JP7249911B2 - Hexahydrobenzodipyrolium salt and use thereof - Google Patents

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Description

本発明は、新規なヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩及びその用途に関する。 The present invention relates to novel hexahydrobenzodipyrolium salts and uses thereof.

本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩に類似した分子構造を持つ化合物として特許文献1、特許文献2、非特許文献1及び非特許文献2に記載の化合物等が報告されている。しかし、いずれも第四級の窒素原子周りがスピロ構造を有している点で本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩とは異なる。また、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩は、例えば特許文献1に記載のアイオノマーの陽イオン源等の用途で使用されている。しかしながら、ゼオライト製造用の構造指向剤として適したヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩は報告されていない。 Compounds described in Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 1, and Non-Patent Document 2 have been reported as compounds having a molecular structure similar to the hexahydrobenzodipyrolium salt of the present invention. However, all of them differ from the hexahydrobenzodipyrrolinium salt of the present invention in that they have a spiro structure around the quaternary nitrogen atom. In addition, hexahydrobenzodipyrrolinium salts are used in applications such as ionomer cation sources described in Patent Document 1, for example. However, hexahydrobenzodipyrolium salts suitable as structure-directing agents for zeolite production have not been reported.

米国特許第6365705号明細書U.S. Pat. No. 6,365,705 国際公開第2014/016202号WO2014/016202 Journal of the Chemical Society, Chemical Communications,1977年,15巻,525-526ページJournal of the Chemical Society, Chemical Communications, 1977, Vol. 15, pp. 525-526 Synthetic Communications,2005年,35巻,2985-2992ページSynthetic Communications, 2005, Vol. 35, pp. 2985-2992

本発明は、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を提供することを目的とする。さらに、本発明はヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を用いたゼオライトの製造方法を提供することを別の目的とする。 An object of the present invention is to provide a hexahydrobenzodipyrrolinium salt. Another object of the present invention is to provide a method for producing zeolite using hexahydrobenzodipyrolium salt.

本発明において、一般式(1)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を見出した。さらにヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)がゼオライトの構造指向剤として好適に機能することを見出した。 In the present invention, a hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by general formula (1) was found. Furthermore, it was found that hexahydrobenzodipyrolium salt (1) functions favorably as a structure-directing agent for zeolite.

すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。
[1] 一般式(1)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。
That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] A hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1).

Figure 0007249911000001
Figure 0007249911000001

(式中、Xは、同一又は相異なって、水素原子又はハロゲン原子を表し、
、R、R及びRは、各々独立に、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、又は炭素数6から10のアリール基を表し、これらの置換基は、水酸基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基及び炭素数12から20のジアリールアミノ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい。
(Wherein, X is the same or different and represents a hydrogen atom or a halogen atom,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and these substituted The group is a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, or a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms. , a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms and a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms.

は、同一又は相異なって、ハロゲン化物イオン、RSOで表されるスルホン酸イオン、RCOOで表されるカルボン酸イオン又はOH(水酸化物イオン)を表し、
は、炭素数1から9のアルキル基、炭素数1から9のフルオロアルキル基、又はフェニル基を表し、該フェニル基は、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基、炭素数1から4のフルオロアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい。
Y - is the same or different and represents a halide ion, a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O - , a carboxylate ion represented by R 6 COO - or OH - (hydroxide ion). ,
R 5 represents an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or a phenyl group, and the phenyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoro may be substituted with one or more substituents selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group and a nitro group; .

は、炭素数1から6のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、又はフェニル基を表し、該フェニル基は、炭素数1から4のアルキル基で置換されていてもよい。)
[2] 一般式(1)におけるYが、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン又は水酸化物イオンである[1]に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。
[3] 一般式(1)におけるXが、水素原子である[1]又は[2]に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。
[4] 一般式(1)におけるR、R、R及びRが、各々独立に、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基及び炭素数1から6のアルコキシ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい炭素数1から6のアルキル基、又は炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基である[1]乃至[3]のいずれか一項に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。
[5] 一般式(1)における、R、R、R及びRが、各々独立に、メチル基又はエチル基であり、Yが塩化物イオン又は臭化物イオンである[1]乃至[3]のいずれか一項に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。
[6] [1]に記載の一般式(1)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源及び水を含む組成物を結晶化させる結晶化工程、を有することを特徴とするゼオライトの製造方法。
R 6 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, and the phenyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. )
[2] Y in general formula (1) is chloride ion, bromide ion, iodide ion, benzenesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion or hydroxide The hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to [1], which is an ion.
[3] The hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to [1] or [2], wherein X in the general formula (1) is a hydrogen atom.
[4] R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in general formula (1) are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, or 2 to 12 carbon atoms; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a dialkylamino group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms The hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to any one of [1] to [3], which is a phenyl group optionally substituted with a group.
[5] R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in general formula (1) are each independently a methyl group or an ethyl group, and Y - is a chloride ion or a bromide ion [1] to The hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to any one of [3].
[6] A crystallization step of crystallizing a composition containing the hexahydrobenzodipyrolium salt represented by the general formula (1) according to [1], a silica source, an alumina source, an alkali source and water. A method for producing zeolite, characterized by:

本発明により、新規なヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩及びその製造方法を提供できる。さらに、本発明により、該ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を使用するゼオライトの製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION By this invention, a novel hexahydrobenzodipyrolium salt and its manufacturing method can be provided. Furthermore, the present invention can provide a method for producing zeolite using the hexahydrobenzodipyrolium salt.

実施例2-1のAFX型ゼオライトのXRDパターンXRD pattern of AFX-type zeolite of Example 2-1 実施例2-1のAFX型ゼオライトのSEM観察図SEM observation diagram of AFX-type zeolite of Example 2-1 実施例2-2のAFX型ゼオライトのXRDパターンXRD pattern of AFX-type zeolite of Example 2-2 実施例2-2のAFX型ゼオライトのSEM観察図SEM observation diagram of AFX-type zeolite of Example 2-2

以下、本発明について、実施形態の一例を示して説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below by showing an example of an embodiment.

まず一般式(1)中のX、R、R、R、R及びYの定義について詳細に説明する。 First, the definitions of X, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and Y - in general formula (1) will be explained in detail.

Xは、同一又は相異なって、水素原子又はハロゲン原子であり、水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子のいずれかであることが好ましく、水素原子又は臭素原子であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。 X is the same or different and is a hydrogen atom or a halogen atom, preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a hydrogen atom or a bromine atom, hydrogen Atoms are more preferred.

、R、R及びRで表される炭素数1から10のアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロヘキシルメチル基、2-シクロペンチルエチル基、2-メチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-シクロプロピルプロピル基、シクロプロピル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、3-メチルブタン-2-イル基、tert-ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、2-メチルペンチル基、3-エチルペンチル基、2,4-ジメチルペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルペンタン-2-イル基、4,4-ジメチルペンタン-2-イル基、2-エチルプロピル基、3-エチルペンタン-3-イル基、シクロペンチル基、2,5-ジメチルシクロペンチル基、3-エチルシクロペンチル基、ヘキシル基、2-メチルヘキシル基、3,3-ジメチルヘキシル基、4-エチルヘキシル基、1-メチルペンチル基、2-メチルヘキサン-2-イル基、5,5-ジメチルヘキサン-2-イル基、2-エチルブチル基、2,4-ジメチルヘキサン-3-イル基、シクロヘキシル基、4-エチルシクロヘキシル基、4-プロピルシクロヘキシル基、4,4-ジメチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、1-メチルヘキシル基、1-エチルペンチル基、1-プロピルブチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル基、オクチル基、1-メチルヘプチル基、1-エチルへキシル基、1-プロピルペンチル基、シクロオクチル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン-2-イル基、ノニル基、1-ブチルペンチル基、デシル基、1-メチルノニル基、又は1-ブチルヘキシル基が例示できる。 The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic alkyl group. is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a cyclohexylmethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, a 2-methylpropyl group, a 2,2-dimethylpropyl group, a 3-cyclopropylpropyl group, cyclopropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 3-methylbutan-2-yl group, tert-butyl group, cyclobutyl group, pentyl group, 2-methylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 2,4- dimethylpentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylpentan-2-yl group, 4,4-dimethylpentan-2-yl group, 2-ethylpropyl group, 3-ethylpentan-3-yl group, cyclopentyl group, 2,5-dimethylcyclopentyl group, 3-ethylcyclopentyl group, hexyl group, 2-methylhexyl group, 3,3-dimethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylhexan-2-yl group, 5,5-dimethylhexan-2-yl group, 2-ethylbutyl group, 2,4-dimethylhexan-3-yl group, cyclohexyl group, 4-ethylcyclohexyl group, 4-propylcyclohexyl group, 4,4- dimethylcyclohexyl group, heptyl group, 1-methylhexyl group, 1-ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, bicyclo[2.2.1]heptan-2-yl group, octyl group, 1-methylheptyl group, 1 -ethylhexyl group, 1-propylpentyl group, cyclooctyl group, bicyclo[2.2.2]octan-2-yl group, nonyl group, 1-butylpentyl group, decyl group, 1-methylnonyl group, or 1 -Butylhexyl group can be exemplified.

、R、R及びRで表される炭素数1から10のハロアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのハロアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、1,1-ジフルオロプロピル基、ペルフルオロ(1-メチルプロピル)基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ペルフルオロシクロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロシクロプロピル基、ペルフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、1,2,2,3,3,3-ヘキサフルオロ-1-(トリフルオロメチル)プロピル基、1-(トリフルオロメチル)プロピル基、1-メチル-3,3,3-トリフルオロプロピル基、ペルフルオロシクロブチル基、2,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロシクロブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロペンチル基、4,4,5,5,5-ペンタフルオロペンチル基、5,5,5-トリフルオロペンチル基、1,2,2,3,3,3-ヘキサフルオロ-1-(ペルフルオロエチル)プロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロ-1-(ペルフルオロエチル)プロピル基、ペルフルオロシクロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-ウンデカフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル基、4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロヘキシル基、5,5,6,6,6-ペンタフルオロヘキシル基、6,6,6-トリフルオロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、2-クロロエチル基、又は、3-ブロモプロピル基が例示できる。 The haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic haloalkyl group. is, for example, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a perfluoropropyl group, 2, 2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 1,1-difluoropropyl group, perfluoro(1-methyl propyl) group, 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl group, perfluorocyclopropyl group, 2,2,3,3-tetrafluorocyclopropyl group, perfluorobutyl group, 2,2, 3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 1,2,2,3,3 , 3-hexafluoro-1-(trifluoromethyl)propyl group, 1-(trifluoromethyl)propyl group, 1-methyl-3,3,3-trifluoropropyl group, perfluorocyclobutyl group, 2,2, 3,3,4,4-hexafluorocyclobutyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, 3,3,4,4,5 , 5,5-heptafluoropentyl group, 4,4,5,5,5-pentafluoropentyl group, 5,5,5-trifluoropentyl group, 1,2,2,3,3,3-hexafluoro -1-(perfluoroethyl)propyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-(perfluoroethyl)propyl group, perfluorocyclopentyl group, perfluorohexyl group, 2,2,3,3,4, 4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group, 4,4,5,5,6 , 6,6-heptafluorohexyl group, 5,5,6,6,6-pentafluorohexyl group, 6,6,6-trifluorohexyl group, perfluorocyclohexyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, iodomethyl group, A 2-chloroethyl group or a 3-bromopropyl group can be exemplified.

、R、R及びRで表される炭素数6から10のアリール基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,3-ジメチルフェニル基、2,4-ジメチルフェニル基、2,5-ジメチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基、3,4-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,5-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、2-エチルフェニル基、3-エチルフェニル基、4-エチルフェニル基、2,3-ジエチルフェニル基、2,4-ジエチルフェニル基、2,5-ジエチルフェニル基、2,6-ジエチルフェニル基、3,4-ジエチルフェニル基、3,5-ジエチルフェニル基、2-プロピルフェニル基、3-プロピルフェニル基、4-プロピルフェニル基、2-イソプロピルフェニル基、3-イソプロピルフェニル基、4-イソプロピルフェニル基、2-シクロプロピルフェニル基、3-シクロプロピルフェニル基、4-シクロプロピルフェニル基、2-ブチルフェニル基、3-ブチルフェニル基、4-ブチルフェニル基、2-(1-メチルプロピル)フェニル基、3-(1-メチルプロピル)フェニル基、4-(1-メチルプロピル)フェニル基、2-(2-メチルプロピル)フェニル基、3-(2-メチルプロピル)フェニル基、4-(2-メチルプロピル)フェニル基、2-シクロブチルフェニル基、3-シクロブチルフェニル基、4-シクロブチルフェニル基、1-ナフチル基、又は2-ナフチル基が例示できる。 Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are not particularly limited, but include a phenyl group, a 2-methylphenyl group and a 3-methylphenyl group. , 4-methylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,5 -dimethylphenyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 2,4,6 -trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetra methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 2,3-diethylphenyl group, 2,4-diethylphenyl group, 2,5-diethylphenyl group, 2,6- diethylphenyl group, 3,4-diethylphenyl group, 3,5-diethylphenyl group, 2-propylphenyl group, 3-propylphenyl group, 4-propylphenyl group, 2-isopropylphenyl group, 3-isopropylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-cyclopropylphenyl group, 3-cyclopropylphenyl group, 4-cyclopropylphenyl group, 2-butylphenyl group, 3-butylphenyl group, 4-butylphenyl group, 2-(1- methylpropyl)phenyl group, 3-(1-methylpropyl)phenyl group, 4-(1-methylpropyl)phenyl group, 2-(2-methylpropyl)phenyl group, 3-(2-methylpropyl)phenyl group, Examples include 4-(2-methylpropyl)phenyl group, 2-cyclobutylphenyl group, 3-cyclobutylphenyl group, 4-cyclobutylphenyl group, 1-naphthyl group and 2-naphthyl group.

、R、R及びRで表される炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、及び炭素数6から10のアリール基については、上記の通り、各々独立に、水酸基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基、及び、炭素数12から20のジアリールアミノ基の群から選択される1つ以上で置換されていてもよい。 The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 10 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each as described above. independently a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, and a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms; group, a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms, and a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms.

前記の炭素数1から6のアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロヘキシルメチル基、2-シクロペンチルエチル基、2-メチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-シクロプロピルプロピル基、シクロプロピル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、3-メチルブタン-2-イル基、tert-ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルペンタン-2-イル基、2-エチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、1-メチルペンチル基、2-エチルブチル基、又はシクロヘキシル基が例示できる。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic alkyl group. Examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, cyclohexylmethyl group, 2-cyclopentylethyl group, 2-methylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 3-cyclopropylpropyl group, cyclopropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group , 3-methylbutan-2-yl group, tert-butyl group, cyclobutyl group, pentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylpentan-2-yl group, 2-ethylpropyl group, cyclopentyl group , hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-ethylbutyl group, or cyclohexyl group.

前記の炭素数6から10のアリール基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,3-ジメチルフェニル基、2,4-ジメチルフェニル基、2,5-ジメチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基、3,4-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,4,5-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、3,4,5-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、2,3,5,6-テトラメチルフェニル基、2-エチルフェニル基、3-エチルフェニル基、4-エチルフェニル基、2,3-ジエチルフェニル基、2,4-ジエチルフェニル基、2,5-ジエチルフェニル基、2,6-ジエチルフェニル基、3,4-ジエチルフェニル基、3,5-ジエチルフェニル基、2-プロピルフェニル基、3-プロピルフェニル基、4-プロピルフェニル基、2-イソプロピルフェニル基、3-イソプロピルフェニル基、4-イソプロピルフェニル基、2-シクロプロピルフェニル基、3-シクロプロピルフェニル基、4-シクロプロピルフェニル基、2-ブチルフェニル基、3-ブチルフェニル基、4-ブチルフェニル基、2-(1-メチルプロピル)フェニル基、3-(1-メチルプロピル)フェニル基、4-(1-メチルプロピル)フェニル基、2-(2-メチルプロピル)フェニル基、3-(2-メチルプロピル)フェニル基、4-(2-メチルプロピル)フェニル基、2-シクロブチルフェニル基、3-シクロブチルフェニル基、4-シクロブチルフェニル基、1-ナフチル基、又は、2-ナフチル基が例示できる。 The aryl group having 6 to 10 carbon atoms is not particularly limited, but examples thereof include phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethyl phenyl group, 4-ethylphenyl group, 2,3-diethylphenyl group, 2,4-diethylphenyl group, 2,5-diethylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 3,4-diethylphenyl group, 3 , 5-diethylphenyl group, 2-propylphenyl group, 3-propylphenyl group, 4-propylphenyl group, 2-isopropylphenyl group, 3-isopropylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-cyclopropylphenyl group, 3-cyclopropylphenyl group, 4-cyclopropylphenyl group, 2-butylphenyl group, 3-butylphenyl group, 4-butylphenyl group, 2-(1-methylpropyl)phenyl group, 3-(1-methylpropyl) ) phenyl group, 4-(1-methylpropyl)phenyl group, 2-(2-methylpropyl)phenyl group, 3-(2-methylpropyl)phenyl group, 4-(2-methylpropyl)phenyl group, 2- A cyclobutylphenyl group, 3-cyclobutylphenyl group, 4-cyclobutylphenyl group, 1-naphthyl group, or 2-naphthyl group can be exemplified.

前記の炭素数1から6のアルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、2-メチルプロポキシ基、2,2-ジメチルプロポキシ基、3-シクロプロピルプロポキシ基、シクロプロポキシ基、2-メチルブトキシ基、3-メチルブトキシ基、tert-ブトキシ基、シクロブトキシ基、ペンチルオキシ基、2-メチルペンチルオキシ基、1-メチルブチル基、1,2-ジメチルブトキシ基、1-エチルプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシル基、又は、シクロヘキシルオキシ基が例示できる。 The alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, 2-methylpropoxy and 2,2-dimethyl. propoxy group, 3-cyclopropylpropoxy group, cyclopropoxy group, 2-methylbutoxy group, 3-methylbutoxy group, tert-butoxy group, cyclobutoxy group, pentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 1-methylbutyl group , 1,2-dimethylbutoxy group, 1-ethylpropoxy group, cyclopentyloxy group, hexyl group, or cyclohexyloxy group.

