JP7188529B2 - resin composition - Google Patents

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Description

本発明は樹脂組成物に関し、特に透光性の高い硬化体を形成し得る樹脂組成物及び該樹脂組成物から得られる硬化体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition, and more particularly to a resin composition capable of forming a cured product having high translucency and a cured product obtained from the resin composition.

LED等の発光素子を有する発光装置を構成する材料の一部として、発光素子を外部環境から保護する等の目的で、しばしば透光性の樹脂材料が使用される(特許文献1)。このような透光性の樹脂材料としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂等の種々の樹脂が挙げられる。一方で、LED等を使用した発光装置は、自動車、船舶、列車、航空機、電光板、交通信号灯、各種照明灯等の様々な用途に使用されており、発光装置を構成する透光性材料には、熱等の環境負荷を受けてもその透光性が保たれることが求められている。 Translucent resin materials are often used as part of materials constituting a light-emitting device having a light-emitting element such as an LED for the purpose of protecting the light-emitting element from the external environment (Patent Document 1). Examples of such translucent resin materials include various resins such as thermosetting resins such as silicone resins and epoxy resins, and thermoplastic resins such as polycarbonate resins and acrylic resins. On the other hand, light-emitting devices using LEDs and the like are used in various applications such as automobiles, ships, trains, aircraft, electronic boards, traffic signal lights, and various types of lighting. is required to maintain its translucency even under environmental load such as heat.

特開2017-157723号公報JP 2017-157723 A

従って、本発明の目的は、透光性が高く、熱等の環境負荷に対する透光性の維持性に優れた硬化体を形成し得る硬化性樹脂組成物およびその硬化体を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable resin composition capable of forming a cured product having high translucency and excellent maintenance of translucency against environmental loads such as heat, and a cured product thereof. .

また、特に透光性が高く、熱等の環境負荷に対する透光性の維持性に優れたフィルム形態の硬化体を容易に得ることができる樹脂組成物およびそれから得られたフィルム形態の硬化体を提供することにある。 In addition, a resin composition that can easily obtain a cured film in the form of a film having particularly high translucency and excellent maintenance of the translucency against environmental loads such as heat, and a cured film in the form of the resin composition are provided. to provide.

本発明者らは、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂及びホスホニウム塩を含有する樹脂組成物の硬化体は透光性が高く(特に透明度が高く)、しかも、高温環境下に置かれたときの透光性の低下が極めて小さいことを見出し、該知見に基づいてさらに研究を進めることにより、本発明を完成させた。 The present inventors have found that a cured product of a resin composition containing a bisphenol AF type epoxy resin, a phenoxy resin and a phosphonium salt has high translucency (particularly high transparency), and furthermore, when placed in a high temperature environment, The inventors have found that the decrease in translucency is extremely small, and have completed the present invention by conducting further research based on this finding.

すなわち本発明は、以下の内容を含むものである。
[1] 下記の(A)~(C)成分を含む、樹脂組成物。
(A)ビスフェノールAF型エポキシ樹脂
(B)フェノキシ樹脂を含む熱可塑性樹脂
(C)ホスホニウム塩を含む硬化促進剤
[2] ホスホニウム塩がイオン液体である、上記[1]記載の樹脂組成物。
[3] ホスホニウム塩のホスホニウムカチオンがテトラアルキルホスホニウムカチオンである、上記[1]または[2]記載の樹脂組成物。
[4] さらに(D)エポキシ樹脂((A)成分を除く)を含有する、上記[1]~[3]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[5] フィルム状である、上記[1]~[4]のいずれか1つに記載の樹脂組成物。
[6] 上記[1]~[5]のいずれか1つに記載の樹脂組成物の硬化体。
[7] 110℃で100時間保存したときの保存前と保存後において、L*a*b*表色系のb*値がいずれも1.0未満である、上記[6]記載の硬化体。
[8] 厚さ120μmのフィルム状の硬化体において、110℃で100時間保存した
ときの保存前と保存後のD65光での平行光線透過率がいずれも80%以上である、上記[6]または[7]記載の硬化体。
That is, the present invention includes the following contents.
[1] A resin composition containing the following components (A) to (C).
(A) bisphenol AF type epoxy resin (B) thermoplastic resin containing phenoxy resin (C) curing accelerator containing phosphonium salt [2] The resin composition according to [1] above, wherein the phosphonium salt is an ionic liquid.
[3] The resin composition according to [1] or [2] above, wherein the phosphonium cation of the phosphonium salt is a tetraalkylphosphonium cation.
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3] above, further comprising (D) an epoxy resin (excluding component (A)).
[5] The resin composition according to any one of [1] to [4] above, which is in the form of a film.
[6] A cured product of the resin composition according to any one of [1] to [5] above.
[7] The cured body according to [6] above, wherein the b* value in the L*a*b* color system is less than 1.0 both before and after storage at 110° C. for 100 hours. .
[8] The cured film having a thickness of 120 μm has a parallel light transmittance of 80% or more for both D65 light before and after storage at 110° C. for 100 hours, above [6]. Or the cured product according to [7].

本発明によれば、透光性が高く、熱等の環境負荷に対する透光性の維持性に優れた硬化体を形成し得る硬化性樹脂組成物を得ることができる。特に、本発明の樹脂組成物はフィルム化が容易であるため、本発明の樹脂組成物を使用すれば、透光性が高く、熱等の環境負荷に対する透光性の維持性に優れた、フィルム状の硬化体を容易に得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a curable resin composition that has high translucency and can form a cured product that is excellent in maintaining translucency against environmental loads such as heat. In particular, since the resin composition of the present invention is easy to form into a film, the use of the resin composition of the present invention has high translucency and excellent maintenance of translucency against environmental loads such as heat. A film-like cured product can be easily obtained.

なお、本発明でいう「透光性が高い」とは、特に高い平行光線透過率が得られること(すなわち、透明性が高いこと)を意味する。また、例えば、JIS(日本工業規格)の[包装用語]の規格や日本標準産業分類(総務省)[プラスチックフィルム・シート・床材・合成皮革製造業]の定義では、厚さ200μm(250μm)を基準に、厚さが200μm(250μm)未満のものを「フィルム」とし、厚さが200μm(250μm)以上のものを「シート」として区分しているが、本発明でいう「フィルム」とは、上記の「フィルム」に区分されるような厚さが200μm(250μm)未満の薄い厚さのものだけでなく、上記の「シート」に区分されるような200μm(250μm)以上の厚さを有するものも包含する「薄手の成形物」を意味する。 In addition, "highly translucent" as used in the present invention means that a particularly high parallel light transmittance is obtained (that is, high transparency). Also, for example, in the JIS (Japanese Industrial Standards) [Packaging Terms] standard and the Japan Standard Industrial Classification (Ministry of Internal Affairs and Communications) [Plastic Film, Sheet, Flooring, Synthetic Leather Manufacturing Industry] definition, the thickness is 200 μm (250 μm). Based on this, those with a thickness of less than 200 μm (250 μm) are classified as “films”, and those with a thickness of 200 μm (250 μm) or more are classified as “sheets”. , Not only those with a thickness of less than 200 μm (250 μm), which is classified as the above “film”, but also those with a thickness of 200 μm (250 μm) or more, which is classified as the above “sheet” It means a "thin molding" including those having

以下、本発明をその好適な実施形態に即して説明する。
[樹脂組成物]
本発明の樹脂組成物は、必須成分として、(A)ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、(B)フェノキシ樹脂を含む熱可塑性樹脂、及び(C)ホスホニウム塩を含む硬化促進剤を含有する。
The present invention will now be described in accordance with its preferred embodiments.
[Resin composition]
The resin composition of the present invention contains, as essential components, (A) a bisphenol AF type epoxy resin, (B) a thermoplastic resin containing a phenoxy resin, and (C) a curing accelerator containing a phosphonium salt.

<(A)ビスフェノールAF型エポキシ樹脂>
本発明において使用されるビスフェノールAF型エポキシ樹脂(以下、(A)成分ともいう)は特に限定されるものではなく、例えば、以下の式(I)で表されるエポキシ樹脂を用いることができる。
<(A) Bisphenol AF type epoxy resin>
The bisphenol AF type epoxy resin (hereinafter also referred to as component (A)) used in the present invention is not particularly limited, and for example, an epoxy resin represented by the following formula (I) can be used.

Figure 0007188529000001
Figure 0007188529000001

(式中、R1~R8は、それぞれ、独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基を示し、nは0又は1以上の整数を示す。) (Wherein, R1 to R8 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group, and n represents an integer of 0 or 1 or more.)

式(I)において、R1~R8は、互いに異なっていても、同一であってもよい。
R1~R8がアルキル基の場合、炭素数が1~4のアルキル基が好ましい。
In formula (I), R1 to R8 may be different or the same.
When R1 to R8 are alkyl groups, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms are preferred.

