JP7216496B2 - Polyoxymethylene resin composition and molded article - Google Patents
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Description
本発明は、ポリオキシメチレン樹脂組成物及び成形体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyoxymethylene resin composition and a molded article.
ポリオキシメチレン樹脂は結晶性樹脂であり、剛性、強度、靭性、摺動性、及びクリープ性に優れた樹脂材料である。
ポリオキシメチレン樹脂の用途は、自動車部品、電気・電子部品及び工業部品等の各種機構部品用樹脂材料として、広範囲に亘っている。
Polyoxymethylene resin is a crystalline resin, and is a resin material excellent in rigidity, strength, toughness, slidability, and creep resistance.
Polyoxymethylene resins are widely used as resin materials for various mechanical parts such as automobile parts, electric/electronic parts and industrial parts.
しかしながら、ポリオキシメチレン樹脂は、太陽光等の光エネルギーや熱エネルギーに対して非常に弱く、長時間大気に暴露すると、成形品の表面にクラックが発生し、強度低下を引き起こすという問題を有している。そのため、太陽光等に暴露される環境下で使用する場合には、ヒンダードアミン化合物等の耐候安定剤を添加するのが一般的である。 However, polyoxymethylene resin is very weak against light energy such as sunlight and heat energy, and when exposed to the atmosphere for a long time, cracks occur on the surface of the molded product, causing a decrease in strength. ing. Therefore, when used in an environment exposed to sunlight or the like, it is common to add a weather resistance stabilizer such as a hindered amine compound.
ところで、近年、ポリオキシメチレン樹脂の成形品においては、小型化、薄肉化、及び精密化の要求が高まってきており、これらの要求を満たすため、従来よりも熱履歴がかかりやすい成形条件により成形が行われる傾向にある。
このような成形方法としては、例えば、ピンゲート金型による成形、ハイサイクル成形が挙げられ、これらの成形方法においては、剪断速度を上昇させたり、可塑化時間の短縮を図るためにスクリュー回転や成形温度を上げたりするため、従来の通常の成形方法よりもポリオキシメチレン樹脂が高い熱履歴を受けることになる。
By the way, in recent years, there have been increasing demands for smaller, thinner, and more precise molded products of polyoxymethylene resin. tends to take place.
Examples of such molding methods include molding with a pin gate mold and high cycle molding. In these molding methods, screw rotation and molding are used to increase the shear rate and shorten the plasticization time. Since the temperature is raised, the polyoxymethylene resin is subjected to a higher heat history than the conventional normal molding method.
また、その他の一般的な成形方法においても、成形不良、例えばフローマーク、ウェルドライン、ジェッテイング等が発生した場合には、樹脂温度を上げることで対応することが多く、これらの方法も、ポリオキシメチレン樹脂に高い熱履歴がかかる要因となっている。
さらに、成形工程において、金型にホットランナーを使用する場合には、樹脂の部分的な滞留が発生することによって樹脂温度がさらに上がり、樹脂の分解が起きるおそれがある。
Also, in other general molding methods, when molding defects such as flow marks, weld lines, jetting, etc. occur, it is often dealt with by raising the resin temperature. This is the reason why the oxymethylene resin is subjected to a high heat history.
Furthermore, when a hot runner is used in the mold in the molding process, the resin may be partially retained, causing the resin temperature to rise further, which may cause the resin to decompose.
そして、上述したような、各種の熱履歴がかかる成形方法及び成形条件を設定してポリオキシメチレン樹脂を成形する場合に、ポリオキシメチレン樹脂に、その耐候安定性を向上させるべく耐候安定剤を添加すると、熱安定性との関係で良好な特性バランスを取ることが困難になるという問題がある。すなわち、耐候安定性を重視して耐候安定剤を多く配合すると熱安定性が劣化し、当該樹脂からホルムアルデヒドを含む揮発性有機化合物(VOC)が放出されやすくなるという問題がある。
特に、自動車の内装部品の分野においては、揮発性有機化合物の放出量を低減させる要求が高まってきており、耐候安定性と熱安定性とのバランスに優れた樹脂組成物が求められているのが現状である。
When polyoxymethylene resin is molded by setting molding methods and molding conditions that are subject to various heat histories as described above, a weather stabilizer is added to the polyoxymethylene resin to improve its weather resistance stability. When added, there is a problem that it becomes difficult to achieve a good balance of properties in relation to thermal stability. That is, if a large amount of weather stabilizer is blended with emphasis on weather resistance stability, the thermal stability deteriorates, and there is a problem that volatile organic compounds (VOC) including formaldehyde are likely to be released from the resin.
In particular, in the field of automobile interior parts, the demand for reducing the amount of volatile organic compounds emitted has increased, and resin compositions with an excellent balance between weather resistance and thermal stability are in demand. is the current situation.
ところで、ポリオキシメチレン樹脂の耐候安定性を向上させるために、従来、種々の技術が提案されている。
例えば、ヒンダードアミン系光安定剤と蓚酸アニリド系紫外線吸収剤を併用する技術(下記特許文献1参照)、ヒンダードアミン系光安定剤とベンゾフェノン系紫外線吸収剤を併用する技術(下記特許文献2参照)、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤を併用する技術(下記特許文献3参照)、各種紫外線吸収剤、脂肪酸エステル及びヒンダードアミン系光安定剤を併用する技術(下記特許文献4参照)、及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤と酸化防止剤を併用する技術(下記特許文献5参照)等が挙げられる。
By the way, various techniques have conventionally been proposed in order to improve the weather resistance stability of polyoxymethylene resins.
For example, a technique of using a hindered amine light stabilizer and an oxalic acid anilide ultraviolet absorber together (see Patent Document 1 below), a technique of using a hindered amine light stabilizer and a benzophenone ultraviolet absorber together (see Patent Document 2 below), benzo Technology using a combination of a triazole UV absorber and a hindered amine light stabilizer (see Patent Document 3 below), a technology using various UV absorbers, fatty acid esters and a hindered amine light stabilizer in combination (see Patent Document 4 below), and benzo Techniques using a combination of a triazole-based ultraviolet absorber, a hindered amine-based light stabilizer, and an antioxidant (see Patent Document 5 below) and the like can be mentioned.
また、ポリオキシメチレン樹脂成形品からのホルムアルデヒドの放出量を低減させる技術として、例えば、ポリアミド及びヒドラジン誘導体を添加する技術(下記特許文献6参照)、ヒドラジド化合物を添加する技術(下記特許文献7参照)、メラミン及びメラミン誘導体及びジカルボン酸ヒドラジドから選ばれた窒素化合物を添加する技術(下記特許文献8参照)、ベンゾグアナミンを添加する技術(下記特許文献9参照)、ペレット表面に多価アルコール化合物の脂肪酸部分エステルを付着させる方法(下記特許文献10参照)、モノN-置換尿素を添加する技術(下記特許文献11参照)、酸解離指数が3.6以上のカルボキシル基含有化合物を添加する技術(下記特許文献12参照)、フェノール類と塩基性窒素含有化合物とアルデヒド類との縮合物を添加する技術(下記特許文献13参照)、ヒダントイン又はイミダゾールを添加する技術(下記特許文献14参照)、及び塩基解離指数が2~8の低分子量アミノ化合物を添加する技術(下記特許文献15参照)等が提案されている。 Techniques for reducing the amount of formaldehyde released from polyoxymethylene resin molded articles include, for example, a technique of adding a polyamide and a hydrazine derivative (see Patent Document 6 below) and a technique of adding a hydrazide compound (see Patent Document 7 below). ), a technique of adding a nitrogen compound selected from melamine, melamine derivatives and dicarboxylic acid hydrazides (see Patent Document 8 below), a technique of adding benzoguanamine (see Patent Document 9 below), a fatty acid of a polyhydric alcohol compound on the pellet surface A method of attaching a partial ester (see Patent Document 10 below), a technique of adding mono N-substituted urea (see Patent Document 11 below), a technique of adding a carboxyl group-containing compound having an acid dissociation index of 3.6 or more (see Patent Document 11 below). Patent Document 12), a technique of adding a condensate of a phenol, a basic nitrogen-containing compound and an aldehyde (see Patent Document 13 below), a technique of adding hydantoin or imidazole (see Patent Document 14 below), and a base A technique of adding a low-molecular-weight amino compound having a dissociation index of 2 to 8 (see Patent Document 15 below) has been proposed.
また、耐候安定性と成形品から放出されるホルムアルデヒドを低減する技術としては、特定構造のヒンダードアミン系光安定剤、紫外線吸収剤及び芳香族ヒドラジド化合物等のヒドラジド化合物を添加する技術(下記特許文献16参照)、及びホルムアルデヒドの発生量を抑制したポリオキシメチレン樹脂に耐候剤(ヒンダードアミン系光安定剤と紫外線吸収剤)及びヒドラジド化合物を添加する技術(下記特許文献17参照)が提案されている。 In addition, as a technique for reducing formaldehyde released from weather resistance stability and molded articles, a technique of adding a hindered amine light stabilizer with a specific structure, an ultraviolet absorber, and a hydrazide compound such as an aromatic hydrazide compound (Patent Document 16 below) ), and a technique of adding a weathering agent (a hindered amine light stabilizer and an ultraviolet absorber) and a hydrazide compound to a polyoxymethylene resin that suppresses the amount of formaldehyde generated (see Patent Document 17 below).
ここで、ポリオキシメチレン樹脂組成物を用いた成形体の各用途では成形体の良好な外観や視認性向上のために当該樹脂組成物に顔料を含有させることができる。上記のようにポリオキシメチレン樹脂組成物では耐候安定性と熱安定性との優れたバランスが求められているが、本発明者らは、当該樹脂組成物に顔料を含有させると、例えば80度におけるクリープ性(剛性)が低下することを見出した。すなわち、本発明者らは、ポリオキシメチレン樹脂組成物では、耐候安定性、熱安定性、さらにクリープ特性の優れたバランスが必要であることを見出した。
しかしながら、特許文献2~17に開示されている技術は、顔料を添加する事も記載されているが、いずれも顔料分散性が悪く顔料が凝集し、クリープ特性が低下するという問題を有している。
また、特許文献1~5に開示されている技術は、いずれも耐候安定性は改良されるが、ポリオキシメチレン樹脂の成形品からのホルムアルデヒドの放出量の低減が十分でないという問題を有している。
さらに、特許文献6~15に開示されている技術は、耐候安定性が十分ではないという問題を有している。
また、特許文献16及び17に開示されている技術は、耐候安定性とホルムアルデヒド放出の低減に関しては改良効果がみとめられるが、成形加工時にポリオキシメチレン樹脂組成物を成形機シリンダー内に滞留させた際の成形品からのホルムアルデヒドの放出量の低減とクリープ特性に関しては改良の余地があり、特に、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー組成物を成形機シリンダー内に滞留させた際の成形品からのホルムアルデヒドの放出量の低減が十分でないという問題を有している。
Here, in each application of the molded article using the polyoxymethylene resin composition, the resin composition can contain a pigment to improve the appearance and visibility of the molded article. As described above, polyoxymethylene resin compositions are required to have an excellent balance between weather resistance and heat stability. It was found that the creep property (stiffness) in Thus, the inventors have found that polyoxymethylene resin compositions require an excellent balance of weathering stability, thermal stability, and creep properties.
However, the techniques disclosed in Patent Documents 2 to 17 also describe the addition of pigments, but all of them have the problem of poor pigment dispersibility, pigment aggregation, and deterioration of creep characteristics. there is
In addition, the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 5 all improve the weather resistance stability, but have the problem that the amount of formaldehyde released from the polyoxymethylene resin molded article is not sufficiently reduced. there is
Furthermore, the techniques disclosed in Patent Documents 6 to 15 have the problem of insufficient weather resistance stability.
In addition, the techniques disclosed in Patent Documents 16 and 17 are found to have an improvement effect in terms of weather resistance stability and reduction of formaldehyde emission, but the polyoxymethylene resin composition was retained in the molding machine cylinder during molding processing. There is room for improvement in terms of reducing the amount of formaldehyde emitted from the molded product during molding and creep characteristics, and in particular, reducing formaldehyde emissions from the molded product when the polyoxymethylene resin homopolymer composition is retained in the molding machine cylinder. It has a problem that the reduction of the amount emitted is not sufficient.
