JP7223379B2 - 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 - Google Patents
微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7223379B2 JP7223379B2 JP2020541201A JP2020541201A JP7223379B2 JP 7223379 B2 JP7223379 B2 JP 7223379B2 JP 2020541201 A JP2020541201 A JP 2020541201A JP 2020541201 A JP2020541201 A JP 2020541201A JP 7223379 B2 JP7223379 B2 JP 7223379B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermal plasma
- raw material
- plasma flame
- gas
- fine particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/02—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by dividing the liquid material into drops, e.g. by spraying, and solidifying the drops
- B01J2/04—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by dividing the liquid material into drops, e.g. by spraying, and solidifying the drops in a gaseous medium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/003—Apparatus, e.g. furnaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
- B22F9/08—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
- B22F9/082—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/14—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes using electric discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/42—Plasma torches using an arc with provisions for introducing materials into the plasma, e.g. powder, liquid
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0869—Feeding or evacuating the reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0875—Gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0881—Two or more materials
- B01J2219/089—Liquid-solid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
- B01J2219/0898—Hot plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
- B22F9/08—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
- B22F9/082—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
- B22F2009/086—Cooling after atomisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2202/00—Treatment under specific physical conditions
- B22F2202/13—Use of plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2245/00—Applications of plasma devices
- H05H2245/50—Production of nanostructures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
例えば、特許文献1には、炭化チタン微粒子の製造方法が記載されている。
特許文献1では、チタンまたはチタン酸化物の粉末をキャリアガスにより分散させ、チタンまたはチタン酸化物の粉末を熱プラズマ炎中に供給する工程と、熱プラズマ炎の終端部に、冷却用ガスと炭素源として反応性ガスを供給し、炭化チタン微粒子を生成する工程とを備えており、反応性ガスの供給量を変えて生成される炭化チタン微粒子の酸素含有量を変えることが記載されている。
