるいずれか1つ以上であり、
上記イオン化挙動は、レーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度および測定雰囲気からなる群より選択されるいずれか1つ以上を変化させて得られ、
上記試料は、有機膜を含み、
上記評価工程を複数の試料に対して行い、その結果を比較する比較工程を含むことを特徴とする分析方法。
An evaluation step of evaluating the physical structure of the sample based on the ionization behavior of the sample obtained by MALDI-TOFM S ;
The index of the ionization behavior is the ionic strength or ion generation ratio obtained by MALDI-TOFM S ,
The physical structure is any one or more selected from the group consisting of molecular orientation, density, degree of mixing, crystallinity, radical generation state, charge trap state and interface state,
The ionization behavior is obtained by changing any one or more selected from the group consisting of laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature and measurement atmosphere,
The sample includes an organic film,
An analysis method comprising a comparison step of performing the evaluation step on a plurality of samples and comparing the results.
上記試料は複数の成分から構成され、当該成分毎に評価することを特徴とする請求項1に記載の分析方法。 2. The analysis method according to claim 1, wherein the sample is composed of a plurality of components, and each component is evaluated. 上記試料は複数の層から構成され、当該層毎に評価することを特徴とする請求項1または2に記載の分析方法。 3. The analysis method according to claim 1, wherein the sample is composed of a plurality of layers, and each layer is evaluated. 上記試料は、有機エレクトロニクス分野で使用されるものであることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の分析方法。 The analysis method according to any one of claims 1 to 3, wherein the sample is used in the field of organic electronics. 上記イオン化挙動は、レーザー強度、レーザー周波数、レーザー波長、温度および測定雰囲気からなる群より選択されるいずれか1つの変化に伴うイオン強度の変化を表したグラフによって示されることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の分析方法。 The ionization behavior is represented by a graph showing changes in ion intensity accompanying changes in any one selected from the group consisting of laser intensity, laser frequency, laser wavelength, temperature, and measurement atmosphere. The analysis method according to any one of 1 to 4. 上記複数の試料は、異なる製造方法によって得られた試料であることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の分析方法。 The analysis method according to any one of claims 1 to 5, wherein the plurality of samples are samples obtained by different manufacturing methods. 上記複数の試料は、製造後に冷却、熱、光、電気、圧力下、減圧下および環境放置からなる群より選択されるいずれか1つによって変質させて得られた試料であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の分析方法。 The plurality of samples are characterized in that they are samples obtained by altering properties after production by any one selected from the group consisting of cooling, heat, light, electricity, under pressure, under reduced pressure, and left in an environment. The analysis method according to any one of claims 1 to 6.
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