JP7232594B2 - Method for manufacturing conductive member - Google Patents

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Description

本発明は、転写用基材上に形成された導電性パターンを被転写体に転写する導電性部材の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a conductive member for transferring a conductive pattern formed on a transfer base material to a transferred body.

近年、自動車や携帯型電子機器等の進展が著しく、軽量化、薄型化、高強度化の要求が進む中、例えば炭素繊維強化樹脂やガラス繊維強化樹脂といった、エポキシ樹脂やフェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を、炭素繊維やガラス繊維に含浸させ、加熱硬化させることにより製造された成型物を筐体として利用する方法が検討されている。 In recent years, the development of automobiles and portable electronic devices has been remarkable, and while the demand for lighter weight, thinner, and higher strength is increasing, epoxy resins, phenolic resins, unsaturated polyesters, such as carbon fiber reinforced resins and glass fiber reinforced resins, are being used. A method of using a molded article manufactured by impregnating carbon fiber or glass fiber with a thermosetting resin such as a resin and heat-curing the resin as a housing has been studied.

更に、こうして作られた筐体に耐摩耗性や耐食性を高めるためにめっき層を設ける検討や、該筐体に導電性金属層あるいはタッチセンサーやアンテナなどの導電性パターンを形成して複合体とした導電性部材として使用する検討が行われている。例えば前者としては特開平6-264250号公報(特許文献1)に、炭素繊維強化樹脂成型品の表面に低温プラズマを照射しめっきを行うことにより金属層を形成する方法が開示されているが、装置が高価かつめっき処理が必要となるため工程が多く煩雑であった。 In addition, we investigated the provision of a plating layer in order to improve the wear resistance and corrosion resistance of the housing made in this way, and formed a conductive metal layer or a conductive pattern such as a touch sensor or an antenna on the housing to form a composite. It is being studied to use it as a conductive member. For example, as the former, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-264250 (Patent Document 1) discloses a method of forming a metal layer by irradiating the surface of a carbon fiber reinforced resin molded product with low-temperature plasma to perform plating. Since the equipment is expensive and plating is required, there are many processes and it is complicated.

また、例えば特開2014-192275号公報(特許文献2)には、支持体上にインク受容層となる多孔質層と、該多孔質層上にコロイダルシリカを主成分とする層を有する基材上に導電性パターンを形成し、支持体上に粘着性を有する接着剤層あるいは粘着剤層が設けられた被転写体の粘着面へ導電性パターンを転写する導電性パターンの転写方法が開示されており、この被転写体を筐体に貼り付けることにより導電性部材を製造することができるが、導電性パターンの密着性に関し、更なる改善が求められていた。 Further, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2014-192275 (Patent Document 2) describes a substrate having a porous layer serving as an ink-receiving layer on a support and a layer containing colloidal silica as a main component on the porous layer. Disclosed is a method for transferring a conductive pattern, in which a conductive pattern is formed thereon, and the conductive pattern is transferred to the adhesive surface of a transfer-receiving body provided with a sticky adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer on a support. A conductive member can be manufactured by attaching this transferred material to a housing, but there has been a demand for further improvement in terms of adhesion of the conductive pattern.

特開平6-264250号公報JP-A-6-264250 特開2014-192275号公報JP 2014-192275 A

本発明の目的は、工程が簡便かつパターンの密着性が良好な導電性部材の製造方法を提供するものである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a conductive member which is simple in process and has good pattern adhesion.

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
支持体上に少なくとも多孔質層と該多孔質層上に無機微粒子として酸化ジルコニウムまたは有機微粒子としてフッ素樹脂を含有する解離層を有する転写用基材の解離層の上に導電性パターンを形成する工程、前記工程で得られた導電性パターンを常温で粘着性を有する被転写体に転写する工程、および導電性パターンが転写された被転写体を加熱硬化する工程を少なくとも具備する導電性部材の製造方法。
The above objects of the present invention have been basically achieved by the following inventions.
A conductive pattern is formed on the release layer of a transfer substrate having at least a porous layer on a support and a release layer containing zirconium oxide as inorganic fine particles or fluororesin as organic fine particles on the porous layer. A conductive member comprising at least the steps of: transferring the conductive pattern obtained in the above step to a transfer-receiving material having adhesiveness at room temperature; and heating and curing the transfer-receiving material to which the conductive pattern has been transferred. Production method.

本発明によれば、工程が簡便かつパターンの密着性が良好な導電性部材の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a conductive member in which the steps are simple and the adhesion of the pattern is good.

本発明における導電性パターンを形成した転写用基材の概略図。1 is a schematic view of a transfer substrate on which a conductive pattern is formed according to the present invention; FIG. 本発明における導電性パターンを形成した転写用基材と被転写体を貼合した際の概略図。FIG. 2 is a schematic view of bonding a transfer substrate on which a conductive pattern is formed and a transfer target according to the present invention. 本発明における導電性部材の概略図。Schematic diagram of a conductive member in the present invention. 本発明における導電性部材の別の概略図。FIG. 4 is another schematic diagram of a conductive member according to the present invention;

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

図面を用いて本発明の導電性材料の製造方法を説明する。まず、支持体1上に多孔質層2と解離層3を有する転写用基材10を準備する(図1)。次に、転写用基材10に導電性パターン4を、例えばインクジェットプリンタ等で印刷して形成する(図1)。続いて、常温で粘着性を有する被転写体5に対して転写用基材10の導電性パターン4形成面を貼合する(図2)。その後に、貼合した転写用基材10を剥離し、導電性パターン4が転写された被転写体5を加熱硬化する、もしくは転写用基材10を剥離する前に被転写体5を加熱硬化し、その後転写用基材10を剥離することで図3や図4に示すような本発明の導電性部材を製造することができる。 A method for producing a conductive material according to the present invention will be described with reference to the drawings. First, a transfer substrate 10 having a porous layer 2 and a dissociation layer 3 on a support 1 is prepared (FIG. 1). Next, a conductive pattern 4 is formed on the transfer substrate 10 by printing with, for example, an ink jet printer (FIG. 1). Subsequently, the conductive pattern 4 formation surface of the transfer base material 10 is pasted to the transfer material 5 which is sticky at room temperature (FIG. 2). Thereafter, the bonded transfer base material 10 is peeled off, and the transfer target body 5 to which the conductive pattern 4 has been transferred is heat-cured, or the transfer target body 5 is heat-cured before the transfer base material 10 is peeled off. Then, by peeling off the transfer substrate 10, the conductive member of the present invention as shown in FIGS. 3 and 4 can be manufactured.

本発明における転写用基材は、支持体上に少なくとも多孔質層と該多孔質層上に解離層を有し、該解離層の上に導電性パターンを一旦保持し、次いで粘着性を有する被転写体に該導電性パターンを転写する用途に供する基材である。該多孔質層および解離層は必要に応じ、支持体の両面に設けても良い。 The substrate for transfer in the present invention has at least a porous layer on a support and a release layer on the porous layer. It is a base material used for transferring the conductive pattern to a transfer body. The porous layer and the dissociation layer may be provided on both sides of the support, if desired.

転写用基材が有する支持体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートに代表されるアクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ABS樹脂等の各種樹脂からなるフィルム、石英ガラス、無アルカリガラス、結晶化透明ガラス、パイレックス(登録商標)等の各種ガラス、紙、不織布、布、各種金属、各種セラミックス等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また用途に応じこれら支持体を適宜組み合わせることができ、例えば、紙をポリオレフィン樹脂で積層したポリオレフィン樹脂被覆紙を用いることができる。 Examples of the support that the transfer substrate has include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers, epoxy resins, polyarylates, polysulfones, and polyethersulfones. , polyimide, fluorine resin, phenoxy resin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyimide, polyphenylene sulfide, polyethylene naphthalate, polycarbonate, acrylic resin represented by polymethyl methacrylate, cellophane, nylon, polystyrene resin, ABS resin, etc. Films made of resin, quartz glass, non-alkali glass, crystallized transparent glass, various glasses such as Pyrex (registered trademark), paper, non-woven fabric, cloth, various metals, various ceramics, etc. can be mentioned, but are not limited to these. not something. In addition, these supports can be appropriately combined depending on the application. For example, polyolefin resin-coated paper obtained by laminating paper with polyolefin resin can be used.

これらの中でもコスト、汎用性の観点から、紙、ポリオレフィン樹脂被覆紙、およびポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートからなるフィルムが好ましい。 Among these, paper, polyolefin resin-coated paper, and films made of polyolefin resin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polycarbonate are preferable from the viewpoint of cost and versatility.

上記した支持体の中でも、各種樹脂からなるフィルム、ガラス、ポリオレフィン樹脂被覆紙等の非吸液性支持体を用いる場合には、非吸液性支持体と多孔質層との接着性を改善するために、支持体と多孔質層との間に、ゼラチンや各種ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール等からなる公知の下塗層を設けることが好ましい。また、例えばポリエチレンテレフタレートフィルムでは易接着処理品として下塗層を予め設けた状態で市販されており、これを用いても良い。また、コロナ処理あるいはプラズマ処理により支持体の濡れ性を改善することも好ましい。 Among the above supports, when non-absorbent supports such as films made of various resins, glass, and polyolefin resin-coated paper are used, the adhesion between the non-absorbent support and the porous layer is improved. Therefore, it is preferable to provide a known undercoat layer composed of gelatin, various urethane resins, polyvinyl alcohol, etc. between the support and the porous layer. Further, for example, a polyethylene terephthalate film is commercially available in a state in which an undercoat layer is provided in advance as an easy adhesion treated product, and this may be used. It is also preferable to improve the wettability of the support by corona treatment or plasma treatment.

下塗層の固形分塗布量としては、0.5g/m以下であることが好ましく、より好ましくは0.3g/m以下、更に好ましくは0.1g/m以下である。下限は0.01g/m以上であることが望ましい。 The solid content coating amount of the undercoat layer is preferably 0.5 g/m 2 or less, more preferably 0.3 g/m 2 or less, and still more preferably 0.1 g/m 2 or less. The lower limit is desirably 0.01 g/m 2 or more.

本発明において転写用基材が有する多孔質層は、後述する導電性パターンの形成に好適な導電性微粒子を含むインクあるいはペーストが含有する水あるいは有機溶剤といった溶媒成分を吸収する機能を担う。 In the present invention, the porous layer of the transfer base material has a function of absorbing a solvent component such as water or an organic solvent contained in ink or paste containing conductive fine particles suitable for forming a conductive pattern, which will be described later.

本発明において転写用基材が有する多孔質層は、微粒子を主体に含有する層であることが溶媒成分の吸収性の観点から好ましい。微粒子を主体に含有するとは、多孔質層の全固形分中に占める微粒子の割合が50質量%以上であることを意味し、好ましくは70質量%以上である。用いられる微粒子としては、公知の微粒子を広く用いることができる。例えば軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、非晶質合成シリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、アルミナ水和物、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、水酸化マグネシウム等の無機微粒子、アクリルあるいはメタクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、スチレン/アクリル系樹脂、スチレン/ブタジエン系樹脂、スチレン/イソプレン系樹脂、メチルメタクリレート/ブチルメタクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、尿素樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂等の有機微粒子が挙げられる。有機微粒子は上記した少なくとも1種以上の樹脂からなる真球状あるいは不定型の無孔質あるいは多孔質の有機微粒子等を挙げることができる。無論、上記した無機微粒子の1種以上と有機微粒子の1種以上を併用して用いることもできる。上記の中でも、溶媒成分の吸収性の観点からは無機微粒子を含有することが好ましく、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、炭酸マグネシウム、非晶質合成シリカ、アルミナ、アルミナ水和物がより好ましく、非晶質合成シリカ、アルミナ、アルミナ水和物が特に好ましい。また、本発明における転写用基材に可撓性が要求される場合には、アルミナ水和物を含有することが特に好ましい。 In the present invention, the porous layer of the transfer base material is preferably a layer mainly containing fine particles from the viewpoint of absorbing the solvent component. Containing mainly fine particles means that the ratio of fine particles to the total solid content of the porous layer is 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more. A wide variety of known fine particles can be used as the fine particles. For example, light calcium carbonate, ground calcium carbonate, magnesium carbonate, kaolin, talc, calcium sulfate, barium sulfate, titanium dioxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc carbonate, satin white, aluminum silicate, diatomaceous earth, calcium silicate, magnesium silicate, Amorphous synthetic silica, alumina, colloidal alumina, alumina hydrate, lithopone, zeolite, hydrated halloysite, inorganic fine particles such as magnesium hydroxide, acrylic or methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyester resin , styrene/acrylic resin, styrene/butadiene resin, styrene/isoprene resin, methyl methacrylate/butyl methacrylate resin, polycarbonate resin, silicone resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, phenol resin, Examples include organic fine particles such as diallyl phthalate-based resins. Examples of the organic fine particles include spherical or amorphous nonporous or porous organic fine particles made of at least one of the resins described above. Of course, one or more of the inorganic fine particles and one or more of the organic fine particles can be used in combination. Among the above, it is preferable to contain inorganic fine particles from the viewpoint of solvent component absorption, such as light calcium carbonate, heavy calcium carbonate, kaolin, talc, magnesium carbonate, amorphous synthetic silica, alumina, and alumina hydrate. is more preferred, and amorphous synthetic silica, alumina, and alumina hydrate are particularly preferred. Further, when flexibility is required for the substrate for transfer in the present invention, it is particularly preferable to contain alumina hydrate.

非晶質合成シリカは、製造法によって湿式法シリカ、気相法シリカ及びその他に大別することができる。 Amorphous synthetic silica can be broadly classified into wet process silica, gas phase process silica and others according to the production method.

湿式法シリカは、更に製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカ、ゾル法シリカに分類される。沈降法シリカは珪酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の工程を経て製品化される。沈降法シリカとしては、例えば東ソー・シリカ(株)からニップシール(登録商標)として、(株)トクヤマからトクシール(登録商標)、ファインシール(登録商標)として、水澤化学工業(株)からミズカシル(登録商標)として市販されている。ゲル法シリカは珪酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。熟成中に微小粒子は溶解し、他の一次粒子同士を結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、東ソー・シリカ(株)からニップゲル(登録商標)として、グレースジャパン(株)からシロイド(登録商標)、シロジェット(登録商標)として、水澤化学工業(株)からミズカシルとして市販されている。本発明において沈降法シリカあるいはゲル法シリカを用いることが好ましく、沈降法シリカがより好ましい。 Wet-process silica is further classified into precipitation-process silica, gel-process silica, and sol-process silica according to the production method. Precipitation silica is produced by reacting sodium silicate and sulfuric acid under alkaline conditions, and the grown silica particles are aggregated and sedimented, and then filtered, washed with water, dried, pulverized, and classified into products. Examples of precipitation silica include Nip Seal (registered trademark) from Tosoh Silica Corporation, Tokusil (registered trademark) from Tokuyama Corporation, and Mizukasil (registered trademark) from Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd. Trademark). Gel silica is produced by reacting sodium silicate and sulfuric acid under acidic conditions. During aging, the fine particles dissolve and re-precipitate to bind other primary particles together, so that well-defined primary particles disappear and form relatively hard agglomerated particles with an internal void structure. For example, it is commercially available as Nipgel (registered trademark) from Tosoh Silica Corporation, Syloid (registered trademark) and Sirojet (registered trademark) from Grace Japan, and Mizukasil from Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd. In the present invention, it is preferable to use precipitated silica or gel silica, and precipitated silica is more preferred.

湿式法シリカ粒子としては、平均一次粒子径が50nm以下、好ましくは3~40nmであり、かつ平均凝集粒子径が1~50μmである湿式法シリカ粒子が好ましい。また平均凝集粒子径が5~50μmである湿式法シリカ粒子を、平均二次粒子径が500nm以下に分散することがより好ましい。分散された湿式法シリカの平均二次粒子径は、より好ましくは10~300nm、更に好ましくは20~200nmである。分散方法としては、水性媒体中に分散した湿式法シリカを機械的に粉砕する湿式分散法が好ましく使用され、これにはビーズミルなどのメディアミルを用いることが好ましい。ビーズミルは密閉されたベッセル内に充填されたビーズとの衝突により顔料粉砕を行うものであり、ウィリー・エ・バッコーフェン社よりダイノーミルとして、浅田鉄工(株)よりグレンミル(登録商標)として、アシザワ・ファインテック(株)よりスターミル(登録商標)として市販されている。メディアミル等を用いて分散した後、更に高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を用いて分散することが好ましい。 The wet-process silica particles are preferably wet-process silica particles having an average primary particle size of 50 nm or less, preferably 3 to 40 nm, and an average aggregate particle size of 1 to 50 μm. Further, it is more preferable to disperse the wet-process silica particles having an average agglomerated particle size of 5 to 50 μm so that the average secondary particle size is 500 nm or less. The average secondary particle size of the dispersed wet-process silica is more preferably 10 to 300 nm, still more preferably 20 to 200 nm. As a dispersing method, a wet dispersion method of mechanically pulverizing wet silica dispersed in an aqueous medium is preferably used, and a media mill such as a bead mill is preferably used for this. The bead mill grinds pigments by colliding with beads packed in a closed vessel. It is commercially available from Tech Co., Ltd. under the name Starmill®. After dispersing using a media mill or the like, it is preferable to further disperse using a pressure-type disperser such as a high-pressure homogenizer or an ultrahigh-pressure homogenizer, an ultrasonic disperser, a thin-film orbital disperser, or the like.

ここで、本発明でいう平均一次粒子径とは、微粒子の電子顕微鏡観察により一定面積内に存在する100個の一次粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子径として平均粒子径を求めたものである。また平均二次粒子径とは、透過型電子顕微鏡による写真撮影で求めることができるが、簡易的にはレーザー散乱式の粒度分布計(例えば、(株)堀場製作所製、LA910)を用いて、個数メジアン径として測定することができる。また、平均凝集粒子径とは、粉体として供給される湿式シリカの平均粒子径を示し、例えばコールターカウンター法で求めることができる。 Here, the average primary particle size as referred to in the present invention is obtained by observing fine particles with an electron microscope and determining the average particle size by taking the diameter of a circle equal to the projected area of each of 100 primary particles existing within a certain area as the particle size. It is. The average secondary particle size can be obtained by photographing with a transmission electron microscope. It can be measured as a number median diameter. Also, the average aggregate particle size indicates the average particle size of wet silica supplied as powder, and can be determined by, for example, the Coulter counter method.

気相法シリカは、湿式法に対して乾式法とも呼ばれ、一般的には火炎加水分解法によって作られる。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られているが、四塩化ケイ素の代わりにメチルトリクロロシランやトリクロロシラン等のシラン類も、単独または四塩化ケイ素と混合した状態で使用することができる。気相法シリカは日本アエロジル(株)からアエロジル(登録商標)、(株)トクヤマからQSタイプとして市販されている。 Vapor-phase silica is also called a dry method as opposed to a wet method, and is generally produced by a flame hydrolysis method. Specifically, a method of burning silicon tetrachloride with hydrogen and oxygen is generally known, but instead of silicon tetrachloride, silanes such as methyltrichlorosilane and trichlorosilane can also be used alone or with silicon tetrachloride. It can be used in a mixed state with Vapor-phase silica is commercially available from Nippon Aerosil Co., Ltd. as Aerosil (registered trademark), and from Tokuyama Corporation as QS type.

本発明において多孔質層が含有する気相法シリカの平均一次粒子径は40nm以下が好ましく、15nm以下がより好ましい。更に好ましくは平均一次粒子径が3~15nmでかつBET法による比表面積が200m/g以上(好ましくは250~500m/g)のものを用いることである。 In the present invention, the average primary particle size of the fumed silica contained in the porous layer is preferably 40 nm or less, more preferably 15 nm or less. More preferably, it has an average primary particle diameter of 3 to 15 nm and a specific surface area of 200 m 2 /g or more (preferably 250 to 500 m 2 /g) as determined by the BET method.

本発明でいうBET法とは、気相吸着法による粉体の表面積測定法の一つであり、吸着等温線から1gの試料の持つ総表面積、即ち比表面積を求める方法である。通常吸着気体としては、窒素ガスが多く用いられ吸着量を被吸着気体の圧、または容積の変化から測定する方法が最も多く用いられている。多分子吸着の等温線を表すのに最も著名なものは、Brunauer、Emmett、Tellerの式であってBET式と呼ばれ表面積決定に広く用いられている。BET式に基づいて吸着量を求め、吸着分子1個が表面で占める面積を掛けて表面積が得られる。 The BET method referred to in the present invention is one of methods for measuring the surface area of powders by a gas phase adsorption method, and is a method for determining the total surface area of 1 g of a sample, that is, the specific surface area, from the adsorption isotherm. Nitrogen gas is generally used as the adsorbed gas, and the method of measuring the amount of adsorption from changes in the pressure or volume of the gas to be adsorbed is most often used. The Brunauer-Emmett-Teller equation, which is called the BET equation and is widely used to determine the surface area, is the most famous for expressing the isotherm of multimolecular adsorption. The amount of adsorption is determined based on the BET formula and multiplied by the area occupied by one adsorbed molecule on the surface to obtain the surface area.

気相法シリカを用いた場合においても、湿式法シリカと同様に、平均二次粒子径500nm以下に分散することが好ましい。分散された気相法シリカの平均二次粒子径は、より好ましくは10~300nm、更に好ましくは20~200nmである。分散方法としては、通常のプロペラ撹拌、タービン型撹拌、ホモミキサー型撹拌等で気相法シリカと水を主体とする分散媒を予備混合し、次にボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用して分散を行うことが好ましい。 Even when vapor-phase silica is used, it is preferable to disperse it to have an average secondary particle size of 500 nm or less, as with wet-process silica. The average secondary particle size of the dispersed fumed silica is more preferably 10 to 300 nm, still more preferably 20 to 200 nm. Dispersion methods include pre-mixing gas-phase silica and a dispersion medium mainly composed of water by conventional propeller stirring, turbine-type stirring, homomixer-type stirring, etc., followed by media mills such as ball mills, bead mills and sand grinders, Dispersion is preferably carried out using a pressure-type disperser such as a high-pressure homogenizer or an ultra-high-pressure homogenizer, an ultrasonic disperser, a thin-film orbital disperser, or the like.

本発明では、該多孔質層は支持体上に前述した微粒子を含む塗布液を塗布、乾燥して形成することが簡便であり、好ましい。よってかかる塗布液を調整するにあたり、平均二次粒子径500nm以下の湿式法シリカあるいは気相法シリカのスラリーを製造することは好ましく、該スラリーの製造にあたりスラリーの高濃度化や分散安定性を向上させるため、公知の種々の方法を用いても良い。例えば、特開2002-144701号公報、特開2005-1117号公報に記載されているが如くアルカリ性化合物の存在下で分散する方法、カチオン性化合物の存在下で分散する方法、シランカップリング剤存在下で分散する方法等を挙げることができ、カチオン性化合物の存在下で分散する方法がより好ましい。 In the present invention, it is convenient and preferable to form the porous layer by applying a coating solution containing the fine particles described above on the support and drying the coating solution. Therefore, in preparing such a coating liquid, it is preferable to produce a slurry of wet-process silica or gas-phase silica having an average secondary particle size of 500 nm or less, and in producing the slurry, the concentration of the slurry can be increased and the dispersion stability can be improved. Various known methods may be used to obtain the For example, as described in JP-A-2002-144701 and JP-A-2005-1117, a method of dispersing in the presence of an alkaline compound, a method of dispersing in the presence of a cationic compound, and the presence of a silane coupling agent. A method of dispersing in the presence of a cationic compound is more preferable.

上記湿式法シリカあるいは気相法シリカの分散に使用するカチオン性化合物としては、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ジアリルアミン誘導体由来の構造単位を有する重合物、ポリアリルアミン、アルキルアミン重合物、1~3級アミノ基や4級アンモニウム塩基を有するポリマーが好ましく用いられる。特にジアリルアミン誘導体由来の構造単位を有する重合物が好ましく用いられる。分散性および分散液粘度の面で、これらのカチオンポリマーの分子量は、2,000~10万程度が好ましく、特に2,000~3万程度が好ましい。 Examples of the cationic compound used for dispersing the above wet-process silica or vapor-phase silica include polyethyleneimine, polydiallylamine, polymers having structural units derived from diallylamine derivatives, polyallylamines, alkylamine polymers, primary to tertiary amino Polymers having groups or quaternary ammonium bases are preferably used. Polymers having structural units derived from diallylamine derivatives are particularly preferred. The molecular weight of these cationic polymers is preferably about 2,000 to 100,000, more preferably about 2,000 to 30,000, in terms of dispersibility and dispersion viscosity.

本発明において多孔質層が好ましく含有するアルミナとしては、酸化アルミニウムのγ型結晶であるγ-アルミナが好ましく、中でもδグループ結晶が好ましい。γ-アルミナは一次粒子を10nm程度まで小さくすることが可能であるが、通常は数千から数万nmの二次粒子結晶を超音波や高圧ホモジナイザー、対向衝突型ジェット粉砕機等で平均二次粒子径を好ましくは500nm以下、より好ましくは20~300nm程度まで粉砕したものが使用できる。 In the present invention, the alumina preferably contained in the porous layer is preferably γ-alumina, which is a γ-type crystal of aluminum oxide, and more preferably a δ-group crystal. Although γ-alumina can reduce the primary particles to about 10 nm, usually secondary particle crystals of several thousand to tens of thousands of nm are averaged by ultrasonic waves, high-pressure homogenizers, counter-impingement jet crushers, etc. Pulverized to a particle size of preferably 500 nm or less, more preferably about 20 to 300 nm, can be used.

本発明において多孔質層が好ましく含有するアルミナ水和物はAl・nHO(n=1~3)の構成式で表される。アルミナ水和物は、一般にアルミニウムイソプロポキシド等のアルミニウムアルコキシドの加水分解、アルミニウム塩のアルカリによる中和、アルミン酸塩の加水分解等の公知の製造方法により得られる。アルミナ水和物の平均二次粒子径は好ましくは500nm以下、より好ましくは20~300nmである。 In the present invention, the alumina hydrate preferably contained in the porous layer is represented by a constitutive formula of Al 2 O 3 ·nH 2 O (n=1 to 3). Alumina hydrates are generally obtained by known production methods such as hydrolysis of aluminum alkoxides such as aluminum isopropoxide, neutralization of aluminum salts with alkali, and hydrolysis of aluminates. The average secondary particle size of alumina hydrate is preferably 500 nm or less, more preferably 20 to 300 nm.

本発明において多孔質層が好ましく含有する上記のアルミナ、及びアルミナ水和物は、酢酸、乳酸、ぎ酸、硝酸等の公知の分散剤によって分散された分散液の形態から使用される。 In the present invention, the alumina and alumina hydrate preferably contained in the porous layer are used in the form of a dispersion dispersed with a known dispersant such as acetic acid, lactic acid, formic acid, and nitric acid.

本発明において、多孔質層は上記した微粒子と共に樹脂バインダーを含有することが好ましく、該樹脂バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、酸化澱粉、エーテル化澱粉、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、大豆蛋白、シリル変性ポリビニルアルコールなど、スチレン-ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート-ブタジエン共重合体などの共役ジエン系共重合体ラテックス、あるいはこれらの各種重合体のカルボキシル基などの官能基含有単量体による官能基変性重合体ラテックス、メラミン樹脂、尿素樹脂などの熱硬化合成樹脂系などの水性接着剤、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルブチラール、アルキッド樹脂などの合成樹脂系接着剤等を挙げることができ、これらを単独あるいは混合して用いることができる。この他、公知の天然、あるいは合成樹脂バインダーを単独であるいは混合して用いることは特に限定されない。 In the present invention, the porous layer preferably contains a resin binder together with the fine particles described above. Examples of the resin binder include polyvinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol, oxidized starch, etherified starch, carboxymethyl cellulose, and hydroxyethyl cellulose. cellulose derivatives, casein, gelatin, soybean protein, silyl-modified polyvinyl alcohol, etc., styrene-butadiene copolymer, methyl methacrylate-butadiene copolymer, etc. conjugated diene copolymer latex, or carboxyl groups of these various polymers Functional group-modified polymer latex with functional group-containing monomers such as melamine resin, water-based adhesive such as thermosetting synthetic resin system such as urea resin, polymethyl methacrylate, polyurethane resin, unsaturated polyester resin, vinyl chloride-acetic acid Synthetic resin adhesives such as vinyl copolymers, polyvinyl butyral, and alkyd resins can be mentioned, and these can be used singly or in combination. In addition, the use of known natural or synthetic resin binders alone or in combination is not particularly limited.

これらの内、ポリビニルアルコールあるいはシラノール変性ポリビニルアルコールが好ましく、特に好ましいのは、ケン化度が80%以上の部分ケン化または完全ケン化したポリビニルアルコールあるいはシラノール変性ポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコールの平均重合度は200~5000のものが好ましい。 Among these, polyvinyl alcohol or silanol-modified polyvinyl alcohol is preferred, and partially or completely saponified polyvinyl alcohol or silanol-modified polyvinyl alcohol having a degree of saponification of 80% or more is particularly preferred. The average degree of polymerization of polyvinyl alcohol is preferably 200-5000.

微粒子に対する樹脂バインダーの含有量は特に限定されないが、微粒子を用い多孔質層を形成するためには、樹脂バインダーの含有量は、微粒子に対して80質量%以下であることが好ましく、更には3~80質量%の範囲が好ましく、より好ましくは5~60質量%の範囲であり、特に好ましくは10~40質量%の範囲である。 The content of the resin binder with respect to the fine particles is not particularly limited. It is preferably in the range of to 80% by mass, more preferably in the range of 5 to 60% by mass, and particularly preferably in the range of 10 to 40% by mass.

また多孔質層は、上記した多孔質層を構成する上記樹脂バインダーと共に必要に応じ硬膜剤を含有することもできる。硬膜剤の具体的な例としては、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物、ジアセチル、クロルペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス(2-クロロエチル)尿素、2-ヒドロキシ-4,6-ジクロロ-1,3,5-トリアジン、米国特許第3,288,775号記載の如き反応性のハロゲンを有する化合物、米国特許第3,635,718号記載の如き反応性のオレフィンを持つ化合物、米国特許第2,732,316号記載の如きN-メチロール化合物、米国特許第3,103,437号記載の如きイソシアナート類、米国特許第3,017,280号、同2,983,611号記載の如きアジリジン化合物類、米国特許第3,100,704号記載の如きカルボジイミド系化合物類、米国特許第3,091,537号記載の如きエポキシ化合物、ジヒドロキシジオキサンの如きジオキサン誘導体、ホウ砂、ホウ酸、ホウ酸塩類の如き無機架橋剤等があり、これらを1種または2種以上組み合わせて用いることができる。硬膜剤の含有量は特に限定されないが、樹脂バインダーに対して、50質量%以下が好ましく、より好ましくは40質量%以下であり、特に好ましくは30質量%以下である。 The porous layer may also contain a hardening agent, if necessary, together with the resin binder constituting the porous layer. Specific examples of hardening agents include aldehyde compounds such as formaldehyde and glutaraldehyde, ketone compounds such as diacetyl and chloropentanedione, bis(2-chloroethyl)urea, and 2-hydroxy-4,6-dichloro-1. ,3,5-triazines, compounds with reactive halogens as described in US Pat. No. 3,288,775, compounds with reactive olefins as described in US Pat. N-methylol compounds as described in US Pat. No. 2,732,316, isocyanates as described in US Pat. No. 3,103,437, US Pat. aziridine compounds, carbodiimide compounds as described in U.S. Pat. No. 3,100,704, epoxy compounds as described in U.S. Pat. No. 3,091,537, dioxane derivatives such as dihydroxydioxane, borax, boric acid, boron There are inorganic cross-linking agents such as acid salts, etc., and these can be used singly or in combination of two or more. Although the content of the hardening agent is not particularly limited, it is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less based on the resin binder.

樹脂バインダーとしてケン化度が80%以上の部分ケン化または完全ケン化したポリビニルアルコールあるいはシラノール変性ポリビニルアルコールを用いる場合、硬膜剤はホウ砂、ホウ酸、ホウ酸塩類が好ましく、ホウ酸が特に好ましく、使用量はポリビニルアルコールに対し、40質量%以下が好ましく、より好ましくは30質量%以下であり、特に好ましくは20質量%以下である。下限は0.1質量%以上であることが好ましい。 When partially saponified or completely saponified polyvinyl alcohol or silanol-modified polyvinyl alcohol having a degree of saponification of 80% or more is used as the resin binder, the hardening agent is preferably borax, boric acid or borates, and boric acid is particularly preferred. The amount used is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or less, relative to polyvinyl alcohol. The lower limit is preferably 0.1% by mass or more.

その他、多孔質層には必要に応じ、防腐剤、界面活性剤、着色染料、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子の分散剤、消泡剤、レベリング剤、粘度安定剤、pH調節剤などを含有することができる。 In addition, preservatives, surfactants, coloring dyes, ultraviolet absorbers, antioxidants, fine particle dispersants, antifoaming agents, leveling agents, viscosity stabilizers, pH adjusters, etc. are added to the porous layer as necessary. can contain.

多孔質層は2層以上から構成されていてもよく、この場合、それらの多孔質層の構成はお互いに同じであっても異なっていても良い。例えば湿式法シリカを含有する多孔質層の上に、アルミナ水和物を含有する多孔質層が形成されていても良い。 The porous layer may be composed of two or more layers, and in this case, the porous layers may have the same or different configurations. For example, a porous layer containing alumina hydrate may be formed on a porous layer containing wet-process silica.

多孔質層の層厚(乾燥時)は、一般に1~100μmが好ましく、5~50μmがより好ましい。 The layer thickness (dry) of the porous layer is generally preferably 1 to 100 μm, more preferably 5 to 50 μm.

多孔質層は、微粒子と樹脂バインダー等を適当な溶媒に溶解または分散させて塗布液を調製し、該塗布液をスライドカーテン方式、スライドビード方式、スロットダイ方式、ダイレクトグラビアロール方式、リバースグラビアロール方式、スプレー方式、エアナイフ方式、ブレードコーティング方式、ロッドバーコーティング方式、スピンコート方式等による塗布、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷、オフセット印刷、反転オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等、公知の各種塗布あるいは印刷方法を利用して、支持体表面の全面、あるいは必要とされる部位への選択的な塗布を行い、形成することができる。また、塗布を行った後、鏡面ロールに圧接するキャスト処理を行い表面を平滑にすることや、カレンダー処理を行い、表面を平滑にすることもできる。 The porous layer is prepared by dissolving or dispersing fine particles and a resin binder in an appropriate solvent to prepare a coating liquid, and applying the coating liquid to a slide curtain method, a slide bead method, a slot die method, a direct gravure roll method, or a reverse gravure roll method. Application by method, spray method, air knife method, blade coating method, rod bar coating method, spin coating method, etc., screen printing, inkjet printing, dispenser printing, offset printing, reverse offset printing, gravure printing, flexographic printing, etc. A coating or printing method can be used to selectively coat the entire surface of the support or a required portion to form the coating. Further, after coating, the surface can be smoothed by performing a casting process in which it is pressed against a mirror surface roll, or by performing a calendering process.

本発明における転写用基材は、上記した多孔質層上に無機微粒子および/または有機微粒子を主成分とする解離層を有する。解離層とは、導電性パターンを被転写体へ転写する際に多孔質層と導電性パターンを分離する層であり、図3のように導電性パターンのみを被転写体へ転写する、あるいは図4のように導電性パターンと解離層の一部を共に被転写体へ転写することができる。転写された解離層の一部は必要に応じ洗浄し、除去してもよい。 The transfer base material of the present invention has a dissociation layer containing inorganic fine particles and/or organic fine particles as a main component on the porous layer described above. The release layer is a layer that separates the conductive pattern from the porous layer when the conductive pattern is transferred to the transferred material. As shown in 4, both the conductive pattern and part of the release layer can be transferred to the transferred material. A portion of the transferred release layer may be washed and removed as necessary.

本発明における解離層は、転写用基材を被転写体から剥離する前に被転写体を加熱硬化する場合において転写用基材に掛かる温度である、被転写体を加熱硬化する時の温度で、溶融あるいは粘着性を示さない層であることが好ましい。なお、主成分とするとは、かかる層の全固形分に対して、93質量%以上が無機微粒子および/または有機微粒子であることを示し、好ましくは98質量%以上である。 The release layer in the present invention is the temperature applied to the transfer substrate when the transfer substrate is heat-cured before the transfer substrate is peeled off from the transfer substrate, which is the temperature when the transfer substrate is heat-cured. It is preferably a layer that does not melt or stick. The term "main component" means that inorganic fine particles and/or organic fine particles account for 93% by mass or more, preferably 98% by mass or more, of the total solid content of the layer.

本発明において解離層が含有する無機微粒子としては、公知の無機微粒子を広く用いることができる。例えば炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、非晶質合成シリカ、アルミナ、アルミナ水和物、水酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化錫等の無機微粒子を例示することができ、これらを2種以上併用してもよい。 As the inorganic fine particles contained in the dissociation layer in the present invention, a wide range of known inorganic fine particles can be used. For example, magnesium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, titanium dioxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc carbonate, aluminum silicate, calcium silicate, magnesium silicate, amorphous synthetic silica, alumina, alumina hydrate, magnesium hydroxide, cerium oxide. , zirconium oxide, niobium oxide, tin oxide, etc., and two or more of these may be used in combination.

解離層が含有する無機微粒子の平均一次粒子径は10~200nmであることが好ましく、20nm以上がより好ましい。平均一次粒子径が10nm未満であると多孔質層の空隙を塞ぎ吸収性が低下する場合がある。平均一次粒子径が200nmを超えると、解離層を形成する際に使用される塗布液において、無機微粒子が沈降し塗布に支障をきたす場合がある。 The inorganic fine particles contained in the dissociation layer preferably have an average primary particle size of 10 to 200 nm, more preferably 20 nm or more. If the average primary particle size is less than 10 nm, the pores in the porous layer may be clogged and the absorbency may be lowered. If the average primary particle size exceeds 200 nm, the inorganic fine particles may settle in the coating solution used to form the dissociation layer, thereby interfering with coating.

このような無機微粒子としてコロイド状態にある無機微粒子分散液を用いることが好ましく、例えば、コロイド状シリカであるコロイダルシリカ、酸化チタンゾル、アルミナゾル、酸化セリウムゾル、酸化ジルコニウムゾル、酸化ニオブゾル、酸化錫ゾルを挙げることができる。酸化ジルコニウムゾルは、例えば第一稀元素化学工業(株)よりZSL-20N、ナイヤコール社(米国)よりZr100/20として、酸化セリウムゾルは、例えばナイヤコール社(米国)よりCEO2(AC)として、酸化ニオブゾルは、例えば多木化学(株)よりバイラール(登録商標)として市販されている。 As such inorganic fine particles, it is preferable to use an inorganic fine particle dispersion liquid in a colloidal state. be able to. Zirconium oxide sol is, for example, ZSL-20N from Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd., Zr100/20 from Nyacol Co., Ltd. (USA), Cerium oxide sol, for example, CEO2 (AC) from Nyacol Co., Ltd. (USA), Niobium oxide sol is commercially available, for example, from Taki Kagaku Co., Ltd. under the name Viral (registered trademark).

コロイダルシリカとしては、シリカゾルから弱アルカリ性下で粒子成長させたそのままのタイプ、イオン交換によりアルカリを減量したタイプ、格子の珪素原子の一部をアルミニウム原子に置換してアニオン性を強化したタイプ、アルミナ表面処理によりカチオン性にしたタイプ、アルコキシシランを原料にゾルゲル法で合成されたタイプ等が例示されるが何れも使用可能である。コロイダルシリカはアルカリに若干溶解するのでアルカリが残っている方が結着力の面で有利と考えられるが、イオン交換したタイプでも実用上問題なく使用できる。これらコロイダルシリカは、例えば日産化学工業(株)よりスノーテックス、扶桑化学工業(株)よりクォートロン(登録商標)として市販されている。 Colloidal silica includes a type in which particles are grown from silica sol under weak alkaline conditions, a type in which the amount of alkali is reduced by ion exchange, a type in which some of the silicon atoms in the lattice are replaced with aluminum atoms to enhance anionicity, and alumina. A type made cationic by surface treatment, a type synthesized by a sol-gel method using alkoxysilane as a raw material, and the like are exemplified, but any of them can be used. Since colloidal silica is slightly soluble in alkali, it is considered to be advantageous in terms of binding strength if alkali remains, but ion-exchanged types can also be used practically without any problems. These colloidal silicas are commercially available, for example, as Snowtex from Nissan Chemical Industries, Ltd. and Quartron (registered trademark) from Fuso Chemical Industries, Ltd.

本発明において解離層が含有する有機微粒子としては、公知の有機微粒子を広く用いることができる。例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ナイロン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、アセタール樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の有機微粒子を例示することができ、これらを2種以上併用してもよい。 As the organic fine particles contained in the dissociation layer in the present invention, a wide range of known organic fine particles can be used. Examples include organic fine particles such as acrylic resins, styrene resins, nylon resins, silicone resins, fluorine resins, phenol resins, acetal resins, polyimide resins, epoxy resins, polyphenylene sulfide resins, polyethersulfone resins, and polyamideimide resins. , and two or more of these may be used in combination.

解離層が含有する有機微粒子の平均一次粒子径は10~500nmであることが好ましく、20nm以上がより好ましい。平均一次粒子径が10nm未満であると多孔質層の空隙を塞ぎ吸収性が低下する場合がある。平均一次粒子径が500nmを超えると、解離層を形成する際に使用される塗布液において、有機微粒子が沈降し塗布に支障をきたす場合がある。 The average primary particle size of the organic fine particles contained in the dissociation layer is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 nm or more. If the average primary particle size is less than 10 nm, the pores in the porous layer may be clogged and the absorbency may be lowered. If the average primary particle size exceeds 500 nm, the organic fine particles may settle in the coating liquid used to form the dissociation layer, which may interfere with coating.

このような有機微粒子として、ポリアミドイミド樹脂は、例えば東レ(株)よりトレパール(登録商標)PAIとして、ポリエーテルスルホン樹脂は、例えば東レ(株)よりトレパールPESとして、フッ素樹脂は、例えば三井・ケマーズ フロロプロダクツ(株)より31-JR、ダイキン工業(株)よりD-210Cとして市販されている。 Examples of such organic fine particles include polyamideimide resins such as Trepal (registered trademark) PAI manufactured by Toray Industries, Inc., polyethersulfone resins such as Trepal PES manufactured by Toray Industries, Inc., and fluorine resins such as Mitsui Chemmers. It is commercially available as 31-JR from Fluoro Products Co., Ltd. and D-210C from Daikin Industries, Ltd.

本発明における解離層は、上記した無機微粒子の1種以上と有機微粒子の1種以上を併用して用いることもできる。無機微粒子と有機微粒子の体積比率としては、1:9から9:1の範囲が好ましい。得られる導電性部材の導電性の観点からは無機微粒子を用いることが好ましい。 In the dissociation layer in the present invention, one or more inorganic fine particles and one or more organic fine particles may be used in combination. The volume ratio of the inorganic fine particles and the organic fine particles is preferably in the range of 1:9 to 9:1. Inorganic fine particles are preferably used from the viewpoint of the conductivity of the resulting conductive member.

本発明において解離層に含まれる無機微粒子および/または有機微粒子以外の成分としては、樹脂バインダーとしての例えばポリビニルアルコールなどの水溶性樹脂やラテックス類、樹脂バインダーの硬膜剤、界面活性剤等を挙げることができる。 In the present invention, components other than inorganic fine particles and/or organic fine particles contained in the dissociation layer include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol as resin binders, latexes, hardeners for resin binders, surfactants, and the like. be able to.

本発明において解離層の固形分塗布量は、0.01g/m以上であることが好ましく、0.1g/m以上がより好ましい。固形分塗布量が0.01g/m未満であると、被転写体へ多孔質層が転写されてしまうことがある。解離層の固形分塗布量の上限は特にないが、10g/mを超えると無機微粒子および/または有機微粒子を主成分とする解離層に亀裂の入る可能性が高くなるため、好ましくない。 In the present invention, the solid content coating amount of the release layer is preferably 0.01 g/m 2 or more, more preferably 0.1 g/m 2 or more. If the solid content coating amount is less than 0.01 g/m 2 , the porous layer may be transferred to the transferred material. Although there is no particular upper limit for the coating amount of the solid content of the release layer, if it exceeds 10 g/m 2 , the possibility of cracking the release layer containing inorganic fine particles and/or organic fine particles as a main component increases, which is not preferable.

解離層の形成用塗布液は、スライドカーテン方式、スライドビード方式、スロットダイ方式、ダイレクトグラビアロール方式、リバースグラビアロール方式、スプレー方式、エアナイフ方式、ブレードコーティング方式、ロッドバーコーティング方式、スピンコート方式、インクジェット方式等による塗布、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷、オフセット印刷、反転オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等による印刷等、公知の各種塗布あるいは印刷方法を利用して、予め支持体上に作製された多孔質層表面の全面、あるいは必要とされる部位への選択的な塗布を行い、解離層を形成することができる。特に好ましくは、リバースグラビアロール方式の中でも、ロールの直径が100mm以下(より好ましくは20~80mm)の斜線グラビアロール(斜線の溝を有するグラビアロール)を用いる方式である。 The coating liquid for forming the dissociation layer can be applied by slide curtain method, slide bead method, slot die method, direct gravure roll method, reverse gravure roll method, spray method, air knife method, blade coating method, rod bar coating method, spin coating method, Preliminarily prepared on a support using various known coating or printing methods such as coating by an inkjet method, etc., screen printing, inkjet printing, dispenser printing, offset printing, reverse offset printing, gravure printing, printing by flexographic printing, etc. The dissociation layer can be formed by selectively coating the entire surface of the formed porous layer or a required portion. Among the reverse gravure roll methods, a method using a diagonal gravure roll (gravure roll having diagonal grooves) having a roll diameter of 100 mm or less (more preferably 20 to 80 mm) is particularly preferable.

本発明の転写用基材における解離層の形成用塗布液の溶剤あるいは分散媒が主に水である場合には、多層スライドカーテン方式、多層スライドビード方式、多層スロットダイ方式等の多層同時塗布が可能な塗布方式を用い、多孔質層と解離層を同時に塗布しても良い。また、支持体が搬送されるライン上に複数の塗布装置が設置されるタンデム型の多層塗布装置を用いても良い。 When the solvent or dispersion medium of the coating liquid for forming the release layer in the transfer base material of the present invention is mainly water, multi-layer simultaneous coating such as a multi-layer slide curtain method, a multi-layer slide bead method, a multi-layer slot die method, and the like can be used. The porous layer and the release layer may be applied simultaneously using any available coating method. Alternatively, a tandem-type multilayer coating apparatus may be used in which a plurality of coating apparatuses are installed on a line along which the support is transported.

本発明において、被転写体に転写される導電性パターンは、導電性微粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成されることが簡便であり好ましい。本発明に用いられる導電性微粒子を含むインクあるいはペーストには、公知のインクあるいはペーストを広く用いることができ、銀ナノインク、銅ナノインク、銀ペースト、銅ペースト、アルミペースト、カーボンインク、カーボンペースト等を例示することができる。導電性に優れ、形成された導電性パターンが酸化されにくい点から、銀超微粒子を含有する銀ナノインクや、銀微粒子を含有する銀ペーストを用いることが好ましく、厚み1μm程度の非常に薄い導電性パターンを形成できる点から、銀ナノインクを用いることが特に好ましい。銀ナノインクは、例えば三菱製紙(株)よりNBSIJシリーズとして市販されており、銀ペーストは、例えば藤倉化成(株)よりドータイト(登録商標)シリーズとして市販されている。 In the present invention, it is convenient and preferable that the conductive pattern to be transferred to the transferred material is formed using ink or paste containing conductive fine particles. As the ink or paste containing conductive fine particles used in the present invention, a wide range of known inks or pastes can be used, including silver nanoink, copper nanoink, silver paste, copper paste, aluminum paste, carbon ink, carbon paste, and the like. can be exemplified. It is preferable to use a silver nano ink containing silver ultrafine particles or a silver paste containing silver fine particles because it has excellent conductivity and the formed conductive pattern is not easily oxidized. It is particularly preferable to use a silver nanoink from the point of being able to form a pattern. Silver nano inks are commercially available, for example, from Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd. as NBSIJ series, and silver pastes are commercially available, for example, from Fujikura Kasei Co., Ltd. as Dotite (registered trademark) series.

本発明において、導電性微粒子を含むインクあるいはペーストは、様々な印刷方法あるいは塗布方式によりパターン形成される。例えば線状の塗布を行うことができるディスペンサー印刷方法を用いたパターン形成、サーマル、ピエゾ、マイクロポンプ、静電気等の各種方式のインクジェット印刷方法を用いたパターン形成、凸版印刷方法、フレキソ印刷方法、平版印刷方法、凹版印刷方法、グラビア印刷方法、反転オフセット印刷方法、枚葉スクリーン印刷方法、ロータリースクリーン印刷方法等の公知の各種印刷方法によるパターンを例示することができる。また、グラビアロール方式、スロットダイ方式、スピンコート方式等、公知の各種塗布方式を用い、転写用基材が有する解離層の全面あるいは一部に連続した面としてパターンを形成すること、間欠塗工ダイコーター等を用い転写用基材が有する解離層の全面あるいは一部に断続した面としてパターンを形成すること、あるいは浸漬塗布方法(ディップ方式とも言われる)を用い、転写用基材が有する解離層全体に導電性微粒子を含むインクあるいはペーストを付着させることもできる。より好ましい印刷方法としては、インクジェット印刷方法、フレキソ印刷方法、グラビア印刷方法、反転オフセット印刷方法、枚葉スクリーン印刷方法、ロータリースクリーン印刷方法を挙げることができる。 In the present invention, the ink or paste containing conductive fine particles is patterned by various printing methods or coating methods. For example, pattern formation using a dispenser printing method that can perform linear application, pattern formation using various types of inkjet printing methods such as thermal, piezo, micropump, and static electricity, letterpress printing methods, flexographic printing methods, lithography Patterns produced by various known printing methods such as a printing method, an intaglio printing method, a gravure printing method, a reverse offset printing method, a sheet-fed screen printing method, and a rotary screen printing method can be exemplified. In addition, using various known coating methods such as gravure roll method, slot die method, spin coating method, etc., forming a pattern as a continuous surface on the entire surface or part of the release layer of the transfer base material, intermittent coating Using a die coater or the like to form a pattern as an intermittent surface on the entire or part of the release layer of the transfer substrate, or using a dip coating method (also called a dip method) to release the transfer substrate. An ink or paste containing conductive fine particles may be applied to the entire layer. More preferable printing methods include an inkjet printing method, a flexographic printing method, a gravure printing method, a reverse offset printing method, a sheet-fed screen printing method, and a rotary screen printing method.

これらの方法によりパターン化された導電性微粒子を含むインクあるいはペーストは、含まれている分散媒を揮散させた後、および/または分散媒を多孔質層が吸収した後、加熱により硬化あるいは焼成し導電性パターンとしても良いが、主に銀からなる金属超微粒子を含むインクを用い、特開2008-4375号公報、特開2008-235224号公報等に記載される導電性発現剤を多孔質層および/または解離層に含有させ、化学的な作用により金属超微粒子同士を結合し導電性パターンとすることが好ましい。化学的な作用により金属超微粒子同士を結合させた場合、得られる導電性パターンは多孔質となるため、被転写体表面の粘着性を有する樹脂成分が導電性パターン内部へ拡散し、被転写体との間に高い密着力を得ることができる。かかる導電性発現剤としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化アンモニウムを例示することができる。 The ink or paste containing conductive fine particles patterned by these methods is cured or baked by heating after volatilizing the contained dispersion medium and/or after the porous layer absorbs the dispersion medium. Although it may be a conductive pattern, an ink containing metal ultrafine particles mainly made of silver is used, and a conductivity enhancer described in JP-A-2008-4375, JP-A-2008-235224, etc. is added to the porous layer. And/or it is preferably contained in the dissociation layer so that the metal ultrafine particles are chemically bonded to each other to form a conductive pattern. When the metal ultrafine particles are bonded to each other by chemical action, the resulting conductive pattern becomes porous, so the adhesive resin component on the surface of the transfer material diffuses into the conductive pattern, and the transfer material It is possible to obtain high adhesion between Examples of such conductivity enhancers include sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, and ammonium chloride.

本発明において、転写用基材上に形成され保持された導電性パターンは常温で粘着性を有する被転写体へ粘着性が発現している状態で転写される。転写は、導電性パターンが形成・保持されている転写用基材の導電性パターンが形成された面と、粘着性を有する被転写体を粘着性が発現している状態で貼合し、その後これらを剥離することによってなされる。 In the present invention, the conductive pattern formed and held on the transfer base material is transferred to the transfer target material, which has adhesiveness at room temperature, while the adhesiveness is exhibited. The transfer is performed by laminating the conductive pattern-formed surface of the transfer base material on which the conductive pattern is formed and held, and the transfer-receiving material having adhesiveness in a state where adhesiveness is exhibited, and then It is done by peeling these off.

なお本発明における常温とはJIS Z 8703に記載される温度範囲、具体的には5~35℃を示す。 The room temperature in the present invention means the temperature range described in JIS Z 8703, specifically 5 to 35°C.

