JP7274690B2 - Concave-convex body manufacturing method and concavo-convex body - Google Patents
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特許法第３０条第２項適用 （１）平成３０年３月１５日 「Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ－ＩＳＳＥ ２０１８－Ｔｈｅ １０ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｉｏｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｆｏｒｕｍ ａｎｄ Ｔｈｅ ３８ｔｈ Ｂｉｏｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ」において、講演論文集を通じて発表 （２）平成３０年３月１５日－１７日 「Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ－ＩＳＳＥ ２０１８－Ｔｈｅ １０ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｉｏｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｆｏｒｕｍ ａｎｄ Ｔｈｅ ３８ｔｈ Ｂｉｏｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ」において発表 （３）平成３０年４月１９日 ウェブサイト「ｈｔｔｐ：／／ｗｃｂ２０１８．ｃｏｍ／」を通じて発表 （４）平成３０年７月８日－１２日 「８ｔｈ Ｗｏｒｌｄ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ｏｆ Ｂｉｏｍｅｃｈａｎｉｃｓ」において発表 （５）平成３０年７月２４日 ウェブサイト「ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｉｊ２０１８．ｊｐ／ｅｘｈｉｂｉｔｏｒ／ｊｓｓ２０１８０４０８．ｈｔｍｌ」において発表 （６）平成３０年８月３０日 「イノベーションジャパン２０１８」において、出展者一覧を通じて発表 （７）平成３０年８月３０日－３１日 「イノベーションジャパン２０１８」において発表 （８）平成３０年９月３日 「日本機械学会２０１８年度年次大会」において、講演論文集を通じて発表 （９）平成３０年９月９日－１２日 「日本機械学会２０１８年度年次大会」において発表
本発明は、表面に凹凸形状を有する凹凸体を製造する凹凸体製造方法等に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an uneven body manufacturing method and the like for manufacturing an uneven body having uneven shapes on its surface.
近年、タッチパネル式のスマートフォンやタブレット型パソコン等の電子機器が普及している。タッチパネルを構成するガラスやプラスチック等の光透過性を有する基材に、ユーザーが手を触れると、指紋や皮脂等の生体由来の汚れ（以下、「指紋成分」と表記する。）が付着してしまう。 In recent years, electronic devices such as touch panel smart phones and tablet personal computers have become widespread. When a user touches a light-transmissive base material such as glass or plastic that constitutes a touch panel, biological stains such as fingerprints and sebum (hereinafter referred to as "fingerprint components") adhere. put away.
そこで、基材表面に、指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴を設けることにより、指紋が目立ちにくく、かつ、拭き取りやすくする技術が考えられている（特許文献１）。 Therefore, a technology has been proposed to make fingerprints less conspicuous and easier to wipe off by providing recessed holes that collect fingerprint components by capillary force on the base material surface (Patent Document 1).
しかしながら、従来技術においては、毛細管力により凹型の穴に指紋成分を集めて汚れを目立たなくしているだけで、基材表面への汚れの付着は防止できていない。 However, in the prior art, only the fingerprint components are collected in the recessed holes by capillary force to make the stains less noticeable, and the attachment of the stains to the substrate surface cannot be prevented.
本発明は係る事情によりなされたものであって、汚れが付着しにくい表面を有する構造体を製造する方法等を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a structure having a surface to which dirt is less likely to adhere.
本発明の第１の観点は、表面に凹凸形状を有する凹凸体を製造する凹凸体製造方法であって、基板の上に、マスク層を成形するマスク工程と、前記マスク層に覆われていない非マスク部表面及び前記マスク層に覆われたマスク層表面に対して垂直方向から粒子を衝突させ、前記マスク層がなくなるまで研磨する研磨工程とを含む凹凸体製造方法である。 A first aspect of the present invention is an uneven body manufacturing method for manufacturing an uneven body having an uneven shape on its surface, comprising: a mask step of forming a mask layer on a substrate; and a polishing step of colliding particles perpendicularly to the surface of the non-mask portion and the surface of the mask layer covered with the mask layer to polish the surface until the mask layer is removed.