また、特許文献1には、チタンまたはチタン酸化物の粉末を、炭素源である炭素を含む液体状の物質に分散させてスラリーにし、スラリーをキャリアガスにより液滴化させて熱プラズマ炎中に供給する工程を備えており、スラリーのフィード量が一定になるように制御し、スラリーを投入する際のキャリアガスの流量を変えて、生成される炭化チタン微粒子の酸素含有量を変えることが記載されている。
特許文献1に記載の製造方法では、ナノサイズの微粒子を製造することができるものの、現在、よりサイズが小さい微粒子が要求されており、この要求に十分に対応できない。
本発明の目的は、より小さな微粒子を製造する微粒子の製造装置および微粒子の製造方法を提供することにある。
また、前記プラズマ発生部は、前記熱プラズマ炎として、温度状態が時間変調された変調誘導熱プラズマ炎を発生させ、前記変調誘導熱プラズマ炎を周期的に高温状態と、前記高温状態よりも温度が低い低温状態とにさせることが好ましい。
前記原料供給部は、前記変調誘導熱プラズマ炎が前記高温状態のときに、前記原料の供給量を多くすることが好ましい。
前記原料供給部は、前記原料を、粒子状に分散させた状態で、前記熱プラズマ炎中に供給することが好ましい。
前記原料供給部は、前記原料を液体に分散させてスラリーにし、前記スラリーを液滴化して前記熱プラズマ炎中に供給することが好ましい。
また、前記熱プラズマ炎は、温度状態が時間変調されて周期的に高温状態と、この高温状態よりも温度が低い低温状態とにされる変調誘導熱プラズマ炎であることが好ましい。
前記第1の工程では、前記変調誘導熱プラズマ炎が前記高温状態のときに、前記原料の供給量を多くすることが好ましい。
前記第1の工程では、前記原料を、粒子状に分散させた状態で、前記熱プラズマ炎中に供給することが好ましい。
前記第1の工程では、前記原料を液体に分散させてスラリーにし、前記スラリーを液滴化して前記熱プラズマ炎中に供給することが好ましい。
図1は本発明の実施形態の微粒子の製造装置の一例を示す模式図である。
なお、製造装置10は、微粒子であれば、その種類は特に限定されるものではなく、原料の組成を変えることにより、金属微粒子以外にも微粒子として、酸化物微粒子、窒化物微粒子、炭化物微粒子、酸窒化物微粒子等の微粒子を製造することができる。
製造装置10は、原料供給部12と、プラズマトーチ14と、チャンバー16と、回収部18と、プラズマガス供給部20と、プラズマ発生部21と、気体供給部22と、制御部24とを有する。
また、原料供給部12とプラズマトーチ14との間の供給管13に、後述するように間歇供給部15を設けてもよい。製造装置10では間歇供給部15は必須の構成ではないが、間歇供給部15を設けた方がより好ましい。
プラズマトーチ14の下方にチャンバー16が設けられ、チャンバー16に回収部18が設けられている。プラズマ発生部21はプラズマトーチ14に接続されており、後述するようにプラズマ発生部21により、プラズマトーチ14の内部に熱プラズマ炎100が発生される。
原料供給部12は、原料を熱プラズマ炎100中に供給することができれば、特に限定されるものではなく、原料を粒子状に分散させた状態で熱プラズマ炎100中に供給するものと、原料をスラリーにし、スラリーを液滴化した形態で熱プラズマ炎100中に供給するものとの2通りの方式を用いることができる。
例えば、原料供給部12は、例えば、原料の粉末を貯蔵する貯蔵槽(図示せず)と、原料の粉末を定量搬送するスクリューフィーダ(図示せず)と、スクリューフィーダで搬送された原料の粉末が最終的に散布される前に、これを粒子の状態に分散させる分散部(図示せず)と、キャリアガス供給源(図示せず)とを有する。
キャリアガス供給源から押し出し圧力がかけられたキャリアガスとともに原料の粉末は供給管13を介してプラズマトーチ14内の熱プラズマ炎100中へ供給される。
原料供給部12は、原料の粉末の凝集を防止し、分散状態を維持したまま、原料の粉末を、粒子状に分散させた状態でプラズマトーチ14内に散布することができるものであれば、その構成は特に限定されるものではない。キャリアガスには、例えば、アルゴンガス(Arガス)、窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。
スラリーの形態で原料を供給する場合、原料の粉末を水等の液体に分散させてスラリーにする。なお、スラリー中の原料の粉末と水との混合比は、特に限定されるものではなく、例えば、質量比で5:5(50%:50%)である。
このように、二流体ノズル機構は、スラリーに高圧をかけ、気体である噴霧ガス(キャリアガス)によりスラリーを噴霧することができ、スラリーを液滴化させるための一つの方法として用いられる。
なお、上述の二流体ノズル機構に限定されるものではなく、一流体ノズル機構を用いてもよい。さらに他の方法として、例えば、回転している円板上にスラリーを一定速度で落下させて遠心力により液滴化する(液滴を形成する)方法、スラリー表面に高い電圧を印加して液滴化する(液滴を発生させる)方法等が挙げられる。
図2に示すように、プラズマトーチ14は、石英管14aと、石英管14aの外面に設けられた、プラズマトーチ14の外側を取り巻く高周波発振用コイル14bとで構成されている。プラズマトーチ14の上部には、供給管13が挿入される供給口14cがその中央部に設けられており、プラズマガス供給口14dがその周辺部(同一円周上)に形成されている。
供給管13により、例えば、粉末状の原料と、アルゴンガスまたは水素ガス等のキャリアガスとがプラズマトーチ14内に供給される。