そこで本発明においては、耐候安定性とクリープ特性に優れ、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物及び成形体を提供することを目的とする。 Therefore, in the present invention, there is provided a polyoxymethylene resin composition which is excellent in weather resistance stability and creep properties and in which the amount of formaldehyde emitted is reduced, and which also reduces the amount of formaldehyde emitted during retention during molding. An object is to provide a composition and a molded article.
本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意検討した結果、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーと、滑剤と、ポリオレフィン系樹脂と、顔料と、を含有する樹脂組成物において、滑剤とポリオレフィン系樹脂を特定量配合し、滑剤とポリオレフィン系樹脂を特定比率で配合することで、上述した従来の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は以下のとおりである。
The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above problems, and found that a resin composition containing a polyoxymethylene resin homopolymer, a lubricant, a polyolefin resin, and a pigment contains a lubricant and a polyolefin resin. The inventors have found that the above-described conventional problems can be solved by blending a specific amount of the lubricant and the polyolefin resin in a specific ratio, and have completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.
〔1〕
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部と、
滑剤(B)0.01~0.1質量部と、
ポリオレフィン系樹脂(C)0.1~1.0質量部と、
顔料(D)とを含有し、
前記(B)滑剤と前記(C)ポリオレフィン系樹脂との質量比である(B)滑剤/(C)ポリオレフィン系樹脂が5/95~30/70である
ことを特徴とする、ポリオキシメチレン樹脂組成物。
〔2〕
ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)0.01~0.4質量部と、
紫外線吸収剤(F)0.1~0.5質量部と、
ヒンダードアミン系光安定剤(G)0.1~0.5質量部と、
酸化防止剤(H)0.01~0.05質量部とを更に含有する、前記〔1〕に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
〔3〕
前記含窒素化合物(E)が、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、アミド化合物、ポリアミド、アクリルアミド共重合体、及びヒドラジド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種である、前記〔2〕に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
〔4〕
前記〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物を含むことを特徴とする、成形体。
[1]
100 parts by mass of polyoxymethylene resin homopolymer (A),
Lubricant (B) 0.01 to 0.1 parts by mass,
0.1 to 1.0 parts by mass of a polyolefin resin (C),
containing a pigment (D),
A polyoxymethylene resin, characterized in that the mass ratio of the (B) lubricant and the (C) polyolefin resin is 5/95 to 30/70, that is, (B) lubricant/(C) polyolefin resin. Composition.
[2]
0.01 to 0.4 parts by mass of a nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde-scavenging ability;
0.1 to 0.5 parts by mass of an ultraviolet absorber (F),
0.1 to 0.5 parts by mass of a hindered amine light stabilizer (G);
The polyoxymethylene resin composition according to [1] above, further containing 0.01 to 0.05 parts by mass of an antioxidant (H).
[3]
The nitrogen-containing compound (E) is at least one selected from the group consisting of amino-substituted triazine compounds, urea derivatives, amide compounds, polyamides, acrylamide copolymers, and hydrazide compounds, the poly according to [2] above. Oxymethylene resin composition.
[4]
A molded article comprising the polyoxymethylene resin composition according to any one of [1] to [3].
本発明によれば、耐候安定性とクリープ特性に優れ、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物及び成形体を提供することができる。 According to the present invention, there is provided a polyoxymethylene resin composition which is excellent in weather resistance stability and creep properties and in which the amount of formaldehyde emitted is reduced, and in which the amount of formaldehyde emitted during retention during molding processing is also reduced. Compositions and molded bodies can be provided.
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について、詳細に説明する。
なお、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form (henceforth "this embodiment") for implementing this invention is demonstrated in detail.
It should be noted that the present embodiment below is an example for explaining the present invention, and is not intended to limit the present invention to the following contents. The present invention can be carried out with various modifications within the scope of its gist.
〔ポリオキシメチレン樹脂組成物〕
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部と、
滑剤(B)0.01~0.1質量部と、
ポリオレフィン系樹脂(C)0.1~1.0質量部と、
顔料(D)とを含有し、
前記(B)滑剤と前記(C)ポリオレフィン系樹脂との質量比である(B)滑剤/(C)ポリオレフィン系樹脂が5/95~30/70である。
更にホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)0.01~0.4質量部と、
紫外線吸収剤(F)0.1~0.5質量部と、
ヒンダードアミン系光安定剤(G)0.1~0.5質量部と、
酸化防止剤(H)0.01~0.05質量部と、を含有することもできる。
[Polyoxymethylene resin composition]
The polyoxymethylene resin composition of the present embodiment is
100 parts by mass of polyoxymethylene resin homopolymer (A),
Lubricant (B) 0.01 to 0.1 parts by mass,
0.1 to 1.0 parts by mass of a polyolefin resin (C),
containing a pigment (D),
The mass ratio of the (B) lubricant to the (C) polyolefin resin, that is, (B) lubricant/(C) polyolefin resin is 5/95 to 30/70.
Furthermore, 0.01 to 0.4 parts by mass of a nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde scavenging ability,
0.1 to 0.5 parts by mass of an ultraviolet absorber (F),
0.1 to 0.5 parts by mass of a hindered amine light stabilizer (G);
0.01 to 0.05 parts by mass of an antioxidant (H) may also be contained.
ここで、本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物のメルトフローレイト(ISO 1133 Dに準拠)は、成形加工性の観点から、0.5g/10分以上であることが好ましく、耐久性の観点から、10g/10分以下であることが好ましく、より好ましくは1.0g/10分~7g/10分であり、さらに好ましくは1.5g/10分~4g/10分である。
以下、本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物に含有され得る各成分について、説明する。
Here, the melt flow rate (according to ISO 1133 D) of the polyoxymethylene resin composition of the present embodiment is preferably 0.5 g/10 min or more from the viewpoint of moldability, and from the viewpoint of durability. Therefore, it is preferably 10 g/10 minutes or less, more preferably 1.0 g/10 minutes to 7 g/10 minutes, still more preferably 1.5 g/10 minutes to 4 g/10 minutes.
Each component that can be contained in the polyoxymethylene resin composition of the present embodiment will be described below.
(ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)を含有する。
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)とは、両末端を除く主鎖の99.8mol%以上がオキシメチレン基で構成されるポリオキシメチレンポリマーを指し、両末端を除く主鎖の99.8mol%以上がポリオキシメチレン基で構成されることが好ましく、両末端を除く主鎖がポリオキシメチレン基のみで構成されるポリオキシメチレンホモポリマーであることがより好ましい。特に、重合体連鎖の両末端がエステル基により封鎖された、ポリオキシメチレンホモポリマーであることが好ましい。
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)は、100質量部中に、5質量部、好ましくは3質量部、より好ましくは1質量部のポリオキシメチレンコポリマーを含んでいてもよい。
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)の230℃で窒素環境雰囲気条件下でのホルムアルデヒド発生量は2.0質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、ホルムアルデヒド発生量が1.0質量%以下であり、さらに好ましくは0.8質量%以下である。また、ホルムアルデヒド発生量は0.001質量%以上、さらには0.1質量%とすることができる。
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)からのホルムアルデヒド発生量が、2.0質量%以下にある場合、熱安定性が向上しホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供することができる。なお、ホルムアルデヒド発生量が0.1質量%程度であればホルムアルデヒド放出の影響が十分に抑えられることから、ホルムアルデヒドの発生量の好ましい下限値は0.001質量%、さらには0.1質量%とすることができる。
(Polyoxymethylene resin homopolymer (A))
The polyoxymethylene resin composition of this embodiment contains a polyoxymethylene resin homopolymer (A).
Polyoxymethylene resin homopolymer (A) refers to a polyoxymethylene polymer in which 99.8 mol% or more of the main chain excluding both ends is composed of oxymethylene groups, and 99.8 mol% of the main chain excluding both ends The above is preferably composed of polyoxymethylene groups, and more preferably a polyoxymethylene homopolymer composed of only polyoxymethylene groups in the main chain excluding both ends. In particular, it is preferably a polyoxymethylene homopolymer in which both ends of the polymer chain are blocked with ester groups.
The polyoxymethylene resin homopolymer (A) may contain 5 parts by weight, preferably 3 parts by weight, more preferably 1 part by weight of polyoxymethylene copolymer per 100 parts by weight.
The amount of formaldehyde generated from the polyoxymethylene resin homopolymer (A) at 230° C. under a nitrogen atmosphere is preferably 2.0% by mass or less. More preferably, the amount of formaldehyde generated is 1.0% by mass or less, and even more preferably 0.8% by mass or less. Also, the amount of formaldehyde generated can be 0.001% by mass or more, and more preferably 0.1% by mass.
When the amount of formaldehyde generated from the polyoxymethylene resin homopolymer (A) is 2.0% by mass or less, the polyoxymethylene resin composition has improved thermal stability and a reduced amount of formaldehyde released, It is possible to provide a polyoxymethylene resin composition in which the amount of formaldehyde released during retention during molding is also reduced. If the amount of formaldehyde generated is about 0.1% by mass, the influence of formaldehyde emission can be sufficiently suppressed, so the preferable lower limit of the amount of formaldehyde generated is 0.001% by mass, and further 0.1% by mass. can do.
前記ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)の230℃で窒素環境雰囲気条件下でのホルムアルデヒド発生量とは、主に不安定末端基である水酸基(-OH)から放出されるホルムアルデヒドの量であり、以下に示す方法により定量することができる。
SUS製の配管を有する230℃のオイルバスに、SUS製の容器に入れたポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)を入れて90分間加熱させる。その後、前記配管に窒素ガスを流し、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)が熱分解することによって発生するホルムアルデヒドガスを外部に取り出し、亜硫酸ナトリウム水溶液に吸収させる。当該ホルムアルデヒドを吸収した亜硫酸ナトリウム水溶液を硫酸で滴定してホルムアルデヒド発生量を求める。
The amount of formaldehyde generated from the polyoxymethylene resin homopolymer (A) at 230° C. under a nitrogen atmosphere is the amount of formaldehyde released mainly from hydroxyl groups (—OH), which are unstable terminal groups. It can be quantified by the method shown below.
The polyoxymethylene resin homopolymer (A) in a SUS container is placed in an oil bath having a SUS pipe at 230° C. and heated for 90 minutes. Thereafter, nitrogen gas is flowed through the pipe, and formaldehyde gas generated by thermal decomposition of the polyoxymethylene resin homopolymer (A) is extracted outside and absorbed in an aqueous sodium sulfite solution. The sodium sulfite aqueous solution that has absorbed the formaldehyde is titrated with sulfuric acid to determine the amount of formaldehyde generated.
((ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)の製造))
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)は、特に限定されないが、例えば、後述する重合工程と、末端安定化工程とを実施することにより、製造することができる。
((Production of polyoxymethylene resin homopolymer (A)))
The polyoxymethylene resin homopolymer (A) is not particularly limited, but can be produced, for example, by carrying out a polymerization step and a terminal stabilization step, which will be described later.
<(1)重合工程>
重合工程においては、公知のスラリー重合法(例えば、特公昭47-6420号公報及び特公昭47-10059号公報に記載の方法)により、反応器中で、連鎖移動剤や重合触媒を用いてモノマーを重合し、末端が安定化されていない粗ポリオキシメチ耐候安定性レン樹脂ホモポリマーを得る。
なお、本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物の材料としては、この粗ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー自体を用いることもできるが、後述する末端安定化工程により、粗ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの末端を安定化させたものを用いることが好ましい。
<(1) Polymerization step>
In the polymerization step, a known slurry polymerization method (e.g., the method described in Japanese Patent Publication No. 47-6420 and Japanese Patent Publication No. 47-10059) is used in a reactor to obtain a monomer using a chain transfer agent or a polymerization catalyst. to obtain a crude polyoxymethyl weathering-stable ren resin homopolymer that is not end-stabilized.