本発明の第２の観点は、第１の観点の凹凸体製造方法であって、前記研磨工程において、マイクロスラリージェットを用いて研磨を行う。 A second aspect of the present invention is the uneven body manufacturing method according to the first aspect, wherein in the polishing step, polishing is performed using a micro slurry jet.
本発明の第３の観点は、第１又は第２の観点の凹凸体製造方法であって、前記マスク工程において、同一の厚みの前記マスク層を均等な間隔で成形する。 A third aspect of the present invention is the uneven body manufacturing method of the first or second aspect, wherein the mask layers having the same thickness are formed at equal intervals in the masking step.
本発明の第４の観点は、第３の観点の凹凸体製造方法であって、前記マスク工程において、前記マスク層の間隔は１μｍから３００μｍであり、前記マスク層の面積は０．７μｍ２から３２,０００μｍ２であるマスク層を成形する。 A fourth aspect of the present invention is the uneven body manufacturing method according to the third aspect, wherein in the masking step, the distance between the mask layers is 1 μm to 300 μm, and the area of the mask layers is 0.7 μm 2 to A mask layer of 32,000 μm 2 is cast.
本発明の第５の観点は、表面に凹凸形状を有する凹凸体であって、前記表面に複数の凸部を備え、前記凸部は中央に１点の頂点を有する曲面形状であり、前記凸部の直径は１μｍから２００μｍであり、前記凸部の高さは０．１５μｍから１０μｍであり、前記凸部の間隔は１μｍから１００μｍであり、前記凹凸形状の切断面であって、複数の前記頂点を通る切断面の端面が、隣り合う前記凸部が連なった波状の凹凸形状を有する、凹凸体である。 A fifth aspect of the present invention is an uneven body having an uneven shape on a surface, the surface being provided with a plurality of convex portions, the convex portion having a curved surface shape having one vertex at the center, and the convex portion The diameter of the portion is from 1 μm to 200 μm, the height of the projection is from 0.15 μm to 10 μm, the interval between the projections is from 1 μm to 100 μm, and the cut surface of the uneven shape has a plurality of the An end face of a cut surface passing through a vertex has a wavy uneven shape in which the adjacent protrusions are connected.
本発明の各観点によれば、滑らかな曲面を有する凹凸体を製造できるため、例えば手指が触れても、凹凸体と手指の接触面積が小さく、凹凸体への指紋成分の付着を抑制することが可能になる。また、基材に防汚性を付与するだけでなく、基材の濡れ性及び光学的特性を変更することが可能になる。 According to each aspect of the present invention, since an uneven body having a smooth curved surface can be manufactured, even if a finger touches the uneven body, the contact area between the uneven body and the finger is small, and the adhesion of fingerprint components to the uneven body is suppressed. becomes possible. Moreover, it becomes possible not only to impart antifouling properties to the substrate, but also to modify the wettability and optical properties of the substrate.
一般に、マスク処理後の機械的除去工程においては、マスク層により覆われたマスク部は削られることなく、マスク層により覆われていない非マスク部のみが削られるため、マスク部と非マスク部の間に角がある凹凸形状が成形される。しかし、本発明の各観点によれば、マスク層がなくなるまで垂直方向から粒子を衝突させるため、マスク部が端から徐々に削られていき、マスク部と非マスク部の間に角ができず、容易にμｍレベルの滑らかな曲面を有する凹凸体を製造できる。 Generally, in the mechanical removal step after mask processing, the mask portion covered with the mask layer is not removed, and only the non-mask portion not covered with the mask layer is removed. Concavo-convex shapes with corners in between are formed. However, according to each aspect of the present invention, since the particles collide from the vertical direction until the mask layer disappears, the masked portion is gradually scraped from the edge, and no angle is formed between the masked portion and the non-masked portion. , a concave-convex body having a smooth curved surface of μm level can be easily manufactured.
