JP7246772B1 - Air supply and exhaust system for gas massage machine and gas massage machine provided with the same - Google Patents

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Abstract

【課題】複数の流路が設けられる場合であっても、構造の簡易化を実現可能な気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機を提供すること。【解決手段】給排気システムは、気体供給装置と、分配用バルブユニットと、メインバルブユニットと、を備える。分配用バルブユニットは、第1チャンバ、第1フリーポート、第1接続ポート、第2接続ポート、第1電磁弁、並びに、第2電磁弁を有する第1部分と、第2チャンバ、第2フリーポート、第3接続ポート、第4接続ポート、第3電磁弁、並びに、第4電磁弁を有する第2部分と、を備える。メインバルブユニットは、第3チャンバを含む第3部分と、第4チャンバを含む第4部分とを有する複数の電磁弁ユニットを備え、第1部分は、第3部分に接続され、第2部分は、第4部分に接続される。【選択図】図3An air supply/exhaust system for a gas massage machine and a gas massage machine having the same, which can realize a simplified structure even when a plurality of flow paths are provided. A supply and exhaust system includes a gas supply device, a distribution valve unit, and a main valve unit. The distribution valve unit includes a first portion having a first chamber, a first free port, a first connection port, a second connection port, a first solenoid valve and a second solenoid valve, a second chamber and a second free port. a port, a third connection port, a fourth connection port, a third solenoid valve, and a second part having a fourth solenoid valve. The main valve unit comprises a plurality of solenoid valve units having a third part containing a third chamber and a fourth part containing a fourth chamber, the first part being connected to the third part and the second part being , is connected to the fourth part. [Selection drawing] Fig. 3

Description

本発明は、気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an air supply/exhaust system for a gas massage machine and a gas massage machine having the same.

疲労回復、血行促進等を目的とするマッサージ機の一種として、圧縮空気の供給及び排出を利用した気体式マッサージ機(エアマッサージ機)が知られている。下記特許文献1には、膨張可能ブラダ(気体室)を含む圧縮ガーメントとの使用のための圧縮システムが開示される。下記特許文献1では、各膨張可能ブラダの開閉を制御する双方向弁の入口ポートと、通気弁の入口ポートとの両方が、同一のマニホールドに接続される。 BACKGROUND ART A gas type massage machine (air massage machine) that utilizes the supply and discharge of compressed air is known as a type of massage machine for the purpose of recovering from fatigue, promoting blood circulation, and the like. US Pat. No. 5,900,001 discloses a compression system for use with a compression garment that includes an inflatable bladder. In US Pat. No. 5,400,001, both the inlet port of the two-way valve that controls the opening and closing of each inflatable bladder and the inlet port of the vent valve are connected to the same manifold.

マッサージ機の動作の一つとして、マッサージ機の所定領域に対して気体を供給すると同時に、当該所定領域とは別の領域から気体を排出することが挙げられる。この場合、複数系統の流路が設けられる必要がある。下記特許文献2には、互いに異なる流路を形成する2つの電磁弁ユニットを備える気体式マッサージ機が開示される。下記特許文献2では、気体給排システムに含まれる各電磁弁ユニットは、マッサージ具の気体室に接続される複数の接続ポートに加えて、給気用ポート及び排気用ポートを有する。 One of the operations of the massager includes supplying gas to a predetermined region of the massager and simultaneously discharging gas from a region other than the predetermined region. In this case, it is necessary to provide a plurality of flow paths. Patent Literature 2 listed below discloses a gas massage machine provided with two electromagnetic valve units forming different flow paths. In Patent Document 2 below, each electromagnetic valve unit included in the gas supply/exhaust system has an air supply port and an air exhaust port in addition to a plurality of connection ports connected to the gas chambers of the massage tool.

特許第6785224号公報Japanese Patent No. 6785224 特願2020-082607号Japanese Patent Application No. 2020-082607

上記特許文献2における各電磁弁ユニットは、各接続ポートの開閉を制御する複数の電磁弁と、給気用ポートの開閉を制御する給気用電磁弁と、排気用ポートの開閉を制御す排気用電磁弁とを有する必要がある。このため、気体式マッサージ機における気体給排システム(特に、各電磁弁ユニットの構造)が複雑になる傾向がある。 Each solenoid valve unit in Patent Document 2 includes a plurality of solenoid valves that control opening and closing of each connection port, an air supply solenoid valve that controls opening and closing of the air supply port, and an exhaust valve that controls opening and closing of the exhaust port. It is necessary to have a solenoid valve for Therefore, the gas supply/exhaust system (particularly, the structure of each solenoid valve unit) in the gas massage machine tends to be complicated.

本発明の目的は、複数の流路が設けられる場合であっても、構造の簡易化を実現可能な気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an air supply/exhaust system for a gas massage machine and a gas massage machine having the same, which can realize a simplified structure even when a plurality of flow paths are provided.

本発明の一側面に係る気体式マッサージ機用給排気システムは、気体供給装置と、気体供給装置に接続される分配用バルブユニットと、分配用バルブユニットに接続されるメインバルブユニットと、を備える。分配用バルブユニットは、第1チャンバ、第1チャンバに接続される第1フリーポート、第1チャンバ及び気体供給装置を接続する第1接続ポート、第1チャンバ及び外部を接続する第2接続ポート、第1接続ポートの開閉を制御する第1電磁弁、並びに、第2接続ポートの開閉を制御する第2電磁弁を有する第1部分と、第1チャンバに対して独立する第2チャンバ、第2チャンバに接続される第2フリーポート、第2チャンバ及び気体供給装置を接続する第3接続ポート、第2チャンバ及び外部を接続する第4接続ポート、第3接続ポートの開閉を制御する第3電磁弁、並びに、第4接続ポートの開閉を制御する第4電磁弁を有する第2部分と、を備え、メインバルブユニットは、第3チャンバ及び少なくとも一つの第5電磁弁を含む第3部分と、第3チャンバに対して独立する第4チャンバ及び少なくとも一つの第6電磁弁を含む第4部分とを有する複数の電磁弁ユニットを備え、第1部分は、複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる第3部分に接続され、第2部分は、複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる第4部分に接続される。 A supply and exhaust system for a gas massage machine according to one aspect of the present invention includes a gas supply device, a distribution valve unit connected to the gas supply device, and a main valve unit connected to the distribution valve unit. . The distribution valve unit includes a first chamber, a first free port connected to the first chamber, a first connection port connecting the first chamber and the gas supply device, a second connection port connecting the first chamber and the outside, A first part having a first solenoid valve that controls opening and closing of the first connection port and a second solenoid valve that controls opening and closing of the second connection port; a second chamber independent of the first chamber; A second free port connected to the chamber, a third connection port connecting the second chamber and the gas supply device, a fourth connection port connecting the second chamber and the outside, and a third electromagnetic for controlling opening and closing of the third connection port. a second part having a valve and a fourth solenoid valve for controlling opening and closing of the fourth connection port, the main valve unit comprising a third part comprising a third chamber and at least one fifth solenoid valve; a plurality of solenoid valve units having a fourth chamber independent of the third chamber and a fourth portion including at least one sixth solenoid valve, wherein the first portion is included in each of the plurality of solenoid valve units It is connected to the third portion, and the second portion is connected to the fourth portion included in each of the plurality of solenoid valve units.

この気体式マッサージ機用給排気システムによれば、分配用バルブユニットに含まれる第1チャンバと第2チャンバとは互いに独立し、メインバルブユニットに含まれる電磁弁ユニットの第3チャンバと第4チャンバとは互いに独立する。また、第1チャンバを含む分配用バルブユニットの第1部分は、第3チャンバを含む電磁弁ユニットの第3部分に接続され、第2チャンバを含む分配用バルブユニットの第2部分は、第4チャンバを含む電磁弁ユニットの第4部分に接続される。このため、上記給排気システムには2系統の流路が設けられるので、例えば、第1部分を介して第3チャンバへの気体供給を実施しつつ、第2部分を介して第4チャンバの気体排出が可能になる。加えて、メインバルブユニットと分配用バルブユニットとが互いに分離されるので、各バルブユニットの構成を簡易化できる。 According to this gas massager air supply/exhaust system, the first and second chambers included in the distribution valve unit are independent of each other, and the third and fourth chambers of the solenoid valve unit included in the main valve unit are independent of each other. are independent of each other. Also, the first portion of the dispensing valve unit including the first chamber is connected to the third portion of the solenoid valve unit including the third chamber, and the second portion of the dispensing valve unit including the second chamber is connected to the fourth It is connected to the fourth part of the solenoid valve unit containing the chamber. For this reason, the air supply/exhaust system is provided with two flow paths, so that, for example, while supplying gas to the third chamber through the first portion, the gas in the fourth chamber is supplied through the second portion. Ejection becomes possible. In addition, since the main valve unit and the distribution valve unit are separated from each other, the configuration of each valve unit can be simplified.

第1電磁弁から第6電磁弁のそれぞれは、2方弁でもよい。この場合、各バルブユニットの構造をより簡易化できる。 Each of the first to sixth solenoid valves may be a two-way valve. In this case, the structure of each valve unit can be simplified.

分配用バルブユニットと、複数の電磁弁ユニットのそれぞれとは、互いに同一構成を有してもよい。この場合、給排気システム内の共通部品点数が多くなるので、コストダウンの実現と共にメンテナンス性を向上できる。 The distribution valve unit and each of the plurality of solenoid valve units may have the same configuration. In this case, since the number of common parts in the air supply/exhaust system increases, it is possible to reduce costs and improve maintainability.

本発明の一側面に係る気体式マッサージ機は、上記給排気システムと、気体供給装置から気体が供給される複数の気体室を有するマッサージ具と、を備え、複数の気体室は、第3部分に接続される第1気体室と、第4部分に接続される第2気体室とを有してもよい。この気体式マッサージ機によれば、給排気システムの制御によって、例えば第1気体室に気体供給しつつ、第2気体室から気体を排出できる。 A gas massage machine according to one aspect of the present invention includes the air supply/exhaust system described above, and a massage tool having a plurality of gas chambers to which gas is supplied from a gas supply device, wherein the plurality of gas chambers includes a third portion and a second gas chamber connected to the fourth portion. According to this gas massage machine, by controlling the air supply/exhaust system, for example, gas can be discharged from the second gas chamber while gas is being supplied to the first gas chamber.

本発明の一側面によれば、複数の流路が設けられる場合であっても、構造の簡易化を実現可能な気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to one aspect of the present invention, it is possible to provide an air supply/exhaust system for a gas massage machine and a gas massage machine including the same, which can achieve structural simplification even when a plurality of flow paths are provided.