また、プラズマトーチ14内における圧力雰囲気は、微粒子の製造条件に応じて適宜決定されるものであり、例えば、大気圧以下である。ここで、大気圧以下の雰囲気については、特に限定されないが、例えば、5Torr(666.5Pa)~750Torr(99.975kPa)とすることができる。
チャンバー16に、気体供給部22が接続されている。気体供給部22から供給される急冷ガスにより、チャンバー16内で、原料に応じた材料の微粒子(図示せず)が生成される。また、チャンバー16は冷却槽として機能するものである。
急冷ガスは、冷却する機能を発揮するものであれば、特に限定されるものではない。急冷ガスには、例えば、原料と反応しない、アルゴンガス、窒素ガス、ヘリウムガス等の不活性ガスが用いられる。急冷ガスは、これ以外に、水素ガスを含有してもよい。また、急冷ガスは、原料と反応する反応性ガスを含有してよい。反応性ガスとしては、例えば、メタン、エタン,プロパン,ブタン,アセチレン,エチレン,プロピレン,ブテン等の炭素数4以下の各種の炭化水素ガス等が挙げられる。
原料に応じた材料の微粒子の生成直後の微粒子同士が衝突し、凝集体を形成することで粒子径の不均一が生じると、品質低下の要因となる。しかしながら、熱プラズマ炎の尾部100b(終端部)に向かって、急冷ガスを供給することにより、急冷ガスが微粒子を希釈することで、微粒子同士が衝突して凝集することが防止される。
また、チャンバー16の内壁面に沿って、急冷ガスを供給することにより、微粒子の回収の過程において、微粒子のチャンバー16の内壁への付着が防止され、生成した微粒子の収率が向上する。
気体供給部22における急冷ガスの時間変調は、例えば、気体供給源からの供給量を一定にし、調整弁に、例えば、ボールバルブを用いて、供給量を時間変調する。
複数の方向から急冷ガスを供給する場合、供給タイミングは、特に限定されるものではなく、複数の方向から同期して急冷ガスを供給する。これ以外にも、例えば、時計回りまたは反時計回りの順で、急冷ガスを供給してもよい。この場合、急冷ガスにより、チャンバー16内に旋回流等の気流が生じる。複数の方向から急冷ガスを供給する場合、供給順を決定することなく、ランダムに供給してもよい。
原料供給部12は、原料の熱プラズマ炎100中への供給量を時間変調して、原料を熱プラズマ炎100中に供給するものでもよい。これにより、熱プラズマ炎100に変動がなくても、時間的に変動する。
この場合、例えば、供給管13に間歇供給部15を設ける。間歇供給部15により、チャンバー16内に原料を時間変調して供給する。原料の供給量の変化は、特に限定されるものではなく、サイン波状でも、三角波状でも、方形波状でも、のこぎり波状でもよい。
時間変調の際、急冷ガスの供給と原料の供給とは、関数で表される時間変化が同じであることが好ましい。これにより、急冷ガスの供給と原料の供給とのタイミングを合わせやすくなる。
上述のように、製造装置10は、急冷ガスを時間変調して供給することができ、これにより、熱プラズマ炎をさらに冷却することができ、温度が低い状態を作り出すことができる。このため、より小さい微粒子を製造することができる。
さらには、製造装置10は、原料の供給も、時間変調することができる。この場合、急冷ガスの時間変調とともに、原料の供給も時間変調することにより、さらに小さい微粒子を製造することができる。なお、急冷ガスの供給と原料の供給とのタイミングは、急冷ガスの供給量が少ないときに、原料の供給を多くすることが好ましい。
まず、金属微粒子の原料の粉末として、例えば、平均粒子径が10μm以下のSiの粉末を原料供給部12に投入する。
プラズマガスに、例えば、アルゴンガスおよび水素ガスを用いて、高周波発振用コイル14b(図2参照)に高周波電圧を印加し、プラズマトーチ14内に熱プラズマ炎100を発生させる。
また、気体供給部22から熱プラズマ炎100の尾部100b(図2参照)、すなわち、熱プラズマ炎100の終端部に、急冷ガスとして、例えば、アルゴンガスとメタンガスの混合ガスを供給する。
このとき、急冷ガスを時間変調させて、すなわち、供給量を周期的に変えて、急冷ガスを熱プラズマ炎100に供給する(第2の工程)。これにより、熱プラズマ炎100が急冷されてSi微粒子(金属微粒子)が生成されるが、このとき、チャンバー16内に温度が低い領域が生じ、より小さいSi微粒子が得られる。
そして、チャンバー16内で得られたSi微粒子は、真空ポンプ18bによる回収部18からの負圧(吸引力)によって回収部18のフィルター18aに捕集される。
製造装置10では、急冷ガスを時間変調したが、さらに原料の供給を時間変調してもよい。この場合、急冷ガスの供給量が少ないときに、原料の供給を多くすることが好ましい。急冷ガスの供給タイミングと、原料の供給タイミングとは制御部24で調整される。
図3は本発明の実施形態の微粒子の製造装置の他の例を示す模式図であり、図4はパルス変調時のコイル電流の時間変化についての説明図である。
図3に示す微粒子の製造装置10a(以下、単に製造装置10aという)において、図1に示す製造装置10と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図3に示す製造装置10aは、図1に示す製造装置10に比して、プラズマ発生部21(図1参照)にかえて、高周波変調誘導熱プラズマ発生部26を有する点が異なり、それ以外の構成は、図1に示す製造装置10と同じ構成である。
熱プラズマ炎が所定時間間隔で周期的に高温状態と、この高温状態よりも温度が低い低温状態にされたもの、すなわち、熱プラズマ炎の温度状態が時間変調されたもののことを変調誘導熱プラズマ炎という。