As a material for the polyoxymethylene resin composition of the present embodiment, the crude polyoxymethylene resin homopolymer itself can be used. It is preferable to use the stabilized one.
[(1)モノマー]
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの製造に使用するモノマーとしては、例えば、ホルムアルデヒドの単量体又はその3量体(トリオキサン)や4量体(テトラオキサン)等のホルムアルデヒドの環状オリゴマー等が挙げられる。
[(1) Monomer]
Monomers used for the production of polyoxymethylene resin homopolymers include, for example, formaldehyde monomers and cyclic oligomers of formaldehyde such as trimers (trioxane) and tetramers (tetraoxane) thereof.
重合工程で、安定した分子量のポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーを継続的に得るためには、精製され、かつ不純物濃度が低く、安定したホルムアルデヒドのガスを用いることが好ましい。
ホルムアルデヒドの精製方法としては、公知の方法(例えば、特公平5-32374号公報及び特表2001-521916号公報に記載の方法)を適用することができる。
In order to continuously obtain a polyoxymethylene resin homopolymer having a stable molecular weight in the polymerization process, it is preferable to use a purified, stable formaldehyde gas with a low impurity concentration.
As a method for purifying formaldehyde, a known method (for example, the method described in JP-B-5-32374 and JP-A-2001-521916) can be applied.
重合工程で、モノマーとして、ホルムアルデヒドのガスを用いる場合には、水、メタノール、蟻酸等の、重合反応中の重合停止作用及び連鎖移動作用を有する不純物を極力含まないものを用いることが好ましい。
これらの不純物が少ないホルムアルデヒドのガスを用いることにより、予期せぬ連鎖移動反応を回避でき、目的の分子量のポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーを得ることができる。特に、ポリマー末端基に水酸基を誘導する不純物の含有量は、全モノマー量に対して、100質量ppm以下であることが好ましく、50質量ppm以下であることがより好ましい。
When formaldehyde gas is used as a monomer in the polymerization step, it is preferable to use one containing as little impurities as possible, such as water, methanol, and formic acid, which have a polymerization terminating action and a chain transfer action during the polymerization reaction.
By using a formaldehyde gas containing less of these impurities, an unexpected chain transfer reaction can be avoided and a polyoxymethylene resin homopolymer having a desired molecular weight can be obtained. In particular, the content of impurities that induce hydroxyl groups to polymer terminal groups is preferably 100 ppm by mass or less, more preferably 50 ppm by mass or less, relative to the total amount of monomers.
[(2)連鎖移動剤]
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの製造に使用する連鎖移動剤としては、特に限定されないが、例えば、アルコール類、酸無水物が挙げられる。
連鎖移動剤として、水、メタノール、蟻酸、酢酸等の、重合反応中の重合停止作用及び連鎖移動作用を有する不純物を極力含まないものを用いることが好ましい。不純物の少ない連鎖移動剤を得る方法としては、例えば、汎用され、入手可能な水分含有量が規定量を超える連鎖移動剤を乾燥窒素でバブリングし、活性炭やゼオライト等の吸着剤により不純物を除去し、精製する方法等が挙げられる。
連鎖移動剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
[(2) Chain transfer agent]
Chain transfer agents used in the production of polyoxymethylene resin homopolymers are not particularly limited, but include, for example, alcohols and acid anhydrides.
As the chain transfer agent, it is preferable to use one containing as little impurities as possible, such as water, methanol, formic acid, and acetic acid, which have a polymerization terminating action and a chain transfer action during the polymerization reaction. As a method for obtaining a chain transfer agent with few impurities, for example, dry nitrogen is bubbled through a generally available chain transfer agent having a moisture content exceeding a specified amount, and impurities are removed with an adsorbent such as activated carbon or zeolite. , purification methods, and the like.
A chain transfer agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
[(3)重合触媒]
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの製造に使用する重合触媒としては、特に限定されないが、例えば、オニウム塩系重合触媒等が挙げられる。
オニウム塩系重合触媒としては、例えば、下記一般式(1)で表される化合物等が挙げられる。
[R1R2R3R4M]+X- ・・・(1)
(一般式(1)中、R1、R2、R3及びR4は、各々独立にアルキル基を示し、Mは孤立電子対を持つ元素、Xは求核性基を示す。R1、R2、R3及びR4は、同じであっても異なっていてもよい。)
[(3) Polymerization catalyst]
Although the polymerization catalyst used for producing the polyoxymethylene resin homopolymer is not particularly limited, examples thereof include onium salt-based polymerization catalysts.
Examples of the onium salt-based polymerization catalyst include compounds represented by the following general formula (1).
[R 1 R 2 R 3 R 4 M] + X - (1)
(In general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group, M represents an element having a lone pair of electrons, and X represents a nucleophilic group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different.)
オニウム塩系重合触媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、第4級アンモニウム塩系化合物及び第4級ホスホニウム塩系化合物等が挙げられ、特に、テトラメチルアンモニウムブロミド、ジメチルジステアリルアンモニウムアセタート、テトラエチルホスホニウムヨージド、トリブチルエチルホスホニウムヨージドが好ましい。 The onium salt-based polymerization catalyst is not limited to the following, but includes, for example, quaternary ammonium salt-based compounds and quaternary phosphonium salt-based compounds, particularly tetramethylammonium bromide and dimethyl distearyl. Ammonium acetate, tetraethylphosphonium iodide, tributylethylphosphonium iodide are preferred.
[(4)反応器]
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの製造に使用する反応器としては、特に限定されないが、例えば、バッチ式の攪拌機付き反応槽、連続式のコニーダー、二軸スクリュー式連続押し出し混練機、二軸パドル型連続混合機等が挙げられる。
反応器は、ジャケット等の反応混合物を加熱又は冷却できる構造を、胴の外周に有する構造であることが好ましい。
[(4) Reactor]
The reactor used for the production of the polyoxymethylene resin homopolymer is not particularly limited. A mixer etc. are mentioned.
The reactor preferably has a structure, such as a jacket, which can heat or cool the reaction mixture on the outer circumference of the barrel.
<(2)末端安定化工程>
末端安定化工程においては、公知の方法(例えば、特公昭63-452号公報に記載の方法)により、重合工程で得られた粗ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの末端を、エーテル化剤によりエーテル基で封鎖し、及び/又はエステル化剤によりエステル基で封鎖して、安定化する。
<(2) terminal stabilization step>
In the terminal stabilization step, the terminal of the crude polyoxymethylene resin homopolymer obtained in the polymerization step is converted to an ether group by an etherification agent by a known method (for example, the method described in JP-B-63-452). and/or with an ester group by an esterifying agent to stabilize.
エーテル基で封鎖する場合のエーテル化剤としては、特に限定されないが、例えば、オルトエステル等が挙げられる。 The etherifying agent for blocking with an ether group is not particularly limited, but examples thereof include orthoesters.
オルトエステルとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、脂肪族酸又は芳香族酸と、脂肪族アルコール、脂環式族アルコール又は芳香族アルコールとのオルトエステル等が挙げられ、具体的には、メチル又はエチルオルトホルメート、メチル又はエチルオルトアセテート及びメチル又はエチルオルトベンゾエート、並びにエチルオルトカーボネート等のオルトカーボネート等が挙げられる。
エーテル化剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of orthoesters include, but are not limited to, orthoesters of aliphatic acids or aromatic acids with aliphatic alcohols, alicyclic alcohols or aromatic alcohols. include orthocarbonates such as methyl or ethyl orthoformate, methyl or ethyl orthoacetate and methyl or ethyl orthobenzoate, and ethyl orthocarbonate, and the like.
The etherifying agent may be used alone or in combination of two or more.
エーテル化剤により封鎖する反応、すなわちエーテル化反応は、p-トルエンスルホン酸、酢酸及び臭化水素酸のような中強度有機酸や、ジメチル及びジエチルスルフェートのような中強度鉱酸等のルイス酸型の触媒を、エーテル化剤1質量部に対して0.001~0.02質量部導入して行ってもよい。
エーテル化反応においては、以下に限定されないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びベンゼン等の低沸点脂肪族;脂環式族及び芳香族炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム及び四塩化炭素等のハロゲン化低級脂肪族化合物等の有機溶媒を用いることができる。
The reaction that is blocked by an etherifying agent, ie, the etherification reaction, is performed using Lewis acids such as medium strength organic acids such as p-toluenesulfonic acid, acetic acid and hydrobromic acid, and medium strength mineral acids such as dimethyl and diethyl sulfate. 0.001 to 0.02 parts by mass of the acid type catalyst may be introduced with respect to 1 part by mass of the etherifying agent.
Etherification reactions include, but are not limited to, low boiling aliphatics such as pentane, hexane, cyclohexane and benzene; cycloaliphatic and aromatic hydrocarbons; halogenation such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride; Organic solvents such as lower aliphatic compounds can be used.
粗ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの末端をエステル基で封鎖して末端安定化する方法としては、例えば、米国特許第3,459,709号明細書に記載の大量の酸無水物を用い、スラリー状態で行う方法や、米国特許第3,172,736号明細書に記載の酸無水物のガスを用いて気相で行う方法が挙げられる。 As a method for terminal stabilization by blocking the ends of a crude polyoxymethylene resin homopolymer with an ester group, for example, a large amount of acid anhydride described in US Pat. and a gas phase method using an acid anhydride gas described in US Pat. No. 3,172,736.
エステル基で封鎖する場合のエステル化剤としては、特に限定されないが、例えば、有機酸無水物等が挙げられる。 The esterifying agent for blocking with an ester group is not particularly limited, but examples thereof include organic acid anhydrides.
有機酸無水物としては、例えば、下記一般式(2)で表される有機酸無水物等が挙げられる。
R5COOCOR6 ・・・(2)
(一般式(2)中、R5及びR6は、各々独立にアルキル基又はフェニル基を示す。R5及びR6は、同じであっても異なっていてもよい。)
Examples of organic acid anhydrides include organic acid anhydrides represented by the following general formula (2).
R 5 COOCOR 6 (2)
(In general formula (2), R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group or a phenyl group. R 5 and R 6 may be the same or different.)
有機酸無水物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、無水プロピオン酸、無水安息香酸、無水酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、無水フタル酸等が挙げられ、無水酢酸が好ましい。
エステル化剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of organic acid anhydrides include, but are not limited to, propionic anhydride, benzoic anhydride, acetic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, and phthalic anhydride. Acetic anhydride is preferred.
Esterifying agents may be used alone or in combination of two or more.
気相でエステル基により末端封鎖を行う方法としては、例えば、特開平11-92542号公報に記載の方法によって、オニウム塩系重合触媒を除去した後に末端封鎖を行うことが好ましい。ポリオキシメチレン中のオニウム塩系重合触媒を除去しておくことで、末端封鎖を行う際に、オニウム塩系重合触媒由来のポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの分解反応を回避することができ、末端安定化工程におけるポリマー収率を向上させることができると共に、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの着色を抑制することができる。 As a method for terminal blocking with an ester group in the gas phase, it is preferable to block the terminal after removing the onium salt-based polymerization catalyst by, for example, the method described in JP-A-11-92542. By removing the onium salt-based polymerization catalyst in the polyoxymethylene, it is possible to avoid the decomposition reaction of the polyoxymethylene resin homopolymer derived from the onium salt-based polymerization catalyst when performing terminal blocking, and stabilize the terminal. It is possible to improve the polymer yield in the polymerization step and suppress the coloring of the polyoxymethylene resin homopolymer.
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーの末端は、エーテル基及び/又はエステル基で封鎖することにより、末端水酸基の濃度が5×10-7mol/g以下に低減されることが好ましい。末端水酸基の濃度が5×10-7mol/g以下であると、熱安定性に優れ、本来のポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーが有する品質を維持できるため、好ましい。同様の観点から、末端水酸基の濃度は、0.5×10-7mol/g以下であることがより好ましく、0.3×10-7mol/g以下であることがさらに好ましい。 The end of the polyoxymethylene resin homopolymer is preferably blocked with an ether group and/or an ester group to reduce the concentration of terminal hydroxyl groups to 5×10 −7 mol/g or less. A concentration of terminal hydroxyl groups of 5×10 −7 mol/g or less is preferable because the thermal stability is excellent and the quality of the original polyoxymethylene resin homopolymer can be maintained. From the same point of view, the concentration of terminal hydroxyl groups is more preferably 0.5×10 −7 mol/g or less, further preferably 0.3×10 −7 mol/g or less.