図1は、実施形態に係る気体式マッサージ機を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a gas massage machine according to an embodiment. 図2は、マッサージ具を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a massage tool. 図3は、給排気システムの内部を示す概略斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view showing the inside of the air supply/exhaust system. 図4(a)は、分配用バルブユニットを示す斜視図であり、図4(b)は、分配用バルブユニットを示す正面図である。FIG. 4(a) is a perspective view showing a distribution valve unit, and FIG. 4(b) is a front view showing the distribution valve unit. 図5(a)は、図4(b)のVa-Va線に沿った概略断面図であり、図5(b)は、図4(b)のVb-Vb線に沿った概略断面図である。5(a) is a schematic cross-sectional view along line Va-Va in FIG. 4(b), and FIG. 5(b) is a schematic cross-sectional view along line Vb-Vb in FIG. 4(b). be. 図6は、分配用バルブユニットの回路図を示す。FIG. 6 shows a circuit diagram of a distribution valve unit. 図7は、マッサージ具の一部、エアポンプ、分配用バルブユニット、及び1つの電磁弁ユニットの回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of part of the massager, the air pump, the dispensing valve unit and one solenoid valve unit. 図8は、マッサージ具を用いた揉みパターンの例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an example of a kneading pattern using a massage tool. 図9は、マッサージ具を用いた揉みパターンの例を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing an example of a kneading pattern using a massage tool.

以下、添付図面を参照して、本発明の一側面の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Preferred embodiments of one aspect of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same functions, and overlapping descriptions are omitted.

本実施形態の気体式マッサージ機は、高圧気体を使用して被施術者の身体をマッサージする機器である。気体式マッサージ機は、例えば、被施術者の静脈、リンパの滞りを改善し、その流れを促進するなど、身体状態を改善することを目的に、被施術者の身体を「揉む」など、被施術者の身体に刺激を与えるために用いられる。ここで、本明細書において、「高圧気体」は、大気圧より高い気圧を有する気体を指す。本実施形態では、気体は、利便性の観点から、空気である。しかしながら、気体は、特に限定されず、He(ヘリウム)およびN(窒素)などの不活性ガス、ならびにO(酸素)などのその他のガスであってもよい。 The gas massage machine of this embodiment is a device that uses high-pressure gas to massage the body of the person being treated. The pneumatic massage machine is used to "massage" the body of the subject for the purpose of improving the subject's physical condition, for example, by improving the stagnation of the subject's veins and lymph nodes and promoting their flow. Used to stimulate the practitioner's body. As used herein, "high-pressure gas" refers to a gas having a pressure higher than atmospheric pressure. In this embodiment, the gas is air for convenience. However, the gas is not particularly limited, and may be inert gases such as He (helium) and N 2 (nitrogen), and other gases such as O 2 (oxygen).

気体式マッサージ機1は、図1に示されるように、マッサージ具2と、マッサージ具2に接続される給排気システム3とを備える。本実施形態における「接続」は、単なる物理的接続に限定されない。例えば、ホース、チューブ、タンクなどの中間部材を介して2つの装置間を気体、液体などの流体が流れるとき、当該2つの装置は互いに接続する(流体接続する)とみなされる。 The gas massage machine 1 includes a massage tool 2 and an air supply/exhaust system 3 connected to the massage tool 2, as shown in FIG. A "connection" in this embodiment is not limited to a mere physical connection. For example, two devices are considered to be connected (fluidly connected) to each other when a fluid, such as a gas or liquid, flows between them through an intermediate member such as a hose, tube, tank, or the like.

マッサージ具2は、被施術者の身体にマッサージを施すために、身体に装着される器具である。マッサージ具2は、図1に示されるように、ホースHおよびコネクタCを介して給排気システム3(気体式マッサージ機用給排気システム)に接続される。マッサージ具2は、給排気システム3から高圧気体が供給されて膨張し、給排気システム3を介して高圧気体が排出されて収縮する。マッサージ具2は、膨張することで身体を圧迫し、収縮することで身体の圧迫を解除する。マッサージ具2は、身体の圧迫と圧迫解除を繰り返すことで、被施術者の身体をマッサージする。マッサージ具2は、本実施形態では、図2に示されるように、被施術者の身体Bを囲むように装着されて、身体Bの周囲から身体Bを圧迫し、その後その圧迫を解除するように構成される。より具体的には、マッサージ具2は、右足を囲むように装着される第1マッサージ具21と、左足を囲むように装着される第2マッサージ具22とを備えている。 The massage tool 2 is a tool that is worn on the body of the person to be treated in order to massage the body. The massaging device 2 is connected to an air supply/exhaust system 3 (an air supply/exhaust system for a gas massage machine) via a hose H and a connector C, as shown in FIG. The massaging device 2 is supplied with high-pressure gas from the supply/exhaust system 3 to expand, and is contracted by discharging the high-pressure gas through the supply/exhaust system 3 . The massage tool 2 presses the body by expanding and releases the pressure on the body by contracting. The massage tool 2 massages the body of the person to be treated by repeatedly compressing and releasing the body. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the massage tool 2 is attached so as to surround the body B of the person to be treated, presses the body B from the periphery of the body B, and then releases the pressure. configured to More specifically, the massager 2 includes a first massager 21 that surrounds the right leg and a second massager 22 that surrounds the left leg.

第1および第2マッサージ具21、22はそれぞれ、第1および第2ホースH1、H2および第1および第2コネクタC1、C2を介して給排気システム3に接続される。ただし、マッサージ具2は、マッサージする身体Bに対応した形状を有していれば、図示されたような2つに分かれたブーツ形状に限定されない。例えば、左右のいずれか片側のみのブーツ形状であってもよいし、身体Bの下半身全体にマッサージを施すために左右の両足用に一体となったズボン形状を有していてもよいし、身体Bの腰部の周囲にマッサージを施すために半ズボン形状を有していてもよいし、身体Bの上半身全体にマッサージを施すためにシャツ形状を有していてもよい。 The first and second massage tools 21, 22 are connected to the air supply and exhaust system 3 via first and second hoses H1, H2 and first and second connectors C1, C2, respectively. However, as long as the massager 2 has a shape corresponding to the body B to be massaged, it is not limited to the two-part boot shape shown in the figure. For example, only one of the left and right sides may have a boot shape, or the left and right legs may have a trouser shape integrated to massage the entire lower body of the body B. It may have the shape of shorts for massaging around the waist of B, or it may have the shape of a shirt for massaging the entire upper half of body B.

マッサージ具2は、図1および図2に示されるように、高圧気体を受容して膨張し、高圧気体を排出して収縮する気体室211~218,221~228を有している。マッサージ具2は、気体室211~218,221~228が給排気システム3に流体接続されることにより、給排気システム3に流体接続される。また、マッサージ具2は、気体室211~218,221~228が膨張および収縮することにより、膨張および収縮するように構成される。マッサージ具2は、本実施形態では、複数(図示された例では16)の気体室211~218,221~228を有している。マッサージ具2は、気体室211~218,221~228を備えることにより、それぞれに対応する場所毎に膨張および収縮することができる。ただし、マッサージ具2は、膨張して身体Bを圧迫し、収縮して身体Bの圧迫を解除するように構成されていればよく、その目的のために、少なくとも1つの気体室を有していればよい。 As shown in FIGS. 1 and 2, the massage tool 2 has gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 which receive high pressure gas to expand and discharge high pressure gas to contract. The massage tool 2 is fluidly connected to the air supply/exhaust system 3 by fluidly connecting the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 to the air supply/exhaust system 3 . The massaging device 2 is configured to expand and contract as the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 expand and contract. The massage tool 2 has a plurality (16 in the illustrated example) of gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 in this embodiment. The massage tool 2 is provided with gas chambers 211 to 218 and 221 to 228, so that it can be inflated and contracted for each corresponding location. However, the massage device 2 may be configured to expand to compress the body B and contract to release the compression of the body B. For that purpose, it has at least one gas chamber. All you have to do is

気体室211~218,221~228はそれぞれ、図2に示されるように、マッサージ対象となる身体Bのそれぞれの部位に対応するように設けられている。マッサージ具2は、本実施形態では、図2に示されるように、第1マッサージ具21および第2マッサージ具22用にそれぞれ、連続して設けられた気体室211~218,221~228を備えている。気体室211~218,221~228は、足先に対応する部位に設けられた気体室211,221から、上腿部に対応する部位に設けられた気体室218,228に向かって、順に配置されている。なお、マッサージ具2は、マッサージする身体Bの部位に応じて、また実施するマッサージの制御モードに応じて気体室の配置や数を適宜設定することが可能である。 As shown in FIG. 2, the gas chambers 211-218 and 221-228 are provided corresponding to respective parts of the body B to be massaged. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the massage tool 2 includes gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 that are continuously provided for the first massage tool 21 and the second massage tool 22, respectively. ing. The gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 are arranged in order from the gas chambers 211 and 221 provided in the regions corresponding to the toes toward the gas chambers 218 and 228 provided in the regions corresponding to the upper thighs. It is The massager 2 can appropriately set the arrangement and number of gas chambers according to the part of the body B to be massaged and according to the control mode of the massage to be performed.

気体室211~218,221~228はそれぞれ、マッサージ対象となる身体Bの部位を囲むように、略筒状の袋体として形成される。気体室211~218,221~228はそれぞれ、膨張して身体Bの対応部位を圧迫し、収縮して身体Bの対応部位の圧迫を解除できるような大きさに形成される。気体室211~218,221~228の形状および大きさは、装着される身体Bの部位に応じて適宜決定することができる。また、気体室211~218,221~228は、高圧気体を蓄える気密性を有し、高圧気体の受容および排出によって変形可能であれば、特に限定されなく、例えば樹脂材料によって形成される。樹脂部材は、例えば弾性を有してもよい。 Each of the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 is formed as a substantially cylindrical bag body so as to surround the part of the body B to be massaged. Each of the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 is sized so that it can be inflated to press the corresponding part of the body B and contracted to release the pressure on the corresponding part of the body B. As shown in FIG. The shape and size of the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 can be appropriately determined according to the part of the body B on which they are worn. Moreover, the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 are not particularly limited as long as they have airtightness to store high pressure gas and can be deformed by receiving and discharging the high pressure gas, and are made of, for example, a resin material. The resin member may have elasticity, for example.