高周波変調誘導熱プラズマ発生部26は、高周波インバータ電源28aと、インピーダンス整合回路28bと、パルス信号発生器28cと、FETゲート信号回路28dとを有する。
高周波インバータ電源28aは、例えば、整流回路と、MOSFETインバータ回路とを有する。高周波インバータ電源28aにおいて、整流回路は、例えば、入力電源として三相交流を用いるものであり、三相全波整流回路により交流-直流変換を行った後、IGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)を用いたDC-DCコンバータにより、その出力電圧値を変化させる。
高周波インバータ電源28aは、出力側にインピーダンス整合回路28bが接続されている。このインピーダンス整合回路28bは、コンデンサ、共振コイルからなる直列共振回路により構成されており、プラズマ負荷を含めた負荷インピーダンスの共振周波数が高周波インバータ電源28aの駆動周波数領域内となるようにインピーダンスマッチングを行うものである。
FETゲート信号回路28dは、パルス信号発生器28cで発生されたパルス制御信号に基づく変調信号を、高周波インバータ電源28aのMOSFETインバータ回路のMOSFETのゲートに供給するものである。これにより、パルス信号発生器28cによるパルス制御信号でコイル電流を振幅変調して振幅を相対的に大きくするか、または小さくして、例えば、図4に示す矩形波102のように、コイル電流をパルス変調することができる。コイル電流をパルス変調することにより、熱プラズマ炎100を、所定時間間隔で周期的に高温状態と、この高温状態よりも温度が低い低温状態にすることができる。高周波変調誘導熱プラズマ発生部26においては、高周波発振用コイル14bに、単に高周波電流を供給することにより、温度状態が変わらない熱プラズマ炎を発生させることもできる。
原料を間歇的に供給する場合、熱プラズマ炎100の高温状態に同期させて原料を供給して、原料を高温状態で完全に蒸発させて気相状態の混合物45(図2参照)とし、さらに低温状態の時には、原料を供給せずに、急冷ガスの供給量を多くして気相状態の混合物45(図2参照)を急冷する。
また、矩形波102において、オン時間、オフ時間、および1サイクルは、いずれもマイクロ秒から数秒オーダーであることが好ましい。
時間変調の際、熱プラズマ炎の高温状態と低温状態との変化、急冷ガスの供給および原料の供給とは、関数で表される時間変化が同じであることが好ましい。これにより、急冷ガスの供給、原料の供給、および熱プラズマ炎の温度状態のタイミングを合わせやすくなる。
トリガ回路30aは、パルス信号発生器28cに接続されており、パルス信号発生器28cからパルス制御信号が入力されて、この入力されたパルス制御信号に同期してTTLレベルの信号を発生するものである。
電磁コイル30bは、トリガ回路30aに接続されており、トリガ回路30aからのTTLレベルの信号に基づいてバルブ30cを開閉させるものである。
本実施形態においては、図5(a)に示すパルス制御信号104がパルス信号発生器28cから出力されて、このパルス制御信号104に同期したTTLレベルの信号がトリガ回路30aで作成される。このTTLレベルの信号に基づいて、図5(b)に示すタイミング信号106で、バルブ30cが所定の時間間隔で開閉される。その結果、図5(c)に示す波形108で、例えば、原料粉末がプラズマトーチ14内に間歇的に供給され、原料を高温状態の熱プラズマ炎100に間歇的に供給することができる。
さらに、TTLレベルの信号に基づいて、急冷ガスの供給タイミングを制御する。これにより、急冷ガスの供給、原料の供給、および熱プラズマ炎の温度状態のタイミングを高い精度で合わることができる。
このように、製造装置10aでは、急冷ガスの時間変調に加え、原料の供給および熱プラズマ炎の温度も時間変調することができる。時間変調のタイミングを調整することより、さらに小さい微粒子を製造することができる。
製造装置10aでは、上述のように、急冷ガス、原料および熱プラズマ炎の温度の時間変調が可能であるが、製造装置10のように、急冷ガスと原料の供給とを時間変調してもよく、急冷ガスと熱プラズマ炎の温度とを時間変調してもよい。
また、製造装置10aでは、熱プラズマ炎の温度を時間変調しているが、例えば、特許第5564370号公報に記載されているように分光分析を用いてもよい。この場合、変調誘導熱プラズマ炎について分光分析し、変調誘導熱プラズマ炎の放射光のうち、原料に由来する波長の光の強度に基づいて高周波変調誘導熱プラズマ発生部により変調誘導熱プラズマ炎の温度状態を時間変調させる。
製造装置10aを用いた微粒子の製造方法でも、原料の粉末として、例えば、平均粒子径が10μm以下のSiの粉末を用いる。キャリアガス、プラズマガス、および急冷ガスは、上述の製造装置10を用いた微粒子の製造方法と同じである。
熱プラズマ炎(変調誘導熱プラズマ炎)中に、例えば、アルゴンガスを用いてSiの粉末を気体搬送して供給する(第1の工程)。供給されたSiの粉末は、熱プラズマ炎(変調誘導熱プラズマ炎)中で蒸発して気相状態の混合物45(図2参照)となる。
このとき、急冷ガスを熱プラズマ炎に対して、供給量を周期的に変えて供給する(第2の工程)。これにより、熱プラズマ炎が急冷されてSi微粒子(金属微粒子)が生成されるが、このとき、チャンバー16内に温度が低い領域が生じ、さらに小さいSi微粒子が得られる。なお、熱プラズマ炎が低温状態のときに、高温状態のときよりも急冷ガスの供給量を多くすることが好ましい。この場合、熱プラズマ炎が高温状態のときに、急冷ガスの供給量をゼロにすることがより好ましい。