本発明の第２の観点によれば、凹凸体の表面をさらに滑らかな曲面に成形することができ、また、様々な材質の凹凸体を製造することが可能になる。マイクロスラリージェットで用いる硬質粒子（砥粒）のサイズは１μｍ程度と小さく、サンドブラストやウエットブラストに比べ、１粒子あたりの除去量は小さい。しかし、マイクロスラリージェットでは微小粒子を大量に投射して試験片を精密に削る（破壊）現象を使っているため、硬質材料はセラミックスから金属材料まで、さらに軟質材料はプラスチックからゴムまで幅広い材料の表面を機械的に除去できる。また、サンドブラストやウエットブラストでは１粒子あたりの除去量が大きく、異なる材料を同時に除去しようとすると、どちらか一方が急速になくなってしまう現象が発現しやすい。マイクロスラリージェットでは、１粒子あたりの除去量は小さいため、マスク層と基材表面のどちらか一方のみが急速に除去されてしまうことを防止できる。 According to the second aspect of the present invention, the surface of the rugged body can be formed into a smoother curved surface, and rugged bodies of various materials can be manufactured. The size of hard particles (abrasive grains) used in micro slurry jet is as small as about 1 μm, and the removal amount per particle is smaller than that in sand blasting and wet blasting. However, the micro slurry jet uses the phenomenon of precisely scraping (breaking) the test piece by projecting a large amount of fine particles, so it can be used for a wide range of materials, from ceramics to metals for hard materials, and plastics to rubber for soft materials. The surface can be removed mechanically. In addition, sand blasting and wet blasting remove a large amount of material per particle, and if different materials are to be removed at the same time, one of them is likely to disappear rapidly. Since the removal amount per particle is small in the micro slurry jet, rapid removal of only one of the mask layer and the substrate surface can be prevented.
本発明の第３の観点によれば、均一な凹凸形状を有する凹凸体を製造することが可能になる。 According to the third aspect of the present invention, it is possible to manufacture an uneven body having a uniform uneven shape.
本発明の第４の観点によれば、さらに高い防汚性を有する凹凸体を製造することが可能になる。 According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to manufacture a textured body having even higher antifouling properties.
以下、図面を参照して、本発明の凹凸体製造方法及び凹凸体の実施例について述べる。 Hereinafter, embodiments of the uneven body manufacturing method and the uneven body of the present invention will be described with reference to the drawings.
図１は、本発明の凹凸体製造方法のフロー図である。まず、光透過性を有するガラスや樹脂等の基板１を用意し（Ｓ０）、基板１の上にフォトマスク法又は３Ｄプリンティング法を用いて、複数のマスク層３を成形する（Ｓ１、請求項記載の「マスク工程」の一例）。そして、マスク層３に覆われていない非マスク部５の表面及びマスク層３の表面に対して同時に垂直方向からマイクロスラリージェット７を投射し、マスク層３がなくなるまで研磨を行う（Ｓ２、請求項記載の「研磨工程」の一例）。そのため、マスク層３に覆われているマスク部９が端から徐々に削られていき、マスク部９と非マスク部５の間に角ができず、滑らかな曲面を有する凹凸体１１を製造することができる。
FIG. 1 is a flow chart of the uneven body manufacturing method of the present invention. First, a
また、マスク工程（Ｓ１）において、同一の厚みのマスク層３を均等な間隔で成形すると、均一な凹凸形状を有する凹凸体１１を製造することができる。さらに、マスク工程（Ｓ１）において、マスク層３の間隔が１μｍから３００μｍであり、マスク層３の面積は０．７μｍ２から３２,０００μｍ２となるようにすると、さらに高い防汚性を有する凹凸体１１を製造することができる。
Further, in the masking step (S1), forming the
図２は、マイクロスラリージェットの概要を示す図であり、（ａ）はマイクロスラリージェットを基板に投射している様子、（ｂ）はマイクロスラリージェットを投射した前後のセラミックス表面の電子顕微鏡写真である。マイクロスラリージェットは、硬質粒子を多量の水又はコーティング水溶液とともに、材料面に垂直に衝突させる方法であり、サンドブラストやウエットブラストに比べ、硬質粒子（砥粒）のサイズが１μｍ程度と小さく、１粒子あたりの除去量は小さい。しかし、微小粒子を大量に投射することにより、マイクロクラックや加工変質層の発生を僅少にし、除去率を向上させることができる。そのため、加工対象材料の透明度を維持したまま加工を行うことができる。また、硬質材料はセラミックスから金属材料まで、さらに軟質材料はプラスチックからゴムまで幅広い材料の表面を機械的に除去できる。例えば、図２（ｂ）に示す通り、１秒間に１０億個から１００億個の硬質粒子を７０－１００ｍ／ｓの速度で投射することで、セラミックス表面を１－５ｍｍ／ｓで研磨できる。 FIG. 2 is a diagram showing an overview of the microslurry jet, (a) showing the microslurry jet being projected onto the substrate, and (b) showing electron micrographs of the ceramic surface before and after the microslurry jet was projected. be. Micro slurry jet is a method of colliding hard particles with a large amount of water or aqueous coating solution perpendicularly to the material surface. The removal amount per unit is small. However, by projecting a large amount of fine particles, the generation of microcracks and work-affected layers can be minimized, and the removal rate can be improved. Therefore, processing can be performed while maintaining the transparency of the material to be processed. In addition, it can mechanically remove the surface of a wide range of hard materials, from ceramics to metals, and soft materials, from plastics to rubber. For example, as shown in FIG. 2(b), a ceramic surface can be polished at 1-5 mm/s by projecting 1-10 billion hard particles per second at a speed of 70-100 m/s.