給排気システム3は、少なくとも1つの気体室211~218,221~228に高圧気体を供給し、少なくとも1つの気体室211~218,221~228から高圧気体を排出する。給排気システム3は、図1に示されるように、気体供給装置4と、気体供給装置4に接続される分配用バルブユニット5と、分配用バルブユニット5に接続されるメインバルブユニット6と、気体供給装置4、分配用バルブユニット5、及びメインバルブユニット6を制御する制御装置7とを有する。メインバルブユニット6は、第1マッサージ具21及び第2マッサージ具22に接続される。給排気システム3には、例えば動作モード(後述する揉みパターンなど)を表示する表示部などが設けられ得る。 The supply/exhaust system 3 supplies high-pressure gas to at least one gas chamber 211-218, 221-228 and discharges high-pressure gas from at least one gas chamber 211-218, 221-228. As shown in FIG. 1, the supply/exhaust system 3 includes a gas supply device 4, a distribution valve unit 5 connected to the gas supply device 4, a main valve unit 6 connected to the distribution valve unit 5, It has a control device 7 for controlling the gas supply device 4 , the distribution valve unit 5 , and the main valve unit 6 . The main valve unit 6 is connected to the first massager 21 and the second massager 22 . The air supply/exhaust system 3 may be provided with, for example, a display unit that displays an operation mode (such as a kneading pattern to be described later).

図3は、給排気システムの内部を示す概略斜視図である。図3に示されるように、気体供給装置4と、分配用バルブユニット5と、メインバルブユニット6とは、筐体30上に載置される。筐体30は、図示しない蓋体と組み合わされることによって、給排気システム3の内部を保護する箱として機能する。 FIG. 3 is a schematic perspective view showing the inside of the air supply/exhaust system. As shown in FIG. 3 , the gas supply device 4 , distribution valve unit 5 and main valve unit 6 are mounted on a housing 30 . The housing 30 functions as a box that protects the inside of the air supply/exhaust system 3 by being combined with a lid (not shown).

気体供給装置4は、分配用バルブユニット5に高圧気体を供給する装置である。気体供給装置4は、例えば、高圧気体を送出するポンプ、バルブの開放によって高圧気体が噴出するボンベなどを備え得る。平面視にて、気体供給装置4は、方向Xに沿ってメインバルブユニット6と並び、方向Xに直交する方向Yに沿って分配用バルブユニット5と並ぶ。以下では、方向Xは前後方向とも称され、方向Yは左右方向とも称される。加えて、方向X及び方向Yに直交する方向Zは上下方向とも称される。 The gas supply device 4 is a device that supplies high-pressure gas to the distribution valve unit 5 . The gas supply device 4 can include, for example, a pump that delivers high-pressure gas, a cylinder that ejects high-pressure gas when a valve is opened, and the like. In plan view, the gas supply device 4 is aligned with the main valve unit 6 along the direction X, and is aligned with the distribution valve unit 5 along the direction Y orthogonal to the direction X. As shown in FIG. In the following, the direction X is also referred to as the front-rear direction and the direction Y is also referred to as the left-right direction. In addition, the direction Z, orthogonal to the directions X and Y, is also referred to as the up-down direction.

気体供給装置4は、本体4aと、本体4aから外部へ気体を供給する供給口4b(図7参照)と、吸入口4c(図7参照)を備える。供給口4bは、分配用バルブユニット5に接続される。例えば、気体供給装置4は、供給口4bと、分配用バルブユニット5とを介してメインバルブユニット6へ気体を供給する。このとき、気体供給装置4は、吸入口4cを介して外部から気体を吸入する。 The gas supply device 4 includes a main body 4a, a supply port 4b (see FIG. 7) for supplying gas from the main body 4a to the outside, and a suction port 4c (see FIG. 7). The supply port 4 b is connected to the distribution valve unit 5 . For example, the gas supply device 4 supplies gas to the main valve unit 6 via the supply port 4 b and the distribution valve unit 5 . At this time, the gas supply device 4 sucks the gas from the outside through the suction port 4c.

図4(a)は、分配用バルブユニットを示す斜視図であり、図4(b)は、分配用バルブユニットを示す正面図である。図5(a)は、図4(b)のVa-Va線に沿った概略断面図であり、図5(b)は、図4(b)のVb-Vb線に沿った概略断面図である。図6は、分配用バルブユニットの回路図を示す。図3、図4(a),(b)、図5(a),(b)及び図6に示される分配用バルブユニット5は、メインバルブユニット6への高圧気体の供給と、メインバルブユニット6からの気体の吸入とを制御する装置である。分配用バルブユニット5は、例えば、気体供給装置4とメインバルブユニット6との間の流路を、気体供給装置4からメインバルブユニット6へ気体が供給される流路などに切り替える装置である。分配用バルブユニット5は、気体供給装置4よりも下流に位置し、メインバルブユニット6よりも上流に位置する。 FIG. 4(a) is a perspective view showing a distribution valve unit, and FIG. 4(b) is a front view showing the distribution valve unit. 5(a) is a schematic cross-sectional view along line Va-Va in FIG. 4(b), and FIG. 5(b) is a schematic cross-sectional view along line Vb-Vb in FIG. 4(b). be. FIG. 6 shows a circuit diagram of a distribution valve unit. 3, 4(a), 4(b), 5(a), 5(b) and 6, the distribution valve unit 5 supplies high pressure gas to the main valve unit 6 and 6 is a device that controls gas intake. The distribution valve unit 5 is, for example, a device that switches a channel between the gas supply device 4 and the main valve unit 6 to a channel for supplying gas from the gas supply device 4 to the main valve unit 6 . The distribution valve unit 5 is located downstream of the gas supply device 4 and upstream of the main valve unit 6 .

分配用バルブユニット5は、本体部50、第1フリーポートFP1、第2フリーポートFP2、第1接続ポートP1、第2接続ポートP2、第3接続ポートP3、及び第4接続ポートP4、第1開閉機構51、及び第2開閉機構52を有する。 The distribution valve unit 5 includes a body portion 50, a first free port FP1, a second free port FP2, a first connection port P1, a second connection port P2, a third connection port P3, a fourth connection port P4, a first It has an opening/closing mechanism 51 and a second opening/closing mechanism 52 .

本体部50は、第1部材50a及び第2部材50bと、第1部材50aと第2部材50bとの間に位置するシール部材50cとを有する。第1部材50aは、本体部50における主要部であって、第1フリーポートFP1、第2フリーポートFP2、第1開閉機構51及び第2開閉機構52が設けられる。図示しないが、第1部材50aにおいて第2部材50bに対向する部分には窪みが設けられ、当該窪みには第1フリーポートFP1と第2フリーポートFP2とが連通する。第2部材50bは、本体部50における蓋部であって、第1接続ポートP1、第2接続ポートP2、第3接続ポートP3、及び第4接続ポートP4が設けられる。シール部材50cは、第1部材50aと第2部材50bとの気密性を付与する部材である。 The body portion 50 has a first member 50a, a second member 50b, and a seal member 50c positioned between the first member 50a and the second member 50b. The first member 50a is a main part of the main body 50, and is provided with a first free port FP1, a second free port FP2, a first opening/closing mechanism 51, and a second opening/closing mechanism 52. As shown in FIG. Although not shown, a depression is provided in a portion of the first member 50a facing the second member 50b, and the depression communicates with the first free port FP1 and the second free port FP2. The second member 50b is a lid portion of the body portion 50, and is provided with a first connection port P1, a second connection port P2, a third connection port P3, and a fourth connection port P4. The seal member 50c is a member that provides airtightness between the first member 50a and the second member 50b.

第1部材50a、第2部材50b、及びシール部材50cは、例えば、図示しない公知の固定手段(嵌合、ネジ止めなど)により互いに固定される。第1部材50aおよび第2部材50bは、高圧気体による押圧力、電磁弁によるポートの開閉に伴う押圧力に対して変形が抑制され得るような剛性を有していればよい。第1部材50aおよび第2部材50bのそれぞれは、例えば、樹脂材料、セラミック材料、金属材料などにより形成される。シール部材50cは、例えば環状の樹脂部材などである。 The first member 50a, the second member 50b, and the sealing member 50c are fixed to each other, for example, by known fixing means (fitting, screwing, etc.) not shown. The first member 50a and the second member 50b only need to have such rigidity that deformation can be suppressed against the pressing force due to the high-pressure gas and the pressing force due to the opening and closing of the port by the electromagnetic valve. Each of the first member 50a and the second member 50b is made of, for example, a resin material, a ceramic material, a metal material, or the like. The seal member 50c is, for example, an annular resin member.

分配用バルブユニット5は、方向Yに沿って並ぶ第1部分5aと第2部分5bとを有する。第1部分5aと第2部分5bとは、互いに独立している。すなわち、第1部分5aの内部空間と、第2部分5bの内部空間とは、互いに仕切られている。このため、第1部分5aに流入する気体は、第2部分5bに直接的に流入しない。換言すると、分配用バルブユニット5内にて、第1部分5a内の気体と、第2部分5b内の気体とは、互いに混合されない。 The distribution valve unit 5 has a first portion 5a and a second portion 5b aligned along the Y direction. The first portion 5a and the second portion 5b are independent of each other. That is, the internal space of the first portion 5a and the internal space of the second portion 5b are separated from each other. Therefore, the gas flowing into the first portion 5a does not directly flow into the second portion 5b. In other words, in the distribution valve unit 5 the gas in the first portion 5a and the gas in the second portion 5b are not mixed with each other.

第1部分5aは、チャンバCA1(第1チャンバ)、チャンバCA1及びメインバルブユニット6に接続される第1フリーポートFP1、気体供給装置4の供給口4bに接続される第1接続ポートP1、外部に接続される第2接続ポートP2、並びに、第1接続ポートP1の開閉及び第2接続ポートP2の開閉を制御する第1開閉機構51を有する。第2部分5bは、チャンバCA1とは異なるチャンバCA2(第2チャンバ)、チャンバCA2及びメインバルブユニット6に接続される第2フリーポートFP2、気体供給装置4の供給口4bに接続される第3接続ポートP3、外部に接続される第4接続ポートP4、並びに、第3接続ポートP3の開閉及び第4接続ポートP4の開閉を制御する第2開閉機構52を有する。なお、分配用バルブユニット5の外部は、例えば、給排気システム3の外気である。 The first portion 5a includes a chamber CA1 (first chamber), a first free port FP1 connected to the chamber CA1 and the main valve unit 6, a first connection port P1 connected to the supply port 4b of the gas supply device 4, an external and a first opening/closing mechanism 51 for controlling opening/closing of the first connection port P1 and opening/closing of the second connection port P2. The second portion 5b includes a chamber CA2 (second chamber) different from the chamber CA1, a second free port FP2 connected to the chamber CA2 and the main valve unit 6, and a third port FP2 connected to the supply port 4b of the gas supply device 4. It has a connection port P3, a fourth connection port P4 connected to the outside, and a second opening/closing mechanism 52 that controls opening/closing of the third connection port P3 and opening/closing of the fourth connection port P4. The outside of the distribution valve unit 5 is, for example, the outside air of the supply/exhaust system 3 .