そして、チャンバー16内で得られたSi微粒子は、上述のように真空ポンプ18bによる回収部18からの負圧(吸引力)によって回収部18のフィルター18aに捕集される。
さらには、上述のように急冷ガスの供給量が少ないときに、原料の供給を多くすることが好ましい。急冷ガスの供給タイミングと、熱プラズマ炎の温度状態の変化のタイミングと、原料の供給タイミングとは制御部24で調整される。
図6(a)は急冷ガス、原料および熱プラズマ炎の温度の時間変調の第1の例を示すグラフであり、(b)は急冷ガス、原料および熱プラズマ炎の温度の時間変調の第2の例を示すグラフであり、(c)は急冷ガス、原料および熱プラズマ炎の温度の時間変調の第3の例を示すグラフであり、(d)は急冷ガス、原料および熱プラズマ炎の温度の時間変調の第4の例を示すグラフである。
なお、図6(a)~(d)は、いずれも急冷ガス、原料および熱プラズマ炎の温度を示すものであり、符号40は急冷ガスを示し、符号42は原料を示し、符号44は熱プラズマ炎を示す。図6(a)~(d)は、横軸に時間、縦軸に規格化した供給量と、規格化した温度を示す。図6(a)~(d)において、縦軸の数値が小さいと供給量が小さいこと、および温度が低いことを示す。縦軸の数値が大きいと供給量が多いこと、および温度が高いことを示す。
また、図6(b)に示すように、熱プラズマ炎を一定にして、急冷ガスと原料を、例えば、サイン波状に時間変調することができる。この場合、急冷ガスと原料とは、位相をずらしており、急冷ガスの供給量が多いときに、原料の供給量を小さくしている。これにより、より小さい微粒子を製造することができる。
製造装置10aでは、例えば、図6(c)に示すように、原料を一定にして、急冷ガスと熱プラズマ炎を、例えば、サイン波状に時間変調することができる。この場合、急冷ガスと熱プラズマ炎とは、位相をずらしており、急冷ガスの供給量が多いときに、熱プラズマ炎を低温状態にしている。これにより、より小さい微粒子を製造することができる。
さらには、製造装置10aでは、例えば、図6(d)に示すように、急冷ガス、原料、および熱プラズマ炎を、例えば、サイン波状に時間変調することができる。この場合、急冷ガスと、原料および熱プラズマ炎とは、位相をずらしており、急冷ガスの供給量が多いときに、原料の供給量を少なくし、かつ熱プラズマ炎を低温状態にしている。これにより、さらに小さい微粒子を製造することができる。
図7は数値計算に用いたモデルを示す模式的斜視図である。
図7に示す数値計算に用いたモデル50は、プラズマトーチ14の下端部とチャンバー16を、数値解析可能なモデル化したものであり、円筒状である。一方の端部50aが熱プラズマ炎側であり、他方の端部50bが熱プラズマ炎の反対側である。また、モデル50では、急冷ガスの供給部50cを設定している。供給部50cは、等間隔に8方向から急冷ガスが供給される構成である。モデル50の符号Cは中心軸を示す。
円筒状のモデル50について、中心軸Cを含む切断面における温度分布を数値計算を用いて求めた。
なお、数値計算において、モデル50の一方の端部50aに、境界条件として、熱を与えた。計算条件としては、急冷ガスの流量だけを時間変調したもの(図8(a)~(d)参照)、熱プラズマ炎および急冷ガスの流量を時間変調したもの(図12(a)~(h)参照)とした。また、比較のために、時間変調していないもの(図9(a)~(d)参照)についても数値計算した。
急冷ガスはアルゴンガスとした。また、急冷ガスの流量は最大流量を50リットル/分とし、平均流量を25リットル/分とした。熱プラズマ炎および急冷ガスの流量を時間変調したものは、位相差をπ/2とした。急冷ガスの時間変調の周期は、1秒とした。
図9(a)~(d)では温度分布の時間変化が見られない。一方、図8(a)~(d)では、図8(c)において、領域51のように急激な温度低下が生じていることが見られた。このように急冷ガスの供給量を時間変調することにより、大きな冷却効果が得られることがわかる。なお、領域51は、急冷ガスの供給部50cの近傍である。
図10および図11では、横軸に中心軸の位置、縦軸に規格化した温度を示している。図10および図11において、横軸の中心軸の位置の数値が小さい方が、モデル50の一方の端部50a側の位置であり、中心軸の位置の数値が大きい方が他方の端部50b側の位置である。
また、図10の符号46は急冷ガスを時間変調したものを示し、符号47は時間変調していないものを示す。図11の符号48は急冷ガスを時間変調したものを示し、符号49は時間変調していないものを示す。
図11に示すように、急冷ガスの供給量を時間変調することにより、チャンバーの中心部の温度が低いことがわかる。この温度が低い領域を利用することにより、大きな冷却効果が得られ、より小さい微粒子を製造することができる。
なお、粒子の軌跡では、急冷ガスが粒子の動きに影響を及ぼすが、粒子が急冷ガスに影響を及ぼさないとした。
また、粒子径を100nmとし、単一分散と仮定し、粒子の比熱は考慮していない。粒子は壁面で反跳するとし、一方の端部50aで粒子は静止するとした。
図12(a)および図13(a)は時間0.25秒を示し、図12(b)および図13(b)は時間0.30秒を示し、図12(c)および図13(c)は時間0.40秒を示し、図12(d)および図13(d)は時間0.50秒を示し、図12(e)および図13(e)は時間0.55秒を示し、図12(f)および図13(f)は時間0.60秒を示し、図12(g)および図13(g)は時間0.65秒を示し、図12(h)および図13(h)は時間0.70秒を示す。