(滑剤(B))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、滑剤(B)を含有する。当該ポリオキシメチレン樹脂組成物が滑剤(B)を含有することにより、当該ポリオキシメチレン樹脂組成物中の顔料分散性が向上し、破壊の起点となり得る顔料分散不良を緩和することができ、それゆえに耐候安定性及びクリープ特性を向上させることができる。
滑剤(B)としては、以下に限定されないが、例えば、ポリアルキレングリコール、及びアミド基を有する脂肪族化合物が挙げられる。
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
ポリアルキレングリコールとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等を挙げることができる。ポリアルキレングリコールの分子量は目的に応じて選択することができ、一般には500~20000の分子量を有するポリアルキレングリコールを用いることができる。また、より好ましくは、ポリアルキレングリコールの分子量は、4000~20000を用いることができる。なお、ここで言う分子量は、数平均分子量を意味する。
アミド基を有する脂肪族化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、エチレンビスパルミチン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、及びエチレンビスエルカ酸アミド等が挙げられる。
本実施形態においては、滑剤(B)としては、熱安定性を向上させホルムアルデヒドの放出量を低減する観点から、アミド基を有する脂肪族化合物、ポリエチレングリコールを用いることが好ましく、より好ましくはエチレンビスステアリン酸アミドである。
(Lubricant (B))
The polyoxymethylene resin composition of this embodiment contains a lubricant (B). By containing the lubricant (B) in the polyoxymethylene resin composition, the dispersibility of the pigment in the polyoxymethylene resin composition is improved, and poor pigment dispersion, which may be the starting point of destruction, can be alleviated. Therefore, weather resistance stability and creep properties can be improved.
Examples of lubricants (B) include, but are not limited to, polyalkylene glycols and aliphatic compounds having amide groups.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Examples of polyalkylene glycol include, but are not limited to, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and the like. The molecular weight of polyalkylene glycol can be selected depending on the purpose, and polyalkylene glycol having a molecular weight of 500 to 20,000 can generally be used. More preferably, the polyalkylene glycol having a molecular weight of 4,000 to 20,000 can be used. In addition, the molecular weight said here means a number average molecular weight.
Examples of aliphatic compounds having an amide group include, but are not limited to, ethylenebispalmitamide, ethylenebisstearicamide , ethylenebislauricamide, ethylenebisoleicamide, and ethylene biserucamide and the like.
In the present embodiment, as the lubricant (B), from the viewpoint of improving thermal stability and reducing the amount of formaldehyde released, it is preferable to use an aliphatic compound having an amide group, polyethylene glycol, more preferably ethylene bis. It is a stearic acid amide.
滑剤(B)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.01~0.1質量部の範囲であり、好ましくは0.015~0.07質量部の範囲であり、より好ましくは0.02~0.06質量部の範囲である。
滑剤(B)の含有量が上記の範囲にあると、耐候安定性を有し、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供でき、耐候安定性とクリープ特性に優れる成形体を提供することができる。具体的には、滑剤(B)の含有量をポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.01質量部以上とすることにより、当該ポリオキシメチレン樹脂組成物中の顔料分散性が向上し、破壊の起点となり得る顔料分散不良を緩和することができ、滑剤(B)の含有量をポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.1質量部以下とすることにより、熱安定性が向上しホルムアルデヒドの放出量を低減することができる。
The content of the lubricant (B) is in the range of 0.01 to 0.1 parts by mass, preferably 0.015 to 0.07 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A). and more preferably 0.02 to 0.06 parts by mass.
When the content of the lubricant (B) is within the above range, the polyoxymethylene resin composition has weather resistance stability and a reduced amount of formaldehyde emitted, and the amount of formaldehyde emitted during retention during molding is also reduced. A reduced polyoxymethylene resin composition can be provided, and a molded article having excellent weather resistance stability and creep properties can be provided. Specifically, the content of the lubricant (B) is 0.01 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A), so that the pigment in the polyoxymethylene resin composition Dispersibility is improved, and poor pigment dispersion that can be the starting point of destruction can be alleviated. By doing the following, thermal stability can be improved and the amount of formaldehyde released can be reduced.
(ポリオレフィン系樹脂(C))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、ポリオレフィン系樹脂(C)を含有する。当該ポリオキシメチレン樹脂組成物がポリオレフィン系樹脂(C)を含有することにより、当該ポリオキシメチレン樹脂組成物中の顔料分散性が向上し、破壊の起点となり得る顔料分散不良を緩和することができ、それゆえに耐候安定性及びクリープ特性を向上させることができる。
ポリオレフィン系樹脂(C)は、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレン(高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン)、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-オクテン共重合体、ポリプロピレン-ブテン共重合体、ポリブテン、ポリブタジエンの水添物、エチレン-アクリル酸エステル共重合体、エチレン-メタアクリル酸エステル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体が挙げられる。
また、前記共重合体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、他のビニル化合物の一種以上をグラフトさせたグラフト共重合体、より具体的には、ポリエチレン-g-ポリスチレン、エチレングリシジルメタアクリレート共重合体-g-ポリスチレン、低密度ポリエチレン-g-アクリロニトリルスチレン共重合体、ポリプロピレン-g-アクリロニトリルストレン共重合体、エチレングリシジルメタアクリレート共重合体-g-アクリロニトリルスチレン共重合体、エチレンエチルアクリレート共重合体-g-アクリロニトリルスチレン共重合体が挙げられる。
(Polyolefin resin (C))
The polyoxymethylene resin composition of this embodiment contains a polyolefin resin (C). When the polyoxymethylene resin composition contains the polyolefin resin (C), the dispersibility of the pigment in the polyoxymethylene resin composition is improved, and poor pigment dispersion, which may be the starting point of destruction, can be alleviated. , and therefore weathering stability and creep properties can be improved.
Polyolefin resin (C) is not limited to the following, but for example, polyethylene (high density polyethylene, medium density polyethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene, ultra low density polyethylene), polypropylene, ethylene - propylene copolymers, ethylene-butene copolymers, ethylene-octene copolymers, polypropylene-butene copolymers, polybutene, hydrogenated polybutadiene, ethylene-acrylic acid ester copolymers, ethylene-methacrylic acid esters A copolymer and an ethylene-acrylic acid copolymer can be mentioned.
Examples of the copolymer include, but are not limited to, graft copolymers grafted with one or more other vinyl compounds, more specifically polyethylene-g-polystyrene, ethylene Glycidyl methacrylate copolymer-g-polystyrene, low density polyethylene-g-acrylonitrile styrene copolymer, polypropylene-g-acrylonitrile strain copolymer, ethylene glycidyl methacrylate copolymer-g-acrylonitrile styrene copolymer, ethylene Ethyl acrylate copolymer-g-acrylonitrile styrene copolymer can be mentioned.
これらの中では、ポリエチレン(高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン)が好ましい。
これらポリオレフィン系樹脂は、特に制限されないが、メルトフローレイト(JIS K7210-4に準拠)が0.01g/10分~150g/10分であると好ましく、より好ましくは0.1g/10分~120g/10分であり、さらに好ましくは0.5g/10分~100g/10分である。
メルトフローレイトが0.01g/10分以上であることにより、ポリオキシメチレン樹脂組成物の成形体への、ポリオレフィン系樹脂(C)の分散性が良好となり、150g/10分以下であることにより、成形時において成形体に剥離が生じ難い。
Among these, polyethylene (high density polyethylene, medium density polyethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene, ultra low density polyethylene) is preferred.
These polyolefin resins are not particularly limited, but preferably have a melt flow rate (according to JIS K7210-4) of 0.01 g/10 min to 150 g/10 min, more preferably 0.1 g/10 min to 120 g. /10 minutes, more preferably 0.5 g/10 minutes to 100 g/10 minutes.
When the melt flow rate is 0.01 g/10 min or more, the dispersibility of the polyolefin resin (C) in the molded article of the polyoxymethylene resin composition is good, and when it is 150 g/10 min or less, , the molded article is less likely to peel off during molding.
ポリオレフィン系樹脂(C)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.1~1.0質量部の範囲であり、好ましくは0.1~0.6質量部の範囲であり、より好ましくは0.13~0.4質量部の範囲である。
ポリオレフィン系樹脂(C)の含有量が前記範囲にあると、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供でき、耐候安定性とクリープ特性に優れる成形体を提供することができる。具体的には、ポリオレフィン系樹脂(C)の含有量をポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.1質量部以上とすることにより、当該ポリオキシメチレン樹脂組成物中の顔料分散性が向上し、破壊の起点となり得る顔料分散不良を緩和することができ、また、ポリオレフィン系樹脂(C)の含有量をポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、1.0質量部以下とすることにより、熱安定性が向上しホルムアルデヒドの放出量を低減することができる。
The content of the polyolefin resin (C) is in the range of 0.1 to 1.0 parts by mass, preferably 0.1 to 0.6 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A). It is in the range of parts by mass, more preferably in the range of 0.13 to 0.4 parts by mass.
When the content of the polyolefin-based resin (C) is within the above range, the polyoxymethylene resin composition has a reduced amount of formaldehyde released, and the polyoxymethylene also has a reduced amount of formaldehyde released during retention in the molding process. A resin composition can be provided, and a molded article having excellent weather resistance stability and creep properties can be provided. Specifically, by setting the content of the polyolefin resin (C) to 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A), The dispersibility of the pigment is improved, and the poor dispersion of the pigment, which can be the starting point of destruction, can be alleviated. , 1.0 parts by mass or less, the thermal stability is improved and the amount of formaldehyde released can be reduced.
(((B)滑剤/(C)ポリオレフィン系樹脂)の質量比)
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物において、ポリオレフィン系樹脂(C)に対する滑剤(B)の質量比、すなわち、滑剤(B)/オレフィン系樹脂(C)の質量比は、質量基準で5/95~30/70である。また、7/93~30/70が好ましく、より好ましくは10/90~30/70である。
当該質量比を、前記範囲にすることにより、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供でき、耐候安定性とクリープ特性に優れる成形体を提供することができる。具体的には、滑剤(B)/オレフィン系樹脂(C)の質量比を5/95以上とすることにより、耐候安定性とクループ特性を付与することができ、当該質量比を30/70以下とすることにより、熱安定性が向上しホルムアルデヒドの放出量を低減することができる。
(Mass ratio of ((B) lubricant/(C) polyolefin resin))
In the polyoxymethylene resin composition of the present embodiment, the mass ratio of the lubricant (B) to the polyolefin resin (C), that is, the mass ratio of the lubricant (B)/olefin resin (C) is 5/ 95 to 30/70. Further, it is preferably 7/93 to 30/70, more preferably 10/90 to 30/70.
A polyoxymethylene resin composition in which the amount of formaldehyde emitted is reduced by setting the mass ratio to the range described above, and in which the amount of formaldehyde emitted during retention in the molding process is also reduced. It is possible to provide a molded article having excellent weather resistance stability and creep properties. Specifically, by setting the mass ratio of the lubricant (B)/olefin resin (C) to 5/95 or more, weather resistance stability and croup characteristics can be imparted, and the mass ratio is set to 30/70 or less. By doing so, the thermal stability is improved and the amount of formaldehyde released can be reduced.