図5(a)に示されるように、チャンバCA1は、第1部分5aに設けられる内部空間であり、第1フリーポートFP1、第1接続ポートP1、及び第2接続ポートP2に連通する。チャンバCA1に流入する気体は、第1接続ポートP1を介して気体供給装置4から供給され、第1フリーポートFP1を介してメインバルブユニット6に供給される。もしくは、当該気体は、第2接続ポートP2を介して外部に排出される。 As shown in FIG. 5(a), the chamber CA1 is an internal space provided in the first portion 5a and communicates with the first free port FP1, the first connection port P1, and the second connection port P2. The gas flowing into the chamber CA1 is supplied from the gas supply device 4 through the first connection port P1 and supplied to the main valve unit 6 through the first free port FP1. Alternatively, the gas is discharged to the outside through the second connection port P2.

第1フリーポートFP1は、方向Xにおいて給排気システム3の後側に向かって延在するポートであり、チャンバCA1に接続される。第1フリーポートFP1は、例えば、チューブ、タンクなどを介してメインバルブユニット6に接続される。第1接続ポートP1と第2接続ポートP2とのそれぞれは、方向Zにおいて給排気システム3の底側に向かって延在するポートである。第1接続ポートP1は、チャンバCA1及び気体供給装置4を接続する部分であり、第2接続ポートP2は、チャンバCA1及び外部を接続する部分である。 The first free port FP1 is a port extending toward the rear side of the air supply/exhaust system 3 in the direction X and is connected to the chamber CA1. The first free port FP1 is connected to the main valve unit 6 via, for example, a tube, a tank, or the like. Each of the first connection port P1 and the second connection port P2 is a port extending in direction Z toward the bottom side of the air supply and exhaust system 3 . The first connection port P1 is a portion that connects the chamber CA1 and the gas supply device 4, and the second connection port P2 is a portion that connects the chamber CA1 and the outside.

図5(b)に示されるチャンバCA2は、第2部分5bに設けられる内部空間であり、第2フリーポートFP2、第3接続ポートP3、及び第4接続ポートP4に連通する。チャンバCA2は、チャンバCA1とは独立しており、チャンバCA1と略同一形状を有する。チャンバCA2に流入する気体は、第3接続ポートP3を介して気体供給装置4から供給され、第2フリーポートFP2を介してメインバルブユニット6に供給される。もしくは、当該気体は、第4接続ポートP4を介して外部に排出される。 The chamber CA2 shown in FIG. 5(b) is an internal space provided in the second portion 5b and communicates with the second free port FP2, the third connection port P3, and the fourth connection port P4. Chamber CA2 is independent of chamber CA1 and has substantially the same shape as chamber CA1. The gas flowing into the chamber CA2 is supplied from the gas supply device 4 through the third connection port P3 and supplied to the main valve unit 6 through the second free port FP2. Alternatively, the gas is discharged to the outside through the fourth connection port P4.

第2フリーポートFP2は、方向Xにおいて給排気システム3の後側に向かって延在するポートであり、チャンバCA2に接続される。第2フリーポートFP2は、例えば、チューブ、タンクなどを介してメインバルブユニット6に接続される。第3接続ポートP3と第4接続ポートP4とのそれぞれは、方向Zにおいて給排気システム3の底側に向かって延在するポートである。第3接続ポートP3は、チャンバCA2及び気体供給装置4を接続する部分であり、第4接続ポートP4は、チャンバCA2及び外部を接続する部分である。 The second free port FP2 is a port extending toward the rear side of the air supply/exhaust system 3 in the direction X and is connected to the chamber CA2. The second free port FP2 is connected to the main valve unit 6 via, for example, a tube, a tank, or the like. Each of the third connection port P3 and the fourth connection port P4 is a port extending toward the bottom side of the air supply and exhaust system 3 in the direction Z. The third connection port P3 is a portion that connects the chamber CA2 and the gas supply device 4, and the fourth connection port P4 is a portion that connects the chamber CA2 and the outside.

第1開閉機構51は、第1部分5aのチャンバCA1に流入される気体の流路を切り替える機構であり、第1接続ポートP1を開閉するための第1電磁弁V1と、第2接続ポートP2を開閉するための第2電磁弁V2とを有する。第1電磁弁V1は、電気で駆動することによって第1接続ポートP1を開閉する二方弁である。第2電磁弁V2は、電気で駆動することによって第2接続ポートP2を開閉する二方弁である。本実施形態では、第1電磁弁V1と第2電磁弁V2とは、互いに同一構造を有する。 The first opening/closing mechanism 51 is a mechanism for switching the flow path of the gas flowing into the chamber CA1 of the first portion 5a. and a second electromagnetic valve V2 for opening and closing the . The first solenoid valve V1 is a two-way valve that opens and closes the first connection port P1 by being electrically driven. The second solenoid valve V2 is a two-way valve that opens and closes the second connection port P2 by being electrically driven. In this embodiment, the first solenoid valve V1 and the second solenoid valve V2 have the same structure.

第2開閉機構52は、第2部分5bのチャンバCA2に流入される気体の流路を切り替える機構である。図6に示されるように、第2開閉機構52は、第3接続ポートP3を開閉するための第3電磁弁V3と、第4接続ポートP4を開閉するための第4電磁弁V4とを有する。本実施形態では、第3電磁弁V3及び第4電磁弁V4のそれぞれは、第1電磁弁V1と同一構造を有する二方弁である。このため、以下では第1電磁弁V1の構造について説明し、第2電磁弁V2、第3電磁弁V3、及び第4電磁弁V4の説明を割愛する。 The second opening/closing mechanism 52 is a mechanism for switching the flow path of the gas flowing into the chamber CA2 of the second portion 5b. As shown in FIG. 6, the second opening/closing mechanism 52 has a third solenoid valve V3 for opening and closing the third connection port P3 and a fourth solenoid valve V4 for opening and closing the fourth connection port P4. . In this embodiment, each of the third solenoid valve V3 and the fourth solenoid valve V4 is a two-way valve having the same structure as the first solenoid valve V1. Therefore, the structure of the first solenoid valve V1 will be described below, and the description of the second solenoid valve V2, the third solenoid valve V3, and the fourth solenoid valve V4 will be omitted.

第1電磁弁V1は、弁座Vaと、弁体Vbと、電磁石Vcと、付勢体Vdとを有する。弁座Vaは、開閉対象となる第1接続ポートP1に隣接しており、弁体Vbが当接可能に設けられる部分である。弁座Vaは、弁体Vbが当接された際に第1接続ポートP1が閉鎖されるように形成される。弁座Vaは、例えば、弁体Vbに向かって延在する略円筒台形状を有する。 The first solenoid valve V1 has a valve seat Va, a valve body Vb, an electromagnet Vc, and a biasing body Vd. The valve seat Va is adjacent to the first connection port P1 to be opened and closed, and is a portion provided so that the valve body Vb can come into contact therewith. The valve seat Va is formed such that the first connection port P1 is closed when the valve body Vb is brought into contact therewith. The valve seat Va has, for example, a substantially cylindrical truncated shape extending toward the valve body Vb.

弁体Vbは、弁座Vaと共働して、第1接続ポートP1を開閉する部分であり、方向Zに沿って延在する棒状部分である。弁体Vbは、例えば、弁座Vaに当接する位置と、弁座Vaを露出させる位置との間で動作する。弁体Vbは、電磁石Vcの電磁力および付勢体Vdの付勢力によって、方向Zに沿って移動可能である。弁体Vbは、電磁石Vcの電磁力によって駆動されるように、鉄などの磁性体を含んでいる。弁座Vaに当接する弁体Vbの先端部は、ゴムなどの弾性体によって構成されてもよい。この場合、弁体Vbの先端部が弁座Vaに当接する際に、弁体Vbの先端部が弁座Vaの形状に追従して変形できる。これにより、弁座Vaと弁体Vbとが良好に密着する。 The valve body Vb is a portion that opens and closes the first connection port P1 in cooperation with the valve seat Va, and is a rod-shaped portion that extends along the direction Z. As shown in FIG. The valve body Vb moves, for example, between a position in contact with the valve seat Va and a position in which the valve seat Va is exposed. The valve body Vb is movable along the direction Z by the electromagnetic force of the electromagnet Vc and the biasing force of the biasing body Vd. The valve body Vb contains a magnetic material such as iron so as to be driven by the electromagnetic force of the electromagnet Vc. The tip of the valve body Vb that contacts the valve seat Va may be made of an elastic material such as rubber. In this case, when the tip of the valve body Vb comes into contact with the valve seat Va, the tip of the valve body Vb can deform to follow the shape of the valve seat Va. As a result, the valve seat Va and the valve body Vb are brought into close contact with each other.

電磁石Vcは、電力が供給されることによって、弁体Vbに電磁力を印加する。電磁石Vcは、本実施形態では、電力が供給された際に、弁座Vaから離間する方向に弁体Vbを付勢する電磁力を弁体Vbに印加することができるように構成される。しかし、電磁石Vcは、電力が供給された際に、弁座Vaに向かって弁体Vbを付勢する電磁力を弁体Vbに印加することができるように構成されてもよい。電磁石Vcは、特に限定されることはないが、構造の簡易性の観点から、弁体Vbを内部に収容する円筒状のソレノイドコイルを採用することができる。 The electromagnet Vc applies an electromagnetic force to the valve body Vb by being supplied with electric power. In this embodiment, the electromagnet Vc is configured to apply an electromagnetic force to the valve body Vb to urge the valve body Vb in a direction away from the valve seat Va when power is supplied. However, the electromagnet Vc may be configured to apply an electromagnetic force to the valve body Vb to urge the valve body Vb toward the valve seat Va when power is supplied. The electromagnet Vc is not particularly limited, but from the viewpoint of structural simplicity, a cylindrical solenoid coil that accommodates the valve body Vb inside can be adopted.