粒子の状態については、図13(c)~(e)に示すように、粒子が一方の端部50a側に分布しており、熱プラズマ炎の尾部付近に滞留している。また,図13(f)および(g)に示すように、急冷ガスの流量が多いと粒子が他方の端部50bに向かって分散した。
例えば、原料としては、熱プラズマ炎により蒸発させられるものであれば、その種類を問わないが、好ましくは、以下のものがよい。すなわち、原子番号3~6、11~15、19~34、37~52、55~60、62~79および81~83の元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、単体酸化物、複合酸化物、複酸化物、酸化物固溶体、金属、合金、水酸化物、炭酸化合物、ハロゲン化物、硫化物、窒化物、炭化物、水素化物、金属塩または金属有機化合物を適宜選択すればよい。
さらに、水酸化物としてはZr(OH)4、炭酸化合物としてはCaCO3、ハロゲン化物としてはMgF2、硫化物としてはZnS、窒化物としてはTiN、炭化物としてはSiC、水素化物としてはTiH2等を挙げることができる。
12 原料供給部
13 供給管
14 プラズマトーチ
14a 石英管
14b 高周波発振用コイル
14c 供給口
14d プラズマガス供給口
14e 石英管
14f 冷却水
15 間歇供給部
16 チャンバー
16a 上流チャンバー
16b 下流チャンバー
18 回収部
18a フィルター
18b 真空ポンプ
20 プラズマガス供給部
21 プラズマ発生部
22 気体供給部
24 制御部
26 高周波変調誘導熱プラズマ発生部
28a 高周波インバータ電源
28b インピーダンス整合回路
28c パルス信号発生器
28d FETゲート信号回路
30a トリガ回路
30b 電磁コイル
30c バルブ
45 混合物
50 モデル
50a 端部
50b 端部
50c 供給部
100 熱プラズマ炎
102 矩形波
104 パルス制御信号
106 タイミング信号
108 波形
C 中心軸
Claims (14)
- 微粒子の製造装置であって、
微粒子製造用の原料を熱プラズマ炎中に供給する原料供給部と、
内部に前記熱プラズマ炎が発生され、前記原料供給部により供給される前記原料を前記熱プラズマ炎にて蒸発させて気相状態の混合物とするプラズマトーチと、
前記プラズマトーチの内部に前記熱プラズマ炎を発生させるプラズマ発生部と、
前記熱プラズマ炎に、急冷ガスを供給する気体供給部とを有し、
前記気体供給部は、前記急冷ガスの供給量を時間変調して供給する、微粒子の製造装置。 - 前記原料供給部は、前記原料の前記熱プラズマ炎中への供給量を時間変調して、前記原料を前記熱プラズマ炎中に供給する、請求項1に記載の微粒子の製造装置。
- 前記プラズマ発生部は、前記熱プラズマ炎として、温度状態が時間変調された変調誘導熱プラズマ炎を発生させ、前記変調誘導熱プラズマ炎を周期的に高温状態と、前記高温状態よりも温度が低い低温状態とにさせる、請求項1または2に記載の微粒子の製造装置。
- 前記気体供給部は、前記変調誘導熱プラズマ炎が前記低温状態のときに、前記急冷ガスの供給量を多くする、請求項3に記載の微粒子の製造装置。
- 前記原料供給部は、前記変調誘導熱プラズマ炎が前記高温状態のときに、前記原料の供給量を多くする、請求項3または4に記載の微粒子の製造装置。
- 前記原料供給部は、前記原料を、粒子状に分散させた状態で、前記熱プラズマ炎中に供給する、請求項1~5のいずれか1項に記載の微粒子の製造装置。
- 前記原料供給部は、前記原料を液体に分散させてスラリーにし、前記スラリーを液滴化して前記熱プラズマ炎中に供給する、請求項1~5のいずれか1項に記載の微粒子の製造装置。
- 微粒子の製造方法であって、
微粒子製造用の原料を熱プラズマ炎に供給する第1の工程と、
前記原料を前記熱プラズマ炎で蒸発させ気相状態の混合物とし、前記熱プラズマ炎に急冷ガスを供給する第2の工程とを有し、
前記第2の工程では、前記急冷ガスの供給量を時間変調して供給する、微粒子の製造方法。 - 前記第1の工程では、前記原料を、前記熱プラズマ炎中への供給量を時間変調して、前記熱プラズマ炎中に供給する、請求項8に記載の微粒子の製造方法。
- 前記熱プラズマ炎は、温度状態が時間変調されて周期的に高温状態と、この高温状態よりも温度が低い低温状態とにされる変調誘導熱プラズマ炎である、請求項8または9に記載の微粒子の製造方法。
- 前記第2の工程では、前記変調誘導熱プラズマ炎が前記低温状態のときに、前記急冷ガスの供給量を多くする、請求項10に記載の微粒子の製造方法。
- 前記第1の工程では、前記変調誘導熱プラズマ炎が前記高温状態のときに、前記原料の供給量を多くする、請求項10または11に記載の微粒子の製造方法。
- 前記第1の工程では、前記原料を、粒子状に分散させた状態で、前記熱プラズマ炎中に供給する、請求項8~12のいずれか1項に記載の微粒子の製造方法。
- 前記第1の工程では、前記原料を液体に分散させてスラリーにし、前記スラリーを液滴化して前記熱プラズマ炎中に供給する、請求項8~12のいずれか1項に記載の微粒子の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018164750 | 2018-09-03 | ||
JP2018164750 | 2018-09-03 | ||