また、サンドブラストやウエットブラストでは１粒子あたりの除去量が大きく、異なる材料を同時に除去しようとすると、どちらか一方が急速になくなってしまう現象が発現しやすい。マイクロスラリージェットでは、１粒子あたりの除去量は小さいため、マスク層と基材表面のどちらか一方のみが急速に除去されてしまうことを防止できる。 In addition, sand blasting and wet blasting remove a large amount of material per particle, and if different materials are to be removed at the same time, one of them is likely to disappear rapidly. Since the removal amount per particle is small in the micro slurry jet, rapid removal of only one of the mask layer and the substrate surface can be prevented.
通常、表面が除去されて新たにできた表面は化学的に活性化された面となる。例えば、空気中の酸素と反応して、酸化してしまう。しかし、マイクロスラリージェットを用いた場合は、新たな表面は多量の作動液体による水膜に覆われるため、雰囲気から遮断され安定した材料構造を得ることもできる。そのため、材料表面の酸化などの変質や汚れの再付着を防止できる。作動液体にコーティング成分を含有させるなどの機能性を持たせた場合、材料表面との化学的結合が良好となり、強固なコーティング膜も形成することが可能である。また、表面が作動液体により冷却されるため、材料表面が必要以上に温度上昇することを防止できる。 Usually, a surface is removed and the new surface becomes a chemically activated surface. For example, it reacts with oxygen in the air and oxidizes. However, when the micro slurry jet is used, the new surface is covered with a water film by a large amount of working liquid, so that it is possible to obtain a stable material structure isolated from the atmosphere. Therefore, deterioration such as oxidation of the material surface and redeposition of dirt can be prevented. When the working liquid is given functionality such as containing a coating component, the chemical bond with the material surface is improved, and a strong coating film can be formed. Moreover, since the surface is cooled by the working liquid, it is possible to prevent the temperature of the material surface from rising more than necessary.
図３は、本発明の凹凸体製造方法を用いて製造したスマートフォン用ガラスの表面（以下、「加工面」と表記する。）を示す図である。凸部の直径は３０μｍ、凸部の高さは約１μｍとした。マスク工程においては、マスク層の間隔を６０μｍ、マスク層の面積を７００μｍ２となるようにマスク層を成形した。 FIG. 3 is a diagram showing the surface of the smartphone glass (hereinafter referred to as "processed surface") manufactured using the method for manufacturing an uneven body of the present invention. The projection had a diameter of 30 μm and a height of approximately 1 μm. In the mask process, the mask layers were formed such that the mask layer spacing was 60 μm and the mask layer area was 700 μm 2 .
