JP7201578B2 - Bonded magnet manufacturing method and bonded magnet - Google Patents
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Description
本発明は、ボンド磁石の製造方法およびボンド磁石に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a bonded magnet and a bonded magnet.
特許文献1には、希土類磁性粉末と、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂からなる結合剤からなるボンド磁石が開示されている。保形可能な程度の少量の熱可塑性樹脂で磁性粉末を結合した成形体を作製後、成形体の隙間に液状の熱硬化性樹脂を含浸させることで、従来よりも樹脂成分の含有量を低減したうえで、強度低下がなく磁性粉末の充填率の高いボンド磁石を得るというものである。
しかしながら、磁性粉末としては、平均粒径が10μm以上の粒子径のものを対象としており、実施例では150μmもの粒子径の大きな磁性粉末しか使用していない。これほど粒子径が大きいと、磁性粉末の充填率が低くなるということは大きな問題ではなく、この方法を平均粒径が10μm以下と非常に小さい磁性粉末に適用したとしても、充填率の大幅な向上は期待できない。 However, magnetic powders with an average particle size of 10 μm or more are targeted, and only magnetic powders with a particle size as large as 150 μm are used in the examples. When the particle size is so large, it is not a big problem that the filling rate of the magnetic powder becomes low. No improvement is expected.
本発明は、磁気特性に優れたボンド磁石およびその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a bonded magnet having excellent magnetic properties and a method for producing the same.
本発明の一態様にかかるボンド磁石の製造方法は、平均粒径が10μm以下の磁性粉末を磁気配向させながら圧縮し、第1成形体を得る第1圧縮工程と、
第1成形体と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂とを接触させた後に圧縮し、第2成形体を得る第2圧縮工程と、
第2成形体を熱処理する熱処理工程
を含む。
A method for producing a bonded magnet according to an aspect of the present invention includes a first compression step of compressing magnetic powder having an average particle size of 10 μm or less while magnetically orienting the magnetic powder to obtain a first molded body;
A second compression step of contacting the first molded body with a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa S or less and then compressing to obtain a second molded body;
A heat treatment step of heat-treating the second compact is included.
本発明の一態様にかかるボンド磁石は、平均粒径10μm以下の磁性粉末と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂の硬化物を含み、含浸欠乏率が1%以下である。 A bonded magnet according to an aspect of the present invention contains magnetic powder having an average particle size of 10 μm or less and a cured product of a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa·S or less, and has an impregnation depletion rate of 1% or less.
本発明のボンド磁石の製造方法によれば、磁性粉末の充填率および配向率が高くなることより、磁気特性が向上したボンド磁石を得ることができる。 According to the method for producing a bonded magnet of the present invention, a bonded magnet with improved magnetic properties can be obtained by increasing the filling rate and the orientation rate of the magnetic powder.
以下、本発明の実施形態について詳述する。ただし、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための一例であり、本発明を以下のものに限定するものではない。なお、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。 Embodiments of the present invention will be described in detail below. However, the embodiment shown below is an example for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention is not limited to the following. In this specification, the term "process" refers not only to an independent process, but also to the term if the intended purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. included.
本実施形態のボンド磁石の製造方法は、
平均粒径が10μm以下の磁性粉末を磁気配向させながら圧縮し、第1成形体を得る第1圧縮工程と、第1成形体と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂とを接触させた後に圧縮し、第2成形体を得る第2圧縮工程と、第2成形体を熱処理する熱処理工程を含むことを特徴とする。磁性粉末を磁気配向させながら圧縮して得た第1成形体と、粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂とを接触させた後に圧縮し、熱処理して熱硬化性樹脂を硬化させると、磁性粉末の充填率および配向率が上昇し、ボンド磁石の磁気特性が向上すると考えられる。
The manufacturing method of the bonded magnet of this embodiment includes:
A first compression step of compressing a magnetic powder having an average particle size of 10 μm or less while magnetically orienting it to obtain a first molded body, and bringing the first molded body into contact with a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa·S or less. It is characterized by comprising a second compression step of obtaining a second molded body by compressing after it is compressed, and a heat treatment step of heat-treating the second molded body. A first molded body obtained by compressing magnetic powder while magnetically orienting it is brought into contact with a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa S or less, and then compressed and heat-treated to harden the thermosetting resin. , the packing rate and the orientation rate of the magnetic powder are increased, and the magnetic properties of the bonded magnet are considered to be improved.
<第1圧縮工程>
第1圧縮工程では、平均粒径が10μm以下の磁性粉末を磁気配向させながら圧縮し、第1成形体を得る。第1圧縮工程は1回だけでなく、複数回行っても良い。
<First compression step>
In the first compression step, magnetic powder having an average particle size of 10 μm or less is compressed while being magnetically oriented to obtain a first compact. The first compression step may be performed not only once but also multiple times.
磁性粉末の材料は特に限定されず、SmFeN系、NdFeB系、SmCo系の希土類磁性材料などが挙げられる。なかでも、耐熱性や、希少金属を含有しない点で、SmFeN系磁性粉末が好ましい。SmFeN系磁性粉末としては、Th2Zn17型の結晶構造をもち、一般式がSmxFe100-x-yNyで表される希土類金属Smと鉄Feと窒素Nからなる窒化物が挙げられる。ここで、xは、8.1原子%以上10原子%以下、yは13.5原子%以上13.9原子%以下、残部が主としてFeとされることが好ましい。 The material of the magnetic powder is not particularly limited, and examples thereof include SmFeN-based, NdFeB-based, and SmCo-based rare earth magnetic materials. Among them, SmFeN-based magnetic powder is preferable in that it has heat resistance and does not contain rare metals. Examples of SmFeN-based magnetic powders include nitrides composed of rare earth metal Sm, iron Fe, and nitrogen N, which have a Th 2 Zn 17 -type crystal structure and are represented by the general formula Sm x Fe 100-xy N y . be done. Here, it is preferable that x is 8.1 atomic % or more and 10 atomic % or less, y is 13.5 atomic % or more and 13.9 atomic % or less, and the balance is mainly Fe.
SmFeN磁性粉末については、特開平11-189811号公報に開示された方法により製造できる。NdFeB系磁性粉末については、国際公開第2003/85147号公報に開示されたHDDR法により製造できる。SmCo系磁性粉末については、特開平08-260083号公報に開示された方法により製造できる。 SmFeN magnetic powder can be produced by the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-189811. The NdFeB magnetic powder can be produced by the HDDR method disclosed in International Publication No. 2003/85147. The SmCo-based magnetic powder can be produced by the method disclosed in JP-A-08-260083.
磁性粉末の平均粒径は10μm以下であるが、磁気特性の点より6μm以下が好ましく、4μm以下がより好ましい。10μmを超えると、結晶粒径が大きくなることで、磁粉の保磁力が著しく減少する傾向がある。なお、平均粒径は、粒度分布における小粒径側からの体積累積50%に相当する粒径として測定される。 The average particle size of the magnetic powder is 10 μm or less, preferably 6 μm or less, more preferably 4 μm or less, from the viewpoint of magnetic properties. If it exceeds 10 μm, the coercive force of the magnetic powder tends to decrease significantly due to the increase in crystal grain size. The average particle diameter is measured as a particle diameter corresponding to 50% of volume accumulation from the small particle diameter side in the particle size distribution.
磁性粉末は、リン酸処理することができる。リン酸処理することで、磁性粉末の表面にP-O結合を有する不動態膜が形成される。 The magnetic powder can be phosphated. Phosphoric acid treatment forms a passivation film having PO bonds on the surface of the magnetic powder.