式(I)で表されるエポキシ樹脂の中でも、式(I)中のR1~R8が全て水素原子である、4,4’-[2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチリデン]ビスフェノール型エポキシ樹脂が特に好ましい。 Among epoxy resins represented by formula (I), 4,4′-[2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl ) ethylidene]bisphenol type epoxy resins are particularly preferred.

(A)ビスフェノールAF型エポキシ樹脂は市販品を用いることができる。市販されているビスフェノールAF型エポキシ樹脂としては、例えば、式(I)中のR1~R8が全
て水素原子であるビスフェノール型エポキシ樹脂の市販品として、「YX7760」(三菱ケミカル社製、エポキシ当量:245g/eq)、「YX7763」(三菱ケミカル社製、エポキシ当量:420g/eq)等が挙げられる。
(A) A commercially available bisphenol AF type epoxy resin can be used. Commercially available bisphenol AF type epoxy resins include, for example, "YX7760" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 245 g/eq), "YX7763" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 420 g/eq), and the like.

本発明の樹脂組成物において、(A)成分は1種又は2種以上を使用することができる。また、樹脂組成物中の(A)成分の含有量は特に限定されるものではないが、硬化体の透光性維持の観点から、樹脂組成物中の不揮発分100質量%に対し、10質量%以上が好ましく、15質量%以上がより好ましく、20質量%以上が更に好ましい。また、樹脂組成物をフィルム化する際の取り扱い性の観点から、樹脂組成物中の不揮発分100質量%に対し、95質量%以下が好ましく、90量%以下がより好ましく、63質量%以下がさらに一層好ましい。 In the resin composition of this invention, (A) component can use 1 type(s) or 2 or more types. In addition, the content of the component (A) in the resin composition is not particularly limited, but from the viewpoint of maintaining the translucency of the cured product, 10% by mass with respect to 100% by mass of the non-volatile content in the resin composition % or more is preferable, 15 mass % or more is more preferable, and 20 mass % or more is still more preferable. Further, from the viewpoint of handling properties when the resin composition is made into a film, it is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and 63% by mass or less with respect to 100% by mass of the nonvolatile content in the resin composition. Even more preferred.

後述するように、本発明の樹脂組成物には、(A)成分以外のエポキシ樹脂を含有させることができるが、(A)成分を含有せず、(A)成分以外のエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物の場合、高い透明性の硬化体を得ることができても、高温環境下に置かれたときの透光性の維持性に優れる硬化体を得ることができない。 As will be described later, the resin composition of the present invention may contain epoxy resins other than component (A), but does not contain component (A) and contains epoxy resins other than component (A). In the case of a resin composition, even if a highly transparent cured body can be obtained, it is not possible to obtain a cured body that is excellent in maintaining the translucency when placed in a high-temperature environment.

<(B)フェノキシ樹脂を含む熱可塑性樹脂>
本発明の樹脂組成物は、(A)成分とともに熱可塑性樹脂を含有し、該熱可塑性樹脂がフェノキシ樹脂を含むことが特徴の一つである。すなわち、熱可塑性樹脂(以下、(B)成分ともいう)は、フェノキシ樹脂が主体であり、好ましくは全体の90~100質量%がフェノキシ樹脂であり、より好ましくは全体の95~100質量%がフェノキシ樹脂である。
<(B) Thermoplastic resin containing phenoxy resin>
One of the characteristics of the resin composition of the present invention is that it contains a thermoplastic resin together with the component (A), and the thermoplastic resin contains a phenoxy resin. That is, the thermoplastic resin (hereinafter also referred to as component (B)) is mainly phenoxy resin, preferably 90 to 100% by mass of the total phenoxy resin, more preferably 95 to 100% by mass of the total Phenoxy resin.

熱可塑性樹脂の主体がフェノキシ樹脂であることで、本発明の樹脂組成物はフィルム化が容易になり、透光性が高く、高温環境下に置かれてもその高い透光性が維持されるフィルム状の硬化体を容易に得ることができる。フェノキシ樹脂の熱可塑性樹脂全体に対する割合が90質量%未満では、透光性の高い硬化体を得ることができない虞がある。 Since the main component of the thermoplastic resin is a phenoxy resin, the resin composition of the present invention can be easily formed into a film, has high translucency, and maintains its high translucency even when placed in a high-temperature environment. A film-like cured product can be easily obtained. If the ratio of the phenoxy resin to the total thermoplastic resin is less than 90% by mass, it may not be possible to obtain a cured product with high translucency.

好適なフェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA骨格、ビスフェノールF骨格、ビスフェノールS骨格、ビスフェノールアセトフェノン骨格、ノボラック骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格、シクロヘキサン骨格およびノルボルネン骨格から選択される1種または2種以上の骨格を有するものが挙げられる。特に好ましくはビフェニル骨格及び/又はシクロヘキサン骨格を有するフェノキシ樹脂である。フェノキシ樹脂は1種または2種以上を使用できる。 Suitable phenoxy resins include one or two selected from bisphenol A skeleton, bisphenol F skeleton, bisphenol S skeleton, bisphenolacetophenone skeleton, novolak skeleton, biphenyl skeleton, fluorene skeleton, dicyclopentadiene skeleton, cyclohexane skeleton and norbornene skeleton. Examples include those having more than one skeleton. Phenoxy resins having a biphenyl skeleton and/or a cyclohexane skeleton are particularly preferred. One or more phenoxy resins can be used.

フェノキシ樹脂の市販品としては、例えば、YX7200B35(三菱ケミカル社製:ビフェニル骨格及びシクロヘキサン骨格含有フェノキシ樹脂、不揮発分35質量%、エポキシ当量:9,000g/eq)、1256(三菱ケミカル社製:ビスフェノールA骨格含有フェノキシ樹脂、エポキシ当量:7,800g/eq)、YX6954BH35(三菱ケミカル社製:ビスフェノールアセトフェノン骨格含有フェノキシ樹脂、不揮発分35質量%、エポキシ当量:13,000g/eq)等が挙げられる。 Examples of commercially available phenoxy resins include YX7200B35 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: biphenyl skeleton and cyclohexane skeleton-containing phenoxy resin, nonvolatile content: 35% by mass, epoxy equivalent: 9,000 g/eq), 1256 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: bisphenol A skeleton-containing phenoxy resin, epoxy equivalent: 7,800 g/eq), YX6954BH35 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: bisphenolacetophenone skeleton-containing phenoxy resin, non-volatile content: 35% by mass, epoxy equivalent: 13,000 g/eq).

(B)成分におけるフェノキシ樹脂以外の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂、(メタ)アクリル系ポリマー等を挙げることができる。これらは、1種または2種以上を使用することができる。 Examples of thermoplastic resins other than phenoxy resins in component (B) include polyvinyl acetal resins, polyimide resins, polyamideimide resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polyester resins, (meth)acrylic polymers, and the like. can. These can use 1 type(s) or 2 or more types.

樹脂組成物をフィルム化する際(すなわち、フィルム状の樹脂組成物を得る際)の取り扱い性(例えば、樹脂組成物ワニスの塗工性(はじき防止))、硬化体への可撓性付与等の
点から、(B)成分の重量平均分子量は、10,000以上であるのが好ましく、20,000以上がより好ましい。しかし、この重量平均分子量が大きすぎると、(A)成分との相溶性が低下して高い透光性を有する硬化体が得られにくい傾向になる。そのため、この重量平均分子量は、100,000以下であるのが好ましく、80,000以下がより好ましく、50,000以下が特に好ましい。
Handleability (e.g., coatability of resin composition varnish (prevention of repelling)) when forming a resin composition into a film (that is, when obtaining a film-like resin composition), imparting flexibility to a cured product, etc. From the above point, the weight average molecular weight of component (B) is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 or more. However, if the weight-average molecular weight is too large, the compatibility with component (A) is reduced, and it tends to be difficult to obtain a cured product having high translucency. Therefore, the weight average molecular weight is preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less.

本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレンン換算)で測定される。GPC法による重量平均分子量は、測定装置として島津製作所製LC-9A/RID-6Aを、カラムとして昭和電工社製Shodex K-800P/K-804L/K-804Lを、移動相としてクロロホルム等を用い
て、カラム温度40℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。
The weight average molecular weight in the present invention is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method (converted to polystyrene). The weight average molecular weight by the GPC method is measured using LC-9A/RID-6A manufactured by Shimadzu Corporation as a measuring device, Shodex K-800P/K-804L/K-804L manufactured by Showa Denko Co., Ltd. as a column, and chloroform or the like as a mobile phase. can be measured at a column temperature of 40° C. and calculated using a standard polystyrene calibration curve.

本発明の樹脂組成物において、樹脂組成物中の(B)成分の含有量は特に限定されるものではないが、樹脂組成物をフィルム化する際の取り扱い性(例えば、樹脂組成物ワニスの塗工性(はじき防止))、硬化体への可撓性付与等の観点から、樹脂組成物中の不揮発分100質量%に対し、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上が更に好ましい。一方、(B)成分が多くなり過ぎると、樹脂組成物の溶融粘度が高くなりフィルム状の樹脂組成物の接着性が低下する傾向となること、硬化体の高温環境下で透光性が低下する傾向となることから、(B)成分の含有量は樹脂組成物中の不揮発分100質量%に対し、70質量%以下が好ましく、60質量%以下がより好ましく、50質量%以下が更に好ましい。 In the resin composition of the present invention, the content of the component (B) in the resin composition is not particularly limited, but it is From the viewpoint of workability (prevention of repelling), imparting flexibility to the cured product, etc., it is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, based on 100% by mass of the nonvolatile matter in the resin composition % or more by mass is more preferable. On the other hand, when the amount of component (B) is too large, the melt viscosity of the resin composition increases and the adhesiveness of the film-like resin composition tends to decrease. Therefore, the content of component (B) is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, and even more preferably 50% by mass or less with respect to 100% by mass of non-volatile matter in the resin composition. .

<(C)ホスホニウム塩を含む硬化促進剤>
本発明の樹脂組成物は、(A)成分及び(B)成分とともに硬化促進剤を含有し、該硬化促進剤がホスホニウム塩を含むことが特徴の一つである。すなわち、硬化促進剤(以下、(C)成分ともいう)として、少なくともホスホニウム塩を使用することで、透光性が高い硬化体が得られやすくなる。従って、(C)成分は、ホスホニウム塩が主体であり、好ましくは硬化促進剤全体の90~100質量%がホスホニウム塩であり、より好ましくは硬化促進剤全体の95~100質量%がホスホニウム塩であり、特に好ましくは硬化促進剤全体がホスホニウム塩である。
<(C) Curing Accelerator Containing Phosphonium Salt>
One of the characteristics of the resin composition of the present invention is that it contains a curing accelerator together with the components (A) and (B), and the curing accelerator contains a phosphonium salt. That is, by using at least a phosphonium salt as a curing accelerator (hereinafter also referred to as component (C)), it becomes easier to obtain a cured product with high translucency. Therefore, the component (C) is mainly composed of a phosphonium salt, preferably 90 to 100% by weight of the total curing accelerator is a phosphonium salt, more preferably 95 to 100% by weight of the total curing accelerator is a phosphonium salt. and particularly preferably the entire curing accelerator is a phosphonium salt.

硬化促進剤の主体がホスホニウム塩であることで、透光性(特に透明性)が高い硬化体が得られやすく、ホスホニウム塩の硬化促進剤全体に対する割合が90質量%未満では、透光性(特に透明性)の高い硬化体を得ることができない虞がある。 Since the main component of the curing accelerator is a phosphonium salt, it is easy to obtain a cured product with high translucency (especially transparency). In particular, there is a possibility that a cured product with high transparency cannot be obtained.

ホスホニウム塩としては、例えば、カチオンが、式(II): Phosphonium salts include, for example, cations of the formula (II):

Figure 0007188529000002
Figure 0007188529000002

[式中、R11、R12、R13、およびR14は、同一または異なって、炭素数1~20の炭化水素基を表し、前記炭化水素基はその一部がヘテロ原子またはヒドロキシ基で
置換されていてもよい。]
[Wherein, R11, R12, R13, and R14 are the same or different and represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and part of the hydrocarbon group is substituted with a hetero atom or a hydroxy group; good too. ]

で表されるホスホニウムカチオンであり、
アニオンが、例えば、Cl;Br;I;AlCl ;AlCl ;BF ;PF ;ClO ;NO ;フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲン化物系アニオン;メタンスルホン酸イオン等のアルキル硫酸系アニオン;トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロホスホン酸イオン、トリフルオロトリス(ペンタフルオロエチル)ホスホン酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドイオン、トリフルオロ酢酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等の含フッ素化合物系アニオン;フェノールイオン、2-メトキシフェノールイオン、2,6-ジ-tert-ブチルフェノールイオン等のフェノール系アニオン;アスパラギン酸イオン、グルタミン酸イオン等の酸性アミノ酸イオン;グリシンイオン、アラニンイオン、フェニルアラニンイオン等の中性アミノ酸イオン;式(III):
is a phosphonium cation represented by
AlCl 4 ; Al 2 Cl 7 ; BF 4 ; PF 6 ; ClO 4 ; NO 3 ; fluoride ion, chloride ion, bromide ion , Halide anions such as iodide ion; Alkyl sulfate anions such as methanesulfonate ion; Trifluoromethanesulfonate ion, hexafluorophosphonate ion, trifluorotris(pentafluoroethyl)phosphonate ion, bis(trifluoromethane Fluorinated compound anions such as sulfonyl)imide ions, trifluoroacetate ions, and tetrafluoroborate ions; phenolic anions such as phenol ions, 2-methoxyphenol ions, and 2,6-di-tert-butylphenol ions; , acidic amino acid ions such as glutamate ions; neutral amino acid ions such as glycine ions, alanine ions, phenylalanine ions; formula (III):

Figure 0007188529000003
Figure 0007188529000003

(式中、Rは炭素数1~5の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、或いは、置換または無置換のフェニル基であり、Xはアミノ酸の側鎖を表す。) (Wherein, R is a straight or branched hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group, and X represents a side chain of an amino acid.)

で示されるN-アシルアミノ酸イオン;ギ酸イオン、酢酸イオン、デカン酸イオン、2-ピロリドン-5-カルボン酸イオン、α-リポ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、N-メチル馬尿酸イオン、安息香酸イオン等のカルボン酸系アニオン等からなる群から選択されるアニオンである塩が挙げられる。 N-acyl amino acid ions represented by; Salts that are anions selected from the group consisting of carboxylate anions such as ions, benzoate ions, and the like can be mentioned.

式(II)で表されるホスホニウムカチオンの具体例としては、例えば、テトラメチルホスホニウムカチオン、テトラエチルホスホニウムカチオン、テトラブチルホスホニウムカチオン、テトラヘキシルホスホニウムカチオン、トリエチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルエチルホスホニウムカチオン、トリメチルデシルホスホニウムカチオン等のテトラアルキルホスホニウムカチオン;テトラフェニルホスホニウムカチオン等のテトラアリールホスホニウムカチオン;アリルトリブチルホスホニウムカチオン等のアリルトリアルキルホスホニウムカチオン;テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムカチオン等のテトラキス(ヒドロキシアルキル)ホスホニウムカチオン等が挙げられる。 Specific examples of the phosphonium cation represented by formula (II) include, for example, tetramethylphosphonium cation, tetraethylphosphonium cation, tetrabutylphosphonium cation, tetrahexylphosphonium cation, triethylmethylphosphonium cation, tributylethylphosphonium cation, trimethyldecylphosphonium Tetraalkylphosphonium cations such as cations; Tetraarylphosphonium cations such as tetraphenylphosphonium cations; Allyltrialkylphosphonium cations such as allyltributylphosphonium cations; Tetrakis(hydroxyalkyl)phosphonium cations such as tetrakis(hydroxymethyl)phosphonium cations; be done.

また、アニオンである式(III)で示されるN-アシルアミノ酸イオンの具体例として
は、N-ベンゾイルアラニンイオン、N-アセチルフェニルアラニンイオン、アスパラギン酸イオン、グリシンイオン、N-アセチルグリシンイオン等が挙げられる
Further, specific examples of the N-acylamino acid ion represented by formula (III), which is an anion, include N-benzoylalanine ion, N-acetylphenylalanine ion, aspartate ion, glycine ion, N-acetylglycine ion, and the like. to be

ホスホニウム塩の具体例としては、例えば、テトラエチルホスホニウムブロマイド、n-ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリエチルベンジルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムヨーダイド、トリブチル
メチルホスホニウムヨーダイド、トリブチルオクチルホスホニウムブロマイド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロマイド、アリルトリブチルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリブチルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウム-o,o-ジエチルホスホロジチオエート、トリオクチルエチルホスホニウムブロマイド、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムサルフェート、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムデカネート、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムジシアナミド、n-ブチルトリフェニルホスホニウムジシアナミド、テトラブチルホスホニウム-2-ピロリドン-5-カルボキシレート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムデカノエート、テトラブチルホスホニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルホスホニウムα-リポエート、テトラブチルホスホニウムホルメート、テトラブチルホスホニウムラクテート、酒石酸ビス(テトラブチルホスホニウム)塩、馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、N-メチル馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゾイル-DL-アラニンテトラブチルホスホニウム塩、N-アセチルフェニルアラニンテトラブチルホスホニウム塩、2,6-ジ-tert-ブチルフェノールテトラブチルホスホニウム塩、L-アスパラギン酸モノテトラブチルホスホニウム塩、グリシンテトラブチルホスホニウム塩、N-アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩等が挙げられる。
Specific examples of phosphonium salts include tetraethylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium bromide, triethylbenzylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium iodide, tributylmethyl Phosphonium iodide, tributyloctylphosphonium bromide, tributylhexadecylphosphonium bromide, allyltributylphosphonium bromide, benzyltributylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium-o,o-diethylphosphorodithioate, trioctylethylphosphonium bromide, Tetrakis(hydroxymethyl)phosphonium sulfate, ethyltriphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium decanate, tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphine triphenylborane, tetraphenylphosphonium thiocyanate, tetra Phenylphosphonium dicyanamide, n-butyltriphenylphosphonium dicyanamide, tetrabutylphosphonium-2-pyrrolidone-5-carboxylate, tetrabutylphosphonium acetate, tetrabutylphosphonium decanoate, tetrabutylphosphonium trifluoroacetate, tetrabutylphosphonium α - lipoate, tetrabutylphosphonium formate, tetrabutylphosphonium lactate, bis(tetrabutylphosphonium) tartrate salt, tetrabutylphosphonium hippurate salt, tetrabutylphosphonium N-methylhippurate salt, benzoyl-DL-alanine tetrabutylphosphonium salt, N-acetylphenylalanine tetrabutylphosphonium salt, 2,6-di-tert-butylphenol tetrabutylphosphonium salt, L-aspartic acid monotetrabutylphosphonium salt, glycine tetrabutylphosphonium salt, N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt and the like. be done.

なお、ホスホニウム塩は、硬化体の着色防止(硬化体のより高い透明性)の観点から、140℃以下(好ましくは120℃以下)の温度下でエポキシ樹脂を硬化し得るイオン液体、すなわち、140℃以下(好ましくは120℃以下)の温度領域で融解し得る塩であることが好ましい。また、ホスホニウム塩は、ホスホニウムカチオンがテトラアルキルホスホニウムカチオンであるホスホニウム塩が好ましい。すなわち、ホスホニウム塩は、特に好ましくは、ホスホニウムカチオンがテトラアルキルホスホニウムカチオンであるホスホニウム塩のイオン液体である。 In addition, from the viewpoint of preventing coloring of the cured product (higher transparency of the cured product), the phosphonium salt is an ionic liquid capable of curing the epoxy resin at a temperature of 140 ° C. or less (preferably 120 ° C. or less), that is, 140 C. or lower (preferably 120.degree. C. or lower) is preferred. Moreover, the phosphonium salt is preferably a phosphonium salt in which the phosphonium cation is a tetraalkylphosphonium cation. That is, the phosphonium salt is particularly preferably an ionic liquid of a phosphonium salt in which the phosphonium cation is a tetraalkylphosphonium cation.

ホスホニウムカチオンがテトラアルキルホスホニウムカチオンであるホスホニウム塩のイオン液体としては、テトラブチルホスホニウムデカネート、N-アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウム-2-ピロリドン-5-カルボキシレート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムデカノエート、テトラブチルホスホニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルホスホニウムα-リポエート、ギ酸テトラブチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウムラクテート、酒石酸ビス(テトラブチルホスホニウム)塩、馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、N-メチル馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゾイル-DL-アラニンテトラブチルホスホニウム塩、N-アセチルフェニルアラニンテトラブチルホスホニウム塩、2,6-ジ-tert-ブチルフェノールテトラブチルホスホニウム塩、L-アスパラギン酸モノテトラブチルホスホニウム塩、グリシンテトラブチルホスホニウム塩等が挙げられる。 Examples of ionic liquids of phosphonium salts in which the phosphonium cation is a tetraalkylphosphonium cation include tetrabutylphosphonium decanate, N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt, tetrabutylphosphonium-2-pyrrolidone-5-carboxylate, tetrabutylphosphonium acetate, Tetrabutylphosphonium decanoate, tetrabutylphosphonium trifluoroacetate, tetrabutylphosphonium α-lipoate, tetrabutylphosphonium formate, tetrabutylphosphonium lactate, bis(tetrabutylphosphonium) tartrate, tetrabutylphosphonium hippurate, N- Methylhippuric acid tetrabutylphosphonium salt, benzoyl-DL-alanine tetrabutylphosphonium salt, N-acetylphenylalanine tetrabutylphosphonium salt, 2,6-di-tert-butylphenoltetrabutylphosphonium salt, L-aspartic acid monotetrabutylphosphonium salt , glycine tetrabutylphosphonium salt, and the like.

本発明において、ホスホニウム塩は1種または2種以上を使用することができる。 In the present invention, one or more phosphonium salts can be used.

本発明における硬化促進剤(すなわち、(C)成分)には、本発明の効果を阻害しない範囲で、ホスホニウム塩とともに、ホスホニウム塩以外の硬化促進剤を使用してもよい。このようなホスホニウム塩以外の硬化促進剤としては、例えば、ホスホニウム塩のイオン液体以外のイオン液体を挙げることができ、例えば、カチオンが、イミダゾリウムイオン、ピペリジニウムイオン、ピロリジニウムイオン、ピラゾニウムイオン、グアニジニウムイオン、ピリジニウムイオン等のアンモニウム系カチオンからなるイオン液体、及び/又は、カチオンが、トリエチルスルホニウムイオン等のスルホニウム系カチオンからなるイオン液体等が挙げられる。 As the curing accelerator (that is, component (C)) in the present invention, a curing accelerator other than the phosphonium salt may be used together with the phosphonium salt as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of curing accelerators other than phosphonium salts include ionic liquids other than ionic liquids of phosphonium salts. , guanidinium ions and pyridinium ions, and/or ionic liquids in which the cations are sulfonium cations such as triethylsulfonium ions.

これら、カチオンがアンモニウム系カチオンからなるイオン液体、カチオンがスルホニウム系カチオンからなるイオン液体等におけるアニオンとしては、前述のホスホニウム塩のイオン液体において例示したアニオンと同じものを挙げることができる。 Examples of anions in these ionic liquids containing ammonium cations and ionic liquids containing sulfonium cations include the same anions as those exemplified in the ionic liquids of phosphonium salts described above.

また、ホスホニウム塩以外の硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、3級アミン系化合物、アミンアダクト化合物、有機酸ジヒドラジド化合物等を挙げることができる。 Examples of curing accelerators other than phosphonium salts include imidazole compounds, tertiary amine compounds, amine adduct compounds, organic acid dihydrazide compounds, and the like.

本発明の樹脂組成物において、(C)成分の量は、樹脂組成物の不揮発分100質量%に対し、0.1~3質量%が好ましく、0.2~2質量%がより好ましく、0.4~1.5質量%がさらに好ましい。この量が0.1質量%よりも少ないと、十分な硬化性が得られないおそれがあり、この量が3質量%より多いと、樹脂組成物の保存安定性が損なわれることがある。 In the resin composition of the present invention, the amount of component (C) is preferably 0.1 to 3% by mass, more preferably 0.2 to 2% by mass, based on 100% by mass of the nonvolatile content of the resin composition. 0.4 to 1.5 mass % is more preferred. If this amount is less than 0.1% by mass, sufficient curability may not be obtained, and if this amount is more than 3% by mass, the storage stability of the resin composition may be impaired.

<(D)エポキシ樹脂((A)成分を除く)>
本発明の樹脂組成物には、樹脂組成物の接着性や樹脂組成物の硬化体の機械強度等の向上の観点から、(A)成分以外のエポキシ樹脂(以下、(D)成分ともいう)を含有させることができる。
<(D) epoxy resin (excluding component (A))>
In the resin composition of the present invention, an epoxy resin other than component (A) (hereinafter also referred to as component (D)) is added from the viewpoint of improving the adhesiveness of the resin composition and the mechanical strength of the cured product of the resin composition. can be contained.

このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂(例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル-p-アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等)、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のグリシジルエーテル化物、およびアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体、ハロゲン化物および水素添加物等が挙げられる。中でも、自体の透光性が高いものが好ましく、かかる好適なエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物等が挙げられる。
(D)成分は1種又は2種以上を使用することができる。
Examples of such epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl alkyl type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phosphorus-containing epoxy resin, bisphenol S type epoxy resins, aromatic glycidylamine type epoxy resins (e.g., tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, diglycidyltoluidine, diglycidylaniline, etc.), alicyclic epoxy resins, aliphatic linear epoxy resins, Phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, epoxy resin having a butadiene structure, diglycidyl etherate of bisphenol, diglycidyl etherate of naphthalenediol, glycidyl etherate of phenols, and alcohol and diglycidyl etherified products, alkyl-substituted products, halides and hydrogenated products of these epoxy resins. Among them, those having high translucency themselves are preferable, and suitable epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, diglycidyl etherate of bisphenol, and the like.
(D) Component can use 1 type(s) or 2 or more types.

エポキシ樹脂は、液状であっても、固形状であってもよく、液状エポキシ樹脂および固形状エポキシ樹脂の両方を用いてもよい。ここで、「液状」および「固形状」とは、常温(25℃)でのエポキシ樹脂の状態である。 The epoxy resin may be liquid or solid, and both liquid and solid epoxy resins may be used. Here, "liquid" and "solid" refer to the state of the epoxy resin at room temperature (25°C).

本発明の樹脂組成物において、(D)成分の量は、樹脂組成物の接着性や樹脂組成物の硬化体の機械強度の観点から、不揮発分100質量%に対し、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上が更に好ましい。また、硬化体の透光性の維持性の観点から、樹脂組成物中の不揮発分100質量%に対し、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、40質量%以下が更に好ましい。 In the resin composition of the present invention, the amount of component (D) is preferably 5% by mass or more with respect to 100% by mass of nonvolatile matter from the viewpoint of adhesiveness of the resin composition and mechanical strength of the cured product of the resin composition. , more preferably 10% by mass or more, and even more preferably 20% by mass or more. In addition, from the viewpoint of maintaining the translucency of the cured product, it is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less relative to 100% by mass of the non-volatile matter in the resin composition. .

なお、本発明において「エポキシ樹脂」とは、1分子中に二つ以上のエポキシ基を有し、エポキシ当量が7,000以下である熱硬化性樹脂を意味し、「フェノキシ樹脂」とは、エポキシ当量が7,000を超える熱可塑性樹脂を意味する。フェノキシ樹脂は、エポキシ樹脂と同様にエポキシ基を有し得るが、本発明では、これらをエポキシ当量で区別する。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、反応性等の観点から、好ましくは50~5,000
、より好ましくは50~3,000、より一層好ましくは80~2,000、さらに好ましくは100~1,000、さらに一層好ましくは120~1,000、特に好ましくは140~500である。なお、「エポキシ当量」とは1グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数(g/eq)であり、JIS K 7236に規定された方法に従って測定される。
In the present invention, "epoxy resin" means a thermosetting resin having two or more epoxy groups in one molecule and an epoxy equivalent of 7,000 or less. It means a thermoplastic resin having an epoxy equivalent of more than 7,000. A phenoxy resin may have an epoxy group like an epoxy resin, but in the present invention, they are distinguished by their epoxy equivalent weight. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 50 to 5,000 from the viewpoint of reactivity and the like.
, more preferably 50 to 3,000, still more preferably 80 to 2,000, still more preferably 100 to 1,000, still more preferably 120 to 1,000, and particularly preferably 140 to 500. The "epoxy equivalent" is the number of grams (g/eq) of a resin containing one gram equivalent of epoxy groups, and is measured according to the method specified in JIS K7236.

また、本発明において、エポキシ樹脂の分子量(ポリマーの場合、重量平均分子量をいう)は、好ましくは100~5,000、より好ましくは250~3,000である。 Further, in the present invention, the molecular weight of the epoxy resin (referring to the weight average molecular weight in the case of polymers) is preferably 100 to 5,000, more preferably 250 to 3,000.

本発明の樹脂組成物におけるエポキシ樹脂の含有量((i)(D)成分を含有しない場合は(A)成分の含有量、(ii)(D)成分を含有する場合は(A)成分と(D)成分の合計含有量)は、樹脂組成物の不揮発分100質量%対して、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましい。また、樹脂組成物の不揮発分100質量%対して、95質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、70質量%以下がさらに一層好ましく、66質量%以下が特に好ましい。30質量%未満では、樹脂組成物の接着性、硬化体の機械強度等が低下する傾向となり、95質量%を超えると樹脂組成物をフィルム化する際の取り扱い性が低下する傾向となる。 The content of the epoxy resin in the resin composition of the present invention (the content of component (A) when component (i) does not contain component (D), and the content of component (A) when component (ii) contains component (D) The total content of component (D) is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, relative to 100% by mass of non-volatile matter in the resin composition. Moreover, it is preferably 95% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, still more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 66% by mass or less, based on 100% by mass of the non-volatile matter of the resin composition. If the amount is less than 30% by mass, the adhesiveness of the resin composition and the mechanical strength of the cured product tend to decrease.

本発明の樹脂組成物は、上述の成分を、必要により有機溶剤を加えて、混練ローラーや回転ミキサーなどを用いて混合することで調製される。 The resin composition of the present invention is prepared by mixing the above-described components with an organic solvent, if necessary, using a kneading roller, a rotating mixer, or the like.

<用途>
本発明の樹脂組成物は、LED、EL素子等の発光素子を有する発光装置における発光素子を外部環境から保護する透光性部材に使用される。樹脂組成物の形態は、特に限定されず、液状(ワニス)、固形(例えば、フィルム状)、半固形のいずれであってもよく、発光装置内の透光性部材の形状、大きさに応じて、選択される。フィルム状の樹脂組成物は、それを硬化して得られるフィルム状の硬化体が、そのまま、透光性の高いパネル部材になり、大面積の透明パネルを容易に得ることができるので、好ましい。なお、一般に「パネル」との用語は比較的硬度(剛性)が高い製品に対して使用され、「フィルム」や「シート」との用語は比較的硬度(剛性)の低い製品に使用される傾向があり、ここでいう「パネル部材」や「透明パネル」における「パネル」も比較的硬度(剛性)が高い製品という意味である。
<Application>
INDUSTRIAL APPLICABILITY The resin composition of the present invention is used as a translucent member for protecting a light-emitting element in a light-emitting device having a light-emitting element such as an LED or an EL element from the external environment. The form of the resin composition is not particularly limited, and may be liquid (varnish), solid (for example, film), or semi-solid, depending on the shape and size of the translucent member in the light-emitting device. selected. A film-like resin composition is preferable because a film-like cured body obtained by curing the composition can be used as a highly translucent panel member as it is, and a large-area transparent panel can be easily obtained. In general, the term "panel" is used for products with relatively high hardness (rigidity), and the terms "film" and "sheet" tend to be used for products with relatively low hardness (rigidity). "Panel member" and "panel" in "transparent panel" here also mean products with relatively high hardness (rigidity).

フィルム状の樹脂組成物(以下、「樹脂組成物フィルム」ともいう。)は、例えば、樹脂組成物の成分と有機溶剤を、混練ローラーや回転ミキサーなどを用いて混合することで調製したワニス(樹脂組成物ワニス)を、離型処理した支持体上に塗布し、公知の機器を用いた加熱(熱風吹きつけ等)及び/または減圧処理によって、支持体上に塗布したワニスから有機溶剤を除去することで、フィルム状の樹脂組成物が形成される。 A film-like resin composition (hereinafter also referred to as a "resin composition film") is, for example, a varnish ( resin composition varnish) is applied onto a release-treated support, and the organic solvent is removed from the varnish applied onto the support by heating (hot air blowing, etc.) and/or vacuum treatment using a known device. By doing so, a film-like resin composition is formed.

離型処理した支持体の支持体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン;シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミドなどのプラスチックフィルム(好ましくは、PETフィルム)や、アルミ箔、ステンレス箔、銅箔等の金属箔が使用される。離型処理した支持体の離型処理としては、例えば、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等の離型剤による離型処理が挙げられる。 Examples of the release-treated support include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride; Plastic films (preferably PET films) such as polyester; polycarbonate; and polyimide, and metal foils such as aluminum foil, stainless steel foil and copper foil are used. Examples of the release treatment of the release-treated support include release treatment using a release agent such as a silicone resin release agent, an alkyd resin release agent, or a fluororesin release agent.

樹脂組成物ワニスの固形分は、好ましくは20~80質量%、より好ましくは30~70質量%である。 The solid content of the resin composition varnish is preferably 20-80% by mass, more preferably 30-70% by mass.

樹脂組成物ワニスから有機溶剤を除去するための加熱の条件に特に制限はないが、通常50~150℃程度で3~10分程度が好適である。 Although there are no particular restrictions on the heating conditions for removing the organic solvent from the resin composition varnish, heating at about 50 to 150° C. for about 3 to 10 minutes is usually preferred.

有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ等のセロソルブ類、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等を挙げることができる。かかる有機溶剤はいずれか1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of organic solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and cyclohexanone; acetic acid esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and carbitol acetate; cellosolves such as cellosolve; Examples include carbitols such as butyl carbitol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. Any one of these organic solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

フィルム状の樹脂組成物の厚さは、保護対象の種類や適用箇所によっても異なるが、一般的には、1~300μm、好ましくは5~200μmの範囲である。 The thickness of the film-like resin composition varies depending on the type of object to be protected and the application site, but generally ranges from 1 to 300 μm, preferably from 5 to 200 μm.

支持体上に形成されたフィルム状の樹脂組成物は、樹脂組成物を硬化する迄、保護のために、保護フィルムで保護しておくのが好ましく、例えば、支持体上に形成されたフィルム状の樹脂組成物に、公知の機器を使用して、離型処理した保護フィルムを積層しておくことができる。保護フィルムの積層に使用する機器としては、例えば、ロールラミネーター、プレス機、真空加圧式ラミネーター等が挙げられる。 The film-shaped resin composition formed on the support is preferably protected with a protective film for protection until the resin composition is cured. A release-treated protective film can be laminated on the resin composition of (1) using a known device. Equipment used for laminating the protective film includes, for example, a roll laminator, a press machine, a vacuum pressure laminator, and the like.

離型処理した保護フィルムは、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン;シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミドなどのプラスチックフィルム(好ましくは、PETフィルム)、或いは、アルミ箔、ステンレス箔、銅箔等の金属箔からなる支持体に、離型処理を施したものが使用される。離型処理には、例えば、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等の離型剤による離型処理が挙げられる。 Release-treated protective films include, for example, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride; cycloolefin polymers, polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as "PET"), polyesters such as polyethylene naphthalate; polycarbonate; A support made of a plastic film such as polyimide (preferably a PET film) or a metal foil such as an aluminum foil, a stainless steel foil, or a copper foil and subjected to mold release treatment is used. The release treatment includes, for example, a release treatment using a release agent such as a silicone resin release agent, an alkyd resin release agent, or a fluororesin release agent.

<硬化体>
本発明の硬化体は、本発明の樹脂組成物を熱硬化させたものであり、透光性部材となる。フィルム状の樹脂組成物を硬化すれば、フィルム状の硬化体が得られ、フィルム状の透光性部材になる。
<Hardened body>
The cured product of the present invention is obtained by thermally curing the resin composition of the present invention, and serves as a translucent member. When the film-shaped resin composition is cured, a film-shaped cured body is obtained, which becomes a film-shaped translucent member.

熱硬化の硬化温度は、硬化反応を十分に進行させるという観点から、100℃以上が好ましく、120℃以上がより好ましい。また、硬化体の着色防止の観点から、180℃以下が好ましく、165℃以下がより好ましい。また、加熱時間は、10分以上が好ましく、20分以上がより好ましい。また、120分以下が好ましく、90分以下がより好ましい。 The curing temperature for thermosetting is preferably 100° C. or higher, more preferably 120° C. or higher, from the viewpoint of sufficiently advancing the curing reaction. In addition, from the viewpoint of preventing coloring of the cured product, the temperature is preferably 180° C. or lower, more preferably 165° C. or lower. Moreover, the heating time is preferably 10 minutes or longer, more preferably 20 minutes or longer. Moreover, 120 minutes or less is preferable, and 90 minutes or less is more preferable.

加熱手段としては、例えば、熱風循環式オーブン、赤外線ヒーター、ヒートガン、高周波誘導加熱装置、ヒートツールの圧着による加熱等が挙げられる。 Heating means include, for example, a hot air circulation oven, an infrared heater, a heat gun, a high-frequency induction heating device, and heating by pressing a heat tool.

本発明の樹脂組成物から調製した樹脂組成物ワニスを、成形用型に流し込み、加熱により有機溶剤の除去と硬化反応を行うことで、所望の形状の透明部材を形成することもできる。 A transparent member having a desired shape can also be formed by pouring a resin composition varnish prepared from the resin composition of the present invention into a mold and heating to remove the organic solvent and perform a curing reaction.

本発明の硬化体は、高い透光性を有し、しかも、熱負荷に対する透光性の維持性に優れる。例えば、厚さ120μmのフィルム状の硬化体は、110℃で100時間保存したときの保存前と保存後の400nmでの平行光線透過率はいずれも80%以上(好ましくは84%以上)を示す。 The cured product of the present invention has high translucency and is excellent in maintaining translucency against heat load. For example, a cured film having a thickness of 120 μm exhibits a parallel light transmittance of 80% or more (preferably 84% or more) at 400 nm before and after storage at 110° C. for 100 hours. .

上記の厚さ120μmのフィルム状の硬化体の400nmでの平行光線透過率は、後述の実施例に記載するようにして、PETフィルムの間にフィルム状の硬化体が挟まれた積層体を形成し、空気をリファレンスとすることによって算出される。 The parallel light transmittance at 400 nm of the cured film having a thickness of 120 μm was measured by forming a laminate in which the cured film was sandwiched between PET films, as described in Examples below. and air as a reference.

また、本発明の硬化体は、110℃で100時間保存したときの保存前と保存後において、L*a*b*表色系のb*値がいずれも1.0未満を示し、黄色味が極めて小さく、しかも、熱負荷に対しても黄変しない、透明性の高い硬化体になる。b*値は0.98以下が好ましく、0.95以下が更に好ましい。
従って、本発明の硬化体によれば、耐熱性に優れた透光性部材を実現することができる。特に、110℃で100時間保存したときの保存前のb*値に対する保存後のb*値の変化率(保存後のb*値/保存前のb*値)が、2.5未満(好ましくは2.3以下、より好ましくは2.1以下)、0.5以上(好ましくは0.55以上、より好ましくは0.6以上)の範囲内にある硬化体を得ることができる。本発明の硬化体を、例えば、発光装置を構成する透光性部材に使用すると、発光素子の発光動作による発熱に伴って透光性部材が加熱されても、透光性部材はその高い透光性が安定に維持されるため、発光素子から発せられる光の外部への放射量の経時安定性に優れた発光装置を実現することができる。
In addition, the cured product of the present invention exhibits a b* value of less than 1.0 in the L*a*b* color system both before and after storage when stored at 110 ° C. for 100 hours, and has a yellow tint. is extremely small, and a highly transparent cured product that does not turn yellow even under heat load is obtained. The b* value is preferably 0.98 or less, more preferably 0.95 or less.
Therefore, according to the cured product of the present invention, a translucent member having excellent heat resistance can be realized. In particular, the rate of change in the b* value after storage relative to the b* value before storage when stored at 110 ° C. for 100 hours (b* value after storage / b* value before storage) is less than 2.5 (preferably is 2.3 or less, more preferably 2.1 or less) and 0.5 or more (preferably 0.55 or more, more preferably 0.6 or more). For example, when the cured product of the present invention is used as a light-transmitting member constituting a light-emitting device, even if the light-transmitting member is heated due to the heat generated by the light-emitting operation of the light-emitting element, the light-transmitting member has high transparency. Since the light property is stably maintained, it is possible to realize a light-emitting device in which the amount of light emitted from the light-emitting element to the outside is highly stable over time.

なお、こでいう「L*a*b*表色系のb*値」は、厚さ120μmのフィルム状の樹脂組成物を、100℃で60分、150℃で30分熱硬化した硬化体(試料)に対する測定値であり、後述の初期透明性評価試験及び耐熱性評価試験に記載の方法で測定される。 It should be noted that the "b* value of the L*a*b* color system" referred to here is a film-shaped resin composition having a thickness of 120 µm, a cured body obtained by heat curing at 100 ° C. for 60 minutes and 150 ° C. for 30 minutes. It is a measured value for (sample) and is measured by the method described in the later-described initial transparency evaluation test and heat resistance evaluation test.

以下に、実施例を示して本発明をより詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例および比較例に用いた材料は以下の通りである。
<エポキシ樹脂>
「YX7760」(三菱ケミカル社製):ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、エポキシ当量245g/eq
「YX7763」(三菱ケミカル社製):ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、エポキシ当量420g/eq
「828EL」(三菱ケミカル社製):ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量185g/eq
「N-695」(DIC社製):クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量215g/eq「YL7924」(三菱ケミカル社製):ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、エポキシ当量390g/eq
「EHPE3150」(ダイセル社製):脂環式エポキシ樹脂、エポキシ当量180g/eq
「ZX-1059」(新日鉄住金化学社製):ビスフェノールA型エポキシ樹脂(50質量%)とビスフェノールF型エポキシ樹脂(50質量%)の混合品、エポキシ当量165g/eq
Materials used in Examples and Comparative Examples are as follows.
<Epoxy resin>
"YX7760" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): bisphenol AF type epoxy resin, epoxy equivalent 245 g / eq
"YX7763" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): bisphenol AF type epoxy resin, epoxy equivalent 420 g / eq
"828EL" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 185 g / eq
"N-695" (manufactured by DIC): cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 215 g/eq "YL7924" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): diglycidyl etherate of bisphenol, epoxy equivalent 390 g/eq
"EHPE3150" (manufactured by Daicel): alicyclic epoxy resin, epoxy equivalent 180 g / eq
"ZX-1059" (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.): a mixture of bisphenol A type epoxy resin (50% by mass) and bisphenol F type epoxy resin (50% by mass), epoxy equivalent 165 g / eq