図４は、本発明の凹凸体製造方法を施していない表面（以下、「未加工面」と表記する。）と加工面の電子顕微鏡写真であり、（ａ）指でタップした後の未加工面、（ｂ）指でタップした後の加工面、（ｃ）指でスワイプした後の未加工面、（ｄ）指でスワイプした後の加工面である。未加工面では、図４（ａ）に示す通り指紋跡や、図４（ｂ）左側に示す通り皮脂跡が残っていた。一方で、本発明による加工面では、指との面接触が防止できるため、皮脂の凝着痕が断続的であり、ほぼ付着していなかった。また、加工面は滑らかな曲面であるため、ガラスの光透過性及びすべり感は維持されている。 FIG. 4 is an electron microscope photograph of a surface (hereinafter referred to as "unprocessed surface") that has not been subjected to the uneven body manufacturing method of the present invention and a processed surface, and (a) unprocessed after tapping with a finger. (b) processed surface after finger tap; (c) unprocessed surface after finger swipe; (d) processed surface after finger swipe. On the unprocessed surface, fingerprint traces remained as shown in FIG. 4(a), and sebum traces remained as shown in the left side of FIG. 4(b). On the other hand, on the processed surface according to the present invention, since the surface contact with the finger can be prevented, the adhesion traces of sebum were intermittent and hardly adhered. In addition, since the processed surface is a smooth curved surface, the light transmittance and smoothness of the glass are maintained.
本発明の凹凸体製造方法を用いて製造した、間隔と高さが異なる凸部を有するガラスの表面を図５－７に示す。図５は、直径３０μｍ、間隔４５μｍ、高さ４．７μｍの凸部を有するスライドガラスの表面を示す図である。図６は、直径３０μｍ、間隔６０μｍ、高さ４．５μｍの凸部を有するスライドガラスの表面を示す図である。図７は、直径３０μｍ、間隔６０μｍ、高さ０．３９μｍの凸部を有するガラスの表面を示す図である。なお、図５及び図６中の「20Pass」と図７中の「15Pass」は、研磨工程において同一箇所に対して投射したマイクロスラリージェットの回数が、それぞれ２０回、１５回であったことを示している。 FIGS. 5-7 show the surface of a glass having projections with different intervals and heights, manufactured using the method for manufacturing an uneven body of the present invention. FIG. 5 shows the surface of a slide glass having projections with a diameter of 30 μm, an interval of 45 μm, and a height of 4.7 μm. FIG. 6 shows the surface of a slide glass having projections with a diameter of 30 μm, an interval of 60 μm, and a height of 4.5 μm. FIG. 7 shows the surface of glass having protrusions with a diameter of 30 μm, an interval of 60 μm, and a height of 0.39 μm. "20Pass" in Figs. 5 and 6 and "15Pass" in Fig. 7 indicate that the number of micro slurry jets projected onto the same place in the polishing process was 20 times and 15 times, respectively. showing.
そして、図８は、縦軸が水の接触角（°）であり、左から順に、未加工のガラス表面、図５のガラス表面、図６のガラス表面、図７のガラス表面の疎水性を示す棒グラフである。特に、図６に示したなだらかな半球状の凸部の間隔を６０μｍ、高さを４．５μｍとした場合に、濡れ性が小さく（疎水性が大きく）なることが分かった。 In FIG. 8, the vertical axis is the contact angle of water (°), and from the left, the hydrophobicity of the unprocessed glass surface, the glass surface in FIG. 5, the glass surface in FIG. 6, and the glass surface in FIG. is a bar graph showing. In particular, it has been found that wettability is reduced (hydrophobicity is increased) when the interval between the gentle hemispherical projections shown in FIG. 6 is 60 μm and the height is 4.5 μm.
図９は、本発明の凹凸体製造方法を用いて製造した硬質樹脂フィルムの表面を示す図である。図５－７に示したガラス表面と同様に、光透過性を有する硬質樹脂フィルム上にも滑らかな曲面のパターンを加工することができた。 FIG. 9 is a diagram showing the surface of a hard resin film produced using the uneven body production method of the present invention. Similar to the glass surface shown in FIGS. 5-7, it was possible to process a smooth curved surface pattern on a light-transmitting hard resin film.