付勢体Vdは、第1接続ポートP1の開状態もしくは閉状態を維持するために、弁体Vbを所定の方向に付勢する。付勢体Vdは、例えば、上記閉状態を維持するために、弁体Vbを弁座Vaに向かって付勢する。この場合は、第1電磁弁V1は、電力が供給されないときに閉状態が維持される常時閉弁となる。付勢体Vdは、上記開状態を維持するために、弁体Vbを弁座Vaから離間する方向に付勢してもよい。この場合は、第1電磁弁V1は、電力が供給されないときに開状態が維持される常時開弁となる。付勢体Vdは、弁体Vbを所定の方向に付勢することができれば、特に限定されることはなく、公知のバネなどであればよい。 The biasing body Vd biases the valve body Vb in a predetermined direction to maintain the open state or closed state of the first connection port P1. The biasing body Vd biases the valve body Vb toward the valve seat Va, for example, to maintain the closed state. In this case, the first electromagnetic valve V1 is a normally closed valve that remains closed when power is not supplied. The biasing body Vd may bias the valve body Vb in the direction away from the valve seat Va in order to maintain the open state. In this case, the first solenoid valve V1 is a normally open valve that is kept open when power is not supplied. The biasing body Vd is not particularly limited as long as it can bias the valve body Vb in a predetermined direction, and a known spring or the like may be used.

図3に戻って、メインバルブユニット6は、分配用バルブユニット5と連動して、マッサージ具2の気体室211~218,221~228のそれぞれに高圧気体を供給する流路と、マッサージ具2の気体室211~218,221~228のそれぞれから高圧気体を排出する流路とを切り替える装置である。本実施形態では、メインバルブユニット6は、4つの電磁弁ユニット61~64を有する。電磁弁ユニット61~64は、方向Yに沿って順に並ぶ装置であり、少なくとも1つの電磁弁を有する。 Returning to FIG. 3, the main valve unit 6 interlocks with the distribution valve unit 5 to supply high-pressure gas to the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 of the massage tool 2, respectively. 218, 221 to 228, respectively. In this embodiment, the main valve unit 6 has four solenoid valve units 61-64. The solenoid valve units 61 to 64 are devices arranged in order along the direction Y and have at least one solenoid valve.

本実施形態では、電磁弁ユニット61~64のそれぞれは、分配用バルブユニット5と同一構造を有する。このため、電磁弁ユニット61~64のそれぞれは、2つのチャンバ(第3チャンバ及び第4チャンバ)と、2つのフリーポートと、4つの接続ポートと、4つの電磁弁(第5電磁弁及び第6電磁弁)とを有する。電磁弁ユニット61~64のそれぞれにおいて、各フリーポートは方向Zにおいて筐体30の底側に向かって延在するポートであり、各接続ポートは方向Xにおいて筐体30の前側に向かって延在するポートである。このため方向Xにおいて、当該各接続ポートと、分配用バルブユニット5の第1フリーポートFP1及び第2フリーポートFP2とは、互いに反対側に延在する。 In this embodiment, each of the solenoid valve units 61 to 64 has the same structure as the distributing valve unit 5 . For this reason, each of the solenoid valve units 61 to 64 includes two chambers (third and fourth chambers), two free ports, four connection ports, and four solenoid valves (fifth and fourth solenoid valves). 6 solenoid valve). In each of the solenoid valve units 61 to 64, each free port is a port extending toward the bottom side of the housing 30 in the direction Z, and each connection port is a port extending toward the front side of the housing 30 in the direction X. It is a port that Therefore, in the direction X, each connection port and the first free port FP1 and the second free port FP2 of the distribution valve unit 5 extend opposite to each other.

図7は、マッサージ具の一部、気体供給装置、分配用バルブユニット、及び1つの電磁弁ユニットの回路図である。図7に示されるように、分配用バルブユニット5には、互いに異なる流路R1,R2が設けられる。流路R1と気体供給装置4との接続は第1電磁弁V1の開閉によって制御され、流路R2と気体供給装置4との接続は第3電磁弁V3の開閉によって制御される。このため、第1電磁弁V1と第3電磁弁V3とを制御することによって、流路R1,R2は、互いに独立可能になっている。例えば、第1電磁弁V1を開放しつつ第3電磁弁V3を閉塞することによって、気体供給装置4は、流路R1のみに気体を供給できる。このとき、第4電磁弁V4を開放することにより、流路R1に気体を供給しつつ、流路R2内の気体を第4接続ポートP4を介して外部に排出できる。また、第3電磁弁V3を開放しつつ第1電磁弁V1を閉塞することによって、気体供給装置4は、流路R2のみに気体を供給できる。このとき、第2電磁弁V2を開放することにより、流路R2に気体を供給しつつ、流路R1内の気体を第2接続ポートP2を介して外部に排出できる。なお、流路R1,R2のそれぞれには、気圧計などが設けられ得る。 FIG. 7 is a circuit diagram of part of the massage tool, the gas supply device, the distribution valve unit and one solenoid valve unit. As shown in FIG. 7, the distribution valve unit 5 is provided with flow paths R1 and R2 different from each other. The connection between the flow path R1 and the gas supply device 4 is controlled by opening and closing the first solenoid valve V1, and the connection between the flow path R2 and the gas supply device 4 is controlled by opening and closing the third solenoid valve V3. Therefore, by controlling the first solenoid valve V1 and the third solenoid valve V3, the flow paths R1 and R2 can be independent of each other. For example, by closing the third electromagnetic valve V3 while opening the first electromagnetic valve V1, the gas supply device 4 can supply the gas only to the flow path R1. At this time, by opening the fourth solenoid valve V4, the gas in the flow path R2 can be discharged to the outside through the fourth connection port P4 while supplying the gas to the flow path R1. Further, by closing the first electromagnetic valve V1 while opening the third electromagnetic valve V3, the gas supply device 4 can supply the gas only to the flow path R2. At this time, by opening the second electromagnetic valve V2, the gas in the flow path R1 can be discharged to the outside through the second connection port P2 while supplying the gas to the flow path R2. A barometer or the like may be provided in each of the flow paths R1 and R2.

メインバルブユニット6に含まれる電磁弁ユニット61は、一方のチャンバ(第3部分)、フリーポートFP3、接続ポートP11,P12、及び電磁弁V11,V12(第5電磁弁)を含む部分61a(第3部分)と、他方のチャンバ(第4チャンバ)、フリーポートFP4、接続ポートP13,P14、及び電磁弁V13,V14(第6電磁弁)を含む部分61b(第4部分)とを有する。部分61a,61bのそれぞれには、内部空間であるチャンバが設けられる。 A solenoid valve unit 61 included in the main valve unit 6 includes a portion 61a (second and a portion 61b (fourth portion) including the other chamber (fourth chamber), free port FP4, connection ports P13 and P14, and solenoid valves V13 and V14 (sixth solenoid valve). Each of the portions 61a and 61b is provided with a chamber, which is an internal space.

分配用バルブユニット5の第1部分5aは、電磁弁ユニット61の部分61aに接続され、分配用バルブユニット5の第2部分5bは、電磁弁ユニット61の部分61bに接続される。具体的には、フリーポートFP3は分配用バルブユニット5の第1フリーポートFP1に接続され、フリーポートFP4は分配用バルブユニット5の第2フリーポートFP2に接続される。このため、部分61aは流路R1の一部を構成し、部分61bは流路R2の一部を構成すると言える。本実施形態では、電磁弁ユニット61の部分61aに相当する電磁弁ユニット62~64の各部分は第1部分5aに接続され、電磁弁ユニット61の部分61bに相当する電磁弁ユニット62~64の各部分は第2部分5bに接続される。 The first portion 5a of the distribution valve unit 5 is connected to the portion 61a of the solenoid valve unit 61, and the second portion 5b of the distribution valve unit 5 is connected to the portion 61b of the solenoid valve unit 61. As shown in FIG. Specifically, the free port FP3 is connected to the first free port FP1 of the valve unit 5 for distribution, and the free port FP4 is connected to the second free port FP2 of the valve unit 5 for distribution. Therefore, it can be said that the portion 61a constitutes a part of the flow path R1 and the portion 61b constitutes a part of the flow path R2. In this embodiment, each portion of the solenoid valve units 62 to 64 corresponding to the portion 61a of the solenoid valve unit 61 is connected to the first portion 5a, and the portions of the solenoid valve units 62 to 64 corresponding to the portion 61b of the solenoid valve unit 61 are connected to the first portion 5a. Each part is connected to the second part 5b.

本実施形態では、電磁弁ユニット61は、第1マッサージ具21と第2マッサージ具22との両方に接続される。図7に示されるように、電磁弁ユニット61において、接続ポートP11,P12は気体室211,221(第1気体室)にそれぞれ接続され、接続ポートP13,P14は気体室213,223(第2気体室)にそれぞれ接続される。気体室211,221への気体供給もしくは気体室211,221からの気体排出は、電磁弁V11,V12によってそれぞれ制御される。気体室213,223への気体供給もしくは気体室213,223からの気体排出は、電磁弁V13,V14によってそれぞれ制御される。 In this embodiment, the solenoid valve unit 61 is connected to both the first massager 21 and the second massager 22 . As shown in FIG. 7, in the electromagnetic valve unit 61, connection ports P11 and P12 are connected to gas chambers 211 and 221 (first gas chambers), respectively, and connection ports P13 and P14 are connected to gas chambers 213 and 223 (second gas chambers). gas chamber). Gas supply to gas chambers 211 and 221 or gas discharge from gas chambers 211 and 221 is controlled by solenoid valves V11 and V12, respectively. Gas supply to gas chambers 213, 223 or gas discharge from gas chambers 213, 223 is controlled by solenoid valves V13, V14, respectively.

本実施形態では、電磁弁ユニット62~64のそれぞれは、電磁弁ユニット61と同様に、第1マッサージ具21と第2マッサージ具22との両方に接続される。例えば、電磁弁ユニット62に含まれる接続ポートP15~P18(図3を参照)は、気体室212,222,214,224にそれぞれ接続される。同様に、電磁弁ユニット63に含まれる接続ポートP21~P24(図3を参照)は、気体室215,225,217,227にそれぞれ接続され、電磁弁ユニット64に含まれる接続ポートP25~P28(図3を参照)は、気体室216,226,218,228にそれぞれ接続される。接続ポートP11~18,P21~28のそれぞれの開閉は、対応する電磁弁(不図示)によって制御される。なお、接続ポートP15,P16,P21,P22,P25,P26は流路R1に接続され、接続ポートP17,P18,P23,P24,P27,P28は流路R2に接続される。 In this embodiment, each of the solenoid valve units 62 to 64 is connected to both the first massage tool 21 and the second massage tool 22, like the solenoid valve unit 61. For example, the connection ports P15-P18 (see FIG. 3) included in the electromagnetic valve unit 62 are connected to the gas chambers 212, 222, 214 and 224, respectively. Similarly, the connection ports P21 to P24 (see FIG. 3) included in the solenoid valve unit 63 are connected to the gas chambers 215, 225, 217 and 227 respectively, and the connection ports P25 to P28 included in the solenoid valve unit 64 ( 3) are connected to gas chambers 216, 226, 218 and 228, respectively. The opening/closing of each of the connection ports P11-18 and P21-28 is controlled by corresponding electromagnetic valves (not shown). The connection ports P15, P16, P21, P22, P25 and P26 are connected to the flow path R1, and the connection ports P17, P18, P23, P24, P27 and P28 are connected to the flow path R2.