<熱可塑性樹脂>
「YX7200B35」(三菱ケミカル社製):ビフェニル骨格及びシクロヘキサン骨格含有フェノキシ樹脂、不揮発分35質量%、重量平均分子量30,000、エポキシ当量
:9,000g/eq
「1256B40」(三菱ケミカル社製):ビスフェノールA骨格含有フェノキシ樹脂、不揮発分40質量%、重量平均分子量45,000、エポキシ当量:7,800g/eq「BX-5」(積水化学工業社製):ポリビニルアセタール樹脂、重量平均分子量130
,000
「SG-P3」(ナガセケムテックス社製):エポキシ基含有アクリル酸エステル共重合体樹脂、不揮発分15質量%、重量平均分子量850,000
<Thermoplastic resin>
"YX7200B35" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): phenoxy resin containing biphenyl skeleton and cyclohexane skeleton, non-volatile matter 35% by mass, weight average molecular weight 30,000, epoxy equivalent: 9,000 g/eq
"1256B40" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): bisphenol A skeleton-containing phenoxy resin, non-volatile matter 40% by mass, weight average molecular weight 45,000, epoxy equivalent: 7,800 g / eq "BX-5" (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) : Polyvinyl acetal resin, weight average molecular weight 130
,000
"SG-P3" (manufactured by Nagase ChemteX Corporation): epoxy group-containing acrylic acid ester copolymer resin, non-volatile content 15% by mass, weight average molecular weight 850,000

<硬化促進剤>
「TBP-DA」(北興化学工業社製):ホスホニウム塩1(テトラブチルホスホニウムデカン酸塩)
ホスホニウム塩2:N-アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩
「EMI24」(三菱ケミカル社製):イミダゾール系硬化促進剤
<Curing accelerator>
"TBP-DA" (manufactured by Hokko Chemical Industry Co., Ltd.): Phosphonium salt 1 (tetrabutylphosphonium decanoate)
Phosphonium salt 2: N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt "EMI24" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): imidazole curing accelerator

以下に示す手順にて実施例および比較例の各組成物を調製した。なお、以下の記載において、各材料についての使用量の「部」は、特に断りがない限り、「質量部」を意味する。また、溶剤を含有する材料についての使用量は溶剤を含む総量であり、後記の表1には不揮発分のみの量を記載した。 Each composition of Examples and Comparative Examples was prepared according to the procedure shown below. In addition, in the following description, "part" of the amount used for each material means "mass part" unless otherwise specified. In addition, the amount used for materials containing solvents is the total amount including the solvent, and Table 1 below shows the amount of non-volatile matter only.

<実施例1:樹脂組成物1の調製>
「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)8部、「YX7200B35」(フェノキシ樹脂)30部、「YL7924」(ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物)8.35部を、メチルエチルケトン5部、シクロヘキサノン5部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)0.18部を混合して樹脂組成物1を調製した。
<Example 1: Preparation of resin composition 1>
8 parts of "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin), 30 parts of "YX7200B35" (phenoxy resin), and 8.35 parts of "YL7924" (diglycidyl etherate of bisphenol) were mixed with 5 parts of methyl ethyl ketone and 5 parts of cyclohexanone. It was heated and dissolved. 0.18 part of "TBP-DA" (phosphonium salt) was mixed therewith to prepare a resin composition 1.

<実施例2:樹脂組成物2の調製>
実施例1において、「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)の量を8
部から6.6部に変え、「YX7200B35」(フェノキシ樹脂)の量を30部から34部に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物2を調製した。
<Example 2: Preparation of resin composition 2>
In Example 1, the amount of "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin) was 8
parts to 6.6 parts, the amount of "YX7200B35" (phenoxy resin) was changed from 30 parts to 34 parts, and "ZX-1059" (mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin) was added to 2 parts. was added. A resin composition 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<実施例3:樹脂組成物3の調製>
実施例2において、「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)の量を6.6部から10.3部に変え、「YX7200B35」(フェノキシ樹脂)の量を34部から23.4部に変えた。以上の事項以外は実施例2と同様にして樹脂組成物3を調製した。
<Example 3: Preparation of resin composition 3>
In Example 2, the amount of "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin) was changed from 6.6 parts to 10.3 parts, and the amount of "YX7200B35" (phenoxy resin) was changed from 34 parts to 23.4 parts. . A resin composition 3 was prepared in the same manner as in Example 2 except for the above matters.

<実施例4:樹脂組成物4の調製>
実施例1において、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品2部を加え、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)の量を0.18部から0.135部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物4を調製した。
<Example 4: Preparation of resin composition 4>
In Example 1, 2 parts of "ZX-1059" (a mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin) were added, and the amount of "TBP-DA" (phosphonium salt) was changed from 0.18 parts to 0.135 parts. A resin composition 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above items.

<実施例5:樹脂組成物5の調製>
実施例4において、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)の量を0.135部から0.36部に変えた。以上の事項以外は実施例4と同様にして樹脂組成物5を調製した。
<Example 5: Preparation of resin composition 5>
In Example 4, the amount of "TBP-DA" (phosphonium salt) was changed from 0.135 parts to 0.36 parts. Resin composition 5 was prepared in the same manner as in Example 4 except for the above matters.

<実施例6:樹脂組成物6の調製>
実施例1において、「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)を「YX7763」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物6を調製した。
<Example 6: Preparation of resin composition 6>
In Example 1, "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin) was changed to "YX7763" (bisphenol AF type epoxy resin), and "ZX-1059" (mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin). Added 2 parts. A resin composition 6 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<実施例7:樹脂組成物7の調製>
実施例1において、「YX7200B35」(フェノキシ樹脂)30部を「1256B40」(ビスフェノールA型フェノキシ樹脂)26.25部に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。また、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)の量を0.18部から0.36部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物7を調製した。
<Example 7: Preparation of resin composition 7>
In Example 1, 30 parts of "YX7200B35" (phenoxy resin) was changed to 26.25 parts of "1256B40" (bisphenol A type phenoxy resin), and "ZX-1059" (bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin mixture) was added. Also, the amount of “TBP-DA” (phosphonium salt) was changed from 0.18 parts to 0.36 parts. Resin composition 7 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<実施例8:樹脂組成物8の調製>
実施例1において、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加え、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)0.18部をN-アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩(特開2016-186843に記載の方法で製造したもの)0.18部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物7を調製した。
<Example 8: Preparation of resin composition 8>
In Example 1, 2 parts of "ZX-1059" (mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin) were added, and 0.18 parts of "TBP-DA" (phosphonium salt) was added to N-acetylglycine tetra Butylphosphonium salt (manufactured by the method described in JP-A-2016-186843) was changed to 0.18 parts. Resin composition 7 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<実施例9:樹脂組成物9の調製>
実施例1において、「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)の量を8部から16.35部に変え、「YL7924」8.35部を0部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物9を調製した。
<Example 9: Preparation of resin composition 9>
In Example 1, the amount of "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin) was changed from 8 parts to 16.35 parts, and 8.35 parts of "YL7924" was changed to 0 parts. A resin composition 9 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<実施例10:樹脂組成物10の調製>
実施例1において、「YL7924」(ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、三菱ケミカル社製)8.35部を「EHPE3150」(脂環式エポキシ樹脂)10.35部に変え、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)の量を0.18部から0.36部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物10を調製した。
<Example 10: Preparation of resin composition 10>
In Example 1, 8.35 parts of "YL7924" (diglycidyl etherate of bisphenol, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was changed to 10.35 parts of "EHPE3150" (alicyclic epoxy resin), and "TBP-DA" (phosphonium salt) was changed from 0.18 parts to 0.36 parts. A resin composition 10 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<比較例1:樹脂組成物11の調製>
実施例1において、「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂)を「828EL」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物11を調製した。
<Comparative Example 1: Preparation of Resin Composition 11>
In Example 1, "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin) was changed to "828EL" (bisphenol A type epoxy resin), and "ZX-1059" (mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin). Added 2 parts. A resin composition 11 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<比較例2:樹脂組成物12の調製>
実施例1において、「YX7760」(ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、)を「N-695」(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物12を調製した。
<Comparative Example 2: Preparation of resin composition 12>
In Example 1, "YX7760" (bisphenol AF type epoxy resin) was changed to "N-695" (cresol novolac type epoxy resin), and "ZX-1059" (bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin mixture) was added. A resin composition 12 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<比較例3:樹脂組成物13の調製>
実施例1において、「YX7200B35」(フェノキシ樹脂)30部を「BX-5」(ポリビニルアセタール樹脂)10.5部、メチルエチルケトン29.75部、シクロヘキサノン29.75部に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物13を調製した。
<Comparative Example 3: Preparation of Resin Composition 13>
In Example 1, 30 parts of "YX7200B35" (phenoxy resin) were changed to 10.5 parts of "BX-5" (polyvinyl acetal resin), 29.75 parts of methyl ethyl ketone, and 29.75 parts of cyclohexanone, and "ZX-1059" ( 2 parts of a mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin) were added. A resin composition 13 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<比較例4:樹脂組成物14の調製>
実施例1において、「YX7200B35」(フェノキシ樹脂)30部を「SG-P3」(エポキシ基含有アクリル酸エステル共重合体樹脂)70部に変え、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物14を調製した。
<Comparative Example 4: Preparation of Resin Composition 14>
In Example 1, 30 parts of "YX7200B35" (phenoxy resin) was changed to 70 parts of "SG-P3" (epoxy group-containing acrylic acid ester copolymer resin), and "ZX-1059" (bisphenol A type epoxy resin and bisphenol 2 parts of type F epoxy resin mixture) were added. A resin composition 14 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<比較例5:樹脂組成物15の調製>
実施例1において、「ZX-1059」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)2部を加え、「TBP-DA」(ホスホニウム塩)0.18部を「EMI24」(イミダゾール系硬化促進剤)0.78部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂組成物15を調製した。
<Comparative Example 5: Preparation of Resin Composition 15>
In Example 1, 2 parts of "ZX-1059" (mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin) were added, and 0.18 parts of "TBP-DA" (phosphonium salt) was added to "EMI24" (imidazole hardening accelerator) was changed to 0.78 parts. A resin composition 15 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above matters.

