JP7233980B2 - 粒子計測方法及び検出液 - Google Patents
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Description
LSLPC1は、フローセル2、光源3、集光レンズ4、光電変換器5及び算出部6を含む。
フローセル2の流路2a内には検出液7が流れる。光源3はレーザー素子(不図示)を含み、当該レーザー素子から発生したレーザー光(照射光)8aは、流路2a内を流れる検出液7に照射される。本実施形態では、レーザー素子は半導体励起固体レーザー素子であり、レーザー光8の波長は532nmである。検出液7中に粒子が存在する場合、レーザー光8aは粒子で散乱される。レーザー光8aを照射した検出液7からの散乱光8bは集光レンズ4により光電変換器5に集光される。光電変換器5は、集光された散乱光8bを光電変換により電気信号に変換する。本実施形態では、光電変換器5は、光電変換素子であるフォトダイオードを含む。
まず、フローセル2の流路2a内にサリチル酸メチル液を含む検出液7を流す(ステップS1)。検出液7は、例えば、後述する図9及び図10に示される液中粒子計測システム20のパーツ27を通った後にLSLPC1内のフローセル2の流路2a内を流れる。
次に、光電変換器5を用いて散乱光8bを光電変換により電気信号に変換する(ステップS3)。
その後、上記電気信号に基づいて検出液7中に含まれる粒子を算出部6により計測する(ステップS4)。
光の散乱は粒子の大きさと粒子計測に用いる光の波長とに大きく関係する。粒子の大きさと光の波長とが近い場合、ミー散乱の理論が適用される。ミー散乱が適用される波長領域(ミー共鳴領域)では、粒子の大きさと粒子による光散乱強度は複雑な関係になる。
式(1)にレーリー散乱の相対散乱強度式を示す。
IP:散乱光強度、I0:照射光強度、λ:波長、d:粒子径、R:観測距離、θ:散乱方向、m:粒子の屈折率、n:溶媒の屈折率。
相対散乱強度は溶媒の屈折率(n)と溶質である粒子の屈折率(m)とに大きく関係している。つまり、(式1)は、溶媒の屈折率(n)と粒子の屈折率(m)とが同じ又は近い場合、十分な散乱強度が得られないことを示唆している。
そこで、本発明者等は、屈折率が超純水やイソプロピルアルコール(IPA)に近いフッ素樹脂等の微小粒子を検出するための溶媒として、取扱い性(安全性)、熱的安定性(保存安定性)の観点から、高屈折率(1.43~1.66)を有する材料のうち、表1に示すように、四つの材料(サリチル酸メチル、テトラリン、ブロモベンゼン、1-ブロモナフタレン)を抽出した。表1にはナトリウムD線を用いた場合の屈折率が示されている。
上記四つの材料について計測条件に必要な物性分析(吸収/蛍光、粘度、密度、等温圧縮率)を実施した。上記四つの材料の紫外可視透過率スペクトルを調べた。ここでは、光が通る光路差に違いがある二つのセルを用いて、上記四つの材料のそれぞれについて各セル毎に透過率の波長依存性を調べた結果を図3に示す。図3の透過率の分析結果から532nm波長近傍において1-ブロモナフタレンのみ吸収現象が見られることが分かる。何故なら、吸収がない場合、光路差の異なる二つのセルで透過率の波長依存性は同じとなるからである。図3において横軸は波長(nm)である。
表2から、健康有害性、環境有害性、危険有害性情報等の観点から、テトラリンはサリチル酸メチルよりも標準検査溶媒として適していないことが分かった。
以上の検討の結果から光散乱法による液中フッ素樹脂粒子の検出液としてはサリチル酸メチル(屈折率1.537)が適切であることが分かった。
1-ブロモナフタレンの屈折率は1.659であり、サリチル酸メチルの屈折率は1.537であり、UPW(超純水)mp屈折率は1.333であり、PSL(ポリスチレンラテックス)の屈折率は1.595であり、そして、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)の屈折率は1.35である。一般的に、液体中の粒子を測定する装置は、UPW中のPSL粒子を用いて装置校正が行われる。
また、図5から、UPW中の粒子径30nmのPSL粒子の相対散乱強度の値及びサリチル酸メチル中の粒子径30nmのPTFE粒子の相対散乱強度の値はともに1.0×10-4程度であり、1-ブロモナフタレン中の粒子径25nmのPTFE粒子の相対散乱強度の値は1.0×10-4程度であることが分かる。つまり、UPWを用いた粒子計測方法と、サリチル酸メチルを用いた粒子計測方法とを比較すると、検出対象であるフッ素樹脂粒子の粒子径が同じ場合には、サリチル酸メチルを用いた粒子計測方法のほうがより大きな相対散乱強度(検出感度)が得られ、そして、検出に必要な相対散乱強度(検出感度)が同じ場合には、サリチル酸メチルを用いた粒子計測方法のほうがより小さい粒子を検出できる。
表3から分かることは、液体は等温圧縮率と屈折率に関連したそれ自体からの光散乱(バックグラウンド散乱)があり、当該光散乱が液体中の粒子の最小検出粒子径(検出感度)に影響することである。具体的には、LSLPCを用いて計測すると、サリチル酸メチル自体からの光散乱の強度は超純水自体からの光散乱の強度の約50倍であった。トルエン自体からの光散乱の強度は超純水自体からの光散乱の強度の約8倍であった。この液体自体からの光散乱を考慮して、UPW、サリチル酸メチル及びトルエン中のそれぞれのPTFE粒子の検出限界を算出したところ、UPW中のPTFE粒子の検出限界は約75nmであり、サリチル酸メチル中のPTFE粒子の検出限界40nmであり、そして、トルエン中のPTFE粒子の検出限界45nmであった。