前記の炭素数6から10のアリールオキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニルオキシ基、2-メチルフェニルオキシ基、3-メチルフェニルオキシ基、4-メチルフェニルオキシ基、2,3-ジメチルフェニルオキシ基、2,4-ジメチルフェニルオキシ基、2,5-ジメチルフェニルオキシ基、2,6-ジメチルフェニルオキシ基、3,4-ジメチルフェニルオキシ基、3,5-ジメチルフェニルオキシ基、2,3,4-トリメチルフェニルオキシ基、2,3,5-トリメチルフェニルオキシ基、2,3,6-トリメチルフェニルオキシ基、2,4,5-トリメチルフェニルオキシ基、2,4,6-トリメチルフェニルオキシ基、3,4,5-トリメチルフェニルオキシ基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルオキシ基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルオキシ基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルオキシ基、2-エチルフェニルオキシ基、3-エチルフェニルオキシ基、4-エチルフェニルオキシ基、2,3-ジエチルフェニルオキシ基、2,4-ジエチルフェニルオキシ基、2,5-ジエチルフェニルオキシ基、2,6-ジエチルフェニルオキシ基、3,4-ジエチルフェニルオキシ基、3,5-ジエチルフェニルオキシ基、2-プロピルフェニルオキシ基、3-プロピルフェニルオキシ基、4-プロピルフェニルオキシ基、2-イソプロピルフェニルオキシ基、3-イソプロピルフェニルオキシ基、4-イソプロピルフェニルオキシ基、2-シクロプロピルフェニルオキシ基、3-シクロプロピルフェニルオキシ基、4-シクロプロピルフェニルオキシ基、2-ブチルフェニルオキシ基、3-ブチルフェニルオキシ基、4-ブチルフェニルオキシ基、2-(1-メチルプロピル)フェニルオキシ基、3-(1-メチルプロピル)フェニルオキシ基、4-(1-メチルプロピル)フェニルオキシ基、2-(2-メチルプロピル)フェニルオキシ基、3-(2-メチルプロピル)フェニルオキシ基、4-(2-メチルプロピル)フェニルオキシ基、2-シクロブチルフェニルオキシ基、3-シクロブチルフェニルオキシ基、4-シクロブチルフェニルオキシ基、1-ナフチルオキシ基、又は、2-ナフチルオキシ基が例示できる。 Examples of the aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms include, but are not limited to, phenyloxy group, 2-methylphenyloxy group, 3-methylphenyloxy group, 4-methylphenyloxy group, 2 ,3-dimethylphenyloxy group, 2,4-dimethylphenyloxy group, 2,5-dimethylphenyloxy group, 2,6-dimethylphenyloxy group, 3,4-dimethylphenyloxy group, 3,5-dimethylphenyl oxy group, 2,3,4-trimethylphenyloxy group, 2,3,5-trimethylphenyloxy group, 2,3,6-trimethylphenyloxy group, 2,4,5-trimethylphenyloxy group, 2,4 ,6-trimethylphenyloxy group, 3,4,5-trimethylphenyloxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenyloxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenyloxy group, 2,3 , 5,6-tetramethylphenyloxy group, 2-ethylphenyloxy group, 3-ethylphenyloxy group, 4-ethylphenyloxy group, 2,3-diethylphenyloxy group, 2,4-diethylphenyloxy group, 2,5-diethylphenyloxy group, 2,6-diethylphenyloxy group, 3,4-diethylphenyloxy group, 3,5-diethylphenyloxy group, 2-propylphenyloxy group, 3-propylphenyloxy group, 4-propylphenyloxy group, 2-isopropylphenyloxy group, 3-isopropylphenyloxy group, 4-isopropylphenyloxy group, 2-cyclopropylphenyloxy group, 3-cyclopropylphenyloxy group, 4-cyclopropylphenyloxy group group, 2-butylphenyloxy group, 3-butylphenyloxy group, 4-butylphenyloxy group, 2-(1-methylpropyl)phenyloxy group, 3-(1-methylpropyl)phenyloxy group, 4-( 1-methylpropyl)phenyloxy group, 2-(2-methylpropyl)phenyloxy group, 3-(2-methylpropyl)phenyloxy group, 4-(2-methylpropyl)phenyloxy group, 2-cyclobutylphenyl Examples include oxy group, 3-cyclobutylphenyloxy group, 4-cyclobutylphenyloxy group, 1-naphthyloxy group and 2-naphthyloxy group.

前記の炭素数2から12のジアルキルアミノ基としては、特に限定するものではないが、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ビス(2-メチルプロピル)アミノ基、ビス(2,2-ジメチルプロピル)アミノ基、ビス(3-シクロプロピルプロピル)アミノ基、ジシクロプロピルアミノ基、ビス(2-メチルブチル)アミノ基、ビス(3-メチルブチル)アミノ基、ジ(tert-ブチル)アミノ基、ジシクロブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ビス(2-メチルペンチル)アミノ基、ジ(1-メチルブチル)アミノ基、ビス(1,2-ジメチルブチル)アミノ基、ジ(1-エチルプロピル)アミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、N-エチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-プロピル基、N-シクロプロピル-N-メチルアミノ基、N-ブチル-N-メチルアミノ基、N-シクロブチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-ペンチル基、N-シクロペンチル-N-メチルアミノ基、N-ヘキシル-N-メチルアミノ基、N-シクロヘキシル-N-メチルアミノ基、N-シクロヘプチル-N-メチルアミノ基、N-メチル-N-オクチルアミノ基、N-メチル-N-ノニルアミノ基、N-デシル-N-メチルアミノ基、又は、N-メチル-N-ウンデシルアミノ基が例示できる。 The dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, diisopropylamino group, dibutylamino group, bis(2-methylpropyl ) amino group, bis(2,2-dimethylpropyl)amino group, bis(3-cyclopropylpropyl)amino group, dicyclopropylamino group, bis(2-methylbutyl)amino group, bis(3-methylbutyl)amino group , di(tert-butyl)amino group, dicyclobutylamino group, dipentylamino group, bis(2-methylpentyl)amino group, di(1-methylbutyl)amino group, bis(1,2-dimethylbutyl)amino group , di(1-ethylpropyl)amino group, dicyclopentylamino group, dihexylamino group, dicyclohexylamino group, N-ethyl-N-methylamino group, N-methyl-N-propyl group, N-cyclopropyl-N- methylamino group, N-butyl-N-methylamino group, N-cyclobutyl-N-methylamino group, N-methyl-N-pentyl group, N-cyclopentyl-N-methylamino group, N-hexyl-N-methyl amino group, N-cyclohexyl-N-methylamino group, N-cycloheptyl-N-methylamino group, N-methyl-N-octylamino group, N-methyl-N-nonylamino group, N-decyl-N-methyl An amino group or an N-methyl-N-undecylamino group can be exemplified.

前記の炭素数6から10のモノアリールアミノ基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニルアミノ基、2-メチルフェニルアミノ基、3-メチルフェニルアミノ基、4-メチルフェニルアミノ基、2,3-ジメチルフェニルアミノ基、2,4-ジメチルフェニルアミノ基、2,5-ジメチルフェニルアミノ基、2,6-ジメチルフェニルアミノ基、3,4-ジメチルフェニルアミノ基、3,5-ジメチルフェニルアミノ基、2,3,4-トリメチルフェニルアミノ基、2,3,5-トリメチルフェニルアミノ基、2,3,6-トリメチルフェニルアミノ基、2,4,5-トリメチルフェニルアミノ基、2,4,6-トリメチルフェニルアミノ基、3,4,5-トリメチルフェニルアミノ基、2,3,4,5-テトラメチルフェニルアミノ基、2,3,4,6-テトラメチルフェニルアミノ基、2,3,5,6-テトラメチルフェニルアミノ基、2-エチルフェニルアミノ基、3-エチルフェニルアミノ基、4-エチルフェニルアミノ基、2,3-ジエチルフェニルアミノ基、2,4-ジエチルフェニルアミノ基、2,5-ジエチルフェニルアミノ基、2,6-ジエチルフェニルアミノ基、3,4-ジエチルフェニルアミノ基、3,5-ジエチルフェニルアミノ基、2-プロピルフェニルアミノ基、3-プロピルフェニルアミノ基、4-プロピルフェニルアミノ基、2-イソプロピルフェニルアミノ基、3-イソプロピルフェニルアミノ基、4-イソプロピルフェニルアミノ基、2-シクロプロピルフェニルアミノ基、3-シクロプロピルフェニルアミノ基、4-シクロプロピルフェニルアミノ基、2-ブチルフェニルアミノ基、3-ブチルフェニルアミノ基、4-ブチルフェニルアミノ基、2-(1-メチルプロピル)フェニルアミノ基、3-(1-メチルプロピル)フェニルアミノ基、4-(1-メチルプロピル)フェニルアミノ基、2-(2-メチルプロピル)フェニルアミノ基、3-(2-メチルプロピル)フェニルアミノ基、4-(2-メチルプロピル)フェニルアミノ基、2-シクロブチルフェニルアミノ基、3-シクロブチルフェニルアミノ基、4-シクロブチルフェニルアミノ基、1-ナフチルアミノ基、又は、2-ナフチルアミノ基が例示できる。 The monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms is not particularly limited, but examples thereof include phenylamino group, 2-methylphenylamino group, 3-methylphenylamino group, 4-methylphenylamino group, 2,3-dimethylphenylamino group, 2,4-dimethylphenylamino group, 2,5-dimethylphenylamino group, 2,6-dimethylphenylamino group, 3,4-dimethylphenylamino group, 3,5-dimethyl phenylamino group, 2,3,4-trimethylphenylamino group, 2,3,5-trimethylphenylamino group, 2,3,6-trimethylphenylamino group, 2,4,5-trimethylphenylamino group, 2, 4,6-trimethylphenylamino group, 3,4,5-trimethylphenylamino group, 2,3,4,5-tetramethylphenylamino group, 2,3,4,6-tetramethylphenylamino group, 2, 3,5,6-tetramethylphenylamino group, 2-ethylphenylamino group, 3-ethylphenylamino group, 4-ethylphenylamino group, 2,3-diethylphenylamino group, 2,4-diethylphenylamino group , 2,5-diethylphenylamino group, 2,6-diethylphenylamino group, 3,4-diethylphenylamino group, 3,5-diethylphenylamino group, 2-propylphenylamino group, 3-propylphenylamino group , 4-propylphenylamino group, 2-isopropylphenylamino group, 3-isopropylphenylamino group, 4-isopropylphenylamino group, 2-cyclopropylphenylamino group, 3-cyclopropylphenylamino group, 4-cyclopropylphenyl amino group, 2-butylphenylamino group, 3-butylphenylamino group, 4-butylphenylamino group, 2-(1-methylpropyl)phenylamino group, 3-(1-methylpropyl)phenylamino group, 4- (1-methylpropyl)phenylamino group, 2-(2-methylpropyl)phenylamino group, 3-(2-methylpropyl)phenylamino group, 4-(2-methylpropyl)phenylamino group, 2-cyclobutyl Examples include phenylamino group, 3-cyclobutylphenylamino group, 4-cyclobutylphenylamino group, 1-naphthylamino group, and 2-naphthylamino group.

前記の炭素数12から20のジアリールアミノ基としては、特に限定するものではないが、例えば、ジフェニルアミノ基、ビス(2-メチルフェニル)アミノ基、ビス(3-メチルフェニル)アミノ基、ビス(4-メチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3-ジメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,4-ジメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,5-ジメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,6-ジメチルフェニル)アミノ基、ビス(3,4-ジメチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5-ジメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3,4-トリメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3,5-トリメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3,6-トリメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,4,5-トリメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,4,6-トリメチルフェニル)アミノ基、ビス(3,4,5-トリメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3,4,5-テトラメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3,4,6-テトラメチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3,5,6-テトラメチルフェニル)アミノ基、ビス(2-エチルフェニル)アミノ基、ビス(3-エチルフェニル)アミノ基、ビス(4-エチルフェニル)アミノ基、ビス(2,3-ジエチルフェニル)アミノ基、ビス(2,4-ジエチルフェニル)アミノ基、ビス(2,5-ジエチルフェニル)アミノ基、ビス(2,6-ジエチルフェニル)アミノ基、ビス(3,4-ジエチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5-ジエチルフェニル)アミノ基、ビス(2-プロピルフェニル)アミノ基、ビス(3-プロピルフェニル)アミノ基、ビス(4-プロピルフェニル)アミノ基、ビス(2-イソプロピルフェニル)アミノ基、ビス(3-イソプロピルフェニル)アミノ基、ビス(4-イソプロピルフェニル)アミノ基、ビス(2-シクロプロピルフェニル)アミノ基、ビス(3-シクロプロピルフェニル)アミノ基、ビス(4-シクロプロピルフェニル)アミノ基、ビス(2-ブチルフェニル)アミノ基、ビス(3-ブチルフェニル)アミノ基、ビス(4-ブチルフェニル)アミノ基、ビス[2-(1-メチルプロピル)フェニル]アミノ基、ビス[3-(1-メチルプロピル)フェニル]アミノ基、ビス[4-(1-メチルプロピル)フェニル]アミノ基、ビス[2-(2-メチルプロピル)フェニル]アミノ基、ビス[3-(2-メチルプロピル)フェニル]アミノ基、ビス[4-(2-メチルプロピル)フェニル]アミノ基、ビス(2-シクロブチルフェニル)アミノ基、ビス(3-シクロブチルフェニル)アミノ基、ビス(4-シクロブチルフェニル)アミノ基、ジ(1-ナフチル)アミノ基、ジ(2-ナフチル)アミノ基、N-(2-メチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(3-メチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(4-メチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,3-ジメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,4-ジメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,5-ジメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,6-ジメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(3,4-ジメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(3,5-ジメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,3,4-トリメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,3,5-トリメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,3,6-トリメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,4,5-トリメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(2,4,6-トリメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(3,4,5-トリメチルフェニル)-N-フェニルアミノ基、N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ基、又は、N-(2-ナフチル)-N-フェニルアミノ基が例示できる。 The diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms is not particularly limited, but examples thereof include diphenylamino group, bis(2-methylphenyl)amino group, bis(3-methylphenyl)amino group, bis( 4-methylphenyl)amino group, bis(2,3-dimethylphenyl)amino group, bis(2,4-dimethylphenyl)amino group, bis(2,5-dimethylphenyl)amino group, bis(2,6- dimethylphenyl)amino group, bis(3,4-dimethylphenyl)amino group, bis(3,5-dimethylphenyl)amino group, bis(2,3,4-trimethylphenyl)amino group, bis(2,3, 5-trimethylphenyl)amino group, bis(2,3,6-trimethylphenyl)amino group, bis(2,4,5-trimethylphenyl)amino group, bis(2,4,6-trimethylphenyl)amino group, bis(3,4,5-trimethylphenyl)amino group, bis(2,3,4,5-tetramethylphenyl)amino group, bis(2,3,4,6-tetramethylphenyl)amino group, bis( 2,3,5,6-tetramethylphenyl)amino group, bis(2-ethylphenyl)amino group, bis(3-ethylphenyl)amino group, bis(4-ethylphenyl)amino group, bis(2,3 -diethylphenyl)amino group, bis(2,4-diethylphenyl)amino group, bis(2,5-diethylphenyl)amino group, bis(2,6-diethylphenyl)amino group, bis(3,4-diethyl) phenyl)amino group, bis(3,5-diethylphenyl)amino group, bis(2-propylphenyl)amino group, bis(3-propylphenyl)amino group, bis(4-propylphenyl)amino group, bis(2 -isopropylphenyl)amino group, bis(3-isopropylphenyl)amino group, bis(4-isopropylphenyl)amino group, bis(2-cyclopropylphenyl)amino group, bis(3-cyclopropylphenyl)amino group, bis (4-cyclopropylphenyl)amino group, bis(2-butylphenyl)amino group, bis(3-butylphenyl)amino group, bis(4-butylphenyl)amino group, bis[2-(1-methylpropyl) phenyl]amino group, bis[3-(1-methylpropyl)phenyl]amino group, bis[4-(1-methylpropyl)phenyl]amino group, bis[2-(2-methylpropyl)phenyl]amino group, bis[3-(2-methylpropyl)phenyl]amino group, bis[4-(2-methylpropyl)phenyl]amino group, bis(2-cyclobutylphenyl)amino group, bis(3-cyclobutylphenyl)amino group, bis(4-cyclobutylphenyl)amino group, di(1-naphthyl)amino group, di(2-naphthyl)amino group, N-(2-methylphenyl)-N-phenylamino group, N-(3 -methylphenyl)-N-phenylamino group, N-(4-methylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,3-dimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,4- dimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,5-dimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,6-dimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(3,4 -dimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(3,5-dimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,3,4-trimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-( 2,3,5-trimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,3,6-trimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(2,4,5-trimethylphenyl)-N- phenylamino group, N-(2,4,6-trimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(3,4,5-trimethylphenyl)-N-phenylamino group, N-(1-naphthyl)- N-phenylamino group or N-(2-naphthyl)-N-phenylamino group can be exemplified.

、R、R及びRは、各々独立に、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基及び炭素数1から6のアルコキシ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい炭素数1から6のアルキル基、又は炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基であることが好ましく、各々独立に、炭素数1から6のアルキル基(該基は、炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよい)、又はフェニル基(該基は、炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよい)であることが好ましく、各々独立に、メチル基又はエチル基であることが殊更好ましい。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms and a an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms optionally substituted by one or more substituents selected from the group consisting of 6 alkoxy groups, or a phenyl optionally substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (the group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) or a phenyl group (the group is a optionally substituted with alkyl groups of numbers 1 to 6), and each independently a methyl group or an ethyl group is particularly preferred.

がハロゲン化物イオンである場合、該ハロゲン化物イオンは、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン又はヨウ化物イオンであることが好ましく、塩化物イオン、臭化物イオン又はヨウ化物イオンであることがより好ましい。 When Y - is a halide ion, the halide ion is preferably a fluoride ion, a chloride ion, a bromide ion or an iodide ion, preferably a chloride ion, a bromide ion or an iodide ion. more preferred.

がRSOで表されるスルホン酸イオンである場合、Rは、炭素数1から9のアルキル基、炭素数1から9のフルオロアルキル基、又はフェニル基(該フェニル基は、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基、炭素数1から4のフルオロアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい)を表す。 When Y is a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O , R 5 is an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or a phenyl group (the phenyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group and a nitro group. optionally substituted with one or more substituents selected from the group).