<透明性評価用サンプルの作製>
実施例及び比較例で作製した樹脂組成物1~15について、アルキド樹脂系離型剤(リンテック社製「AL-5」)で離型処理したPETフィルム(東レ社製「ルミラーR80」、厚み38μm、軟化点130℃)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが60μmとなるようにダイコーターにて塗布し、65℃から120℃で7分間乾燥して、樹脂組成物シート(樹脂組成物層(厚さ60μm)/離型処理したPETフィルムの積層体)を得た。この樹脂組成物シートを30mm角になる様に切り取り、真空ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ社製、V-160)を用いて2枚を貼り合せて、厚さ120μmの樹脂組成物層を有する樹脂組成物シート(離型処理したPETフィルム/樹脂組成物層(厚さ120μm、30mm角)/離型処理したPETフィルムの積層体)とした。この樹脂組成物シートの両面の離型処理したPETフィルムを剥離し、露出した樹脂組成物層の両面にシリコーン系離型剤で処理したPETフィルム(東洋紡社製「E7004」、厚み38μm、50mm角)をラミネートした。このラミネートは、20秒間減圧して気圧を5hPa以下とした後、80℃、圧力0.1MPaにて20秒間圧着させることにより実施した。このようにして厚さ120μmの樹脂組成物層の両面に離型処理PETフィルムを有する樹脂組成物シートを得た。
<Preparation of sample for transparency evaluation>
For the resin compositions 1 to 15 prepared in Examples and Comparative Examples, a PET film (“Lumirror R80” manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 38 μm) was released with an alkyd resin-based release agent (“AL-5” manufactured by Lintec). , softening point 130 ° C.), coated with a die coater so that the thickness of the resin composition layer after drying is 60 μm, dried at 65 ° C. to 120 ° C. for 7 minutes, and a resin composition sheet (resin A composition layer (thickness: 60 μm)/laminate of release-treated PET film) was obtained. This resin composition sheet is cut into 30 mm squares, and two sheets are laminated using a vacuum laminator (V-160, manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.) to form a resin composition layer having a thickness of 120 μm. A product sheet (laminated body of release-treated PET film/resin composition layer (thickness: 120 μm, 30 mm square)/release-treated PET film). The release-treated PET film on both sides of the resin composition sheet was peeled off, and the exposed resin composition layer was treated with a silicone-based release agent on both sides of the PET film (“E7004” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 38 μm, 50 mm square. ) was laminated. This lamination was carried out by pressure bonding for 20 seconds at 80° C. and pressure of 0.1 MPa after reducing the pressure to 5 hPa or less for 20 seconds. Thus, a resin composition sheet having a release-treated PET film on both sides of a resin composition layer having a thickness of 120 μm was obtained.

上記の両面に離型処理PETフィルムを有する樹脂組成物シートを100℃で60分間、さらに150℃で30分間加熱することにより樹脂組成物層を熱硬化し、支持体を剥離することにより厚さ120μmのフィルム状の硬化体を得た。 The resin composition sheet having release-treated PET films on both sides is heated at 100° C. for 60 minutes and further at 150° C. for 30 minutes to thermally cure the resin composition layer, and the support is peeled off. A 120 μm film-like cured product was obtained.

<初期透明性評価試験>
フィルム状の硬化体に対して、φ60mm積分球を装着したファイバ式分光光度計(大塚電子社製、MCPD-7700)を用いて、積分球とサンプルの距離を30mmとし平行光線透過率を測定した。リファレンスは空気とし、400nmにおける値を透過率として採用した。また、視野角2度、光源D65にて色演算を実施し、L*a*b*表色系のb*の値を求めた。
<Initial transparency evaluation test>
The parallel light transmittance of the cured film was measured using a fiber spectrophotometer (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., MCPD-7700) equipped with a φ60 mm integrating sphere, with the distance between the integrating sphere and the sample set to 30 mm. . Air was used as a reference, and the value at 400 nm was adopted as the transmittance. Further, color calculation was performed with a viewing angle of 2 degrees and a light source of D65, and the value of b* in the L*a*b* color system was obtained.

<耐熱性評価試験>
初期透明性の評価を行った後、110℃のオーブンにて100時間静置させたフィルム状の硬化体について上記と同様に透明性の評価を行った。
<Heat resistance evaluation test>
After evaluating the initial transparency, the film-like cured product was allowed to stand in an oven at 110° C. for 100 hours, and the transparency was evaluated in the same manner as described above.

平行光線透過率は、400nmの透過率が80%以上を良好(○)、80%未満を不良(×)とした。b*は1.0未満を良好(○)、1.0以上を不良(×)とした。また、b*の変化率として、110℃100時間後のb*/初期のb*(保存前後のb*値の変化率)の値が2.5未満を良好(○)、2.5以上を不良(×)とした。 Regarding the parallel light transmittance, a transmittance at 400 nm of 80% or more was evaluated as good (◯), and a transmittance of less than 80% was evaluated as poor (x). A b* value of less than 1.0 was evaluated as good (◯), and a value of 1.0 or more as poor (x). In addition, as the rate of change of b*, the value of b* after 100 hours at 110 ° C./initial b* (change rate of b* value before and after storage) is less than 2.5 is good (○), 2.5 or more was regarded as defective (x).

下記表1に試験結果を示す。表1中の「(A)成分の含有割合(%)」、「エポキシ樹脂((A)成分+(D)成分)の含有割合(%)」、「硬化促進剤((C)成分)の含有割合」は、樹脂組成物の不揮発分全体に対する割合(質量%)である。 The test results are shown in Table 1 below. In Table 1, "(A) component content (%)", "epoxy resin ((A) component + (D) component) content (%)", and "hardening accelerator ((C) component) "Content ratio" is the ratio (% by mass) to the total non-volatile content of the resin composition.

Figure 0007188529000004
Figure 0007188529000004

Claims (8)

下記の(A)~(C)成分:
(A)ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、
(B)フェノキシ樹脂を含む熱可塑性樹脂、および
(C)ホスホニウム塩を含む硬化促進剤
を含む樹脂組成物であって、
透光性が高い硬化体を形成するために用いられ、および
前記硬化体が厚さ120μmのフィルム状の硬化体である場合、前記硬化体の400nmでの平行光線透過率が80%以上である、樹脂組成物。
Components (A) to (C) below:
(A) a bisphenol AF type epoxy resin,
(B) a thermoplastic resin containing a phenoxy resin, and (C) a resin composition containing a curing accelerator containing a phosphonium salt,
When used to form a cured product with high translucency, and when the cured product is a film-like cured product with a thickness of 120 μm, the cured product has a parallel light transmittance of 80% or more at 400 nm . , resin composition.
前記硬化体が厚さ120μmのフィルム状の硬化体である場合、110℃で100時間保存した後の前記硬化体の400nmでの平行光線透過率が80%以上である、請求項1記載の樹脂組成物。 2. The resin according to claim 1, wherein when the cured body is a film-shaped cured body with a thickness of 120 μm, the cured body has a parallel light transmittance of 80% or more at 400 nm after being stored at 110° C. for 100 hours. Composition. ホスホニウム塩がイオン液体である、請求項1または2記載の樹脂組成物。 3. The resin composition according to claim 1, wherein the phosphonium salt is an ionic liquid. ホスホニウム塩のホスホニウムカチオンがテトラアルキルホスホニウムカチオンである、請求項1~3のいずれか1項記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the phosphonium cation of the phosphonium salt is a tetraalkylphosphonium cation. さらに(D)エポキシ樹脂((A)成分を除く)を含有する、請求項1~4のいずれか1項記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising (D) an epoxy resin (excluding component (A)). フィルム状である、請求項1~5のいずれか1項記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is in the form of a film. 請求項1~6のいずれか1項記載の樹脂組成物の硬化体。 A cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 6. 110℃で100時間保存したときの保存前と保存後において、L*a*b*表色系のb*値がいずれも1.0未満である、請求項7記載の硬化体。 8. The cured product according to claim 7, wherein the b* value in the L*a*b* color system is less than 1.0 both before and after storage at 110[deg.] C. for 100 hours.
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