マッサージ具2、気体供給装置4、分配用バルブユニット5、及びメインバルブユニット6が上記回路構成を有することによって、例えば、流路R1を介して気体室211,221の少なくとも一つに気体を供給しつつ、流路R2を介して気体室213,223の少なくとも一つから気体を排出できる。もしくは、流路R2を介して気体室213,223の少なくとも一つに気体を供給しつつ、流路R1を介して気体室211,221の少なくとも一つから気体を排出できる。 The massaging tool 2, the gas supply device 4, the distribution valve unit 5, and the main valve unit 6 have the above-described circuit configuration, so that gas can be supplied to at least one of the gas chambers 211 and 221 via the flow path R1, for example. At the same time, the gas can be discharged from at least one of the gas chambers 213 and 223 through the flow path R2. Alternatively, gas can be discharged from at least one of the gas chambers 211 and 221 via the flow path R1 while supplying the gas to at least one of the gas chambers 213 and 223 via the flow path R2.

以下では、図7を参照しながら給排気システム3による気体室211,213,221,223への気体供給の一例を説明する。まず、気体供給装置4による気体供給中、第1電磁弁V1を開放すると共に第2電磁弁V2及び第3電磁弁V3を閉塞することによって、流路R1へ選択的に気体が供給される。このとき、電磁弁V11を開放すると共に電磁弁V12を閉塞することによって、気体室211へ選択的に気体が供給される。続いて、電磁弁V12を開放すると共に電磁弁V11を閉塞することによって、気体室221へ選択的に気体が供給される。続いて、第3電磁弁V3を開放すると共に第1電磁弁V1及び第4電磁弁V4を閉塞することによって、流路R2へ選択的に気体が供給される。このとき、電磁弁V13を開放すると共に電磁弁V14を閉塞することによって、気体室213へ選択的に気体が供給される。続いて、電磁弁V14を開放すると共に電磁弁V13を閉塞することによって、気体室223へ選択的に気体が供給される。 An example of gas supply to the gas chambers 211, 213, 221, and 223 by the air supply/exhaust system 3 will be described below with reference to FIG. First, gas is selectively supplied to the flow path R1 by opening the first solenoid valve V1 and closing the second solenoid valve V2 and the third solenoid valve V3 while the gas supply device 4 is supplying gas. At this time, the gas is selectively supplied to the gas chamber 211 by opening the solenoid valve V11 and closing the solenoid valve V12. Subsequently, the gas is selectively supplied to the gas chamber 221 by opening the solenoid valve V12 and closing the solenoid valve V11. Subsequently, gas is selectively supplied to the flow path R2 by opening the third solenoid valve V3 and closing the first solenoid valve V1 and the fourth solenoid valve V4. At this time, the gas is selectively supplied to the gas chamber 213 by opening the solenoid valve V13 and closing the solenoid valve V14. Subsequently, the gas is selectively supplied to the gas chamber 223 by opening the solenoid valve V14 and closing the solenoid valve V13.

なお、流路R1に気体が供給されるとき、電磁弁V11,V12の両方を開放することによって、気体室211,221の両方に同時に気体が供給される。また、上述したように、接続ポートP15,P16,P21,P22,P25,P26は流路R1に接続される。このため、例えば、流路R1への気体供給中、接続ポートP15の開閉を制御する電磁弁を開放することによって、気体室212に気体が供給される。また、流路R1への気体供給中、電磁弁V11に加えて接続ポートP15の開閉を制御する電磁弁を開放することによって、気体室211,212の両方に気体が供給される。流路R2も同様である。 When the gas is supplied to the flow path R1, the gas is simultaneously supplied to both the gas chambers 211 and 221 by opening both the solenoid valves V11 and V12. Also, as described above, the connection ports P15, P16, P21, P22, P25, and P26 are connected to the flow path R1. Therefore, for example, gas is supplied to the gas chamber 212 by opening an electromagnetic valve that controls opening and closing of the connection port P15 during gas supply to the flow path R1. Further, gas is supplied to both the gas chambers 211 and 212 by opening the solenoid valve for controlling opening and closing of the connection port P15 in addition to the solenoid valve V11 during gas supply to the flow path R1. The same applies to the flow path R2.

以下では、図7を参照しながら、気体室211,213,221,223からの排気の一例を説明する。まず、第1電磁弁V1を閉塞すると共に第2電磁弁V2を開放することによって、分配用バルブユニット5のチャンバCA1が外部に接続される。このとき、電磁弁V11を開放すると共に電磁弁V12を閉塞することによって、気体室211が選択的に排気される。続いて、電磁弁V11を開放すると共に電磁弁V12を閉塞することによって、気体室221が選択的に排気される。続いて、第3電磁弁V3を閉塞すると共に第4電磁弁V4を開放することによって、分配用バルブユニット5のチャンバCA2が外部に接続される。このとき、電磁弁V13を開放すると共に電磁弁V14を閉塞することによって、気体室213が選択的に排気される。続いて、電磁弁V14を開放すると共に電磁弁V13を閉塞することによって、気体室223が選択的に排気される。 An example of evacuation from the gas chambers 211, 213, 221, and 223 will be described below with reference to FIG. First, by closing the first solenoid valve V1 and opening the second solenoid valve V2, the chamber CA1 of the distribution valve unit 5 is connected to the outside. At this time, the gas chamber 211 is selectively exhausted by opening the solenoid valve V11 and closing the solenoid valve V12. Subsequently, the gas chamber 221 is selectively evacuated by opening the solenoid valve V11 and closing the solenoid valve V12. Subsequently, by closing the third solenoid valve V3 and opening the fourth solenoid valve V4, the chamber CA2 of the distribution valve unit 5 is connected to the outside. At this time, the gas chamber 213 is selectively exhausted by opening the solenoid valve V13 and closing the solenoid valve V14. Subsequently, the gas chamber 223 is selectively evacuated by opening the solenoid valve V14 and closing the solenoid valve V13.

なお、分配用バルブユニット5のチャンバCA1が外部に接続されるとき、電磁弁V11,V12の両方を開放することによって、気体室211,221の両方が同時に排気される。また、上述したように、接続ポートP15,P16,P21,P22,P25,P26は流路R1に接続される。このため、例えば、分配用バルブユニット5のチャンバCA1が外部に接続されるとき、電磁弁V11,V12だけでなく接続ポートP15,P16,P21,P22,P25,P26の開閉を制御する電磁弁を開放することによって、気体室211,212,215,216,221,222,225,226が同時に排気される。また、気体室213,214,217,218,223,224,227,228も同様に排気可能である。 When the chamber CA1 of the distribution valve unit 5 is connected to the outside, both the gas chambers 211 and 221 are simultaneously evacuated by opening both the solenoid valves V11 and V12. Also, as described above, the connection ports P15, P16, P21, P22, P25, and P26 are connected to the flow path R1. For this reason, for example, when the chamber CA1 of the distribution valve unit 5 is connected to the outside, not only the solenoid valves V11 and V12 but also the solenoid valves for controlling the opening/closing of the connection ports P15, P16, P21, P22, P25 and P26 are provided. By opening, the gas chambers 211, 212, 215, 216, 221, 222, 225, 226 are evacuated simultaneously. Gas chambers 213, 214, 217, 218, 223, 224, 227 and 228 can also be evacuated in the same manner.

以下では、上述した気体室211~218,221~228への気体供給の説明と、上述した気体室211~218,221~228からの気体排出の説明とに基づいて、気体室211~218,221~228に対する気体供給及び気体排出の具体例の一つを説明する。まず、気体室211~218,221~228の全てが収縮している状態において、流路R1へ選択的に気体が供給されるように、気体供給装置4による気体供給を実施する。すなわち、分配用バルブユニット5において第1電磁弁V1のみを開放した後、気体供給装置4による気体供給を実施する。続いて、電磁弁V11,V12,V15,V16,V21,V22,V25,V26のうち電磁弁V11,V12のみを開放する。これにより、気体室211,221に気体を供給し、気体室211,221を膨張させる。続いて、電磁弁V11,V12を閉塞して気体室211,221の膨張状態を維持すると共に、電磁弁V15,V16を開放する。これにより、気体室212,222に気体を供給し、気体室212,222を膨張させる。 In the following, the gas chambers 211 to 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, 218, and A specific example of gas supply and gas discharge for 221-228 will be described. First, in a state in which all of the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 are contracted, gas is supplied by the gas supply device 4 so that the gas is selectively supplied to the flow path R1. That is, after opening only the first electromagnetic valve V1 in the distribution valve unit 5, the gas supply device 4 performs gas supply. Subsequently, among the solenoid valves V11, V12, V15, V16, V21, V22, V25 and V26, only the solenoid valves V11 and V12 are opened. Thereby, the gas is supplied to the gas chambers 211 and 221 and the gas chambers 211 and 221 are expanded. Subsequently, the solenoid valves V11 and V12 are closed to maintain the expanded state of the gas chambers 211 and 221, and the solenoid valves V15 and V16 are opened. Thereby, the gas is supplied to the gas chambers 212 and 222 and the gas chambers 212 and 222 are expanded.