前記のRで表される炭素数1から9のアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロヘキシルメチル基、2-シクロペンチルエチル基、2-メチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-シクロプロピルプロピル基、シクロプロピル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、3-メチルブタン-2-イル基、tert-ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、2-メチルペンチル基、3-エチルペンチル基、2,4-ジメチルペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルペンタン-2-イル基、4,4-ジメチルペンタン-2-イル基、2-エチルプロピル基、3-エチルペンタン-3-イル基、シクロペンチル基、2,5-ジメチルシクロペンチル基、3-エチルシクロペンチル基、ヘキシル基、2-メチルヘキシル基、3,3-ジメチルヘキシル基、4-エチルヘキシル基、1-メチルペンチル基、2-メチルヘキサン-2-イル基、5,5-ジメチルヘキサン-2-イル基、2-エチルブチル基、2,4-ジメチルヘキサン-3-イル基、シクロヘキシル基、4-エチルシクロヘキシル基、4-プロピルシクロヘキシル基、4,4-ジメチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、1-メチルヘキシル基、1-エチルペンチル基、1-プロピルブチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル基、オクチル基、1-メチルヘプチル基、1-エチルへキシル基、1-プロピルペンチル基、シクロオクチル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン-2-イル基、ノニル基、又は1-ブチルペンチル基が例示できる。 The alkyl group having 1 to 9 carbon atoms represented by R 5 is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic alkyl group. For example, a methyl group , ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, cyclohexylmethyl group, 2-cyclopentylethyl group, 2-methylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 3-cyclopropylpropyl group, cyclopropyl group, 2- methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 3-methylbutan-2-yl group, tert-butyl group, cyclobutyl group, pentyl group, 2-methylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 1- methylbutyl group, 2-methylpentan-2-yl group, 4,4-dimethylpentan-2-yl group, 2-ethylpropyl group, 3-ethylpentan-3-yl group, cyclopentyl group, 2,5-dimethylcyclopentyl group, 3-ethylcyclopentyl group, hexyl group, 2-methylhexyl group, 3,3-dimethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylhexan-2-yl group, 5,5- dimethylhexan-2-yl group, 2-ethylbutyl group, 2,4-dimethylhexan-3-yl group, cyclohexyl group, 4-ethylcyclohexyl group, 4-propylcyclohexyl group, 4,4-dimethylcyclohexyl group, heptyl group , 1-methylhexyl group, 1-ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, bicyclo[2.2.1]heptan-2-yl group, octyl group, 1-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, Examples include a 1-propylpentyl group, a cyclooctyl group, a bicyclo[2.2.2]octan-2-yl group, a nonyl group, or a 1-butylpentyl group.

前記のRで表される炭素数1から9のフルオロアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのフルオロアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、1,1-ジフルオロプロピル基、ペルフルオロ(1-メチルプロピル)基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ペルフルオロシクロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロシクロプロピル基、ペルフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、1,2,2,3,3,3-ヘキサフルオロ-1-(トリフルオロメチル)プロピル基、1-(トリフルオロメチル)プロピル基、1-メチル-3,3,3-トリフルオロプロピル基、ペルフルオロシクロブチル基、2,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロシクロブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロペンチル基、4,4,5,5,5-ペンタフルオロペンチル基、5,5,5-トリフルオロペンチル基、1,2,2,3,3,3-ヘキサフルオロ-1-(ペルフルオロエチル)プロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロ-1-(ペルフルオロエチル)プロピル基、ペルフルオロシクロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-ウンデカフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル基、4,4,5,5,6,6,6-ヘプタフルオロヘキシル基、5,5,6,6,6-ペンタフルオロヘキシル基、6,6,6-トリフルオロヘキシル基、又はペルフルオロシクロヘキシル基が例示できる。 The fluoroalkyl group having 1 to 9 carbon atoms represented by R 5 is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic fluoroalkyl group. trifluoromethyl group, difluoromethyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3, 3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 1,1-difluoropropyl group, perfluoro(1-methylpropyl) group, 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl group, perfluorocyclopropyl group, 2,2,3,3-tetrafluorocyclopropyl group, perfluorobutyl group, 2,2,3,3, 4,4,4-heptafluorobutyl group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 1,2,2,3,3,3-hexa fluoro-1-(trifluoromethyl)propyl group, 1-(trifluoromethyl)propyl group, 1-methyl-3,3,3-trifluoropropyl group, perfluorocyclobutyl group, 2,2,3,3, 4,4-hexafluorocyclobutyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, 3,3,4,4,5,5,5 -heptafluoropentyl group, 4,4,5,5,5-pentafluoropentyl group, 5,5,5-trifluoropentyl group, 1,2,2,3,3,3-hexafluoro-1-( perfluoroethyl)propyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-(perfluoroethyl)propyl group, perfluorocyclopentyl group, perfluorohexyl group, 2,2,3,3,4,4,5, 5,6,6,6-undecafluorohexyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group, 4,4,5,5,6,6,6 -heptafluorohexyl group, 5,5,6,6,6-pentafluorohexyl group, 6,6,6-trifluorohexyl group, or perfluorocyclohexyl group.

がフェニル基である場合、該フェニル基は炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基、炭素数1から4のフルオロアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基のニトロ基の群から選ばれる1つ以上の置換基で置換されていてもよい。 When R 5 is a phenyl group, the phenyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a fluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. , a halogen atom, and a nitro group such as a cyano group.

前記の炭素数1から4のアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、2-メチルプロピル基、シクロプロピル基、tert-ブチル基、又はシクロブチル基が例示できる。 The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic alkyl group. Examples include methyl group, ethyl group, propyl group, Examples include isopropyl group, butyl group, 2-methylpropyl group, cyclopropyl group, tert-butyl group, or cyclobutyl group.

前記の炭素数1から4のフルオロアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのフルオロアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、1,1-ジフルオロプロピル基、ペルフルオロ(1-メチルプロピル)基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ペルフルオロシクロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロシクロプロピル基、ペルフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、1,2,2,3,3,3-ヘキサフルオロ-1-(トリフルオロメチル)プロピル基、1-(トリフルオロメチル)プロピル基、1-メチル-3,3,3-トリフルオロプロピル基、ペルフルオロシクロブチル基、又は2,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロシクロブチル基が例示できる。 The fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic fluoroalkyl group. Examples include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 1,1-difluoropropyl group, perfluoro(1-methylpropyl) group, 2,2,2-tri fluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl group, perfluorocyclopropyl group, 2,2,3,3-tetrafluorocyclopropyl group, perfluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4,4-hepta fluorobutyl group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 1,2,2,3,3,3-hexafluoro-1-(trifluoro methyl)propyl group, 1-(trifluoromethyl)propyl group, 1-methyl-3,3,3-trifluoropropyl group, perfluorocyclobutyl group, or 2,2,3,3,4,4-hexafluoro A cyclobutyl group can be exemplified.

前記の炭素数1から4のアルコキシ基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのアルコキシ基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、2-メチルプロポキシ基、シクロプロポキシ基、tert-ブトキシ基、又はシクロブトキシ基が例示できる。 The alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic alkoxy group, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, Examples include isopropoxy, butoxy, 2-methylpropoxy, cyclopropoxy, tert-butoxy, and cyclobutoxy.

前記の炭素数1から4のフルオロアルコキシ基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのフルオロアルコキシ基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、トリフルオロメチルオキシ基、ジフルオロメチルオキシ基、ペルフルオロエチルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルオキシ基、1,1-ジフルオロエチルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルオキシ基、ペルフルオロプロピルオキシ基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルオキシ基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基、1,1-ジフルオロプロピルオキシ基、ペルフルオロ(1-メチルプロピル)オキシ基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチルオキシ基、ペルフルオロシクロプロピルオキシ基、2,2,3,3-テトラフルオロシクロプロピルオキシ基、ペルフルオロブチルオキシ基、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチルオキシ基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチルオキシ基、4,4,4-トリフルオロブチルオキシ基、1,2,2,3,3,3-ヘキサフルオロ-1-(トリフルオロメチル)プロピルオキシ基、1-(トリフルオロメチル)プロピルオキシ基、1-メチル-3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基、ペルフルオロシクロブチルオキシ基、又は2,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロシクロブチルオキシ基が例示できる。 The fluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic fluoroalkoxy group. methyloxy group, perfluoroethyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyloxy group, 1,1-difluoroethyloxy group, 2,2-difluoroethyloxy group, perfluoropropyloxy group, 2,2,3, 3,3-pentafluoropropyloxy group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyloxy group, 3,3,3-trifluoropropyloxy group, 1,1-difluoropropyloxy group, perfluoro(1-methyl propyl)oxy group, 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyloxy group, perfluorocyclopropyloxy group, 2,2,3,3-tetrafluorocyclopropyloxy group, perfluorobutyloxy group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyloxy group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyloxy group, 4,4,4-trifluorobutyloxy group, 1, 2,2,3,3,3-hexafluoro-1-(trifluoromethyl)propyloxy group, 1-(trifluoromethyl)propyloxy group, 1-methyl-3,3,3-trifluoropropyloxy group , a perfluorocyclobutyloxy group, or a 2,2,3,3,4,4-hexafluorocyclobutyloxy group.

前記のハロゲン原子としては、特に限定するものではないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が例示できる。 Examples of the halogen atom include, but are not limited to, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

で表される炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基、炭素数1から4のフルオロアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよいフェニル基(以下、「置換フェニル基」ともいう。)としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニル基、2-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、4-エチルフェニル基、4-プロピルフェニル基、2,4,6-トリイソプロピルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、2-トリフルオロメチルフェニル基、3-(トリフルオロメチル)フェニル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、4-メトキシフェニル基、4-(イソプロポキシ)フェニル基、4-トリフルオロメトキシフェニル基、2-フルオロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2-クロロフェニル基、3-クロロフェニル基、4-クロロフェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、2-ブロモフェニル基、3-ブロモフェニル基、4-ブロモフェニル基、2-シアノフェニル基、3-シアノフェニル基、4-シアノフェニル基、2-ニトロフェニル基、3-ニトロフェニル基又は4-ニトロフェニル基が例示できる。 R 5 represented by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group and A phenyl group optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a nitro group (hereinafter also referred to as a "substituted phenyl group") is not particularly limited, but for example, phenyl group, 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-propylphenyl group, 2,4,6- triisopropylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2-trifluoromethylphenyl group, 3-(trifluoromethyl)phenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-(isopropoxy)phenyl group, 4-trifluoromethoxyphenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3- chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-cyanophenyl group, 3-cyanophenyl group, 4-cyanophenyl group, 2-nitrophenyl group, 3-nitrophenyl group or 4-nitrophenyl group.

は、フェニル基、4-メチルフェニル基、メチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。すなわち、RSOで表されるスルホン酸イオンが、CSOで表されるベンゼンスルホン酸イオン、p-CHSOで表されるp-トルエンスルホン酸イオン、CHSOで表されるメタンスルホン酸イオン、又はCFSOで表されるトリフルオロメタンスルホン酸イオンであることが好ましい。 R 5 is preferably a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a methyl group or a trifluoromethyl group. That is, the sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O - is the benzenesulfonate ion represented by C 6 H 5 SO 2 O - , and the p-CH 3 C 6 H 4 SO 2 O - is represented. Preferred are p-toluenesulfonate ions, methanesulfonate ions represented by CH 3 SO 2 O-- , and trifluoromethanesulfonate ions represented by CF 3 SO 2 O-- .

がRCOOで表されるカルボン酸イオンである場合、Rは、炭素数1から6のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、又はフェニル基(該フェニル基は、炭素数1から4のアルキル基で置換されていてもよい)を表す。 When Y is a carboxylate ion represented by R 6 COO , R 6 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group (the phenyl group is optionally substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms).

前記の炭素数1から6のアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であればよく、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、2-メチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、3-シクロプロピルプロピル基、シクロプロピル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、3-メチルブタン-2-イル基、tert-ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルペンタン-2-イル基、1-エチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、1-メチルペンチル基、1-エチルブチル基、又は、シクロヘキシル基が例示できる。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is not particularly limited as long as it is a linear, branched or cyclic alkyl group. Examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, 2-methylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 3-cyclopropylpropyl group, cyclopropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 3-methylbutan-2-yl group, tert-butyl group, cyclobutyl group, pentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylpentan-2-yl group, 1-ethylpropyl group, cyclopentyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 1-ethylbutyl A group or a cyclohexyl group can be exemplified.

前記の炭素数1から4のフルオロアルキル基は、特に限定するものではないが、例えば、Rの説明で例示した炭素数1から4のフルオロアルキル基と同じ基が例示できる。 Although the above fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited, the same groups as the fluoroalkyl groups having 1 to 4 carbon atoms exemplified in the description of R 5 can be exemplified.

前記の炭素数1から4のアルキル基は、特に限定するものではないが、例えば、Rの説明で例示した炭素数1から4のアルキル基と同じ基が例示できる。 The above alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited, but the same groups as the alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms exemplified in the description of R 5 can be exemplified.

は、フェニル基、4-メチルフェニル基、メチル基又はトリフルオロメチル基のいずれかであることが好ましい。すなわち、RCOOで表されるカルボン酸イオンが、CCOOで表される安息香酸イオン、4-CHCOOで表される4-メチル安息香酸イオン、CHCOOで表される酢酸イオン、又はCFCOOで表されるトリフルオロ酢酸イオンであることが好ましい。 R 6 is preferably either a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a methyl group or a trifluoromethyl group. That is, the carboxylate ion represented by R 6 COO - is the benzoate ion represented by C 6 H 5 COO - , the 4-methylbenzoate ion represented by 4-CH 3 C 6 H 4 COO - , An acetate ion represented by CH 3 COO - or a trifluoroacetate ion represented by CF 3 COO - is preferable.

なお、Yは、ハロゲン化物イオン、RSOで表されるスルホン酸イオン又はOH(水酸化物イオン)であることが好ましく、Cl(塩化物イオン)、Br(臭化物イオン)、I(ヨウ化物イオン)、CSOで表されるベンゼンスルホン酸イオン、p-CHSOで表されるp-トルエンスルホン酸イオン、CHSOで表されるメタンスルホン酸イオン、CFSOで表されるトリフルオロメタンスルホン酸イオン又はOH(水酸化物イオン)であることがより好ましく、Br(臭化物イオン)、Cl(塩化物イオン)又はOH(水酸化物イオン)であることがより好ましい。 Y is preferably a halide ion, a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O or OH (hydroxide ion), Cl (chloride ion), Br (bromide ion), I (iodide ion), benzenesulfonate ion represented by C 6 H 5 SO 2 O , p-toluenesulfonate ion represented by p—CH 3 C 6 H 4 SO 2 O , a methanesulfonate ion represented by CH 3 SO 2 O- , a trifluoromethanesulfonate ion represented by CF 3 SO 2 O- or OH- (hydroxide ion), and Br- ( bromide ion), Cl (chloride ion) or OH (hydroxide ion).

本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)の好ましい実施形態として、一般式(1’)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩、が挙げられる。 Preferred embodiments of the hexahydrobenzodipyrrolilium salt (1) of the present invention include hexahydrobenzodipyrrolilium salts represented by general formula (1').

Figure 0007249911000002
Figure 0007249911000002

式中、X、R、R、R、R及びYは一般式(1)のものと同じ定義であり、なおかつ、RとRが同じであり、RとRが同じである。 In the formula, X, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and Y have the same definitions as those in general formula (1), R 1 and R 2 are the same, R 3 and R 4 are the same.

より好ましい実施形態として、一般式(1”)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩、が挙げられる。 A more preferred embodiment is a hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by general formula (1″).

Figure 0007249911000003
Figure 0007249911000003

式中、X、R、R、R、R及びYは一般式(1)のものと同じ定義であり、なおかつ、R、R、R及びRが同じである。 wherein X, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and Y have the same definitions as those in general formula (1), and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same .

さらに好ましい実施形態として、一般式(1’’’)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩、が挙げられる。 A more preferred embodiment is a hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1'').

Figure 0007249911000004
Figure 0007249911000004

式中、Xは、水素原子を表し、
、R、R及びRは、同一又は相異なっていてもよく、メチル基又はエチル基を表し、
は、同一又は相異なって、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン又は水酸化物イオンであり、このうち殊更好ましくは塩化物イオン、臭化物イオン又は水酸化物イオンである。
wherein X represents a hydrogen atom,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , which may be the same or different, represent a methyl group or an ethyl group,
Y is the same or different and is chloride ion, bromide ion, iodide ion, benzenesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion or hydroxide ion; Of these, chloride ions, bromide ions and hydroxide ions are particularly preferred.

ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)の具体例としては、以下の(1-1)から(1-978)を例示できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of hexahydrobenzodipyrolium salt (1) include the following (1-1) to (1-978), but the present invention is not limited thereto.

Figure 0007249911000005
Figure 0007249911000005

Figure 0007249911000006
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Figure 0007249911000007
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Figure 0007249911000008
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Figure 0007249911000009
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Figure 0007249911000010
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Figure 0007249911000024
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Figure 0007249911000025
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Figure 0007249911000026
Figure 0007249911000026

なお、本明細書中のMeはメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基、iPrはイソプロピル基、Buはブチル基、Hexはヘキシル基、Hepはヘプチル基、Octはオクチル基、Nonyはノニル基、Decはデシル基、Dodecはドデシル基、Octdecはオクタデシル基、Undecはウンデシル基、Cyはシクロヘキシル基、Phはフェニル基、TsOはp-トルエンスルホン酸イオンを表す。 In the present specification, Me is a methyl group, Et is an ethyl group, Pr is a propyl group, iPr is an isopropyl group, Bu is a butyl group, Hex is a hexyl group, Hep is a heptyl group, Oct is an octyl group, and Nony is nonyl. Dec is a decyl group, Dodec is a dodecyl group, Octdec is an octadecyl group, Undec is an undecyl group, Cy is a cyclohexyl group, Ph is a phenyl group, and TsO 2 - is a p-toluenesulfonate ion.

(1-1)から(1-978)で示される化合物のうち、本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩としては1-2、1-3、1-5、1-26、1-27、1-29、1-38、1-39、1-41、1-62、1-63、1-65、1-74、1-75、1-77、1-110、1-111、1-113、1-135、1-136、1-137、1-334、1-335、1-337、1-430、1-431、1-433、1-586、1-587、1-589、1-728、1-729、1-731、1-740、1-741、1-743、1-836、1-837及び1-839で示される化合物が、合成が容易な点で好ましい。 Among the compounds represented by (1-1) to (1-978), hexahydrobenzodipyrolium salts of the present invention include 1-2, 1-3, 1-5, 1-26, 1-27, 1-29, 1-38, 1-39, 1-41, 1-62, 1-63, 1-65, 1-74, 1-75, 1-77, 1-110, 1-111, 1- 113, 1-135, 1-136, 1-137, 1-334, 1-335, 1-337, 1-430, 1-431, 1-433, 1-586, 1-587, 1-589, Compounds represented by 1-728, 1-729, 1-731, 1-740, 1-741, 1-743, 1-836, 1-837 and 1-839 are preferred for ease of synthesis.

次に、本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)の製造方法について説明する。 Next, the method for producing the hexahydrobenzodipyrolium salt (1) of the present invention will be explained.