図１０は、実施例１で作製したガラスを２枚重ねあわせ、物理的な相対運動（ずらす／回転）を与えた場合のガラス表面を示す図である。μｍレベルの滑らかな曲面を有するガラスを２枚重ねあわせ、物理的な相対運動（ずらす／回転）を与えることで、図１０に示す通り、（ａ）パターニングが拡大され明瞭となったり、（ｂ）奥行き感が与えられたり、（ｃ）視認性に方向が表れたり、（ｄ）光透過性が変わったり、（ｅ）光干渉縞が発現したりと、自在に様々な光学特性を発現させることができることが分かった。 FIG. 10 is a diagram showing a glass surface when two sheets of the glass produced in Example 1 are superimposed and subjected to physical relative motion (shift/rotation). By superimposing two sheets of glass having smooth curved surfaces on the μm level and giving physical relative motion (shift/rotation), as shown in FIG. ) Gives a sense of depth, (c) shows direction in visibility, (d) changes light transmittance, and (e) expresses optical interference fringes. I found that it can be done.
なお、マスク工程において半導体プロセス（光リソグラフィー、フォトレジスト）を用いてマスキングする場合のマスキング材料としては、例えば以下の４種が想定される。
1.ゴム系ネガ型レジスト
ゴム系ネガ型レジストを用いる場合、フォトマスクとレジストが密着するコンタクト露光を行うことにより、基板とのマスキング材料の密着性が良好となる。
2.ノボラック‐NQD（ナフトキノンジアジド）レジスト（g-line 436nm i-line 365nm）
ノボラック‐NQDレジストを用いる場合、フォトマスクとレジスト表面とを非接触の状態で露光する投影露光方式を利用する。縮小露光が行えるため、フォトマスクより細かいパターンのマスキングが可能になる。
3.化学増幅型レジスト（KrF-line 248nm）
化学増幅型レジスト（KrF-line 248nm）は、さらなる高解像度力を実現するため、露光波長の短波長化が進められ、KrFエキシマレーザーを光源とすることができるレジストである。
4.次世代EUVレジストなど
次世代EUVレジストは、さらなる高解像度力を実現するため、極端紫外線リソグラフィ (EUV:Extreme ultraviolet lithography）を利用することを想定したレジストである。
For example, the following four types of masking materials are assumed for masking using a semiconductor process (photolithography, photoresist) in the mask process.
1. Rubber-based negative type resist When using a rubber-based negative type resist, the adhesion of the masking material to the substrate is improved by performing contact exposure in which the photomask and the resist are in close contact.
2. Novolak-NQD (naphthoquinone diazide) resist (g-line 436nm i-line 365nm)
When using a novolak-NQD resist, a projection exposure method is used in which the photomask and the resist surface are exposed in a non-contact state. Since reduction exposure can be performed, it is possible to mask a finer pattern than a photomask.
3. Chemically amplified resist (KrF-line 248nm)
Chemically amplified resist (KrF-line 248nm) is a resist that can use a KrF excimer laser as a light source as the exposure wavelength is shortened in order to achieve even higher resolution.
4. Next-generation EUV resists, etc. Next-generation EUV resists are resists intended for use with extreme ultraviolet lithography (EUV) in order to achieve even higher resolution.
また、３Ｄプリンタを用いてマスキングする場合のマスキング材料としては、例えば以下の８種が想定される。
1.ABS樹脂
ABS樹脂は、汎用熱可塑性樹脂であり、剛性・耐衝撃性・疲労強度などのバランスがよく、塗装などの後加工もしやすい。
2.PLA樹脂
PLA樹脂は、熱収縮が小さいため造形不良が起こりにくく、初心者でも扱いやすい樹脂である。ただし、機械強度や耐久性はABSよりやや劣る。
3.ABSライク樹脂
ABSライク樹脂は、光硬化性アクリル樹脂の1種である。本物のABSの様な長期的な耐久性はない。
4.PP（ポリプロピレン）ライク
PP（ポリプロピレン）ライクは、光硬化性アクリル樹脂の1種であり、ポリプロピレン（ＰＰ）製品をシミュレートするために各物性を似せた樹脂である。比較的高い柔軟性と強度を有する。
5.ゴムライク
ゴムライクは、光硬化性アクリル樹脂の1種であり、ゴムの様に柔軟な素材である。硬質の光硬化性アクリル樹脂と混ぜ合わせて、硬さを調整できる。
6.ナイロン（PA・ポリアミド）
ナイロン（PA・ポリアミド）は、結晶性のポリアミドであり、耐熱温度が高く自動車部品等に用いられることが多いエンジニアリングプラスチックである。
7.石膏パウダー
石膏パウダーは、硫酸カルシウムを主成分とする無機物であり、造形物の表面はザラザラで脆い。造形時に着色が可能な機種もあり、外観評価用の模型製作に向いている。
8.シルバーやチタンなどの金属
シルバーやチタンなどの金属は、樹脂類と比較し、金属の特性（硬質・耐温度）がいかせる。融点などが高いため、造形装置は高額となる。
In addition, as masking materials for masking using a 3D printer, for example, the following eight types are assumed.