続いて、電磁弁V15,V16を閉塞して気体室212,222の膨張状態を維持しつつ、流路R2へ選択的に気体が供給されるように、気体供給装置4による気体供給を実施する。すなわち、第1電磁弁V1を閉塞して第3電磁弁V3を開放する。続いて、電磁弁V13,V14,V17,V18,V23,V24,V27,V28のうち電磁弁V13,V14のみを開放する。これにより、気体室213,223に気体を供給し、気体室213,223を膨張させる。ここで、第2電磁弁V2及び電磁弁V11,V12を開放することによって、気体室211,221から気体を排出する。このため、気体室213,223に気体を供給しつつ、気体室211,221から気体が排出される。続いて、電磁弁V13,V14を閉塞して気体室213,223の膨張状態を維持すると共に、電磁弁V17,V18を開放する。これにより、気体室214,224に気体を供給し、気体室212,222を膨張させる。ここで、電磁弁V13,V14も開放することによって、気体室212,222から気体を排出する。このため、気体室214,224に気体を供給しつつ、気体室212,222から気体が排出される。このとき、場合によっては、気体室211,221からも引き続き気体が排出される。 Subsequently, while the solenoid valves V15 and V16 are closed to maintain the expanded state of the gas chambers 212 and 222, the gas supply device 4 performs gas supply so that the gas is selectively supplied to the flow path R2. . That is, the first solenoid valve V1 is closed and the third solenoid valve V3 is opened. Subsequently, only the solenoid valves V13 and V14 among the solenoid valves V13, V14, V17, V18, V23, V24, V27 and V28 are opened. Thereby, the gas is supplied to the gas chambers 213 and 223 and the gas chambers 213 and 223 are expanded. Here, gas is discharged from the gas chambers 211 and 221 by opening the second solenoid valve V2 and the solenoid valves V11 and V12. Therefore, the gas is discharged from the gas chambers 211 and 221 while supplying the gas to the gas chambers 213 and 223 . Subsequently, the solenoid valves V13 and V14 are closed to maintain the expanded state of the gas chambers 213 and 223, and the solenoid valves V17 and V18 are opened. Thereby, the gas is supplied to the gas chambers 214 and 224 and the gas chambers 212 and 222 are expanded. Here, the gas is discharged from the gas chambers 212 and 222 by also opening the electromagnetic valves V13 and V14. Therefore, the gas is discharged from the gas chambers 212 and 222 while supplying the gas to the gas chambers 214 and 224 . At this time, depending on the case, the gas is continuously discharged from the gas chambers 211 and 221 as well.

上記動作に加えて、電磁弁V21~V28とを電磁弁V11~V18と同様に動作させることによって、例えば、流路R1に接続される気体室215,225に気体を供給しつつ、流路R2に接続される気体室213,223から気体が排出される。このような動作を実施することによって、気体室211~218と気体室221~228とのそれぞれが、順に膨張、収縮を繰り返すことができる。 In addition to the above operation, by operating the solenoid valves V21 to V28 in the same manner as the solenoid valves V11 to V18, for example, while supplying gas to the gas chambers 215 and 225 connected to the flow path R1, the flow path R2 Gas is discharged from gas chambers 213 and 223 connected to . By performing such operations, each of the gas chambers 211 to 218 and the gas chambers 221 to 228 can repeat expansion and contraction in order.

図3に戻って、給排気システム3が備える制御装置7は、気体供給装置4、分配用バルブユニット5及びメインバルブユニット6の動作を制御する装置である。制御装置7は、例えば、CPU(Central Processing Unit)と、RAM(Random Access Memory)と、ROM(Read-Only Memory)とを備えている。制御装置7は、例えば、ROMに格納されている制御プログラムを実行することができるように構成されている。制御プログラムは、例えば、気体室211~218,221~228を膨張および収縮させる所望の順番に基づいて、気体供給装置4、分配用バルブユニット5及びメインバルブユニット6を動作させるように記述されている。制御装置7は、給排気システム3の筐体30内に設けられてもよいし、筐体30の外部に設けられてもよい。 Returning to FIG. 3 , the control device 7 provided in the air supply/exhaust system 3 is a device that controls the operations of the gas supply device 4 , the distribution valve unit 5 and the main valve unit 6 . The control device 7 includes, for example, a CPU (Central Processing Unit), a RAM (Random Access Memory), and a ROM (Read-Only Memory). The control device 7 is configured, for example, to be able to execute a control program stored in a ROM. The control program is written to operate the gas supply device 4, the distribution valve unit 5, and the main valve unit 6, for example, based on the desired order of expansion and contraction of the gas chambers 211-218, 221-228. there is The control device 7 may be provided inside the housing 30 of the air supply/exhaust system 3 or may be provided outside the housing 30 .

次に、本実施形態の気体式マッサージ機1の動作を、図8及び図9を参照しながら説明する。図8及び図9のそれぞれは、マッサージ具を用いた揉みパターンの例を示す図である。本明細書では、マッサージ具2の気体室211~218,221~228に高圧気体を供給し、または気体室211~218,221~228から高圧気体を排出することにより、気体室211~218,221~228を膨張または収縮させる順序を「揉みパターン」と呼ぶ。なお、以下に示す気体式マッサージ機1の動作はあくまで一例である。 Next, the operation of the gas massage machine 1 of this embodiment will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 and 9 are diagrams showing examples of kneading patterns using a massage tool. In this specification, by supplying high-pressure gas to the gas chambers 211-218, 221-228 of the massage tool 2 or discharging high-pressure gas from the gas chambers 211-218, 221-228, the gas chambers 211-218, The order of expansion or contraction of 221-228 is called a "kneading pattern". It should be noted that the operation of the gas massage machine 1 described below is merely an example.

血液および/またはリンパ液の流れを良くするために身体にマッサージを施す場合、四肢の先端部から胴体に向かう順番で身体を圧迫していくことがある。これに対応するマッサージ具2による揉みパターンとして、図2及び図8に示されるように、気体室211から気体室218まで順に膨張させ、気体室221から気体室228まで順に膨張させ、膨張させた気体室211~218,221~228の膨張状態を保持した後に(膨張させた気体室211~218,221~228を一旦保圧した後に)、膨張させた順に気体室211~218,221~228を収縮させるような揉みパターンが考えられる。本明細書では、図8に示される揉みパターンのモードおよびこれに類する揉みパターンのモードを「ウェーブモード(wave-mode)」と呼ぶ。また、図2及び図9に示されるように、気体室211,221から気体室218,228まで順に気体室211~218,221~228を膨張させ、気体室218,228を膨張させ終わるまで、気体室211~217,221~227の膨張を保持するような揉みパターンが考えられる。本明細書では、図9に示される揉みパターンのモードおよびこれに類する揉みパターンのモードを「スクイーズモード(squeeze-mode)」と呼ぶ。 When massaging the body to improve blood and/or lymph flow, the body may be compressed in order from the extremities to the torso. As a kneading pattern by the massage tool 2 corresponding to this, as shown in FIGS. After maintaining the inflated state of the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 (after once holding the pressure in the inflated gas chambers 211 to 218 and 221 to 228), the gas chambers 211 to 218 and 221 to 228 are inflated in order. A kneading pattern that causes contraction can be considered. The mode of the kneading pattern shown in FIG. 8 and similar kneading pattern modes are referred to herein as "wave-modes." Further, as shown in FIGS. 2 and 9, the gas chambers 211, 221 to 218, 228 are sequentially inflated, and until the gas chambers 218, 228 are completely inflated, A kneading pattern that keeps the gas chambers 211-217 and 221-227 inflated is conceivable. The mode of the kneading pattern shown in FIG. 9 and similar kneading patterns are referred to herein as "squeeze-modes."

ウェーブモードにおける給排気システム3の動作の具体例と、スクイーズモードにおける給排気システム3の動作の具体例とのそれぞれは、例えば特願2020-082607号に記載される。なお、制御装置7は、上述したウェーブモード及びスクイーズモードに限らず、分配用バルブユニット5及びメインバルブユニット6を制御することによって、さまざまな揉みパターンを実施可能である。 A specific example of the operation of the air supply/exhaust system 3 in the wave mode and a specific example of the operation of the air supply/exhaust system 3 in the squeeze mode are described, for example, in Japanese Patent Application No. 2020-082607. The control device 7 can implement various kneading patterns by controlling the distribution valve unit 5 and the main valve unit 6 in addition to the wave mode and squeeze mode described above.

以上に説明した本実施形態に係る給排気システム3を備える気体式マッサージ機1によれば、分配用バルブユニット5に含まれるチャンバCA1とチャンバCA2とは互いに独立し、メインバルブユニット6に含まれる電磁弁ユニット61の2つのチャンバは互いに独立する。また、チャンバCA1を含む分配用バルブユニット5の第1部分5aは、一方のチャンバを含む電磁弁ユニット61の部分61aに接続され、チャンバCA2を含む分配用バルブユニット5の第2部分5bは、他方のチャンバを含む電磁弁ユニット61の部分61bに接続される。このため、給排気システム3には2系統の流路R1,R2が設けられるので、例えば、第1部分5aを介して一方のチャンバへの気体供給を実施しつつ、第2部分5bを介して他方のチャンバの気体排出が可能になる。加えて、メインバルブユニット6と分配用バルブユニット5とが互いに分離されるので、各バルブユニットの構成を簡易化できる。これにより、メインバルブユニット6を小型化できるので、例えば筐体30を小型化でき、結果として給排気システム3の小型化も図ることができる。 According to the gas massage machine 1 having the air supply/exhaust system 3 according to the present embodiment described above, the chambers CA1 and CA2 included in the distribution valve unit 5 are independent of each other and included in the main valve unit 6. The two chambers of solenoid valve unit 61 are independent of each other. Also, the first portion 5a of the distribution valve unit 5 including the chamber CA1 is connected to the portion 61a of the solenoid valve unit 61 including one chamber, and the second portion 5b of the distribution valve unit 5 including the chamber CA2 is connected to It is connected to the part 61b of the solenoid valve unit 61 containing the other chamber. For this reason, the air supply/exhaust system 3 is provided with two flow paths R1 and R2, so that, for example, gas is supplied to one of the chambers through the first portion 5a while gas is supplied through the second portion 5b. Evacuation of the other chamber is enabled. In addition, since the main valve unit 6 and the distribution valve unit 5 are separated from each other, the configuration of each valve unit can be simplified. As a result, the size of the main valve unit 6 can be reduced, so that, for example, the housing 30 can be made smaller, and as a result, the size of the air supply/exhaust system 3 can also be reduced.

本実施形態では、第1電磁弁V1から第4電磁弁V4と、電磁弁V11,V12とのそれぞれは、2方弁である。このため、分配用バルブユニット5とメインバルブユニット6との構造をより簡易化できる。 In this embodiment, each of the first to fourth solenoid valves V1 to V4 and the solenoid valves V11 and V12 is a two-way valve. Therefore, the structures of the distribution valve unit 5 and the main valve unit 6 can be simplified.