<製造方法の実施形態1>
本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)の製造方法として、一般式(2)で表される芳香族化合物と、一般式(3)で表される第二級アミンとを反応させる工程、を含む、一般式(1a)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩の製造方法(以下、「製法1」ともいう。)を挙げることができる。
<Embodiment 1 of manufacturing method>
As a method for producing the hexahydrobenzodipyrolium salt (1) of the present invention, a step of reacting an aromatic compound represented by the general formula (2) with a secondary amine represented by the general formula (3) and a method for producing a hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1a) (hereinafter also referred to as “production method 1”).

Figure 0007249911000027
Figure 0007249911000027

Xは、同一又は相異なってよく、一般式(1)のXと同義である。 X may be the same or different and has the same definition as X in formula (1).

Yaは、同一又は相異なって、ハロゲン原子又はRSOOで表される有機スルホニルオキシ基を表す。 Ya are the same or different and represent a halogen atom or an organic sulfonyloxy group represented by R 5 SO 2 O;

は、一般式(1)のRと同義である。 R 5 has the same definition as R 5 in general formula (1).

Figure 0007249911000028
Figure 0007249911000028

及びRは、各々独立に、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、又は炭素数6から10のアリール基(これらの置換基は、水酸基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基及び炭素数12から20のジアリールアミノ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい)を表す。 R 7 and R 8 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (these substituents are hydroxyl, to 6 alkyl groups, aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, dialkylamino groups having 2 to 12 carbon atoms, dialkylamino groups having 6 to 10 carbon atoms, optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a monoarylamino group and a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms).

Figure 0007249911000029
Figure 0007249911000029

Xは、同一又は相異なってよく、一般式(1)のXと同義である。 X may be the same or different and has the same definition as X in formula (1).

及びRは、一般式(3)におけるR及びRと同義である。 R 7 and R 8 are synonymous with R 7 and R 8 in general formula (3).

Yaは、ハロゲン化物イオン又はRSOで表されるスルホン酸イオンを表す。 Ya- represents a halide ion or a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O- .

は、一般式(2)におけるRと同義である。 R 5 has the same definition as R 5 in formula (2).

上記のR及びRで表される各置換基(炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基、炭素数12から20のジアリールアミノ基)については、R、R、R、及びRにおける各置換基の定義と同義である。 Each substituent represented by R 7 and R 8 above (alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, aryl group having 6 to 10 carbon atoms, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms , an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms, diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms) has the same meaning as defined for each substituent in R 1 , R 2 , R 3 and R 4 .

及びRは、各々独立に、炭素数1から12のアルキル基又は2-エトキシエチル基であることが好ましく、各々独立に、メチル基、エチル基又は2-エトキシエチル基であることがより好ましい。 R 7 and R 8 are preferably each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a 2-ethoxyethyl group, and each independently a methyl group, an ethyl group or a 2-ethoxyethyl group. more preferred.

Xは、水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。 X is preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a hydrogen atom.

Yaは、ハロゲン原子又はRSOOで表される有機スルホニルオキシ基を表し、当該Yaは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基であることが好ましく、臭素原子、ヨウ素原子、p-トルエンスルホニルオキシ基又はメタンスルホニルオキシ基であることがより好ましい。 Ya represents a halogen atom or an organic sulfonyloxy group represented by R 5 SO 2 O, wherein Ya is a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a benzenesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy, a methanesulfonyloxy group; or a trifluoromethylsulfonyloxy group, more preferably a bromine atom, an iodine atom, a p-toluenesulfonyloxy group or a methanesulfonyloxy group.

製法1の反応に供する、芳香族化合物(2)及び第二級アミン(3)は、市販のものを用いることができ、また公知の芳香族化合物の入手方法、例えば、Tetrahedron,71巻,6944-6955頁,2005年やJournal of the Amrican Chemical Society,129巻,13362-13363頁,2007年などで開示された製造方法に準じて入手することができる。 Commercially available products can be used as the aromatic compound (2) and the secondary amine (3) to be subjected to the reaction in production method 1, and known methods for obtaining aromatic compounds, for example, Tetrahedron, Vol.71, 6944 -6955, 2005, Journal of the American Chemical Society, Vol. 129, pp. 13362-13363, 2007.

製法1の反応において、芳香族化合物(2)に対する、第二級アミン(3)は、2~100モル当量であることが好ましく、2~10モル当量であることがより好ましい。 In the reaction of production method 1, the secondary amine (3) is preferably 2 to 100 molar equivalents, more preferably 2 to 10 molar equivalents, relative to the aromatic compound (2).

製法1において、芳香族化合物(2)と第二級アミン(3)は塩基存在下で反応させることが好ましい。該塩基として有機塩基又は無機塩基が挙げられる。有機塩基としては、特に限定するものではないが、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピロリジン、ジエチルアミン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセンなどが、無機塩基としては、特に限定するものではないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどが、それぞれ、例示できる。 In production method 1, the aromatic compound (2) and the secondary amine (3) are preferably reacted in the presence of a base. Examples of the base include organic bases and inorganic bases. Examples of organic bases include, but are not limited to, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, pyrrolidine, diethylamine, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane, 1,8-diazabicyclo[5. 4.0]undecene and the like, but the inorganic base is not particularly limited, but examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, potassium hydride, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium carbonate, Potassium carbonate, cesium carbonate and the like can be exemplified, respectively.

該塩基としては、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピロリジン、ジエチルアミン、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸ナトリウムであることが好ましく、ピロリジン、ジエチルアミン又は水酸化ナトリウムが好ましい。 The base is preferably diisopropylethylamine, triethylamine, pyridine, pyrrolidine, diethylamine, sodium hydroxide, potassium carbonate or sodium carbonate, preferably pyrrolidine, diethylamine or sodium hydroxide.

また、第二級アミン(3)は、前記の塩基として作用させることができる。例えば、第二級アミン(3)の添加量を過剰量とすること、例えば芳香族化合物(2)に対して2モル当量以上、更には5モル当量以上とすること、で製法1の反応を塩基存在下の反応とすることができる。 Also, the secondary amine (3) can act as the aforementioned base. For example, the amount of the secondary amine (3) added is excessive, for example, 2 molar equivalents or more, further 5 molar equivalents or more relative to the aromatic compound (2). The reaction can be carried out in the presence of a base.

製法1の反応において、芳香族化合物(2)と第二級アミン(3)は、溶媒中で反応させることが好ましい。該溶媒は反応を阻害しないものであれば制限は無く、例えば、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アミド系溶媒、ウレア系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、スルホキシド系溶媒、アルコール系溶媒及び水が挙げられる。 In the reaction of production method 1, the aromatic compound (2) and the secondary amine (3) are preferably reacted in a solvent. The solvent is not limited as long as it does not inhibit the reaction. Examples include aromatic hydrocarbon solvents, ether solvents, ester solvents, halogen solvents, amide solvents, urea solvents, ketone solvents, nitrile solvents. Examples include solvents, sulfoxide solvents, alcohol solvents and water.

これらの溶媒の具体的なものとして、芳香族炭化水素系溶媒としてトルエン、キシレン及びクロロベンゼンが、エーテル系溶媒としてテトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン及び1,4-ジオキサンが、エステル系溶媒として酢酸エチル又は酢酸ブチルが、ハロゲン系溶媒としてクロロホルム、四塩化炭素、及びクロロベンゼンが、アミド系溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド又はN,N-ジメチルアセトアミドが、ウレア系溶媒として、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン又は1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジン-2(1H)-オンが、ケトン系溶媒としてアセトン又はメチルエチルケトンが、ニトリル系溶媒としてアセトニトリル、プロピオニトリル及びベンゾニトリルが、スルホキシド系溶媒としてジメチルスルホキシドが、アルコール系溶媒としてメタノール、エタノール及びプロパノールが、それぞれ、例示できる。 Specific examples of these solvents include toluene, xylene and chlorobenzene as aromatic hydrocarbon solvents, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane and 1,4-dioxane as ether solvents, and ethyl acetate as an ester solvent. or butyl acetate, chloroform, carbon tetrachloride, and chlorobenzene as halogen-based solvents, N,N-dimethylformamide or N,N-dimethylacetamide as amide-based solvents, and 1,3-dimethyl-2 as urea-based solvents. - imidazolidinone or 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2(1H)-one, acetone or methyl ethyl ketone as ketone solvent, acetonitrile, propionitrile and benzo as nitrile solvent Examples include nitrile, dimethyl sulfoxide as a sulfoxide solvent, and methanol, ethanol and propanol as alcohol solvents.

製法1において、好ましい溶媒としてエーテル系溶媒、アルコール系溶媒及びニトリル系溶媒が、より好ましい溶媒としてテトラヒドロフラン、エタノール及びアセトニトリルが、例示できる。 In production method 1, preferred solvents are ether solvents, alcohol solvents and nitrile solvents, and more preferred solvents are tetrahydrofuran, ethanol and acetonitrile.

製法1において、好ましい反応温度として0℃以上200℃以下の任意の温度が、より好ましい反応温度として20℃以上80℃以下が、好ましい反応時間として1時間以上100時間以下が、それぞれ、挙げられる。 In Production Method 1, the preferred reaction temperature is any temperature of 0° C. or higher and 200° C. or lower, the more preferred reaction temperature is 20° C. or higher and 80° C. or lower, and the preferred reaction time is 1 hour or longer and 100 hours or shorter.

製法1は、一般式(1a)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を単離する工程(以下、「単離工程」ともいう。)、更に必要に応じて、単離後のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩をイオン交換する工程(以下、「イオン交換工程」ともいう。)を含んでいてもよい。 Production method 1 includes a step of isolating a hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1a) (hereinafter also referred to as an “isolation step”), and, if necessary, hexahydro after isolation. A step of ion-exchanging the benzodipyrrolinium salt (hereinafter, also referred to as an "ion-exchanging step") may be included.

単離工程において、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1a)が反応混合物から単離できればその方法は任意であり、単離方法として当業者が通常用いる一般的な精製方法をも用いることが出来、具体的には溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー、分取液体クロマトグラフィー、再結晶などが例示できる。 In the isolation step, any method can be used as long as the hexahydrobenzodipyrolium salt (1a) can be isolated from the reaction mixture, and a general purification method commonly used by those skilled in the art can be used as the isolation method, Specific examples include solvent extraction, column chromatography, preparative thin layer chromatography, preparative liquid chromatography, recrystallization, and the like.

イオン交換工程では、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1a)をイオン交換する。これにより、一般式(1b)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を得ることができる。 In the ion exchange step, the hexahydrobenzodipyrolium salt (1a) is ion exchanged. Thereby, the hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1b) can be obtained.

Figure 0007249911000030
Figure 0007249911000030

式中、R、R及びXは一般式(1a)におけるR、R及びXと同義であり、Ybはハロゲン化物イオン又は水酸化物イオンを表す。 In the formula, R 7 , R 8 and X have the same definitions as R 7 , R 8 and X in general formula (1a), and Yb- represents a halide ion or a hydroxide ion.

イオン交換の方法としては、当業者が四級アンモニウム塩のイオン交換に用いる一般的な方法を用いることが出来、例えばヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1a)と、イオン交換樹脂とを接触させればよい。イオン交換樹脂として、交換基Ybを有するイオン交換樹脂であればよく、例えば、アンバーライトIRA-400、アンバーライトIRA-402、アンバーライトIRA-404、アンバーライトIRA-900、アンバーライトIRA-904、アンバーライトIRA-458、アンバーライトIRA-958、アンバーライトIRA-420、アンバーライトIRN-78、アンバーライトIRA-411及びアンバーライトIRA-910が例示でき、好ましくはアンバーライトIRA-400が例示できる。 As the ion exchange method, a general method used for ion exchange of quaternary ammonium salts by those skilled in the art can be used. Just do it. The ion-exchange resin may be any ion-exchange resin having an exchange group Yb- . , Amberlite IRA-458, Amberlite IRA-958, Amberlite IRA-420, Amberlite IRN-78, Amberlite IRA-411 and Amberlite IRA-910, preferably Amberlite IRA-400. .

イオン交換は、イオン交換を阻害しない溶媒中で実施すればよい。該溶媒として、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、アルコール系溶媒及び水の群から選択される1つ以上が挙げられる。具体的な溶媒は、それぞれ、前述の製法1の説明で例示した具体的な溶媒と同じものが例示できる。 Ion exchange may be carried out in a solvent that does not interfere with ion exchange. The solvent includes one or more selected from the group of ether solvents, ester solvents, ketone solvents, nitrile solvents, alcohol solvents and water. Examples of specific solvents are the same as the specific solvents exemplified in the description of the production method 1 above.

<製造方法の実施形態2>
本実施形態のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩の製造方法の別の実施形態として、一般式(4a)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロールと、一般式(5a)で表されるアルキル化剤とを反応させる工程、を有することを特徴とする、一般式(1c)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩の製造方法(以下、「製法2」ともいう。)が挙げられる。
<Embodiment 2 of Manufacturing Method>
As another embodiment of the method for producing a hexahydrobenzodipyrrolium salt of the present embodiment, hexahydrobenzodipyrrole represented by general formula (4a) and an alkylating agent represented by general formula (5a) A method for producing a hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1c) (hereinafter also referred to as “production method 2”), characterized by having a step of reacting.

Figure 0007249911000031
Figure 0007249911000031

式中、Rは、同一又は相異なって、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、又は炭素数6から10のアリール基(これらの置換基は、水酸基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基及び炭素数12から20のジアリールアミノ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい)を表す。 In the formula, R 9 is the same or different and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (these substituents are hydroxyl group, carbon an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, and a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms; optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of monoarylamino groups having 10 carbon atoms and diarylamino groups having 12 to 20 carbon atoms).

Figure 0007249911000032
Figure 0007249911000032

式中、R10は、炭素数1から10のアルキル基、又は炭素数1から10のハロアルキル基(これらの置換基は、水酸基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基及び炭素数12から20のジアリールアミノ基の群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい)を表し、
Yaは、ハロゲン原子又はRSOOで表される有機スルホニルオキシ基を表す。
In the formula, R 10 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (these substituents are a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms and a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms. optionally substituted with one or more substituents selected from the group of groups) represents
Ya represents a halogen atom or an organic sulfonyloxy group represented by R5SO2O .

は、一般式(1)におけるRと同義である。 R 5 has the same definition as R 5 in general formula (1).

Figure 0007249911000033
Figure 0007249911000033

式中、Rは、一般式(4a)におけるRと同義である。 In the formula, R 9 has the same definition as R 9 in general formula (4a).

式中、R10は、一般式(5a)におけるR10と同義である。 In the formula, R 10 has the same definition as R 10 in general formula (5a).

Yaは、同一又は相異なって、ハロゲン化物イオン又はRSOで表されるスルホン酸イオンを表す。 Ya- is the same or different and represents a halide ion or a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O- .

は、一般式(1)におけるRと同義である。 R 5 has the same definition as R 5 in general formula (1).

における、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基、及び炭素数12から20のジアリールアミノ基については、特に限定するものではないが、R~Rにおける、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基、及び炭素数12から20のジアリールアミノ基と同じものを例示することができる。 R 9 , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, carbon alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, dialkylamino groups having 2 to 12 carbon atoms, monoarylamino groups having 6 to 10 carbon atoms, and diarylamino groups having 12 to 20 carbon atoms is not particularly limited, but in R 1 to R 4 , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms, and a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms and 12 to 20 carbon atoms The same as the diarylamino group can be exemplified.

10における、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基、及び炭素数12から20のジアリールアミノ基については、特に限定するものではないが、R~Rにおける、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基、及び炭素数12から20のジアリールアミノ基と同じものを例示することができる。 R 10 , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and carbon The aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, the dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, the monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms, and the diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms are not particularly limited. , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 to R 4 Examples are the same as alkoxy group, aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms and diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms. be able to.

及びR10については、各々独立に、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基及び炭素数1から6のアルコキシ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい炭素数1から6のアルキル基、又は炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基であることが好ましく、各々独立に、炭素数1から6のアルキル基(該基は、炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよい)、又はフェニル基(該基は、炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよい)であることが好ましく、各々独立に、メチル基又はエチル基であることが殊更好ましい。 R 9 and R 10 are each independently selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms optionally substituted by one or more substituents selected from the group consisting of, or a phenyl group optionally substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Preferably, each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (the group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) or a phenyl group (the group is optionally substituted with an alkyl group), and each independently a methyl group or an ethyl group is particularly preferred.

好ましい又はより好ましいYaは、製法1におけるものと同じである。 Preferred or more preferred Ya is the same as in Production Method 1.

製法2の反応に供する、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)及びアルキル化剤(5a)は、市販のものを入手することが出来、また後述の原料製法1にしたがってヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)を入手することも出来る。 Hexahydrobenzodipyrrole (4a) and alkylating agent (5a), which are subjected to the reaction in production method 2, are commercially available, and hexahydrobenzodipyrrole (4a) can be obtained according to raw material production method 1 described later. can also be obtained.

製法2の反応において、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)に対する、アルキル化剤(5a)は、2~100モル当量であることが好ましく、2~10モル当量であることがより好ましい。 In the reaction of production method 2, the alkylating agent (5a) is preferably 2 to 100 molar equivalents, more preferably 2 to 10 molar equivalents, relative to hexahydrobenzodipyrrole (4a).

製法2の反応において、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)とアルキル化剤(5a)を溶媒中で反応させることが好ましい。該溶媒は、反応を阻害しないものが好ましく、製法1の反応における溶媒と同じものが例示できる。 In the reaction of production method 2, it is preferable to react hexahydrobenzodipyrrole (4a) and alkylating agent (5a) in a solvent. The solvent is preferably one that does not inhibit the reaction, and the same solvent as in the reaction of production method 1 can be exemplified.

製法2の反応における、具体的な溶媒、好ましい溶媒、反応温度及び反応時間その他条件は、製法1の反応における条件と同じ条件が例示できる。 Specific solvent, preferred solvent, reaction temperature, reaction time and other conditions in the reaction of production method 2 are the same as those in the reaction of production method 1.

製法2は、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1c)を単離する工程、若しくは、これ(又は単離後の一般式(1c)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩)をイオン交換する工程の少なくともいずれか、を含んでいてもよい。 Production method 2 is a step of isolating the hexahydrobenzodipyrrolilium salt (1c), or subjecting it (or the isolated hexahydrobenzodipyrroliium salt represented by general formula (1c)) to ion exchange. At least one of the steps may be included.

単離方法その他の条件は、製法1の単離工程と同じ条件が例示できる。 As for the isolation method and other conditions, the same conditions as in the isolation step of production method 1 can be exemplified.