リン酸処理は、リン酸処理薬と磁性粉末を反応させることにより行われる。リン酸処理薬としては、例えば、オルトリン酸、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸亜鉛、リン酸カルシウム等のリン酸塩系、次亜リン酸、次亜リン酸塩系、ピロリン酸、ポリリン酸系等の無機リン酸、有機リン酸およびそれらの塩が挙げられる。 Phosphating is performed by reacting a phosphating agent with magnetic powder. Phosphating agents include, for example, phosphates such as orthophosphoric acid, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, zinc phosphate, and calcium phosphate; Inorganic phosphoric acids such as phosphoric acid, hypophosphite, pyrophosphoric acid and polyphosphoric acid, organic phosphoric acids and salts thereof.
磁性粉末は、成形体作製段階での酸化や得られた成形体の使用中の酸化からの保護の点で、アルキルシリケートにより処理するシリカ処理が行われていることが好ましい。アルキルシリケートは、下記一般式で表され、なかでもメチルシリケートまたはエチルシリケートが好ましい。
SinO(n-1)(OR)(2n+2)
(Rはアルキル基であり、nは1~10の整数である。)
The magnetic powder is preferably subjected to silica treatment with an alkyl silicate in order to protect it from oxidation during the production of the molded body and during use of the obtained molded body. Alkyl silicates are represented by the following general formula, and among them, methyl silicate or ethyl silicate is preferable.
Si n O (n−1) (OR) (2n+2)
(R is an alkyl group and n is an integer of 1 to 10.)
シリカ処理は、上述のアルキルシリケートを、該シリケートを加水分解させるために必要な水分とともに磁性粉末に混合し、不活性ガス雰囲気中で加熱処理することで、シリカ被膜を形成することができる。シリケートを加水分解させるために必要な水分としては、酢酸水溶液、硫酸、リン酸水溶液等の酸性水溶液及びアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等の塩基性水溶液が挙げられる。アルキルシリケートの混合量は、磁性粉末100重量部に対して、1重量部以上4重量部以下が好ましく、1.5重量部以上2.5重量部以下がより好ましい。 Silica treatment can form a silica film by mixing the above-mentioned alkyl silicate with water necessary for hydrolyzing the silicate with magnetic powder and heat-treating in an inert gas atmosphere. Water necessary for hydrolyzing silicate includes acidic aqueous solutions such as acetic acid aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution and phosphoric acid aqueous solution, and basic aqueous solutions such as ammonia water, sodium hydroxide aqueous solution and potassium hydroxide aqueous solution. The amount of the alkylsilicate to be mixed is preferably 1 to 4 parts by weight, more preferably 1.5 to 2.5 parts by weight, per 100 parts by weight of the magnetic powder.
磁性粉末は、磁性粉末の磁気特性が向上するとともに、樹脂との濡れ性、磁石の強度を改善することができるという点で、カップリング剤による処理が行われていることが好ましく、特に上述のシリカ処理が行われた磁性粉末に対し、カップリング剤による処理が行われていることが好ましい。 The magnetic powder is preferably treated with a coupling agent because the magnetic properties of the magnetic powder can be improved, and the wettability with the resin and the strength of the magnet can be improved. It is preferable that the silica-treated magnetic powder is treated with a coupling agent.
カップリング剤としては、特に限定されないが、炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有さないシランカップリング剤、炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するカップリング剤が挙げられる。アルキル基又はアルケニル基の炭素数は、10以上24以下が好ましい。ここで、アルキル基又はアルケニル基の炭素数が8未満だと、潤滑性の付与が不十分となり、炭素数が24より大きいと、処理液の粘度が著しく増すため均一な被覆が難しくなる。 The coupling agent is not particularly limited, but a silane coupling agent having no alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms or a coupling agent having an alkyl or alkenyl group having 8 or more to 24 carbon atoms or alkenyl group. agents. The number of carbon atoms in the alkyl group or alkenyl group is preferably 10 or more and 24 or less. Here, if the number of carbon atoms in the alkyl or alkenyl group is less than 8, lubricity is not sufficiently imparted, and if the number of carbon atoms is greater than 24, the viscosity of the treatment liquid increases significantly, making uniform coating difficult.
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するカップリング剤としては、シランカップリング剤、ホスフェートカップリング剤またはハイドロゲンホスファイトカップリング剤などが挙げられる。これらのカップリング剤は、1種のみを使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。ここで、カップリング剤とは、分子中に2個以上の異なった基を持っており、その一つは、無機質材料と作用する基、もう一つが有機質材料と作用する基を有するものを言う。 A silane coupling agent, a phosphate coupling agent, a hydrogen phosphite coupling agent, etc. are mentioned as a coupling agent which has a C8-C24 alkyl group or an alkenyl group. These coupling agents may be used alone or in combination of two or more. Here, the coupling agent has two or more different groups in the molecule, one of which has a group that acts with an inorganic material and the other has a group that acts with an organic material. .
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するシランカップリング剤は、下記一般式で表されるものが挙げられる。具体例としては、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン等が挙げられ、なかでもオクタデシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシランが好ましい。
(R1)xSi(OR2)(4-x)
(R1は、CnH2n+1で示されるアルキル基またはCnH2n-1で示されるアルケニル基であり、nは8~24の整数であり、R2はCmH2m+1で示されるアルキル基であり、mは1~4の整数であり、xは1~3の整数である。)
なお、シランカップリング剤における有機質材料と作用する基は、例えばケイ素原子と炭素原子が直接結合しているものをいい、上記式ではR1であり、無機質材料と作用する基はOR2である。
Examples of the silane coupling agent having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms are represented by the following general formula. Specific examples include decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane. Examples include silanes, among which octadecyltriethoxysilane and octyltriethoxysilane are preferred.
(R 1 ) x Si(OR 2 ) (4−x)
(R 1 is an alkyl group represented by C n H 2n+1 or an alkenyl group represented by C n H 2n-1 , n is an integer of 8 to 24, and R 2 is an alkyl represented by C m H 2m+1 group, m is an integer of 1 to 4, and x is an integer of 1 to 3.)
In addition, the group that acts on the organic material in the silane coupling agent refers to, for example, one in which a silicon atom and a carbon atom are directly bonded, and in the above formula is R 1 , and the group that acts on the inorganic material is OR 2 . .
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するホスフェートカップリング剤としては、下記一般式として表されるものが挙げられる。具体例としては、ジデシルアシッドホスフェート、イソデシルアシッドホスフェート、イソトリデジシルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、イソステアリルアシッドホスフェート、テトラコシルアシッドホスフェート等が挙げられ、なかでもオレイルアシッドホスフェートが好ましい。
(R1O)xPO(OH)(3-x)
(R1は、CnH2n+1で示されるアルキル基またはCnH2n-1で示されるアルケニル基であり、nは8~24の整数であり、xは1~2の整数である。)
なお、ホスフェートカップリング剤における有機質材料と作用する基は、上記式ではR1Oであり、無機質材料と作用する基はOHである。
Phosphate coupling agents having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms include those represented by the following general formula. Specific examples include didecyl acid phosphate, isodecyl acid phosphate, isotridecyl acid phosphate, lauryl acid phosphate, oleyl acid phosphate, stearyl acid phosphate, isostearyl acid phosphate, and tetracosyl acid phosphate. However, oleyl acid phosphate is preferred.
(R 1 O) x PO(OH) (3−x)
(R 1 is an alkyl group represented by C n H 2n+1 or an alkenyl group represented by C n H 2n-1 , n is an integer of 8 to 24, and x is an integer of 1 to 2.)
In the above formula, the group that acts on the organic material in the phosphate coupling agent is R 1 O, and the group that acts on the inorganic material is OH.
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するハイドロゲンホスファイトカップリング剤としては、下記一般式として表されるものが挙げられる。具体例としては、ジデシルハイドロゲンホスファイト、ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジオレイルハイドロゲンホスファイト等が挙げられ、なかでもジオレイルハイドロゲンホスファイトが好ましい。
(R1O)2POH
(R1は、CnH2n+1で示されるアルキル基またはCnH2n-1で示されるアルケニル基であり、nは8~24の整数である。)
なお、ハイドロゲンホスファイトカップリング剤における有機質材料と作用する基は、上記式ではR1Oであり、無機質材料と作用する基はOHである。
Hydrogen phosphite coupling agents having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms include those represented by the following general formula. Specific examples include didecyl hydrogen phosphite, dilauryl hydrogen phosphite, dioleyl hydrogen phosphite and the like, with dioleyl hydrogen phosphite being preferred.
( R1O ) 2POH
(R 1 is an alkyl group represented by C n H 2n+1 or an alkenyl group represented by C n H 2n-1 , where n is an integer of 8 to 24.)
The group acting on the organic material in the hydrogen phosphite coupling agent is R 1 O in the above formula, and the group acting on the inorganic material is OH.
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するシランカップリング剤 、ホスフェートカップリング剤またはハイドロゲンホスファイトカップリング剤は1種のみを使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 A silane coupling agent, a phosphate coupling agent or a hydrogen phosphite coupling agent having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms may be used alone or in combination of two or more. good too.
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するカップリング剤による処理は、上述のカップリング剤を、カップリング剤を加水分解させるために必要な水分とともに磁性粉末に混合し、不活性ガス雰囲気中で加熱処理することで、カップリング剤の被膜を形成することができる。カップリング剤を加水分解させるために必要な水分としては、酢酸水溶液、硫酸、リン酸水溶液等の酸性水溶液及びアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等の塩基性水溶液が挙げられる。カップリング剤の混合量は、磁性粉末100重量部に対して、0.01重量部以上1重量部以下が好ましく、0.05重量部以上0.5重量部以下がより好ましい。0.01重量部未満では磁性粉末に充分な潤滑性を付与することはできず、1重量部以上では得られた成形品の機械強度が損なわれる。 Treatment with a coupling agent having an alkyl or alkenyl group having 8 or more and 24 or less carbon atoms is performed by mixing the above-mentioned coupling agent with the magnetic powder together with water necessary for hydrolyzing the coupling agent, and making an inert A coating of the coupling agent can be formed by heat-treating in a gas atmosphere. Water necessary for hydrolyzing the coupling agent includes acidic aqueous solutions such as acetic acid aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution and phosphoric acid aqueous solution, and basic aqueous solutions such as ammonia water, sodium hydroxide aqueous solution and potassium hydroxide aqueous solution. The amount of the coupling agent mixed is preferably 0.01 to 1 part by weight, more preferably 0.05 to 0.5 part by weight, per 100 parts by weight of the magnetic powder. If the amount is less than 0.01 part by weight, sufficient lubricity cannot be imparted to the magnetic powder.
カップリング剤による処理として、上述の炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するシランカップリング剤とは異なるシランカップリング剤(炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有さないシランカップリング剤)を用いてもよい。炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するシランカップリング剤とは別のシランカップリング剤としては、例えば、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチレンジシラザン、γ-アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ジメチルオクタデシル[3-(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、γ-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、β-(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、γ-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、1,3,5-N-トリス(3-トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、N-(1,3-ジメチルブチリデン)-3-(トリエトキシシリル)-1-プロパンアミン等が挙げられる。また、環状構造を有しているシランカップリング剤としては、環状構造として、モノシクロ環、ビシクロ環等の脂環構造、または、芳香族環を有するカップリング剤が挙げられ、たとえばビシクロ環であるノルボルネン骨格を有するカップリング剤として2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)エチルトリメトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)エチルトリエトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)トリメトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)トリエトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]へプト-2-エニル)エチニルトリメトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]へプト-2-エニル)エチニルトリエトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)ヘキシルトリメトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)ヘキシルトリエトキシシランが、芳香族環骨格を有するカップリング剤としてN-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-アミノエチルアミノメチルフェニル-3-エチルトリメトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、m-アリルフェニルプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらのシランカップリング剤は1種のみを使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なかでも、熱硬化性樹脂との相溶性、磁粉表面の滑り性、耐熱性等の点で、環状構造を有するシランカップリング剤が好ましく、ノルボルネン骨格を有するシランカップリング剤がより好ましく、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)エチルトリメトキシシラン、2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)エチルトリエトキシシランがさらに好ましい。 As the treatment with a coupling agent, a silane coupling agent different from the above-mentioned silane coupling agent having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms (an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms is used. silane coupling agent) may be used. Silane coupling agents other than silane coupling agents having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms include, for example, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2 -aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane/hydrochloric acid salt, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethylenedisilazane, γ- anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, dimethyloctadecyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane , trimethylchlorosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, vinyltriethoxysilane, β-(3,4 epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, N-β ( aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, ureidopropyltriethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, bis( 3-triethoxysilylpropyl)tetrasulfane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, N-(1,3 -dimethylbutylidene)-3-(triethoxysilyl)-1-propanamine and the like. Further, the silane coupling agent having a cyclic structure includes, as a cyclic structure, a coupling agent having an alicyclic structure such as a monocyclo ring or a bicyclo ring, or an aromatic ring, such as a bicyclo ring. 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)ethyltrimethoxysilane and 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-ene as coupling agents having a norbornene skeleton -2-yl)ethyltriethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)trimethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5- En-2-yl)triethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)ethynyltrimethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl ) ethynyltriethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)hexyltrimethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2 -yl)hexyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-aminoethylaminomethylphenyl-3-ethyltrimethoxysilane, p-styryltriethoxysilane as a coupling agent having an aromatic ring skeleton; methoxysilane, m-allylphenylpropyltriethoxysilane, and the like. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, a silane coupling agent having a cyclic structure is preferred, and a silane coupling agent having a norbornene skeleton is more preferred, in terms of compatibility with thermosetting resins, lubricity on the magnetic powder surface, heat resistance, etc. 2- (bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)ethyltrimethoxysilane, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)ethyltriethoxysilane More preferred.
炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有さないシランカップリング剤による処理は、上述のカップリング剤を、カップリング剤を加水分解させるために必要な水分とともに磁性粉末に混合し、不活性ガス雰囲気中で加熱処理することで、シランカップリング剤の被膜を形成することができる。カップリング剤を加水分解させるために必要な水分としては、酢酸水溶液、硫酸、リン酸水溶液等の酸性水溶液またはアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等の塩基性水溶液が挙げられる。シランカップリング剤の混合量は、磁性粉末100重量部に対して、0.1重量部以上2重量部以下が好ましく、0.2重量部以上1.2重量部以下がより好ましい。0.1重量部未満ではカップリング剤の効果が小さく、2重量部を超えると、磁性粉末の凝集により、磁気特性が低下する傾向がある。 The treatment with a silane coupling agent having no alkyl or alkenyl group and having 8 to 24 carbon atoms and having no alkenyl group is carried out by mixing the above-mentioned coupling agent with the water necessary for hydrolyzing the coupling agent into the magnetic powder. A film of the silane coupling agent can be formed by heat-treating in an inert gas atmosphere. Water necessary for hydrolyzing the coupling agent includes acidic aqueous solutions such as acetic acid aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution and phosphoric acid aqueous solution, and basic aqueous solutions such as ammonia water, sodium hydroxide aqueous solution and potassium hydroxide aqueous solution. The amount of the silane coupling agent mixed is preferably 0.1 to 2 parts by weight, more preferably 0.2 to 1.2 parts by weight, per 100 parts by weight of the magnetic powder. If the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of the coupling agent is small, and if it exceeds 2 parts by weight, the magnetic properties tend to deteriorate due to aggregation of the magnetic powder.
カップリング剤による処理は、潤滑性を高めることで圧縮成形時の粒子間に働く摩擦力を低下させ、成形品中の磁性粉末を高充填させる点で、炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有さないシランカップリング剤で処理した後に、炭素数が8以上24以下のアルキル基又はアルケニル基を有するカップリング剤で処理することが好ましい。 Treatment with a coupling agent increases lubricity, reduces the frictional force acting between particles during compression molding, and allows the magnetic powder in the molded product to be highly filled. Alternatively, after treatment with a silane coupling agent having no alkenyl group, treatment with a coupling agent having an alkyl or alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms is preferred.
磁気配向させるために印加する外部磁場の大きさは特に限定されないが、0.5T以上が好ましく、1T以上がより好ましい。0.5T未満では、磁石を十分に配向させることができない傾向がある。 The magnitude of the external magnetic field applied for magnetic orientation is not particularly limited, but is preferably 0.5 T or more, more preferably 1 T or more. If it is less than 0.5 T, there is a tendency that the magnet cannot be sufficiently oriented.
第1圧縮工程において、使用する金型の構造は特に限定されず、たとえば、外部金型、外部金型内に設置される内板、上下方向から印加するためのパンチ、外部金型を保持するためのバネで構成された金型等が挙げられる。第2圧縮工程で、余分な熱硬化性樹脂が除去されやすいように、内板を有する金型が好ましい。金型の大きさは特に限定されないが、余分な熱硬化性樹脂が除去されやすいように、成形品の体積が0.1cm3以上10cm3以下となる程度の大きさが好ましい。 In the first compression step, the structure of the mold to be used is not particularly limited. A mold or the like configured with a spring for the purpose is mentioned. A mold with an inner plate is preferred to facilitate removal of excess thermosetting resin in the second compression step. Although the size of the mold is not particularly limited, it is preferable that the mold has a volume of 0.1 cm 3 or more and 10 cm 3 or less so that excess thermosetting resin can be easily removed.
金型に印加する圧力の大きさは特に限定されないが、0.1トン/cm2以上4トン/cm2未満が好ましく、0.5トン/cm2以上2トン/cm2未満がより好ましい。0.1トン/cm2未満では、磁性粉末の再配列が進まず第2成形体における磁性粉末の充填率が減少する傾向となり、4トン/cm2以上では、第1成形体に樹脂を含浸させる際に十分に含浸させることができず成形不良となる傾向がある。 The magnitude of the pressure applied to the mold is not particularly limited, but is preferably 0.1 ton/cm 2 or more and less than 4 ton/cm 2 , more preferably 0.5 ton/cm 2 or more and less than 2 ton/cm 2 . If it is less than 0.1 tons/cm 2 , the rearrangement of the magnetic powder does not progress and the filling rate of the magnetic powder in the second compact tends to decrease. There is a tendency for molding defects to occur because sufficient impregnation cannot be achieved when the coating is applied.
<第2圧縮工程>
第2圧縮工程では、第1成形体と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂とを接触させた後に圧縮し、第2成形体を得る。本発明で使用する磁性粉末は、10μm以下と平均粒径が非常に小さく、嵩高いため、充填率が低くなる。1回目の圧縮工程で、充分に磁気配向させた後に、熱硬化性樹脂と接触させて圧縮すると、余分な熱硬化性樹脂が除去されて磁性粉末の充填率および配向率が上昇し、ボンド磁石の磁気特性が向上する。
<Second compression step>
In the second compression step, the first molded body is brought into contact with a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa·S or less and then compressed to obtain a second molded body. The magnetic powder used in the present invention has a very small average particle size of 10 μm or less and is bulky, so the packing rate is low. In the first compression step, after sufficiently magnetically oriented, it is brought into contact with a thermosetting resin and compressed, whereby excess thermosetting resin is removed and the filling rate and orientation rate of the magnetic powder are increased, resulting in a bond magnet. The magnetic properties of are improved.
第1成形体に熱硬化性樹脂を接触させる方法は特に限定されず、金型内に存在する第1成形体に、たとえば熱硬化性樹脂を加えて含浸させればよい。接触させる熱硬化性樹脂の量は特に限定されないが、成形体の体積の0.25倍以上2倍以下が好ましく、0.5倍以上1.5倍以下がより好ましい。0.25倍未満では、第1成形体に熱硬化性樹脂の含浸が十分にできずに成形不良となり、2倍を超えると、樹脂および磁性粉末が金型からあふれ出し、収率が低下すると同時にあふれ出した材料を除去なければならなくなる傾向がある。 The method of bringing the thermosetting resin into contact with the first molded body is not particularly limited, and for example, the thermosetting resin may be added and impregnated into the first molded body existing in the mold. Although the amount of the thermosetting resin to be brought into contact is not particularly limited, it is preferably 0.25 to 2 times the volume of the compact, more preferably 0.5 to 1.5 times. If it is less than 0.25 times, the thermosetting resin cannot be sufficiently impregnated into the first molded body, resulting in molding failure. At the same time there is a tendency to have to remove the overflowing material.
熱硬化性樹脂の粘度は200mPa・S以下であるが、100mPa・S以下が好ましく、50mPa・S以下がより好ましく、15mPa・S以下がさらに好ましく、10mPa・S以下が最も好ましい。200mPa・Sを超えると、含浸が十分にできずに成形不良となる傾向がある。 The viscosity of the thermosetting resin is 200 mPa·S or less, preferably 100 mPa·S or less, more preferably 50 mPa·S or less, still more preferably 15 mPa·S or less, and most preferably 10 mPa·S or less. If it exceeds 200 mPa·S, there is a tendency that impregnation cannot be performed sufficiently, resulting in poor molding.
熱硬化性樹脂は、熱硬化するものであれば特に限定されず、熱硬化性モノマー、熱硬化性プレポリマー、熱硬化性ポリマーなどが挙げられる。熱硬化性モノマーとしては、ノルボルネン系モノマー、エポキシ系モノマー、フェノール系モノマー、アクリル系モノマー、ビニルエステル系モノマーなどが挙げられ、ノルボルネン系モノマーとしては、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-3,8-ジエン(ジシクロペンタジエン)、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン―3―エン、ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2,5-ジエン(2,5-ノルボルナジエン)、ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン(2-ノルボルネン)、ビシクロ[3.2.1]オクタ―2-エン、5-エチリデン-2-ノルボルネン、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボン酸無水物、5-ビニルビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ-4-エンなどが挙げられる。熱硬化性プレポリマーとしては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル、ビニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、アルキド樹脂、フラン樹脂、アクリル樹脂、ユリア樹脂、アリルカーボネート樹脂などが挙げられる。熱硬化性ポリマーとしては、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。 The thermosetting resin is not particularly limited as long as it is thermosetting, and examples thereof include thermosetting monomers, thermosetting prepolymers, and thermosetting polymers. Examples of thermosetting monomers include norbornene-based monomers, epoxy-based monomers, phenol-based monomers, acrylic-based monomers, and vinyl ester-based monomers. Norbornene-based monomers include tricyclo[5.2.1.0 2,6 ] Deca-3,8-diene (dicyclopentadiene), tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decane-3-ene, bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene (2 ,5-norbornadiene), bicyclo[2.2.1]hept-2-ene (2-norbornene), bicyclo[3.2.1]oct-2-ene, 5-ethylidene-2-norbornene, bicyclo[2 .2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride, 5-vinylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, tetracyclo[6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ]dodeca-4-ene and the like. Thermosetting prepolymers include epoxy resins, phenolic resins, melamine resins, guanamine resins, unsaturated polyesters, vinyl ester resins, diallyl phthalate resins, silicone resins, alkyd resins, furan resins, acrylic resins, urea resins, and allyl carbonate resins. etc. Thermosetting polymers include polyurethane resins, polyimide resins, polyester resins, and the like.
熱硬化性樹脂とともに、熱硬化性樹脂の開始剤や硬化剤を配合することができる。開始剤としては、グラブス触媒、ジハロゲン、アゾ化合物などが挙げられる。硬化剤としては、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ポリアミド系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、フェノール樹脂系硬化剤、ポリメルカプタン樹脂系硬化剤、ポリスルフィド樹脂系硬化剤、有機酸ヒドラジド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤などが挙げられる。アミン系硬化剤としては、ジアミノジフェニルスルホン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどが挙げられる。 An initiator and a curing agent for the thermosetting resin can be blended together with the thermosetting resin. Examples of initiators include Grubbs catalysts, dihalogens, azo compounds and the like. Curing agents include amine curing agents, acid anhydride curing agents, polyamide curing agents, imidazole curing agents, phenolic resin curing agents, polymercaptan resin curing agents, polysulfide resin curing agents, and organic acid hydrazide curing agents. Curing agents, isocyanate-based curing agents, and the like are included. Amine-based curing agents include diaminodiphenylsulfone, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and the like.
第2圧縮工程において、印加する圧力の大きさは特に限定されないが、より高充填の磁石を作製する点で、第1圧縮工程の圧縮圧力以上であることが好ましい。また、具体的には、4トン/cm2以上11トン/cm2以下が好ましく、6トン/cm2以上10トン/cm2以下がより好ましい。4トン/cm2未満では、磁性粉末の充填率を十分に上げることができなくなり、11トン/cm2を超えると保磁力が低下してしまう傾向がある。 In the second compression step, the magnitude of the pressure to be applied is not particularly limited, but it is preferably equal to or higher than the compression pressure in the first compression step in order to produce a highly packed magnet. Specifically, it is preferably 4 tons/cm 2 or more and 11 tons/cm 2 or less, more preferably 6 tons/cm 2 or more and 10 tons/cm 2 or less. If it is less than 4 tons/cm 2 , the filling rate of the magnetic powder cannot be sufficiently increased, and if it exceeds 11 tons/cm 2 , the coercive force tends to decrease.
第2圧縮工程においても、第1圧縮工程と同様に、磁気配向させることができる。磁気配向させる場合、印加する外部磁場の大きさは特に限定されず、第1圧縮工程での外部磁場の大きさをそのまま適用できる。 Also in the second compression step, magnetic orientation can be achieved in the same manner as in the first compression step. In the case of magnetic orientation, the magnitude of the external magnetic field to be applied is not particularly limited, and the magnitude of the external magnetic field in the first compression step can be applied as it is.
<熱処理工程>
熱処理温度は特に限定されないが、100℃以上150℃以下が好ましく、110℃以上130℃以下がより好ましい。100℃未満では樹脂の硬化が十分に進行せずに強度不足となり、150℃を超えると、空気により樹脂の酸化が進行し強度不足となる傾向がある。
<Heat treatment process>
The heat treatment temperature is not particularly limited, but is preferably 100° C. or higher and 150° C. or lower, more preferably 110° C. or higher and 130° C. or lower. If the temperature is less than 100°C, the curing of the resin does not proceed sufficiently, resulting in insufficient strength.
熱処理時間は特に限定されないが、1分以上120分以下が好ましく、3分以上60分以下がより好ましい。1分未満では樹脂の硬化が十分に進行せずに強度不足となり、120分を超えると、空気により樹脂の酸化が進行し強度不足となる傾向がある。 The heat treatment time is not particularly limited, but is preferably 1 minute or more and 120 minutes or less, more preferably 3 minutes or more and 60 minutes or less. If the curing time is less than 1 minute, the strength tends to be insufficient due to insufficient curing of the resin.
熱処理終了後、金型から内板とパンチを引き出し、ボンド磁石成形体を取り出し、配向方向にパルス磁場を加えることで着磁することができる。 After the heat treatment is finished, the inner plate and the punch are pulled out from the mold, the bonded magnet compact is taken out, and a pulse magnetic field is applied in the orientation direction to magnetize it.
着磁磁場については、1T以上36T以下が好ましく、3T以上12T以下がより好ましい。1T未満では、磁石を十分に着磁することができず、残留磁束密度を出すことができない。36Tを超えると着磁時に発生する熱によるヒートショックが大きすぎることで磁石が割れてしまう。 The magnetizing magnetic field is preferably 1 T or more and 36 T or less, more preferably 3 T or more and 12 T or less. If it is less than 1 T, the magnet cannot be sufficiently magnetized and the residual magnetic flux density cannot be obtained. If it exceeds 36 T, the heat shock caused by the heat generated during magnetization is too large, and the magnet breaks.
本実施形態のボンド磁石は、平均粒径10μm以下の磁性粉末と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂の硬化物を含み、含浸欠乏率が1%以下であることを特徴とする。該ボンド磁石は、たとえば前述した本発明のボンド磁石の製造方法によって製造することができる。ここで、ボンド磁石の磁性粉末、熱硬化性樹脂、平均粒径等は、前述した通りである。 The bonded magnet of the present embodiment is characterized by containing magnetic powder having an average particle size of 10 μm or less and a cured product of a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa·S or less, and having an impregnation depletion rate of 1% or less. The bonded magnet can be manufactured, for example, by the manufacturing method of the bonded magnet of the present invention described above. Here, the magnetic powder, thermosetting resin, average particle size, etc. of the bonded magnet are as described above.
本発明のボンド磁石の製造方法およびボンド磁石において、ボンド磁石の含浸欠乏率とは、樹脂で占められるべき領域において、実際には樹脂で占められていない領域の割合をいう。含浸欠乏率は、12%以下が好ましく、10%以下がより好ましく、5%以下がさらに好ましく、1%以下が最も好ましい。12%を超えると、機械強度の低下する傾向がある。含浸欠乏率は、光学顕微鏡を用いてボンド磁石の切断面の全面が入る最低倍率にて観察した画像において、樹脂の含浸していない部分との面積(樹脂欠乏部分面積)と画像の外郭である切断面全体の面積(切断面の面積)とを明度の2値化解析(BMPEdit)により算出し、切断面の面積に対する樹脂欠乏部分面積の割合とした。なおボンド磁石の切断面は、得られたボンド磁石に対して、樹脂を接触させた面の中心をとおり、接触させた面に垂直でかつ、切断した面積が最大となるように切断することにより作製する。 In the bonded magnet manufacturing method and the bonded magnet of the present invention, the impregnation depletion rate of the bonded magnet refers to the ratio of the area that is actually not occupied by the resin to the area that should be occupied by the resin. The impregnation depletion rate is preferably 12% or less, more preferably 10% or less, even more preferably 5% or less, and most preferably 1% or less. If it exceeds 12%, the mechanical strength tends to decrease. The impregnation depletion rate is the area of the portion not impregnated with resin (resin deficient portion area) and the contour of the image observed with an optical microscope at the lowest magnification that includes the entire cut surface of the bonded magnet. The area of the entire cut surface (the area of the cut surface) was calculated by binarization analysis of brightness (BMPEdit), and the ratio of the area of the resin-deficient portion to the area of the cut surface was obtained. The cut surface of the bonded magnet is cut through the center of the resin-contacted surface of the obtained bonded magnet, perpendicular to the contact surface, and with the maximum cut area. make.
ボンド磁石に含まれる磁性粉末の割合、すなわち充填率は特に限定されないが、71体積%以上が好ましく、72体積%以上がより好ましい。71体積%未満では、十分な残留磁束密度を出すことができなくなる傾向がある。 The ratio of the magnetic powder contained in the bonded magnet, that is, the filling rate is not particularly limited, but is preferably 71% by volume or more, more preferably 72% by volume or more. If it is less than 71% by volume, there is a tendency that a sufficient residual magnetic flux density cannot be obtained.
ボンド磁石の保磁力は、特に限定されないが、1020kA/m以上が好ましく、1150kA/m以上がより好ましい。1020kA/m未満では、強力なモーター等に使用した際に減磁が生じる傾向がある。 The coercive force of the bond magnet is not particularly limited, but is preferably 1020 kA/m or more, more preferably 1150 kA/m or more. If it is less than 1020 kA/m, demagnetization tends to occur when used in a powerful motor or the like.
ボンド磁石の残留磁束密度は、特に限定されないが、0.75T以上が好ましく、0.8T以上がより好ましい。0.75T未満では、モーター等に使用した際に十分なトルクを引き出すことができなくなる傾向がある。 Although the residual magnetic flux density of the bond magnet is not particularly limited, it is preferably 0.75 T or more, more preferably 0.8 T or more. If it is less than 0.75 T, there is a tendency that sufficient torque cannot be obtained when used in a motor or the like.
ボンド磁石の磁束の配向率は80%以上が好ましく、81%以上がより好ましい。80以上とすることにより、残留磁束密度が高くなる。ここで、配向率は、ボンド磁石の残留磁束密度を、磁性粉末の残留磁束密度とボンド磁石の体積充填率との積により除することで求められる。 The magnetic flux orientation ratio of the bond magnet is preferably 80% or more, more preferably 81% or more. By setting it to 80 or more, the residual magnetic flux density increases. Here, the orientation ratio is obtained by dividing the residual magnetic flux density of the bonded magnet by the product of the residual magnetic flux density of the magnetic powder and the volume filling factor of the bonded magnet.
以下、実施例について説明する。なお、特に断りのない限り、「%」は重量基準である。 Examples are described below. "%" is based on weight unless otherwise specified.
製造例1
[アルキルシリケート処理工程]
ミキサに、SmFeN磁性粉末(平均粒径3μm)300gと、エチルシリケート(Si5O4(OEt)12)7.5gを投入し、窒素雰囲気下で5分間混合した。引き続いて、pH11.7のアンモニア水0.8gを投入し、5分間混合し、減圧下180℃で10時間加熱処理し、表面にシリカ薄膜が形成されたSmFeN系異方性磁性粉末を得た。
Production example 1
[Alkylsilicate treatment step]
300 g of SmFeN magnetic powder (average particle size: 3 μm) and 7.5 g of ethyl silicate (Si 5 O 4 (OEt) 12 ) were put into a mixer and mixed for 5 minutes in a nitrogen atmosphere. Subsequently, 0.8 g of ammonia water having a pH of 11.7 was added, mixed for 5 minutes, and heat-treated at 180° C. for 10 hours under reduced pressure to obtain SmFeN-based anisotropic magnetic powder with a silica thin film formed on the surface. .
[表面処理工程1]
ミキサに、シリカ処理した磁性粉末300gと、pH4の酢酸水溶液を1.5g投入し、窒素雰囲気下で5分間混合した。続いて、シランカップリング剤Aとして2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン-2-イル)エチルトリメトキシシラン(信越化学(株)製シランカップリング剤X-88-351)3gを添加して、窒素雰囲気下で、5分間混合した。混合物を取り出し、減圧下、100℃で5時間加熱処理し、シリカ膜上にカップリング剤Aから形成された被覆層を有する磁性粉末を得た。
[Surface treatment step 1]
300 g of silica-treated magnetic powder and 1.5 g of an acetic acid aqueous solution having a pH of 4 were put into a mixer and mixed for 5 minutes under a nitrogen atmosphere. Subsequently, as a silane coupling agent A, 2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)ethyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silane coupling agent X-88-351 ) was added and mixed for 5 minutes under a nitrogen atmosphere. The mixture was taken out and heat-treated at 100° C. for 5 hours under reduced pressure to obtain a magnetic powder having a coating layer formed of coupling agent A on a silica film.
[表面処理工程2]
ミキサに、カップリング剤Aから形成された被覆層を有するSmFeN磁性粉末300gと、pH4の酢酸水溶液を1.5g投入し、窒素雰囲気下で5分間混合した。続いて、カップリング剤Bとしてオクタデシルトリエトキシシラン(東京化成工業株式会社製)0.5g、エタノール0.5gの混合溶液を添加し、窒素雰囲気下で5分間混合した。減圧下100℃で5時間加熱処理し、表面にカップリング剤Aとカップリング剤Bから形成された被覆層を有するSmFeN系異方性磁性粉末(磁粉1)を得た。
[Surface treatment step 2]
300 g of SmFeN magnetic powder having a coating layer formed from coupling agent A and 1.5 g of an acetic acid aqueous solution having a pH of 4 were put into a mixer and mixed for 5 minutes under a nitrogen atmosphere. Subsequently, a mixed solution of 0.5 g of octadecyltriethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.5 g of ethanol was added as coupling agent B and mixed for 5 minutes under a nitrogen atmosphere. Heat treatment was performed at 100° C. for 5 hours under reduced pressure to obtain SmFeN anisotropic magnetic powder (Magnetic powder 1) having a coating layer formed of coupling agent A and coupling agent B on the surface.
製造例2
製造例1の表面処理工程2において、カップリング剤Bとしてオクタデシルトリエトキシシランの代わりに、オクチルトリエトキシシランを使用した以外は、製造例1と同様にして、表面にカップリング剤Aとカップリング剤Bから形成された被覆層を有するSmFeN系異方性磁性粉末(磁粉2)を得た。
Production example 2
Coupling agent A was applied to the surface in the same manner as in Production Example 1, except that octyltriethoxysilane was used as coupling agent B in place of octadecyltriethoxysilane in surface treatment step 2 of Production Example 1. An SmFeN-based anisotropic magnetic powder (magnetic powder 2) having a coating layer formed from agent B was obtained.
製造例3
製造例1の表面処理工程2において、カップリング剤Bとしてオクタデシルトリエトキシシランの代わりに、オレイルアシッドホスフェートを使用した以外は、製造例1と同様にして、表面にカップリング剤Aとカップリング剤Bから形成された被覆層を有するSmFeN系異方性磁性粉末(磁粉3)を得た。
Production example 3
In the same manner as in Production Example 1, except that oleyl acid phosphate was used as the coupling agent B in place of octadecyltriethoxysilane in the surface treatment step 2 of Production Example 1, the coupling agent A and the coupling agent were applied to the surface. A SmFeN-based anisotropic magnetic powder (magnetic powder 3) having a coating layer formed of B was obtained.
製造例4
製造例1の表面処理工程2において、カップリング剤Bとしてオクタデシルトリエトキシシランの代わりに、ジオレイルハイドロゲンホスファイトを使用した以外は、製造例1と同様にして、表面にカップリング剤Aとカップリング剤Bから形成された被覆層を有するSmFeN系異方性磁性粉末(磁粉4)を得た。
Production example 4
In the same manner as in Production Example 1, except that dioleyl hydrogen phosphite was used as the coupling agent B in place of octadecyltriethoxysilane in the surface treatment step 2 of Production Example 1, the surface was coated with the coupling agent A. A SmFeN-based anisotropic magnetic powder (magnetic powder 4) having a coating layer formed from ring agent B was obtained.
実施例1
第1圧縮工程
5mm角のキャビティを設けた非磁性超硬の金型内に、製造例1で作製した、表面に被覆層AとBが形成されたSmFeN系異方性磁性粉末を0.8g充填し、上下のパンチを取り付けて、1Tの配向磁場中にて圧縮圧力1ton/cm2にて圧縮し、第1成形体を得た。
Example 1
In the first compression step, 0.8 g of the SmFeN-based anisotropic magnetic powder having the coating layers A and B formed on the surface, which was produced in Production Example 1, was placed in a non-magnetic cemented carbide mold having a cavity of 5 mm square. After filling, upper and lower punches were attached, and compression was performed in an oriented magnetic field of 1 T at a compression pressure of 1 ton/cm 2 to obtain a first compact.
第2圧縮工程
続いて、上側のパンチを取り外し、第1成形体にジシクロペンタジエンモノマー(粘度3mPa・s、密度1.02g/cc)と反応開始剤としてジクロロ[1,3-ビス(2,6-イソプロピルフェニル)-2-イミダゾリジニリデン](2-イソプロピルフェニルメチレン)ルテニウム(III)の混合液を0.1g滴下し30秒保持した。再度上側のパンチを取り付け、1Tの配向磁場中にて圧縮圧力8ton/cm2にて圧縮することでジシクロペンタジエンモノマーを含浸させるとともに余分な混合液成分を排出し、第2成形体を得た。
Second compression step Subsequently, the upper punch was removed, and dicyclopentadiene monomer (viscosity of 3 mPa·s, density of 1.02 g/cc) and dichloro[1,3-bis(2,2, 0.1 g of a mixed solution of 6-isopropylphenyl)-2-imidazolidinylidene](2-isopropylphenylmethylene)ruthenium (III) was added dropwise and maintained for 30 seconds. The upper punch was attached again, and the mixture was compressed at a compression pressure of 8 tons/cm 2 in an oriented magnetic field of 1 T to impregnate the dicyclopentadiene monomer and discharge excess liquid mixture components to obtain a second compact. .
熱処理工程
第2成形体を引き続き、圧縮された状態のまま120℃で15分間加熱することにより、ボンド磁石を得た。得られたボンド磁石の密度、体積充填率、保磁力、残留磁束密度、含浸欠乏率、配向率を以下に示す方法で測定した。その結果を表1に示す。
Heat Treatment Step The second compact was then heated at 120° C. for 15 minutes while still compressed to obtain a bond magnet. The density, volume filling factor, coercive force, residual magnetic flux density, impregnation depletion rate, and orientation rate of the obtained bonded magnet were measured by the following methods. Table 1 shows the results.
<密度と体積充填率>
ボンド磁石の密度は寸法と重量測定により算出した。磁性粉末と樹脂の密度をもとに作成した磁性粉末充填率と磁石密度との検量線から算出した密度をあてはめて体積充填率を計算した。
<Density and volume filling factor>
The density of the bonded magnet was calculated by dimensional and gravimetric measurements. The volume filling ratio was calculated by applying the density calculated from a calibration curve between the magnetic powder filling ratio and the magnet density prepared based on the densities of the magnetic powder and the resin.
<含浸欠乏率>
得られたボンド磁石に対して、ジシクロペンタジエンモノマーを接触させた面の中心をとおり、接触面に垂直でかつ、切断した面積が最大となるように切断し、その切断面をサンドペーパーにて研磨した。光学顕微鏡(倍率25倍)にて観察した切断面の画像を図1に示す。画像より断面全体に樹脂が均一に含まれており、含浸できていない欠乏部分は観測できなかった。
<Impregnation Deficiency Rate>
The obtained bonded magnet is cut through the center of the surface in contact with the dicyclopentadiene monomer, perpendicular to the contact surface, and cut so that the cut area is maximized, and the cut surface is sandpapered. Polished. FIG. 1 shows an image of the cut surface observed with an optical microscope (magnification of 25 times). From the image, the resin was uniformly contained in the entire cross section, and no impregnated deficient portion could be observed.
<残留磁束密度、保磁力および配向率>
SmFeN磁性粉末を、パラフィンワックスと共に試料容器に詰め、ドライヤーにてパラフィンワックスを溶融した後、2Tの配向磁場にてその磁化容易磁区を揃える。この磁場配向した試料を6Tの着磁磁場でパルス着磁し、最大磁場2TのVSM(振動試料型磁力計)を用いて、残留磁束密度(T)と保磁力iHc(kA/m)を測定したところ、SmFeN磁性粉末の残留磁束密度は1.317T、保磁力は1300kA/mであった。また、作製したボンド磁石について、BHトレーサーを用いて残留磁束密度(T)と保磁力iHc(kA/m)を測定したところ、磁石の残留磁束密度は0.85T、保磁力は1190kA/mであった。したがって配向率は、0.85(T)/(0.751×1.317(T))×100=85.9%であった。
<Residual magnetic flux density, coercive force and orientation ratio>
SmFeN magnetic powder is packed in a sample container together with paraffin wax, and after the paraffin wax is melted with a dryer, its easy magnetization magnetic domains are aligned with an aligning magnetic field of 2T. This magnetically oriented sample is pulse-magnetized with a magnetizing magnetic field of 6T, and the residual magnetic flux density (T) and coercive force iHc (kA/m) are measured using a VSM (vibrating sample magnetometer) with a maximum magnetic field of 2T. As a result, the SmFeN magnetic powder had a residual magnetic flux density of 1.317 T and a coercive force of 1300 kA/m. In addition, when the residual magnetic flux density (T) and coercive force iHc (kA/m) of the manufactured bonded magnet were measured using a BH tracer, the residual magnetic flux density of the magnet was 0.85 T and the coercive force was 1190 kA/m. there were. Therefore, the orientation ratio was 0.85(T)/(0.751*1.317(T))*100=85.9%.
実施例2~5
第1圧縮工程の圧縮圧力を、表1に示した条件に変更した以外は実施例1と同様に行い、ボンド磁石を作製した。なお、実施例4の含浸欠乏率について実施例1同様(倍率25倍)にした切断面の画像を図2に示す。図2より切断面中央部に樹脂欠乏部分を確認できたことから、樹脂欠乏部分面積と切断面の面積を2値化解析(BMPEdit)により算出したところ、含浸欠乏率は11.1%であった。
Examples 2-5
A bond magnet was produced in the same manner as in Example 1, except that the compression pressure in the first compression step was changed to the conditions shown in Table 1. FIG. 2 shows an image of a cross-section of the impregnation depletion rate of Example 4 as in Example 1 (magnification: 25 times). From FIG. 2, a resin-deficient portion was confirmed at the center of the cut surface, and the area of the resin-deficient portion and the area of the cut surface were calculated by binarization analysis (BMPEdit), and the impregnation depletion rate was 11.1%. rice field.
実施例6~8
磁性粉末を、表1に示したものに変更した以外は実施例1と同様に行い、ボンド磁石を作製した。
Examples 6-8
A bonded magnet was produced in the same manner as in Example 1, except that the magnetic powder was changed to one shown in Table 1.
比較例1
第1圧縮工程において磁場配向せずに圧縮したこと以外は実施例1と同様に行い、ボンド磁石を作製した。
Comparative example 1
A bonded magnet was produced in the same manner as in Example 1, except that in the first compression step the magnet was compressed without being magnetically oriented.
比較例2
製造例1で作製したSmFeNの磁性粉末0.8gとバインダ成分としてジシクロペンタジエンモノマー(粘度/25℃:3mPa・s、密度:1.02g/cc)0.05gと反応開始剤としてジクロロ[1,3-ビス(2,6-イソプロピルフェニル)-2-イミダゾリジニリデン](2-イソプロピルフェニルメチレン)ルテニウム(III)0.002gを混合させたものを乳鉢にて混合した。この混合物を5mm角のキャビティを設けた非磁性超硬の金型内に充填した後、1Tの配向磁界を印加しながら、金型の上下方向に8ton/cm2の圧縮圧をかけて圧縮するとともに余分なバインダ成分を排出し、その状態のまま120℃で15分間加熱することによりボンド磁石を得た。得られたボンド磁石の密度、体積充填率、保磁力、残留磁束密度、含浸欠乏率、配向率の結果を表1に示す。
Comparative example 2
0.8 g of the SmFeN magnetic powder prepared in Production Example 1, 0.05 g of a dicyclopentadiene monomer (viscosity/25° C.: 3 mPa·s, density: 1.02 g/cc) as a binder component, and dichloro[1] as a reaction initiator. ,3-bis(2,6-isopropylphenyl)-2-imidazolidinylidene](2-isopropylphenylmethylene)ruthenium (III) (0.002 g) was mixed in a mortar. After filling this mixture into a non-magnetic cemented carbide mold provided with a 5 mm square cavity, while applying an aligning magnetic field of 1 T, the mold is compressed by applying a compression pressure of 8 tons/cm 2 in the vertical direction. At the same time, an excess binder component was discharged, and the bonded magnet was obtained by heating at 120° C. for 15 minutes in this state. Table 1 shows the density, volume filling factor, coercive force, residual magnetic flux density, impregnation depletion rate, and orientation rate of the obtained bonded magnet.