PCT/JP2019/034379 WO2020050202A1 (ja) | 2018-09-03 | 2019-09-02 | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020050202A1 JPWO2020050202A1 (ja) | 2021-09-24 |
JP7223379B2 true JP7223379B2 (ja) | 2023-02-16 |
Family
ID=69721824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020541201A Active JP7223379B2 (ja) | 2018-09-03 | 2019-09-02 | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210316268A1 (ja) |
JP (1) | JP7223379B2 (ja) |
KR (1) | KR20210044794A (ja) |
CN (1) | CN112601607B (ja) |
CA (1) | CA3110615A1 (ja) |
TW (1) | TWI814896B (ja) |
WO (1) | WO2020050202A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102508600B1 (ko) * | 2021-07-02 | 2023-03-16 | 주식회사 이노파우더 | 다단 플라즈마 토치 어셈블리 및 이를 이용한 금속분말 제조방법 |
WO2023100651A1 (ja) * | 2021-11-30 | 2023-06-08 | 株式会社日清製粉グループ本社 | ナノ粒子と、ナノロッドとナノワイヤとを含む組成物 |
WO2023189802A1 (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 日清エンジニアリング株式会社 | 微粒子及び微粒子の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007138287A (ja) | 2005-10-17 | 2007-06-07 | Nisshin Seifun Group Inc | 超微粒子の製造方法 |
JP2008528259A (ja) | 2005-01-28 | 2008-07-31 | テクナ・プラズマ・システムズ・インコーポレーテッド | ナノ粉末の誘導プラズマ合成 |
JP2012055840A (ja) | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 |
JP2017105680A (ja) | 2015-12-11 | 2017-06-15 | 国立大学法人金沢大学 | ナノワイヤの製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101330402B1 (ko) * | 2005-10-17 | 2013-11-15 | 닛신 엔지니어링 가부시키가이샤 | 초미립자의 제조방법 |
CA2581806C (en) * | 2006-03-08 | 2012-06-26 | Tekna Plasma Systems Inc. | Plasma synthesis of nanopowders |
JP2010131577A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-06-17 | Kanazawa Univ | 微粒子の製造方法およびその製造装置 |
JP2013192331A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Fuji Electric Co Ltd | 超電導モータの回転子 |
KR20150027124A (ko) | 2012-06-28 | 2015-03-11 | 닛신 엔지니어링 가부시키가이샤 | 탄화티탄 미립자의 제조방법 |
JP6590203B2 (ja) * | 2015-11-12 | 2019-10-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 |
PL3389862T3 (pl) * | 2015-12-16 | 2024-03-04 | 6K Inc. | Sferoidalne metale podlegające odwodornieniu oraz cząstki stopów metali |
CN106185947B (zh) * | 2016-07-21 | 2018-08-17 | 中国有色桂林矿产地质研究院有限公司 | 一种纳米硅粉的制备方法 |
CN106623957B (zh) * | 2016-11-30 | 2020-01-21 | 江永斌 | 连续量产超细纳米级金属粒子的纳米粒子生长器 |
-
2019
- 2019-09-02 CA CA3110615A patent/CA3110615A1/en active Pending
- 2019-09-02 CN CN201980055895.XA patent/CN112601607B/zh active Active
- 2019-09-02 KR KR1020217005365A patent/KR20210044794A/ko unknown
