JP7279853B2 - レーザー脱離イオン化質量分析装置及びレーザーパワー調整方法 - Google Patents
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Description
試料にレーザー光を照射し該試料中の成分をイオン化するイオン源と、
前記イオン源で生成されたイオンを質量分析する質量分析部と、
同一の試料に対し前記レーザー光のレーザーパワーをn段階(nは3以上の整数)に変化させつつ、該試料中の特定の成分由来のイオンの信号強度を取得するように、前記イオン源及び前記質量分析部をそれぞれ制御する分析制御部と、
前記分析制御部による制御の下で得られた、n個の信号強度又はその信号強度から求まるSN比である信号値と、レーザーパワーとの関係をプロットした2軸のグラフにおいて、レーザーパワー軸方向に隣接する二つのプロット点を結ぶ直線の傾きをそれぞれ計算し、プロット点毎に、その前方側の直線の傾きである前傾値と後方側の直線の傾きである後傾値との比を反映した指標値を求め、該指標値を利用して適切なレーザーパワーを選定する処理部と、
を備える。
同一の試料に対しレーザーパワーをn段階(nは3以上の整数)に変化させつつ、該試料中の特定の成分由来のイオンの信号強度を取得する測定ステップと、
前記測定ステップにおいて得られた、n個の信号強度又はその信号強度から求まるSN比である信号値と、レーザーパワーとの関係をプロットした2軸のグラフにおいて、レーザーパワー軸方向に隣接する二つのプロット点を結ぶ直線の傾きをそれぞれ計算し、プロット点毎に、その前方側の直線の傾きである前傾値と後方側の直線の傾きである後傾値との比を反映した指標値を求め、該指標値を利用して適切なレーザーパワーを選定する処理ステップと、
を有する。
図1は、本実施形態のMALDI-TOFMSの概略構成図である。この装置の測定部は、MALDIイオン源とリニア型の飛行時間型質量分離器とを組み合わせたものである。
レーザーパワー最適化処理部21は、下位の機能ブロックとして、SN比計算部211、最適レーザーパワー探索部212、レーザーパワー決定部213、などを含む。また、制御・処理部2には、ユーザーインターフェイスである操作部3及び表示部4が接続されている。
本実施形態のMALDI-TOFMSにおける一般的な測定動作は次の通りである。
測定対象であるサンプルは、平板状であるサンプルプレート13の上に形成される。サンプルプレート13はステンレス等の金属製であり、その上面には上面視円形状であるウェルがM行×N列(M、Nともに正の整数)に設けられている。その各ウェルの内側に、試料とマトリックスとを混合することで調製されたサンプルが形成される。サンプルの調製方法は特に限定されない。マトリックスは試料の種類等に応じて適宜に選択される。
上記のような測定を行う際には、使用するマトリックスの種類や検出器電圧(イオン検出器19に印加される直流電圧)などの測定条件に応じて、サンプルに照射するレーザー光の強度を適切に設定する必要がある。本実施形態のMALDI-TOFMSは、レーザーパワーの最適値をオペレーターの主観に頼らず自動的に決定する機能を有している。
次に、このレーザーパワー調整方法について、図2に従って説明する。図2は、本実施形態のMALDI-TOFMSにおけるレーザーパワー調整手順を示すフローチャートである。
オペレーターは、分析目的である物質、又はその物質にイオン化効率が比較的近い特定の物質を含む試料(標準試料)と、目的試料の分析に使用するマトリックスとを用い、サンプルを調製する。サンプルとしては、同濃度のものを例えばn×L個(nは3以上の整数、Lは1以上の整数)用意する。
なお、上記レーザーパワー決定メソッドは、事前に作成されレーザーパワー決定メソッド記憶部23に格納されるが、この点については後で説明する。
(仮想プロット点P0のSN比)=(プロット点P1のSN比)-(当初のn個のプロット点の中のSN比の最大値-当初のn個のプロット点の中のSN比の最小値)/(レーザーパワーの間隔)
(仮想プロット点P0のレーザーパワー)=(プロット点P1のレーザーパワー)-(レーザーパワーの間隔)
(仮想プロット点Pn+1のSN比)=(プロット点Pn+1のSN比)+(当初のn個のプロット点の中のSN比の最大値-当初のn個のプロット点の中のSN比の最小値)/(レーザーパワーの間隔)
(仮想プロット点P0のレーザーパワー)=(プロット点Pn+1のレーザーパワー)+(レーザーパワーの間隔)