本実施形態では、分配用バルブユニット5と、電磁弁ユニット61~64のそれぞれとは、互いに同一構成を有する。このため、給排気システム3内の共通部品点数が多くなるので、コストダウンの実現と共にメンテナンス性を向上できる。 In this embodiment, the distribution valve unit 5 and each of the solenoid valve units 61 to 64 have the same configuration. As a result, the number of common parts in the air supply/exhaust system 3 is increased, so that cost reduction can be realized and maintainability can be improved.

本発明に係る気体式マッサージ機用給排気システム及びそれを備える気体式マッサージ機は、上記実施形態に限定されず、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態では、メインバルブユニットは4つの電磁弁ユニットを有するが、これに限られない。電磁弁ユニットの数は、マッサージ具に含まれる気体室の数によって定められてもよい。 The air supply/exhaust system for a gas massage machine and the gas massage machine provided with the same according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various other modifications are possible. For example, in the above embodiment, the main valve unit has four solenoid valve units, but it is not limited to this. The number of solenoid valve units may be determined by the number of gas chambers included in the massage tool.

上記実施形態では、分配用バルブユニットと電磁弁ユニットとは互いに同一形状を有するが、これに限られない。 In the above embodiment, the distribution valve unit and the electromagnetic valve unit have the same shape, but this is not the only option.

上記実施形態では、複数の電磁弁ユニットのそれぞれは、第1マッサージ具と第2マッサージ具との両方に接続されるが、これに限られない。例えば、一部の電磁弁ユニットの一部は第1マッサージ具のみに接続され、その他の電磁弁ユニットは第2マッサージ具のみに接続されてもよい。もしくは、一部の電磁弁ユニットは第1マッサージ具のみに接続され、別の一部の電磁弁ユニットは第2マッサージ具のみに接続され、さらに別の電磁弁ユニットは第1マッサージ具と第2マッサージ具との両方に接続されてもよい。 In the above embodiment, each of the plurality of solenoid valve units is connected to both the first massager and the second massager, but the present invention is not limited to this. For example, some electromagnetic valve units may be connected only to the first massager, and other electromagnetic valve units may be connected only to the second massager. Alternatively, some electromagnetic valve units are connected only to the first massager, some electromagnetic valve units are connected only to the second massager, and yet another electromagnetic valve unit is connected to the first massager and the second massager. It may be connected to both the massage tool.

上記実施形態では、各電磁弁ユニットの各接続ポートは、対応する1つの気体室に接続されるが、これに限られない。例えば、各接続ポートは、2つ以上の気体室に接続されてもよい。この場合、1つの接続ポートは、第1マッサージ具の1つの空気室と、第2マッサージ具の1つの空気室との両方に設けられてもよい。この場合であっても、上記実施形態と同様の動作が可能である。 In the above embodiments, each connection port of each solenoid valve unit is connected to one corresponding gas chamber, but the present invention is not limited to this. For example, each connection port may be connected to two or more gas chambers. In this case, one connection port may be provided in both one air chamber of the first massager and one air chamber of the second massager. Even in this case, the same operation as in the above embodiment is possible.

上記実施形態では、複数の電磁弁ユニットのそれぞれにおいて、一方の部分に含まれる2つの接続ポートのうち、一方の接続ポートは第1マッサージ具に接続され、他方の接続ポートは第2マッサージ具に接続されるが、これに限られない。例えば、一方の部分は第1マッサージ具及び第2マッサージ具の一方に接続され、他方の部分は第1マッサージ具及び第2マッサージ具の他方に接続されてもよい。 In the above embodiment, in each of the plurality of solenoid valve units, one of the two connection ports included in one portion is connected to the first massager, and the other connection port is connected to the second massager. Connected, but not limited to. For example, one portion may be connected to one of the first massage device and the second massage device, and the other portion may be connected to the other of the first massage device and the second massage device.

1…気体式マッサージ機、2…マッサージ具、3…給排気システム(気体式マッサージ機用給排気システム)、4…気体供給装置、4b…供給口、4c…吸入口、5…分配用バルブユニット、5a…第1部分、5b…第2部分、6…メインバルブユニット、7…制御装置、21…第1マッサージ具、22…第2マッサージ具、30…筐体、51…第1開閉機構、52…第2開閉機構、61~64…電磁弁ユニット、61a…部分(第3部分)、61b…部分(第2部分)、211~218,221~228…気体室、CA1…チャンバ(第1チャンバ)、CA2…チャンバ(第2チャンバ)、FP1…第1フリーポート、FP2…第2フリーポート、FP3,FP4…フリーポート、P1…第1接続ポート、P2…第2接続ポート、P3…第3接続ポート、P4…第4接続ポート、V1…第1電磁弁、V2…第2電磁弁、V3…第3電磁弁、V4…第4電磁弁、V11,V12…電磁弁(第5電磁弁)、V13,V14…電磁弁(第6電磁弁)。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Gas type massage machine, 2... Massage tool, 3... Air supply/exhaust system (air supply/exhaust system for gas type massage machine), 4... Gas supply device, 4b... Supply port, 4c... Inhalation port, 5... Distribution valve unit , 5a... first part, 5b... second part, 6... main valve unit, 7... control device, 21... first massage tool, 22... second massage tool, 30... housing, 51... first opening/closing mechanism, 52... Second opening/closing mechanism 61-64... Solenoid valve unit 61a... Part (third part) 61b... Part (second part) 211-218, 221-228... Gas chamber CA1... Chamber (first chamber), CA2... chamber (second chamber), FP1... first free port, FP2... second free port, FP3, FP4... free port, P1... first connection port, P2... second connection port, P3... second 3 connection ports, P4... fourth connection port, V1... first solenoid valve, V2... second solenoid valve, V3... third solenoid valve, V4... fourth solenoid valve, V11, V12... solenoid valve (fifth solenoid valve ), V13, V14... Solenoid valve (sixth solenoid valve).

Claims (5)

気体供給装置と、
前記気体供給装置に接続される分配用バルブユニットと、
前記分配用バルブユニットに接続されるメインバルブユニットと、
を備え、
前記分配用バルブユニットは、
第1チャンバ、前記第1チャンバに接続される第1フリーポート、前記第1チャンバ及び前記気体供給装置を接続する第1接続ポート、前記第1チャンバ及び外部を接続する第2接続ポート、前記第1接続ポートの開閉を制御する第1電磁弁、並びに、前記第2接続ポートの開閉を制御する第2電磁弁を有する第1部分と、
前記第1チャンバに対して独立する第2チャンバ、前記第2チャンバに接続される第2フリーポート、前記第2チャンバ及び前記気体供給装置を接続する第3接続ポート、前記第2チャンバ及び外部を接続する第4接続ポート、前記第3接続ポートの開閉を制御する第3電磁弁、並びに、前記第4接続ポートの開閉を制御する第4電磁弁を有する第2部分と、を備え、
前記メインバルブユニットは、第3チャンバ、前記第3チャンバに接続される第3フリーポート、及び少なくとも一つの第5電磁弁を含む第3部分と、前記第3チャンバに対して独立する第4チャンバ、前記第4チャンバに接続される第4フリーポート、及び少なくとも一つの第6電磁弁を含む第4部分とを有する複数の電磁弁ユニットを備え、
前記第1部分の前記第1フリーポートは、前記複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる前記第3部分の前記第3フリーポートに接続され、
前記第2部分の前記第2フリーポートは、前記複数の電磁弁ユニットのそれぞれに含まれる前記第4部分の前記第4フリーポートに接続される、
気体式マッサージ機用給排気システム。
a gas supply device;
a distribution valve unit connected to the gas supply device;
a main valve unit connected to the distribution valve unit;
with
The distribution valve unit is
a first chamber, a first free port connected to the first chamber, a first connection port connecting the first chamber and the gas supply device, a second connection port connecting the first chamber and the outside, the second a first portion having a first solenoid valve for controlling opening/closing of one connection port and a second solenoid valve for controlling opening/closing of the second connection port;
a second chamber independent of the first chamber, a second free port connected to the second chamber, a third connection port connecting the second chamber and the gas supply device, and connecting the second chamber and the outside a connecting fourth connection port, a third solenoid valve for controlling opening and closing of the third connection port, and a second portion having a fourth solenoid valve for controlling opening and closing of the fourth connection port,
The main valve unit includes a third portion including a third chamber , a third free port connected to the third chamber, and at least one fifth solenoid valve, and a fourth chamber independent of the third chamber. , a fourth free port connected to the fourth chamber, and a fourth portion including at least one sixth solenoid valve;
the first free port of the first portion is connected to the third free port of the third portion included in each of the plurality of solenoid valve units;
The second free port of the second portion is connected to the fourth free port of the fourth portion included in each of the plurality of solenoid valve units,
Air supply and exhaust system for gas massage machine.
前記第1電磁弁から前記第6電磁弁のそれぞれは、2方弁である、請求項1に記載の気体式マッサージ機用給排気システム。 2. The air supply/exhaust system for a gas massage machine according to claim 1, wherein each of said first to sixth electromagnetic valves is a two-way valve. 前記第1部分と前記第2部分とは、互いに同一構造を有する、請求項1または2に記載の気体式マッサージ機用給排気システム。 3. The air supply/exhaust system for a gas massage machine according to claim 1, wherein said first portion and said second portion have the same structure. 前記分配用バルブユニットと、前記複数の電磁弁ユニットのそれぞれとは、互いに同一構成を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の気体式マッサージ機用給排気システム。 4. The air supply/exhaust system for a gas massage machine according to claim 1, wherein said distribution valve unit and each of said plurality of electromagnetic valve units have the same configuration. 請求項1~4のいずれか一項に記載の気体式マッサージ機用給排気システムと、
前記気体供給装置から気体が供給される複数の気体室を有するマッサージ具と、
を備え、
前記第3部分は、前記第5電磁弁によって開閉が制御されると共に前記第3チャンバに接続される接続ポートを有し、
前記第4部分は、前記第6電磁弁によって開閉が制御されると共に前記第4チャンバに接続される接続ポートを有し、
前記複数の気体室は、前記第3部分の前記接続ポートに接続される第1気体室と、前記第4部分の前記接続ポートに接続される第2気体室とを有する、
気体式マッサージ機。
The air supply and exhaust system for a gas massage machine according to any one of claims 1 to 4;
a massage tool having a plurality of gas chambers to which gas is supplied from the gas supply device;
with
The third portion has a connection port whose opening and closing is controlled by the fifth solenoid valve and is connected to the third chamber,
The fourth part has a connection port whose opening and closing is controlled by the sixth solenoid valve and is connected to the fourth chamber,
The plurality of gas chambers have a first gas chamber connected to the connection port of the third portion and a second gas chamber connected to the connection port of the fourth portion,
gas massager.
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