一般式(1c)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩のイオン交換により、一般式(1d)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を得ることができる。 A hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1d) can be obtained by ion exchange of the hexahydrobenzodipyrroliium salt represented by the general formula (1c).

Figure 0007249911000034
Figure 0007249911000034

式中、R、及びR10は、一般式(1c)におけるR、及びR10と同義であり、Ybは、ハロゲン化物イオン又は水酸化物イオンを表す。 In the formula, R 9 and R 10 have the same definitions as R 9 and R 10 in general formula (1c), and Yb- represents a halide ion or a hydroxide ion.

好ましい又はより好ましいYbは、製法1におけるYbと同じである。 Preferred or more preferred Yb is the same as Yb in production method 1.

イオン交換は、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1c)と、イオン交換樹脂とを接触させればよい。該イオン交換における、イオン交換樹脂、及び、溶媒その他の条件は、製法1のイオン交換工程と同じ条件が例示できる。 Ion exchange can be carried out by bringing the hexahydrobenzodipyrolium salt (1c) into contact with an ion exchange resin. The ion exchange resin, solvent, and other conditions in the ion exchange are the same as those in the ion exchange step of production method 1, for example.

<一般式(4a)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロールの製造方法>
製法2に供するヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)の製造方法の実施形態の一例として、一般式(6a)で表されるピロメリット酸ジイミドと、還元剤とを反応させる工程、を有することを特徴とする、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)の製造方法(以下、「原料製法1」ともいう。)、を挙げることができる。
<Method for Producing Hexahydrobenzodipyrrole Represented by General Formula (4a)>
An embodiment of the method for producing hexahydrobenzodipyrrole (4a) to be used in production method 2 is characterized by including a step of reacting pyromellitic diimide represented by general formula (6a) with a reducing agent. A method for producing hexahydrobenzodipyrrole (4a) (hereinafter also referred to as “raw material production method 1”).

Figure 0007249911000035
Figure 0007249911000035

式中、Rは、同一又は相異なっていてよく、一般式(4a)におけるRと同義である。 In the formula, R 9 may be the same or different and has the same definition as R 9 in general formula (4a).

Figure 0007249911000036
Figure 0007249911000036

式中、Rは、同一又は相異なっていてよく、一般式(4a)におけるRと同義である。 In the formula, R 9 may be the same or different and has the same definition as R 9 in general formula (4a).

原料製法1におけるR、好ましい又はより好ましいRは、製法2におけるものと同じである。 R 9 , preferred or more preferred R 9 in raw material production method 1 is the same as in production method 2.

原料製法1に用いる還元剤としては、水素化アルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、ボラン-ジメチルスルフィド錯体、ボラン-テトラヒドロフラン錯体、ボラン-ピリジン錯体、及び、水素化ホウ素ナトリウム/三フッ化ホウ素―ジエチルエーテル錯体が例示でき、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、ボラン-ジメチルスルフィド錯体、及び、ボラン-テトラヒドロフラン錯体が好ましく、水素化アルミニウムリチウム又はボラン-ジメチルスルフィド錯体がより好ましい。 The reducing agent used in raw material production method 1 includes aluminum hydride, lithium aluminum hydride, sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride, borane-dimethylsulfide complex, borane-tetrahydrofuran complex, borane-pyridine complex, and hydrogen. Sodium borohydride/boron trifluoride-diethyl ether complex can be exemplified, lithium aluminum hydride, sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride, borane-dimethylsulfide complex, and borane-tetrahydrofuran complex are preferred, and hydrogenation Aluminum lithium or borane-dimethylsulfide complexes are more preferred.

原料製法1において、ピロメリット酸ジイミド(6a)に対する、還元剤は、2~50モル当量であることが好ましく、4~10モル当量であることがより好ましい。 In the raw material production method 1, the reducing agent is preferably 2 to 50 molar equivalents, more preferably 4 to 10 molar equivalents, relative to the pyromellitic diimide (6a).

原料製法1は、ピロメリット酸ジイミド(6a)と還元剤とを溶媒中で反応させればよい。該溶媒は反応を阻害しないものであればよく、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、MTBEなどのエーテル系溶媒、及びメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶媒の群から還元剤の種類に応じて適宜選択される1つ以上が例示でき、好ましい溶媒として芳香族炭化水素系溶媒又はエーテル系溶媒が、より好ましい溶媒としてトルエン又はテトラヒドロフランが、例示できる。 In raw material production method 1, pyromellitic diimide (6a) and a reducing agent may be reacted in a solvent. The solvent may be one that does not inhibit the reaction, and includes aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; ether solvents such as tetrahydrofuran, cyclopentylmethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, and MTBE; and methanol and ethanol. , isopropyl alcohol, etc., can be exemplified by one or more appropriately selected according to the type of reducing agent. Preferred solvents are aromatic hydrocarbon solvents or ether solvents, and more preferred solvents are toluene or Tetrahydrofuran can be exemplified.

原料製法1において、好ましい反応温度として20℃以上150℃以下の任意の温度が、より好ましい反応温度として40℃以上120℃以下が、好ましい反応時間として1時間以上100時間以下が、それぞれ、例示できる。 In the raw material production method 1, the preferred reaction temperature is any temperature of 20° C. or higher and 150° C. or lower, the more preferred reaction temperature is 40° C. or higher and 120° C. or lower, and the preferred reaction time is 1 hour or longer and 100 hours or shorter. .

原料製法1は、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4a)を単離する工程、を含んでいてもよい。 Raw material production method 1 may include a step of isolating hexahydrobenzodipyrrole (4a).

単離方法その他の条件は、製法1の単離工程と同じ条件が例示できる。 As for the isolation method and other conditions, the same conditions as in the isolation step of production method 1 can be exemplified.

<製造方法の実施形態3>
本実施形態のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)の製造方法の別の実施形態として、一般式(4b)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロールと、一般式(5a)で表されるアルキル化剤とを反応させる工程、を有することを特徴とする、一般式(1f)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩の製造方法(以下、「製法3」ともいう。)を挙げることができる。
<Embodiment 3 of manufacturing method>
As another embodiment of the method for producing hexahydrobenzodipyrrolium salt (1) of the present embodiment, hexahydrobenzodipyrrole represented by general formula (4b) and alkyl represented by general formula (5a) A method for producing a hexahydrobenzodipyrolium salt represented by the general formula (1f) (hereinafter also referred to as “production method 3”), characterized by comprising a step of reacting with an agent can.

Figure 0007249911000037
Figure 0007249911000037

式中、Xは、同一又は相異なって、水素原子又はハロゲン原子を表し、
11は、同一又は相異なって、水素原子又はR12C(O)で表されるアシル基を表し、
12は、炭素数1から10のハロアルキル基を表す。
wherein X is the same or different and represents a hydrogen atom or a halogen atom;
R 11 are the same or different and represent a hydrogen atom or an acyl group represented by R 12 C(O),
R 12 represents a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

Figure 0007249911000038
Figure 0007249911000038

製法3に用いるアルキル化剤(5a)は、製法2におけるアルキル化剤(5a)と同義である。 The alkylating agent (5a) used in production method 3 has the same definition as the alkylating agent (5a) in production method 2.

Figure 0007249911000039
Figure 0007249911000039

式中、R10は一般式(4b)におけるR10と同義である。 In the formula, R 10 has the same definition as R 10 in general formula (4b).

式中、Xは一般式(4b)におけるXと同義である。 In the formula, X has the same definition as X in general formula (4b).

Yaは、ハロゲン化物イオン又はRSOで表されるスルホン酸イオンを表す。 Ya- represents a halide ion or a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O- .

好ましい又はより好ましいXは、並びに、好ましいYaは、それぞれ、製法1におけるものと同じである。 Preferred or more preferred X and preferred Ya are the same as in Production Method 1, respectively.

12は炭素数1から10のハロアルキル基であり、特に限定するものではないが、R、R、R及びRにおける炭素数1から10のハロアルキル基と同じものを例示できる。好ましいR12で表される炭素数1から10のハロアルキル基は、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、又はトリクロロメチル基であることが好ましく、トリフルオロメチル基、又はトリクロロメチル基であることがより好ましい。 R 12 is a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and can be exemplified by the same haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , although it is not particularly limited. A preferable haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 12 is preferably a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, or a trichloromethyl group, and is preferably a trifluoromethyl group or a trichloromethyl group. more preferred.

11は、特に限定するものではないが、水素原子、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基又はトリクロロメチルカルボニル基であることが好ましく、水素原子、トリフルオロアセチル基又はトリクロロメチルカルボニル基であることがより好ましい。 Although R 11 is not particularly limited, it is preferably a hydrogen atom, a trifluoroacetyl group, a pentafluoroethylcarbonyl group or a trichloromethylcarbonyl group, and is a hydrogen atom, a trifluoroacetyl group or a trichloromethylcarbonyl group. is more preferable.

製法3において、R10及び好ましいR10は、製法2におけるR10及び好ましいR10と同じである。 In production method 3, R 10 and preferred R 10 are the same as R 10 and preferred R 10 in production method 2.

製法3において、Ya、並びに、好ましい又はより好ましいYaは、製法1におけるYa、並びに、好ましい又はより好ましいYaと同じである。 In production method 3, Ya and preferred or more preferred Ya are the same as Ya and preferred or more preferred Ya in production method 1.

製法3の反応に供する、ヘキサヒドロベンゾジピロール及びアルキル化剤は、公知又は市販のものであればよい。 The hexahydrobenzodipyrrole and the alkylating agent to be subjected to the reaction of Production Method 3 may be known or commercially available.

製法3において、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4b)に対するアルキル化剤(5a)の使用量は、4~100モル当量であることが好ましく、4~10モル当量であることがより好ましい。 In production method 3, the amount of the alkylating agent (5a) used relative to hexahydrobenzodipyrrole (4b) is preferably 4 to 100 molar equivalents, more preferably 4 to 10 molar equivalents.

製法3において、塩基存在下でヘキサヒドロベンゾジピロール(4b)と、アルキル化剤(5a)とを反応させることが好ましい。該塩基は、製法1の反応における塩基と同じものが例示でき、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド及びナトリウムエトキシドの群から選択される1つ以上であることが好ましく、水酸化ナトリウムであることがより好ましい。 In production method 3, it is preferable to react hexahydrobenzodipyrrole (4b) with the alkylating agent (5a) in the presence of a base. The base can be exemplified by the same base as in the reaction of Production Method 1, and is preferably one or more selected from the group of sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide and sodium ethoxide. is more preferable.

製法3において、ヘキサヒドロベンゾジピロール(4b)と該アルキル化剤(5a)を溶媒中で反応させることが好ましい。該溶媒は反応を阻害しないものが好ましく、特に限定するものではないが、例えば、製法1の反応における溶媒と同じものが例示できる。 In production method 3, hexahydrobenzodipyrrole (4b) and the alkylating agent (5a) are preferably reacted in a solvent. The solvent is preferably one that does not inhibit the reaction, and is not particularly limited.

製法3における、具体的な溶媒、好ましい溶媒、反応温度及び反応時間その他の条件は、前述の製法1の反応における条件と同じ条件が例示できる。 Specific solvent, preferred solvent, reaction temperature, reaction time and other conditions in production method 3 are the same as those in the reaction of production method 1 described above.

製法3は、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1f)を単離する工程、若しくは、これ(又は単離後の一般式(1f)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩)をイオン交換する工程の少なくともいずれか、で処理してもよい。 Production method 3 is a step of isolating the hexahydrobenzodipyrrolilium salt (1f), or subjecting it (or the isolated hexahydrobenzodipyrrolilium salt represented by general formula (1f)) to ion exchange. At least one of the steps may be performed.

単離方法その他の条件は、製法1における単離工程と同じ条件が例示できる。 As for the isolation method and other conditions, the same conditions as in the isolation step in production method 1 can be exemplified.

イオン交換により、ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1f)をイオン交換し、一般式(1g)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩を得ることができる。 The hexahydrobenzodipyrrolinium salt (1f) is ion-exchanged by ion exchange to obtain the hexahydrobenzodipyrrolilium salt represented by the general formula (1g).

Figure 0007249911000040
Figure 0007249911000040

式中、R10は、一般式(1f)におけるR10と同義であり、Ybは、ハロゲン化物イオン又はOHを表す。 In the formula, R 10 has the same definition as R 10 in general formula (1f), and Yb - represents a halide ion or OH - .

イオン交換は、一般式(1f)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩と、イオン交換樹脂とを接触させればよい。 Ion exchange can be carried out by bringing the hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1f) into contact with an ion exchange resin.

一般式(1f)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩のイオン交換における、イオン交換樹脂、及び、溶媒その他の条件は、製法1のイオン交換工程における条件と同じ条件が例示できる。 The ion exchange resin, solvent and other conditions in the ion exchange of the hexahydrobenzodipyrolium salt represented by the general formula (1f) are the same as those in the ion exchange step of production method 1.

<一般式(4c)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロールの製造方法>
製法3に供する一般式(4c)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロールの製造方法の実施形態の一例として、芳香族化合物(2)と、一般式(3b)で表されるアミド化合物とを反応させる工程、を有することを特徴とする、一般式(4c)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロールの製造方法(以下、「原料製法2」ともいう。)、を挙げることができる。
<Method for Producing Hexahydrobenzodipyrrole Represented by General Formula (4c)>
As an embodiment of the method for producing hexahydrobenzodipyrrole represented by general formula (4c) to be subjected to production method 3, an aromatic compound (2) is reacted with an amide compound represented by general formula (3b). A method for producing hexahydrobenzodipyrrole represented by the general formula (4c) (hereinafter also referred to as “raw material production method 2”), characterized by having a step of allowing.

Figure 0007249911000041
Figure 0007249911000041

(式中、X及びYaは前記と同じ意味を表す。) (Wherein, X and Ya have the same meanings as above.)

Figure 0007249911000042
Figure 0007249911000042

式中、R12は、一般式(4b)におけるR12と同義である。 In the formula, R 12 has the same definition as R 12 in general formula (4b).

Figure 0007249911000043
Figure 0007249911000043

式中、Xは一般式(2)におけるXと同じである。 In the formula, X is the same as X in general formula (2).

式中、R12は一般式(3b)におけるR12と同じである。 In the formula, R 12 is the same as R 12 in general formula (3b).

好ましいX及びYaは製法1における好ましいX及びYaと同義であり、R12は製法3の反応におけるR12と同義である。 Preferred X and Ya have the same meanings as preferred X and Ya in Production Method 1, and R12 has the same meaning as R12 in the reaction in Production Method 3.

原料製法2の反応に供する芳香族化合物(2)及びアミド化合物(3b)は、市販品でも良く、当業者の良く知る公知の合成法に準じて入手することが出来る。 The aromatic compound (2) and the amide compound (3b) to be subjected to the reaction of the raw material production method 2 may be commercially available products and can be obtained according to known synthetic methods well known to those skilled in the art.

原料製法2において、芳香族化合物(2)に対して、アミド化合物(3b)は、2~50モル当量であることが好ましく、2~5モル当量であることがより好ましい。 In the raw material production method 2, the amide compound (3b) is preferably 2 to 50 molar equivalents, more preferably 2 to 5 molar equivalents, relative to the aromatic compound (2).

原料製法2において、塩基存在下で芳香族化合物(2)とアミド化合物(3b)とを反応させることが好ましい。該塩基は、製法1の反応における塩基と同じものが例示でき、ジイソプロピルエチルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのいずれかであることが好ましく、水素化ナトリウムであることがより好ましい。 In the raw material production method 2, it is preferable to react the aromatic compound (2) and the amide compound (3b) in the presence of a base. The base can be exemplified by the same base as in the reaction of Production Method 1, and is preferably diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, sodium hydride or potassium hydride, Sodium hydride is more preferred.

原料製法2において、反応は溶媒中で実施できる。溶媒は、反応を阻害しないものが好ましく、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アミド系溶媒、ウレア系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒及びスルホキシド系溶媒の群から選択される1つ以上が挙げられる。具体的な溶媒は、それぞれ、製法1の反応における具体的な溶媒と同じものが例示できる。 In the raw material production method 2, the reaction can be carried out in a solvent. The solvent is preferably one that does not inhibit the reaction, and includes aromatic hydrocarbon solvents, ether solvents, ester solvents, halogen solvents, amide solvents, urea solvents, ketone solvents, nitrile solvents and sulfoxide solvents. One or more selected from the group. Examples of specific solvents are the same as the specific solvents in the reaction of production method 1, respectively.

好ましい溶媒としてエーテル系溶媒、アミド系溶媒及びニトリル系溶媒の群から選択される1つ以上が例示でき、より好ましい溶媒としてテトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルムアミド及びアセトニトリルの群から選択される1つ以上が例示できる。 Preferred solvents include one or more selected from the group of ether solvents, amide solvents and nitrile solvents, and more preferred solvents are one or more selected from the group of tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide and acetonitrile. can be exemplified.

原料製法2の反応における、反応温度及び反応時間その他の条件は、製法1の反応における条件と同じ条件が例示できる。 The reaction temperature, reaction time, and other conditions in the reaction of the raw material production method 2 are the same conditions as those in the reaction of the production method 1 can be exemplified.

本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)は、公知のアンモニウム塩の用途に適用できるが、遷移金属触媒の配位子、又は、ゼオライトの製造における有機構造指向剤(以下、「SDA」ともいう。)として適しており、特に小細孔ゼオライトのSDAとして適している。 The hexahydrobenzodipyrrolinium salt (1) of the present invention can be applied to known ammonium salt applications, but it can be used as a ligand for transition metal catalysts or as an organic structure directing agent (hereinafter "SDA") in the production of zeolite. It is also suitable as an SDA for small pore zeolites.

以下、本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)をSDAとして適用したゼオライトの製造方法について説明する。 A method for producing a zeolite using the hexahydrobenzodipyrolium salt (1) of the present invention as SDA will be described below.

本実施形態のゼオライトの製造方法は、一般式(1)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源及び水を含む組成物(以下、「原料組成物」ともいう。)を結晶化させる結晶化工程、を有することを特徴とするゼオライトの製造方法である。 The method for producing a zeolite of the present embodiment comprises a composition (hereinafter also referred to as a “raw material composition”) containing a hexahydrobenzodipyrolium salt represented by the general formula (1), a silica source, an alumina source, an alkali source and water. ) is crystallized.

本発明のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩(1)は、小細孔ゼオライト、特にAFX型ゼオライト、を指向するSDAとして用いることが出来る。本実施形態において、AFX型ゼオライトとは、AFX構造を有するゼオライトであり、AFX構造を有する結晶性アルミノシリケートである。 The hexahydrobenzodipyrolium salt (1) of the present invention can be used as SDA for small pore zeolites, especially AFX zeolites. In the present embodiment, the AFX-type zeolite is a zeolite having an AFX structure, and is a crystalline aluminosilicate having an AFX structure.