U=│前傾値│×(前傾値)/│後傾値│ …(1)
ここで、「前傾値」は着目しているプロット点とその一つ前の(レーザーパワーが一段階低い)プロット点とを結ぶ直線の傾き、「後傾値」は着目しているプロット点とその一つ後の(レーザーパワーが一段階高い)プロット点とを結ぶ直線の傾き、である。ステップS3、S4で除外されたプロット点については、指標値Uの計算は不要である。
上述したように、レーザーパワー選定のための測定の際に使用されるレーザーパワー決定メソッドは事前に作成され、レーザーパワー決定メソッド記憶部23に保存される。次に、本実施形態のMALDI-TOFMSにおける、レーザーパワー決定メソッド作成のための処理について説明する。
次に、上述した手順に則ったレーザーパワー調整の実験例を説明する。具体的な測定条件等は以下の通りである。
(1)測定条件
試料:ペプチド混合試料を70%アセトニトリル溶液に溶解したもの
マトリックス:CHCAを、0.05%TFA(トリフルオロ酢酸)を含む70%アセトニトリル溶液に溶解したもの
質量分析装置:AXIMA Performance(株式会社島津製作所製)
(2)レーザーパワー調整の条件
レーザーパワー間隔及び変化段数:5間隔で5段階(n=5)
同一のレーザーパワーの下での測定モード:ラスタースキャンモード
なお、レーザーパワーを調整する際には、ペプチド混合試料中の代表的なペプチド由来のイオンの強度を利用した。
上記手順によるレーザーパワー調整方法を基本とし、これを改良した変形例について次に説明する。
図2にフローチャートを示したレーザーパワー調整方法では、レーザーパワーを増加させていく過程でSN比が急峻に減少しないことを前提としており、その前提の下で、レーザーパワーが最適値よりも低い段階において測定誤差等のために偶然、プロット点が基準値を満たしてしまった場合であっても、そのプロット点に対応するレーザーパワー値を選定することがないようにステップS4の処理を実施している。しかしながら、場合によっては、レーザーパワーを増加させていく過程でノイズの増大によってSN比が前提に反して大きく減少し、プロット点が基準値を満たさなくなる可能性がある。この場合、最適なレーザーパワー値はプロット点が基準値を満たさなくなったときのレーザーパワーよりも小さな値であるが、ステップS4の処理によって、基準値を満たさないプロット点よりもレーザーパワーが小さいプロット点を除外しているため、最適なレーザーパワー値も除外されていて再測定の必要が生じる場合がある。また、ステップS5の判定では、残りのプロット点が二つのみでもそのうちのいずれかが選定されるが、それらよりもさらに大きなレーザーパワー値のほうが最適である可能性もある。
図12においてステップS11~S13は、図2に示したフローチャートのステップS1~S3と同じであるので説明を省略する。
U=│前傾値│×(前傾値)/│後傾値│ …(1)
最適レーザーパワー探索部212は、上記指標値Uが最大になるプロット点のレーザーパワーを最適レーザーパワー値候補LPSとして選定する(ステップS17)。
上述した例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
試料にレーザー光を照射し該試料中の成分をイオン化するイオン源と、
該イオン源で生成されたイオンを質量分析する質量分析部と、
同一の試料に対し前記レーザー光のレーザーパワーをn段階(nは3以上)に変化させつつ該試料中の特定の成分由来のイオンの強度情報を取得するように、前記イオン源及び前記質量分析部をそれぞれ制御する分析制御部と、
前記分析制御部による制御の下で得られたn個のイオン強度又はそれから求まるSN比である信号値とレーザーパワーとの関係をプロットした2軸のグラフにおいて、レーザーパワー軸上で隣接する二つのプロット点を結ぶ直線の傾きをそれぞれ計算し、プロット点毎に、その前方側の直線の傾きである前傾値と後方側の直線の傾きである後傾値との比を反映した指標値を求め、該指標値を利用して適切なレーザーパワーを選定する処理部と、
を備えるものである。
同一の試料に対しレーザーパワーをn段階(nは3以上)に変化させつつ該試料中の特定の成分由来のイオンの強度情報を取得する測定ステップと、
前記測定ステップにより得られたn個のイオン強度又はそれから求まるSN比である信号値とレーザーパワーとの関係をプロットした2軸のグラフにおいて、レーザーパワー軸上で隣接する二つのプロット点を結ぶ直線の傾きをそれぞれ計算し、プロット点毎に、その前方側の直線の傾きである前傾値と後方側の直線の傾きである後傾値との比を反映した指標値を求め、該指標値を利用して適切なレーザーパワーを選定する処理ステップと、