(顔料(D))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、顔料(D)を含有する。当該ポリオキシメチレン樹脂組成物が顔料(D)を含有することにより、樹脂組成物を用いた成形体の外観や視認性を向上させることができる。
顔料(D)としては、以下に限定されないが、例えば、無機系顔料及び有機系顔料、メタリック系顔料、蛍光顔料等が具体例として挙げられる。
無機系顔料としては、樹脂の着色に一般的に使用されているものが挙げられる。無機系顔料としては、特に限定されないが、例えば、硫化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、チタンイエロー、コバルトブルー、燃成顔料、炭酸塩、りん酸塩、酢酸塩やカーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック等が挙げられる。
有機系顔料としては、特に限定されないが、例えば、縮合ウゾ系、イノン系、フロタシアニン系、モノアゾ系、ジアゾ系、ポリアゾ系、アンスラキノン系、複素環系、ペンノン系、キナクリドン系、チオインジコ系、ベリレン系、ジオキサジン系、フタロシアニン系等の顔料等が挙げられる。
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本実施形態においては、顔料(D)としては、ホルムアルデヒドの放出量の低減の観点から、無機系顔料、有機系顔料を用いることが好ましい。
(Pigment (D))
The polyoxymethylene resin composition of this embodiment contains a pigment (D). By containing the pigment (D) in the polyoxymethylene resin composition, it is possible to improve the appearance and visibility of the molded article using the resin composition.
Specific examples of the pigment (D) include, but are not limited to, inorganic pigments, organic pigments, metallic pigments, and fluorescent pigments.
Examples of inorganic pigments include those commonly used for coloring resins. Examples of inorganic pigments include, but are not limited to, zinc sulfide, titanium oxide, barium sulfate, titanium yellow, cobalt blue, combustion pigments, carbonates, phosphates, acetates, carbon black, acetylene black, and lamp black. etc.
Examples of organic pigments include, but are not limited to, condensed ouzo-based, inone-based, phlotacyanine-based, monoazo-based, diazo-based, polyazo-based, anthraquinone-based, heterocyclic, pennone-based, quinacridone-based, thioindico-based, berylene pigments. and dioxazine-based and phthalocyanine-based pigments.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
In the present embodiment, as the pigment (D), it is preferable to use an inorganic pigment or an organic pigment from the viewpoint of reducing the amount of formaldehyde emitted.
顔料(D)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.05~3.0質量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.1~2.0質量部の範囲であり、さらに好ましくは0.15~1.0質量部の範囲である。
顔料(D)の含有量が前記範囲にあると、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供することができる。具体的には、顔料(D)の含有量をポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.05質量部以上とすることにより、視認性を向上することができ、顔料(D)の含有量をポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、3.0質量部以下とすることにより、ホルムアルデヒドの放出量を低減することができる。
The content of the pigment (D) is preferably in the range of 0.05 to 3.0 parts by mass, more preferably 0.1 to 2 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A). 0 parts by mass, more preferably 0.15 to 1.0 parts by mass.
When the content of the pigment (D) is within the above range, the polyoxymethylene resin composition has a reduced amount of formaldehyde emitted, and a reduced amount of formaldehyde emitted during retention during molding. can provide things. Specifically, by setting the content of the pigment (D) to 0.05 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A), the visibility can be improved. By setting the content of (D) to 3.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A), the amount of formaldehyde released can be reduced.
(ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)(以下、「含窒素化合物(E)」とも称す)を含有することが好ましい。当該ポリオキシメチレン樹脂組成物が含窒素化合物(E)を含有することにより、樹脂組成物からのホルムアルデヒドの放出量を低減することができる。
ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アミノ置換トリアジン化合物、尿素誘導体、アミド化合物、ポリアミド、アクリルアミド共重合体、及びヒドラジド化合物等が挙げられる。
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本実施形態においては、含窒素化合物(E)としては、ホルムアルデヒドの放出量を低減する観点から、アクリルアミド共重合体、ヒドラジド化合物を用いることが好ましい。
(Nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde scavenging ability)
The polyoxymethylene resin composition of the present embodiment preferably contains a nitrogen-containing compound (E) (hereinafter also referred to as "nitrogen-containing compound (E)") having formaldehyde scavenging ability. By containing the nitrogen-containing compound (E) in the polyoxymethylene resin composition, the amount of formaldehyde released from the resin composition can be reduced.
Nitrogen-containing compounds (E) having formaldehyde scavenging ability include, but are not limited to, amino-substituted triazine compounds, urea derivatives, amide compounds, polyamides, acrylamide copolymers, and hydrazide compounds. be done.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
In the present embodiment, the nitrogen-containing compound (E) is preferably an acrylamide copolymer or a hydrazide compound from the viewpoint of reducing the amount of formaldehyde released.
ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.01~0.4質量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.05~0.35質量部の範囲であり、さらに好ましくは0.1~0.3質量部の範囲である。
ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)の含有量が前記範囲にあると、ホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物であって、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供でき、耐候安定性とクリープ特性に優れる成形体を提供することができる。
The content of the nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde scavenging ability is preferably in the range of 0.01 to 0.4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A), and more It is preferably in the range of 0.05 to 0.35 parts by mass, more preferably in the range of 0.1 to 0.3 parts by mass.
When the content of the nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde scavenging ability is within the above range, the polyoxymethylene resin composition has a reduced amount of formaldehyde released, and the amount of formaldehyde released during retention in the molding process is also reduced. It is possible to provide a polyoxymethylene resin composition having a high temperature resistance and to provide a molded article having excellent weather resistance stability and creep properties.
前記アミノ置換トリアジン化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2,4-ジアミノ-sym-トリアジン、2,4,6-トリアミノ-sym-トリアジン、メラミン、N-ブチルメラミン、N-フェニルメラミン、N,N-ジフェニルメラミン、N,N-ジアリルメラミン、ベンゾグアナミン(2,4-ジアミノ-6-フェニル-sym-トリアジン)、アセトグアナミン(2,4-ジアミノ-6-メチル-sym-トリアジン)、2,4-ジアミノ-6-ブチル-sym-トリアジン等が挙げられる。 Examples of the amino-substituted triazine compound include, but are not limited to, 2,4-diamino-sym-triazine, 2,4,6-triamino-sym-triazine, melamine, N-butylmelamine, N -phenylmelamine, N,N-diphenylmelamine, N,N-diallylmelamine, benzoguanamine (2,4-diamino-6-phenyl-sym-triazine), acetoguanamine (2,4-diamino-6-methyl-sym- triazine), 2,4-diamino-6-butyl-sym-triazine and the like.
前記尿素誘導体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、N-置換尿素、尿素縮合体、エチレン尿素、ヒダントイン化合物、ウレイド化合物等が挙げられる。
前記N-置換尿素としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルキル基等の置換基を有するメチル尿素、アルキレンビス尿素、アリール置換尿素が挙げられる。
前記尿素縮合体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、尿素とホルムアルデヒドの縮合体等が挙げられる。
前記ヒダントイン化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ヒダントイン、5,5-ジメチルヒダントイン、5,5-ジフェニルヒダントイン等が挙げられる。
前記ウレイド化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アラントイン等が挙げられる。
Examples of the urea derivative include, but are not limited to, N-substituted urea, urea condensates, ethylene urea, hydantoin compounds, and ureido compounds.
Examples of the N-substituted urea include, but are not limited to, methyl urea, alkylenebis urea, and aryl-substituted urea having a substituent such as an alkyl group.
Examples of the urea condensate include, but are not limited to, a condensate of urea and formaldehyde.
Examples of the hydantoin compound include, but are not limited to, hydantoin, 5,5-dimethylhydantoin, 5,5-diphenylhydantoin, and the like.
Examples of the ureido compound include, but are not limited to, allantoin.
前記アミド化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、イソフタル酸ジアミド等の多価カルボン酸アミド、アントラニルアミド、ポリアクリルアミド共重合体等が挙げられる。 Examples of the amide compound include, but are not limited to, polyvalent carboxylic acid amides such as isophthalic acid diamide, anthranilamide, and polyacrylamide copolymers.
前記ポリアミドとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリアミド4/6、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド6/10、ポリアミド6/11、ポリアミド6/12、ポリアミド6/66/610の3元共重合体等が挙げられる。 Examples of the polyamide include, but are not limited to, polyamide 4/6, polyamide 6, polyamide 66, polyamide 11, polyamide 12, polyamide 6/10, polyamide 6/11, polyamide 6/12, polyamide A 6/66/610 terpolymer and the like are included.
前記アクリルアミド共重合体としては、第一級アミド基が30~70mol%であり、0.1~10μmの平均粒子径を有する粒子状のものが好ましい。
特に好ましいアクリルアミド共重合体は、架橋型ポリアクリルアミドで且つ平均粒子径が10μm以下のものである。さらに好ましくは、平均粒子径が5μm以下のポリアクリルアミドであり、よりさらに好ましくは、架橋型で平均粒子径が3μm以下のポリアクリルアミドである。
The acrylamide copolymer is preferably in the form of particles having a primary amide group content of 30 to 70 mol % and an average particle diameter of 0.1 to 10 μm.
A particularly preferred acrylamide copolymer is a crosslinked polyacrylamide having an average particle size of 10 μm or less. More preferably, it is a polyacrylamide having an average particle size of 5 μm or less, and even more preferably a crosslinked polyacrylamide having an average particle size of 3 μm or less.
前記ヒドラジド化合物としては、カルボン酸(含芳香族、脂環)とヒドラジンとの反応により合成される。カルボン酸を用いて合成されるカルボン酸モノ(ジ)ヒドラジド化合物は、例えば、カルボジヒドラジン、シュウ酸モノ(ジ)ヒドラジド、マロン酸モノ(ジ)ヒドラジド、コハク酸モノ(ジ)ヒドラジド、グルタル酸モノ(ジ)ヒドラジド、アジピン酸モノ(ジ)ヒドラジド、セバシン酸モノ(ジ)ヒドラジド、ラウリン酸モノ(ジ)ヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、プロピオン酸モノヒドラジド、ラウリン酸モノヒドラジド、ステアリン酸モノヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、2,6-ナフタリン酸ジヒドラジド、p-ヒドロキシベンゾイックヒドラジン、p-ヒドロキシベンゾイックヒドラジン、1,4-シクロへキサンジカルボン酸ジヒドラジン、アセトヒドラジド、アクリロヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド、フマル酸ジヒドラジド、ベンゾヒドラジド、ニコチノヒドラジド、イソニコチノヒドラジド、イソブチルヒドラジン、オレイン酸ヒドラジド等が挙げられる。これらカルボン酸の中でも、アジピン酸、セバシン酸等のジカルボン酸が好ましく、アジピン酸モノ(ジ)ヒドラジド、セバシン酸モノ(ジ)ヒドラジドが、最も好ましいカルボン酸ヒドラジド化合物である。 The hydrazide compound is synthesized by reacting a carboxylic acid (aromatic or alicyclic) with hydrazine. Carboxylic acid mono(di)hydrazide compounds synthesized using carboxylic acid include, for example, carbodihydrazine, oxalic acid mono(di)hydrazide, malonic acid mono(di)hydrazide, succinic acid mono(di)hydrazide, glutaric acid mono(di)hydrazide, adipic acid mono(di)hydrazide, sebacic acid mono(di)hydrazide, lauric acid mono(di)hydrazide, malic acid dihydrazide, tartaric acid dihydrazide, propionic acid monohydrazide, lauric acid monohydrazide, mono stearic acid hydrazide, dihydrazide phthalate, dihydrazide isophthalate, dihydrazide terephthalate, 2,6-naphthalate dihydrazide, p-hydroxybenzoic hydrazine, p-hydroxybenzoic hydrazine, dihydrazine 1,4-cyclohexanedicarboxylate, acetohydrazide , acrylohydrazide, maleic dihydrazide, fumaric dihydrazide, benzohydrazide, nicotinohydrazide, isonicotinohydrazide, isobutylhydrazine, oleic hydrazide and the like. Among these carboxylic acids, dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid are preferred, and adipic acid mono(di)hydrazide and sebacic acid mono(di)hydrazide are the most preferred carboxylic acid hydrazide compounds.
(紫外線吸収剤(F))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、紫外線吸収剤(F)を含有することが好ましい。
紫外線吸収剤(F)としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及び蓚酸アニリド系紫外線吸収剤等が挙げられる。
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Ultraviolet absorber (F))
The polyoxymethylene resin composition of the present embodiment preferably contains an ultraviolet absorber (F).