AFX構造とは、国際ゼオライト学会(International Zeolite Association;以下、「IZA」とする。)のStructure Commissionが定めているIUPAC構造コードで、AFX型となる構造である。 The AFX structure is an IUPAC structure code determined by the Structure Commission of the International Zeolite Association (hereinafter referred to as "IZA"), and is a structure of AFX type.

本実施形態において、結晶性アルミノシリケートはアルミニウム(Al)とケイ素(Si)を骨格金属(以下、「T原子」ともいう。)とし、T原子が酸素原子(O)を介して結合した三次元のネットワークからなる骨格構造を有する。 In the present embodiment, the crystalline aluminosilicate uses aluminum (Al) and silicon (Si) as skeleton metals (hereinafter also referred to as “T atoms”), and the T atoms are three-dimensionally bonded through oxygen atoms (O). It has a skeletal structure consisting of a network of

シリカ源は、シリカ(SiO)又はその前駆体となるケイ素化合物であり、例えば、コロイダルシリカ、無定型シリカ、珪酸ナトリウム、テトラエチルオルトシリケート、沈殿法シリカ、ヒュームドシリカ、結晶性アルミノシリケート及びアルミノシリケートゲルの群から選ばれる少なくともいずれかが挙げられ、結晶性アルミノシリケート及びアルミノシリケートゲルの少なくともいずれかであることが好ましい。 The silica source is silica (SiO 2 ) or its precursor silicon compound, such as colloidal silica, amorphous silica, sodium silicate, tetraethylorthosilicate, precipitated silica, fumed silica, crystalline aluminosilicate and aluminosilicate. It includes at least one selected from the group of silicate gels, preferably at least one of crystalline aluminosilicate and aluminosilicate gel.

アルミナ源は、アルミナ(Al)又はその前駆体となるアルミニウム化合物であり、例えば、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、水酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、アルミノシリケートゲル、結晶性アルミノシリケート及び金属アルミニウムの群から選ばれる少なくともいずれかが挙げられ、結晶性アルミノシリケート及びアルミノシリケートゲルの少なくともいずれかであることが好ましい。 The alumina source is alumina (Al 2 O 3 ) or an aluminum compound that is a precursor thereof, such as aluminum sulfate, sodium aluminate, aluminum hydroxide, aluminum chloride, aluminosilicate gel, crystalline aluminosilicate and metallic aluminum. At least one selected from the group is included, and at least one of crystalline aluminosilicate and aluminosilicate gel is preferable.

アルカリ源は、アルカリ金属の水酸化物及びハロゲン化物の少なくともいずれかが挙げられ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム及び水酸化セシウムの群から選ばれる少なくともいずれかであることが好ましい。 The alkali source includes at least one of alkali metal hydroxides and halides, and is preferably at least one selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide and cesium hydroxide.

本実施形態において、原料組成物は以下に示す組成のいずれかの組合せを有することが好ましい。 In the present embodiment, the raw material composition preferably has any combination of the compositions shown below.

SiO/Al : 5以上、100以下、
好ましくは10以上、50以下、
より好ましくは15以上、40以下
OH/SiO : 0.06以上、1.0以下、
好ましくは0.08以上、0.60以下、
より好ましくは0.10以上、0.40以下
M/SiO : 0.06以上、1.0以下、
好ましくは0.08以上、0.60以下、
より好ましくは0.10以上、0.40以下
SDA/SiO : 0.01以上、2.0以下
好ましくは0.02以上、0.50以下
より好ましくは0.03以上、0.30以下
O/SiO : 5以上、60以下、
好ましくは10以上、50以下、
より好ましくは15以上、40以下
上記組成において、SiO/Alは原料組成物中のアルミナに対するシリカのモル比であり、OH/SiO、M/SiO、SDA/SiO及びHO/SiOは、それぞれ、原料組成物中のシリカに対する水酸化物イオン、アルカリ金属、SDA又は水のモル比である。なお、Mはアルカリ金属であり、例えば、アルカリ金属がナトリウムである場合、又は、アルカリ金属がナトリウムとカリウムである場合、M/SiOは、それぞれ、Na/SiO、又は(Na+K)/SiOとなる。
SiO2 / Al2O3 : 5 or more and 100 or less ,
preferably 10 or more and 50 or less,
More preferably 15 or more and 40 or less OH/SiO 2 : 0.06 or more and 1.0 or less,
preferably 0.08 or more and 0.60 or less,
More preferably 0.10 or more and 0.40 or less M/SiO 2 : 0.06 or more and 1.0 or less,
preferably 0.08 or more and 0.60 or less,
More preferably 0.10 or more and 0.40 or less SDA/SiO 2 : 0.01 or more and 2.0 or less
Preferably 0.02 or more and 0.50 or less
More preferably 0.03 or more and 0.30 or less H 2 O/SiO 2 : 5 or more and 60 or less,
preferably 10 or more and 50 or less,
More preferably 15 or more and 40 or less In the above composition, SiO 2 /Al 2 O 3 is the molar ratio of silica to alumina in the raw material composition, 2 O/SiO 2 is the molar ratio of hydroxide ion, alkali metal, SDA or water, respectively, to silica in the feed composition. In addition, M is an alkali metal. For example, when the alkali metal is sodium, or when the alkali metals are sodium and potassium, M/SiO 2 is respectively Na/SiO 2 or (Na+K)/SiO 2 .

本実施形態において、原料組成物は種晶を含んでいてもよい。種晶を含む場合、原料組成物の種晶の含有量は、原料組成物中のケイ素をシリカ(SiO)換算した重量に対する種晶中のケイ素をシリカ換算した重量割合として、0重量%以上10.0重量%以下、更には0.5重量%以上5.0重量%以下、また更には0.5重量%以上3.5重量%以下であることが挙げられる。 In the present embodiment, the raw material composition may contain seed crystals. When seed crystals are included, the content of the seed crystals in the raw material composition is 0% by weight or more as a weight ratio of silicon in the seed crystals converted to silica with respect to the weight of silicon in the raw material composition converted to silica (SiO 2 ). 10.0% by weight or less, further 0.5% by weight or more and 5.0% by weight or less, or further 0.5% by weight or more and 3.5% by weight or less.

種晶は、結晶構造中に奇数員環を含まないゼオライトであればよく、例えば、FAU、CHA、AEI、LEV、AFX、ERI、OFF、LTL及びGMEの群から選ばれるいずれかの構造を有するゼオライトであることが好ましく、CHA、AEI、LEV、AFX及びERIの群から選ばれるいずれかの構造を有するゼオライトであることがより好ましく、AFX型ゼオライトであることが更に好ましい。 The seed crystal may be any zeolite that does not contain an odd-numbered ring in the crystal structure, and has any structure selected from the group of FAU, CHA, AEI, LEV, AFX, ERI, OFF, LTL and GME, for example. Zeolite is preferred, zeolite having any one structure selected from the group of CHA, AEI, LEV, AFX and ERI is more preferred, and AFX-type zeolite is even more preferred.

本実施形態において、結晶化工程では原料組成物を結晶化するが、原料組成物を水熱処理することによって、これを結晶化すればよい。水熱処理は、原料組成物を密閉耐圧容器に入れ、これを加熱すればよい。水熱処理条件として以下のものを挙げることができる。 In the present embodiment, the raw material composition is crystallized in the crystallization step, and the raw material composition may be crystallized by subjecting the raw material composition to hydrothermal treatment. The hydrothermal treatment can be carried out by placing the raw material composition in a sealed pressure-resistant container and heating it. Hydrothermal treatment conditions include the following.

処理温度 :80℃以上190℃以下、好ましくは150℃以上190℃以下
処理時間 :2時間以上500時間以下
処理圧力 :自生圧
結晶化における原料組成物の状態は任意であり、静置下又は攪拌下のいずれでもよいが、攪拌下であることが好ましい。
Treatment temperature: 80° C. or higher and 190° C. or lower, preferably 150° C. or higher and 190° C. or lower Treatment time: 2 hours or more and 500 hours or less Treatment pressure: Autogenous pressure The state of the raw material composition during crystallization is arbitrary, and can be left still or stirred. Any of the following methods may be used, but stirring is preferred.

本実施形態のゼオライト製造方法は、洗浄工程、乾燥工程、SDA除去工程、又は、アンモニウム処理工程などの後処理工程を含んでもよい。 The zeolite production method of the present embodiment may include a post-treatment step such as a washing step, a drying step, an SDA removal step, or an ammonium treatment step.

洗浄工程は、ゼオライトを洗浄する。洗浄方法は任意であるが、ゼオライトを十分量の純水と接触させることが例示できる。 The washing step washes the zeolite. Any washing method can be used, but one example is contacting the zeolite with a sufficient amount of pure water.

乾燥工程は、ゼオライトから水分を除去する。乾燥方法は任意であるが、ゼオライトを、大気中、100℃以上、150℃以下で2時間以上処理することが例示できる。 The drying step removes water from the zeolite. Although the drying method is arbitrary, zeolite may be treated in air at 100° C. or higher and 150° C. or lower for 2 hours or longer.

SDA除去工程は、ゼオライトに残存するSDAを除去する。SDA除去方法として、大気中、400℃以上700℃以下で、1~2時間処理することが挙げられる。 The SDA removal step removes SDA remaining in the zeolite. As a method for removing SDA, a treatment at 400° C. or higher and 700° C. or lower in the air for 1 to 2 hours can be mentioned.

アンモニウム処理工程は、ゼオライトからのアルカリ金属の除去、及び、カチオンタイプをアンモニウム型(以下、「NH 型」とする。)にする。アンモニウム処理方法は、アンモニウムイオンを含有する水溶液とゼオライトと接触させることが挙げられる。なお、NH 型のゼオライトを、熱処理し、カチオンタイプがプロトン型(以下、「H型」とする。)のゼオライトとしてもよい。具体的な熱処理条件として、大気中、500℃、1~2時間が例示できる。 The ammonium treatment step removes the alkali metal from the zeolite and changes the cation type to the ammonium type (hereinafter referred to as "NH 4 + type"). The ammonium treatment method includes contacting an aqueous solution containing ammonium ions with zeolite. The NH 4 + -type zeolite may be heat-treated to obtain a proton-type zeolite (hereinafter referred to as "H + -type") cation type. As specific heat treatment conditions, 500° C. in air for 1 to 2 hours can be exemplified.

本実施形態のゼオライトの製造方法により得られるゼオライトは、例えば、吸着剤、触媒、吸着剤の担体又は触媒担体など、公知のゼオライトの用途に使用することができる。 The zeolite obtained by the zeolite production method of the present embodiment can be used for known zeolite applications such as adsorbents, catalysts, adsorbent carriers, and catalyst carriers.

次に、本開示の実施例を示す。しかしながら、本開示はこれらに限定されるものではない。
(H-NMR)
AscendTM 400(400MHz、Bruker製)又はUltraShieldTM Plus 400(400MHz、Bruker製)を使用して、試料のH-NMRスペクトルを測定した。測定溶媒として、重クロロホルム(CDCl)、重ジメチルスルホキシド-d(DMSO-d)、重アセトン(Acetone-d)又は重水(DO)を、内部標準物質としてテトラメチルシラン(TMS)を用いて試料のH-NMRスペクトルを測定した。測定データは、化学シフト、多重度、カップリング定数(Hz)及び積分値の順に記載した。
(粉末X線回折)
一般的なX線回折装置(装置名:Ultima IV、RIGAKU製)を使用し、試料のXRDを測定した。測定条件は以下のとおりである。
Next, examples of the present disclosure are shown. However, the present disclosure is not limited to these.
(H 1 -NMR)
H 1 -NMR spectra of samples were measured using Ascend 400 (400 MHz, Bruker) or UltraShield Plus 400 (400 MHz, Bruker). Deuterated chloroform (CDCl 3 ), deuterated dimethylsulfoxide- d 6 (DMSO-d 6 ), deuterated acetone (Acetone-d 6 ), or deuterated water (D 2 O) was used as the measurement solvent, and tetramethylsilane (TMS) was used as the internal standard substance. ) was used to measure the H 1 -NMR spectrum of the sample. The measured data are listed in order of chemical shift, multiplicity, coupling constant (Hz) and integral value.
(Powder X-ray diffraction)
A general X-ray diffraction device (Device name: Ultima IV, manufactured by RIGAKU) was used to measure the XRD of the sample. The measurement conditions are as follows.

線源 : CuKα線(λ=1.5405Å)
測定モード : ステップスキャン
スキャン幅 : 0.02°
発散スリット: 1.00deg
散乱スリット: 開放
受光スリット: 開放
計測時間 : 1.0分
測定範囲 : 2θ=3.0°~43.0°
得られたXRDのパターンとIZAのStructure Commissionのホーム-ページに掲載されたXRDパターンとを比較することによって、試料の結晶相及びXRDピーク強度比を確認した。
(ケイ素、アルミニウムの定量)
一般的な誘導結合プラズマ発光分析装置(装置名:OPTIMA3300DV、PERKIN ELMER製)を用いて、試料の組成分析を行った。試料をフッ酸と硝酸の混合溶液に溶解させ、測定溶液を調製した。得られた測定溶液を装置に投入して試料の組成を分析した。得られたケイ素(Si)、アルミニウム(Al)のモル濃度から、SiO/Alを算出した。
(ヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩の合成)
実施例1-1
Radiation source: CuKα ray (λ = 1.5405 Å)
Measurement mode: step scan
Scan width: 0.02°
Divergence slit: 1.00deg
Scattering slit: open
Receiving slit: open
Measurement time: 1.0 minutes
Measurement range: 2θ = 3.0° to 43.0°
The crystalline phase and XRD peak intensity ratio of the sample were confirmed by comparing the obtained XRD pattern with the XRD pattern posted on the home page of IZA's Structure Commission.
(quantification of silicon and aluminum)
A composition analysis of the sample was performed using a general inductively coupled plasma emission spectrometer (device name: OPTIMA3300DV, manufactured by PERKIN ELMER). A sample was dissolved in a mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid to prepare a measurement solution. The obtained measurement solution was put into the apparatus and the composition of the sample was analyzed. SiO 2 /Al 2 O 3 was calculated from the obtained molar concentrations of silicon (Si) and aluminum (Al).
(Synthesis of hexahydrobenzodipyrolium salt)
Example 1-1

Figure 0007249911000044
Figure 0007249911000044

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.80g,4.00mmol)のエタノール(8.0mL)溶液に、ジメチルアミンの2.0Mテトラヒドロフラン溶液(8.40mL,16.8mmol)を加え70℃で5時間撹拌した。反応後、析出した固体をろ取し、エタノール/テトラヒドロフラン(1:1)混合液で洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(1.40g,収率92%)を得た。 To a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.80 g, 4.00 mmol) in ethanol (8.0 mL) was added a 2.0 M tetrahydrofuran solution of dimethylamine (8.40 mL, 16.8 mmol). The mixture was added and stirred at 70°C for 5 hours. After the reaction, the precipitated solid was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol/tetrahydrofuran (1:1) to give a white solid of 2,2,6,6-tetramethyl-1,2,3,5,6, 7-Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (1.40 g, 92% yield) was obtained.

2,2,6,6-テトラメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO):δ7.46(s,2H),4.92(s,8H),3.37(s,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetramethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H- NMR (400 MHz, D2O ): ? 7.46 (s, 2H), 4.92 (s, 8H), 3.37 (s, 12H).

実施例1-2 Example 1-2

Figure 0007249911000045
Figure 0007249911000045

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.80g,4.00mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,13mL)溶液に、N-エチル-N-メチルアミン(1.44mL,16.8mmol)を加え70℃で2時間撹拌した。反応後、反応液から減圧下で溶媒を留去し、得られた固体をアセトンで洗浄して、白色固体の2,6-ジエチル-2,6-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(1.10g,収率68%)を得た。 N-ethyl-N-methylamine (1.44 mL, 16 .8 mmol) was added and stirred at 70° C. for 2 hours. After the reaction, the solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the resulting solid was washed with acetone to give a white solid of 2,6-diethyl-2,6-dimethyl-1,2,3,5,6. ,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dibromide (1.10 g, 68% yield).

2,6-ジエチル-2,6-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO):δ7.40(s,2H),4.89(d,J=14.5Hz,4H),4.78(d,J=14.5Hz,4H),3.64(q,J=7.2Hz,4H),3.17(s,6H),1.38(t,J=7.2Hz,6H)。 NMR spectrum of 2,6-diethyl-2,6-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H - NMR (400 MHz, D 2 O): δ 7.40 (s, 2H), 4.89 (d, J = 14.5 Hz, 4H), 4.78 (d, J = 14.5 Hz, 4H), 3 .64 (q, J=7.2 Hz, 4H), 3.17 (s, 6H), 1.38 (t, J=7.2 Hz, 6H).

実施例1-3 Example 1-3

Figure 0007249911000046
Figure 0007249911000046

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(12.6g,28.0mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,90mL)溶液に、ジエチルアミン(12.2mL,118mmol)を加え70℃で4時間撹拌した。反応後、析出した固体をろ取し、エタノール/テトラヒドロフラン(1:1)混合液で洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(9.87g,収率81%)を得た。 Diethylamine (12.2 mL, 118 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (12.6 g, 28.0 mmol) in ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 90 mL) at 70°C for 4 hours. Stirred for an hour. After the reaction, the precipitated solid was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol/tetrahydrofuran (1:1) to obtain 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7 as a white solid. -Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (9.87 g, 81% yield).

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DMSO-d)δ7.33(s,2H),4.82(s,8H),3.53(q,J=7.2Hz,8H),1.27(q,J=7.2Hz,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H-NMR (400 MHz, DMSO- d6 ) δ 7.33 (s, 2H), 4.82 (s, 8H), 3.53 (q, J = 7.2 Hz, 8H), 1.27 (q, J = 7 .2Hz, 12H).

実施例1-4 Examples 1-4

Figure 0007249911000047
Figure 0007249911000047

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.44g,3.20mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,10mL)溶液にN-エチル-N-イソプロピルアミン(1.62mL,13.4mmol)を加え、70℃で5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、析出した固体をろ取し、エタノール/テトラヒドロフラン(1:1)混合液で洗浄して、白色固体の2,6-ジエチル-2,6-ジイソプロピル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(0.873g,収率59%)を得た。 To a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.44 g, 3.20 mmol) in ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 10 mL) was added N-ethyl-N-isopropylamine (1.62 mL, 13. 4 mmol) was added and stirred at 70° C. for 5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated solid was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol/tetrahydrofuran (1:1) to give 2,6-diethyl-2,6-diisopropyl-1,2 as a white solid. ,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (0.873 g, 59% yield).