表1より、比較例2に比べて、第1圧縮工程と第2圧縮工程とを有することにより、充填率が高くなっており、磁気特性が向上することを確認した。また、比較例1と比べて、第1圧縮工程において磁性粉末を磁気配向させながら圧縮することにより、配向率が高くなっており、磁気特性が向上することを確認した。 From Table 1, it was confirmed that the inclusion of the first compression step and the second compression step increased the filling rate and improved the magnetic properties as compared to Comparative Example 2. In addition, it was confirmed that the magnetic properties were improved by compressing the magnetic powder while magnetically orienting the magnetic powder in the first compression step, as compared with Comparative Example 1.
実施例9
第2圧縮工程において、ジシクロペンタジエンモノマーと反応開始剤の混合液に代わり、低粘度エポキシ樹脂(コニシ株式会社製ボンドE205、粘度/25℃:100mPa・s、密度:1.10g・cc)と硬化剤(コニシ株式会社製、E205)の混合液0.1gを滴下させたこと以外は実施例1と同様に行った。得られたボンド磁石の密度、体積充填率、保磁力、残留磁束密度、含浸欠乏率、配向率の結果を表2に示す。
Example 9
In the second compression step, a low-viscosity epoxy resin (Bond E205 manufactured by Konishi Co., Ltd., viscosity / 25 ° C.: 100 mPa s, density: 1.10 g cc) instead of a mixed solution of dicyclopentadiene monomer and a reaction initiator The procedure was carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.1 g of a mixed solution of a curing agent (E205, manufactured by Konishi Co., Ltd.) was added dropwise. Table 2 shows the density, volume filling factor, coercive force, residual magnetic flux density, impregnation depletion rate, and orientation rate of the obtained bonded magnet.
比較例3
第2圧縮工程において、ジシクロペンタジエンモノマーと反応開始剤の混合液に代わり、低粘度エポキシ樹脂ボンドE206SS(コニシ株式会社製、粘度/25℃:450mPa・s、密度:1.15g/cc)と硬化剤(コニシ株式会社製、E206SS)を混合させたもの0.1gを滴下させたこと以外は、実施例1と同様に行ったが、成形できなかった。
Comparative example 3
In the second compression step, low-viscosity epoxy resin bond E206SS (manufactured by Konishi Co., Ltd., viscosity / 25 ° C.: 450 mPa s, density: 1.15 g / cc) instead of the mixed solution of dicyclopentadiene monomer and reaction initiator The procedure of Example 1 was repeated except that 0.1 g of a mixture of a curing agent (manufactured by Konishi Co., Ltd., E206SS) was added dropwise, but molding was not possible.
比較例4
第2圧縮工程において、ジシクロペンタジエンモノマーと反応開始剤の混合液に代わり、液体エポキシ樹脂YDF-170(新日鐵住金化学株式会社製、粘度2000mPa・s、密度1.19g/cc)と硬化剤(コニシ株式会社製、E205)を混合させたものを0.1g滴下させたこと以外は実施例1と同様に行ったが、成形できなかった。
Comparative example 4
In the second compression step, liquid epoxy resin YDF-170 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., viscosity 2000 mPa s, density 1.19 g / cc) and curing instead of the mixed solution of dicyclopentadiene monomer and reaction initiator The procedure of Example 1 was repeated except that 0.1 g of a mixed agent (E205, manufactured by Konishi Co., Ltd.) was added dropwise, but molding was not possible.
比較例5
製造例1で作製したSmFeNの磁性粉末0.8gと、バインダ成分として低粘度エポキシ樹脂(コニシ株式会社製ボンドE205、粘度/25℃:100mPa・s、密度:1.10g・cc)と硬化剤(コニシ株式会社製、E205)を混合させたもの0.1gを乳鉢にて混合した。この混合物を5mm角のキャビティを設けた非磁性超硬の金型内に充填した後、1Tの配向磁界を印加しながら金型の上下方向に8ton/cm2の圧縮圧をかけて圧縮するとともに余分なバインダ成分を排出し、その状態のまま120℃で15分間加熱し、熱硬化により成形した。得られたボンド磁石の密度、体積充填率、保磁力、残留磁束密度、含浸欠乏率、配向率の結果を表2に示す。
Comparative example 5
0.8 g of the SmFeN magnetic powder prepared in Production Example 1, a low-viscosity epoxy resin (Bond E205 manufactured by Konishi Co., Ltd., viscosity/25° C.: 100 mPa·s, density: 1.10 g·cc) as a binder component, and a curing agent. (manufactured by Konishi Co., Ltd., E205) was mixed in a mortar. After filling this mixture into a non-magnetic cemented carbide mold provided with a 5 mm square cavity, the mold was compressed by applying a compression pressure of 8 tons/cm 2 in the vertical direction while applying an oriented magnetic field of 1 T. Excessive binder components were discharged, and in this state, the product was heated at 120° C. for 15 minutes and molded by thermosetting. Table 2 shows the density, volume filling factor, coercive force, residual magnetic flux density, impregnation depletion rate, and orientation rate of the obtained bonded magnet.
表2より、粘度が200mPa・Sを超える場合、成形できないことを確認した。また、第1成形体に対して、粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂を接触させることにより、比較例5と比べて、充填率と配向率が高くなっており、磁気特性が向上することを確認した。 From Table 2, it was confirmed that molding cannot be performed when the viscosity exceeds 200 mPa·S. In addition, by bringing a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa S or less into contact with the first molded body, the filling rate and the orientation rate are higher than in Comparative Example 5, and the magnetic properties are improved. Confirmed to do.
本発明のボンド磁石の製造方法によれば、磁性粉末の含有量が高く、磁気特性に優れたボンド磁石を得ることができることから、モーター等の用途に好適に適用することができる。 According to the method for producing a bonded magnet of the present invention, a bonded magnet having a high magnetic powder content and excellent magnetic properties can be obtained.
1:樹脂欠乏部分 1: resin deficient part
Claims (20)
前記金型内で第1成形体と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂とを接触させた後に圧縮し、前記熱硬化性樹脂を含侵させるとともに余分な前記熱硬化性樹脂を除去させて、第2成形体を得る第2圧縮工程と、
第2成形体を熱処理する熱処理工程
を含み、
前記第1成形体は、樹脂を含まない、ボンド磁石の製造方法。 A first compression step of compressing a magnetic powder having an average particle size of 10 μm or less while magnetically orienting it in a mold to obtain a first compact;
After contacting the first molded body with a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa S or less in the mold , it is compressed to impregnate the thermosetting resin and remove excess thermosetting resin. a second compression step of obtaining a second molded body by
including a heat treatment step of heat-treating the second compact,
The method for producing a bonded magnet, wherein the first compact does not contain resin .
前記金型内で第1成形体と粘度が200mPa・S以下である熱硬化性樹脂とを接触させた後に圧縮し、磁性粉末の割合が69体積%以上の第2成形体を得る第2圧縮工程と、The first compact is brought into contact with a thermosetting resin having a viscosity of 200 mPa S or less in the mold and then compressed to obtain a second compact having a magnetic powder ratio of 69% by volume or more. process and
第2成形体を熱処理する熱処理工程Heat treatment step of heat-treating the second compact
を含み、including
前記第1成形体は、樹脂を含まない、ボンド磁石の製造方法。The method for producing a bonded magnet, wherein the first compact does not contain resin.
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