1.ABS resin
ABS resin is a general-purpose thermoplastic resin that has a good balance of rigidity, impact resistance, and fatigue strength, and is easy to post-process, such as painting.
2. PLA resin
PLA resin is a resin that is easy to handle even for beginners because it is less prone to molding defects due to its small thermal shrinkage. However, mechanical strength and durability are slightly inferior to ABS.
3. ABS-like resin
ABS-like resin is a type of photocurable acrylic resin. Not as long lasting as real ABS.
4. PP (polypropylene) like
PP (polypropylene)-like is a type of photo-curing acrylic resin, and is a resin that mimics the physical properties of polypropylene (PP) products. It has relatively high flexibility and strength.
5. Rubber-like Rubber-like is a type of light-curing acrylic resin that is as flexible as rubber. Hardness can be adjusted by mixing with hard photocurable acrylic resin.
6.Nylon (PA/Polyamide)
Nylon (PA/polyamide) is a crystalline polyamide and is an engineering plastic that is often used for automobile parts because of its high heat resistance.
7. Gypsum powder Gypsum powder is an inorganic material whose main component is calcium sulfate, and the surface of the molded object is rough and brittle. There are also models that can be colored during modeling, making them suitable for making models for appearance evaluation.
8. Metals such as silver and titanium Metals such as silver and titanium have better metal characteristics (hardness and temperature resistance) than resins. Because of its high melting point, molding equipment is expensive.
１ 基板、３ マスク層、５ 非マスク部、７ マイクロスラリージェット、９ マスク部、１１ 凹凸体
REFERENCE SIGNS
Claims (1)
前記基材の上に、マスク層を成形するマスク工程と、
前記マスク層に覆われていない非マスク部表面及び前記マスク層に覆われたマスク層表面に対してマイクロスラリージェットを用いて垂直方向から粒子を衝突させ、前記マスク層がなくなるまで研磨する研磨工程とを含み、
前記凹凸体は、
前記表面に複数の凸部を備え、
前記凸部は中央に１点の頂点を有する曲面形状であり、
前記凸部の直径は１μｍから２００μｍであり、
前記凸部の高さは０．１５μｍから１０μｍであり、
前記凸部の間隔は１μｍから１００μｍであり、
前記凹凸形状の切断面であって、複数の前記頂点を通る切断面の端面が、隣り合う前記凸部が連なった波状の凹凸形状を有する、凹凸体製造方法。 A method for manufacturing an uneven body having an uneven shape on the surface of a base material to which stains containing fingerprint components can adhere when used after production, comprising:
A mask step of forming a mask layer on the base material;
A polishing step of polishing the surface of the non-mask portion not covered with the mask layer and the surface of the mask layer covered with the mask layer by colliding particles from a vertical direction using a micro slurry jet until the mask layer is removed. and
The uneven body is
comprising a plurality of protrusions on the surface,
The convex portion has a curved surface shape having one vertex in the center,
The diameter of the convex portion is from 1 μm to 200 μm,
The height of the convex portion is from 0.15 μm to 10 μm,
The interval between the convex portions is 1 μm to 100 μm,
A method for manufacturing a concave-convex body, wherein the cut surface of the concave-convex shape has a wave-like concave-convex shape in which the end face of the cut surface passing through the plurality of vertexes has a wave-like concave-convex shape in which the adjacent convex portions are connected.
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