2,6-ジエチル-2,6-ジイソプロピル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.24(s,2H),4.94(d,J=15.2Hz,4H),4.78(d,J=15.2Hz,4H),3.99~3.90(m,2H),3.57~3.48(m,4H),1.34~1.31(m,12H),1.11~1.06(m,6H)。 NMR spectrum of 2,6-diethyl-2,6-diisopropyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide: 1 H - NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.24 (s, 2H), 4.94 (d, J = 15.2 Hz, 4H), 4.78 (d, J = 15.2 Hz, 4H), 3. 99-3.90 (m, 2H), 3.57-3.48 (m, 4H), 1.34-1.31 (m, 12H), 1.11-1.06 (m, 6H).

実施例1-5 Examples 1-5

Figure 0007249911000048
Figure 0007249911000048

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.80g,4.00mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,13mL)溶液にN-tert-ブチル-N-エチルイソプロピルアミン(2.33mL,16.8mmol)を加え、70℃で7時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、析出した固体をろ取し、エタノール/テトラヒドロフラン(1:1)混合液で洗浄して、白色固体の2,6-ジ(tert-ブチル)-2,6-ジエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(1.15g,収率53%)を得た。 To a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.80 g, 4.00 mmol) in ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 13 mL) was added N-tert-butyl-N-ethylisopropylamine (2.33 mL). , 16.8 mmol) was added and stirred at 70° C. for 7 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated solid was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol/tetrahydrofuran (1:1) to give a white solid of 2,6-di(tert-butyl)-2,6- Diethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide (1.15 g, 53% yield) was obtained.

2,6-ジ(tert-ブチル)-2,6-ジエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.24(s,2H),5.18~5.12(m,4H),4.64(d,J=16.3Hz,4H),3.61(d,J=7.0Hz,4H),1.49(s,18H),0.96~0.89(m,6H)。 2,6-di(tert-butyl)-2,6-diethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium of dibromide NMR spectrum: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.24 (s, 2H), 5.18-5.12 (m, 4H), 4.64 (d, J = 16.3Hz, 4H) , 3.61 (d, J=7.0 Hz, 4H), 1.49 (s, 18H), 0.96-0.89 (m, 6H).

実施例1-6 Examples 1-6

Figure 0007249911000049
Figure 0007249911000049

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.44g,3.20mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,10mL)溶液にジイソプロピルアミン(1.88mL,13.4mmol)を加え、70℃で5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、反応液から溶媒を留去して、得られた固体をクロロホルムで洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトライソプロピル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(1.05g,収率67%)を得た。 Diisopropylamine (1.88 mL, 13.4 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.44 g, 3.20 mmol) in ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 10 mL). C. for 5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the solvent was distilled off from the reaction solution, and the resulting solid was washed with chloroform to give a white solid of 2,2,6,6-tetraisopropyl-1,2,3, 5,6,7-Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide (1.05 g, 67% yield) was obtained.

2,2,6,6-テトライソプロピル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.22(s,2H),4.82(s,8H),3.98(sept,J=6.4Hz,4H),1.26(d,J=6.4Hz,24H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetraisopropyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H- NMR (400 MHz, D2O ) δ 7.22 (s, 2H), 4.82 (s, 8H), 3.98 (sept, J = 6.4 Hz, 4H), 1.26 (d, J = 6 .4Hz, 24H).

実施例1-7 Examples 1-7

Figure 0007249911000050
Figure 0007249911000050

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.12g,2.50mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,10mL)溶液にジドデシルアミン(3.71g,10.5mmol)を加え、70℃で18時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、析出した固体をろ別した。ろ液から溶媒を減圧下で留去し、得られた固体を酢酸エチルで洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラドデシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(2.19g,収率88%)を得た。 To a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.12 g, 2.50 mmol) in ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 10 mL) was added didodecylamine (3.71 g, 10.5 mmol), Stir at 70° C. for 18 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated solid was filtered off. The solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure, and the obtained solid was washed with ethyl acetate to give 2,2,6,6-tetradodecyl-1,2,3,5,6,7-tetradodecyl-1,2,3,5,6,7- Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (2.19 g, 88% yield) was obtained.

2,2,6,6-テトラドデシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,CDCl)δ7.67(s,2H),5.27(s,8H),3.78~3.53(m,8H),1.83~1.65(m,8H),1.45~1.17(m,72H),0.88(t,J=6.7Hz,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetradodecyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H— NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.67 (s, 2H), 5.27 (s, 8H), 3.78-3.53 (m, 8H), 1.83-1.65 (m, 8H) , 1.45-1.17 (m, 72H), 0.88 (t, J=6.7Hz, 12H).

実施例1-8 Examples 1-8

Figure 0007249911000051
Figure 0007249911000051

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.12g,2.50mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液にビス(2-エトキシエチル)アミン(1.87mL,10.3mmol)を加え、60℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、析出した固体をろ取し、固体をテトラヒドロフランで洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラキス(2-エトキシエチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(2.19g,収率88%)を得た。 Bis(2-ethoxyethyl)amine (1.87 mL, 10.3 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.12 g, 2.50 mmol) in tetrahydrofuran (10 mL). C. for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated solid was collected by filtration and washed with tetrahydrofuran to give a white solid of 2,2,6,6-tetrakis(2-ethoxyethyl)-1,2,3, 5,6,7-Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dibromide (2.19 g, 88% yield) was obtained.

2,2,6,6-テトラキス(2-エトキシエチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.47(s,2H),5.10(s,8H),3.94~3.86(m,16H),3.46(q,J=7.1Hz,8H),1.17(t,J=7.1Hz,12H)。 NMR of 2,2,6,6-tetrakis(2-ethoxyethyl)-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide Spectrum: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.47 (s, 2H), 5.10 (s, 8H), 3.94-3.86 (m, 16H), 3.46 (q, J=7.1 Hz, 8H), 1.17 (t, J=7.1 Hz, 12H).

実施例1-9 Examples 1-9

Figure 0007249911000052
Figure 0007249911000052

ビス[(2-ジイソプロピルアミノ)エチル]アミン(1.64mL,5.13mmol)のクロロホルム(12mL)溶液に、1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.12g,2.50mmol)のクロロホルム(25mL)溶液を氷浴下で加えた後、50℃で17時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、溶媒を留去した。得られた粘稠性液体をエタノールで希釈し、30%水酸化ナトリウム水溶液(2.00mL,15.2mmol)を加えて20分間撹拌した。溶液から溶媒を減圧下で留去し、粘稠性の液体を得た。この液体にアセトンを加え、析出した固体をろ別してろ液から溶媒を留去した。得られた粘稠性液体に酢酸エチルを加え、析出した固体をろ取し、酢酸エチルで洗浄することで、白色固体の2,2,6,6-テトラキス[ビス(2-ジイソプロピルアミノ)エチル]-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(0.940g,収率45%)を得た。 To a solution of bis[(2-diisopropylamino)ethyl]amine (1.64 mL, 5.13 mmol) in chloroform (12 mL) was added 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.12 g, 2.50 mmol). chloroform (25 mL) solution was added in an ice bath, and the mixture was stirred at 50° C. for 17 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the solvent was distilled off. The resulting viscous liquid was diluted with ethanol, added with 30% aqueous sodium hydroxide solution (2.00 mL, 15.2 mmol) and stirred for 20 minutes. The solvent was distilled off from the solution under reduced pressure to obtain a viscous liquid. Acetone was added to this liquid, the precipitated solid was separated by filtration, and the solvent was distilled off from the filtrate. Ethyl acetate was added to the resulting viscous liquid, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with ethyl acetate to give 2,2,6,6-tetrakis[bis(2-diisopropylamino)ethyl as a white solid. ]-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dibromide (0.940 g, 45% yield).

2,2,6,6-テトラキス[ビス(2-ジイソプロピルアミノ)エチル]-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DMSO-d)δ7.53(s,2H),5.09(s,8H),3.53(t,J=6.8Hz,8H),2.98(sept,J=6.5Hz,8H),2.77(t,J=6.8Hz,8H),0.97(d,J=6.5Hz,48H)。 2,2,6,6-tetrakis[bis(2-diisopropylamino)ethyl]-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium = NMR spectrum of dibromide: 1 H-NMR (400 MHz, DMSO-d 6 ) δ 7.53 (s, 2H), 5.09 (s, 8H), 3.53 (t, J = 6.8 Hz, 8H) , 2.98 (sept, J=6.5 Hz, 8 H), 2.77 (t, J=6.8 Hz, 8 H), 0.97 (d, J=6.5 Hz, 48 H).

実施例1-10 Examples 1-10

Figure 0007249911000053
Figure 0007249911000053

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.12g,2.50mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液にN-メチルアニリン(1.10mL,10.0mmol)を加え、室温で24時間撹拌した。反応後、反応液から溶媒を減圧下で留去し、得られた固体をクロロホルム、次いでアセトンで洗浄して、白色固体の2,6-ジメチル-2,6-ジフェニル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(0.250g,収率20%)を得た。 N-methylaniline (1.10 mL, 10.0 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.12 g, 2.50 mmol) in tetrahydrofuran (10 mL) and stirred at room temperature for 24 hours. bottom. After the reaction, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, and the obtained solid was washed with chloroform and then with acetone to give a white solid of 2,6-dimethyl-2,6-diphenyl-1,2,3, 5,6,7-Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide (0.250 g, 20% yield) was obtained.

2,6-ジメチル-2,6-ジフェニル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.82~7.73(m,4H),7.71~7.54(m,8H),5.56~5.43(m,8H),3.54(s,3H),3.53(s,3H)。 NMR spectrum of 2,6-dimethyl-2,6-diphenyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H - NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.82-7.73 (m, 4H), 7.71-7.54 (m, 8H), 5.56-5.43 (m, 8H), 3. 54 (s, 3H), 3.53 (s, 3H).

実施例1-11 Examples 1-11

Figure 0007249911000054
Figure 0007249911000054

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.12g,2.50mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液にN-メチル-p-トルイジン(1.30mL,10.3mmol)を加え、室温で6時間撹拌した。反応後、反応液から溶媒を減圧下で留去し、得られた固体をクロロホルム、次いでアセトンで洗浄して、白色固体の2,6-ジメチル-2,6-ジ(p-トリル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(0.213g,収率16%)を得た。 N-methyl-p-toluidine (1.30 mL, 10.3 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.12 g, 2.50 mmol) in tetrahydrofuran (10 mL), and the mixture was stirred at room temperature. Stirred for 6 hours. After the reaction, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, and the obtained solid was washed with chloroform and then with acetone to obtain 2,6-dimethyl-2,6-di(p-tolyl)-1 as a white solid. ,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (0.213 g, 16% yield).

2,6-ジメチル-2,6-ジ(p-トリル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.62(s,2H),7.61(d,J=8.5Hz,4H),7.42(d,J=8.5Hz,4H),5.44(s,8H),3.50(s,6H),2.34(s,6H)。 2,6-dimethyl-2,6-di(p-tolyl)-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium of dibromide NMR spectrum: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.62 (s, 2H), 7.61 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.42 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 5.44 (s, 8H), 3.50 (s, 6H), 2.34 (s, 6H).

実施例1-12 Examples 1-12

Figure 0007249911000055
Figure 0007249911000055

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(1.80g,4.00mmol)のテトラヒドロフラン(16mL)溶液に30%水酸化ナトリウム水溶液(1.15mL,8.80mmol)、ビス(2-エトキシエチル)アミン(1.45mL,8.00mmol)を順次加え、還流下で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、クロロホルムで希釈し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液から硫酸マグネシウムをろ別し、ろ液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた粘稠性液体にアセトンを加え、析出した固体をろ取し、アセトンで洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラキス(2-エトキシエチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(1.63g,収率68%)を得た。 A solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (1.80 g, 4.00 mmol) in tetrahydrofuran (16 mL) was added with 30% aqueous sodium hydroxide solution (1.15 mL, 8.80 mmol), bis(2-ethoxy Ethyl)amine (1.45 mL, 8.00 mmol) was added sequentially and stirred under reflux for 2 hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, it was diluted with chloroform and dried over magnesium sulfate. The magnesium sulfate was filtered off from the solution and the solvent was concentrated from the filtrate under reduced pressure. Acetone was added to the resulting viscous liquid, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with acetone to obtain 2,2,6,6-tetrakis(2-ethoxyethyl)-1,2,3 as a white solid. ,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dibromide (1.63 g, 68% yield).

実施例1-13 Examples 1-13

Figure 0007249911000056
Figure 0007249911000056

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(5.61g,12.9mmol)のメタノール溶液を陰イオン交換樹脂(アンバーライトIRA-900 Cl型,250cm)を充填したカラムに通じた後、溶液からメタノールを留去した。得られた固体をアセトンで洗浄して、固体をろ取することで、白色固体の2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジクロリド(4.42g,収率>99%)を得た。 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (5.61 g, 12.9 mmol ) was passed through a column packed with an anion exchange resin (Amberlite IRA-900 Cl type, 250 cm 3 ), and methanol was distilled off from the solution. The obtained solid was washed with acetone and collected by filtration to obtain 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1, 2-c:4,5-c′]dipyrrolium dichloride (4.42 g, >99% yield) was obtained.

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジクロリドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.33(s,2H),4.82(s,8H),3.53(q,J=7.2Hz,8H),1.27(q,J=7.2Hz,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dichloride: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.33 (s, 2H), 4.82 (s, 8H), 3.53 (q, J=7.2Hz, 8H), 1.27 (q, J=7. 2Hz, 12H).

実施例1-14 Examples 1-14

Figure 0007249911000057
Figure 0007249911000057

水素化アルミニウムリチウム(3.04g,80.0mmol)とテトラヒドロフラン(100mL)の懸濁液に、N,N’-ジエチルピロメリット酸ジイミド(5.45g,20.0mmol)を氷浴下で加え、60℃で18時間撹拌した。反応後、反応液を氷浴で冷却し、水(3.0mL)、15%水酸化ナトリウム水溶液(3.0mL)、水(9.0mL)を順次加えて撹拌した。反応液から析出した固体をろ別し、固体をテトラヒドロフラン及び酢酸エチルで洗浄した後、ろ液から溶媒を減圧下で留去して、2,6-ジエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールの粗生成物(4.10g)を得た。 To a suspension of lithium aluminum hydride (3.04 g, 80.0 mmol) and tetrahydrofuran (100 mL), N,N'-diethylpyromellitic diimide (5.45 g, 20.0 mmol) was added under an ice bath, Stir at 60° C. for 18 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled in an ice bath, water (3.0 mL), 15% aqueous sodium hydroxide solution (3.0 mL) and water (9.0 mL) were sequentially added and stirred. The solid precipitated from the reaction mixture was separated by filtration, washed with tetrahydrofuran and ethyl acetate, and the solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure to obtain 2,6-diethyl-1,2,3,5,6. ,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole crude product (4.10 g) was obtained.

2,6-ジエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールの粗生成物のNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,CDCl)δ7.01(s,2H),3.88(s,8H),2.77(q,J=7.2Hz,8H),1.19(q,J=7.2Hz,12H)。 NMR spectrum of the crude product of 2,6-diethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole: 1 H-NMR (400 MHz , CDCl 3 ) δ 7.01 (s, 2H), 3.88 (s, 8H), 2.77 (q, J = 7.2 Hz, 8H), 1.19 (q, J = 7.2 Hz, 12H ).

2,6-ジエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールの粗生成物(4.10g)のアセトニトリル(40mL)溶液に、ブロモエタン(4.48mL,60.0mmol)を加えた。室温で13時間撹拌した後、反応液から溶媒を減圧下で留去した。得られた固体をアセトンで洗浄して、固体をろ取することで、白色固体の2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(3.47g,2工程での総収率40%)を得た。 2,6-diethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole crude product (4.10 g) in acetonitrile (40 mL) Bromoethane (4.48 mL, 60.0 mmol) was added to the solution. After stirring at room temperature for 13 hours, the solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure. The obtained solid was washed with acetone and collected by filtration to obtain 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1, 2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (3.47 g, 40% overall yield over two steps) was obtained.

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DMSO-d)δ7.33(s,2H),4.82(s,8H),3.53(q,J=7.2Hz,8H),1.27(q,J=7.2Hz,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium dibromide: 1 H-NMR (400 MHz, DMSO- d6 ) δ 7.33 (s, 2H), 4.82 (s, 8H), 3.53 (q, J = 7.2 Hz, 8H), 1.27 (q, J = 7 .2Hz, 12H).

実施例1-15
(2,6-ジヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールの合成)
Examples 1-15
(Synthesis of 2,6-dihexyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole)

Figure 0007249911000058
Figure 0007249911000058

水素化アルミニウムリチウム(3.42g,90.0mmol)とテトラヒドロフラン(150mL)の懸濁液に、N,N’-ジヘキシルピロメリット酸ジイミド(6.19g,15.0mmol)を氷浴下で加え、60℃で7時間撹拌した。反応後、反応液を氷浴で冷却し、水(3.5mL)、15%水酸化ナトリウム水溶液(3.5mL)、水(10.5mL)を順次加えて撹拌した。反応液から析出した固体をろ別し、固体をテトラヒドロフラン及び酢酸エチルで洗浄した。ろ液から溶媒を減圧下で留去して得られた粘稠性液体にジエチルエーテルを加え、析出した固体をろ取することで、白色固体の2,6-ジヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロール(2.15g,収率44%)を得た。 To a suspension of lithium aluminum hydride (3.42 g, 90.0 mmol) and tetrahydrofuran (150 mL), N,N'-dihexylpyromellitic diimide (6.19 g, 15.0 mmol) was added under an ice bath, Stir at 60° C. for 7 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled in an ice bath, water (3.5 mL), 15% aqueous sodium hydroxide solution (3.5 mL) and water (10.5 mL) were sequentially added and stirred. A solid precipitated from the reaction solution was filtered off, and the solid was washed with tetrahydrofuran and ethyl acetate. Diethyl ether was added to the viscous liquid obtained by distilling off the solvent from the filtrate under reduced pressure, and the precipitated solid was collected by filtration to give a white solid of 2,6-dihexyl-1,2,3, 5,6,7-Hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole (2.15 g, 44% yield) was obtained.