を有するものである。
10…チャンバー
10a…窓
11…真空ポンプ
12…試料ステージ
13…サンプルプレート
14…引出電極
15…加速電極
16…レーザー照射部
17…ミラー
18…フライトチューブ
19…イオン検出器
100…ステージ駆動部
2…制御・処理部
20…データ収集部
21…レーザーパワー最適化処理部
211…SN比計算部
212…最適レーザーパワー探索部
213…レーザーパワー決定部
22…レーザーパワー決定メソッド作成部
23…レーザーパワー決定メソッド記憶部
24…レーザーパワー決定制御部
3…操作部
4…表示部
Claims (20)
- 試料にレーザー光を照射し該試料中の成分をイオン化するイオン源と、
該イオン源で生成されたイオンを質量分析する質量分析部と、
同一の試料に対し前記レーザー光のレーザーパワーをn段階(nは3以上)に変化させつつ該試料中の特定の成分由来のイオンの強度情報を取得するように、前記イオン源及び前記質量分析部をそれぞれ制御する分析制御部と、
前記分析制御部による制御の下で得られたn個のイオン強度又はそれから求まるSN比である信号値とレーザーパワーとの関係をプロットした2軸のグラフにおいて、レーザーパワー軸上で隣接する二つのプロット点を結ぶ直線の傾きをそれぞれ計算し、プロット点毎に、その前方側の直線の傾きである前傾値と後方側の直線の傾きである後傾値との比を反映した指標値を求め、該指標値を利用して適切なレーザーパワーを選定する処理部と、
を備えるレーザー脱離イオン化質量分析装置。 - 前記処理部は、前記指標値に基いて選定されるレーザーパワーにおける信号値と該レーザーパワーより1段階大きなレーザーパワーにおける信号値とを比較し、その比較結果を用いてその二つのレーザーパワーのいずれか一方を適切なレーザーパワーとして選定する比較判定処理を実施する、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記比較判定処理では、前記指標値に基いて選定されるレーザーパワーにおけるSN比と該レーザーパワーより1段階大きなレーザーパワーにおけるSN比とを比較し、前者のSN比に対して後者のSN比が大きいか、又は小さいもののその減少幅が所定値以内で且つ該後者のSN比が所定の規定値を上回っている場合に、前記1段階大きなレーザーパワーを適切なレーザーパワーとして選定する、請求項2に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記処理部は、前記指標値を求める際に、後傾値に比べて前傾値を重視する重み付けを行う、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記処理部は、n個のプロット点の信号値のうちの最大信号値と最小信号値との差及びレーザーパワーの変化幅を用いて、該n個のプロット点のうちのレーザーパワー最小値よりもさらに一段階低いレーザーパワーに対応する仮のプロット点の信号値と、該n個のプロット点のうちのレーザーパワー最大値よりもさらに一段階高いレーザーパワーに対応する仮のプロット点の信号値とをそれぞれ計算し、該二つの仮のプロット点を利用して、前記レーザーパワー最小値に対応するプロット点の前傾値、及び、前記レーザーパワー最大値に対応するプロット点の後傾値を求める、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記分析制御部はレーザーパワーを等間隔でn段階に変化させるように前記イオン源を制御する、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記処理部は、n個のイオン強度とSN比との少なくともいずれか一方が所定の基準値以下であるプロット点を削除する前処理を実施し、該前処理で残ったプロット点について前傾値及び後傾値を用いたプロット点の選定を行う、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記信号値はSN比である、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記分析制御部が前記イオン源及び前記質量分析部を制御するための測定条件の情報を含む測定メソッドであって、それぞれn