Examples of the ultraviolet absorber (F) include, but are not limited to, benzotriazole-based ultraviolet absorbers and oxalic acid anilide-based ultraviolet absorbers.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
紫外線吸収剤(F)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.1~0.5質量部の範囲であり、好ましくは0.15~0.4質量部の範囲であり、より好ましくは0.2~0.35質量部の範囲である。
紫外線吸収剤(F)の含有量が前記範囲にあると、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供することができる。
The content of the ultraviolet absorber (F) is in the range of 0.1 to 0.5 parts by mass, preferably 0.15 to 0.4 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A). It is in the range of parts by mass, more preferably in the range of 0.2 to 0.35 parts by mass.
When the content of the ultraviolet absorber (F) is within the above range, it is possible to provide a polyoxymethylene resin composition in which the amount of formaldehyde released during retention during molding is reduced.
前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、以下に限定されないが、例えば、2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチル-フェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチル-フェニル)ベンゾトリアゾール、2-[2’-ヒドロキシ-3’,5’-ビス(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2’-ヒドロキシ-3’,5’-ビス-(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-4’-オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
前記蓚酸アリニド系紫外線吸収剤としては、以下に限定されないが、例えば、2-エトキシ-2’-エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2-エトキシ-5-t-ブチル-2’-エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2-エトキシ-3’-ドデシルオキザリックアシッドビスアニリド等が挙げられる。
本実施形態においては、紫外線吸収剤(F)としては、ホルムアルデヒドの放出量を低減する観点から、2-[2’-ヒドロキシ-3’,5’-ビス(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチル-フェニル)ベンゾトリアゾールを用いることが好ましい。
Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include, but are not limited to, 2-(2'-hydroxy-5'-methyl-phenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3',5'- di-t-butyl-phenyl)benzotriazole, 2-[2′-hydroxy-3′,5′-bis(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole, 2-[2′-hydroxy- 3′,5′-bis-(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole, 2-(2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl)benzotriazole and the like.
Examples of the oxalic acid alinide-based ultraviolet absorber include, but are not limited to, 2-ethoxy-2'-ethyloxalic acid bisanilide, 2-ethoxy-5-t-butyl-2'-ethyloxalic acid bisanilide, 2-ethoxy-3'-dodecyloxalic acid bisanilide and the like.
In the present embodiment, the ultraviolet absorber (F) is 2-[2′-hydroxy-3′,5′-bis(α,α-dimethylbenzyl)phenyl] from the viewpoint of reducing the amount of formaldehyde emitted. Preference is given to using benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-t-butyl-phenyl)benzotriazole.
(ヒンダードアミン系光安定剤(G))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、ヒンダードアミン系光安定剤(G)を含有することが好ましい。
ヒンダードアミン系光安定剤(G)としては、以下に限定されないが、例えば、N,N’,N’’,N’’’-テトラキス-{4,6-ビス-[ブチル-(N-メチル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-イル)アミノ]-トリアジン-2-イル}-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン、ジブチルアミン・1,3,5-トリアジン・N,N’-ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-1,6-ヘキサメチレンジアミンとN-(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、ポリ[{6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)アミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル}{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ}]、コハク酸ジメチルと4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジンエタノールの縮合物、デカン2酸ビス[2,2,6,6-テトラメチル-1(オクチルオキシ)-4-ピペリジニル]エステルと1,1-ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)[{3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドロキシフェニル}メチル]ブチルマロネート、メチル1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)-セバケート、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノールとβ,β,β’,β’-テトラメチル-3,9-[2,4,8,10-テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン]ジエタノールとの縮合物等が挙げられる。
本実施形態においては、ヒンダードアミン系光安定剤(G)としては、ホルムアルデヒドの放出量を低減する観点から、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノールと、β,β,β’,β’-テトラメチル-3,9-(2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン)-ジエタノールと、の縮合物を用いることが好ましい。
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Hindered amine light stabilizer (G))
The polyoxymethylene resin composition of the present embodiment preferably contains a hindered amine light stabilizer (G).
Examples of the hindered amine light stabilizer (G) include, but are not limited to, N,N',N'',N'''-tetrakis-{4,6-bis-[butyl-(N-methyl- 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)amino]-triazin-2-yl}-4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine 1,3,5-triazine N , N′-Bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexamethylenediamine and N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butylamine Condensate, poly[{6-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl}{(2,2,6,6-tetramethyl- 4-piperidyl)imino}hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino}], dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1- Condensate of piperidine ethanol, reaction product of decanedioic acid bis[2,2,6,6-tetramethyl-1(octyloxy)-4-piperidinyl] ester with 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)[{3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl}methyl]butylmalonate, methyl 1,2,2 ,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-sebacate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2, 2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β,β,β',β'-tetramethyl-3,9-[2,4,8,10-tetraoxaspiro(5,5)undecane]diethanol and and condensates of.
In the present embodiment, the hindered amine light stabilizer (G) includes 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6,6 from the viewpoint of reducing the amount of formaldehyde released. -condensation of pentamethyl-4-piperidinol with β,β,β',β'-tetramethyl-3,9-(2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane)-diethanol It is preferred to use objects.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
ヒンダードアミン系光安定剤(G)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.1~0.5質量部の範囲であり、好ましくは0.15~0.4質量部の範囲であり、より好ましくは0.2~0.3質量部の範囲である。
ヒンダードアミン系光安定剤(G)の含有量が前記範囲にあると、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量が低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物を提供することができる。
The content of the hindered amine light stabilizer (G) is in the range of 0.1 to 0.5 parts by mass, preferably 0.15 to 0, per 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A). 0.4 parts by mass, more preferably 0.2 to 0.3 parts by mass.
When the content of the hindered amine light stabilizer (G) is within the above range, it is possible to provide a polyoxymethylene resin composition in which the amount of formaldehyde released during retention during molding is reduced.
(酸化防止剤(H))
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、酸化防止剤(H)を含有することが好ましい。当該ポリオキシメチレン樹脂組成物が酸化防止剤(H)を含有することにより、クリープ特性をより向上させることができる。
酸化防止剤(H)としては、以下に限定されないが、例えば、n-オクタデシル-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、n-オクタデシル-3-(3’-メチル-5-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、n-テトラデシル-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、1,6-ヘキサンジオール-ビス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、1,4-ブタンジオール-ビス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、トリエチレングリコール-ビス-[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、テトラキス-[メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、3,9-ビス[2-{3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ}-1,1-ジメチルエチル]2,4,8,10-テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン、N,N’-ビス-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェノール)プリピオニルヘキサメチレンジアミン、N,N’-テトラメチレンビス-3-(3’-メチル-5’-t-ブチル-4-ヒドロキシフェノール)プロピオニルジアミン、N,N’-ビス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェノール)プロピオニル]ヒドラジン、N-サリチロイル-N’-サリチリデンヒドラジン、3-(N-サリチロイル)アミノ-1,2,4-トリアゾール、N,N’-ビス[2-{3-(3,5-ジ-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]オキシアミド等が挙げられる。
前記酸化防止剤の中でも、トリエチレングリコール-ビス-[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、及び、テトラキス-[メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンが好ましい。
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Antioxidant (H))
The polyoxymethylene resin composition of the present embodiment preferably contains an antioxidant (H). By containing the antioxidant (H) in the polyoxymethylene resin composition, the creep property can be further improved.
Antioxidants (H) include, but are not limited to, n-octadecyl-3-(3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)-propionate, n-octadecyl-3 -(3'-methyl-5-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)-propionate, n-tetradecyl-3-(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)-propionate, 1,6-hexanediol-bis-[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate], 1,4-butanediol-bis-[3-(3,5-di -t-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate], triethylene glycol-bis-[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)-propionate], tetrakis-[methylene-3- (3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)propionate]methane, 3,9-bis[2-{3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy}-1,1-dimethylethyl]2,4,8,10-tetraoxaspiro(5,5)undecane, N,N'-bis-3-(3',5'-di-t-butyl -4-hydroxyphenol)pripionylhexamethylenediamine, N,N'-tetramethylenebis-3-(3'-methyl-5'-t-butyl-4-hydroxyphenol)propionyldiamine, N,N'- bis-[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenol)propionyl]hydrazine, N-salicyloyl-N'-salicylidenehydrazine, 3-(N-salicyloyl)amino-1,2, 4-triazole, N,N'-bis[2-{3-(3,5-di-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxy}ethyl]oxyamide and the like.
Among said antioxidants, triethylene glycol-bis-[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)-propionate] and tetrakis-[methylene-3-(3′,5 '-Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate]methane is preferred.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
酸化防止剤(H)の含有量は、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に対して、0.01~0.05質量部の範囲であり、好ましくは0.015~0.045質量部の範囲であり、より好ましくは0.02~0.04質量部の範囲である。
酸化防止剤(E)の含有量が前記範囲にあると、耐候安定性に優れるポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー組成物を提供することができる。
The content of the antioxidant (H) is in the range of 0.01 to 0.05 parts by mass, preferably 0.015 to 0.045, with respect to 100 parts by mass of the polyoxymethylene resin homopolymer (A). It is in the range of parts by mass, more preferably in the range of 0.02 to 0.04 parts by mass.
When the content of the antioxidant (E) is within the above range, it is possible to provide a polyoxymethylene resin homopolymer composition with excellent weather resistance stability.
(その他の成分)
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物には、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)の特性を損なわない範囲で、例えば好ましくはポリオキシメチレン樹脂組成物100質量%に対して2質量%以下で、さらに染料及び各種強化材等の各種添加剤を添加することができる。
(other ingredients)
In the polyoxymethylene resin composition of the present embodiment, within a range that does not impair the properties of the polyoxymethylene resin homopolymer (A), for example, preferably 2% by mass or less with respect to 100% by mass of the polyoxymethylene resin composition Furthermore, various additives such as dyes and various reinforcing materials can be added.
(ポリオキシメチレン樹脂組成物の製造方法)
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、上述した(A)~(D)成分、任意の(E)~(H)成分及びその他の添加剤成分等を、例えば、ヘンシェルミキサー、タンブラー、V字型ブレンダ―等で混合した後、単軸押出し機、或いは2軸押出し機、加熱ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等の混練機を用いて溶融混練することにより製造することができ、ストランド状、ペレット状等、種々の形態の製品として得ることができる。
また、予め混合することなく、定量フィーダー等で各成分を単独あるいは数種類ずつまとめて押出機に連続フィードすることもできる。また、予め各成分からなる高濃度マスターバッチを作製しておき、押出溶融混練時にポリオキシメチレン樹脂ホモポリマーで希釈することもできる。
混練温度は、使用するポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)の好ましい加工温度に従えばよく、一般的には、180℃以上240℃以下の範囲、好ましくは190℃以上220℃以下の範囲とする。
上述するようにして得られたポリオキシメチレン樹脂組成物のペレット等は、予め乾燥させてから、成形体の製造に用いてもよい。乾燥方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、箱型乾燥機(常圧、真空)、回転及び通気回転乾燥機、溝型撹拌乾燥機、流動層乾燥機などを用いた乾燥方法が挙げられる。
乾燥温度としては、熱媒体の温度として80℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましい。また、乾燥時間としては、ポリオキシメチレン樹脂組成物ペレットの品温が100℃以上に到達した時点を開始時間とした場合に、0~10時間が好ましく、0~6時間がより好ましく、1~6時間がさらに好ましい。
(Method for producing polyoxymethylene resin composition)
The polyoxymethylene resin composition of the present embodiment contains the above-described components (A) to (D), optional components (E) to (H) and other additive components, for example, a Henschel mixer, a tumbler, a V After mixing with a letter-shaped blender, etc., it can be produced by melt-kneading using a kneader such as a single-screw extruder, a twin-screw extruder, a heating roll, a kneader, or a Banbury mixer. It can be obtained as a product in various forms such as a shape.
Alternatively, each component can be continuously fed to an extruder singly or in batches of several types by a quantitative feeder or the like without being mixed in advance. Alternatively, a high-concentration masterbatch consisting of each component may be prepared in advance and diluted with a polyoxymethylene resin homopolymer during extrusion melt-kneading.