本発明における常温で粘着性を有する被転写体は、常温では柔らかく粘着性を有するが、加熱により硬化する樹脂を含む。このような樹脂として熱硬化性樹脂が知られており、液状レゾール型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、アミノ樹脂、アルキド樹脂などを例示することができる。これらの樹脂を用い被転写体を製造する際には、熱硬化性樹脂以外に、酸硬化剤、アミン系硬化剤などの硬化剤、フタル酸エステル、リン酸エステル、脂肪酸エステル、エポキシ系などの可塑剤、粉末様の酸化チタンやカーボンブラックなどの顔料、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウムなどの充填材、ガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維などの補強材などが配合されていてもよい。 The object to be transferred which is sticky at room temperature in the present invention contains a resin which is soft and sticky at room temperature but hardens by heating. Thermosetting resins are known as such resins, and liquid resol-type phenolic resins, novolac-type phenolic resins, furan resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, amino resins, alkyd resins, and the like can be exemplified. . When these resins are used to produce a material to be transferred, in addition to thermosetting resins, curing agents such as acid curing agents and amine curing agents, phthalate esters, phosphate esters, fatty acid esters, epoxy-based curing agents, etc. Plasticizers, pigments such as powdery titanium oxide and carbon black, fillers such as aluminum hydroxide, zinc oxide and calcium carbonate, reinforcing materials such as glass fibers, carbon fibers and aramid fibers may be blended.

特に、硬化剤などを含んだエポキシ樹脂やフェノール樹脂、および不飽和ポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂を炭素繊維やガラス繊維に含浸させ、フィルム状に成型し、離型フィルムや離型紙を両面に貼合し、加熱または乾燥により半硬化状態とした材料が、炭素繊維強化樹脂やガラス繊維強化樹脂のプリプレグとして広く用いられている。これらの材料は、半硬化状態のプリプレグを重ねた際に容易に粘着し一体化するように、常温で粘着性を有しており、本発明における常温で粘着性を有する被転写体として好適に用いることができる。 In particular, thermosetting resins such as epoxy resins, phenolic resins, and unsaturated polyester resins containing hardeners are impregnated into carbon fiber or glass fiber, molded into a film, and a release film or release paper is placed on both sides. Materials that are laminated and semi-cured by heating or drying are widely used as prepregs for carbon fiber reinforced resins and glass fiber reinforced resins. These materials are tacky at room temperature so that when semi-cured prepregs are layered, they are easily tacky and integrated. can be used.

また、前記プリプレグを製造するために、硬化剤などを含んだエポキシ樹脂をシート化したエポキシ樹脂シートが市販されており、本発明における常温で粘着性を有する被転写体として好適に用いることができる。 In addition, for producing the prepreg, an epoxy resin sheet obtained by sheeting an epoxy resin containing a curing agent or the like is commercially available. .

本発明における被転写体に転写パターンを転写する工程について説明する。被転写体は常温で粘着性を有する被転写体であり、粘着性が発現している状態で導電性パターンの転写が行われる。転写は転写用基材と被転写体を貼合し剥離することにより行われる。例えば被転写体が立体物である場合には被転写体に転写用基材を貼合し剥離することにより行われ、例えばプリプレグ等のシート様物であればロールラミネーターを使用したラミネート法により導電性パターンを被転写体に圧着する方法が好ましい。ラミネートの条件としては、ロール温度は室温(5~35℃)、圧力が1~50N/cmで、時間が0.1秒~5分であることが好ましく、より好ましく圧力が5~20N/cmで、時間が1秒~1分であるが、被転写体の厚みや種類等により適宜調整することができる。圧力が1N/cmを下回ると被転写体への導電性パターンの転写が均一に行われない場合があり、50N/cmを超えると転写用基材の剥離が困難になる場合がある。 A process of transferring a transfer pattern to a transfer target in the present invention will be described. The transfer-receiving material is a transfer-receiving material having adhesiveness at room temperature, and the conductive pattern is transferred in a state in which the adhesiveness is exhibited. Transfer is performed by laminating and peeling the base material for transfer and the material to be transferred. For example, when the object to be transferred is a three-dimensional object, the substrate for transfer is adhered to and peeled off from the object to be transferred. A preferred method is to press the physical pattern onto the material to be transferred. The lamination conditions are preferably a roll temperature of room temperature (5 to 35° C.), a pressure of 1 to 50 N/cm 2 and a time of 0.1 second to 5 minutes, more preferably 5 to 20 N/cm. cm 2 , and the time is 1 second to 1 minute, but can be appropriately adjusted depending on the thickness and type of the material to be transferred. If the pressure is less than 1 N/cm 2 , the conductive pattern may not be uniformly transferred to the transferred material, and if it exceeds 50 N/cm 2 , the transfer substrate may become difficult to separate.

貼合された転写用基材と被転写体を剥離する場合、剥離する際の被転写体側の、JIS Z0237に準じ測定される角度は浅い方が好ましい。転写用基材から被転写体を剥離する際には剥離部分にて曲がりが発生し、これにより導電性パターンも曲がることとなるが、この曲がる時の角度が小さい程、導電性パターンの導電性低下が小さいため好ましい。具体的には90度以下で剥離することが好ましい。90度を超えると、導電性パターンの厚みにもよるが、導電性が数十%程度低下する場合がある。 When the bonded transfer base material and transfer material are separated, the angle measured according to JIS Z0237 on the transfer material side at the time of separation is preferably shallow. When the material to be transferred is peeled off from the transfer base material, a bend occurs at the peeled portion, which also bends the conductive pattern. It is preferable because the decrease is small. Specifically, it is preferable to peel off at 90 degrees or less. If it exceeds 90 degrees, depending on the thickness of the conductive pattern, the conductivity may decrease by several tens of percent.

本発明において常温で粘着性を有する被転写体の粘着力は、JIS Z0237に準じ剥離角度180度にて測定され、幅25mmあたりの粘着力(N/25mm)として示される。本発明において、常温で粘着性を有する被転写体の好ましい粘着力は、0.1~20N/25mmであり、より好ましくは0.2~10N/25mmである。粘着力が0.1N/25mm未満では、導電性パターンの転写を行うことができない場合があり、20N/25mmを超えると、転写用基材の剥離が困難となる場合がある。従って、本発明において粘着性を有さないとは、粘着力が0.1N/25mm未満であることを言う。 In the present invention, the adhesive strength of a transfer material that is adhesive at room temperature is measured at a peeling angle of 180 degrees according to JIS Z0237, and is expressed as the adhesive strength per width of 25 mm (N/25 mm). In the present invention, the adhesive strength of the transferred material having adhesiveness at room temperature is preferably 0.1 to 20 N/25 mm, more preferably 0.2 to 10 N/25 mm. If the adhesive strength is less than 0.1 N/25 mm, the conductive pattern may not be transferred, and if it exceeds 20 N/25 mm, peeling of the transfer substrate may be difficult. Accordingly, in the present invention, having no adhesiveness means that the adhesive strength is less than 0.1 N/25 mm.

本発明において、被転写体は導電性パターンの転写後に加熱硬化を実施する。加熱硬化を行うことにより、導電性パターンの被転写体に対する密着力が向上するとともに、導電性パターンの転写前に被転写体が有していた粘着性が消失または小さくなる。また被転写体としてプリプレグを用いた場合には、導電性パターンが転写されたプリプレグをそのまま加熱硬化し導電性部材としても良いが、必要に応じ導電性パターンが転写されていないプリプレグを重ねて成型した後に加熱硬化し、導電性部材としてもよい。加熱硬化の条件は熱硬化性樹脂に適した温度や加熱時間で行えば良く、例えばエポキシ樹脂の場合には好ましくは130~200℃であり、より好ましくは140~190℃、加熱時間は5分~2時間程度であるが、これに限定されるものではない。 In the present invention, the material to be transferred is heat-cured after transferring the conductive pattern. By performing heat curing, the adhesion of the conductive pattern to the transferred material is improved, and the tackiness of the transferred material before the conductive pattern is transferred disappears or decreases. When a prepreg is used as a transfer target, the prepreg to which the conductive pattern has been transferred may be heated and cured as it is to form a conductive member. After that, it may be cured by heating to form a conductive member. Heat curing may be performed at a temperature and a heating time suitable for the thermosetting resin. For example, in the case of epoxy resin, the temperature is preferably 130 to 200° C., more preferably 140 to 190° C., and the heating time is 5 minutes. Although it is about 2 hours, it is not limited to this.

以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明の内容は実施例に限られるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the content of the present invention is not limited to the examples.

(実施例1)
水に、カウンターイオンに塩素イオンを持つジアリルジメチルアンモニウムクロライド-重合物としてシャロール(登録商標)DC902P(第一工業製薬(株)製)8質量部と、無機微粒子として気相法シリカ(平均一次粒子径7nm、比表面積300m/g)100質量部を添加し、のこぎり歯状ブレード型分散機(ブレード周速30m/秒)を使用して予備分散液を作製した。次に得られた予備分散物を高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度が20質量%の無機微粒子分散液1を製造した。気相法シリカの平均二次粒子径は130nmであった。
(Example 1)
In water, diallyldimethylammonium chloride having chloride ions as counter ions, Sharoll (registered trademark) DC902P (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 8 parts by mass as a polymer, and vapor-phase silica (average primary particles) as inorganic fine particles 100 parts by mass of a powder having a diameter of 7 nm and a specific surface area of 300 m 2 /g) was added, and a pre-dispersion liquid was prepared using a sawtooth blade type disperser (blade peripheral speed of 30 m/sec). Next, the resulting preliminary dispersion was treated with a high-pressure homogenizer to produce an inorganic fine particle dispersion 1 having a solid content concentration of 20% by mass. The average secondary particle size of the fumed silica was 130 nm.

上記無機微粒子分散液1を用い下記組成の多孔質層形成塗布液1を作製した。支持体として易接着処理がなされた厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製)に多孔質層形成塗布液1をスライドビードコーターで固形分塗布量が気相法シリカ換算で25g/mとなるように塗布、乾燥し多孔質層を形成した。該多孔質層の膜厚は38μmであった。 Using the inorganic fine particle dispersion liquid 1, a porous layer forming coating liquid 1 having the following composition was prepared. Porous layer-forming coating solution 1 was applied to a 100 μm thick polyethylene terephthalate film (manufactured by Teijin DuPont Films Co., Ltd.) which had been treated for easy adhesion as a support, using a slide bead coater to give a solid content of 25 g/gas-phase silica equivalent. A porous layer was formed by coating and drying to a thickness of m 2 . The thickness of the porous layer was 38 μm.

<多孔質層形成塗布液1>
無機微粒子分散液1 (シリカ固形分として)100質量部
ポリビニルアルコール 25質量部
(ケン化度88%、平均重合度3500)
ホウ酸 4質量部
ノニオン性界面活性剤 0.3質量部
(ポリオキシエチレンアルキルエーテル)
水以外の成分濃度が13質量%になるように水で調整した。
<Porous layer forming coating liquid 1>
Inorganic fine particle dispersion liquid 1 (as silica solid content) 100 parts by mass Polyvinyl alcohol 25 parts by mass (degree of saponification 88%, average degree of polymerization 3500)
Boric acid 4 parts by mass Nonionic surfactant 0.3 parts by mass (polyoxyethylene alkyl ether)
It was adjusted with water so that the concentration of components other than water was 13% by mass.

次いで、多孔質層面に下記組成の導電性発現剤塗布液を、斜線グラビアロールを用いた塗布方式により塗布を行い、乾燥機により乾燥した。ここで用いた斜線グラビアロールは、直径60mm、斜線角度45度、線数90線/インチ、溝深さ110μmのグラビアロールであり、リバース回転で用いた。湿分塗布量は、斜線グラビアロールの回転数を調整し20g/mに設定した。塗布された導電性発現剤塗布液は多孔質層内部に吸収され、表面には多孔質層が露出していた。 Next, the surface of the porous layer was coated with a coating liquid for an electroconductivity enhancer having the following composition by a coating method using a diagonal gravure roll, followed by drying with a drier. The oblique line gravure roll used here had a diameter of 60 mm, an oblique line angle of 45 degrees, a line number of 90 lines/inch, and a groove depth of 110 μm, and was used in reverse rotation. The moisture coating amount was set to 20 g/m 2 by adjusting the number of rotations of the hatched gravure roll. The applied electroconductivity enhancer coating liquid was absorbed inside the porous layer, and the porous layer was exposed on the surface.

<導電性発現剤塗布液>
塩化ナトリウム 0.3質量部
水 99.7質量部
<Conductivity enhancer coating solution>
Sodium chloride 0.3 parts by mass Water 99.7 parts by mass

次いで多孔質層面に下記組成の解離層塗布液1を、斜線グラビアロールを用いた塗布方式により塗布を行い、乾燥機により乾燥し、転写用基材1を得た。ここで用いた斜線グラビアロールは、直径60mm、斜線角度45度、線数90線/インチ、溝深さ110μmのグラビアロールであり、リバース回転で用いた。湿分塗布量は、斜線グラビアロールの回転数を調整し20g/mに設定した。多孔質層上に形成された解離層の固形分塗布量は0.6g/mであった。 Next, a release layer coating solution 1 having the following composition was applied to the surface of the porous layer by a coating method using a diagonal gravure roll, and dried with a dryer to obtain a transfer base material 1. The oblique line gravure roll used here had a diameter of 60 mm, an oblique line angle of 45 degrees, a line number of 90 lines/inch, and a groove depth of 110 μm, and was used in reverse rotation. The moisture coating amount was set to 20 g/m 2 by adjusting the number of rotations of the hatched gravure roll. The solid content coating amount of the release layer formed on the porous layer was 0.6 g/m 2 .

<解離層塗布液1>
コロイダルシリカ20質量%スラリー 15質量部
(扶桑化学工業(株)製、クォートロンPL-3L、平均一次粒子径35nm)
水 85質量部
<Release layer coating liquid 1>
Colloidal silica 20% by mass slurry 15 parts by mass (Fuso Chemical Industry Co., Ltd., Quatron PL-3L, average primary particle size 35 nm)
Water 85 parts by mass

<転写用基材1上への導電性パターン作製>
転写用基材1に対し、銀ナノインク(三菱製紙(株)製NBSIJ-MU01、銀濃度15質量%)を入れたピエゾタイプのインクジェットプリンタを用い、50mm×50mmのベタパターン(面状パターン)で印刷を行い、導電性パターンを形成した。銀ナノインクの吐出量は23ml/mであり、導電性パターンの厚みは0.8μmであった。
<Preparation of conductive pattern on transfer substrate 1>
Using a piezo-type inkjet printer containing silver nano ink (NBSIJ-MU01 manufactured by Mitsubishi Paper Mills, Ltd., silver concentration 15% by mass), a solid pattern (planar pattern) of 50 mm × 50 mm was applied to the transfer substrate 1. Printing was performed to form a conductive pattern. The ejection amount of silver nanoink was 23 ml/m 2 and the thickness of the conductive pattern was 0.8 μm.

ロールラミネーターを用い、転写用基材1の導電性パターン形成面と被転写体1である炭素繊維強化樹脂成型用のプリプレグ(東レ(株)製トレカ(登録商標)F6343B、熱硬化性樹脂はエポキシ樹脂、25℃におけるJIS Z0237に準じ剥離角度180度にて測定された粘着力は0.25N/25mm)を、ロール温度25℃、圧力10N/cm、速度0.3m/分(圧着時間として1秒)で圧着処理を行った。圧着処理を行った後、転写用基材1を剥離し、140℃で30分間の加熱硬化処理を行い、導電性パターンを有する実施例1の導電性部材を得た。 Using a roll laminator, the conductive pattern forming surface of the transfer base material 1 and the prepreg (Torayca (registered trademark) F6343B manufactured by Toray Industries, Inc.) for molding the carbon fiber reinforced resin that is the transfer target 1, the thermosetting resin is epoxy The adhesive strength measured at a peel angle of 180 degrees according to JIS Z0237 at 25 ° C. is 0.25 N / 25 mm), the roll temperature is 25 ° C., the pressure is 10 N / cm 2 , the speed is 0.3 m / min (as crimping time 1 second). After the press-bonding treatment, the transfer base material 1 was peeled off, and heat curing treatment was performed at 140° C. for 30 minutes to obtain a conductive member of Example 1 having a conductive pattern.

(実施例2)
水に硝酸2.5質量部とアルミナ水和物(平均一次粒子径15nm)100質量部を添加し、のこぎり歯状ブレード型分散機を用いて、固形分濃度30質量%の無機微粒子分散液2を得た。無機微粒子分散液2中に分散しているアルミナ水和物の平均二次粒子径は160nmであった。
(Example 2)
2.5 parts by mass of nitric acid and 100 parts by mass of alumina hydrate (average primary particle size: 15 nm) are added to water, and inorganic fine particle dispersion 2 having a solid content concentration of 30% by mass is prepared using a sawtooth blade type disperser. got The average secondary particle size of the alumina hydrate dispersed in the inorganic fine particle dispersion liquid 2 was 160 nm.

上記無機微粒子分散液2を用い下記組成の多孔質層形成塗布液2を作製し、支持体として易接着処理がなされた厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製)に多孔質層形成塗布液2をスライドビードコーターで固形分塗布量がアルミナ水和物換算で32g/mとなるように塗布、乾燥し多孔質層を形成した。該多孔質層の膜厚は42μmであった。 Using the inorganic fine particle dispersion 2, a porous layer forming coating liquid 2 having the following composition was prepared. Forming Coating Liquid 2 was coated with a slide bead coater so that the solid content coating amount was 32 g/m 2 in terms of alumina hydrate, and dried to form a porous layer. The film thickness of the porous layer was 42 μm.

<多孔質層形成塗布液2>
無機微粒子分散液2 (アルミナ水和物固形分として)100質量部
ポリビニルアルコール 9質量部
(ケン化度88%、平均重合度3,500、分子量約150,000)
ホウ酸 0.4質量部
ノニオン性界面活性剤 0.3質量部
(ポリオキシエチレンアルキルエーテル)
水以外の成分濃度が16質量%になるように水で調整した。
<Porous layer forming coating liquid 2>
Inorganic fine particle dispersion liquid 2 (as alumina hydrate solid content) 100 parts by mass Polyvinyl alcohol 9 parts by mass (degree of saponification 88%, average degree of polymerization 3,500, molecular weight about 150,000)
Boric acid 0.4 parts by mass Nonionic surfactant 0.3 parts by mass (polyoxyethylene alkyl ether)
It was adjusted with water so that the concentration of components other than water was 16% by mass.

次いで、多孔質層面に先に示した組成の導電性発現剤塗布液を、斜線グラビアロールを用いた塗布方式により塗布を行い、乾燥機により乾燥した。ここで用いた斜線グラビアロールは、直径60mm、斜線角度45度、線数90線/インチ、溝深さ110μmのグラビアロールであり、リバース回転で用いた。湿分塗布量は、斜線グラビアロールの回転数を調整し20g/mに設定した。塗布された導電性発現剤塗布液は多孔質層内部に吸収され、表面には多孔質層が露出していた。 Next, the coating liquid of the electroconductivity enhancer having the composition shown above was applied to the surface of the porous layer by a coating method using a slanted gravure roll, and dried with a drier. The oblique line gravure roll used here had a diameter of 60 mm, an oblique line angle of 45 degrees, a line number of 90 lines/inch, and a groove depth of 110 μm, and was used in reverse rotation. The moisture coating amount was set to 20 g/m 2 by adjusting the number of rotations of the hatched gravure roll. The applied electroconductivity enhancer coating liquid was absorbed inside the porous layer, and the porous layer was exposed on the surface.

次いで多孔質層面に下記組成の解離層塗布液2を、斜線グラビアロールを用いた塗布方式により塗布を行い、乾燥機により乾燥し、転写用基材2を得た。ここで用いた斜線グラビアロールは、直径60mm、斜線角度45度、線数90線/インチ、溝深さ110μmのグラビアロールであり、リバース回転で用いた。湿分塗布量は、斜線グラビアロールの回転数を調整し20g/mに設定した。多孔質層上に形成された解離層の固形分塗布量は0.4g/mであった。 Next, a release layer coating solution 2 having the following composition was applied to the surface of the porous layer by a coating method using a diagonal gravure roll, and dried with a dryer to obtain a transfer base material 2 . The oblique line gravure roll used here had a diameter of 60 mm, an oblique line angle of 45 degrees, a line number of 90 lines/inch, and a groove depth of 110 μm, and was used in reverse rotation. The moisture coating amount was set to 20 g/m 2 by adjusting the number of rotations of the hatched gravure roll. The solid content coating amount of the release layer formed on the porous layer was 0.4 g/m 2 .

<解離層塗布液2>
コロイダルシリカ40質量%スラリー 5質量部
(日産化学工業(株)製、スノーテックスZL、平均一次粒子径80nm)
水 95質量部
<Dissociation layer coating solution 2>
Colloidal silica 40% by mass slurry 5 parts by mass (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Snowtex ZL, average primary particle size 80 nm)
Water 95 parts by mass

転写用基材2に対し、銀ナノインク(三菱製紙(株)製NBSIJ-MU01、銀濃度15質量%)を入れたピエゾタイプのインクジェットプリンタを用い、50mm×50mmのベタパターンで印刷を行い、導電性パターンを形成した。銀ナノインクの吐出量は23ml/mであり、導電性パターンの厚みは0.8μmであった。 A piezo-type inkjet printer containing silver nano ink (NBSIJ-MU01 manufactured by Mitsubishi Paper Mills, Ltd., silver concentration 15% by mass) is used on the transfer base material 2, and a solid pattern of 50 mm × 50 mm is printed. form a sexual pattern. The ejection amount of silver nanoink was 23 ml/m 2 and the thickness of the conductive pattern was 0.8 μm.