2,6-ジヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,CDCl)δ7.00(s,2H),3.86(s,8H),2.68(t,J=7.7Hz,4H),1.57(dt,J=6.9,7.7Hz,4H),1.44~1.23(m,12H),0.90(t,J=6.9Hz,6H)。
(2,2,6,6-テトラヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドの合成)
NMR spectrum of 2,6-dihexyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole: 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ7.00 (s, 2H), 3.86 (s, 8H), 2.68 (t, J = 7.7Hz, 4H), 1.57 (dt, J = 6.9, 7.7Hz, 4H ), 1.44-1.23 (m, 12H), 0.90 (t, J=6.9Hz, 6H).
(Synthesis of 2,2,6,6-tetrahexyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium=dibromide)

Figure 0007249911000059
Figure 0007249911000059

2,6-ジヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロール(1.78g,5.43mmol)のアセトニトリル/トルエン(1:1,10mL)溶液に、1-ブロモヘキサン(1.54mL,11.0mmol)を加えた。100℃で12時間撹拌した。得られた粘稠性液体にクロロホルムを加え、析出した固体をろ取することで、白色固体の2,2,6,6-テトラヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(3.36g,収率94%)を得た。 2,6-dihexyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole (1.78 g, 5.43 mmol) in acetonitrile/toluene ( 1:1, 10 mL) solution, 1-bromohexane (1.54 mL, 11.0 mmol) was added. Stir at 100° C. for 12 hours. Chloroform was added to the resulting viscous liquid, and the precipitated solid was collected by filtration to give 2,2,6,6-tetrahexyl-1,2,3,5,6,7-hexahydro as a white solid. Benzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide (3.36 g, 94% yield) was obtained.

2,2,6,6-テトラヘキシル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DMSO-d)δ7.39(s,2H),4.95(s,8H),3.59~3.41(m,8H),1.72~1.49(m,8H),1.37~1.18(m,24H),0.87(t,J=6.7Hz,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetrahexyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolilium dibromide: 1 H— NMR (400 MHz, DMSO-d 6 ) δ 7.39 (s, 2H), 4.95 (s, 8H), 3.59-3.41 (m, 8H), 1.72-1.49 (m, 8H), 1.37-1.18 (m, 24H), 0.87 (t, J=6.7Hz, 12H).

実施例1-16
(2,6-ビス(トリフルオロアセチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールの合成)
Examples 1-16
(Synthesis of 2,6-bis(trifluoroacetyl)-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole)

Figure 0007249911000060
Figure 0007249911000060

水素化ナトリウム(1.09g,25.0mmol)のN,N-ジメチルホルムアミド(25mL)懸濁液に、トリフルオロアセトアミド(2.83g,25.0mmol)のN,N-ジメチルホルムアミド(25mL)溶液を滴下して室温で1時間撹拌した後、1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(2.24g,5.00mmol)を加えた。室温で24時間撹拌した後、反応液を2M塩酸に注ぎ入れて15分間撹拌した。混合液から析出した固体をろ取し、酢酸エチルで洗浄することで、黄色固体の2,6-ビス(トリフルオロアセチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロール(0.690g,収率39%)を得た。 A suspension of sodium hydride (1.09 g, 25.0 mmol) in N,N-dimethylformamide (25 mL) and a solution of trifluoroacetamide (2.83 g, 25.0 mmol) in N,N-dimethylformamide (25 mL) was added dropwise and stirred at room temperature for 1 hour, then 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (2.24 g, 5.00 mmol) was added. After stirring at room temperature for 24 hours, the reaction was poured into 2M hydrochloric acid and stirred for 15 minutes. The solid precipitated from the mixed solution was collected by filtration and washed with ethyl acetate to give 2,6-bis(trifluoroacetyl)-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1 as a yellow solid. ,2-c:4,5-c′]dipyrrole (0.690 g, 39% yield) was obtained.

2,6-ビス(トリフルオロアセチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロールのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,Acetone-d)δ7.51~7.43(m,2H),5.14(s,4H),4.91(s,4H).19F-NMR(376MHz,Acetone-d)δ-73.4(s,6F)。
(2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドの合成)
NMR spectrum of 2,6-bis(trifluoroacetyl)-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole: 1 H-NMR ( 400 MHz, Acetone-d 6 ) δ 7.51-7.43 (m, 2H), 5.14 (s, 4H), 4.91 (s, 4H). 19 F-NMR (376 MHz, Acetone-d 6 ) δ -73.4 (s, 6F).
(Synthesis of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium=dibromide)

Figure 0007249911000061
Figure 0007249911000061

2,6-ビス(トリフルオロアセチル)-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロール(0.704g,2.00mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,6.8mL)溶液に、ブロモエタン(0.630mL,8.40mmol)、30%水酸化ナトリウム水溶液(1.32mL,10.0mmol)を加え、密栓容器内70℃で18時間撹拌した。反応後、反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣にエタノールを加えて、モレキュラーシーブ4Aで乾燥し、固体をろ別した後、ろ液からエタノールを留去した。得られた固体をアセトンで洗浄し、ろ取することで、白色固体の2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(0.659g,収率76%)を得た。 2,6-bis(trifluoroacetyl)-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrole (0.704 g, 2.00 mmol) of ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 6.8 mL) solution, bromoethane (0.630 mL, 8.40 mmol), 30% aqueous sodium hydroxide solution (1.32 mL, 10.0 mmol) were added, and the mixture was kept in a sealed container at 70°C. and stirred for 18 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and the solvent was distilled off under reduced pressure. Ethanol was added to the obtained residue, and the residue was dried with molecular sieve 4A. After the solid was separated by filtration, the ethanol was distilled off from the filtrate. The resulting solid was washed with acetone and filtered to give 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c as a white solid. : 4,5-c′]dipyrrolinium dibromide (0.659 g, 76% yield) was obtained.

実施例1-17 Examples 1-17

Figure 0007249911000062
Figure 0007249911000062

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミド(216mg,0.497mmol)のメタノール溶液を陰イオン交換樹脂(アンバーライトIRN-78 OH型,30cm)を充填したカラムに通じた後、溶液からメタノールを留去し、2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジヒドロキシドの水溶液(5mL)を得た。これをイオン交換水で希釈し、0.010M塩酸で滴定し、イオン交換率を測定したところ91%のイオン交換率であった。 of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dibromide (216 mg, 0.497 mmol) After the methanol solution was passed through a column packed with an anion exchange resin (Amberlite IRN-78 OH - type, 30 cm 3 ), methanol was distilled off from the solution to give 2,2,6,6-tetraethyl-1,2 ,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dihydroxide (5 mL) was obtained. This was diluted with ion-exchanged water, titrated with 0.010 M hydrochloric acid, and the ion exchange rate was measured to be 91%.

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジヒドロキシドの水溶液のNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.29(s,2H),4.79(s,8H),3.50(q,J=7.3Hz,8H),1.24(q,J=7.3Hz,12H)。 NMR spectrum of an aqueous solution of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium dihydroxide: 1 H-NMR (400 MHz, D O ) δ 7.29 (s, 2H), 4.79 (s, 8H), 3.50 (q, J = 7.3 Hz, 8H), 1.24 (q, J = 7.3Hz, 12H).

参考例1-18 Reference example 1-18

Figure 0007249911000063
Figure 0007249911000063

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(225mg,0.499mmol)のアセトニトリル(11mL)溶液にメタンスルホン酸銀(408mg,2.00mmol)を加え、85℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、固体をろ過して除き、ろ液を濃縮することで、白色固体の1,2,4,5-テトラキス(メタンスルホニルオキシ)メチルベンゼン(255mg,収率>99%)を得た。 Silver methanesulfonate (408 mg, 2.00 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (225 mg, 0.499 mmol) in acetonitrile (11 mL), and the mixture was stirred at 85° C. for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the solid was filtered off, and the filtrate was concentrated to give 1,2,4,5-tetrakis(methanesulfonyloxy)methylbenzene (255 mg, yield >99) as a white solid. %) was obtained.

1,2,4,5-テトラキス(メタンスルホニルオキシ)メチルベンゼンのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.63(s,2H),5.36(s,8H),3.06(s,12H)。 NMR spectrum of 1,2,4,5-tetrakis(methanesulfonyloxy)methylbenzene: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.63 (s, 2H), 5.36 (s, 8H), 3 .06(s, 12H).

参考例1-19 Reference example 1-19

Figure 0007249911000064
Figure 0007249911000064

1,2,4,5-テトラキス(ブロモメチル)ベンゼン(453g,1.01mmol)のアセトニトリル(22mL)溶液にp-トルエンスルホン酸銀(1.18,4.22mmol)を加え、85℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、固体をろ過して除き、ろ液を濃縮することで、白色固体の1,2,4,5-テトラキス(p-トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン(848g,収率>99%)を得た。 Silver p-toluenesulfonate (1.18, 4.22 mmol) was added to a solution of 1,2,4,5-tetrakis(bromomethyl)benzene (453 g, 1.01 mmol) in acetonitrile (22 mL), and the mixture was stirred at 85°C for 2 hours. Stirred. After cooling the reaction solution to room temperature, the solid was removed by filtration, and the filtrate was concentrated to give 1,2,4,5-tetrakis(p-toluenesulfonyloxy)benzene (848 g, yield > 1,2,4,5-tetrakis(p-toluenesulfonyloxy)benzene as a white solid. 99%) was obtained.

1,2,4,5-テトラキス(p-トルエンスルホニルオキシ)ベンゼンのNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.72(brd,J=8.3Hz,8H),7.33(brd,J=8.3Hz,8H),7.09(s,2H),4.94(s,8H),2.45(s,12H)。 NMR spectrum of 1,2,4,5-tetrakis(p-toluenesulfonyloxy)benzene: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.72 (brd, J=8.3 Hz, 8H), 7.33 (brd, J = 8.3 Hz, 8H), 7.09 (s, 2H), 4.94 (s, 8H), 2.45 (s, 12H).

実施例1-20 Example 1-20

Figure 0007249911000065
Figure 0007249911000065

参考例1-1で得た1,2,4,5-テトラキス(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン(119mg,0.233mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,0.76mL)溶液にジエチルアミン(0.10mL,0.96mmol)を加え、70℃で16時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、析出した固体をろ取し、エタノール/テトラヒドロフラン(1:1)混合液で洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ビス(メタンスルホネート)(71.7mg,収率66%)を得た。 Diethylamine (0.10 mL) was added to an ethanol/tetrahydrofuran (1:1, 0.76 mL) solution of 1,2,4,5-tetrakis(methanesulfonyloxy)benzene (119 mg, 0.233 mmol) obtained in Reference Example 1-1. , 0.96 mmol) was added and stirred at 70° C. for 16 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated solid was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol/tetrahydrofuran (1:1) to give 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3 as a white solid. ,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium bis(methanesulfonate) (71.7 mg, 66% yield).

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ビス(メタンスルホネート)のNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.30(s,2H),4.80(s,8H),3.51(q,J=7.1Hz,8H),1.25(t,J=7.1Hz,12H)。 NMR spectrum of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolithium bis(methanesulfonate): 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.30 (s, 2H), 4.80 (s, 8H), 3.51 (q, J = 7.1 Hz, 8H), 1.25 (t, J=7.1Hz, 12H).

実施例1-21 Example 1-21

Figure 0007249911000066
Figure 0007249911000066

参考例1-2で得た1,2,4,5-テトラキス(p-トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン(273mg,0.329mmol)のエタノール/テトラヒドロフラン(1:1,1.0mL)溶液にジエチルアミン(0.14mL,1.35mmol)を加え、75℃で13時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、析出した固体をろ取し、エタノール/テトラヒドロフラン(1:1)混合液で洗浄して、白色固体の2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ビス(p-トルエンスルホネート)(123mg,収率61%)を得た。 Diethylamine (0 .14 mL, 1.35 mmol) was added and stirred at 75° C. for 13 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated solid was collected by filtration and washed with a mixed solution of ethanol/tetrahydrofuran (1:1) to give 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3 as a white solid. ,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium bis(p-toluenesulfonate) (123 mg, 61% yield).

2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ビス(p-トルエンスルホネート)のNMRスペクトル:H-NMR(400MHz,DO)δ7.59(brd,J=8.3Hz,4H),7.29(s,2H),7.28(brd,J=8.3Hz,4H),4.80(s,8H),3.50(q,J=7.2Hz,8H),1.24(t,J=7.1Hz,12H)。 NMR of 2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrolium bis(p-toluenesulfonate) Spectrum: 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) δ 7.59 (brd, J = 8.3 Hz, 4H), 7.29 (s, 2H), 7.28 (brd, J = 8.3 Hz, 4H ), 4.80 (s, 8H), 3.50 (q, J=7.2 Hz, 8H), 1.24 (t, J=7.1 Hz, 12H).

(AFX型ゼオライトの合成)
実施例2-1
実施例1-3で得られた2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジブロミドを構造規定剤(SDA)とし、48%NaOH及びY型ゼオライト(商品名:HSZ-350HUA、東ソー製、シリカ及びアルカリ源)を混合し組成物を得た。得られた組成物の組成を示す。
(Synthesis of AFX-type zeolite)
Example 2-1
2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium obtained in Example 1-3 = Using dibromide as a structure-directing agent (SDA), 48% NaOH and Y-type zeolite (trade name: HSZ-350HUA, manufactured by Tosoh Corporation, silica and alkalinity source) were mixed to obtain a composition. The composition of the resulting composition is shown.

SiO/Al = 11.1
OH/SiO = 0.35
Na/SiO = 0.35
SDA/SiO = 0.10
O/SiO = 25
組成物の種晶含有量が3.0重量%となるように、組成物に種晶AFX型ゼオライトを添加した後、十分に撹拌した。攪拌後の組成物をステンレス製オートクレーブに密閉し、当該オートクレーブを回転させながら、180℃で184時間加熱して生成物を得た。
SiO2 / Al2O3 = 11.1
OH/ SiO2 = 0.35
Na/ SiO2 = 0.35
SDA/ SiO2 = 0.10
H2O / SiO2 = 25
After the seed crystal AFX zeolite was added to the composition, the composition was sufficiently stirred so that the seed crystal content of the composition was 3.0% by weight. The stirred composition was sealed in a stainless steel autoclave and heated at 180° C. for 184 hours while rotating the autoclave to obtain a product.

生成物を濾過、洗浄し、大気中110℃で一晩乾燥させた。生成物はAFX型ゼオライトの単一相であり、SiO/Alは10.9であった。 The product was filtered, washed and dried in air at 110° C. overnight. The product was a single phase of AFX-type zeolite and SiO 2 /Al 2 O 3 was 10.9.

本実施例のAFX型ゼオライトのXRDパターンを図1、SEM観察図を図2に示す。 The XRD pattern of the AFX-type zeolite of this example is shown in FIG. 1, and the SEM observation diagram is shown in FIG.

実施例2-2
実施例1-13で得られた2,2,6,6-テトラエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロベンゾ[1,2-c:4,5-c’]ジピロリウム=ジクロリドを構造規定剤(SDA)として使用したこと以外は実施例2-1と同様の方法で生成物を得、これを濾過、洗浄及び乾燥した。
Example 2-2
2,2,6,6-tetraethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydrobenzo[1,2-c:4,5-c′]dipyrrolinium obtained in Example 1-13= The product was obtained by filtration, washing and drying in the same manner as in Example 2-1, except that a dichloride was used as the structure-directing agent (SDA).

生成物はAFX型ゼオライトの単一相であり、SiO/Alが9.8であった。 The product was a single-phase AFX-type zeolite with a SiO 2 /Al 2 O 3 of 9.8.

本実施例のAFX型ゼオライトのXRDパターンを図3、SEM観察図を図4に示す。 The XRD pattern of the AFX-type zeolite of this example is shown in FIG. 3, and the SEM observation diagram is shown in FIG.

Claims (6)

一般式(1)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。
Figure 0007249911000067
(式中、Xは、同一又は相異なって、水素原子又はハロゲン原子を表し、
、R、R及びRは、各々独立に、炭素数1から10のアルキル基、炭素数1から10のハロアルキル基、又は炭素数6から10のアリール基を表し、これらの置換基は、水酸基、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリール基、炭素数1から6のアルコキシ基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基、炭素数6から10のモノアリールアミノ基及び炭素数12から20のジアリールアミノ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい。
は、同一又は相異なって、ハロゲン化物イオン、RSOで表されるスルホン酸イオン、RCOOで表されるカルボン酸イオン又はOH(水酸化物イオン)を表し、
は、炭素数1から9のアルキル基、炭素数1から9のフルオロアルキル基、又はフェニル基を表し、該フェニル基は、炭素数1から4のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、炭素数1から4のアルコキシ基、炭素数1から4のフルオロアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい。
は、炭素数1から6のアルキル基、炭素数1から4のフルオロアルキル基、又はフェニル基を表し、該フェニル基は、炭素数1から4のアルキル基で置換されていてもよい。)
A hexahydrobenzodipyrrolinium salt represented by the general formula (1).
Figure 0007249911000067
(Wherein, X is the same or different and represents a hydrogen atom or a halogen atom,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and these substituted The group is a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, or a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms. , a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms and a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms.
Y - is the same or different and represents a halide ion, a sulfonate ion represented by R 5 SO 2 O - , a carboxylate ion represented by R 6 COO - or OH - (hydroxide ion). ,
R 5 represents an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or a phenyl group, and the phenyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoro may be substituted with one or more substituents selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group and a nitro group; .
R 6 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, and the phenyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. )
前記一般式(1)におけるYが、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン又は水酸化物イオンである請求項1に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。 Y - in the general formula (1) is chloride ion, bromide ion, iodide ion, benzenesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion or hydroxide ion. A hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to claim 1. 前記一般式(1)におけるXが、水素原子である請求項1又は2に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。 3. The hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to claim 1 or 2, wherein X in the general formula (1) is a hydrogen atom. 前記一般式(1)におけるR、R、R及びRが、各々独立に、炭素数1から6のアルキル基、炭素数6から10のアリールオキシ基、炭素数2から12のジアルキルアミノ基及び炭素数1から6のアルコキシ基からなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい炭素数1から6のアルキル基、又は炭素数1から6のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基である請求項1乃至3のいずれか一項に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, or a dialkyl group having 2 to 12 carbon atoms. an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of an amino group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; The hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to any one of claims 1 to 3, which is an optionally substituted phenyl group. 前記一般式(1)における、R、R、R及びRが、各々独立に、メチル基又はエチル基であり、Yが塩化物イオン又は臭化物イオンである請求項1乃至3のいずれか一項に記載のヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) are each independently a methyl group or an ethyl group, and Y - is a chloride ion or a bromide ion. A hexahydrobenzodipyrrolinium salt according to any one of claims. 請求項1に記載の一般式(1)で表されるヘキサヒドロベンゾジピロリウム塩、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源及び水を含む組成物を結晶化させる結晶化工程、を有することを特徴とするゼオライトの製造方法。 A crystallization step of crystallizing a composition containing the hexahydrobenzodipyrolium salt represented by the general formula (1) according to claim 1, a silica source, an alumina source, an alkali source and water. A method for producing a zeolite.
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