The kneading temperature may follow the preferred processing temperature of the polyoxymethylene resin homopolymer (A) used, and is generally in the range of 180°C or higher and 240°C or lower, preferably in the range of 190°C or higher and 220°C or lower. .
The pellets and the like of the polyoxymethylene resin composition obtained as described above may be dried in advance and then used for the production of molded articles. The drying method is not particularly limited, but for example, a drying method using a box-type dryer (atmospheric pressure, vacuum), a rotary and ventilation rotary dryer, a groove-type stirring dryer, a fluid bed dryer, etc. is mentioned.
As for the drying temperature, the temperature of the heat medium is preferably 80° C. or higher, more preferably 100° C. or higher. The drying time is preferably 0 to 10 hours, more preferably 0 to 6 hours, more preferably 1 to 10 hours, when the temperature of the polyoxymethylene resin composition pellets reaches 100 ° C. or higher as the starting time. 6 hours is more preferred.
〔成形体〕
本実施形態の成形体は、上述した本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物を含み、上述のようにして得られたペレット状の製品を用いて、目的とする成形体を成形することができる。
成形体を製造する方法は、特に限定するものではなく、通常用いられる公知の成形方法、例えば、射出成形法、押出し成形法、真空成形、ブロー成形、射出圧縮成形、加飾成形、他材質成形、ガスアシスト射出成形、発砲射出成形、低圧成形、超薄肉射出成形(超高速射出成形)、金型内複合成形(インサート成形、アウトサート成形)等の何れかを適用することができる。
[Molded body]
The molded article of the present embodiment contains the polyoxymethylene resin composition of the present embodiment described above, and the pellet-like product obtained as described above can be used to mold the desired molded article. .
The method for producing the molded article is not particularly limited, and commonly used known molding methods such as injection molding, extrusion molding, vacuum molding, blow molding, injection compression molding, decorative molding, and other material molding. , gas-assisted injection molding, foam injection molding, low-pressure molding, ultra-thin injection molding (ultra-high-speed injection molding), in-mold composite molding (insert molding, outsert molding), etc. can be applied.
以下、本実施形態について具体的な実施例及び比較例を挙げて説明するが、本実施形態は、後述する実施例に限定されるものではない。
以下、評価方法を説明する。
Hereinafter, the present embodiment will be described with specific examples and comparative examples, but the present embodiment is not limited to the examples described later.
The evaluation method will be described below.
〔評価方法〕
((1)80℃クリープ特性)
実施例、比較例のポリオキシメチレン樹脂組成物のペレットから、東芝(株)製IS-100GN射出成形機を用い、シリンダー温度200℃、射出圧力55MPa、射出時間15秒、冷却時間25秒、金型温度90℃で、寸法110mm×6.5mm×3mmの短冊状の試験片を成形し、環境温度23±2℃、湿度50±10%に24時間以上放置した。放置後の試験片とクリープ試験機(東洋精機製クリープ試験機:C200-6)を用いて、設定温度80℃、引張応力20MPaの負荷を与え、試験片が破壊されるまでの時間(破壊時間(hr))を測定した。各試験片を3個作製し、表1及び2の破壊時間は、n=3の算術平均時間を示す。
破壊されるまでの時間が長いほど、80℃、20MPa条件下のクリープ特性に優れる。
〔Evaluation methods〕
((1) 80°C creep property)
Using an IS-100GN injection molding machine manufactured by Toshiba Corporation, cylinder temperature 200 ° C., injection pressure 55 MPa, injection time 15 seconds, cooling time 25 seconds, gold At a mold temperature of 90° C., a strip-shaped test piece with dimensions of 110 mm×6.5 mm×3 mm was molded and allowed to stand at an environmental temperature of 23±2° C. and a humidity of 50±10% for 24 hours or longer. Using a test piece after standing and a creep tester (Toyo Seiki creep tester: C200-6), a set temperature of 80 ° C. and a tensile stress of 20 MPa are applied, and the time until the test piece breaks (breaking time (hr)) was measured. Three pieces of each specimen were made and the failure times in Tables 1 and 2 represent the arithmetic mean times for n=3.
The longer the time until destruction, the better the creep property under conditions of 80°C and 20 MPa.
((2)ポリオキシメチレン樹脂組成物の成形体から発生するホルムアルデヒドの定量(VDA275値の測定);滞留前(n=3の平均値))
実施例、比較例のポリオキシメチレン樹脂組成物のペレットを、シリンダー設定温度が220℃の射出成形機(金型温度:80℃、ゲートサイズ:3*3mmのサイドゲート)(東芝機械製、IS-100GN)を用いて、100*40*3mmのサイズの試験片を3個作製した。
成形サイクルは、射出と冷却を併せて、40秒/サイクルとした。得られた成形体(試験片)を、環境温度23±2℃、湿度50±10%に調整した恒温室に1昼夜放置した。
その後、ドイツ自動車工業会規定の方法(条件)に従って、VDA275値(100*40mmの平板試験片を1リットルの容器内に吊るし、水を50ミリリットル入れて密閉後、加熱処理(60℃の温度で3時間)を行った。加熱処理後、容器内の水に吸収されたホルムアルデヒドガスを化学分析で定量して得られた値)を測定した。当該測定を3個の試験片ついて行い、表1及び2の滞留前のVDA275値は、n=3の算術平均時間を示す。
滞留前のVDA275値が低いほど、ポリオキシメチレン樹脂組成物の成形体から発生するホルムアルデヒドが少ないことを意味する。
((2) Quantitative determination of formaldehyde generated from molded articles of polyoxymethylene resin composition (measurement of VDA275 value); before retention (average value of n = 3))
Pellets of the polyoxymethylene resin compositions of Examples and Comparative Examples were placed in an injection molding machine with a cylinder set temperature of 220°C (mold temperature: 80°C, gate size: 3*3 mm side gate) (manufactured by Toshiba Machine, IS -100 GN), three test pieces with a size of 100*40*3 mm were produced.
The molding cycle was 40 seconds/cycle in combination of injection and cooling. The obtained molded article (test piece) was left in a thermostatic chamber adjusted to an ambient temperature of 23±2° C. and a humidity of 50±10% for one day and night.
After that, according to the method (conditions) specified by the German Automobile Manufacturers Association, a VDA275 value (100 * 40 mm flat plate test piece was hung in a 1 liter container, filled with 50 ml of water, sealed, and then heat treated (at a temperature of 60 ° C. After the heat treatment, the formaldehyde gas absorbed by the water in the container was quantified by chemical analysis and the value) was measured. The measurements were carried out on three specimens and the pre-dwell VDA275 values in Tables 1 and 2 represent an arithmetic mean time of n=3.
The lower the VDA275 value before retention, the less formaldehyde is generated from the molded article of the polyoxymethylene resin composition.
((3)ポリオキシメチレン樹脂組成物の成形体から発生するホルムアルデヒドの定量(VDA275値の測定);滞留後(n=3の平均値))
実施例、比較例のポリオキシメチレン樹脂組成物のペレットを、シリンダー設定温度が220℃の射出成形機(金型温度:80℃、ゲートサイズ:3*3mmのサイドゲート)(東芝機械製、IS-100GN)を用いて、10分滞留させた後、100*40*3mmのサイズの試験片を3個作製した。
成形サイクルは、射出と冷却を併せて、40秒/サイクルとした。得られた成形体(試験片)を、環境温度23±2℃、湿度50±10%に調整した恒温室に1昼夜放置した。
その後、ドイツ自動車工業会規定の方法(条件)に従って、VDA275値(100*40mmの平板試験片を1リットルの容器内に吊るし、水を50ミリリットル入れて密閉後、加熱処理(60℃の温度で3時間)を行った。加熱処理後、容器内の水に吸収されたホルムアルデヒドガスを化学分析で定量して得られた値)を測定した。
当該測定を3個の試験片ついて行い、表1及び2の滞留後のVDA275値は、n=3の算術平均時間を示す。
滞留後のVDA275値が低いほど、ポリオキシメチレン樹脂組成物の成形体から発生するホルムアルデヒドが少ないことを意味する。
((3) Quantification of formaldehyde generated from molded articles of polyoxymethylene resin composition (measurement of VDA275 value); after retention (average value of n = 3))
Pellets of the polyoxymethylene resin compositions of Examples and Comparative Examples were placed in an injection molding machine with a cylinder set temperature of 220°C (mold temperature: 80°C, gate size: 3*3 mm side gate) (manufactured by Toshiba Machine, IS -100 GN), and after staying there for 10 minutes, three test pieces with a size of 100*40*3 mm were produced.
The molding cycle was 40 seconds/cycle in combination of injection and cooling. The obtained molded article (test piece) was left in a thermostatic chamber adjusted to an ambient temperature of 23±2° C. and a humidity of 50±10% for one day and night.
After that, according to the method (conditions) specified by the German Automobile Manufacturers Association, a VDA275 value (100 * 40 mm flat plate test piece was hung in a 1 liter container, filled with 50 ml of water, sealed, and then heat treated (at a temperature of 60 ° C. After the heat treatment, the formaldehyde gas absorbed by the water in the container was quantified by chemical analysis and the value) was measured.
The measurements were carried out on 3 specimens and the VDA275 values after residence in Tables 1 and 2 represent an arithmetic mean time of n=3.
It means that the lower the VDA275 value after retention, the less formaldehyde is generated from the molded article of the polyoxymethylene resin composition.
((4)耐候安定性)
実施例、比較例のポリオキシメチレン樹脂組成物のペレットを、シリンダー設定温度が215℃の射出成形機(東芝機械製、IS-100GN)を用いて、射出圧力72MPa、射出時間:15秒、冷却時間:20秒、金型温度:90℃の条件で、試験片(全長170mm、厚さ4mm、平行部幅10mm、平行部長さ80mm、つかみ部幅20mmのダンベル状試験片)を得た。得られた試験片を用いて、耐候安定性の試験評価を行った。
耐候性試験機(スガ試験機(株)製サンシャインウエザーメーターS80)を使用し、耐候安定性試験は、ブラックパネル温度83℃、雨なし、暴露時間2000時間の条件で行った。
また、耐候安定性試験前後の引張強度をISO527(引張試験機:(株)島津製作所製AG-IS)に従って測定し、下記式で算出される引張強度保持率(%)をn=3の平均値で求めた。得られた引張強度保持率(%)を表1及び2に示す。
引張強度保持率(%)=耐候性試験後の引張強度/耐候性試験前の引張強度×100
引張強度保持率(%)が高い程、実用上良好であると判断した。
((4) weather resistance stability)
Pellets of the polyoxymethylene resin compositions of Examples and Comparative Examples were cooled using an injection molding machine (manufactured by Toshiba Machine, IS-100GN) with a cylinder set temperature of 215°C, an injection pressure of 72 MPa, an injection time of 15 seconds, and cooling. Time: 20 seconds, mold temperature: 90° C. A test piece (dumbbell-shaped test piece having a total length of 170 mm, a thickness of 4 mm, a parallel portion width of 10 mm, a parallel portion length of 80 mm, and a grip portion width of 20 mm) was obtained. Weather resistance stability test evaluation was performed using the obtained test piece.
Using a weather resistance tester (Sunshine Weather Meter S80 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the weather resistance stability test was performed under the conditions of a black panel temperature of 83° C., no rain, and an exposure time of 2000 hours.
In addition, the tensile strength before and after the weathering stability test is measured according to ISO527 (tensile tester: AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation), and the tensile strength retention rate (%) calculated by the following formula is the average of n = 3 calculated by value. Tables 1 and 2 show the obtained tensile strength retention (%).
Tensile strength retention (%) = Tensile strength after weather resistance test/Tensile strength before weather resistance test x 100
It was judged that the higher the tensile strength retention rate (%), the better in practical use.
〔実施例、比較例で使用した成分〕
((A)ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー)
MFR値は3g/10分、ホルムアルデヒド発生量が0.6%(230℃窒素環境雰囲気条件下)の、末端基をアセチル化により安定化したホルムアルデヒド単独重合体を使用した。
[Components used in Examples and Comparative Examples]
((A) polyoxymethylene resin homopolymer)
A formaldehyde homopolymer whose end groups were stabilized by acetylation was used, which has an MFR value of 3 g/10 minutes and a formaldehyde generation amount of 0.6% (at 230° C. under a nitrogen ambient atmosphere).
((B)滑剤)
<B-1>:エチレンビスステアリン酸アマイド(EBS)(日本油脂製)
<B-2>:ポリエチレングリコール(PEG)(日本油脂製:数平均分子量6,000)
((B) lubricant)
<B-1>: Ethylene bis stearamide (EBS) (manufactured by NOF)
<B-2>: Polyethylene glycol (PEG) (manufactured by NOF: number average molecular weight 6,000)
((C)ポリオレフィン系樹脂)
<C-1>:サンテックLD L-1850A(LDPE)[ビカット軟化点87℃、MFR6.7g/10分](旭化成株式会社製)
<C-2>:サンテックHD J-320(HDPE)[ビカット軟化点123℃、MFR12.0g/10分](旭化成株式会社製)
((C) polyolefin resin)
<C-1>: Suntech LD L-1850A (LDPE) [Vicat softening point 87 ° C., MFR 6.7 g / 10 minutes] (manufactured by Asahi Kasei Corporation)
<C-2>: Suntech HD J-320 (HDPE) [Vicat softening point 123 ° C., MFR 12.0 g / 10 minutes] (manufactured by Asahi Kasei Corporation)
((D)顔料)
<D-1>:三菱カーボンブラック#52(三菱化学製)
<D-2>:Unipert White MK-2000(東邦顔料工業製)
<D-3>:Paliogen Red K3911(BASFジャパン製)
((D) pigment)
<D-1>: Mitsubishi Carbon Black #52 (manufactured by Mitsubishi Chemical)
<D-2>: Unipert White MK-2000 (manufactured by Toho Pigment Industry)
<D-3>: Paliogen Red K3911 (manufactured by BASF Japan)
((E)ホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物)
<E-1>:ポリアミド6/66/610の3元共重合体
<E-2>:ポリアクリルアミド化合物
[E-2の製造方法]
攪拌機を具備するバッチ式の5Lの反応機に、アクリルアミド2400gとメチレンビスアクリルアミド267g、触媒としてジルコニウムテトライソプロポキシド0.54g(アクリルアミドに対し1/10000mol)を加え、N2気流中で攪拌しながら125℃で4時間反応させた。
反応終了後に、固形物をジェットミル粉砕機で粉砕し、アセトンで洗浄した。
その後、120℃で20時間、-700mmHgの減圧度で減圧乾燥した。第一級アミド基の含有量は44.7mol%、平均粒子径は5.0μmであった。アクリルアミド共重合体<B-2>の平均粒子径は、レーザ回折式粒度分布測定装置により測定した。
<E―3>:セバシン酸ジヒドラジド(SDH)
<E-4>:アジピン酸ジヒドラジド(ADH)
<E-5>:メラミン
((E) Nitrogen-containing compound having formaldehyde scavenging ability)
<E-1>: Polyamide 6/66/610 terpolymer <E-2>: Polyacrylamide compound
[Manufacturing method of E-2]
2400 g of acrylamide, 267 g of methylenebisacrylamide, and 0.54 g of zirconium tetraisopropoxide (1/10000 mol relative to acrylamide) as a catalyst were added to a batch-type 5 L reactor equipped with a stirrer, and the mixture was stirred in a stream of N 2 . The reaction was carried out at 125°C for 4 hours.
After completion of the reaction, the solid was pulverized with a jet mill pulverizer and washed with acetone.
Then, it was dried at 120° C. for 20 hours under reduced pressure of −700 mmHg. The content of primary amide groups was 44.7 mol %, and the average particle size was 5.0 μm. The average particle size of the acrylamide copolymer <B-2> was measured with a laser diffraction particle size distribution analyzer.
<E-3>: Sebacic acid dihydrazide (SDH)
<E-4>: adipic acid dihydrazide (ADH)
<E-5>: melamine
((F)紫外線吸収剤)
2-[2’-ヒドロキシ-3’,5’-ビス(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール
((F) UV absorber)
2-[2'-hydroxy-3',5'-bis(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]benzotriazole
((G)ヒンダードアミン系光安定剤)
1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジノールと、β,β,β’,β’-テトラメチル-3,9-(2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン)-ジエタノールと、の縮合物
((G) hindered amine light stabilizer)
1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol, and β,β,β',β'-tetramethyl-3,9-(2 ,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane)-diethanol and
((H)酸化防止剤)
トリエチレングリコール-ビス-[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート)
((H) antioxidant)
Triethylene glycol-bis-[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)-propionate)
〔実施例1〕
ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)100質量部に、滑剤(B-1)0.02質量部、オレフィン系樹脂(C-1)0.18質量部(B-1/C-1=10/90)、顔料(D-1)0.2質量部を、ヘンシェルミキサーを用いて均一に混合して混合物を得た。
前記混合物を30φ単軸押出し機にて溶融混練し、ストランド状に押し出し、冷却し、ペレタイズすることにより、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー組成物からなる樹脂組成物ペレットを得た。前記押出し条件は、シリンダー設定温度は200℃、吐出量は5kg/hr、スクリュー回転数は50rpm、ベント減圧度は-720mmHgとした。
得られた樹脂組成物ペレットを80℃で4時間乾燥した。
乾燥した樹脂組成物ペレットを用いて、<(1)80℃クリープ特性>、<(2)成形体から放出されるホルムアルデヒドの定量;滞留前>、<(3)成形体から放出されるホルムアルデヒドの定量;滞留後>、<(4)耐候安定性>、を前記各種評価方法により評価した。
評価結果を表1に示す。
[Example 1]
Polyoxymethylene resin homopolymer (A) 100 parts by mass, lubricant (B-1) 0.02 parts by mass, olefin resin (C-1) 0.18 parts by mass (B-1/C-1 = 10/ 90) and 0.2 parts by mass of Pigment (D-1) were uniformly mixed using a Henschel mixer to obtain a mixture.
The mixture was melt-kneaded with a 30φ single-screw extruder, extruded into strands, cooled, and pelletized to obtain resin composition pellets composed of a polyoxymethylene resin homopolymer composition. The extrusion conditions were as follows: cylinder temperature set at 200° C., discharge rate at 5 kg/hr, screw rotation speed at 50 rpm, and vent pressure reduction degree at −720 mmHg.
The obtained resin composition pellets were dried at 80° C. for 4 hours.
Using the dried resin composition pellets, <(1) 80 ° C. creep characteristics>, <(2) quantification of formaldehyde released from the molded body; before retention>, <(3) formaldehyde released from the molded body. Quantification; after retention> and <(4) weather resistance> were evaluated by the various evaluation methods described above.
Table 1 shows the evaluation results.
〔実施例2~21〕
組成を表1又は表2に記載のように変更した。その他の条件は、〔実施例1〕と同様の操作を行った。なお、実施例10~21において、(E)~(H)成分は、(A)成分等より混合物を得る際に、(A)成分等と同様にヘンシェルミキサーに投入した。
評価結果を表1、表2に示す。
[Examples 2 to 21]
The composition was changed as described in Table 1 or Table 2. Other conditions were the same as in [Example 1]. In Examples 10 to 21, components (E) to (H) were added to the Henschel mixer in the same manner as component (A) when obtaining a mixture from component (A).
Evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
〔比較例1~9〕
組成を表1又は表2に記載のように変更した。その他の条件は、〔実施例1〕と同様の操作を行った。なお、比較例9において、(E)~(H)成分は、(A)成分等より混合物を得る際に、(A)成分等と同様にヘンシェルミキサーに投入した。
評価結果を表1、表2に示す。
[Comparative Examples 1 to 9]
The composition was changed as described in Table 1 or Table 2. Other conditions were the same as in [Example 1]. In Comparative Example 9, components (E) to (H) were added to the Henschel mixer in the same manner as component (A) when obtaining a mixture from component (A).
Evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
前記表1の評価結果から明らかなように、ポリオキシメチレン樹脂ホモポリマー(A)と、滑剤(B)と、ポリオレフィン系樹脂(C)と、顔料(D)とを含有する樹脂組成物において、滑剤(B)とポリオレフィン系樹脂(C)との含有量を所定の含有量とし、かつ、滑剤(B)/オレフィン系樹脂(C)質量比を所定の範囲とした実施例は、耐候安定性とクリープ特性に優れ、ホルムアルデヒドの放出量が低減され、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物が得られた。
また、前記表2の評価結果から明らかなように、更にホルムアルデヒド捕捉能力を有する含窒素化合物(E)と、紫外線吸収剤(F)と、ヒンダードアミン系光安定剤(G)と、酸化防止剤(H)とを所定の含有量とした実施例においても、耐候安定性とクリープ特性に優れ、ホルムアルデヒドの放出量が低減され、成形加工滞留時のホルムアルデヒドの放出量も低減されたポリオキシメチレン樹脂組成物が得られた。
As is clear from the evaluation results in Table 1 above, in the resin composition containing the polyoxymethylene resin homopolymer (A), the lubricant (B), the polyolefin resin (C), and the pigment (D), Examples in which the content of the lubricant (B) and the polyolefin resin (C) were set to a predetermined content and the mass ratio of the lubricant (B)/olefin resin (C) was set to a predetermined range, weather resistance stability Thus, a polyoxymethylene resin composition was obtained which had excellent creep properties, a reduced amount of formaldehyde emitted, and a reduced amount of formaldehyde emitted during retention during molding.
Further, as is clear from the evaluation results in Table 2, a nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde scavenging ability, an ultraviolet absorber (F), a hindered amine light stabilizer (G), and an antioxidant ( Also in the examples with a predetermined content of H), the polyoxymethylene resin composition was excellent in weather resistance stability and creep characteristics, reduced the amount of formaldehyde emitted, and reduced the amount of formaldehyde emitted during retention during molding. things were obtained.
本発明のポリオキシメチレン樹脂組成物は、自動車用部品、各種電機・電子機器部品、その他各種工業用部品等として、産業上の利用可能性を有している。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The polyoxymethylene resin composition of the present invention has industrial applicability as parts for automobiles, parts for various electric and electronic devices, and various industrial parts.
Claims (4)
滑剤(B)0.01~0.07質量部と、
ポリオレフィン系樹脂(C)0.1~1.0質量部と、
顔料(D)とを含有し、
前記滑剤(B)と前記ポリオレフィン系樹脂(C)との質量比である滑剤(B)/ポリオレフィン系樹脂(C)が5/95~30/70であり、
前記滑剤(B)が、エチレンビスステアリン酸アミドであり、
前記ポリオレフィン系樹脂(C)が、低密度ポリエチレンである
ことを特徴とする、ポリオキシメチレン樹脂組成物。 100 parts by mass of polyoxymethylene resin homopolymer (A),
Lubricant (B) 0.01 to 0.07 parts by mass,
0.1 to 1.0 parts by mass of a polyolefin resin (C),
containing a pigment (D),
Lubricant (B)/ polyolefin resin (C) , which is the mass ratio of the lubricant (B) and the polyolefin resin (C), is 5/95 to 30/70,
The lubricant (B) is ethylenebisstearic acid amide,
The polyolefin resin (C) is low density polyethylene
A polyoxymethylene resin composition characterized by:
ヒンダードアミン系光安定剤(G)0.1~0.5質量部と、
酸化防止剤(H)0.01~0.05質量部とを更に含有する、請求項1に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。 0.01 to 0.4 parts by mass of a nitrogen-containing compound (E) having formaldehyde scavenging ability, 0.1 to 0.5 parts by mass of an ultraviolet absorber (F),
0.1 to 0.5 parts by mass of a hindered amine light stabilizer (G);
The polyoxymethylene resin composition according to claim 1, further comprising 0.01 to 0.05 parts by mass of an antioxidant (H).
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