段階の異なるレーザーパワー値の下でのイオン化を行う複数のメソッドを含む測定メソッドを作成するメソッド作成部、をさらに備える、請求項1に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記メソッド作成部は、GUI画面内で測定条件の一つとして基準レーザーパワー値の入力又は選択を受け付け、前記基準レーザーパワー値から増加及び/又は減少したn段階のレーザーパワー値を求め、該n段階のレーザーパワー値の下でのイオン化を行う複数のメソッドを含む測定メソッドを作成する、請求項9に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記メソッド作成部は、前記GUI画面内に、前記n段階のレーザーパワー値と該レーザーパワー値の下での測定対象である目的の試料が設けられるウェルの位置とが明示されたサンプルプレートの模式的な画像を表示する、請求項10に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- 前記サンプルプレートには目的の試料が設けられるサンプルウェルと質量較正用試料が設けられるキャリブラントウェルとが配置され、前記メソッド作成部は、該キャリブラントウェルに設けられた試料に対して前記n段階のレーザーパワー値とは異なるレーザーパワー値の設定を可能とする、請求項11に記載のレーザー脱離イオン化質量分析装置。
- レーザー脱離イオン化質量分析装置におけるイオン化用のレーザーパワーの調整方法であって、
同一の試料に対しレーザーパワーをn段階(nは3以上)に変化させつつ該試料中の特定の成分由来のイオンの強度情報を取得する測定ステップと、
前記測定ステップにより得られたn個のイオン強度又はそれから求まるSN比である信号値とレーザーパワーとの関係をプロットした2軸のグラフにおいて、レーザーパワー軸上で隣接する二つのプロット点を結ぶ直線の傾きをそれぞれ計算し、プロット点毎に、その前方側の直線の傾きである前傾値と後方側の直線の傾きである後傾値との比を反映した指標値を求め、該指標値を利用して適切なレーザーパワーを選定する処理ステップと、
を有するレーザーパワー調整方法。 - 前記処理ステップは、前記指標値に基いて選定されるレーザーパワーにおける信号値と該レーザーパワーより1段階大きなレーザーパワーにおける信号値とを比較し、その比較結果を用いてその二つのレーザーパワーのいずれか一方を適切なレーザーパワーを選定する比較判定ステップを含む、請求項13に記載のレーザーパワー調整方法。
- 前記比較判定ステップでは、前記指標値に基いて選定されるレーザーパワーにおけるSN比と該レーザーパワーより1段階大きなレーザーパワーにおけるSN比とを比較し、前者のSN比に対して後者のSN比が大きいか、又は小さいもののその減少幅が所定値以内で且つ該後者のSN比が所定の規定値を上回っている場合に、前記1段階大きなレーザーパワーを適切なレーザーパワーとして選定する、請求項14に記載のレーザーパワー調整方法。
- 前記処理ステップでは、前記指標値を求める際に、後傾値に比べて前傾値を重視する重み付けを行う、請求項13に記載のレーザーパワー調整方法。
- 前記処理ステップでは、n個のプロット点の信号値のうちの最大信号値と最小信号値との差及びレーザーパワーの変化幅を用いて、該N個のプロット点のうちのレーザーパワー最小値よりもさらに一段階低いレーザーパワーに対応する仮のプロット点の信号値と、該N個のプロット点のうちのレーザーパワー最大値よりもさらに一段階高いレーザーパワーに対応する仮のプロット点の信号値とをそれぞれ計算し、該二つの仮のプロット点を利用して、前記レーザーパワー最小値に対応するプロット点の前傾値、及び、前記レーザーパワー最大値に対応するプロット点の後傾値を求める、請求項13に記載のレーザーパワー調整方法。
- 前記測定ステップでは、レーザーパワーを等間隔でn段階に変化させる、請求項13に記載のレーザーパワー調整方法。
- 前記処理ステップでは、n個のイオン強度とSN比との少なくともいずれか一方が所定の基準値以下であるプロット点を削除する前処理を実施し、該前処理で残ったプロット点について前傾値及び後傾値を用いたプロット点の選定を行う、請求項13に記載のレーザーパワー調整方法。
- 前記信号値はSN比である、請求項13に記載のレーザーパワー調整方法。
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