図7は、大気に開放放置したサリチル酸メチル中の水分濃度と経過時間(放置時間)との関係を示す図である。水分濃度の計測は、経過時間が24時間、48時間及び72時間のときに行った。
上記の結果から、大気開放によって、大気中の水分によって光散乱の原因となる粒子状のミセルがサリチル酸メチル中に形成され、サリチル酸メチル中には過飽和濃度以上に水分が溶解していることが明らかになった。
そこで、本実施形態では、サリチル酸メチルが大気開放系となる部分(例えば、サリチル酸メチルを貯蔵するタンク)に高純度窒素ガス封止を施す。例えば、図8に示すように、タンク11の容器11aのうち、サリチル酸メチル液を含む検出液7で満たされていない空間を窒素12で充填とする。図8において、参照符号11bはタンク11の蓋を示している。容器11aと蓋11bとの隙間から侵入する水分が検出液7中のサリチル酸メチル中に溶解することは窒素12によって抑制される。このように検出液7を貯蔵するタンク11に窒素封止を施すことにより、サリチル酸メチル液の白濁現象を抑制できることを確認した。なお、窒素の代わりに、露点をコントロールしたドライエアーを用いても構わない。
液中粒子計測システム0は、LSLPC1、タンク11、バルブ21、ポンプ22、フィルタ23、バルブ24、バルブ25、評価モジュール26、評価(検査)対象であるパーツ27、バルブ28及びバルブ29、窒素ガスの供給ライン30、フィルタ31を含む。また、図9において、太線は配管を示している。パーツ27は、PTFE等のフッ素樹脂を含み、超純水等の高純度液体に触れる半導体装置の製造に用いるものである。すなわち、パーツ27は、例えば、上述した配管、継手、バルブ、ポンプ又はフィルタである。なお、図9において、パーツ27は例えば四つのバルブを図示している。図9において、開いているバルブ21は白抜きのバルブ記号で示してあり、閉じているバルブ24,25、29及びパーツ27のバルブは黒塗りのバルブ記号で示している。
PTFEは標準粒子が存在しないため、5種類の液体を用い、各液体に対してDLS法によるPTFE粒子の粒子径測定を行った結果を表4に示す。表4には、溶媒の種類、溶媒中のPTFE粒子の濃度、希釈液の種類、溶媒と希釈液体との混合液中のPTFE粒子の濃度、溶媒の粘度、希釈液の屈折率、検出されたPTFE粒子の平均粒径が示されている。
液体1は、溶媒がイソプロピルアルコール(IPA)であり、溶媒中のPTFE粒子の濃度が20%である懸濁液である。IPAは超純水と同様に半導体の製造工程で使用される液体である。液体1では希釈液は用いていない。液体1の場合、つまり、溶媒(IPA)中のPTFE粒子の濃度(20%)が高い場合、検出されたPTFE粒子の平均粒子径は175nmであった。
Claims (12)
- サリチル酸メチル液を含む検出液に光を照射する工程と、
前記光を照射した前記検出液からの散乱光を光電変換により電気信号に変換する工程と、
前記電気信号に基づいて、前記検出液中に含まれる、フッ素樹脂を含む粒子を計測する工程と
を具備する粒子計測方法。 - 前記粒子を計測する工程は、前記電気信号に現れるパルス波の数に基づき、前記粒子の個数を算出する請求項1に記載の粒子計測方法。
- 前記粒子を計測する工程は、前記電気信号に現れるパルス波の振幅に基づき、前記粒子の粒子径を算出する請求項1に記載の粒子計測方法。
- 前記散乱光を前記電気信号に変換する工程は光電子増倍管を用いて行う請求項1に記載の粒子計測方法。
- 前記粒子を計測する工程は、前記検出液中の前記粒子のブラウン運動に起因する前記電気信号の強度変化に基づき、前記粒子の粒子径や粒子径分布を算出することを含む請求項4に記載の粒子計測方法。
- 前記粒子を計測する工程は、粒子個々のブラウン運動による移動量に基づき、前記粒子の粒子径又は粒子径分布を算出することを含む請求項1に記載の粒子計測方法。
- 前記検出液は、フッ素樹脂を含むパーツ内を流れる請求項1乃至6のいずれかに記載の粒子計測方法。
- 前記パーツは、半導体装置の製造に用いるパーツである請求項7に記載の粒子計測方法。
- 前記検出液は、前記パーツ内を流れる前に、窒素ガス封止を施したタンク内に保管されている請求項7又は8に記載の粒子計測方法。
- サリチル酸メチル液を含む検出液に光を照射する工程と、
前記光を照射した前記検出液からの散乱光を光電変換により電気信号に変換する工程と、
前記電気信号に基づいて、前記検出液中に含まれる粒子を計測する工程と
を具備し、
前記粒子を計測する工程は、粒子個々のブラウン運動による移動量に基づき、前記粒子の粒子径又は粒子径分布を算出することを含む粒子計測方法。 - 液体が流れる、フッ素樹脂を含むパーツから発生する粒子を検出するために用いる検出液であって、前記パーツ内に流され、光が照射されるサリチル酸メチル液を含む検出液。
- 窒素ガス封止を施したタンク内に保管される請求項11に記載の検出液。
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吉山 秀典 他,改良液浸法による微粒子の屈折率の測定,エアロゾル研究,Vol.19, No. 1,1994年,44-50,https://www.jstage.jst.go.jp/article/jar/9/1/9_1_44/_article/-char/ja/ |
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