ロールラミネーターを用い、転写用基材2の導電性パターン形成面と被転写体2であるエポキシ樹脂シート(サンユレック(株)製DRS-028、熱硬化性樹脂はエポキシ樹脂、25℃におけるJIS Z0237に準じ剥離角度180度にて測定された粘着力は0.9N/25mm)を、ロール温度25℃、圧力10N/cm、速度0.3m/分(圧着時間として1秒)で圧着処理を行った。圧着処理を行った後、転写用基材2を剥離し、150℃で60分間の加熱硬化処理を行い、導電性パターンを有する実施例2の導電性部材を得た。 Using a roll laminator, the conductive pattern forming surface of the transfer substrate 2 and the epoxy resin sheet (Sanyu Rec Co., Ltd. DRS-028, thermosetting resin is epoxy resin, JIS Z0237 at 25 ° C. The adhesive strength measured at a peeling angle of 180 degrees was 0.9 N/25 mm), and the pressure was applied at a roll temperature of 25°C, a pressure of 10 N/cm 2 , and a speed of 0.3 m/min (1 second as the pressure bonding time). rice field. After the press-bonding treatment, the transfer base material 2 was peeled off, and heat curing treatment was performed at 150° C. for 60 minutes to obtain a conductive member of Example 2 having a conductive pattern.

(実施例3)
実施例2の解離層塗布液2を下記組成の解離層塗布液3へ変更した以外は実施例2と同様にして、実施例3の導電性部材を得た。なお、多孔質層上に形成された解離層の固形分塗布量は0.6g/mであった。
(Example 3)
A conductive member of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the release layer coating solution 2 of Example 2 was changed to release layer coating solution 3 having the following composition. The solid content coating amount of the release layer formed on the porous layer was 0.6 g/m 2 .

<解離層塗布液3>
酸化ジルコニウム20質量%ゾル 15質量部
(ナイヤコール社製、Zr100/20、平均一次粒子径100nm)
水 85質量部
<Release layer coating liquid 3>
15 parts by mass of 20% by mass zirconium oxide sol (Zr100/20, manufactured by Nyacol, average primary particle size 100 nm)
Water 85 parts by mass

(実施例4)
実施例3の被転写体2を被転写体1に変更し、加熱硬化処理を140℃で30分間行った以外は実施例3と同様にして、実施例4の導電性部材を得た。
(Example 4)
A conductive member of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the transferee 2 in Example 3 was changed to the transferee 1 and the heat curing treatment was performed at 140° C. for 30 minutes.

(実施例5)
実施例2の解離層塗布液2を下記組成の解離層塗布液4へ変更した以外は実施例2と同様にして、実施例5の導電性部材を得た。なお、多孔質層上に形成された解離層の固形分塗布量は0.2g/mであった。
(Example 5)
A conductive member of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the release layer coating solution 2 of Example 2 was changed to release layer coating solution 4 having the following composition. The solid content coating amount of the release layer formed on the porous layer was 0.2 g/m 2 .

<解離層塗布液4>
フッ素樹脂60質量%水分散体 1.7質量部
(ダイキン工業(株)製PTFE D-210C、平均一次粒子径220nm)
水 98.2質量部
アニオン性界面活性剤 0.05質量部
(ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム)
<Release layer coating solution 4>
1.7 parts by mass of fluororesin 60% by mass aqueous dispersion (PTFE D-210C manufactured by Daikin Industries, Ltd., average primary particle size 220 nm)
Water 98.2 parts by mass Anionic surfactant 0.05 parts by mass (sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate)

(実施例6)
実施例5の被転写体2を被転写体1に変更し、加熱硬化処理を140℃で30分間行った以外は実施例5と同様にして、実施例6の導電性部材を得た。
(Example 6)
A conductive member of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 5, except that the transferee 2 in Example 5 was changed to the transferee 1 and the heat curing treatment was performed at 140° C. for 30 minutes.

(比較例1)
実施例1に用いた被転写体1を140℃30分間の加熱硬化処理を行い、常温で粘着性を有さないシート状成型物とした後、スクリーン印刷機を用いて、銀ペースト(藤倉化成(株)製ドータイトFA-333)を50mm×50mmのベタパターンで印刷を行い、120℃10分間の銀ペースト加熱硬化処理を行い、比較例1の導電性部材を得た。
(Comparative example 1)
The material to be transferred 1 used in Example 1 was subjected to a heat curing treatment at 140° C. for 30 minutes to form a non-adhesive sheet-like molding at room temperature. Dotite FA-333 manufactured by Co., Ltd.) was printed in a solid pattern of 50 mm×50 mm, and a silver paste heat curing treatment was performed at 120° C. for 10 minutes to obtain a conductive member of Comparative Example 1.

(比較例2)
実施例2に用いた被転写体2を150℃60分間の加熱硬化処理を行い、常温で粘着性を有さないシート状成型物とした後、スクリーン印刷機を用いて、銀ペースト(藤倉化成(株)製ドータイトFA-333)を50mm×50mmのベタパターンで印刷を行い、120℃10分間の銀ペースト加熱硬化処理を行い、比較例2の導電性部材を得た。
(Comparative example 2)
The material to be transferred 2 used in Example 2 was subjected to a heat curing treatment at 150° C. for 60 minutes to form a non-adhesive sheet-like molding at room temperature. Dotite FA-333 manufactured by Co., Ltd.) was printed in a solid pattern of 50 mm×50 mm, and a silver paste heat curing treatment was performed at 120° C. for 10 minutes to obtain a conductive member of Comparative Example 2.

(比較例3)
実施例1に用いた被転写体1を140℃30分間の加熱硬化処理を行い、常温で粘着性を有さないシート状成型物とした後、実施例1において転写用基材1上に作製された導電性パターンを両面テープ(日東電工(株)製No.5600、25℃におけるJIS Z0237に準じ剥離角度180度にて測定された粘着力は7.5N/25mm)の片面に転写した後、導電性パターンが転写された両面テープの導電性パターンを有さない側の粘着面を被転写体1に貼り付け、比較例3の導電性部材を得た。
(Comparative Example 3)
The material to be transferred 1 used in Example 1 was subjected to a heat curing treatment at 140° C. for 30 minutes to form a non-adhesive sheet-like molding at room temperature, and then produced on the transfer substrate 1 in Example 1. After transferring the conductive pattern to one side of a double-sided tape (Nitto Denko Co., Ltd. No. 5600, adhesive strength measured at a peeling angle of 180 degrees according to JIS Z0237 at 25 ° C. is 7.5 N / 25 mm) A conductive member of Comparative Example 3 was obtained by sticking the adhesive surface of the double-faced tape to which the conductive pattern was transferred to the transfer target 1 without the conductive pattern.

(比較例4)
実施例2に用いた被転写体2を150℃60分間の加熱硬化処理を行い、常温で粘着性を有さないシート状成型物とした後、実施例2において転写用基材2上に作製された導電性パターンを両面テープ(日東電工(株)製No.5600)の片面に転写した後、導電性パターンが転写された両面テープの導電性パターンを有さない側の粘着面を被転写体2に貼り付け、比較例4の導電性部材を得た。
(Comparative Example 4)
The material to be transferred 2 used in Example 2 is subjected to a heat curing treatment at 150° C. for 60 minutes to form a non-adhesive sheet-like molding at normal temperature, and then produced on the transfer substrate 2 in Example 2. After transferring the conductive pattern onto one side of a double-sided tape (No. 5600 manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.), the adhesive surface of the double-sided tape to which the conductive pattern has been transferred, which does not have the conductive pattern, is transferred. Affixed to the body 2, a conductive member of Comparative Example 4 was obtained.

得られた実施例1~6および比較例1~4の導電性部材に関し、次の評価を行った。
<導電性>
導電性部材上に転写されてなる面状パターンのシート抵抗値を測定器((株)ダイアインスツルメンツ製ロレスタ(登録商標)-GP)を用いて測定した。その結果を表1に示す。
The conductive members obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated as follows.
<Conductivity>
The sheet resistance value of the planar pattern transferred onto the conductive member was measured using a measuring device (Loresta (registered trademark)-GP manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.). Table 1 shows the results.

<密着性>
導電性部材上に転写されてなる面状パターンをJIS K 5600-5-6に規定されるクロスカット法にて、被転写体に対する密着性を確認した。密着性はJIS K 5600-5-6における評価と同様に0~5の6段階で評価した。(0:どの格子の目にもはがれがない。1:はがれの程度が5%以下である。2:はがれの程度が5%を超え15%以下である。3:はがれの程度が15%を超え35%以下である。4:はがれの程度が35%を超え65%以下である。5:はがれの程度が65%を超える。)この結果を表1に示す。
<Adhesion>
Adhesion of the planar pattern transferred onto the conductive member to the transferred material was confirmed by the cross-cut method specified in JIS K 5600-5-6. Adhesion was evaluated on a scale of 0 to 5 in the same manner as in JIS K 5600-5-6. (0: No peeling in any grid mesh. 1: The degree of peeling is 5% or less. 2: The degree of peeling is more than 5% and 15% or less. 3: The degree of peeling is 15%. Table 1 shows the results.

Figure 0007232594000001
Figure 0007232594000001

表1の結果より、本発明の導電性部材の製造方法により、工程が簡便かつパターンの密着性が良好な導電性部材の製造方法が得られることが判る。 From the results in Table 1, it can be seen that the method for producing a conductive member according to the present invention can provide a method for producing a conductive member with simple steps and good adhesion of the pattern.

1 支持体
2 多孔質層
3 解離層
4 導電性パターン
5 被転写体
10 転写用基材
REFERENCE SIGNS LIST 1 Support 2 Porous layer 3 Dissociation layer 4 Conductive pattern 5 Material to be transferred 10 Substrate for transfer

Claims (1)

支持体上に少なくとも多孔質層と該多孔質層上に無機微粒子として酸化ジルコニウムまたは有機微粒子としてフッ素樹脂を含有する解離層を有する転写用基材の解離層の上に導電性パターンを形成する工程、前記工程で得られた導電性パターンを常温で粘着性を有する被転写体に転写する工程、および導電性パターンが転写された被転写体を加熱硬化する工程を少なくとも具備する導電性部材の製造方法。 A conductive pattern is formed on the release layer of a transfer substrate having at least a porous layer on a support and a release layer containing zirconium oxide as inorganic fine particles or fluororesin as organic fine particles on the porous layer. A conductive member comprising at least the steps of: transferring the conductive pattern obtained in the above step to a transfer-receiving material having adhesiveness at room temperature; and heating and curing the transfer-receiving material to which the conductive pattern has been transferred. Production method.
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