- 2019-09-02 JP JP2020541201A patent/JP7223379B2/ja active Active
- 2019-09-02 WO PCT/JP2019/034379 patent/WO2020050202A1/ja active Application Filing
- 2019-09-02 US US17/272,882 patent/US20210316268A1/en active Pending
- 2019-09-03 TW TW108131594A patent/TWI814896B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008528259A (ja) | 2005-01-28 | 2008-07-31 | テクナ・プラズマ・システムズ・インコーポレーテッド | ナノ粉末の誘導プラズマ合成 |
JP2007138287A (ja) | 2005-10-17 | 2007-06-07 | Nisshin Seifun Group Inc | 超微粒子の製造方法 |
JP2012055840A (ja) | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 |
JP2017105680A (ja) | 2015-12-11 | 2017-06-15 | 国立大学法人金沢大学 | ナノワイヤの製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
北 健太郎,ほか,原料間歇供給を伴う変調誘導熱プラズマを用いたFe-doped TiO2ナノ粒子大量生成における冷却ガス供給法の影,平成27年電気学会全国大会講演論文集,2015年03月05日,1-083 |
南雲 俊宏,ほか,誘導熱プラズマを用いたアルミナナノ粒子生成に対する矩形波AM変調による急冷効果の検討,平成19年度電気関係学会北陸支部連合大会講演論文集,2007年09月08日,A-01 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI814896B (zh) | 2023-09-11 |
JPWO2020050202A1 (ja) | 2021-09-24 |
CA3110615A1 (en) | 2020-03-12 |
TW202031590A (zh) | 2020-09-01 |
CN112601607B (zh) | 2023-03-24 |
CN112601607A (zh) | 2021-04-02 |
KR20210044794A (ko) | 2021-04-23 |
US20210316268A1 (en) | 2021-10-14 |
WO2020050202A1 (ja) | 2020-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7223379B2 (ja) | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 | |
US7828999B2 (en) | Process and apparatus for producing fine particles | |
EP0777759B1 (en) | Suspension plasma spray deposition | |
JP5564370B2 (ja) | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 | |
KR102636490B1 (ko) | 미립자의 제조 방법 및 미립자의 제조 장치 | |
JP2022084441A (ja) | 混合物の製造装置および混合物の製造方法 | |
WO2020246551A1 (ja) | 微粒子の製造装置および微粒子の製造方法 | |
JP7142241B2 (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
CN113543876B (zh) | 微粒子的制造装置以及微粒子的制造方法 | |
TW202033273A (zh) | 微粒子的製造裝置以及微粒子的製造方法 | |
KR100793163B1 (ko) | 전자파 플라즈마 장치를 이용한 철 나노분말 제조방법 | |
KR100793162B1 (ko) | 전자파 플라즈마 장치를 이용한 알루미늄 나노분말제조방법 | |
Tanaka et al. | Nanoparticle synthesis using high-power modulated induction thermal plasmas with intermittent synchronized feeding of raw materials | |
Ushakov et al. | Technology Ready Use For Producing Nanomaterials in the Plasma of a Low-Pressure Pulsed Arc Discharge | |
JP2023175451A (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210226 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7223379 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |